KR20210027424A - Adhesive composition and adhesive sheet - Google Patents

Adhesive composition and adhesive sheet Download PDF

Info

Publication number
KR20210027424A
KR20210027424A KR1020217003048A KR20217003048A KR20210027424A KR 20210027424 A KR20210027424 A KR 20210027424A KR 1020217003048 A KR1020217003048 A KR 1020217003048A KR 20217003048 A KR20217003048 A KR 20217003048A KR 20210027424 A KR20210027424 A KR 20210027424A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pressure
sensitive adhesive
resin
meth
adhesive composition
Prior art date
Application number
KR1020217003048A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR102408062B1 (en
Inventor
가즈히로 사사키
다츠히로 이케야
겐이치 나카니시
Original Assignee
쇼와 덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 쇼와 덴코 가부시키가이샤 filed Critical 쇼와 덴코 가부시키가이샤
Publication of KR20210027424A publication Critical patent/KR20210027424A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102408062B1 publication Critical patent/KR102408062B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F8/00Chemical modification by after-treatment
    • C08F8/14Esterification
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/02Non-macromolecular additives
    • C09J11/06Non-macromolecular additives organic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J163/00Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
    • C09J163/10Epoxy resins modified by unsaturated compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38Pressure-sensitive adhesives [PSA]

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

식 (1-1)로 표시되는 수지와 광중합 개시제를 포함하는 점착제 조성물로 한다. R1 내지 R4는 -H 또는 -CH3. R5는 탄소수 1 내지 16의 알킬기. R6은 지환식 탄화수소기 또는 방향족 탄화수소기. R7은 -H 또는 -(CH2)j-COOH(식 중의 j는 1 또는 2). R8은 특정의 기.

Figure pct00022
It is set as a pressure-sensitive adhesive composition containing a resin represented by formula (1-1) and a photoinitiator. R 1 to R 4 are -H or -CH 3 . R 5 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms. R 6 is an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group. R 7 is -H or -(CH 2 ) j -COOH (wherein j is 1 or 2). R 8 is a specific group.
Figure pct00022

Description

점착제 조성물 및 점착 시트Adhesive composition and adhesive sheet

본 발명은, 점착제 조성물 및 점착 시트에 관한 것이다.The present invention relates to an adhesive composition and an adhesive sheet.

본 출원은, 2018년 9월 3일에 일본에 출원된 특허 출원 제2018-164843호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.This application claims priority based on patent application No. 2018-164843 for which it applied to Japan on September 3, 2018, and uses the content here.

종래, 반도체의 제조 공정 등에 있어서, 다양한 점착 시트가 사용되고 있다. 구체적으로는, 반도체 웨이퍼의 이면 연삭(백그라인드) 공정에 있어서 웨이퍼를 보호하기 위한 보호 시트, 반도체 웨이퍼로부터 소자 소편으로의 절단 분할(다이싱) 공정에 있어서 사용되는 고정용 시트 등이 있다. 이들 점착 시트는, 피착체인 반도체 웨이퍼에 첩부되고, 소정의 가공 공정이 종료된 후에 피착체로부터 박리되는 재박리형 점착 시트이다.Conventionally, various pressure-sensitive adhesive sheets have been used in semiconductor manufacturing processes and the like. Specifically, there are a protective sheet for protecting a wafer in a back-side grinding (backgrinding) process of a semiconductor wafer, and a fixing sheet used in a cutting and dividing (dicing) process from a semiconductor wafer into element pieces. These pressure-sensitive adhesive sheets are re-peelable pressure-sensitive adhesive sheets that are affixed to a semiconductor wafer as an adherend and peeled from the adherend after a predetermined processing step is completed.

재박리형 점착 시트의 점착제층에 사용되는 점착제 조성물로서는, 분자 내에 에틸렌성 불포화기를 갖고, UV(자외선) 경화하는 수지를 포함하는 것이 알려져 있다.As the pressure-sensitive adhesive composition used for the pressure-sensitive adhesive layer of the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet, it is known to contain a resin that has an ethylenic unsaturated group in the molecule and cures with UV (ultraviolet rays).

특허문헌 1에는, 2 이상의 수산기를 측쇄에 갖는 (메트)아크릴계 폴리머와, 이소시아나토기를 갖는 화합물을, 제1 촉매의 존재 하에서 반응시켜, 우레탄 결합을 갖는 (메트)아크릴계 폴리머를 형성하는 공정, 및, 해당 우레탄 결합을 갖는 (메트)아크릴계 폴리머와, 1분자 중에 2 이상의 이소시아나토기를 갖는 화합물을, 제2 촉매의 존재 하에서 반응시켜, 점착제층을 형성하는 공정을 포함하고, 제1 촉매가 지르코늄, 티타늄, 알루미늄으로부터 선택되는 적어도 1종의 금속의 착체이며, 제2 촉매가 아민계 촉매인 점착 시트의 제조 방법이 개시되어 있다.In Patent Document 1, a (meth)acrylic polymer having two or more hydroxyl groups in the side chain and a compound having an isocyanato group are reacted in the presence of a first catalyst to form a (meth)acrylic polymer having a urethane bond. , And, comprising a step of forming a pressure-sensitive adhesive layer by reacting a (meth)acrylic polymer having the urethane bond and a compound having two or more isocyanato groups in one molecule in the presence of a second catalyst, A method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet in which the catalyst is a complex of at least one metal selected from zirconium, titanium, and aluminum, and the second catalyst is an amine catalyst is disclosed.

일본 특허 제5996985호 공보Japanese Patent No. 5996985

재박리형 점착 시트에는, 소정의 가공 공정을 행할 때 피착체에 대하여 충분한 점착력을 가질 것, 소정의 가공 공정이 종료된 후의 피착체로부터 용이하게 박리할 수 있을(박리 용이성) 것, 박리 후의 피착체에 점착 시트의 점착제층이 전사되지 않을(점착제가 잔류하지 않을) 것이 요구된다.The re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet must have sufficient adhesive strength to the adherend when performing a predetermined processing step, be easily peelable from the adherend after the predetermined processing step is completed (ease of peeling), and blood after peeling. It is required that the adhesive layer of the adhesive sheet is not transferred to the complex (no adhesive remains).

그러나, 종래의 점착 시트는, 상기 조건을 모두 충족하는 것은 아니었다. 특히, 점착 시트를 피착체에 첩부하고, 200℃ 정도의 고온에서 피착체의 가공을 행하고 나서, UV 조사하여 박리한 경우에, 점착제 잔류가 발생하기 쉬운 것이 문제가 되었다.However, the conventional pressure-sensitive adhesive sheet did not satisfy all of the above conditions. In particular, when a pressure-sensitive adhesive sheet is affixed to an adherend, processing of the adherend is performed at a high temperature of about 200°C, and then peeled off by UV irradiation, there has been a problem that the residual pressure-sensitive adhesive is liable to occur.

본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 점착 시트의 점착제층을 형성하는 재료로서 사용함으로써, 피착체에 대하여 충분한 점착력을 갖고, 점착 시트를 첩부한 피착체를 고온 상태로 하고 나서 실온으로 되돌리고, UV 조사한 후에 박리해도, 우수한 박리 용이성이 얻어짐과 함께, 점착제 잔류가 발생하기 어려운 점착 시트가 얻어지는 점착제 조성물을 제공하는 것을 과제로 한다.The present invention has been made in view of the above circumstances, and by using it as a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet, it has sufficient adhesion to the adherend, and the adherend to which the pressure-sensitive adhesive sheet is attached is brought to a high temperature state, and then returned to room temperature. , Even after peeling after UV irradiation, it is a subject to provide a pressure-sensitive adhesive composition in which a pressure-sensitive adhesive sheet is obtained, while excellent ease of peeling is obtained and the pressure-sensitive adhesive residual is less likely to occur.

또한, 본 발명은, 상기 점착제 조성물을 포함하는 점착제층을 갖는 점착 시트를 제공하는 것을 과제로 한다.In addition, the present invention makes it a subject to provide an adhesive sheet having an adhesive layer containing the adhesive composition.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해, 예의 검토를 거듭하였다. 그 결과, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)를 필수 단량체 성분으로서 중합하여 이루어지는 카르복시기 함유 수지(b)와, 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)의 부가 반응에 의해 얻은 수지(A)와, 광중합 개시제(B)를 필수 성분으로서 함유하는 점착제 조성물을 사용하면 되는 것을 알아냈다.In order to solve the said subject, the present inventor repeated intensive examination. As a result, resin (A) obtained by addition reaction of a carboxyl group-containing resin (b) obtained by polymerizing a carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) as an essential monomer component, and an alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c), and , It was found that the pressure-sensitive adhesive composition containing a photopolymerization initiator (B) as an essential component may be used.

수지(A)와 광중합 개시제(B)를 함유하는 점착제 조성물은, 수지(A)가 지환식화합물에서 유래되는 구조를 갖기 때문에, 양호한 내열성을 갖는다. 또한, 상기 점착제 조성물은, 자외선(UV)을 조사함으로써 수지(A) 중의 불포화 결합이 삼차원 가교 구조를 형성하여 경화되어, 점착력이 변화된다. 구체적으로는, 점착제 조성물에 UV를 조사하기 전에는 피착체에 대하여 충분한 점착력이 얻어지고, UV를 조사한 후에는 점착력이 저하되어 우수한 박리 용이성이 얻어짐과 함께, 박리 후의 피착체에 대한 점착제 잔류를 충분히 방지할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition containing the resin (A) and the photoinitiator (B) has good heat resistance because the resin (A) has a structure derived from an alicyclic compound. Further, in the pressure-sensitive adhesive composition, the unsaturated bonds in the resin (A) form a three-dimensional crosslinked structure by irradiation with ultraviolet rays (UV) and are cured, thereby changing the adhesive strength. Specifically, sufficient adhesion to the adherend is obtained before UV irradiation on the pressure-sensitive adhesive composition, and after UV irradiation, the adhesion is lowered, resulting in excellent peelability, and sufficient pressure-sensitive adhesive residual to the adherend after peeling. Can be prevented.

본 발명자는, 이와 같은 지견에 기초하여 본 발명에 상도하였다. 즉, 본 발명은 이하의 사항에 관한 것이다.The present inventor conceived of the present invention based on such knowledge. That is, the present invention relates to the following matters.

[1] 하기 일반식 (1-1)로 표시되는 수지(A)와, 광중합 개시제(B)를 포함하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.[1] A pressure-sensitive adhesive composition comprising a resin (A) represented by the following general formula (1-1) and a photoinitiator (B).

Figure pct00001
Figure pct00001

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 (1-1)에 있어서, k, l, m, n은, k+l+m+n=100으로 하였을 때의 몰 조성비를 나타낸다. k는 0 초과 내지 92 이하이다. l은 0 내지 50이다. m은 0 초과 내지 90 이하이다. k, l, m의 합계는 65 내지 95이다. n은 5 내지 35이다. R1 내지 R4는 -H 또는 -CH3이다. R5는 탄소수 1 내지 16의 알킬기이다. R6은 탄소수 3 내지 30의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 내지 20의 방향족 탄화수소기이다. R7은 -H 또는 -(CH2)j-COOH(식 중의 j는 1 또는 2임)이다. R8은 상기 일반식 (1-2) 또는 (1-3)이다. 식 (1-2) 및 (1-3)에 있어서, p 및 q는 0, 1, 2로부터 선택되는 어느 것이다. s는 p가 0일 때는 0이고, p가 1 또는 2일 때는 1이다. R9는 -H 또는 -CH3이다.)(In formula (1-1), k, l, m, and n represent the molar composition ratio when k+l+m+n=100. k is more than 0 and not more than 92. l is 0 to 92 50. m is greater than 0 and not more than 90. The sum of k, l and m is 65 to 95. n is 5 to 35. R 1 to R 4 are -H or -CH 3. R 5 is a number of carbon atoms It is an alkyl group of 1 to 16. R 6 is an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. R 7 is -H or -(CH 2 ) j -COOH (wherein j is 1 Or 2. R 8 is the general formula (1-2) or (1-3). In formulas (1-2) and (1-3), p and q are from 0, 1, 2 Which is selected, s is 0 when p is 0, 1 when p is 1 or 2. R 9 is -H or -CH 3 .)

[2] 상기 수지(A)의 중량 평균 분자량이 20만 내지 100만인 것을 특징으로 하는 [1]에 기재된 점착제 조성물.[2] The pressure-sensitive adhesive composition according to [1], wherein the resin (A) has a weight average molecular weight of 200,000 to 1,000,000.

[3] 상기 식 (1-1)에 있어서의 n이 10 내지 33인 [1] 또는 [2]에 기재된 점착제 조성물.[3] The pressure-sensitive adhesive composition according to [1] or [2], wherein n in the formula (1-1) is 10 to 33.

[4] 상기 식 (1-1)에 있어서의 k가 45 내지 90이고, l이 4 내지 40이며, m이 1 내지 15인 것을 특징으로 하는 [1] 내지 [3] 중 어느 것에 기재된 점착제 조성물.[4] The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [1] to [3], wherein k in the formula (1-1) is 45 to 90, l is 4 to 40, and m is 1 to 15. .

[5] 가교제(C)를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 [1] 내지 [4] 중 어느 것에 기재된 점착제 조성물.[5] The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [1] to [4], further comprising a crosslinking agent (C).

[6] 상기 수지(A)의 유리 전이 온도가 -80 내지 0℃인 것을 특징으로 하는 [1] 내지 [5] 중 어느 것에 기재된 점착제 조성물.[6] The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [1] to [5], wherein the glass transition temperature of the resin (A) is -80 to 0°C.

[7] 시트상의 기재와, 상기 기재 상에 형성된 점착제층을 갖고, 상기 점착제층이, [1] 내지 [6] 중 어느 것에 기재된 점착제 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 점착 시트.[7] A pressure-sensitive adhesive sheet comprising a sheet-like substrate and a pressure-sensitive adhesive layer formed on the substrate, and the pressure-sensitive adhesive layer contains the pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [1] to [6].

본 발명의 점착제 조성물을 점착 시트의 점착제층을 형성하는 재료로서 사용함으로써, 피착체에 대하여 충분한 점착력을 갖고, 점착 시트를 첩부한 피착체를 고온 상태로 하고 나서 실온으로 되돌리고, UV 조사한 후에 박리해도, 우수한 박리 용이성이 얻어짐과 함께, 점착제 잔류가 발생하기 어려운 점착 시트가 얻어진다.By using the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention as a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet, it has sufficient adhesion to the adherend, and the adherend to which the pressure-sensitive adhesive sheet is attached is brought to a high temperature state, then returned to room temperature, and peeled off after UV irradiation. In addition, excellent peelability is obtained, and a pressure-sensitive adhesive sheet in which residual pressure-sensitive adhesive is less likely to occur is obtained.

이하, 본 발명의 점착제 조성물 및 점착 시트에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은 이하에 기재하는 실시 형태에만 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the pressure-sensitive adhesive composition and the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention will be described in detail. In addition, this invention is not limited only to the embodiment described below.

「점착제 조성물」"Adhesive composition"

본 실시 형태의 점착제 조성물은, 수지(A)와, 광중합 개시제(B)를 포함한다.The pressure-sensitive adhesive composition of this embodiment contains a resin (A) and a photoinitiator (B).

(수지(A))(Resin (A))

본 실시 형태의 점착제 조성물에 포함되는 수지(A)는, 하기 일반식 (1-1)로 표시되는 화합물이다.The resin (A) contained in the pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment is a compound represented by the following general formula (1-1).

Figure pct00003
Figure pct00003

Figure pct00004
Figure pct00004

(식 (1-1)에 있어서, k, l, m, n은, k+l+m+n=100으로 하였을 때의 몰 조성비를 나타낸다. k는 0 초과 내지 92 이하이다. l은 0 내지 50이다. m은 0 초과 내지 90 이하이다. k, l, m의 합계는 65 내지 95이다. n은 5 내지 35이다. R1 내지 R4는 -H 또는 -CH3이다. R5는 탄소수 1 내지 16의 알킬기이다. R6은 탄소수 3 내지 30의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 내지 20의 방향족 탄화수소기이다. R7은 -H 또는 -(CH2)j-COOH(식 중의 j는 1 또는 2임)이다. R8은 상기 일반식 (1-2) 또는 (1-3)이다. 식 (1-2) 및 (1-3)에 있어서, p 및 q는 0, 1, 2로부터 선택되는 어느 것이다. s는 p가 0일 때는 0이고, p가 1 또는 2일 때는 1이다. R9는 -H 또는 -CH3이다.)(In formula (1-1), k, l, m, and n represent the molar composition ratio when k+l+m+n=100. k is more than 0 and not more than 92. l is 0 to 92 50. m is greater than 0 and not more than 90. The sum of k, l and m is 65 to 95. n is 5 to 35. R 1 to R 4 are -H or -CH 3. R 5 is a number of carbon atoms It is an alkyl group of 1 to 16. R 6 is an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. R 7 is -H or -(CH 2 ) j -COOH (wherein j is 1 Or 2. R 8 is the general formula (1-2) or (1-3). In formulas (1-2) and (1-3), p and q are from 0, 1, 2 Which is selected, s is 0 when p is 0, 1 when p is 1 or 2. R 9 is -H or -CH 3 .)

식 (1-1)에 있어서, k, l, m, n은, k+l+m+n=100으로 하였을 때의 몰 조성비를 나타낸다. k는 0 초과 내지 92 이하이다. l은 0 내지 50이다. m은 0 초과 내지 90 이하이다. k, l, m의 합계는 65 내지 95이다. k, l, m의 합계가 65 이상이면, UV 조사 전에 피착체에 대하여 충분한 점착성이 얻어지는 점착제 조성물이 된다. k, l, m의 합계는 70 내지 94인 것이 바람직하고, 80 내지 90인 것이 보다 바람직하다.In formula (1-1), k, l, m, and n represent the molar composition ratio when k+l+m+n=100. k is greater than 0 and less than or equal to 92. l is from 0 to 50. m is greater than 0 and less than or equal to 90. The sum of k, l and m is 65 to 95. When the total of k, l, and m is 65 or more, it will be a pressure-sensitive adhesive composition in which sufficient adhesion to an adherend is obtained before UV irradiation. It is preferable that it is 70-94, and, as for the total of k, 1, and m, it is more preferable that it is 80-90.

식 (1-1)에 있어서, k로 묶어진 ( ) 내에서 표시되는 반복 단위(이하, 「반복 단위 k」라 함)는, 필수의 반복 단위이다. 반복 단위 k는, UV 조사 전의 점착제 조성물의 점착력에 기여한다. 반복 단위 k의 반복수 k는, 0 초과 내지 92 이하이고, 45 내지 90인 것이 바람직하고, 60 내지 88이 보다 바람직하다.In Formula (1-1), the repeating unit (hereinafter referred to as "repeating unit k") represented in () bound by k is an essential repeating unit. The repeating unit k contributes to the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive composition before UV irradiation. The repeating number k of the repeating unit k is more than 0 to 92 or less, preferably 45 to 90, and more preferably 60 to 88.

식 (1-1)에 있어서는, l로 묶어진 ( ) 내에서 표시되는 반복 단위(이하, 「반복 단위 l」이라 함)는 없어도 된다. 바꾸어 말하면, 반복 단위 l의 반복수는 0이어도 된다.In formula (1-1), the repeating unit (hereinafter referred to as "repeating unit l") expressed in () bound by l may not be present. In other words, the number of repetitions of the repeating unit l may be zero.

반복 단위 l은, 점착제 조성물의 내열성에 기여한다. 반복 단위 l의 반복수 l은, 0 내지 50이며, 4 내지 40인 것이 바람직하고, 5 내지 30인 것이 보다 바람직하다.The repeating unit l contributes to the heat resistance of the pressure-sensitive adhesive composition. The repeating number l of the repeating unit l is 0 to 50, preferably 4 to 40, and more preferably 5 to 30.

식 (1-1)에 있어서, m으로 묶어진 ( ) 내에서 표시되는 반복 단위(이하, 「반복 단위 m」이라 함)는, 필수의 반복 단위이다. 반복 단위 m은, UV 조사 전의 점착제 조성물의 점착력 및 내열성에 기여한다. 또한, 점착제 조성물이 카르복시기와 반응하는 관능기를 갖는 가교제를 포함하는 경우, 반복 단위 m은, 가교제와 반응하여 점착제 조성물의 응집력을 향상시킨다. 반복 단위 m의 반복수 m은, 0 초과 내지 90 이하이고, 1 내지 15인 것이 바람직하고, 1 내지 5가 보다 바람직하다.In Formula (1-1), the repeating unit (hereinafter referred to as "repeating unit m") represented in () bound by m is an essential repeating unit. The repeating unit m contributes to the adhesive force and heat resistance of the pressure-sensitive adhesive composition before UV irradiation. In addition, when the pressure-sensitive adhesive composition contains a crosslinking agent having a functional group reacting with a carboxyl group, the repeating unit m reacts with the crosslinking agent to improve the cohesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition. The repeating number m of the repeating unit m is more than 0 to 90 or less, preferably 1 to 15, and more preferably 1 to 5.

식 (1-1)에 있어서, n으로 묶어진 ( ) 내에서 표시되는 반복 단위(이하, 「반복 단위 n」이라 함)는, 필수의 반복 단위이다. 반복 단위 n은, 점착제 조성물의 내열성에 기여한다. 반복 단위 n의 반복수 n은 5 내지 35이며, 10 내지 33인 것이 바람직하고, 10 내지 20이 보다 바람직하다. 반복 단위 n이 35 이하이면, UV 조사함으로써 수지(A) 중의 불포화 결합이 삼차원 가교 구조를 형성하여 경화되어, 점착력이 적절한 범위로 저하되는 점착제 조성물이 된다. 또한, n이 5 이상이면, 지환식 화합물에서 유래되는 구조에 기인하는 내열성 향상 효과가 얻어진다.In formula (1-1), the repeating unit (hereinafter referred to as "repeating unit n") represented in () bound by n is an essential repeating unit. The repeating unit n contributes to the heat resistance of the pressure-sensitive adhesive composition. The number of repetitions n of the repeating unit n is 5 to 35, preferably 10 to 33, and more preferably 10 to 20. When the repeating unit n is 35 or less, the unsaturated bond in the resin (A) forms a three-dimensional crosslinked structure by UV irradiation and is cured, resulting in a pressure-sensitive adhesive composition in which the adhesive strength is lowered to an appropriate range. In addition, when n is 5 or more, an effect of improving heat resistance due to a structure derived from an alicyclic compound is obtained.

이들 각 반복 단위가 기여하는 기능의 상승 효과에 의해, 수지(A)를 포함하는 점착제 조성물은, 자외선(UV) 조사 전의 점착력과 UV 조사 후의 점착력의 밸런스가 보다 한층 더 양호해진다. 그 결과, UV 조사 전에는 피착체에 대하여 충분한 점착력이 얻어지고, UV 조사 후에는 점착력이 저하되어 보다 우수한 박리 용이성이 얻어지는 점착제 조성물이 된다. 게다가, 이 점착제 조성물은, UV 조사 전에 고온 상태로 하고 나서 실온으로 되돌려도 점착력이 너무 높아지는 일이 없어, UV 조사 후에 우수한 박리 용이성이 얻어짐과 함께, 박리 후의 피착체에 대한 점착제 잔류가 발생하기 어렵다.Due to the synergistic effect of the function contributed by each of these repeating units, the pressure-sensitive adhesive composition containing the resin (A) has a better balance of the adhesive force before ultraviolet (UV) irradiation and the adhesive force after UV irradiation. As a result, a sufficient adhesive force is obtained with respect to the adherend before UV irradiation, and after UV irradiation, the adhesive force decreases, resulting in a pressure-sensitive adhesive composition in which more excellent peelability is obtained. In addition, this pressure-sensitive adhesive composition does not have too high adhesive strength even if it is brought to a high temperature state before UV irradiation and then returned to room temperature, and excellent peelability is obtained after UV irradiation, and the adhesive remains on the adherend after peeling. It is difficult.

반복 단위 k에 있어서, R1은 -H 또는 -CH3이며, -H인 것이 바람직하다. R5는 탄소수 1 내지 16의 알킬기이며, 탄소수 1 내지 8의 알킬기인 것이 바람직하고, 특히 탄소수 2, 4 또는 8의 알킬기인 것이 바람직하다.In the repeating unit k, R 1 is -H or -CH 3 and is preferably -H. R 5 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 2, 4 or 8 carbon atoms.

반복 단위 k는, R1, R5가 다른 복수종의 반복 단위여도 된다. 반복 단위 k가, 복수종의 반복 단위를 포함하는 경우, 반복 단위 k의 몰 조성비 k는, 복수종의 반복 단위의 몰 조성비의 합계를 나타낸다. 예를 들어, 반복 단위 k가, R1 및/또는 R5가 다른 반복 단위 A 및 B를 포함하고, 반복 단위 A의 몰 조성비가 2몰%, 반복 단위 B의 몰 조성비가 3몰%인 경우, 반복수 k의 몰 조성비 k는 반복 단위 A와 반복 단위 B의 몰 조성비를 합계하여 「5」가 된다.The repeating unit k may be a plurality of repeating units from which R 1 and R 5 are different. When the repeating unit k contains a plurality of types of repeating units, the molar composition ratio k of the repeating unit k represents the sum of the molar composition ratios of the plurality of types of repeating units. For example, when the repeating unit k contains repeating units A and B with different R 1 and/or R 5 , and the molar composition ratio of the repeating unit A is 2 mol% and the molar composition ratio of the repeating unit B is 3 mol% , The molar composition ratio k of the repeating number k is "5" by adding up the molar composition ratio of the repeating unit A and the repeating unit B.

반복 단위 l에 있어서, R2는 -H 또는 -CH3이며, -H인 것이 바람직하다. R6은 탄소수 3 내지 30의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 내지 20의 방향족 탄화수소기이며, 탄소수 6 내지 20의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 내지 10의 방향족 탄화수소기가 바람직하다.In the repeating unit 1, R 2 is -H or -CH 3 , and it is preferable that it is -H. R 6 is an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, preferably an alicyclic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms.

반복 단위 l은, R2, R6이 다른 복수종의 반복 단위여도 된다. 반복 단위 l이, 복수종의 반복 단위를 포함하는 경우, 반복 단위 l의 몰 조성비 l은, 복수종의 반복 단위의 몰 조성비의 합계를 나타낸다.The repeating unit l may be a plurality of repeating units from which R 2 and R 6 are different. When the repeating unit l contains a plurality of types of repeating units, the molar composition ratio l of the repeating unit l represents the sum of the molar composition ratios of the plurality of types of repeating units.

반복 단위 m에 있어서, R3은 -H 또는 -CH3이며, -H인 것이 바람직하다. R7은 -H 또는 -(CH2)j-COOH(식 중의 j는 1 또는 2임)이고, -H인 것이 바람직하다.In the repeating unit m, R 3 is -H or -CH 3 and is preferably -H. R 7 is -H or -(CH 2 ) j -COOH (wherein j is 1 or 2), and is preferably -H.

반복 단위 m은, R3, R7이 다른 복수종의 반복 단위여도 된다. 이 경우, 반복 단위 m의 몰 조성비 m은, 복수종의 반복 단위의 몰 조성비의 합계를 나타낸다.The repeating unit m may be a plurality of repeating units from which R 3 and R 7 are different. In this case, the molar composition ratio m of the repeating unit m represents the sum of the molar composition ratios of a plurality of types of repeating units.

반복 단위 n에 있어서, R4는 -H 또는 -CH3이며, -H인 것이 바람직하다. R8은 식 (1-2) 또는 (1-3)이다. 식 (1-2) 또는 (1-3)으로 표시되는 기는, 모두 지환식 화합물에서 유래되는 구조를 포함하고, 점착제 조성물의 내열성을 향상시키는 기능을 갖는다. 식 (1-2) 또는 (1-3)에 있어서, p 및 q는 0, 1, 2로부터 선택되는 어느 것이다. s는 p가 0일 때는 0이며, p가 1 또는 2일 때는 1이다. R9는 -H 또는 -CH3이다.In the repeating unit n, R 4 is -H or -CH 3 and is preferably -H. R 8 is a formula (1-2) or (1-3). The groups represented by formula (1-2) or (1-3) all contain a structure derived from an alicyclic compound, and have a function of improving the heat resistance of the pressure-sensitive adhesive composition. In formula (1-2) or (1-3), p and q are any one selected from 0, 1, and 2. s is 0 when p is 0, and 1 when p is 1 or 2. R 9 is -H or -CH 3 .

반복 단위 n은, R4, R8이 다른 복수종의 반복 단위여도 된다. 이 경우, 반복 단위 n의 몰 조성비 n은, 복수종의 반복 단위의 몰 조성비의 합계를 나타낸다.The repeating unit n may be a plurality of repeating units from which R 4 and R 8 are different. In this case, the molar composition ratio n of the repeating unit n represents the sum of the molar composition ratios of the plurality of repeating units.

식 (1-1)로 표시되는 수지(A)는, 반복 단위 k와, 반복 단위 l과, 반복 단위 m과, 반복 단위 n을 포함하는 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 교호 공중합체 중 어느 것이어도 된다. 식 (1-1)로 표시되는 수지(A)는, 반복 단위 l을 포함하지 않아도 되고, 반복 단위 k와, 반복 단위 m과, 반복 단위 n을 포함하는 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 교호 공중합체 중 어느 것이어도 된다.Resin (A) represented by formula (1-1) is any of a repeating unit k, a repeating unit l, a repeating unit m, and a random copolymer including a repeating unit n, a block copolymer, and an alternating copolymer. You can do it. The resin (A) represented by formula (1-1) does not have to contain a repeating unit l, and a random copolymer, a block copolymer, and an alternating copolymer containing a repeating unit k, a repeating unit m, and a repeating unit n. Any of coalescence may be sufficient.

수지(A)의 중량 평균 분자량은, 20만 내지 100만인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30만 내지 80만이다. 수지(A)의 중량 평균 분자량이 20만 이상이면, 점착제 조성물을 포함하는 점착제층을 갖는 점착 시트를 피착체에 첩부한 후에 박리한 경우에, 점착제층이 피착체에 보다 한층 더 잔존하기 어려워진다. 수지(A)의 중량 평균 분자량이 100만 이하이면, 수지(A)의 점도가 너무 높아지지 않아, 작업성이 좋다는 효과가 얻어진다. 수지(A)의 중량 평균 분자량은, 실시예에 기재된 방법으로 측정한 값이다.The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 200,000 to 1 million, and more preferably 300,000 to 800,000. When the weight average molecular weight of the resin (A) is 200,000 or more, when the pressure-sensitive adhesive sheet having the pressure-sensitive adhesive layer containing the pressure-sensitive adhesive composition is adhered to the adherend and then peeled, the pressure-sensitive adhesive layer is more difficult to remain on the adherend. . When the weight average molecular weight of the resin (A) is 1 million or less, the viscosity of the resin (A) does not become too high, and an effect of good workability is obtained. The weight average molecular weight of resin (A) is a value measured by the method described in Examples.

수지(A)의 유리 전이 온도(Tg)는, -80 내지 0℃인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 -60 내지 -10℃, 또한 바람직하게는 -50 내지 -10℃이다. 수지(A)의 유리 전이 온도가 -80℃ 내지 0℃의 범위이면, UV 조사 전의 점착제 조성물의 점착력이 양호해진다. 수지(A)의 Tg는, 실시예에 기재된 방법으로 측정한 값이다.The glass transition temperature (Tg) of the resin (A) is preferably -80 to 0°C, more preferably -60 to -10°C, and more preferably -50 to -10°C. When the glass transition temperature of the resin (A) is in the range of -80°C to 0°C, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition before UV irradiation becomes good. Tg of resin (A) is a value measured by the method described in Examples.

수지(A)의 산가는, 0 초과 내지 20mgKOH/g인 것이 바람직하고, 3 내지 10mgKOH/g인 것이 보다 바람직하다. 수지(A)의 산가가 0 초과 내지 20mgKOH/g의 범위 내이면, 가열 후의 피착체 오염(점착제 잔류)이 없어 양호해진다. 또한, 점착제 조성물이 가교제를 포함하는 경우, 수지(A)의 산가가 상기 범위 내이면, 수지(A)와 가교제가 반응하여 점착제 조성물의 응집력이 양호해진다. 수지(A)의 산가는, 실시예에 기재된 방법으로 측정한 값이다.The acid value of the resin (A) is preferably more than 0 to 20 mgKOH/g, and more preferably 3 to 10 mgKOH/g. When the acid value of the resin (A) is in the range of more than 0 to 20 mgKOH/g, there is no contamination of the adherend after heating (remaining of an adhesive agent), and it becomes good. Further, when the pressure-sensitive adhesive composition contains a crosslinking agent, when the acid value of the resin (A) is within the above range, the resin (A) and the crosslinking agent react and the cohesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition becomes good. The acid value of the resin (A) is a value measured by the method described in Examples.

(수지(A)의 제조 방법)(Production method of resin (A))

본 실시 형태의 점착제 조성물에 포함되는 수지(A)는, 예를 들어 이하에 나타내는 방법에 의해 제조할 수 있다.The resin (A) contained in the pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment can be produced, for example, by the method shown below.

먼저, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)와, 에틸렌성 불포화 단량체(d)를 포함하는 원료 단량체를 중합하여, 카르복시기 함유 수지(b)를 제조한다. 여기서, 에틸렌성 불포화 단량체(d)는, 중합 후에, 반복 단위 k를 형성하는 단량체를 포함하고, 반복 단위 l의 골격을 형성하는 단량체를 포함하는 것이어도 된다.First, a carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) and a raw material monomer including the ethylenically unsaturated monomer (d) are polymerized to prepare a carboxy group-containing resin (b). Here, the ethylenically unsaturated monomer (d) may contain a monomer that forms the repeating unit k after polymerization, and may contain a monomer that forms the skeleton of the repeating unit l.

다음에, 카르복시기 함유 수지(b)와, 특정 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)의 부가 반응에 의해, 수지(A)를 제조한다.Next, resin (A) is produced by addition reaction of the carboxy group-containing resin (b) and the specific alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c).

(카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a))(Ethylenically unsaturated monomer containing carboxyl group (a))

카르복시기 함유 수지(b)를 제조할 때 사용하는 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)는, 중합함으로써 반복 단위 m의 골격을 형성하는 단량체이다. 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)는, 1개의 카르복시기를 갖는다.The carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) used when producing the carboxy group-containing resin (b) is a monomer that forms the skeleton of the repeating unit m by polymerization. The carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) has one carboxyl group.

카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산, β-카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트 등을 예시할 수 있다.As a carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a), (meth)acrylic acid, β-carboxyethyl (meth)acrylate, carboxypentyl (meth)acrylate, etc. can be illustrated, for example.

이들 중에서도, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)로서는, 반응성의 점에서, (메트)아크릴산 및/또는 β-카르복시에틸(메트)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다.Among these, as the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a), it is preferable to use (meth)acrylic acid and/or β-carboxyethyl (meth)acrylate from the viewpoint of reactivity.

본 명세서 중에서 (메트)아크릴이란, 「아크릴」 또는 「메타크릴」을 의미한다. (메트)아크릴레이트란, 「아크릴레이트」 또는 「메타크릴레이트」를 의미한다.In this specification, (meth)acrylic means "acrylic" or "methacryl." (Meth)acrylate means "acrylate" or "methacrylate".

(카르복시기 함유 수지(b))(Carboxy group-containing resin (b))

카르복시기 함유 수지(b)는, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)와, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)와 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체(d)를 적어도 포함하는 원료 단량체를 공중합한 것이다.The carboxy group-containing resin (b) is a product obtained by copolymerizing a raw material monomer containing at least a carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) and an ethylenically unsaturated monomer (d) copolymerizable with a carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a).

카르복시기 함유 수지(b)는, 식 (1-1)로 표시되는 수지(A)의 골격이 되는 성분이다. 반복 단위 k와, 반복 단위 l과, 반복 단위 m은, 모두 카르복시기 함유 수지(b)에서 유래되는 반복 단위이다.The carboxy group-containing resin (b) is a component that serves as the skeleton of the resin (A) represented by formula (1-1). The repeating unit k, the repeating unit l, and the repeating unit m are all repeating units derived from the carboxy group-containing resin (b).

에틸렌성 불포화 단량체(d)로서는, 중합함으로써 반복 단위 k의 골격을 형성하는 단량체를 1종 이상 사용한다. 에틸렌성 불포화 단량체(d)로서, 중합함으로써 반복 단위 k의 골격을 형성하는 단량체와 함께, 중합함으로써 반복 단위 l의 골격을 형성하는 단량체를 1종 이상 사용해도 된다.As the ethylenically unsaturated monomer (d), one or more monomers that form the skeleton of the repeating unit k by polymerization are used. As the ethylenically unsaturated monomer (d), together with a monomer that forms a skeleton of the repeating unit k by polymerization, one or more monomers that form a skeleton of the repeating unit l by polymerization may be used.

중합함으로써 반복 단위 k의 골격을 형성하는 에틸렌성 불포화 단량체(d)는, 탄소수 1 내지 16의 알킬(메트)아크릴레이트이며, 점착제 조성물의 박리 강도의 조정의 관점에서, 탄소수 2 내지 16의 알킬(메트)아크릴레이트를 포함하는 것이 바람직하고, 탄소수 4 내지 12의 알킬(메트)아크릴레이트를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 구체적으로는, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, tert-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트가 바람직하다.The ethylenically unsaturated monomer (d) forming the skeleton of the repeating unit k by polymerization is an alkyl (meth)acrylate having 1 to 16 carbon atoms, and from the viewpoint of adjusting the peel strength of the pressure-sensitive adhesive composition, an alkyl having 2 to 16 carbon atoms ( It is preferable to contain a meth)acrylate, and it is more preferable to contain an alkyl (meth)acrylate having 4 to 12 carbon atoms. Specifically, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) Acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, and the like. . Among these, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and isooctyl (meth) acrylate are preferred.

중합함으로써 반복 단위 l의 골격을 형성하는 에틸렌성 불포화 단량체(d)로서는, 예를 들어 탄소수 3 내지 30의 환상 알킬기 함유 (메트)아크릴레이트, 탄소수 6 내지 20의 방향족기 함유 (메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As an ethylenically unsaturated monomer (d) that forms the skeleton of the repeating unit l by polymerization, for example, a (meth)acrylate containing a cyclic alkyl group having 3 to 30 carbon atoms, a (meth)acrylate containing an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, etc. Can be mentioned.

중합함으로써 반복 단위 l의 골격을 형성하는 에틸렌성 불포화 단량체(d)로서 사용되는 탄소수 3 내지 30의 환상 알킬기 함유 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 노르보르닐(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 노르보르나닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메틸올디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히, 이소보르닐(메트)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 카르복시기 함유 수지(b)의 원료 단량체 중에 환상 알킬(메트)아크릴레이트가 포함되어 있으면, 카르복시기 함유 수지(b)를 사용하여 제조한 수지(A)를 포함하는 점착제 조성물의 내열성이 양호해진다.Examples of the (meth)acrylate containing a cyclic alkyl group having 3 to 30 carbon atoms used as the ethylenically unsaturated monomer (d) forming the skeleton of the repeating unit 1 by polymerization include, for example, cyclohexyl (meth)acrylate, norbornyl ( Meth)acrylate, isobornyl(meth)acrylate, norbornanyl(meth)acrylate, dicyclopentenyl(meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl(meth)acrylate, dicyclopentanyl(meth)acrylate )Acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, tricyclodecanedimethyloldi(meth)acrylate, and the like. Among these, it is particularly preferable to use isobornyl (meth)acrylate. When a cyclic alkyl (meth)acrylate is contained in the raw material monomer of the carboxyl group-containing resin (b), the heat resistance of the pressure-sensitive adhesive composition containing the resin (A) produced using the carboxy group-containing resin (b) becomes good.

중합함으로써 반복 단위 l의 골격을 형성하는 에틸렌성 불포화 단량체(d)로서 사용되는 탄소수 6 내지 20의 방향족기 함유 (메트)아크릴레이트로서는, 벤질 (메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 페녹시폴리프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히, 벤질(메트)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 카르복시기 함유 수지(b)의 원료 단량체 중에 방향족기 함유 (메트)아크릴레이트가 포함되어 있으면, 카르복시기 함유 수지(b)를 사용하여 제조한 수지(A)를 포함하는 점착제 조성물의 내열성이 양호해진다.Examples of the aromatic group-containing (meth)acrylate having 6 to 20 carbon atoms used as the ethylenically unsaturated monomer (d) forming the skeleton of the repeating unit l by polymerization include benzyl (meth)acrylate and phenoxyethyl (meth)acrylate. , Phenoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxy propyl (meth) acrylate, phenoxy polypropylene glycol (meth) acrylate, and the like. Among these, it is particularly preferable to use benzyl (meth)acrylate. When an aromatic group-containing (meth)acrylate is contained in the raw material monomer of the carboxy group-containing resin (b), the heat resistance of the pressure-sensitive adhesive composition containing the resin (A) produced using the carboxy group-containing resin (b) becomes good.

카르복시기 함유 수지(b)의 원료 단량체 중에는, 상기 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a) 및 상기 에틸렌성 불포화 단량체(d)뿐만 아니라, 상기 에틸렌성 불포화 단량체(d) 이외의, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)와 공중합 가능한 단량체가 포함되어 있어도 된다.Among the raw material monomers of the carboxyl group-containing resin (b), not only the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) and the ethylenically unsaturated monomer (d), but also a carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer other than the ethylenically unsaturated monomer (d) A monomer copolymerizable with (a) may be contained.

상기 에틸렌성 불포화 단량체(d) 이외의, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)와 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체로서는, 알콕시알킬(메트)아크릴레이트, 알콕시(폴리)알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트, 히드록시기 함유 (메트)아크릴레이트, 불소화 알킬(메트)아크릴레이트, 디알킬아미노알킬(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다.Examples of ethylenically unsaturated monomers copolymerizable with a carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) other than the ethylenically unsaturated monomer (d) include alkoxyalkyl (meth)acrylate, alkoxy (poly)alkylene glycol (meth)acrylate, Hydroxy group-containing (meth)acrylate, fluorinated alkyl (meth)acrylate, dialkylaminoalkyl (meth)acrylate, (meth)acrylamide, and the like.

알콕시알킬(메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 부톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에톡시에틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxyalkyl (meth)acrylate include ethoxyethyl (meth)acrylate, methoxyethyl (meth)acrylate, butoxyethyl (meth)acrylate, and 2-methoxyethoxyethyl (meth)acrylic. Rate, 2-ethoxyethoxyethyl (meth)acrylate, and the like.

알콕시(폴리)알킬렌글리콜(메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 메톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxy (poly) alkylene glycol (meth) acrylate include methoxydiethylene glycol (meth)acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth)acrylate, and methoxydipropylene glycol (meth)acrylate. have.

히드록시기 함유 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올(메트)아크릴레이트, 3-메틸펜탄디올(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the hydroxy group-containing (meth)acrylate include 2-hydroxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxypropyl (meth)acrylate, 4-hydroxybutyl (meth)acrylate, and 1,3-butanediol. (Meth)acrylate, 1,4-butanediol (meth)acrylate, 1,6-hexanediol (meth)acrylate, 3-methylpentanediol (meth)acrylate, and the like.

불소화 알킬(메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 옥타플루오로펜틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the fluorinated alkyl (meth)acrylate include octafluoropentyl (meth)acrylate.

디알킬아미노알킬(메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the dialkylaminoalkyl (meth)acrylate include N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate and N,N-diethylaminoethyl (meth)acrylate.

(메트)아크릴아미드로서는, 예를 들어 (메트)아크릴아미드, N-메틸(메트)아크릴아미드, N-에틸(메트)아크릴아미드, N-프로필(메트)아크릴아미드, N-이소프로필아크릴아미드, N-헥실(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, (메트)아크릴로일모르폴린, 디아세톤아크릴아미드 등을 들 수 있다.As (meth)acrylamide, for example, (meth)acrylamide, N-methyl (meth)acrylamide, N-ethyl (meth)acrylamide, N-propyl (meth)acrylamide, N-isopropyl acrylamide, N-hexyl(meth)acrylamide, N,N-dimethyl(meth)acrylamide, N,N-diethyl(meth)acrylamide, (meth)acryloylmorpholine, diacetoneacrylamide, etc. are mentioned. .

에틸렌성 불포화 단량체(d) 이외의, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)와 공중합 가능한 단량체의 상기 이외의 구체예로서, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 스티렌, α-메틸스티렌, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 스테아르산비닐, 염화비닐, 염화비닐리덴, 알킬비닐에테르, 비닐톨루엔, N-비닐피리딘, N-비닐피롤리돈, 이타콘산디알킬에스테르, 푸마르산디알킬에스테르, 알릴알코올, 히드록시부틸비닐에테르, 히드록시에틸비닐에테르, 4-히드록시메틸시클로헥실메틸비닐에테르, 트리에틸렌글리콜모노비닐에테르 또는 디에틸렌글리콜모노비닐에테르, 메틸 비닐케톤, 알릴트리메틸암모늄클로라이드, 디메틸알릴비닐케톤 등을 들 수 있다.As specific examples of monomers other than the above of the monomers copolymerizable with the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) other than the ethylenically unsaturated monomer (d), acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene, α-methylstyrene, vinyl acetate, Vinyl propionate, vinyl stearate, vinyl chloride, vinylidene chloride, alkyl vinyl ether, vinyl toluene, N-vinylpyridine, N-vinylpyrrolidone, itaconic acid dialkyl ester, fumaric acid dialkyl ester, allyl alcohol, hydroxybutyl Vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxymethylcyclohexylmethyl vinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether or diethylene glycol monovinyl ether, methyl vinyl ketone, allyl trimethyl ammonium chloride, dimethyl allyl vinyl ketone, etc. I can.

카르복시기 함유 수지(b)를 제조하는 방법으로서는, 특별히 한정되지 않는다.It does not specifically limit as a method of manufacturing a carboxy group-containing resin (b).

예를 들어, 카르복시기 함유 수지(b)의 구성 성분이 되는 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)와 에틸렌성 불포화 단량체(d)를 포함하는 원료 단량체를, 공지의 중합 방법에 의해 공중합함으로써 얻어진다.For example, it is obtained by copolymerizing a raw material monomer containing a carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) and an ethylenically unsaturated monomer (d) which is a constituent component of the carboxy group-containing resin (b) by a known polymerization method.

구체적으로는, 중합 방법으로서, 용액 중합법, 유화 중합법, 괴상 중합법, 현탁 중합법, 교호 공중합법 등을 사용할 수 있다. 이들 중합 방법 중에서도, 중합 후에 얻어지는 카르복시기 함유 수지(b)와 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)의 부가 반응을 고려하면, 반응의 용이함의 점에서 용액 중합법을 사용하는 것이 바람직하다.Specifically, as the polymerization method, a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a bulk polymerization method, a suspension polymerization method, an alternating copolymerization method, or the like can be used. Among these polymerization methods, in consideration of the addition reaction of the carboxyl group-containing resin (b) obtained after polymerization and the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c), it is preferable to use a solution polymerization method from the viewpoint of easiness of the reaction.

용액 중합법에 의해 카르복시기 함유 수지(b)를 제조할 때는, 필요에 따라, 라디칼 중합 개시제 및/또는 용매를 사용한다.When producing a carboxy group-containing resin (b) by a solution polymerization method, a radical polymerization initiator and/or a solvent is used as necessary.

라디칼 중합 개시제로서는, 특별히 한정되지 않고, 공지의 것 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다.It does not specifically limit as a radical polymerization initiator, It can select and use suitably from known ones.

라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들어 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴), 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4,4-트리메틸펜탄), 디메틸-2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트) 등의 아조계 중합 개시제; 벤조일퍼옥시드, t-부틸히드로퍼옥시드, 디-t-부틸퍼옥시드, t-부틸퍼옥시벤조에이트, 디쿠밀퍼옥시드, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)3,3,5-트리메틸시클로헥산, 1,1-비스(t-부틸퍼옥시)시클로도데칸 등의 과산화물계 중합 개시제 등의 유용성 중합 개시제가 예시된다.As a radical polymerization initiator, for example, 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'- Azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2' -Azo polymerization initiators such as azobis (2,4,4-trimethylpentane) and dimethyl-2,2'-azobis (2-methylpropionate); Benzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, t-butyl peroxybenzoate, dicumyl peroxide, 1,1-bis(t-butylperoxy)3,3,5- Oil-soluble polymerization initiators such as peroxide-based polymerization initiators such as trimethylcyclohexane and 1,1-bis(t-butylperoxy)cyclododecane are illustrated.

이들 라디칼 중합 개시제는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

라디칼 중합 개시제의 사용량은, 카르복시기 함유 수지(b)의 원료 단량체의 합계 100질량부에 대하여, 0.01 내지 5질량부인 것이 바람직하고, 0.02 내지 4질량부인 것이 보다 바람직하고, 0.03 내지 3질량부인 것이 더욱 바람직하다.The amount of the radical polymerization initiator used is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.02 to 4 parts by mass, furthermore 0.03 to 3 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total of the raw material monomers of the carboxy group-containing resin (b). desirable.

카르복시기 함유 수지(b)를 제조할 때 사용하는 중합용의 용매로서는, 일반적인 각종 용매를 사용할 수 있다. 용매로서는, 예를 들어 아세트산에틸, 아세트산n-프로필, 아세트산n-부틸 등의 에스테르류, 톨루엔, 크실렌, 벤젠 등의 방향족 탄화수소류, n-헥산, n-헵탄 등의 지방족 탄화수소류, 시클로헥산, 메틸시클로헥산 등의 지환식 탄화수소류, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜 등의 글리콜류, 메틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 글리콜에테르류, 에틸렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등의 글리콜에스테르류를 들 수 있다.As the solvent for polymerization used when producing the carboxy group-containing resin (b), various general solvents can be used. Examples of the solvent include esters such as ethyl acetate, n-propyl acetate, and n-butyl acetate, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and benzene, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane, cyclohexane, Alicyclic hydrocarbons such as methylcyclohexane, ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, and dipropylene glycol, methyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol And glycol esters such as glycol ethers such as monomethyl ether, ethylene glycol diacetate, and propylene glycol monomethyl ether acetate.

이들 용매는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.These solvents may be used alone or in combination of two or more.

카르복시기 함유 수지(b)를 제조할 때는, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)와, 에틸렌성 불포화 단량체(d)와, 필요에 따라 함유되는 그 밖의 단량체를 포함하는 원료 단량체 중에 있어서의 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)의 함유량을, 5 내지 40질량%로 하는 것이 바람직하고, 7 내지 30질량%가 보다 바람직하고, 10 내지 25질량%가 더욱 바람직하다. 원료 단량체 중에 있어서의 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)의 함유량을 상기 범위로 함으로써, 카르복시기 함유 수지(b)와 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)의 부가 반응에 의해 제조한 수지(A)를 포함하는 점착제 조성물로부터 얻어지는 점착층의 UV 조사 전의 점착력이 양호해진다.When preparing the carboxy group-containing resin (b), the carboxyl group-containing ethylene in the raw material monomer containing the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a), the ethylenically unsaturated monomer (d), and other monomers contained as necessary. It is preferable that the content of the unsaturated monomer (a) is 5 to 40 mass%, more preferably 7 to 30 mass%, and still more preferably 10 to 25 mass%. Resin (A) produced by addition reaction of a carboxy group-containing resin (b) and an alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) by making the content of the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) in the above range The adhesive strength before UV irradiation of the adhesive layer obtained from the adhesive composition containing) becomes favorable.

(지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c))(An alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c))

지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)은, 지환식 에폭시기를 갖는 에틸렌성 불포화기 함유 화합물이며, 일반식 (1-2) 또는 일반식 (1-3)의 구조를 부여하는 화합물이다. 본 실시 형태에 있어서의 지환식 에폭시기란, 지환식 탄화수소 화합물의 환 상의 인접하는 2개의 탄소 원자에 1개의 산소가 결합하여 형성되는 에폭시기를 말한다.The alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) is an ethylenically unsaturated group-containing compound having an alicyclic epoxy group, and is a compound giving a structure of the general formula (1-2) or (1-3). The alicyclic epoxy group in this embodiment refers to an epoxy group formed by bonding of one oxygen to two adjacent carbon atoms on the ring of the alicyclic hydrocarbon compound.

지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)은, 식 (1-1)로 표시되는 감광성 수지(A)의 반복 단위 n에 있어서의 하기 부분 구조식 (1-2') 또는 (1-3')을 부가하기 위해 사용된다. 식 (1-1) 중의 반복 단위 n에 있어서의 부분 구조식 (1-2') 또는 (1-3')는, 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)에서 유래되는 기이다.The alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) is the following partial structural formula (1-2') or (1-3') in the repeating unit n of the photosensitive resin (A) represented by formula (1-1). Is used to add. The partial structural formula (1-2') or (1-3') in the repeating unit n in formula (1-1) is a group derived from an alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c).

Figure pct00005
Figure pct00005

(식 (1-2') 및 (1-3')에 있어서, q는 0, 1, 2로부터 선택되는 어느 것이다. R9는 -H 또는 -CH3이다.)(In formulas (1-2') and (1-3'), q is any one selected from 0, 1, and 2. R 9 is -H or -CH 3 .)

지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)로서는, 예를 들어 하기 식 (1) 또는 (2)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.As an alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c), the compound represented by following formula (1) or (2) is mentioned, for example.

Figure pct00006
Figure pct00006

(식 (1)에 있어서, R9는 -H 또는 -CH3이다. q는 0, 1, 2로부터 선택되는 어느 것이다.)(In formula (1), R 9 is -H or -CH 3. q is any one selected from 0, 1, and 2.)

(식 (2)에 있어서, R9는 -H 또는 -CH3이다. q는 0, 1, 2로부터 선택되는 어느 것이다.)(In formula (2), R 9 is -H or -CH 3. q is any one selected from 0, 1, and 2.)

식 (1)에 있어서, R9는 -H 또는 -CH3이다. q는 0, 1, 2로부터 선택되는 어느 것이며, q가 1인 것이 바람직하다.In formula (1), R 9 is -H or -CH 3 . q is any one selected from 0, 1, and 2, and it is preferable that q is 1.

식 (2)에 있어서, R9는 -H 또는 -CH3이다. q는 0, 1, 2로부터 선택되는 어느 것이며, q가 1인 것이 바람직하다.In formula (2), R 9 is -H or -CH 3 . q is any one selected from 0, 1, and 2, and it is preferable that q is 1.

지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)로서는, 식 (1)로 표시되는 화합물인 것이 바람직하고, 특히 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다.As the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c), it is preferable that it is a compound represented by formula (1), and it is particularly preferable to use 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth)acrylate.

지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)은, 1종만 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상 조합하여 사용해도 된다.The alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) may be used alone or in combination of two or more.

본 실시 형태의 수지(A)는, 카르복시기 함유 수지(b)의 카르복시기에, 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(c)의 지환식 에폭시기를 부가 반응시킴으로써 제조할 수 있다.The resin (A) of the present embodiment can be produced by adding an alicyclic epoxy group of the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (c) to the carboxyl group of the carboxy group-containing resin (b).

수지(A)는, 카르복시기 함유 수지(b)의 카르복시기 1mol에 대하여 바람직하게는 0.2 내지 0.99mol, 보다 바람직하게는 0.3 내지 0.95mol, 더욱 바람직하게는 0.6 내지 0.95mol의 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)을 부가 반응시켜 제조하는 것이 바람직하다. 카르복시기 함유 수지(b)와 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)을 상기 비율로 사용하여 얻어진 수지(A)를 포함하는 점착제 조성물은, UV 조사 전에는 피착체에 대하여 충분한 점착성이 얻어지고, UV 조사 후에는 점착력이 저하되어 보다 우수한 박리 용이성이 얻어진다. 게다가, 이 점착제 조성물은, UV 조사 전에 고온 상태로 하고 나서 실온으로 되돌려도 점착력이 높아지기 어려워, UV 조사 후에 우수한 박리 용이성이 얻어짐과 함께, 박리 후의 피착체에 대한 점착제 잔류를 더욱 효과적으로 방지할 수 있다.Resin (A) is preferably 0.2 to 0.99 mol, more preferably 0.3 to 0.95 mol, still more preferably 0.6 to 0.95 mol of alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated with respect to 1 mol of the carboxyl group of the carboxy group-containing resin (b) It is preferably prepared by addition reaction of compound (c). A pressure-sensitive adhesive composition comprising a resin (A) obtained by using a carboxyl group-containing resin (b) and an alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) in the above ratio, obtains sufficient adhesion to the adherend before UV irradiation, and UV After irradiation, the adhesive force is lowered, and more excellent peelability is obtained. In addition, this pressure-sensitive adhesive composition is difficult to increase the adhesive strength even if it is brought to a high temperature state before UV irradiation and then returned to room temperature, and excellent peelability is obtained after UV irradiation, and it is possible to more effectively prevent the residual pressure-sensitive adhesive on the adherend after peeling. have.

수지(A)를 제조할 때에 있어서의 부가 반응의 온도는, 80 내지 130℃인 것이 바람직하고, 특히 90 내지 120℃인 것이 바람직하다. 부가 반응의 온도가 80℃ 이상이면, 충분한 반응 속도가 얻어진다. 부가 반응의 온도가 130℃ 이하이면, 열에 의한 라디칼 중합에 의해 이중 결합부가 가교되어, 겔화물이 발생하는 것을 방지할 수 있다.The temperature of the addition reaction in producing the resin (A) is preferably 80 to 130°C, and particularly preferably 90 to 120°C. When the temperature of the addition reaction is 80°C or higher, a sufficient reaction rate is obtained. When the temperature of the addition reaction is 130° C. or lower, the double bond portion is crosslinked by radical polymerization by heat, so that the formation of a gelled product can be prevented.

수지(A)를 제조할 때에 있어서의 부가 반응에는, 필요에 따라, 공지의 촉매를 사용할 수 있다. 촉매로서는, 예를 들어 트리에틸아민, 트리부틸아민, 디메틸벤질아민, 1,8-디아자비시클로[5,4,0]운데카-7-엔, 1,5-디아자비시클로[4,3,0]논-5-엔, 1,4-디아자비시클로[2,2,2]옥탄 등의 3급 아민, 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 테트라부틸암모늄브로마이드 등의 4급 암모늄염, 테트라메틸 요소 등의 알킬 요소, 테트라메틸구아니딘 등의 알킬구아니딘, 트리페닐포스핀, 디메틸페닐포스핀, 트리시클로헥실포스핀, 트리부틸포스핀, 트리스(4-메틸페닐)포스핀, 트리스(4-메톡시페닐)포스핀, 트리스(2,6-디메틸페닐)포스핀, 트리스 (2,6-디메톡시페닐)포스핀, 트리스(2,4,6-트리메틸페닐)포스핀, 트리스(2,4,6-트리메톡시페닐)포스핀 등의 포스핀 화합물 등을 들 수 있다.For the addition reaction in producing the resin (A), if necessary, a known catalyst can be used. As a catalyst, for example, triethylamine, tributylamine, dimethylbenzylamine, 1,8-diazabicyclo[5,4,0]undeca-7-ene, 1,5-diazabicyclo[4,3 Tertiary amines such as ,0]non-5-ene and 1,4-diazabicyclo[2,2,2]octane, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, and tetrabutylammonium bromide, Alkyl urea such as tetramethyl urea, alkyl guanidine such as tetramethylguanidine, triphenylphosphine, dimethylphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, tributylphosphine, tris(4-methylphenyl)phosphine, tris(4- Methoxyphenyl)phosphine, tris(2,6-dimethylphenyl)phosphine, tris(2,6-dimethoxyphenyl)phosphine, tris(2,4,6-trimethylphenyl)phosphine, tris(2, Phosphine compounds, such as 4,6-trimethoxyphenyl) phosphine, etc. are mentioned.

부가 반응의 촉매로서는, 상기 중에서도, 반응성의 점에서 포스핀 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.As the catalyst for the addition reaction, among the above, it is preferable to use a phosphine compound from the viewpoint of reactivity.

부가 반응에 있어서의 촉매의 사용량은, 카르복시기 함유 수지(b)와 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(c)의 합계 100질량부에 대하여, 0.01 내지 30질량부가 바람직하고, 0.05 내지 5질량부가 더욱 바람직하고, 0.1 내지 2질량부가 가장 바람직하다.The amount of catalyst used in the addition reaction is preferably 0.01 to 30 parts by mass, more preferably 0.05 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total of the carboxy group-containing resin (b) and the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (c). It is preferred, and 0.1 to 2 parts by mass is most preferred.

또한, 부가 반응 시에는, 중합 금지 효과가 있는 가스를 반응계 중에 도입하거나, 중합 금지제를 첨가하거나 해도 된다. 중합 금지 효과가 있는 가스를 반응계 중에 도입하거나, 중합 금지제를 첨가하거나 함으로써, 부가 반응 시의 겔화를 방지할 수 있다.In addition, during the addition reaction, a gas having a polymerization inhibitory effect may be introduced into the reaction system or a polymerization inhibitor may be added. Gelation during the addition reaction can be prevented by introducing a gas having a polymerization inhibitory effect into the reaction system or adding a polymerization inhibitor.

중합 금지 효과가 있는 가스로서는, 계 내 물질의 폭발 범위에 들어가지 않을 정도의 산소를 포함하는 가스, 예를 들어 공기 등을 들 수 있다.As a gas having a polymerization inhibiting effect, a gas containing oxygen to a degree that does not enter the explosive range of the substance in the system, for example, air, and the like can be mentioned.

중합 금지제로서는, 공지의 것을 사용할 수 있고, 특별히 제한은 되지 않지만, 예를 들어 4-메톡시페놀, 히드로퀴논, 메토퀴논, 2,6-디-t-부틸페놀, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 페노티아진 등을 들 수 있다. 이들 중합 금지제는, 1종만을 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.As the polymerization inhibitor, a known one can be used, and there is no particular limitation, but for example, 4-methoxyphenol, hydroquinone, metoquinone, 2,6-di-t-butylphenol, 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), phenothiazine, and the like. These polymerization inhibitors may be used alone or in combination of two or more.

중합 금지제의 사용량으로서는, 카르복시기 함유 수지(b)와 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(c)의 합계 100질량부에 대하여, 0.005 내지 5질량부가 바람직하고, 0.03 내지 3질량부가 더욱 바람직하고, 0.05 내지 1.5질량부가 가장 바람직하다. 중합 금지제의 양이 너무 적으면, 중합 금지 효과가 충분하지 않은 경우가 있다. 한편, 중합 금지제의 양이 너무 많으면, 수지(A)의 노광 감도가 저하될 우려가 있다.The amount of the polymerization inhibitor used is preferably 0.005 to 5 parts by mass, more preferably 0.03 to 3 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total of the carboxy group-containing resin (b) and the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (c), 0.05 to 1.5 parts by mass is most preferred. If the amount of the polymerization inhibitor is too small, the polymerization inhibitory effect may not be sufficient. On the other hand, if the amount of the polymerization inhibitor is too large, there is a fear that the exposure sensitivity of the resin (A) will decrease.

또한, 중합 금지 효과가 있는 가스와 중합 금지제를 병용하면, 사용하는 중합 금지제의 양을 저감하거나, 중합 금지 효과를 높이거나 할 수 있으므로 보다 바람직하다.Further, when a gas having a polymerization inhibitory effect and a polymerization inhibitor are used together, the amount of the polymerization inhibitor to be used can be reduced or the polymerization inhibitory effect can be increased, and thus, it is more preferable.

(광중합 개시제(B))(Photopolymerization initiator (B))

점착제 조성물에 포함되는 광중합 개시제(B)로서는, 예를 들어 벤조페논, 벤질, 벤조인, ω-브로모아세토페논, 클로로아세톤, 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 2-클로로벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 미힐러케톤, 벤조인메틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤질메틸케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 메틸벤조일포르메이트, 2,2-디에톡시아세토페논, 4-N,N'-디메틸아세토페논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 등의 카르보닐계 광중합 개시제를 들 수 있다.As the photoinitiator (B) contained in the pressure-sensitive adhesive composition, for example, benzophenone, benzyl, benzoin, ω-bromoacetophenone, chloroacetone, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dime Oxy-2-phenylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin methyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzyl methyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propane 1-one, 1-(4-isopropylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, methylbenzoylformate, 2,2-diethoxyacetophenone, 4-N,N'- And carbonyl-based photopolymerization initiators such as dimethylacetophenone and 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one.

광중합 개시제(B)로서는, 디페닐디술피드, 디벤질디술피드, 테트라에틸티우람디술피드, 테트라메틸암모늄모노술피드 등의 술피드계 광중합 개시제; 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일페닐에톡시포스핀옥시드 등의 아실포스핀옥시드류; 벤조퀴논, 안트라퀴논 등의 퀴논계 광중합 개시제; 술포 클로라이드계 광중합 개시제; 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤 등의 티오크산톤계 광중합 개시제 등을 사용해도 된다.Examples of the photopolymerization initiator (B) include sulfide-based photopolymerization initiators such as diphenyl disulfide, dibenzyl disulfide, tetraethylthiuram disulfide, and tetramethylammonium monosulfide; Acylphosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoylphenylethoxyphosphine oxide; Quinone photoinitiators such as benzoquinone and anthraquinone; Sulfochloride photopolymerization initiator; Thioxanthone photoinitiators, such as thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, and 2-methyl thioxanthone, etc. may be used.

이들 광중합 개시제(B) 중에서도, 점착제 조성물에 대한 용해성의 점에서, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 및/또는, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드를 사용하는 것이 바람직하다.Among these photoinitiators (B), it is preferable to use 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone and/or 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide from the viewpoint of solubility in the pressure-sensitive adhesive composition.

상기 광중합 개시제(B)는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.The photopolymerization initiator (B) may be used alone or in combination of two or more.

점착제 조성물에 포함되는 광중합 개시제(B)는, 수지(A) 100질량부에 대하여, 0.1 내지 5.0질량부인 것이 바람직하고, 0.5 내지 2.0질량부인 것이 보다 바람직하다. 수지(A) 100질량부에 대한 광중합 개시제(B)의 함유량이 0.1질량부 이상이면, UV 조사함으로써 충분히 빠른 경화 속도로 점착제 조성물이 경화됨과 함께, UV 조사 후의 점착제 조성물의 점착력이 충분히 작아져, 바람직하다. 광중합 개시제(B)의 함유량이 5.0질량부 이하이면, 점착제 조성물을 포함하는 점착제층을 갖는 점착 시트를, 피착체에 첩부한 후에 박리한 경우에, 점착제층이 피착체에 잔존하기 어려워진다. 또한, 광중합 개시제(B)의 함유량이 5.0질량부를 초과해도, 광중합 개시제(B)의 함유량에 상응하는 효과가 보이지 않는다.The photopolymerization initiator (B) contained in the pressure-sensitive adhesive composition is preferably 0.1 to 5.0 parts by mass, and more preferably 0.5 to 2.0 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin (A). If the content of the photopolymerization initiator (B) relative to 100 parts by mass of the resin (A) is 0.1 parts by mass or more, the pressure-sensitive adhesive composition is cured at a sufficiently fast curing rate by UV irradiation, and the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition after UV irradiation becomes sufficiently small, desirable. When the content of the photoinitiator (B) is 5.0 parts by mass or less, when the pressure-sensitive adhesive sheet having the pressure-sensitive adhesive layer containing the pressure-sensitive adhesive composition is peeled after sticking to the adherend, it becomes difficult for the pressure-sensitive adhesive layer to remain on the adherend. Moreover, even if the content of the photoinitiator (B) exceeds 5.0 parts by mass, no effect corresponding to the content of the photoinitiator (B) is observed.

(가교제(C))(Crosslinking agent (C))

본 실시 형태의 점착제 조성물은, 수지(A)와 광중합 개시제(B)뿐만 아니라, 가교제(C)를 함유하고 있어도 된다. 가교제(C)를 함유함으로써, UV 조사 전의 점착력과 UV 조사 후의 점착력의 밸런스가 보다 한층 더 양호한 점착제 조성물이 된다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment may contain not only the resin (A) and the photopolymerization initiator (B) but also a crosslinking agent (C). By containing the crosslinking agent (C), the balance between the adhesive force before UV irradiation and the adhesive force after UV irradiation becomes a much better pressure-sensitive adhesive composition.

가교제(C)로서는, 특별히 한정되지 않지만, 반복 단위 n의 수산기 또는, 반복 단위 n의 수산기 및 반복 단위 m의 카르복시기에 대하여 반응성을 갖는 관능기를 2개 이상 갖는 화합물이 바람직하다.Although it does not specifically limit as a crosslinking agent (C), A compound which has 2 or more functional groups reactive with the hydroxyl group of repeating unit n, or the hydroxyl group of repeating unit n, and the carboxy group of repeating unit m is preferable.

가교제(C)로서는, 예를 들어 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 수소화 톨릴렌디이소시아네이트, 1,3-크실릴렌디이소시아네이트, 1,4-크실릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4-디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 1,3-비스(N,N'-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체, 테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트, 트리메틸올프로판의 톨릴렌디이소시아네이트 부가물, 트리메틸올프로판의 크실릴렌디이소시아네이트 부가물, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 메틸렌비스(4-페닐메탄)트리이소시아네이트 등의 이소시아네이트계 화합물,As a crosslinking agent (C), for example, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, diphenyl Methane-4,4-diisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,3-bis(N,N'-diglycidylaminomethyl)cyclohexane, 1,3-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, hexa Isocyanurate of methylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, tolylene diisocyanate adduct of trimethylolpropane, xylylene diisocyanate adduct of trimethylolpropane, triphenylmethane tri Isocyanate compounds such as isocyanate and methylenebis(4-phenylmethane)triisocyanate,

비스페놀 A·에피클로로히드린형 에폭시 수지, N,N'-[1,3-페닐렌비스(메틸렌)]비스[비스(옥시란-2-일메틸)아민], 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 소르비톨폴리글리시딜에테르, 폴리글리세롤폴리글리시딜에테르, 펜타에리트리톨폴리글리시딜 에리트리톨, 디글리세롤폴리글리시딜에테르 등의 에폭시계 화합물,Bisphenol A·epichlorohydrin type epoxy resin, N,N'-[1,3-phenylenebis(methylene)]bis[bis(oxiran-2-ylmethyl)amine], ethylene glycol diglycidyl ether , Polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, poly Epoxy compounds such as glycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl erythritol, diglycerol polyglycidyl ether,

테트라메틸올메탄-트리-β-아지리디닐프로피오네이트, 트리메틸올프로판-트리-β-아지리디닐프로피오네이트, N,N'-디페닐메탄-4,4'-비스(1-아지리딘카르복시아미드), N,N'-헥사메틸렌-1,6-비스(1-아지리딘카르복시아미드) 등의 아지리딘계 화합물,Tetramethylolmethane-tri-β-aziridinylpropionate, trimethylolpropane-tri-β-aziridinylpropionate, N,N'-diphenylmethane-4,4'-bis(1-aziri Aziridine compounds such as dinecarboxyamide) and N,N'-hexamethylene-1,6-bis(1-aziridinecarboxyamide),

헥사메톡시메틸멜라민, 헥사에톡시메틸멜라민, 헥사프로폭시메틸멜라민, 헥사부톡시메틸멜라민, 헥사펜틸옥시메틸멜라민, 헥사헥실옥시메틸멜라민 등의 멜라민계 화합물 등을 들 수 있다.And melamine compounds such as hexamethoxymethylmelamine, hexaethoxymethylmelamine, hexapropoxymethylmelamine, hexabutoxymethylmelamine, hexapentyloxymethylmelamine, and hexahexyloxymethylmelamine.

이들 중에서도, 가교제(C)로서는, 수지(A)와의 반응성이 양호하기 때문에, 에폭시계 화합물 및/또는 이소시아네이트계 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.Among these, as the crosslinking agent (C), since the reactivity with the resin (A) is good, it is preferable to use an epoxy compound and/or an isocyanate compound.

상기 가교제(C)는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The crosslinking agent (C) may be used alone or in combination of two or more.

점착제 조성물에 포함되는 가교제(C)는, 수지(A) 100질량부에 대하여, 0.05 내지 10질량부인 것이 바람직하고, 0.1 내지 5질량부인 것이 보다 바람직하고, 0.1 내지 1.0질량부인 것이 더욱 바람직하다. 수지(A) 100질량부에 대한 가교제(C)의 함유량이 0.05질량부 이상이면, 점착제 조성물에 삼차원 가교 구조가 충분히 형성된다. 그 결과, UV 조사 후의 점착제 조성물의 점착력이 충분히 작아져, 바람직하다. 수지(A) 100질량부에 대한 가교제(C)의 함유량이 10질량부 이하이면, UV 조사 전의 점착제 조성물의 점착력이 양호해진다.The crosslinking agent (C) contained in the pressure-sensitive adhesive composition is preferably 0.05 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, and still more preferably 0.1 to 1.0 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin (A). When the content of the crosslinking agent (C) relative to 100 parts by mass of the resin (A) is 0.05 parts by mass or more, a three-dimensional crosslinked structure is sufficiently formed in the pressure-sensitive adhesive composition. As a result, the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive composition after UV irradiation becomes sufficiently small, which is preferable. When the content of the crosslinking agent (C) with respect to 100 parts by mass of the resin (A) is 10 parts by mass or less, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition before UV irradiation becomes good.

(다른 성분)(Other ingredients)

본 실시 형태의 점착제 조성물은, 필요에 따라, 상술한 수지(A), 광중합 개시제(B), 가교제(C) 이외의 다른 성분을 함유하고 있어도 된다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment may contain other components other than the resin (A), the photopolymerization initiator (B), and the crosslinking agent (C) described above, if necessary.

다른 성분으로서는, 점착 부여제, 용매, 각종 첨가제 등을 들 수 있다.As another component, a tackifier, a solvent, various additives, etc. are mentioned.

(점착 부여제)(Adhesion imparting agent)

점착 부여제로서는, 종래 공지의 것을 특별히 한정없이 사용할 수 있다. 점착 부여제로서는, 예를 들어 테르펜계 점착 부여 수지, 페놀계 점착 부여 수지, 로진계 점착 부여 수지, 지방족계 석유 수지, 방향족계 석유 수지, 공중합계 석유 수지, 지환족계 석유 수지, 크실렌 수지, 에폭시계 점착 부여 수지, 폴리아미드계 점착 부여 수지, 케톤계 점착 부여 수지, 엘라스토머계 점착 부여 수지 등을 들 수 있다. 이들 점착 부여제는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.As the tackifier, a conventionally known one can be used without particular limitation. As tackifier, for example, terpene tackifier resin, phenol tackifier resin, rosin tackifier resin, aliphatic petroleum resin, aromatic petroleum resin, copolymerized petroleum resin, alicyclic petroleum resin, xylene resin, epoxy System tackifier resin, polyamide system tackifier resin, ketone system tackifier resin, elastomer system tackifier resin, etc. are mentioned. These tackifiers may be used alone or in combination of two or more.

본 실시 형태의 점착제 조성물이 점착 부여제를 포함하는 경우, 그 함유량은 수지(A) 100질량부에 대하여, 30질량부 이하인 것이 바람직하고, 5 내지 20질량부인 것이 보다 바람직하다.When the pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment contains a tackifier, the content is preferably 30 parts by mass or less, and more preferably 5 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin (A).

(용매)(menstruum)

용매는, 점착제 조성물을 도공하는 경우에, 점착제 조성물의 점도의 조정을 목적으로 하여 점착제 조성물을 희석하기 위해 사용할 수 있다.The solvent can be used to dilute the pressure-sensitive adhesive composition for the purpose of adjusting the viscosity of the pressure-sensitive adhesive composition when coating the pressure-sensitive adhesive composition.

용매로서는, 예를 들어 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세톤, 아세트산에틸, 아세트산n-프로필, 테트라히드로푸란, 디옥산, 시클로헥사논, n-헥산, 톨루엔, 크실렌, n-프로판올, 이소프로판올 등의 유기 용매를 사용할 수 있다. 이들 용매는, 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.As a solvent, for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetone, ethyl acetate, n-propyl acetate, tetrahydrofuran, dioxane, cyclohexanone, n-hexane, toluene, xylene, n-propanol, isopropanol, etc. Organic solvents of can be used. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

(첨가제)(additive)

첨가제로서는, 가소제, 표면 윤활제, 레벨링제, 연화제, 산화 방지제, 노화 방지제, 광 안정제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 벤조트리아졸계 등의 광 안정제, 인산에스테르계 및 그 밖의 난연제, 계면 활성제와 같은 대전 방지제 등을 들 수 있다.Examples of additives include plasticizers, surface lubricants, leveling agents, softeners, antioxidants, anti-aging agents, light stabilizers, ultraviolet absorbers, polymerization inhibitors, light stabilizers such as benzotriazoles, phosphoric acid esters and other flame retardants, and charging such as surfactants. Inhibitors, etc. are mentioned.

[점착제 조성물의 제조 방법][Method of manufacturing adhesive composition]

본 실시 형태의 점착제 조성물은, 종래 공지의 방법에 의해 제조할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment can be produced by a conventionally known method.

예를 들어, 상술한 수지(A) 및 광중합 개시제(B)와, 필요에 따라 함유되는 가교제(C), 점착 부여제, 용매, 각종 첨가제를, 종래 공지의 방법을 사용하여 혼합하고, 교반함으로써 제조할 수 있다.For example, by mixing the resin (A) and the photopolymerization initiator (B) described above, and the crosslinking agent (C), tackifier, solvent, and various additives contained as needed, using a conventionally known method, followed by stirring. Can be manufactured.

본 실시 형태의 점착제 조성물은, 점착 시트의 점착제층을 형성하는 재료로서 적합하다. 특히, 본 실시 형태의 점착제 조성물은, 재박리형 점착 시트의 점착제층을 형성하는 재료로서 바람직하다.The pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment is suitable as a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet. In particular, the pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment is preferable as a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer of the re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet.

본 실시 형태의 점착제 조성물은, 식 (1-1)로 표시되는 수지(A)와, 광중합 개시제(B)를 포함하기 때문에, 점착 시트의 점착제층을 형성하는 재료로서 사용함으로써, 피착체에 대하여 충분한 점착력을 갖는 점착 시트가 얻어진다. 게다가, 이 점착 시트는, 점착 시트를 첩부한 피착체를 고온 상태로 하고 나서 실온으로 되돌려 박리해도, UV 조사 후에 우수한 박리 용이성이 얻어짐과 함께, 점착제 잔류가 발생하기 어렵다.Since the pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment contains the resin (A) represented by the formula (1-1) and a photopolymerization initiator (B), by using it as a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet, the adherend is A pressure-sensitive adhesive sheet having sufficient adhesive strength is obtained. In addition, even if the adherend to which the pressure-sensitive adhesive sheet is attached is brought back to room temperature to be peeled off, after UV irradiation, excellent peelability is obtained, and residual pressure-sensitive adhesive is less likely to occur.

「점착 시트」``Adhesive sheet''

본 발명의 점착 시트는, 시트상의 기재와, 기재 상에 형성된 점착제층을 갖는다.The adhesive sheet of the present invention has a sheet-like substrate and an adhesive layer formed on the substrate.

점착제층의 기재와 반대측의 면에는, 박리 시트(세퍼레이터)가 구비되어 있는 것이 바람직하다. 점착제층 상에 박리 시트가 구비되어 있는 경우, 박리 시트에 의해 사용 시까지 점착제층을 보호할 수 있다. 또한, 점착제층 상에 박리 시트가 구비되어 있는 경우, 박리 시트를 박리하여 점착제층을 노출시켜, 점착제층(첩부면)을 피착체에 압착하는 작업을 효율적으로 행할 수 있다.It is preferable that a release sheet (separator) is provided on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the base material. When the release sheet is provided on the pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive layer can be protected by the release sheet until use. In addition, when the release sheet is provided on the pressure-sensitive adhesive layer, the release sheet is peeled to expose the pressure-sensitive adhesive layer, and the work of compressing the pressure-sensitive adhesive layer (attached surface) to the adherend can be efficiently performed.

본 실시 형태의 점착 시트는, 펀칭법 등에 의해 피착체의 형상에 따른 형상으로 된 점착 테이프로서 사용해도 된다. 또한, 본 실시 형태의 점착 시트는, 권취하여 절단함으로써, 점착 테이프로서 사용해도 된다.The pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment may be used as a pressure-sensitive adhesive tape having a shape corresponding to the shape of an adherend by a punching method or the like. Moreover, the adhesive sheet of this embodiment may be used as an adhesive tape by winding up and cutting.

기재로서는, 공지의 시트상의 재료를 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 기재로서는, 투명한 수지 재료를 포함하는 수지 시트를 사용하는 것이 바람직하다.As the substrate, a known sheet-like material can be appropriately selected and used. As the substrate, it is preferable to use a resin sheet containing a transparent resin material.

수지 재료로서는, 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP) 등의 폴리올레핀; 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 시트; 폴리염화비닐(PVC); 폴리이미드(PI); 폴리페닐렌술피드(PPS); 에틸렌아세트산비닐(EVA); 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 등을 들 수 있다. 이들 수지 재료 중에서도, 적당한 가요성을 갖는 시트가 얻어지기 때문에, PE, PP, PET를 사용하는 것이 바람직하다. 수지 재료는, 1종만 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the resin material include polyolefins such as polyethylene (PE) and polypropylene (PP); Polyester sheets such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), and polyethylene naphthalate; Polyvinyl chloride (PVC); Polyimide (PI); Polyphenylene sulfide (PPS); Ethylene vinyl acetate (EVA); And polytetrafluoroethylene (PTFE). Among these resin materials, since a sheet having moderate flexibility can be obtained, it is preferable to use PE, PP, or PET. Resin material may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.

기재로서 수지 시트를 사용하는 경우, 수지 시트는, 단층이어도 되고, 2층 이상의 다층 구조(예를 들어 3층 구조)여도 된다. 다층 구조를 갖는 수지 시트에 있어서, 각 층을 구성하는 수지 재료는, 1종만을 단독으로 포함하는 수지 재료여도 되고, 2종 이상을 포함하는 수지 재료여도 된다.When using a resin sheet as a base material, a single layer may be sufficient as a resin sheet, and a multilayer structure (for example, a three-layer structure) of two or more layers may be sufficient as it. In a resin sheet having a multilayer structure, the resin material constituting each layer may be a resin material containing only one type or may be a resin material containing two or more types.

기재의 두께는, 점착 시트의 용도, 기재의 재료 등에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 점착 시트가, 웨이퍼의 다이싱 공정을 행할 때 웨이퍼를 보호하는 것이며, 기재로서 수지 시트가 사용되고 있는 경우, 기재의 두께는, 예를 들어 10 내지 1000㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50 내지 300㎛이다. 기재의 두께가 10㎛ 이상이면, 점착 시트의 강성이 높아진다(빳빳함이 강해진다). 그 때문에, 점착 시트를 웨이퍼 등의 피착체에 첩부하거나, 피착체로부터 박리하거나 할 때, 점착 시트에 주름이나 들뜸이 발생하기 어려워지는 경향이 있다. 또한, 기재의 두께가 10㎛ 이상이면, 피착체에 첩부한 점착 시트를 피착체로부터 박리하기 쉬워져, 작업성(취급성, 핸들링)이 양호해진다. 기재의 두께가 1000㎛ 이하이면, 점착 시트의 강성이 너무 높아져(빳빳함이 너무 강해져) 작업성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.The thickness of the substrate can be appropriately selected according to the use of the pressure-sensitive adhesive sheet, the material of the substrate, and the like. The pressure-sensitive adhesive sheet protects the wafer when performing the dicing process of the wafer, and when a resin sheet is used as the base material, the thickness of the base material is, for example, preferably 10 to 1000 µm, more preferably 50 to It is 300 μm. When the thickness of the substrate is 10 µm or more, the rigidity of the pressure-sensitive adhesive sheet becomes high (the stiffness becomes strong). Therefore, when the pressure-sensitive adhesive sheet is affixed to an adherend such as a wafer or peeled from the adherend, there is a tendency that wrinkles and lifting are less likely to occur in the pressure-sensitive adhesive sheet. In addition, when the thickness of the substrate is 10 µm or more, the pressure-sensitive adhesive sheet attached to the adherend is easily peeled from the adherend, and workability (handleability, handling) becomes good. When the thickness of the base material is 1000 µm or less, the rigidity of the pressure-sensitive adhesive sheet becomes too high (the stiffness becomes too strong) and the workability can be prevented from deteriorating.

기재로서, 수지 시트를 사용하는 경우, 종래 공지의 일반적인 시트 성형 방법(예를 들어 압출 성형, T 다이 성형, 인플레이션 성형 등 혹은, 단축 혹은 2축 연신 성형 등)을 적절히 채용하여, 기재를 제조할 수 있다.When a resin sheet is used as the substrate, a conventionally known general sheet molding method (e.g., extrusion molding, T-die molding, inflation molding, etc., or uniaxial or biaxial stretching molding, etc.) is appropriately employed to prepare the substrate. I can.

기재의 점착제층과 접하는 측의 표면에는, 기재와 점착제층의 접착성을 향상시키기 위한 표면 처리가 실시되어 있어도 된다.Surface treatment for improving the adhesion between the substrate and the pressure-sensitive adhesive layer may be applied to the surface of the substrate on the side in contact with the pressure-sensitive adhesive layer.

표면 처리로서는, 예를 들어 코로나 방전 처리, 산 처리, 자외선 조사 처리, 플라스마 처리, 하도제(프라이머) 도포 부착 등을 들 수 있다.Examples of the surface treatment include corona discharge treatment, acid treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma treatment, and primer (primer) coating.

본 실시 형태의 점착 시트가 갖는 점착제층은, 상술한 점착제 조성물을 포함한다.The pressure-sensitive adhesive layer included in the pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment contains the pressure-sensitive adhesive composition described above.

점착제층의 두께는, 1 내지 100㎛로 하는 것이 바람직하고, 2 내지 80㎛로 하는 것이 보다 바람직하고, 5 내지 50㎛로 하는 것이 더욱 바람직하다. 점착제층의 두께가 1㎛ 이상이면, 점착제층의 두께의 균일성이 양호해진다. 한편, 점착제층의 두께가 100㎛ 이하이면, 용매를 사용하여 점착제층을 형성한 경우에도, 용매를 용이하게 제거할 수 있기 때문에 바람직하다.The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 1 to 100 µm, more preferably 2 to 80 µm, and even more preferably 5 to 50 µm. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 1 μm or more, the uniformity of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer becomes good. On the other hand, when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 100 μm or less, it is preferable because the solvent can be easily removed even when the pressure-sensitive adhesive layer is formed using a solvent.

점착제층의 기재와 반대측의 면에 박리 시트가 구비되어 있는 경우, 박리 시트로서, 공지의 시트상의 재료를 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 박리 시트로서는, 기재로서 사용되는 상술한 수지 시트와 마찬가지의 것을 사용할 수 있다.When a release sheet is provided on the side opposite to the substrate of the pressure-sensitive adhesive layer, a known sheet-like material can be appropriately selected and used as the release sheet. As the release sheet, the same resin sheet as the above-described resin sheet used as a substrate can be used.

박리 시트의 두께는, 점착 시트의 용도, 박리 시트의 재료 등에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 박리 시트로서 수지 시트를 사용하는 경우, 박리 시트의 두께는, 예를 들어 5 내지 300㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 내지 200㎛, 더욱 바람직하게는 25 내지 100㎛이다.The thickness of the release sheet can be appropriately selected depending on the use of the pressure-sensitive adhesive sheet, the material of the release sheet, and the like. When a resin sheet is used as the release sheet, the thickness of the release sheet is, for example, preferably 5 to 300 µm, more preferably 10 to 200 µm, and still more preferably 25 to 100 µm.

박리 시트의 박리면(점착제층에 접하여 배치되는 면)에는, 필요에 따라서 실리콘계, 장쇄 알킬계, 불소계 등의 종래 공지의 박리제를 사용하여 박리 처리가 실시되어 있어도 된다.The release surface of the release sheet (the surface disposed in contact with the adhesive layer) may be subjected to a release treatment using a conventionally known release agent such as silicone-based, long-chain alkyl-based, or fluorine-based, if necessary.

[점착 시트의 제조 방법][Method of manufacturing adhesive sheet]

본 실시 형태의 점착 시트는, 예를 들어 이하에 나타내는 방법에 의해 제조할 수 있다.The adhesive sheet of this embodiment can be manufactured, for example by the method shown below.

먼저, 상술한 점착제 조성물을 용매에 용해 또는 분산시킨 점착제 용액을 제작한다. 상술한 점착제 조성물은, 그대로 점착제 용액으로서 사용해도 된다.First, a pressure-sensitive adhesive solution obtained by dissolving or dispersing the aforementioned pressure-sensitive adhesive composition in a solvent is prepared. The pressure-sensitive adhesive composition described above may be used as it is as a pressure-sensitive adhesive solution.

다음에, 기재 상에 점착제 용액을 도포하고, 가열 건조하여, 점착제층을 형성한다. 그 후, 점착제층 상에, 필요에 따라 박리 시트를 접합함으로써 얻어진다.Next, the pressure-sensitive adhesive solution is applied on the substrate and dried by heating to form a pressure-sensitive adhesive layer. After that, it is obtained by bonding a release sheet on the pressure-sensitive adhesive layer as necessary.

또한, 본 실시 형태의 점착 시트를 제조하는 다른 방법으로서는, 박리 시트 상에 상기 점착제 용액을 도포하고, 가열 건조하여, 점착제층을 형성한다. 그 후, 점착제층을 갖는 박리 시트를 기재 상에, 점착제층측의 면을 기재를 향하게 하여 설치하고, 기재 상에 점착제층을 전사(이착)하는 방법을 들 수 있다.In addition, as another method of manufacturing the pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment, the pressure-sensitive adhesive solution is applied onto a release sheet, and then dried by heating to form a pressure-sensitive adhesive layer. Thereafter, a method of installing a release sheet having an adhesive layer on a substrate, with the surface on the side of the adhesive layer facing the substrate, and transferring (depositioning) the adhesive layer onto the substrate may be mentioned.

상기 점착제 용액을 기재 상에(또는 박리 시트 상에) 도포하는 방법으로서는, 공지의 방법을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 관용의 코터, 예를 들어 그라비아 롤 코터, 리버스 롤 코터, 키스 롤 코터, 딥 롤 코터, 바 코터, 나이프 코터, 스프레이 코터, 콤마 코터, 다이렉트 코터 등을 사용하여 도포하는 방법을 들 수 있다.As a method of applying the pressure-sensitive adhesive solution onto a substrate (or a release sheet), a known method can be used. Specifically, a method of applying using a conventional coater, for example, a gravure roll coater, a reverse roll coater, a kiss roll coater, a dip roll coater, a bar coater, a knife coater, a spray coater, a comma coater, a direct coater, etc. I can.

[점착 시트의 용도][Use of adhesive sheet]

본 실시 형태의 점착 시트는, 재박리형 점착 시트로서 사용할 수 있다. 본 실시 형태의 점착 시트는, 예를 들어 전자 부품을 제조할 때 사용할 수 있다. 본 실시 형태의 점착 시트는, 구체적으로는, 전자 부품을 제조할 때의 각 공정에 있어서, 피착체를 고정하고, 다양한 가공 공정에 부여한 후에, 자외선(UV)을 조사하여 피착체를 박리하여, 회수하는 용도로 사용된다. 따라서, 본 실시 형태의 점착 시트는, 반도체 웨이퍼를 가공할 때의 백그라인드 테이프, 다이싱 테이프 등으로서 사용할 수 있다. 또한, 본 실시 형태의 점착 시트는, 극박 유리 기판 등의 취약 부재, 플라스틱 필름, 플렉시블 프린트 기판(FPC 기판) 등의 휘기 쉬운 부재의 지지용 테이프 등으로서 적합하게 사용할 수 있다. 특히, 본 실시 형태의 점착 시트는, 웨이퍼의 다이싱 공정을 행할 때 웨이퍼를 보호하는 다이싱 테이프로서 적합하다.The pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment can be used as a re-peelable pressure-sensitive adhesive sheet. The adhesive sheet of this embodiment can be used, for example, when manufacturing an electronic component. Specifically, in each step of manufacturing an electronic component, the pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment fixes the adherend, applies it to various processing steps, and then removes the adherend by irradiation with ultraviolet rays (UV), It is used for recovery purposes. Therefore, the pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment can be used as a backgrind tape, a dicing tape, or the like when processing a semiconductor wafer. In addition, the pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment can be suitably used as a support tape for fragile members such as ultrathin glass substrates, plastic films, flexible printed circuit boards (FPC substrates), and the like. In particular, the pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment is suitable as a dicing tape for protecting a wafer when performing a dicing process for a wafer.

본 실시 형태의 점착 시트를 웨이퍼의 다이싱 테이프로서 사용하는 경우, 다이싱 공정을 행하기 전에, 복수의 부품이 형성되어 있는 웨이퍼에 점착 시트를 첩부한다. 다음에, 웨이퍼를 절단하여, 개개의 부품으로 분리하여(다이싱하여), 소자 소편(칩)으로 한다. 그 후, 각 소자 소편 상에 첩부되어 있는 점착 시트에, UV를 조사한다. 이것에 의해, 점착 시트의 기재를 통해, 점착제층에 UV가 조사되어, 점착제 중의 불포화 결합이 삼차원 가교 구조를 형성하여 경화된다. 그 결과, 점착제층의 점착력이 저하된다. 그 후, 각 소자 소편 상으로부터 점착 시트를 박리한다.When using the pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment as a dicing tape for a wafer, before performing the dicing process, the pressure-sensitive adhesive sheet is affixed to the wafer on which a plurality of parts are formed. Next, the wafer is cut, separated into individual parts (diced), and formed into elemental pieces (chips). After that, UV is irradiated to the pressure-sensitive adhesive sheet affixed on each element element piece. Thereby, UV is irradiated to the pressure-sensitive adhesive layer through the base material of the pressure-sensitive adhesive sheet, and the unsaturated bond in the pressure-sensitive adhesive forms a three-dimensional crosslinked structure and is cured. As a result, the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer is lowered. After that, the adhesive sheet is peeled from the top of each element element.

피착체에 첩부된 박리 전의 점착 시트에, UV 조사를 행할 때 사용되는 광원으로서는, 예를 들어 고압 수은등, 초고압 수은등 카본 아크등, 크세논등, 메탈 할라이드 램프, 케미컬 램프, 블랙 라이트 등을 들 수 있다.Examples of light sources used when UV irradiation is applied to the adhesive sheet before peeling attached to the adherend include high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, chemical lamps, black lights, and the like. .

점착 시트에 조사하는 UV 조사량은, 50 내지 3000mJ/㎠인 것이 바람직하고, 100 내지 600mJ/㎠인 것이 보다 바람직하다. 점착 시트에 조사하는 UV 조사량이 50mJ/㎠ 이상이면, UV 조사함으로써 충분히 빠른 경화 속도로 점착제층이 경화됨과 함께, UV 조사 후의 점착제층 점착력이 충분히 작아져, 바람직하다. 점착 시트에 조사하는 UV 조사량을 3000mJ/㎠ 이상으로 해도, 그것에 상응하는 효과가 얻어지지 않는다.It is preferable that it is 50-3000 mJ/cm<2>, and, as for the UV irradiation amount irradiated to an adhesive sheet, it is more preferable that it is 100-600 mJ/cm<2>. When the amount of UV irradiation irradiated to the pressure-sensitive adhesive sheet is 50 mJ/cm 2 or more, the pressure-sensitive adhesive layer is cured at a sufficiently fast curing speed by UV irradiation, and the pressure-sensitive adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer after UV irradiation is sufficiently small, which is preferable. Even if the amount of UV irradiation irradiated to the pressure-sensitive adhesive sheet is 3000 mJ/cm 2 or more, no corresponding effect is obtained.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. 또한, 본 발명은 이하의 실시예에만 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples and comparative examples. In addition, the present invention is not limited only to the following examples.

「수지(A)의 제조」"Production of resin (A)"

(제조예 1)(Production Example 1)

〔제1 혼합 용액의 조제〕[Preparation of the first mixed solution]

표 1에 나타내는 바와 같이, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)인 아크릴산 23.9질량부와, 상기 (a)와 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체(d)인 n-부틸아크릴레이트 71.8질량부 및 2-에틸헥실아크릴레이트 143.6질량부를 함유하는 원료 단량체와, 카르복시기 함유 수지(b)의 원료 단량체의 합계 100질량부에 대하여 중합 개시제인 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1질량부를 함유하는 제1 혼합 용액을 조제하였다.As shown in Table 1, 23.9 parts by mass of acrylic acid as an ethylenically unsaturated monomer (a) containing a carboxyl group, 71.8 parts by mass of n-butyl acrylate as an ethylenically unsaturated monomer (d) copolymerizable with the above (a) and 2-ethyl The first mixture containing 0.1 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile, which is a polymerization initiator, based on 100 parts by mass of the total of 100 parts by mass of the raw material monomer containing 143.6 parts by mass of hexyl acrylate and the raw material monomer of the carboxy group-containing resin (b). A solution was prepared.

〔제2 혼합 용액의 조제〕[Preparation of the second mixed solution]

표 1에 나타내는 바와 같이, 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)인 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트 59.8질량부와, 카르복시기 함유 수지(b)와 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(c)의 합계 100질량부에 대하여 촉매로서의 트리스(4-메틸페닐)포스핀(TPTP) 0.6질량부와, 용매로서의 아세트산n-부틸 100.0질량부 및 톨루엔 91.1질량부를 함유하는 제2 혼합 용액을 조제하였다.As shown in Table 1, 59.8 parts by mass of 3,4-epoxycyclohexylmethylmethacrylate, which is an alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c), and a carboxy group-containing resin (b), and an alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated monomer A second mixed solution containing 0.6 parts by mass of tris(4-methylphenyl)phosphine (TPTP) as a catalyst, 100.0 parts by mass of n-butyl acetate and 91.1 parts by mass of toluene as a solvent was prepared based on 100 parts by mass of the total of (c). I did.

교반기, 적하 깔때기, 냉각관 및 질소 도입관을 구비한 4구 플라스크에, 용매로서 아세트산n-부틸을 175.6질량부 투입하고, 질소 가스 분위기 하에서 80℃로 승온하였다. 그리고, 반응 온도를 80℃±2℃로 유지하면서, 상기 4구 플라스크에 상기 제1 혼합 용액을 4시간에 걸쳐 균일하게 적하하고, 적하 완료 후, 80℃±2℃의 온도에서 또한 6시간 교반을 계속하여, 카르복시기 함유 수지(b)를 중합하였다. 그 후, 반응계에, 카르복시기 함유 수지(b)와 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(c)의 합계 100질량부에 대하여 중합 금지제로서 4-메톡시페놀 0.15질량부를 첨가하였다.To a four-necked flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube, 175.6 parts by mass of n-butyl acetate was added as a solvent, and the temperature was raised to 80°C in a nitrogen gas atmosphere. And, while maintaining the reaction temperature at 80°C±2°C, the first mixed solution was uniformly added dropwise to the four-necked flask over 4 hours, and after the dropping was completed, the mixture was stirred at a temperature of 80°C±2°C for 6 hours. Subsequently, the carboxyl group-containing resin (b) was polymerized. Thereafter, 0.15 parts by mass of 4-methoxyphenol was added to the reaction system as a polymerization inhibitor with respect to 100 parts by mass in total of the carboxy group-containing resin (b) and the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (c).

4-메톡시페놀을 첨가한 반응계를 100℃로 승온하고, 상기 제2 혼합 용액을 0.5시간에 걸쳐 적하한 후, 100℃의 온도에서 8시간 교반을 계속하여, 수지(A-1)를 합성하고, 실온(23℃)으로 냉각하였다.The reaction system to which 4-methoxyphenol was added was heated to 100° C., and the second mixed solution was added dropwise over 0.5 hours, followed by stirring at a temperature of 100° C. for 8 hours to synthesize resin (A-1). And cooled to room temperature (23° C.).

수지(A-1)를 핵자기 공명법(NMR법)에 의해 동정한 결과, 일반식 (2-1)로 표시되는 화합물이었다. 일반식 (2-1)로 표시되는 화합물에 있어서의 식 (1-1)에서의 반복 단위 k는, R5가 다른 2종의 반복 단위(k-1, k-2)이다.When resin (A-1) was identified by the nuclear magnetic resonance method (NMR method), it was a compound represented by the general formula (2-1). The repeating unit k in the formula (1-1) in the compound represented by the general formula (2-1) is two kinds of repeating units (k-1, k-2) having different R 5.

Figure pct00007
Figure pct00007

(식 (2-1)에 있어서, k-1은 34이고, k-2는 47이며, m은 1이고, k-1, k-2, m의 합계는 82이다. n은 18이다.)(In formula (2-1), k-1 is 34, k-2 is 47, m is 1, and the sum of k-1, k-2 and m is 82. n is 18.)

수지(A-1)에 대하여, 이하에 나타내는 방법에 의해, 중량 평균 분자량과 유리 전이 온도를 조사하였다. 또한, 수지(A-1)의 산가를, JIS K0070에 따라서 측정하였다. 그 결과를 표 3에 나타낸다.About resin (A-1), the weight average molecular weight and glass transition temperature were investigated by the method shown below. In addition, the acid value of the resin (A-1) was measured according to JIS K0070. The results are shown in Table 3.

<중량 평균 분자량(Mw)><Weight average molecular weight (Mw)>

겔·투과·크로마토그래피(쇼와 덴코 가부시키가이샤제, 쇼덱스(등록 상표) GPC-101)를 사용하여, 하기 조건에서 상온에서 측정하고, 폴리스티렌 환산으로 산출하였다.Using gel permeation chromatography (Showa Denko Corporation, Shodex (registered trademark) GPC-101), it was measured at room temperature under the following conditions, and calculated in terms of polystyrene.

칼럼: 쇼와 덴코 가부시키가이샤제, 쇼덱스(등록 상표) LF-804Column: Showa Denko Corporation, Shodex (registered trademark) LF-804

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40°C

시료: 수지(A)의 0.2질량% 테트라히드로푸란 용액Sample: 0.2 mass% tetrahydrofuran solution of resin (A)

유량: 1ml/분Flow: 1 ml/min

용리액: 테트라히드로푸란Eluent: tetrahydrofuran

검출기: RI 검출기Detector: RI detector

<유리 전이 온도(Tg)><Glass transition temperature (Tg)>

수지(A)로부터 10mg의 시료를 채취하였다. 시차 주사 열량계(DSC)를 사용하여, 10℃/분의 승온 속도로 -100℃로부터 200℃까지 시료의 온도를 변화시켜 시차 주사 열량 측정을 행하고, 관찰된 유리 전이에 의한 흡열 개시 온도를 Tg로 하였다. 또한, Tg가 2개 관찰된 경우에는, 2개의 Tg의 단순 평균값으로 하였다.A 10 mg sample was taken from the resin (A). Using a differential scanning calorimeter (DSC), differential scanning calorimetry was performed by changing the temperature of the sample from -100°C to 200°C at a temperature increase rate of 10°C/min, and the endothermic start temperature due to the observed glass transition as Tg. I did. In addition, when two Tg were observed, it was set as the simple average value of two Tg.

(제조예 2 내지 8, 10 내지 12)(Production Examples 2 to 8, 10 to 12)

표 1 및 표 2에 나타내는 함유량(질량부)으로, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)와, 에틸렌성 불포화 단량체(d)와, 중합 개시제를 사용한 것 이외는, 제조예 1과 마찬가지로 하여 제1 혼합 용액을 조제하였다.In the content (parts by mass) shown in Tables 1 and 2, except for using a carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer (a), an ethylenically unsaturated monomer (d), and a polymerization initiator, the first A mixed solution was prepared.

또한, 표 1 및 표 2에 나타내는 함유량(질량부)으로, 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)(제조예 8에 있어서는 메타크릴산글리시딜(GMA))과, 촉매를 사용한 것 이외는, 제조예 1과 마찬가지로 하여 제2 혼합 용액을 조제하였다.In addition, in the content (parts by mass) shown in Tables 1 and 2, except for using an alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) (glycidyl methacrylate (GMA) in Production Example 8) and a catalyst. In the same manner as in Production Example 1, a second mixed solution was prepared.

상기 제1 혼합 용액 및 상기 제2 혼합 용액을 사용한 것 이외는, 제조예 1과 마찬가지로 하여 수지(A-2) 내지 (A-8) (A-10) 내지 (A-12)를 얻었다. Except having used the said 1st mixed solution and the said 2nd mixed solution, it carried out similarly to Production Example 1, and obtained resins (A-2) to (A-8) (A-10) to (A-12).

수지(A-2) 내지 (A-8) (A-10) 내지 (A-12)를 각각 제조예 1과 마찬가지로 하여 동정한 결과, 일반식 (2-2) 내지 (2-8) (2-10) 내지 (2-12)로 표시되는 화합물이었다. 일반식 (2-2) 내지 (2-8) (2-10)으로 표시되는 화합물에 있어서의 식 (1-1)에서의 반복 단위 k는, R5 또는, R1과 R5의 양쪽이 다른 2종의 반복 단위(k-1, k-2)이다.Resins (A-2) to (A-8) (A-10) to (A-12) were identified in the same manner as in Preparation Example 1, respectively, and as a result, General Formulas (2-2) to (2-8) (2 It was a compound represented by -10) to (2-12). The repeating unit k in the formula (1-1) in the compound represented by the general formulas (2-2) to (2-8) (2-10) is R 5 or both of R 1 and R 5 It is the other two kinds of repeating units (k-1, k-2).

수지(A-2)는, 하기 일반식 (2-2)로 표시되는 화합물이다.Resin (A-2) is a compound represented by the following general formula (2-2).

수지(A-3)는, 하기 일반식 (2-3)으로 표시되는 화합물이다.Resin (A-3) is a compound represented by the following general formula (2-3).

수지(A-4)는, 하기 일반식 (2-4)로 표시되는 화합물이다.Resin (A-4) is a compound represented by the following general formula (2-4).

수지(A-5)는, 상기 일반식 (2-5)로 표시되는 화합물이다.Resin (A-5) is a compound represented by the general formula (2-5).

수지(A-6)는, 하기 일반식 (2-6)으로 표시되는 화합물이다.Resin (A-6) is a compound represented by the following general formula (2-6).

수지(A-7)는, 하기 일반식 (2-7)로 표시되는 화합물이다.Resin (A-7) is a compound represented by the following general formula (2-7).

수지(A-8)는, 하기 일반식 (2-8)로 표시되는 화합물이다.Resin (A-8) is a compound represented by the following general formula (2-8).

수지(A-10)는, 하기 일반식 (2-10)으로 표시되는 화합물이다.Resin (A-10) is a compound represented by the following general formula (2-10).

수지(A-11)는, 하기 일반식 (2-11)로 표시되는 화합물이다.Resin (A-11) is a compound represented by the following general formula (2-11).

수지(A-12)는, 하기 일반식 (2-12)로 표시되는 화합물이다.Resin (A-12) is a compound represented by the following general formula (2-12).

Figure pct00008
Figure pct00008

(식 (2-2)에 있어서, k-1은 32이고, k-2는 48이며, m은 1이고, k-1, k-2, m의 합계는 81이다. n은 19이다.)(In formula (2-2), k-1 is 32, k-2 is 48, m is 1, and the sum of k-1, k-2 and m is 81. n is 19.)

(식 (2-3)에 있어서, k-1은 70이고, k-2는 16이며, m은 1이고, k-1, k-2, m의 합계는 87이다. n은 13이다.)(In formula (2-3), k-1 is 70, k-2 is 16, m is 1, and the sum of k-1, k-2 and m is 87. n is 13.)

Figure pct00009
Figure pct00009

(식 (2-4)에 있어서, k-1은 52이고, k-2는 34이며, m은 3이고, k-1, k-2, m의 합계는 89이다. n은 11이다.)(In formula (2-4), k-1 is 52, k-2 is 34, m is 3, and the sum of k-1, k-2 and m is 89. n is 11.)

(식 (2-5)에 있어서, k-1은 11이고, k-2는 52이며, m은 4이고, k-1, k-2, m의 합계는 67이며, n은 33이다.)(In formula (2-5), k-1 is 11, k-2 is 52, m is 4, the sum of k-1, k-2 and m is 67, and n is 33.)

Figure pct00010
Figure pct00010

(식 (2-6)에 있어서, k-1은 56이고, k-2는 24이며, m은 0.2이고, k-1, k-2, m의 합계는 80.2이다. n은 19.8이다.)(In formula (2-6), k-1 is 56, k-2 is 24, m is 0.2, and the sum of k-1, k-2 and m is 80.2. n is 19.8.)

(식 (2-7)에 있어서, k-1은 15이고, k-2는 72이며, m은 1이고, k-1, k-2, m의 합계는 88이다. n은 12이다.)(In formula (2-7), k-1 is 15, k-2 is 72, m is 1, and the sum of k-1, k-2 and m is 88. n is 12.)

Figure pct00011
Figure pct00011

(식 (2-8)에 있어서, k-1은 37이고, k-2는 44이며, m은 2이고, k-1, k-2, m의 합계는 83이다. n'는 17이다.)(In formula (2-8), k-1 is 37, k-2 is 44, m is 2, and the sum of k-1, k-2 and m is 83. n'is 17. )

(식 (2-10)에 있어서, k-1은 34이고, k-2는 47이며, m은 4이고, k-1, k-2, m의 합계는 85이다. n은 15이다.)(In formula (2-10), k-1 is 34, k-2 is 47, m is 4, and the sum of k-1, k-2 and m is 85. n is 15.)

Figure pct00012
Figure pct00012

(식 (2-11)에 있어서, k는 66이고, l은 12이며, m은 2이고, k, l, m의 합계는 80이다. n은 20이다.)(In formula (2-11), k is 66, l is 12, m is 2, and the sum of k, l, and m is 80. n is 20.)

(식 (2-12)에 있어서, k는 55이고, l은 23이며, m은 2이고, k, l, m의 합계는 80이다. n은 20이다.)(In formula (2-12), k is 55, l is 23, m is 2, and the sum of k, l, and m is 80. n is 20.)

수지(A-2) 내지 (A-8) (A-10) 내지 (A-12)에 대하여, 각각 감광성 수지(A-1)와 마찬가지로 하여, 중량 평균 분자량, 유리 전이 온도, 산가를 조사하였다. 그 결과를 표 3에 나타낸다.About resins (A-2) to (A-8) (A-10) to (A-12), the weight average molecular weight, glass transition temperature, and acid value were investigated in the same manner as the photosensitive resin (A-1), respectively. . The results are shown in Table 3.

(제조예 9)(Production Example 9)

표 2에 나타내는 함유량(질량부)으로, 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)와, 에틸렌성 불포화 단량체(d)와, 중합 개시제를 사용한 것 이외는, 제조예 1과 마찬가지로 하여 제1 혼합 용액을 조제하였다.In the content (parts by mass) shown in Table 2, except for using a carboxyl group-containing ethylenically unsaturated monomer (a), an ethylenically unsaturated monomer (d), and a polymerization initiator, a first mixed solution was prepared in the same manner as in Production Example 1. Prepared.

교반기, 적하 깔때기, 냉각관 및 질소 도입관을 구비한 4구 플라스크에, 용매로서 아세트산에틸을 261.7질량부 투입하여, 가열 환류를 실시하였다. 가열 환류 후, 표 2에 기재된 제1 혼합 용액을 4시간에 걸쳐 균일하게 적하하고, 적하 후, 가열 환류로 6시간 교반을 계속하였다. 그 후, 반응계를 60℃로 냉각하고, 용매로서 아세트산에틸을 286.4질량부, 카르복시기 함유 수지(b)와 후술하는 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트(MOI)의 합계 100질량부에 대하여 중합 금지제로서 4-메톡시페놀을 0.15질량부, 카르복시기 함유 수지(b)와 후술하는 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트(MOI)의 합계 100질량부에 대하여 촉매로서 디옥틸주석디라우레이트를 0.3질량부 첨가하였다.To a four-neck flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a cooling tube, and a nitrogen introduction tube, 261.7 parts by mass of ethyl acetate was added as a solvent, followed by heating and refluxing. After heating to reflux, the first mixed solution described in Table 2 was uniformly added dropwise over 4 hours, and after the dropwise addition, stirring was continued for 6 hours by heating and refluxing. Thereafter, the reaction system was cooled to 60° C., and polymerization was prohibited with respect to 286.4 parts by mass of ethyl acetate as a solvent, and 100 parts by mass of the total of the carboxy group-containing resin (b) and 2-isocyanatoethyl methacrylate (MOI) described later. 0.15 parts by mass of 4-methoxyphenol as a zero, 0.3 dioctyltin dilaurate as a catalyst based on 100 parts by mass of the total of the resin (b) containing a carboxyl group and 2-isocyanatoethyl methacrylate (MOI) described later. It was added in parts by mass.

4-메톡시페놀이 용해된 후, 반응계에 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트(MOI)를 47.8질량부 첨가하고, 60℃에서 8시간 교반을 계속하여, 수지(A-9)를 합성하고, 실온(23℃)으로 냉각하였다.After the 4-methoxyphenol was dissolved, 47.8 parts by mass of 2-isocyanatoethyl methacrylate (MOI) was added to the reaction system, and stirring was continued at 60° C. for 8 hours to synthesize a resin (A-9). , Cooled to room temperature (23° C.).

수지(A-9)를 제조예 1과 마찬가지로 하여 동정한 결과, 일반식 (2-9)로 표시되는 화합물이었다. 일반식 (2-9)로 표시되는 화합물에 있어서의 식 (1-1)에서의 반복 단위 k는, R5가 다른 2종의 반복 단위(k-1, k-2)이다.When resin (A-9) was identified in the same manner as in Production Example 1, it was a compound represented by General Formula (2-9). The repeating unit k in the formula (1-1) in the compound represented by the general formula (2-9) is two kinds of repeating units (k-1, k-2) having different R 5.

Figure pct00013
Figure pct00013

(식 (2-9)에 있어서, k-1은 48이고, k-2는 32이며, m은 1이고, k-1, k-2, m의 합계는 81이다. j는 2이고, n''는 17이다.)(In formula (2-9), k-1 is 48, k-2 is 32, m is 1, and the sum of k-1, k-2 and m is 81. j is 2, and n '' is 17.)

수지(A-9)에 대하여, 수지(A-1)와 마찬가지로 하여, 중량 평균 분자량, 유리 전이 온도, 산가를 조사하였다. 그 결과를 표 3에 나타낸다.About resin (A-9), it carried out similarly to resin (A-1), and the weight average molecular weight, glass transition temperature, and acid value were investigated. The results are shown in Table 3.

또한, 수지(A-1) 내지 (A-12)에 대하여, 각각 화학식 (2-1) 내지 (2-12) 중의 k-1, k-2, k(k-1과 k-2의 합계), l, m, n, n', n''의 수치를 표 3에 나타낸다.In addition, for resins (A-1) to (A-12), k-1, k-2, k (sum of k-1 and k-2) in formulas (2-1) to (2-12), respectively ), l, m, n, n', n'' are shown in Table 3.

Figure pct00014
Figure pct00014

Figure pct00015
Figure pct00015

Figure pct00016
Figure pct00016

표 1 및 표 2에는, 수지(A-1) 내지 (A-12)의 제조에 사용한 카르복시기 함유 에틸렌성 불포화 단량체(a)와, 상기 (a)와 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체(d)와, 중합 개시제와, 지환식 에폭시기 함유 에틸렌성 불포화 화합물(c)과, 촉매와, 중합 금지제 및 용매의 종류와 사용량(질량부), 메타크릴산글리시딜(GMA) 및 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트(MOI)의 사용량(질량부)을 각각 나타낸다.Tables 1 and 2 show a carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) used in the production of resins (A-1) to (A-12), and an ethylenically unsaturated monomer (d) copolymerizable with the above (a), Polymerization initiator, alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c), catalyst, polymerization inhibitor, and type and amount of solvent (parts by mass), glycidyl methacrylate (GMA) and 2-isocyanatoethyl The amount (parts by mass) of methacrylate (MOI) is shown, respectively.

「실시예 1 내지 12, 비교예 1 내지 2」"Examples 1 to 12, Comparative Examples 1 to 2"

제조예 1 내지 12에서 합성한 수지(A-1) 내지 (A-12)의 반응 용액에, 용매인 아세트산에틸을 첨가하여, 각각 수지(A-1) 내지 (A-12)의 함유량이 30질량%가 되도록 조정하였다. 수지(A-1) 내지 (A-12)의 함유량이 30질량%인 수지(A-1) 내지 (A-12) 용액을 사용하여, 이하에 나타내는 방법에 의해 점착제 조성물을 얻었다.To the reaction solution of the resins (A-1) to (A-12) synthesized in Preparation Examples 1 to 12, ethyl acetate as a solvent was added, and the content of the resins (A-1) to (A-12) was 30 It adjusted so that it might become mass %. Using the resin (A-1) to (A-12) solution in which the content of the resins (A-1) to (A-12) is 30% by mass, a pressure-sensitive adhesive composition was obtained by the method shown below.

활성선이 차단된 실내에서 플라스틱제 용기에, 표 4 내지 표 6에 나타내는 수지(A)와 광중합 개시제(B)와 가교제(C)를, 각각 표 4 내지 표 6에 나타내는 함유량(질량부)으로 첨가하여 교반하여, 실시예 1 내지 12, 비교예 1 내지 2의 점착제 조성물을 얻었다.In a plastic container in a room where active rays are blocked, the resin (A), the photopolymerization initiator (B), and the crosslinking agent (C) shown in Tables 4 to 6 were added in the contents (parts by mass) shown in Tables 4 to 6, respectively. It was added and stirred to obtain the pressure-sensitive adhesive compositions of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 2.

표 4 내지 표 6 중의 수지(A-1) 내지 (A-12)의 수치는, 수지(A-1) 내지 (A-12)의 함유량이 30질량%인 수지(A-1) 내지 (A-12) 용액의 사용량(질량부)이다. 광중합 개시제(B)의 수치는, 수지(A) 100질량부에 대한 광중합 개시제(B)의 사용량(질량부)이다. 가교제(C)의 수치는, 수지(A) 100질량부에 대한 가교제(C)의 사용량(질량부)이다.The numerical values of the resins (A-1) to (A-12) in Tables 4 to 6 are the resins (A-1) to (A) in which the content of the resins (A-1) to (A-12) is 30% by mass. -12) It is the amount of solution used (parts by mass). The numerical value of the photoinitiator (B) is the used amount (part by mass) of the photoinitiator (B) with respect to 100 parts by mass of the resin (A). The numerical value of the crosslinking agent (C) is the amount (parts by mass) of the crosslinking agent (C) with respect to 100 parts by mass of the resin (A).

Figure pct00017
Figure pct00017

Figure pct00018
Figure pct00018

Figure pct00019
Figure pct00019

표 4 내지 표 6에 있어서의 「TETRAD-C」 「HX」 「TPO」, 표 4 및 표 5에 있어서의 「TETRAD-X」는, 각각 이하에 나타내는 것이다."TETRAD-C" "HX" "TPO" in Tables 4 to 6, and "TETRAD-X" in Tables 4 and 5 are shown below, respectively.

「TETRAD-C」 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산(미쓰비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤제, 상품명: TETRAD-C)「TETRAD-C」 1,3-bis(N,N-diglycidylaminomethyl)cyclohexane (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., brand name: TETRAD-C)

「TETRAD-X」 N,N'-[1,3-페닐렌비스(메틸렌)]비스[비스(옥시란-2-일메틸)아민](미쓰비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤제, 상품명: TETRAD-X)"TETRAD-X" N,N'-[1,3-phenylenebis(methylene)]bis[bis(oxiran-2-ylmethyl)amine] (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd., brand name: TETRAD- X)

「HX」 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(도소 가부시키가이샤제, 상품명: 코로네이트(등록 상표) HX)"HX" isocyanurate body of hexamethylene diisocyanate (manufactured by Tosoh Corporation, brand name: Coronate (registered trademark) HX)

「TPO」 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드(BASF사제, 상품명: L-TPO)"TPO" 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (manufactured by BASF, brand name: L-TPO)

「점착 시트의 제조」"Production of adhesive sheet"

실시예 1 내지 12, 비교예 1 내지 2의 점착제 조성물을 그대로, 건조 후의 막 두께가 20㎛가 되도록 기재 상에 도공하고, 100℃에서 2분간, 가열 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 점착제층 상에 박리 시트를 접합함으로써, 실시예 1 내지 12, 비교예 1 내지 2의 점착 시트를 얻었다. 기재 및 박리 시트로서는, 두께 50㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 사용하였다.The pressure-sensitive adhesive compositions of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 2 were coated on a substrate so that the film thickness after drying became 20 μm, and heated and dried at 100° C. for 2 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer. Thereafter, by bonding the release sheet on the pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive sheets of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 2 were obtained. As the base material and the release sheet, a 50 µm-thick polyethylene terephthalate (PET) film was used.

이와 같이 하여 얻어진 실시예 1 내지 12, 비교예 1 내지 2의 점착 시트에 대하여, 이하에 나타내는 방법에 의해, 이하에 나타내는 항목의 평가를 행하였다. 그 결과를 표 4 내지 표 6에 나타낸다.With respect to the pressure-sensitive adhesive sheets of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 2 thus obtained, the items shown below were evaluated by the method shown below. The results are shown in Tables 4 to 6.

「UV 조사 전 박리 강도」``Peel strength before UV irradiation''

점착 시트를 세로 25㎜, 가로 100㎜의 크기로 절취하고, 박리 시트를 박리하여 점착제층을 노출시켰다. 다음에, 노출시킨 점착제층(측정면)이 유리판에 접하도록, 점착 시트를 유리판에 첩부하고, 2㎏의 고무 롤러(폭: 약 50㎜)를 1왕복시켜, UV 조사 전 박리 강도의 측정용 샘플로 하였다.The pressure-sensitive adhesive sheet was cut into a size of 25 mm in length and 100 mm in width, and the release sheet was peeled to expose the pressure-sensitive adhesive layer. Next, the pressure-sensitive adhesive sheet was affixed to the glass plate so that the exposed pressure-sensitive adhesive layer (measurement surface) was in contact with the glass plate, and a 2 kg rubber roller (width: about 50 mm) was repeated once to measure the peel strength before UV irradiation. It was taken as a sample.

얻어진 측정용 샘플을, 온도 23℃, 습도 50%의 환경 하에서 24시간 방치하였다. 그 후, JIS Z0237에 준하여, 박리 속도 300㎜/분으로 180° 방향의 인장 시험을 행하여, 점착 시트의 유리판에 대한 박리 강도(N/25㎜)를 측정하였다.The obtained sample for measurement was allowed to stand for 24 hours in an environment at a temperature of 23°C and a humidity of 50%. Then, in accordance with JIS Z0237, a tensile test in the 180° direction was performed at a peel rate of 300 mm/min, and the peel strength (N/25 mm) of the pressure-sensitive adhesive sheet with respect to the glass plate was measured.

「UV 조사 후 박리 강도」"Peel strength after UV irradiation"

UV 조사 전 박리 강도의 측정용 샘플과 동일한 것을 제작하고, 점착 시트측의 면으로부터 조사량 500mJ/㎠의 조건에서 자외선(UV)을 조사하여, UV 조사 후 박리 강도의 측정용 샘플로 하였다. UV 조사에는, 컨베이어형 자외선 조사 장치(아이 그래픽스사제, 2KW 램프, 80W/㎝)를 사용하였다.The same thing as the sample for measuring peel strength before UV irradiation was prepared, and ultraviolet (UV) irradiation was carried out from the surface of the pressure-sensitive adhesive sheet side under conditions of an irradiation amount of 500 mJ/cm 2 to obtain a sample for measuring peel strength after UV irradiation. For UV irradiation, a conveyor-type ultraviolet irradiation apparatus (manufactured by Eye Graphics, 2KW lamp, 80W/cm) was used.

얻어진 측정용 샘플에 대하여 「UV 조사 전 박리 강도」와 마찬가지로 하여, 점착 시트의 유리판에 대한 박리 강도(N/25㎜)를 측정하였다.About the obtained sample for measurement, it carried out similarly to "Peel strength before UV irradiation", and measured the peel strength (N/25 mm) with respect to the glass plate of an adhesive sheet.

「내열 UV 조사 후 박리 강도」``Peel strength after heat-resistant UV irradiation''

UV 조사 전 박리 강도의 측정용 샘플과 동일한 것을 제작하고, 200℃에서 2시간 유지하는 열처리를 행하고 나서 실온(23℃)으로 냉각하고, 「UV 조사 후 박리 강도」와 동일한 조건에서 UV를 조사하여, 내열 UV 조사 후 박리 강도의 측정용 샘플로 하였다.Prepare the same sample as the sample for measuring the peel strength before UV irradiation, heat treatment at 200°C for 2 hours, cool to room temperature (23°C), and irradiate UV under the same conditions as “Peel strength after UV irradiation”. , After heat-resistant UV irradiation, it was set as a sample for measuring the peel strength.

얻어진 측정용 샘플에 대하여 「UV 조사 후 박리 강도」와 마찬가지로 하여, 점착 시트의 유리판에 대한 박리 강도(N/25㎜)를 측정하였다.About the obtained sample for measurement, it carried out similarly to "Peel strength after UV irradiation", and measured the peel strength (N/25 mm) with respect to the glass plate of an adhesive sheet.

「점착제 잔류」``Remaining adhesive''

UV 조사 후 박리 강도의 측정을 행한 후의 유리판을 눈으로 보아 관찰하고, 이하의 기준으로 평가하였다. 그 결과를 표 4 내지 표 6에 나타낸다.After performing the measurement of the peel strength after UV irradiation, the glass plate was visually observed and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 4 to 6.

(평가 기준)(Evaluation standard)

○: 유리판에 점착제가 남지 않는다.○: No adhesive remains on the glass plate.

△: 유리판의 일부에 점착제가 남았다.?: The adhesive remained on a part of the glass plate.

×: 유리판 전체면에 점착제가 남았다.X: The adhesive remained on the entire surface of the glass plate.

표 4 및 표 5에 나타내는 바와 같이, 실시예 1 내지 12의 점착 시트는, 모두 「UV 조사 전 박리 강도」가 1.0N/25㎜ 이상이고, 「내열 UV 조사 후 박리 강도」가 2.5N/25㎜ 미만이며, 점착제 잔류의 평가가 ○ 또는 △였다.As shown in Table 4 and Table 5, all of the PSA sheets of Examples 1 to 12 had a "peel strength before UV irradiation" of 1.0 N/25 mm or more, and a "peel strength after heat-resistant UV irradiation" of 2.5 N/25. It was less than mm, and the evaluation of residual adhesive was ○ or △.

이에 반해, 표 6에 나타내는 바와 같이, 수지(A)가 지환식 화합물에서 유래되는 구조를 포함하지 않는 비교예 1 및 비교예 2의 점착 시트는, 모두 「UV 조사 후 박리 강도」가 충분히 낮음에도 불구하고 「내열 UV 조사 후 박리 강도」가 높아, 점착제 잔류의 평가가 ×였다.On the other hand, as shown in Table 6, the pressure-sensitive adhesive sheets of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 in which the resin (A) does not contain a structure derived from an alicyclic compound, even though the ``peel strength after UV irradiation'' was sufficiently low. Nevertheless, "the peeling strength after heat-resistant UV irradiation" was high, and the evaluation of the adhesive residual was ×.

Claims (7)

하기 일반식 (1-1)로 표시되는 수지(A)와, 광중합 개시제(B)를 포함하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
Figure pct00020

Figure pct00021

(식 (1-1)에 있어서, k, l, m, n은, k+l+m+n=100으로 하였을 때의 몰 조성비를 나타낸다. k는 0 초과 내지 92 이하이다. l은 0 내지 50이다. m은 0 초과 내지 90 이하이다. k, l, m의 합계는 65 내지 95이다. n은 5 내지 35이다. R1 내지 R4는 -H 또는 -CH3이다. R5는 탄소수 1 내지 16의 알킬기이다. R6은 탄소수 3 내지 30의 지환식 탄화수소기 또는 탄소수 6 내지 20의 방향족 탄화수소기이다. R7은 -H 또는 -(CH2)j-COOH(식 중의 j는 1 또는 2임)이다. R8은 상기 일반식 (1-2) 또는 (1-3)이다. 식 (1-2) 및 (1-3)에 있어서, p 및 q는 0, 1, 2로부터 선택되는 어느 것이다. s는 p가 0일 때는 0이고, p가 1 또는 2일 때는 1이다. R9는 -H 또는 -CH3이다.)
A pressure-sensitive adhesive composition comprising a resin (A) represented by the following general formula (1-1) and a photoinitiator (B).
Figure pct00020

Figure pct00021

(In formula (1-1), k, l, m, and n represent the molar composition ratio when k+l+m+n=100. k is more than 0 and not more than 92. l is 0 to 92 50. m is greater than 0 and not more than 90. The sum of k, l and m is 65 to 95. n is 5 to 35. R 1 to R 4 are -H or -CH 3. R 5 is a number of carbon atoms It is an alkyl group of 1 to 16. R 6 is an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. R 7 is -H or -(CH 2 ) j -COOH (wherein j is 1 Or 2. R 8 is the general formula (1-2) or (1-3). In formulas (1-2) and (1-3), p and q are from 0, 1, 2 Which is selected, s is 0 when p is 0, 1 when p is 1 or 2. R 9 is -H or -CH 3 .)
제1항에 있어서,
상기 수지(A)의 중량 평균 분자량이 20만 내지 100만인 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
The method of claim 1,
The pressure-sensitive adhesive composition, characterized in that the weight average molecular weight of the resin (A) is 200,000 to 1 million.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 식 (1-1)에 있어서의 n이 10 내지 33인 점착제 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
The pressure-sensitive adhesive composition in which n in the formula (1-1) is 10 to 33.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 식 (1-1)에 있어서의 k가 45 내지 90이고, l이 4 내지 40이며, m이 1 내지 15인 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The pressure-sensitive adhesive composition, wherein k in the formula (1-1) is 45 to 90, l is 4 to 40, and m is 1 to 15.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
가교제(C)를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 4,
A pressure-sensitive adhesive composition further containing a crosslinking agent (C).
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 수지(A)의 유리 전이 온도가 -80 내지 0℃인 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The pressure-sensitive adhesive composition, characterized in that the glass transition temperature of the resin (A) is -80 to 0 ℃.
시트상의 기재와, 상기 기재 상에 형성된 점착제층을 갖고, 상기 점착제층이, 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 점착제 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 점착 시트.A pressure-sensitive adhesive sheet comprising a sheet-like substrate and a pressure-sensitive adhesive layer formed on the substrate, wherein the pressure-sensitive adhesive layer contains the pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 6.
KR1020217003048A 2018-09-03 2019-06-17 Adhesive composition and adhesive sheet KR102408062B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018164843 2018-09-03
JPJP-P-2018-164843 2018-09-03
PCT/JP2019/023913 WO2020049829A1 (en) 2018-09-03 2019-06-17 Pressure-sensitive adhesive composition and pressure-sensitive adhesive sheet

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210027424A true KR20210027424A (en) 2021-03-10
KR102408062B1 KR102408062B1 (en) 2022-06-14

Family

ID=69723127

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020217003048A KR102408062B1 (en) 2018-09-03 2019-06-17 Adhesive composition and adhesive sheet

Country Status (5)

Country Link
JP (3) JP7363791B2 (en)
KR (1) KR102408062B1 (en)
CN (1) CN112534015B (en)
TW (1) TWI779208B (en)
WO (1) WO2020049829A1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023112427A1 (en) * 2021-12-14 2023-06-22 株式会社レゾナック Method for producing semiconductor device, and semiconductor device

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000044890A (en) * 1998-07-31 2000-02-15 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Peelable type tacky agent composition
JP2003128725A (en) * 2001-10-18 2003-05-08 Daicel Chem Ind Ltd Method for manufacturing curable resin and composition containing curable resin
JP2004300405A (en) * 2003-03-20 2004-10-28 Toyo Ink Mfg Co Ltd Adhesive composition and adhesive sheet
JP2010090249A (en) * 2008-10-07 2010-04-22 Showa Highpolymer Co Ltd Ultraviolet curing removable adhesive composition and adhesive sheet using the same
JP2013122005A (en) * 2011-12-09 2013-06-20 Samsung Yokohama Research Institute Co Ltd Photosensitive adhesive film for semiconductor, and method of manufacturing semiconductor device using the film
JP2014234422A (en) * 2013-05-31 2014-12-15 昭和電工株式会社 Active ray-curable tackifier composition for re-peelable protective tape targeting glass etching and re-peelable protective tape targeting glass etching
JP5996985B2 (en) 2012-09-24 2016-09-21 日東電工株式会社 Manufacturing method of pressure-sensitive adhesive sheet, and pressure-sensitive adhesive sheet obtained by the manufacturing method
WO2018101461A1 (en) * 2016-12-02 2018-06-07 三菱ケミカル株式会社 Adhesive resin composition and adhesive sheet

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3662365B2 (en) * 1996-09-06 2005-06-22 ダイセル化学工業株式会社 Photocurable resin composition
JP2001503811A (en) 1996-11-12 2001-03-21 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー Thermosetting pressure-sensitive adhesive
JP2003122003A (en) 2001-10-15 2003-04-25 Toppan Printing Co Ltd Photosensitive resin composition
US8067504B2 (en) 2009-08-25 2011-11-29 3M Innovative Properties Company Acrylic pressure-sensitive adhesives with acylaziridine crosslinking agents
JP2012119364A (en) * 2010-11-29 2012-06-21 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Solar cell rear surface protective sheet and solar cell module
JP6021715B2 (en) 2013-03-29 2016-11-09 株式会社ブリヂストン Photo-curable adhesive composition
EP3252088B1 (en) 2016-05-31 2018-07-04 Henkel AG & Co. KGaA Cationic pressure sensitive adhesive uv cured by medium mercury bulbs
KR102103619B1 (en) * 2016-07-29 2020-04-22 주식회사 엘지화학 Adhesive composition, protective film and polarizing plate comprising adhesive layer formed by using the same and display device comprising the same
WO2018033995A1 (en) * 2016-08-19 2018-02-22 大阪有機化学工業株式会社 Curable resin composition for forming easily strippable film, and process for producing same
CN112029468A (en) 2020-08-03 2020-12-04 新纶科技(常州)有限公司 Photo-cured printed pressure-sensitive adhesive composition and preparation method and application thereof

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000044890A (en) * 1998-07-31 2000-02-15 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The Peelable type tacky agent composition
JP2003128725A (en) * 2001-10-18 2003-05-08 Daicel Chem Ind Ltd Method for manufacturing curable resin and composition containing curable resin
JP2004300405A (en) * 2003-03-20 2004-10-28 Toyo Ink Mfg Co Ltd Adhesive composition and adhesive sheet
JP2010090249A (en) * 2008-10-07 2010-04-22 Showa Highpolymer Co Ltd Ultraviolet curing removable adhesive composition and adhesive sheet using the same
JP2013122005A (en) * 2011-12-09 2013-06-20 Samsung Yokohama Research Institute Co Ltd Photosensitive adhesive film for semiconductor, and method of manufacturing semiconductor device using the film
JP5996985B2 (en) 2012-09-24 2016-09-21 日東電工株式会社 Manufacturing method of pressure-sensitive adhesive sheet, and pressure-sensitive adhesive sheet obtained by the manufacturing method
JP2014234422A (en) * 2013-05-31 2014-12-15 昭和電工株式会社 Active ray-curable tackifier composition for re-peelable protective tape targeting glass etching and re-peelable protective tape targeting glass etching
WO2018101461A1 (en) * 2016-12-02 2018-06-07 三菱ケミカル株式会社 Adhesive resin composition and adhesive sheet

Also Published As

Publication number Publication date
JP7363791B2 (en) 2023-10-18
JPWO2020049829A1 (en) 2021-08-12
CN112534015A (en) 2021-03-19
JP2024014872A (en) 2024-02-01
WO2020049829A1 (en) 2020-03-12
KR102408062B1 (en) 2022-06-14
TW202020088A (en) 2020-06-01
JP2023182666A (en) 2023-12-26
CN112534015B (en) 2022-02-25
TWI779208B (en) 2022-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20110128808A (en) Radiation curable adhesive composition for optical components and adhesive optical component
CN113412317B (en) Pressure-sensitive adhesive sheet
TWI680171B (en) Adhesive composition and adhesive sheet
JP5737690B2 (en) Antistatic pressure-sensitive adhesive composition, antistatic pressure-sensitive adhesive obtained using the same, and antistatic pressure-sensitive adhesive sheet
JP2023182666A (en) dicing tape
JPWO2020054146A1 (en) Adhesive sheet
JP6062806B2 (en) Active ray curable adhesive composition for re-peeling protective tape for glass etching, re-peeling protective tape for glass etching
JP5888839B2 (en) Acrylic pressure-sensitive adhesive manufacturing method, pressure-sensitive adhesive sheet manufacturing method
CN111819258B (en) Reinforced film
JP5196894B2 (en) Resin composition, temporary surface protecting pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive adhesive sheet, method of using pressure-sensitive adhesive sheet, and method of manufacturing pressure-sensitive adhesive sheet
JP2023087882A (en) Re-peelable type adhesive sheet
TW202136447A (en) Adhesive sheet
CN113382858A (en) Intermediate laminate, method for producing intermediate laminate, and method for producing product laminate
WO2023112427A1 (en) Method for producing semiconductor device, and semiconductor device
CN113166612B (en) Adhesive composition and adhesive sheet
WO2024038490A1 (en) Protective sheet for semiconductor processing and semiconductor device production method
WO2024106388A1 (en) Adhesive sheet
WO2024106390A1 (en) Adhesive sheet
WO2024106385A1 (en) Adhesive sheet
WO2024106389A1 (en) Adhesive sheet
WO2024106386A1 (en) Adhesive sheet
WO2024106387A1 (en) Adhesive sheet
WO2024106384A1 (en) Adhesive sheet manufacturing method
WO2024029315A1 (en) Method for producing (meth)acrylic resin and method for producing adhesive composition
JP2022061624A (en) Adhesive sheet, optical film with adhesive sheet, and image display unit

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant