KR20200132272A - Pull-push device, gate valve and vacuum processing apparatus using it - Google Patents

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KR20200132272A
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Abstract

According to the present invention, a pull-push device and a gate valve and vacuum processing device using the same may improve the driving stability by simplifying the arrangement and a shape of a vent line to be formed in the pull-push device and the gate valve since a vent hole is formed at a support shaft and improve the processing and assembly of the pull-push device by integrally forming the support shaft with a driving unit. In addition, the operation stability and durability of the gate valve having the pull-push device ca be improved.

Description

풀푸쉬 장치 및 이를 이용한 게이트 밸브와 진공처리장치{PULL-PUSH DEVICE, GATE VALVE AND VACUUM PROCESSING APPARATUS USING IT}Pull-push device and gate valve and vacuum processing device using the same {PULL-PUSH DEVICE, GATE VALVE AND VACUUM PROCESSING APPARATUS USING IT}

본 발명은 풀푸쉬 장치 및 이를 이용한 게이트 밸브와 진공처리장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는 풀푸쉬 동작시 벤트 동작이 이루어지는 풀푸쉬 장치 및 이를 이용한 게이트 밸브와 진공처리장치에 관한 것이다. The present invention relates to a pull-push device, a gate valve and a vacuum processing device using the same, and more particularly, to a pull-push device in which a vent operation is performed during a pull-push operation, and a gate valve and a vacuum processing device using the same.

진공처리장치는 반도체 또는 디스플레이 제조공정에서 박막 형성을 위하여 많이 사용되고, 그 외에 진공 상태에서 특별한 공정이나 작업을 수행하기 위한 다양한 장치에서 사용될 수 있다.The vacuum processing apparatus is widely used for forming a thin film in a semiconductor or display manufacturing process, and may be used in various apparatuses for performing a special process or operation in a vacuum state.

이러한 진공처리장치는 진공에서 공정이나 작업이 진행되는 공간(이하에서는 "챔버"라고 하기로 한다.)과 외부가 연결된 출입구를 구비하고, 이 출입구를 열거나 닫기 위한 게이트 밸브를 구비한다. 이 게이트 밸브는 챔버 내부가 진공상태를 유지할 수 있도록 출입구를 실링할 수 있는 실링 플레이트를 포함한다. Such a vacuum processing apparatus includes a space (hereinafter referred to as a "chamber") in which a process or operation is performed in a vacuum, and an entrance to which the outside is connected, and a gate valve for opening or closing the entrance. The gate valve includes a sealing plate capable of sealing the entrance and exit to maintain a vacuum state inside the chamber.

게이트 밸브는 출입구를 개폐하는 실링 플레이트를 전후진 동작시키는 풀푸쉬 장치를 포함한다. 풀푸쉬 장치는 공기압으로 실링 플레이트를 전진시키도록 구성된다. 이 전진 동작시 풀푸쉬 장치의 내부 공간에 채워져 있는 기체가 벤트되어야 전진 동작이 효과적으로 이루어지기 때문에 풀푸쉬 장치에는 벤트 구조가 형성된다. The gate valve includes a pull-push device that moves the sealing plate to open and close the entrance. The pull push device is configured to advance the sealing plate with pneumatic pressure. In this forward operation, a vent structure is formed in the pull push device because the forward operation is effectively performed only when the gas filled in the inner space of the pull push device is vented.

대한민국공개특허 제 10-2011-0004047호 " 풀-푸쉬 어세이"에서는 벤트라인을 개시하고 있다. 상기 선행특허에서는 고정 브라켓의 측벽을 관통하는 벤트 통로가 형성된 것을 설명하고 있다. Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2011-0004047 "Pull-Push Assay" discloses a vent line. The prior patent describes that a vent passage through the sidewall of the fixing bracket is formed.

선행특허에서는 이 벤트 통로를 통해서 이동홈 내부의 기체가 외부로 배출될 수 있도록 하고 있다고 설명하고 있다. 그런데 상기 선행특허에서 벤트 통로는 고정 브라켓의 측벽에 형성되어 있다. 따라서 이동홈 내부의 기체의 벤트가 위치에 따라 고르게 이루어지지 않는다. In the prior patent, it is described that the gas inside the moving groove can be discharged to the outside through the event passage. However, in the prior patent, the vent passage is formed on the side wall of the fixing bracket. Therefore, the vent of the gas inside the moving groove is not made evenly depending on the location.

즉, 선행특허에서는 이동홈 내부의 기체가 좌측부분에서는 신속하게 배출되지만 우측부분에서는 상대적으로 배출이 지체되며 이에 따라 좌측과 우측 사이에 압력차가 발생할 수 있고, 이에 따라 구동체가 균일하게 푸쉬 동작을 하지 못하게 되거나 또는 구동체가 회전하게 되어 내부 구성부품이 손상될 수 있는 문제가 있다. That is, in the prior patent, the gas inside the moving groove is rapidly discharged from the left part, but the discharge is relatively delayed in the right part, and accordingly, a pressure difference may occur between the left and the right, and accordingly, the driving body does not uniformly push. There is a problem that the internal components may be damaged due to failure or rotation of the driving body.

대한민국공개특허 제 10-2011-0004047호 " 풀-푸쉬 어세이"Korean Patent Laid-Open Patent No. 10-2011-0004047 "Pull-Push Assay"

본 발명은 전술한 문제점을 해결하기 위한 것으로 본 발명은 풀푸쉬 장치와 게이트 밸브에 형성할 벤트라인의 배치 및 형상을 단순하게 하여 구동 안정성을 향상시키고, 지지축을 구동부에 일체로 형성하여 풀푸쉬 장치의 가공 및 조립성을 향상시키도록 한 풀푸쉬 장치 및 이를 이용한 게이트 밸브와 진공처리장치를 제공하기 위한 것이다. The present invention is to solve the above-described problem. The present invention improves driving stability by simplifying the arrangement and shape of a vent line to be formed in a pull push device and a gate valve, and a pull push device by integrally forming a support shaft in the driving part. It is to provide a pull-push device and a gate valve and a vacuum processing device using the same to improve the processing and assembly of the device.

본 발명에 따른 풀푸쉬 장치는 하우징, 일단이 상기 하우징을 관통하고, 타단이 상기 하우징 내부 공간에 위치하여 외부에서 제공되는 압력으로 푸쉬 동작하는 구동부, 상기 구동부에 구비되어 상기 구동부와 함께 상기 하우징에 형성된 지지홀에 삽입되어 구동하며 상기 지지홀과 상기 하우징 내부를 서로 연통시키는 벤트홀이 형성된 적어도 하나 이상의 지지축, 상기 지지홀에 연통되며 상기 하우징의 내부가 상기 벤트홀과 상기 지지홀을 통하여 상기 하우징의 외부와 연통되도록 하는 벤트라인을 포함한다.The pull-push device according to the present invention includes a housing, a driving unit having one end penetrating the housing, and the other end being located in the interior space of the housing and performing a push operation with a pressure provided from the outside, and provided in the driving unit to the housing together with the driving unit. At least one support shaft, which is inserted into and driven into the formed support hole, and has a vent hole communicating with the support hole and the inside of the housing, communicates with the support hole, and the inside of the housing is connected to the vent hole and the support hole. It includes a vent line to communicate with the outside of the housing.

상기 구동부의 외주에는 일단이 상기 하우징 내부에 지지되고 타단이 상기 구동부에 지지된 스프링을 포함할 수 있다.An outer circumference of the driving unit may include a spring having one end supported inside the housing and the other end supported by the driving unit.

상기 벤트홀과 상기 지지축은 제 1벤트홀이 형성된 제 1지지축과 제 2벤트홀이 형성된 제 2지지축을 포함하고, 상기 지지홀은 상기 제 1지지축이 삽입되는 제 1지지홀과 상기 제 2지지축이 삽입되는 제 2지지홀을 포함할 수 있다.The vent hole and the support shaft include a first support shaft with a first vent hole and a second support shaft with a second vent hole, and the support hole includes a first support hole and the first support shaft into which the first support shaft is inserted. It may include a second support hole into which the two support shafts are inserted.

상기 구동부는 외부 압력이 가해지는 구동부 몸체와 상기 구동부 몸체에서 연장되어 상기 하우징을 관통하는 구동축을 포함하고, 상기 구동부 몸체의 외주를 따라 연장된 테두리부에 상기 지지축이 형성될 수 있다.The driving unit may include a driving unit body to which an external pressure is applied and a driving shaft extending from the driving unit body and passing through the housing, and the support shaft may be formed on an edge portion extending along an outer circumference of the driving unit body.

상기 벤트홀은 상기 구동축의 길이 방향으로 관통 형성될 수 있다. The vent hole may be formed through the drive shaft in the longitudinal direction.

본 발명에 따른 게이트 밸브는 기판 출입구가 형성된 케이스, 상기 케이스의 내부에 위치하는 하우징, 일단이 상기 하우징을 관통하고, 타단이 상기 하우징 내부 공간에 위치하여 외부에서 제공되는 압력으로 푸쉬 동작하는 구동부, 상기 구동부에 구비되어 상기 구동부와 함께 상기 하우징에 형성된 지지홀에 삽입되어 구동하며 상기 지지홀과 상기 하우징 내부를 서로 연통시키는 벤트홀이 형성된 적어도 하나 이상의 지지축, 상기 지지홀에 연통되며 상기 하우징의 내부가 상기 벤트홀과 상기 지지홀을 통하여 상기 하우징의 외부와 연통되도록 하는 벤트라인을 포함하는 풀푸쉬 장치, 상기 풀푸쉬 장치에 의하여 전후진 하는 실링 플레이트, 상기 풀푸쉬 장치를 상기 기판 출입구 측으로 이동시키는 구동 액츄에이터를 포함한다. The gate valve according to the present invention includes a case in which a substrate entrance is formed, a housing positioned inside the case, a driving unit having one end penetrating the housing and the other end being positioned in the housing interior space and performing a push operation with a pressure provided from the outside, At least one support shaft provided in the driving unit, inserted into a support hole formed in the housing together with the driving unit and driven, and having a vent hole communicating the support hole and the interior of the housing to each other, and communicating with the support hole A pull push device including a vent line allowing the interior to communicate with the exterior of the housing through the vent hole and the support hole, a sealing plate that moves forward and backward by the pull push device, and moves the pull push device toward the entrance of the substrate It includes a driving actuator to make.

상기 구동부의 외주에는 일단이 상기 하우징 내부에 지지되고 타단이 상기 구동부에 지지된 스프링을 포함할 수 있다.An outer circumference of the driving unit may include a spring having one end supported inside the housing and the other end supported by the driving unit.

상기 벤트홀과 상기 지지축은 제 1벤트홀이 형성된 제 1지지축과 제 2벤트홀이 형성된 제 2지지축을 포함하고, 상기 지지홀은 상기 제 1지지축이 삽입되는 제 1지지홀과 상기 제 2지지축이 삽입되는 제 2지지홀을 포함할 수 있다.The vent hole and the support shaft include a first support shaft with a first vent hole and a second support shaft with a second vent hole, and the support hole includes a first support hole and the first support shaft into which the first support shaft is inserted. It may include a second support hole into which the two support shafts are inserted.

상기 구동부는 외부 압력이 가해지는 구동부 몸체와 상기 구동부 몸체에서 연장되어 상기 하우징을 관통하는 구동축을 포함하고, 상기 구동부 몸체의 외주를 따라 연장된 테두리부에 상기 지지축이 형성될 수 있다.The driving unit may include a driving unit body to which an external pressure is applied and a driving shaft extending from the driving unit body and passing through the housing, and the support shaft may be formed on an edge portion extending along an outer circumference of the driving unit body.

상기 벤트홀은 상기 구동축의 길이 방향으로 관통 형성될 수 있다.The vent hole may be formed through the drive shaft in the longitudinal direction.

본 발명에 따른 진공처리장치는 기판이 출입하는 기판 출입구가 형성된 챔버; 상기 챔버의 상기 기판 출입구의 외측에 설치되며 상기 기판 출입구와 연통하는 게이트가 형성된 케이스와, 상기 케이스의 내부에 위치하는 하우징과, 일단이 상기 하우징을 관통하고, 타단이 상기 하우징 내부 공간에 위치하여 외부에서 제공되는 압력으로 푸쉬 동작하는 구동부와, 상기 구동부에 구비되어 상기 구동부와 함께 상기 하우징에 형성된 지지홀에 삽입되어 구동하며 상기 지지홀과 상기 하우징 내부를 서로 연통시키는 벤트홀이 형성된 적어도 하나 이상의 지지축과, 상기 지지홀에 연통되며 상기 하우징의 내부가 상기 벤트홀과 상기 지지홀을 통하여 상기 하우징의 외부와 연통되도록 하는 벤트라인을 포함하는 풀푸쉬 장치와, 상기 풀푸쉬 장치에 의하여 전후진 하는 실링 플레이트, 상기 풀푸쉬 장치를 상기 기판 출입구 측으로 이동시키는 구동 액츄에이터를 포함하는 게이트 밸브를 구비한다.The vacuum processing apparatus according to the present invention includes: a chamber having a substrate entrance through which a substrate enters and exits; A case installed outside the substrate entrance of the chamber and formed with a gate communicating with the substrate entrance, a housing located inside the case, one end passing through the housing, and the other end located in the interior space of the housing. At least one drive unit that performs a push operation with a pressure provided from the outside, and a vent hole provided in the driving unit and inserted into a support hole formed in the housing together with the driving unit to drive the support hole and the inside of the housing to communicate with each other. A pull push device including a support shaft and a vent line communicating with the support hole and allowing the inside of the housing to communicate with the outside of the housing through the vent hole and the support hole, and moving forward and backward by the pull push device And a gate valve including a sealing plate and a driving actuator for moving the pull-push device toward the entrance and exit of the substrate.

상기 구동부의 외주에는 일단이 상기 하우징 내부에 지지되고 타단이 상기 구동부에 지지된 스프링을 포함할 수 있다.An outer circumference of the driving unit may include a spring having one end supported inside the housing and the other end supported by the driving unit.

상기 벤트홀과 상기 지지축은 제 1벤트홀이 형성된 제 1지지축과 제 2벤트홀이 형성된 제 2지지축을 포함하고, 상기 지지홀은 상기 제 1지지축이 삽입되는 제 1지지홀과 상기 제 2지지축이 삽입되는 제 2지지홀을 포함할 수 있다.The vent hole and the support shaft include a first support shaft with a first vent hole and a second support shaft with a second vent hole, and the support hole includes a first support hole and the first support shaft into which the first support shaft is inserted. It may include a second support hole into which the two support shafts are inserted.

상기 구동부는 외부 압력이 가해지는 구동부 몸체와 상기 구동부 몸체에서 연장되어 상기 하우징을 관통하는 구동축을 포함하고, 상기 구동부 몸체의 외주를 따라 연장된 테두리부에 상기 지지축이 형성될 수 있다.The driving unit may include a driving unit body to which an external pressure is applied and a driving shaft extending from the driving unit body and passing through the housing, and the support shaft may be formed on an edge portion extending along an outer circumference of the driving unit body.

상기 벤트홀은 상기 구동축의 길이 방향으로 관통 형성될 수 있다. The vent hole may be formed through the drive shaft in the longitudinal direction.

본 발명에 따른 풀푸쉬 장치는 풀푸쉬 장치의 지지축에 벤트홀이 형성되어 풀푸쉬 장치와 게이트 밸브에 형성할 벤트라인의 배치 및 형상을 단순하게 하여 구동 안정성을 향상할 수 있고, 지지축을 구동부에 일체로 형성하여 풀푸쉬 장치의 가공 및 조립성을 향상시킬 수 있으며, 지지축을 복수개로 형성하여 구동부의 회전을 방지하 벨로우즈와 같은 내부 구성품의 파손을 방지하고, 각각의 지지축에 형성된 벤트홀을 통하여 벤트가 균형있게 이루어지도록 하여 균형있는 동작이 가능하게 하는 효과가 있으며, 이러한 풀푸쉬 장치를 구비하는 게이트 밸브와 진공처리장치의 동작 안정성과 내구성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. In the pull push device according to the present invention, a vent hole is formed in the support shaft of the pull push device, so that the arrangement and shape of the vent line to be formed in the pull push device and the gate valve can be simplified to improve driving stability. It is integrally formed in the pull-push device to improve the processing and assembly properties, and by forming a plurality of support shafts, it prevents the rotation of the driving part to prevent damage to internal components such as bellows, and the vent holes formed in each support shaft. There is an effect of enabling a balanced operation by allowing the vent to be balanced through, and there is an effect of improving the operation stability and durability of a gate valve and a vacuum processing device having such a pull-push device.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 게이트 밸브가 설치된 진공처리장치를 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 게이트 밸브의 단면도와 게이트 밸브의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 게이트 밸브에 구비된 풀푸쉬 장치를 도시한 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 풀푸쉬 장치의 푸쉬 상태를 설명하기 위한 단면도이다.
1 is a view showing a vacuum processing apparatus equipped with a gate valve according to an embodiment of the present invention.
2 is a cross-sectional view of a gate valve and a view for explaining the operation of the gate valve according to an embodiment of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing a pull push device provided in a gate valve according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view for explaining a push state of a pull push device according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 풀푸쉬 장치 및 이를 이용한 게이트 밸브와 진공처리장치에 대한 실시예를 상세하게 설명하기로 한다. 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예에 한정되는 것이 아니라 다양한 형태로 변형 실시될 수 있으며, 단지 이하에서 설명되는 실시예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위하여 제공되는 것이다.Hereinafter, an embodiment of a pull push device according to an embodiment of the present invention and a gate valve and a vacuum processing device using the same will be described in detail. The present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be modified in various forms, and only the embodiments described below make the disclosure of the present invention complete, and the scope of the invention to those of ordinary skill in the art. It is provided to completely inform you.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 게이트 밸브가 설치된 진공처리장치를 도시한 도면이다. 1 is a view showing a vacuum processing apparatus equipped with a gate valve according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이 진공처리장치(10)는 진공상태에서 기판(S)(유리기판, 웨이퍼 또는 그 외의 진공 분위기에서 처리가 이루어지는 다양한 매체들)에 대한 처리를 수행하는 챔버(11)를 구비한다. 챔버(11)에는 챔버(11) 내부의 진공 분위기 조성을 위하여 진공펌프(미도시)가 연결될 수 있다. As shown in FIG. 1, the vacuum processing apparatus 10 includes a chamber 11 for processing a substrate S (glass substrate, wafer, or other various media processed in a vacuum atmosphere) in a vacuum state. Equipped. A vacuum pump (not shown) may be connected to the chamber 11 to create a vacuum atmosphere inside the chamber 11.

챔버(11) 내부에는 기판(S)이 안착되는 기판척(13)과 기판척(13)의 상부에 위치하며 챔버(11) 내부에서 필요한 공정 진행을 위한 기능을 하는 공정 진행장치(14)가 설치된다. 이 공정 진행장치(14)는 플라즈마 발생을 위한 전극일 수도 있고, 공정 가스를 분사하는 샤워헤드일 수 있다. Inside the chamber 11, there is a substrate chuck 13 on which the substrate S is seated and a process progressing device 14 that is located above the substrate chuck 13 and serves to perform necessary processes inside the chamber 11 Installed. The process proceeding device 14 may be an electrode for generating plasma or a showerhead for injecting a process gas.

챔버(11)의 일측에는 공정 처리를 위한 기판(S)이 진출입하는 기판 출입구(12)가 형성된다. 이 기판 출입구(12)를 통하여 챔버(11) 내부와 외부로 기판(S)이 입출한다. 기판 출입구(12)의 외측면에는 기판 출입구(12)를 개폐하기 위한 게이트 밸브(100)가 설치된다. At one side of the chamber 11, a substrate entrance 12 through which the substrate S for process processing enters and exits is formed. The substrate S enters and exits the chamber 11 through the substrate entrance 12. A gate valve 100 for opening and closing the substrate entrance 12 is installed on the outer surface of the substrate entrance 12.

게이트 밸브(100)는 양측방향으로 기판 출입구(12)가 연통하는 게이트 밸브측 출입구(120)가 형성된 케이스(110)와 이 케이스(110)의 내부에 위치하며 기판 출입구(12)와 연통된 게이트 밸브측 출입구(120)을 개폐하는 실링 플레이트(1200)와 실링 플레이트(1200)를 풀푸쉬 동작시키는 풀푸쉬 장치(1000)를 구비한다. 이 게이트 밸브측 출입구(120)와 기판 출입구(12)는 기밀 상태로 결합되어야 한다. 그리고 풀푸쉬 장치(1000)를 상하(또는 좌우)로 구동시키는 축(130)과 구동 액츄에이터(140)를 구비한다.The gate valve 100 is a case 110 in which a gate valve side entrance 120 communicates with the substrate entrance 12 in both directions, and a gate located inside the case 110 and in communication with the substrate entrance 12 A sealing plate 1200 for opening and closing the valve-side entrance 120 and a pull-push device 1000 for pulling the sealing plate 1200 are provided. The gate valve side entrance 120 and the substrate entrance 12 must be coupled in an airtight state. In addition, a shaft 130 and a driving actuator 140 for driving the pull push device 1000 vertically (or left and right) are provided.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 게이트 밸브의 단면도와 게이트 밸브의 동작을 설명하기 위한 도면이다.2 is a cross-sectional view of a gate valve and a view for explaining the operation of the gate valve according to an embodiment of the present invention.

따라서 도 2의 (a)에 도시된 바와 같이 챔버(11) 내부를 외부와 차단하기 위한 동작은 구동 액츄에이터(140)가 풀푸쉬 장치(1000)를 상승시키고, 풀푸쉬 장치(1000)가 실링 플레이트(1200)를 푸쉬 동작으로 전진시켜 게이트 밸브(100)의 케이스(110)에 형성된 게이트 밸브측 출입구(120)와 실링 플레이트(1200)가 기밀 상태로 접하게 함으로써 이루어진다. Therefore, as shown in (a) of FIG. 2, in the operation of blocking the inside of the chamber 11 from the outside, the driving actuator 140 raises the pull push device 1000, and the pull push device 1000 increases the sealing plate. It is achieved by advancing 1200 by a push operation so that the gate valve side entrance 120 formed in the case 110 of the gate valve 100 and the sealing plate 1200 come into contact with each other in an airtight state.

그리고 게이트 밸브측 출입구(120)를 개방하는 동작은 도 2의 (b)에 도시된 바와 같이 풀푸쉬 장치(1000)가 풀 동작으로 실링 플레이트(1200)를 후진시켜 실링 플레이트(1200)와 게이트 밸브측 출입구(120)가 이격되어 게이트 밸브측 출입구(120)가 외부와 연통된 상태가 되도록 함으로써 이루어진다.In the operation of opening the gate valve-side entrance 120, the pull-push device 1000 moves the sealing plate 1200 backward in a pull operation, as shown in FIG. 2(b), so that the sealing plate 1200 and the gate valve It is achieved by allowing the side entrance 120 to be spaced apart so that the gate valve side entrance 120 is in communication with the outside.

또한, 기판(S)의 입출을 위하여 풀푸쉬 장치(1000)가 축(130)과 구동 액츄에이터(140)에 의하여 도 2의 (c)에서와 같이 하강하게 되면 게이트 밸브측 출입구(120)이 완전히 개방되어 외부의 기판반송장치의 블레이드(미도시)가 챔버(11) 내부로 진입 및 진출할 수 있게 된다. In addition, when the pull-push device 1000 is lowered by the shaft 130 and the driving actuator 140 as shown in Fig. 2 (c) for the entrance and exit of the substrate S, the gate valve side entrance 120 is completely It is opened so that a blade (not shown) of an external substrate transfer device can enter and exit the chamber 11.

이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 풀푸쉬 장치에 대하여 보다 구체적으로 설명하기로 한다. Hereinafter, a pull push device according to an embodiment of the present invention will be described in more detail.

도 3은 본 발명의 실시예에 따른 게이트 밸브에 구비된 풀푸쉬 장치를 도시한 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing a pull push device provided in a gate valve according to an embodiment of the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이 본 발명의 실시예에 따른 풀푸쉬 장치(1000)는 대략 원통 형상으로 형성될 수 있는 하우징(1100)을 구비한다. 하우징(1100)은 외관을 형성하며 내부에 구동을 위한 구성요소들이 위치하는 하우징 몸체(1101)와 하우징 몸체(1101)에 결합되어 하우징 몸체(1101) 내부를 외부와 차단시키는 하우징 커버(1102)를 포함한다.As shown in FIG. 3, the pull push device 1000 according to the embodiment of the present invention includes a housing 1100 that can be formed in a substantially cylindrical shape. The housing 1100 forms an exterior and includes a housing body 1101 in which components for driving are located and a housing cover 1102 that is coupled to the housing body 1101 to block the interior of the housing body 1101 from the outside. Include.

하우징 커버(1102) 바닥에는 제 1지지홀(1110)과 제 2지지홀(1120)이 서로 대칭하는 위치에 형성된다. 그리고 제 1지지홀(1110)과 제 2지지홀(1120)의 바닥에는 각각의 지지홀(1110)(1120) 내부로 공기의 입출이 가능하도록 하는 벤트라인(1130)이 연결된다. 이 벤트라인(1130)은 도면에 도시되지 않은 외부의 공기 유통 배관에 연결된다. 그리고 하우징 커버(1102)의 바닥 중앙부분에는 하우징 커버(1102)의 바닥 표면에서 단차지게 형성되어 대략 원형의 홈 형상으로 형성된 가압공간(1140)이 형성된다. 그리고 이 가압공간(1140)에 연통되어 하우징(1100)의 외부로 연장된 가압라인(1150)이 구비된다. The first support hole 1110 and the second support hole 1120 are formed in a position symmetrical to each other on the bottom of the housing cover 1102. In addition, a vent line 1130 is connected to the bottom of the first support hole 1110 and the second support hole 1120 to allow air to enter and exit into the respective support holes 1110 and 1120. This vent line 1130 is connected to an external air circulation pipe not shown in the drawing. In addition, a pressurizing space 1140 formed in a substantially circular groove shape is formed in a central portion of the bottom of the housing cover 1102 to be stepped from the bottom surface of the housing cover 1102. In addition, a pressure line 1150 is provided in communication with the pressure space 1140 and extending to the outside of the housing 1100.

하우징(1100)의 일측에는 전술한 실링 플레이트(1200)가 설치된다. 하우징의 몸체(1101) 내부에는 전술한 실링 플레이트(1200)를 풀푸쉬 구동시키기 위한 구동부(1300)가 구비된다. 구동부(1300)는 구동부 몸체(1310)와 구동축(1320)을 포함한다. 구동축(1320)은 하우징 몸체(1101)를 관통하여 끝단이 실링 플레이트(1200)와 결합된다. 구동부 몸체(1310)는 바닥이 가압공간(1140)을 완전히 덮는 크기로 형성되며, 외주 끝단에는 복수개의 지지축(1330)(1340)이 일체로 형성된다.The sealing plate 1200 described above is installed on one side of the housing 1100. A driving unit 1300 for pull-push driving the above-described sealing plate 1200 is provided inside the body 1101 of the housing. The driving unit 1300 includes a driving unit body 1310 and a driving shaft 1320. The drive shaft 1320 passes through the housing body 1101 and has an end coupled to the sealing plate 1200. The driving unit body 1310 is formed such that the bottom completely covers the pressurizing space 1140, and a plurality of support shafts 1330 and 1340 are integrally formed at the outer peripheral end.

본 발명의 실시예에서는 지지축(1330)(1340)은 제 1지지축(1330)과 제 2지지축(1340) 두 개로 형성된다. 이 제 1지지축(1330)과 제 2지지축(1340)은 서로 대칭된 위치에 각각 형성된다. 다른 실시예로 지지축은 2개 이상 형성될 수 있다. 그리고 각각의 지지축의 간격은 동일한 간격으로 형성될 수 있다.In the embodiment of the present invention, the support shafts 1330 and 1340 are formed of two first support shafts 1330 and 2nd support shaft 1340. The first support shaft 1330 and the second support shaft 1340 are formed at positions symmetrical to each other. In another embodiment, two or more support shafts may be formed. And the spacing of each support shaft may be formed at the same spacing.

제 1지지축(1330)에는 제 1지지축(1330)을 길이 방향으로 관통하는 제 1벤트홀(1331)이 형성되고, 제 2지지축(1340)에는 제 2지지축(1340)을 길이 방향으로 관통하는 제 2벤트홀(1341)이 형성된다. 제 1벤트홀(1331)의 상단은 하우징(1100)의 내부 공간과 연통되고, 하단은 제 1지지홀(1110) 내부와 연통된다. 그리고 제 2벤트홀(1341)의 상단은 하우징(1100)의 내부 공간과 연통되고 하단은 제 2지지홀(1120) 내부와 연통된다. The first support shaft 1330 is formed with a first vent hole 1331 penetrating the first support shaft 1330 in the longitudinal direction, and the second support shaft 1340 is formed in the second support shaft 1340 in the longitudinal direction. A second vent hole 1341 penetrating through is formed. The upper end of the first vent hole 1331 communicates with the inner space of the housing 1100, and the lower end communicates with the inside of the first support hole 1110. In addition, the upper end of the second vent hole 1341 communicates with the inner space of the housing 1100 and the lower end communicates with the inside of the second support hole 1120.

그리고 지지축(1330)(1340)의 외주면 또는 구동부(1300)의 외주면에는 하우징 커버(1102) 내부와 접하는 부분에 실링 및 원활한 마찰 동작을 위한 적어도 하나 이상의 오링(1600)이 설치된다.In addition, at least one O-ring 1600 for sealing and smooth friction is installed at a portion in contact with the inside of the housing cover 1102 on the outer circumferential surface of the support shafts 1330 and 1340 or the outer circumferential surface of the driving unit 1300.

하우징(1100) 내부에는 하우징(1100)내부의 기밀 유지를 위하여 구동부 몸체(1310)에 제 1결합단(1410)이 결합되고, 타단인 제 2결합단(1420)이 하우징(1100)의 구동축(1320)이 관통하는 개구부의 내주에 결합된 벨로우즈(1400)가 설치된다. 따라서 구동축(1320)이 전진하여 외부로 노출되는 동작 중에도 하우징(1100) 내부의 기밀은 유지된다. Inside the housing 1100, the first coupling end 1410 is coupled to the drive body 1310 to keep the inside of the housing 1100 airtight, and the second coupling end 1420, which is the other end, is the drive shaft of the housing 1100 ( The bellows 1400 coupled to the inner periphery of the opening through which the 1320 passes is installed. Therefore, the airtightness of the inside of the housing 1100 is maintained even while the drive shaft 1320 moves forward and is exposed to the outside.

그리고 벨로우즈(1400)의 외측에는 일단이 구동부 몸체(1310)에 지지되고, 타단이 하우징(1100)의 내부에 지지되어 구동부 몸체(1310)가 푸쉬 동작을 수행한 후 가압공간(1140)에 공기압이 제거되면 구동부 몸체(1310)를 원래의 위치로 복원시키기 위한 스프링(1500)이 설치된다. In addition, on the outside of the bellows 1400, one end is supported by the drive body 1310, the other end is supported inside the housing 1100, and the drive body 1310 performs a push operation, and then air pressure in the pressurized space 1140 When removed, a spring 1500 for restoring the drive body 1310 to its original position is installed.

이하에서는 전술한 바와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 따른 풀푸쉬 장치 및 이를 이용한 게이트 밸브와 진공처리장치의 동작에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, an operation of the pull-push device according to an embodiment of the present invention configured as described above, and a gate valve and a vacuum processing device using the same will be described.

도 1을 참조하여 설명하면 본 발명의 실시예에 따른 진공처리장치(10)는 외부에서 기판(S)이 제공되면 기판(S)을 기판척(13)에 척킹하고, 챔버(11) 내부를 진공상태로 만든 후 공정을 진행한다. Referring to FIG. 1, in the vacuum processing apparatus 10 according to an embodiment of the present invention, when a substrate S is provided from the outside, the substrate S is chucked to the substrate chuck 13, and the inside of the chamber 11 is After making it into a vacuum state, the process proceeds.

기판(S)이 챔버(11) 내부로 반입되거나 반출될 때 도 2의 "c"에 도시된 바와 같이 게이트 밸브(100)은 구동액츄에이터(140)에 의하여 풀푸쉬 장치(1000)가 하강한 상태가 된다. 이에 따라 케이스(110)의 게이트 밸브측 출입구(120)와 기판 출입구(12)는 개방된 상태가 되고, 이 게이트 밸브측 출입구(120)와 기판 출입구(12)를 통하여 기판이 반입되거나 또는 반출된다.When the substrate S is carried into or out of the chamber 11, the gate valve 100 is in a state in which the pull push device 1000 is lowered by the driving actuator 140 as shown in "c" of FIG. 2 Becomes. Accordingly, the gate valve side entrance 120 and the substrate entrance 12 of the case 110 are in an open state, and the substrate is carried in or out through the gate valve side entrance 120 and the substrate entrance 12. .

기판(S)이 챔버(11) 내부로 반입되면 챔버(11) 내부를 진공상태로 만들기 위하여 챔버(11) 내부를 외기와 차단시켜야 한다. 이를 위하여 도 2의 "b" 상태로 구동액츄에이터(140)가 풀푸쉬 장치(1000)를 상승시킨다. When the substrate S is carried into the chamber 11, the interior of the chamber 11 must be blocked from outside air in order to make the interior of the chamber 11 into a vacuum state. To this end, the driving actuator 140 raises the pull push device 1000 in the "b" state of FIG. 2.

그리고 풀푸쉬 장치(1000)가 설정된 위치에 놓이게 되면 풀푸쉬 장치(1000)는 도 2의 "a"에 도시된 바와 같이 실링 플레이트(1200)를 전진시킨다. 이때의 풀푸쉬 장치(1000)는 푸쉬 동작은 도 4를 참조하여 설명한다.In addition, when the pull-push device 1000 is placed in the set position, the pull-push device 1000 advances the sealing plate 1200 as shown in "a" of FIG. 2. The push operation of the pull push device 1000 at this time will be described with reference to FIG. 4.

도 4에 도시된 바와 같이 외부의 가압 공기가 가압라인(1150)을 통하여 가압공간(1140)으로 공급되어 소정의 압력이 가압공간(1140)에 제공되고, 이때의 압력이 스프링(1500)의 탄성력을 극복하게 되면, 구동부(1300)은 이때의 압력에 의하여 전진하고, 스프링(1500)은 압축되고, 벨로우즈(1400)는 팽창한다. 그리고 구동축(1320)은 전진하여 실링 플레이트(1200)를 게이트 밸브측 출입구(120) 측으로 밀착시킨다. As shown in FIG. 4, external pressurized air is supplied to the pressurizing space 1140 through the pressurizing line 1150 to provide a predetermined pressure to the pressurizing space 1140, and the pressure at this time is the elastic force of the spring 1500 When overcoming, the driving unit 1300 advances by the pressure at this time, the spring 1500 is compressed, and the bellows 1400 expands. In addition, the driving shaft 1320 advances to make the sealing plate 1200 in close contact with the gate valve-side entrance 120.

이때 구동부(1300)에 일체로 결합된 제 1지지축(1330)과 제 2지지축(1340)은 함께 전진하고, 동시에 하우징 커버(1102)내부의 공기는 제 1지지축(1330)과 제 2지지축(1340)의 제 1벤트홀(1331)과 제 2벤트홀(1341)을 통하여 벤트라인(1130)으로 배기된다. At this time, the first support shaft 1330 and the second support shaft 1340 integrally coupled to the driving unit 1300 advance together, and at the same time, the air inside the housing cover 1102 is transferred to the first support shaft 1330 and the second support shaft 1330. It is exhausted to the vent line 1130 through the first vent hole 1331 and the second vent hole 1341 of the support shaft 1340.

이때 제 1벤트홀(1331)과 제 2벤트홀(1341)은 하우징(1102) 내부에 대칭한 위치에 형성되어 있으므로 배기시에 배기 압력차가 구동부(1300)에 일부라도 작용하는 것을 최소화한다. 또한 제 1지지축(1330)과 제 2지지축(1340)은 제 1지지홀(1110)과 제 2지지홀(1120)에 각각 삽입된 상태로 상하 승강하기 때문에 구동부(1300)가 푸쉬 또는 풀동작할 때 그 위치가 변화하는 것을 방지하여 안정적으로 풀푸쉬 동작이 이루어지도록 한다.At this time, since the first vent hole 1331 and the second vent hole 1341 are formed at a symmetrical position inside the housing 1102, the difference in exhaust pressure may be minimized to act on the driving unit 1300 when exhausted. In addition, since the first support shaft 1330 and the second support shaft 1340 move up and down while being inserted into the first support hole 1110 and the second support hole 1120, respectively, the driving unit 1300 is pushed or pulled. The position is prevented from changing during operation, so that the pull-push operation is stably performed.

한편, 진공처리장치(10)에서 공정이 완료되면 기판을 외부로 반출하여야 한다. 이를 위하여 게이트 밸브(100)는 게이트 밸브측 출입구(120)을 오픈시켜 도 2의 "c" 상태가 되도록 한다. 즉, 풀푸쉬 장치(1000)에 가해지던 공기압을 차단하면 구동부 몸체(1310)는 스프링(1500)의 복원력에 의하여 후진하고, 벨로우즈(1400)는 원래의 상태로 복원한다. 동시에 제 1지지축(1330)과 제 2지지축(1340)은 제 1지지홀(1110)과 제 2지지홀(1120)의 바닥을 향하여 삽입된다. 그리고 벤트라인(1130)과 제 1벤트홀(1331) 및 제 2벤트홀(1341)을 통하여 외부 공기가 하우징의 내부로 유입된다. On the other hand, when the process is completed in the vacuum processing apparatus 10, the substrate must be taken out. To this end, the gate valve 100 opens the gate valve-side entrance 120 to be in the "c" state of FIG. 2. That is, when the air pressure applied to the pull push device 1000 is blocked, the drive body 1310 moves backward by the restoring force of the spring 1500, and the bellows 1400 is restored to its original state. At the same time, the first support shaft 1330 and the second support shaft 1340 are inserted toward the bottom of the first support hole 1110 and the second support hole 1120. In addition, external air is introduced into the housing through the vent line 1130, the first vent hole 1331 and the second vent hole 1341.

이상과 같이 풀푸쉬 장치(1000)가 실링 플레이트(1200)를 후진시키면 구동액츄에이터(140)가 풀푸쉬 장치(1000)를 하강시킨다. 그리고 외부의 기판반입장치가 게이트 밸브측 출입구(120)과 기판 출입구(12)로 삽입되어 기판(S)을 외부로 반출한다. As described above, when the pull-push device 1000 moves the sealing plate 1200 backward, the drive actuator 140 lowers the pull-push device 1000. In addition, an external substrate carrying device is inserted into the gate valve side entrance 120 and the substrate entrance 12 to carry out the substrate S to the outside.

이상과 같은 본 발명의 실시예에 따른 풀푸쉬 장치(1000)는 풀푸쉬 장치(1000)의 제 1지지축(1330)과 제 2지지축(1340)에 각각 제 1벤트홀(1331)과 제 2벤트홀(1341)이 형성되어 풀푸쉬 장치(1000)에 형성되는 벤트라인(1130)의 배치 및 형상을 단순하게 하여 구동 안정성을 향상할 수 있고, 지지축(1330)(1340)을 구동부(1300)에 일체로 형성하여 풀푸쉬 장치(1000)의 가공 및 조립성을 향상시킬 수 있게 된다. The pull push device 1000 according to the embodiment of the present invention as described above includes a first vent hole 1331 and a first vent hole 1330 and a second support shaft 1340 of the pull push device 1000, respectively. 2 The vent hole 1341 is formed to simplify the arrangement and shape of the vent line 1130 formed in the pull push device 1000 to improve driving stability, and the support shafts 1330 and 1340 are connected to the drive unit ( It is formed integrally with 1300, it is possible to improve the processing and assembly of the pull-push device 1000.

또한 지지축(1330)(1340)을 복수개로 형성하여 구동부(1300)의 회전을 방지할 수 있으므로 벨로우즈(1400), 오링(1600) 등과 같은 내부 구성품의 파손을 방지할 수 있으며, 각각의 지지축(1330)(1340)에 형성된 벤트홀(1331)(1341)을 통하여 벤트가 균형있게 이루어지도록 하여 구동부(1300)의 균형있는 동작이 가능하게 한다. In addition, since a plurality of support shafts 1330 and 1340 can be formed to prevent rotation of the driving unit 1300, damage to internal components such as bellows 1400 and O-ring 1600 can be prevented, and each support shaft A balanced operation of the driving unit 1300 is possible by allowing the vents to be balanced through the vent holes 1331 and 1341 formed in the 1330 and 1340.

이상의 도면 및 발명의 상세한 설명에 기재된 실시예를 통하여 본 발명의 실시예를 설명하였으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다. 따라서 본 발명의 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다. The embodiments of the present invention have been described through the embodiments described in the drawings and detailed description of the invention, but these are only exemplary, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains, various modifications and equivalent other Examples are possible. Therefore, the technical protection scope of the present invention should be determined by the appended claims.

10...진공처리장치
100...게이트 밸브
1000...풀푸쉬 장치
1200...실링 플레이트
1300...구동부
1400...벨로우즈
1500...스프링
10...Vacuum treatment device
100...gate valve
1000... full push device
1200... sealing plate
1300...drive part
1400...bellows
1500...spring

Claims (15)

하우징;
일단이 상기 하우징을 관통하고, 타단이 상기 하우징 내부 공간에 위치하여 외부에서 제공되는 압력으로 푸쉬 동작하는 구동부;
상기 구동부에 구비되어 상기 구동부와 함께 상기 하우징에 형성된 지지홀에 삽입되어 구동하며 상기 지지홀과 상기 하우징 내부를 서로 연통시키는 벤트홀이 형성된 적어도 하나 이상의 지지축;
상기 지지홀에 연통되며 상기 하우징의 내부가 상기 벤트홀과 상기 지지홀을 통하여 상기 하우징의 외부와 연통되도록 하는 벤트라인을 포함하는 풀푸쉬 장치.
housing;
A driving unit whose one end passes through the housing and the other end is located in the interior space of the housing to perform a push operation with a pressure provided from the outside;
At least one support shaft provided in the driving unit, inserted into a support hole formed in the housing together with the driving unit, and having a vent hole communicating the support hole and the interior of the housing to each other;
A pull-push device comprising a vent line communicating with the support hole and allowing the inside of the housing to communicate with the outside of the housing through the vent hole and the support hole.
제 1항에 있어서, 상기 구동부의 외주에는 일단이 상기 하우징 내부에 지지되고 타단이 상기 구동부에 지지된 스프링을 포함하는 풀푸쉬 장치.
The pull-push device according to claim 1, wherein an outer circumference of the driving unit includes a spring having one end supported inside the housing and the other end supported by the driving unit.
제 1항에 있어서, 상기 벤트홀과 상기 지지축은 제 1벤트홀이 형성된 제 1지지축과 제 2벤트홀이 형성된 제 2지지축을 포함하고, 상기 지지홀은 상기 제 1지지축이 삽입되는 제 1지지홀과 상기 제 2지지축이 삽입되는 제 2지지홀을 포함하는 풀푸쉬 장치.
The method of claim 1, wherein the vent hole and the support shaft include a first support shaft with a first vent hole and a second support shaft with a second vent hole, and the support hole includes a first support shaft into which the first support shaft is inserted. A pull-push device comprising a first support hole and a second support hole into which the second support shaft is inserted.
제 1항에 있어서, 상기 구동부는 외부 압력이 가해지는 구동부 몸체와 상기 구동부 몸체에서 연장되어 상기 하우징을 관통하는 구동축을 포함하고, 상기 구동부 몸체의 외주를 따라 연장된 테두리부에 상기 지지축이 형성된 풀푸쉬 장치.
The method of claim 1, wherein the driving unit includes a driving unit body to which an external pressure is applied and a driving shaft extending from the driving unit body and penetrating the housing, and the support shaft is formed on an edge portion extending along an outer circumference of the driving unit body. Full push device.
제 1항에 있어서, 상기 벤트홀은 상기 구동축의 길이 방향으로 관통 형성된 풀푸쉬 장치.
The pull-push device of claim 1, wherein the vent hole is formed through the drive shaft in a longitudinal direction.
기판 출입구가 형성된 케이스;
상기 케이스의 내부에 위치하는 하우징, 일단이 상기 하우징을 관통하고, 타단이 상기 하우징 내부 공간에 위치하여 외부에서 제공되는 압력으로 푸쉬 동작하는 구동부, 상기 구동부에 구비되어 상기 구동부와 함께 상기 하우징에 형성된 지지홀에 삽입되어 구동하며 상기 지지홀과 상기 하우징 내부를 서로 연통시키는 벤트홀이 형성된 적어도 하나 이상의 지지축, 상기 지지홀에 연통되며 상기 하우징의 내부가 상기 벤트홀과 상기 지지홀을 통하여 상기 하우징의 외부와 연통되도록 하는 벤트라인을 포함하는 풀푸쉬 장치;
상기 풀푸쉬 장치에 의하여 전후진 하는 실링 플레이트;
상기 풀푸쉬 장치를 상기 기판 출입구 측으로 이동시키는 구동 액츄에이터를 포함하는 게이트 밸브.
A case in which a substrate entrance is formed;
A housing positioned inside the case, one end penetrating the housing, the other end positioned in the interior space of the housing, a driving unit that pushes with a pressure provided from the outside, and is provided in the driving unit and formed in the housing together with the driving unit. At least one support shaft, which is inserted into and driven into a support hole, and has a vent hole communicating with the support hole and the inside of the housing, and communicates with the support hole, and the inside of the housing is through the vent hole and the support hole. A pull-push device including a vent line to communicate with the outside of the device;
A sealing plate that moves forward and backward by the pull-push device;
A gate valve including a driving actuator for moving the pull push device toward the entrance and exit of the substrate.
제 6항에 있어서, 상기 구동부의 외주에는 일단이 상기 하우징 내부에 지지되고 타단이 상기 구동부에 지지된 스프링을 포함하는 게이트 밸브.
The gate valve of claim 6, wherein an outer circumference of the driving unit includes a spring having one end supported inside the housing and the other end supported by the driving unit.
제 6항에 있어서, 상기 벤트홀과 상기 지지축은 제 1벤트홀이 형성된 제 1지지축과 제 2벤트홀이 형성된 제 2지지축을 포함하고, 상기 지지홀은 상기 제 1지지축이 삽입되는 제 1지지홀과 상기 제 2지지축이 삽입되는 제 2지지홀을 포함하는 게이트 밸브.
The method of claim 6, wherein the vent hole and the support shaft include a first support shaft with a first vent hole and a second support shaft with a second vent hole, and the support hole includes a first support shaft into which the first support shaft is inserted. A gate valve comprising a first support hole and a second support hole into which the second support shaft is inserted.
제 6항에 있어서, 상기 구동부는 외부 압력이 가해지는 구동부 몸체와 상기 구동부 몸체에서 연장되어 상기 하우징을 관통하는 구동축을 포함하고, 상기 구동부 몸체의 외주를 따라 연장된 테두리부에 상기 지지축이 형성된 게이트 밸브.
The method of claim 6, wherein the driving unit includes a driving unit body to which external pressure is applied and a driving shaft extending from the driving unit body and penetrating the housing, and the support shaft is formed on an edge portion extending along an outer circumference of the driving unit body. Gate valve.
제 6항에 있어서, 상기 벤트홀은 상기 구동축의 길이 방향으로 관통 형성된 게이트 밸브.
The gate valve of claim 6, wherein the vent hole is formed through the drive shaft in a length direction.
기판이 출입하는 기판 출입구가 형성된 챔버;
상기 챔버의 상기 기판 출입구의 외측에 설치되며 상기 기판 출입구와 연통하는 게이트가 형성된 케이스와, 상기 케이스의 내부에 위치하는 하우징과, 일단이 상기 하우징을 관통하고, 타단이 상기 하우징 내부 공간에 위치하여 외부에서 제공되는 압력으로 푸쉬 동작하는 구동부와, 상기 구동부에 구비되어 상기 구동부와 함께 상기 하우징에 형성된 지지홀에 삽입되어 구동하며 상기 지지홀과 상기 하우징 내부를 서로 연통시키는 벤트홀이 형성된 적어도 하나 이상의 지지축과, 상기 지지홀에 연통되며 상기 하우징의 내부가 상기 벤트홀과 상기 지지홀을 통하여 상기 하우징의 외부와 연통되도록 하는 벤트라인을 포함하는 풀푸쉬 장치와 상기 풀푸쉬 장치에 의하여 전후진 하는 실링 플레이트, 상기 풀푸쉬 장치를 상기 기판 출입구 측으로 이동시키는 구동 액츄에이터를 포함하는 게이트 밸브를 구비하는 진공처리장치.
A chamber having a substrate entrance through which the substrate enters and exits;
A case installed outside the substrate entrance of the chamber and formed with a gate communicating with the substrate entrance, a housing located inside the case, one end passing through the housing, and the other end located in the interior space of the housing. At least one drive unit that performs a push operation with a pressure provided from the outside, and a vent hole provided in the driving unit and inserted into a support hole formed in the housing together with the driving unit to drive the support hole and the inside of the housing to communicate with each other. A pull push device including a support shaft and a vent line communicating with the support hole and allowing the inside of the housing to communicate with the outside of the housing through the vent hole and the support hole, and moving forward and backward by the pull push device A vacuum processing apparatus comprising a gate valve including a sealing plate and a driving actuator for moving the pull-push device toward the entrance and exit of the substrate.
제 11항에 있어서, 상기 구동부의 외주에는 일단이 상기 하우징 내부에 지지되고 타단이 상기 구동부에 지지된 스프링을 포함하는 진공처리장치.
The vacuum processing apparatus according to claim 11, wherein an outer circumference of the driving unit includes a spring having one end supported inside the housing and the other end supported by the driving unit.
제 11항에 있어서, 상기 벤트홀과 상기 지지축은 제 1벤트홀이 형성된 제 1지지축과 제 2벤트홀이 형성된 제 2지지축을 포함하고, 상기 지지홀은 상기 제 1지지축이 삽입되는 제 1지지홀과 상기 제 2지지축이 삽입되는 제 2지지홀을 포함하는 진공처리장치.
The method of claim 11, wherein the vent hole and the support shaft include a first support shaft with a first vent hole and a second support shaft with a second vent hole, and the support hole includes a first support shaft into which the first support shaft is inserted. A vacuum processing apparatus comprising a first support hole and a second support hole into which the second support shaft is inserted.
제 11항에 있어서, 상기 구동부는 외부 압력이 가해지는 구동부 몸체와 상기 구동부 몸체에서 연장되어 상기 하우징을 관통하는 구동축을 포함하고, 상기 구동부 몸체의 외주를 따라 연장된 테두리부에 상기 지지축이 형성된 진공처리장치.
The method of claim 11, wherein the driving unit includes a driving unit body to which an external pressure is applied and a driving shaft extending from the driving unit body and passing through the housing, and the support shaft is formed on an edge portion extending along an outer circumference of the driving unit body. Vacuum processing device.
제 11항에 있어서, 상기 벤트홀은 상기 구동축의 길이 방향으로 관통 형성된 진공처리장치.The vacuum processing apparatus of claim 11, wherein the vent hole is formed through the drive shaft in a longitudinal direction.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003148635A (en) * 2001-11-15 2003-05-21 Smc Corp Gate valve
KR100900206B1 (en) * 2006-09-27 2009-06-02 주식회사 에이티에스엔지니어링 Bidirectional gate valve of vacuum processing apparatus
KR20110004047A (en) 2009-07-07 2011-01-13 주식회사 에이티에스엔지니어링 Pull-push assay
KR20110117470A (en) * 2010-04-21 2011-10-27 권복화 The gate valve
KR20140119405A (en) * 2013-04-01 2014-10-10 주식회사 에이티에스엔지니어링 Push-pull assay and gate valve having the push-pull assay

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003148635A (en) * 2001-11-15 2003-05-21 Smc Corp Gate valve
KR100900206B1 (en) * 2006-09-27 2009-06-02 주식회사 에이티에스엔지니어링 Bidirectional gate valve of vacuum processing apparatus
KR20110004047A (en) 2009-07-07 2011-01-13 주식회사 에이티에스엔지니어링 Pull-push assay
KR20110117470A (en) * 2010-04-21 2011-10-27 권복화 The gate valve
KR20140119405A (en) * 2013-04-01 2014-10-10 주식회사 에이티에스엔지니어링 Push-pull assay and gate valve having the push-pull assay

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