KR20210035733A - Apparatus for manufacturing liquid crystal panel and irradiation unit - Google Patents

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KR20210035733A
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아츠시 후지오카
아키히코 타우치
유키노부 나카가와
타카아키 타나카
타케오 카토
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도시바 라이텍쿠 가부시키가이샤
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Abstract

The present invention relates to in facilitating maintenance work, wherein the irradiation unit of an embodiment includes a plurality of light emitting elements, a cooling block, a cooling tube, and a third flow path, the plurality of light emitting elements are mounted on the front surface of the substrate and the cooling block has a first flow path extending along the longitudinal direction of the substrate, the cooling tube has a second flow path parallel to the first flow path when disposed on the rear surface of the substrate, and the third flow path connects one end of the first flow path and one end of the second flow path when disposed on the rear surface side of the cooling block. Therefore, according to the present invention, maintenance work can be facilitated.

Description

조사 유닛 및 액정 패널 제조 장치{APPARATUS FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL PANEL AND IRRADIATION UNIT}Irradiation unit and liquid crystal panel manufacturing apparatus TECHNICAL FIELD [APPARATUS FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL PANEL AND IRRADIATION UNIT}

본 발명의 실시 형태는 조사 유닛 및 액정 패널 제조 장치에 관한 것이다.An embodiment of the present invention relates to an irradiation unit and a liquid crystal panel manufacturing apparatus.

종래, 복수의 발광 소자를 점등시켜 광을 조사하는 조사 유닛이 알려져 있다. 조사 유닛은 액정 패널의 제조나, 잉크나 접착재의 경화 등 여러 가지 산업 분야에서 사용된다.Conventionally, an irradiation unit is known that illuminates light by lighting a plurality of light-emitting elements. The irradiation unit is used in various industrial fields such as manufacture of liquid crystal panels and curing of ink and adhesive.

일본 공개 특허 제2009-61702호 공보Japanese Laid-Open Patent No. 2009-61702

그런데, 대형의 액정 패널을 제조하기 위해, 예를 들어 전장이 2[m]를 초과하는 장척의 조사 유닛을 복수 나열하여 배치시키는 경우가 있고, 구성 부재의 점검이나 교환이라는 보수 작업의 작업성의 개선이 필요로 되고 있었다.However, in order to manufacture a large-sized liquid crystal panel, for example, there are cases in which a plurality of long irradiation units with an overall length exceeding 2 [m] are arranged and arranged, improving workability of maintenance work such as inspection and replacement of constituent members. This was being needed.

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 보수 작업을 용이하게 할 수 있는 조사 유닛 및 액정 패널 제조 장치를 제공하는 것이다.The problem to be solved by the present invention is to provide an irradiation unit and a liquid crystal panel manufacturing apparatus capable of facilitating maintenance work.

실시 형태의 조사 유닛은 복수의 발광 소자, 냉각 블럭, 냉각관, 및 제3 유로를 구비한다. 복수의 발광 소자는 기판의 전면에 실장되어 있다. 냉각 블럭은 기판의 길이 방향을 따라서 연장되는 제1 유로를 갖고, 기판의 배면에 배치된다. 냉각관은 제1 유로에 병행하는 제2 유로를 갖고, 냉각 블럭의 배면측에 배치된다. 제3 유로는 제1 유로의 일단과 제2 유로의 일단을 연통시킨다.The irradiation unit of the embodiment includes a plurality of light emitting elements, a cooling block, a cooling tube, and a third flow path. A plurality of light emitting devices are mounted on the entire surface of the substrate. The cooling block has a first flow path extending along the length direction of the substrate, and is disposed on the rear surface of the substrate. The cooling pipe has a second flow path parallel to the first flow path, and is disposed on the rear side of the cooling block. The third flow path communicates one end of the first flow path and one end of the second flow path.

본 발명에 따르면 보수 작업을 용이하게 할 수 있다.According to the present invention, it is possible to facilitate maintenance work.

도 1은 실시 형태에 관한 액정 패널 제조 장치의 측면도이다.
도 2는 실시 형태에 관한 조사 유닛의 정면도이다.
도 3은 실시 형태에 관한 조사 유닛의 측면도이다.
도 4는 액정 패널을 모식적으로 도시한 단면도이다.
도 5는 실시 형태에 관한 자외선 조사 모듈의 모식도이다.
1 is a side view of a liquid crystal panel manufacturing apparatus according to an embodiment.
2 is a front view of an irradiation unit according to an embodiment.
3 is a side view of an irradiation unit according to an embodiment.
4 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal panel.
5 is a schematic diagram of an ultraviolet irradiation module according to an embodiment.

이하에서 설명하는 실시 형태에 관한 조사 유닛(1)은 복수의 발광 소자(52), 냉각 블럭(10), 냉각관(20), 및 제3 유로(유로(31))를 구비한다. 복수의 발광 소자(52)는 기판(51)의 전면(前面)에 실장되어 있다. 냉각 블럭(10)은 기판(51)의 길이 방향을 따라서 연장되는 제1 유로(유로(11))를 갖고, 기판(51)의 배면에 배치된다. 냉각관(20)은 제1 유로(유로(11))에 병행하는 제2 유로(유로(21))를 갖고, 냉각 블럭(10)을 끼고 기판(51)의 반대측에 배치된다. 제3 유로(유로(31))는 제1 유로(유로(11))의 일단과 제2 유로(유로(21))의 일단을 연통시킨다.The irradiation unit 1 according to the embodiment described below includes a plurality of light emitting elements 52, a cooling block 10, a cooling tube 20, and a third flow path (flow path 31). The plurality of light emitting elements 52 are mounted on the front surface of the substrate 51. The cooling block 10 has a first flow path (channel 11) extending along the length direction of the substrate 51 and is disposed on the rear surface of the substrate 51. The cooling pipe 20 has a second flow path (channel 21) parallel to the first flow path (channel 11), and is disposed on the opposite side of the substrate 51 with the cooling block 10 therebetween. The third flow path (flow path 31) communicates one end of the first flow path (flow path 11) and one end of the second flow path (flow path 21).

또한, 이하에서 설명하는 실시 형태에 관한 조사 유닛(1)은 기판(51)의 길이 방향을 따라서 냉각 블럭(10)을 유지하는 유지 기구를 구비한다.Further, the irradiation unit 1 according to the embodiment described below is provided with a holding mechanism for holding the cooling block 10 along the length direction of the substrate 51.

또한, 이하에서 설명하는 실시 형태에 관한 조사 유닛(1)은 제1 유로(유로(11))의 타단측에 접속되는 제1 이음 부재(이음 부재(71))와, 제2 유로(유로(21))의 타단측에 접속되는 제2 이음 부재((이음 부재(72))를 구비한다.In addition, the irradiation unit 1 according to the embodiment described below includes a first joint member (joint member 71) connected to the other end of the first passage (channel 11), and a second passage (channel ( 21)) and a second joint member (the joint member 72) connected to the other end side.

또한, 이하에서 설명하는 실시 형태에 관한 냉각 블럭(10)은 기판(51)의 길이 방향을 따라서 착탈 가능하게 배치된다.Further, the cooling block 10 according to the embodiment described below is disposed so as to be detachable along the length direction of the substrate 51.

또한, 이하에서 설명하는 실시 형태에 관한 액정 패널 제조 장치(100)는 복수의 자외선 조사 장치를 구비한다. 복수의 자외선 조사 장치는 광 반응성 물질을 함유하는 피처리 패널(6)에 광을 조사한다. 자외선 조사 장치는 조사 유닛(1)이다.In addition, the liquid crystal panel manufacturing apparatus 100 according to the embodiment described below is provided with a plurality of ultraviolet irradiation devices. The plurality of ultraviolet irradiation devices irradiate light to the panel 6 to be processed containing a photoreactive substance. The ultraviolet irradiation device is the irradiation unit 1.

이하에, 본 발명에 관한 실시 형태를 도면에 기초하여 설명한다. 또한, 이하에 도시한 각 실시 형태는 본 발명이 개시하는 기술을 한정하는 것은 아니다. 또한, 이하에 도시한 각 실시 형태 및 각 변형예는 모순되지 않는 범위에서 적절하게 조합할 수 있다. 또한, 각 실시 형태의 설명에서 동일한 구성에는 동일한 부호를 부여하여 후술하는 설명을 적절히 생략한다.Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described based on the drawings. In addition, each embodiment shown below does not limit the technique disclosed by this invention. In addition, each embodiment and each modification example shown below can be combined suitably within the range which does not contradict. Incidentally, in the description of each embodiment, the same reference numerals are assigned to the same components, and the description to be described later is appropriately omitted.

[실시 형태][Embodiment]

우선, 도 1을 사용하여 실시 형태에 관한 액정 패널 제조 장치의 개요에 대해서 설명한다. 도 1은 실시형태에 관한 액정 패널 제조 장치의 측면도이다.First, an outline of a liquid crystal panel manufacturing apparatus according to an embodiment will be described with reference to FIG. 1. 1 is a side view of a liquid crystal panel manufacturing apparatus according to an embodiment.

또한, 설명을 알기 쉽게 하기 위해, 도 1에는 조사 방향을 정방향으로 하는 Z축을 포함하는 3차원의 직교 좌표계를 도시하고 있다. 이러한 직교 좌표계는 뒤에 나오는 설명에 사용되는 다른 도면에서도 도시하는 경우가 있다.In addition, in order to make the explanation easier to understand, FIG. 1 shows a three-dimensional orthogonal coordinate system including a Z-axis in which the irradiation direction is the positive direction. Such a Cartesian coordinate system may also be shown in other drawings used in the following description.

도 1에 도시한 바와 같이, 실시 형태에 관한 액정 패널 제조 장치(100)는 조사부(140)와, 스테이지부(150)를 갖는다. 액정 패널 제조 장치(100)는 스테이지부(150)에 배치된 피처리 패널(6)에 자외선을 조사하여 액정 패널을 제조하는 장치이다.As shown in FIG. 1, the liquid crystal panel manufacturing apparatus 100 according to the embodiment includes an irradiation unit 140 and a stage unit 150. The liquid crystal panel manufacturing apparatus 100 is an apparatus for manufacturing a liquid crystal panel by irradiating ultraviolet rays to the panel 6 disposed on the stage unit 150.

조사부(140)는 자외선 조사 모듈(141), 점등 장치(142), 및 반사판(143)을 갖는다. 자외선 조사 모듈(141)은 복수의 조사 유닛(1)을 갖는다. 조사 유닛(1)은 점등 장치(142)를 통하여 도시하지 않은 전원 장치로부터 공급된 전력에 의해, 피처리 패널(6)의 처리에 적합한 파장의 자외선을 방사한다.The irradiation unit 140 includes an ultraviolet irradiation module 141, a lighting device 142, and a reflector 143. The ultraviolet irradiation module 141 has a plurality of irradiation units 1. The irradiation unit 1 emits ultraviolet rays having a wavelength suitable for processing of the panel 6 to be processed by power supplied from a power supply device (not shown) through the lighting device 142.

반사판(143)은 조사 유닛(1)으로부터 방사되는 자외선을 스테이지부(150)를 향하도록 반사시킴으로써, 조사 효율을 높이는 것이다. 도 1에 도시한 예에서는 반사판(143)은 자외선 조사 모듈(141)의 배면측(Z축 부방향측)에만 배치시켰지만, 이들에 한정되지 않고 예를 들어, 조사부(140)나 스테이지부(150)의 내부에 배치시켜도 된다.The reflective plate 143 reflects the ultraviolet rays emitted from the irradiation unit 1 toward the stage unit 150 to increase irradiation efficiency. In the example shown in FIG. 1, the reflective plate 143 is disposed only on the rear side of the ultraviolet irradiation module 141 (the negative Z-axis direction side), but is not limited thereto, for example, the irradiation unit 140 or the stage unit 150 ) May be placed inside.

여기에서, 도 2, 도 3을 이용하여 조사 유닛(1)의 구성예에 대해서 설명한다. 도 2는 실시 형태에 관한 조사 유닛의 정면도이다. 도 3은 실시 형태에 관한 조사 유닛의 측면도이다.Here, an example of the configuration of the irradiation unit 1 will be described with reference to FIGS. 2 and 3. 2 is a front view of an irradiation unit according to an embodiment. 3 is a side view of an irradiation unit according to an embodiment.

도 2, 도 3에 도시한 바와 같이, 실시 형태에 관한 조사 유닛(1)은 광원부(50), 냉각 블럭(10), 냉각관(20), 접속 부재(30), 이음 부재(71, 72), 부착부(60), 유지부(40), 및 지지 부재(80)를 구비한다.2 and 3, the irradiation unit 1 according to the embodiment includes a light source unit 50, a cooling block 10, a cooling pipe 20, a connection member 30, and a joint member 71, 72. ), an attachment part 60, a holding part 40, and a support member 80.

광원부(50)는 기판(51), 및 복수의 발광 소자(52)를 갖는다. 기판(51)은 예를 들어, 세라믹스에 의해 형성된 장척상의 기재에, 예를 들어 은 등에 의해 원하는 패턴 형상으로 형성된 도시하지 않은 프린트 배선이 설치된 것이다. 기판(51)의 전면(前面)에는 복수의 발광 소자(52)가 프린트 배선과 전기적으로 접속되어 설치되어 있다. 복수의 발광 소자(52)는 기판(51)의 길이 방향(X축 방향)을 따라서 일렬로 배열되어 있다.The light source unit 50 includes a substrate 51 and a plurality of light emitting elements 52. The substrate 51 is formed of, for example, a long substrate formed of ceramics, and a printed wiring (not shown) formed in a desired pattern shape of, for example, silver is provided. On the front surface of the substrate 51, a plurality of light-emitting elements 52 are electrically connected to the printed wiring. The plurality of light emitting devices 52 are arranged in a line along the length direction (X-axis direction) of the substrate 51.

또한, 도시하지 않지만, 기판(51)은 발광 소자(52)가 접속되는 접속 단자와, 전원 장치로부터 전력이 공급되는 전원 단자를 제외한 영역이, 절연성을 확보하고 부식을 방지하기 위해, 피복막에 의해 덮여 있다. 피복막은 예를 들어, 유리재 등을 주성분으로 하는 무기 재료에 의해 형성되어 있다. 또한, 필요에 따라서, 기판(51)은 발광 소자(52)가 발하는 광을 반사하는 반사성을 높이기 위해, 비교적 높은 반사율을 갖는 백색의 알루미나에 의해 형성되어도 된다. 또한, 기판(51)은 열전도성을 높게 확보하기 위해, 비교적 높은 열전도성을 갖는 질화알루미늄에 의해 형성되어도 된다.In addition, although not shown, in the substrate 51, a region excluding a connection terminal to which the light emitting element 52 is connected and a power supply terminal to which power is supplied from a power supply device is formed on the coating film in order to secure insulation and prevent corrosion. Covered by. The coating film is formed of, for example, an inorganic material containing a glass material or the like as a main component. Further, if necessary, the substrate 51 may be formed of white alumina having a relatively high reflectivity in order to increase reflectivity for reflecting light emitted by the light emitting element 52. Further, in order to ensure high thermal conductivity, the substrate 51 may be formed of aluminum nitride having relatively high thermal conductivity.

발광 소자(52)에는 자외선을 발하는 발광 다이오드(LED : Light Emitting Diode)나 반도체 레이저(LD : Laser Diode)가 사용된다. 발광 소자(52)는 예를 들어, 파장 300[㎚]~400[㎚] 정도를 주파장으로 하고, 또한 피크 파장이 365[㎚]의 자외선을 발한다.A light emitting diode (LED) or a semiconductor laser (LD) that emits ultraviolet rays is used for the light emitting element 52. The light-emitting element 52 emits ultraviolet rays having a wavelength of about 300 [nm] to 400 [nm] as a dominant wavelength, and a peak wavelength of 365 [nm], for example.

또한, 실시 형태에서 말하는 「자외선」이라는 것은 파장 450[㎚] 이하의 파장의 광이고, 구체적으로는 발광 소자(52)가 발하는 파장 365[㎚]의 광이지만, 그 밖의 파장의 광도 허용된다. 또한, 발광 소자(52)는 파장 450[㎚] 이하의 광을 방사하는 LED나 LD에 한정되는 것은 아니고, 예를 들어 파장 450[㎚] 이하의 광을 방사할 뿐만 아니라, 파장 450[㎚] 보다 장파장측의 광을 방사하는 LED나 LD이어도 된다. 즉, 파장 450[㎚] 이하의 광을 방사하는 LED나 LD이면, 그 발광 양식은 한정되지 않는다.In addition, "ultraviolet rays" in the embodiment is light having a wavelength of 450 [nm] or less, and specifically, light having a wavelength of 365 [nm] emitted by the light-emitting element 52, but light of other wavelengths is also allowed. In addition, the light-emitting element 52 is not limited to LEDs or LDs that emit light with a wavelength of 450 [nm] or less, for example, not only emit light with a wavelength of 450 [nm] or less, but with a wavelength of 450 [nm]. It may be an LED or LD that emits light on the longer wavelength side. That is, if it is an LED or LD that emits light with a wavelength of 450 [nm] or less, the light emission mode is not limited.

냉각 블럭(10)은 대략 직방체 형상으로 형성되어 있고, 기판(51)의 배면에 배치되어 있다. 냉각 블럭(10)에는 예를 들어, 알루미늄, 알루미늄 합금, 스테인리스강 등이 사용된다.The cooling block 10 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape, and is disposed on the rear surface of the substrate 51. For the cooling block 10, for example, aluminum, aluminum alloy, stainless steel, or the like is used.

또한, 냉각 블럭(10)은 기판(51)의 길이 방향(X축 방향)으로 연장되는 제1 유로로서의 유로(11)를 갖는다. 냉각 블럭(10)은 유로(11)에 유체를 유통시킴으로써, 소위 액냉 블럭으로서 기능하고, 기판(51)을 통하여 발광 소자(52)로부터 전달된 열을 빠르게 방열시킬 수 있다. 또한, 유체는 예를 들어 물이다. 또한, 유체로서 예를 들어 액체 질소나 부동액 등의 액체나, 건조 공기나 질소 등의 기체를 사용해도 된다.Further, the cooling block 10 has a flow path 11 as a first flow path extending in the length direction (X-axis direction) of the substrate 51. The cooling block 10 functions as a so-called liquid cooling block by passing a fluid through the flow path 11, and can rapidly dissipate heat transferred from the light emitting element 52 through the substrate 51. Also, the fluid is water, for example. Further, as the fluid, for example, a liquid such as liquid nitrogen or antifreeze, or a gas such as dry air or nitrogen may be used.

냉각관(20)은 유로(11)에 병행하도록 X축 방향으로 연장되는 제2 유로로서의 유로(21)를 갖고, 냉각 블럭(10)의 배면측에 배치되는 직관 형상 부재이다. 냉각관(20)에는 예를 들어 알루미늄, 알루미늄 합금, 스테인리스강 등이 사용된다. 유로(21)는 냉각관(20)의 양단(단부(20a, 20b))에 관통한다.The cooling pipe 20 has a flow path 21 as a second flow path extending in the X-axis direction so as to be parallel to the flow path 11, and is a straight tubular member disposed on the rear side of the cooling block 10. For the cooling pipe 20, for example, aluminum, aluminum alloy, stainless steel, or the like is used. The flow path 21 passes through both ends (ends 20a and 20b) of the cooling tube 20.

접속 부재(30)는 제3 유로로서의 유로(31)를 갖는 관 형상 부재이다. 접속 부재(30)는 예를 들어 90[°] 엘보 조인트이고, 일단이 냉각 블럭(10)의 일단(단부(10b))측에, 타단이 냉각관(20)의 일단(단부(20b))측에, 각각 접속된다. 유로(31)는 접속 부재(30)의 양단에 관통하고 있고, 유로(11)와 유로(21)를 연통시킨다. 접속 부재(30)에는 예를 들어 알루미늄, 알루미늄 합금, 스테인리스강 등이 사용된다. 또한, 접속 부재(30)는 직관 형상 부재이어도 된다. 또한, 냉각 블럭(10) 및/또는 냉각관(20)이 유로(31)에 상당하는 Z축 방향으로 연장되는 유로를 갖고 있으면, 접속 부재(30)를 개재하지 않고 냉각 블럭(10)과 냉각관(20)을 접속시킨 구성이어도 상관없다.The connecting member 30 is a tubular member having a flow path 31 as a third flow path. The connecting member 30 is, for example, a 90[°] elbow joint, with one end at one end (end 10b) side of the cooling block 10, and the other end at one end (end 20b) of the cooling tube 20 On the side, each is connected. The flow path 31 penetrates both ends of the connection member 30, and makes the flow path 11 and the flow path 21 communicate with each other. For the connection member 30, for example, aluminum, aluminum alloy, stainless steel, or the like is used. Further, the connecting member 30 may be a straight tubular member. In addition, if the cooling block 10 and/or the cooling pipe 20 has a flow path that extends in the Z-axis direction corresponding to the flow path 31, the cooling block 10 and the cooling pipe 20 are cooled without interposing the connection member 30. The configuration in which the pipes 20 are connected may be used.

이음 부재(71)는 냉각 블럭(10)의 타단(단부(10a))측에 개구하는 유로(11)에 접속된다. 또한, 이음 부재(72)는 냉각관(20)의 타단(단부(20a))측에 개구하는 유로(21)에 접속된다. 이음 부재(71, 72)는 예를 들어 커플링(커플러), 원터치(퀵) 조인트라고도 불리고, 대응하는 호스 그 밖의 관 형상 부재와의 착탈을 용이하게 하는 부재이다. 이음 부재(71, 72)가 역류 방지 밸브 그 밖의 역류 방지 기구를 구비하고 있으면, 조사 유닛(1)을 착탈할 때 냉각 블럭(10)이나 냉각관(20)의 내부로부터의 유체의 누출이 발생하기 어려워지고, 유체의 누출에 따른 광원부(50)의 오염 손상 그 밖의 문제를 억제할 수 있다.The joint member 71 is connected to a flow path 11 that opens to the other end (end 10a) side of the cooling block 10. Further, the joint member 72 is connected to a flow path 21 that opens to the other end (end 20a) side of the cooling pipe 20. The joint members 71 and 72 are also called couplings (couplers) and one-touch (quick) joints, for example, and are members that facilitate attachment and detachment of corresponding hoses or other tubular members. If the joint members 71 and 72 are provided with a non-return valve or other non-return prevention mechanism, fluid leakage from the inside of the cooling block 10 or the cooling pipe 20 occurs when the irradiation unit 1 is attached or detached. It becomes difficult to do so, and it is possible to suppress contamination, damage and other problems of the light source unit 50 due to leakage of fluid.

부착부(60)는 천판(144)에 부착되어 있고, 조사 유닛(1)을 끼고 Y축 방향의 양측에 배치되어 있다. 또한, 부착부(60)에는 유지부(40)가 배치되어 있다. 유지부(40)는 기판(51)의 길이 방향(X축 방향)을 따라서 연장되어 있고, 부착부(60)는 X축 방향을 따르도록 복수 배치됨으로써, 유지부(40)가 위치 결정된다.The attachment part 60 is attached to the top plate 144 and is disposed on both sides in the Y-axis direction with the irradiation unit 1 therebetween. In addition, the holding part 40 is arrange|positioned in the attachment part 60. The holding portion 40 extends along the length direction (X-axis direction) of the substrate 51, and a plurality of attachment portions 60 are disposed along the X-axis direction, whereby the holding portion 40 is positioned.

유지부(40)는 냉각 블럭(10)을 끼고 Y축 방향의 양측에 배치되어 있으며, 조사 유닛(1)의 냉각 블럭(10)측에 돌출되도록 형성되어 있다. 유지부(40)는 냉각 블럭(10)의 측면에 설치된 오목부(12)와 걸어 맞추어 조사 유닛(1)을 유지한다. 오목부(12)는 유지부(40)와 함께 작용하여, 기판(51)의 길이 방향, 즉 X축 방향을 따라서 냉각 블럭(10)을 유지하는 유지 기구의 일례이다.The holding portions 40 are disposed on both sides in the Y-axis direction with the cooling block 10 therebetween, and are formed to protrude from the cooling block 10 side of the irradiation unit 1. The holding part 40 engages with the concave part 12 provided on the side surface of the cooling block 10 to hold the irradiation unit 1. The concave portion 12 is an example of a holding mechanism that acts together with the holding portion 40 to hold the cooling block 10 along the longitudinal direction of the substrate 51, that is, the X-axis direction.

또한, 유지부(40)는 냉각 블럭(10)을 착탈시키는 가이드로서도 기능한다. 즉, 냉각 블럭(10)은 오목부(12)가 유지부(40)와 걸어 맞추어지도록 X축 방향을 따라서 냉각 블럭(10)을 착탈시킬 수 있다. 이 때문에, 광원부(50)를 포함하는 냉각 블럭(10)이나 조사 유닛(1)의 점검이나 교환에 요하는 작업 시간을 단축할 수 있다.In addition, the holding portion 40 also functions as a guide for attaching and detaching the cooling block 10. That is, the cooling block 10 may attach and detach the cooling block 10 along the X-axis direction so that the concave portion 12 is engaged with the holding portion 40. For this reason, it is possible to shorten the work time required for inspection or replacement of the cooling block 10 including the light source unit 50 or the irradiation unit 1.

지지 부재(80)는 냉각관(20)과 냉각 블럭(10) 사이에 배치되고, 냉각 블럭(10)의 휨이나 진동 등에 따라서 광원부(50)에서 발생할 수 있는 문제를 방지한다. 지지 부재(80)는 조사 유닛(1)의 X축 방향을 따른 길이나 질량 등에 따라서 1 또는 복수 배치할 수 있다.The support member 80 is disposed between the cooling pipe 20 and the cooling block 10 and prevents a problem that may occur in the light source unit 50 due to bending or vibration of the cooling block 10. One or more support members 80 may be disposed depending on the length or mass of the irradiation unit 1 along the X-axis direction.

실시 형태에 관한 조사 유닛(1)에서는 유로(11)→유로(31)→유로(21)의 순으로 냉각 매체가 대략 U자 형상으로 되짚어 오도록 흐른다. 또한, 냉각 매체가 흐르는 방향은 반대이어도 된다.In the irradiation unit 1 according to the embodiment, the cooling medium flows in the order of the flow path 11 -> the flow path 31 -> the flow path 21 so that the cooling medium is returned in a substantially U-shape. In addition, the direction in which the cooling medium flows may be opposite.

여기에서, 조사 유닛(1)으로서 냉각 블럭(10)의 내부에, 제1 유로(유로(11))와 제3 유로(유로(31))와 제2 유로(유로(21))를 설치하고, 하나의 냉각 블럭(10) 내에서 XY 평면을 따라서 대략 U자 형상으로 냉각 매체를 흐르게 하는 구성이나, 냉각관(20)을 Y축으로 병렬로 설치하고, 냉각 블럭(10)과 동일한 XY 평면을 따라 대략 U자 형상으로 냉각 매체를 흐르게 하는 구성으로 할 수도 있다. 그러나, 상기 구성에서는 냉각 블럭(10)이나 냉각관(20)이 Y축 방향으로 폭을 점유하는 것이 되므로, 바람직하지 않다. 또한, 복수의 조사 유닛(1)을 Y축으로 나열할 때 원하는 간격(피치)으로 하는 것이 곤란하므로, 바람직하지 않다.Here, as the irradiation unit 1, in the interior of the cooling block 10, a first flow path (flow path 11), a third flow path (flow path 31), and a second flow path (flow path 21) are provided. , In one cooling block 10, the cooling medium flows in a substantially U-shape along the XY plane, but the cooling tube 20 is installed in parallel in the Y-axis, and the same XY plane as the cooling block 10 It is also possible to have a configuration in which the cooling medium flows in a substantially U-shape along the line. However, in the above configuration, since the cooling block 10 or the cooling pipe 20 occupies a width in the Y-axis direction, it is not preferable. In addition, since it is difficult to achieve a desired interval (pitch) when a plurality of irradiation units 1 are arranged along the Y axis, it is not preferable.

또한, 조사 유닛(1)에 냉각관(20)을 설치하지 않고, 복수의 조사 유닛(1)의 냉각 블럭(10)의 제1 유로를 제3 유로로 연결하고, 복수의 조사 유닛(1)에 대하여 일체적으로 냉각 매체를 흐르게 하는 구성으로 할 수도 있다. 그러나, 이음 부재(71)가 설치되는 조사 유닛(1)과, 이음 부재(72)가 설치되는 조사 유닛(1)에서는 냉각 매체의 온도가 다르다. 이 때문에, 복수의 조사 유닛(1)에서의 냉각 매체의 온도 관리가 곤란해지고, 복수의 조사 유닛(1)에서 자외선의 조도가 다를 가능성이 있으므로 바람직하지 않다. 또한, 복수의 조사 유닛(1)의 냉각 블럭(10)의 제1 유로를 제3 유로로 연결하면, 보수 작업시에 제3 유로를 모두 분리하지 않으면 교환 대상이 되는 조사 유닛(1)의 교환을 실시할 수 없으므로 바람직하지 않다.In addition, without installing the cooling tube 20 in the irradiation unit 1, the first flow path of the cooling block 10 of the plurality of irradiation units 1 is connected to the third flow path, and the plurality of irradiation units 1 It is also possible to have a configuration in which the cooling medium flows integrally with respect to. However, the temperature of the cooling medium is different between the irradiation unit 1 in which the joint member 71 is installed and the irradiation unit 1 in which the joint member 72 is installed. For this reason, it becomes difficult to control the temperature of the cooling medium in the plurality of irradiation units 1, and since there is a possibility that the irradiance of ultraviolet rays differs in the plurality of irradiation units 1, it is not preferable. In addition, if the first flow path of the cooling block 10 of the plurality of irradiation units 1 is connected to the third flow path, the replacement of the irradiation unit 1 subject to replacement unless all the third flow paths are separated during maintenance work. It is not preferable because it cannot be performed.

이상의 문제를 해소하기 위해, 본 실시 형태와 같이 조사 유닛(1)은 냉각 매체가 X축 방향을 따라서 대략 U자 형상으로 되짚어 오도록 흐르는 구성으로 하는 것이 바람직하다.In order to solve the above problem, it is preferable that the irradiation unit 1 flows so that the cooling medium returns substantially in a U-shape along the X-axis direction as in the present embodiment.

상술한 바와 같이, 실시 형태에 관한 조사 유닛(1)은 피처리 패널(6)의 처리에 적합한 파장의 자외선을 방사함으로써 액정 패널을 효율 좋게 제조할 수 있는 것이다. 여기에서 도 4를 이용하여 피처리 패널(6)에 대하여 설명한다.As described above, the irradiation unit 1 according to the embodiment can efficiently manufacture a liquid crystal panel by emitting ultraviolet rays having a wavelength suitable for processing of the panel 6 to be processed. Here, the panel 6 to be processed will be described with reference to FIG. 4.

도 4는 액정 패널을 모식적으로 도시한 단면도이다. 도 4에 도시한 피처리 패널(6)은 한 쌍의 기판(7, 8)과, 기판(7)과 기판(8) 사이에 설치된 액정층(9)을 갖는다.4 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal panel. The processing target panel 6 shown in FIG. 4 has a pair of substrates 7 and 8 and a liquid crystal layer 9 provided between the substrate 7 and the substrate 8.

기판(7)은 예를 들어, 적색, 녹색, 청색의 광을 투과하는 컬러 필터(도시하지 않음)가 기재상에 배치되고, 보호막으로 컬러 필터가 덮여 이루어지는 컬러 필터 기판이다. 기판(8)은 액정층(9)을 끼고 기판(7)과 대향하도록 설치된 대향 기판이고, 복수의 전극이 어레이 형상으로 배치되어 있다.The substrate 7 is, for example, a color filter substrate in which a color filter (not shown) that transmits red, green, and blue light is disposed on a substrate, and the color filter is covered with a protective film. The substrate 8 is a counter substrate provided so as to face the substrate 7 across the liquid crystal layer 9, and a plurality of electrodes are arranged in an array shape.

액정층(9)은 액정 조성물과 광 반응성 물질로서의 중합성 모노머를 포함한다. 액정층(9)은 조사 유닛(1)으로부터 방사된 특정의 파장을 갖는 자외선을 흡수함으로써 중합성 모노머가 중합되고, 스테이지(151)상에서의 전압의 인가에 의해 배향을 제어시킨 액정 조성물이 안정화된다.The liquid crystal layer 9 contains a liquid crystal composition and a polymerizable monomer as a photoreactive substance. The liquid crystal layer 9 absorbs ultraviolet rays having a specific wavelength emitted from the irradiation unit 1, thereby polymerizing the polymerizable monomer, and stabilizing the liquid crystal composition in which the orientation is controlled by application of a voltage on the stage 151. .

다음에, 도 5를 사용하여 자외선 조사 모듈(141)에서의 복수의 조사 유닛(1)의 배치예에 대해서 설명한다. 도 5는 실시 형태에 관한 자외선 조사 모듈의 모식도이다.Next, an arrangement example of the plurality of irradiation units 1 in the ultraviolet irradiation module 141 will be described with reference to FIG. 5. 5 is a schematic diagram of an ultraviolet irradiation module according to an embodiment.

도 5에 도시한 바와 같이, 복수의 조사 유닛(1)은 천판(144)에 각각 고정되어 있고, 조사 유닛(1)의 길이 방향이 셔터의 개폐 방향인 X축 방향을 따르도록 각각 평행으로 배치되어 있다. 또한, 천판(144)은 반사판(143)(도 1 참조)을 겸해도 된다.As shown in Fig. 5, the plurality of irradiation units 1 are each fixed to the top plate 144, and are arranged in parallel so that the longitudinal direction of the irradiation unit 1 follows the X-axis direction, which is the opening and closing direction of the shutter. Has been. In addition, the top plate 144 may also serve as the reflecting plate 143 (see Fig. 1).

또한, 복수의 조사 유닛(1)은 조사 영역(R1)과 조사 영역(R2)에서 배치되는 방향이 다르다. 구체적으로는, 조사 영역(R1)에서는 X축 부방향측의 단부(145)에 이음 부재(71, 72)가 위치하고, 조사 영역(R2)에서는 X축 정방향측의 단부(146)에 이음 부재(71, 72)가 위치하도록 각각 배치된다. 이에 의해, 조사 영역(R1)에서는 단부(145)로부터, 조사 영역(R2)에서는 단부(146)로부터의 조사 유닛(1)의 착탈이 각각 가능해진다. 이 때문에, 보수 작업을 용이하게 할 수 있다. 또한, 조사 영역이 좁은 경우, 또는 조사 유닛(1)의 전장이 큰 경우, 복수의 조사 유닛(1)은 모든 동일한 방향으로 배열시켜도 된다.Further, the plurality of irradiation units 1 are arranged in different directions in the irradiation region R1 and the irradiation region R2. Specifically, in the irradiation region R1, the joint members 71 and 72 are located at the end 145 on the side of the X-axis negative direction, and in the irradiation region R2, the joint member ( 71 and 72) are arranged respectively. This makes it possible to attach and detach the irradiation unit 1 from the end 145 in the irradiation region R1 and from the end 146 in the irradiation region R2, respectively. For this reason, maintenance work can be made easy. Further, when the irradiation area is narrow, or when the total length of the irradiation unit 1 is large, the plurality of irradiation units 1 may be arranged in all the same directions.

도 1로 돌아가, 추가로 설명한다. 스테이지부(150)는 스테이지(151)와, 리프트핀(152)을 갖는다. 스테이지(151)는 소정의 위치에 얹힌 피처리 패널(6)에 전압을 인가한다. 스테이지(151)는 예를 들어 방열성이 높은 알루미늄을 사용할 수 있다. 또한, 스테이지(151)의 표면에 불소 수지를 코팅하면, 패널 교환 후의 신속한 제전이 가능해지고, 액정 패널을 효율 좋게 제조할 수 있다.Returning to Fig. 1, further explanation will be given. The stage unit 150 includes a stage 151 and a lift pin 152. The stage 151 applies a voltage to the panel 6 to be processed mounted on a predetermined position. The stage 151 may be formed of, for example, aluminum having high heat dissipation. In addition, if the surface of the stage 151 is coated with a fluororesin, rapid static elimination after panel replacement is possible, and a liquid crystal panel can be efficiently manufactured.

리프트핀(152)은 얹혀진 피처리 패널(6)을 승강시키는 승강기이고, 주로 피처리 패널(6)의 반출입에 사용된다. 구체적으로는, 리프트핀(152)은 도시하지 않은 반출 입구로부터 스테이지부(150)에 반입된 피처리 패널(6)을 수취한다. 또한, 리프트핀(152)은 스테이지(151)상에 얹힌 자외선 조사후의 피처리 패널(6)을 부상시키고, 도시하지 않은 반송 로봇에 건네준다.The lift pin 152 is an elevator that lifts and lowers the mounted panel 6 and is mainly used for carrying in/out of the panel 6 to be processed. Specifically, the lift pin 152 receives the to-be-processed panel 6 carried into the stage unit 150 from an unshown carrying inlet. Further, the lift pin 152 floats the panel 6 to be treated after UV irradiation placed on the stage 151 and passes it to a transfer robot (not shown).

상술한 바와 같이, 실시 형태에 관한 조사 유닛(1)은 복수의 발광 소자(52), 냉각 블럭(10), 냉각관(20), 및 제3 유로(유로(31))를 구비한다. 복수의 발광 소자(52)는 기판(51)의 전면에 실장되어 있다. 냉각 블럭(10)은 기판(51)의 길이 방향을 따라서 연장되는 제1 유로(유로(11))를 갖고, 기판(51)의 배면에 배치된다. 냉각관(20)은 제1 유로(유로(11))에 병행하는 제2 유로(유로(21))를 갖고, 냉각 블럭(10)을 끼고 기판(51)의 반대측에 배치된다. 제3 유로(유로(31))는 제1 유로(유로(11))의 일단과 제2 유로(유로(21))의 일단을 연통시킨다. 이 때문에, 보수 작업을 용이하게 할 수 있다.As described above, the irradiation unit 1 according to the embodiment includes a plurality of light emitting elements 52, a cooling block 10, a cooling tube 20, and a third flow path (flow path 31). The plurality of light emitting devices 52 are mounted on the entire surface of the substrate 51. The cooling block 10 has a first flow path (channel 11) extending along the length direction of the substrate 51 and is disposed on the rear surface of the substrate 51. The cooling pipe 20 has a second flow path (channel 21) parallel to the first flow path (channel 11), and is disposed on the opposite side of the substrate 51 with the cooling block 10 therebetween. The third flow path (flow path 31) communicates one end of the first flow path (flow path 11) and one end of the second flow path (flow path 21). For this reason, maintenance work can be made easy.

또한, 실시 형태에 관한 냉각 블럭(10)은 기판(51)의 길이 방향을 따라서 착탈 가능하게 배치된다. 이 때문에, 보수 작업을 용이하게 할 수 있다.Further, the cooling block 10 according to the embodiment is disposed so as to be detachable along the length direction of the substrate 51. For this reason, maintenance work can be made easy.

또한, 실시 형태에 관한 조사 유닛(1)은 제1 유로(유로(11))의 타단측에 접속되는 제1 이음 부재(이음 부재(71))와, 제2 유로(유로(21))의 타단측에 접속되는 제2 이음 부재(이음 부재(72))를 구비한다. 이 때문에, 보수 작업시에 냉각 매체가 낙하하기 어려워진다.In addition, the irradiation unit 1 according to the embodiment includes a first joint member (joint member 71) connected to the other end of the first passage (channel 11) and a second passage (channel 21). A second joint member (joint member 72) connected to the other end is provided. For this reason, it becomes difficult for the cooling medium to fall during maintenance work.

또한, 실시 형태에 관한 냉각 블럭(10)은 기판(51)의 길이 방향을 따라서 착탈 가능하게 배치된다. 이 때문에, 보수 작업을 용이하게 할 수 있다.Further, the cooling block 10 according to the embodiment is disposed so as to be detachable along the length direction of the substrate 51. For this reason, maintenance work can be made easy.

또한, 실시 형태에 관한 액정 패널 제조 장치(100)는 복수의 자외선 조사 장치를 구비한다. 복수의 자외선 조사 장치는 광 반응성 물질을 함유하는 피처리 패널(6)에 광을 조사한다. 자외선 조사 장치는 조사 유닛(1)이다. 이 때문에, 보수 작업을 용이하게 할 수 있다.In addition, the liquid crystal panel manufacturing apparatus 100 according to the embodiment includes a plurality of ultraviolet irradiation devices. The plurality of ultraviolet irradiation devices irradiate light to the panel 6 to be processed containing a photoreactive substance. The ultraviolet irradiation device is the irradiation unit 1. For this reason, maintenance work can be made easy.

또한, 상기한 실시 형태에서는 냉각 블럭(10)의 오목부(12)가 유지부(40)와 함께 작용하는 유지 기구의 일례인 것으로 설명했지만, 이에 한정되지 않고, 예를 들어 냉각 블럭(10)이 기판(51)의 길이 방향을 따라서 돌출되는 볼록부를 갖고, 유지부(40)가 이 볼록부와 걸어 맞추어지는 오목부를 갖는 구성으로 해도 된다.In addition, in the above-described embodiment, although the concave portion 12 of the cooling block 10 is described as an example of a holding mechanism that acts together with the holding portion 40, the cooling block 10 is not limited thereto. The substrate 51 may have a convex portion protruding along the longitudinal direction, and the holding portion 40 may have a concave portion engaged with the convex portion.

또한, 상기한 각 실시 형태에서는 발광 소자(52)는 기판(51)의 길이 방향을 따라서 일렬로 배열되는 것으로 설명했지만, 이에 한정되지 않고, 예를 들어 배열 방향을 따라서 배열 방향과 교차하는 방향으로 위치가 번갈아 어긋난, 소위 지그재그 배열로 되어도 된다.In addition, in each of the above-described embodiments, it has been described that the light-emitting elements 52 are arranged in a row along the length direction of the substrate 51, but are not limited thereto, for example, in a direction crossing the array direction along the array direction. It may be in a so-called zigzag arrangement in which the positions are alternately shifted.

본 발명의 실시 형태를 설명했지만, 실시 형태는 예로서 제시한 것이고, 발명의 범위를 한정하려는 의도는 없다. 실시 형태는 그 밖의 여러 가지 형태로 실시되는 것이 가능하고, 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위에서, 여러 가지 생략, 치환, 변경을 실시할 수 있다. 실시 형태나 그 변형은 발명의 범위나 요지에 포함됨과 동일하게, 특허청구범위에 기재된 발명과 그 균등한 범위에 포함되는 것이다.Although the embodiment of the present invention has been described, the embodiment has been presented as an example, and there is no intention to limit the scope of the invention. The embodiment can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, and changes can be made without departing from the gist of the invention. The embodiment and its modifications are included in the invention described in the claims and their equivalent ranges, just as they are included in the scope and summary of the invention.

1: 조사 유닛 6: 피처리 패널
10: 냉각 블럭 12: 오목부
20: 냉각부 30: 접속 부재
40: 유지부 50: 광원부
51: 기판 52: 발광 소자
71, 72: 이음 부재 140: 조사부
141: 자외선 조사 모듈 100: 액정 패널 제조 장치
1: irradiation unit 6: target panel
10: cooling block 12: recess
20: cooling unit 30: connection member
40: holding unit 50: light source unit
51: substrate 52: light emitting element
71, 72: joint member 140: irradiation unit
141: ultraviolet irradiation module 100: liquid crystal panel manufacturing apparatus

Claims (5)

기판의 전면에 실장된 복수의 발광 소자;
상기 기판의 길이 방향을 따라서 연장되는 제1 유로를 갖고, 상기 기판의 배면에 배치되는 냉각 블럭;
상기 제1 유로에 병행하는 제2 유로를 갖고, 상기 냉각 블럭의 배면측에 배치되는 냉각관; 및
상기 제1 유로의 일단과 상기 제2 유로의 일단을 연통시키는 제3 유로;
를 구비하는, 조사 유닛.
A plurality of light emitting devices mounted on the entire surface of the substrate;
A cooling block having a first flow path extending along a length direction of the substrate and disposed on a rear surface of the substrate;
A cooling pipe having a second flow passage parallel to the first flow passage and disposed on a rear side of the cooling block; And
A third flow path communicating one end of the first flow path and one end of the second flow path;
With a, irradiation unit.
제 1 항에 있어서,
상기 기판의 길이 방향을 따라서 상기 냉각 블럭을 유지하는 유지 기구;
를 구비하는, 조사 유닛.
The method of claim 1,
A holding mechanism for holding the cooling block along the length direction of the substrate;
With a, irradiation unit.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제1 유로의 타단측에 접속되는 제1 이음 부재; 및
상기 제2 유로의 타단측에 접속되는 제2 이음 부재;
를 구비하는, 조사 유닛.
The method according to claim 1 or 2,
A first joint member connected to the other end of the first flow path; And
A second joint member connected to the other end of the second flow path;
With a, irradiation unit.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 냉각 블럭은 상기 기판의 길이 방향을 따라서 착탈 가능하게 배치되는, 조사 유닛.
The method according to claim 1 or 2,
The cooling block is disposed detachably along the length direction of the substrate, irradiation unit.
광 반응성 물질을 함유하는 피처리 패널에 광을 조사하는 복수의 자외선 조사 장치;
를 구비하고,
상기 자외선 조사 장치는 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 조사 유닛인, 액정 패널 제조 장치.
A plurality of ultraviolet irradiation devices for irradiating light onto a panel to be treated containing a photoreactive material;
And,
The said ultraviolet irradiation apparatus is the irradiation unit of Claim 1 or 2, The liquid crystal panel manufacturing apparatus.
KR1020200104500A 2019-09-24 2020-08-20 Apparatus for manufacturing liquid crystal panel and irradiation unit KR20210035733A (en)

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