JPWO2020049829A1 - Adhesive composition and adhesive sheet - Google Patents

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Abstract

式(1−1)で示される樹脂と光重合開始剤とを含む粘着剤組成物とする。R1〜R4は−Hまたは−CH3。R5は炭素数1〜16のアルキル基。R6は脂環式炭化水素基または芳香族炭化水素基。R7は−Hまたは−(CH2)j−COOH(式中のjは1または2)。R8は特定の基。[化1]A pressure-sensitive adhesive composition containing the resin represented by the formula (1-1) and a photopolymerization initiator is prepared. R1 to R4 are -H or -CH3. R5 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms. R6 is an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group. R7 is -H or-(CH2) j-COOH (j in the formula is 1 or 2). R8 is a specific group. [Chemical 1]

Description

本発明は、粘着剤組成物および粘着シートに関する。
本出願は、2018年9月3日に日本に出願された特願2018−164843に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
The present invention relates to pressure-sensitive adhesive compositions and pressure-sensitive adhesive sheets.
This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2018-164843 filed in Japan on September 3, 2018, the contents of which are incorporated herein by reference.

従来、半導体の製造工程などにおいて、様々な粘着シートが用いられている。具体的には、半導体ウエハの裏面研削(バックグラインド)工程においてウエハを保護するための保護シート、半導体ウエハから素子小片への切断分割(ダイシング)工程において用いられる固定用シートなどがある。これらの粘着シートは、被着体である半導体ウエハに貼付され、所定の加工工程が終了した後に被着体から剥離される再剥離型の粘着シートである。
再剥離型の粘着シートの粘着剤層に用いられる粘着剤組成物としては、分子内にエチレン性不飽和基を有し、UV(紫外線)硬化する樹脂を含むものが知られている。
Conventionally, various adhesive sheets have been used in semiconductor manufacturing processes and the like. Specifically, there are a protective sheet for protecting the wafer in the back grind step of the semiconductor wafer, a fixing sheet used in the cutting and dividing (dicing) step of the semiconductor wafer into small element pieces, and the like. These pressure-sensitive adhesive sheets are re-peelable pressure-sensitive adhesive sheets that are attached to a semiconductor wafer that is an adherend and are peeled off from the adherend after a predetermined processing step is completed.
As a pressure-sensitive adhesive composition used for the pressure-sensitive adhesive layer of a removable pressure-sensitive adhesive sheet, a pressure-sensitive adhesive composition having an ethylenically unsaturated group in the molecule and containing a UV (ultraviolet) curable resin is known.

特許文献1には、2以上の水酸基を側鎖に有する(メタ)アクリル系ポリマーと、イソシアナト基を有する化合物とを、第1触媒の存在下で反応させ、ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーを形成する工程、および、該ウレタン結合を有する(メタ)アクリル系ポリマーと、一分子中に2以上のイソシアナト基を有する化合物とを、第2触媒の存在下で反応させ、粘着剤層を形成する工程を含み、第1触媒がジルコニウム、チタン、アルミニウムから選択される少なくとも1種の金属の錯体であり、第2触媒がアミン系触媒である粘着シートの製造方法が開示されている。 In Patent Document 1, a (meth) acrylic polymer having two or more hydroxyl groups in a side chain and a compound having an isocyanato group are reacted in the presence of a first catalyst to have a urethane bond (meth) acrylic polymer. The step of forming the polymer and the reaction of the (meth) acrylic polymer having a urethane bond with a compound having two or more isocyanato groups in one molecule are allowed to react in the presence of a second catalyst to form a pressure-sensitive adhesive layer. A method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet, which comprises a step of forming, wherein the first catalyst is a complex of at least one metal selected from zirconium, titanium, and aluminum, and the second catalyst is an amine-based catalyst is disclosed.

特許第5996985号公報Japanese Patent No. 5996985

再剥離型の粘着シートには、所定の加工工程を行う際に被着体に対して十分な粘着力を有すること、所定の加工工程が終了した後の被着体から容易に剥離でき(易剥離性)ること、剥離後の被着体に粘着シートの粘着剤層が転写されない(糊残りしない)ことが求められる。
しかしながら、従来の粘着シートは、上記の条件を全て満足するものではなかった。特に、粘着シートを被着体に貼付し、200℃程度の高温で被着体の加工を行ってから、UV照射して剥離した場合に、糊残りが発生しやすいことが問題となっていた。
The re-peelable adhesive sheet has sufficient adhesive strength to the adherend when performing a predetermined processing step, and can be easily peeled off from the adherend after the predetermined processing step is completed (easy). It is required that the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet is not transferred (no adhesive remains) to the adherend after peeling.
However, the conventional adhesive sheet does not satisfy all of the above conditions. In particular, there has been a problem that adhesive residue is likely to occur when an adhesive sheet is attached to an adherend, the adherend is processed at a high temperature of about 200 ° C., and then peeled off by UV irradiation. ..

本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、粘着シートの粘着剤層を形成する材料として用いることで、被着体に対して十分な粘着力を有し、粘着シートを貼付した被着体を高温状態にしてから室温に戻し、UV照射した後に剥離しても、優れた易剥離性が得られるとともに、糊残りが発生しにくい粘着シートが得られる粘着剤組成物を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記粘着剤組成物を含む粘着剤層を有する粘着シートを提供することを課題とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and by using it as a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet, it has sufficient adhesive strength to the adherend and the pressure-sensitive adhesive sheet is attached. Provided is a pressure-sensitive adhesive composition capable of obtaining an adhesive sheet having excellent peelability and less adhesive residue even when the body is brought to a high temperature, returned to room temperature, UV-irradiated and then peeled off. Is the subject.
Another object of the present invention is to provide a pressure-sensitive adhesive sheet having a pressure-sensitive adhesive layer containing the above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition.

本発明者は、上記課題を解決するために、鋭意検討を重ねた。その結果、カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)を必須単量体成分として重合してなるカルボキシ基含有樹脂(b)と、脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)との付加反応により得た樹脂(A)と、光重合開始剤(B)とを必須成分として含有する粘着剤組成物を用いればよいことを見出した。 The present inventor has made extensive studies in order to solve the above problems. As a result, the carboxy group-containing resin (b) obtained by polymerizing the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) as an essential monomer component, and the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c). It has been found that a pressure-sensitive adhesive composition containing the resin (A) obtained by the addition reaction with and the photopolymerization initiator (B) as essential components may be used.

樹脂(A)と光重合開始剤(B)とを含有する粘着剤組成物は、樹脂(A)が脂環式化合物に由来する構造を有するため、良好な耐熱性を有する。また、上記粘着剤組成物は、紫外線(UV)を照射することにより樹脂(A)中の不飽和結合が三次元架橋構造を形成して硬化し、粘着力が変化する。具体的には、粘着剤組成物にUVを照射する前には被着体に対して十分な粘着力が得られ、UVを照射した後には粘着力が低下して優れた易剥離性が得られるとともに、剥離後の被着体への糊残りを十分に防止できる。
本発明者は、このような知見に基づいて本発明を想到した。すなわち、本発明は以下の事項に関する。
The pressure-sensitive adhesive composition containing the resin (A) and the photopolymerization initiator (B) has good heat resistance because the resin (A) has a structure derived from an alicyclic compound. Further, in the above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition, when irradiated with ultraviolet rays (UV), unsaturated bonds in the resin (A) form a three-dimensional crosslinked structure and are cured, and the adhesive strength is changed. Specifically, sufficient adhesive strength to the adherend is obtained before the pressure-sensitive adhesive composition is irradiated with UV, and the adhesive strength is reduced after irradiation with UV to obtain excellent easy peeling property. At the same time, it is possible to sufficiently prevent adhesive residue on the adherend after peeling.
The present inventor came up with the present invention based on such findings. That is, the present invention relates to the following matters.

[1]下記一般式(1−1)で示される樹脂(A)と、光重合開始剤(B)とを含むことを特徴とする粘着剤組成物。 [1] A pressure-sensitive adhesive composition comprising a resin (A) represented by the following general formula (1-1) and a photopolymerization initiator (B).

Figure 2020049829
Figure 2020049829

Figure 2020049829
(式(1−1)において、k、l、m、nは、k+l+m+n=100としたときのモル組成比を示す。kは0超〜92以下である。lは0〜50である。mは0超〜90以下である。k、l、mの合計は65〜95である。nは5〜35である。R〜Rは−Hまたは−CHである。Rは炭素数1〜16のアルキル基である。Rは炭素数3〜30の脂環式炭化水素基または炭素数6〜20の芳香族炭化水素基である。Rは−Hまたは−(CH−COOH(式中のjは1または2である。)である。Rは上記一般式(1−2)または(1−3)である。式(1−2)および(1−3)において、pおよびqは0、1、2から選ばれるいずれかである。sはpが0のときは0であり、pが1または2のときは1である。Rは−Hまたは−CHである。)
Figure 2020049829
(In the formula (1-1), k, l, m, n indicate the molar composition ratio when k + l + m + n = 100. K is more than 0 to 92 or less. L is 0 to 50. M. Is more than 0 to 90 or less. The sum of k, l, and m is 65 to 95. N is 5 to 35. R 1 to R 4 is -H or -CH 3. R 5 is carbon. It is an alkyl group having a number of 1 to 16. R 6 is an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. R 7 is −H or − (CH 2). ) J-COOH (j in the formula is 1 or 2). R 8 is the above general formula (1-2) or (1-3). Formulas (1-2) and (1- In 3), p and q are either 0, 1, or 2. s is 0 when p is 0 and 1 when p is 1 or 2. R 9 is −H. Or -CH 3. )

[2]前記樹脂(A)の重量平均分子量が20万〜100万であることを特徴とする[1]に記載の粘着剤組成物。
[3]前記式(1−1)におけるnが10〜33である[1]または[2]に記載の粘着剤組成物。
[4]前記式(1−1)におけるkが45〜90であり、lが4〜40であり、mが1〜15であることを特徴とする[1]〜[3]の何れかに記載の粘着剤組成物。
[2] The pressure-sensitive adhesive composition according to [1], wherein the resin (A) has a weight average molecular weight of 200,000 to 1,000,000.
[3] The pressure-sensitive adhesive composition according to [1] or [2], wherein n in the formula (1-1) is 10 to 33.
[4] Any of [1] to [3], wherein k in the above formula (1-1) is 45 to 90, l is 4 to 40, and m is 1 to 15. The pressure-sensitive adhesive composition according to the above.

[5]架橋剤(C)をさらに含有することを特徴とする[1]〜[4]の何れかに記載の粘着剤組成物。
[6]前記樹脂(A)のガラス転移温度が−80〜0℃であることを特徴とする[1]〜[5]の何れかに記載の粘着剤組成物。
[5] The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [1] to [4], which further contains a cross-linking agent (C).
[6] The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [1] to [5], wherein the glass transition temperature of the resin (A) is −80 to 0 ° C.

[7]シート状の基材と、前記基材上に形成された粘着剤層とを有し、前記粘着剤層が、[1]〜[6]の何れかに記載の粘着剤組成物を含むことを特徴とする粘着シート。 [7] The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of [1] to [6], which has a sheet-like base material and a pressure-sensitive adhesive layer formed on the base material. Adhesive sheet characterized by containing.

本発明の粘着剤組成物を粘着シートの粘着剤層を形成する材料として用いることで、被着体に対して十分な粘着力を有し、粘着シートを貼付した被着体を高温状態にしてから室温に戻し、UV照射した後に剥離しても、優れた易剥離性が得られるとともに、糊残りが発生しにくい粘着シートが得られる。 By using the pressure-sensitive adhesive composition of the present invention as a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet, it has sufficient adhesive strength to the adherend, and the adherend to which the pressure-sensitive adhesive sheet is attached is brought into a high temperature state. Even if the material is returned to room temperature, UV-irradiated, and then peeled off, an excellent peelable property can be obtained, and an adhesive sheet in which adhesive residue is less likely to occur can be obtained.

以下、本発明の粘着剤組成物および粘着シートについて詳細に説明する。なお、本発明は、以下に示す実施形態のみに限定されるものではない。
「粘着剤組成物」
本実施形態の粘着剤組成物は、樹脂(A)と、光重合開始剤(B)とを含む。
(樹脂(A))
本実施形態の粘着剤組成物に含まれる樹脂(A)は、下記一般式(1−1)で示される化合物である。
Hereinafter, the pressure-sensitive adhesive composition and the pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention will be described in detail. The present invention is not limited to the embodiments shown below.
"Adhesive composition"
The pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment contains a resin (A) and a photopolymerization initiator (B).
(Resin (A))
The resin (A) contained in the pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment is a compound represented by the following general formula (1-1).

Figure 2020049829
Figure 2020049829

Figure 2020049829
(式(1−1)において、k、l、m、nは、k+l+m+n=100としたときのモル組成比を示す。kは0超〜92以下である。lは0〜50である。mは0超〜90以下である。k、l、mの合計は65〜95である。nは5〜35である。R〜Rは−Hまたは−CHである。Rは炭素数1〜16のアルキル基である。Rは炭素数3〜30の脂環式炭化水素基または炭素数6〜20の芳香族炭化水素基である。Rは−Hまたは−(CH−COOH(式中のjは1または2である。)である。Rは上記一般式(1−2)または(1−3)である。式(1−2)および(1−3)において、pおよびqは0、1、2から選ばれるいずれかである。sはpが0のときは0であり、pが1または2のときは1である。Rは−Hまたは−CHである。)
Figure 2020049829
(In the formula (1-1), k, l, m, n indicate the molar composition ratio when k + l + m + n = 100. K is more than 0 to 92 or less. L is 0 to 50. M. Is more than 0 to 90 or less. The sum of k, l, and m is 65 to 95. N is 5 to 35. R 1 to R 4 is -H or -CH 3. R 5 is carbon. It is an alkyl group having a number of 1 to 16. R 6 is an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. R 7 is −H or − (CH 2). ) J-COOH (j in the formula is 1 or 2). R 8 is the above general formula (1-2) or (1-3). Formulas (1-2) and (1- In 3), p and q are either 0, 1, or 2. s is 0 when p is 0 and 1 when p is 1 or 2. R 9 is −H. Or -CH 3. )

式(1−1)において、k、l、m、nは、k+l+m+n=100としたときのモル組成比を示す。kは0超〜92以下である。lは0〜50である。mは0超〜90以下である。k、l、mの合計は65〜95である。k、l、mの合計が65以上であると、UV照射前に被着体に対して十分な粘着性が得られる粘着剤組成物となる。k、l、mの合計は70〜94であることが好ましく、80〜90であることがより好ましい。 In formula (1-1), k, l, m, and n indicate the molar composition ratio when k + l + m + n = 100. k is more than 0 to 92 or less. l is 0 to 50. m is more than 0 to 90 or less. The total of k, l and m is 65-95. When the total of k, l, and m is 65 or more, the pressure-sensitive adhesive composition has sufficient adhesiveness to the adherend before UV irradiation. The total of k, l, and m is preferably 70 to 94, more preferably 80 to 90.

式(1−1)において、kでくくられる( )内で示される繰り返し単位(以下、「繰り返し単位k」という。)は、必須の繰り返し単位である。繰り返し単位kは、UV照射前の粘着剤組成物の粘着力に寄与する。繰り返し単位kの繰り返し数kは、0超〜92以下であり、45〜90であることが好ましく、60〜88がより好ましい。 In the formula (1-1), the repeating unit shown in () enclosed in k (hereinafter, referred to as “repeating unit k”) is an essential repeating unit. The repeating unit k contributes to the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition before UV irradiation. The number of repetitions k of the repeating unit k is more than 0 to 92 or less, preferably 45 to 90, and more preferably 60 to 88.

式(1−1)においては、lでくくられる( )内で示される繰り返し単位(以下、「繰り返し単位l」という。)はなくてもよい。言い換えると、繰り返し単位lの繰り返し数は0でもよい。
繰り返し単位lは、粘着剤組成物の耐熱性に寄与する。繰り返し単位lの繰り返し数lは、0〜50であり、4〜40であることが好ましく、5〜30であることがより好ましい。
In the formula (1-1), the repeating unit shown in () enclosed in l (hereinafter, referred to as “repeating unit l”) may not be provided. In other words, the number of repetitions of the repeating unit l may be 0.
The repeating unit l contributes to the heat resistance of the pressure-sensitive adhesive composition. The number of repetitions l of the repeating unit l is 0 to 50, preferably 4 to 40, and more preferably 5 to 30.

式(1−1)において、mでくくられる( )内で示される繰り返し単位(以下、「繰り返し単位m」という。)は、必須の繰り返し単位である。繰り返し単位mは、UV照射前の粘着剤組成物の粘着力および耐熱性に寄与する。また、粘着剤組成物がカルボキシ基と反応する官能基を有する架橋剤を含む場合、繰り返し単位mは、架橋剤と反応して粘着剤組成物の凝集力を向上させる。繰り返し単位mの繰り返し数mは、0超〜90以下であり、1〜15であることが好ましく、1〜5がより好ましい。 In the formula (1-1), the repeating unit shown in () enclosed in m (hereinafter, referred to as “repeating unit m”) is an essential repeating unit. The repeating unit m contributes to the adhesive strength and heat resistance of the pressure-sensitive adhesive composition before UV irradiation. When the pressure-sensitive adhesive composition contains a cross-linking agent having a functional group that reacts with a carboxy group, the repeating unit m reacts with the cross-linking agent to improve the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive composition. The number of repetitions m of the repeating unit m is more than 0 to 90 or less, preferably 1 to 15, and more preferably 1 to 5.

式(1−1)において、nでくくられる( )内で示される繰り返し単位(以下、「繰り返し単位n」という。)は、必須の繰り返し単位である。繰り返し単位nは、粘着剤組成物の耐熱性に寄与する。繰り返し単位nの繰り返し数nは5〜35であり、10〜33であることが好ましく、10〜20がより好ましい。繰り返し単位nが35以下であると、UV照射することにより樹脂(A)中の不飽和結合が三次元架橋構造を形成して硬化し、粘着力が適切な範囲に低下する粘着剤組成物となる。また、nが5以上であると、脂環式化合物に由来する構造に起因する耐熱性向上効果が得られる。 In the formula (1-1), the repeating unit shown in () enclosed in n (hereinafter, referred to as “repeating unit n”) is an essential repeating unit. The repeating unit n contributes to the heat resistance of the pressure-sensitive adhesive composition. The number of repetitions n of the repeating unit n is 5 to 35, preferably 10 to 33, and more preferably 10 to 20. When the repeating unit n is 35 or less, the unsaturated bond in the resin (A) forms a three-dimensional crosslinked structure and is cured by UV irradiation, and the adhesive strength is reduced to an appropriate range. Become. Further, when n is 5 or more, the effect of improving heat resistance due to the structure derived from the alicyclic compound can be obtained.

これらの各繰り返し単位が寄与する機能の相乗効果により、樹脂(A)を含む粘着剤組成物は、紫外線(UV)照射前の粘着力とUV照射後の粘着力とのバランスがより一層良好となる。その結果、UV照射前には被着体に対して十分な粘着力が得られ、UV照射後には粘着力が低下してより優れた易剥離性が得られる粘着剤組成物となる。しかも、この粘着剤組成物は、UV照射前に高温状態にしてから室温に戻しても粘着力が高くなり過ぎることがなく、UV照射後に優れた易剥離性が得られるとともに、剥離後の被着体への糊残りが生じにくい。 Due to the synergistic effect of the functions contributed by each of these repeating units, the pressure-sensitive adhesive composition containing the resin (A) has a better balance between the adhesive strength before ultraviolet (UV) irradiation and the adhesive strength after UV irradiation. Become. As a result, a pressure-sensitive adhesive composition is obtained in which sufficient adhesive strength is obtained for the adherend before UV irradiation, and the adhesive strength is reduced after UV irradiation to obtain more excellent peelability. Moreover, this pressure-sensitive adhesive composition does not have an excessively high adhesive strength even when the temperature is raised to a high temperature before UV irradiation and then returned to room temperature, and excellent peelability after UV irradiation can be obtained, and the coating after peeling can be obtained. Adhesive residue on the body is unlikely to occur.

繰り返し単位kにおいて、Rは−Hまたは−CHであり、−Hであることが好ましい。Rは炭素数1〜16のアルキル基であり、炭素数1〜8のアルキル基であることが好ましく、特に炭素数2、4または8のアルキル基であることが好ましい。In the repeating unit k, R 1 is −H or −CH 3 and is preferably −H. R 5 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 2, 4 or 8 carbon atoms.

繰り返し単位kは、R、Rの異なる複数種の繰り返し単位であってもよい。繰り返し単位kが、複数種の繰り返し単位を含む場合、繰り返し単位kのモル組成比kは、複数種の繰り返し単位のモル組成比の合計を示す。例えば、繰り返し単位kが、Rおよび/またはRの異なる繰り返し単位AおよびBを含み、繰り返し単位Aのモル組成比が2モル%、繰り返し単位Bのモル組成比が3モル%である場合、繰り返し数kのモル組成比kは繰り返し単位Aと繰り返し単位Bのモル組成比を合計して「5」となる。Repeating units k may be a repeating unit of a plurality of types having different R 1, R 5. When the repeating unit k includes a plurality of types of repeating units, the molar composition ratio k of the repeating unit k indicates the total of the molar composition ratios of the plurality of types of repeating units. For example, when the repeating unit k includes different repeating units A and B of R 1 and / or R 5 , the molar composition ratio of the repeating unit A is 2 mol%, and the molar composition ratio of the repeating unit B is 3 mol%. The molar composition ratio k of the number of repetitions k is "5" by summing the molar composition ratios of the repeating unit A and the repeating unit B.

繰り返し単位lにおいて、Rは−Hまたは−CHであり、−Hであることが好ましい。Rは炭素数3〜30の脂環式炭化水素基または炭素数6〜20の芳香族炭化水素基であり、炭素数6〜20の脂環式炭化水素基または炭素数6〜10の芳香族炭化水素基が好ましい。
繰り返し単位lは、R、Rの異なる複数種の繰り返し単位であってもよい。繰り返し単位lが、複数種の繰り返し単位を含む場合、繰り返し単位lのモル組成比lは、複数種の繰り返し単位のモル組成比の合計を示す。
In the repeating unit l, R 2 is −H or −CH 3 and is preferably −H. R 6 is an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and is an alicyclic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms. Group hydrocarbon groups are preferred.
Repeating units l may be a repeating unit of a plurality of types having different R 2, R 6. When the repeating unit l includes a plurality of types of repeating units, the molar composition ratio l of the repeating unit l indicates the total of the molar composition ratios of the plurality of types of repeating units.

繰り返し単位mにおいて、Rは−Hまたは−CHであり、−Hであることが好ましい。Rは−Hまたは−(CH−COOH(式中のjは1または2である。)であり、−Hであることが好ましい。
繰り返し単位mは、R、Rの異なる複数種の繰り返し単位であってもよい。この場合、繰り返し単位mのモル組成比mは、複数種の繰り返し単位のモル組成比の合計を示す。
In the repeating unit m, R 3 is −H or −CH 3 and is preferably −H. R 7 is −H or − (CH 2 ) j −COOH (j in the formula is 1 or 2), preferably −H.
Repeating units m may be a repeating unit of a plurality of types having different R 3, R 7. In this case, the molar composition ratio m of the repeating unit m indicates the total of the molar composition ratios of the plurality of types of repeating units.

繰り返し単位nにおいて、Rは−Hまたは−CHであり、−Hであることが好ましい。Rは式(1−2)または(1−3)である。式(1−2)または(1−3)で示される基は、いずれも脂環式化合物に由来する構造を含み、粘着剤組成物の耐熱性を向上させる機能を有する。式(1−2)または(1−3)において、pおよびqは0、1、2から選ばれるいずれかである。sはpが0のときは0であり、pが1または2のときは1である。Rは−Hまたは−CHである。
繰り返し単位nは、R、Rの異なる複数種の繰り返し単位であってもよい。この場合、繰り返し単位nのモル組成比nは、複数種の繰り返し単位のモル組成比の合計を示す。
In the repeating unit n, R 4 is -H or -CH 3, preferably a -H. R 8 is of formula (1-2) or (1-3). Each of the groups represented by the formula (1-2) or (1-3) contains a structure derived from an alicyclic compound and has a function of improving the heat resistance of the pressure-sensitive adhesive composition. In formula (1-2) or (1-3), p and q are either 0, 1, or 2. s is 0 when p is 0 and 1 when p is 1 or 2. R 9 is -H or -CH 3 .
The repeating unit n may be a plurality of different types of repeating units of R 4 and R 8. In this case, the molar composition ratio n of the repeating unit n indicates the total of the molar composition ratios of the plurality of types of repeating units.

式(1−1)で示される樹脂(A)は、繰り返し単位kと、繰り返し単位lと、繰り返し単位mと、繰り返し単位nとからなるランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体のいずれであってもよい。式(1−1)で示される樹脂(A)は、繰り返し単位lを含まなくてもよく、繰り返し単位kと、繰り返し単位mと、繰り返し単位nとからなるランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体のいずれであってもよい。 The resin (A) represented by the formula (1-1) is a random copolymer, a block copolymer, or an alternating copolymer composed of a repeating unit k, a repeating unit l, a repeating unit m, and a repeating unit n. It may be any of. The resin (A) represented by the formula (1-1) does not have to contain the repeating unit l, and is a random copolymer or block copolymer composed of the repeating unit k, the repeating unit m, and the repeating unit n. , Alternate copolymers may be used.

樹脂(A)の重量平均分子量は、20万〜100万であることが好ましく、より好ましくは30万〜80万である。樹脂(A)の重量平均分子量が20万以上であると、粘着剤組成物を含む粘着剤層を有する粘着シートを被着体に貼り付けた後に剥離した場合に、粘着剤層が被着体により一層残存しにくくなる。樹脂(A)の重量平均分子量が100万以下であると、樹脂(A)の粘度が高くなりすぎず、作業性が良いという効果が得られる。樹脂(A)の重量平均分子量は、実施例に記載の方法で測定した値である。 The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 200,000 to 1,000,000, more preferably 300,000 to 800,000. When the weight average molecular weight of the resin (A) is 200,000 or more, the pressure-sensitive adhesive layer is attached to the adherend when the pressure-sensitive adhesive sheet having the pressure-sensitive adhesive layer containing the pressure-sensitive adhesive composition is attached to the adherend and then peeled off. It becomes more difficult to remain. When the weight average molecular weight of the resin (A) is 1 million or less, the viscosity of the resin (A) does not become too high, and the effect of good workability can be obtained. The weight average molecular weight of the resin (A) is a value measured by the method described in Examples.

樹脂(A)のガラス転移温度(Tg)は、−80〜0℃であることが好ましく、より好ましくは−60〜−10℃、さらに好ましくは−50〜−10℃である。樹脂(A)のガラス転移温度が−80℃〜0℃の範囲であると、UV照射前の粘着剤組成物の粘着力が良好となる。樹脂(A)のTgは、実施例に記載の方法で測定した値である。
樹脂(A)の酸価は、0超〜20mgKOH/gであることが好ましく、3〜10mgKOH/gであることがより好ましい。樹脂(A)の酸価が0超〜20mgKOH/gの範囲内であると、加熱後の被着体汚染(糊残り)が無く良好となる。また、粘着剤組成物が架橋剤を含む場合、樹脂(A)の酸価が上記範囲内であると、樹脂(A)と架橋剤とが反応して粘着剤組成物の凝集力が良好となる。樹脂(A)の酸価は、実施例に記載の方法で測定した値である。
The glass transition temperature (Tg) of the resin (A) is preferably −80 to 0 ° C., more preferably −60 to −10 ° C., and even more preferably −50 to −10 ° C. When the glass transition temperature of the resin (A) is in the range of −80 ° C. to 0 ° C., the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition before UV irradiation becomes good. The Tg of the resin (A) is a value measured by the method described in Examples.
The acid value of the resin (A) is preferably more than 0 to 20 mgKOH / g, and more preferably 3 to 10 mgKOH / g. When the acid value of the resin (A) is in the range of more than 0 to 20 mgKOH / g, there is no adhesion contamination (glue residue) after heating, which is good. Further, when the pressure-sensitive adhesive composition contains a cross-linking agent, when the acid value of the resin (A) is within the above range, the resin (A) reacts with the cross-linking agent and the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive composition is good. Become. The acid value of the resin (A) is a value measured by the method described in Examples.

(樹脂(A)の製造方法)
本実施形態の粘着剤組成物に含まれる樹脂(A)は、例えば、以下に示す方法により製造できる。
まず、カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)と、エチレン性不飽和単量体(d)とを含む原料単量体を重合し、カルボキシ基含有樹脂(b)を製造する。ここで、エチレン性不飽和単量体(d)は、重合後に、繰り返し単位kを形成する単量体を含み、繰り返し単位lの骨格を形成する単量体を含むものであってもよい。
次に、カルボキシ基含有樹脂(b)と、特定の脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)との付加反応により、樹脂(A)を製造する。
(Manufacturing method of resin (A))
The resin (A) contained in the pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment can be produced, for example, by the method shown below.
First, a raw material monomer containing a carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) and an ethylenically unsaturated monomer (d) is polymerized to produce a carboxy group-containing resin (b). Here, the ethylenically unsaturated monomer (d) may contain a monomer that forms the repeating unit k after polymerization, and may contain a monomer that forms the skeleton of the repeating unit l.
Next, the resin (A) is produced by an addition reaction between the carboxy group-containing resin (b) and the specific alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c).

(カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a))
カルボキシ基含有樹脂(b)を製造する際に使用するカルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)は、重合することで繰り返し単位mの骨格を形成する単量体である。カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)は、1個のカルボキシ基を有する。
カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)としては、例えば、(メタ)アクリル酸、β−カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、等が例示できる。
これらの中でも、カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)としては、反応性の点で、(メタ)アクリル酸および/またはβ−カルボキシエチル(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。
(Carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a))
The carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) used in producing the carboxy group-containing resin (b) is a monomer that forms a skeleton of a repeating unit m by polymerization. The carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) has one carboxy group.
Examples of the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) include (meth) acrylic acid, β-carboxyethyl (meth) acrylate, and carboxypentyl (meth) acrylate.
Among these, as the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a), it is preferable to use (meth) acrylic acid and / or β-carboxyethyl (meth) acrylate in terms of reactivity.

本明細書中で(メタ)アクリルとは、「アクリル」または「メタクリル」を意味する。(メタ)アクリレートとは、「アクリレート」または「メタクリレート」を意味する。 As used herein, the term (meth) acrylic means "acrylic" or "methacryl". The (meth) acrylate means "acrylate" or "methacrylate".

(カルボキシ基含有樹脂(b))
カルボキシ基含有樹脂(b)は、カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)と、カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)と共重合可能なエチレン性不飽和単量体(d)とを少なくとも含む原料単量体を共重合したものである。
カルボキシ基含有樹脂(b)は、式(1−1)で示される樹脂(A)の骨格となる成分である。繰り返し単位kと、繰り返し単位lと、繰り返し単位mは、いずれもカルボキシ基含有樹脂(b)に由来する繰り返し単位である。
(Carboxylic group-containing resin (b))
The carboxy group-containing resin (b) is an ethylenically unsaturated monomer (a) that is copolymerizable with the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) and the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a). It is a copolymer of a raw material monomer containing at least d).
The carboxy group-containing resin (b) is a component that serves as a skeleton of the resin (A) represented by the formula (1-1). The repeating unit k, the repeating unit l, and the repeating unit m are all repeating units derived from the carboxy group-containing resin (b).

エチレン性不飽和単量体(d)としては、重合することで繰り返し単位kの骨格を形成する単量体を1種以上用いる。エチレン性不飽和単量体(d)として、重合することで繰り返し単位kの骨格を形成する単量体とともに、重合することで繰り返し単位lの骨格を形成する単量体を1種以上用いてもよい。 As the ethylenically unsaturated monomer (d), one or more kinds of monomers that form a skeleton of the repeating unit k by polymerization are used. As the ethylenically unsaturated monomer (d), one or more kinds of monomers that form a skeleton of a repeating unit k by polymerization and one or more monomers that form a skeleton of a repeating unit l by polymerization are used. May be good.

重合することで繰り返し単位kの骨格を形成するエチレン性不飽和単量体(d)は、炭素数1〜16のアルキル(メタ)アクリレートであり、粘着剤組成物の剥離強度の調整の観点から、炭素数2〜16のアルキル(メタ)アクリレートを含むことが好ましく、炭素数4〜12のアルキル(メタ)アクリレートを含むことがより好ましい。具体的には、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらのなかでも、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレートが好ましい。 The ethylenically unsaturated monomer (d) that forms the skeleton of the repeating unit k by polymerization is an alkyl (meth) acrylate having 1 to 16 carbon atoms, and from the viewpoint of adjusting the peel strength of the pressure-sensitive adhesive composition. , It is preferable to contain an alkyl (meth) acrylate having 2 to 16 carbon atoms, and more preferably to contain an alkyl (meth) acrylate having 4 to 12 carbon atoms. Specifically, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl. Examples thereof include (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, and lauryl (meth) acrylate. Among these, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and isooctyl (meth) acrylate are preferable.

重合することで繰り返し単位lの骨格を形成するエチレン性不飽和単量体(d)としては、例えば、炭素数3〜30の環状アルキル基含有(メタ)アクリレート、炭素数6〜20の芳香族基含有(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the ethylenically unsaturated monomer (d) that forms the skeleton of the repeating unit l by polymerization include a cyclic alkyl group-containing (meth) acrylate having 3 to 30 carbon atoms and an aromatic having 6 to 20 carbon atoms. Group-containing (meth) acrylate and the like can be mentioned.

重合することで繰り返し単位lの骨格を形成するエチレン性不飽和単量体(d)として用いられる炭素数3〜30の環状アルキル基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ノルボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ノルボルナニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも特に、イソボルニル(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。カルボキシ基含有樹脂(b)の原料単量体中に環状アルキル(メタ)アクリレートが含まれていると、カルボキシ基含有樹脂(b)を用いて製造した樹脂(A)を含む粘着剤組成物の耐熱性が良好となる。 Examples of the cyclic alkyl group-containing (meth) acrylate having 3 to 30 carbon atoms used as the ethylenically unsaturated monomer (d) that forms the skeleton of the repeating unit l by polymerization include cyclohexyl (meth) acrylate. Norbornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, norbornanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentanyloxy Examples thereof include ethyl (meth) acrylate and tricyclodecanedimethylol di (meth) acrylate. Among these, it is particularly preferable to use isobornyl (meth) acrylate. When the cyclic alkyl (meth) acrylate is contained in the raw material monomer of the carboxy group-containing resin (b), the pressure-sensitive adhesive composition containing the resin (A) produced using the carboxy group-containing resin (b). Good heat resistance.

重合することで繰り返し単位lの骨格を形成するエチレン性不飽和単量体(d)として用いられる炭素数6〜20の芳香族基含有(メタ)アクリレートとしては、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも特に、ベンジル(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。カルボキシ基含有樹脂(b)の原料単量体中に芳香族基含有(メタ)アクリレートが含まれていると、カルボキシ基含有樹脂(b)を用いて製造した樹脂(A)を含む粘着剤組成物の耐熱性が良好となる。 Examples of the aromatic group-containing (meth) acrylate having 6 to 20 carbon atoms used as the ethylenically unsaturated monomer (d) that forms the skeleton of the repeating unit l by polymerization are benzyl (meth) acrylate and phenoxyethyl. Examples thereof include (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypropyl (meth) acrylate, and phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate. Among these, it is particularly preferable to use benzyl (meth) acrylate. When the raw material monomer of the carboxy group-containing resin (b) contains an aromatic group-containing (meth) acrylate, the pressure-sensitive adhesive composition containing the resin (A) produced using the carboxy group-containing resin (b). The heat resistance of the object is improved.

カルボキシ基含有樹脂(b)の原料単量体中には、上記のカルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)および上記のエチレン性不飽和単量体(d)だけでなく、上記のエチレン性不飽和単量体(d)以外の、カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)と共重合可能な単量体が含まれていてもよい。 In the raw material monomer of the carboxy group-containing resin (b), not only the above-mentioned carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) and the above-mentioned ethylenically unsaturated monomer (d), but also the above-mentioned above-mentioned ethylenically unsaturated monomer (d) A monomer copolymerizable with the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) other than the ethylenically unsaturated monomer (d) may be contained.

上記のエチレン性不飽和単量体(d)以外の、カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)と共重合可能なエチレン性不飽和単量体としては、アルコキシアルキル(メタ)アクリレート、アルコキシ(ポリ)アルキレングリコール(メタ)アクリレート、ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレート、フッ素化アルキル(メタ)アクリレート、ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。 Examples of the ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) other than the above ethylenically unsaturated monomer (d) include alkoxyalkyl (meth) acrylate. Examples thereof include alkoxy (poly) alkylene glycol (meth) acrylate, hydroxy group-containing (meth) acrylate, fluorinated alkyl (meth) acrylate, dialkylaminoalkyl (meth) acrylate, and (meth) acrylamide.

アルコキシアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the alkoxyalkyl (meth) acrylate include ethoxyethyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxyethoxyethyl (meth) acrylate, and 2-ethoxyethoxyethyl (meth). Examples include acrylate.

アルコキシ(ポリ)アルキレングリコール(メタ)アクリレートとしては、例えば、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the alkoxy (poly) alkylene glycol (meth) acrylate include methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, and methoxydipropylene glycol (meth) acrylate.

ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオール(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオール(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、3−メチルペンタンジオール(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the hydroxy group-containing (meth) acrylate include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 1,3-butanediol (meth) acrylate. Examples thereof include 1,4-butanediol (meth) acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, and 3-methylpentanediol (meth) acrylate.

フッ素化アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Examples of the fluorinated alkyl (meth) acrylate include octafluoropentyl (meth) acrylate.
Examples of the dialkylaminoalkyl (meth) acrylate include N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate and N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate.

(メタ)アクリルアミドとしては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N−ヘキシル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミド等が挙げられる。 Examples of (meth) acrylamide include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-isopropylacrylamide, and N-hexyl (meth) acrylamide. , N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholin, diacetone acrylamide and the like.

エチレン性不飽和単量体(d)以外の、カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)と共重合可能な単量体の上記以外の具体例として、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アルキルビニルエーテル、ビニルトルエン、N−ビニルピリジン、N−ビニルピロリドン、イタコン酸ジアルキルエステル、フマル酸ジアルキルエステル、アリルアルコール、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテルまたはジエチレングリコールモノビニルエーテル、メチルビニルケトン、アリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジメチルアリルビニルケトン等が挙げられる。 Specific examples of the monomer copolymerizable with the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) other than the ethylenically unsaturated monomer (d) include acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene, and the like. α-Methylstyrene, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl stearate, vinyl chloride, vinylidene chloride, alkyl vinyl ether, vinyl toluene, N-vinylpyridine, N-vinylpyrrolidone, itaconic acid dialkyl ester, fumaric acid dialkyl ester, allyl alcohol , Hydroxybutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxymethylcyclohexylmethylvinyl ether, triethylene glycol monovinyl ether or diethylene glycol monovinyl ether, methylvinyl ketone, allyltrimethylammonium chloride, dimethylallylvinyl ketone and the like.

カルボキシ基含有樹脂(b)を製造する方法としては、特に限定されない。
例えば、カルボキシ基含有樹脂(b)の構成成分となるカルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)とエチレン性不飽和単量体(d)とを含む原料単量体を、公知の重合方法により共重合することにより得られる。
具体的には、重合方法として、溶液重合法、乳化重合法、塊状重合法、懸濁重合法、交互共重合法などを用いることができる。これらの重合方法の中でも、重合後に得られるカルボキシ基含有樹脂(b)と脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)との付加反応を考慮すると、反応のし易さの点で溶液重合法を用いることが好ましい。
The method for producing the carboxy group-containing resin (b) is not particularly limited.
For example, a known polymerization of a raw material monomer containing a carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) and an ethylenically unsaturated monomer (d), which are constituents of the carboxy group-containing resin (b). It is obtained by copolymerizing by the method.
Specifically, as the polymerization method, a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a lump polymerization method, a suspension polymerization method, an alternating copolymerization method and the like can be used. Among these polymerization methods, considering the addition reaction between the carboxy group-containing resin (b) obtained after the polymerization and the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c), the solution is easy to react. It is preferable to use a polymerization method.

溶液重合法によりカルボキシ基含有樹脂(b)を製造する際には、必要に応じて、ラジカル重合開始剤および/または溶媒を用いる。
ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものの中から適宜選択して使用できる。
ラジカル重合開始剤としては、例えば、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)等のアゾ系重合開始剤;ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジクミルパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン等の過酸化物系重合開始剤などの油溶性重合開始剤が例示される。
When the carboxy group-containing resin (b) is produced by the solution polymerization method, a radical polymerization initiator and / or a solvent is used, if necessary.
The radical polymerization initiator is not particularly limited, and can be appropriately selected and used from known ones.
Examples of the radical polymerization initiator include 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), and 2,2'-azobis (2). , 4-Dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2,2'-azobis (2,4,4) -Trimethylpentane), azo-based polymerization initiators such as dimethyl-2,2'-azobis (2-methylpropionate); benzoyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, t- Peroxides such as butylperoxybenzoate, dicumyl peroxide, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclododecane, etc. An oil-soluble polymerization initiator such as a system polymerization initiator is exemplified.

これらのラジカル重合開始剤は、単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
ラジカル重合開始剤の使用量は、カルボキシ基含有樹脂(b)の原料単量体の合計100質量部に対して、0.01〜5質量部であることが好ましく、0.02〜4質量部であることがより好ましく、0.03〜3質量部であることがさらに好ましい。
These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
The amount of the radical polymerization initiator used is preferably 0.01 to 5 parts by mass, preferably 0.02 to 4 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total of the raw material monomers of the carboxy group-containing resin (b). Is more preferable, and 0.03 to 3 parts by mass is further preferable.

カルボキシ基含有樹脂(b)を製造する際に用いる重合用の溶媒としては、一般的な各種の溶媒を用いることができる。溶媒としては、例えば、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコールなどのグリコール類、メチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのグリコールエステル類が挙げられる。
これらの溶媒は、単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
As the polymerization solvent used in producing the carboxy group-containing resin (b), various general solvents can be used. Examples of the solvent include esters such as ethyl acetate, n-propyl acetate and n-butyl acetate, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and benzene, and aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane. , Cyclohexane, alicyclic hydrocarbons such as methylcyclohexane, ketones such as methylethylketone, methylisobutylketone, glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, methyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl Examples thereof include glycol ethers such as ethers, and glycol esters such as ethylene glycol diacetate and propylene glycol monomethyl ether acetate.
These solvents may be used alone or in combination of two or more.

カルボキシ基含有樹脂(b)を製造する際には、カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)と、エチレン性不飽和単量体(d)と、必要に応じて含有されるその他の単量体とを含む原料単量体中におけるカルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)の含有量を、5〜40質量%とすることが好ましく、7〜30質量%がより好ましく、10〜25質量%がさらに好ましい。原料単量体中におけるカルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)の含有量を上記範囲とすることで、カルボキシ基含有樹脂(b)と脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)との付加反応により製造した樹脂(A)を含む粘着剤組成物から得られる粘着層のUV照射前の粘着力が良好となる。 When producing the carboxy group-containing resin (b), the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a), the ethylenically unsaturated monomer (d), and other components contained as necessary. The content of the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) in the raw material monomer containing the monomer is preferably 5 to 40% by mass, more preferably 7 to 30% by mass. 10 to 25% by mass is more preferable. By setting the content of the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) in the raw material monomer within the above range, the carboxy group-containing resin (b) and the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound ( The adhesive strength of the adhesive layer obtained from the adhesive composition containing the resin (A) produced by the addition reaction with c) before UV irradiation is improved.

(脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c))
脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)は、脂環式エポキシ基を有するエチレン性不飽和基含有化合物であって、一般式(1−2)または一般式(1−3)の構造を与える化合物である。本実施形態における脂環式エポキシ基とは、脂環式炭化水素化合物の環上の隣接する2個の炭素原子に1個の酸素が結合して形成されるエポキシ基をいう。
脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)は、式(1−1)で示される感光性樹脂(A)の繰り返し単位nにおける下記部分構造式(1−2’)または(1−3’)を付加するために用いられる。式(1−1)中の繰り返し単位nにおける部分構造式(1−2’)または(1−3’)は、脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)に由来する基である。
(Alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c))
The alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) is an ethylenically unsaturated group-containing compound having an alicyclic epoxy group, and is of the general formula (1-2) or the general formula (1-3). It is a compound that gives a structure. The alicyclic epoxy group in the present embodiment means an epoxy group formed by bonding one oxygen to two adjacent carbon atoms on the ring of the alicyclic hydrocarbon compound.
The alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) is the following partial structural formula (1-2') or (1-2-') in the repeating unit n of the photosensitive resin (A) represented by the formula (1-1). It is used to add 3'). The partial structural formula (1-2') or (1-3') in the repeating unit n in the formula (1-1) is a group derived from the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c). ..

Figure 2020049829
(式(1−2’)および(1−3’)において、qは0、1、2から選ばれるいずれかである。Rは−Hまたは−CHである。)
Figure 2020049829
(In equations (1-2') and (1-3'), q is either 0, 1, or 2. R 9 is -H or -CH 3. )

脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)としては、例えば、下記式(1)または(2)で示される化合物が挙げられる。 Examples of the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) include compounds represented by the following formulas (1) or (2).

Figure 2020049829
(式(1)において、Rは−Hまたは−CHである。qは0、1、2から選ばれるいずれかである。)
(式(2)において、Rは−Hまたは−CHである。qは0、1、2から選ばれるいずれかである。)
Figure 2020049829
(In formula (1), R 9 is -H or -CH 3. q is either 0, 1, or 2.)
(In equation (2), R 9 is -H or -CH 3. q is either 0, 1, or 2.)

式(1)において、Rは−Hまたは−CHである。qは0、1、2から選ばれるいずれかであり、qが1であることが好ましい。
式(2)において、Rは−Hまたは−CHである。qは0、1、2から選ばれるいずれかであり、qが1であることが好ましい。
In formula (1), R 9 is -H or -CH 3 . q is any one selected from 0, 1, and 2, and q is preferably 1.
In formula (2), R 9 is -H or -CH 3 . q is any one selected from 0, 1, and 2, and q is preferably 1.

脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)としては、式(1)で示される化合物であることが好ましく、特に、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートを用いることが好ましい。
脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)は、1種のみ単独で用いてもよいし、2種以上組み合わせて用いてもよい。
The alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) is preferably a compound represented by the formula (1), and particularly preferably 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate.
The alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) may be used alone or in combination of two or more.

本実施形態の樹脂(A)は、カルボキシ基含有樹脂(b)のカルボキシ基に、脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和単量体(c)の脂環式エポキシ基を付加反応させることによって製造できる。
樹脂(A)は、カルボキシ基含有樹脂(b)のカルボキシ基1molに対して好ましくは0.2〜0.99mol、より好ましくは0.3〜0.95mol、さらに好ましくは0.6〜0.95molの脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)を付加反応させて製造することが好ましい。カルボキシ基含有樹脂(b)と脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)とを上記の割合で用いて得られた樹脂(A)を含む粘着剤組成物は、UV照射前には被着体に対して十分な粘着性が得られ、UV照射後には粘着力が低下してより優れた易剥離性が得られる。しかも、この粘着剤組成物は、UV照射前に高温状態にしてから室温に戻しても粘着力が高くなりにくく、UV照射後に優れた易剥離性が得られるとともに、剥離後の被着体への糊残りをより効果的に防止できる。
The resin (A) of the present embodiment is obtained by subjecting the carboxy group of the carboxy group-containing resin (b) to an addition reaction of the alicyclic epoxy group of the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (c). Can be manufactured.
The resin (A) is preferably 0.2 to 0.99 mol, more preferably 0.3 to 0.95 mol, still more preferably 0.6 to 0, based on 1 mol of the carboxy group of the carboxy group-containing resin (b). It is preferably produced by an addition reaction of 95 mol of an alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c). The pressure-sensitive adhesive composition containing the resin (A) obtained by using the carboxy group-containing resin (b) and the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) in the above ratios is prepared before UV irradiation. Sufficient adhesiveness to the adherend is obtained, and after UV irradiation, the adhesive strength is reduced and more excellent peelability can be obtained. Moreover, this pressure-sensitive adhesive composition does not easily increase its adhesive strength even when it is heated to a high temperature before UV irradiation and then returned to room temperature, and excellent peelability can be obtained after UV irradiation, and it can be applied to an adherend after peeling. It is possible to prevent the adhesive residue of the material more effectively.

樹脂(A)を製造する際における付加反応の温度は、80〜130℃であることが好ましく、特に90〜120℃であることが好ましい。付加反応の温度が80℃以上であると、十分な反応速度が得られる。付加反応の温度が130℃以下であると、熱によるラジカル重合によって二重結合部が架橋し、ゲル化物が生じることを防止できる。 The temperature of the addition reaction in producing the resin (A) is preferably 80 to 130 ° C, particularly preferably 90 to 120 ° C. When the temperature of the addition reaction is 80 ° C. or higher, a sufficient reaction rate can be obtained. When the temperature of the addition reaction is 130 ° C. or lower, it is possible to prevent the double bond portion from being crosslinked by radical polymerization by heat to form a gelled product.

樹脂(A)を製造する際における付加反応には、必要に応じて、公知の触媒を使用できる。触媒としては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノナ−5−エン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン等の3級アミン、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムブロマイドなどの4級アンモニウム塩、テトラメチル尿素などのアルキル尿素、テトラメチルグアニジンなどのアルキルグアニジン、トリフェニルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン、トリス(4−メトキシフェニル)ホスフィン、トリス(2,6−ジメチルフェニル)ホスフィン、トリス(2,6−ジメトキシフェニル)ホスフィン、トリス(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフィン、トリス(2,4,6−トリメトキシフェニル)ホスフィンなどのホスフィン化合物などが挙げられる。
付加反応の触媒としては、上記の中でも、反応性の点でホスフィン化合物を用いることが好ましい。
A known catalyst can be used for the addition reaction in producing the resin (A), if necessary. Examples of the catalyst include triethylamine, tributylamine, dimethylbenzylamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] nona-5-ene. , Tertiary amines such as 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetrabutylammonium bromide, alkylurea such as tetramethylurea, tetra Alkylguanidines such as methylguanidine, triphenylphosphine, dimethylphenylphosphine, tricyclohexylphosphine, tributylphosphine, tris (4-methylphenyl) phosphine, tris (4-methoxyphenyl) phosphine, tris (2,6-dimethylphenyl) phosphine , Tris (2,6-dimethoxyphenyl) phosphine, tris (2,4,6-trimethylphenyl) phosphine, tris (2,4,6-trimethoxyphenyl) phosphine and other phosphine compounds.
Among the above, it is preferable to use a phosphine compound as a catalyst for the addition reaction in terms of reactivity.

付加反応における触媒の使用量は、カルボキシ基含有樹脂(b)と脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和単量体(c)との合計100質量部に対して、0.01〜30質量部が好ましく、0.05〜5質量部がさらに好ましく、0.1〜2質量部が最も好ましい。 The amount of the catalyst used in the addition reaction is 0.01 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the carboxy group-containing resin (b) and the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (c). Is preferable, 0.05 to 5 parts by mass is more preferable, and 0.1 to 2 parts by mass is most preferable.

さらに、付加反応時には、重合禁止効果のあるガスを反応系中に導入したり、重合禁止剤を添加したりしてもよい。重合禁止効果のあるガスを反応系中に導入したり、重合禁止剤を添加したりすることにより、付加反応時のゲル化を防ぐことができる。
重合禁止効果のあるガスとしては、系内物質の爆発範囲に入らない程度の酸素を含むガス、例えば、空気などが挙げられる。
Further, at the time of the addition reaction, a gas having a polymerization inhibitory effect may be introduced into the reaction system, or a polymerization inhibitor may be added. By introducing a gas having a polymerization inhibitory effect into the reaction system or adding a polymerization inhibitor, gelation during the addition reaction can be prevented.
Examples of the gas having a polymerization inhibitory effect include a gas containing oxygen that does not fall within the explosive range of the substance in the system, for example, air.

重合禁止剤としては、公知のものを使用することができ、特に制限はされないが、例えば、4−メトキシフェノール、ヒドロキノン、メトキノン、2,6−ジ−t−ブチルフェノール、2,2’―メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、フェノチアジン等が挙げられる。これら重合禁止剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 As the polymerization inhibitor, known ones can be used and are not particularly limited, but for example, 4-methoxyphenol, hydroquinone, methquinone, 2,6-di-t-butylphenol, 2,2'-methylenebis ( 4-Methyl-6-t-butylphenol), phenothiazine and the like. Only one kind of these polymerization inhibitors may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination.

重合禁止剤の使用量としては、カルボキシ基含有樹脂(b)と脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和単量体(c)との合計100質量部に対して、0.005〜5質量部が好ましく、0.03〜3質量部がさらに好ましく、0.05〜1.5質量部が最も好ましい。重合禁止剤の量が少なすぎると、重合禁止効果が十分でない場合がある。一方、重合禁止剤の量が多すぎると、樹脂(A)の露光感度が低下する恐れがある。
また、重合禁止効果のあるガスと重合禁止剤とを併用すると、使用する重合禁止剤の量を低減したり、重合禁止効果を高めたりできるのでより好ましい。
The amount of the polymerization inhibitor used is 0.005 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the carboxy group-containing resin (b) and the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (c). Is preferable, 0.03 to 3 parts by mass is more preferable, and 0.05 to 1.5 parts by mass is most preferable. If the amount of the polymerization inhibitor is too small, the polymerization inhibitor effect may not be sufficient. On the other hand, if the amount of the polymerization inhibitor is too large, the exposure sensitivity of the resin (A) may decrease.
Further, it is more preferable to use a gas having a polymerization inhibitory effect in combination with a polymerization inhibitor because the amount of the polymerization inhibitor used can be reduced and the polymerization inhibitory effect can be enhanced.

(光重合開始剤(B))
粘着剤組成物に含まれる光重合開始剤(B)としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ω−ブロモアセトフェノン、クロロアセトン、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンジルメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、メチルベンゾイルホルメート、2,2−ジエトキシアセトフェノン、4−N,N’−ジメチルアセトフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン等のカルボニル系光重合開始剤が挙げられる。
(Photopolymerization Initiator (B))
Examples of the photopolymerization initiator (B) contained in the pressure-sensitive adhesive composition include benzophenone, benzyl, benzoin, ω-bromoacetophenone, chloroacetophenone, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, and 2,2-dimethoxy-2. -Phenylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4,4'-bisdiethylaminobenzophenone, Michler ketone, benzoin methyl ether, benzoin isobutyl ether, Benzoin-n-butyl ether, benzylmethylketal, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2- Methylpropane-1-one, methylbenzoylformate, 2,2-diethoxyacetophenone, 4-N, N'-dimethylacetophenone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane Examples thereof include a carbonyl-based photopolymerization initiator such as -1-one.

光重合開始剤(B)としては、ジフェニルジスルフィド、ジベンジルジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラメチルアンモニウムモノスルフィド等のスルフィド系光重合開始剤;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド類;ベンゾキノン、アントラキノン等のキノン系光重合開始剤;スルホクロリド系光重合開始剤;チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤等を用いてもよい。 Examples of the photopolymerization initiator (B) include sulfide-based photopolymerization initiators such as diphenyl disulfide, dibenzyl disulfide, tetraethylthium disulfide, and tetramethylammonium monosulfide; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4. Acylphosphine oxides such as 6-trimethylbenzoylphenylethoxyphosphine oxide; quinone-based photopolymerization initiators such as benzoquinone and anthraquinone; sulfochloride-based photopolymerization initiators; thioxanthone such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone and 2-methylthioxanthone. A system photopolymerization initiator or the like may be used.

これらの光重合開始剤(B)の中でも、粘着剤組成物への溶解性の点から、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン及び/または、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドを用いることが好ましい。
上記の光重合開始剤(B)は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
Among these photopolymerization initiators (B), 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone and / or 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide may be used from the viewpoint of solubility in the pressure-sensitive adhesive composition. preferable.
The above-mentioned photopolymerization initiator (B) may be used alone or in combination of two or more.

粘着剤組成物に含まれる光重合開始剤(B)は、樹脂(A)100質量部に対して、0.1〜5.0質量部であることが好ましく、0.5〜2.0質量部であることがより好ましい。樹脂(A)100質量部に対する光重合開始剤(B)の含有量が0.1質量部以上であると、UV照射することにより十分に速い硬化速度で粘着剤組成物が硬化するとともに、UV照射後の粘着剤組成物の粘着力が十分に小さくなり、好ましい。光重合開始剤(B)の含有量が5.0質量部以下であると、粘着剤組成物を含む粘着剤層を有する粘着シートを、被着体に貼り付けた後に剥離した場合に、粘着剤層が被着体に残存しにくくなる。また、光重合開始剤(B)の含有量が5.0質量部を超えても、光重合開始剤(B)の含有量に見合う効果が見られない。 The amount of the photopolymerization initiator (B) contained in the pressure-sensitive adhesive composition is preferably 0.1 to 5.0 parts by mass, and 0.5 to 2.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (A). It is more preferable that it is a part. When the content of the photopolymerization initiator (B) with respect to 100 parts by mass of the resin (A) is 0.1 parts by mass or more, the pressure-sensitive adhesive composition is cured at a sufficiently high curing rate by UV irradiation, and UV The adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition after irradiation is sufficiently small, which is preferable. When the content of the photopolymerization initiator (B) is 5.0 parts by mass or less, the pressure-sensitive adhesive sheet having the pressure-sensitive adhesive layer containing the pressure-sensitive adhesive composition is adhered to the adherend and then peeled off. The agent layer is less likely to remain on the adherend. Further, even if the content of the photopolymerization initiator (B) exceeds 5.0 parts by mass, no effect commensurate with the content of the photopolymerization initiator (B) is observed.

(架橋剤(C))
本実施形態の粘着剤組成物は、樹脂(A)と光重合開始剤(B)だけでなく、架橋剤(C)を含有していてもよい。架橋剤(C)を含有することで、UV照射前の粘着力とUV照射後の粘着力とのバランスがより一層良好な粘着剤組成物となる。
架橋剤(C)としては、特に限定されないが、繰り返し単位nの水酸基または、繰り返し単位nの水酸基および繰り返し単位mのカルボキシ基に対して反応性を有する官能基を2つ以上有する化合物が好ましい。
(Crosslinking agent (C))
The pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment may contain not only the resin (A) and the photopolymerization initiator (B) but also the cross-linking agent (C). By containing the cross-linking agent (C), the pressure-sensitive adhesive composition has a better balance between the adhesive strength before UV irradiation and the adhesive strength after UV irradiation.
The cross-linking agent (C) is not particularly limited, but a compound having two or more functional groups reactive with the hydroxyl group of the repeating unit n or the hydroxyl group of the repeating unit n and the carboxy group of the repeating unit m is preferable.

架橋剤(C)としては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、水素化トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4−ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、1,3−ビス(N,N´−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、1,3−ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネート付加物、トリメチロールプロパンのキシリレンジイソシアネート付加物、トリフェニルメタントリイソシアネート、メチレンビス(4−フェニルメタン)トリイソシアネート等のイソシアネート系化合物、
ビスフェノールA・エピクロルヒドリン型のエポキシ樹脂、N,N’−[1,3−フェニレンビス(メチレン)]ビス[ビス(オキシラン−2−イルメチル)アミン]、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエリスリトール、ジグリセロールポリグリシジルエーテル等のエポキシ系化合物、
テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、N,N′−ジフェニルメタン−4,4′−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)、N,N′−ヘキサメチレン−1,6−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)等のアジリジン系化合物、
ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサエトキシメチルメラミン、ヘキサプロポキシメチルメラミン、ヘキサプトキシメチルメラミン、ヘキサペンチルオキシメチルメラミン、ヘキサヘキシルオキシメチルメラミン等のメラミン系化合物等が挙げられる。
Examples of the cross-linking agent (C) include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, and diphenylmethane-. 4,4-Diisocyanate, isophorone diisocyanate, 1,3-bis (N, N'-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, 1,3-bis (isocyanatomethyl) cyclohexane, isocyanurate of hexamethylene diisocyanate, tetramethylxyli Isocyanate compounds such as range isocyanate, 1,5-naphthalenediocyanate, tolylene diisocyanate adduct of trimethylol propane, xylylene diisocyanate adduct of trimethylol propane, triphenylmethane triisocyanate, methylenebis (4-phenylmethane) triisocyanate. ,
Bisphenol A / epichlorohydrin type epoxy resin, N, N'-[1,3-phenylene bis (methylene)] bis [bis (oxylan-2-ylmethyl) amine], ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, Glycerin diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylpropan triglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, polyglycerol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl erythritol, diglycerol polyglycidyl ether, etc. Epoxy compounds,
Tetramethylolmethane-tri-β-aziridinyl propionate, trimethylolpropane-tri-β-aziridinyl propionate, N, N'-diphenylmethane-4,4'-bis (1-aziridinecarboxamide) , N, N'-Hexamethylene-1,6-bis (1-aziridinecarboxamide) and other aziridine compounds,
Examples thereof include melamine-based compounds such as hexamethoxymethylmelamine, hexaethoxymethylmelamine, hexapropoxymethylmelamine, hexaptoxymethylmelamine, hexapentyloxymethylmelamine, and hexahexyloxymethylmelamine.

これらの中でも、架橋剤(C)としては、樹脂(A)との反応性が良好であるため、エポキシ系化合物、及び/またはイソシアネート系化合物を用いることが好ましい。
上記の架橋剤(C)は、単独で使用してもよいし、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
Among these, as the cross-linking agent (C), it is preferable to use an epoxy-based compound and / or an isocyanate-based compound because the reactivity with the resin (A) is good.
The above-mentioned cross-linking agent (C) may be used alone or in combination of two or more.

粘着剤組成物に含まれる架橋剤(C)は、樹脂(A)100質量部に対して、0.05〜10質量部であることが好ましく、0.1〜5質量部であることがより好ましく、0.1〜1.0質量部であることがさらに好ましい。樹脂(A)100質量部に対する架橋剤(C)の含有量が0.05質量部以上であると、粘着剤組成物に三次元架橋構造が十分に形成される。その結果、UV照射後の粘着剤組成物の粘着力が十分に小さくなり、好ましい。樹脂(A)100質量部に対する架橋剤(C)の含有量が10質量部以下であると、UV照射前の粘着剤組成物の粘着力が良好となる。 The cross-linking agent (C) contained in the pressure-sensitive adhesive composition is preferably 0.05 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin (A). It is preferably 0.1 to 1.0 parts by mass, and more preferably 0.1 to 1.0 parts by mass. When the content of the cross-linking agent (C) with respect to 100 parts by mass of the resin (A) is 0.05 parts by mass or more, a three-dimensional cross-linked structure is sufficiently formed in the pressure-sensitive adhesive composition. As a result, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition after UV irradiation becomes sufficiently small, which is preferable. When the content of the cross-linking agent (C) with respect to 100 parts by mass of the resin (A) is 10 parts by mass or less, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive composition before UV irradiation becomes good.

(他の成分)
本実施形態の粘着剤組成物は、必要に応じて、上述した樹脂(A)、光重合開始剤(B)、架橋剤(C)以外の他の成分を含有していてもよい。
他の成分としては、粘着付与剤、溶媒、各種添加剤などが挙げられる。
(Other ingredients)
The pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment may contain components other than the above-mentioned resin (A), photopolymerization initiator (B), and cross-linking agent (C), if necessary.
Examples of other components include tackifiers, solvents, various additives and the like.

(粘着付与剤)
粘着付与剤としては、従来公知のものを特に限定なく使用できる。粘着付与剤としては、例えば、テルペン系粘着付与樹脂、フェノール系粘着付与樹脂、ロジン系粘着付与樹脂、脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、キシレン樹脂、エポキシ系粘着付与樹脂、ポリアミド系粘着付与樹脂、ケトン系粘着付与樹脂、エラストマー系粘着付与樹脂などが挙げられる。これらの粘着付与剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
(Adhesive imparting agent)
As the tackifier, conventionally known ones can be used without particular limitation. Examples of the pressure-sensitive adhesive include terpen-based pressure-sensitive adhesive resins, phenol-based pressure-sensitive adhesive resins, rosin-based pressure-sensitive adhesive resins, aliphatic petroleum resins, aromatic petroleum resins, copolymerized petroleum resins, and alicyclic petroleum resins. , Xylene resin, epoxy-based pressure-sensitive adhesive resin, polyamide-based pressure-sensitive adhesive resin, ketone-based pressure-sensitive adhesive resin, elastomer-based pressure-sensitive adhesive resin, and the like. These tackifiers may be used alone or in combination of two or more.

本実施形態の粘着剤組成物が粘着付与剤を含む場合、その含有量は樹脂(A)100質量部に対して、30質量部以下であることが好ましく、5〜20質量部であることがより好ましい。 When the pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment contains a tackifier, the content thereof is preferably 30 parts by mass or less, preferably 5 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the resin (A). More preferred.

(溶媒)
溶媒は、粘着剤組成物を塗工する場合に、粘着剤組成物の粘度の調整を目的として粘着剤組成物を希釈するために用いることができる。
溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、シクロヘキサノン、n−へキサン、トルエン、キシレン、n−プロパノール、イソプロパノールなどの有機溶媒を用いることができる。これらの溶媒は、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用してもよい。
(solvent)
The solvent can be used to dilute the pressure-sensitive adhesive composition for the purpose of adjusting the viscosity of the pressure-sensitive adhesive composition when the pressure-sensitive adhesive composition is applied.
As the solvent, for example, an organic solvent such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetone, ethyl acetate, n-propyl acetate, tetrahydrofuran, dioxane, cyclohexanone, n-hexane, toluene, xylene, n-propanol and isopropanol can be used. can. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

(添加剤)
添加剤としては、可塑剤、表面潤滑剤、レベリング剤、軟化剤、酸化防止剤、老化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、ベンゾトリアゾール系等の光安定剤、リン酸エステル系およびその他の難燃剤、界面活性剤のような帯電防止剤などが挙げられる。
(Additive)
Additives include plasticizers, surface lubricants, leveling agents, softeners, antioxidants, antioxidants, light stabilizers, UV absorbers, polymerization inhibitors, light stabilizers such as benzotriazoles, and phosphate esters. Systems and other flame retardants, antistatic agents such as surfactants and the like.

[粘着剤組成物の製造方法]
本実施形態の粘着剤組成物は、従来公知の方法により製造できる。
例えば、上述した樹脂(A)および光重合開始剤(B)と、必要に応じて含有される架橋剤(C)、粘着付与剤、溶媒、各種添加剤を、従来公知の方法を用いて混合し、撹拌することにより製造できる。
[Manufacturing method of adhesive composition]
The pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment can be produced by a conventionally known method.
For example, the above-mentioned resin (A) and photopolymerization initiator (B) are mixed with a cross-linking agent (C), a tackifier, a solvent, and various additives contained as necessary by a conventionally known method. It can be produced by stirring.

本実施形態の粘着剤組成物は、粘着シートの粘着剤層を形成する材料として好適である。特に、本実施形態の粘着剤組成物は、再剥離型の粘着シートの粘着剤層を形成する材料として好ましい。
本実施形態の粘着剤組成物は、式(1−1)で示される樹脂(A)と、光重合開始剤(B)とを含むため、粘着シートの粘着剤層を形成する材料として用いることで、被着体に対して十分な粘着力を有する粘着シートが得られる。しかも、この粘着シートは、粘着シートを貼付した被着体を高温状態にしてから室温に戻して剥離しても、UV照射後に優れた易剥離性が得られるとともに、糊残りが発生しにくい。
The pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment is suitable as a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet. In particular, the pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment is preferable as a material for forming a pressure-sensitive adhesive layer of a removable pressure-sensitive adhesive sheet.
Since the pressure-sensitive adhesive composition of the present embodiment contains the resin (A) represented by the formula (1-1) and the photopolymerization initiator (B), it is used as a material for forming the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet. Therefore, an adhesive sheet having sufficient adhesive strength to the adherend can be obtained. Moreover, even if the adherend to which the adhesive sheet is attached is heated to a high temperature and then returned to room temperature to be peeled off, excellent peelability can be obtained after UV irradiation, and adhesive residue is unlikely to occur.

「粘着シート」
本発明の粘着シートは、シート状の基材と、基材上に形成された粘着剤層とを有する。
粘着剤層の基材と反対側の面には、剥離シート(セパレーター)が備えられていることが好ましい。粘着剤層上に剥離シートが備えられている場合、剥離シートによって使用時まで粘着剤層を保護できる。また、粘着剤層上に剥離シートが備えられている場合、剥離シートを剥がして粘着剤層を露出させ、粘着剤層(貼付面)を被着体に圧着する作業を効率よく行うことができる。
本実施形態の粘着シートは、打ち抜き法などにより被着体の形状に応じた形状とされた粘着テープとして用いてもよい。また、本実施形態の粘着シートは、巻き取って切断することにより、粘着テープとして用いてもよい。
"Adhesive sheet"
The pressure-sensitive adhesive sheet of the present invention has a sheet-like base material and a pressure-sensitive adhesive layer formed on the base material.
It is preferable that a release sheet (separator) is provided on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the base material. If a release sheet is provided on the pressure-sensitive adhesive layer, the release sheet can protect the pressure-sensitive adhesive layer until use. Further, when the release sheet is provided on the pressure-sensitive adhesive layer, the work of peeling off the release sheet to expose the pressure-sensitive adhesive layer and crimping the pressure-sensitive adhesive layer (sticking surface) to the adherend can be efficiently performed. ..
The adhesive sheet of the present embodiment may be used as an adhesive tape having a shape corresponding to the shape of the adherend by a punching method or the like. Further, the adhesive sheet of the present embodiment may be used as an adhesive tape by winding and cutting.

基材としては、公知のシート状の材料を適宜選択して使用できる。基材としては、透明な樹脂材料からなる樹脂シートを用いることが好ましい。
樹脂材料としては、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルシート;ポリ塩化ビニル(PVC);ポリイミド(PI);ポリフェニレンサルファイド(PPS);エチレン酢酸ビニル(EVA);ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)などが挙げられる。これらの樹脂材料の中でも、適度な可撓性を有するシートが得られるため、PE、PP、PETを用いることが好ましい。樹脂材料は、1種のみ単独で用いてもよいし、2種以上を混合して用いてもよい。
As the base material, a known sheet-like material can be appropriately selected and used. As the base material, it is preferable to use a resin sheet made of a transparent resin material.
Examples of the resin material include polyolefins such as polyethylene (PE) and polypropylene (PP); polyester sheets such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), and polyethylene naphthalate; polyvinyl chloride (PVC); polyimide (PI). ; Polyphenylene sulfide (PPS); ethylene vinyl acetate (EVA); polytetrafluoroethylene (PTFE) and the like. Among these resin materials, PE, PP, and PET are preferably used because a sheet having appropriate flexibility can be obtained. As the resin material, only one kind may be used alone, or two or more kinds may be mixed and used.

基材として樹脂シートを用いる場合、樹脂シートは、単層であってもよいし、二層以上の多層構造(例えば三層構造)であってもよい。多層構造を有する樹脂シートにおいて、各層を構成する樹脂材料は、1種のみを単独で含む樹脂材料であってもよいし、2種以上を含む樹脂材料であってもよい。 When a resin sheet is used as the base material, the resin sheet may have a single layer or a multi-layer structure having two or more layers (for example, a three-layer structure). In the resin sheet having a multi-layer structure, the resin material constituting each layer may be a resin material containing only one type alone or a resin material containing two or more types.

基材の厚さは、粘着シートの用途、基材の材料などに応じて適宜選択できる。粘着シートが、ウエハのダイシング工程を行う際にウエハを保護するものであって、基材として樹脂シートが用いられている場合、基材の厚さは、例えば10〜1000μmであることが好ましく、より好ましくは50〜300μmである。基材の厚さが10μm以上であると、粘着シートの剛性が高く(コシが強く)なる。そのため、粘着シートをウエハなどの被着体に貼り付けたり、被着体から剥離したりする際に、粘着シートにしわや浮きが生じ難くなる傾向がある。また、基材の厚さが10μm以上であると、被着体に貼り付けた粘着シートを被着体から剥離しやすくなり、作業性(取扱い性、ハンドリング)が良好となる。基材の厚さが1000μm以下であると、粘着シートの剛性が高く(コシが強く)なりすぎて作業性が低下することを防止できる。 The thickness of the base material can be appropriately selected depending on the use of the pressure-sensitive adhesive sheet, the material of the base material, and the like. When the adhesive sheet protects the wafer during the dicing step of the wafer and a resin sheet is used as the base material, the thickness of the base material is preferably 10 to 1000 μm, for example. More preferably, it is 50 to 300 μm. When the thickness of the base material is 10 μm or more, the rigidity of the adhesive sheet becomes high (strong stiffness). Therefore, when the adhesive sheet is attached to an adherend such as a wafer or peeled off from the adherend, the adhesive sheet tends to be less likely to wrinkle or float. Further, when the thickness of the base material is 10 μm or more, the adhesive sheet attached to the adherend can be easily peeled off from the adherend, and workability (handleability, handling) becomes good. When the thickness of the base material is 1000 μm or less, it is possible to prevent the adhesive sheet from becoming too rigid (strong) and reducing workability.

基材として、樹脂シートを用いる場合、従来公知の一般的なシート成形方法(例えば押出成形、Tダイ成形、インフレーション成形等あるいは、単軸あるいは2軸延伸成形等)を適宜採用して、基材を製造できる。 When a resin sheet is used as the base material, a conventionally known general sheet molding method (for example, extrusion molding, T-die molding, inflation molding, etc., or uniaxial or biaxial stretching molding, etc.) is appropriately adopted as the base material. Can be manufactured.

基材の粘着剤層と接する側の表面には、基材と粘着剤層との接着性を向上させるための表面処理が施されていてもよい。
表面処理としては、例えば、コロナ放電処理、酸処理、紫外線照射処理、プラズマ処理、下塗剤(プライマー)塗付等が挙げられる。
The surface of the base material on the side in contact with the pressure-sensitive adhesive layer may be subjected to a surface treatment for improving the adhesiveness between the base material and the pressure-sensitive adhesive layer.
Examples of the surface treatment include corona discharge treatment, acid treatment, ultraviolet irradiation treatment, plasma treatment, and undercoating agent (primer) coating.

本実施形態の粘着シートの有する粘着剤層は、上述した粘着剤組成物を含む。
粘着剤層の厚みは、1〜100μmとすることが好ましく、2〜80μmとすることがより好ましく、5〜50μmとすることがさらに好ましい。粘着剤層の厚みが1μm以上であると、粘着剤層の厚みの均一性が良好となる。一方、粘着剤層の厚みが100μm以下であると、溶媒を用いて粘着剤層を形成した場合であっても、溶媒を容易に除去できるため好ましい。
The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment contains the above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition.
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 1 to 100 μm, more preferably 2 to 80 μm, and even more preferably 5 to 50 μm. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 1 μm or more, the uniformity of the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer becomes good. On the other hand, when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 100 μm or less, the solvent can be easily removed even when the pressure-sensitive adhesive layer is formed by using a solvent, which is preferable.

粘着剤層の基材と反対側の面に剥離シートが備えられている場合、剥離シートとして、公知のシート状の材料を適宜選択して使用できる。剥離シートとしては、基材として使用される上述した樹脂シートと同様のものを用いることができる。
剥離シートの厚さは、粘着シートの用途、剥離シートの材料などに応じて適宜選択できる。剥離シートとして樹脂シートを用いる場合、剥離シートの厚さは、例えば5〜300μmであることが好ましく、より好ましくは10〜200μm、さらに好ましくは25〜100μmである。
When the release sheet is provided on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the base material, a known sheet-like material can be appropriately selected and used as the release sheet. As the release sheet, the same one as the above-mentioned resin sheet used as the base material can be used.
The thickness of the release sheet can be appropriately selected depending on the use of the adhesive sheet, the material of the release sheet, and the like. When a resin sheet is used as the release sheet, the thickness of the release sheet is preferably, for example, 5 to 300 μm, more preferably 10 to 200 μm, and further preferably 25 to 100 μm.

剥離シートの剥離面(粘着剤層に接して配置される面)には、必要に応じてシリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系等の従来公知の剥離剤を用いて剥離処理が施されていてもよい。 The peeling surface (the surface arranged in contact with the pressure-sensitive adhesive layer) of the release sheet is peeled with a conventionally known release agent such as silicone-based, long-chain alkyl-based, or fluorine-based, if necessary. You may.

[粘着シートの製造方法]
本実施形態の粘着シートは、例えば、以下に示す方法により製造できる。
まず、上述した粘着剤組成物を溶媒に溶解または分散させた粘着剤溶液を作製する。上述した粘着剤組成物は、そのまま粘着剤溶液として使用してもよい。
次に、基材上に粘着剤溶液を塗布し、加熱乾燥して、粘着剤層を形成する。その後、粘着剤層上に、必要に応じて剥離シートを貼り合せることにより得られる。
また、本実施形態の粘着シートを製造する別の方法としては、剥離シート上に上記の粘着剤溶液を塗布し、加熱乾燥して、粘着剤層を形成する。その後、粘着剤層を有する剥離シートを基材上に、粘着剤層側の面を基材に向けて設置し、基材上に粘着剤層を転写(移着)する方法が挙げられる。
[Manufacturing method of adhesive sheet]
The pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment can be manufactured, for example, by the method shown below.
First, a pressure-sensitive adhesive solution is prepared by dissolving or dispersing the above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition in a solvent. The above-mentioned pressure-sensitive adhesive composition may be used as it is as a pressure-sensitive adhesive solution.
Next, the pressure-sensitive adhesive solution is applied onto the substrate and dried by heating to form a pressure-sensitive adhesive layer. After that, it is obtained by laminating a release sheet on the pressure-sensitive adhesive layer, if necessary.
Further, as another method for producing the pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment, the above-mentioned pressure-sensitive adhesive solution is applied onto the release sheet and dried by heating to form a pressure-sensitive adhesive layer. After that, a method of installing a release sheet having an adhesive layer on the base material and placing the surface on the pressure-sensitive adhesive layer side toward the base material and transferring (transferring) the pressure-sensitive adhesive layer onto the base material can be mentioned.

上記の粘着剤溶液を基材上に(または剥離シート上に)塗布する方法としては、公知の方法を用いることができる。具体的には、慣用のコーター、例えば、グラビヤロールコーター、リバースロールコーター、キスロールコーター、ディップロールコーター、バーコーター、ナイフコーター、スプレーコーター、コンマコーター、ダイレクトコーターなどを用いて塗布する方法が挙げられる。 As a method of applying the above-mentioned pressure-sensitive adhesive solution on a substrate (or on a release sheet), a known method can be used. Specifically, there is a method of applying using a conventional coater, for example, a gravure roll coater, a reverse roll coater, a kiss roll coater, a dip roll coater, a bar coater, a knife coater, a spray coater, a comma coater, a direct coater, or the like. Be done.

[粘着シートの用途]
本実施形態の粘着シートは、再剥離型の粘着シートとして用いることができる。本実施形態の粘着シートは、例えば、電子部品を製造する際に用いることができる。本実施形態の粘着シートは、具体的には、電子部品を製造する際の各工程において、被着体を固定し、種々の加工工程に付した後に、紫外線(UV)を照射して被着体を剥離し、回収する用途に用いられる。したがって、本実施形態の粘着シートは、半導体ウエハを加工する際のバックグラインドテープ、ダイシングテープなどとして用いることができる。また、本実施形態の粘着シートは、極薄ガラス基板等の脆弱部材、プラスチックスフィルム、フレキシブルプリント基板(FPC基板)等の反り易い部材の支持用テープなどとして好適に用いることができる。特に、本実施形態の粘着シートは、ウエハのダイシング工程を行う際にウエハを保護するダイシングテープとして好適である。
[Use of adhesive sheet]
The pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment can be used as a removable pressure-sensitive adhesive sheet. The pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment can be used, for example, when manufacturing an electronic component. Specifically, the adhesive sheet of the present embodiment is adhered by irradiating ultraviolet rays (UV) after fixing the adherend and subjecting it to various processing steps in each step of manufacturing an electronic component. It is used for peeling and collecting the body. Therefore, the pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment can be used as a back grind tape, a dicing tape, or the like when processing a semiconductor wafer. Further, the adhesive sheet of the present embodiment can be suitably used as a support tape for a fragile member such as an ultra-thin glass substrate, a plastic film, a flexible printed circuit board (FPC substrate) or the like for a easily warped member. In particular, the pressure-sensitive adhesive sheet of the present embodiment is suitable as a dicing tape that protects the wafer when performing the dicing step of the wafer.

本実施形態の粘着シートをウエハのダイシングテープとして用いる場合、ダイシング工程を行う前に、複数の部品が形成されているウエハに粘着シートを貼り付ける。次に、ウエハを切断して、個々の部品に切り分け(ダイシングして)、素子小片(チップ)とする。その後、各素子小片上に貼り付けられている粘着シートに、UVを照射する。このことにより、粘着シートの基材を介して、粘着剤層にUVが照射され、粘着剤中の不飽和結合が三次元架橋構造を形成して硬化する。その結果、粘着剤層の粘着力が低下する。その後、各素子小片上から粘着シートを剥離する。 When the adhesive sheet of the present embodiment is used as a dicing tape for a wafer, the adhesive sheet is attached to a wafer on which a plurality of parts are formed before performing the dicing step. Next, the wafer is cut and cut (diced) into individual parts to obtain element small pieces (chips). After that, the adhesive sheet attached on each element small piece is irradiated with UV. As a result, the pressure-sensitive adhesive layer is irradiated with UV through the base material of the pressure-sensitive adhesive sheet, and the unsaturated bond in the pressure-sensitive adhesive forms a three-dimensional crosslinked structure and is cured. As a result, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer is reduced. After that, the adhesive sheet is peeled off from the top of each element small piece.

被着体に貼り付けられた剥離前の粘着シートに、UV照射を行う際に使用される光源としては、例えば、高圧水銀灯、超高圧水銀灯カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライドランプ、ケミカルランプ、ブラックライトなどが挙げられる。
粘着シートに照射するUV照射量は、50〜3000mJ/cmであることが好ましく、100〜600mJ/cmであることがより好ましい。粘着シートに照射するUV照射量が50mJ/cm以上であると、UV照射することにより十分に速い硬化速度で粘着剤層が硬化するとともに、UV照射後の粘着剤層の粘着力が十分に小さくなり、好ましい。粘着シートに照射するUV照射量を3000mJ/cm以上にしても、それに見合う効果が得られない。
Light sources used for UV irradiation on the adhesive sheet before peeling attached to the adherend include, for example, high-pressure mercury lamp, ultra-high pressure mercury lamp carbon arc lamp, xenon lamp, metal halide lamp, chemical lamp, and black. Lights and the like.
UV dose to be irradiated to the adhesive sheet is preferably 50 to 3000 mJ / cm 2, more preferably 100~600mJ / cm 2. When the amount of UV irradiation applied to the pressure-sensitive adhesive sheet is 50 mJ / cm 2 or more, the pressure-sensitive adhesive layer is cured at a sufficiently high curing rate by UV irradiation, and the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer after UV irradiation is sufficient. Smaller and preferable. Even if the UV irradiation amount to irradiate the adhesive sheet is 3000 mJ / cm 2 or more, the effect corresponding to it cannot be obtained.

以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例のみに限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the following examples.

「樹脂(A)の製造」
(製造例1)
〔第1混合溶液の調製〕
表1に示すように、カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)であるアクリル酸23.9質量部と、上記(a)と共重合可能なエチレン性不飽和単量体(d)であるn−ブチルアクリレート71.8質量部および2−エチルヘキシルアクリレート143.6質量部とを含有する原料単量体と、カルボキシ基含有樹脂(b)の原料単量体の合計100質量部に対して重合開始剤である2,2′−アゾビスイソブチロニトリル0.1質量部とを含有する第1混合溶液を調製した。
"Manufacturing of resin (A)"
(Manufacturing Example 1)
[Preparation of first mixed solution]
As shown in Table 1, 23.9 parts by mass of acrylic acid, which is a carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a), and an ethylenically unsaturated monomer (d) copolymerizable with the above (a). With respect to a total of 100 parts by mass of the raw material monomer containing 71.8 parts by mass of n-butyl acrylate and 143.6 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate and the raw material monomer of the carboxy group-containing resin (b). A first mixed solution containing 0.1 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator was prepared.

〔第2混合溶液の調製〕
表1に示すように、脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)である3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート59.8質量部と、カルボキシ基含有樹脂(b)と脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和単量体(c)との合計100質量部に対して触媒としてのトリス(4−メチルフェニル)ホスフィン(TPTP)0.6質量部と、溶媒としての酢酸n−ブチル100.0質量部およびトルエン91.1質量部とを含有する第2混合溶液を調製した。
[Preparation of second mixed solution]
As shown in Table 1, 59.8 parts by mass of 3,4-epoxycyclohexylmethylmethacrylate, which is an alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c), a carboxy group-containing resin (b), and an alicyclic epoxy. 0.6 parts by mass of tris (4-methylphenyl) phosphine (TPTP) as a catalyst and n-butyl acetate 100 as a solvent with respect to a total of 100 parts by mass of the group-containing ethylenically unsaturated monomer (c). A second mixed solution containing 0.0 parts by mass and 91.1 parts by mass of toluene was prepared.

攪拌機、滴下ロート、冷却管および窒素導入管を備えた四ツ口フラスコに、溶媒として酢酸n−ブチルを175.6質量部仕込み、窒素ガス雰囲気下で80℃に昇温した。そして、反応温度を80℃±2℃に保ちながら、上記四ツ口フラスコに上記第1混合溶液を4時間かけて均一に滴下し、滴下完了後、80℃±2℃の温度でさらに6時間攪拌を続け、カルボキシ基含有樹脂(b)を重合した。その後、反応系に、カルボキシ基含有樹脂(b)と脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和単量体(c)との合計100質量部に対して重合禁止剤として4−メトキシフェノール0.15質量部を添加した。 175.6 parts by mass of n-butyl acetate was charged as a solvent into a four-necked flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a cooling tube and a nitrogen introduction tube, and the temperature was raised to 80 ° C. in a nitrogen gas atmosphere. Then, while maintaining the reaction temperature at 80 ° C. ± 2 ° C., the first mixed solution was uniformly added dropwise to the four-necked flask over 4 hours, and after the addition was completed, the temperature was 80 ° C. ± 2 ° C. for another 6 hours. Stirring was continued to polymerize the carboxy group-containing resin (b). Then, in the reaction system, 4-methoxyphenol 0.15 as a polymerization inhibitor with respect to a total of 100 parts by mass of the carboxy group-containing resin (b) and the alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (c). Mass parts were added.

4−メトキシフェノールを添加した反応系を100℃に昇温し、上記第2混合溶液を0.5時間かけて滴下した後、100℃の温度で8時間攪拌を続け、樹脂(A−1)を合成し、室温(23℃)に冷却した。
樹脂(A−1)を核磁気共鳴法(NMR法)により同定した結果、一般式(2−1)で示される化合物であった。一般式(2−1)で示される化合物における式(1−1)での繰り返し単位kは、Rの異なる2種の繰り返し単位(k−1、k−2)である。
The reaction system to which 4-methoxyphenol was added was heated to 100 ° C., the second mixed solution was added dropwise over 0.5 hours, and then stirring was continued at a temperature of 100 ° C. for 8 hours to obtain the resin (A-1). Was synthesized and cooled to room temperature (23 ° C.).
As a result of identifying the resin (A-1) by the nuclear magnetic resonance method (NMR method), it was a compound represented by the general formula (2-1). Repeating units k in Equation (1-1) in the compound represented by general formula (2-1) are the two repeating units different R 5 (k-1, k -2).

Figure 2020049829
(式(2−1)において、k−1は34であり、k−2は47であり、mは1であり、k−1、k−2、mの合計は82である。nは18である。)
Figure 2020049829
(In equation (2-1), k-1 is 34, k-2 is 47, m is 1, and the sum of k-1, k-2, and m is 82. n is 18. Is.)

樹脂(A−1)について、以下に示す方法により、重量平均分子量とガラス転移温度とを調べた。また、樹脂(A−1)の酸価を、JIS K0070に従って測定した。その結果を表3に示す。 For the resin (A-1), the weight average molecular weight and the glass transition temperature were examined by the methods shown below. Moreover, the acid value of the resin (A-1) was measured according to JIS K0070. The results are shown in Table 3.

<重量平均分子量(Mw)>
ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(昭和電工株式会社製、ショウデックス(登録商標)GPC−101)を用いて、下記条件にて常温で測定し、ポリスチレン換算にて算出した。
カラム:昭和電工株式会社製、ショウデックス(登録商標)LF−804
カラム温度:40℃
試料:樹脂(A)の0.2質量%テトラヒドロフラン溶液
流量:1ml/分
溶離液:テトラヒドロフラン
検出器:RI検出器
<Weight average molecular weight (Mw)>
It was measured at room temperature under the following conditions using gel permeation chromatography (Showa Denko KK, Shodex (registered trademark) GPC-101), and calculated in terms of polystyrene.
Column: Showa Denko KK, Showdex (registered trademark) LF-804
Column temperature: 40 ° C
Sample: 0.2% by mass tetrahydrofuran solution of resin (A) Flow rate: 1 ml / min Eluent: tetrahydrofuran Detector: RI detector

<ガラス転移温度(Tg)>
樹脂(A)から10mgの試料を採取した。示差走査熱量計(DSC)を用いて、10℃/分の昇温速度で−100℃から200℃まで試料の温度を変化させて示差走査熱量測定を行い、観察されたガラス転移による吸熱開始温度をTgとした。なお、Tgが2つ観察された場合には、2つのTgの単純平均値とした。
<Glass transition temperature (Tg)>
A 10 mg sample was taken from the resin (A). Using a differential scanning calorimeter (DSC), differential scanning calorimetry was performed by changing the temperature of the sample from -100 ° C to 200 ° C at a heating rate of 10 ° C / min, and the endothermic start temperature due to the observed glass transition. Was Tg. When two Tg were observed, the simple average value of the two Tg was used.

(製造例2〜8、10〜12)
表1および表2に示す含有量(質量部)で、カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)と、エチレン性不飽和単量体(d)と、重合開始剤とを用いたこと以外は、製造例1と同様にして第1混合溶液を調製した。
また、表1および表2に示す含有量(質量部)で、脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)(製造例8においてはメタクリル酸グリシジル(GMA))と、触媒とを用いたこと以外は、製造例1と同様にして第2混合溶液を調製した。
(Manufacturing Examples 2-8, 10-12)
The carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a), the ethylenically unsaturated monomer (d), and the polymerization initiator were used in the contents (parts by mass) shown in Tables 1 and 2. A first mixed solution was prepared in the same manner as in Production Example 1 except for the above.
Further, at the contents (parts by mass) shown in Tables 1 and 2, an alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c) (glycidyl methacrylate (GMA) in Production Example 8) and a catalyst are used. A second mixed solution was prepared in the same manner as in Production Example 1 except that the second mixed solution was prepared.

上記第1混合溶液および上記第2混合溶液を用いたこと以外は、製造例1と同様にして樹脂(A−2)〜(A−8)(A−10)〜(A−12)を得た。
樹脂(A−2)〜(A−8)(A−10)〜(A−12)をそれぞれ製造例1と同様にして同定した結果、一般式(2−2)〜(2−8)(2−10)〜(2−12)で示される化合物であった。一般式(2−2)〜(2−8)(2−10)で示される化合物における式(1−1)での繰り返し単位kは、Rまたは、RとRの両方が異なる2種の繰り返し単位(k−1、k−2)である。
Resins (A-2) to (A-8) (A-10) to (A-12) are obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the first mixed solution and the second mixed solution are used. rice field.
As a result of identifying the resins (A-2) to (A-8) (A-10) to (A-12) in the same manner as in Production Example 1, the general formulas (2-2) to (2-8) ( It was a compound represented by 2-10) to (2-12). The repeating unit k in the formula (1-1) in the compounds represented by the general formulas (2-2) to (2-8) and (2-10) is R 5 or both R 1 and R 5 are different 2 It is a repeating unit of the species (k-1, k-2).

樹脂(A−2)は、下記一般式(2−2)で示される化合物である。
樹脂(A−3)は、下記一般式(2−3)で示される化合物である。
樹脂(A−4)は、下記一般式(2−4)で示される化合物である。
樹脂(A−5)は、上記一般式(2−5)で示される化合物である。
樹脂(A−6)は、下記一般式(2−6)で示される化合物である。
樹脂(A−7)は、下記一般式(2−7)で示される化合物である。
樹脂(A−8)は、下記一般式(2−8)で示される化合物である。
樹脂(A−10)は、下記一般式(2−10)で示される化合物である。
樹脂(A−11)は、下記一般式(2−11)で示される化合物である。
樹脂(A−12)は、下記一般式(2−12)で示される化合物である。
The resin (A-2) is a compound represented by the following general formula (2-2).
The resin (A-3) is a compound represented by the following general formula (2-3).
The resin (A-4) is a compound represented by the following general formula (2-4).
The resin (A-5) is a compound represented by the above general formula (2-5).
The resin (A-6) is a compound represented by the following general formula (2-6).
The resin (A-7) is a compound represented by the following general formula (2-7).
The resin (A-8) is a compound represented by the following general formula (2-8).
The resin (A-10) is a compound represented by the following general formula (2-10).
The resin (A-11) is a compound represented by the following general formula (2-11).
The resin (A-12) is a compound represented by the following general formula (2-12).

Figure 2020049829
(式(2−2)において、k−1は32であり、k−2は48であり、mは1であり、k−1、k−2、mの合計は81である。nは19である。)
(式(2−3)において、k−1は70であり、k−2は16であり、mは1であり、k−1、k−2、mの合計は87である。nは13である。)
Figure 2020049829
(In equation (2-2), k-1 is 32, k-2 is 48, m is 1, and the sum of k-1, k-2, and m is 81. n is 19. Is.)
(In equation (2-3), k-1 is 70, k-2 is 16, m is 1, and the sum of k-1, k-2, and m is 87. n is 13. Is.)

Figure 2020049829
(式(2−4)において、k−1は52であり、k−2は34であり、mは3であり、k−1、k−2、mの合計は89である。nは11である。)
(式(2−5)において、k−1は11であり、k−2は52であり、mは4であり、k−1、k−2、mの合計は67であり、nは33である。)
Figure 2020049829
(In equation (2-4), k-1 is 52, k-2 is 34, m is 3, and the sum of k-1, k-2, and m is 89. n is 11. Is.)
(In equation (2-5), k-1 is 11, k-2 is 52, m is 4, the sum of k-1, k-2, and m is 67, and n is 33. Is.)

Figure 2020049829
(式(2−6)において、k−1は56であり、k−2は24であり、mは0.2であり、k−1、k−2、mの合計は80.2である。nは19.8である。)
(式(2−7)において、k−1は15であり、k−2は72であり、mは1であり、k−1、k−2、mの合計は88である。nは12である。)
Figure 2020049829
(In equation (2-6), k-1 is 56, k-2 is 24, m is 0.2, and the sum of k-1, k-2, and m is 80.2. . N is 19.8.)
(In equation (2-7), k-1 is 15, k-2 is 72, m is 1, and the sum of k-1, k-2, and m is 88. n is 12. Is.)

Figure 2020049829
(式(2−8)において、k−1は37であり、k−2は44であり、mは2であり、k−1、k−2、mの合計は83である。n′は17である。)
(式(2−10)において、k−1は34であり、k−2は47であり、mは4であり、k−1、k−2、mの合計は85である。nは15である。)
Figure 2020049829
(In equation (2-8), k-1 is 37, k-2 is 44, m is 2, and the sum of k-1, k-2, and m is 83. n'is 17.)
(In equation (2-10), k-1 is 34, k-2 is 47, m is 4, and the sum of k-1, k-2, and m is 85. n is 15. Is.)

Figure 2020049829
(式(2−11)において、kは66であり、lは12であり、mは2であり、k、l、mの合計は80である。nは20である。)
(式(2−12)において、kは55であり、lは23であり、mは2であり、k、l、mの合計は80である。nは20である。)
Figure 2020049829
(In equation (2-11), k is 66, l is 12, m is 2, and the sum of k, l, and m is 80. n is 20.)
(In equation (2-12), k is 55, l is 23, m is 2, and the sum of k, l, and m is 80. n is 20.)

樹脂(A−2)〜(A−8)(A−10)〜(A−12)について、それぞれ感光性樹脂(A−1)と同様にして、重量平均分子量、ガラス転移温度、酸価を調べた。その結果を表3に示す。 For the resins (A-2) to (A-8) (A-10) to (A-12), the weight average molecular weight, the glass transition temperature, and the acid value were set in the same manner as for the photosensitive resin (A-1). Examined. The results are shown in Table 3.

(製造例9)
表2に示す含有量(質量部)で、カルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)と、エチレン性不飽和単量体(d)と、重合開始剤とを用いたこと以外は、製造例1と同様にして第1混合溶液を調製した。
(Manufacturing Example 9)
Except for the use of the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a), the ethylenically unsaturated monomer (d), and the polymerization initiator in the content (parts by mass) shown in Table 2. A first mixed solution was prepared in the same manner as in Production Example 1.

攪拌機、滴下ロート、冷却管および窒素導入管を備えた四ツ口フラスコに、溶媒として酢酸エチルを261.7質量部仕込み、加熱還流を実施した。加熱還流後、表2に記載の第1混合溶液を4時間かけて均一に滴下し、滴下後、加熱還流で6時間攪拌を続けた。その後、反応系を60℃に冷却し、溶媒として酢酸エチルを286.4質量部、カルボキシ基含有樹脂(b)と後述の2−イソシアナトエチルメタクリレート(MOI)との合計100質量部に対して重合禁止剤として4−メトキシフェノールを0.15質量部、カルボキシ基含有樹脂(b)と後述の2−イソシアナトエチルメタクリレート(MOI)との合計100質量部に対して触媒としてジオクチルスズジラウレートを0.3質量部添加した。 261.7 parts by mass of ethyl acetate was charged as a solvent into a four-necked flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a cooling tube and a nitrogen introduction tube, and reflux was carried out by heating. After heating and refluxing, the first mixed solution shown in Table 2 was uniformly added dropwise over 4 hours, and after the addition, stirring was continued for 6 hours by heating and refluxing. Then, the reaction system was cooled to 60 ° C., based on 286.4 parts by mass of ethyl acetate as a solvent, and a total of 100 parts by mass of the carboxy group-containing resin (b) and 2-isocyanatoethyl methacrylate (MOI) described later. 0.15 parts by mass of 4-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, and 0 dioctyltin dilaurate as a catalyst for a total of 100 parts by mass of the carboxy group-containing resin (b) and 2-isocyanatoethyl methacrylate (MOI) described later. .3 parts by mass was added.

4−メトキシフェノールが溶解した後、反応系に2−イソシアナトエチルメタクリレート(MOI)を47.8質量部加え、60℃で8時間攪拌を続け、樹脂(A−9)を合成し、室温(23℃)に冷却した。
樹脂(A−9)を製造例1と同様にして同定した結果、一般式(2−9)で示される化合物であった。一般式(2−9)で示される化合物における式(1−1)での繰り返し単位kは、Rの異なる2種の繰り返し単位(k−1、k−2)である。
After the 4-methoxyphenol was dissolved, 47.8 parts by mass of 2-isocyanatoethyl methacrylate (MOI) was added to the reaction system, and stirring was continued at 60 ° C. for 8 hours to synthesize the resin (A-9) at room temperature (A-9). It was cooled to 23 ° C.).
As a result of identifying the resin (A-9) in the same manner as in Production Example 1, it was a compound represented by the general formula (2-9). Repeating units k in Equation (1-1) in the compound represented by general formula (2-9) are the two repeating units different R 5 (k-1, k -2).

Figure 2020049829
(式(2−9)において、k−1は48であり、k−2は32であり、mは1であり、k−1、k−2、mの合計は81である。jは2であり、n′′は17である。)
Figure 2020049829
(In equation (2-9), k-1 is 48, k-2 is 32, m is 1, and the sum of k-1, k-2, and m is 81. j is 2. And n ″ is 17.)

樹脂(A−9)について、樹脂(A−1)と同様にして、重量平均分子量、ガラス転移温度、酸価を調べた。その結果を表3に示す。
また、樹脂(A−1)〜(A−12)について、それぞれ化学式(2−1)〜(2−12)中のk−1、k−2、k(k−1とk−2の合計)、l、m、n、n´、n´´の数値を表3に示す。
The weight average molecular weight, the glass transition temperature, and the acid value of the resin (A-9) were examined in the same manner as the resin (A-1). The results are shown in Table 3.
Further, for the resins (A-1) to (A-12), the sum of k-1, k-2, and k (k-1 and k-2) in the chemical formulas (2-1) to (2-12), respectively. ), L, m, n, n ′, n ″ are shown in Table 3.

Figure 2020049829
Figure 2020049829

Figure 2020049829
Figure 2020049829

Figure 2020049829
Figure 2020049829

表1および表2には、樹脂(A−1)〜(A−12)の製造に使用したカルボキシ基含有エチレン性不飽和単量体(a)と、上記(a)と共重合可能なエチレン性不飽和単量体(d)と、重合開始剤と、脂環式エポキシ基含有エチレン性不飽和化合物(c)と、触媒と、重合禁止剤および溶媒の種類と使用量(質量部)、メタクリル酸グリシジル(GMA)および2−イソシアナトエチルメタクリレート(MOI)の使用量(質量部)をそれぞれ示す。 Tables 1 and 2 show the carboxy group-containing ethylenically unsaturated monomer (a) used in the production of the resins (A-1) to (A-12) and ethylene copolymerizable with the above (a). Sexual unsaturated monomer (d), polymerization initiator, alicyclic epoxy group-containing ethylenically unsaturated compound (c), catalyst, polymerization inhibitor, type and amount of solvent (parts by mass), The amounts (parts by mass) of glycidyl methacrylate (GMA) and 2-isocyanatoethyl methacrylate (MOI) used are shown.

「実施例1〜12、比較例1〜2」
製造例1〜12で合成した樹脂(A−1)〜(A−12)の反応溶液に、溶媒である酢酸エチルを加え、それぞれ樹脂(A−1)〜(A−12)の含有量が30質量%となるように調整した。樹脂(A−1)〜(A−12)の含有量が30質量%である樹脂(A−1)〜(A−12)溶液を用いて、以下に示す方法により粘着剤組成物を得た。
"Examples 1 to 12, Comparative Examples 1 to 2"
Ethyl acetate as a solvent was added to the reaction solutions of the resins (A-1) to (A-12) synthesized in Production Examples 1 to 12, and the contents of the resins (A-1) to (A-12) were increased, respectively. It was adjusted to be 30% by mass. A pressure-sensitive adhesive composition was obtained by the method shown below using a solution of resins (A-1) to (A-12) having a content of resins (A-1) to (A-12) of 30% by mass. ..

活性線の遮断された室内でプラスチック製容器に、表4〜表6に示す樹脂(A)と光重合開始剤(B)と架橋剤(C)とを、それぞれ表4〜表6に示す含有量(質量部)で加えて攪拌し、実施例1〜12、比較例1〜2の粘着剤組成物を得た。
表4〜表6中の樹脂(A−1)〜(A−12)の数値は、樹脂(A−1)〜(A−12)の含有量が30質量%である樹脂(A−1)〜(A−12)溶液の使用量(質量部)である。光重合開始剤(B)の数値は、樹脂(A)100質量部に対する光重合開始剤(B)の使用量(質量部)である。架橋剤(C)の数値は、樹脂(A)100質量部に対する架橋剤(C)の使用量(質量部)である。
The resin (A), the photopolymerization initiator (B), and the cross-linking agent (C) shown in Tables 4 to 6 are contained in a plastic container in a room where the active rays are blocked, respectively, as shown in Tables 4 to 6, respectively. The pressure-sensitive adhesive compositions of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 were obtained by adding in an amount (part by mass) and stirring.
The numerical values of the resins (A-1) to (A-12) in Tables 4 to 6 are the resins (A-1) in which the content of the resins (A-1) to (A-12) is 30% by mass. ~ (A-12) Amount of solution used (parts by mass). The numerical value of the photopolymerization initiator (B) is the amount (parts by mass) of the photopolymerization initiator (B) used with respect to 100 parts by mass of the resin (A). The numerical value of the cross-linking agent (C) is the amount (parts by mass) of the cross-linking agent (C) used with respect to 100 parts by mass of the resin (A).

Figure 2020049829
Figure 2020049829

Figure 2020049829
Figure 2020049829

Figure 2020049829
Figure 2020049829

表4〜表6における「TETRAD−C」「HX」「TPO」、表4および表5における「TETRAD−X」は、それぞれ以下に示すものである。
「TETRAD−C」1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン(三菱ガス化学株式会社製、商品名:TETRAD−C)
「TETRAD−X」N,N’−[1,3−フェニレンビス(メチレン)]ビス[ビス(オキシラン−2−イルメチル)アミン](三菱ガス化学株式会社製、商品名:TETRAD−X)
「HX」ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体(東ソー株式会社製、商品名:コロネート(登録商標)HX)
「TPO」2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド(BASF社製、商品名:L−TPO)
“TETRAD-C”, “HX”, and “TPO” in Tables 4 to 6 and “TETRAD-X” in Tables 4 and 5 are shown below, respectively.
"TETRAD-C" 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., trade name: TETRAD-C)
"TETRAD-X" N, N'-[1,3-phenylene bis (methylene)] bis [bis (oxylan-2-ylmethyl) amine] (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., trade name: TETRAD-X)
"HX" hexamethylene diisocyanate isocyanurate (manufactured by Tosoh Corporation, trade name: Coronate (registered trademark) HX)
"TPO" 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (manufactured by BASF, trade name: L-TPO)

「粘着シートの製造」
実施例1〜12、比較例1〜2の粘着剤組成物をそのまま、乾燥後の膜厚が20μmになるように基材上に塗工し、100℃で2分間、加熱乾燥させて粘着剤層を形成した。その後、粘着剤層上に剥離シートを貼り合せることにより、実施例1〜12、比較例1〜2の粘着シートを得た。基材および剥離シートとしては、厚さ50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた。
"Manufacturing of adhesive sheet"
The pressure-sensitive adhesive compositions of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 are applied as they are on a substrate so that the film thickness after drying is 20 μm, and the pressure-sensitive adhesive is dried by heating at 100 ° C. for 2 minutes. A layer was formed. Then, by laminating the release sheet on the pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive sheets of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 were obtained. As the base material and the release sheet, a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 50 μm was used.

このようにして得られた実施例1〜12、比較例1〜2の粘着シートについて、以下に示す方法により、以下に示す項目の評価を行った。その結果を表4〜表6に示す。 With respect to the pressure-sensitive adhesive sheets of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2 thus obtained, the items shown below were evaluated by the methods shown below. The results are shown in Tables 4 to 6.

「UV照射前剥離強度」
粘着シートを縦25mm、横100mmの大きさに切り取り、剥離シートを剥がして粘着剤層を露出させた。次に、露出させた粘着剤層(測定面)がガラス板に接するように、粘着シートをガラス板に貼付し、2kgのゴムローラー(幅:約50mm)を1往復させ、UV照射前剥離強度の測定用サンプルとした。
得られた測定用サンプルを、温度23℃、湿度50%の環境下で24時間放置した。その後、JIS Z0237に準じて、剥離速度300mm/分で180°方向の引張試験を行い、粘着シートのガラス板に対する剥離強度(N/25mm)を測定した。
"Peeling strength before UV irradiation"
The adhesive sheet was cut into a size of 25 mm in length and 100 mm in width, and the release sheet was peeled off to expose the adhesive layer. Next, an adhesive sheet is attached to the glass plate so that the exposed adhesive layer (measurement surface) is in contact with the glass plate, and a 2 kg rubber roller (width: about 50 mm) is reciprocated once to achieve peel strength before UV irradiation. Was used as a measurement sample.
The obtained measurement sample was left to stand for 24 hours in an environment of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50%. Then, according to JIS Z0237, a tensile test was performed in the 180 ° direction at a peeling speed of 300 mm / min, and the peeling strength (N / 25 mm) of the pressure-sensitive adhesive sheet with respect to the glass plate was measured.

「UV照射後剥離強度」
UV照射前剥離強度の測定用サンプルと同じものを作製し、粘着シート側の面から照射量500mJ/cmの条件で紫外線(UV)を照射し、UV照射後剥離強度の測定用サンプルとした。UV照射には、コンベヤー型紫外線照射装置(アイグラフィックス社製、2KWランプ、80W/cm)を用いた。
得られた測定用サンプルについて「UV照射前剥離強度」と同様にして、粘着シートのガラス板に対する剥離強度(N/25mm)を測定した。
"Peeling strength after UV irradiation"
The same sample for measuring the peeling intensity before UV irradiation was prepared, and ultraviolet rays (UV) were irradiated from the surface on the adhesive sheet side under the condition of an irradiation amount of 500 mJ / cm 2 , and used as a sample for measuring the peeling intensity after UV irradiation. .. For UV irradiation, a conveyor type ultraviolet irradiation device (2KW lamp manufactured by Eye Graphics Co., Ltd., 80 W / cm) was used.
For the obtained measurement sample, the peel strength (N / 25 mm) of the adhesive sheet with respect to the glass plate was measured in the same manner as in the “peeling strength before UV irradiation”.

「耐熱UV照射後剥離強度」
UV照射前剥離強度の測定用サンプルと同じものを作製し、200℃で2時間保持する熱処理を行ってから室温(23℃)に冷却し、「UV照射後剥離強度」と同じ条件でUVを照射し、耐熱UV照射後剥離強度の測定用サンプルとした。
得られた測定用サンプルについて「UV照射後剥離強度」と同様にして、粘着シートのガラス板に対する剥離強度(N/25mm)を測定した。
"Peeling strength after heat-resistant UV irradiation"
Prepare the same sample as the sample for measuring the peel strength before UV irradiation, heat-treat it at 200 ° C for 2 hours, cool it to room temperature (23 ° C), and UV under the same conditions as "peeling strength after UV irradiation". After irradiation, it was used as a sample for measuring the peel strength after heat-resistant UV irradiation.
For the obtained measurement sample, the peel strength (N / 25 mm) of the adhesive sheet with respect to the glass plate was measured in the same manner as in the “peeling strength after UV irradiation”.

「糊残り」
UV照射後剥離強度の測定を行った後のガラス板を目視で観察し、以下の基準で評価した。その結果を表4〜表6に示す。
(評価基準)
○:ガラス板に粘着剤が残らない。
△:ガラス板の一部に粘着剤が残った。
×:ガラス板全面に粘着剤が残った。
"Remaining glue"
The glass plate after measuring the peel strength after UV irradiation was visually observed and evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 4 to 6.
(Evaluation criteria)
◯: No adhesive remains on the glass plate.
Δ: Adhesive remained on a part of the glass plate.
X: Adhesive remained on the entire surface of the glass plate.

表4および表5に示すように、実施例1〜12の粘着シートは、いずれも「UV照射前剥離強度」が1.0N/25mm以上であり、「耐熱UV照射後剥離強度」が2.5N/25mm未満であり、糊残りの評価が〇または△であった。
これに対し、表6に示すように、樹脂(A)が脂環式化合物に由来する構造を含まない比較例1および比較例2の粘着シートは、いずれも「UV照射後剥離強度」が十分に低いにも関わらず「耐熱UV照射後剥離強度」が高く、糊残りの評価が×であった。
As shown in Tables 4 and 5, the adhesive sheets of Examples 1 to 12 have a "peeling strength before UV irradiation" of 1.0 N / 25 mm or more and a "peeling strength after heat-resistant UV irradiation" of 2. It was less than 5N / 25mm, and the evaluation of the adhesive residue was 〇 or Δ.
On the other hand, as shown in Table 6, the pressure-sensitive adhesive sheets of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 in which the resin (A) does not contain a structure derived from an alicyclic compound have sufficient "peeling strength after UV irradiation". Although it was low, the "peeling strength after heat-resistant UV irradiation" was high, and the evaluation of the adhesive residue was x.

Claims (7)

下記一般式(1−1)で示される樹脂(A)と、光重合開始剤(B)とを含むことを特徴とする粘着剤組成物。
Figure 2020049829
Figure 2020049829
(式(1−1)において、k、l、m、nは、k+l+m+n=100としたときのモル組成比を示す。kは0超〜92以下である。lは0〜50である。mは0超〜90以下である。k、l、mの合計は65〜95である。nは5〜35である。R〜Rは−Hまたは−CHである。Rは炭素数1〜16のアルキル基である。Rは炭素数3〜30の脂環式炭化水素基または炭素数6〜20の芳香族炭化水素基である。Rは−Hまたは−(CH−COOH(式中のjは1または2である。)である。Rは上記一般式(1−2)または(1−3)である。式(1−2)および(1−3)において、pおよびqは0、1、2から選ばれるいずれかである。sはpが0のときは0であり、pが1または2のときは1である。Rは−Hまたは−CHである。)
A pressure-sensitive adhesive composition comprising a resin (A) represented by the following general formula (1-1) and a photopolymerization initiator (B).
Figure 2020049829
Figure 2020049829
(In the formula (1-1), k, l, m, n indicate the molar composition ratio when k + l + m + n = 100. K is more than 0 to 92 or less. L is 0 to 50. M. Is more than 0 to 90 or less. The sum of k, l, and m is 65 to 95. N is 5 to 35. R 1 to R 4 is -H or -CH 3. R 5 is carbon. It is an alkyl group having a number of 1 to 16. R 6 is an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. R 7 is −H or − (CH 2). ) J-COOH (j in the formula is 1 or 2). R 8 is the above general formula (1-2) or (1-3). Formulas (1-2) and (1- In 3), p and q are either 0, 1, or 2. s is 0 when p is 0 and 1 when p is 1 or 2. R 9 is −H. Or -CH 3. )
前記樹脂(A)の重量平均分子量が20万〜100万であることを特徴とする請求項1に記載の粘着剤組成物。 The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1, wherein the resin (A) has a weight average molecular weight of 200,000 to 1,000,000. 前記式(1−1)におけるnが10〜33である請求項1または請求項2に記載の粘着剤組成物。 The pressure-sensitive adhesive composition according to claim 1 or 2, wherein n in the formula (1-1) is 10 to 33. 前記式(1−1)におけるkが45〜90であり、lが4〜40であり、mが1〜15であることを特徴とする請求項1〜請求項3の何れか一項に記載の粘着剤組成物。 The invention according to any one of claims 1 to 3, wherein k in the formula (1-1) is 45 to 90, l is 4 to 40, and m is 1 to 15. Adhesive composition. 架橋剤(C)をさらに含有することを特徴とする請求項1〜請求項4の何れか一項に記載の粘着剤組成物。 The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 4, further comprising a cross-linking agent (C). 前記樹脂(A)のガラス転移温度が−80〜0℃であることを特徴とする請求項1〜請求項5の何れか一項に記載の粘着剤組成物。 The pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the glass transition temperature of the resin (A) is −80 to 0 ° C. シート状の基材と、前記基材上に形成された粘着剤層とを有し、前記粘着剤層が、請求項1〜請求項6の何れか一項に記載の粘着剤組成物を含むことを特徴とする粘着シート。 It has a sheet-like base material and a pressure-sensitive adhesive layer formed on the base material, and the pressure-sensitive adhesive layer contains the pressure-sensitive adhesive composition according to any one of claims 1 to 6. Adhesive sheet characterized by that.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023112427A1 (en) * 2021-12-14 2023-06-22 株式会社レゾナック Method for producing semiconductor device, and semiconductor device

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010090249A (en) * 2008-10-07 2010-04-22 Showa Highpolymer Co Ltd Ultraviolet curing removable adhesive composition and adhesive sheet using the same
JP2014234422A (en) * 2013-05-31 2014-12-15 昭和電工株式会社 Active ray-curable tackifier composition for re-peelable protective tape targeting glass etching and re-peelable protective tape targeting glass etching

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3662365B2 (en) * 1996-09-06 2005-06-22 ダイセル化学工業株式会社 Photocurable resin composition
AU1123097A (en) 1996-11-12 1998-06-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermosettable pressure sensitive adhesive
JP3803200B2 (en) * 1998-07-31 2006-08-02 日本合成化学工業株式会社 Re-peelable pressure-sensitive adhesive composition
JP2003122003A (en) 2001-10-15 2003-04-25 Toppan Printing Co Ltd Photosensitive resin composition
JP4011885B2 (en) * 2001-10-18 2007-11-21 ダイセル化学工業株式会社 Method for producing curable resin and composition containing curable resin
JP4506146B2 (en) * 2003-03-20 2010-07-21 東洋インキ製造株式会社 Adhesive composition and adhesive sheet
US8067504B2 (en) 2009-08-25 2011-11-29 3M Innovative Properties Company Acrylic pressure-sensitive adhesives with acylaziridine crosslinking agents
JP2012119364A (en) * 2010-11-29 2012-06-21 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Solar cell rear surface protective sheet and solar cell module
JP2013122005A (en) * 2011-12-09 2013-06-20 Samsung Yokohama Research Institute Co Ltd Photosensitive adhesive film for semiconductor, and method of manufacturing semiconductor device using the film
JP5996985B2 (en) 2012-09-24 2016-09-21 日東電工株式会社 Manufacturing method of pressure-sensitive adhesive sheet, and pressure-sensitive adhesive sheet obtained by the manufacturing method
JP6021715B2 (en) 2013-03-29 2016-11-09 株式会社ブリヂストン Photo-curable adhesive composition
EP3252088B1 (en) 2016-05-31 2018-07-04 Henkel AG & Co. KGaA Cationic pressure sensitive adhesive uv cured by medium mercury bulbs
KR102103619B1 (en) * 2016-07-29 2020-04-22 주식회사 엘지화학 Adhesive composition, protective film and polarizing plate comprising adhesive layer formed by using the same and display device comprising the same
WO2018033995A1 (en) * 2016-08-19 2018-02-22 大阪有機化学工業株式会社 Curable resin composition for forming easily strippable film, and process for producing same
TWI743257B (en) * 2016-12-02 2021-10-21 日商三菱化學股份有限公司 Resin composition for adhesive and adhesive sheet
CN112029468A (en) 2020-08-03 2020-12-04 新纶科技(常州)有限公司 Photo-cured printed pressure-sensitive adhesive composition and preparation method and application thereof

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010090249A (en) * 2008-10-07 2010-04-22 Showa Highpolymer Co Ltd Ultraviolet curing removable adhesive composition and adhesive sheet using the same
JP2014234422A (en) * 2013-05-31 2014-12-15 昭和電工株式会社 Active ray-curable tackifier composition for re-peelable protective tape targeting glass etching and re-peelable protective tape targeting glass etching

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