KR20200145056A - A deposition apparatus - Google Patents

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Abstract

A deposition device system according to one embodiment of the present invention can comprise: a vacuum chamber; at least one viewport provided on one surface of the vacuum chamber; a deposition device accommodated in the vacuum chamber and including a crucible having a deposition raw material accommodated therein, a heater unit for heating the crucible, and at least one nozzle through which a deposition material evaporated from the deposition raw material passes; a camera which is positioned outside the viewport and photographs the nozzle through the viewport; a laser which is positioned outside the viewport and outputs a laser beam toward the nozzle through the viewport; a laser moving means for moving, toward one point of the nozzle, the laser beam output from the laser; and a control part for receiving a nozzle image photographed by the camera and controlling the operations of the laser and the laser moving means according to the result of having sensed clogging in the nozzle image. According to the present invention, it is possible to shorten the time required for a deposition process.

Description

증착 장치 시스템 {A DEPOSITION APPARATUS}Evaporation system {A DEPOSITION APPARATUS}

본 발명은 증착 물질을 피증착물에 증착시키는 증착 장치 시스템에 관한 것으로서, 특히 증착 물질이 토출되는 노즐의 초기 클로깅 현상을 신속하게 감지하는 동시에 효과적으로 방지할 수 있는 증착 장치 시스템에 관한 것이다.The present invention relates to a deposition apparatus system for depositing a deposition material onto an object to be deposited, and more particularly, to a deposition apparatus system capable of quickly detecting and effectively preventing an initial clogging phenomenon of a nozzle from which a deposition material is discharged.

증착(deposition)이란 기체 상태의 입자를, 금속, 유리(glass) 등과 같은 물체의 표면에 얇은 고체 막을 입히는 방법이다.Deposition is a method of depositing gaseous particles onto the surface of an object such as metal or glass.

최근에는 TV, 휴대폰 등과 같은 전자 기기에 OLED(Organic Light Emitting Diodes) 디스플레이의 사용이 증가하면서, OLED 디스플레이 패널을 제조하는 장치에 대한 연구가 활발하다. 특히, OLED 디스플레이 패널 제조 공정은 진공 상태에서 유리 기판에 유기 물질을 증착시키는 공정을 포함한다.Recently, as the use of OLED (Organic Light Emitting Diodes) displays in electronic devices such as TVs and mobile phones increases, research on devices for manufacturing OLED display panels is active. In particular, the OLED display panel manufacturing process includes a process of depositing an organic material on a glass substrate in a vacuum state.

구체적으로, 증착 공정은 유기 물질이 수용된 도가니(crucible)를 가열하여 유기 물질을 기체 상태로 증발시키는 공정과, 기체 상태의 유기 물질이 노즐(nozzle)을 통과하여 기판에 증착되는 공정을 포함한다.Specifically, the deposition process includes a process of evaporating an organic material to a gaseous state by heating a crucible containing an organic material, and a process of depositing the organic material in a gaseous state on a substrate through a nozzle.

그런데, 증착 공정 중 기체 상태의 유기 물질이 기판까지 이동하지 못하고, 노즐(nozzle) 주변에서 증착되어 막을 형성하거나, 노즐의 구멍을 막는 클로깅(clogging) 현상이 발생할 수 있다.However, during the deposition process, a gaseous organic material may not move to the substrate, and may be deposited around a nozzle to form a film, or a clogging phenomenon may occur in which a hole of the nozzle is blocked.

클로깅 현상이 발생하면, 유리 기판에 유기 물질이 불균일하게 증착되거나, 심각하게 클로깅 현상이 발생한 경우에는, 노즐을 세정하기 위해 증착 공정을 중단해야 하는 문제점이 있다.When the clogging phenomenon occurs, the organic material is unevenly deposited on the glass substrate, or when the clogging phenomenon seriously occurs, there is a problem in that the deposition process must be stopped to clean the nozzle.

한국공개특허 제2015-0114098호(2014.03.31.출원)는 히터가 탈착되는 선형증발원에 관한 것으로서, 도가니의 노즐에 탈착되는 제1히터부와, 도가니의 상부와 하부 측면에 대응되는 제2히터부와 제3히터부를 구비한다.Korean Patent Laid-Open No. 2015-0114098 (applied on March 31, 2014) relates to a linear evaporation source from which a heater is detached, a first heater unit detachable from the nozzle of a crucible, and a second heater corresponding to the upper and lower sides of the crucible. It has a part and a third heater part.

제2히터부와 제3히터부가 도가니의 상부와 하부를 각각 가열함으로서, 도가니 하부에 충진된 증착물질이 도가니 상부에서 증발되고, 제1히터부가 도가니의 노즐을 가열함으로서, 도가니에서 증발된 증착물질이 도가니의 노즐을 통하여 분사될 때, 증착물질의 온도 균일성을 높일 수 있다.As the second heater and the third heater respectively heat the upper and lower portions of the crucible, the deposition material filled in the lower portion of the crucible is evaporated from the top of the crucible, and the first heater unit heats the nozzle of the crucible, thereby evaporating the deposition material from the crucible. When sprayed through the nozzle of this crucible, it is possible to increase the temperature uniformity of the deposition material.

따라서, 증착 공정시 클로깅 현상이 발생되면, 제1히터부의 온도를 높여서 노즐 주변의 유기 물질을 녹여줌으로서, 클로깅 현상을 억제할 수 있다.Therefore, when the clogging phenomenon occurs during the deposition process, the temperature of the first heater is increased to melt the organic material around the nozzle, thereby suppressing the clogging phenomenon.

하지만, 종래 기술에 따르면, 노즐 주변에 클로깅 현상이 발생되는 것을 초기에 감지하지 어렵고, 신속하게 대응하기 어려운 문제점이 있다.However, according to the prior art, it is difficult to detect the occurrence of a clogging phenomenon around a nozzle at an early stage, and it is difficult to respond quickly.

또한, 클로깅 현상을 감지하여 제1히터부를 작동시키면, 노즐에서 방출되는 증착 물질의 증발량이 일시적으로 과도하게 늘어날 수 있고, 증착 공정으로 제조되는 OLED 디스플레이의 품질에 영향을 미칠 수 있는 문제점이 있다.In addition, when the first heater unit is operated by sensing the clogging phenomenon, the evaporation amount of the evaporation material emitted from the nozzle may be excessively increased temporarily, and there is a problem that may affect the quality of the OLED display manufactured by the deposition process. .

또한, 도가니 탈착을 위하여 노즐 측의 제1히터부를 제거해야 할 때, 제1히터부의 단선이 많이 발생되는 문제점이 있다.In addition, when it is necessary to remove the first heater unit on the nozzle side in order to detach the crucible, there is a problem that many disconnections of the first heater unit occur.

또한, 클로깅 억제를 위하여 제1히터부를 작동시키면, 노즐 전체를 통하여 토출되는 열량이 커지고, 진공 챔버 내부의 디스플레이 기판의 온도가 상승되는데, 이를 방지하기 위하여 별도의 냉각 장치가 구비되어야 하는 문제점이 있다.In addition, when the first heater unit is operated to suppress clogging, the amount of heat discharged through the entire nozzle increases, and the temperature of the display substrate inside the vacuum chamber increases. To prevent this, a separate cooling device must be provided. have.

본 발명은 상기한 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 증착 물질이 토출되는 노즐의 초기 클로깅 현상을 신속하게 감지하고, 증착 공정에 영향을 미치지 않는 범위 내에서 효과적으로 클로깅 현상을 방지할 수 있는 증착 장치 시스템을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention was devised to solve the problems of the prior art described above, and quickly detects the initial clogging phenomenon of the nozzle from which the deposition material is discharged, and effectively prevents the clogging phenomenon within a range that does not affect the deposition process. Its purpose is to provide a vapor deposition apparatus system capable of.

본 발명의 일 실시예에 따른 증착 장치 시스템은 진공 챔버; 상기 진공 챔버의 일면에 적어도 하나 이상 구비되는 뷰포트; 상기 진공 챔버 내부에 수용되고, 증착 원료가 수용되는 도가니와, 상기 도가니를 가열하는 히터 유닛과, 상기 증착 원료에서 증발된 증착 물질이 통과하는 적어도 하나 이상의 노즐을 포함하는 증착 장치; 상기 뷰포트 외부에 위치하고, 상기 뷰포트를 통하여 상기 노즐을 촬영하는 카메라; 상기 뷰포트 외부에 위치하고, 상기 뷰포트를 통하여 상기 노즐을 향하여 레이저 광선을 출력하는 레이저; 상기 레이저로부터 출력되는 레이저 광선을 상기 노즐의 한 지점으로 이동시키는 레이저 이동수단; 및 상기 카메라가 촬영한 노즐 이미지를 수신하고, 상기 노즐 이미지에서 클로깅을 감지한 결과에 따라 상기 레이저와 레이저 이동수단의 작동을 제어하는 제어부;를 포함할 수 있다.A deposition apparatus system according to an embodiment of the present invention includes a vacuum chamber; At least one viewport provided on one surface of the vacuum chamber; A deposition apparatus including a crucible accommodated in the vacuum chamber and receiving a deposition material, a heater unit for heating the crucible, and at least one nozzle through which deposition material evaporated from the deposition material passes; A camera located outside the viewport and photographing the nozzle through the viewport; A laser positioned outside the viewport and outputting a laser beam toward the nozzle through the viewport; Laser moving means for moving the laser beam output from the laser to a point of the nozzle; And a control unit for receiving the nozzle image photographed by the camera and controlling the operation of the laser and the laser moving means according to a result of detecting clogging in the nozzle image.

상기 뷰포트는, 상기 카메라가 외부에 설치되는 투명창인 제1뷰포트와, 상기 제1뷰포트와 근접하게 구비되고, 상기 레이저가 외부에 설치되는 투명창인 제2뷰포트를 포함할 수 있다.The viewport may include a first viewport, which is a transparent window on which the camera is installed, and a second viewport, which is a transparent window provided adjacent to the first viewport and on which the laser is installed.

상기 뷰포트는, 상기 카메라에서 입사되는 빛의 반사 방지를 위하여 상기 제1뷰포트에 코팅된 제1코팅층과, 상기 레이저에서 조사되는 레이저 광선을 투과시키기 위하여 상기 제2뷰포트에 코팅된 제2코팅층을 더 포함할 수 있다.The viewport further includes a first coating layer coated on the first viewport to prevent reflection of light incident from the camera, and a second coating layer coated on the second viewport to transmit the laser beam irradiated from the laser. Can include.

본 발명의 증착 장치 시스템은, 상기 뷰포트 외부에 위치하고, 상기 뷰포트를 통하여 상기 노즐을 향하여 빛을 조사하는 조명부;를 더 포함할 수 있다. The deposition apparatus system of the present invention may further include a lighting unit located outside the viewport and irradiating light toward the nozzle through the viewport.

상기 조명부는, 증착 물질의 휘도를 높이는 특정 대역의 파장을 가진 빛을 조사할 수 있다.The illumination unit may irradiate light having a wavelength of a specific band that increases the luminance of the deposition material.

상기 뷰포트는, 상기 제1뷰포트와 근접하게 구비되고, 상기 조명부가 외부에 설치되는 투명창인 제3뷰포트를 더 포함할 수 있다. The viewport may further include a third viewport that is provided adjacent to the first viewport and is a transparent window on which the lighting unit is installed.

상기 뷰포트는, 상기 조명부에서 조사되는 빛을 투과시키기 위하여 상기 제3뷰포트에 코팅된 제3코팅층을 더 포함할 수 있다.The viewport may further include a third coating layer coated on the third viewport to transmit light irradiated from the lighting unit.

상기 레이저 이동수단은, 상기 레이저의 레이저 광선을 상기 노즐 측으로 반사시키는 반사경과, 상기 반사경의 각도를 조정하는 회전 모터를 포함할 수 있다.The laser moving means may include a reflector for reflecting the laser beam of the laser toward the nozzle, and a rotation motor for adjusting an angle of the reflector.

상기 제어부는, 상기 노즐의 클로깅 정도에 따라 상기 레이저 광선의 출력 강도 및 시간을 제어할 수 있다.The control unit may control the output intensity and time of the laser beam according to the degree of clogging of the nozzle.

본 발명의 증착 장치 시스템은, 상기 뷰포트와 상기 노즐 사이에 교체 가능하게 구비되고, 상기 증착 물질로부터 상기 뷰포트를 보호하는 글래스;를 더 포함할 수 있다.The deposition apparatus system of the present invention may further include a glass that is interchangeably provided between the viewport and the nozzle and protects the viewport from the deposition material.

상기 글래스는, 상기 노즐보다 상기 뷰포트에 더 가깝게 배치되는 것이 바람직하다.It is preferable that the glass is disposed closer to the viewport than the nozzle.

본 발명의 증착 장치 시스템은, 상기 뷰포트와 상기 노즐 사이에 개폐 가능하게 구비되고, 상기 증착 물질로부터 상기 뷰포트를 보호하는 셔터 유닛;을 더 포함할 수 있다.The deposition apparatus system of the present invention may further include a shutter unit provided to be openable and closed between the viewport and the nozzle, and to protect the viewport from the deposition material.

상기 셔터 유닛은, 상기 뷰포트의 일부와 적어도 대향되게 구비되고, 상기 뷰포트의 시야를 개폐하는 셔터와, 상기 셔터의 움직임을 제어하는 셔터 구동부를 포함할 수 있다. The shutter unit may include a shutter that is provided to face at least a portion of the viewport, opens and closes a view of the viewport, and a shutter driver that controls movement of the shutter.

상기 셔터는, 상기 노즐보다 상기 뷰포트에 더 가깝게 배치되는 것이 바람직하다.It is preferable that the shutter is disposed closer to the viewport than the nozzle.

상기 제어부는, 상기 카메라와 상기 조명부와 상기 레이저 중 적어도 하나가 작동되는 시점에 상기 셔터가 상기 뷰포트의 시야를 개방하도록 상기 셔터 구동부의 작동을 제어할 수 있다.The control unit may control an operation of the shutter driving unit so that the shutter opens a field of view of the viewport when at least one of the camera, the illumination unit, and the laser is operated.

본 발명의 증착 장치 시스템은, 상기 카메라가 촬영한 노즐 이미지가 표시되는 모니터;를 더 포함할 수 있다.The deposition apparatus system of the present invention may further include a monitor displaying a nozzle image photographed by the camera.

상기 제어부는, 상기 노즐 이미지에서 클로깅을 감지하면, 상기 모니터에 알람을 발생시킬 수 있다.When the control unit detects clogging in the nozzle image, the control unit may generate an alarm in the monitor.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 카메라가 증착 물질이 토출되는 노즐을 실시간 모니터링함으로서, 노즐의 초기 클로깅을 신속하게 감지할 수 있고, 신속하게 대처할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the camera monitors the nozzle from which the deposition material is discharged in real time, so that the initial clogging of the nozzle can be quickly detected, and it is possible to respond quickly.

또한, 레이저가 노즐 측의 원하는 위치로 열 에너지를 공급함으로서, 노즐의 초기 클로깅을 신속하게 해소할 수 있고, 클로깅 현상을 방지할 수 있다. 따라서, 증착 공정 시간을 단축시키고, 증착 물질의 낭비를 막을 수 있다.Further, by supplying thermal energy to a desired position on the nozzle side, the initial clogging of the nozzle can be quickly eliminated, and the clogging phenomenon can be prevented. Accordingly, it is possible to shorten the deposition process time and prevent waste of the deposition material.

또한, 증착 물질을 발생시키기 위한 히터 유닛과 별도로 레이저가 노즐의 초기 클로깅이 발생한 한 지점에만 열 에너지를 공급함으로서, 증착 물질의 증발량을 균일하게 유지하는 동시에 클로깅 현상을 방지할 수 있다. 따라서, 증착 공정으로 제조되는 OLED 디스플레이의 품질을 안정적으로 유지할 수 있다.In addition, apart from the heater unit for generating the deposition material, the laser supplies thermal energy only to a point where the initial clogging of the nozzle occurs, so that the evaporation amount of the deposition material is uniformly maintained and the clogging phenomenon can be prevented. Therefore, it is possible to stably maintain the quality of the OLED display manufactured by the deposition process.

또한, 진공 챔버 외부에 카메라를 비롯하여 레이저 등을 구비함으로서, 증착 장치의 개조 없이 기존의 제품에 손쉽게 적용이 가능하고, 비용을 절감시킬 수 있다. In addition, since a camera and a laser are provided outside the vacuum chamber, it can be easily applied to existing products without modification of the deposition apparatus, and cost can be reduced.

도 1 내지 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 장치 시스템의 진공 챔버 내부를 상면과 정면에서 바라본 모습을 개략적으로 나타내는 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 장치가 도시된 분해 사시도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 클로깅 방지 모듈이 개략적으로 도시된 구성도.
도 5 및 도 6은 도 4에 적용될 수 있는 클로깅 방지 모듈의 상부가 도시된 사시도 및 측면도.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 일 실시예에 따른 클로깅 방지 모듈에 의해 클로깅 제거 전/후 모니터에 표시되는 노즐 이미지.
1 to 2 are views schematically showing the interior of a vacuum chamber of a deposition apparatus system according to an embodiment of the present invention as viewed from the top and the front.
3 is an exploded perspective view showing a deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.
Figure 4 is a schematic configuration diagram of a clogging prevention module according to an embodiment of the present invention.
5 and 6 are a perspective view and a side view showing an upper portion of the anti-clogging module applicable to FIG. 4.
7A and 7B are nozzle images displayed on a monitor before/after removing clogging by the clogging prevention module according to an embodiment of the present invention.

이하에서는, 본 실시예에 대하여 첨부되는 도면을 참조하여 상세하게 살펴보도록 한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings with respect to the present embodiment will be described in detail.

도 1 내지 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 장치 시스템의 진공 챔버 내부를 상면과 정면에서 바라본 모습을 개략적으로 나타내는 도면이다.1 to 2 are views schematically showing a view of the inside of a vacuum chamber of a deposition apparatus system according to an embodiment of the present invention as viewed from the top and the front.

본 발명의 일 실시에에 따른 증착 장치 시스템은 도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이 진공 챔버(1)와, 진공 챔버(1) 내부에 이송 가능하게 설치되는 증착 장치(100)와, 진공 챔버(1) 상측에 탈착 가능하게 구비되는 클로깅 감지 제거 모듈(200)을 포함할 수 있다.The deposition apparatus system according to an embodiment of the present invention includes a vacuum chamber 1 as shown in FIGS. 1 to 2, a deposition apparatus 100 installed to be transportable inside the vacuum chamber 1, and a vacuum chamber. (1) It may include a clogging detection removal module 200 that is detachably provided on the upper side.

지지부(10)가 진공 챔버(1) 내측 하부에 구비되고, 제1,2구동부(11,12)가 지지부(10) 위에 양측에 나란히 전후 방향으로 길게 배치되고, 제3구동부(13)가 제1,2구동부(11,12)를 가로지르도록 양측 방향으로 길게 배치되며, 증착 장치(100)가 제3구동부(13) 위에 구비될 수 있다. The support part 10 is provided in the lower part of the inside of the vacuum chamber 1, the first and second driving parts 11 and 12 are disposed on both sides of the support part 10 in an elongated front and rear direction, and the third driving part 13 is It is disposed elongated in both directions so as to cross the first and second driving units 11 and 12, and the deposition apparatus 100 may be provided on the third driving unit 13.

제1,2구동부(11,12)는 증착 장치(100)와 제3구동부(13)를 진공 챔버(1)의 전후 방향으로 이동시킬 수 있도록 구성되고, 제3구동부(13)는 증착 장치(100)를 진공 챔버(1)의 양측 방향으로 이동시킬 수 있도록 구성될 수 있다.The first and second driving units 11 and 12 are configured to move the deposition apparatus 100 and the third driving unit 13 in the front and rear direction of the vacuum chamber 1, and the third driving unit 13 is a deposition apparatus ( 100) may be configured to be able to move in both directions of the vacuum chamber 1.

적어도 하나 이상의 피증착물(14,15)이 진공 챔버(1) 내부에 장착될 수 있는데, 진공 챔버(1)의 천장에 구비된 얼라이너(16)에 의해 증착 장치(100)보다 상측에 고정될 수 있다. 물론, 피증착물(14,15)은 유리(glass) 기판을 포함하여 다양하게 구성될 수 있다.At least one to-be-deposited (14, 15) may be mounted inside the vacuum chamber (1), which is fixed to the upper side of the deposition apparatus (100) by an aligner (16) provided on the ceiling of the vacuum chamber (1). I can. Of course, the deposits 14 and 15 may be variously configured, including a glass substrate.

따라서, 증착 장치(100)가 제1,2구동부(11,12)에 의해 진공 챔버(1)의 전후 방향으로 이동되거나, 제3구동부(13)에 의해 진공 챔버(1)의 양측 방향으로 이동되는 동안, 증착 장치(100)에서 방출되는 증착 물질이 적어도 하나의 피증착물(14,15)에 증착될 수 있다.Accordingly, the deposition apparatus 100 is moved in the front and rear directions of the vacuum chamber 1 by the first and second driving units 11 and 12, or in both directions of the vacuum chamber 1 by the third driving unit 13 During the process, a deposition material emitted from the deposition apparatus 100 may be deposited on at least one of the deposition targets 14 and 15.

상기와 같이, 증착 장치(100)가 이동되고, 피증착물(14,15)이 고정된 상태의 In line 방식으로 증착 공정이 이뤄지거나, 반대로 피증착물(14,15)이 이동되고, 증착 장치(100)가 고정된 상태의 Cluster 방식으로 증착 공정이 이루어질 수 있으며, 한정되지 아니한다.As described above, the deposition apparatus 100 is moved, and the deposition process is performed in an in-line manner in which the deposition targets 14 and 15 are fixed, or conversely, the deposition targets 14 and 15 are moved, and the deposition device ( The deposition process may be performed in a cluster method in which 100) is fixed, and is not limited.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 장치가 도시된 분해 사시도이다.3 is an exploded perspective view illustrating a deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.

본 발명에 적용된 증착 장치(100)는 도 3에 도시된 바와 같이 증착 원료가 수용되는 도가니(1l0)와, 도가니(110)를 감싸도록 구비된 히터부(120)와, 히터부(120)를 감싸도록 구비된 냉각부(130)와, 도가니(110)의 상면에 배치되는 노즐 커버(140)와, 노즐 커버(140)의 상면에 배치되는 가이드(150)를 포함할 수 있다.The deposition apparatus 100 applied to the present invention includes a crucible 110 in which a deposition material is accommodated, a heater 120 provided to surround the crucible 110, and a heater 120 as shown in FIG. 3. A cooling unit 130 provided to surround it, a nozzle cover 140 disposed on an upper surface of the crucible 110, and a guide 150 disposed on an upper surface of the nozzle cover 140 may be included.

도가니(110)는 상면이 개방된 용기 형상으로서, 증착 원료를 수용할 수 있고, 히터부(120)에 의해 가열될 수 있으며, 증착 원료를 증착 물질로 증발시킬 수 있다.The crucible 110 has a shape of a container with an open top surface, can accommodate a deposition material, can be heated by the heater 120, and evaporate the deposition material into a deposition material.

증착 원료은 도가니(110)에 충전되는 물질이고, 증착 물질은 도가니(110)에서 증발되는 물질로서, 증착 원료와 증착 물질은 동일하며, 설명의 편의를 위하여 액체/고체 상태의 물질과 기체 상태의 물질을 구분하기 위한 명칭에 불과하므로, 제한될 필요는 없다. The deposition material is a material filled in the crucible 110, and the deposition material is a material evaporated in the crucible 110, and the deposition material and the deposition material are the same, and for convenience of explanation, a material in a liquid/solid state and a material in a gas state Since it is only a name to distinguish between, there is no need to be limited.

도가니(110)의 상부에는 적어도 하나의 노즐(111)이 위치될 수 있는데, 노즐(111)은 증착 물질이 통과할 수 있는 홀, 슬릿 등 다양한 형상으로 형성될 수 있다. 도가니(110)가 진공 챔버(1 : 도 2에 도시) 내부에 전후 방향으로 길게 배치되고, 노즐들(111)이 진공 챔버(1 : 도 2에 도시) 내부에 전후 방향으로 소정 간격을 두고 이격되게 배열될 수 있다.At least one nozzle 111 may be positioned on the crucible 110, and the nozzle 111 may be formed in various shapes such as holes and slits through which the deposition material can pass. The crucible 110 is elongated in the front-rear direction inside the vacuum chamber (1: shown in Fig. 2), and the nozzles 111 are spaced apart at a predetermined distance in the front-rear direction inside the vacuum chamber (1: shown in Fig. 2) Can be arranged.

히터부(120)는 도가니(110)를 수용하는 히터 프레임과, 도가니(110) 측으로 열을 발생시키는 히터와, 히터에서 발생되는 열을 도가니(110) 측으로 반사시키는 리플렉터를 포함할 수 있다. 히터 프레임은 도가니(110)를 감싸도록 설치되고, 리플렉터는 히터 프레임 내측에 장착되며, 히터는 리플렉터 내측에 장착됨으로서, 히터가 도가니(110)와 가장 근접하게 설치될 수 있다. The heater unit 120 may include a heater frame accommodating the crucible 110, a heater generating heat toward the crucible 110, and a reflector reflecting heat generated from the heater toward the crucible 110. The heater frame is installed to surround the crucible 110, the reflector is mounted inside the heater frame, and the heater is mounted inside the reflector, so that the heater may be installed closest to the crucible 110.

냉각부(130)는 히터부(120)를 수용할 수 있고, 히터부(120)에서 방출한 열이 외부로 유출되는 것을 최소화하는 일종의 단열부로 구성될 수 있다. The cooling unit 130 may accommodate the heater unit 120 and may be configured as a type of heat insulation unit that minimizes the heat emitted from the heater unit 120 from being leaked to the outside.

노즐 커버(140)는 도가니(110) 상부에 형성된 노즐(111) 주변을 덮는 커버로서, 도가니(110)의 상부와 가이드(150)의 하부 사이에 위치될 수 있다. 노즐 커버(140)는 도가니(110)에 형성된 열이 가이드(150)로 전달되는 것을 최소화함으로서, 가이드(150)가 가열되어 피증착물(14,15 : 도 2에 도시)에 미치는 영향을 최소화할 수 있다.The nozzle cover 140 is a cover covering the periphery of the nozzle 111 formed on the crucible 110, and may be located between the upper portion of the crucible 110 and the lower portion of the guide 150. The nozzle cover 140 minimizes the transfer of heat formed in the crucible 110 to the guide 150, so that the guide 150 is heated to minimize the effect on the deposits 14 and 15 (shown in FIG. 2). I can.

가이드(150)는 노즐(111)에서 토출된 증착 물질을 안내하는데, 증착 물질이 피증착물(14,15 : 도 2에 도시)을 향하도록 안내하고, 피증착물(14,15 : 도 2에 도시)에 균일하게 증착되도록 안내할 수 있다.The guide 150 guides the deposition material discharged from the nozzle 111, guides the deposition material toward the deposition targets 14 and 15 (shown in FIG. 2), and the deposition targets 14 and 15: shown in FIG. ) To be uniformly deposited.

가이드(150)는 증착 물질이 진공 챔버(1)에 끼치는 영향을 최소화할 수 있고, 노즐(111)에서 분사되는 물질이 피증착물(14,15 : 도 2에 도시)에 증착되는 입사하는 각도를 제한할 수 있다. The guide 150 can minimize the effect of the deposition material on the vacuum chamber 1, and the incident angle at which the material sprayed from the nozzle 111 is deposited on the deposited objects 14 and 15 (shown in FIG. 2) Can be limited.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 클로깅 방지 모듈이 개략적으로 도시된 구성도이고, 도 5 및 도 6은 도 4에 적용될 수 있는 클로깅 방지 모듈의 상부가 도시된 사시도 및 측면도이다.4 is a schematic configuration diagram of a clogging prevention module according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 5 and 6 are a perspective view and a side view illustrating an upper portion of the clogging prevention module applicable to FIG. 4.

본 발명에 적용된 클로깅 방지 모듈(200)은 모듈 형태로 진공 챔버(1)의 상부에 장착될 수 있고, 진공 챔버(1) 내부의 노즐(141,142)에 발생되는 클로깅을 진공 챔버(1)의 외부에서 감지하는 동시에 제거할 수 있다.The anti-clogging module 200 applied to the present invention may be mounted on the upper part of the vacuum chamber 1 in a module form, and the clogging generated in the nozzles 141 and 142 inside the vacuum chamber 1 is prevented from the vacuum chamber 1 It can be detected from the outside of the device and removed at the same time.

물론, 클로깅 방지 모듈(200)의 설치 위치는 진공 챔버(1) 내부의 상측에 한정되지 아니하고, 진공 챔버(1) 내부에 증착 장치(100)와 대향되는 일면에 구비되는 것이 바람직하며, 진공 챔버(1) 내부의 양측 또는 하측에도 설치될 수 있다.Of course, the installation location of the clogging prevention module 200 is not limited to the upper side inside the vacuum chamber 1, and is preferably provided inside the vacuum chamber 1 on one side opposite to the deposition apparatus 100, and vacuum It may be installed on both sides or below the chamber 1.

클로깅 방지 모듈(200)은 도 4 내지 도 6에 도시된 바와 같이 뷰포트(V1,V2,V3)와, 카메라(210)와, 조명부(221,222)와, 레이저(230)와, 레이저 이동수단(240)과, 셔터 유닛(251,252,253)과, 제어부(260)와, 모니터(270)를 더 포함할 수 있다.The clogging prevention module 200 includes a viewport (V1, V2, V3), a camera 210, an illumination unit 221, 222, a laser 230, and a laser moving means as shown in FIGS. 4 to 6 240), shutter units 251, 252, 253, a control unit 260, and a monitor 270 may be further included.

뷰포트(V1,V2,V3)는 특정 대역 파장의 광선을 투과할 수 있는 형태로 구비되는데, 진공 챔버(1)의 상면에 적어도 하나 이상 구비될 수 있다. The viewports V1, V2, and V3 are provided in a form capable of transmitting light having a wavelength of a specific band, and at least one or more viewports may be provided on the upper surface of the vacuum chamber 1.

제1뷰포트(V1)는 카메라(210)에 맞는 파장의 광선을 투과할 수 있는 형태로서, 카메라(210)가 설치되는 위치에 구비되고, 제1뷰포트(V1)의 외측면에 제1코팅층(C1)이 형성될 수 있다. 제1코팅층(C1)은 반사 방지 코팅층(anti reflect coating layer)일 수 있는데, 제1코팅층(C1)은 카메라(210)의 빛이 입사되더라도 반사되는 양을 줄여주어 카메라(210)에 상이 맺힐 수 있도록 한다. The first viewport V1 is a form capable of transmitting light having a wavelength suitable for the camera 210, and is provided at a position where the camera 210 is installed, and a first coating layer is provided on the outer surface of the first viewport V1. C1) can be formed. The first coating layer C1 may be an anti-reflective coating layer, and the first coating layer C1 reduces the amount of reflection even when the light from the camera 210 is incident, so that an image may be formed on the camera 210. To be.

제2뷰포트(V2)는 조명부(221,222)가 설치되는 위치에 구비되고, 제2뷰포트(V2) 외측면에 제2코팅층(C2)이 형성될 수 있다. 제2코팅층(C2)은 특정 대역 파장의 빛만 통과시키는 코팅층일 수 있는데, 조명부(221,222)에서 조사되는 빛의 파장을 투과시킬 수 있도록 한다. The second viewport V2 may be provided at a position where the lighting units 221 and 222 are installed, and a second coating layer C2 may be formed on the outer surface of the second viewport V2. The second coating layer C2 may be a coating layer that allows only light of a specific band wavelength to pass, and allows the wavelength of light irradiated from the illumination units 221 and 222 to be transmitted.

제3뷰포트(V3)는 레이저(230)가 설치되는 위치에 구비되고, 제3뷰포트(V3) 외측면에 제3코팅층(C3)이 형성될 수 있다. 제3코팅층(C3)은 레이저 광선을 통과시키는 코팅층일 수 있는데, 레이저(230)에서 조사되는 레이저 광선을 투과시킬 수 있도록 한다. The third viewport V3 may be provided at a position where the laser 230 is installed, and a third coating layer C3 may be formed on the outer surface of the third viewport V3. The third coating layer C3 may be a coating layer that allows the laser beam to pass therethrough, and allows the laser beam irradiated from the laser 230 to pass therethrough.

제1,2,3뷰포트(V1,V2,V3)는 각각 필요에 따라 코팅이 추가될 수 있으며, 한정되지 아니한다.The first, second, and third viewports V1, V2, and V3 may each have a coating added as necessary, and are not limited thereto.

제1,2,3뷰포트(V1,V2,V3)는 모두 근접한 위치에 구비되는데, 제1뷰포트(V1)는 한 쌍의 제2뷰포트(V2) 사이에 구비될 수 있고, 제3뷰포트(V3)는 제1뷰포트(V1) 일측에 구비될 수 있으며, 한정되지 아니한다.The first, second, and third viewports V1, V2, and V3 are all provided in close proximity. The first viewport V1 may be provided between a pair of second viewports V2, and the third viewport V3 ) May be provided on one side of the first viewport V1, but is not limited thereto.

제1,2,3뷰포트(V1,V2,V3)는 증발 중에 증착 물질에 의해 쉽게 오염될 수 있는데, 이를 방지하기 위하여 제1,2,3뷰포트(V1,V2,V3) 하측에 별도로 교체 가능한 제1,2,3글래스(G1,G2,G3)가 구비될 수 있다. The first, second, and third viewports (V1, V2, V3) can be easily contaminated by the evaporation material during evaporation. To prevent this, the first, second, and third view ports (V1, V2, V3) can be replaced separately. First, second, and third glasses G1, G2, and G3 may be provided.

제1,2,3글래스(G1,G2,G3)는 제1,2,3뷰포트(V1,V2,V3) 내측에 대향되게 위치되고, 노즐(111) 보다 제1,2,3뷰포트(V1,V2,V3)와 더 근접하게 위치되는 것이 바람직하다. The 1st, 2nd, 3rd glass (G1, G2, G3) is positioned to face the inside of the 1st, 2nd, 3rd viewport (V1, V2, V3), and the 1st, 2nd, 3rd viewport (V1) than the nozzle 111 ,V2,V3) is preferably located closer.

제1,2,3글래스(G1,G2,G3)를 진공 챔버(1) 내부에 지지할 수 있는 각각의 서포터 부재가 구비될 수 있고, 오염 정도에 따라 제1,2,3글래스(G1,G2,G3)를 새 것으로 교체할 수 있다. Each supporter member capable of supporting the first, second, and third glasses G1, G2, G3 inside the vacuum chamber 1 may be provided, and the first, second, and third glasses G1, G2, G3) can be replaced with new ones.

카메라(210)는 진공 챔버 외부 즉, 제1뷰포트(V1) 외부에 노즐(111)을 향하여 설치되는데, 적어도 하나의 노즐(111)을 기 설정된 주기마다 촬영할 수 있다. The camera 210 is installed outside the vacuum chamber, that is, outside the first viewport V1 toward the nozzle 111, and at least one nozzle 111 may be photographed at each preset period.

카메라(210)는 진공 챔버(1) 외부에서도 진공 챔버(1) 내부에 위치한 노즐(111)을 정밀하게 촬영할 수 있는 비전 카메라(vision camera)일 수 있으나, 한정되지 아니한다. The camera 210 may be a vision camera capable of accurately photographing the nozzle 111 located inside the vacuum chamber 1 even outside the vacuum chamber 1, but is not limited thereto.

그리고, 카메라(210)는 제어부(260)와 무선 또는 유선으로 통신할 수 있고, 카메라(210)에서 촬영된 노즐 이미지를 제어부(260)로 전송할 수 있다.In addition, the camera 210 may communicate with the controller 260 by wireless or wired communication, and may transmit a nozzle image captured by the camera 210 to the controller 260.

조명부(221,222)는 카메라(210)와 연동될 수 있고, 카메라(210)가 노즐(111)을 선명하게 촬영하도록 노즐(111) 주변의 밝기를 조절할 수 있다. 한 쌍의 조명부(221,222)가 카메라(210) 양측에 구비되고, 노즐(111)을 향하여 빛을 조사할 수 있다. The lighting units 221 and 222 may be interlocked with the camera 210, and the brightness around the nozzle 111 may be adjusted so that the camera 210 clearly photographs the nozzle 111. A pair of lighting units 221 and 222 are provided on both sides of the camera 210, and light may be irradiated toward the nozzle 111.

조명부(221,222)는 특정 대역의 파장을 가진 빛을 조사할 수 있는데, 빛이 노즐(111)에 클로깅된 증착 물질의 휘도를 높여 형광 또는 인광시킬 수 있다. 실시예에 따르면, 조명부(221,222)는 UV(ultra violet) light 형태로 구성될 수 있고, UV light가 비춰지면, OLED 디스플레이 제조 공정에 사용되는 유기물을 형광 또는 인광시킬 수 있으나, 한정되지 아니한다.The lighting units 221 and 222 may irradiate light having a wavelength of a specific band, and the light may increase the luminance of the deposition material clogged to the nozzle 111 to cause fluorescence or phosphorescence. According to an embodiment, the lighting units 221 and 222 may be configured in the form of ultra violet (UV) light, and when UV light is illuminated, an organic material used in the OLED display manufacturing process may be fluorescent or phosphorescent, but is not limited thereto.

레이저(230)는 노즐(111)을 향하여 레이저 광선을 출력하도록 구성되는데, 레이저 광선이 노즐(111)의 클로깅된 부분에 열 에너지를 공급할 수 있다. 실시예에 따르면, 레이저(230)는 UV(ultra violet) laser 형태로 구성될 수 있으나, 한정되지 아니한다.The laser 230 is configured to output a laser beam toward the nozzle 111, and the laser beam may supply thermal energy to the clogged portion of the nozzle 111. According to an embodiment, the laser 230 may be configured in the form of an ultra violet (UV) laser, but is not limited thereto.

그리고, 레이저(230)는 제어부(260)와 무선 또는 유선으로 통신할 수 있고, 제어부(260)의 제어 신호에 따라 레이저 광선의 출력 강도 및 시간을 제어할 수 있다.In addition, the laser 230 may communicate with the controller 260 wirelessly or by wire, and may control the output intensity and time of the laser beam according to a control signal from the controller 260.

레이저 이동수단(240)은 레이저(230)에서 출력되는 레이저 광선을 노즐(111)의 한 지점으로 이동시킬 수 있도록 구성될 수 있다. The laser moving means 240 may be configured to move the laser beam output from the laser 230 to one point of the nozzle 111.

실시예에 따르면, 레이저 이동수단(240)은 레이저(230)에서 출력되는 레이저 광선을 노즐(111)의 한 지점을 향하도록 반사시키는 반사경(241)과, 반사경(241)의 각도를 조절하는 회전 모터(242)로 구성될 수 있다. According to the embodiment, the laser moving means 240 reflects the laser beam output from the laser 230 toward a point of the nozzle 111 and a rotation to adjust the angle of the reflector 241 It may be configured with a motor 242.

반사경(241)의 일면이 레이저(230)와 노즐(111) 사이를 향하도록 구비되고, 반사경(241)의 다른 일면이 회전 모터(242)와 연결될 수 있다. One surface of the reflector 241 may be provided to face between the laser 230 and the nozzle 111, and the other surface of the reflector 241 may be connected to the rotation motor 242.

물론, 레이저 이동수단(240)은 간략하게 설명한 것이며, 빔 확대기, 집광 장치 등이 추가될 수 있고, 레이저(230)를 수평 방향으로 이동시키거나, 레이저(230)가 향하는 각도를 회전시키도록 구성될 수 있으며, 한정되지 아니한다. Of course, the laser moving means 240 is briefly described, and a beam expander, a condensing device, etc. can be added, and the laser 230 is configured to move in the horizontal direction or to rotate the angle at which the laser 230 is directed. Can be, but is not limited to.

셔터 유닛(251,252,253)은 증착 물질로부터 제1,2,3뷰포트(V1,V2,V3)를 보호하기 위하여 적어도 하나 이상 구비되는데, 제1,2,3셔터 유닛(251,252,253)이 제1,2,3뷰포트(V1,V2,V3)과 노즐(111) 사이에 개폐 가능하게 구비될 수 있다.At least one shutter unit 251, 252, 253 is provided to protect the first, second, and third viewports V1, V2, and V3 from a vapor deposition material. The first, second, and third shutter units 251, 252, 253 are provided with the first, second, and third viewports. It may be provided to be open and close between the 3 viewports (V1, V2, V3) and the nozzle 111.

제1셔터 유닛(251)은 제1뷰포트(V1)의 시야를 개폐시키도록 구비되는데, 제1뷰포트(V1)의 하측에 제1뷰포트(V1)와 대향되게 구비되는 제1셔터(251a)와, 제1셔터(251a)의 움직임을 제어하는 제1셔터 구동부(251b)로 구성될 수 있다. The first shutter unit 251 is provided to open and close the field of view of the first viewport V1, and a first shutter 251a provided below the first viewport V1 to face the first viewport V1 and , It may be configured with a first shutter driver 251b that controls the movement of the first shutter 251a.

제1셔터(251a)는 노즐(11) 보다 제1뷰포트(V1)와 근접하게 구비되지만, 제1글래스(G1) 하측에 위치될 수 있다. 제1셔터 구동부(251b)는 제1셔터(251a)의 일측에 연결된 회전축 및 모터로 구성될 수 있으나, 한정되지 아니한다. The first shutter 251a is provided closer to the first viewport V1 than the nozzle 11, but may be located under the first glass G1. The first shutter driver 251b may be configured with a rotation shaft and a motor connected to one side of the first shutter 251a, but is not limited thereto.

제2셔터 유닛(252)은 제2뷰포트(V2)의 시야를 개폐시키도록 구비되는데, 제2셔터(252a) 및 제2셔터 구동부(252b)로 구성될 수 있다. The second shutter unit 252 is provided to open and close the view of the second viewport V2, and may include a second shutter 252a and a second shutter driver 252b.

제3셔터 유닛(253)은 제3뷰포트(V3)의 시야를 개폐시키도록 구비되는데, 제3셔터(253a) 및 제3셔터 구동부(253b)로 구성될 수 있다. The third shutter unit 253 is provided to open and close the view of the third viewport V3, and may include a third shutter 253a and a third shutter driving unit 253b.

보통, 제1,2,3셔터(251a,252a,253a)는 닫힌 상태를 유지한다. Usually, the first, second, and third shutters 251a, 252a, and 253a remain closed.

따라서, 증착 공정 중 노즐(111)을 통하여 증착 물질이 상측으로 방출되는 동안, 증발 중인 증착 물질이 제1,2,3뷰포트(V1,V2,V3)로 증착되기 전 제1,2,3셔터(251a,252a,253a)와 제1,2,3글래스(G1,G2,G3)에 의해 이중으로 차단됨으로서, 제1,2,3뷰포트(V1,V2,V3)를 깨끗한 상태로 유지할 수 있다.Therefore, while the deposition material is discharged upward through the nozzle 111 during the deposition process, the first, second, and third shutters before the deposition material being evaporated are deposited to the first, second, and third viewports (V1, V2, V3). (251a, 252a, 253a) and the first, second, and third glasses (G1, G2, G3) are double blocked, so that the first, second, and third viewports (V1, V2, V3) can be kept in a clean state. .

카메라(210)가 작동될 때, 제1셔터(251a)가 제1뷰포트(V1)를 일시적으로 개방시킬 수 있으나, 제1글래스(G1)에 의해 증발 중인 증착 물질이 차단됨으로서, 제1뷰포트(V1)를 깨끗하게 유지할 수 있다. When the camera 210 is operated, the first shutter 251a may temporarily open the first viewport V1, but the evaporation material being evaporated is blocked by the first glass G1, so that the first viewport ( V1) can be kept clean.

조명부(221,222)가 작동될 때, 제2셔터(252a)가 제2뷰포트(V2)를 일시적으로 개방시킬 수 있으나, 제2글래스(G2)에 의해 증발 중인 증착 물질이 차단됨으로서, 제2뷰포트(V2)를 깨끗하게 유지할 수 있다. When the lighting units 221 and 222 are operated, the second shutter 252a may temporarily open the second viewport V2, but the evaporation material being evaporated is blocked by the second glass G2, so that the second viewport ( V2) can be kept clean.

레이저(230)가 작동될 때, 제3셔터(253a)가 제3뷰포트(V3)를 일시적으로 개방시킬 수 있으나, 제3글래스(G3)에 의해 증발 중인 증착 물질이 차단됨으로서, 제3뷰포트(V3)를 깨끗하게 유지할 수 있다.When the laser 230 is operated, the third shutter 253a may temporarily open the third viewport V3, but the evaporation material being evaporated is blocked by the third glass G3. V3) can be kept clean.

제어부(260)는 상기의 카메라(210), 조명부(221,222), 레이저(230), 레이저 이동수단(240), 제1,2,3셔터 유닛(251,252,253)과 모니터(270)의 작동을 제어할 수 있고, 유선 또는 무선으로 제어 신호를 전달할 수 있다. The control unit 260 controls the operation of the camera 210, the lighting unit 221,222, the laser 230, the laser moving means 240, the first, second, and third shutter units 251,252,253 and the monitor 270. It can be, and control signals can be delivered by wire or wirelessly.

제어부(260)는 카메라(210)와 조명부(221,222)와 제1,2셔터 유닛(251,252)의 작동을 제어함으로서, 노즐 이미지를 촬영하고, 노즐 이미지를 수신한 다음, 노즐 이미지를 영상 처리하여 모니터(270)로 전송할 수 있다.The control unit 260 controls the operation of the camera 210, the lighting units 221 and 222, and the first and second shutter units 251 and 252 to capture a nozzle image, receive the nozzle image, and process the nozzle image to monitor the image. It can be transmitted to 270.

제어부(260)는 노즐 이미지를 분석하여 초기 클로깅 현상을 감지하거나, 작업자의 판단에 의해 입력된 신호에 따라 클로깅을 판단할 수 있고, 클로깅 알람을 문자, 소리, 경고등 형태로 모니터(270)에 전송할 수 있다.The control unit 260 may analyze the nozzle image to detect an initial clogging phenomenon, or determine clogging according to a signal input by an operator's judgment, and monitor the clogging alarm in the form of text, sound, warning, etc. ).

초기 클로깅을 감지한 제어부(260)는 레이저(230)와 레이저 이동수단(240)과 제3셔터 유닛(253)의 작동을 제어함으로서, 레이저 광선을 노즐(111)의 한 지점 즉, 초기 클로깅이 감지된 지점에 조사할 수 있다. The control unit 260, which detects the initial clogging, controls the operation of the laser 230, the laser moving means 240, and the third shutter unit 253, thereby directing the laser beam to one point of the nozzle 111, that is, the initial click. You can investigate where logging is detected.

제어부(260)는 레이저 광선의 출력 강도 및 시간을 균일하게 제어할 수도 있지만, 노즐(111)의 클로깅 정도에 따라 레이저 광선의 출력 강도 및 시간을 높이도록 가변 제어할 수도 있으며, 한정되지 아니한다. The controller 260 may uniformly control the output intensity and time of the laser beam, but may variably control to increase the output intensity and time of the laser beam according to the degree of clogging of the nozzle 111, but is not limited thereto.

모니터(270)는 제어부(260)에서 전송되는 노즐 이미지와 클로깅 알람을 표시할 수 있다. The monitor 270 may display a nozzle image transmitted from the controller 260 and a clogging alarm.

작업자는 모니터(270)에 표시된 노즐 이미지를 통하여 노즐(111)의 초기 클로깅 현상을 신속하게 판단하거나, 노즐(111)의 클로깅이 제거된 것을 확인할 수 있다.The operator can quickly determine the initial clogging phenomenon of the nozzle 111 through the nozzle image displayed on the monitor 270 or confirm that the clogging of the nozzle 111 has been removed.

도 7a 및 도 7b는 본 발명의 일 실시예에 따른 클로깅 방지 모듈에 의해 클로깅 제거 전/후 모니터에 표시되는 노즐 이미지이다.7A and 7B are nozzle images displayed on a monitor before/after removing clogging by the clogging prevention module according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 클로깅 방지 모듈이 클로깅을 제거하기 전, 도 7a 에 도시된 바와 같이 노즐 이미지를 통하여 노즐(111)의 구멍이 증착 물질(a)에 의해 막힌 것을 선명하게 확인할 수 있다. Before the clogging prevention module of the present invention removes clogging, it can be clearly confirmed that the hole of the nozzle 111 is blocked by the deposition material (a) through the nozzle image as shown in FIG. 7A.

하지만, 본 발명의 클로깅 방지 모듈이 레이저 광선으로 클로깅을 제거한 후, 도 7b에 도시된 바와 같이 노즐 이미지를 통하여 노즐(111)의 구멍에서 증착 물질이 완전히 제거된 것을 확인할 수 있다. However, after the clogging prevention module of the present invention removes clogging with a laser beam, it can be confirmed that the deposition material is completely removed from the hole of the nozzle 111 through the nozzle image as shown in FIG. 7B.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. The above description is only illustrative of the technical idea of the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to make various modifications and variations without departing from the essential characteristics of the present invention.

따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain the technical idea, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments.

본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The scope of protection of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

1 : 진공 챔버 100 : 증착 장치
110 : 도가니 111 : 노즐
120 : 히터부 130 : 냉각부
140 : 노즐 커버 150 : 가이드
200 : 클로깅 방지 모듈 210 : 카메라
221,222 : 조명부 230 : 레이저
240 : 레이저 이동수단 251,252,253 : 제1,2,3셔터 유닛
260 : 제어부 270 : 모니터
G1,G2,G3 : 제1,2,3글래스 V1,V2,V3 : 제1,2,3뷰포트
1: vacuum chamber 100: evaporation apparatus
110: crucible 111: nozzle
120: heater unit 130: cooling unit
140: nozzle cover 150: guide
200: clogging prevention module 210: camera
221,222: lighting unit 230: laser
240: laser moving means 251,252,253: 1st, 2nd, 3rd shutter unit
260: control unit 270: monitor
G1,G2,G3: 1st, 2nd, 3rd glass V1,V2,V3: 1st, 2nd, 3rd viewport

Claims (17)

진공 챔버;
상기 진공 챔버의 일면에 적어도 하나 이상 구비되는 뷰포트;
상기 진공 챔버 내부에 수용되고, 증착 원료가 수용되는 도가니와, 상기 도가니를 가열하는 히터 유닛과, 상기 증착 원료에서 증발된 증착 물질이 통과하는 적어도 하나 이상의 노즐을 포함하는 증착 장치;
상기 뷰포트 외부에 위치하고, 상기 뷰포트를 통하여 상기 노즐을 촬영하는 카메라;
상기 뷰포트 외부에 위치하고, 상기 뷰포트를 통하여 상기 노즐을 향하여 레이저 광선을 출력하는 레이저;
상기 레이저로부터 출력되는 레이저 광선을 상기 노즐의 한 지점으로 이동시키는 레이저 이동수단; 및
상기 카메라가 촬영한 노즐 이미지를 수신하고, 상기 노즐 이미지에서 클로깅을 감지한 결과에 따라 상기 레이저와 레이저 이동수단의 작동을 제어하는 제어부;를 포함하는 증착 장치 시스템.
Vacuum chamber;
At least one viewport provided on one surface of the vacuum chamber;
A deposition apparatus including a crucible accommodated in the vacuum chamber and receiving a deposition material, a heater unit heating the crucible, and at least one nozzle through which the deposition material evaporated from the deposition material passes;
A camera located outside the viewport and photographing the nozzle through the viewport;
A laser positioned outside the viewport and outputting a laser beam toward the nozzle through the viewport;
Laser moving means for moving the laser beam output from the laser to a point of the nozzle; And
And a control unit configured to receive the nozzle image photographed by the camera and control the operation of the laser and the laser moving means according to a result of detecting clogging in the nozzle image.
제1항에 있어서,
상기 뷰포트는,
상기 카메라가 외부에 설치되는 제1뷰포트와,
상기 제1뷰포트와 근접하게 구비되고, 상기 레이저가 외부에 설치되는 제2뷰포트를 포함하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 1,
The viewport,
A first viewport on which the camera is installed outside,
A deposition apparatus system including a second viewport provided close to the first viewport and installed outside the laser.
제2항에 있어서,
상기 뷰포트는,
상기 카메라에서 입사되는 빛의 반사 방지를 위하여 상기 제1뷰포트에 코팅된 제1코팅층과,
상기 레이저에서 조사되는 레이저 광선을 투과시키기 위하여 상기 제2뷰포트에 코팅된 제2코팅층을 더 포함하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 2,
The viewport,
A first coating layer coated on the first viewport to prevent reflection of light incident from the camera,
The deposition apparatus system further comprising a second coating layer coated on the second viewport to transmit the laser beam irradiated by the laser.
제2항에 있어서,
상기 뷰포트 외부에 위치하고, 상기 뷰포트를 통하여 상기 노즐을 향하여 빛을 조사하는 조명부;를 더 포함하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 2,
A deposition apparatus system further comprising a; an illumination unit located outside the viewport and irradiating light toward the nozzle through the viewport.
제4항에 있어서,
상기 조명부는,
증착 물질의 휘도를 높이는 특정 대역의 파장을 가진 빛을 조사하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 4,
The lighting unit,
A deposition apparatus system that irradiates light with a wavelength of a specific band that increases the luminance of the deposition material.
제5항에 있어서,
상기 뷰포트는,
상기 제1뷰포트와 근접하게 구비되고, 상기 조명부가 외부에 설치되는 제3뷰포트를 더 포함하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 5,
The viewport,
A deposition apparatus system further comprising a third viewport provided close to the first viewport and installed outside the lighting unit.
제6항에 있어서,
상기 뷰포트는,
상기 조명부에서 조사되는 빛을 투과시키기 위하여 상기 제3뷰포트에 코팅된 제3코팅층을 더 포함하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 6,
The viewport,
A deposition apparatus system further comprising a third coating layer coated on the third viewport to transmit light irradiated from the lighting unit.
제1항에 있어서,
상기 레이저 이동수단은,
상기 레이저의 레이저 광선을 상기 노즐 측으로 반사시키는 반사경과,
상기 반사경의 각도를 조정하는 회전 모터를 포함하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 1,
The laser moving means,
A reflector for reflecting the laser beam of the laser toward the nozzle,
A deposition apparatus system including a rotation motor for adjusting the angle of the reflector.
제1항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 노즐의 클로깅 정도에 따라 상기 레이저 광선의 출력 강도 및 시간을 제어하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 1,
The control unit,
A deposition apparatus system for controlling the output intensity and time of the laser beam according to the degree of clogging of the nozzle.
제1항에 있어서,
상기 뷰포트와 상기 노즐 사이에 교체 가능하게 구비되고, 상기 증착 물질로부터 상기 뷰포트를 보호하는 글래스;를 더 포함하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 1,
A deposition apparatus system further comprising a glass that is provided interchangeably between the viewport and the nozzle and protects the viewport from the deposition material.
제9항에 있어서,
상기 글래스는,
상기 노즐보다 상기 뷰포트에 더 가깝게 배치되는 증착 장치 시스템.
The method of claim 9,
The glass,
A deposition apparatus system disposed closer to the viewport than the nozzle.
제1항에 있어서,
상기 뷰포트와 상기 노즐 사이에 개폐 가능하게 구비되고, 상기 증착 물질로부터 상기 뷰포트를 보호하는 셔터 유닛;을 더 포함하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 1,
A deposition apparatus system further comprising a shutter unit provided to be opened and closed between the viewport and the nozzle, and to protect the viewport from the deposition material.
제12항에 있어서,
상기 셔터 유닛은,
상기 뷰포트의 일부와 적어도 대향되게 구비되고, 상기 뷰포트의 시야를 개폐하는 셔터와,
상기 셔터의 움직임을 제어하는 셔터 구동부를 포함하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 12,
The shutter unit,
A shutter that is provided to face at least a portion of the viewport and opens and closes a view of the viewport;
A deposition apparatus system including a shutter driving unit that controls the movement of the shutter.
제13항에 있어서,
상기 셔터는,
상기 노즐보다 상기 뷰포트에 더 가깝게 배치되는 증착 장치 시스템.
The method of claim 13,
The shutter,
A deposition apparatus system disposed closer to the viewport than the nozzle.
제13항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 카메라와 상기 조명부와 상기 레이저 중 적어도 하나가 작동되는 시점에 상기 셔터가 상기 뷰포트의 시야를 개방하도록 상기 셔터 구동부의 작동을 제어하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 13,
The control unit,
A deposition apparatus system for controlling an operation of the shutter driving unit so that the shutter opens a field of view of the viewport when at least one of the camera, the illumination unit, and the laser is operated.
제1항에 있어서,
상기 카메라가 촬영한 노즐 이미지가 표시되는 모니터;를 더 포함하는 증착 장치 시스템.
The method of claim 1,
The deposition apparatus system further comprising a; a monitor that displays the nozzle image captured by the camera.
제1항에 있어서,
상기 제어부는,
상기 노즐 이미지에서 클로깅을 감지하면, 상기 모니터에 알람을 발생시키는 증착 장치 시스템.
The method of claim 1,
The control unit,
When clogging is detected in the nozzle image, an alarm is generated on the monitor.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240051671A (en) * 2022-10-13 2024-04-22 엘지전자 주식회사 Deposition Apparatus

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10121243A (en) * 1996-10-09 1998-05-12 Sony Corp Vacuum thin film forming device
JP2010215981A (en) * 2009-03-18 2010-09-30 Hitachi High-Technologies Corp Mask cleaning device for organic el, apparatus for manufacturing display for organic el, display for organic el, and mask cleaning method for organic el
KR20110009059A (en) * 2009-07-21 2011-01-27 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 Film forming device and film forming method
KR20180098428A (en) * 2017-02-24 2018-09-04 주식회사 야스 Heater for high temperature evaporator
KR20190014032A (en) * 2017-07-11 2019-02-11 엘지전자 주식회사 A deposition system

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60124923A (en) * 1983-12-12 1985-07-04 Mitsubishi Electric Corp Device for vapor deposition of thin film
JPH103045A (en) * 1996-06-14 1998-01-06 Miyachi Technos Corp Laser branching device and laser beam intensity adjusting device
JP5489824B2 (en) * 2010-04-02 2014-05-14 富士フイルム株式会社 Antireflection film and infrared optical element

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10121243A (en) * 1996-10-09 1998-05-12 Sony Corp Vacuum thin film forming device
JP2010215981A (en) * 2009-03-18 2010-09-30 Hitachi High-Technologies Corp Mask cleaning device for organic el, apparatus for manufacturing display for organic el, display for organic el, and mask cleaning method for organic el
KR20110009059A (en) * 2009-07-21 2011-01-27 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 Film forming device and film forming method
KR20180098428A (en) * 2017-02-24 2018-09-04 주식회사 야스 Heater for high temperature evaporator
KR20190014032A (en) * 2017-07-11 2019-02-11 엘지전자 주식회사 A deposition system

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