KR20210031615A - 기판 처리 장치용 필터 장치 및 청정 공기 공급 방법 - Google Patents

기판 처리 장치용 필터 장치 및 청정 공기 공급 방법 Download PDF

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KR20210031615A
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나오키 타지마
타케시 토비마츠
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

복수의 병렬 배치된 기판 처리 장치에 대하여 필터를 거쳐 공급하는 청정 공기의 온도를 균일하게 한다. 병렬로 배치된 복수의 기판 처리 장치의 상방에 설치되는 필터를 가지는 필터 장치로서, 상기 필터의 상방에 형성된 덕트 공간에 있어서의 상기 기판 처리 장치의 병렬 방향의 일단부측에 공기류 입구가 형성되고, 상기 공기류 입구로부터 유입된 공기는, 상기 덕트 공간을 상하 방향으로 구획하는 기류 유도 부재에 의해, 상기 기류 유도 부재의 전면측으로부터 상기 덕트 공간의 타단부측으로 안내되고, 상기 타단부측으로 안내된 공기 중 적어도 일부는 상기 기류 유도 부재의 배면측으로 돌아오도록 구성되고, 상기 덕트 공간 내의 공기는 상기 필터를 거쳐 상기 기판 처리 장치로 흐르도록 구성되어 있다.

Description

기판 처리 장치용 필터 장치 및 청정 공기 공급 방법 {FILTER DEVICE FOR SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND CLEAN AIR SUPPLY METHOD}
본 개시는 기판 처리 장치용 필터 장치 및 청정 공기 공급 방법에 관한 것이다.
특허 문헌 1에는, 도포 현상 처리 장치 밖에 마련된 공조기로부터의 청정한 공기를, 덕트를 경유하여 액 공급계 유닛부의 상방에 마련된 필터 유닛에 공급하여, 각 액 공급계 유닛부에 공급하는 것이 기재되어 있다.
일본특허공개공보 2007-088485호
본 개시에 따른 기술은, 복수의 병렬 배치된 기판 처리 장치에 대하여 필터를 거쳐 공급하는 청정 공기의 온도를 균일하게 한다.
본 개시의 일태양은, 병렬로 배치된 복수의 기판 처리 장치의 상방에 설치되는 필터를 가지는 필터 장치로서, 상기 필터의 상방에 형성된 덕트 공간에 있어서의 상기 기판 처리 장치의 병렬 방향의 일단부측에, 공기류 입구가 형성되고, 상기 공기류 입구로부터 유입된 공기는, 상기 덕트 공간을 상하 방향으로 구획하는 기류 유도 부재에 의해, 상기 기류 유도 부재의 전면측으로부터 상기 덕트 공간의 타단부측으로 안내되고, 상기 타단부측으로 안내된 공기 중 적어도 일부는, 상기 기류 유도 부재의 배면측으로 돌아오도록 구성되고, 상기 덕트 공간 내의 공기는, 상기 필터를 거쳐 상기 기판 처리 장치로 흐르도록 구성된, 기판 처리 장치용 필터 장치이다.
본 개시에 따르면, 복수의 병렬 배치된 기판 처리 장치에 대하여 필터를 거쳐 공급하는 청정 공기의 온도를 균일하게 할 수 있다.
도 1은 본 실시 형태에 따른 필터 장치가 탑재된 도포 현상 처리 장치의 정면을 모식적으로 나타내는 설명도이다.
도 2는 본 실시 형태에 따른 필터 장치의 전면측의 단면도이다.
도 3은 본 실시 형태에 따른 필터 장치의 분해 사시도이다.
도 4는 본 실시 형태에 따른 필터 장치의 상면을 모식적으로 나타낸 설명도이다.
도 5는 본 실시 형태에 따른 필터 장치에 있어서의 유통부를 나타내는 사시도이다.
도 6은 본 실시 형태에 따른 필터 장치의 작용을 나타내는 상면을 모식적으로 나타낸 설명도이다.
도 7은 3연 타입의 액 처리 장치에 적용하는 필터 장치의 상면을 모식적으로 나타낸 설명도이다.
도 8은 3연 타입의 액 처리 장치에 적용하는 필터 장치에 있어서의 유통부를 나타내는 사시도이다.
도 9는 3연 타입의 액 처리 장치에 적용하는 필터 장치의 작용을 나타내는 상면을 모식적으로 나타낸 설명도이다.
반도체 디바이스의 제조 프로세스에서는, 반도체 장치의 제조 공정의 하나인 포토리소그래피 공정에 있어서, 기판인 반도체 웨이퍼(이하, '웨이퍼'라고 기재하는 경우가 있음)에 레지스트 패턴이 형성된다. 레지스트 패턴이 형성된 웨이퍼는, 예를 들면 다음으로 에칭 처리가 실행된다.
이 레지스트 패턴을 형성하기 위하여, 웨이퍼는 예를 들면 레지스트의 도포, 현상을 행하는 도포 현상 장치로 반송되어 레지스트의 액 처리가 행해진 후에, 노광 처리 장치로 반송되어 원하는 패턴이 노광되고, 이 후 현상 처리가 실행되어 레지스트 패턴이 형성된다.
도포 현상 처리 장치에 탑재되어 있는 각종 기판 처리 장치에 대해서는, 온습도가 조정된 청정 공기가 공급된다. 예를 들면 레지스트를 도포하는 레지스트 도포 장치에 대해서는, 그 상방으로부터 필터를 거쳐 정해진 온도, 습도의 청정 공기가 다운 플로우로 공급되고 있다. 온도, 습도가 변화하면 레지스트의 막 두께에 영향을 주기 때문이다.
이 점에 관하여, 특허 문헌 1에 개시된 기술은, 도포 현상 처리 장치의 밖에 마련된 공조기로부터의 청정한 공기를 종방향으로 시공된 덕트를 경유하여, 레지스트 도포 장치 및 현상 처리 장치 등의 액 공급계 유닛부의 상방에 마련된 필터 유닛에 공급하여, 각 액 공급계 유닛에 공급하는 것이 기재되어 있다.
온습도가 조정되어 공조기로부터 공급되는 공기는, 상기한 바와 같이 세로 덕트를 개재하여, 도포 현상 처리 장치에 탑재되어 있는 각종 기판 처리 장치로 공급되는데, 각종 기판 처리 장치는 상하 방향에 다단으로 탑재되어 있기 때문에, 다운 플로우로 각종 기판 처리 장치에 청정 공기를 공급하는 경우에는, 일단 상기 세로 덕트로부터 각종 기판 처리 모듈의 일단부의 도입구로부터 수평 방향으로 유입시키고, 이 후 필터를 거쳐 하방에 위치하는 기판 처리 장치에 대하여 다운 플로우로 공급하고 있다.
그런데 최근에는, 케이싱으로 둘러싸인 하나의 액 처리 모듈 내에, 복수의 액 처리 장치가 탑재되는 경우가 있다. 예를 들면 액 처리 모듈에 대하여 말하면, 하나의 케이싱 내에 복수, 예를 들면 2 대, 3 대의 액 처리 장치가 병렬로 배치되는 경우가 있다. 액 처리 장치는, 웨이퍼를 유지하여 회전시키는 스핀 척을 둘러싸도록, 상면이 개구된 컵을 가지고 있다. 이들 각 컵에 대하여 상방으로부터 다운 플로우에 의해 온습도가 조정된 청정 공기가 컵 상방에 위치하는 필터를 거쳐 공급된다.
이러한 하나의 케이싱 내에 복수의 액 처리 장치를 가지는 액 처리 모듈의 경우, 일단부측으로부터 도입된 공기는, 타단부측으로 흘러갈 때에, 액 처리 모듈 주위의 열, 예를 들면 각종 전기 장치로부터 발생하는 열에 의해 온도가 상승하는 경우가 있다. 온도가 상승하면, 상대 습도도 정해진 습도로부터 저하된다.
그러면, 액 처리 장치가 병렬하여 배치되어 있는 경우, 일단부측에 위치하고 있는 액 처리 장치와 타단부측에 위치하고 있는 액 처리 장치에서는, 공급되는 청정 공기의 온습도가 상이해지고, 그 결과, 각 액 처리 장치에서 도포되는 막 두께도 상이해져, 이른바 액 처리 장치 간의 간차가 생긴다.
본 개시에 따른 기술은, 그와 같이 액 처리 장치를 시작으로 하는 각종 기판 처리 장치가 병렬하여 배치되고, 또한 기판 처리 장치의 병렬 방향의 일단부측으로부터 청정 공기를 도입하고, 필터를 거쳐 당해 필터의 하방에 위치하고 있는 각 기판 처리 장치에 공급함에 있어, 일단부측에 위치하고 있는 기판 처리 장치와 타단부측에 위치하고 있는 기판 처리 장치에 대하여, 온도가 균일한 공기를 공급한다.
이하, 본 실시 형태에 따른 기판 처리 시스템에 대하여, 도면을 참조하여 설명한다. 또한, 본 명세서에서 실질적으로 동일한 기능 구성을 가지는 요소에 있어서는, 동일한 부호를 부여함으로써 중복 설명을 생략한다.
도 1은 본 실시 형태에 따른 필터 장치가 채용된 액 처리 장치를 탑재한 도포 현상 처리 장치(1)의 정면을 모식적으로 나타낸 설명도이다. 이 도포 현상 처리 장치(1)는 복수 매의 웨이퍼를 수용한 캐리어(C)가 반입반출되는 캐리어 블록(2)과, 웨이퍼에 정해진 처리를 실시하는 복수의 각종 기판 처리 유닛을 구비한 처리 블록(3)과, 노광 처리 장치(4)와의 사이에서 웨이퍼의 전달을 행하는 인터페이스 블록(5)을 일체로 접속한 구성을 가지고 있다.
처리 블록(3)에는, 도 1에 나타낸 레지스트를 시작으로 하는 각종의 도포막을 웨이퍼에 형성하거나, 현상액 등의 처리액을 공급하는 액 처리 모듈(11) 외에, 웨이퍼에 대하여 열처리를 행하는 열처리 모듈(도시하지 않음)이 다단으로 탑재되어 있다. 또한 처리 블록(3)에는, 이들 액 처리 모듈(11)에 공급하는 각종의 처리액을 교환 가능한 탱크에 저류하고 있는 이른바 케미컬 박스(12)가 마련되어 있다.
이어서 액 처리 모듈(11)에 대하여 설명한다. 하나의 액 처리 모듈(11)에는 예를 들면 웨이퍼에 대하여 레지스트액을 공급하거나, 현상액을 공급하여 정해진 처리를 행하는 동일 구성의 액 처리 장치(21, 22)가 병렬하여 배치되어 있다. 그리고 액 처리 모듈(11) 내에 있어서의 액 처리 장치(21, 22)의 상방에는 필터 장치(30)가 배치되어 있다.
각 필터 장치(30)에는 도포 현상 처리 장치(1)의 밖에 마련되어 있는 공조기(6)로부터, 정해진 온습도, 예를 들면 23℃, 45% RH로 조정된 공기가, 도포 현상 처리 장치(1) 내에 있어서 상하 방향으로 시공되어 있는 덕트(7, 8)로부터 각 액 처리 모듈(11)의 필터 장치(30)로 공급된다.
액 처리 장치(21, 22)는 처리액 공급 시 및 도포막 형성 시에 처리액이 주위에 비산하지 않도록, 웨이퍼를 수용하고 상면이 개구된 컵(21a, 22a)을 가지고 있다.
필터 장치(30)는 도 2, 도 3에 나타낸 구성을 가지고 있다. 즉 이 필터 장치(30)는 위로부터 차례로 천판(31), 덕트 부재(32), 부직포(33), 필터(34), 정류판(35)을 적층하여 구성되어 있다. 그리고 천판(31), 덕트 부재(32), 부직포(33)에 의해 둘러싸인 공간은 덕트 공간(Z)을 형성한다.
덕트 부재(32)는 상면, 하면이 개구되어, 사면이 전면벽(32a), 타단부측의 측벽(32b), 배면벽(32c), 일단부측의 측벽(32d)에 의해 둘러싸인 장방형(長方形)의 프레임 구조를 가지고 있다. 측벽(32d)에는 공기류 입구(32e)가 형성되고, 이 공기류 입구(32e)에는 기술한 덕트(7), 혹은 덕트(8)에 접속되어, 온습도가 조정된 덕트(7, 8)로부터의 공기를 도입하도록 되어 있다.
덕트 부재(32)는 덕트 공간(Z)을 상하 방향으로 구획하는 기류 유도 부재(40)를 가지고 있다. 이 기류 유도 부재(40)는, 도 3, 도 4에 나타낸 바와 같이, 공기류 입구(32e)의 배면측 단부로부터 전면측을 향해 비스듬하게 이어지는 도입부(41)와, 도입부(41)로부터 연속하고, 또한 평면에서 봤을 때 각도를 바꾸어 전면벽(32a), 배면벽(32c)과 평행하게 연장하는 안내부(42)를 가지고 있다.
안내부(42)의 종단부와 타단부측의 측벽(32b) 사이에는, 덕트 공간(Z)을 상하 방향으로 구획하고, 또한 덕트 공간(Z)을 전후 방향으로 구획하여, 측벽(32b)과 평행하게 배치되는 구획판(43)이 마련되어 있다. 구획판(43)에 의해 덕트 공간(Z)은, 일단부측의 제 1 공간(Z1)과 타단부측의 제 2 공간(Z2)으로 구획된다. 또한 제 1 공간(Z1)에 있어서의 기류 유도 부재(40)의 전면측은 전면 공간(Z1a)을 구성하고, 제 1 공간(Z1)에 있어서의 기류 유도 부재(40)의 배면측은 배면 공간(Z1b)을 구성한다. 단, 전면 공간(Z1a)과 배면 공간(Z1b)은 안내부(42)의 종단부와 구획판(43) 사이의 공간에 의해 연통하고 있다.
구획판(43)에는 개구부(43a)가 형성되어 있다. 이 개구부(43a)의 개구 위치는, 평면에서 봤을 때 안내부(42)의 종단부를 측벽(32b)에 직선 형상으로 연장하여 구획판(43)과 교차하는 위치보다 배면측(배면벽(32c)측)에 설정되어 있다.
또한 도 4에 나타낸 바와 같이, 기류 유도 부재(40)는, 평면에서 봤을 때 하방에 위치하는 액 처리 장치(21)의 컵(21a)에 따른 위치로 설정되어 있고, 또한 컵(21a)의 중심(P)은, 기류 유도 부재(40)의 안내부(42)의 배면측, 즉 배면 공간(Z1b)에 위치하고 있다. 한편, 구획판(43)의 위치는, 평면에서 봤을 때 하방에 위치하는 액 처리 장치(22)의 컵(22a)에 따른 위치에 설정되어 있고, 컵(22a)의 중심(P)도 덕트 공간(Z)의 배면쪽에 위치하고 있다. 구획판(43)의 위치는, 그와 같이 평면에서 봤을 때 컵(22a)에 따른 위치가 아니어도 되며, 기류 유도 부재(40)의 종단부와 제 2 공간(Z2)에 있어서의 컵(22a)의 중심(P)과의 사이에 위치할 필요가 있다. 예를 들면 구획판(43)의 위치가 제 2 공간(Z2)에 있어서의 컵(22a)의 중심(P)보다 측벽(32b)쪽에 있으면, 개시에 따른 기술의 온도 간차 개선 효과를 기대할 수 없기 때문이다. 또한 컵(21a)의 중심(P)은, 평면에서 봤을 때 배면 공간(Z1b)에 위치하고, 또한 컵(22a)의 중심(P)도 제 2 공간(Z2)의 배면쪽에 위치시키는 편이, 평면에서 봤을 때 비스듬하게 배치된 도입부(41)로부터 안내부(42)로 가이드하는 기류의 관계로부터, 좌우로 병렬 배치되어 있는 컵(21a, 22a)의 온도 밸런스를 취하기 쉽기 때문이다.
또한 기류 유도 부재(40)의 안내부(42)에는, 도 5에 나타낸 바와 같이, 전면 공간(Z1a)과 배면 공간(Z1b)을 연통시키는 유통부(42a)가, 안내부(42)의 하단부에 예를 들면 복수 형성되어 있다.
덕트 공간(Z)의 하측을 구성하는 부직포(33)는, 본 실시의 형태에서는 도 3에 나타낸 바와 같이 4 매의 부직포(33a, 33b, 33c, 33d)를 거듭하여 이용하고 있다. 최상층의 부직포(33a)는, 공기류 입구(32e) 부근의 일단부측과 배면측을 커버하는 L자형이다. 다른 부직포(33b, 33c, 33d)는 모두 장방형이다. 또한 부직포(33)에 있어서는, 적절히 라스망이 개재되어 있어, 부직포에 강성을 갖게 하여 형상의 유지 및 평탄성이 확보되고 있다.
최하층의 부직포(33d)의 하측에는 필터(34)가 배치되어 있다. 본 실시의 형태에서는 ULPA 필터가 이용되고 있다.
필터(34)의 하측에는 정류판(35)이 배치되어 있다. 본 실시의 형태에서는, 하측에 다수의 홀이 형성된 펀칭 메탈(35a)이 배치되고, 이 펀칭 메탈(35a)의 네 변에는, 스페이서(35b)가 마련되어 있다. 따라서 스페이서(35b)에 의해, 필터(34)의 하면과 펀칭 메탈(35a)의 상면 사이에는 공간(S)이 형성되어 있다.
실시의 형태에 따른 필터 장치(30)는 이상의 구성을 가지고 있고, 덕트(7, 8)로부터의 공기는, 필터 장치(30)에 있어서의 덕트 부재(32)의 일단부에 형성된 공기류 입구(32e)로부터 덕트 공간(Z)으로 흘러간다. 이 때 도 6에 나타낸 바와 같이, 유입된 공기(A)는, 수평 방향의 기류에 대하여 말하면, 기류 유도 부재(40)의 도입부(41)와 안내부(42)를 따라, 덕트 공간(Z)의 전면측(전면벽(32a)측)의 전면 공간(Z1a)으로 흘러간다. 그리고 구획판(43)과 충돌한 후, 일부는 공기(A1)로서 구획판(43)의 개구부(43a)로부터 제 2 공간(Z2) 내에 흐른다. 또한 다른 일부는, 구획판(43)에 충돌한 후, 공기(A2)로서, 기류 유도 부재(40)의 배면측(배면벽(32c)측)의 배면 공간(Z1b)으로 흘러간다.
또한 한편, 기류 유도 부재(40)의 안내부(42)에 마련된 유통부(42a)로부터, 전면 공간(Z1a)의 공기는 배면 공간(Z1b)의 컵(21a)의 상방으로 흘러간다.
그리고 제 1 공간(Z1)의 전면 공간(Z1a)으로 흘러든 공기(A), 배면 공간(Z1b)으로 흘러든 공기(A2), 및 제 2 공간(Z2)으로 흘러든 공기(A1)는, 하측의 부직포(33), 필터(34)를 거쳐 청정화되고, 정류판(35) 내의 상부의 공간(S)을 거쳐, 펀칭 메탈(35a)로부터 하방의 액 처리 장치(21, 22)의 상방으로 흘러간다.
여기서 액 처리 모듈(11)의 주변에는 전기계 장치 등이 존재하고 있으므로, 덕트 공간(Z)을 타단부측으로 흘러감에 따라, 이들 장치로부터의 방열의 영향을 받아 점차 온도가 상승해 간다. 이 때문에 덕트(7, 8)로부터의 공기가, 필터 장치(30)에 있어서의 덕트 부재(32)의 일단부에 형성된 공기류 입구(32e)로부터 덕트 공간(Z) 내에 유입되어 타단부측으로 흘러가면, 공기류 입구(32e) 부근의 온도보다 타단부측의 측벽(32b) 부근의 온도가 높아진다.
따라서 그대로 필터(34)를 거쳐 하방의 액 처리 장치(21, 22)로 공급되는 청정 공기의 온도도, 일단부측의 액 처리 장치(21)가 낮고 타단부측에 위치하는 액 처리 장치(22)가 높아진다. 그러면, 동일 구성에서 병렬 배치된 액 처리 장치(21, 22) 간에 처리의 장치 간차가 발생하게 된다.
본 실시의 형태에서도, 제 1 공간(Z1)의 전면 공간(Z1a)에 공급되어 있는 공기(A)의 온도보다 제 2 공간(Z2)에 공급되는 공기(A1)의 온도가 높은데, 구획판(43)에 충돌하여 제 1 공간(Z1)의 배면 공간(Z1b)에 공급되는 공기(A2)는, 흐르는 거리가 긴 만큼 주위의 열의 영향에 의해 온도가 더 높아지고 있다. 따라서, 이 덕트 공간(Z)으로부터 부직포(33), 필터(34)를 거쳐 하방의 액 처리 장치(21)로 흘러감에 따라, 공기(A)와 공기(A2)는 혼합되어, 공기(A1)와 대략 동일한 온도로 조정된다.
특히 본 실시의 형태에서는, 필터(34)의 하면측에 공간(S)이 존재하고 있으므로, 이 공간(S) 내에서, 제 1 공간(Z1)의 전면 공간(Z1a), 배면 공간(Z1b)으로부터의 공기는 혼합되고, 또한 제 2 공간(Z2)으로부터의 공기와도 혼합되므로, 정류판(35)의 펀칭 메탈(35a)을 통과하여, 하방의 액 처리 장치(21, 22)의 컵(21a, 22a)에 공급되는 청정 공기의 온도차(습도차)를 매우 작게 할 수 있다. 따라서 병렬 배치된 액 처리 장치(21, 22)에 대하여, 균일한 온도, 균일한 습도(상대 습도)의 청정 공기를 공급하는 것이 가능하다. 공간(S)의 높이 방향의 길이는 긴 것이 좋지만, 적어도 2 mm 이상의 높이를 확보할 수 있으면, 소기의 혼합 목적을 달성할 수 있다.
실제로 발명자들이 검증한 바, 종래 형, 즉 덕트 부재(32)에 기류 유도 부재(40), 구획판(43) 등을 갖지 않는 종래의 필터 장치와, 본 실시의 형태에 따른 필터 장치(30)를 동일 조건으로 비교한 경우, 종래 형에서는, 액 처리 장치(21, 22)의 컵(21a, 22a)에 공급되는 청정 공기의 습도차는 0.7%였던 것에 반해, 실시의 형태에서는 0.03%로 억제할 수 있었다.
또한 상기 실시의 형태에서는, 기류 유도 부재(40)의 안내부(42)에 마련된 유통부(42a)를 통하여, 전면 공간(Z1a)의 공기를, 배면 공간(Z1b)으로 흘릴 수 있으므로, 조건에 따라, 적절히 이 유통부(42a)의 수, 유무를 조정함으로써, 또한 액 처리 장치(21, 22)의 컵(21a, 22a)에 공급되는 청정 공기의 온습도를 조정하는 것이 가능하다.
또한 구획판(43)의 개구부(43a)의 크기, 개구 위치를 조정하는 것으로도, 액 처리 장치(21, 22)의 컵(21a, 22a)에 공급되는 청정 공기의 온습도를 조정하는 것이 가능하다.
또한 본 실시의 형태에서는, 덕트 부재(32)의 하측으로서 필터(34)의 상측에 부직포(33)를 배치하고 있으므로, 하방에 흐르는 공기의 풍속의 균일성도 조정 가능하다. 실시의 형태에서는, 특히 풍속이 커지는 공기류 입구(32e) 부근과 배면벽(32c)부근을 커버하는 L자형의 부직포(33a)를 채용했으므로, 당해 영역은 압력 손실이 커지고 있어, 이에 의해 다른 영역과의 사이에서의 풍속의 균일성이 향상되어 있다.
그런데 최근에는 스루풋, 웨이퍼의 시간당 처리 매수를 향상시키기 위하여, 도포 현상 처리 장치(1)에 탑재하는 기판 처리 장치의 수를 증가시키는 경우가 있으며, 액 처리 장치에 대해서도, 하나의 액 처리 모듈 내에 예를 들면 3 대의 액 처리 장치를 병렬 배치하는 이른바 3연 타입의 액 처리 모듈이 탑재되는 경우가 있다.
본 개시에 따른 기술은 이러한 3연 타입의 액 처리 모듈에 대해서도 적용 가능하다. 도 7은 3연 타입의 액 처리 모듈에 대하여 적용한 경우의, 필터 장치(50)의 평면을 모식적으로 나타낸 설명도이다.
이와 같이 3 대의 액 처리 장치의 컵(21a, 22a, 23a)이 병렬 배치되어 있는 경우, 덕트 공간(Z)은 그 만큼 장치의 병렬 방향으로 길어져 있다. 이 때문에, 공기류 입구(32e)로부터 유입되는 공기의 유속도, 상기한 2 개의 컵(21a, 22a)의 경우보다 높게 되어 있고, 통상 약 1.5 배의 유속으로 되어 있다.
이러한 경우에는, 도 7에 나타낸 바와 같이, 기류 유도 부재(40)의 도입부(41)에 이어지는 안내부(42)는, 가장 타단부측에 위치하는 컵(23a)의 상방에 따른 위치까지 연장시키고, 상기 실시의 형태에 있어서 채용한 구획판(43)은 배치하지 않는다. 안내부(42)의 종단부와 타단부측의 측벽(32b) 사이에는 개구부(51)가 형성되어 있다.
그리고 안내부(42)에 의해 형성된 전면 공간(Za)과 배면 공간(Zb) 사이를 연통시키는 안내부(42)에 마련된 유통부(42b)는, 도 8에 나타낸 바와 같이 안내부(42)의 상단부에 형성되어 있다. 이는 공기의 유속이 빠르기 때문에, 상기 실시의 형태와 같이 안내부(42)의 하측에 마련하면, 하방으로 충분히 흘러가지 않는 경우가 있기 때문이다. 또한 이 필터 장치(50)에서는, 도입부(41)의 상단부에도 유통부(42b)와 동일한 유통부(도시하지 않음)가 형성되어 있다.
이 3연 타입에 적용한 경우라도, 각 컵(21a, 22a, 23a)의 중심(P)은 덕트 공간(Z)의 배면 공간(Zb)측에 위치하도록, 덕트 부재(32)는 설정되어 있다.
또한 이 3연 타입에 적용하는 필터 장치(50)에 있어서의 다른 구성, 즉 부직포(33), 필터(34), 정류판(35)의 구성은, 상기 실시의 형태에 따른 필터 장치(30)와 동일하다.
이상의 구성에 따른 필터 장치(50)에 의하면, 도 9에 나타낸 바와 같이, 공기류 입구(32e)로부터 유입된 공기(A)는, 도입부(41), 안내부(42)를 따라, 덕트 공간(Z)의 전면 공간(Za)을 따라 흘러가, 타단부측의 측벽(32b)에 충돌하여, 덕트 공간(Z)의 배면 공간(Zb)측으로 배면벽(32c)을 따라 흘러간다.
이 경우, 상기한 병렬 타입의 필터 장치(30)의 덕트 공간(Z)보다 공기가 흐르는 거리가 길므로, 전면 공간(Za)에 있어서의 일단부측(공기류 입구(32e) 부근)과 타단부측(측벽(32b)측) 간의 온도차는 커져 있다. 즉, 전면 공간(Za)에 있어서는, 가장 온도가 낮은 공기는 컵(21a)의 상방으로부터, 다음으로 온도가 높은 공기는 컵(22a)의 상방으로부터, 가장 높은 공기는 컵(23a)의 상방으로부터 각 컵에 대하여 공급되는데, 배면 공간(Zb)에 있어서는, 흘러가는 거리가 긴 만큼 주위의 열의 영향을 받으므로, 컵(23a)보다 컵(22a)에 공급되는 공기의 온도가 높고, 컵(22a)보다 컵(21a)에 공급되는 공기의 온도가 높아져 있다. 따라서 각 컵에 대해서는, 각각 양자가 혼합한 공기가 공급되므로, 온도의 차가 조정된 공기가 각 컵(21a, 22a, 23a)에 대하여 공급되게 된다. 따라서 각 컵(21a, 22a, 23a)에 공급되는 청정 공기의 온도, 그리고 습도는 균일화된다.
또한 이 필터 장치(50)에 있어서도, 안내부(42)에 유통부(42b)가 마련되어 있으므로, 전면 공간(Za)의 비교적 온도가 낮은 공기를 배면 공간(Zb)에 적절히 공급할 수 있다. 따라서 조건에 따라 이 유통부(42b)의 수, 설치 위치, 유무를 조정함으로써, 각 컵(21a, 22a, 23a)에 공급되는 공기의 온도, 그리고 습도를 더 조정하는 것이 가능하다.
또한 상기한 3연 타입의 액 처리 장치에 적용하는 필터 장치(50)에서는, 상기 한 필터 장치(30)보다 덕트 공간(Z)이 병렬 방향으로 길게 되어 있으므로, 배면 공간(Zb)에 있어서는, 타단부측보다 일단부측의 공기의 온도는 더 높게 되어 있다. 이 때문에, 이 필터 장치(50)에 있어서는, 도입부(41)에도 유통부(42b)와 동일한 유통부를 적절히 마련함으로써, 도 9에 나타낸 바와 같이, 공기류 입구(32e) 부근의 가장 온도의 낮은 공기를 배면 공간(Zb)의 가장 일단부측의 공간에 공급할 수 있다. 따라서, 하방에 위치하는 컵(21a)에 대하여, 다른 컵(22a, 23a)에 공급하는 공기의 온도와 동일한 정도의 온도의 공기를 공급하는 것이 가능하다.
물론 4 이상의 액 처리 장치의 상방에 설치하는 필터 장치에 대해서도, 상기한 3연 타입용의 필터 장치(50)를 응용하여, 적당한 안내부(42)를 가장 타단부측에 위치하는 컵의 상방까지 연장하고, 또한 적절히 유통부(42b)를 안내부(42)에 마련하거나, 또한 필요에 따라 도입부(41)에도 그러한 유통부를 마련함으로써 대응 가능하다.
금회 개시된 실시 형태는 모든 점에서 예시로 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 상기한 실시 형태는 첨부한 청구의 범위 및 그 주지를 일탈하지 않고, 다양한 형태로 생략, 치환, 변경되어도 된다. 예를 들면 상기 실시의 형태에서는, 액 처리 장치를 병렬 배치했을 시에 사용하는 필터 장치였지만, 이에 한정되지 않고 다른 기판 처리 장치, 예를 들면 기판을 배치하여 냉각하는 쿨링 장치에 대해서도 본 개시에 따른 기술은 적용 가능하다.
또한, 이하와 같은 구성도 본 개시의 기술적 범위에 속한다.
(1) 병렬로 배치된 복수의 기판 처리 장치의 상방에 설치되는 필터를 가지는 필터 장치로서,
상기 필터의 상방에 형성된 덕트 공간에 있어서의 상기 기판 처리 장치의 병렬 방향의 일단부측에, 공기류 입구가 형성되고,
상기 공기류 입구로부터 유입된 공기는, 상기 덕트 공간을 상하 방향으로 구획하는 기류 유도 부재에 의해, 상기 기류 유도 부재의 전면측으로부터 상기 덕트 공간의 타단부측으로 안내되고,
상기 타단부측으로 안내된 공기 중 적어도 일부는, 상기 기류 유도 부재의 배면측으로 돌아오도록 구성되고,
상기 덕트 공간 내의 공기는, 상기 필터를 거쳐 상기 기판 처리 장치로 흐르도록 구성된, 기판 처리 장치용 필터 장치.
(2) 상기 기판 처리 장치의 수는 2이며,
상기 기류 유도 부재는, 상기 공기류 입구로부터 이어지는 도입부와, 평면에서 봤을 때 상기 도입부로부터 각도를 바꾸어 이어지는 안내부를 가지고,
적어도 상기 안내부는, 평면에서 봤을 때 상기 일단부측에 위치하는 기판 처리 장치의 상방에 위치하고,
상기 덕트 공간에 있어서의 타단부측 벽면과, 상기 안내부의 종단부 사이에, 상기 덕트 공간을 상하 방향으로 구획하고, 또한 상기 덕트 공간을 전후 방향으로 구획하여, 상기 덕트 공간을 일단부측의 제 1 공간과, 타단부측의 제 2 공간으로 구획하는 구획판이 마련되고,
상기 구획판에 있어서의 상기 안내부의 종단부보다 배면측에는, 개구부가 형성되어 있는, (1)에 기재된 기판 처리 장치용 필터 장치.
(3) 상기 기판 처리 장치의 수는 3 이상이며,
상기 기류 유도 부재는, 상기 공기류 입구로부터 이어지는 도입부와, 평면에서 봤을 때 상기 도입부로부터 각도를 바꾸어 이어지는 안내부를 가지고,
적어도 상기 안내부는, 평면에서 봤을 때 상기 3 이상의 기판 처리 장치의 상방에 위치하고,
상기 안내부의 종단부와 상기 덕트 공간에 있어서의 타단부측 벽면과의 사이에는, 개구부가 있는, (1)에 기재된 기판 처리 장치용 필터 장치.
(4) 상기 기류 유도 부재에 있어서의 도입부 또는 안내부 중 적어도 일방에, 상기 기류 유도 부재에 의해 창출된 상기 덕트 공간에 있어서의 전면측 공간으로부터 배면측 공간으로 공기를 유통시키는 유통부가 형성되어 있는, (1) ~ (3) 중 어느 하나에 기재된 기판 처리 장치용 필터 장치.
(5) 상기 필터의 하측에는, 공기 유통홀을 가지는 정류판이 배치되어 있는, (1) ~ (4) 중 어느 하나에 기재된 기판 처리 장치용 필터 장치.
(6) 상기 필터와 상기 정류판 사이에 공간이 형성되어 있는, (5)에 기재된 기판 처리 장치용 필터 장치.
(7) 상기 덕트 공간과 상기 필터 사이에 부직포가 배치되어 있는 (1) ~ (5) 중 어느 하나에 기재된 기판 처리 장치용 필터 장치.
(8) 병렬로 배치된 복수의 기판 처리 장치의 상방에 설치되는 필터를 가지는 필터 장치를 이용한 상기 기판 처리 장치에 대한 청정 공기 공급 방법으로서,
상기 필터의 상방에 형성된 덕트 공간에 있어서의 상기 기판 처리 장치의 병렬 방향의 일단부측으로부터 공기를 상기 덕트 공간 내로 도입하고,
상기 덕트 공간을 상하 방향으로 구획하는 기류 유도 부재에 의해, 상기 도입한 공기를 상기 기류 유도 부재의 전면측으로부터 상기 덕트 공간의 타단부측으로 안내하고,
상기 타단부측으로 안내된 공기 중 적어도 일부를, 상기 기류 유도 부재의 배면측으로 되돌리고,
상기 기판 처리 장치에 있어서의 적어도 일단부측에 위치하는 기판 처리 장치에 대해서는, 상기 덕트 공간에 있어서의 상기 기류 유도 부재의 전면측 공간과 배면측 공간으로부터, 상기 필터를 거쳐 청정 공기를 공급하는, 청정 공기 공급 방법.

Claims (8)

  1. 병렬로 배치된 복수의 기판 처리 장치의 상방에 설치되는 필터를 가지는 기판 처리 장치용 필터 장치로서,
    상기 필터의 상방에 형성된 덕트 공간에 있어서의 상기 기판 처리 장치의 병렬 방향의 일단부측에 공기류 입구가 형성되고,
    상기 공기류 입구로부터 유입된 공기는, 상기 덕트 공간을 상하 방향으로 구획하는 기류 유도 부재에 의해, 상기 기류 유도 부재의 전면측으로부터 상기 덕트 공간의 타단부측으로 안내되고,
    상기 타단부측으로 안내된 공기 중 적어도 일부는 상기 기류 유도 부재의 배면측으로 돌아오도록 구성되고,
    상기 덕트 공간 내의 공기는 상기 필터를 거쳐 상기 기판 처리 장치로 흐르도록 구성된, 기판 처리 장치용 필터 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 처리 장치의 수는 2이며,
    상기 기류 유도 부재는 상기 공기류 입구로부터 이어지는 도입부와, 평면에서 봤을 때 상기 도입부로부터 각도를 바꾸어 이어지는 안내부를 가지고,
    적어도 상기 안내부는 평면에서 봤을 때 상기 일단부측에 위치하는 기판 처리 장치의 상방에 위치하고,
    상기 덕트 공간에 있어서의 타단부측 벽면과 상기 안내부의 종단부 사이에, 상기 덕트 공간을 상하 방향으로 구획하고 또한 상기 덕트 공간을 전후 방향으로 구획하여, 상기 덕트 공간을 일단부측의 제 1 공간과, 타단부측의 제 2 공간으로 구획하는 구획판이 마련되고,
    상기 구획판에 있어서의 상기 안내부의 종단부보다 배면측에는 개구부가 형성되어 있는, 기판 처리 장치용 필터 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 기판 처리 장치의 수는 3 이상이며,
    상기 기류 유도 부재는 상기 공기류 입구로부터 이어지는 도입부와, 평면에서 봤을 때 상기 도입부로부터 각도를 바꾸어 이어지는 안내부를 가지고,
    적어도 상기 안내부는 평면에서 봤을 때 상기 3 이상의 기판 처리 장치의 상방에 위치하고,
    상기 안내부의 종단부와 상기 덕트 공간에 있어서의 타단부측 벽면과의 사이에는 개구부가 있는, 기판 처리 장치용 필터 장치.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기류 유도 부재에 있어서의 도입부 또는 안내부 중 적어도 일방에, 상기 기류 유도 부재에 의해 형성된 상기 덕트 공간에 있어서의 전면측 공간으로부터 배면측 공간으로 공기를 유통시키는 유통부가 형성되어 있는, 기판 처리 장치용 필터 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 필터의 하측에는 공기 유통홀을 가지는 정류판이 배치되어 있는, 기판 처리 장치용 필터 장치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 필터와 상기 정류판 사이에 공간이 형성되어 있는, 기판 처리 장치용 필터 장치.
  7. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 덕트 공간과 상기 필터 사이에 부직포가 배치되어 있는, 기판 처리 장치용 필터 장치.
  8. 병렬로 배치된 복수의 기판 처리 장치의 상방에 설치되는 필터를 가지는 필터 장치를 이용한 상기 기판 처리 장치에 대한 청정 공기 공급 방법으로서,
    상기 필터의 상방에 형성된 덕트 공간에 있어서의 상기 기판 처리 장치의 병렬 방향의 일단부측으로부터 공기를 상기 덕트 공간 내로 도입하고,
    상기 덕트 공간을 상하 방향으로 구획하는 기류 유도 부재에 의해, 상기 도입한 공기를 상기 기류 유도 부재의 전면측으로부터 상기 덕트 공간의 타단부측으로 안내하고,
    상기 타단부측으로 안내된 공기 중 적어도 일부를 상기 기류 유도 부재의 배면측으로 되돌리고,
    상기 기판 처리 장치에 있어서의 적어도 일단부측에 위치하는 기판 처리 장치에 대해서는, 상기 덕트 공간에 있어서의 상기 기류 유도 부재의 전면측 공간과 배면측 공간으로부터 상기 필터를 거쳐 청정 공기를 공급하는, 청정 공기 공급 방법.
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