JP7317045B2 - 高効率発電機ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法 - Google Patents
高効率発電機ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7317045B2 JP7317045B2 JP2020557215A JP2020557215A JP7317045B2 JP 7317045 B2 JP7317045 B2 JP 7317045B2 JP 2020557215 A JP2020557215 A JP 2020557215A JP 2020557215 A JP2020557215 A JP 2020557215A JP 7317045 B2 JP7317045 B2 JP 7317045B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- power
- amplifier
- profile
- impedance
- load
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32174—Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
- H01J37/32183—Matching circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32128—Radio frequency generated discharge using particular waveforms, e.g. polarised waves
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32137—Radio frequency generated discharge controlling of the discharge by modulation of energy
- H01J37/32146—Amplitude modulation, includes pulsing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32174—Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
Description
本特許協力条約(PCT)出願は、その全内容が、あらゆる目的のために、参照することによって本明細書に組み込まれる、2018年4月20日に出願され、「SYSTEM AND METHOD FOR CONTROL OF HIGH EFFICIENCY GENERATOR SOURCE INPEDANCE」と題された、米国特許出願第62/660,893号に関連し、その優先権を主張する。
本発明は、例えば、以下の項目を提供する。
(項目1)
電力供給システムであって、
第1の増幅器入力および第1の増幅器出力を含む第1の電力増幅器であって、前記第1の電力増幅器は、第1の制御可能出力電力および第1の非対称電力プロファイルを有し、負荷のインピーダンスを基準として第1のピーク電力オフセットを伴う、第1の電力増幅器と、
第2の増幅器入力および第2の増幅器出力を含む第2の電力増幅器であって、前記第2の電力増幅器は、第2の制御可能出力電力および第2の非対称電力プロファイルを有し、前記負荷のインピーダンスを基準として第2のピーク電力オフセットを伴う、第2の電力増幅器と、
前記第1の電力増幅器および前記第2の電力増幅器のうちの少なくとも1つと通信するコントローラであって、前記第1の制御可能出力電力は、前記第2の制御可能出力電力と組み合わせられ、組み合わせられた出力電力を画定し、前記コントローラは、前記第1の制御可能出力電力または前記第2の制御可能出力電力のうちの少なくとも1つを調節し、前記組み合わせられた出力電力のソースインピーダンスを制御する、コントローラと
を備える、電力供給システム。
(項目2)
前記第2の非対称電力プロファイルは、前記第1の非対称電力プロファイルと直径方向に反対である、項目1に記載の電力供給システム。
(項目3)
第3の増幅器入力および第3の増幅器出力を含む第3の電力増幅器であって、前記第3の電力増幅器は、第3の制御可能出力電力および第3の非対称電力プロファイルを有し、前記負荷のインピーダンスを基準として第3のピーク電力オフセットを伴う、第3の電力増幅器と、
第4の増幅器入力および第4の増幅器出力を含む第4の電力増幅器であって、前記第4の電力増幅器は、第4の制御可能出力電力および第4の非対称電力プロファイルを有し、前記負荷のインピーダンスを基準として第4のピーク電力オフセットを伴う、第4の電力増幅器と
をさらに備え、
前記コントローラはさらに、前記第3の電力増幅器および前記第4の電力増幅器のうちの少なくとも1つと通信し、前記コントローラは、前記第3の制御可能出力電力および前記第4の制御可能出力電力のうちの少なくとも1つを調節し、前記組み合わせられた出力電力のソースインピーダンスを制御する、項目2に記載の電力供給システム。
(項目4)
前記第4の非対称電力プロファイルは、前記第3の非対称電力プロファイルと直径方向に反対である、項目3に記載の電力供給システム。
(項目5)
前記第1の非対称電力プロファイルおよび前記第2の非対称電力プロファイルは、それぞれ、前記第3の非対称電力プロファイルおよび前記第4の非対称電力プロファイルに対してオフセットされる、項目4に記載の電力供給システム。
(項目6)
前記組み合わせられた出力電力のソースインピーダンスの調節は、それに対して前記組み合わせられた出力電力が印加される前記負荷のインピーダンスに基づく、項目1に記載の電力供給システム。
(項目7)
前記組み合わせられた出力電力は、ピーク電力を含む組み合わせられた出力電力プロファイルを有し、前記コントローラは、前記組み合わせられた出力電力プロファイルのピーク電力が前記負荷のインピーダンスと対応するように、前記第1の制御可能出力電力または前記第2の制御可能出力電力のうちの少なくとも1つを調節する、項目6に記載の電力供給システム。
(項目8)
前記第1の制御可能出力電力の大きさは、前記組み合わせられた出力電力が、前記負荷のインピーダンスを基準として非対称電力出力プロファイルを有するように、前記第2の制御可能出力電力の第2の大きさと異なる第1の大きさを含む、項目6に記載の電力供給システム。
(項目9)
前記組み合わせられた出力電力の特性を決定し、前記組み合わせられた出力電力の特性を前記コントローラに提供するように適合されるフィードバック回路をさらに備え、前記コントローラはさらに、前記組み合わせられた出力電力の特性に基づいて、前記第1の制御可能出力電力または前記第2の制御可能出力電力のうちの少なくとも1つを調節する、項目1に記載の電力供給システム。
(項目10)
前記組み合わせられた出力電力の特性は、前記組み合わせられた出力電力の位相を含む、項目9に記載の電力供給システム。
(項目11)
電力供給源を動作させる方法であって、
第1の電力プロファイルを伴う第1の電力信号を提供する第1の増幅器と、第2の電力プロファイルを伴う第2の電力信号を提供する第2の増幅器とを含む電力供給源において、負荷のインピーダンス測定に応答して、前記負荷のインピーダンス測定に基づいて、前記第1の電力信号または前記第2の電力信号のうちの少なくとも1つを制御し、組み合わせられた出力電力信号を画定すること
を含む、方法。
(項目12)
前記組み合わせられた出力電力信号は、ピーク電力を伴う組み合わせられた電力プロファイルを含み、前記方法はさらに、
前記組み合わせられた電力プロファイルのピーク電力が、少なくとも、前記負荷のインピーダンス測定に基づくように、前記第1の電力信号または前記第2の電力信号のうちの少なくとも1つを調節すること
を含む、項目11に記載の方法。
(項目13)
前記組み合わせられた電力プロファイルのピーク電力が、前記組み合わせられた出力電力信号のソースインピーダンスを前記負荷のインピーダンス測定に整合させるように基づくように、前記第1の電力信号または前記第2の電力信号のうちの少なくとも1つを調節することをさらに含む、項目12に記載の方法。
(項目14)
前記第1の電力信号または前記第2の電力信号のうちの少なくとも1つを制御することは、
コントローラによって、第1の電力増幅器または第2の電力増幅器に、前記第1の電力増幅器または前記第2の電力増幅器に入力電力信号を改変させるための少なくとも1つの命令を伝送すること
を含む、項目11に記載の方法。
(項目15)
前記組み合わせられた出力電力信号は、公称インピーダンス値を基準として対称である、組み合わせられた出力電力プロファイルを含む、項目11に記載の方法。
(項目16)
前記組み合わせられた出力電力は、公称インピーダンス値を基準として非対称である組み合わせられた出力電力プロファイルを含む、項目11に記載の方法。
(項目17)
前記第1の電力信号または前記第2の電力信号のうちの少なくとも1つを制御することは、少なくとも、前記負荷のインピーダンス測定を示すフィードバック情報に基づく、項目11に記載の方法。
(項目18)
電力供給源コントローラであって、
プロセッサと、
非一過性メモリであって、前記非一過性メモリは、命令を備えており、前記命令は、前記プロセッサによって実行されると、
第1の電力増幅器に、電力供給源に結合される負荷の決定された負荷インピーダンスに基づいて、発電機からの入力電力信号を改変し、第1の電力プロファイルを伴う第1の可変出力電力信号を提供するように命令することと、
第2の電力増幅器に、前記負荷の決定された負荷インピーダンスに基づいて、前記発電機からの入力電力信号を改変し、前記第1の電力プロファイルと異なる第2の電力プロファイルを伴う第2の可変出力電力信号を提供するように命令することと
によって、電力供給源の出力信号のソースインピーダンスを調節するように動作可能である、非一過性メモリと
を備え、
前記第1の可変出力電力信号および前記第2の可変出力電力信号は、組み合わせられ、前記負荷に伝送される組み合わせられた出力電力信号を生成し、前記組み合わせられた出力電力信号は、前記負荷の決定された負荷インピーダンスに基づいて、組み合わせられた電力プロファイルおよびソースインピーダンスを含む、電力供給源コントローラ。
(項目19)
フィードバック回路に結合されるフィードバック入力をさらに備え、前記フィードバック入力は、前記決定された負荷インピーダンスを前記フィードバック回路から受信する、項目18に記載の電力供給源コントローラ。
(項目20)
前記命令は、前記プロセッサによって実行されると、
前記第1の電力増幅器に、前記フィードバック回路からの前記決定された負荷インピーダンスに基づいて、前記発電機からの前記入力電力信号の大きさをさらに改変するように命令することによって、前記電力供給源の出力信号のソースインピーダンスを調節するようにさらに動作可能である、項目18に記載の電力供給源コントローラ。
もよい。
Claims (20)
- 電力供給システムであって、
第1の増幅器入力および第1の増幅器出力を含む第1の電力増幅器であって、前記第1の電力増幅器は、第1の制御可能出力電力および第1の電力プロファイルを有し、前記第1の電力プロファイルは、負荷のインピーダンスを基準として非対称である、第1の電力増幅器と、
第2の増幅器入力および第2の増幅器出力を含む第2の電力増幅器であって、前記第2の電力増幅器は、第2の制御可能出力電力および第2の電力プロファイルを有し、前記第2の電力プロファイルは、前記負荷のインピーダンスを基準として非対称である、第2の電力増幅器と、
前記第1の電力増幅器および前記第2の電力増幅器のうちの少なくとも1つと通信するコントローラであって、前記第1の制御可能出力電力は、前記第2の制御可能出力電力と組み合わせられ、組み合わせられた出力電力を画定し、前記コントローラは、前記第1の制御可能出力電力または前記第2の制御可能出力電力のうちの少なくとも1つを調節し、前記第1の制御可能出力電力と前記第2の制御可能出力電力との間の差異を調節することにより、前記組み合わせられた出力電力のソースインピーダンスを制御する、コントローラと
を備える、電力供給システム。 - 前記第1の電力プロファイルは、第1のピーク電力を有し、前記第2の電力プロファイルは、第2のピーク電力を有し、底面としてのスミスチャートを基準として、前記第2のピーク電力は、前記第1のピーク電力が位置している前記スミスチャートの直径の側と反対の前記スミスチャートの直径の側に位置している、請求項1に記載の電力供給システム。
- 第3の増幅器入力および第3の増幅器出力を含む第3の電力増幅器であって、前記第3の電力増幅器は、第3の制御可能出力電力および第3の電力プロファイルを有し、前記第3の電力プロファイルは、前記負荷のインピーダンスを基準として非対称である、第3の電力増幅器と、
第4の増幅器入力および第4の増幅器出力を含む第4の電力増幅器であって、前記第4の電力増幅器は、第4の制御可能出力電力および第4の電力プロファイルを有し、前記第4の電力プロファイルは、前記負荷のインピーダンスを基準として非対称である、第4の電力増幅器と
をさらに備え、
前記コントローラはさらに、前記第3の電力増幅器および前記第4の電力増幅器のうちの少なくとも1つと通信し、前記コントローラは、前記第3の制御可能出力電力および前記第4の制御可能出力電力のうちの少なくとも1つを調節し、前記組み合わせられた出力電力の前記ソースインピーダンスを制御する、請求項2に記載の電力供給システム。 - 前記第3の電力プロファイルは、第3のピーク電力を有し、前記第4の電力プロファイルは、第4のピーク電力を有し、底面としてのスミスチャートを基準として、前記第4のピーク電力は、前記第3のピーク電力が位置している前記スミスチャートの直径の側と反対の前記スミスチャートの直径の側に位置している、請求項3に記載の電力供給システム。
- 前記第1の電力プロファイルおよび前記第2の電力プロファイルは、それぞれ、前記第3の電力プロファイルおよび前記第4の電力プロファイルに対してオフセットされる、請求項4に記載の電力供給システム。
- 前記組み合わせられた出力電力の前記ソースインピーダンスの調節は、それに対して前記組み合わせられた出力電力が印加される前記負荷のインピーダンスに基づく、請求項1に記載の電力供給システム。
- 前記組み合わせられた出力電力は、ピーク電力を含む組み合わせられた出力電力プロファイルを有し、前記コントローラは、前記組み合わせられた出力電力プロファイルの前記ピーク電力が前記負荷のインピーダンスと対応するように、前記第1の制御可能出力電力または前記第2の制御可能出力電力のうちの少なくとも1つを調節する、請求項6に記載の電力供給システム。
- 前記第1の制御可能出力電力の大きさは、前記組み合わせられた出力電力が、前記負荷のインピーダンスを基準として非対称である電力出力プロファイルを有するように、前記第2の制御可能出力電力の第2の大きさと異なる第1の大きさを含む、請求項6に記載の電力供給システム。
- 前記組み合わせられた出力電力の特性を決定し、前記組み合わせられた出力電力の特性を前記コントローラに提供するように適合されるフィードバック回路をさらに備え、前記コントローラはさらに、前記組み合わせられた出力電力の特性に基づいて、前記第1の制御可能出力電力または前記第2の制御可能出力電力のうちの少なくとも1つを調節する、請求項1に記載の電力供給システム。
- 前記組み合わせられた出力電力の特性は、前記組み合わせられた出力電力の位相を含む、請求項9に記載の電力供給システム。
- 電力供給源を動作させる方法であって、
第1の電力プロファイルを伴う第1の電力信号を提供する第1の増幅器と、第2の電力プロファイルを伴う第2の電力信号を提供する第2の増幅器とを含む電力供給源において、負荷のインピーダンス測定に応答して、前記負荷の前記インピーダンス測定に基づいて、前記第1の電力信号または前記第2の電力信号のうちの少なくとも1つを制御し、前記第1の電力信号と前記第2の電力信号との間の差異を調節することにより、組み合わせられた出力電力信号を画定すること
を含む、方法。 - 前記組み合わせられた出力電力信号は、ピーク電力を伴う組み合わせられた電力プロファイルを含み、前記方法はさらに、
前記組み合わせられた電力プロファイルの前記ピーク電力が、少なくとも、前記負荷の前記インピーダンス測定に基づくように、前記第1の電力信号または前記第2の電力信号のうちの少なくとも1つを調節すること
を含む、請求項11に記載の方法。 - 前記組み合わせられた電力プロファイルの前記ピーク電力が、前記組み合わせられた出力電力信号のソースインピーダンスを前記負荷の前記インピーダンス測定に整合させるように基づくように、前記第1の電力信号または前記第2の電力信号のうちの少なくとも1つを調節することをさらに含む、請求項12に記載の方法。
- 前記第1の電力信号または前記第2の電力信号のうちの少なくとも1つを制御することは、
コントローラによって、第1の電力増幅器または第2の電力増幅器に、前記第1の電力増幅器または前記第2の電力増幅器に入力電力信号を改変させるための少なくとも1つの命令を伝送すること
を含む、請求項11に記載の方法。 - 前記組み合わせられた出力電力信号は、公称インピーダンス値を基準として対称である、組み合わせられた出力電力プロファイルを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記組み合わせられた出力電力は、公称インピーダンス値を基準として非対称である組み合わせられた出力電力プロファイルを含む、請求項11に記載の方法。
- 前記第1の電力信号または前記第2の電力信号のうちの少なくとも1つを制御することは、少なくとも、前記負荷の前記インピーダンス測定を示すフィードバック情報に基づく、請求項11に記載の方法。
- 電力供給源コントローラであって、
プロセッサと、
非一過性メモリであって、前記非一過性メモリは、命令を備えており、前記命令は、前記プロセッサによって実行されると、
第1の電力増幅器に、電力供給源に結合される負荷の決定された負荷インピーダンスに基づいて、発電機からの入力電力信号を改変し、第1の電力プロファイルを伴う第1の可変出力電力信号を提供するように命令することと、
第2の電力増幅器に、前記負荷の前記決定された負荷インピーダンスに基づいて、前記発電機からの前記入力電力信号を改変し、前記第1の電力プロファイルと異なる第2の電力プロファイルを伴う第2の可変出力電力信号を提供することにより、前記負荷の前記決定された負荷インピーダンスに基づいて前記第1の可変出力電力信号と前記第2の可変出力電力信号との間の差異を調節するように命令することと
によって、前記電力供給源の出力信号のソースインピーダンスを調節するように動作可能である、非一過性メモリと
を備え、
前記第1の可変出力電力信号および前記第2の可変出力電力信号は、組み合わせられ、前記負荷に伝送される組み合わせられた出力電力信号を生成し、前記組み合わせられた出力電力信号は、前記負荷の前記決定された負荷インピーダンスに基づいて、組み合わせられた電力プロファイルおよびソースインピーダンスを含む、電力供給源コントローラ。 - フィードバック回路に結合されるフィードバック入力をさらに備え、前記フィードバック入力は、前記決定された負荷インピーダンスを前記フィードバック回路から受信する、請求項18に記載の電力供給源コントローラ。
- 前記命令は、前記プロセッサによって実行されると、
前記第1の電力増幅器に、前記フィードバック回路からの前記決定された負荷インピーダンスに基づいて、前記発電機からの前記入力電力信号の大きさをさらに改変するように命令することによって、前記電力供給源の前記出力信号の前記ソースインピーダンスを調節するようにさらに動作可能である、請求項18に記載の電力供給源コントローラ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201862660893P | 2018-04-20 | 2018-04-20 | |
US62/660,893 | 2018-04-20 | ||
PCT/US2019/028171 WO2019204640A1 (en) | 2018-04-20 | 2019-04-18 | System and method for control of high efficiency generator source impedance |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021522644A JP2021522644A (ja) | 2021-08-30 |
JP7317045B2 true JP7317045B2 (ja) | 2023-07-28 |
Family
ID=66380214
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020557215A Active JP7317045B2 (ja) | 2018-04-20 | 2019-04-18 | 高効率発電機ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US10840063B2 (ja) |
EP (1) | EP3782184B1 (ja) |
JP (1) | JP7317045B2 (ja) |
KR (1) | KR20200142565A (ja) |
CN (1) | CN112534541A (ja) |
TW (1) | TWI822765B (ja) |
WO (1) | WO2019204640A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7317045B2 (ja) * | 2018-04-20 | 2023-07-28 | エーイーエス グローバル ホールディングス, プライベート リミテッド | 高効率発電機ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法 |
US10886104B2 (en) * | 2019-06-10 | 2021-01-05 | Advanced Energy Industries, Inc. | Adaptive plasma ignition |
US11688584B2 (en) | 2020-04-29 | 2023-06-27 | Advanced Energy Industries, Inc. | Programmable ignition profiles for enhanced plasma ignition |
TW202213940A (zh) * | 2020-07-31 | 2022-04-01 | 麻薩諸塞科學研究所 | 射頻功率產生器及控制方法 |
CN113014088B (zh) * | 2021-03-30 | 2022-03-25 | 电子科技大学 | 一种宽负载范围的全固态射频电源 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014057295A (ja) | 2012-07-27 | 2014-03-27 | Mks Instruments Inc | 周波数に基づいた出力変圧器インピーダンスバランシングを有する広帯域aft電力増幅器システム |
JP2015144505A (ja) | 2014-01-31 | 2015-08-06 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源 |
JP2016507856A (ja) | 2012-12-04 | 2016-03-10 | アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッドAdvanced Energy Industries, Inc. | 大域最適値を見つけるための周波数同調システムおよび方法 |
US20160300695A1 (en) | 2013-12-18 | 2016-10-13 | Trumpf Huettinger Gmbh + Co. Kg | Power Supply Systems and Methods for Generating Power with Multiple Amplifier Paths |
JP2017512355A (ja) | 2013-12-18 | 2017-05-18 | トゥルンプフ ヒュッティンガー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトTRUMPF Huettinger GmbH + Co. KG | 電力供給システム及び電力を形成するための方法 |
JP2017516258A (ja) | 2014-03-24 | 2017-06-15 | アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッドAdvanced Energy Industries, Inc. | 高周波発生器ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4352072A (en) * | 1980-08-29 | 1982-09-28 | Rockwell International Corporation | Feedforward amplifier with enhanced stability into loads with high VSWR |
US4656434A (en) * | 1986-02-03 | 1987-04-07 | Raytheon Company | RF power amplifier with load mismatch compensation |
US5101171A (en) * | 1990-11-23 | 1992-03-31 | Advanced Systems Research, Inc. | Extended bandwidth RF amplifier |
US5712592A (en) * | 1995-03-06 | 1998-01-27 | Applied Materials, Inc. | RF plasma power supply combining technique for increased stability |
US6323742B1 (en) * | 1999-10-15 | 2001-11-27 | Lucent Technologies Inc. | RF smart combiner/splitter |
US7183843B1 (en) * | 2005-06-27 | 2007-02-27 | Rockwell Collins, Inc. | Electronically tuned power amplifier |
US7755452B2 (en) * | 2007-02-27 | 2010-07-13 | Coherent, Inc. | Power combiner |
DK2599506T3 (en) * | 2007-11-06 | 2018-10-08 | Creo Medical Ltd | Microwave Plasma Masterization Applicator |
US8847561B2 (en) * | 2008-05-07 | 2014-09-30 | Advanced Energy Industries, Inc. | Apparatus, system, and method for controlling a matching network based on information characterizing a cable |
US7872523B2 (en) * | 2008-07-01 | 2011-01-18 | Mks Instruments, Inc. | Radio frequency (RF) envelope pulsing using phase switching of switch-mode power amplifiers |
US7970037B2 (en) * | 2009-06-10 | 2011-06-28 | Coherent, Inc. | Arrangement for RF power delivery to a gas discharge laser with cascaded transmission line sections |
US8106711B2 (en) * | 2009-11-12 | 2012-01-31 | Peregrine Semiconductor Coporation | Stacked pre-driver amplifier |
US8330432B2 (en) * | 2009-12-22 | 2012-12-11 | Advanced Energy Industries, Inc | Efficient active source impedance modification of a power amplifier |
US8314561B2 (en) * | 2010-04-02 | 2012-11-20 | Mks Instruments, Inc. | Multi-channel radio frequency generator |
US20110285473A1 (en) * | 2010-05-24 | 2011-11-24 | Coherent, Inc. | Impedance-matching transformers for rf driven co2 gas discharge lasers |
CN102904273B (zh) * | 2011-07-29 | 2015-05-20 | 通用电气公司 | 能量转换系统的最大功率点追踪控制和相关方法 |
US9143056B2 (en) * | 2011-12-16 | 2015-09-22 | Empower Micro Systems, Inc. | Stacked voltage source inverter with separate DC sources |
EP2936541B1 (de) * | 2012-12-18 | 2017-02-01 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Verfahren zur erzeugung einer hochfrequenzleistung und leistungsversorgungssystem mit einem leistungswandler zur versorgung einer last mit leistung |
EP2936542B1 (de) * | 2012-12-18 | 2018-02-28 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Arclöschverfahren und leistungsversorgungssystem mit einem leistungswandler |
US9060411B2 (en) * | 2013-03-14 | 2015-06-16 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Hardware plasma interlock system |
US10224184B2 (en) * | 2014-03-24 | 2019-03-05 | Aes Global Holdings, Pte. Ltd | System and method for control of high efficiency generator source impedance |
EP3145080B1 (en) * | 2014-06-17 | 2018-08-08 | Huawei Technologies Co., Ltd. | Radio frequency power amplification system, radio frequency power amplification method, transmitter, and base station |
JP5817947B1 (ja) * | 2014-06-19 | 2015-11-18 | ダイキン工業株式会社 | 電力変換制御装置 |
US11150283B2 (en) * | 2015-06-29 | 2021-10-19 | Reno Technologies, Inc. | Amplitude and phase detection circuit |
US9876476B2 (en) * | 2015-08-18 | 2018-01-23 | Mks Instruments, Inc. | Supervisory control of radio frequency (RF) impedance tuning operation |
WO2019075258A1 (en) * | 2017-10-11 | 2019-04-18 | Advanced Energy Industries, Inc. | METHOD AND APPARATUS FOR CHANGING APPARENT SOURCE IMPEDANCE OF A GENERATOR |
JP7317045B2 (ja) * | 2018-04-20 | 2023-07-28 | エーイーエス グローバル ホールディングス, プライベート リミテッド | 高効率発電機ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法 |
US10304663B1 (en) * | 2018-07-19 | 2019-05-28 | Lam Research Corporation | RF generator for generating a modulated frequency or an inter-modulated frequency |
US11094507B2 (en) * | 2019-07-22 | 2021-08-17 | Tokyo Electron Limited | Power generation systems and methods for plasma stability and control |
TW202213940A (zh) * | 2020-07-31 | 2022-04-01 | 麻薩諸塞科學研究所 | 射頻功率產生器及控制方法 |
-
2019
- 2019-04-18 JP JP2020557215A patent/JP7317045B2/ja active Active
- 2019-04-18 WO PCT/US2019/028171 patent/WO2019204640A1/en active Application Filing
- 2019-04-18 KR KR1020207032763A patent/KR20200142565A/ko active Search and Examination
- 2019-04-18 US US16/388,574 patent/US10840063B2/en active Active
- 2019-04-18 EP EP19721505.6A patent/EP3782184B1/en active Active
- 2019-04-18 CN CN201980035790.8A patent/CN112534541A/zh active Pending
- 2019-04-19 TW TW108113836A patent/TWI822765B/zh active
-
2020
- 2020-11-09 US US17/093,333 patent/US11562888B2/en active Active
-
2022
- 2022-12-28 US US18/090,069 patent/US20230139755A1/en active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014057295A (ja) | 2012-07-27 | 2014-03-27 | Mks Instruments Inc | 周波数に基づいた出力変圧器インピーダンスバランシングを有する広帯域aft電力増幅器システム |
JP2016507856A (ja) | 2012-12-04 | 2016-03-10 | アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッドAdvanced Energy Industries, Inc. | 大域最適値を見つけるための周波数同調システムおよび方法 |
US20160300695A1 (en) | 2013-12-18 | 2016-10-13 | Trumpf Huettinger Gmbh + Co. Kg | Power Supply Systems and Methods for Generating Power with Multiple Amplifier Paths |
JP2017512355A (ja) | 2013-12-18 | 2017-05-18 | トゥルンプフ ヒュッティンガー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトTRUMPF Huettinger GmbH + Co. KG | 電力供給システム及び電力を形成するための方法 |
JP2015144505A (ja) | 2014-01-31 | 2015-08-06 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源 |
JP2017516258A (ja) | 2014-03-24 | 2017-06-15 | アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッドAdvanced Energy Industries, Inc. | 高周波発生器ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200142565A (ko) | 2020-12-22 |
WO2019204640A1 (en) | 2019-10-24 |
US11562888B2 (en) | 2023-01-24 |
JP2021522644A (ja) | 2021-08-30 |
TW201944708A (zh) | 2019-11-16 |
EP3782184B1 (en) | 2023-08-23 |
US20230139755A1 (en) | 2023-05-04 |
US10840063B2 (en) | 2020-11-17 |
EP3782184A1 (en) | 2021-02-24 |
US20210057189A1 (en) | 2021-02-25 |
TWI822765B (zh) | 2023-11-21 |
CN112534541A (zh) | 2021-03-19 |
US20190326093A1 (en) | 2019-10-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7317045B2 (ja) | 高効率発電機ソースインピーダンスの制御のためのシステムおよび方法 | |
CN110741458B (zh) | 脉冲双向射频源/负载 | |
KR102099525B1 (ko) | 고효율 제너레이터 소스 임피던스의 제어를 위한 시스템 및 방법 | |
US10269540B1 (en) | Impedance matching system and method of operating the same | |
US10666206B2 (en) | Supervisory control of radio frequency (RF) impedance tuning operation | |
JP6785862B2 (ja) | プラズマrfバイアス消去システム | |
CN113826184B (zh) | 等离子体源/偏置功率输送的高速同步 | |
US8337661B2 (en) | Plasma reactor with plasma load impedance tuning for engineered transients by synchronized modulation of an unmatched low power RF generator | |
US8357264B2 (en) | Plasma reactor with plasma load impedance tuning for engineered transients by synchronized modulation of a source power or bias power RF generator | |
US20090298287A1 (en) | Method of plasma load impedance tuning for engineered transients by synchronized modulation of an unmatched low power rf generator | |
US20090294414A1 (en) | Method of plasma load impedance tuning for engineered transients by synchronized modulation of a source power or bias power rf gererator | |
TW201810356A (zh) | 用於降低射頻訊號功率位準變動對電漿阻抗的影響之方法 | |
TW201505366A (zh) | 射頻電源系統和利用射頻電源系統進行阻抗匹配的方法 | |
CN111357076B (zh) | 用于改变发电机的视在源阻抗的方法和装置 | |
JP7462803B2 (ja) | プラズマ処理装置及びソース高周波電力のソース周波数を制御する方法 | |
US20220406566A1 (en) | Plasma processing apparatus and plasma processing method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220131 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221212 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221223 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230303 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230516 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230601 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230703 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230718 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7317045 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |