KR20200145498A - 자동으로 사용하는 Tripod Polisher - Google Patents

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KR20200145498A
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Abstract

본 발명은 자동으로 사용하는 Tripod Polisher에 관한 것으로서 Tripod Polisher 지지대에 의하여 Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 하고, micrometer head에 의하여 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 하고, 용수철에 의하여 micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 함으로써 숙달된 인력 및 많은 시간소모 필요로 하는 문제점을 해소하도록 함으로써 기존의 숙달된 인력 및 많은 시간소모 필요로 하는 문제점을 해소 하도록 한 것이다.
즉 본 발명은, Tripod Polisher에 있어서 투과전자현미경 시편 제작을 할 수 있게 3개의 다리로 시편의 수평을 조절 할 수 있도록 구상한 Tripod Polisher, Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 Tripod polisher의 3개의 다리사이에 딱 맞는 size의 막대를 설치하여 지지대 설치한 Tripod Polisher 지지대, micrometer head를 지지할 수 있게 원통형 막대 사용한 micrometer head 지지대, 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 Tripod Polisher 지지대를 설치한후 그 위에 설치한 micrometer head, micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 micrometer head밑에 설치한 용수철, 시편을 연마 할 수 있게 기존의 polishing 장비 사용한 Polishing 장비로 구성한 것이다.
따라서, 본 발명은 Tripod Polisher 지지대에 의하여 Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 하고, micrometer head에 의하여 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 하고, 용수철에 의하여 micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 함으로써 숙달된 인력 및 많은 시간소모 필요로 하는 문제점을 해소하도록 함으로써 기존의 숙달된 인력 및 많은 시간소모 필요로 하는 문제점을 해소하도록 한 효과를 갖는 것이다.

Description

자동으로 사용하는 Tripod Polisher{Auto Tripod Polisher}
본 발명은 자동으로 사용하는 Tripod Polisher에 관한 것으로서,
더욱 상세하게는 Tripod Polisher에 있어서,
투과전자현미경 시편 제작을 할 수 있게 3개의 다리로 시편의 수평을 조절 할 수 있도록 구상한 Tripod Polisher, Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 Tripod polisher의 3개의 다리사이에 딱 맞는 size의 막대를 설치하여 지지대 설치한 Tripod Polisher 지지대, micrometer head를 지지할 수 있게 원통형 막대 사용한 micrometer head 지지대, 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 Tripod Polisher 지지대를 설치한후 그 위에 설치한 micrometer head, micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 micrometer head밑에 설치한 용수철, 시편을 연마 할 수 있게 기존의 polishing 장비 사용한 Polishing 장비로 구성 하여서,
Tripod Polisher 지지대에 의하여 Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 하고, micrometer head에 의하여 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 하고, 용수철에 의하여 micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 함으로써 숙달된 인력 및 많은 시간소모 필요로 하는 문제점을 해소하도록 함을 목적으로 한 것이다.
일반적으로 Tripod Polisher은 투과전자현미경(Transmission Electron Microscope)시편 제작하는 것이다.
상기한 바와 같이 Tripod Polisher은 micrometer head, 수평계로 구성된 것이다.
이상과 같은 Tripod Polisher은 마이크로미터 헤드를 사용하여 시편의 수평을 미세하게 조절후 시편 연마하는 것이다.
그러나 상기한 바와 같은 종래의 Tripod Polisher은 숙달된 인력 및 많은 시간소모 필요로 하는 문제점이 있었다.
대한민국 공개 제 1020060070959호
이에 본 발명은 종래의 Tripod Polisher이 숙달된 인력 및 많은 시간소모 필요로 하는 문제점을 해결하기 위한 것이다.
즉, 본 발명은 투과전자현미경 시편 제작을 할 수 있게 3개의 다리로 시편의 수평을 조절 할 수 있도록 구상한 Tripod Polisher, Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 Tripod polisher의 3개의 다리사이에 딱 맞는 size의 막대를 설치하여 지지대 설치한 Tripod Polisher 지지대, micrometer head를 지지할 수 있게 원통형 막대 사용한 micrometer head 지지대, 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 Tripod Polisher 지지대를 설치한후 그 위에 설치한 micrometer head, micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 micrometer head밑에 설치한 용수철, 시편을 연마 할 수 있게 기존의 polishing 장비 사용한 Polishing 장비로 구성한 것이다.
따라서 본 발명은 투과전자현미경 시편 제작을 할 수 있게 3개의 다리로 시편의 수평을 조절 할 수 있도록 구상한 Tripod Polisher, Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 Tripod polisher의 3개의 다리사이에 딱 맞는 size의 막대를 설치하여 지지대 설치한 Tripod Polisher 지지대, micrometer head를 지지할 수 있게 원통형 막대 사용한 micrometer head 지지대, 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 Tripod Polisher 지지대를 설치한후 그 위에 설치한 micrometer head, micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 micrometer head밑에 설치한 용수철, 시편을 연마 할 수 있게 기존의 polishing 장비 사용한 Polishing 장비로 구성 함으로써, Tripod Polisher 지지대에 의하여 Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 하고, micrometer head에 의하여 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 하고, 용수철에 의하여 micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 함으로써 숙달된 인력 및 많은 시간소모 필요로 하는 문제점을 해소하도록 한 효과를 갖는 것이다.
도 1: 정면도
즉, 본 발명은 투과전자현미경 시편 제작을 할 수 있게 3개의 다리로 시편의 수평을 조절 할 수 있도록 구상한 (102)Tripod Polisher, Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 Tripod polisher의 3개의 다리사이에 딱 맞는 size의 막대를 설치하여 지지대 설치한 (103)Tripod Polisher 지지대, micrometer head를 지지할 수 있게 원통형 막대 사용한 (104)micrometer head 지지대, 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 Tripod Polisher 지지대를 설치한후 그 위에 설치한 (105)micrometer head, micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 micrometer head밑에 설치한 (106)용수철, 시편을 연마 할 수 있게 기존의 polishing 장비 사용한 (101)Polishing 장비로 구성 된 것이다.
여기서, (103)Tripod Polisher 지지대는 Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 Tripod polisher의 3개의 다리사이에 딱 맞는 size의 막대를 설치하여 지지대 설치한 것이다.
여기서, (105)micrometer head은 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 Tripod Polisher 지지대를 설치한후 그 위에 설치한 것이다.
여기서, (106)용수철은 micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 micrometer head밑에 설치한 것이다.
이하, 본 발명의 사용과정에 대하여 설명하면 다음과 같다.
상기한 바와 같이 본 발명은 Tripod Polisher에 있어서 투과전자현미경 시편 제작을 할 수 있게 3개의 다리로 시편의 수평을 조절 할 수 있도록 구상한 (102)Tripod Polisher, Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 Tripod polisher의 3개의 다리사이에 딱 맞는 size의 막대를 설치하여 지지대 설치한 (103)Tripod Polisher 지지대, micrometer head를 지지할 수 있게 원통형 막대 사용한 (104)micrometer head 지지대, 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 Tripod Polisher 지지대를 설치한후 그 위에 설치한 (105)micrometer head, micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 micrometer head밑에 설치한 (106)용수철, 시편을 연마 할 수 있게 기존의 polishing 장비 사용한 (101)Polishing 장비로 구성된 본 발명을 적용하여 실시하게 되면, 숙달된 인력 및 많은 시간소모 필요로 하는 문제점을 해소하도록 한 것이다.
또한 본 발명의 실시에 있어, Tripod polisher의 3개의 다리사이에 딱 맞는 size의 막대를 설치하여 지지대 설치한 (103)Tripod Polisher 지지대로 구성한 본 발명을 적용하여 실시하게 되면, Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 될 것이다.
또한 본 발명의 실시에 있어, Tripod Polisher 지지대를 설치한후 그 위에 설치한 (105)micrometer head으로 구성한 본 발명을 적용하여 실시하게 되면, 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 될 것이다.
또한 본 발명의 실시에 있어, micrometer head밑에 설치한 (106)용수철으로 구성한 본 발명을 적용하여 실시하게 되면, micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 될 것이다.
102: Tripod Polisher, 103: Tripod Polisher 지지대, 104: micrometer head 지지대, 105: micrometer head, 106: 용수철, 101: Polishing 장비

Claims (4)

  1. Tripod Polisher에 있어서,
    투과전자현미경 시편 제작을 할 수 있게 3개의 다리로 시편의 수평을 조절 할 수 있도록 구상한 (102)Tripod Polisher, Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 Tripod polisher의 3개의 다리사이에 딱 맞는 size의 막대를 설치하여 지지대 설치한 (103)Tripod Polisher 지지대, micrometer head를 지지할 수 있게 원통형 막대 사용한 (104)micrometer head 지지대, 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 Tripod Polisher 지지대를 설치한후 그 위에 설치한 (105)micrometer head, micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 micrometer head밑에 설치한 (106)용수철, 시편을 연마 할 수 있게 기존의 polishing 장비 사용한 (101)Polishing 장비로 구성 된 것을 특징으로 하는 자동으로 사용하는 Tripod Polisher.
  2. 제 1항에 있어서,
    (103)Tripod Polisher 지지대를 통하여 Polishing이 진행 하는 동안 Tripod Polisher가 쓰러지지 않고 지지 할 수 있게 Tripod polisher의 3개의 다리사이에 딱 맞는 size의 막대를 설치하여 지지대 설치함을 특징으로 하는 자동으로 사용하는 Tripod Polisher.
  3. 제 1항에 있어서,
    (105)micrometer head을 통하여 미세한 압력을 정밀하게 조절할 수 있게 Tripod Polisher 지지대를 설치한후 그 위에 설치함을 특징으로 하는 자동으로 사용하는 Tripod Polisher.
  4. 제 1항에 있어서,
    (106)용수철을 통하여 micrometer head에서 오는 응력을 정밀하게 조절 할 수 있게 micrometer head밑에 설치함을 특징으로 하는 자동으로 사용하는 Tripod Polisher.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN114062081A (zh) * 2021-11-15 2022-02-18 南京理工大学 一种制备梯度纳米结构材料透射电镜样品的装置和方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20060070959A (ko) 2004-12-21 2006-06-26 엘지전자 주식회사 수평 조절이 가능한 트라이포드 폴리셔

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