KR20210004841A - 마스크 보유지지 기구, 증착 장치, 및 전자 디바이스의 제조 장치 - Google Patents

마스크 보유지지 기구, 증착 장치, 및 전자 디바이스의 제조 장치 Download PDF

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KR20210004841A
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미츠하루 에자와
케이스케 미야자키
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캐논 톡키 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 성막 대상물과 마스크를 밀착 영역의 전역에 걸쳐 균일한 흡착력 분포를 형성하여 밀착시킬 수 있는 기술을 제공한다.
[해결 수단] 성막 대상물에 대하여 원하는 성막 패턴을 형성하기 위한 마스크를, 자력을 이용하여 성막 대상물의 표면에 흡착시켜, 보유지지하는 마스크 보유지지 기구로서, 요크(30)의 마스크측에 부착되는 복수의 제1 영구자석(31)으로서, 요크(30)의 격자 형상에 있어서의 직선부에서, 직선부가 연장하는 방향을 따라 간격을 두고 배치되며, 또한 이웃하는 제1 영구자석(31)의 착자 방향이 서로 다르게 되도록 배치되는 복수의 제1 영구자석(31)과, 요크(30)의 격자 형상에 있어서 방향이 다른 복수의 직선부를 연결하는 교차부에 배치되는 제2 영구자석(31a)을 구비하고, 제2 영구자석(31a)은, 그 착자 방향이 복수의 제1 영구자석(31) 중 이웃하는 제1 영구자석(31)의 착자 방향과는 역방향이다.

Description

마스크 보유지지 기구, 증착 장치, 및 전자 디바이스의 제조 장치{MASK HOLDING MECHANISM, VAPOR DEPOSITION APPARATUS, AND MANUFACTURING APPARATUS OF ELECTRONIC DEVICE}
본 발명은, 유기 EL 패널 등의 전자 디바이스의 제조 장치에 있어서, 자력에 의해 마스크를 보유지지하는 마스크 보유지지 기구에 관한 것이다.
종래, 유리 기판 등의 성막 대상물에 증착 재료를 증착하여 성막을 행하는 증착 장치가 사용되고 있고, 예를 들면 유기 EL 패널의 제조시에 유기층을 증착하는 유기층 증착 장치가 알려져 있다. 유기층은, 두께가 수십 ㎛ 내지 수 ㎛인 얇은 막이며, 막의 형성에는 1개 또는 복수의 개구부가 형성된 성막용의 마스크가 사용된다. 증착 재료는, 성막용의 마스크의 개구부를 통과하여 성막 대상물 상에 퇴적함으로써, 원하는 위치에 원하는 패턴 형상의 유기층을 형성할 수 있다.
유기층 증착 장치에서는, 유리 기판 등의 성막 대상면에 대한 오염 부착을 피하기 위해, 성막 대상면을 중력 방향 하측을 향하게 하는 것이 많이 채용되고 있다. 유리 기판은 성막면을 하측으로 수평으로 보유지지되고, 마스크는 그것과 대면하여 수평으로 보유지지된다. 대형 디스플레이 패널과 같은 개구가 큰 패턴이 수 종류 조합된 패널 레이아웃에서는, 마스크 박은 단순한 매트릭스 형상이 아니라 라인을 조합시킨 형상으로 되어 있다. 유리 기판과 마스크에는, 마주 대하는 위치에 위치 결정을 위한 얼라인먼트 마크를 가지며, 필요한 위치 결정 정밀도가 될 때까지 얼라인먼트 공정을 거쳐 겹쳐진다. 겹쳐진 마스크는, 유리 기판 너머의 자기 흡인력으로 마스크 박에 대한 흡인력이 부여되어, 유리 기판에 흡착된다.
유기층과 같은 얇은 층을 성막하기 위해서는, 성막시에 마스크의 그림자가 발생하지 않도록 얇은 마스크 박이 사용되지만, 마스크 박이 성막 대상물에 틈 없이 밀착하는 것이 필수적이다. 소자간이나 배선 패턴간의 단락이나 누설 전류도 크로스토크가 발생하지 않도록, 마스크 박과 유리 기판의 틈이 수 ㎛ 이내일 필요가 있는 경우가 있다.
이에, 종래 기술로서, 특허문헌 1 기재의 유기 EL 표시 장치의 제조 장치는, 기판의 성막면의 반대측에 영구자석을 배치하고, 성막면에 있는 마스크 박을 흡착하는 영구자석의 배치에 대해 기재되어 있다. 이 특허문헌 1에서는, 마스크 박의 길이 방향으로 복수의 N극과 복수의 S극을 주기적으로 배치시키고 있다. 또한, 복수의 영구자석 사이에는 소정의 간격이 형성되어 있는 것이 기재되어 있다.
특허문헌 1: 일본특허공개 제2017-119905호 공보
그러나, 특허문헌 1 기재와 같이 영구자석을 마스크 박의 길이 방향으로 복수의 N극과 복수의 S극을 주기적으로 배치한 경우, 마스크 박의 교차부에서 자기 간섭이 생긴다. 그 때문에, 흡착력이 상정한 것보다 커지거나, 작아지거나 하여, 마스크 박의 흡착력에 불균일이 생기는 경우가 있다. 또한, 복수의 영구자석 사이에 간격을 두면, 자기 간섭은 회피할 수 있지만 다른 장소에 비해 흡착력이 저하된다. 이러한, 흡착력의 불균일은, 기판과 마스크 박의 틈의 요인이 될 수 있다.
본 발명은, 성막 대상물과 마스크를 밀착 영역의 전역에 걸쳐 균일한 흡착력 분포를 형성하여 밀착시킬 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 마스크 보유지지 기구는,
성막 대상물에 대하여 원하는 성막 패턴을 형성하기 위한 마스크를, 자력을 이용하여 상기 성막 대상물의 표면에 흡착시켜, 보유지지하는 마스크 보유지지 기구로서,
상기 성막 대상물에 대해 상기 마스크와는 반대측에 배치되며, 상기 성막 패턴에 있어서의 상기 성막 대상물의 피성막 영역을 차폐하기 위한 상기 마스크의 차폐부에 대응한 격자 형상을 갖는 요크와,
상기 요크의 상기 마스크측에 부착되는 복수의 제1 영구자석으로서, 상기 요크의 상기 격자 형상에 있어서의 직선부에서, 상기 직선부가 연장하는 방향을 따라 간격을 두고 배치되며, 또한 이웃하는 제1 영구자석의 착자 방향이 서로 다르게 되도록 배치되는 복수의 제1 영구자석을 구비하는 마스크 보유지지 기구에 있어서,
상기 요크의 상기 격자 형상에 있어서 방향이 다른 복수의 직선부를 연결하는 교차부에 배치되는 제2 영구자석을 구비하고,
상기 제2 영구자석은, 그 착자 방향이 상기 복수의 제1 영구자석 중 이웃하는 상기 제1 영구자석의 착자 방향과는 역방향인 것을 특징으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 증착 장치는,
성막 대상물에 대하여 원하는 성막 패턴을 형성하기 위한 마스크와,
본 발명의 마스크 보유지지 기구와,
상기 마스크 보유지지 기구에 의해 상기 마스크가 흡착된 상기 성막 대상물에 증착 재료를 증착시키는 증착실을 구비하는 것을 특징으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 전자 디바이스의 제조 장치는,
본 발명의 증착 장치를 사용하여 상기 성막 대상물에 성막함으로써, 전자 디바이스를 제조하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 성막 대상물과 마스크를 밀착 영역의 전역에 걸쳐 균일한 흡착력 분포를 형성하여 밀착시킬 수 있다.
도 1은 유기 EL 패널의 제조 라인을 나타내는 개략도이다.
도 2는 유기 EL 패널의 제조 라인의 제어 블록도이다.
도 3은 반송 캐리어를 나타내는 개략도이다.
도 4는 반송 캐리어의 분해 사시도이다.
도 5는 얼라인먼트의 프로세스를 나타내는 플로우 도면이다.
도 6은 얼라인먼트의 진행의 각 단계를 나타내는 개략도이다.
도 7은 얼라인먼트의 진행의 각 단계의 계속을 나타내는 개략도이다.
도 8은 얼라인먼트의 진행의 각 단계의 계속을 나타내는 개략도이다.
도 9는 자기 흡착 마그넷의 배치 및 마스크의 흡인력 밀도를 나타내는 도면이다.
도 10은 자기 흡착 마그넷의 교차부의 영구자석 배치를 나타내는 도면이다.
도 11은 자기 흡착 마그넷의 교차부의 영구자석 배치의 비교를 나타내는 도면이다.
도 12는 영구자석 사이즈와 흡인력 밀도의 균일성의 관계를 나타내는 도면이다.
도 13은 평균 흡인력 밀도와 영구자석 피치의 관계를 나타내는 도면이다.
도 14는 그 밖의 영구자석 배치예를 나타내는 도면이다.
도 15는 파인 메탈 마스크(fine metal mask)에 적용했을 때의 본 발명의 실시예를 나타내는 도면이다.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시형태 및 실시예를 설명한다. 단, 이하에서 설명하는 실시형태 및 실시예는 본 발명의 바람직한 구성을 예시적으로 나타내는 것에 지나지 않고, 본 발명의 범위를 이들의 구성으로 한정하는 것이 아니다. 또한, 이하의 설명에서의, 장치의 하드웨어 구성 및 소프트웨어 구성, 제조 조건, 치수, 재질, 형상 등은, 특정적인 기재가 없는 한, 본 발명의 범위를 이들로만 한정하는 취지의 것이 아니다. 또한, 동일한 구성요소에는 원칙적으로 동일한 참조 번호를 부여하고, 반복 설명을 생략한다.
본 발명은, 성막 대상물에 증착에 의한 성막을 행하는 증착 장치에 사용되는 증착 마스크의 보유지지 기구에 바람직하고, 전형적으로는 유기 EL 패널을 제조하기 위해 유리 기판에 대하여 유기 재료 등을 증착하여 성막하는 증착 장치에 적용할 수 있다. 본 발명은, 기판 등의 성막 대상물에 박막, 특히 무기 박막을 원하는 성막 패턴으로 형성하기 위한 마스크를 자력에 의해 성막 대상물에 흡착시켜 보유지지하는 자기식 흡착 기구에 바람직하다.
성막 대상물인 기판의 재료는, 자력을 투과하는 재료이면 되고, 유리 이외에도, 고분자 재료의 필름, 강자성체 이외의 금속 등의 재료를 선택할 수 있다. 기판은, 예를 들면, 유리 기판 상에 폴리이미드 등의 필름이 적층된 기판이여도 된다. 증착 재료로서도, 유기 재료 이외에, 금속성재료(금속, 금속산화물 등) 등을 선택해도 된다.
본 발명은 또한, 증착 장치의 제어 방법이나 증착 방법, 박막을 형성하는 성막 장치 및 그 제어 방법, 및 성막 방법으로서도 파악된다. 본 발명은 또한, 유기 EL 디스플레이 등의 유기 EL 패널을 이용한 전자 디바이스의 제조 장치나 전자 디바이스의 제조 방법으로서도 파악된다. 본 발명은 또한, 제어 방법을 컴퓨터에 실행시키는 프로그램이나, 해당 프로그램을 격납한 기억 매체로서도 파악된다. 기억 매체는, 컴퓨터에 의해 판독 가능한 비일시적인 기억 매체여도 된다.
본 발명에 있어서의 전자 디바이스로서는, 발광 소자를 구비한 표시 장치(예를 들면, 유기 EL 표시 장치)나 조명 장치(예를 들면, 유기 EL 조명 장치), 광전 변환 소자를 구비한 센서(예를 들면, 유기 CMOS 이미지 센서) 등도 포함된다.
[실시예 1]
(제조 라인 전체 구성)
도 1은 유기 EL 패널의 제조 라인(100)의 전체 구성을 나타내는 개념도이다. 개략적으로, 제조 라인(100)은, 증착 처리 공정 반송로(100a), 리턴 반송로(100b), 마스크 전달 기구(100c), 캐리어 시프터(100d), 마스크 전달 기구(100e), 프리얼라인먼트실(100g), 및 캐리어 시프터(100f)를 구비하는, 순환형 반송로를 구성한다. 순환형 반송로를 구성하는 각 구성요소, 예를 들면 기판 반입실(101), 반전실(102), 얼라인먼트실(103), 가속실(104), 증착실(105), 감속실(106), 마스크 분리실(107), 반전실(108), 유리 기판 배출실(109) 등에는, 반송로를 구성하기 위한 반송 모듈(301)이 배치되어 있다. 자세한 내용은 후술하지만, 이 도면에는, 제조 프로세스의 각 공정에 있어서 유리 기판(G), 마스크(M) 및 정전척(308)(부호 C)이 어떻게 반송로 상을 반송되는지가 나타내진다.
증착 처리 공정 반송로(100a)에서는, 개략적으로, 외부로부터 유리 기판(G)이 반송 방향(화살표 A)으로 반입되며, 유리 기판(G)과 마스크(M)가 반송 캐리어 상에 위치결정되어 보유지지되고, 반송 캐리어(302)와 함께 반송로 상을 이동하면서 증착 처리가 실시된 후, 성막 완료된 유리 기판(G)이 배출된다. 리턴 반송로(100b)에서는, 증착 처리 완료 후에 분리된 마스크(M)와, 유리 기판 배출 후의 반송 캐리어(302)가, 기판 반입실 측으로 복귀한다.
마스크 전달 기구(100c)에서는, 증착 처리 완료 후에 반송 캐리어로부터 분리된 마스크(M)가, 리턴 반송로로 이동된다. 리턴 반송로로 이동한 마스크(M)는, 기판을 배출하여 빈 반송 캐리어(302)에 다시 재치된다. 캐리어 시프터(100d)에서는, 유리 기판(G)을 다음 공정으로 배출한 빈 반송 캐리어(302)가 리턴 반송로(100b)에 바꿔 실린다. 마스크 전달 기구(100e)에서는, 리턴 반송로(100b)를 반송되어 온 반송 캐리어로부터 분리된 마스크(M)가, 증착 처리 공정 반송로(100a) 상의 마스크 장착 위치(P2)로 반송된다. 캐리어 시프터(100f)에서는, 마스크(M) 분리 후의 빈 반송 캐리어가, 리턴 반송로(100b)로부터 증착 처리 공정 반송로(100a)의 시점의 유리 기판 반입 위치(P1)로 반송된다. 제조 라인(100)을 이용한 제조 프로세스의 상세에 대해서는 후술한다.
도 2는 제조 라인(100)의 제어 블록의 개념도이다. 제어 블록은, 제조 라인(100)의 전체의 가동 정보를 관리하는 가동 관리 제어부(700)와, 운행 컨트롤러(20)를 포함한다. 또한, 제조 라인(100)을 구성하는 기판 반입실(101), 반전실(102), 얼라인먼트실(103), 가속실(104), 증착실(105) 등의 각 실(각 장치)에는, 각 실 내부의 구동 기구를 제어하는 구동 제어부가 마련되어 있다. 즉, 기판 반입실(101)에는 기판 반입실 제어부(701a), 반전실(102)에는 반전실 제어부(70lb), 얼라인먼트실(103)에는 얼라인먼트실 제어부(701c), 가속실(104)에는 가속실 제어부(701d), 증착실(105)에는 증착실 제어부(701e)가 마련되어 있다. 상기 이외의 각 장치(각 실)에도, 각각 제어부(701N)가 마련되어 있다. 이들 구동 제어부와 전체를 관리하는 가동 관리 제어부(700)는, 제어 수단에 포함시켜 생각해도 된다. 또한, 운행 컨트롤러(20)도, 제어 수단에 포함시켜 생각해도 된다.
또한, 기판 반입실(101)에는 반송 모듈a(301a), 반전실(102)에는 반송 모듈b(30lb), 얼라인먼트실(103)에는 반송 모듈c(301c), 가속실(104)에는 반송 모듈d(301d), 증착실(105)에는 반송 모듈e(301e)가 마련되어 있다. 상기 이외의 각 실에도, 각각 반송 모듈(301N)이 마련되어 있다. 각 장치에 배치되어 있는 반송 모듈(301)에는, 유리 기판(G) 및 반송 캐리어(302)의 반송 방향을 따라, 복수의 구동용 코일이 라인 형상으로 배치되어 있다. 각 반송 모듈(301)에 마련된 인코더의 값에 따라, 각 구동용 코일에 흐르는 전류 또는 전압을 제어함으로써, 반송 캐리어(302)의 구동이 제어된다. 반송 캐리어(302)에 라인 형상으로 배치된 자석과, 반송 모듈(301)에 반송 캐리어(302)의 자석에 대향하도록 배치된 코일이 협동하여 기판을 반송하는 것으로부터, 반송 캐리어(302)와 반송 모듈(301)을 합쳐서 기판 반송 유닛(300)(반송 기구)이라고 생각해도 된다.
각 반송 모듈(301)에는, 반송 캐리어(302)의 위치를 검출하는 인코더가 설치되어 있다. 인코더의 검출값에 따라, 가동 관리 제어부(700)가, 각 실의 구동 제어부에 지시를 송신하고, 각 실의 구동 기구의 제어를 시작 또는 정지시키거나, 제어 상태를 변화시키거나 한다. 또한, 제어의 트리거는 인코더 검출값에 한정되지 않고, 제어에 이용할 수 있는 것이라면 임의의 센서를 이용해도 된다.
(반송 캐리어의 구성)
도 3의 (A)는 고정부로서의 반송 모듈(301), 가동부로서의 반송 캐리어(302)로 이루어지는 기판 반송 유닛(300)을 도 1의 화살표 A로 나타내는 반송 방향에서 본 정면도이다. 도 3의 (B)는 도 3의 (A)에 있어서의 틀 S로 둘러싸는 요부의 확대도, 도 3의 (C)는 반송 캐리어(302)의 측면도, 도 4는 반송 캐리어의 분해 사시도이다. 반송 모듈(301)은, 제조 라인(100)의 전역에 걸쳐 복수개 배열되어 반송로를 구성한다. 각 반송 모듈(301)의 구동용 코일에 공급하는 전류를 제어함으로써, 복수의 반송 모듈 전체를 1개의 반송로로서 제어하고, 반송 캐리어(302)를 연속해서 이동시킬 수 있다.
도면에 있어서, 반송 캐리어(302)의 캐리어 본체(302A)는, 사각 형상의 프레임으로 구성되고, 그 좌우 양측면에는 단면 ㄷ자 형상으로 측방으로 개구된 가이드 홈(303a, 303b)이 각각 반송 방향 A에 평행한 방향을 따라 형성되어 있다. 한편, 반송 모듈(301) 측의 측판(3011a, 301lb) 내면에는, 복수의 롤러 열로 이루어지는 롤러 베어링(가이드 롤러)(304a, 304b)이 자유롭게 회전 가능하게 부착되어 있다. 그리고, 각 가이드 홈(303a, 303b) 내에 각각 삽입된 롤러 베어링(304a, 304b)에 의해, 반송 캐리어(302)가 반송 모듈(301)에 대하여, 화살표 A 방향(반송 방향)으로 자유롭게 이동 가능하게 지지된다.
반송 캐리어(302)의 캐리어 본체(302A)의 양측부의 가이드 홈(303a, 303b)의 형성 위치에 있어서의 상면에는, 복수의 마그넷(영구자석)을 소정의 패턴으로 배열한 구동용 마그넷(305a, 305b)(자석열)이, 기판의 반송 방향(진행 방향)에 평행하게, 직선적으로 배치되어 있다. 또한, 반송 모듈(301) 측에는, 구동용 마그넷(305a, 305b)과 대향하는 고정부에, 복수의 코일을 소정의 패턴으로 배열한 구동용 코일(306a, 306b))(코일 열)이 배치되어 있다. 그리고, 구동용 마그넷(305a, 305b)과, 구동용 코일(306a, 306b)은, 반송 모듈(301)에 반송 캐리어(302)가 지지되었을 때에, 각각 서로 대향하여 근접하도록 배치되어 있다. 반송 캐리어(302) 측의 구동용 마그넷(305a, 305b)과, 반송 모듈(301) 측의 구동용 코일(306a, 306b)과의 사이에 작용하는 전자기력에 의해, 반송 캐리어(302)를 부상시키거나, 화살표 A의 방향(반송 방향)으로 주행시키거나 할 수 있다.
또한, 반송 캐리어 측의 가이드 홈(303a, 303b)의 개구폭(303W)은, 반송 모듈 측의 각 롤러 베어링(304a, 304b)의 직경(304R)보다, 클리어런스(clearance)(CL)만큼 넓게 형성되어 있다(303W=304R+CL). 이 구성에 의해, 가이드 홈 내에서, 롤러 베어링(304a, 304b)이 소정의 클리어런스(CL)의 범위 내에서 부상할 수 있다.
이와 같은 구성에 의해, 무빙 마그넷형의 리니어 모터 제어를 실시할 수 있다. 즉, 구동계를 구성하는 구동용 코일(306a, 306b)을 구성하는 복수의 코일 각각에 공급하는 전류를 제어함으로써, 반송 캐리어(302)의 진행 방향에 있어서의 추진력을 발생시키거나, 반송 모듈(301)에 대한 자기 부상력을 발생시키거나 할 수 있다. 또한, 반송 기구가 구비하는 반송 모듈과 반송 캐리어 중 일방에 코일을, 타방에 자석을 배치하는 구성이면 되고, 무빙 코일 방식이여도 반송 캐리어의 부상 얼라인먼트를 행할 수 있다.
나아가, 도 3에 나타낸 바와 같은 반송 모듈(301)과 반송 캐리어(302)의 구성에 의하면, 롤러 베어링(304a, 304b)을 이용하여, 반송 캐리어(302)를 롤러로 지지하면서 반송하는 것도 가능하다. 즉, 반송 캐리어(302)가 자기 부상하고 있지 않는 상태(반송 캐리어(302)가 자체 무게에 의해 가라앉고, 가이드 홈(303a, 303b)이 롤러 베어링(304a, 304b)에 접촉 지지되어 있는 상태)로 반송 캐리어(302)를 이동시킬 수 있다.
(반송 캐리어 상의 유리 기판(G)과 마스크(M)의 보유지지 기구)
다음으로, 반송 캐리어(302)에 유리 기판(G)을 보유지지하는 기구와, 유리 기판 상에 마스크(M)를 보유지지하는 기구에 대해 설명한다. 본 실시예에 의하면, 유리 기판(G)은 정전 흡착 수단인 정전척(308)에 의해, 마스크(M)는 자기 흡착 수단으로서의 자기 흡착 척(307)에 의해, 각각 반송 캐리어(302)에 겹쳐서 보유지지되도록 구성되어 있다.
도 3, 도 4에 있어서, 사각형 프레임 형상의 반송 캐리어(302)의 캐리어 본체(302A) 하면에는, 자기 흡착 척(307)과 정전척(308)을 겹쳐서 수납한 척 프레임(309)이 부착되어 있다. 자기 흡착 척(307)은 마스크(M)를 자기적으로 흡착하고, 정전 척(308)은 유리 기판(G)을 정전력에 의해 흡착한다. 캐리어 본체(302A)의 사각형 프레임 상면에는, 정전척(308)에 전하를 대전시키는 제어부가 내장된 정전척 제어 유닛(제어 박스(312))이 배치되어 있다.
이 제어 박스(312)에는 배터리가 구비되어 있고, 배터리에 축전된 전력에 의해 정전척(308)을 대전시킴으로써, 유리 기판(G)을 흡착하여 보유지지할 수 있다. 그 때문에, 충전시 이외에는 반송 캐리어에는 전력을 공급하기 위한 동력선을 접속할 필요가 없고, 완전히 비접촉인 상태로 반송 캐리어를 반송하여 성막하고 있다.
자기 흡착 척(307)은, 도 3에 나타내는 바와 같이, 척 본체(307x)와, 척 본체(307x)의 배면(유리 기판(G)과 대향하는 측과는 반대측)으로부터 캐리어 본체(302) 측으로 Z 축 방향(도면의 상방향)으로 연장되는 2개의 가이드 로드(307a)를 가지고 있다. 이 가이드 로드(307a)가 캐리어 본체(302A)의 프레임에 마련된 통형상 가이드(307b)에 자유롭게 미끄럼 이동 가능하게 삽입되며, 척 프레임(309) 내를 상하로 이동 가능하게 되어 있다.
자기 흡착 척(307)은, 외부에 마련된 구동원 측의 연결 단부의 구동측 연결 단부에 마련된 구동측 훅(307g)에 결합 이탈 가능한 연결부인 연결 훅(307c)을 가지고 있다. 이 연결 훅(307c)이 구동측 훅(307g)과 결합하고, 구동측 훅(307g)을 상하 방향으로 구동(이동)시킴으로써, 가이드 로드(307a)를 통하여, 척 본체(307x)를 상하 방향으로 구동시킨다. 구동측 훅(307g)은, 장치 외부에 배치되는 유체압 실린더나 볼나사를 이용한 구동 장치 등의 액추에이터(307h)에 의해 제어된다. 자기 흡착 척(307)이 하단 위치에 있을 때 마스크(M)를 자기 흡착 척킹하고, 상단 위치에 있을 때 언척킹(unchucking)한다.
도시한 예에서는, 가이드 로드(307a)의 선단부에 고정된 캡(307i)에 연결 훅(307c)이 마련됨과 함께, 캡(307i)의 측면에 옆쪽으로 연장하는 위치결정편(307d)이 마련되어 있다. 한편, 캐리어 본체(302A) 측에는, 이 위치결정편(307d)이, 척 본체(307x)의 상단 위치에서 접촉하는 상단 로크편(307f)과, 하단 위치를 로크하는 하단 스톱퍼(307e)에 선택적으로 결합 가능하게 되어 있다. 상단 로크편(307f)은 수평 방향으로 이동 가능하게 되어 있고, 상단 위치에서 위치결정편(307d)의 하면에 결합하는 결합 위치와, 위치결정편(307d)으로부터 떨어지는 퇴피 위치 사이를 이동 가능하게 되어 있다. 상단 로크편(307f)이 퇴피 위치에 있을 때, 위치결정편(307d)이 하방으로 이동 가능해지고, 하단 스톱퍼(307e)에 접촉함으로써, 척 본체(307x)의 캐리어 본체(302A)에 대한 하강 위치가 규제된다. 이 하강 한계는, 마스크(M)를 자기 흡착하는 위치이지만, 척 본체(307x)와 정전척(308)의 사이에는 약간 틈을 마련하고 있다. 이에 의해, 자기 흡착 척(307)의 중량이 정전척(308)에 작용하는 것을 회피하고 있다.
이 상단 로크편(307f)의 구동도 외부 구동력에 의해 구동된다. 예를 들면, 회전 구동의 액추에이터(307m)로 선단에 마련한 피니언을 회전 구동시켜, 상단 로크편(307f) 또는, 직선 가이드(307k)의 가동 부재에 마련한 랙에 맞물리도록 하면, 상단 로크편(307f)을 수평 이동시킬 수 있다.
상단 로크편(307f)은, 도 3에 나타내는 바와 같이, 캐리어 본체(302A)에 마련된 대좌(307j)의 상면에, 소정 간격 이격된 한 쌍의 직선 가이드(307k)를 통하여 자유롭게 슬라이딩 가능하게 지지되어 있다. 직선 가이드(307k)의 사이의 대좌(307j) 상면에는, 하단 스톱퍼(307e)가 돌출 설치되어 있다. 위치결정편(307d)은 직선 가이드(307k)의 사이를 통과 가능한 폭으로 구성되어 있고, 상단 로크편(307f)이 퇴피 위치로 이동하면, 하방으로의 이동이 가능해지고, 하단 스톱퍼(307e)에 접촉한다.
척 프레임(309)의 정전척(308)에 유리 기판(G)을 보유지지한 상태로, 마스크(M)를 유리 기판(G)에 대하여 얼라인먼트를 행하면서 접근시켜, 마스크(M)가 유리 기판(G)에 접촉한 상태로, 자기 흡착 척(307)을 마스크(M) 측으로 이동시킨다. 이에 의해, 마스크(M)가 유리 기판(G) 및 정전척(308)을 사이에 두고 자기 흡착 척(307)에 자기적으로 흡착된다. 이에 의해, 유리 기판(G)과 마스크(M)가 서로 위치맞춤된 상태로, 척 프레임(309)에 척킹되고, 결과로서 반송 캐리어(302)에 보유지지되게 된다.
다음으로, 도 4를 참조하여, 정전척(308) 및 자기 흡착 척(307)의 형상에 대해 설명한다. 척 프레임(309)은, 캐리어 본체(302A)보다 한층 작은 사각 형상의 부재이며, 정전척(308)의 외주 가장자리를 보유지지하고, 자기 흡착 척(307)의 격자 형상의 지지 프레임(307x2)을 지지하는 사각 형상의 프레임(307x1)의 4변을 가이드하는 가이드 벽(309a)을 구성하고 있다.
정전척(308)은, 세라믹 등의 판형상 부재이며, 내부 전극에 전압을 인가하고, 유리 기판(G)과의 사이에 작용하는 정전력에 의해 유리 기판(G)을 흡착하는 것이며, 척 프레임(309)의 하측 가장자리에 상하로 이동 불가능하게 고정되어 있다. 정전척(308)은, 도 4에 나타내는 바와 같이, 복수의 척판(308a)으로 분할되어 있고(도면에서는 6장), 각 척판(308a)의 변끼리가 복수의 리브(309b)에 의해 고정되어 있다. 리브(309b)는, 자기 흡착 척(307)의 지지 틀이 간섭하지 않도록 복수로 나뉘어져 있다.
자기 흡착 척(307)의 척 본체(307x)는, 사각 형상의 틀체(307x1)에 마스크(M)에 형성된 차폐 패턴에 대응하는 패턴의 격자 형상의 지지 프레임(307x2)과, 지지 프레임(307x2)에 부착되는 흡착 마그넷(31)(도 9 내지 도 14)을 포함하는 자기 흡착 기구를 구비한 구성으로 되어 있다. 흡착 마그넷(31)은, 지지 프레임(307x2)에 요크판(30)(도 9 내지 도 14)을 통하여 격자를 따라 S극, N극의 마그넷이 교대로 라인 형상으로 배열되어 있다. 자기 흡착 기구의 상세에 대해서는 후술한다.
또한, 반송 캐리어(302) 하면의 척 프레임(309)의 주위 복수 개소(실시예에서는 10개소)에는, 자기 흡착 척(307)과는 별개로, 마스크(M)를 보유지지하는 마스크 보유지지 수단으로서의 마스크 척(311)이 마련되어 있다. 이 마스크 척(311)은, 외부에 배치되는 액추에이터(311m)로부터의 구동력으로 구동되는 구성이며, 반송 캐리어(302)에는 구동원은 탑재되어 있지 않다. 마스크 척(311)은, 마스크(M)의 주연의 마스크 프레임(MF)을 계지함으로써, 유리 기판(G)을 사이에 두고 보유지지하고 있다.
(제조 프로세스)
다음으로, 실제로 유리 기판(G)에 마스크(M)를 고정하고, 증착실에 있어서 유기 EL 발광 재료를 진공 증착하여 배출하는 프로세스에 대해 설명한다.
도 1은, 상술한 바와 같이, 유기 EL 패널의 제조 라인(100)에 있어서의 각 제조 프로세스 공정에 대하여 유리 기판(G), 마스크(M)를 반송하는 반송 캐리어(302)(정전척(308))의 이동 위치를 나타낸다. 도면에서는 이해를 용이하게 하기 위해서, 제조 프로세스 공정에 있어서의 제어 상의 각 이동 위치에 반송 캐리어(302)를 부호 C1, C2를 부여하여 그리고 있지만(부호의 의미에 대해서는 후술함), 실제로 도시한 수만큼 반송 캐리어(302)가 반송로 상에 도입되어 있다고는 할 수 없다. 동시에 도입되는 대수는, 제조 프로세스의 설계, 택트 타임에 의해 결정된다. 또한, 도면에서는 제조 라인 상을 반송 캐리어 등이 지면 상에서 반시계방향으로 이동하고 있지만, 이 방향으로 한정되지 않는다.
제조 라인(100)에 있어서, 반송 캐리어(302)의 반송 방향에 대한 추진력으로서는 자기 구동 방식(리니어 모터 방식)이 채용된다. 또한, 반송 캐리어(302)의 연직 방향의 지지에는, 자기에 의한 부상과 롤러에 의한 가이드의 지지 중 어느 것이 이용된다. 상술한 바와 같이, 반송 캐리어(302)를 자기 부상시켜 반송하는 경우, 먼지나 티끌의 발생이 적기 때문에, 유기 EL 패널의 제조와 같은 높은 진공도나 클린도가 요구되는 장치에서의 반송에 매우 유효하다.
도면 중에서, 각 구성요소의 위치 관계가 변화하는 부위에는, 이하에 나타내는 바와 같은 P1 내지 P8의 부호를 부여한다.
P1: 반송 캐리어 상에 유리 기판(G)을 보유지지하는 유리 기판 반입 위치
P2: 반송 캐리어 상의 유리 기판(G)에 마스크(M)를 장착하는 마스크 장착 위치
P3: 증착 처리 후의 유리 기판(G)으로부터 마스크(M)를 분리하는 마스크 분리 위치
P4: 증착 처리 후의 유리 기판(G)을 반송 캐리어(302)로부터 분리하여 배출하는 기판 배출 위치
P5: 유리 기판(G)을 배출한 빈 반송 캐리어(302)를 리턴 반송로로 전달하는 캐리어 전달 위치
P6: 증착 처리 후에 분리한 마스크(M)를 리턴 반송로 상의 반송 캐리어(302)에 장착하는 마스크 전달 위치
P7: 리턴 반송로 상을 반송 중인 반송 캐리어(302)로부터 마스크(M)를 분리하여, 마스크 장착 위치(P2)로 반송하는 마스크 복귀 위치
P8: 마스크(M)를 분리한 반송 캐리어(302)를 리턴 반송로로부터 증착 처리용 반송로 상의 유리 기판 반입 위치(P1)로 시프트시키는 캐리어 복귀 위치(리턴 반송로 종점)
제조 라인(100)을 반송 모듈(301)에 의해 반송 캐리어(302)가 이동하는 동안, 제조 라인 상의 다양한 위치에 있어서, 유리 기판(G), 마스크(M), 및 반송 캐리어가 구비하는 정전척(308) 등의 적층 관계가 변화되거나, 반전 처리에 의해 상하가 180°역전하거나 한다. 이에 도 1에서는, 유리 기판(G), 마스크(M), 및 정전척(308)의 상하 관계의 이해를 돕기 위해서, 주된 위치마다 부호를 나타내고 있다. 즉, 유리 기판(G)의 성막되는 측의 면(피성막면)이 맨 위에 오는 경우는 부호 G1, 성막되지 않는 측의 면이 맨 위에 오는 경우는 부호 G2로 나타낸다. 또한, 정전척(308)의 기판 흡착 측이 맨 위에 오는 경우는 부호 C1, 기판을 흡착하지 않는 측이 맨 위에 오는 경우는 부호 C2로 나타낸다. 또한, 마스크(M)의 성막 측의 면이 맨 위에 오는 경우는 부호 M1, 성막되지 않는 측이 맨 위에 오는 경우는 부호 M2로 나타낸다. 부호는, 각 반전실에서는 반전후의 상태를 나타내고, 반입 실이나 배출실에서는 반입후·배출후의 상태를 나타낸다.
<반입 프로세스>
유리 기판 반입 위치(P1)에 있어서, 외부의 스토커로부터, 증착 처리 공정 반송로(100a) 상의 기판 반입실(101)에 유리 기판(G)이 반입되고, 반송 캐리어(302) 상의 소정의 보유지지 위치에서, 정전척(308)에 의해 보유지지된다. 유리 기판 반입 위치(P1)에 있어서는, 반송 캐리어(302)와 이것을 지지하는 반송 모듈(301)은, 반송 모듈(301)이 하측이 되도록 배치되어 있다. 이 때, 반송 캐리어(302)의 유리 기판 보유지지면(척면)이 위를 향한 자세이다. 유리 기판(G)은, 유리 기판 반입 위치(P1)로 상방으로부터 반입되어, 해당 척면에 재치된다.
계속해서, 유리 기판을 보유지지한 반송 캐리어(302)가 유리 기판 반입 위치(P1)로부터 반전실(102)로 반송된다. 이 반송은 롤러 반송 모드에서 행해진다. 즉, 반송 캐리어(302)는, 가이드 홈(303)이 가이드가 되는 롤러 베어링(304a, 304b)에 접촉하면서, 전류 또는 전압이 인가된 구동용 코일(306a, 306b)과 구동용 마그넷(305a, 305b)의 사이에 발생하는 자력에 의해, 진행 방향으로 진행한다.
<반전·모드 전환 프로세스>
반전실(102)에 있어서, 회전 지지 기구가, 유리 기판을 보유지지한 반송 캐리어(302)를 지지한 반송 모듈(301)을, 진행 방향에 대하여 180도 회전시킨다. 이에 의해 반송 캐리어(302) 및 반송 모듈(301)의 상하 관계가 반전하여, 유리 기판(G)이 하면측이 된다. 회전 지지 기구는, 반송 모듈(301)을 반송 캐리어(302)마다 진행 방향으로 180도 단위로 회전할 수 있다. 회전 동작 중에 반송 캐리어(302)와 반송 모듈(301)의 위치 어긋남을 일으키지 않도록, 중심 위치에 회전축이 위치하도록 구성하는 것이 바람직하다. 도면 중에서는, 반송 캐리어(302)와 반송 모듈(301)의 진행 방향에서의 반전을, 화살표 R로 나타낸다. 또한, 반송 모듈(301)과 반송 캐리어(302)를 기계적으로 로크하는 로크 기구를 사용하는 것도 바람직하다.
여기서, 반송 캐리어(302)를 반송 모듈(301)마다 회전시키는 이유 중 하나는, 반송 캐리어(302)를 가이드하기 위해서, 반송 캐리어의 가이드 홈(303a, 303b) 내에 반송 모듈의 양측에 배열된 롤러 베어링(304a, 304b)이 삽입되어 있는 것에 기인한다. 또 하나의 이유는, 반송 캐리어 측의 마그넷과 반송 모듈 측의 코일이 서로 대향하는 위치 관계에 있기 때문에, 반송 캐리어만을 반전하는 구조로 하면, 반전 중량은 가벼워지지만, 반송 캐리어 측의 마그넷의 배치나 반송 모듈의 가이드 기구가 복잡해지는 것에 기인한다.
반전실에서의 반전 처리 후, 구동용 코일에 인가되는 전류 또는 전압이 제어되어, 반송 캐리어(302)의 지지 방법이, 롤러 베어링(304a, 304b)과 가이드 홈(303a, 303b)의 접촉으로부터, 자기 부상으로 전환된다. 이에 의해, 롤러 반송 모드로부터 자기 부상 반송 모드로 이행한다. 계속해서, 반송 캐리어(302)가 자기 부상 반송 모드에서 얼라인먼트실(103)(마스크 장착 위치(P2))로 이동된다.
<얼라인먼트 프로세스>
얼라인먼트 동작은, 얼라인먼트 카메라에 의해, 유리 기판(G)과 마스크(M)에 미리 형성되어 있는 얼라인먼트 마크를 촬상하여 양자의 위치 어긋남량 및 방향을 검지하고, 자기 부상하고 있는 반송 캐리어(302)의 위치를 반송 구동계에 의해 미세하게 이동하면서 위치맞춤(얼라인먼트)을 행하고, 유리 기판(G)과 마스크(M)의 위치가 정확하게 위치맞춤된 상태에서, 자기 흡착 척(307)에 의해 마스크(M)가 흡착되어, 반송 캐리어(302)에 보유지지된다.
이 보유지지 상태는, 전술한 바와 같이 10개소의 마스크 척(311)에 의해 로크되고, 이후, 정전척(308), 자기 흡착 척(307)을 해제하여도, 유리 기판(G)과 마스크(M)가 얼라인먼트된 상태로 반송 캐리어(302)에 보유지지된 상태가 유지된다.
여기서, 얼라인먼트 시에, 반송 캐리어(302)가 자기 부상한 상태에서, 반송 모듈(301)에 대한 위치를 미세 조정하도록 하고 있다. 그 때문에, 얼라인먼트 전용의 미동 조정 기구를 별도 마련하지 않고, 반송 캐리어 구동계에 의해 얼라인먼트를 실시할 수 있으므로, 반송 캐리어(302)의 구성의 간략화, 경량화에도 유효하다.
(처리 플로우)
도 5의 플로우차트와, 도 6 내지 도 8을 참조하여, 얼라인먼트실(103)에 있어서의 얼라인먼트 동작의 상세를 설명한다. 도 6의 (A) 내지 도 8의 (D)는 각각, 도 5의 단계(S1 내지 S5, S7 내지 S12)에 대응한다. 또한, 설명을 간결하게 하기 위해, 도 6 내지 도 8에는 롤러 베어링(304a, 304b)과 가이드 홈(303a, 303b)을 도시하지 않는다.
먼저, 단계(S1)에 있어서, 도 6의 (A)와 같이, 마스크(M)가 마스크 전달 기구(100e)에 의해 프리얼라인먼트실(100g)로부터 반입된다. 얼라인먼트실 제어부는, 얼라인먼트실(103)에 마련된 센서에 의해 반입의 완료를 검지한다.
다음으로, 단계(S2)에 있어서, 도 6의 (B)와 같이, 반전실(102)로부터 얼라인먼트실(103)로, 기판을 보유지지한 반송 캐리어(302)가 자기 부상 반송 모드에서 반입된다. 여기서의 반송 방향 A는, 안쪽에서부터 전방을 향하는 방향으로 한다. 얼라인먼트실 제어부는, 반송 모듈(301)의 인코더의 값으로부터 위치를 검출하고, 소정의 얼라인먼트 위치에서 반송 캐리어(302)를 정지시킨다. 이 때의 마스크(M)와 유리 기판(G)의 클리어런스(틈)를 CLS2로 한다. 예를 들면, CLS2=68mm이다.
다음으로 단계(S3)에 있어서, 도 6의 (C)와 같이, 승강 장치(202)(잭(203a∼203d), 승강 로드(204a∼204d))에 의해 마스크(M)를 상승시키고, 유리 기판(G)에 접촉하기 직전에 정지한다. 잭(203a∼203d)과 승강 로드(204a∼204d)는, 본 실시예에서, 마스크 트레이(205)의 하면 4 코너에 각각 4조 설치되어 있고, 도 6에서는, 잭(203a)과 승강 로드(204a), 잭(203b)과 승강 로드(204b)의 조만을 나타내고 있다. 정지 위치는, 다음 단계(S4)에 있어서, 얼라인먼트 카메라가, 유리 기판(G)과 마스크(M)의 각각의 얼라인먼트 마크를 동시에 계측 가능한 위치가 된다. 이 때의 마스크(M)와 유리 기판(G)의 클리어런스를 CLS3로 하면, 예를 들면 CLS3=3mm이다.
다음으로, 단계(S4)에 있어서, 도 6의 (D)와 같이, 얼라인먼트 카메라(1310)에 의해, 유리 기판(G)과 마스크(M)의 각각의 얼라인먼트 마크가 동시에 계측된다. 또한, 반송 캐리어(302)에는, 얼라인먼트 카메라의 광축 방향을 따라 관통 구멍이 마련되어 있다. 얼라인먼트 카메라는, 이 관통 구멍을 통하여, 유리 기판(G)과 마스크(M)에 마련된 얼라인먼트 마크를 계측할 수 있다. 또한, 얼라인먼트 마크 계측을 가능하게 하는 구성이라면, 관통 구멍이 아니라, 예를 들면 노치 등을 이용해도 된다.
다음으로, 단계(S5)에 있어서, 도 7의 (A)와 같이, 얼라인먼트실 제어부는, S4에 있어서의 계측 결과로부터 유리 기판(G)과 마스크(M)의 위치 어긋남량을 산출하고, 위치 어긋남의 값이 소정의 허용 범위에 들어가도록, 유리 기판(G)을 보유지지한 반송 캐리어(302)의 위치를 조정한다. 위치조정시에는, 부호 331로 나타내는 바와 같이, 구동용 코일(306a, 306b)(도 3 참조)에 인가되는 전류 또는 전압을 제어하고, 구동용 마그넷(305a, 305b)과의 사이의 자력을 조정한다. 이와 같이 이 단계의 얼라인먼트 동작은, 반송 캐리어(302)를 부상시킨 상태로 행해진다. 다음으로, 단계(S6)에 있어서, 얼라인먼트 카메라가 다시 계측을 행하고, 얼라인먼트실 제어부가 위치 어긋남의 값이 소정의 범위 내인지 아닌지를 판정한다. 만약 범위 밖이라면 S5로 돌아가고, 위치 어긋남값이 범위 내로 들어갈 때까지 얼라인먼트를 반복한다.
이상 기술한 바와 같이, 이 플로우의 얼라인먼트 동작은, 반송 캐리어 및 그것에 보유지지되는 유리 기판(G)이 자기 부상한 상태에서, 자력에 의해 반송 캐리어의 위치를 조정함으로서 행해진다. 이 구성에서는 반송 캐리어와 반송 모듈이 비접촉이기 때문에, 마찰 등의 영향이 억제되며, 또한 고정밀도인 위치결정이 가능해진다. 또한, 얼라인먼트에 반송 캐리어를 반송하기 위한 구동용 코일과 구동용 마그넷에 의해 발생하는 자력을 이용하기 때문에, 얼라인먼트용으로 다른 구동 수단을 마련할 필요가 없다. 그 결과, 장치의 구성을 간이화함과 함께 비용을 저감하는 것이 가능하다.
얼라인먼트 동작이 완료하면, 마스크(M)를 자기 흡착하는 행정에 들어가지만, 본 실시예에서는, 먼저, 마스크 척(311)에 의해, 마스크 프레임(MF)을 척킹한다.
즉, S7에 있어서, 도 7의 (B)와 같이, 마스크(M)를 상승시켜 유리 기판(G)에 근접시킨다. 마스크(M)의 상승시에는, 승강 장치(202)에 의해 마스크 트레이(205)을 상승시킴으로써, 마스크 지지부(206)에 의해 지지되어 있는 마스크(M)가 상승한다. 마스크(M) 자체는, 도면에 모식적으로 나타내는 바와 같이 휘어 있고, 마스크 지지부(206)에 지지된 마스크 프레임(MF)이 상승하고, 유리 기판(G)과 소정의 틈까지 근접한다. 이 때의 마스크(M)와 유리 기판(G)의 클리어런스를 CLS71이라고 하면, 예를 들면 CLS71=0.5mm이다. 또한, 반송 캐리어(302)가 자기 부상하고 있는 것으로부터, 캐리어 스탠드부(31)의 하단과 마스크 트레이(205)의 사이에는 클리어런스 CLS72가 존재한다.
다음으로, S8에 있어서, 도 7의 (C)와 같이, 자기 부상 제어를 OFF로 하고, 반송 캐리어(302)를 마스크 트레이(205)에 착좌(着座)시킨다. 자기 부상 제어가 OFF가 됨으로써, 부상력을 없앤 반송 캐리어(302)가 자체 무게에 의해 낙하하고, 마스크 트레이(205)에 착좌한다. 도시한 예에서는, 캐리어 본체(302A)에 마련된 캐리어 스탠드부(302A1)의 하단이 마스크 트레이(205)에 접촉하도록 되어 있다. 이 때의 마스크(M)와 유리 기판(G)의 클리어런스를 CLS8이라고 하면, 예를 들면 CLS8=0.3mm이다.
다음으로, S9에 있어서, 도 7의 (D)와 같이, 마스크 척킹을 실시한다.
즉, 외부의 구동 장치의 구동에 의해, 회전축(311f)이 회전 구동되며, 척편(311c)이 마스크 프레임(MF)에 결합하여 척킹된다. 도시한 예에서는, 상측의 척편(31lb)을 생략하고 있다. 이 시점에서, 마스크 프레임(MF)이 고정된다. 이 상태는 정전척(308), 자기 흡착 척(307)을 해제해도 유지된다.
다음으로, S10에 있어서, 도 8의 (A)와 같이, 마스크 척(311)으로 마스크(M)가 보유지지된 상태로, 반송 캐리어(302)를 부상 개시 위치까지 상승시킨다. 반송 캐리어(302)의 상승은 마스크 트레이(205)의 승강 장치에 의해 행한다. 부상 개시 위치는, 반송 모듈(301)의 구동용 코일(306)과 반송 캐리어(302)의 구동용 마그넷(305)의 간격이, 반송 캐리어(302)를 부상시킬 수 있는 정도의 흡인력이 되는 거리이다. 이 단계에서는, 예를 들면, 반송 캐리어(302)를 0.7mm 정도 상승시킨다.
다음으로, S11에 있어서, 도 8의 (B)와 같이, 자기 부상 제어를 ON으로 하고, 마스크 트레이(205)로부터, 마스크(M)가 보유지지된 반송 캐리어(302)를 부상시킨다. 즉, 반송 모듈(301)의 구동용 코일(306)과 반송 캐리어(302)의 구동용 마그넷(305) 사이의 흡인력에 의해, 반송 캐리어(302)가 마스크 트레이(205)로부터 소정량 부상한다. 상승량은, 예를 들면, 0.5mm 정도이다. 즉, 이 때의 마스크 트레이(205)와, 반송 캐리어(302)의 캐리어 스탠드부(302A1)의 하단의 사이의 클리어런스를 CLS11이라고 하면, 예를 들면 CLS11=0.5mm이다.
다음으로, S12에 있어서, 도 8의 (C)와 같이, 자기 흡착 척(307)을 하강시켜 마스크(M)를 유리 기판(G) 표면에 자기 흡착시킨다. 즉, 상승단에서 로크되어 있었던 로크편이 외부의 액추에이터에 의해 회전 구동되어, 퇴피 위치로 이동하여 하강 방향으로의 로크가 해제되고, 자기 흡착 척(307)이 유리 기판(G)을 보유지지하는 정전척(308)을 향하여 하강하고, 정전척(308) 및 유리 기판(G)을 사이에 두고, 자기 흡착 척(307)의 흡착 마그넷(31)과 마스크(M)가 자기 흡착되어 보유지지된다. 이에 의해, 얼라인먼트된 상태의 마스크(M)가 유리 기판(G)의 성막면에 전면적으로 밀착하여 보유지지된다. 또한, 자기 흡착 척(307)의 하방으로의 이동은, 반송 캐리어(302)의 외부로부터의 구동력에 의해 실현하고 있다. 이 때의 자기 흡착 척(307)의 하강량은, 예를 들면 30mm이다.
다음으로, S13에 있어서, 도 8의 (D)와 같이, 반송 캐리어(302)가 반송 방향 A를 향하여, 얼라인먼트실(103)로부터 가속실(104)로 반출된다.
이상의 플로우에 의해, 정전척(308)에 의해 보유지지된 유리 기판(G)의 성막면에, 얼라인먼트된 마스크(M)가 자기 흡착 척(307)에 의해 보유지지되며, 추가로 마스크 척(311)에 의해 마스크 프레임(MF)이 척킹된 상태로, 반송 캐리어(302)가 반출된다.
<증착 프로세스>
도 1로 돌아가서, 설명을 계속한다. 얼라인먼트 동작을 완료하고, 얼라인먼트실(103)로부터 배출된 반송 캐리어는, 상술한 바와 같이 가속실(104)에서 가속화되어, 증착실(105)로 반입된다. 반송 캐리어를 증착실(105)로 반입하기 전에 가속화됨으로써, 얼라인먼트실(103)에 있어서의 고정밀도 얼라인먼트 처리에 필요한 시간의 지연을 보상하고, 택트 타임의 저하를 억제할 수 있다.
증착실에서는, 반송 캐리어를 소정의 증착 속도로 자기 부상한 상태에서 화살표 B 방향으로 이동하면서, 유기 EL 발광 재료를 진공 증착한다. 이에 의해 유리 기판(G)의 피성막면에 대해, 마스크(M)에 의한 원하는 성막 패턴으로의 성막이 행해진다. 이와 같이, 반송 캐리어를 얼라인먼트실로부터 가속실 및 증착실로 반입할 때나, 증착실 내를 이동시킬 때에, 자기 부상 반송 모드를 이용함으로써, 먼지의 발생이나 마찰에 의한 분체의 발생을 방지할 수 있으므로, 고품질의 성막이 가능해진다.
<분리·반출 프로세스>
증착 처리를 마치고 증착실(105)로부터 배출된 반송 캐리어는, 감속실(106)에서 감속되어, 마스크 분리 위치(P3)에 있는 마스크 분리실(107)로 반송되어 소정 위치에서 정지한다. 여기서 마스크 척(311)에 의한 마스크(M)의 로크 상태가 해제되어, 마스크(M)가 유리 기판으로부터 분리된다.
분리된 마스크(M)는, 상술한 마스크 승강 장치와 같은 기구에 의해 하강된다. 마스크 전달 기구(100c)는, 하강된 마스크(M)를 보유지지 프레임으로 수취하여 보유지지하고, 증착 처리 공정 반송로(100a)와 리턴 반송로(100b)의 사이의 퇴피 위치로 반송한다. 그리고, 리턴 반송로(100b) 상의 마스크 수취 위치(P6)에, 기판 배출 후의 빈 반송 캐리어(302)가 이동해 오면, 반송 캐리어(302)의 하방 위치로 마스크(M)를 이동시킨다. 그리고, 마스크 승강 장치와 동일한 기구에 의해 마스크(M)를 반송 캐리어(302) 하면으로 상승시키고, 자기 척(308)에 보유지지시킨다. 이와 같이 마스크(M)를 보유지지한 반송 캐리어(302)는, 공급측으로 리턴 반송된다.
한편, 마스크 분리실(107)에서 마스크(M)를 분리 완료한 반송 캐리어(302)는, 마스크 척(311)의 계지부에 의해 유리 기판(G)을 보유지지한 채 반전실(108)로 이동한다. 반전실(108) 내에서는, 공급측의 반전실(102)과 동일한 회전 지지 기구가, 반송 캐리어(302)를 반송 모듈(301)마다, 진행 방향으로 180도 회전한다. 이에 의해, 유리 기판(G)이 상면이 된다.
반전실(108)에서 반전된 후, 반송 캐리어(302)의 반송 모드가, 자기 부상 반송 모드로부터 다시 롤러 반송 모드로 전환된다. 계속해서, 반송 캐리어(302)는, 롤러 반송에 의해, 기판 배출 위치(P4)의 유리 기판 배출실(109)로 반송된다. 기판 배출 위치(P4)에서는, 유리 기판(G)의 마스크 척이 해제되며, 유리 기판(G)은 도시하지 않는 배출 기구에 의해 다음 공정으로 반송된다.
유리 기판 배출실(109)에서 유리 기판(G)을 배출하여 빈 상태가 된 반송 캐리어(302)는, 반송 모듈(301)과 함께, 도면에서 보면 반시계방향으로 90도 회전된다. 그 때문에 유리 기판 배출실(109)은, 반송 모듈(301)을 평면 방향으로 회전시키는 방향 전환 기구를 구비한다. 계속해서, 반송 캐리어(302)는, 반송 모듈(301)로부터 캐리어 시프터(100d)로 전달되며, 리턴 반송로(100b) 시점인 캐리어 전달 위치(P5)로 반송된다. 한편, 반송 캐리어(302)를 캐리어 시프터(100d)로 전달한 후의 반송 모듈(301)은, 시계방향으로 90도 회전되어 원래의 방향으로 돌아간다. 이에 의해 반송 모듈(301)은, 다음에 반전실(108)로부터 반출되는 반송 캐리어(302)를 받아들일 수 있는 상태로 복귀한다.
캐리어 시프터(100d)는, 반송 모듈(301)과 동일한 반송용 기구를 가진다. 캐리어 시프터(100d)는, 유리 기판 배출실(109)에서 90도 회전된 반송 모듈(301)로부터, 기판을 배출하여 빈 반송 캐리어(302)를 수취하고, 리턴 반송로(100b)의 시점(캐리어 전달 위치(P5))에 배치된 방향 전환 기구(방향 전환용의 반송 모듈)(110)로 넘겨준다. 방향 전환 기구(110)는 반송 캐리어(302)를, 평면에서 보았을 때 반시계방향으로 90도 회전하고, 리턴 반송로(100b)를 구성하는 반송 모듈(301)로 반송한다. 반송 완료 후, 방향 전환 기구(110)는 시계방향으로 90도 회전하여 원래의 위치로 복귀하고, 캐리어 시프터(100d)로부터 다음 반송 캐리어(302)를 수취 가능한 상태가 된다.
<리턴 프로세스>
반송 캐리어(302)는, 리턴 반송로(100b) 상을 롤러 반송 모드로 이동한다. 반전실(111)에 있어서, 회전 지지 기구가, 반송 캐리어(302)를 반송 모듈(301)마다 진행 방향으로 180도 회전한다. 이에 의해 반송 캐리어(302)는, 정전척(308)의 마스크 장착면이 하면측이 된 상태로 마스크 수취 위치(P6)로 반입된다. 계속해서, 반송 캐리어(302)는, 마스크 전달 기구(100c)로부터 마스크(M)를 수취하여 자기 흡착 척(307)으로 흡착하고, 마스크 척(311)으로 보유지지한다. 계속해서, 반송 캐리어(302)는, 마스크(M)를 마스크 척(311)으로 보유지지하면서, 계속해서 롤러 반송 모드에서 화살표 C 방향으로 이동한다.
반송 캐리어(302)는, 마스크 분리실(112)에 있어서의 마스크 분리 위치(P7)까지 이동한 후 정지하고, 마스크 척(311)을 해제하여 마스크(M)를 분리한다. 분리된 마스크(M)는, 마스크 전달 기구(100e)로 전달된다. 마스크 전달 기구(100e)는, 증착 처리 공정 반송로(100a)와 리턴 반송로(100b)의 사이의 프리얼라인먼트실(100g)에 있어서 마스크(M)를 대략적으로 얼라인먼트한 후, 얼라인먼트실(103)로 반송한다.
한편, 마스크 분리 위치(P7)에 있어서 마스크(M)를 분리한 반송 캐리어(302)는, 반전실(113)에 있어서 진행 방향으로 180도 회전된다. 이에 의해 정전척(308)의 유리 기판 보유지지면이 상면측을 향한 상태가 된다. 그리고 반송 캐리어(302)는, 리턴 반송로(100b)의 종점인 캐리어 복귀 위치(P8)에 있는 방향 전환 기구(114)에 의해, 시계방향으로 90도 회전된다. 계속해서, 캐리어 시프터(100f)로 넘겨주고, 증착 처리 공정 반송로(100a)의 시점인, 유리 기판 반입 위치(P1)에 있는 기판 반입실(101)로 반송된다. 방향 전환 기구(114)는, 반송 캐리어(302)를 넘겨준 후에 반시계방향으로 90도 회전하여 원래의 상태로 돌아간다. 한편, 기판 반입실(101) 내에 반입된 반송 캐리어(302)는, 추가로 반시계방향으로 90도 회전되어, 외부로부터 반입되는 다음 유리 기판(G)을 보유지지 가능한 초기 위치로 복귀한다.
이상의 처리를 행함으로써, 순차 반입되는 유리 기판 상에 유기 EL 발광 재료를 증착하는 일련의 처리를 막힘없이 실행할 수 있다.
또한, 반송 캐리어(302)를 자기 부상 방식으로 반송함으로써 먼지나 마찰에 의한 분체의 발생을 억제할 수 있으므로, 특히 증착실 내부나 증착실로의 반출입 등에 있어서 유효하다. 더욱이, 도시한 예에 의하면, 유리 기판(G)이 제조 라인(100)으로 반입된 후, 얼라인먼트 및 증착을 거쳐 배출될 때까지의 과정에 있어서, 유리 기판(G)은 일방향으로 반송될 뿐이며, 또한, 진행 방향에서 상하 반전할 필요는 있지만, 로봇 등에 의해 평면 방향에서 선회할 필요는 없다. 즉, 유리 기판(G)은 직선 형상의 반송로 상을 반송된다. 따라서, 유리 기판(G)을 로봇 등에 의해 평면 방향으로 선회시킬 필요가 없기 때문에, 먼지나 분체가 기판에 부착될 가능성을 더욱 저감할 수 있다.
또한, 도시한 예에서는, 유리 기판(G)의 피성막면을 상향으로 한 상태에서 제조 라인으로 반입한다. 그 때문에, 예를 들면 유리 기판(G)을 성막되지 않는 면을 지지 기구에 재치하여 반입하면, 반송 캐리어(302) 상으로의 유리 기판 장착시에 성막면을 보호하는 점에서도 유효하다.
여기서, 증착실에서는 진공 중에서 증착 재료를 PVD 또는 CVD로 기화 또는 승화시켜 성막 처리를 행하기 때문에, 증착 재료를 하방으로 배치할 필요가 있다. 이에 증착시에는, 유리 기판의 피성막면을 하향으로 위치시킨 자세로 제어할 필요가 있다. 본 실시예의 구성에 의하면, 마스크(M)는, 반송 캐리어(302)에 보유지지된 유리 기판(G)의 피성막면이 하면측을 향하고 있는 상태로, 하측으로부터 해당 피성막면을 향하여 상승되며, 얼라인먼트 공정을 거쳐 유리 기판(G)에 장착된다. 그 때문에, 마스크(M)를 장착한 시점에서, 상기 증착 재료를 증착 가능한 자세가 되어 있다.
반송 캐리어(302)에 대한 유리 기판 보유지지에는 정전척(308)이 이용되며, 마스크 보유지지에는 자기 흡착 척(307) 및 기계식의 마스크 척(311)이 이용된다. 정전척(308) 및 자기 흡착 척(307)은 척 프레임(309) 내에 조립되어 있고, 자기 흡착 척(307)은, 척 프레임(309) 내에 있어서의 승강 동작(마스크(M)에 대한 마그넷(31)의 접근 이격 동작)에 의해 척킹, 비(非)척킹 상태를 전환할 수 있다. 마스크(M)는, 먼저 기계식의 마스크 척(311)에 의해, 유리 기판(G)을 사이에 두고 반송 캐리어(302)에 탄성적으로 보유지지된다. 그 후, 자기 흡착 척(307)을 하강시킴으로써, 마스크(M)의 척킹을 완료한다. 본 실시예의 구성에 의하면, 이들 3종의 척을 반송 캐리어(302)에 콤팩트하게 조립할 수 있다.
본 실시예의 정전척을 제어하는 정전척 제어부는, 충전식의 전원이나, 제어계로부터의 지령을 통신하는 무선 통신 수단과 함께 제어 박스(312)에 격납되고, 반송 캐리어에 조립되어 있다. 그 때문에, 제조 프로세스에 있어서, 외부로부터 반송 캐리어(302)에 전원 공급 케이블이나 통신 케이블 등을 접속할 필요가 없어진다.
상술한 실시예에서, 구동용 마그넷(305a, 305b)은 반송 캐리어(302)의 상면에 마련되며, 반송 모듈(301) 상에 구동용 마그넷(305a, 305b)에 대향하도록 배치된 구동용 코일(306a, 306b)에 의해 상부로부터 흡인되는 구성으로 되어 있다. 그러나, 자석 유닛과 코일 유닛의 배치는 이로 한정되지 않고, 반송 캐리어(302)의 측면에 구동용 마그넷을 배치하고, 구동용 마그넷에 대향하는 반송 모듈(301) 상의 위치에 복수의 코일을 배치하고, 반송 캐리어(302)의 측면에서 자기 부상에 의해 보유지지하는 것도 가능하다.
본 실시예에 의하면, 반송 캐리어(302)에 의해 유리 기판(G)과 마스크(M)를 보유지지한 상태로, 증착실에서 증착되기 전에, 얼라인먼트실에서 자기에 의해 부상한 상태에서, 자기의 힘에 의해 얼라인먼트된다. 이에 의해, 고정밀도의 위치결정이 가능해진다. 또한, 반송 캐리어의 반송 수단인 코일에 대한 전류 또는 전압에 의해 제어하기 위해, 얼라인먼트용으로 다른 수단을 마련할 필요가 없고, 장치를 단순하고 또한 저비용으로 실현하는 것이 가능하다.
<본 실시예의 특징적 구성 및 우수한 점>
도 9 내지 도 14를 참조하여, 본 실시예에 관련되는 마스크 보유지지 기구에 대해 설명한다.
도 9에, 마스크 보유지지 기구로서의 자기 흡착 마그넷(307)의 배치 및 마스크(M)에 대한 흡인력(흡착력) 밀도를 나타낸다. 도 9는 자기 흡착 마그넷(307)의 일부를 나타내고 있고, 도 9의 (A)는 저면도(자기 흡착 마그넷(307)을 마스크(M) 측에서 본 모식도)를 나타내고, 도 9의 (B)는 측면도를 나타내고, 도 9의 (C)는 마스크(M)의 흡인력 밀도를 나타내고 있다.
자기 흡착 마그넷(307)은, 영구자석(31) 및 요크(30)로 구성되어 있다.
요크(30)는, 유리 기판(G)에 성막되는 성막 패턴에 있어서의 피성막 영역을 차폐하기 위한 마스크(M)의 차폐부에 대응한 격자 형상을 가지고 있다.
영구자석(31)은, 마스크(M)의 격자 형상에 있어서의 직선부에, 직선부가 연장하는 방향을 따라 소정의 피치 간격으로 복수 배치되어 있다. 복수 늘어선 영구자석(31)은 이웃하는 영구자석과의 사이에서 마스크측의 자극이 교대로 S극, N극이 되도록, 즉, 착자 방향이 서로 다르게 되도록 배치되어 있다. 이하에 설명하는 각 영구자석(31)은, 모두 직방체 형상을 가지고 있고, 요크(30)로부터의 높이는 모두 동일하게 되도록 구성되어 있다.
요크(30)와 영구자석(31)은 자기 흡인력으로 흡착하고 있고, 영구자석(31)을 배치하는 위치에는 홈이 파여 있어, 영구자석(31)의 위치를 정하고 있다.
본 실시예에서는, 요크(30)의 직선부의 폭과 영구자석(31)의 폭을 동일한 크기로 구성하고, 요크(30)의 직선부의 마스크(M) 측의 면에, 직선부의 폭방향으로 연장하여 양단 개방된 홈을 형성하여, 영구자석(31)이 부착되어 있다.
마스크(M)에 균일하게 흡인력을 발생시키기 위해서는 도 9의 (A)에 나타낸 바와 같이, 마스크(M)의 차폐부(도 9의 (A)의 점선부)의 폭보다 영구자석(31) 및 요크(30)의 폭을 크게 해 두는 것이, 보다 큰 흡착력을 얻을 수 있기 때문에 바람직하다. 그러나, 충분한 흡착력이 얻어질 때에는, 마스크(M)의 차폐부의 폭보다 영구자석(31) 및 요크(30)의 폭이 작게 되어 있어도 된다.
도 9의 (C)에 나타낸 단위면적당 마스크(M)를 흡인하는 힘을 나타내는 흡인력 밀도는 유한요소법에 의한 자계 해석 결과이며, 영구자석(31)의 바로 아래에서 흡인력 밀도는 피크가 되고, 피치(P)의 주기로 흡인력이 발생하고 있다. 유리 기판(G)과 마스크(M)의 틈을 발생하지 않고 밀착시키는 조건으로서, 적어도 자기 흡착 척(307)의 단위면적당 흡인력이 마스크(M)의 단위면적당 중량에 대하여 1배 이상의 흡인력을 마스크(M) 전역에 대하여 주는 것이 필요하다. 본 실시예에서는 자기 흡착 척(307)의 단위면적당 흡인력은 마스크(M)의 단위면적당 중량에 대하여 3배 이상을 가지도록 구성된다.
도 10에, 자기 흡착 마그넷의 교차부의 영구자석 배치를 나타낸다. 도 10의 (A)는, 자기 흡착 마그넷(307) 전체의 개략도를 나타내고, 도 10의 (B)는, 자기 흡착 마그넷(307)의 T자 교차부(3070)의 영구자석 배치를 나타내고, 도 10의 (C)는, 자기 흡착 마그넷(307)의 코너 교차부(3071)의 영구자석 배치를 나타내고 있다.
도 10의 (B), 도 10의 (C)에는, 도 9의 (A)와 마찬가지로 마스크(M)의 차폐부를 점선으로 나타내고 있다. 자기 흡착 마그넷(307)과 마스크(M)의 장치 위치는, T자 교차부(3070)의 중심, 및, 코너 교차부(3071)의 중심과 마스크(M)의 차폐부의 중심이 맞도록 되어 있다. 구체적으로는, 마스크(M)의 유리 기판(G)에 대한 흡착 방향으로 자기 흡착 마그넷(307)과 마스크(M)를 투영했을 때, 마스크(M)의 차폐부에 있어서의 직선부의 폭 중심과, 자기 흡착 마그넷(307)의 격자 형상에 있어서의 직선부의 폭 중심이 일치하도록 위치결정된다.
도 10의 (B)에 나타내는 바와 같이, 자기 흡착 마그넷(307)의 T자 교차부(3070)의 중심에 영구자석(31a)(제2 영구자석)을 배치하고 있다.
구체적으로, 영구자석(31a)(제2 영구자석)은, 자기 흡착 마그넷(307)에 있어서, 도면의 횡방향으로 연장하는 직선부(제1 직선부)에 있어서의, 도면의 종방향으로 연장하는 직선부(제2 직선부)의 선단이 대향하는 영역을 교차부로 하여 배치되어 있다. 자기 흡착 마그넷(307)의 횡방향 직선부(제1 직선부)에 대하여, 그 연장하는 방향을 따라 복수의 영구자석이 소정의 피치 간격을 두고 배치되어 있고, 그 영구자석 중, 횡방향 직선부(제1 직선부)와 종방향 직선부(제2 직선부)를 연결하는 교차부에 배치되는 영구자석(31a)이 본 발명의 제2 영구자석에 대응하고, 나머지의 영구자석이 본 발명의 제1 영구자석에 대응한다. 자기 흡착 마그넷(307)의 종방향 직선부(제2 직선부)에 대해서도, 그 연장하는 방향을 따라 영구자석(31b)(제3 영구자석)이 소정의 피치 간격을 두고 배치되어 있다.
횡방향 직선부(제1 직선부)의 연장 방향(제1 방향)에 있어서, 교차부의 영구자석(31a)(제2 영구자석)의 폭 중심은, 종방향 직선부(제2 직선부)의 영구자석(31b)(제3 영구자석)의 폭의 중심(또는 종방향 직선부(제2 직선부)의 폭 중심)과 일치한다(각각 제2 직선부의 연장 방향을 따른 1개의 가상 직선 상에 위치한다).
이 때, 보다 균일한 흡착력을 얻기 위해서는, 교차부 중심의 영구자석(31a)(제2 영구자석)의 마스크측의 자극과, 이것과 이웃하는 영구자석(31b)(제1 영구자석)의 마스크측의 자극이, 서로 다른 극이 되도록 배치하여 있는 편이 바람직하다.
도 10의 (C)에 나타낸 바와 같이, 코너 교차부(3071)도 T자 교차부(3070)와 마찬가지로, 코너 교차부(3071)의 중심에 영구자석(31c)(제2 영구자석)을 배치하고 있다. 중심을 잡는 방법은, 도 10의 (B)와 마찬가지이며, 구체적인 설명은 생략한다. 이 경우에도, 교차부 중심의 영구자석(31c)의 마스크측의 자극과, T자 교차부(3070)와 마찬가지로 이웃하는 영구자석(31d)의 마스크측의 자극이, 서로 다른 극이 되도록 배치하여 있는 편이 바람직하다.
도 11에, 자기 흡착 마그넷의 교차부의 영구자석 배치의 비교를 나타낸다. 도 11의 (A)는 본 실시예의 영구자석 배치예를 나타내고, 도 11의 (B)는 T자 교차부의 중심과 영구자석이 어긋나 있는 경우의 배치예를 비교예로서 나타내고 있다. 도 11의 (C)는 영구자석 배치에 의한 흡인력 밀도의 본 실시예와 비교예의 비교를 나타내고 있고, 도 11의 (A)의 AA 단면 바로 위의 흡인력 밀도(41)와, 도 11의 (B)의 BB 단면 바로 위의 흡인력 밀도(42)를 각각 나타내고 있다.
영구자석의 마스크측의 자극을 S극, N극이 교대로 되도록 배치했을 때, 이웃하는 2개의 다른 극(착자 방향이 서로 역방향)의 영구자석이 쌍으로 되어 양자 간에 자속이 흐른다. 그 때문에, 도 11의 (B)과 같은 영구자석의 배치에서는, 교차부의 중심의 양측에 배치된 영구자석(31f 및 31g)과 그 옆에 있는 영구자석(31h)의 자속밀도의 균형이 잡히지 않고, 흡인력 밀도(42)는 교차부의 중심에 대하여 비대칭으로 되어 있다. 그 때문에, 특정한 영구자석의 크기를 조정하는 것만으로는, 흡인력 밀도를 균일하게 하는 것은 곤란하다.
한편, 본 발명을 적용한 도 11의 (A)의 배치에 있어서, 흡인력 밀도(41)는 교차부의 중심에 대하여 대칭인 특성이 얻어지고 있고, 교차부의 중심 이외에는 흡인력 밀도값에 피크의 목표값(40)과 일치하고 있다. T자 교차부의 중심에 배치된 영구자석(31e)(제2 영구자석)의 크기를 다른 영구자석(제1 영구자석)보다 크게 함으로써, 흡인력 밀도의 대칭성을 유지한 채로, 교차부의 중심 이외에는 흡인력 밀도를 크게 할 수 있고, 교차부의 중심의 흡인력 밀도의 크기와 교차부 중심 이외의 흡인력 밀도의 크기와의 차를 작게 할 수 있고, 자기 흡착 마그넷(307) 전체의 흡인력 밀도를 균일하게 할 수 있다.
도 12에, 자기 흡착 마그넷(307)의 교차부의 영구자석 사이즈와 흡인력 밀도의 균일성의 관계를 나타낸다. 본 실시예에 있어서, 도면의 횡방향을 마스크(M)의 길이 방향(제1 직선부의 연장 방향: 제1 방향)으로 하고, 해당 길이 방향에 있어서의 자석의 길이를 자석의 폭으로 정의했을 때, 교차부 중심에 배치된 영구자석(31x)(제2 영구자석)의 폭을 W로 하고, 영구자석(31x)에 대하여 길이 방향과 교차하는 방향(제2 직선부의 연장 방향: 제2 방향)에 이웃한 위치에 있는 영구자석(31y)(제3 영구자석)의 폭(제2 방향의 폭)을 15mm로 하였다. 그 밖의 영구자석(제1 영구자석)의 폭을 10mm로 했을 때, 영구자석(31x)(제2 영구자석)의 폭(W)과 에어리어1 ∼ 에어리어5의 흡인력 밀도의 균일성의 관계에 대해 도 12의 하부의 특성으로 나타내고 있다. 영구자석(31x)(제2 영구자석)의 폭(W)을 15mm로 했을 때, 에어리어1 ∼ 에어리어5의 흡인력 밀도 차가 가장 작게 되었다. 본 실시예에서는, 교차부 중심에 배치된 영구자석(31x)(제2 영구자석)의 폭, 및 영구자석(31y)(제2 직선부에 배치된 제3 영구자석)의 폭(제2 방향에 있어서의 폭)을 15mm로 하고, 다른 영구자석(제1 직선부에 배치된 제1 영구자석)의 폭(제1 방향에 있어서의 폭)을 10mm로 했을 때, 흡인력 밀도를 균일하게 할 수 있었다.
도 13에, 평균 흡인력 밀도와 영구자석 피치의 관계를 나타낸다. 영구자석의 마스크측 자극간 피치(P)를 일정하게 유지한 채로, 전술한 바와 같이 교차부의 중심에 영구자석을 배치하는 것은 곤란하다. 예를 들면, 도 13에 나타낸 바와 같이, 교차부의 중심의 영구자석(30i)과 영구자석(30j)의 거리(X)와, 영구자석(30j)과 영구자석(30k)의 거리(X')가 다르고, 그 차가 자극간 피치(P)의 배수가 아닌 경우, 자극간 피치(P)와 자극간 피치(P')는 동일하게는 할 수 없다.
영구자석의 자극간 피치(P)의 구간에서 발생하는 흡인력 밀도의 평균값을 평균 흡인력 밀도로 정의하고, 도 13의 하부에 평균 흡인력 밀도와 영구자석의 자극간 피치(P)의 관계의 특성도를 나타내고 있다. 본 실시예의 경우, 영구자석의 자극간 피치(P)를 17mm로부터 늘려 가면, 평균 흡착력 밀도는 상승하지만, 자극간 피치(P)가 25mm 내지 33mm의 사이에 있을 때, 평균 흡착력 밀도는 거의 일정한 값으로 되어 있다. 그 때문에, 먼저, 교차부의 중심이 되도록 영구자석(30i, 30j, 30k)을 배치하는 위치를 정한다. 그리고, 그 사이의 자극간 피치(P 및 P')를 25mm 내지 33mm 사이의 임의의 위치로 조정함으로써, 본 발명의 효과를 얻는 것이 가능해지고, 자기 흡착 마그넷(307) 상의 전면에 대하여 균일한 흡인력 밀도를 부여할 수 있다.
도 14에, 그 밖의 영구자석 배치예를 나타낸다.
도 14의 (A)는, 교차부의 중심에 배치해야 할 영구자석(제2 영구자석)을 영구자석(31m)과 영구자석(31n)의 2개로 분할한 경우의 배치예를 나타내고 있다. 분할한 영구자석은 동일한 극이 되도록 하고, 종방향 직선부(제2 직선부)에 배치된 영구자석의 폭 중심에 대하여, 횡방향 직선부(제1 직선부)의 연장하는 방향(제1 방향)으로 대칭적으로 배치한다. 교차부의 중심에 영구자석이 배치되어 있지 않아도, 자기 회로적으로 등가이면 전술한 실시예의 구성과 마찬가지로 균일한 흡인력 밀도를 얻을 수 있다.
이 경우, 영구자석(31m)과 영구자석(31n)의 크기는, 적어도, 그 배열 방향을 따라 배치된 다른 영구자석(제1 영구자석)과 동일한 크기로 할 수 있다(제1 방향의 폭이 동일함). 따라서, 준비해야 할 영구자석의 사이즈의 종류를 적게 할 수 있고, 비용 저감을 도모할 수 있다.
도 14의 (B)는, 자기 흡착 마그넷(307)의 서로 직교하는 직선부가 십자로 교차한 구성이 된 경우의 영구자석 배치예를 나타내고 있다. 자기 흡착 마그넷(307)의 직선부가 십자로 교차하는 경우라도, 전술한 영구자석 배치는 가능하다.
또한, 본 실시예에서는, 제1 직선부와 제2 직선부가 직각으로 교차하는(즉, 직교하는) 구성에 대해 설명했지만, 직각에 대하여 다소의 각도를 가지고 교차하는 구성에 대해서도, 본 발명은 적용 가능하다. 즉, 제1 직선부와 제2 직선부가 교차하는 각도는 직각으로 한정되는 것이 아니고, 직각이 아니더라도 상술한 자기 간섭을 생기게 하는 각도로 교차하는 구성에 대하여 본 발명을 적용함으로써, 본 실시예와 마찬가지의 효과를 나타낼 수 있다.
[실시예 2]
도 15를 참조하여, 본 발명의 실시예 2에 대해 설명한다. 또한, 실시예 2에 있어서 실시예 1과 공통되는 구성에 대해서는 동일한 부호를 부여하여 재차의 설명을 생략한다. 실시예 2에 있어서 여기서 특별히 설명하지 않는 사항은, 실시예 1과 마찬가지이다.
실시예 1에서는, 흡착되는 마스크가 오픈 마스크인 경우에 대해 설명을 해 왔지만, 파인 메탈 마스크에 대해서도 본 발명은 적용 가능하다. 파인 메탈 마스크의 경우, 자기 흡착 마그넷은 마스크 전면에 걸쳐 마스크측의 자극이 S극, N극이 교대로 되도록 영구자석이 배치되는 경우가 많다. 그러나, 영구자석 및 요크의 사용량이 많아짐으로써, 자기 흡착 마그넷을 포함하는 가동부의 중량이 커진다. 가동부의 중량이 크면 기판 반송의 부하가 걸릴 뿐만 아니라, 장치 전체의 강성을 높게 할 필요가 있고, 큰 비용 증대로 이어진다. 그 때문에, 가동부의 경량화가 요구되는 경우가 많고, 가동부의 구성요소인 자기 흡착 마그넷의 경량화가 중요하다.
도 13에서 나타낸 바와 같이, 본 실시예의 경우, 영구자석의 자극간 피치(P)를 늘려 가면, 자극간 피치(P)가 25mm까지는 평균 흡착력 밀도가 상승한다. 그 때문에, 평균 흡착력 밀도가 상승한 만큼, 영구자석의 사용량을 줄이더라도, 동등한 마스크의 흡착력을 얻을 수 있다.
도 15에, 본 발명을 파인 메탈 마스크에 적용한 경우의 실시예를 나타낸다. 파인 메탈 마스크(FM)를 흡착하는 자기 흡착 척(307a)은 영구자석의 자극간의 거리를 두고, 평균 흡착력 밀도가 상승한 만큼, 영구자석의 사용량을 줄이고 있다. 나아가, 틈(3072)을 마련함으로써 자기 흡착 척(307a)의 경량화를 행하고 있다. 또한, 도 12를 참조하여 설명한 바와 같이, 흡인력이 저하되는 T자 교차부의 중심, 및, 코너 교차부의 중심의 영구자석(도 15의 실시예에서는 모든 S극)을 크게 함으로써, 흡인력 밀도를 균일하게 하고 있다.
307: 자기 흡착 척
30: 요크판(요크)
31: 영구자석
G: 유리 기판
M: 마스크

Claims (12)

  1. 성막 대상물에 대하여 원하는 성막 패턴을 형성하기 위한 마스크를, 자력을 이용하여 상기 성막 대상물의 표면에 흡착시켜, 보유지지하는 마스크 보유지지 기구로서,
    상기 성막 대상물에 대해 상기 마스크와는 반대측에 배치되며, 상기 성막 패턴에 있어서의 상기 성막 대상물의 피성막 영역을 차폐하기 위한 상기 마스크의 차폐부에 대응한 격자 형상을 갖는 요크와,
    상기 요크의 상기 마스크측에 부착되는 복수의 제1 영구자석으로서, 상기 요크의 상기 격자 형상에 있어서의 직선부에서, 상기 직선부가 연장하는 방향을 따라 간격을 두고 배치되며, 또한 이웃하는 제1 영구자석의 착자 방향이 서로 다르게 되도록 배치되는 복수의 제1 영구자석을 구비하는 마스크 보유지지 기구에 있어서,
    상기 요크의 상기 격자 형상에 있어서 방향이 다른 복수의 직선부를 연결하는 교차부에 배치되는 제2 영구자석을 구비하고,
    상기 제2 영구자석은, 그 착자 방향이 상기 복수의 제1 영구자석 중 이웃하는 상기 제1 영구자석의 착자 방향과는 역방향인 것을 특징으로 하는 마스크 보유지지 기구.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2 영구자석은 상기 제1 영구자석보다 큰 것을 특징으로 하는 마스크 보유지지 기구.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 요크의 상기 격자 형상은, 서로 교차하는 제1 직선부와 제2 직선부를 포함하고,
    상기 제1 직선부와 상기 제2 직선부를 연결하는 상기 교차부에 배치되는 상기 제2 영구자석은, 상기 제1 직선부에 배치되어 있는 복수의 상기 제1 영구자석에 대하여, 상기 제1 직선부가 연장하는 제1 방향과 교차하는 제2 방향에 있어서의 폭이 상기 제1 영구자석과 동일하며, 상기 제1 방향에 있어서의 폭이 상기 제1 영구자석보다 큰 것을 특징으로 하는 마스크 보유지지 기구.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제2 직선부에는, 상기 제2 직선부가 연장하는 방향을 따라 간격을 두고 배치되는 복수의 제3 영구자석으로서, 이웃하는 제3 영구자석의 착자 방향이 서로 다르게 되도록 배치되는 복수의 제3 영구자석이 부착되어 있고,
    상기 제2 영구자석은, 상기 제1 방향에 있어서의 폭의 중심이, 상기 제3 영구자석의 상기 제1 방향에 있어서의 폭의 중심과, 상기 제1 방향에 있어서 일치하는 것을 특징으로 하는 마스크 보유지지 기구.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제3 영구자석의 상기 제2 방향에 있어서의 폭은, 상기 제2 영구자석의 상기 제1 방향에 있어서의 폭과 동일한 것을 특징으로 하는 마스크 보유지지 기구.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서,
    상기 제2 영구자석은, 그 착자 방향이 상기 복수의 제3 영구자석 중 이웃하는 상기 제3 영구자석의 착자 방향과는 역방향인 것을 특징으로 하는 마스크 보유지지 기구.
  7. 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 영구자석, 상기 제2 영구자석, 및 상기 제3 영구자석은, 각각 직방체이며, 상기 요크로부터의 높이가 동일한 것을 특징으로 하는 마스크 보유지지 기구.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 요크의 상기 격자 형상은, 서로 교차하는 제1 직선부와 제2 직선부를 포함하고,
    상기 제1 직선부와 상기 제2 직선부를 연결하는 상기 교차부에 배치되는 상기 제2 영구자석은, 상기 교차부에 있어서 상기 제1 직선부가 연장하는 제1 방향을 따라 2개로 분할하여 배치됨과 함께, 상기 제2 직선부의 상기 제1 방향에 있어서의 폭의 중심에 대하여, 상기 제1 방향으로 대칭적으로 배치되는 것을 특징으로 하는 마스크 보유지지 기구.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제1 영구자석과 상기 제2 영구자석은 크기가 동일한 것을 특징으로 하는 마스크 보유지지 기구.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    하나의 상기 직선부가 연장하는 방향을 따라 늘어서는 복수의 상기 제1 영구자석과 상기 제2 영구자석 사이의 간격은, 상기 제2 영구자석의 위치가 결정된 후에, 복수의 상기 제1 영구자석의 배치가 미리 정해진 범위의 간격으로 결정되는 것을 특징으로 하는 마스크 보유지지 기구.
  11. 성막 대상물에 대하여 원하는 성막 패턴을 형성하기 위한 마스크와,
    제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 기재된 마스크 보유지지 기구와,
    상기 마스크 보유지지 기구에 의해 상기 마스크가 흡착된 상기 성막 대상물에 증착 재료를 증착시키는 증착실을 구비하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
  12. 제11항에 기재된 증착 장치를 사용하여 상기 성막 대상물에 성막함으로써, 전자 디바이스를 제조하는 것을 특징으로 하는 전자 디바이스의 제조 장치.
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2023063978A (ja) * 2021-10-25 2023-05-10 吉林Ｏｌｅｄ日本研究所株式会社 蒸着装置
CN115747715A (zh) * 2022-11-30 2023-03-07 中国科学院上海技术物理研究所 支撑板、吸引体、掩膜块和掩膜版组件

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4058149B2 (ja) * 1997-12-01 2008-03-05 キヤノンアネルバ株式会社 真空成膜装置のマスク位置合わせ方法
JP4609759B2 (ja) * 2005-03-24 2011-01-12 三井造船株式会社 成膜装置
JP5958690B2 (ja) * 2012-03-29 2016-08-02 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 成膜方法
JP5892003B2 (ja) * 2012-08-28 2016-03-23 トヨタ自動車株式会社 半導体製造装置、半導体装置の製造方法
JP6298138B2 (ja) * 2015-11-25 2018-03-20 キヤノントッキ株式会社 成膜システム、磁性体部及び膜の製造方法
WO2017154234A1 (ja) * 2016-03-10 2017-09-14 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 蒸着マスク、蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法
JP6564088B2 (ja) * 2018-03-01 2019-08-21 堺ディスプレイプロダクト株式会社 蒸着装置、蒸着方法及び有機ｅｌ表示装置の製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017119905A (ja) 2015-12-29 2017-07-06 株式会社ジャパンディスプレイ 有機ｅｌ表示装置の製造装置のマスク保持器具、及び、有機ｅｌ表示装置の製造装置

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