KR20200142565A

KR20200142565A - 고효율 발전기 소스 임피던스의 제어를 위한 시스템 및 방법

Info

Publication number: KR20200142565A
Application number: KR1020207032763A
Authority: KR
Inventors: 겐나디 구로프; 마이클 뮐러; 스불론 휘트먼 베넘
Original assignee: 에이이에스 글로벌 홀딩스 피티이 리미티드
Priority date: 2018-04-20
Filing date: 2019-04-18
Publication date: 2020-12-22
Also published as: CN112534541B; US11562888B2; TW201944708A; CN112534541A; JP7317045B2; JP2021522644A; US20210057189A1; US20190326093A1; WO2019204640A1; US10840063B2; EP3782184A1; EP3782184B1; US20230139755A1; TWI822765B

Abstract

전력 공급 시스템은 공칭 부하 임피던스를 기준으로 정반대인 공칭 부하 임피던스에 관해 비대칭 전력 프로파일들을 갖는 2 개의 증폭기들을 이용하여 실시간으로 발전기의 소스 임피던스를 제어한다. 전력 프로파일들에서의 변동들은 증폭기들 각각에 대해 상이한 토폴로지들을 사용하거나 위상 지연 네트워크를 구현함으로서 달성될 수 있다. 제 1 및 제 2 증폭기들로부터의 출력 전력은 결합기 회로 또는 디바이스를 사용하여 결합될 수 있고 결합기로부터의 출력 전력은 플라즈마 부하에 전송된다. 각각의 증폭기의 출력 전력은 독립적으로 제어되어 개개의 증폭기들에 의해 제공되는 출력 전력 신호의 하나 이상의 특성들을 변경할 수 있다. 제 2 증폭기의 출력 전력에 대한 제 1 증폭기의 출력 전력의 비를 변경함으로써, 발전기들의 소스 임피던스는 실시간으로 변경될 수 있다.

Description

고효율 발전기 소스 임피던스의 제어를 위한 시스템 및 방법

본 특허 협력 조약 (PCT) 출원은 "SYSTEM AND METHOD FOR CONTROL OF HIGH EFFICIENCY GENERATOR SOURCE IMPEDANCE” 이라는 제목으로 2018 년 4 월 20 일에 출원된 미국 특허 출원 제 62/660,893 호와 관련되고 그것으로부터 우선권을 주장하며, 그 전체 내용은 모든 목적을 위해 참조로 여기에 통합된다.

본 개시의 양태들은 전원을 제어하는 것에 관한 것이고, 특히 플라즈마 처리 시스템에서 전원과 플라즈마 부하 사이의 상호 작용의 제어에 관한 것이다.

반도체 제조 분야 뿐아니라 다른 분야에서, 플라즈마 시스템은 다양한 가능한 용도들을 갖는다. 예를 들어, 플라즈마 강화 화학적 기상 증착은 플라즈마 시스템을 사용하여 기판에 박막을 증착하는 데 사용되는 프로세스이다. 고 수준 용어 (high-level terms) 에서의 통상적인 플라즈마 처리 시스템은 처리 챔버와 그 챔버 내부에서 플라즈마를 점화하고 유지하는 전력 전달 시스템을 포함한다. 플라즈마는 발전기에 의해 구동되는 임피던스를 갖는 부하로 특징지워 질 수 있다. 플라즈마의 부하 임피던스는 일반적으로 약 50 오옴이지만 처리 조건 및 기타 변수에 따라 달라진다. 예를 들어, 플라즈마 부하 임피던스는 발전기 주파수, 전력, 챔버 압력, 가스 조성 및 플라즈마 점화에 따라 달라질 수 있다. 플라즈마 임피던스의 이러한 변화는 발전기로부터의 전력 전달에 부정적인 영향을 미칠 수 있고; 또한 상이한 전력 레벨에서의 플라즈마의 물리적 특성의 변화로 인해 에칭 또는 증착 속도와 같은 처리 변수에서 원하지 않는 드리프트 또는 섭동 (perturbation) 을 초래할 수 있다. 전력 전달 시스템의 소스 임피던스를 플라즈마 부하 임피던스에 정합시키는 임피던스 정합 메커니즘 또는 회로를 갖춘 플라즈마 처리 시스템은 플라즈마 처리에 대한 그러한 악영향을 줄일 수 있다.

이러한 관찰을 염두에 두고, 특히 본 개시의 양태가 구상되었다.

일 양태에 따르면, 플라즈마 부하에 전력을 제공하기 위한 전력 공급 시스템은 제 1 증폭기 입력 및 제 1 증폭기 출력을 포함하는 제 1 전력 증폭기로서, 제 1 전력 증폭기는 제 1 제어 가능한 출력 전력 및 부하의 임피던스를 기준으로 제 1 피크 전력 오프셋을 갖는 제 1 비대칭 전력 프로파일을 갖는, 상기 제 1 전력 증폭기, 및 제 2 증폭기 입력 및 제 2 증폭기 출력을 포함하는 제 2 전력 증폭기로서, 제 2 전력 증폭기는 제 2 제어 가능한 출력 전력 및 부하의 임피던스를 기준으로 제 2 피크 전력 오프셋을 갖는 제 2 비대칭 전력 프로파일을 갖는, 상기 제 2 전력 증폭기를 포함한다. 전력 공급 시스템은 또한 제 1 전력 증폭기 및 제 2 전력 증폭기 중 적어도 하나와 통신하는 제어기를 포함 할 수 있고, 제 1 제어 가능 출력 전력은 제 2 제어 가능 출력 전력과 결합되어 결합된 출력 전력을 정의하고, 제어기는 결합된 출력 전력의 소스 임피던스를 제어하기 위해 제 1 제어 가능한 출력 전력 또는 제 2 제어 가능한 출력 전력 중 적어도 하나를 조정한다.

다른 양태에 따르면, 플라즈마 처리 시스템을 동작시키는 방법이 제공된다. 방법은, 제 1 전력 프로파일을 갖는 제 1 전력 신호를 제공하는 제 1 증폭기 및 제 2 전력 프로파일을 갖는 제 2 전력 신호를 제공하는 제 2 증폭기를 포함하는 전력 공급 장치에서, 그리고 부하의 임피던스 측정에 응답하여, 부하의 임피던스 측정에 기초하여 결합된 출력 전력 신호를 정의하기 위해 제 1 전력 신호 및 제 2 전력 신호 중 적어도 하나를 제어하는 단계를 포함할 수 있다.

또 다른 양태에 따르면, 전력 공급 장치 제어기는 프로세서 및 프로세서에 의해 실행될 때 전력 공급 장치의 출력 신호의 소스 임피던스를 조정하도록 동작 가능한 명령들을 포함하는 비일시적 메모리를 포함한다. 명령들은 전원 공급 장치에 연결된 부하의 결정된 부하 임피던스에 기초하여 발전기로부터의 입력 전력 신호를 변경하고 제 1 전력 프로파일을 갖는 제 1 가변 출력 전력 신호를 제공하도록 제 1 전력 증폭기에 지시하고, 부하의 결정된 부하 임피던스에 기초하여, 발전기로부터의 입력 전력 신호를 변경하고 제 1 전력 프로파일과 상이한 제 2 전력 프로파일을 갖는 제 2 가변 출력 전력 신호를 제공하도록 제 2 전력 증폭기에 지시한다. 제 1 가변 출력 전력 신호 및 제 2 가변 출력 전력 신호는 결합되어 부하로 전송되는 결합된 출력 전력 신호를 생성하고, 결합된 출력 전력 신호는 결합된 전력 프로파일을 포함하고 소스 임피던스는 부하의 부하 임피던스에 기초한다.

본 개시의 기술의 다양한 특징 및 이점은 첨부 도면에 도시 된 바와 같이 이러한 기술의 특정 실시형태에 대한 다음의 설명으로부터 명백해질 것이다. 도면은 반드시 일저한 비율은 아니며; 그러나 대신 기술 개념의 원리를 설명하는 데 중점을 두고 있습니다. 도면은 본 개시 내용의 전형적인 실시형태만을 도시하므로, 범위를 제한하는 것으로 간주되어서는 안된다.
도 1a 는 제 1 예시적인 플라즈마 처리 시스템을 도시한다.
도 1b 는 플라즈마 처리 시스템의 고효율 무선 주파수 (RF) 전력 발생기의 공칭 부하 임피던스를 참조한 출력 전력 프로파일의 3 차원 도시이다.
도 2 는 제어 가능한 이중 증폭기 고효율 전력 발생기를 갖는 제 2 예시적인 플라즈마 처리 시스템을 도시한다.
도 3 은 동일한 출력 전력 설정을 갖는 두 전력 증폭기의 조합에서 생성 된 출력 전력 프로파일의 3 차원 도시이다.
도 4 는 출력 전력 설정이 동일하지 않은 두 전력 증폭기의 조합에서 생성 된 출력 전력 프로파일의 3 차원 도시이다.
도 5 는 위상 및 임피던스 피드백 제어를 갖는 제어 가능한 이중 증폭기 고효율 전력 발생기를 갖는 제 3 예시적인 플라즈마 처리 시스템을 도시한다.
도 6 은 제어 가능한 4중 증폭기 고효율 전력 발생기를 갖는 제 4 예시적인 플라즈마 처리 시스템을 도시한다.
도 7 은 4중 증폭기 고효율 전력 발생기로부터의 출력 전력 신호의 전력 프로파일의 단순화 된 스미스 차트의 도면이다.
도 8 은 고효율 무선 주파수 (RF) 전력 발생기로부터 플라즈마 처리 시스템의 부하에 인가되는 펄스 전력의 예시적인 파형이다.
도 9 는 출력 전력 신호의 소스 임피던스를 제어하기 위해 전력 발생 시스템의 복수의 증폭기를 제어하는 방법의 플로우챠트이다.
도 10 은 본 개시의 일 실시형태에 따른 예시적인 컴퓨터 시스템을 도시한다.

전형적인 플라즈마 처리 시스템은 전력 발생기에 의해 구동된다. 플라즈마 처리를 제어하는 것은 발전기의 두 가지 기본 파라미터 - 출력 전력 및 동작 주파수 - 의 변화에 의해 실시간으로 제공됩니다. 그러나 현대의 플라즈마 처리의 경우, 그러한 2 차원

전력 전달 시스템은 많은 플라즈마 처리 조건에서 요구되는 넓은 범위에서 최적의 그리고 안정적인 조건을 제공할 수 없다. 결과적으로, 발전기의 추가적인 기본 파라미터 - 그것의 소스 임피던스 - 를 실시간으로 제어해야 하는 필요성이 필수적다.

본 개시의 실시형태는 실시간으로 발전기의 소스 임피던스의 제어를 허용하는 전원 공급 시스템을 제공하여 플라즈마 처리에 대한 동작 조건의 범위를 확장한다. 전력 발생기 시스템의 일 실시형태에서, 공칭 부하 임피던스와 관련하여 비대칭 전력 프로파일을 갖는 2 개의 무선 주파수 (RF) 증폭기가 이용 될 수 있다. 제 2 전력 증폭기는 일반적으로 공칭 부하 임피던스와 관련하여 제 1 전력 프로파일과 정반대인 전력 프로파일을 갖는다. 이러한 전력 프로파일의 변화는 다양한 방식으로 달성 될 수 있다. 예를 들어, 전력 프로파일의 변화는 무엇보다도 각 증폭기에 대해 서로 다른 토폴로지를 사용하거나 위상 지연 네트워크를 구현함으로써 달성 될 수 있다. 제 1 및 제 2 증폭기로부터의 출력 전력은 결합기 회로 또는 다른 디바이스를 사용하여 결합될 수 있고 결합된 출력 전력은 플라즈마 부하로 전송된다. 특정 구현에서, 각 증폭기의 출력 전력은 개별 증폭기에 의해 제공되는 출력 전력 신호의 하나 이상의 특성을 변경하도록 독립적으로 제어 될 수 있다. 제 2 증폭기의 출력 전력에 대한 제 1 증폭기의 출력 전력의 비를 변경함으로써, 발전기의 소스 임피던스는 부하에 대한 전력 신호의 소스 임피던스를 부하 임피던스와 정합시키도록 실시간으로 그리고 부하 임피던스에 응답하여 변화될 수 있다.

플라즈마 발생 애플리케이션을 위한 전형적인 고효율 RF 발생기는 광범위한 부하 임피던스에 대해 RF 전력을 전달한다. 예를 들어, 도 1a 는 플라즈마 챔버 (106) 에 전력을 제공하도록 구성된 전력 발생 시스템 (102) (예를 들어, 고효율 RF 전력 발생기) 을 포함하는 제 1 예시적인 플라즈마 처리 시스템 (100) 을 도시한다. 제공된 전력은 기상 증착 및 에칭 애플리케이션과 같은 임의의 수 및 유형의 플라즈마 처리 절차를 위해 플라즈마 챔버 (106) 내에서 플라즈마를 점화하고 유지한다. 전력 발생 시스템 (102) 은 전력 발생 시스템으로부터의 출력 전력을 제어하기 위해 전압 값을 갖는 제어 신호를 수신 할 수 있다.

이러한 종래의 전력 발생기 (102) 는 공칭 부하 (114) 를 참조하여 비대칭 출력 전력 프로파일을 생성 할 수 있다. 도 1b 는 플라즈마 처리 시스템 (100) 의 RF 전력 발생기 (102) 의 비대칭 출력 전력 프로파일 (110) 의 일 예의 3 차원 스미스 차트 (또는 반사 계수 차트) 이다. 그래프 (110) 의 수평면은 활성 및 비활성 부하 임피던스 성분을 나타내고 수직축은 출력 RF 전력을 나타낸다. 50 오옴의 공칭 기준 임피던스가

그래프에서 라인 (114) 에서 표현된다. 공칭 부하 (114) 는 일반적으로 약 50 오옴인 플라즈마 챔버 (106)의 부하 임피던스 일 수 있다. 그러나, 아래에서 더 상세히 설명되는 바와 같이, 플라즈마 챔버 (106)의 부하 임피던스는 전력 신호를 부하에 적용하는 동안 처리 조건 또는 다른 변수에 따라 변할 수 있다. 도 1b 에서 볼 수있는 바와 같이, 전력 발생 시스템 (102) 의 출력 전력 프로파일 (110) 은 공칭 기준 부하 (114) 와 관련하여 비대칭적이며, 이는 프로파일 (110) 이 차트의 반대측상의 대응하는 피크 전력 없이 차트의 가장자리를 향해 피크 전력 (112) 을 포함하기 때문이다.

많은 플라즈마 처리 시스템에서, 부하 임피던스의 작은 변화는 플라즈마 발생기 (102) 에 의해 전달되는 전력의 허용 할 수 없는 변화를 야기 할 수 있고 플라즈마 처리 (100)의 불안정성을 초래할 수 있다. 예를 들어, 시스템의 부하 임피던스의 변동은 소스 임피던스와 부하 임피던스의 부정합을 야기 할 수 있으며, 그 결과 플라즈마에 제공된 전력이 제공된 전력의 비대칭 전력 프로파일 (110) 로 인해 상승 또는 하강한다. 부하 임피던스의 변화의 영향은 전력 발생기 (102) 와 부하 (106) 사이의 특정 길이 지연 라인을 사용하여 적어도 부분적으로 흡수 될 수 있지만 (전력 발생 시스템으로부터의 전력이 플라즈마 챔버로 제공되는 정합 케이블 (104) 로서 도 1a 에 예시됨), 부하 임피던스의 가변적 특성에 응답하는 이러한 유형의 조정은 좁은 동적 범위를 가지며 일반적으로 플라즈마 처리의 변화에 응답하여 실시간으로 제어될 수 없다. 소스 임피던스를 부하 임피던스에 정합시키는 또 다른 방법은 피크 전력 전달 (즉, 전력 프로파일 (112) 의 피크) 을 변화하는 임피던스와 정합시키도록 소스 전력 프로파일을 조정하는 것입니다. 따라서, 전력 신호의 소스 임피던스에 대한 실시간 제어는 플라즈마 처리 시스템을 안정화시킬 수 있다.

플라즈마 챔버의 부하 임피던스의 변화를 설명하기 위해 부하에 제공되는 전력 신호의 소스 임피던스에 대한 실시간 제어를 제공하기 위해, 대안적인 고효율 RF 전력 발생 시스템이 여기에 설명된다. 위에서 언급 한 바와 같이, 전력 발생 시스템의 출력 임피던스 ("소스 임피던스” 라고도 함) 를 부하의 임피던스 ("부하 임피던스” 라고도 함) 에 정합시키는 것은 플라즈마 처리 시스템의 동작 및 효율을 향상시킬 수 있다. 예를 들어, 부하 임피던스의 큰 변화는 플라즈마 처리 시스템을 불안정하게 하여 일부 경우에 시스템의 셧다운을 야기할 수도 있다. 따라서, 부하 임피던스에 응답하여 광범위한 값에 걸쳐 전력 발생 시스템의 소스 임피던스를 빠르게 조정하기 위한 시스템 및 방법이 여기에서 제공된다. 이러한 시스템은 부하로 전송되는 전체 출력 전력 프로파일을 형성하기 위해 결합될 수 있는 비대칭 출력 전력 프로파일을 가진 복수의 RF 증폭기 또는 전력 발생기를 이용할 수 있다.

전력 증폭기의 양태 또는 특성 및/또는 각 전력 증폭기의 출력 전력 신호는 전력 제어 시스템에 의해 제어되어 플라즈마와 같은 부하의 부하 임피던스의 측정되거나 결정된 변화에 응답하여 출력 전력 신호의 목표 소스 임피던스를 조정하거나 생성할 수 있다. 다수의 전력 증폭기의 전력 프로파일의 변화를 제어하는 것은 무엇보다도 각 증폭기에 대해 서로 다른 토폴로지를 사용하거나 위상 지연 네트워크를 구현함으로써 달성 될 수 있다. 다수의 증폭기의 출력 전력은 결합기 컴포넌트를 사용하여 결합될 수 있으며 결합기의 출력 전력은 플라즈마 부하로 전달 될 수 있다. 특정 구현에서, 각 증폭기의 출력 전력 신호는 전력 제어 시스템에 의해 독립적으로 제어 될 수 있다. 제 2 증폭기의 출력 전력 신호에 대한 제 1 증폭기의 출력 전력 신호의 비를 변경함으로써, 부하에 제공되는 전력 신호의 소스 임피던스가 실시간으로 변화되어 부하 임피던스의 변화와 정합될 수 있다.

도 2 는 목표 소스 임피던스를 갖는 전력 신호를 부하 (206) 에 제공하기 위한 제어 가능한 이중 증폭기, 고효율 전력 발생기 시스템 (202) 을 갖는 예시적인 플라즈마 처리 시스템 (200) 을 도시한다. 도 2 의 플라즈마 처리 시스템 (200) 의 많은 컴포넌트들은 도 1a 를 참조하여 위에서 설명 된 것과 유사하다. 예를 들어, 시스템 (200) 은 정합 케이블 (204) 을 통해 전력 발생 시스템 (202) 으로부터 고효율 RF 전력 신호를 수신하는 플라즈마 부하 (206) 를 포함한다. 플라즈마 부하 (206) 및 정합 케이블 (204) 은 플라즈마 부하가 시스템 (200)의 특성 또는 조건으로 인해 변할 수 있는, 약 50 오옴의 부하 임피던스를 가질 수 있도록 전술 한 바와 유사하게 동작할 수 있다. 플라즈마 처리 시스템 (200)의 전력 발생 시스템 (202)은 하나 이상의 제어 가능한 전력 증폭기 (210, 212) 를 포함하여 전력 발생 시스템 (202)의 출력 전력 프로파일을 실시간으로 조정하여 출력 전력 신호 (216)의 소스 임피던스를 부하 임피던스에 정합시킬 수 있다.

회로 (200)의 전력 발생 시스템 (202)은, 논의를 단순화하기 위해 도시되지 않은 다른 컴포넌트들 중에서, RF 전력 공급 장치 (208), 제 1 증폭기 (210) 및 제 2 증폭기 (212)를 포함할 수 있다. 각각의 증폭기 (210, 212)는 전력 공급 장치 (208) 로부터 출력 전력 신호를 수신하고 그 수신된 전력 신호를 변경할 수 있다. 전력 신호를 변경하는 것은 전력 신호의 주파수, 진폭 또는 위상을 조정하는 것과 같은 전력 신호의 임의의 특성의 조정을 포함 할 수 있다. 각각의 증폭기 (210, 212)로부터의 출력은 2 개의 출력을 단일 출력 신호 (216)로 결합하도록 구성된 결합기 회로 또는 디바이스 (214)에 제공 될 수 있다. 결합된 출력 신호 (216)는 플라즈마 처리를 수행하기 위한 플라즈마 챔버 또는 플라즈마 부하일 수 있는 부하 (206)에 제공 될 수 있다. 일부 구현에서는

전력 발생 시스템 (202)의 각각의 증폭기 (210, 212)는 전력 제어 시스템 (201)에 의해 함께 또는 독립적으로 제어 될 수 있다. 예를 들어, 전력 제어 시스템 (201)은 하나 이상의 제어 신호 (218)를 증폭기 A (210) 및/또는 증폭기 B (212)로 전송할 수 있다. 제어 신호 (218)는 증폭기로부터 제어 된 출력 전력 신호를 생성하기 위해 전력 공급 장치 (208)로부터의 전력 신호를 변경하도록 각각의 증폭기를 구성하기 위한 증폭기 (210, 212)에 대한 하나 이상의 명령을 포함 할 수 있다. 예를 들어, 제어 신호 (218)는 전력 공급 장치 (208)로부터의 입력 전력 신호의 진폭을 변경하고 그 변경된 전력 신호를 결합기 (214)에 제공하도록 증폭기 A (210)를 구성 할 수 있다. 다른 예에서, 제어 신호 (218)는 전력 공급 장치 (208)로부터의 입력 전력 신호의 위상을 변경하고 그 변경된 전력 신호를 결합기 (214)에 제공하도록 증폭기 B (212)를 구성하거나 지시 할 수 있다. 아래에서 더 상세히 설명되는 바와 같이, 제 1 증폭기 (210)의 출력 전력 신호 대 제 2 증폭기 (212)의 출력 전력 신호의 비를 변경하는 것은 부하 (206) 에 제공된 바와 같은 전력 발생 시스템 (202)의 결합된 출력 전력 신호 (216)의 소스 임피던스를 변경할 수 있다.

도입 된 바와 같이, 고효율 RF 전력 발생기는 일반적으로 공칭 또는 기준 부하와 관련하여 비대칭 전력 프로파일을 갖는다. 증폭기 A (210)의 출력 전력 프로파일 및 증폭기 B (212)의 출력 전력 프로파일은 유사하게 공칭 부하와 관련하여 비대칭일 수 있다. 전력 발생 시스템 (202)의 일 구현에서, 제어 시스템 (201)은 동일한 진폭을 갖지만, 증폭기 B (212) 와 같은 하나의 증폭기의 출력 전력 프로파일이 증폭기 A (210) 와 같은 다른 증폭기의 출력 전력 프로파일과 정반대인 출력 전력 신호들을 제공하도록 증폭기 A (210) 및 증폭기 B (212)의 출력 전력 신호를 전달할 수 있다. 도 3 의 출력 전력 프로파일 (314)을 생성하기 위해, 전력 제어 시스템 (201)은 증폭기 A (210) 및 증폭기 B (212)에 하나 이상의 명령을 제공하여 결합기 (214)에 의해 결합될 때 결합된 출력 전력 프로파일 (314) 을 형성하는 그 증폭기들에 대한 각각의 출력 전력 프로파일을 생성 할 수 있다. 일 구현에서, 증폭기 B (212)에 대한 전력 프로파일 (304)은 증폭기 A (210) 의 전력 프로파일 (302)과 관련하여 스미스 차트에서 정반대 될 수 있다. 예를 들어, 증폭기 A (210) 의 도 3 에 예시된 전력 프로파일 (302) 은 50 오옴과 같은 공칭 부하 (306) 를 참조할 수 있다. 유사하게, 증폭기 B (212)의 전력 프로파일 (304) 은 또한 50 오옴일 수 있는 공칭 부하 (310)를 참조할 수 있다. 정반대로, 전력 프로파일 A (302) 는 공칭 부하 기준 (306) 의 좌측에 도시 된 피크 전력 (308) 을 포함 할 수 있고, 전력 프로파일 B (304) 는 전력 프로파일의 공칭 부하 기준 (310)의 우측에 있는 피크 전력 (312)을 포함 할 수 있다. 피크 (308, 312)는 높이 또는 크기가 동일 할 수 있지만, 공칭 부하 (306, 310)과 관련하여 스미스 차트에서는 정반대에 위치한다. 동일하지만 반대의 전력 프로파일 (302, 304)을 생성하는 것은 증폭기 (210, 212)에 대한 상이한 토폴로지, 위상 지연 네트워크, 제어 시스템 (201)에 의한 전력 프로파일의 조작 등과 같은 다수의 기술을 사용하여 수행 될 수 있다.

도 3 은 전력 증폭기 (210, 212)의 전력 프로파일 (302, 304) 의 전력 프로파일 (314) 로의 조합을 도시한다. 결합된 출력 전력 (314)은 결합기 회로 (214)에 의해 플라즈마 부하 (206)에 제공 될 수 있다. 예시 된 바와 같이, 증폭기 A (302) 및 증폭기 B (304)의 결합된 출력 전력 프로파일 (314)은 공칭 부하 기준에서 비교적 평평한 피크 (316) 와 대칭이다. 제어 시스템 (201) 은 공칭 부하 임피던스 (일반적으로 50 오옴)에서 결합된 피크 전력 (316)을 제공하기 위해 증폭기 (210, 212)를 제어 할 수 있다. 그러나, 부하 임피던스의 변동은 부하와 소스 사이의 임피던스 부정합으로 인해 부하 (206)로 전달되는 RF 전력의 피크 전력 레벨 (316) 미만을 초래할 수 있다.

전력 프로파일 (314)에 예시된 바와 같이, 부하 임피던스가 공칭 부하 기준 (316)에서 멀어 질수록 증폭기 (210, 212)의 결합된 출력 (314)으로부터 부하에 제공 될 수 있는 전력은 더 작다 (공칭 최대 전력 전달로부터, 부하 임피던스가 임의의 방향으로 피크에서 멀어짐에 따라, 그것은 프로파일을 따라 아래쪽으로 전력 프로파일과 교차한다). 부하 임피던스가 프로파일을 따라 아래쪽으로 공칭 부하 임피던스에서 멀리 변하는 경우, 플라즈마 처리 시스템 (200)은 플라즈마 (206)에 제공되는 전력이 감소함에 따라 불안정해질 수 있으며, 이는 시스템에 대한 손상을 방지하기 위해 또는 플라즈마 붕괴에 응답하여 셧다운되는 시스템을 야기할 수 있다. 변화하는 부하 조건의 존재에서 최적의 전력 전달을 유지하기 위해, 제어 시스템 (201)은 증폭기 (210, 212)의 전력 프로파일의 특성 중 하나 이상을 조정하여, 부하에 대한 전력의 결합된 프로파일을 변경할 수 있다. 일 구현에서, 제어 시스템 (201)은 증폭기 (210, 212) 의 전력 프로파일의 특성 중 하나 이상을 조정하여 부하에 대한 전력의 결합된 프로파일이 결정된 부하 임피던스에서 또는 그 근처에서 피크 전력을 갖도록 할 수 있다. 예를 들어, 부하 임피던스는 도 3 의 공칭 부하 임피던스 (316)로부터 떨어져 플라즈마 시스템의 동작 중에 변할 수 있다. 이에 응답하여, 증폭기 A 의 전력 프로파일 (302) 및/또는 증폭기 B 의 전력 프로파일 (304)은 결정된 부하 임피던스에 위치하도록 결합된 전력 신호의 전력 프로파일의 피크 전력을 위치시키기 위해 제어기에 의해 조정될 수 있다. 이러한 방식으로, 결합된 출력 전력 프로파일 (314)의 피크 전력 (및 소스 임피던스)은 부하 임피던스에 응답 할 수 있다.

도 4 는 동일하지 않은 출력 전력 프로파일들 (402, 404) 의 조합으로부터 생성 된 조합된 출력 전력 프로파일 (414)의 예의 3 차원 예시이다.

특히, 제어기는 출력 전력 프로파일 (402) 을 갖는 전력을 생성하도록 제 1 증폭기 A 에 지시 할 수 있다. 프로파일 (402) 은 공칭 부하 임피던스 (406) 에 관하여 비대칭 전력 프로파일이다. 제어기는 출력 전력 프로파일 (404) 을 갖는 전력을 생성하도록 제 2 증폭기 B 에 지시 할 수 있다. 프로파일 (404)은 또한 공칭 부하 임피던스 (410) 에 관하여 비대칭적이다. 특히, 증폭기 A 의 전력 프로파일 A (402)의 피크는 증폭기 B의 전력 프로파일 B (404) 와는 스미스 차트상에서 상이한 부하 임피던스에서 발생한다. 또한, 전력 프로파일 (402, 404)은 상이한 피크 전력 크기를 갖는다. 증폭기 A 및 증폭기 B의 전력 프로파일의 출력 전력 프로파일 (404)은 출력 전력 프로파일 (402)의 피크 (408) 위치로부터 정반대의 피크 (412)를 포함한다. 피크 (408) 의 크기는 피크 (412) 의 크기보다 더 크다. 따라서, 공칭 부하 임피던스 (316)에 대한 상대적으로 대칭적인 프로파일을 제공하는 결합된 프로파일 (314)과 달리, 결합된 출력 전력 프로파일 (414)은 동작 부하 임피던스 (416)에 대해 비대칭적이다. 도시 된 바와 같이, 결합된 프로파일의 피크 전력 (418)은 더 큰 크기의 피크 전력을 갖는 증폭기 A 측에 있다. 다르게 말하면, 결합된 출력 전력 프로파일 (414)의 비대칭 형상은 증폭기 B (212)의 전력 프로파일 (404)의 진폭 또는 크기와 관련하여 증폭기 A (210)의 전력 프로파일 (402)의 진폭 또는 크기를 증가시킴으로써 달성된다. 이것은 증폭기 A (210)의 전력 프로파일 (402)의 피크 (408)가 증폭기 B (212)의 전력 프로파일 (404)의 피크 (412)보다 더 높거나 더 큰 것에 의해 도 4 에 예시된다. 결합될 때, 출력 전력 프로파일 (414)은 피크 또는 최대 전력 (418)이 공칭 또는 기준 부하 임피던스에서 떨어진 부하 임피던스에서 증폭기 (210, 212) 에 의해 제공되도록 공칭 부하 임피던스 (416) 에 관해 비대칭적이다.

예를 들어, 결합된 전력 신호의 출력 전력 프로파일 (414)의 피크 전력 (418)은 공칭 부하 (416)에서 발생하지 않을 수 있다. 변화하는 공칭 부하 임피던스의 존재 시에, 제어기는 결합된 시스템에서 증폭기 중 하나 또는 둘 모두의 프로파일의 크기 또는 기타 속성을 변경하여 결합된 신호의 피크 전력의 위치를 조정할 수 있다. 따라서, 예를 들어, 부하 임피던스가 416 에서 418 로 이동한 경우, 제어기는 임피던스의 변화와 정합하도록 피크 전력 위치 (418)를 조정하기 위해 전력 프로파일 (402 및 404)을 조정할 수 있다.

보다 상세하게는, 증폭기 (210, 212)의 출력 신호 (402, 404) 사이의 진폭 부정합의 결과로, 결합된 경우의 결과의 출력 전력 프로파일 (414)은 공칭 임피던스 (416) 에 관해 비대칭이 되어 소스 임피던스에 대한 피크 전력 전달 포인트가 각 증폭기가 동일한 출력 전력 크기를 갖는 이전의 사례 (도 3 에 도시됨) 에 비해 이동된다. 따라서, 2 개의 증폭기 (210, 212) 의 출력 전력 크기의 비율을 변경함으로써, 피크 전력 전달의 결과의 위치 및 사실상 소스 임피던스가

조정되어 상이한 부하 임피던스를 수용하고 변화하는 부하 임피던스와 정합할 수 있다. 즉, 발생기 출력 또는 소스 임피던스의 값 (또는 제공된 그래픽 표현에서 전력 프로파일 기울기의 크기) 은 두 증폭기 (210, 212) 의 신호 값의 차이에 의해 제어된다. 증폭기로부터의 출력 전력 신호에 대한 이러한 변경 또는 제어는 부하 임피던스 변동의 동적 변동을 설명하기 위해 실시간으로 이루어질 수 있으며, 이에 따라 소스 임피던스를 정합시키고, 전력 전달을 제어하며, 플라즈마 프로세스의 제어 가능성과 안정성을 개선할 수 있다. (예를 들어, 전원 (208)로부터의 전력 신호를 변경하기 위해 증폭기로 제어 신호 (218) 를 제공하는 전력 제어 시스템 (201) 을 통한) 증폭기 (210, 212)의 출력의 제어는 따라서 부하 (206) 에 제공되는 결합된 출력 신호 (216)의 특성을 제어할 수 있다.

제 1 증폭기 (210) 및/또는 제 2 증폭기 (212)로부터의 전력 프로파일의 크기를 조정하는 것과 관련하여 위에서 논의되었지만, 증폭기는 전력 제어 시스템 (201)에 의해 제어되어 전원 (208) 으로부터의 전력 신호의 다른 특성을 변경하여 결합된 출력 전력 신호 (216)를 추가로 생성할 수 있다. 예를 들어, 전력 제어 시스템 (201)은 결합된 출력 전력 프로파일 (216)을 조정하고 제어하기 위해 어느 하나의 출력의 위상을 변경하기 위해 증폭기 (210, 212)에 제어 신호를 전송할 수 있다. 도 3 및 도 4 의 전력 프로파일 그래프와 관련하여, 증폭기 A (210) 또는 증폭기 B (212)의 출력 전력 프로파일의 위상을 조정하는 것은 공칭 기준 부하 임피던스에 대한 전력 프로파일 그래프의 회전을 야기한다. 전력 프로파일의 이러한 회전은 검출 된 가변 부하 임피던스에 기초하여 부하 (206) 에 제공된 결합된 출력 전력 신호 (216)를 추가로 조정하기 위해 결합된 출력 전력 프로파일 (414)의 형상에 대한 추가적인 제어를 제공한다. 일반적으로, 출력 전력 신호 (216)의 전력 프로파일의 임의의 양태는 전력 제어 시스템 (201)에 의해 제어 가능할 수 있다. 예를 들어, 결합된 전력 신호의 전력 프로파일 (414)의 목표 크기 및/또는 기울기는 전력 제어 시스템 (201)으로부터 증폭기 (210, 212)에 제공된 명령을 통해 결정되고 생성 될 수 있다.

전력 발생 시스템 (202)은 출력 소스 임피던스를 변화하는 부하 임피던스에 정합시키려고 시도하기 위해 부하 임피던스 변화의 동적 변화에 기초하여 결합된 출력 전력 신호 (216)를 제어 할 수 있다. 일부 예에서, 출력 전력 신호 (218) 및/또는 부하 임피던스로부터의 피드백 정보 및/또는 측정은 증폭기 (210, 212)를 제어하기 위해 전력 제어 시스템 (201)에 대한 입력으로서 제공 될 수 있다. 예를 들어, 도 5 는 위상 및 임피던스 피드백 시스템 (516) 을 갖는 제어 가능한 이중 증폭기 고효율 전력 발생기 (502) 를 갖는 예시적인 플라즈마 처리 시스템 (500) 이다. 플라즈마 처리 시스템 (500)의 컴포넌트들은 위에서 설명한 것들과 유사하며, 전력 발생 시스템 (502) 은 선택적인 정합 케이블 (504)을 통해 플라즈마 부하 (506)에 전력 신호를 제공한다. 전력 발생 시스템 (502)은 입력 전력 신호를 제 1 증폭기 (510) 및 제 2 전력 증폭기 (512)에 제공하는 전원 (508)를 포함 할 수 있으며, 이들 모두는 하나 이상의 전력 제어 신호 (518)를 통해 전력 제어 시스템 (501)에 의해 제어 가능하다. 위에서 설명 된 컴포넌트들에 더하여, 전력 발생 시스템 (502)은 또한 피드백 시스템 (516)을 포함 할 수 있다. 피드백 시스템 (516)은 결합기 회로 (514)로부터 결합된 출력 전력 신호 (520)를 수신하고 결합된 출력 전력 신호 (520) 에 대한 정보 (또는 결합된 출력 전력 신호 자체) 를 전력 제어 시스템 (501)에 제공 할 수 있다. 예를 들어, 피드백 시스템 (516) 은 결합기 (514)로부터 결합된 출력 전력 신호 (520)를 수신하고 시스템에 대한 입력으로서 전력 제어 시스템 (501)에 제공된 위상일 수 있는 결합된 출력 전력 신호의 위상을 결정할 수 있다. 전력 제어 시스템 (501)은 결합된 출력 전력 신호 (520)의 위상과 같은 입력 정보를 사용하여 피드백 시스템에 의해 제공된 피드백 정보에 응답하여 출력 전력 신호를 구성하도록 증폭기 (510, 512)를 제어 할 수 있다.

또한, 부하 (506)의 특성은 또한 피드백 시스템 (516)에 의해 획득되거나 그것에 제공 될 수 있다. 예를 들어, 부하에 존재하는 부하 임피던스가, 예를 들어 IV 프로브로 검출되어 피드백 시스템 (516)에 제공 될 수 있다. 피드백 시스템 (516)은 전력 제어 시스템 (501)에 부하 임피던스를 제공 할 수 있으며, 전력 제어 시스템은 출력 전력 신호 (520) 의 소스 임피던스를 부하 임피던스와 정합시키기 위한 시도에서 수신된 부하 임피던스에 응답하여 증폭기 A (510) 및/또는 증폭기 B (512)의 출력을 조정할 수 있다.

일부 예에서, 부하 임피던스 (또는 부하의 다른 특성) 가 부하 (506) 에 대한 출력 전력 신호 (520) 로부터 로 도출 될 수 있다. 예를 들어, 부하 임피던스는 부하에 대한 전력 신호 (520)의 프로파일에 기초하여 변할 수 있다. 피드백 시스템 (516)은 그 후 출력 전력 신호 (520)를 수신하고, 그 신호를 분석하여 부하 임피던스를 결정하고, 출력 전력 신호의 특성의 정보를 전력 제어 시스템 (501)에 제공할 수 있다. 전력 제어 시스템 (501)은 추정 된 부하 임피던스와 정합하도록 증폭기 A (510) 및 증폭기 B (512)의 출력 전력 신호를 조정하는 방법을 결정하기 위해 이 정보를 이용할 수 있다. 어떤 경우에는 전력 제어 시스템 (501) 이 결합된 출력 전력 신호 (520)로부터 부하 임피던스를 추정할 수 있다.

유사하게, 전력 신호 (520)의 위상을 결정하는 것 및 전력 신호를 부하 (506)에 적용하는 효과는 전력 제어 시스템 (501)이 응답으로 출력 전력 신호를 조정하는 데 도움을 줄 수 있다. 결합된 출력 전력 신호 (520)의 전력 프로파일을 성형하기 위해 전력 제어 시스템 (501)에 의해 제어 될 수 있는 임의의 특성이 피드백 시스템 (516) 및/또는 전력 제어 시스템 (501)에 의해 수신 될 수 있다.

또 다른 예에서, 결합된 출력 전력 신호의 전력 프로파일의 형상에 대한 훨신 더 많은 제어를 제공하기 위해 전력 발생 시스템 (202)에 3 개 이상의 증폭기가 포함될 수 있다. 예를 들어, 도 6 은 제어 가능한 4중 증폭기 고효율 전력 발생기 (602) 를 갖는 예시적인 플라즈마 처리 시스템 (600) 을 도시한다. 상기 시스템과 유사하게, 도 6 의 시스템 (600)은 플라즈마 부하 (606)에 출력 전력 신호를 제공하는 전력 발생 시스템 (602)을 포함 할 수 있다. 전력 발생 시스템 (602)은 하나 이상의 전력 제어 신호 (622)를 통해 전력 제어 시스템 (601)에 의해 제어되는 임의의 수의 증폭기들에 입력 전력 신호를 제공하는 전원 (608)를 포함 할 수 있다. 도시 된 예에서, 전력 발생 시스템 (602)은 4 개의 증폭기, 증폭기 A-D (610-616) 을 포함한다. 4 개의 증폭기 (610-616)가 시스템 (600)에 도시되어 있지만, 전력 발생 시스템 (602)에 의해 제공되는 전력 프로파일 신호의 형상에 대한 추가의 제어를 제공하기 위해 임의의 수의 증폭기들이 전력 발생 시스템 (602)에 포함될 수 있다.

일부 구현에서, 전력 발생 시스템 (602)의 4 개 이상의 증폭기들 (610-616) 은 전력 제어 시스템 (601)으로부터의 한 쌍의 증폭기들 중 하나의 증폭기에 대한 제어가 그 쌍의 제 2 증폭기에 대한 제어에 영향을 미칠 수 있도록 쌍을 이룰 수 있다. 예를 들어, 증폭기 A (610) 및 증폭기 B (612)는 그 증폭기들로부터의 출력 신호가 도 2 와 관련하여 위에서 논의 된 바와 같이 정반대의 전력 프로파일이 되도록 전력 제어 시스템 (601)에 의해 제어 될 수 있다. 증폭기들의 두 번째 쌍인 증폭기 C (614) 및 증폭기 D (616)는 또한 그들의 출력 전력 프로파일이 정반대되도록 제어 될 수 있다 (증폭기 A 의 출력 신호에 대해 도 6 에서 90도 및 270도 회전 된 것으로 예시 됨). 따라서, 제 2 쌍의 증폭기 (614, 616)의 전력 프로파일은 제 1 쌍의 전력 증폭 (610, 612) 에 관하여 스미스 차트 임피던스 평면에서 90도 씩 회전 될 수 있다. 4 개의 모든 증폭기들 (610-616)로부터의 출력 신호는 위에서 논의 된 바와 같이 결합기 (618) 로 결합되고 플라즈마 부하 (606)에 제공 될 수 있다. 4 개의 전력 증폭기 (610-616)의 출력 전력 신호를 결합하는 이러한 구성은 출력 전력 신호의 소스 임피던스의 4 상한 제어를 제공할 수 있거나, 다른 말로 하면,

출력 전력 프로파일의 기울기의 값과 방향의 독립적 제어를 허용한다. 예를 들어, 도 7 은 도 6 의 회로의 4 개의 증폭기 (610-616)로부터의 출력 전력 신호의 전력 프로파일의 스미스 차트 (700)의 간단한 도면이다. 각각의 출력 프로파일 (702-708)은 스미스 차트의 상이한 상한에서 피크 출력 전력을 포함 할 수 있다. 예를 들어, 증폭기 A (610)는 전력 프로파일의 피크가 차트 (700)에 도시 된 원 (702) 내에서 발생하는 출력 전력 프로파일을 가질 수 있다. 따라서 증폭기 A (610)의 전력 프로파일의 피크 전력은 스미스 차트 (700)의 1 상한 내에서 발생할 수 있다. 유사하게, 증폭기 B (612)는 전력 프로파일의 피크가 차트의 상이한 상한에서 차트 (700)의 원 (704) 내에서 발생하는 출력 전력 프로파일을 가질 수 있다. 증폭기 A (610) 및 증폭기 B (612)의 출력 전력 프로파일 (702, 704)은 도 3 및 도 4 를 참조하여 위에서 논의 된 결합된 출력 전력 프로파일과 유사하게, 스미스 차트의 공칭 임피던스 (710) 에 관해 정반대 될 수 있다. 증폭기 C (614)의 출력 전력 프로파일 (706)은 증폭기 D (616)의 정반대 전력 프로파일 (708) 을 갖는, 스미스 차트 (700)의 3 상한에 피크를 포함 할 수 있다. 증폭기 C (614) 및 증폭기 D (616) 쌍의 출력 전력 프로파일은 결합된 출력 전력 신호의 출력 전력 프로파일을 성형하는데 있어서 전력 제어 시스템 (601) 4 상한 제어를 제공하기 위해 증폭기 A (610) 및 증폭기 B (612) 의 쌍의 출력 전력 프로파일과 관련하여 스미스 차트에서 90도 회전 될 수 있다. 전력 발생 시스템 (602)에 포함 된 추가의 증폭기들은 결합된 출력 전력 신호에 대해 훨씬 더 많은 제어를 제공 할 수 있다. 설명을 위해, 전력 프로파일은 각각 평면도에서 균일한 원으로 도시되지만; 그러나 다른 모양도 가능하다. 또한, 각 전력 증폭기의 프로파일은 동일한 모양으로 도시되지만; 그러나 프로파일들이 상대적으로 상이한 모양들을 정의하는 것이 가능하다.

일부 플라즈마 처리 시스템은 일정한 전력 신호라기보다는 플라즈마를 점화 및 제어하기 위해 플라즈마 챔버에 펄스 전력 신호를 인가한다. 예를 들어, 도 8 은 고효율 무선 주파수 (RF) 전력 발생기 (202) 로부터 플라즈마 처리 시스템 (200) 의 부하 (206) 에 인가되는 펄스 전력 신호 (800) 의 예시적인 파형을 도시한다. 펄스 전력 신호 (800)는 제 1 지속 기간 동안 고전력 신호 (802)를 제공한 다음 제 2 지속 기간 동안 저전력 신호 (804)를 제공하는 것을 포함 할 수 있다. 일부 예에서, 고전력 신호 (802)는 양의 전압 신호를 포함 할 수 있고 저전력 신호 (804)는 음의 전압 신호를 포함 할 수 있지만, 펄스 신호 (800) 에서 고전력 신호가 저전력 신호보다 더 크다면 전력 신호의 임의의 특성이 시스템 (200)에 의해 사용될 수 있다. 또한, 고전력 신호 (802) 및 저전력 신호 (804)의 지속 기간은 시스템 (200)의 조건 및 플라즈마 부하 (206)에 대한 의도 된 효과에 기초한 임의의 시간 길이일 수 있다. 또 다른 예에서, 추가 전력 레벨 (806, 808)은 또한 하나 이상의 지속 기간 동안 활성일 수 있는 펄스 전력 신호 (800)에서 전력 발생 시스템 (202)으로부터 부하 (206)에 제공 될 수 있다.

전술 한 회로의 전력 발생 시스템은 펄스 전력 신호 (800)의 다양한 전력 레벨에서 부하의 임피던스에 응답하여 플라즈마 처리 시스템에서 부하에 제공되는 전력 신호의 소스 임피던스를 제어 할 수 있다. 예를 들어, 도 2 의 전력 발생 시스템 (202) 은 도 8 에 예시 된 것과 유사한 펄스 전력 신호 (800)를 제공 할 수 있다. 전술 한 바와 같이, 부하 임피던스는 전력 발생 시스템 (202)에 의해 제공되는 전력 신호와 상관 될 수 있어서, 도 8 의 파형 (800)에 도시 된 바와 같이 부하에 대한 입력 전력을 변화시키는 것은 부하의 임피던스를 변화시킬 수 있다. 부하 임피던스가 펄스 전력 파형과 관련하여 변함에 따라, 전력 발생 시스템 (202)은 제공된 전력 신호의 소스 임피던스를 부하 임피던스에 정합시키기를 시도할 수 있다. 일 구현에서, 전력 제어 시스템 (201)은 펄스 전력 신호의 특정 전력 레벨에서 부하 임피던스를 정합시키기 위해 목표 소스 임피던스를 제공하는 룩업 테이블, 데이터베이스, 또는 다른 기준 데이터를 포함 할 수 있다. 예를 들어, 전력 제어 시스템 (201)의 룩업 테이블은 펄스 전력 신호의 초기 전력 레벨 (802)과 연관된 엔트리를 포함 할 수 있다. 전력 발생 시스템 (202)이 초기 전력 레벨 (802)을 제공 할 때, 전력 제어 시스템 (201)은 초기 전력 레벨에 대한 룩업 테이블의 정보에 기초하여 결합된 출력 전력 신호의 소스 임피던스를 제공하도록 증폭기 (210, 212)를 제어 할 수 있다. 유사하게, 전력 발생 시스템 (202)이 펄스 전력 신호의 제 2 전력 레벨 (804)을 제공함에 따라, 전력 제어 시스템 (201)은 제 2 전력 레벨에 대한 룩업 테이블의 정보에 기초하여 결합된 출력 전력 신호의 소스 임피던스를 제공하도록 증폭기들 (210, 212) 에 응답하고 그것들을 제어 할 수 있다. 전력 제어 시스템 (201)은 이들 신호들이 전력 발생 시스템 (202)으로부터 부하 (206)에 제공되는 경우 펄스 전력 신호의 전력 레벨 (806) 및 전력 레벨 (808)에 대한 목표 소스 임피던스를 얻기 위해 룩업 테이블을 계속 참조할 수 있다.

이러한 방식으로, 룩업 테이블은 제공된 전력 신호의 임의의 전력 레벨에 대해 결합된 전력 출력 신호에 대한 목표 소스 임피던스를 제공 할 수 있다. 전력 제어 시스템 (201)은 그 후 이에 따라 목표 소스 임피던스를 갖는 결합된 출력 전력 신호를 생성하기 위해 전력 발생 시스템 (202)의 증폭기 (210, 212) 로 대응하는 제어 신호를 전송할 수 있다.

다른 구현에서, 전력 제어 시스템 (501)은 그 시스템에 대한 입력으로서 수신 된 피드백 정보에 기초하여 전력 발생 시스템 (502)의 증폭기들 (510, 512) 에 응답하고 그것들을 제어 할 수 있다. 따라서, 전력 발생 시스템 (502)으로부터의 펄스 전력 신호 (800)는 피드백 시스템 (516)에 제공 될 수 있고 그 전력 신호의 현재 전력 레벨에 대한 목표 소스 임피던스가 결정되고 전력 제어 시스템 (501)에 제공 될 수 있다. 전력 제어 시스템 (501)은 피드백 시스템 (516)으로부터 수신 된 정보에 기초하여 목표 소스 임피던스를 갖는 결합된 출력 전력 신호를 생성하기 위해 전술 한 바와 같이 증폭기 (510, 512)를 제어 할 수 있다.

도 9 는 출력 전력 신호의 소스 임피던스를 제어하기 위해 전력 발생 시스템의 복수의 증폭기를 제어하는 방법의 플로우챠트이다. 도 9 의 방법 (900)의 동작들은 위에서 설명 된 전력 발생 시스템에 의해 수행 될 수 있다. 예를 들어, 전력 제어 시스템 (201), 증폭기 A (201), 증폭기 B (212) 및/또는 결합기 (214)는 설명 된 동작 중 하나 이상을 수행 할 수 있다. 동작들은 또한 논의되지 않은 전력 발생 시스템의 다른 컴포넌트들에 의해 수행 될 수 있다. 동작들은 소프트웨어 관련 프로그램, 동작들의 양태들을 수행하도록 구성된 하드웨어, 또는 소프트웨어와 하드웨어 컴포넌들 양자 모두의 조합을 사용하여 수행 될 수 있다.

동작 (902) 에서 시작하여, 전력 발생 시스템 (202)은 부하 임피던스와 정합하는 부하에 제공 할 전력 신호의 목표 소스 임피던스를 결정할 수 있다.

부하 임피던스와 정합하는 목표 소스 임피던스는 룩업 테이블에서 목표 소스 임피던스를 획득하는 것, 부하에 제공된 전력 신호에 대한 피드백 정보를 수신하는 것, 부하 시스템으로부터 신호 정보를 수신하는 것 등을 포함하여 여기에 설명 된 임의의 방식으로 생성 될 수 있다. 또한, 목표 소스 임피던스는 시스템 (200)의 동작 중에, 예를 들어 동작 조건으로 인해 부하 임피던스가 변하거나 부하에 제공되는 전력 신호의 변화가 발생할 때 변할 수 있다.

동작 (904) 에서, 전력 제어 시스템 (201)은 제 1 출력 전력 신호를 생성하도록 제 1 증폭기 (210)를 제어 할 수 있다. 전력 제어 시스템 (201)은 명령에 따라 입력 전력 신호를 변경하도록 제 1 증폭기 (210)를 구성하거나 그것에 지시하기 위한 하나 이상의 명령을 제공 할 수 있다. 유사하게, 동작 (906) 에서, 전력 제어 시스템 (201)은 제 2 출력 전력 신호를 생성하기 위해 제 2 증폭기 (212)를 제어 할 수 있다. 전력 제어 시스템 (201)은 명령에 따라 입력 전력 신호를 변경하도록 제 2 증폭기를 구성하거나 그것에 지시하기 위해 하나 이상의 명령을 제 2 증폭기 (212)에 제공 할 수 있다. 제 1 출력 전력 신호 및 제 2 출력 전력 신호는 목표 소스 임피던스에 기초하여 생성 될 수 있다. 예를 들어 그리고 위에서 논의 된 바와 같이, 제 2 증폭기 (212)의 출력 전력 신호는 제 1 증폭기 (210)의 출력 전력 신호와 정반대되도록 생성 될 수 있어서, 두 전력 출력 신호의 조합이 공칭 부하 임피던스 값에 관하여 대칭 또는 비대칭 출력 전력 신호를 생성할 수 있다. 또한, 결합된 출력 전력 신호의 전력 프로파일의 형상은 증폭기 A (210) 및/또는 증폭기 B (212)의 출력 전력 신호의 크기 (또는 다른 특성)에 의해 제어 될 수 있다. 증폭기 A (210) 및/또는 증폭기 B (212)로부터의 출력 전력 신호에 대한 제어는 위에서 결정된 목표 소스 임피던스에 대응하는 소스 임피던스의 결정된 진폭 및 기울기를 갖는 결합된 전력 프로파일 신호를 생성 할 수 있다.

따라서, 동작 (908) 에서, 증폭기 A (210)로부터의 출력 전력 신호는 증폭기 B (212)로부터의 출력 전력 신호와 결합될 수 있다. 결합된 출력 전력 신호는 전력 발생 시스템 (202)에 의해 결정되는 바와 같이 목표 소스와 유사한 소스 임피던스를 가질 수 있다. 결합된 전력 신호의 소스 임피던스는 시스템 (200)의 동작을 안정화하기 위해 부하 시스템 (206)의 부하 임피던스와 정합할 수 있다. 일반적으로, 결합된 출력 전력 신호의 임의의 특성은 목표 소스 임피던스에 기초한 출력 신호의 크기, 주파수 및 위상을 포함하여 전력 제어 시스템 (201)에 의해 제어 될 수 있다. 또한, 증폭기 A (210) 및 증폭기 B (212)로부터의 출력 전력 신호는 결합기 회로 또는 디바이스를 사용하여 결합될 수 있다. 동작 (910) 에서, 목표 소스 임피던스를 갖는 결합된 출력 전력 신호는 위에서 결정된 부하 임피던스에 대응하는 부하로 제공되거나 전송될 수 있다. 도 9 의 방법 (900)의 동작들은 시스템 (200)의 동작 중에 반복되어 전력 신호의 소스 임피던스를 조정하여 실시간으로 부하 임피던스와 정합시키거나 정합시키기를 시도함으로써, 시스템을 운영하기 위한 보다 안정적이고 효율적인 전력 신호를 생성 할 수 있다.

상기 설명은 본 개시의 기법들을 구현하는 예시적인 시스템, 방법, 기법, 명령 시퀀스, 및/또는 컴퓨터 프로그램 제품을 포함한다. 하지만, 본 개시는 이들 특정 상세들 없이도 실시될 수도 있음이 이해될 것이다.

본 개시에서, 개시된 방법은 디바이스에 의해 판독 가능한 명령들의 세트 또는 소프트웨어로서 구현 될 수 있다. 또한, 개시된 방법들에 있어서의 단계들의 특정 순서 또는 계위는 예시적인 접근법들의 예시임이 이해된다. 설계 선호도들에 기초하여, 방법들에 있어서의 단계들의 특정 순서 또는 계위는 개시된 주제 내에 유지되면서 재배열될 수도 있음이 이해된다. 수반하는 방법 청구항들은, 샘플 순서에서 다양한 단계들의 엘리먼트들을 제시하고, 반드시 제시된 특정 순서 또는 체계에 한정하는 것을 의미하지는 않는다.

설명된 개시는 본 개시에 따른 프로세스를 수행하기 위해 컴퓨터 시스템 (또는 다른 전자 디바이스들) 을 프로그래밍하는데 사용될 수도 있는 명령들을 저장한 머신 판독가능 매체를 포함할 수도 있는 컴퓨터 프로그램 제품, 또는 소프트웨어로서 제공될 수도 있다. 머신 판독가능 매체는 머신 (예를 들어, 컴퓨터)에 의해 판독가능한 형태 (예를 들어, 소프트웨어, 처리 애플리케이션) 로 정보를 저장하기 위한 임의의 메커니즘을 포함한다. 머신 판독 가능 매체는 자기 저장 매체 (예를 들어, 하드 디스크 드라이브), 광학 저장 매체 (예를 들어, CD-ROM);

광 자기 저장 매체, 판독 전용 메모리 (ROM); 랜덤 액세스 메모리 (RAM); 소거가능 프로그램 가능 메모리 (예를 들어, EPROM 및 EEPROM); 플래시 메모리; 또는 전자 명령들을 저장하는 데 적합한 다른 유형의 매체를 포함할 수 있지만, 이들에 제한되지 않는다.

예를 들어, 도 10 은 도 3b 에 도시된 제어기 (116) 와 같은 본 개시의 실시형태들을 구현하는데 사용될 수 있는 호스트 또는 컴퓨터 시스템 (1000)의 예를 예시하는 블록도이다. 컴퓨터 시스템 (시스템) 은 하나 이상의 프로세서들 (1002-1006) 을 포함한다. 프로세서 (1002-1006)는 하나 이상의 내부 레벨의 캐시 (미도시) 및 프로세서 버스 (1012) 와의 상호 작용을 지시하는 버스 제어기 또는 버스 인터페이스 유닛을 포함 할 수 있다. 호스트 버스 또는 전면 버스로도 알려진 프로세서 버스 (1012) 는 프로세서 (1002-1006)를 시스템 인터페이스 (1014)와 연결하기 위해 사용될 수 있다. 시스템 인터페이스 (1014)는 프로세서 버스 (1012)에 연결되어 시스템 (1000) 의 다른 컴포넌트들을 프로세서 버스 (1012) 와 인터페이싱 할 수 있다. 예를 들어, 시스템 인터페이스 (1014)는 메인 메모리 (1016) 를 프로세서 버스 (1012) 와 인터페이싱하기 위한 메모리 제어기 (1013)를 포함 할 수 있다.

메인 메모리 (616)는 일반적으로 하나 이상의 메모리 카드 및 제어 회로 (미도시)를 포함한다. 시스템 인터페이스 (1014)는 또한 하나 이상의 I/O 브리지 또는 I/O 디바이스를 프로세서 버스 (1012)와 인터페이싱하기 위한 입력/출력 (I/O) 인터페이스 (1020)를 포함 할 수 있다. 도시 된 바와 같이 I/O 제어기 (1028) 및 I/O 디바이스 (1030)와 같은 하나 이상의 I/O 제어기 및/또는 I/O 디바이스는 I/O 버스 (626) 와 연결될 수 있다.

I/O 디바이스 (1030)는 또한 정보 및/또는 커맨드 선택을 프로세서 (1002-1006)에 전달하기 위한 영숫자 및 기타 키를 포함하는 영숫자 입력 디바이스와 같은 입력 디바이스 (미도시) 를 포함 할 수 있다. 사용자 입력 디바이스의 다른 유형은 방향 정보 및 커맨드 선택들을 프로세서 (1016 -1006) 로 통신하고 디스플레이 디바이스 상에서의 커서 이동을 제어하기 위한 마우스, 트랙볼 또는 커서 방향 키들과 같은 커서 제어를 포함한다.

시스템 (1000)은 메인 메모리 (1016)로 지칭되는 동적 저장 디바이스, 또는 프로세서 (1002-1006) 에 의해 실행될 정보 및 명령을 저장하기 위해 프로세서 버스 (1012)에 연결된 RAM (random access memory) 또는 기타 컴퓨터 판독 가능 디바이스를 포함 할 수 있다. 메인 메모리(1016)는 또한, 프로세서 (1002-1006) 에 의한 명령들의 실행 동안 임시 변수들 또는 다른 중간 정보를 저장하는데 사용될 수도 있다. 시스템 (1000) 은 프로세서 (1002-1006) 에 대한 정적 정보 및 명령들을 저장하기 위해 프로세서 버스 (1012) 에 커플링된 판독 전용 메모리 (ROM) 및/또는 다른 정적 저장 디바이스를 포함할 수 있다. 도 10 에 제시된 시스템은 본 개시의 양태들에 따라 채용되거나 구성될 수 있는 컴퓨터 시스템의 하나의 가능한 예일 뿐이다.

일 실시형태에 따르면, 상기 기법들은 메인 메모리(1016)에 포함된 하나 이상의 명령들의 하나 이상의 시퀀스들을 실행하는 프로세서 (1004) 에 응답하여 컴퓨터 시스템 (1000)에 의해 수행될 수 있다. 이들 명령들은 저장 디바이스와 같은 다른 머신 판독가능 매체로부터 메인 메모리(1016)로 판독될 수도 있다. 메인 메모리(1016)에 포함된 명령들의 시퀀스들의 실행은 프로세서들 (1002-1006)로 하여금 본 명세서에서 설명된 프로세스 단계들을 수행하게 할 수도 있다. 대안적인 실시형태에서, 회로는 소프트웨어 명령들 대신 또는 함께 사용될 수 있다. 따라서, 본 개시의 실시형태는 하드웨어 및 소프트웨어 컴포넌트 모두를 포함 할 수 있다.

컴퓨터 판독가능 매체는 머신 (예를 들어, 컴퓨터)에 의해 판독가능한 형태 (예를 들어, 소프트웨어, 처리 애플리케이션) 로 정보를 저장하고 전송하기 위한 임의의 메커니즘을 포함한다. 이러한 매체는 비휘발성 매체 및 휘발성 매체의 형태를 취할 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 비휘발성 매체에는 광학 또는 자기 디스크가 포함된다. 휘발성 매체는 메인 메모리(1016)와 같은 동적 메모리를 포함한다. 머신 판독 가능 매체의 일반적인 형태는 자기 저장 매체 (예를 들어, 하드 디스크 드라이브); 광학 저장 매체 (예를 들어, CD-ROM); 광 자기 저장 매체; 판독 전용 메모리 (ROM); 랜덤 액세스 메모리 (RAM); 소거가능 프로그램 가능 메모리 (예를 들어, EPROM 및 EEPROM); 플래시 메모리; 또는 전자 명령들을 저장하는 데 적합한 다른 유형의 매체를 포함할 수 있지만, 이들에 제한되지 않는다.

본 개시의 실시형태는 본 명세서에서 설명되는 다양한 동작 또는 단계를 포함한다. 단계들은 하드웨어 컴포넌트들에 의해 수행될 수도 있거나 또는 머신 실행가능 명령들로 구현될 수도 있으며, 이 머신 실행가능 명령들은 그 명령들로 프로그래밍된 범용 또는 특수 목적 프로세서로 하여금 그 단계들을 수행하게 하는데 사용될 수도 있다. 대안적으로, 그 단계들은 하드웨어, 소프트웨어 및/또는 펌웨어의 조합에 의해 수행될 수도 있다.

본 개시 및 그에 수반되는 많은 이점은 전술 한 설명에 의해 이해 될 것으로 믿어지며, 컴포넌트들의 형태, 구조 및 배열에 있어서 개시된 주제로부터 벗어나지 않거나 모든 그것의 물리적 이점을 희생하지 않고 다양한 변경이 이루어질 수 있음이 명백 할 것이다. 설명된 형태는 단지 설명적인 것이며, 다음의 청구 범위는 그러한 변경을 포괄하고 포함하는 것을 의도한다.

본 개시가 다양한 실시형태를 참조하여 설명되었지만, 이러한 실시형태는 예시적이며 본 개시의 범위가 이들에 제한되지 않음을 이해할 것이다. 다양한 변형, 수정, 추가 및 개선이 가능합니다. 보다 일반적으로, 본 개시에 따른 실시형태는 특정 구현의 맥락에서 설명되었다. 기능은 본 개시의 다양한 실시형태에서 상이하게 블록에서 분리되거나 결합되거나 상이한 용어로 설명 될 수 있다. 이들 및 다른 변형, 수정, 추가 및 개선은 다음의 청구 범위에 정의 된 바와 같이 개시의 범위 내에있을 수 있다.

Claims

전력 공급 시스템으로서,
제 1 증폭기 입력 및 제 1 증폭기 출력을 포함하는 제 1 전력 증폭기로서, 상기 제 1 전력 증폭기는 제 1 제어 가능한 출력 전력 및 부하의 임피던스를 기준으로 제 1 피크 전력 오프셋을 갖는 제 1 비대칭 전력 프로파일을 갖는, 상기 제 1 전력 증폭기;
제 2 증폭기 입력 및 제 2 증폭기 출력을 포함하는 제 2 전력 증폭기로서, 상기 제 2 전력 증폭기는 제 2 제어 가능한 출력 전력 및 상기 부하의 상기 임피던스를 기준으로 제 2 피크 전력 오프셋을 갖는 제 2 비대칭 전력 프로파일을 갖는, 상기 제 2 전력 증폭기;
상기 제 1 전력 증폭기 및 상기 제 2 전력 증폭기 중 적어도 하나와 통신하는 제어기로서, 상기 제 1 제어 가능한 출력 전력은 상기 제 2 제어 가능한 출력 전력과 결합되어 결합된 출력 전력을 정의하고, 상기 제어기는 상기 결합된 출력 전력의 소스 임피던스를 제어하기 위해 상기 제 1 제어 가능한 출력 전력 또는 상기 제 2 제어 가능한 출력 전력 중 적어도 하나를 조정하는, 상기 제어기
를 포함하는, 전력 공급 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 비대칭 전력 프로파일은 상기 제 1 비대칭 전력 프로파일과 정반대되는, 전력 공급 시스템.
제 2 항에 있어서,
제 3 증폭기 입력 및 제 3 증폭기 출력을 포함하는 제 3 전력 증폭기로서, 상기 제 3 전력 증폭기는 제 3 제어 가능한 출력 전력 및 상기 부하의 상기 임피던스를 기준으로 제 3 피크 전력 오프셋을 갖는 제 3 비대칭 전력 프로파일을 갖는, 상기 제 3 전력 증폭기; 및
제 4 증폭기 입력 및 제 4 증폭기 출력을 포함하는 제 4 전력 증폭기로서, 상기 제 4 전력 증폭기는 제 4 제어 가능한 출력 전력 및 상기 부하의 상기 임피던스를 기준으로 제 4 피크 전력 오프셋을 갖는 제 4 비대칭 전력 프로파일을 갖는, 상기 제 4 전력 증폭기를 더 포함하고,
상기 제어기는 또한 상기 제 3 전력 증폭기 및 상기 제 4 전력 증폭기 중 적어도 하나와 통신하고, 상기 제어기는 상기 결합된 출력 전력의 상기 소스 임피던스를 제어하기 위해 상기 제 3 제어 가능한 출력 전력 및 상기 제 4 제어 가능한 출력 전력 중 적어도 하나를 조정하는, 전력 공급 시스템.
제 3 항에 있어서,
상기 제 4 비대칭 전력 프로파일은 상기 제 3 비대칭 전력 프로파일과 정반대되는, 전력 공급 시스템.
제 4 항에 있어서,
상기 제 1 비대칭 전력 프로파일 및 상기 제 2 비대칭 전력 프로파일은 각각 상기 제 3 비대칭 전력 프로파일 및 상기 제 4 비대칭 전력 프로파일에 대해 오프셋되는, 전력 공급 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 결합된 출력 전력의 상기 소스 임피던스를 조정하는 것은 상기 결합된 출력 전력이 인가되는 상기 부하의 상기 임피던스에 기초하는, 전력 공급 시스템.
제 6 항에 있어서,
상기 결합된 출력 전력은 피크 전력을 포함하는 결합된 출력 전력 프로파일을 가지며, 상기 제어기는 상기 제 1 제어 가능한 출력 전력 또는 상기 제 2 제어 가능한 출력 전력 중 적어도 하나를 조정하여 상기 결합된 출력 전력 프로파일의 상기 피크 전력이 상기 부하의 상기 임피던스와 부합하도록 하는, 전력 공급 시스템.
제 6 항에 있어서,
상기 제 1 제어 가능한 출력 전력의 크기는 상기 제 2 제어 가능한 출력 전력의 제 2 크기와 상이한 제 1 크기를 포함하여, 상기 결합된 출력 전력이 상기 부하의 상기 임피던스를 기준으로 비대칭 전력 출력 프로파일을 갖는, 전력 공급 시스템.
제 1 항에 있어서,
상기 결합된 출력 전력의 특성을 결정하고 상기 결합된 출력 전력의 상기 특성을 상기 제어기에 제공하도록 구성된 피드백 회로를 더 포함하고, 상기 제어기는 또한 상기 결합된 출력 전력의 상기 특성에 기초하여 상기 제 1 제어 가능한 출력 전력 또는 상기 제 2 제어 가능한 출력 전력 중 적어도 하나를 조정하는, 전력 공급 시스템.
제 9 항에 있어서,
상기 결합된 출력 전력의 상기 특성은 상기 결합된 출력 전력의 위상을 포함하는, 전력 공급 시스템.
전력 공급 장치를 동작시키는 방법으로서,
제 1 전력 프로파일을 갖는 제 1 전력 신호를 제공하는 제 1 증폭기 및 제 2 전력 프로파일을 갖는 제 2 전력 신호를 제공하는 제 2 증폭기를 포함하는 전력 공급 장치에서, 그리고 부하의 임피던스 측정에 응답하여, 상기 부하의 상기 임피던스 측정에 기초하여 결합된 출력 전력 신호를 정의하기 위해 상기 제 1 전력 신호 또는 상기 제 2 전력 신호 중 적어도 하나를 제어하는 단계를 포함하는, 전력 공급 장치를 동작시키는 방법.
제 11 항에 있어서,
상기 결합된 출력 전력 신호는 피크 전력을 갖는 결합된 전력 프로파일을 포함하고,
상기 방법은:
상기 결합된 전력 프로파일의 상기 피크 전력이 상기 부하의 상기 임피던스 측정에 적어도 기초하도록 상기 제 1 전력 신호 또는 상기 제 2 전력 신호 중 적어도 하나를 조정하는 단계를 더 포함하는, 전력 공급 장치를 동작시키는 방법.
제 12 항에 있어서,
상기 결합된 전력 프로파일의 상기 피크 전력이 상기 부하의 상기 임피던스 측정에 상기 결합된 출력 전력 신호의 소스 임피던스를 정합시키기 위해 기초하도록 상기 제 1 전력 신호 또는 상기 제 2 전력 신호 중 상기 적어도 하나를 조정하는 단계를 더 포함하는, 전력 공급 장치를 동작시키는 방법.
제 11 항에 있어서,
상기 제 1 전력 신호 또는 상기 제 2 전력 신호 중 적어도 하나를 제어하는 단계는:
제어기에 의해 그리고 제 1 전력 증폭기 또는 제 2 전력 증폭기로, 상기 제 1 전력 증폭기 또는 상기 제 2 전력 증폭기로 하여금 입력 전력 신호를 변경하게 하는 적어도 하나의 명령을 전송하는 단계를 포함하는, 전력 공급 장치를 동작시키는 방법.
제 11 항에 있어서,
상기 결합된 출력 전력 신호는 공칭 임피던스 값에 관하여 대칭인 결합된 출력 전력 프로파일을 포함하는, 전력 공급 장치를 동작시키는 방법.
제 11 항에 있어서,
상기 결합된 출력 전력은 공칭 임피던스 값에 관하여 비대칭인 결합된 출력 전력 프로파일을 포함하는, 전력 공급 장치를 동작시키는 방법.
제 11 항에 있어서,
상기 제 1 전력 신호 또는 상기 제 2 전력 신호 중 적어도 하나를 제어하는 단계는 상기 부하의 상기 임피던스 측정을 나타내는 피드백 정보에 적어도 기초하는, 전력 공급 장치를 동작시키는 방법.
전력 공급 제어기로서,
프로세서; 및
명령들을 포함하는 비일시적 메모리를 포함하고,
상기 명령들은,
상기 프로세서에 의해 실행될 때, 전력 공급 장치의 출력 신호의 소스 임피던스를:
상기 전력 공급 장치에 연결된 부하의 결정된 부하 임피던스에 기초하여, 전력 발생기로부터의 입력 전력 신호를 변경하고 제 1 전력 프로파일을 갖는 제 1 가변 출력 전력 신호를 제공하도록 제 1 전력 증폭기에 지시하는 것; 및
상기 부하의 상기 결정된 부하 임피던스에 기초하여, 상기 전력 발생기로부터의 상기 입력 전력 신호를 변경하고, 상기 제 1 전력 프로파일과 상이한 제 2 전력 프로파일을 갖는 제 2 가변 출력 전력 신호를 제공하도록 제 2 전력 증폭기에 지시하는 것
에 의해 조정하도록 동작가능하고;
상기 제 1 가변 출력 전력 신호 및 상기 제 2 가변 출력 전력 신호는 결합되어 상기 부하로 전송되는 결합된 출력 전력 신호를 생성하고, 상기 결합된 출력 전력 신호는 결합된 전력 프로파일을 포함하고 소스 임피던스는 상기 부하의 상기 결정된 부하 임피던스에 기초하는, 전력 공급 제어기.
제 18 항에 있어서,
피드백 회로에 결합된 피드백 입력을 더 포함하고,
상기 피드백 입력은 상기 피드백 회로로부터 상기 결정된 부하 임피던스를 수신하는, 전력 공급 제어기.
제 18 항에 있어서,
상기 명령들은, 상기 프로세서에 의해 실행될 때, 상기 전력 공급 장치의 상기 출력 신호의 상기 소스 임피던스를:
피드백 회로로부터의 상기 결정된 부하 임피던스에 기초하여 상기 전력 발생기로부터의 상기 입력 전력 신호의 크기를 추가로 변경하도록 상기 제 1 전력 증폭기에 지시하는 것
에 의해 조정하도록 추가로 동작가능한, 전력 공급 제어기.