KR20200136824A - Dicing tape and dicing die-bonding film - Google Patents

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KR20200136824A
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슘페이 다나카
아키노리 다무라
아키히로 후쿠이
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

The present invention relates to a dicing tape capable of improving pick-up properties and, more specifically, to a dicing tape comprising: a substrate layer; and an adhesive layer overlapping the substrate layer, wherein the adhesive layer includes an acrylic polymer, the acrylic polymer includes a constitutional unit of C9 to C11 alkyl (meth)acrylate and a constitutional unit of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate, and the acrylic polymer contains 40 mol% or more and 85 mol% or less of the constitutional unit of the C9 to C11 alkyl (meth)acrylate.

Description

다이싱 테이프, 및 다이싱 다이 본드 필름{DICING TAPE AND DICING DIE-BONDING FILM}A dicing tape and a dicing die-bonding film TECHNICAL FIELD [DICING TAPE AND DICING DIE-BONDING FILM]

본 발명은, 예를 들어 반도체 집적 회로를 제조할 때 사용되는 다이싱 테이프, 및 해당 다이싱 테이프를 구비한 다이싱 다이 본드 필름에 관한 것이다.The present invention relates to, for example, a dicing tape used when manufacturing a semiconductor integrated circuit, and a dicing die-bonding film provided with the dicing tape.

종래, 반도체 집적 회로의 제조에 있어서 사용되는 다이싱 다이 본드 필름이 알려져 있다. 이러한 종류의 다이싱 다이 본드 필름은, 예를 들어 다이싱 테이프와, 해당 다이싱 테이프에 적층되고 또한 웨이퍼에 접착되는 다이 본드층을 구비한다. 다이싱 테이프는, 기재층과, 다이 본드층에 접하고 있는 점착층을 갖는다. 이러한 종류의 다이싱 다이 본드 필름은, 반도체 집적 회로의 제조에 있어서, 예를 들어 하기와 같이 하여 사용된다.Conventionally, a dicing die bonding film used in the manufacture of a semiconductor integrated circuit is known. This kind of dicing die-bonding film includes, for example, a dicing tape and a die-bonding layer laminated on the dicing tape and adhered to the wafer. The dicing tape has a base material layer and an adhesive layer in contact with the die bonding layer. This kind of dicing die-bonding film is used, for example, in the following manner in the manufacture of a semiconductor integrated circuit.

반도체 집적 회로를 제조하는 방법은, 일반적으로, 고집적의 전자 회로에 의해 실리콘 웨이퍼의 편면측에 회로면을 형성하는 전공정과, 회로면이 형성된 웨이퍼로부터 칩을 잘라내서 조립을 행하는 후공정을 구비한다.A method of manufacturing a semiconductor integrated circuit generally includes a pre-process of forming a circuit surface on one side of a silicon wafer with a highly integrated electronic circuit, and a post-process of assembling by cutting a chip from a wafer having a circuit surface formed thereon. .

후공정은, 예를 들어 웨이퍼의 회로면과는 반대측의 면을 다이 본드층에 첩부하여, 다이싱 테이프에 웨이퍼를 고정하는 마운트 공정과, 다이 본드층을 개재하여 다이싱 테이프에 첩부된 반도체 웨이퍼를 할단 처리에 의해 작은 칩(다이)으로 가공하는 다이싱 공정과, 작게 가공된 반도체 칩끼리의 간격을 넓히는 익스팬드 공정과, 다이 본드층과 점착제층 사이를 박리해서 다이 본드층이 첩부된 상태에서 반도체 칩(다이)을 취출하는 픽업 공정과, 다이 본드층이 첩부된 상태의 반도체 칩(다이)을 피착체에 접착시키는 다이 본드 공정을 갖는다. 반도체 집적 회로는, 이들 공정을 거쳐 제조된다.Post-processes include, for example, a mounting process in which the side opposite to the circuit surface of the wafer is affixed to the die-bonding layer to fix the wafer to the dicing tape, and the semiconductor wafer affixed to the dicing tape through the die-bonding layer. A dicing process in which small chips (die) are processed by a cutting process, an expand process in which the gap between small-processed semiconductor chips is widened, and a die-bonding layer is affixed by peeling between the die-bonding layer and the pressure-sensitive adhesive layer A pick-up step of taking out a semiconductor chip (die) from the device and a die bonding step of adhering the semiconductor chip (die) in a state in which the die bonding layer is affixed to the adherend are provided. The semiconductor integrated circuit is manufactured through these processes.

상기 제조 방법의 픽업 공정에 있어서, 할단된 반도체 칩은, 이것에 밀착되어 있는 칩 상당 사이즈의 다이 본드층과 함께, 픽업 기구의 핀 부재에 의해, 다이싱 테이프의 하측으로부터 밀어올려져, 다이싱 테이프로부터 픽업된다.In the pickup step of the above manufacturing method, the cut semiconductor chip is pushed up from the lower side of the dicing tape by a pin member of the pickup mechanism together with a die-bonding layer having a chip equivalent size in close contact therewith, and dicing. Picked up from the tape.

그런데, 근년, 반도체 제품의 경박화 및 고집적화에 수반하여, 반도체 웨이퍼의 두께가 종전보다도 얇아져 있다. 이러한 반도체 웨이퍼를 사용하면, 픽업 공정에서의 상기 밀어올림에 의해, 반도체 웨이퍼가 변형되어 파손된다는 문제가 보다 발생하기 쉽다. 이러한 파손을 방지하기 위해, 다이싱 테이프에는, 할단된 후에, 적은 밀어올림양에서도 다이 본드 필름으로부터 양호하게 박리할 수 있는 성능, 즉, 양호한 픽업성이 요망되고 있다.By the way, in recent years, as semiconductor products become thinner and more integrated, the thickness of semiconductor wafers has become thinner than before. When such a semiconductor wafer is used, the problem that the semiconductor wafer is deformed and damaged due to the pushing in the pickup step is more likely to occur. In order to prevent such breakage, the dicing tape is required to have a performance capable of good peeling from the die-bonding film even with a small push-up amount after being cut, that is, good pick-up properties.

이에 반하여, 종래의 다이싱 다이 본드 필름으로서는, 예를 들어 베이스 폴리머와 열 가교제를 포함하는 점착제 조성물에 의해 형성된 점착제층을 구비한 것이 알려져 있다(특허문헌 1).On the other hand, as a conventional dicing die-bonding film, it is known that, for example, a pressure-sensitive adhesive layer formed of a pressure-sensitive adhesive composition containing a base polymer and a thermal crosslinking agent is provided (Patent Document 1).

특허문헌 1에 기재된 다이싱 다이 본드 필름에 있어서, 점착제층은, 가열 전의 겔 분율이 90질량% 미만이며 또한 가열 후의 겔 분율이 90질량% 이상으로 변화하는 층이다. 가열에 의해 겔 분율이 90질량% 이상으로 된 점착제층은, 용이하게 다이 본드층과 박리될 수 있다.In the dicing die-bonding film described in Patent Document 1, the pressure-sensitive adhesive layer is a layer in which the gel fraction before heating is less than 90% by mass, and the gel fraction after heating is changed to 90% by mass or more. The pressure-sensitive adhesive layer having a gel fraction of 90% by mass or more by heating can be easily peeled off from the die-bonding layer.

일본 특허공개 제2010-278427호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2010-278427

그러나, 상기와 같은 픽업성을 양호하게 할 수 있는 다이싱 다이 본드 필름이나 다이싱 테이프에 대해서는, 충분히 검토되었다고는 아직 말할 수 없다.However, it cannot be said that a dicing die-bonding film and a dicing tape capable of improving the above-described pickup properties have been sufficiently studied.

그래서, 본 발명은, 픽업성을 양호하게 할 수 있는 다이싱 테이프, 및 픽업성을 양호하게 할 수 있는 다이싱 다이 본드 필름을 제공하는 것을 과제로 한다.Therefore, it is an object of the present invention to provide a dicing tape capable of improving pickup properties and a dicing die-bonding film capable of improving pickup properties.

상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 따른 다이싱 테이프는,In order to solve the above problems, the dicing tape according to the present invention,

기재층과, 해당 기재층에 겹친 점착제층을 구비하는 다이싱 테이프이며,It is a dicing tape provided with a base material layer and an adhesive layer superimposed on the base material layer,

상기 점착제층이 아크릴 폴리머를 포함하고,The pressure-sensitive adhesive layer contains an acrylic polymer,

상기 아크릴 폴리머는, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위와, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 포함하며,The acrylic polymer includes a constitutional unit of C9 to C11 alkyl (meth)acrylate and a constitutional unit of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate,

상기 아크릴 폴리머는, 상기 C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위를, 40mol% 이상 85mol% 이하 포함하는 것을 특징으로 하며,The acrylic polymer is characterized in that it contains 40 mol% or more and 85 mol% or less of the constitutional unit of the C9 to C11 alkyl (meth)acrylate,

상기 구성의 다이싱 테이프에 의하면, 양호한 픽업성을 발휘할 수 있다.According to the dicing tape of the above structure, good pick-up properties can be exhibited.

본 발명에 따른 다이싱 테이프에서는, 상기 아크릴 폴리머는, 상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를, 1mol% 이상 30mol% 이하 포함하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 보다 양호한 픽업성을 발휘시킬 수 있다.In the dicing tape according to the present invention, it is preferable that the acrylic polymer contains 1 mol% or more and 30 mol% or less of the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate. Thereby, more favorable pick-up properties can be exhibited.

본 발명에 따른 다이싱 테이프에서는, 상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 수산기 함유 C2 내지 C4 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위인 것이 바람직하다. 이에 의해, 보다 양호한 픽업성을 발휘시킬 수 있다.In the dicing tape according to the present invention, the constitutional unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate is preferably a constitutional unit of a hydroxyl group-containing C2 to C4 alkyl (meth)acrylate. Thereby, more favorable pick-up properties can be exhibited.

본 발명에 따른 다이싱 테이프에서는, 상기 아크릴 폴리머는, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 더 갖는 것이 바람직하다. 이에 의해, 보다 양호한 픽업성을 발휘시킬 수 있다.In the dicing tape according to the present invention, it is preferable that the acrylic polymer further has a structural unit of a polymerizable group-containing (meth)acrylate. Thereby, more favorable pick-up properties can be exhibited.

본 발명에 따른 다이싱 테이프에서는, 상기 아크릴 폴리머는, 상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (B) 및 상기 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)에 대해서, 상기 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)를, 몰비[C/(B+C)]로, 0.50 이상 0.95 이하 포함하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 보다 양호한 픽업성을 발휘시킬 수 있다.In the dicing tape according to the present invention, the acrylic polymer comprises the polymerizable group with respect to the structural unit (B) of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate and the structural unit (C) of the polymerizable group-containing (meth)acrylate. It is preferable to contain the structural unit (C) of the containing (meth)acrylate in a molar ratio [C/(B+C)], 0.50 or more and 0.95 or less. Thereby, more favorable pick-up properties can be exhibited.

본 발명에 따른 다이싱 다이 본드 필름은, 상기 다이싱 테이프와, 해당 다이싱 테이프의 점착제층에 적층된 다이 본드층을 구비한다.A dicing die-bonding film according to the present invention includes the dicing tape and a die-bonding layer laminated on the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing tape.

본 발명에 따른 다이싱 테이프 및 다이싱 다이 본드 필름은, 픽업성을 양호하게 할 수 있다는 효과를 발휘한다.The dicing tape and the dicing die-bonding film according to the present invention exhibit an effect that the pick-up property can be improved.

도 1은 본 실시 형태의 다이싱 다이 본드 필름을 두께 방향으로 절단한 단면도.
도 2a는 반도체 집적 회로의 제조 방법에 있어서의 하프컷 가공의 모습을 모식적으로 나타내는 단면도.
도 2b는 반도체 집적 회로의 제조 방법에 있어서의 하프컷 가공의 모습을 모식적으로 나타내는 단면도.
도 2c는 반도체 집적 회로의 제조 방법에 있어서의 하프컷 가공의 모습을 모식적으로 나타내는 단면도.
도 2d는 반도체 집적 회로의 제조 방법에 있어서의 하프컷 가공의 모습을 모식적으로 나타내는 단면도.
도 3a는 반도체 집적 회로의 제조 방법에 있어서의 마운트 공정의 모습을 모식적으로 나타내는 단면도.
도 3b는 반도체 집적 회로의 제조 방법에 있어서의 마운트 공정의 모습을 모식적으로 나타내는 단면도.
도 4a는 반도체 집적 회로의 제조 방법에 있어서의 저온에서의 익스팬드 공정의 모습을 모식적으로 나타내는 단면도.
도 4b는 반도체 집적 회로의 제조 방법에 있어서의 저온에서의 익스팬드 공정의 모습을 모식적으로 나타내는 단면도.
도 4c는 반도체 집적 회로의 제조 방법에 있어서의 저온에서의 익스팬드 공정의 모습을 모식적으로 나타내는 단면도.
도 5a는 반도체 집적 회로의 제조 방법에 있어서의 상온에서의 익스팬드 공정의 모습을 모식적으로 나타내는 단면도.
도 5b는 반도체 집적 회로의 제조 방법에 있어서의 상온에서의 익스팬드 공정의 모습을 모식적으로 나타내는 단면도.
도 6은 반도체 집적 회로의 제조 방법에 있어서의 픽업 공정의 모습을 모식적으로 나타내는 단면도.
1 is a cross-sectional view taken along a thickness direction of a dicing die-bonding film of this embodiment.
Fig. 2A is a cross-sectional view schematically showing a state of half-cut processing in a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit.
2B is a cross-sectional view schematically showing a state of half-cut processing in a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit.
Fig. 2C is a cross-sectional view schematically showing a state of half-cut processing in a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit.
2D is a cross-sectional view schematically showing a state of half-cut processing in a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit.
3A is a cross-sectional view schematically showing a state of a mounting step in a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit.
3B is a cross-sectional view schematically showing a state of a mounting process in a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit.
4A is a cross-sectional view schematically showing a state of an expand process at a low temperature in a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit.
4B is a cross-sectional view schematically showing a state of an expand process at a low temperature in a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit.
4C is a cross-sectional view schematically showing a state of an expand process at a low temperature in a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit.
5A is a cross-sectional view schematically showing a state of an expand process at room temperature in a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit.
5B is a cross-sectional view schematically showing a state of an expand process at room temperature in a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit.
Fig. 6 is a cross-sectional view schematically showing a state of a pickup step in a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit.

이하, 본 발명에 따른 다이싱 다이 본드 필름, 및 다이싱 테이프의 일 실시 형태에 대하여, 도면을 참조하면서 설명한다.Hereinafter, an embodiment of a dicing die-bonding film and a dicing tape according to the present invention will be described with reference to the drawings.

본 실시 형태의 다이싱 다이 본드 필름(1)은, 도 1에 도시한 바와 같이, 다이싱 테이프(20)와, 해당 다이싱 테이프(20)의 점착제층(22)에 적층되고 또한 반도체 웨이퍼에 접착되는 다이 본드층(10)을 구비한다.The dicing die-bonding film 1 of this embodiment is laminated on the dicing tape 20 and the pressure-sensitive adhesive layer 22 of the dicing tape 20 as shown in FIG. It has a die bond layer 10 to be bonded.

본 실시 형태의 다이싱 테이프(20)는, 통상, 긴 시트이며, 사용될 때까지 권회된 상태에서 보관된다. 본 실시 형태의 다이싱 다이 본드 필름(1)은, 할단 처리되는 실리콘 웨이퍼보다도, 한 치수 큰 내경을 갖는 원환형의 프레임에 붙여져, 커트되어 사용된다.The dicing tape 20 of this embodiment is usually a long sheet, and is stored in a wound state until use. The dicing die-bonding film 1 of the present embodiment is attached to an annular frame having an inner diameter that is one dimension larger than that of a silicon wafer to be cut, and then used.

본 실시 형태의 다이싱 테이프(20)는, 기재층(21)과, 해당 기재층(21)에 중첩된 점착제층(22)을 구비한다. 점착제층(22)은, 아크릴 폴리머를 적어도 포함한다.The dicing tape 20 of the present embodiment includes a base layer 21 and a pressure-sensitive adhesive layer 22 overlaid on the base layer 21. The pressure-sensitive adhesive layer 22 contains at least an acrylic polymer.

상기 아크릴 폴리머는, 분자 중에, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위와, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 적어도 갖는다.The acrylic polymer has at least a structural unit of a C9 to C11 alkyl (meth)acrylate and a structural unit of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate in a molecule.

또한, 본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴레이트」라는 표기는, 메타크릴레이트(메타크릴산 에스테르) 및 아크릴레이트(아크릴산에스테르) 중 적어도 한쪽을 나타낸다. 마찬가지로, 「(메트)아크릴산」이라는 표기는, 메타크릴산 및 아크릴산 중 적어도 한쪽을 나타낸다.In addition, in this specification, the notation "(meth)acrylate" represents at least one of methacrylate (methacrylic acid ester) and acrylate (acrylic acid ester). Similarly, the notation "(meth)acrylic acid" represents at least one of methacrylic acid and acrylic acid.

본 실시 형태에 있어서, 점착제층(22)은, 예를 들어 상기 아크릴 폴리머와, 이소시아네이트 화합물(가교제)과, 중합 개시제를 포함한다.In this embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer 22 contains, for example, the acrylic polymer, an isocyanate compound (crosslinking agent), and a polymerization initiator.

점착제층(22)은, 바람직하게는 3㎛ 이상 200㎛ 이하의 두께를 갖는다. 점착제층(22)의 두께가 3㎛ 이상임으로써, 다이 본드층(10)에 대한 점착력을 보다 양호하게 할 수 있다. 점착제층(22)의 두께가 200㎛ 이하임으로써, 다이싱 테이프(20)의 핸들링성이 보다 양호해진다. 점착제층(22)의 형상 및 크기는, 통상, 기재층(21)의 형상 및 크기와 동일하다.The pressure-sensitive adhesive layer 22 preferably has a thickness of 3 μm or more and 200 μm or less. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 22 is 3 μm or more, the adhesive strength to the die-bonding layer 10 can be improved. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 22 is 200 µm or less, the handling property of the dicing tape 20 becomes better. The shape and size of the pressure-sensitive adhesive layer 22 are usually the same as the shape and size of the base layer 21.

본 실시 형태에 있어서, 상기 아크릴 폴리머는, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위와, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위와, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위에 의해 구성되어 있다. 또한, 구성 단위는, 아크릴 폴리머의 주쇄를 구성하는 단위이다. 상기 아크릴 폴리머에 있어서의 각 측쇄는, 주쇄를 구성하는 각 구성 단위에 포함된다.In the present embodiment, the acrylic polymer is composed of a structural unit of a C9 to C11 alkyl (meth)acrylate, a structural unit of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate, and a structural unit of a polymerizable group-containing (meth)acrylate. Consists of. In addition, the structural unit is a unit constituting the main chain of the acrylic polymer. Each side chain in the said acrylic polymer is contained in each structural unit which comprises a main chain.

점착제층(22)에 포함되는 아크릴 폴리머에 있어서, 상기 구성 단위는, 1H-NMR, 13C-NMR 등의 NMR 분석, 열분해 GC/MS 분석, 및 적외 분광법 등에 의해 확인할 수 있다. 또한, 아크릴 폴리머에 있어서의 상기 구성 단위의 몰 비율은, 통상, 아크릴 폴리머를 중합할 때의 배합량(투입량)으로부터 산출된다.In the acrylic polymer contained in the pressure-sensitive adhesive layer 22, the structural unit can be confirmed by NMR analysis such as 1 H-NMR and 13 C-NMR, thermal decomposition GC/MS analysis, and infrared spectroscopy. In addition, the molar ratio of the structural units in the acrylic polymer is usually calculated from the blending amount (input amount) when the acrylic polymer is polymerized.

C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위는, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트 모노머에서 유래한다. 환언하면, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트 모노머가 중합 반응한 후의 분자 구조가, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위이다. 상세하게는, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트 모노머의 중합 반응에 의해 발생한 결합이, 아크릴 폴리머의 주쇄의 일부를 구성하게 된다. 「C9 내지 C11 알킬」이라는 표기는, (메트)아크릴산에 대해서 에스테르 결합한 탄화수소 부분의 탄소수를 나타낸다. 환언하면, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트 모노머는, (메트)아크릴산과, 탄소수 9 내지 11의 알코올(통상, 1가 알코올)이 에스테르 결합한 모노머를 나타낸다.The constituent unit of C9 to C11 alkyl (meth)acrylate is derived from a C9 to C11 alkyl (meth)acrylate monomer. In other words, the molecular structure after the polymerization reaction of the C9 to C11 alkyl (meth)acrylate monomer is a constitutional unit of the C9 to C11 alkyl (meth)acrylate. Specifically, the bond generated by the polymerization reaction of the C9 to C11 alkyl (meth)acrylate monomer constitutes a part of the main chain of the acrylic polymer. The notation "C9 to C11 alkyl" represents the number of carbon atoms in the hydrocarbon portion ester bonded to (meth)acrylic acid. In other words, the C9 to C11 alkyl (meth)acrylate monomer represents a monomer obtained by ester bonding of (meth)acrylic acid and an alcohol having 9 to 11 carbon atoms (usually a monohydric alcohol).

C9 내지 C11 알킬의 탄화수소 부분은, 포화 탄화수소여도 되며, 불포화 탄화수소여도 된다. 예를 들어, C9 내지 C11 알킬의 탄화수소 부분은, 직쇄상 포화 탄화수소, 분지쇄상 포화 탄화수소, 지환식 탄화수소, 방향족 탄화수소이다. 이러한 탄화수소 부분은, 직쇄상 포화 탄화수소, 또는 분지쇄상 포화 탄화수소인 것이 바람직하고, 분지쇄상 포화 탄화수소인 것이 보다 바람직하다.The hydrocarbon moiety of C9 to C11 alkyl may be a saturated hydrocarbon or an unsaturated hydrocarbon. For example, the hydrocarbon moiety of C9 to C11 alkyl is a linear saturated hydrocarbon, a branched saturated hydrocarbon, an alicyclic hydrocarbon, or an aromatic hydrocarbon. Such a hydrocarbon moiety is preferably a linear saturated hydrocarbon or a branched saturated hydrocarbon, and more preferably a branched saturated hydrocarbon.

또한, C9 내지 C11 알킬의 탄화수소 부분은, 산소(O)나 질소(N) 등을 함유하는 극성기를 포함하지 않는 것이 바람직하다. 이에 의해, 알킬폴리머의 극성이 극단적으로 높아지는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 점착제층(22)이, 다이 본드층(10)에 대해서 과도한 친화성을 갖는 것이 억제된다. 따라서, 다이 본드층(10)으로부터 다이싱 테이프(20)를, 보다 양호하게 박리할 수 있다.In addition, it is preferable that the hydrocarbon moiety of C9 to C11 alkyl does not contain a polar group containing oxygen (O) or nitrogen (N). Thereby, it is possible to suppress an extremely high polarity of the alkyl polymer. Therefore, it is suppressed that the pressure-sensitive adhesive layer 22 has excessive affinity for the die-bonding layer 10. Therefore, the dicing tape 20 can be peeled more favorably from the die bonding layer 10.

C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위로서는, 예를 들어 n-노닐(메트)아크릴레이트, iso(sec)-노닐(메트)아크릴레이트, tert-노닐(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트, iso(sec)-데실(메트)아크릴레이트, tert-데실(메트)아크릴레이트, n-운데실(메트)아크릴레이트, iso(sec)-운데실(메트)아크릴레이트, tert-운데실(메트)아크릴레이트 등의 각 구성 단위를 들 수 있다.As a structural unit of C9 to C11 alkyl (meth)acrylate, for example, n-nonyl (meth)acrylate, iso(sec)-nonyl (meth)acrylate, tert-nonyl (meth)acrylate, isobornyl (Meth)acrylate, n-decyl(meth)acrylate, iso(sec)-decyl(meth)acrylate, tert-decyl(meth)acrylate, n-undecyl(meth)acrylate, iso(sec) -Each structural unit, such as undecyl (meth)acrylate and tert-undecyl (meth)acrylate, is mentioned.

C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위로서는, 노닐(메트)아크릴레이트의 구성 단위 및 데실아크릴레이트의 구성 단위 중 적어도 1종이 바람직하고, 이소노닐(메트)아크릴레이트의 구성 단위 및 이소데실(메트)아크릴레이트의 구성 단위 중 적어도 1종이 보다 바람직하다.As the structural unit of C9 to C11 alkyl (meth)acrylate, at least one of the structural units of nonyl (meth)acrylate and the structural units of decyl acrylate is preferable, and the structural units of isononyl (meth)acrylate and isodecyl At least one of the structural units of (meth)acrylate is more preferable.

알킬(메트)아크릴레이트 구성 단위에 있어서, 탄화수소 부분의 탄소수가 8 이하이면, 점착제층(22)과 다이 본드층(10)의 친화성이 과도하게 높아짐으로써, 다이싱 테이프(20)를 다이 본드층(10)으로부터 박리하는 것이 곤란해질 우려가 있다. 또한, 탄화수소 부분의 탄소수가 12 이상이면 점착제층(22)과 다이 본드층(10)의 친화성이 과도하게 저하됨으로써, 반도체 집적 회로의 제조 방법(후에 상세히 설명)에 있어서, 다이싱 테이프(20)가 다이 본드층(10)으로부터 의도치 않게 박리될 우려가 있다. 특히, 탄화수소 부분의 탄소수는, 9 또는 10인 것이 바람직하다.In the alkyl (meth)acrylate constituent unit, when the number of carbon atoms in the hydrocarbon portion is 8 or less, the affinity between the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the die-bonding layer 10 becomes excessively high, and thus the dicing tape 20 is die-bonded. There is a fear that it becomes difficult to peel off from the layer 10. In addition, if the number of carbon atoms in the hydrocarbon portion is 12 or more, the affinity between the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the die-bonding layer 10 is excessively deteriorated, so that in the method for manufacturing a semiconductor integrated circuit (described in detail later), the dicing tape 20 ) May unintentionally peel off from the die-bonding layer 10. In particular, the number of carbon atoms in the hydrocarbon moiety is preferably 9 or 10.

상기 아크릴 폴리머는, 분자 중에, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위(이하, 단순히 A성분이라 칭하는 경우가 있음)를, 40mol% 이상 85mol% 이하 포함한다.The acrylic polymer contains 40 mol% or more and 85 mol% or less of a structural unit of C9 to C11 alkyl (meth)acrylate (hereinafter, simply referred to as component A) in a molecule.

상기 아크릴 폴리머가, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위를, 40mol% 이상 85mol% 이하 포함하기 때문에, 양호한 픽업성을 발휘시킬 수 있다.Since the said acrylic polymer contains 40 mol% or more and 85 mol% or less of structural units of C9-C11 alkyl (meth)acrylate, favorable pick-up property can be exhibited.

상기 아크릴 폴리머는, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위를, 45mol% 이상 포함하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 80mol% 이하 포함하는 것이 보다 바람직하다.It is more preferable that the said acrylic polymer contains 45 mol% or more of structural units of C9-C11 alkyl (meth)acrylate. Moreover, it is more preferable to contain 80 mol% or less.

상기 mol%는, 아크릴 폴리머의 주쇄를 구성하게 되는 모노머를 기초로 한 값이다. 상세하게는, 아크릴 폴리머의 중합 시에 있어서 주쇄에 내장된 중합 개시제나 연쇄 이동제는, 상기 mol%에 있어서 고려되지 않는다. 이하, 명세서 중에 있어서 마찬가지이다.The mol% is a value based on a monomer constituting the main chain of the acrylic polymer. Specifically, at the time of polymerization of the acrylic polymer, the polymerization initiator or chain transfer agent incorporated in the main chain is not considered in the above mol%. Hereinafter, it is the same in the specification.

환언하면, 상기 아크릴 폴리머는, 중합 전의 (메트)아크릴레이트 모노머에 있어서의 (메트)아크릴로일기의 불포화 이중 결합 부분이 중합에 의해 연결된 주쇄를 갖는다. 상기 mol%는, 중합에 의해 주쇄를 구성하게 된 (메트)아크릴레이트 모노머의 총 몰수에 대한 몰 백분율이다. 또한, 아크릴 폴리머의 측쇄에 있어서의 분자 구조는, 상기 mol%에 있어서 고려되지 않는다.In other words, the acrylic polymer has a main chain in which the unsaturated double bond portion of the (meth)acryloyl group in the (meth)acrylate monomer before polymerization is linked by polymerization. The mol% is a molar percentage with respect to the total number of moles of (meth)acrylate monomers constituting the main chain by polymerization. In addition, the molecular structure in the side chain of the acrylic polymer is not considered in the mol%.

아크릴 폴리머는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 갖고, 이러한 구성 단위의 수산기가, 이소시아네이트기와 용이하게 반응한다.The acrylic polymer has a structural unit of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate, and the hydroxyl group of such a structural unit reacts easily with an isocyanate group.

수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 갖는 아크릴 폴리머와, 이소시아네이트 화합물을 점착제층(22)에 공존시켜 둠으로써, 점착층을 적절하게 고분자화시킬 수 있다. 그 때문에, 아크릴 폴리머가 충분히 겔화할 수 있다. 따라서, 점착제층(22)은, 형상을 유지하면서 점착 성능을 발휘할 수 있다.An acrylic polymer having a structural unit of a hydroxyl-containing (meth)acrylate and an isocyanate compound are allowed to coexist in the pressure-sensitive adhesive layer 22, whereby the pressure-sensitive adhesive layer can be appropriately polymerized. Therefore, the acrylic polymer can sufficiently gel. Therefore, the adhesive layer 22 can exhibit adhesive performance while maintaining the shape.

수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머에서 유래한다. 환언하면, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머가 중합 반응한 후의 분자 구조가, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위이다. 상세하게는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머의 중합 반응에 의해 발생한 결합이, 아크릴 폴리머의 주쇄의 일부를 구성하게 된다.The structural unit of a hydroxyl-containing (meth)acrylate is derived from a hydroxyl-containing (meth)acrylate monomer. In other words, the molecular structure after the polymerization reaction of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate monomer is a structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate. Specifically, the bond generated by the polymerization reaction of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate monomer constitutes a part of the main chain of the acrylic polymer.

수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 수산기 함유 C2 내지 C4 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위인 것이 바람직하다. 「C2 내지 C4 알킬」이라는 표기는, (메트)아크릴산에 대해서 에스테르 결합한 탄화수소 부분의 탄소수를 나타낸다. 환언하면, 수산기 함유 C2 내지 C4 알킬(메트)아크릴레이트 모노머는, (메트)아크릴산과, 탄소수 2 내지 4의 알코올(통상, 2가 알코올)이 에스테르 결합한 모노머를 나타낸다.It is preferable that the structural unit of a hydroxyl-containing (meth)acrylate is a structural unit of a hydroxyl-containing C2-C4 alkyl (meth)acrylate. The notation "C2 to C4 alkyl" represents the number of carbon atoms in the hydrocarbon portion ester bonded to (meth)acrylic acid. In other words, the hydroxyl group-containing C2 to C4 alkyl (meth)acrylate monomer represents a monomer obtained by ester bonding of (meth)acrylic acid and an alcohol having 2 to 4 carbon atoms (usually a dihydric alcohol).

C2 내지 C4 알킬의 탄화수소 부분은, 통상, 포화 탄화수소이다. 예를 들어, C2 내지 C4 알킬의 탄화수소 부분은, 직쇄상 포화 탄화수소, 또는 분지쇄상 포화 탄화수소이다. C2 내지 C4 알킬의 탄화수소 부분은, 산소(O)나 질소(N) 등을 함유하는 극성기를 포함하지 않는 것이 바람직하다.The hydrocarbon moiety of C2 to C4 alkyl is usually a saturated hydrocarbon. For example, the hydrocarbon moiety of C2 to C4 alkyl is a straight chain saturated hydrocarbon or a branched chain saturated hydrocarbon. It is preferable that the hydrocarbon moiety of C2 to C4 alkyl does not contain a polar group containing oxygen (O) or nitrogen (N).

또한, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위에 있어서, 수산기(-OH기)는, 탄화수소 부분의 어느 탄소(C)에 결합되어 있어도 된다. 수산기(-OH기)는, 탄화수소 부분의 말단 탄소(C)에 결합되어 있는 것이 바람직하다.In addition, in the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate, the hydroxyl group (-OH group) may be bonded to any carbon (C) of the hydrocarbon moiety. It is preferable that the hydroxyl group (-OH group) is bonded to the terminal carbon (C) of the hydrocarbon moiety.

수산기 함유 C2 내지 C4 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위로서는, 예를 들어 히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 히드록시 n-부틸(메트)아크릴레이트, 또는 히드록시 iso-부틸(메트)아크릴레이트와 같은 히드록시부틸(메트)아크릴레이트의 각 구성 단위를 들 수 있다. 또한, 히드록시부틸(메트)아크릴레이트의 구성 단위에 있어서, 수산기(-OH기)는, 탄화수소 부분의 말단 탄소(C)에 결합되어 있어도 되며, 탄화수소 부분의 말단 이외의 탄소(C)에 결합되어 있어도 된다.As a structural unit of a hydroxyl-containing C2 to C4 alkyl (meth)acrylate, for example, hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxy n-butyl (meth)acrylate, or hydroxy Each structural unit of hydroxybutyl (meth)acrylate such as oxy iso-butyl (meth)acrylate can be mentioned. In addition, in the constituent unit of hydroxybutyl (meth)acrylate, the hydroxyl group (-OH group) may be bonded to the terminal carbon (C) of the hydrocarbon portion, or bonded to carbon (C) other than the terminal of the hydrocarbon portion. It may be.

수산기 함유 C2 내지 C4 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 히드록시에틸(메트)아크릴레이트 및 히드록시부틸(메트)아크릴레이트 중 적어도 어느 한쪽의 구성 단위여도 되며, 보다 구체적으로는, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트 및 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트 중 적어도 어느 한쪽의 구성 단위여도 된다.The structural unit of the hydroxyl group-containing C2 to C4 alkyl (meth)acrylate is not particularly limited, but may be, for example, at least one of hydroxyethyl (meth)acrylate and hydroxybutyl (meth)acrylate. , More specifically, it may be a structural unit of at least any one of 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 4-hydroxybutyl (meth)acrylate.

아크릴 폴리머는, 분자 중에, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위(이하, 단순히 B성분이라 칭하는 경우가 있음)를 1mol% 이상 30mol% 이하 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the acrylic polymer contains 1 mol% or more and 30 mol% or less of a structural unit of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate (hereinafter, simply referred to as component B) in a molecule.

수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 1mol% 이상 포함함으로써, 이소시아네이트 화합물(가교제)과 가교 반응할 수 있는 수산기가 비교적 많아진다. 그 때문에, 가교에 의해 아크릴 폴리머가 충분히 겔화할 수 있다. 그 결과, 점착제층(22)의 유동성이 억제된다. 따라서, 점착제층(22)은, 형상을 유지하면서 점착 성능을 발휘할 수 있다. 따라서, 활성 에너지선(자외선 등)을 조사하기 전에 있어서의 점착제층(22)의 점착력(픽업 공정 전)을 양호하게 발휘시킬 수 있다.By containing 1 mol% or more of the structural unit of a hydroxyl-containing (meth)acrylate, the hydroxyl group which can crosslink reaction with an isocyanate compound (crosslinking agent) is comparatively large. Therefore, the acrylic polymer can sufficiently gel by crosslinking. As a result, the fluidity of the pressure-sensitive adhesive layer 22 is suppressed. Therefore, the adhesive layer 22 can exhibit adhesive performance while maintaining the shape. Therefore, the adhesive force (before the pickup process) of the pressure-sensitive adhesive layer 22 before irradiation with active energy rays (such as ultraviolet rays) can be exhibited satisfactorily.

아크릴 폴리머는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 1.5mol% 이상 포함하는 것이 보다 바람직하고, 2.0mol% 이상 포함하는 것이 더욱 바람직하다.It is more preferable that an acrylic polymer contains 1.5 mol% or more of structural units of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate, and it is still more preferable to contain 2.0 mol% or more.

또한, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 30mol% 이하 포함함으로써, 점착제층(22)의 극성이 비교적 낮게 억제된다. 그 때문에, 점착제층(22)과, 다이 본드층(10)의 극성적인 상호 작용이 억제되어, 다이싱 테이프(20)를 다이 본드층(10)으로부터, 보다 양호하게 박리할 수 있다. 따라서, 활성 에너지선(자외선 등)을 조사한 후에, 보다 양호한 픽업성을 발휘시킬 수 있다.Further, by containing 30 mol% or less of the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate, the polarity of the pressure-sensitive adhesive layer 22 is suppressed to be relatively low. Therefore, the polar interaction between the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the die-bonding layer 10 is suppressed, and the dicing tape 20 can be peeled more favorably from the die-bonding layer 10. Therefore, after irradiating an active energy ray (ultraviolet ray, etc.), it is possible to exhibit better pick-up properties.

아크릴 폴리머는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 20mol% 이하 포함하는 것이 보다 바람직하고, 17.5mol% 이하 포함하는 것이 더욱 바람직하며, 10mol% 이하 포함하는 것이 특히 바람직하다.The acrylic polymer more preferably contains 20 mol% or less of the structural unit of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate, still more preferably 17.5 mol% or less, and particularly preferably 10 mol% or less.

본 실시 형태에 있어서, 상기 아크릴 폴리머는, 상술한 바와 같이, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 더 포함한다. 환언하면, 상기 아크릴 폴리머는, 측쇄에 중합성 불포화 이중 결합을 갖는 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 포함한다.In the present embodiment, the acrylic polymer further includes a structural unit of a polymerizable group-containing (meth)acrylate, as described above. In other words, the acrylic polymer contains a structural unit of a polymerizable group-containing (meth)acrylate having a polymerizable unsaturated double bond in the side chain.

상기 아크릴 폴리머가, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 포함함으로써, 픽업 공정 전에, 점착제층(22)을, 활성 에너지선(자외선 등)의 조사에 의해 경화시킬 수 있다. 상세하게는, 자외선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해, 광중합 개시제로부터 라디칼을 발생시켜, 이 라디칼의 작용에 의해, 아크릴 폴리머끼리를 가교 반응시킬 수 있다. 이에 의해, 점착제층(22)의 점착력을, 조사 전보다도, 조사 후에 저하시킬 수 있다. 그리고, 다이 본드층(10)을 점착제층(22)으로부터 양호하게 박리시킬 수 있어, 보다 양호한 픽업성을 발휘시킬 수 있다는 이점이 있다.Since the acrylic polymer contains a structural unit of a polymerizable group-containing (meth)acrylate, the pressure-sensitive adhesive layer 22 can be cured by irradiation with active energy rays (ultraviolet rays or the like) before the pickup step. Specifically, radicals are generated from the photopolymerization initiator by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, and the acrylic polymers can be crosslinked by the action of the radicals. Thereby, the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer 22 can be reduced after irradiation rather than before irradiation. In addition, there is an advantage that the die-bonding layer 10 can be removed from the pressure-sensitive adhesive layer 22 satisfactorily, and a better pick-up property can be exhibited.

또한, 활성 에너지선으로서는, 자외선, 방사선, 전자선이 채용된다.In addition, ultraviolet rays, radiation, and electron beams are employed as active energy rays.

중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 수산기와 결합 가능한 관능기와 중합성기를 분자 중에 갖는 모노머를, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위에 결합시킴으로써 형성될 수 있다. 상기 관능기는, 수산기와의 반응성이 높은 이소시아네이트기여도 된다. 환언하면, 상기 모노머는, 분자의 양 말단에 각각 이소시아네이트기와 비닐기를 갖는 것이어도 된다. 비닐기는, 예를 들어 (메트)아크릴로일기의 일부여도 된다.The structural unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate can be formed by bonding a monomer having a functional group capable of binding to a hydroxyl group and a polymerizable group in a molecule to the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate. The functional group may be an isocyanate group having high reactivity with a hydroxyl group. In other words, the monomer may have an isocyanate group and a vinyl group at both ends of the molecule, respectively. The vinyl group may be a part of the (meth)acryloyl group, for example.

구체적으로는, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 상술한 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위에 있어서의 수산기에, 이소시아네이트기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머의 이소시아네이트기가 우레탄 결합한 분자 구조를 가져도 된다. 환언하면, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 유래의 분자 구조이며, 수산기 유래의 우레탄 결합을 통해 중합성기((메트)아크릴로일기)가 결합한 분자 구조를 가져도 된다.Specifically, the structural unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate is a molecule in which the isocyanate group of the isocyanate group-containing (meth)acrylate monomer is urethane-bonded to the hydroxyl group in the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate described above. You may have a structure. In other words, the structural unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate is a molecular structure derived from the structural unit of the hydroxyl-containing (meth)acrylate, and the polymerizable group ((meth)acryloyl group) is formed through a urethane bond derived from a hydroxyl group. It may have a bonded molecular structure.

중합성기를 갖는 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 아크릴 폴리머의 중합 후에 조제될 수 있다. 예를 들어, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트 모노머와, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머와의 공중합 후에, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위의 일부에 있어서의 수산기와, 이소시아네이트기 함유 중합성 모노머의 이소시아네이트기를, 우레탄화 반응시킴으로써, 상기의 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 얻을 수 있다.The structural unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate having a polymerizable group can be prepared after polymerization of the acrylic polymer. For example, after copolymerization of a C9 to C11 alkyl (meth)acrylate monomer with a hydroxyl group-containing (meth)acrylate monomer, a hydroxyl group in a part of the constituent unit of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate and an isocyanate group are contained. By urethanizing the isocyanate group of the polymerizable monomer, the structural unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate can be obtained.

상기 이소시아네이트기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머는, 분자 중에 이소시아네이트기를 1개 갖고 또한 (메트)아크릴로일기를 1개 갖는 것이 바람직하다. 이러한 모노머로서는, 예를 들어 2-이소시아나토에틸(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.It is preferable that the said isocyanate group-containing (meth)acrylate monomer has 1 isocyanate group in a molecule|numerator, and also has 1 (meth)acryloyl group. As such a monomer, 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate is mentioned, for example.

상기 아크릴 폴리머는, 분자 중에, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위(이하, 단순히 C성분이라 칭하는 경우가 있음)를 7.0mol% 이상 포함하는 것이 바람직하고, 7.5mol% 이상 포함하는 것이 보다 바람직하며, 13.5mol% 이상 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 또한, C성분을 60mol% 이하 포함하는 것이 바람직하고, 54mol% 이하 포함하는 것이 보다 바람직하며, 52mol% 이하 포함하는 것이 더욱 바람직하다.The acrylic polymer preferably contains 7.0 mol% or more of the constituent unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate (hereinafter, simply referred to as C component) in the molecule, more preferably 7.5 mol% or more. It is preferable, and it is more preferable to contain 13.5 mol% or more. Moreover, it is preferable to contain C component 60 mol% or less, it is more preferable to contain 54 mol% or less, and it is still more preferable to contain 52 mol% or less.

상기 아크릴 폴리머는, 분자 중에, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 및 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 15mol% 이상 60mol% 이하 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable that the said acrylic polymer contains 15 mol% or more and 60 mol% or less of structural units of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate and a polymerizable group-containing (meth)acrylate in a molecule|numerator.

상기 아크릴 폴리머는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (B) 및 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)에 대해서, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위 (A)를, 몰비[A/(B+C)]로, 0.5 이상 6.0 이하 포함하는 것이 바람직하다.The acrylic polymer is a structural unit (A) of a C9 to C11 alkyl (meth)acrylate with respect to the structural unit (B) of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate and a structural unit (C) of a polymerizable group-containing (meth)acrylate. ), as a molar ratio [A/(B+C)], is preferably 0.5 or more and 6.0 or less.

상기 비[A/(B+C)]가 0.5 이상임으로써, 활성 에너지선(후에 상세히 설명)의 조사 후에, 점착제층(22)이 과잉으로 경화되는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 할단된 반도체 칩과 이것에 밀착되어 있는 칩 상당 사이즈의 다이 본드층(10)을, 다이싱 테이프(20)로부터 박리할 때, 점착제층(22)이 비교적 용이하게 변형된다. 이에 의해, 박리 각도가 보다 충분해지고, 그 결과, 보다 양호하게 박리할 수 있다. 또한, 상기 비[A/(B+C)]가 6.0 이하임으로써, 활성 에너지선의 조사 후에, 점착제층(22)이 보다 양호하게 경화 수축된다. 따라서, 다이 본드층(10)에 대한 점착제층(22)의 박리력이, 조사 후에 보다 양호하게 저하된다.When the ratio [A/(B+C)] is 0.5 or more, it is possible to suppress excessive curing of the pressure-sensitive adhesive layer 22 after irradiation with an active energy ray (described in detail later). Accordingly, when the chipped semiconductor chip and the die-bonding layer 10 having a chip equivalent size in close contact with the chipped semiconductor chip are peeled from the dicing tape 20, the pressure-sensitive adhesive layer 22 is relatively easily deformed. Thereby, the peeling angle becomes more sufficient, and as a result, it can peel more favorably. Further, since the ratio [A/(B+C)] is 6.0 or less, the pressure-sensitive adhesive layer 22 is cured and contracted more favorably after irradiation with active energy rays. Therefore, the peeling force of the pressure-sensitive adhesive layer 22 with respect to the die-bonding layer 10 decreases more favorably after irradiation.

상기 비[A/(B+C)]는, 0.6 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.67 이상인 것이 더욱 바람직하며, 0.7 이상인 것이 특히 바람직하다.The ratio [A/(B+C)] is more preferably 0.6 or more, further preferably 0.67 or more, and particularly preferably 0.7 or more.

상기 비[A/(B+C)]는, 5.67 이하인 것이 보다 바람직하고, 5.5 이하인 것이 더욱 바람직하며, 5.0 이하인 것이 특히 바람직하다.The ratio [A/(B+C)] is more preferably 5.67 or less, still more preferably 5.5 or less, and particularly preferably 5.0 or less.

상기 아크릴 폴리머는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위, (B) 및 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)에 대해서, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (B)를, 몰비[B/(B+C)]로, 0.05 이상 0.50 이하 포함하는 것이 바람직하다.The acrylic polymer is a structural unit of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate, (B) and a structural unit (C) of a polymerizable group-containing (meth)acrylate, a structural unit of a hydroxyl-containing (meth)acrylate (B) It is preferable to include 0.05 or more and 0.50 or less as a molar ratio [B/(B+C)].

상기 비[B/(B+C)]는, 0.06 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.07 이상인 것이 더욱 바람직하다.The ratio [B/(B+C)] is more preferably 0.06 or more, and even more preferably 0.07 or more.

상기 비[B/(B+C)]는, 0.40 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.20 이하인 것이 더욱 바람직하다.The ratio [B/(B+C)] is more preferably 0.40 or less, and still more preferably 0.20 or less.

상기 아크릴 폴리머는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위, (B) 및 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)에 대해서, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)를, 몰비[C/(B+C)]로, 0.50 이상 0.95 이하 포함하는 것이 바람직하다.The acrylic polymer is a structural unit (C) of a polymerizable group-containing (meth)acrylate with respect to the structural unit (B) and the structural unit (C) of a polymerizable group-containing (meth)acrylate. ), as a molar ratio [C/(B+C)], is preferably 0.50 or more and 0.95 or less.

상기 비[C/(B+C)]가 0.50 이상임으로써, 자외선 등의 조사에 수반되는 중합 반응에 의해, 점착제층(22)을 보다 충분히 경화 수축시킬 수 있다. 따라서, 다이 본드층(10)을 점착제층(22)으로부터 박리할 때의 박리력을 보다 충분히 저하시킬 수 있다. 또한, 상기 비[C/(B+C)]가 0.95 이하임으로써, 이소시아네이트 화합물(가교제)과 반응할 수 있는 수산기가 비교적 많아진다. 그 때문에, 아크릴 폴리머끼리가 가교하여, 보다 충분히 겔화할 수 있다. 그 결과, 점착제층(22)의 유동성이 억제되어, 점착제층(22)은 형상을 유지하면서 점착 성능을 발휘할 수 있다.When the ratio [C/(B+C)] is 0.50 or more, the pressure-sensitive adhesive layer 22 can be more sufficiently cured and contracted by a polymerization reaction accompanying irradiation such as ultraviolet rays. Therefore, the peeling force when peeling the die-bonding layer 10 from the pressure-sensitive adhesive layer 22 can be more sufficiently reduced. Further, when the ratio [C/(B+C)] is 0.95 or less, the hydroxyl groups that can react with the isocyanate compound (crosslinking agent) are relatively large. Therefore, acrylic polymers can crosslink and gelatinize more sufficiently. As a result, the fluidity of the pressure-sensitive adhesive layer 22 is suppressed, and the pressure-sensitive adhesive layer 22 can exhibit adhesive performance while maintaining its shape.

상기 비[C/(B+C)]는, 0.60 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.80 이상인 것이 더욱 바람직하다.The ratio [C/(B+C)] is more preferably 0.60 or more, and even more preferably 0.80 or more.

상기 비[C/(B+C)]는, 0.95 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.94 이하인 것이 더욱 바람직하며, 0.93 이하인 것이 특히 바람직하다.The ratio [C/(B+C)] is more preferably 0.95 or less, still more preferably 0.94 or less, and particularly preferably 0.93 or less.

상기 아크릴 폴리머는, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위 (A)에 대해서, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (B)를, 몰비(B/A)로, 0.01 이상 0.80 이하 포함하는 것이 바람직하다.The acrylic polymer has a molar ratio (B/A) of 0.01 or more and 0.80 or less in terms of the constituent unit (B) of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate with respect to the constitutional unit (A) of a C9 to C11 alkyl (meth)acrylate. It is preferable to include.

상기 비(B/A)가 0.01 이상임으로써, 이소시아네이트 화합물(가교제)과 반응할 수 있는 수산기가 비교적 많아진다. 그 때문에, 아크릴 폴리머끼리가 가교하여, 보다 충분히 겔화할 수 있다. 그 결과, 점착제층(22)의 유동성이 억제되어, 점착제층(22)은, 형상을 유지하면서 점착 성능을 발휘할 수 있다.When the ratio (B/A) is 0.01 or more, the hydroxyl groups that can react with the isocyanate compound (crosslinking agent) are relatively large. Therefore, acrylic polymers can crosslink and gelatinize more sufficiently. As a result, the fluidity of the pressure-sensitive adhesive layer 22 is suppressed, and the pressure-sensitive adhesive layer 22 can exhibit adhesive performance while maintaining its shape.

상기 비(B/A)가 0.08 이하임으로써, 점착제층(22)의 극성이 비교적 낮게 억제된다. 그 때문에, 점착제층(22)과, 다이 본드층(10)의 극성적인 상호 작용이 억제되어, 다이싱 테이프(20)를 다이 본드층(10)으로부터, 보다 양호하게 박리할 수 있다.When the ratio (B/A) is 0.08 or less, the polarity of the pressure-sensitive adhesive layer 22 is suppressed to be relatively low. Therefore, the polar interaction between the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the die-bonding layer 10 is suppressed, and the dicing tape 20 can be peeled more favorably from the die-bonding layer 10.

상기 비(B/A)는, 0.02 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.03 이상인 것이 더욱 바람직하다.The ratio (B/A) is more preferably 0.02 or more, and even more preferably 0.03 or more.

상기 비(B/A)는, 0.75 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.70 이하인 것이 더욱 바람직하다.The ratio (B/A) is more preferably 0.75 or less, and still more preferably 0.70 or less.

상기 아크릴 폴리머는, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위 (A)에 대해서, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)를, 몰비(C/A)로, 0.08 이상 1.40 이하 포함하는 것이 바람직하다.In the acrylic polymer, the constituent unit (C) of the polymerizable group-containing (meth)acrylate with respect to the constituent unit (A) of C9 to C11 alkyl (meth)acrylate, in a molar ratio (C/A), of 0.08 or more and 1.40 It is preferable to include below.

상기 비(C/A)가 0.08 이상임으로써, 자외선 등의 조사에 의해, 점착제층(22)을 보다 충분히 경화 수축시킬 수 있어, 보다 양호하게 다이싱 테이프(20)로부터 다이 본드층을 박리할 수 있다. 또한, 상기 비(C/A)가 1.40 이하임으로써, 자외선 등의 조사에 의해, 점착제층(22)이 과잉으로 경화 수축되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 점착제층(22)이 과잉의 경화 수축을 억제하면, 할단된 반도체 칩과 이것에 밀착되어 있는 칩 상당 사이즈의 다이 본드층을, 다이싱 테이프(20)로부터 박리할 때, 점착제층(22)이 비교적 용이하게 변형할 수 있다. 이에 의해, 박리 각도가 보다 충분해지고, 그 결과, 보다 양호하게 박리할 수 있다.When the ratio (C/A) is 0.08 or more, the pressure-sensitive adhesive layer 22 can be more sufficiently cured and contracted by irradiation with ultraviolet rays, and the die-bonding layer can be more preferably peeled off from the dicing tape 20. have. In addition, when the ratio (C/A) is 1.40 or less, it is possible to suppress excessive curing and shrinking of the pressure-sensitive adhesive layer 22 by irradiation such as ultraviolet rays. In addition, when the pressure-sensitive adhesive layer 22 suppresses excessive curing shrinkage, when the cut semiconductor chip and the die-bonding layer having a chip equivalent size in close contact with it are peeled from the dicing tape 20, the pressure-sensitive adhesive layer 22 ) Can be transformed relatively easily. Thereby, the peeling angle becomes more sufficient, and as a result, it can peel more favorably.

상기 비(C/A)는, 0.09 이상인 것이 보다 바람직하고, 0.10 이상인 것이 더욱 바람직하며, 0.20 이상인 것이 특히 바람직하다.The ratio (C/A) is more preferably 0.09 or more, still more preferably 0.10 or more, and particularly preferably 0.20 or more.

상기 비(C/A)는, 1.35 이하인 것이 보다 바람직하고, 1.30 이하인 것이 더욱 바람직하며, 1.20 이하인 것이 특히 바람직하다.The ratio (C/A) is more preferably 1.35 or less, still more preferably 1.30 or less, and particularly preferably 1.20 or less.

상기 아크릴 폴리머는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (B)에 대해서, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)를, 몰비(C/B)로, 0.9 이상 18.0 이하 포함하는 것이 바람직하다.The acrylic polymer contains 0.9 or more and 18.0 or less in a molar ratio (C/B) of the structural unit (C) of the polymerizable group-containing (meth) acrylate with respect to the structural unit (B) of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate. It is desirable to do.

상기 비(C/B)가 0.9 이상임으로써, 자외선 등의 조사에 의해, 점착제층(22)을 보다 충분히 경화 수축시킬 수 있어, 점착제층(22)의 조사 후의 점착력을 보다 충분하게 저하시킬 수 있다. 따라서, 보다 양호하게 다이싱 테이프(20)로부터 다이 본드층을 박리할 수 있다.When the ratio (C/B) is 0.9 or more, the pressure-sensitive adhesive layer 22 can be more sufficiently cured and contracted by irradiation such as ultraviolet rays, and the adhesive strength after irradiation of the pressure-sensitive adhesive layer 22 can be more sufficiently reduced. . Therefore, the die bonding layer can be peeled off from the dicing tape 20 more favorably.

상기 비(C/B)가 18.0 이하임으로써, 이소시아네이트 화합물(가교제)과 가교 반응할 수 있는 수산기가 비교적 많아진다. 그 때문에, 가교에 의해 아크릴 폴리머가 충분히 겔화할 수 있다. 그 결과, 점착제층(22)의 유동성이 억제된다. 따라서, 점착제층(22)은, 형상을 유지하면서 점착 성능을 발휘할 수 있다.When the ratio (C/B) is 18.0 or less, the hydroxyl groups capable of crosslinking reaction with the isocyanate compound (crosslinking agent) relatively increase. Therefore, the acrylic polymer can sufficiently gel by crosslinking. As a result, the fluidity of the pressure-sensitive adhesive layer 22 is suppressed. Therefore, the adhesive layer 22 can exhibit adhesive performance while maintaining the shape.

상기 비(C/B)는, 0.95 이상인 것이 보다 바람직하고, 1.0 이상인 것이 더욱 바람직하다.The ratio (C/B) is more preferably 0.95 or more, and still more preferably 1.0 or more.

상기 비(C/B)는, 17.5 이하인 것이 보다 바람직하고, 17.33 이하인 것이 더욱 바람직하며, 17.0 이하인 것이 특히 바람직하다.The ratio (C/B) is more preferably 17.5 or less, still more preferably 17.33 or less, and particularly preferably 17.0 or less.

바람직한 형태에 있어서, 상기 아크릴 폴리머는, 이소노닐(메트)아크릴레이트의 구성 단위와, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위와, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 포함하고, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트의 구성 단위 또는 히드록시부틸(메트)아크릴레이트의 구성 단위 중 적어도 한쪽이다.In a preferred embodiment, the acrylic polymer includes a structural unit of isononyl (meth)acrylate, a structural unit of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate, and a structural unit of a polymerizable group-containing (meth)acrylate, The structural unit of the containing (meth)acrylate is at least one of a structural unit of hydroxyethyl (meth)acrylate or a structural unit of hydroxybutyl (meth)acrylate.

더욱 바람직한 형태에 있어서, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위의 일부의 수산기가 우레탄화 반응한 우레탄 결합을 갖고, 이 우레탄 결합을 통해 내장된 (메트)아크릴로일기를 중합성기로서 더 갖는다.In a more preferred form, the constituent unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate has a urethane bond in which a hydroxyl group of a portion of the constituent unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate has a urethanization reaction, and is embedded through the urethane bond. It further has a (meth)acryloyl group as a polymerizable group.

본 실시 형태의 다이싱 테이프(20)는, 상기 아크릴 폴리머를 포함하는 점착제층(22)을 구비한다. 점착제층(22)은, 이소시아네이트 화합물(가교제)을 더 포함한다. 이소시아네이트 화합물의 일부는, 우레탄화 반응 등에 의해 반응한 후의 상태여도 된다.The dicing tape 20 of this embodiment is provided with the adhesive layer 22 containing the said acrylic polymer. The pressure-sensitive adhesive layer 22 further contains an isocyanate compound (crosslinking agent). Some of the isocyanate compounds may be in a state after reacting by a urethanization reaction or the like.

이소시아네이트 화합물은, 분자 중에 복수의 이소시아네이트기를 갖는다. 이소시아네이트 화합물이 분자 중에 복수의 이소시아네이트기를 가짐으로써, 점착제층(22)에 있어서의 아크릴 폴리머 간의 가교 반응을 진행시킬 수 있다. 상세하게는, 이소시아네이트 화합물의 한쪽의 이소시아네이트기를 아크릴 폴리머의 수산기와 반응시키고, 다른 쪽의 이소시아네이트기를 다른 아크릴 폴리머의 수산기와 반응시킴으로써, 이소시아네이트 화합물을 통한 가교 반응을 진행시킬 수 있다.An isocyanate compound has a plurality of isocyanate groups in a molecule. When the isocyanate compound has a plurality of isocyanate groups in the molecule, the crosslinking reaction between the acrylic polymers in the pressure-sensitive adhesive layer 22 can be advanced. Specifically, by making one isocyanate group of an isocyanate compound react with the hydroxyl group of an acrylic polymer, and making the other isocyanate group react with the hydroxyl group of another acrylic polymer, the crosslinking reaction through an isocyanate compound can be advanced.

이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들어 지방족 디이소시아네이트, 지환족 디이소시아네이트, 또는 방향 지방족 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트를 들 수 있다.As an isocyanate compound, diisocyanate, such as an aliphatic diisocyanate, an alicyclic diisocyanate, or an aromatic aliphatic diisocyanate, is mentioned, for example.

지방족 디이소시아네이트로서는, 예를 들어 에틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,4,4-또는 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,6-디이소시아나토카프로산메틸 등을 들 수 있다.Examples of aliphatic diisocyanates include ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4- or 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, and 2,6-diisocyanate diisocyanate. Methyl, etc. are mentioned.

지환족 디이소시아네이트로서는, 예를 들어 3-이소시아나토메틸-3,5,5-트리메틸시클로헥산, 1,3-또는 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 메틸시클로헥산-2,4-또는 2,6-디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄-4,4'-디이소시아네이트, 1,3-또는 1,4-디이소시아나토시클로헥산 등을 들 수 있다.As alicyclic diisocyanate, for example, 3-isocyanatomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexane, 1,3-or 1,4-bis(isocyanatomethyl)cyclohexane, methylcyclohexane-2 ,4-or 2,6-diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, 1,3-or 1,4-diisocyanatocyclohexane, etc. are mentioned.

방향족 디이소시아네이트로서는, 예를 들어 m-또는 p-페닐렌디이소시아네이트, 디페닐메탄-4,4'-디이소시아네이트, 2,4-또는 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 1,3'-또는 1,4-비스(이소시아나토메틸)벤젠, 1,3-또는 1,4-비스(α-이소시아나토 이소프로필)벤젠 등을 들 수 있다.As aromatic diisocyanate, for example, m- or p-phenylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, 2,4- or 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3'-or 1, 4-bis(isocyanatomethyl)benzene, 1,3-or 1,4-bis(α-isocyanato isopropyl)benzene, etc. are mentioned.

또한, 이소시아네이트 화합물로서는, 트리이소시아네이트를 들 수 있다. 트리이소시아네이트로서는, 예를 들어 트리페닐메탄-4,4',4"-트리이소시아네이트, 1,3,5-트리이소시아나토벤젠, 1,3,5-트리스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,3,5-트리스(이소시아나토메틸)벤젠, 2,6-디이소시아나토카프로산-2-이소시아나토에틸 등을 들 수 있다.Moreover, as an isocyanate compound, triisocyanate is mentioned. As triisocyanate, for example, triphenylmethane-4,4',4"-triisocyanate, 1,3,5-triisocyanatobenzene, 1,3,5-tris(isocyanatomethyl)cyclohexane, 1 , 3,5-tris(isocyanatomethyl)benzene, 2,6-diisocyanatocaproic acid-2-isocyanatoethyl, etc. are mentioned.

또한, 이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들어 디이소시아네이트의 2량체나 3량체 등의 중합 폴리이소시아네이트, 폴리메틸렌폴리페닐렌 폴리이소시아네이트를 들 수 있다.Further, examples of the isocyanate compound include polymerized polyisocyanates such as dimers and trimers of diisocyanates, and polymethylene polyphenylene polyisocyanates.

또한, 이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들어 상술한 이소시아네이트 화합물의 과잉량과, 활성 수소 함유 화합물을 반응시킨 폴리이소시아네이트를 들 수 있다. 활성 수소 함유 화합물로서는, 활성 수소 함유 저분자량 화합물, 활성 수소 함유 고분자량 화합물 등을 들 수 있다.Moreover, as an isocyanate compound, the polyisocyanate which made the excess amount of the above-mentioned isocyanate compound and an active hydrogen-containing compound react is mentioned, for example. Examples of the active hydrogen-containing compound include active hydrogen-containing low molecular weight compounds and active hydrogen-containing high molecular weight compounds.

활성 수소 함유 저분자량 화합물로서는, 예를 들어 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 2,2,4-트리메틸-1,3-펜탄디올, 네오펜틸글리콜, 헥산디올, 시클로헥산디메탄올, 시클로헥산디올, 수소 첨가 비스페놀 A, 크실릴렌글리콜, 글리세린, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 헥산트리올, 펜타에리트리톨, 소르비톨, 소르비트, 슈크로스, 피마자유, 에틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 물, 암모니아, 요소 등을 들 수 있고, 활성 수소 함유 고분자량 화합물로서는, 다양한 폴리에테르폴리올, 폴리에스테르폴리올, 폴리우레탄폴리올, 아크릴폴리올, 에폭시폴리올 등을 들 수 있다.Examples of active hydrogen-containing low molecular weight compounds include ethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, neopentyl glycol, and hexanediol. , Cyclohexanedimethanol, cyclohexanediol, hydrogenated bisphenol A, xylylene glycol, glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, hexanetriol, pentaerythritol, sorbitol, sorbit, sucrose, castor oil, ethylene Diamine, hexamethylenediamine, diethanolamine, triethanolamine, water, ammonia, urea, and the like. Examples of the active hydrogen-containing high molecular weight compound include various polyether polyols, polyester polyols, polyurethane polyols, acrylic polyols, and epoxy polyols. And the like.

또한, 이소시아네이트 화합물로서는, 알로파네이트화 폴리이소시아네이트, 뷰렛화 폴리이소시아네이트 등도 사용할 수 있다.Moreover, as an isocyanate compound, allophanated polyisocyanate, biuret-type polyisocyanate, etc. can also be used.

상기 이소시아네이트 화합물은, 1종을 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 사용할 수 있다.These isocyanate compounds can be used alone or in combination of two or more.

상기 이소시아네이트 화합물로서는, 방향족 디이소시아네이트와 활성 수소 함유 저분자량화합물의 반응물이 바람직하다. 방향족 디이소시아네이트의 반응물은, 이소시아네이트기의 반응 속도가 비교적 느리기 때문에, 이러한 반응물을 포함하는 점착제층(22)은, 과도하게 경화되어버리는 것이 억제된다. 상기 이소시아네이트 화합물로서는, 분자 중에 이소시아네이트기를 3개 이상 갖는 것이 바람직하다.As the isocyanate compound, a reaction product of an aromatic diisocyanate and a low molecular weight compound containing active hydrogen is preferable. Since the reaction rate of the reaction product of the aromatic diisocyanate group is relatively slow, the pressure-sensitive adhesive layer 22 containing such a reaction product is suppressed from excessively curing. As the isocyanate compound, it is preferable to have 3 or more isocyanate groups in the molecule.

점착제층(22)에 포함되는 중합 개시제는, 가해진 열이나 광의 에너지에 의해 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이다. 점착제층(22)이 중합 개시제를 포함함으로써, 점착제층(22)에 열 에너지나 빛 에너지를 부여했을 때, 아크릴 폴리머 간에 있어서의 가교 반응을 진행시킬 수 있다. 상세하게는, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 갖는 아크릴 폴리머 간에 있어서, 중합성기끼리의 중합 반응을 개시시켜, 점착제층(22)을 경화시킬 수 있다. 이에 의해, 상술한 바와 같이, 보다 양호한 픽업성을 발휘시킬 수 있다.The polymerization initiator contained in the pressure-sensitive adhesive layer 22 is a compound capable of initiating a polymerization reaction by applied heat or energy of light. When the pressure-sensitive adhesive layer 22 contains a polymerization initiator, when heat energy or light energy is applied to the pressure-sensitive adhesive layer 22, a crosslinking reaction between acrylic polymers can be promoted. Specifically, between acrylic polymers having a structural unit of a polymerizable group-containing (meth)acrylate, the polymerization reaction between polymerizable groups can be initiated to cure the pressure-sensitive adhesive layer 22. Thereby, as described above, better pickup properties can be exhibited.

중합 개시제로서는, 예를 들어 광중합 개시제 또는 열 중합 개시제 등이 채용된다. 중합 개시제로서는, 일반적인 시판 제품을 사용할 수 있다.As a polymerization initiator, a photoinitiator, a thermal polymerization initiator, etc. are adopted, for example. As the polymerization initiator, a general commercial product can be used.

점착제층(22)은, 상술한 성분 이외의 기타 성분을 더 포함할 수 있다. 기타 성분으로서는, 예를 들어 점착 부여제, 가소제, 충전제, 노화 방지제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광안정제, 내열 안정제, 대전 방지제, 계면 활성제, 경박리화제 등을 들 수 있다. 기타 성분의 종류 및 사용량은, 목적에 따라 적절하게 선택될 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer 22 may further contain other components other than the above-described components. Examples of other components include tackifiers, plasticizers, fillers, anti-aging agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, heat stabilizers, antistatic agents, surfactants, light peeling agents, and the like. The type and amount of other ingredients may be appropriately selected depending on the purpose.

본 실시 형태의 다이싱 테이프(20)는, 상기 점착제층(22)과 접합된 기재층(21)을 구비한다. 기재층(21)은, 예를 들어 금속박, 종이나 천 등의 섬유 시트, 고무 시트, 수지 필름 등이다. 기재층(21)은, 적층 구조를 가져도 된다.The dicing tape 20 of this embodiment is provided with the adhesive layer 22 and the base material layer 21 bonded together. The base material layer 21 is, for example, a metal foil, a fiber sheet such as paper or cloth, a rubber sheet, or a resin film. The base material layer 21 may have a laminated structure.

기재층(21)을 구성하는 섬유 시트로서는, 종이, 직포, 부직포 등을 들 수 있다.Paper, woven fabric, nonwoven fabric, etc. are mentioned as a fiber sheet which comprises the base material layer 21.

수지 필름의 재질로서는, 예를 들어 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀; 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체(EVA), 아이오노머 수지, 에틸렌-(메트)아크릴산 공중합체, 에틸렌-(메트)아크릴산에스테르(랜덤, 교대) 공중합체 등의 에틸렌의 공중합체; 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT) 등의 폴리에스테르; 폴리아크릴레이트; 폴리염화비닐(PVC); 폴리우레탄; 폴리카르보네이트; 폴리페닐렌술피드(PPS); 지방족 폴리아미드, 전방향족 폴리아미드(아라미드) 등의 폴리아미드; 폴리에테르에테르케톤(PEEK); 폴리이미드; 폴리에테르이미드; 폴리염화비닐리덴; ABS(아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체); 셀룰로오스 또는 셀룰로오스 유도체; 실리콘 함유 고분자; 불소 함유 고분자 등을 들 수 있다. 이들은, 1종이 단독으로 또는 2종 이상이 조합되어 사용될 수 있다.Examples of the material of the resin film include polyolefins such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), and ethylene-propylene copolymer; Ethylene copolymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ionomer resin, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, and ethylene-(meth)acrylic acid ester (random, alternating) copolymer; Polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), and polybutylene terephthalate (PBT); Polyacrylate; Polyvinyl chloride (PVC); Polyurethane; Polycarbonate; Polyphenylene sulfide (PPS); Polyamides such as aliphatic polyamide and wholly aromatic polyamide (aramid); Polyetheretherketone (PEEK); Polyimide; Polyetherimide; Polyvinylidene chloride; ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer); Cellulose or cellulose derivatives; Silicone-containing polymer; And fluorine-containing polymers. These may be used alone or in combination of two or more.

기재층(21)이 수지 필름을 갖는 경우, 수지 필름의 연신 처리 등이 실시되어, 신장률 등의 변형성이 제어되어 있어도 된다.When the base material layer 21 has a resin film, the resin film may be subjected to stretching treatment or the like, and deformability such as elongation may be controlled.

기재층(21)의 표면에는, 점착제층(22)과의 밀착성을 높이기 위해서, 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 표면 처리로서는, 예를 들어 크롬산 처리, 오존 폭로, 화염 폭로, 고압 전격 폭로, 이온화 방사선 처리 등의 화학적 방법 또는 물리적 방법에 의한 산화 처리 등이 채용될 수 있다. 또한, 앵커 코팅제, 프라이머, 접착제 등의 코팅제에 의한 코팅 처리가 실시되어 있어도 된다.The surface of the substrate layer 21 may be subjected to a surface treatment in order to increase the adhesion to the pressure-sensitive adhesive layer 22. As the surface treatment, for example, a chemical method such as chromic acid treatment, ozone exposure, flame exposure, high-pressure electric shock exposure, ionizing radiation treatment, or an oxidation treatment by a physical method may be employed. Further, coating treatment with a coating agent such as an anchor coating agent, a primer, or an adhesive may be performed.

기재층(21)의 배면측(점착제층(22)이 겹쳐 있지 않은 측)에는, 박리성을 부여하기 위해서, 예를 들어 실리콘계 수지나 불소계 수지 등의 이형제(박리제) 등에 의해 코팅 처리가 실시되어 있어도 된다.On the back side of the base layer 21 (the side where the adhesive layer 22 does not overlap), in order to impart releasability, a coating treatment is performed with, for example, a release agent (release agent) such as a silicone resin or a fluorine resin. You may have it.

기재층(21)은, 배면측으로부터 자외선 등의 활성 에너지선을 점착제층(22)으로 부여하는 것이 가능해지는 점에서, 광투과성(자외선 투과성)의 수지 필름 등인 것이 바람직하다.The base material layer 21 is preferably a light-transmitting (ultraviolet ray transmissive) resin film or the like from the viewpoint of being able to provide active energy rays such as ultraviolet rays to the pressure-sensitive adhesive layer 22 from the back side.

본 실시 형태의 다이싱 테이프(20)는, 사용되기 전의 상태에 있어서, 점착제층(22)의 한쪽 면(점착제층(22)이 기재층(21)과 겹치지 않은 면)을 덮는 박리 시트를 구비해도 된다. 점착제층(22)보다도 작은 면적의 다이 본드층(10)이, 점착제층(22)에 들어가도록 배치되어 있는 경우, 박리 시트는, 점착제층(22) 및 다이 본드층(10)의 양쪽을 덮도록 배치된다. 박리 시트는, 점착제층(22)을 보호하기 위해서 사용되고, 점착제층(22)에 다이 본드층(10)을 첩부하기 전에 박리된다.The dicing tape 20 of this embodiment is provided with a release sheet covering one side of the pressure-sensitive adhesive layer 22 (the side where the pressure-sensitive adhesive layer 22 does not overlap the base layer 21) in a state before being used. You can do it. When the die-bonding layer 10 with an area smaller than the pressure-sensitive adhesive layer 22 is disposed so as to enter the pressure-sensitive adhesive layer 22, the release sheet covers both the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the die-bonding layer 10. Are arranged to be The release sheet is used in order to protect the pressure-sensitive adhesive layer 22, and is peeled before attaching the die-bonding layer 10 to the pressure-sensitive adhesive layer 22.

박리 시트로서는, 예를 들어 실리콘계, 장쇄 알킬계, 불소계, 황화몰리브덴 등의 박리제에 의해 표면 처리된, 플라스틱 필름 또는 종이 등을 사용할 수 있다.As the release sheet, for example, a plastic film or paper, which has been surface-treated with a release agent such as silicone-based, long-chain alkyl-based, fluorine-based, or molybdenum sulfide, can be used.

또한, 박리 시트로서는, 예를 들어 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리불화비닐, 폴리불화비닐리덴, 테트라플루오로에틸렌·헥사플루오로프로필렌 공중합체, 클로로플루오로에틸렌·불화비닐리덴 공중합체 등의 불소계 폴리머제의 필름; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀제의 필름; 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 폴리에스테르제의 필름 등을 사용할 수 있다.In addition, as a release sheet, for example, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, tetrafluoroethylene/hexafluoropropylene copolymer, chlorofluoroethylene/vinyl fluoride Films made of fluorine-based polymers such as a leadene copolymer; Films made of polyolefins such as polyethylene and polypropylene; Polyester films, such as polyethylene terephthalate (PET), can be used.

또한, 박리 시트로서는, 예를 들어 불소계 박리제나 장쇄 알킬아크릴레이트계 박리제 등의 박리제에 의해 표면 코트된, 플라스틱 필름 또는 종이류 등을 사용할 수 있다.In addition, as the release sheet, for example, a plastic film or paper, which has been surface-coated with a release agent such as a fluorine-based release agent or a long-chain alkyl acrylate-based release agent, can be used.

또한, 박리 시트는, 점착제층(22)을 지지하기 위한 지지재로서 이용할 수 있다. 특히, 박리 시트는, 기재층(21)의 위에 점착제층(22)을 겹칠 때, 적합하게 사용된다. 상세하게는, 박리 시트와 점착제층(22)이 적층된 상태에서 점착제층(22)을 기재층(21)에 겹치고, 겹친 후에 박리 시트를 박리함(전사함)으로써, 기재층(21)의 위에 점착제층(22)을 겹칠 수 있다.In addition, the release sheet can be used as a support material for supporting the pressure-sensitive adhesive layer 22. In particular, the release sheet is suitably used when the pressure-sensitive adhesive layer 22 is overlaid on the base layer 21. Specifically, in a state in which the release sheet and the pressure-sensitive adhesive layer 22 are stacked, the pressure-sensitive adhesive layer 22 is overlaid on the base layer 21, and then the release sheet is peeled off (transferred). The pressure-sensitive adhesive layer 22 may be overlaid.

다음으로, 본 실시 형태의 다이싱 다이 본드 필름(1)에 대하여 상세히 설명한다.Next, the dicing die-bonding film 1 of the present embodiment will be described in detail.

본 실시 형태의 다이싱 다이 본드 필름(1)은, 상술한 다이싱 테이프(20)와, 해당 다이싱 테이프(20)의 점착제층(22)에 적층된 다이 본드층(10)을 구비한다. 다이 본드층(10)은, 반도체 집적 회로의 제조에 있어서, 반도체 웨이퍼에 접착되 게 된다.The dicing die-bonding film 1 of the present embodiment includes the above-described dicing tape 20 and the die-bonding layer 10 laminated on the pressure-sensitive adhesive layer 22 of the dicing tape 20. The die bond layer 10 is adhered to a semiconductor wafer in the manufacture of a semiconductor integrated circuit.

다이 본드층(10)은, 열경화성 수지 및 열가소성 수지 중 적어도 한쪽을 포함할 수 있다. 다이 본드층(10)은, 열경화성 수지 및 열가소성 수지를 포함하는 것이 바람직하다.The die bonding layer 10 may contain at least one of a thermosetting resin and a thermoplastic resin. It is preferable that the die bonding layer 10 contains a thermosetting resin and a thermoplastic resin.

열경화성 수지로서는, 예를 들어 에폭시 수지, 페놀 수지, 아미노 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 실리콘 수지, 열경화성 폴리이미드 수지 등을 들 수 있다. 상기 열경화성 수지로서는, 1종만, 또는 2종 이상이 채용된다. 다이 본딩 대상인 반도체 칩의 부식 원인이 될 수 있는 이온성 불순물 등을 보다 적게 함유한다는 점에서, 상기 열경화성 수지로서는, 에폭시 수지가 바람직하다. 에폭시 수지의 경화제로서는 페놀 수지가 바람직하다.As a thermosetting resin, an epoxy resin, a phenol resin, an amino resin, an unsaturated polyester resin, a polyurethane resin, a silicone resin, a thermosetting polyimide resin, etc. are mentioned, for example. As the thermosetting resin, only one type or two or more types are employed. Epoxy resin is preferable as the thermosetting resin from the viewpoint of containing less ionic impurities and the like that may cause corrosion of the semiconductor chip to be die-bonded. A phenol resin is preferable as a curing agent for the epoxy resin.

상기 에폭시 수지로서는, 예를 들어 비스페놀 A형, 비스페놀 F형, 비스페놀 S형, 브롬화 비스페놀 A형, 수소 첨가 비스페놀 A형, 비스페놀 AF형, 비페닐형, 나프탈렌형, 플루오렌형, 페놀노볼락형, 오르토크레졸노볼락형, 트리스히드록시페닐메탄형, 테트라페닐올에탄형, 히단토인형, 트리스글리시딜이소시아누레이트형, 또는 글리시딜아민형의 각 에폭시 수지를 들 수 있다.Examples of the epoxy resin include bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type, brominated bisphenol A type, hydrogenated bisphenol A type, bisphenol AF type, biphenyl type, naphthalene type, fluorene type, phenol novolak type , Orthocresol novolak type, trishydroxyphenylmethane type, tetraphenylolethane type, hydantoin type, trisglycidyl isocyanurate type, or glycidylamine type epoxy resin.

에폭시 수지로서는, 경화제로서의 페놀 수지와의 반응성이 풍부하고 또한 내열성이 우수하다는 점에서, 비스페놀 A형 에폭시 수지가 바람직하다.As the epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin is preferred from the viewpoint of rich reactivity with a phenol resin as a curing agent and excellent heat resistance.

페놀 수지는, 에폭시 수지의 경화제로서 작용할 수 있다. 페놀 수지로서는, 예를 들어 노볼락형 페놀 수지, 레졸형 페놀 수지, 폴리파라옥시스티렌 등의 폴리옥시스티렌 등을 들 수 있다.The phenol resin can function as a curing agent for an epoxy resin. As a phenol resin, polyoxystyrene, such as a novolak type phenol resin, a resol type phenol resin, and polyparaoxystyrene, etc. are mentioned, for example.

노볼락형 페놀 수지로서는, 예를 들어 페놀노볼락 수지, 페놀아르알킬 수지, 크레졸노볼락 수지, tert-부틸페놀노볼락 수지, 노닐페놀노볼락 수지 등을 들 수 있다.As a novolak type phenol resin, a phenol novolak resin, a phenol aralkyl resin, a cresol novolak resin, a tert-butylphenol novolak resin, a nonylphenol novolak resin, etc. are mentioned, for example.

페놀 수지로서는, 페놀노볼락 수지가 바람직하고, 비페닐 노볼락 수지가 보다 바람직하다. 이들 페놀 수지는, 에폭시 수지(다이 본딩용 접착제)의 경화제로서 작용했을 때, 접착제로서의 에폭시 수지의 접착성을 보다 향상시킬 수 있다.As the phenol resin, a phenol novolak resin is preferable, and a biphenyl novolak resin is more preferable. When these phenolic resins act as a curing agent for an epoxy resin (die bonding adhesive), the adhesiveness of the epoxy resin as an adhesive can be further improved.

상기 페놀 수지로서는, 1종만, 또는 2종 이상이 채용된다.As the phenol resin, only one type or two or more types are employed.

다이 본드층(10)에 있어서, 페놀 수지의 수산기는, 에폭시 수지의 에폭시기 1당량당, 바람직하게는 0.5당량 이상 2.0당량 이하, 보다 바람직하게는 0.7당량 이상 1.5 당량 이하이다. 이에 의해, 에폭시 수지와 페놀 수지의 경화 반응을 충분히 진행시킬 수 있다.In the die-bonding layer 10, the hydroxyl group of the phenol resin is per 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin, preferably 0.5 equivalents or more and 2.0 equivalents or less, and more preferably 0.7 equivalents or more and 1.5 equivalents or less. Thereby, the curing reaction of the epoxy resin and the phenol resin can be sufficiently advanced.

다이 본드층(10)이 열경화성 수지를 포함하는 경우, 다이 본드층(10)에 있어서의 이러한 열경화성 수지의 함유 비율은, 다이 본드층(10)의 총 질량에 대해서, 5질량% 이상 60질량% 이하가 바람직하고, 10질량% 이상 50질량% 이하가 보다 바람직하다. 이에 의해, 다이 본드층(10)에 있어서 열경화형 접착제로서의 기능을 적절하게 발현시킬 수 있다.When the die bonding layer 10 contains a thermosetting resin, the content ratio of the thermosetting resin in the die bonding layer 10 is 5% by mass or more and 60% by mass with respect to the total mass of the die bonding layer 10 The following are preferable, and 10 mass% or more and 50 mass% or less are more preferable. Thereby, in the die-bonding layer 10, the function as a thermosetting adhesive can be appropriately expressed.

다이 본드층(10)에 포함될 수 있는 열가소성 수지로서는, 예를 들어 천연 고무, 부틸 고무, 이소프렌 고무, 클로로프렌 고무, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체, 에틸렌-아크릴산 공중합체, 에틸렌-아크릴산에스테르 공중합체, 폴리부타디엔 수지, 폴리카르보네이트 수지, 열가소성 폴리이미드 수지, 6-나일론(제품명)이나 6, 6-나일론(제품명) 등의 폴리아미드 수지, 페녹시 수지, 아크릴 수지, PET나 PBT 등의 포화 폴리에스테르 수지, 폴리아미드이미드 수지, 불소 수지 등을 들 수 있다.As a thermoplastic resin that can be included in the die bonding layer 10, for example, natural rubber, butyl rubber, isoprene rubber, chloroprene rubber, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer, poly Butadiene resin, polycarbonate resin, thermoplastic polyimide resin, polyamide resin such as 6-nylon (product name) or 6, 6-nylon (product name), phenoxy resin, acrylic resin, saturated polyester such as PET or PBT Resin, polyamide-imide resin, fluororesin, and the like.

상기 열가소성 수지로서는, 이온성 불순물이 적고 또한 내열성이 높기 때문에 다이 본드층(10)의 접착성을 보다 확보할 수 있다는 점에서, 아크릴 수지가 바람직하다.As the thermoplastic resin, since there are few ionic impurities and high heat resistance, the adhesiveness of the die-bonding layer 10 can be more secured, and an acrylic resin is preferable.

상기 열가소성 수지로서는, 1종만, 또는 2종 이상이 채용된다.As the thermoplastic resin, only one type or two or more types are employed.

상기 아크릴 수지는, 분자 중의 구성 단위 중, 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위가 질량 비율로 가장 많은 폴리머인 것이 바람직하다. 당해 알킬(메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 C2 내지 C4 알킬(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.It is preferable that the said acrylic resin is a polymer in which the structural unit of an alkyl (meth)acrylate is the largest among structural units in a molecule|numerator by mass ratio. As said alkyl (meth)acrylate, a C2-C4 alkyl (meth)acrylate is mentioned, for example.

상기 아크릴 수지는, 알킬(메트)아크릴레이트 모노머와 공중합 가능한 다른 모노머 성분에서 유래하는 구성 단위를 포함하고 있어도 된다.The acrylic resin may contain a structural unit derived from another monomer component copolymerizable with an alkyl (meth)acrylate monomer.

상기 다른 모노머 성분으로서는, 예를 들어 카르복시기 함유 모노머, 산 무수물 모노머, 히드록시기 함유 모노머, 글리시딜기 함유 모노머, 술폰산기 함유 모노머, 인산기 함유 모노머, 아크릴아미드, 아크릴로니트릴 등의 관능기 함유 모노머, 또는 그 밖의 각종 다관능성 모노머 등을 들 수 있다.Examples of the other monomer component include a carboxyl group-containing monomer, an acid anhydride monomer, a hydroxy group-containing monomer, a glycidyl group-containing monomer, a sulfonic acid group-containing monomer, a phosphoric acid group-containing monomer, acrylamide, acrylonitrile, or other functional group-containing monomer, And various other polyfunctional monomers.

상기 아크릴 수지는, 다이 본드층(10)에 있어서 보다 높은 응집력을 발휘할 수 있다는 점에서, 바람직하게는 알킬(메트)아크릴레이트(특히, 알킬 부분의 탄소수가 4 이하의 알킬(메트)아크릴레이트)와, 카르복시기 함유 모노머와, 질소 원자 함유 모노머와, 다관능성 모노머(특히 폴리글리시딜계 다관능 모노머)의 공중합체이며, 보다 바람직하게는, 아크릴산 에틸과, 아크릴산 부틸과, 아크릴산과, 아크릴로니트릴과, 폴리글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체이다.The acrylic resin is preferably an alkyl (meth) acrylate (particularly, an alkyl (meth) acrylate having 4 or less carbon atoms in the alkyl moiety), in that it can exhibit a higher cohesive force in the die-bonding layer 10. And, a carboxyl group-containing monomer, a nitrogen atom-containing monomer, and a polyfunctional monomer (especially a polyglycidyl polyfunctional monomer), and more preferably ethyl acrylate, butyl acrylate, acrylic acid, and acrylonitrile. And, it is a copolymer of polyglycidyl (meth)acrylate.

상기 아크릴 수지의 유리 전이 온도(Tg)는, 다이 본드층(10)의 탄성이나 점성을 원하는 범위 내에 설정하기 쉽다는 점에서, 5℃ 이상 35℃ 이하인 것이 바람직하고, 10℃ 이상 30℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.The glass transition temperature (Tg) of the acrylic resin is preferably 5° C. or more and 35° C. or less, and 10° C. or more and 30° C. or less, since it is easy to set the elasticity and viscosity of the die-bonding layer 10 within a desired range. More preferable.

다이 본드층(10)이 열경화성 수지와 열가소성 수지를 포함하는 경우, 다이 본드층(10)에 있어서의 상기 열가소성 수지의 함유 비율은, 필러를 제외한 유기 성분(예를 들어, 열경화성 수지, 열가소성 수지, 경화 촉매 등, 실란 커플링제, 염료)의 총 질량에 대해서, 바람직하게는 30질량% 이상 70질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 40질량% 이상 60질량% 이하이며, 더욱 바람직하게는 45질량% 이상 55질량% 이하이다. 또한, 열경화성 수지의 함유 비율을 변화시킴으로써, 다이 본드층(10)의 탄성이나 점성을 조정할 수 있다.When the die-bonding layer 10 contains a thermosetting resin and a thermoplastic resin, the content ratio of the thermoplastic resin in the die-bonding layer 10 is an organic component excluding a filler (for example, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, With respect to the total mass of a silane coupling agent, dye), such as a curing catalyst, Preferably it is 30 mass% or more and 70 mass% or less, More preferably, it is 40 mass% or more and 60 mass% or less, More preferably 45 mass% It is more than 55 mass %. Further, by changing the content ratio of the thermosetting resin, the elasticity and viscosity of the die-bonding layer 10 can be adjusted.

다이 본드층(10)의 열가소성 수지가 열경화성 관능기를 갖는 경우, 당해 열가소성 수지로서, 예를 들어 열경화성 관능기 함유 아크릴 수지를 채용할 수 있다. 이 열경화성 관능기 함유 아크릴 수지는, 바람직하게는 분자 중에, 알킬(메트)아크릴레이트에서 유래하는 구성 단위를 가장 많은 질량 비율로 포함한다. 당해 알킬(메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 상기 예시된 (메트)알킬(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.When the thermoplastic resin of the die bonding layer 10 has a thermosetting functional group, as the thermoplastic resin, for example, an acrylic resin containing a thermosetting functional group can be employed. This thermosetting functional group-containing acrylic resin preferably contains the structural unit derived from an alkyl (meth)acrylate in the molecule in the largest mass ratio. As said alkyl (meth)acrylate, the (meth)alkyl (meth)acrylate illustrated above is mentioned, for example.

한편, 열경화성 관능기 함유 아크릴 수지에 있어서의 열경화성 관능기로서는, 예를 들어 글리시딜기, 카르복시기, 히드록시기, 이소시아네이트기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 글리시딜기가 바람직하다. 환언하면, 열경화성 관능기 함유 아크릴 수지로서는, 글리시딜기 함유 아크릴 수지가 바람직하다.On the other hand, as a thermosetting functional group in the thermosetting functional group-containing acrylic resin, a glycidyl group, a carboxyl group, a hydroxy group, an isocyanate group, etc. are mentioned, for example. Among them, a glycidyl group is preferable. In other words, as the thermosetting functional group-containing acrylic resin, a glycidyl group-containing acrylic resin is preferable.

다이 본드층(10)은, 열경화성 관능기 함유 아크릴 수지와 경화제를 포함하는 것이 바람직하다. 경화제로서는, 점착제층(22)에 포함될 수 있는 경화제로서 예시된 것을 들 수 있다. 열경화성 관능기 함유 아크릴 수지에 있어서의 열경화성 관능기가 글리시딜기인 경우에는, 복수의 페놀 구조를 갖는 화합물을 경화제로서 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 상술한 각종 페놀 수지를 경화제로서 사용할 수 있다.It is preferable that the die-bonding layer 10 contains a thermosetting functional group-containing acrylic resin and a curing agent. Examples of the curing agent include those exemplified as curing agents that can be included in the pressure-sensitive adhesive layer 22. When the thermosetting functional group in the thermosetting functional group-containing acrylic resin is a glycidyl group, it is preferable to use a compound having a plurality of phenol structures as a curing agent. For example, various phenol resins described above can be used as a curing agent.

다이 본드층(10)은, 바람직하게는 필러를 함유한다. 다이 본드층(10)에 있어서의 필러의 양을 바꿈으로써, 다이 본드층(10)의 탄성 및 점성을 보다 용이하게 조정할 수 있다. 또한, 다이 본드층(10)의 도전성, 열전도성, 탄성률 등의 물성을 조정할 수 있다.The die bonding layer 10 preferably contains a filler. By changing the amount of the filler in the die-bonding layer 10, the elasticity and viscosity of the die-bonding layer 10 can be adjusted more easily. In addition, physical properties such as conductivity, thermal conductivity, and elastic modulus of the die-bonding layer 10 can be adjusted.

필러로서는, 무기 필러 및 유기 필러를 들 수 있다. 필러로서는, 무기 필러가 바람직하다.Examples of the filler include inorganic fillers and organic fillers. As a filler, an inorganic filler is preferable.

무기 필러로서는, 예를 들어 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 규산칼슘, 규산마그네슘, 산화칼슘, 산화마그네슘, 산화알루미늄, 질화알루미늄, 질화붕소, 결정질 실리카나 비정질 실리카와 같은 실리카 등을 포함하는 필러를 들 수 있다. 또한, 무기 필러의 재질로서는, 알루미늄, 금, 은, 구리, 니켈 등의 금속 단체나, 합금 등을 들 수 있다. 붕산 알루미늄 위스커, 아몰퍼스 카본 블랙, 그래파이트 등의 필러여도 된다. 필러의 형상은, 구형, 바늘형, 플레이크형 등의 각종 형상이어도 된다. 필러로서는, 상기의 1종만, 또는 2종 이상이 채용된다.Examples of the inorganic filler include silica such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, boron nitride, crystalline silica or amorphous silica. The filler to contain is mentioned. Further, examples of the material of the inorganic filler include metal elements such as aluminum, gold, silver, copper, nickel, and alloys. A filler, such as aluminum borate whisker, amorphous carbon black, and graphite, may be sufficient. The shape of the filler may be various shapes such as a spherical shape, a needle shape, and a flake shape. As the filler, only one of the above or two or more types is employed.

상기 필러의 평균 입경은, 바람직하게는 0.005㎛ 이상 10㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 0.005㎛ 이상 1㎛ 이하이다. 상기 평균 입경이 0.005㎛ 이상임으로써, 반도체 웨이퍼 등의 피착체에 대한 습윤성, 접착성이 보다 향상된다. 상기 평균 입경이 10㎛ 이하임으로써, 첨가한 필러에 의한 특성을 보다 충분히 발휘시킬 수 있고, 또한, 다이 본드층(10)의 내열성을 보다 발휘시킬 수 있다. 필러의 평균 입경은, 예를 들어 광도식 입도 분포계(예를 들어, 제품명 「LA-910」, 호리바 세이사쿠쇼사제)를 사용하여 구할 수 있다.The average particle diameter of the filler is preferably 0.005 µm or more and 10 µm or less, and more preferably 0.005 µm or more and 1 µm or less. When the average particle diameter is 0.005 µm or more, the wettability and adhesion to an adherend such as a semiconductor wafer are further improved. When the said average particle diameter is 10 micrometers or less, the characteristic by the added filler can be demonstrated more fully, and the heat resistance of the die bonding layer 10 can be demonstrated more. The average particle diameter of the filler can be obtained using, for example, a photometric particle size distribution meter (for example, the product name "LA-910", manufactured by Horiba Seisakusho).

다이 본드층(10)이 필러를 포함하는 경우, 상기 필러의 함유 비율은, 다이 본드층(10)의 총 질량에 대해서, 바람직하게는 30질량% 이상 70질량% 이하이고, 보다 바람직하게는 40질량% 이상 60질량% 이하이며, 더욱 바람직하게는 42질량% 이상 55질량% 이하이다.When the die-bonding layer 10 contains a filler, the content ratio of the filler is preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less, more preferably 40% by mass with respect to the total mass of the die-bonding layer 10. It is mass% or more and 60 mass% or less, More preferably, it is 42 mass% or more and 55 mass% or less.

다이 본드층(10)은, 필요에 따라서 다른 성분을 포함해도 된다. 상기 다른 성분으로서는, 예를 들어 경화 촉매, 난연제, 실란 커플링제, 이온 트랩제, 염료 등을 들 수 있다.The die-bonding layer 10 may contain other components as necessary. As said other component, a curing catalyst, a flame retardant, a silane coupling agent, an ion trap agent, a dye, etc. are mentioned, for example.

난연제로서는, 예를 들어 삼산화안티몬, 오산화안티몬, 브롬화 에폭시 수지 등을 들 수 있다.As a flame retardant, antimony trioxide, antimony pentoxide, a brominated epoxy resin, etc. are mentioned, for example.

실란 커플링제로서는, 예를 들어 β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란 등을 들 수 있다.Examples of the silane coupling agent include β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane. have.

이온 트랩제로서는, 예를 들어 하이드로탈사이트류, 수산화 비스무트, 벤조트리아졸 등을 들 수 있다.As an ion trapping agent, hydrotalcite, bismuth hydroxide, benzotriazole, etc. are mentioned, for example.

상기 다른 첨가제로서는, 1종만, 또는 2종 이상이 채용된다.As said other additive, only 1 type or 2 or more types are employed.

다이 본드층(10)은, 탄성 및 점성을 조정하기 쉽다는 점에서, 바람직하게는 열가소성 수지(특히, 아크릴 수지), 열경화성 수지 및 필러를 포함한다.The die-bonding layer 10 preferably contains a thermoplastic resin (particularly, an acrylic resin), a thermosetting resin, and a filler from the viewpoint of easy adjustment of elasticity and viscosity.

다이 본드층(10)에 있어서, 필러를 제외한 유기 성분의 총 질량에 대한, 아크릴 수지 등의 열가소성 수지의 함유 비율은, 30질량% 이상 70질량% 이하인 것이 바람직하고, 40질량% 이상 60질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 45질량% 이상 55질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.In the die-bonding layer 10, the content ratio of the thermoplastic resin such as acrylic resin to the total mass of the organic components excluding the filler is preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less, and 40% by mass or more and 60% by mass It is more preferable that it is below, and it is still more preferable that it is 45 mass% or more and 55 mass% or less.

다이 본드층(10)의 총 질량에 대해서, 필러의 함유 비율은, 30질량% 이상 70질량% 이하인 것이 바람직하고, 40질량% 이상 60질량% 이하인 것이 보다 바람직하며, 42질량% 이상 55질량% 이하인 것이 더욱 바람직하다.With respect to the total mass of the die-bonding layer 10, the content ratio of the filler is preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less, more preferably 40% by mass or more and 60% by mass or less, and 42% by mass or more and 55% by mass It is more preferable that it is the following.

다이 본드층(10)의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 1㎛ 이상 200㎛ 이하이다. 이러한 두께의 상한값은, 바람직하게는 100㎛이며, 보다 바람직하게는 80㎛이다. 이러한 두께의 하한값은, 바람직하게는 3㎛, 보다 바람직하게는 5㎛이다. 또한, 다이 본드층(10)이 적층체인 경우, 상기 두께는, 적층체의 총 두께이다.The thickness of the die bonding layer 10 is not particularly limited, but is, for example, 1 µm or more and 200 µm or less. The upper limit of this thickness is preferably 100 µm, more preferably 80 µm. The lower limit of the thickness is preferably 3 µm, more preferably 5 µm. In addition, when the die-bonding layer 10 is a laminated body, the thickness is the total thickness of the laminated body.

다이 본드층(10)의 유리 전이 온도(Tg)는, 바람직하게는 0℃ 이상이고, 보다 바람직하게는 10℃ 이상이다. 상기 유리 전이 온도가 0℃ 이상임으로써, 쿨 익스팬드에 의해 다이 본드층(10)을 용이하게 할단할 수 있다. 다이 본드층(10)의 유리 전이 온도의 상한은, 예를 들어 100℃이다.The glass transition temperature (Tg) of the die bonding layer 10 is preferably 0°C or higher, and more preferably 10°C or higher. When the glass transition temperature is 0° C. or higher, the die bond layer 10 can be easily cleaved by cool expansion. The upper limit of the glass transition temperature of the die bonding layer 10 is, for example, 100°C.

다이 본드층(10)은, 예를 들어 도 1에 도시한 바와 같이, 단층 구조를 가져도 된다. 본 명세서에 있어서, 단층이란, 동일한 조성물로 형성된 층만을 갖는 것이다. 동일한 조성물로 형성된 층이 복수 적층된 형태도 단층이다.The die-bonding layer 10 may have a single layer structure, for example, as shown in FIG. 1. In this specification, a single layer has only a layer formed of the same composition. The form in which multiple layers formed of the same composition are stacked is also a single layer.

한편, 다이 본드층(10)은, 예를 들어 2종 이상의 서로 다른 조성물로 각각 형성된 층이 적층된 다층 구조를 가져도 된다.Meanwhile, the die bonding layer 10 may have a multilayer structure in which layers each formed of two or more different compositions are stacked, for example.

본 실시 형태의 다이싱 다이 본드 필름(1)에서는, 사용될 때, 예를 들어 자외선이 조사됨으로써, 점착제층(22)이 경화된다. 상세하게는, 한쪽 면에 반도체 웨이퍼가 접착된 다이 본드층(10)과, 해당 다이 본드층(10)의 다른 쪽 면에 접합된 점착제층(22)이 적층된 상태에서, 자외선 등이 적어도 점착제층(22)에 조사된다. 예를 들어, 기재층(21)이 배치되어 있는 쪽으로부터 자외선 등을 조사하여, 기재층(21)을 거친 자외선 등이 점착제층(22)에 도달된다. 자외선 등의 조사에 의해, 점착제층(22)이 경화한다.In the dicing die-bonding film 1 of this embodiment, when used, the pressure-sensitive adhesive layer 22 is cured by, for example, irradiation with ultraviolet rays. Specifically, in a state in which the die bond layer 10 to which the semiconductor wafer is adhered to one side and the pressure-sensitive adhesive layer 22 bonded to the other side of the die bond layer 10 are stacked, ultraviolet rays or the like are at least The layer 22 is irradiated. For example, an ultraviolet ray or the like is irradiated from the side on which the base layer 21 is disposed, and the ultraviolet ray or the like that has passed through the base layer 21 reaches the pressure-sensitive adhesive layer 22. The pressure-sensitive adhesive layer 22 is cured by irradiation such as ultraviolet rays.

조사 후에 점착제층(22)이 경화함으로써, 점착제층(22)의 점착력을 저감시킬 수 있기 때문에, 조사 후에 점착제층(22)으로부터 다이 본드층(10)(반도체 웨이퍼가 접착한 상태)을 비교적 용이하게 박리시킬 수 있다. 이에 의해, 양호한 픽업성을 발휘시킬 수 있다.Since the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer 22 can be reduced by curing the pressure-sensitive adhesive layer 22 after irradiation, the die-bonding layer 10 (a state in which the semiconductor wafer is adhered) from the pressure-sensitive adhesive layer 22 after irradiation is relatively easy. Can be peeled off. Thereby, good pickup property can be exhibited.

활성 에너지선(자외선 등)의 조사 에너지양은, 적어도 50mJ/㎠ 이상이다. 조사 에너지양은, 예를 들어 50mJ/㎠ 이상 500mJ/㎠ 이하이고, 바람직하게는 100mJ/㎠ 이상 300mJ/㎠ 이하이다. 통상, 점착제층(22)과 다이 본드층(10)이 접합되어 있는 영역의 주연부를 제외하고, 활성 에너지선을 조사한다. 부분적으로 조사하는 경우, 패턴을 형성한 포토마스크를 통해 조사함으로써, 조사하지 않은 영역을 마련할 수 있다. 또한, 스폿적으로 조사하여, 조사 영역을 형성할 수 있다.The amount of irradiation energy of active energy rays (such as ultraviolet rays) is at least 50 mJ/cm 2 or more. The amount of irradiation energy is, for example, 50 mJ/cm 2 or more and 500 mJ/cm 2 or less, and preferably 100 mJ/cm 2 or more and 300 mJ/cm 2 or less. Usually, the active energy ray is irradiated except for the peripheral part of the area|region where the adhesive layer 22 and the die-bonding layer 10 are bonded. In the case of partial irradiation, an unirradiated area can be provided by irradiating through a photomask having a pattern formed thereon. Further, it is possible to form an irradiation area by irradiating in a spot manner.

자외선을 조사하기 위한 장치는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 닛토세이키사제 제품명 「UM810」을 사용할 수 있다.Although the device for irradiating ultraviolet rays is not particularly limited, for example, the product name "UM810" manufactured by Nitto Seiki can be used.

활성 에너지선의 조사 전에 있어서, 점착제층(22)과 다이 본드층(10) 사이의 박리 강도 (α)는, 0.4(N/20㎜) 이상 4.0(N/20㎜) 이하인 것이 바람직하다.Before irradiation of active energy rays, the peel strength α between the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the die-bonding layer 10 is preferably 0.4 (N/20 mm) or more and 4.0 (N/20 mm) or less.

한편, 활성 에너지선의 조사 후에 있어서, 점착제층(22)과 다이 본드층(10) 사이의 박리 강도 (β)는, 0.1(N/20㎜) 이하인 것이 바람직하다. 이러한 박리 강도 (β)는, 0.03(N/20㎜) 이상이어도 된다.On the other hand, after irradiation of active energy rays, the peel strength (β) between the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the die-bonding layer 10 is preferably 0.1 (N/20 mm) or less. Such peeling strength (β) may be 0.03 (N/20 mm) or more.

활성 에너지선의 조사 전 (α)와, 조사 후 (β)에 있어서의, 점착제층(22)과 다이 본드층(10) 사이의 박리 강도의 비(α/β)는, 4.0 이상 40.5 이하인 것이 바람직하다.It is preferable that the ratio (α/β) of the peel strength between the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the die-bonding layer 10 before (α) and after (β) irradiation of active energy rays is 4.0 or more and 40.5 or less. Do.

또한, 상기 활성 에너지선의 조사는, 실시예에 기재된 조건에서 행한다. 또한, 상기 박리 강도에 관한 수치는, 실시예에 기재된 시험 조건에 따라서 측정된다.In addition, irradiation of the active energy ray is performed under the conditions described in Examples. In addition, the numerical value related to the peel strength is measured according to the test conditions described in Examples.

다이싱 다이 본드 필름(1)에 있어서, 활성 에너지선의 조사 후에 있어서 점착제층(22)과 다이 본드층(10) 사이의 박리 강도를 에지 필 시험에 의해 측정했을 때의 최대 강도는, 0.10(N/10㎜) 이상 0.50(N/10㎜) 이하인 것이 바람직하다.In the dicing die-bonding film 1, the maximum strength when the peel strength between the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the die-bonding layer 10 is measured by an edge peel test after irradiation with an active energy ray is 0.10 (N /10 mm) or more and 0.50 (N/10 mm) or less.

또한, 상기 에지 필 시험의 최대 강도에 관한 수치는, 실시예에 기재된 시험 조건에 따라서 측정된다.In addition, the numerical value regarding the maximum strength of the edge peel test is measured according to the test conditions described in Examples.

상기 박리 강도(α 또는 β) 및 상기 최대 강도는, 예를 들어 다이 본드층(10)에 포함되는 필러의 양을 줄임으로써, 높일 수 있다.The peel strength (α or β) and the maximum strength can be increased, for example, by reducing the amount of fillers included in the die bonding layer 10.

본 실시 형태의 다이싱 다이 본드 필름(1)은, 사용되기 전의 상태에 있어서, 다이 본드층(10)의 한쪽 면(다이 본드층(10)이 점착제층(22)과 겹치지 않은 면)을 덮는 박리 시트를 구비해도 된다. 박리 시트는, 다이 본드층(10)을 보호하기 위해서 사용되고, 다이 본드층(10)에 피착체(예를 들어 반도체 웨이퍼)를 첩부하기 직전에 박리된다.The dicing die-bonding film 1 of this embodiment covers one side of the die-bonding layer 10 (the side where the die-bonding layer 10 does not overlap the pressure-sensitive adhesive layer 22) in a state before being used. You may provide a release sheet. The release sheet is used to protect the die-bonding layer 10, and is peeled immediately before affixing an adherend (eg, a semiconductor wafer) to the die-bonding layer 10.

이 박리 시트로서는, 상술한 박리 시트와 마찬가지의 것을 채용할 수 있다. 이 박리 시트는, 다이 본드층(10)을 지지하기 위한 지지재로서 이용할 수 있다. 박리 시트는, 점착제층(22) 위에 다이 본드층(10)을 겹칠 때, 적합하게 사용된다. 상세하게는, 박리 시트와 다이 본드층(10)이 적층된 상태에서 다이 본드층(10)을 점착제층(22)에 겹치고, 겹친 후에 박리 시트를 박리함(전사함)으로써, 점착제층(22) 위에 다이 본드층(10)을 겹칠 수 있다.As this release sheet, the same thing as the release sheet mentioned above can be adopted. This release sheet can be used as a support material for supporting the die bonding layer 10. The release sheet is suitably used when overlapping the die-bonding layer 10 on the pressure-sensitive adhesive layer 22. Specifically, the die-bonding layer 10 is overlaid on the pressure-sensitive adhesive layer 22 in a state in which the release sheet and the die-bonding layer 10 are stacked, and then the release sheet is peeled (transferred) to the pressure-sensitive adhesive layer 22. ) On the die bond layer 10 may be overlapped.

본 실시 형태의 다이싱 다이 본드 필름(1)은, 이상과 같이 구성되어 있는 점에서, 양호한 픽업성을 발휘할 수 있다.Since the dicing die-bonding film 1 of the present embodiment is configured as described above, it can exhibit good pick-up properties.

다음으로, 본 실시 형태의 다이싱 테이프(20), 및 다이싱 다이 본드 필름(1)의 제조 방법에 대하여 설명한다.Next, the dicing tape 20 of this embodiment and the manufacturing method of the dicing die-bonding film 1 are demonstrated.

본 실시 형태의 다이싱 다이 본드 필름(1)의 제조 방법은,The manufacturing method of the dicing die-bonding film 1 of this embodiment,

다이싱 테이프(20)를 제조하는 공정(다이싱 테이프의 제조 방법)과, 제조된 다이싱 테이프(20)에 다이 본드층(10)을 겹쳐 다이싱 다이 본드 필름(1)을 제조하는 공정을 구비한다.The process of manufacturing the dicing tape 20 (the manufacturing method of the dicing tape) and the process of manufacturing the dicing die-bonding film 1 by overlapping the die bonding layer 10 on the manufactured dicing tape 20 Equipped.

다이싱 테이프의 제조 방법(다이싱 테이프를 제조하는 공정)은,The manufacturing method (process of manufacturing a dicing tape) of a dicing tape,

아크릴 폴리머를 합성하는 합성 공정과,Synthesis process of synthesizing acrylic polymer,

상술한 아크릴 폴리머와, 이소시아네이트 화합물과, 중합 개시제와, 용매와, 목적에 따라서 적절히 추가하는 기타 성분을 포함하는 점착제 조성물로부터 용매를 휘발시켜 점착제층(22)을 제작하는 점착제층 제작 공정과,A pressure-sensitive adhesive layer production step of producing the pressure-sensitive adhesive layer 22 by volatilizing a solvent from the pressure-sensitive adhesive composition containing the above-described acrylic polymer, an isocyanate compound, a polymerization initiator, a solvent, and other components appropriately added according to the purpose;

점착제층(22)과 기재층(21)을 접합함으로써, 기재층(21)과 점착제층(22)을 적층시키는 적층 공정을 구비한다.A lamination step of laminating the substrate layer 21 and the pressure-sensitive adhesive layer 22 is provided by bonding the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the substrate layer 21.

합성 공정에서는, 예를 들어 C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트 모노머와, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머를 라디칼 중합시킴으로써, 아크릴 폴리머 중간체를 합성한다.In the synthesis process, an acrylic polymer intermediate is synthesized by radical polymerization of a C9 to C11 alkyl (meth)acrylate monomer and a hydroxyl group-containing (meth)acrylate monomer.

라디칼 중합은, 일반적인 방법에 의해 행할 수 있다. 예를 들어, 상기 각 모노머를 용매에 용해시켜 가열하면서 교반하고, 중합 개시제를 첨가함으로써, 아크릴 폴리머 중간체를 합성할 수 있다. 아크릴 폴리머의 분자량을 조정하기 위해서, 연쇄 이동제의 존재하에서 중합을 행해도 된다.Radical polymerization can be carried out by a general method. For example, the acrylic polymer intermediate can be synthesized by dissolving each of the above monomers in a solvent, stirring while heating, and adding a polymerization initiator. In order to adjust the molecular weight of the acrylic polymer, polymerization may be performed in the presence of a chain transfer agent.

다음으로, 아크릴 폴리머 중간체에 포함되는, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위의 일부의 수산기와, 이소시아네이트기 함유 중합성 모노머의 이소시아네이트기를, 우레탄화 반응에 의해 결합시킨다. 이에 의해, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위의 일부가, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위로 된다.Next, the hydroxyl group of a part of the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate contained in the acrylic polymer intermediate and the isocyanate group of the isocyanate group-containing polymerizable monomer are bonded to each other by a urethanization reaction. Thereby, some of the structural units of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate become the structural units of the polymerizable group-containing (meth)acrylate.

우레탄화 반응은, 일반적인 방법에 의해 행할 수 있다. 예를 들어, 용매 및 우레탄화 촉매의 존재하에서, 가열하면서 아크릴 폴리머 중간체와 이소시아네이트기 함유 중합성 모노머를 교반한다. 이에 의해, 아크릴 폴리머 중간체의 수산기의 일부에, 이소시아네이트기 함유 중합성 모노머의 이소시아네이트기를 우레탄 결합시킬 수 있다.The urethanization reaction can be carried out by a general method. For example, in the presence of a solvent and a urethanization catalyst, the acrylic polymer intermediate and the isocyanate group-containing polymerizable monomer are stirred while heating. Thereby, it is possible to urethane bond the isocyanate group of the isocyanate group-containing polymerizable monomer to a part of the hydroxyl groups of the acrylic polymer intermediate.

또한, 우레탄화 반응을 효율적으로 진행시키기 위해서, Sn 촉매 등의 존재하에서 우레탄화 반응을 행해도 된다.Further, in order to efficiently advance the urethanization reaction, a urethanization reaction may be performed in the presence of a Sn catalyst or the like.

점착제층 제작 공정에서는, 예를 들어 아크릴 폴리머와, 이소시아네이트 화합물과, 중합 개시제를 용매에 용해시켜 점착제 조성물을 조제한다. 용매의 양을 변화시킴으로써, 조성물의 점도를 조정할 수 있다. 이어서, 점착제 조성물을 박리 시트에 도포한다. 도포 방법으로서는, 예를 들어, 롤 도포 시공, 스크린 도포 시공, 그라비아 도포 시공 등의 일반적인 도포 방법이 채용된다. 도포한 조성물에, 탈용매 처리나 고화 처리 등을 실시함으로써, 도포한 점착제 조성물을 고화시켜 점착제층(22)을 제작한다.In the pressure-sensitive adhesive layer production process, for example, an acrylic polymer, an isocyanate compound, and a polymerization initiator are dissolved in a solvent to prepare a pressure-sensitive adhesive composition. By varying the amount of solvent, the viscosity of the composition can be adjusted. Next, the pressure-sensitive adhesive composition is applied to the release sheet. As the coating method, for example, a general coating method such as roll coating, screen coating, and gravure coating is adopted. By subjecting the applied composition to a solvent removal treatment, a solidification treatment, or the like, the applied pressure-sensitive adhesive composition is solidified to produce the pressure-sensitive adhesive layer 22.

탈용매 처리는, 예를 들어 80℃ 이상 150℃ 이하, 0.5분간 이상 5분간 이하의 조건에서 행해진다.The solvent removal treatment is performed under conditions of, for example, 80°C or more and 150°C or less and 0.5 minutes or more and 5 minutes or less.

적층 공정에서는, 박리 시트에 겹친 상태의 점착제층(22)과 기재층(21)을 겹쳐 적층시킨다. 또한, 박리 시트는, 사용 전까지 점착제층(22)에 겹친 상태여도 된다.In the lamination process, the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the base material layer 21 in the state of being superposed on the release sheet are stacked and laminated. Further, the release sheet may be in a state of being overlaid on the pressure-sensitive adhesive layer 22 before use.

또한, 가교제와 아크릴 폴리머의 반응을 촉진시키기 위해서, 또한, 가교제와 기재층(21)의 표면 부분과의 반응을 촉진시키기 위해서, 적층 공정 후에, 50℃ 환경하에서 48시간의 에이징 처리 공정을 실시해도 된다.In addition, in order to accelerate the reaction between the crosslinking agent and the acrylic polymer, and in order to accelerate the reaction between the crosslinking agent and the surface portion of the substrate layer 21, after the lamination process, an aging treatment process for 48 hours in an environment at 50°C may be performed. do.

또한, 기재층(21)은, 시판 중인 필름 등을 사용해도 되고, 일반적인 방법에 의해 제막해서 제작되어도 된다. 제막하는 방법으로서는, 예를 들어, 캘린더 제막법, 유기 용매 중에서의 캐스팅법, 밀폐계에서의 인플레이션 압출법, T다이 압출법, 공압출법, 드라이 라미네이트법 등을 들 수 있다.In addition, the base material layer 21 may use a commercially available film or the like, or may be formed by forming a film by a general method. As a method of forming a film, a calender film forming method, a casting method in an organic solvent, an inflation extrusion method in a closed system, a T-die extrusion method, a coextrusion method, a dry lamination method, and the like can be mentioned.

이들 공정에 의해, 다이싱 테이프(20)를 제조할 수 있다.The dicing tape 20 can be manufactured by these processes.

다이싱 다이 본드 필름의 제조 방법(다이싱 다이 본드 필름을 제조하는 공정)은,The manufacturing method (process of manufacturing a dicing die bonding film) of a dicing die-bonding film,

다이 본드층(10)을 형성하기 위한 수지 조성물을 조제하는 수지 조성물 조제 공정과,A resin composition preparation step of preparing a resin composition for forming the die-bonding layer 10, and

수지 조성물로부터 다이 본드층(10)을 제작하는 다이 본드층 제작 공정과,A die-bonding layer production process for producing the die-bonding layer 10 from the resin composition,

상기와 같이 제조한 다이싱 테이프(20)의 점착제층(22)에 다이 본드층(10)을 첩부하는 첩부 공정을 구비한다.An attaching step of attaching the die bonding layer 10 to the pressure-sensitive adhesive layer 22 of the dicing tape 20 manufactured as described above is provided.

수지 조성물 조제 공정에서는, 예를 들어 에폭시 수지, 에폭시 수지의 경화 촉매, 아크릴 수지, 페놀 수지, 용매 등을 혼합하여, 각 수지를 용매에 용해시킴으로써 수지 조성물을 조제한다. 용매의 양을 변화시킴으로써, 조성물의 점도를 조정할 수 있다. 또한, 이들 수지로서는, 시판 중인 제품을 사용할 수 있다.In the resin composition preparation step, for example, an epoxy resin, a curing catalyst of an epoxy resin, an acrylic resin, a phenol resin, a solvent, and the like are mixed, and each resin is dissolved in a solvent to prepare a resin composition. By varying the amount of solvent, the viscosity of the composition can be adjusted. In addition, as these resins, commercially available products can be used.

다이 본드층 제작 공정에서는, 예를 들어 상기와 같이 조제한 수지 조성물을, 박리 시트에 도포한다. 도포 방법으로서는, 특별히 한정되지 않으며, 예를 들어, 롤 도포 시공, 스크린 도포 시공, 그라비아 도포 시공 등의 일반적인 도포 방법이 채용된다. 이어서, 필요에 따라서, 탈용매 처리나 경화 처리 등에 의해, 도포한 조성물을 고화시켜, 다이 본드층(10)을 제작한다.In the die-bonding layer production process, for example, the resin composition prepared as described above is applied to a release sheet. The coating method is not particularly limited, and for example, a general coating method such as roll coating, screen coating, and gravure coating is employed. Subsequently, if necessary, the applied composition is solidified by a solvent removal treatment, a curing treatment, or the like, and the die bonding layer 10 is produced.

탈용매 처리는, 예를 들어 70℃ 이상 160℃ 이하, 1분간 이상 5분간 이하의 조건에서 행해진다.The solvent removal treatment is performed under conditions of, for example, 70°C or more and 160°C or less and 1 minute or more and 5 minutes or less.

첩부 공정에서는, 다이싱 테이프(20)의 점착제층(22), 및 다이 본드층(10)으로부터 각각 박리 시트를 박리하고, 다이 본드층(10)과 점착제층(22)이 직접 접촉하도록, 양자를 접합한다. 예를 들어, 압착함으로써 접합할 수 있다. 접합할 때의 온도는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 30℃ 이상 50℃ 이하이고, 바람직하게는 35℃ 이상 45℃ 이하이다. 접합할 때의 선압은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.1kgf/㎝ 이상 20kgf/㎝ 이하이고, 보다 바람직하게는 1kgf/㎝ 이상 10kgf/㎝ 이하이다.In the affixing process, the peeling sheet is peeled from the pressure-sensitive adhesive layer 22 and the die-bonding layer 10 of the dicing tape 20, respectively, so that the die-bonding layer 10 and the pressure-sensitive adhesive layer 22 directly contact each other. Join. For example, it can be bonded by pressing. The temperature at the time of bonding is not particularly limited, and is, for example, 30°C or more and 50°C or less, and preferably 35°C or more and 45°C or less. The line pressure at the time of bonding is not particularly limited, but is preferably 0.1 kgf/cm or more and 20 kgf/cm or less, and more preferably 1 kgf/cm or more and 10 kgf/cm or less.

상기와 같이 제조된 다이싱 다이 본드 필름(1)은, 예를 들어 반도체 집적 회로를 제조하기 위한 보조 용구로서 사용된다. 이하, 사용에 있어서의 구체예에 대하여 설명한다.The dicing die-bonding film 1 manufactured as described above is used, for example, as an auxiliary tool for manufacturing a semiconductor integrated circuit. Hereinafter, specific examples in use will be described.

반도체 집적 회로를 제조하는 방법은, 일반적으로, 회로면이 형성된 반도체 웨이퍼로부터 칩을 잘라내서 조립을 행하는 공정을 구비한다.A method of manufacturing a semiconductor integrated circuit generally includes a step of cutting out a chip from a semiconductor wafer on which a circuit surface is formed and performing assembly.

이 공정은, 예를 들어 반도체 웨이퍼를 할단 처리에 의해 칩(다이)으로 가공하기 위해 반도체 웨이퍼에 홈을 형성하고, 반도체 웨이퍼를 연삭해서 두께를 얇게 하는 하프컷 공정과, 하프컷 가공된 반도체 웨이퍼의 일면(예를 들어, 회로면과는 반대측의 면)을 다이 본드층(10)에 첩부하여, 다이싱 테이프(20)에 반도체 웨이퍼를 고정하는 마운트 공정과, 하프컷 가공된 반도체 칩끼리의 간격을 넓히는 익스팬드 공정과, 다이 본드층(10)과 점착제층(22) 사이를 박리해서 다이 본드층(10)이 첩부된 상태에서 반도체 칩(다이)을 취출하는 픽업 공정과, 다이 본드층(10)이 첩부된 상태의 반도체 칩(다이)을 피착체에 접착시키는 다이 본드 공정을 더 갖는다. 이들 공정을 실시할 때, 본 실시 형태의 다이싱 테이프(다이싱 다이 본드 필름)가 제조 보조 용구로서 사용된다.This process includes, for example, a half-cut process in which grooves are formed in a semiconductor wafer to process a semiconductor wafer into chips (die) by a cutting process, and the semiconductor wafer is ground to reduce the thickness, and a half-cut processed semiconductor wafer A mounting process of fixing the semiconductor wafer to the dicing tape 20 by affixing one side (for example, the side opposite to the circuit side) to the die bonding layer 10, and the half-cut processed semiconductor chips An expanding process to increase the gap, a pick-up process in which a semiconductor chip (die) is taken out while the die bond layer 10 is affixed by peeling between the die bond layer 10 and the pressure-sensitive adhesive layer 22, and a die bond layer (10) It further has a die bonding process of adhering the semiconductor chip (die) in the affixed state to the adherend. When performing these processes, the dicing tape (dicing die-bonding film) of this embodiment is used as a manufacturing auxiliary tool.

하프컷 공정에서는, 도 2a 내지 도 2d에 도시한 바와 같이, 반도체 집적 회로를 소편(다이)으로 할단하기 위한 하프컷 가공을 실시한다. 상세하게는, 반도체 웨이퍼의 회로면과는 반대측의 면에, 웨이퍼 가공용 테이프 T를 첩부한다. 또한, 웨이퍼 가공용 테이프 T에 다이싱 링 R을 설치한다. 웨이퍼 가공용 테이프 T를 첩부한 상태에서, 분할용 홈을 형성한다. 홈을 형성한 면에 백그라인드 테이프 G를 첩부하는 한편, 처음에 첩부한 웨이퍼 가공용 테이프 T를 박리한다. 백그라인드 테이프 G를 첩부한 상태에서, 반도체 웨이퍼가 소정의 두께가 될 때까지 연삭 가공을 실시한다.In the half-cut process, as shown in Figs. 2A to 2D, half-cut processing is performed to cut the semiconductor integrated circuit into small pieces (die). Specifically, the wafer processing tape T is affixed to the surface of the semiconductor wafer on the opposite side to the circuit surface. Further, a dicing ring R is provided on the wafer processing tape T. In the state where the wafer processing tape T is affixed, a dividing groove is formed. While the backgrind tape G is affixed to the grooved surface, the wafer processing tape T that was first affixed is peeled off. With the backgrind tape G affixed, grinding is performed until the semiconductor wafer has a predetermined thickness.

마운트 공정에서는, 도 3a 내지 도 3b에 도시한 바와 같이, 다이싱 테이프(20)의 점착제층(22)에 다이싱 링 R을 설치한 후, 노출한 다이 본드층(10)의 면에, 하프컷 가공된 반도체 웨이퍼를 첩부한다. 그 후, 반도체 웨이퍼로부터 백그라인드 테이프 G를 박리한다.In the mounting process, as shown in Figs. 3A to 3B, after installing the dicing ring R on the pressure-sensitive adhesive layer 22 of the dicing tape 20, the surface of the exposed die-bonding layer 10 is The cut-processed semiconductor wafer is affixed. After that, the backgrind tape G is peeled from the semiconductor wafer.

익스팬드 공정에서는, 도 4a 내지 도 4c에 도시한 바와 같이, 다이싱 링 R을 익스팬드 장치의 유지구 H에 고정한다. 익스팬드 장치가 구비하는 밀어올림 부재 U를, 다이싱 다이 본드 필름(1)의 하측으로부터 밀어올림으로써, 다이싱 다이 본드 필름(1)을 면 방향으로 넓히도록 잡아 늘인다. 이에 의해, 특정한 온도 조건에 있어서, 하프컷 가공된 반도체 웨이퍼를 할단한다. 상기 온도 조건은, 예를 들어 -20 내지 5℃이며, 바람직하게는 -15 내지 0℃, 보다 바람직하게는 -10 내지 -5℃이다. 밀어올림 부재 U를 하강시킴으로써 익스팬드 상태를 해제한다. 또한, 익스팬드 공정에서는, 도 5a 내지 도 5b에 도시한 바와 같이, 보다 높은 온도 조건하에서, 면적을 넓히도록 다이싱 테이프(20)를 잡아 늘인다. 이에 의해, 할단된 인접하는 반도체 칩을 필름면의 면 방향으로 분리하여, 간격을 더욱 넓힌다.In the expand process, as shown in Figs. 4A to 4C, the dicing ring R is fixed to the holder H of the expander. The dicing die-bonding film 1 is stretched so as to expand in the plane direction by pushing up the pushing member U provided in the expander from the lower side of the dicing die-bonding film 1. Thereby, under a specific temperature condition, a half-cut-processed semiconductor wafer is cut. The temperature conditions are, for example, -20 to 5°C, preferably -15 to 0°C, and more preferably -10 to -5°C. The expanded state is released by lowering the pushing member U. In addition, in the expand process, as shown in Figs. 5A to 5B, under a higher temperature condition, the dicing tape 20 is stretched to increase the area. Thereby, the divided adjacent semiconductor chips are separated in the plane direction of the film surface, and the gap is further widened.

픽업 공정에서는, 도 6에 도시한 바와 같이, 다이 본드층(10)이 첩부된 상태의 반도체 칩을 다이싱 테이프(20)의 점착층으로부터 박리한다. 상세하게는, 핀 부재 P를 상승시켜, 픽업 대상의 반도체 칩을, 다이싱 테이프(20)를 개재하여 밀어올린다. 밀어올려진 반도체 칩을 흡착 지그 J에 의해 보유 지지한다.In the pick-up process, as shown in FIG. 6, the semiconductor chip in a state in which the die bonding layer 10 is affixed is peeled from the adhesive layer of the dicing tape 20. Specifically, the pin member P is raised, and the semiconductor chip to be picked up is pushed up through the dicing tape 20. The pushed-up semiconductor chip is held by the suction jig J.

다이 본드 공정에서는, 다이 본드층(10)이 첩부된 상태의 반도체 칩을 피착체에 접착시킨다.In the die bonding process, the semiconductor chip in the state in which the die bonding layer 10 is affixed is adhered to the adherend.

본 명세서에 의해 개시되는 사항은, 이하의 것을 포함한다.Matters disclosed by this specification include the following.

(1)(One)

기재층과, 해당 기재층에 겹친 점착제층을 구비하는 다이싱 테이프이며,It is a dicing tape provided with a base material layer and an adhesive layer superimposed on the base material layer,

상기 점착제층이 아크릴 폴리머를 포함하고,The pressure-sensitive adhesive layer contains an acrylic polymer,

상기 아크릴 폴리머는, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위와, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 포함하며,The acrylic polymer includes a constitutional unit of C9 to C11 alkyl (meth)acrylate and a constitutional unit of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate,

상기 아크릴 폴리머는, 상기 C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위를, 40mol% 이상 85mol% 이하 포함하는, 다이싱 테이프.The dicing tape, wherein the acrylic polymer contains 40 mol% or more and 85 mol% or less of the constitutional unit of the C9 to C11 alkyl (meth)acrylate.

(2)(2)

상기 아크릴 폴리머는, 상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를, 1mol% 이상 30mol% 이하 포함하는, 상기 (1)에 기재된 다이싱 테이프.The dicing tape according to (1), wherein the acrylic polymer contains 1 mol% or more and 30 mol% or less of the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate.

(3)(3)

상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 수산기 함유 C2 내지 C4 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위인, 상기 (2)에 기재된 다이싱 테이프.The dicing tape according to (2) above, wherein the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate is a structural unit of a hydroxyl group-containing C2 to C4 alkyl (meth)acrylate.

(4)(4)

상기 C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 노닐(메트)아크릴레이트의 구성 단위 및 데실아크릴레이트의 구성 단위 중 적어도 1종인, 상기 (1) 내지 (3) 중 어느 한 항에 기재된 다이싱 테이프.The structural unit of the C9 to C11 alkyl (meth)acrylate is at least one of a structural unit of nonyl (meth)acrylate and a structural unit of decyl acrylate, described in any one of (1) to (3) above. Dicing tape.

(5)(5)

상기 아크릴 폴리머는, 상기 C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위 (A)에 대해서, 상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (B)를, 몰비(B/A)로, 0.01 이상 0.80 이하 포함하는, 상기 (1) 내지 (4) 중 어느 한 항에 기재된 다이싱 테이프.In the acrylic polymer, the structural unit (B) of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate, in a molar ratio (B/A), of 0.01 or more with respect to the structural unit (A) of the C9 to C11 alkyl (meth)acrylate. The dicing tape according to any one of (1) to (4), containing 0.80 or less.

(6)(6)

상기 아크릴 폴리머는, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 더 갖는, 상기 (1) 내지 (5) 중 어느 한 항에 기재된 다이싱 테이프.The dicing tape according to any one of (1) to (5), wherein the acrylic polymer further has a structural unit of a polymerizable group-containing (meth)acrylate.

(7)(7)

상기 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위에 있어서의 수산기에, 이소시아네이트기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머의 이소시아네이트기가 우레탄 결합한 분자 구조를 갖는, 상기 (6)에 기재된 다이싱 테이프.The structural unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate has a molecular structure in which the isocyanate group of the isocyanate group-containing (meth)acrylate monomer is urethane-bonded to the hydroxyl group in the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate, The dicing tape according to (6) above.

(8)(8)

상기 아크릴 폴리머는, 분자 중에, 상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 및 상기 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 15mol% 이상 60mol% 이하 포함하는, 상기 (6) 또는 (7)에 기재된 다이싱 테이프.The above (6) or (7), wherein the acrylic polymer contains 15 mol% or more and 60 mol% or less of the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate and the polymerizable group-containing (meth)acrylate in a molecule. The dicing tape described in.

(9)(9)

상기 아크릴 폴리머는, 분자 중에, 상기 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 7.0mol% 이상 60mol% 이하 포함하는, 상기 (6) 내지 (8) 중 어느 한 항에 기재된 다이싱 테이프.The dicing tape according to any one of (6) to (8), wherein the acrylic polymer contains 7.0 mol% or more and 60 mol% or less of the structural unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate in its molecule.

(10)(10)

상기 아크릴 폴리머는, 상기 C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위 (A)에 대해서, 상기 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)를, 몰비(C/A)로, 0.08 이상 1.40 이하 포함하는, 상기 (6) 내지 (9) 중 어느 한 항에 기재된 다이싱 테이프.In the acrylic polymer, the constituent unit (C) of the polymerizable group-containing (meth)acrylate with respect to the constitutional unit (A) of the C9 to C11 alkyl (meth)acrylate, in a molar ratio (C/A), of 0.08 The dicing tape according to any one of (6) to (9), containing more than or equal to 1.40.

(11)(11)

상기 아크릴 폴리머는, 상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (B)에 대해서, 상기 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)를, 몰비(C/B)로, 0.9 이상 18.0 이하 포함하는, 상기 (6) 내지 (10) 중 어느 한 항에 기재된 다이싱 테이프.In the acrylic polymer, the constituent unit (C) of the polymerizable group-containing (meth)acrylate with respect to the structural unit (B) of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate, in a molar ratio (C/B), of 0.9 or more and 18.0 The dicing tape according to any one of (6) to (10), which is included below.

(12)(12)

상기 아크릴 폴리머는, 상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (B) 및 상기 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)에 대해서, 상기 C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위 (A)를, 몰비[A/(B+C)]로, 0.5 이상 6.0 이하 포함하는, 상기 (6) 내지 (11) 중 어느 한 항에 기재된 다이싱 테이프.The acrylic polymer is composed of the C9 to C11 alkyl (meth)acrylate with respect to the structural unit (B) of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate and the structural unit (C) of the polymerizable group-containing (meth)acrylate The dicing tape according to any one of the above (6) to (11), wherein the unit (A) is contained in a molar ratio [A/(B+C)] of 0.5 or more and 6.0 or less.

(13)(13)

상기 아크릴 폴리머는, 상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (B) 및 상기 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)에 대해서, 상기 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)를, 몰비[C/(B+C)]로, 0.50 이상 0.95 이하 포함하는, 상기 (6) 내지 (12) 중 어느 한 항에 기재된 다이싱 테이프.The acrylic polymer is a structural unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate with respect to the structural unit (B) of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate and the structural unit (C) of the polymerizable group-containing (meth)acrylate The dicing tape according to any one of (6) to (12), containing (C) in a molar ratio [C/(B+C)] of 0.50 or more and 0.95 or less.

(14)(14)

상기 점착제층은, 상기 아크릴 폴리머와, 이소시아네이트 화합물과, 중합 개시제를 포함하는, 상기 (1) 내지 (13) 중 어느 한 항에 기재된 다이싱 테이프.The dicing tape according to any one of (1) to (13), wherein the pressure-sensitive adhesive layer contains the acrylic polymer, an isocyanate compound, and a polymerization initiator.

(15)(15)

상기 (1) 내지 (14) 중 어느 한 항에 기재된 다이싱 테이프와, 해당 다이싱 테이프의 상기 점착제층에 적층된 다이 본드층을 구비하는, 다이싱 다이 본드 필름.A dicing die-bonding film comprising the dicing tape according to any one of the above (1) to (14), and a die bonding layer laminated on the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing tape.

(16)(16)

상기 다이 본드층은, 열경화성 수지 및 열가소성 수지 중 적어도 한쪽과, 필러를 포함하는, 상기 (15)에 기재된 다이싱 다이 본드 필름.The dicing die-bonding film according to (15), wherein the die-bonding layer contains at least one of a thermosetting resin and a thermoplastic resin, and a filler.

본 실시 형태의 다이싱 테이프, 다이싱 다이 본드 필름은 상기 예시한 바와 같지만, 본 발명은, 상기 예시된 다이싱 테이프, 다이싱 다이 본드 필름에 한정되는 것은 아니다.The dicing tape and dicing die-bonding film of the present embodiment are as exemplified above, but the present invention is not limited to the dicing tape and dicing die-bonding film exemplified above.

즉, 일반적인 다이싱 테이프, 다이싱 다이 본드 필름에 있어서 사용되는 다양한 형태가, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에 있어서, 채용될 수 있다.That is, various forms used in general dicing tapes and dicing die-bonding films can be adopted within a range that does not impair the effects of the present invention.

실시예Example

다음으로 실험예에 의해 본 발명을 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다.Next, the present invention will be described in more detail by experimental examples, but the present invention is not limited thereto.

이하와 같이 하여, 다이싱 테이프를 제조하였다. 또한, 이 다이싱 테이프를 사용하여, 다이싱 다이 본드 필름을 제조하였다.A dicing tape was manufactured in the following manner. Further, a dicing die bonding film was produced using this dicing tape.

<아크릴 폴리머의 원료><raw material of acrylic polymer>

「제1 합성 단계」"First synthesis step"

·C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트: 이소데실아크릴레이트(IDA)C9 to C11 alkyl (meth)acrylate: isodecylacrylate (IDA)

·C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트: 이소노닐아크릴레이트(INA)C9 to C11 alkyl (meth)acrylate: isononyl acrylate (INA)

·수산기 함유 (메트)아크릴레이트: 2-히드록시에틸아크릴레이트(HEA)Hydroxyl-containing (meth)acrylate: 2-hydroxyethyl acrylate (HEA)

·수산기 함유 (메트)아크릴레이트: 4-히드록시부틸아크릴레이트(4HBA)Hydroxyl-containing (meth)acrylate: 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA)

·중합 개시제: 아조비스이소부티로니트릴(AIBN)Polymerization initiator: azobisisobutyronitrile (AIBN)

·중합 용매: 아세트산 에틸Polymerization solvent: ethyl acetate

「제2 합성 단계」: 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위의 조제"Second synthesis step": Preparation of constituent units of polymerizable group-containing (meth)acrylate

·이소시아네이트기 함유 (메트)아크릴레이트 모노머: 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트(제품명 「카렌즈 MOI」쇼와 덴코사제)-Isocyanate group-containing (meth)acrylate monomer: 2-isocyanatoethyl methacrylate (product name "Carenz MOI" manufactured by Showa Denko)

·우레탄화 반응 촉매: 디라우르산 디부틸 주석Urethane reaction catalyst: dibutyl tin dilaurate

<다이싱 테이프의 원료><Material for dicing tape>

·점착제층·Adhesive layer

아크릴 폴리머(각각 합성한 것)Acrylic polymers (each synthesized)

이소시아네이트 화합물Isocyanate compounds

톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물의 아세트산 에틸 용액Ethyl acetate solution of trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate

(제품명 「코로네이트 L」 도소사제)(Product name "Coronate L" manufactured by Tosoh Corporation)

광중합 개시제(제품명 「Omnirad 127」 IGM Resins사제)Photopolymerization initiator (product name "Omnirad 127" made by IGM Resins)

·기재층·Base layer

EVA 필름(성막 후에 코로나 처리)EVA film (corona treatment after film formation)

제품명 「에바플렉스 V1010」수지(미츠이 듀퐁 케미컬사제)를 비연신으로 125㎛ 두께로 제막하고, 점착제층과 접촉하는 면에 코로나 처리를 실시한 것Product name "Evaflex V1010" resin (manufactured by Mitsui DuPont Chemical) was formed into a 125㎛ thick film and subjected to corona treatment on the surface in contact with the adhesive layer

·유기 용매(점착제층을 제작할 때 사용)・Organic solvent (used when making an adhesive layer)

아세트산 에틸Ethyl acetate

(실시예 1)(Example 1)

이하와 같이 하여, 아크릴 폴리머 중간체를 합성한 후, 아크릴 폴리머 중간체로부터 아크릴 폴리머를 합성하였다. 합성한 아크릴 폴리머를 사용하여 점착제층을 제작하여, 다이싱 테이프를 제조하였다.After the acrylic polymer intermediate was synthesized in the following manner, an acrylic polymer was synthesized from the acrylic polymer intermediate. A pressure-sensitive adhesive layer was prepared using the synthesized acrylic polymer to prepare a dicing tape.

「제1 합성 단계: 아크릴 폴리머 중간체의 합성」「First Synthesis Step: Synthesis of Acrylic Polymer Intermediate」

상기 원료를 표 1에 나타내는 양(질량부)으로 혼합하여 혼합물을 조제하였다. 세퍼러블 커버, 분액 깔때기, 온도계, 질소 도입관, 리비히 냉각기, 진공 시일, 교반 막대, 교반 날개가, 1L 둥근 바닥 세퍼러블 플라스크에 장비된 상태의 중합용 실험 장치에, 상기 혼합물을 투입하였다. 교반하면서, 상온에서 6시간, 질소 치환하였다. 그 후, 질소를 유입시키면서, 교반하면서, 62℃를 3시간 유지하고, 그 후, 75℃에서 2시간 유지하였다. 이에 의해, 중합 반응을 행하고, 실온까지 냉각시켜, 폴리머 용액(각 아크릴 폴리머의 기 폴리머를 포함하는 용액)을 얻었다.The raw materials were mixed in the amount (parts by mass) shown in Table 1 to prepare a mixture. A separable cover, a separating funnel, a thermometer, a nitrogen inlet tube, a Liebig cooler, a vacuum seal, a stir bar, a stirring blade, and a 1 L round bottom separable flask were equipped with the above mixture into an experimental apparatus for polymerization. While stirring, nitrogen substitution was performed at room temperature for 6 hours. Thereafter, while nitrogen was introduced and stirred, the temperature was kept at 62°C for 3 hours, and then maintained at 75°C for 2 hours. Thereby, a polymerization reaction was performed, and it cooled to room temperature, and the polymer solution (a solution containing the base polymer of each acrylic polymer) was obtained.

「제2 합성 단계: 각 아크릴 폴리머의 합성」「2nd Synthesis Step: Synthesis of Each Acrylic Polymer」

얻어진 폴리머 용액(아크릴 폴리머 중간체 함유 용액)에, 중합성 (메트)아크릴레이트 모노머로서, 2-이소시아나토에틸메타크릴레이트(제품명 「카렌즈 MOI」쇼와 덴코사제), 및 디라우르산 디부틸 주석 Ⅳ(와코 준야쿠 고교사제)를 표 1에 나타내는 양으로 첨가하고, 공기 분위기하에서, 50℃에서 24시간 교반하였다.To the obtained polymer solution (solution containing an acrylic polymer intermediate), as a polymerizable (meth)acrylate monomer, 2-isocyanatoethyl methacrylate (product name "Carenz MOI" manufactured by Showa Denko), and dibutyl dilaurate Tin IV (manufactured by Wako Junyaku Kogyo Co., Ltd.) was added in the amount shown in Table 1, and stirred at 50°C for 24 hours in an air atmosphere.

「점착제층용 조성물의 조제」"Preparation of composition for adhesive layer"

아크릴 폴리머의 고형분 100질량부에 대해서, 표 5에 나타내는 양의 이소시아네이트 화합물[코로네이트 L] 및 광중합 개시제(Omnirad 127)를 혼합하였다. 희석 용제로서의 아세트산 에틸을 첨가하여, 고형분의 함유율이 20질량%로 되도록 점착제층용 조성물을 조제하였다.An isocyanate compound [Coronate L] and a photoinitiator (Omnirad 127) in the amounts shown in Table 5 were mixed with respect to 100 parts by mass of the solid content of the acrylic polymer. Ethyl acetate as a diluting solvent was added, and the composition for an adhesive layer was prepared so that the content rate of solid content might become 20 mass %.

「점착제층의 제작」"Production of adhesive layer"

박리 시트로서, PET계 필름(제품명 「다이아호일 MRF38」미츠비시 케미컬사제)을 준비하였다. 이 필름의 편면에는, 이형 처리가 실시되어 있다. 이형 처리가 실시된 박리 시트의 면에, 상기와 같이 조제한 점착제층용 조성물을 도포하였다. 도포한 조성물에 대해서 박리 시트 위에서 120℃ 3분간의 건조 처리를 행하고, 두께 10㎛의 점착제층을 제작하였다.As a release sheet, a PET film (product name "Diafoil MRF38" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was prepared. One side of this film is subjected to a mold release treatment. The composition for a pressure-sensitive adhesive layer prepared as described above was applied to the surface of the release sheet subjected to the release treatment. The applied composition was dried on a release sheet at 120° C. for 3 minutes to prepare a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 10 μm.

「다이싱 테이프의 제조」"Manufacture of dicing tape"

점착제층과 박리 시트가 겹친 상태에서, 점착제층을 기재층(EVA 필름)의 코로나 처리면에, 기포가 들어가지 않도록 접합하였다. 50℃에서 48시간의 건조 처리를 행하고, 다이싱 테이프를 제조하였다.In the state where the pressure-sensitive adhesive layer and the release sheet overlapped, the pressure-sensitive adhesive layer was bonded to the corona-treated surface of the base layer (EVA film) so that no air bubbles would enter. It dried at 50 degreeC for 48 hours, and the dicing tape was manufactured.

<다이싱 다이 본드 필름의 제조><Production of dicing die bond film>

·다이 본드층의 제작・Production of die bond layer

하기의 원료를 사용하여 다이 본드층을 이하와 같이 하여 제작하였다(실시예 및 비교예에 있어서 동일한 것을 사용)A die-bonding layer was prepared as follows using the following raw materials (the same ones were used in Examples and Comparative Examples)

아크릴 수지: 100질량부Acrylic resin: 100 parts by mass

(제품명 「테이산 레진 SG-P3」, 나가세 켐텍스사제) 유리 전이 온도 12℃ 에폭시기 함유),(Product name "Teisan Resin SG-P3", manufactured by Nagase Chemtex) Glass transition temperature 12°C containing epoxy group),

에폭시 수지: 46질량부Epoxy resin: 46 parts by mass

(제품명 「JER1001」, 미츠비시 가가쿠사제) 비스페놀 A형 에폭시 수지,(Product name "JER1001", manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) Bisphenol A type epoxy resin,

페놀 수지: 51질량부Phenolic resin: 51 parts by mass

(제품명 「MEH-7851ss」, 메이와 가세이사제) 비페닐 노볼락 수지,(Product name "MEH-7851ss", manufactured by Meiwa Kasei) Biphenyl novolac resin,

구형 실리카: 191질량부Spherical silica: 191 parts by mass

(제품명 「SO-25R」, 애드마텍스사제),(Product name ``SO-25R'', manufactured by Admatex),

경화 촉매: 0.6질량부Curing catalyst: 0.6 parts by mass

(제품명 「큐어졸 2PHZ」, 시코쿠 가세이 고교사제)(Product name "Curesol 2PHZ", manufactured by Kasei Shikoku High School)

상기 원료와, 메틸에틸케톤을 혼합하여, 고형분 농도 20질량%의 수지 조성물을 조제하였다. 이 수지 조성물을, 박리 시트(PET 두께 50㎛)의 한쪽 면에 도포하였다. 또한, 도포한 면에는, 미리 실리콘 처리를 실시하였다. 130℃에서 2분간 가열하여 용매를 휘발시키고, 두께 10㎛의 다이 본드층을 제작하였다.The above raw materials and methyl ethyl ketone were mixed to prepare a resin composition having a solid content concentration of 20% by mass. This resin composition was applied to one side of a release sheet (PET thickness of 50 µm). Further, the coated surface was previously subjected to silicone treatment. The solvent was volatilized by heating at 130° C. for 2 minutes, and a die-bonding layer having a thickness of 10 μm was prepared.

·다이 본드층과 다이싱 테이프의 접합Bonding of die-bonding layer and dicing tape

박리 시트에 겹친 상태의 다이 본드층과, 다이싱 테이프의 박리 시트를 박리한 후의 점착제층을, 기포가 들어가지 않도록 접합하였다. 다이 본드층은, 웨이퍼의 접합 예정 위치에 배치되고, 또한 웨이퍼 사이즈보다도 직경이 5㎜ 큰 사이즈였다. 라미네이터를 사용하여 접합을 행하고, 서로 접합된 점착제층 및 다이 본드층이, 기재층과 박리 시트 사이에 배치된 상태의 다이싱 다이 본드 필름을 제조하였다.The die-bonding layer in the state of being superposed on the release sheet and the pressure-sensitive adhesive layer after the release sheet of the dicing tape was peeled were bonded to each other so that air bubbles did not enter. The die-bonding layer was disposed at a position where the wafer was to be bonded, and had a diameter 5 mm larger than the wafer size. Bonding was performed using a laminator, and a dicing die-bonding film in a state in which the adhesive layer and the die-bonding layer bonded to each other were disposed between the base layer and the release sheet was produced.

이와 같은 상태에서, 온도 18 내지 25℃, 습도 40 내지 60%, 차광 조건하에서 24시간 방치한 것을 시험용 샘플로서 사용하였다.In such a state, what was left for 24 hours under conditions of temperature 18 to 25°C, humidity 40 to 60%, and light-shielding was used as a test sample.

(실시예 2 내지 15)(Examples 2 to 15)

표 1 내지 표 3 및 표 5에 나타내는 배합 조성에 의해, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 다이싱 테이프 및 다이싱 다이 본드 필름을 제조하였다.A dicing tape and a dicing die-bonding film were produced in the same manner as in Example 1 by the compounding composition shown in Tables 1 to 3 and Table 5.

(비교예 1 내지 8)(Comparative Examples 1 to 8)

표 4 및 표 5에 나타내는 배합 조성에 의해, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 다이싱 테이프 및 다이싱 다이 본드 필름을 제조하였다.Dicing tapes and dicing die-bonding films were produced in the same manner as in Example 1 by the blending compositions shown in Tables 4 and 5.

실시예 및 비교예의 다이싱 테이프 및 다이싱 다이 본드 필름을 제조하기 위한 배합 조성을 표 1 내지 표 5에 나타낸다.Formulation compositions for producing the dicing tapes and dicing die-bonding films of Examples and Comparative Examples are shown in Tables 1 to 5.

Figure pat00001
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Figure pat00002
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Figure pat00003
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Figure pat00004
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<활성 에너지선(자외선) 조사 전의 다이 본드층-점착제층 간의 박리 강도 측정><Measurement of peel strength between die bond layer and adhesive layer before irradiation with active energy ray (ultraviolet)>

다이 본드층(DAF)과 점착제층이 접합되어 있는 부분을, 150㎜×20㎜ 사이즈로 잘라냈다. 박리 시트를 취한 후의 다이 본드층을, 핸드 롤러를 사용하여 SUS304BA판에 첩부하였다. 이때, SUS304BA판은, 80℃로 가열된 핫 플레이트 위에 올려놓았다. 첩부 시에, 다이 본드층과 SUS판 사이에 기포가 들어가지 않도록 하였다.The portion where the die-bonding layer (DAF) and the pressure-sensitive adhesive layer were bonded was cut out to a size of 150 mm x 20 mm. The die bond layer after taking the release sheet was affixed to the SUS304BA plate using a hand roller. At this time, the SUS304BA plate was placed on a hot plate heated to 80°C. At the time of affixing, air bubbles were not allowed to enter between the die-bonding layer and the SUS plate.

그 후, 온도 23℃, 습도 50%의 환경에서 3시간 방치하고, 온도를 일정화시켰다. 텐실론형 인장 시험기(시마즈 세이사쿠쇼사제, AGS-J)에 의해, 박리 강도(점착제층으로부터 다이 본드층을 박리했을 때의 강도)를 측정하였다. 박리 조건은, 박리 속도 30㎜/분, 박리 각도 90도, 온도 23℃, 습도 50%였다. 측정을 3회 실시하고, 그 평균값을 박리 강도의 값으로 하였다.After that, it was allowed to stand for 3 hours in an environment at a temperature of 23°C and a humidity of 50%, and the temperature was kept constant. Peel strength (strength when the die-bonding layer was peeled from the adhesive layer) was measured with a Tensilon type tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, AGS-J). Peeling conditions were a peeling rate of 30 mm/min, a peeling angle of 90 degrees, a temperature of 23°C, and a humidity of 50%. The measurement was performed three times, and the average value was taken as the value of the peel strength.

<활성 에너지선(자외선) 조사 후의 다이 본드층-점착제층 간의 박리 강도 측정><Measurement of peel strength between die bond layer and adhesive layer after irradiation with active energy ray (ultraviolet)>

상기와 마찬가지로 하여, 온도 23℃, 습도 50%의 환경에서 3시간 방치한 후, 하기의 「자외선 조사 조건」에서, 기재층측(필름의 배면측)으로부터 UV를 조사하였다. 또한, 온도 23℃, 습도 50%의 환경에서 3시간 방치하고, 온도를 일정화시켰다.In the same manner as described above, after allowing to stand for 3 hours in an environment at a temperature of 23°C and a humidity of 50%, UV was irradiated from the substrate layer side (the back side of the film) under the following "ultraviolet irradiation conditions". Further, it was allowed to stand for 3 hours in an environment at a temperature of 23°C and a humidity of 50%, and the temperature was kept constant.

텐실론형 인장 시험기(시마즈 세이사쿠쇼사제, AGS-J)에 의해, 박리 강도(점착제층으로부터 다이 본드층을 박리했을 때의 강도)를 측정하였다. 박리 조건은, 박리 속도 100㎜/분, 박리 각도 90도, 온도 23℃, 습도 50%였다. 측정을 3회 실시하고, 그 평균값을 박리 강도의 값으로 하였다.Peel strength (strength when the die-bonding layer was peeled from the adhesive layer) was measured with a Tensilon type tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, AGS-J). Peeling conditions were 100 mm/min of peeling rate, 90 degree|time of peeling angle, 23 degreeC of temperature, and 50% of humidity. The measurement was performed three times, and the average value was taken as the value of the peel strength.

<자외선 조사 후의 점착제층의 인장 탄성률 측정><Measurement of the tensile modulus of the pressure-sensitive adhesive layer after irradiation with ultraviolet rays>

한 쌍의 PET성 박리 시트의 사이에 점착제층(두께 20㎛)을 제작하였다. 하기의 「자외선 조사 조건」에서, 점착제층에 자외선을 조사하였다. 자외선 조사 후의 점착제층을 10㎜×30㎜의 사이즈로 커트하여, 이것을 평가 샘플로 하였다.A pressure-sensitive adhesive layer (20 µm in thickness) was produced between a pair of PET release sheets. In the following "ultraviolet irradiation conditions", the pressure-sensitive adhesive layer was irradiated with ultraviolet rays. The pressure-sensitive adhesive layer after ultraviolet irradiation was cut to a size of 10 mm x 30 mm, and this was used as an evaluation sample.

인장 시험기(ORIENTEC사제, 제품명 「RTC-1150A」)를 사용하여, 평가 샘플의 인장 탄성률을 측정하였다. 상세하게는, 측정 온도 22℃, 척간 거리 10㎜, 속도 10㎜/분의 조건하에서, SS 커브를 측정하고, SS 커브의 상승으로부터 초기 탄성률을 구하였다. 이 값을 자외선 조사 후의 점착제층의 인장 탄성률로 하였다. 측정을 5회 실시하고, 그 평균값을 자외선 조사 후의 점착제층의 인장 탄성률로 하였다.Using a tensile tester (manufactured by ORIENTEC, product name "RTC-1150A"), the tensile modulus of the evaluation sample was measured. Specifically, under conditions of a measurement temperature of 22°C, a chuck distance of 10 mm, and a speed of 10 mm/min, the SS curve was measured, and the initial elastic modulus was obtained from the rise of the SS curve. This value was taken as the tensile modulus of the pressure-sensitive adhesive layer after UV irradiation. The measurement was performed 5 times, and the average value was taken as the tensile modulus of the pressure-sensitive adhesive layer after UV irradiation.

「자외선 조사 조건」"Ultraviolet irradiation conditions"

자외선 조사 장치: 제품명-UM810(닛토세이키사제)Ultraviolet irradiation device: Product name-UM810 (manufactured by Nitto Seiki)

광원: 고압 수은등Light source: high pressure mercury lamp

조사 강도: 50㎽/㎠(측정 기기: 우시오사제 「자외선 조도계 UT-101」)Irradiation intensity: 50mW/cm2 (Measurement device: "Ultraviolet irradiance meter UT-101" manufactured by Ushio)

조사 시간: 6초Irradiation time: 6 seconds

적산 광량: 300mJ/㎠Accumulated light quantity: 300mJ/㎠

<픽업 시험 방법><Pickup test method>

12인치의 베어 웨이퍼(두께 740㎛)에 다이싱 테이프(닛토덴코사제 에렙마운트 DU-300) 및 다이싱 링을 접합하고, 다이싱 쏘 장치 DFD6361(DISCO사제)을 사용하여, 표면으로부터의 깊이가 100㎛, 폭이 30㎛인 홈을 형성하도록, 10㎜×10㎜ 사이즈로 하프컷 다이싱을 행하였다. 하프컷 다이싱 후에, 상기 다이싱 테이프의 배면측으로부터 자외선을 조사하여, 홈을 형성한 웨이퍼를 회수하였다.A dicing tape (Erepmount DU-300 manufactured by Nitto Denko Corporation) and a dicing ring are bonded to a 12-inch bare wafer (740 μm in thickness), and a dicing saw device DFD6361 (manufactured by DISCO) is used to reduce the depth from the surface. Half-cut dicing was performed in a size of 10 mm x 10 mm so as to form a groove having a width of 100 µm and a width of 30 µm. After half-cut dicing, ultraviolet rays were irradiated from the back side of the dicing tape, and the wafer with grooves was recovered.

그 후, 홈을 형성한 웨이퍼 표면에, 백그라인드 테이프(표면 보호용 점착 필름 닛토덴코사제 에렙마운트 UB-3083D)를 접합하고, 그라인더 폴리셔 장치 DGP8760(DISCO사제)을 사용하여, 30㎛ 두께가 되도록 연삭하여, 소편화된 얇은 웨이퍼를 얻었다.Thereafter, a backgrind tape (surface protection adhesive film Nitto Denko Erepmount UB-3083D) was bonded to the grooved wafer surface, and a grinder polisher DGP8760 (manufactured by DISCO) was used to obtain a thickness of 30 μm. By grinding, a thin wafer into small pieces was obtained.

다이싱 다이 본드 필름에, 소편화된 얇은 웨이퍼 및 다이싱 링을 접합하고, 백그라인드 테이프의 배면측으로부터 자외선을 조사하여 점착제를 경화시켜, 백그라인드 테이프를, 웨이퍼로부터 박리해서 제거하였다. 이어서, 다이 세퍼레이터 DDS2300(DISCO사제)을 사용하여, 웨이퍼 및 다이 본드층의 할단 및 다이싱 테이프의 열수축을 행함으로써 할단 샘플을 얻었다. 구체적으로는, 우선 쿨 익스팬더 유닛으로, 익스팬드 온도: -15℃, 익스팬드 속도: 200㎜/초, 익스팬드양: 12㎜의 조건에서 반도체 웨이퍼를 할단하였다.A thin wafer and a dicing ring were bonded to a dicing die-bonding film, irradiated with ultraviolet rays from the back side of the backgrind tape to cure the adhesive, and the backgrind tape was peeled off from the wafer and removed. Subsequently, a cut sample was obtained by performing slicing of the wafer and the die-bonding layer and thermal contraction of the dicing tape using a die separator DDS2300 (manufactured by DISCO). Specifically, first, a semiconductor wafer was cut with a cool expander unit under conditions of an expand temperature: -15°C, an expand speed: 200 mm/sec, and an expand amount: 12 mm.

그 후, 실온하에 있어서, 익스팬드 속도 1㎜/초, 익스팬드양 7㎜의 조건에서, 상온 익스팬드를 행하였다. 그리고, 익스팬드 상태를 유지한 채, 히트 온도 200℃, 풍량 40L/분, 히트 거리 20㎜, 로테이션 스피드 5°/초의 조건에 있어서, 반도체 칩의 외주 부분에 있어서의 다이싱 테이프를 열수축시켰다.Then, under room temperature, room temperature expansion was performed under conditions of an expand speed of 1 mm/sec and an expand amount of 7 mm. Then, while maintaining the expanded state, the dicing tape in the outer peripheral portion of the semiconductor chip was heat-shrunk under conditions of a heat temperature of 200°C, an air volume of 40 L/min, a heat distance of 20 mm, and a rotation speed of 5°/sec.

다이 본더 SPA-300(신카와사제)을 사용하여, 이하의 조건에서 픽업을 행하였다. 400㎛ 이하의 픽업 하이트로 픽업 성공률이 90% 이상인 경우를 ○, 픽업 성공률이 90% 미만인 경우를 ×로 하여 평가를 행하였다.Pickup was performed under the following conditions using die bonder SPA-300 (manufactured by Shinkawa). When the pickup success rate was 90% or more at a pickup height of 400 µm or less, evaluation was performed by setting it as ◯, and a case where the pickup success rate is less than 90% as x.

「픽업 조건」「Pick-up conditions」

핀 수: 5Pin Count: 5

밀어올림 속도: 1㎜/초Pushing speed: 1mm/sec

픽업 하이트: 200 내지 1000㎛Pickup height: 200 to 1000 μm

픽업 평가 수: 50Pickup Ratings: 50

<에지 필 시험(다이 본드층-점착제층 간)><Edge peel test (between die bond layer and adhesive layer)>

12인치의 베어 웨이퍼(두께 740㎛)에 다이싱 테이프(닛토덴코사제 에렙마운트 DU-300) 및 다이싱 링을 접합하고, 다이싱 쏘 장치 DFD6361(DISCO사제)을 사용하여, 표면으로부터의 깊이가 100㎛, 폭이 30㎛의 홈을 형성하도록, 12㎜×12㎜ 사이즈로 하프컷 다이싱을 행하였다.A dicing tape (Erepmount DU-300 manufactured by Nitto Denko Corporation) and a dicing ring are bonded to a 12-inch bare wafer (740 μm in thickness), and a dicing saw device DFD6361 (manufactured by DISCO) is used to reduce the depth from the surface. Half-cut dicing was performed in a size of 12 mm x 12 mm so as to form a groove having a width of 100 µm and a width of 30 µm.

그 후, 홈을 형성한 웨이퍼 표면에, 백그라인드 테이프(표면 보호용 점착 필름 닛토덴코사제 에렙마운트 UB-3083D)를 접합하고, 그라인더 폴리셔 장치 DGP8760(DISCO사제)을 사용하여, 30㎛ 두께가 되도록 연삭해서 얇은 웨이퍼를 얻었다.Thereafter, a backgrind tape (surface protection adhesive film Nitto Denko Erepmount UB-3083D) was bonded to the grooved wafer surface, and a grinder polisher DGP8760 (manufactured by DISCO) was used to obtain a thickness of 30 μm. A thin wafer was obtained by grinding.

다이싱 다이 본드 필름에, 소편화된 얇은 웨이퍼 및 다이싱 링을 접합하고, 백그라인드 테이프의 배면측으로부터 자외선을 조사하여 점착제를 경화시키고, 백그라인드 테이프를 웨이퍼로부터 박리하여, 제거하였다. 이어서, 다이 세퍼레이터 DDS2300(DISCO사제)을 사용하여, 웨이퍼 및 다이 본드층의 할단 및 다이싱 테이프의 열수축을 행함으로써 할단 샘플을 얻었다. 구체적으로는, 우선 쿨 익스팬더 유닛으로, 익스팬드 온도: -15℃, 익스팬드 속도: 200㎜/초, 익스팬드양: 12㎜의 조건에서 반도체 웨이퍼를 할단하였다.A thin wafer and a dicing ring were bonded to the dicing die-bonding film, irradiated with ultraviolet rays from the back side of the backgrind tape to cure the adhesive, and the backgrind tape was peeled off from the wafer and removed. Subsequently, a cut sample was obtained by performing slicing of the wafer and the die-bonding layer and thermal contraction of the dicing tape using a die separator DDS2300 (manufactured by DISCO). Specifically, first, a semiconductor wafer was cut with a cool expander unit under conditions of an expand temperature: -15°C, an expand speed: 200 mm/sec, and an expand amount: 12 mm.

그 후, 실온하에 있어서, 익스팬드 속도 1㎜/초, 익스팬드양 7㎜의 조건에서, 상온 익스팬드를 행하였다. 그리고, 익스팬드 상태를 유지한 채, 히트 온도 200℃, 풍량 40L/분, 히트 거리 20㎜, 로테이션 스피드 5°/초의 조건에 있어서, 반도체 칩의 외주 부분에 있어서의 다이싱 테이프를 열수축시켰다.Then, under room temperature, room temperature expansion was performed under conditions of an expand speed of 1 mm/sec and an expand amount of 7 mm. Then, while maintaining the expanded state, the dicing tape in the outer peripheral portion of the semiconductor chip was heat-shrunk under conditions of a heat temperature of 200°C, an air volume of 40 L/min, a heat distance of 20 mm, and a rotation speed of 5°/sec.

측정에 있어서, 연속 5칩분(다이 본드층 [DAF] 부착)을 사용하기 위해서, 측정 시에 사용 예정의 연속 5칩(DAF 부착)에 인접하는 12칩(DAF 부착)을, 다이싱 다이 본드 필름 위에서 손으로 제거하였다. 그리고, 칩(DAF 부착)을 제거한 에어리어에 커터 나이프로 날을 넣고, 22㎜×70㎜ 사이즈의 연속 5칩(DAF 부착)이 탑재된 다이싱 다이본드 필름 샘플을 얻었다.In the measurement, in order to use 5 consecutive chips (with die-bonding layer [DAF]), 12 chips (with DAF) adjacent to the consecutive 5 chips (with DAF) to be used at the time of measurement were taken as a dicing die-bonding film. Removed by hand from above. Then, the blade was put in the area from which the chips (with DAF) were removed with a cutter knife, and a dicing die-bonding film sample having 5 consecutive chips (with DAF) having a size of 22 mm x 70 mm was obtained.

5연속의 칩의 표면(DAF가 없는 면)에, 양면 테이프(제품 No. 5000NS 닛토덴코사제)를 첩부하였다. 이때, 핸드 롤러에 의해, 10㎜ 폭으로 5연속 칩의 1칩째의 단으로부터 5칩째의 단까지 첩부를 행하였다. 또한, 양면 테이프가 칩 표면적 내에 들어가도록 하였다. 즉, 양면 테이프가 칩 표면으로부터 비어져 나오지 않고 첩부되어 있는 상황으로 하였다.A double-sided tape (product No. 5000NS manufactured by Nitto Denko Corporation) was affixed to the surface of the five consecutive chips (the surface without DAF). At this time, the affixing was performed from the 1st chip|tip to the 5th chip|tip of 5 consecutive chips with a width of 10 mm by a hand roller. In addition, the double-sided tape was made to fit within the chip surface area. That is, it was set as the situation where the double-sided tape adhered without protruding from the chip surface.

5연속 칩에 양면 테이프가 첩부된 상태로부터, 양면 테이프에 부속되어 있는 세퍼레이터를 박리하였다. 핸드 롤러를 사용하여, 박리한 면을 SUS304BA판에 첩부하였다. 그 후, 다이싱 다이 본드 필름의 기재층측으로부터 자외선을 조사하였다. 조사 조건은, 상술한 조건과 마찬가지이다.The separator attached to the double-sided tape was peeled off from the state where the double-sided tape was affixed to the five consecutive chips. Using a hand roller, the peeled surface was affixed to the SUS304BA plate. After that, ultraviolet rays were irradiated from the substrate layer side of the dicing die-bonding film. The irradiation conditions are the same as those described above.

자외선 조사 후, SUS판, 테이프, 칩(DAF 부착)을, 온도 23℃, 습도 50%의 환경하에서 3시간 방치하였다.After ultraviolet irradiation, the SUS plate, tape, and chip (with DAF) were left to stand for 3 hours in an environment at a temperature of 23°C and a humidity of 50%.

텐실론형 인장 시험기(시마즈 세이사쿠쇼사제, AGS-J)에 의해, 박리 강도(점착제층으로부터 다이 본드층을 박리했을 때의 강도)를 측정하였다. 박리 조건은, 박리 속도 50㎜/분, 박리 각도 90도, 온도 23℃, 습도 50%였다. 측정을 3회 실시하고, 각각의 측정 시에 얻어진 최대 강도의 평균값을 에지 필 시험에 있어서의 측정값으로 하였다.Peel strength (strength when the die-bonding layer was peeled from the adhesive layer) was measured with a Tensilon type tensile tester (manufactured by Shimadzu Corporation, AGS-J). Peeling conditions were 50 mm/min of peeling speed, 90 degree|time of peeling angle, 23 degreeC temperature, and 50% of humidity. The measurement was performed three times, and the average value of the maximum strength obtained at each measurement was taken as the measured value in the edge peel test.

상기 평가 결과를 표 6 내지 표 9에 나타낸다.The evaluation results are shown in Tables 6 to 9.

Figure pat00006
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Figure pat00007
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Figure pat00008
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Figure pat00009
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상기 평가 결과로부터 파악된 바와 같이, 실시예의 다이싱 다이 본드 필름은, 비교예의 다이싱 다이 본드 필름에 비하여, 양호한 픽업성을 발휘하였다.As understood from the above evaluation results, the dicing die-bonding film of the example exhibited better pick-up properties than the dicing die-bonding film of the comparative example.

본 발명의 다이싱 테이프 및 다이싱 다이 본드 필름은, 예를 들어 반도체 집적 회로를 제조할 때의 보조 용구로서, 적합하게 사용된다.The dicing tape and dicing die-bonding film of the present invention are suitably used, for example, as auxiliary tools when manufacturing a semiconductor integrated circuit.

1: 다이싱 다이 본드 필름
10: 다이 본드층
20: 다이싱 테이프
21: 기재층
22: 점착제층
1: dicing die bond film
10: die bond layer
20: dicing tape
21: base layer
22: adhesive layer

Claims (6)

기재층과, 해당 기재층에 겹친 점착제층을 구비하는 다이싱 테이프이며,
상기 점착제층이 아크릴 폴리머를 포함하고,
상기 아크릴 폴리머는, C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위와, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 포함하며,
상기 아크릴 폴리머는, 상기 C9 내지 C11 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위를, 40mol% 이상 85mol% 이하 포함하는, 다이싱 테이프.
It is a dicing tape provided with a base material layer and an adhesive layer superimposed on the base material layer,
The pressure-sensitive adhesive layer contains an acrylic polymer,
The acrylic polymer includes a structural unit of C9 to C11 alkyl (meth)acrylate and a structural unit of a hydroxyl group-containing (meth)acrylate,
The dicing tape, wherein the acrylic polymer contains 40 mol% or more and 85 mol% or less of the constitutional unit of the C9 to C11 alkyl (meth)acrylate.
제1항에 있어서,
상기 아크릴 폴리머는, 상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를, 1mol% 이상 30mol% 이하 포함하는, 다이싱 테이프.
The method of claim 1,
The dicing tape, wherein the acrylic polymer contains 1 mol% or more and 30 mol% or less of the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate.
제2항에 있어서,
상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위는, 수산기 함유 C2 내지 C4 알킬(메트)아크릴레이트의 구성 단위인, 다이싱 테이프.
The method of claim 2,
A dicing tape, wherein the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate is a structural unit of a hydroxyl group-containing C2 to C4 alkyl (meth)acrylate.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 아크릴 폴리머는, 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위를 더 갖는, 다이싱 테이프.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The dicing tape, wherein the acrylic polymer further has a structural unit of a polymerizable group-containing (meth)acrylate.
제4항에 있어서,
상기 아크릴 폴리머는, 상기 수산기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (B) 및 상기 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)에 대해서, 상기 중합성기 함유 (메트)아크릴레이트의 구성 단위 (C)를, 몰비[C/(B+C)]로, 0.50 이상 0.95 이하 포함하는, 다이싱 테이프.
The method of claim 4,
The acrylic polymer is a structural unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate with respect to the structural unit (B) of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate and the structural unit (C) of the polymerizable group-containing (meth)acrylate A dicing tape containing (C) in a molar ratio [C/(B+C)] of 0.50 or more and 0.95 or less.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 다이싱 테이프와, 해당 다이싱 테이프의 상기 점착제층에 적층된 다이 본드층을 구비하는, 다이싱 다이 본드 필름.A dicing die-bonding film comprising the dicing tape according to any one of claims 1 to 3, and a die bonding layer laminated on the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing tape.
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