JP2006038121A - Gate valve and vacuum gate valve - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ゲート弁及び真空ゲートに関する。 The present invention relates to a gate valve and a vacuum gate.
従来からゲート弁は、真空処理室と、この真空処理室を真空排気するための真空ポンプとの間に設けられるこが多く、このように使用されるゲート弁は真空ゲート弁と言われている。近年、真空ゲート弁は、液晶,半導体製造装置の分野における真空システムを構成する重要な装置として位置づけられている。 Conventionally, a gate valve is often provided between a vacuum processing chamber and a vacuum pump for evacuating the vacuum processing chamber, and the gate valve used in this way is said to be a vacuum gate valve. . In recent years, the vacuum gate valve is positioned as an important device constituting a vacuum system in the fields of liquid crystal and semiconductor manufacturing equipment.
真空ゲート弁は、真空処理室の真空度を上げる場合に弁を開弁状態にし、真空ポンプの駆動により真空処理室内の真空度を上げて高真空状態にするために用いられている。また、弁を閉弁状態にして真空処理室内を低真空(低圧)または大気圧にすることにより、真空処理室内で処理されたワークの取り出しや真空処理室内の反応生成物の除去を可能とする。更に、真空ポンプを低圧または大気圧から保護し、真空ポンプの劣化や破壊を防いでいる。 The vacuum gate valve is used to open a valve when raising the degree of vacuum in the vacuum processing chamber, and to raise the degree of vacuum inside the vacuum processing chamber by driving a vacuum pump to achieve a high vacuum state. Further, by closing the valve and setting the vacuum processing chamber to a low vacuum (low pressure) or atmospheric pressure, it is possible to take out the workpiece processed in the vacuum processing chamber and remove reaction products in the vacuum processing chamber. . Further, the vacuum pump is protected from low pressure or atmospheric pressure, and the vacuum pump is prevented from being deteriorated or broken.
そして、これまで数多くの真空ゲート弁が提供されてきており、具体的には、弁箱に真空処理室側排気口と真空ポンプ側排気口とを形成し、この真空処理室側排気口に開閉自在に着脱する真空処理室側弁板と、真空ポンプ側排気口に開閉自在に着脱する真空ポンプ側弁板とを備える真空ゲート弁が提供されている。 Many vacuum gate valves have been provided so far. Specifically, a vacuum processing chamber side exhaust port and a vacuum pump side exhaust port are formed in the valve box, and the vacuum processing chamber side exhaust port is opened and closed. There is provided a vacuum gate valve including a vacuum processing chamber side valve plate that can be freely attached and detached, and a vacuum pump side valve plate that can be freely opened and closed at an exhaust port on the vacuum pump side.
このような従来の真空ゲート弁は、例えば、特許文献1に開示されている。 Such a conventional vacuum gate valve is disclosed in Patent Document 1, for example.
半導体製造工程における層間絶縁膜積層技術であるCVT(Chemical Vapor Deposition:化学的気相堆積法)プロセスでは、材料ガスを様々な方法(プラズマ,熱,光等)で反応させた反応生成膜をシリコンウエハー上に積層させる。しかし同時に、チャンバーの内壁や電極、配管内及び真空ゲート弁の弁箱内にも反応生成物が堆積する。特に、真空ゲート弁においては、その堆積した反応生成物により弁リークの発生や弁の可動不良を招き、真空ゲート弁としての機能を発揮できない場合がある。 In the CVT (Chemical Vapor Deposition) process, which is a technique for laminating interlayer insulation films in the semiconductor manufacturing process, the reaction product film obtained by reacting a material gas by various methods (plasma, heat, light, etc.) is silicon. Laminate on wafer. At the same time, however, reaction products accumulate on the inner wall of the chamber, the electrodes, the piping, and the valve box of the vacuum gate valve. In particular, in the vacuum gate valve, the accumulated reaction product may cause valve leakage or malfunction of the valve, and may not function as a vacuum gate valve.
しかしながら、上述した従来の真空ゲート弁においては、完全にリークを防止しようとするものではない。このために、反応生成物がシール面だけではなく、弁板や弁箱内に付着するので、チャンバー内の真空度の低下を招くと共に、クリーニング作業の負担を大きくしてしまう。更に、リークのために閉弁ができなくなると、仮に、チャンバー内の堆積物を除去しようとすると、チャンバー側と真空ポンプ側とを遮断できないので、真空ポンプを一時停止しなくてはならないので、CVT装置を再稼動するときには、チャンバー内の真空度が上がるまで時間がかかってしまい、膨大な時間を要していた。 However, the conventional vacuum gate valve described above does not completely prevent leakage. For this reason, since the reaction product adheres not only to the sealing surface but also to the valve plate and the valve box, the degree of vacuum in the chamber is reduced and the burden of the cleaning operation is increased. Furthermore, if the valve cannot be closed due to a leak, if the deposit in the chamber is to be removed, the chamber side and the vacuum pump side cannot be shut off, so the vacuum pump must be temporarily stopped. When the CVT apparatus is restarted, it takes time until the degree of vacuum in the chamber increases, and it takes an enormous amount of time.
従って、本発明は上記課題を解決するものであって、シール面への異物の付着を防ぎ、リークの発生を防止するゲート弁及び真空ゲート弁を提供することを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a gate valve and a vacuum gate valve that prevent the foreign matter from adhering to the seal surface and prevent the occurrence of leakage.
上記課題を解決する第1の発明に係るゲート弁は、
流体の通り道に設けられた対向するシール面を開閉するゲート弁であって、
開弁時に前記シール面に当接し、かつ前記通り道を連通させる開弁体と、
閉弁時に前記シール面に当接し、かつ前記通り道を遮断させる閉弁体と、
前記開弁体と前記閉弁体とを収納する弁箱と、
前記弁箱内で前記開弁体と前記閉弁体とを前記シール面に対し交換的に移動させる弁体移動手段とを備える
ことを特徴とする。
The gate valve according to the first invention for solving the above-mentioned problems is as follows.
A gate valve that opens and closes an opposing seal surface provided in a fluid passageway;
A valve-opening body that is in contact with the seal surface when the valve is opened and that allows the passage to communicate;
A valve closing body that abuts the seal surface when the valve is closed and blocks the passage;
A valve box that houses the valve opening body and the valve closing body;
And a valve body moving means for exchanging the valve opening body and the valve closing body with respect to the seal surface in the valve box.
上記課題を解決する第2の発明に係るゲート弁は、
第1の発明に係るゲート弁おいて、
前記開弁体と前記閉弁体とに一対の弁板を備え、
前記一対の弁板を前記シール面に着脱するリンク機構を備える
ことを特徴とする。
A gate valve according to a second invention for solving the above-mentioned problems is as follows.
In the gate valve according to the first invention,
The valve opening body and the valve closing body are provided with a pair of valve plates,
A link mechanism for attaching and detaching the pair of valve plates to and from the seal surface is provided.
上記課題を解決する第3の発明に係るゲート弁は、
第2の発明に係るゲート弁おいて、
前記開弁体の前記一対の弁板間にベローズを備える
ことを特徴とする。
A gate valve according to a third invention for solving the above-described problems is
In the gate valve according to the second invention,
A bellows is provided between the pair of valve plates of the valve opening body.
上記課題を解決する第4の発明に係るゲート弁は、
第1乃至3のいずれかの発明に係るゲート弁において、
前記弁箱に開閉可能な点検口を形成すると共に、該点検口を閉弁時に移動した前記開弁体と対向する位置に設ける
ことを特徴とする。
A gate valve according to a fourth invention for solving the above-mentioned problems is as follows.
In the gate valve according to any one of the first to third inventions,
An inspection opening that can be opened and closed is formed in the valve box, and the inspection opening is provided at a position facing the valve opening that has moved when the valve is closed.
上記課題を解決する第5の発明に係るゲート弁は、
第1乃至4のいずれかの発明に係るゲート弁において、
前記弁箱に開閉により前記弁箱内の流体を供排する2つの開閉弁を設け、
開弁状態から閉弁状態または閉弁状態から開弁状態に操作するときに、少なくともどちらか一方の前記開閉弁を開状態とし、操作終了後に前記2つの開閉弁を閉状態とする
ことを特徴とする。
A gate valve according to a fifth invention for solving the above-described problems is
In the gate valve according to any one of the first to fourth inventions,
Two on-off valves for supplying and discharging fluid in the valve box by opening and closing the valve box are provided,
When operating from a valve-opened state to a valve-closed state or from a valve-closed state to a valve-opened state, at least one of the on-off valves is opened, and the two on-off valves are closed after completion of the operation. And
上記課題を解決する第6の発明に係る真空ゲート弁は
処理室側とポンプ側との間に設けられた連通路を開閉する真空ゲート弁において、
開弁時に前記処理室側のシール面と前記ポンプ側のシール面とに一対の弁板が当接することで前記連通路を形成させる開弁体と、
閉弁時に前記処理室側のシール面と前記ポンプ側のシール面とに一対の弁板が当接して、前記連通路を遮断させる閉弁体と、
前記開弁体と前記閉弁体とを収納する弁箱と、
前記弁箱内で前記開弁体と前記閉弁体とを前記シール面に対し交換的に移動させる弁体移動手段と、
前記開弁体及び前記閉弁体の前記一対の弁板を前記シール面に着脱するリンク機構と、
前記開弁体の前記一対の弁板間に設けられ、かつ前記弁箱内と前記連通路内とを隔離するベローズと、
閉弁時に移動した前記開弁体と対応するように前記弁箱に形成され、かつ開閉可能な蓋部を有する点検口と、
前記弁箱内と前記処理室内とを連通する配管に設けられた処理室側開閉弁と、
前記弁箱内と前記ポンプとを連通する配管に設けられたポンプ側開閉弁とを備える
ことを特徴とする。
A vacuum gate valve according to a sixth invention for solving the above-mentioned problems is a vacuum gate valve for opening and closing a communication path provided between the processing chamber side and the pump side.
A valve-opening body that forms the communication path by a pair of valve plates coming into contact with the sealing surface on the processing chamber side and the sealing surface on the pump side when the valve is opened;
A valve closing body that shuts off the communication path by a pair of valve plates coming into contact with the sealing surface on the processing chamber side and the sealing surface on the pump side when the valve is closed;
A valve box that houses the valve opening body and the valve closing body;
Valve body moving means for exchanging the valve opening body and the valve closing body with respect to the seal surface in the valve box;
A link mechanism for attaching and detaching the pair of valve plates of the valve opening body and the valve closing body to and from the seal surface;
A bellows provided between the pair of valve plates of the valve-opening body and separating the inside of the valve box and the inside of the communication path;
An inspection port formed on the valve box so as to correspond to the valve-opening body moved when the valve is closed, and having a lid that can be opened and closed;
A processing chamber side on-off valve provided in a pipe communicating the inside of the valve box and the processing chamber;
A pump-side opening / closing valve provided in a pipe that communicates the inside of the valve box and the pump is provided.
第1の発明に係るゲート弁によれば、流体の通り道に設けられた対向するシール面を開閉するゲート弁であって、開弁時に前記シール面に当接し、かつ前記通り道を連通させる開弁体と、閉弁時に前記シール面に当接し、かつ前記通り道を遮断させる閉弁体と、前記開弁体と前記閉弁体とを収納する弁箱と、前記弁箱内で前記開弁体と前記閉弁体とを前記シール面に対し交換的に移動させる弁体移動手段とを備えることにより、前記シール面への異物の付着を防ぎ、リークの発生を防止することができる。 The gate valve according to the first aspect of the present invention is a gate valve that opens and closes an opposing seal surface provided in a fluid passageway, and is in contact with the seal surface when the valve is opened and opens the passageway. A valve body that contacts the sealing surface when the valve is closed and blocks the passage, a valve box that houses the valve opening body and the valve closing body, and the valve opening body within the valve box And a valve body moving means for exchanging the valve closing body relative to the seal surface, it is possible to prevent foreign matter from adhering to the seal surface and to prevent leakage.
第2の発明に係るゲート弁によれば、第1の発明に係るゲート弁おいて、前記開弁体と前記閉弁体とに一対の弁板を備え、前記一対の弁板を前記シール面に着脱するリンク機構を備えることにより、開閉時において前記シール面をシールすることができるので、リークの発生を防止することができる。 According to the gate valve which concerns on 2nd invention, a gate valve which concerns on 1st invention WHEREIN: A pair of valve plate is provided in the said valve opening body and the said valve closing body, and a pair of said valve plate is said sealing surface By providing a link mechanism that attaches and detaches, the sealing surface can be sealed at the time of opening and closing, so that occurrence of leakage can be prevented.
第3の発明に係るゲート弁によれば、第2の発明に係るゲート弁おいて、前記開弁体の前記一対の弁板間にベローズを備えることにより、前記通り道と前記弁箱内とを隔離することができるので、前記弁箱内への異物の浸入を防ぐことができ、リークの発生を防止することができる。 According to the gate valve which concerns on 3rd invention, in the gate valve which concerns on 2nd invention, by providing a bellows between the said pair of valve plates of the said valve opening body, the said passage and the inside of the said valve box are carried out. Since it can isolate, the penetration | invasion of the foreign material in the said valve box can be prevented, and generation | occurrence | production of a leak can be prevented.
第4の発明に係るゲート弁によれば、第1乃至3のいずれかの発明に係るゲート弁において、前記弁箱に開閉可能な点検口を形成すると共に、該点検口を閉弁時に移動した前記開弁体と対向する位置に設けることにより、閉弁時に前記開弁体に付着した異物の堆積具合を点検することが可能であり、また、異物を除去することができるので、メンテナンス費用やランニングコストの低減を図ることができる。 According to the gate valve of the fourth invention, in the gate valve according to any one of the first to third inventions, an inspection port that can be opened and closed is formed in the valve box, and the inspection port is moved when the valve is closed. By providing it at a position opposite to the valve opening body, it is possible to check the degree of accumulation of foreign matter attached to the valve opening body when the valve is closed, and it is possible to remove the foreign matter. The running cost can be reduced.
第5の発明に係るゲート弁によれば、第1乃至4のいずれかの発明に係るゲート弁において、前記弁箱に開閉により前記弁箱内の流体を供排する2つの開閉弁を設け、開弁状態から閉弁状態または閉弁状態から開弁状態に操作するときに、少なくともどちらか一方の前記開閉弁を開状態とし、操作終了後に前記2つの開閉弁を閉状態とすることにより、前記開弁体及び前記閉弁体の操作を円滑に行うことができる。 According to the gate valve according to the fifth invention, in the gate valve according to any one of the first to fourth inventions, the valve box is provided with two on-off valves for discharging and discharging the fluid in the valve box by opening and closing, When operating from the open state to the closed state or from the closed state to the open state, at least one of the on-off valves is opened, and after the operation is finished, the two on-off valves are closed, The valve-opening body and the valve-closing body can be operated smoothly.
第6の発明に係る真空ゲート弁によれば、処理室側とポンプ側との間に設けられた連通路を開閉する真空ゲート弁において、開弁時に前記処理室側のシール面と前記ポンプ側のシール面とに一対の弁板が当接することで前記連通路を形成させる開弁体と、閉弁時に前記処理室側のシール面と前記ポンプ側のシール面とに一対の弁板が当接して、前記連通路を遮断させる閉弁体と、前記開弁体と前記閉弁体とを収納する弁箱と、前記弁箱内で前記開弁体と前記閉弁体とを前記シール面に対し交換的に移動させる弁体移動手段と、前記開弁体及び前記閉弁体の前記一対の弁板を前記シール面に着脱するリンク機構と、前記開弁体の前記一対の弁板間に設けられ、かつ前記弁箱内と前記連通路内とを隔離するベローズと、閉弁時に移動した前記開弁体と対応するように前記弁箱に形成され、かつ開閉可能な蓋部を有する点検口と、前記弁箱内と前記処理室内とを連通する配管に設けられた処理室側開閉弁と、前記弁箱内と前記ポンプとを連通する配管に設けられたポンプ側開閉弁とを備えることにより、前記シール面への異物の付着を防ぎ、リークの発生を防止することができるので、真空度の低下を招くことがない。また、前記連通路と前記弁箱内とを隔離することができるので、前記弁箱内への異物の浸入を防ぐことができ、前記弁箱内の堆積物の除去作業が低減できると共に、メンテナンスの長期化を図ることができる。更に、リークのために閉弁ができなくなるという問題がないので、前記処理室内をクリーニングする際にも、前記ポンプを停止させることがないので、前記ポンプを再稼動するまでの時間を要しない。また更に、閉弁時に前記開弁体に付着した異物の堆積具合を点検することが可能であり、異物を除去することもできるので、メンテナンス費用やランニングコストの低減を図ることができる。しかも、前記開弁体及び前記閉弁体が円滑に移動できるので操作性を向上することができる。 According to the vacuum gate valve of the sixth invention, in the vacuum gate valve that opens and closes the communication path provided between the processing chamber side and the pump side, the sealing surface on the processing chamber side and the pump side are opened when the valve is opened. When the valve is closed, the pair of valve plates are brought into contact with the sealing surface on the processing chamber side and the sealing surface on the pump side when the valve plate is closed. A valve closing body that cuts off the communication path, a valve box that houses the valve opening body and the valve closing body, and the valve opening body and the valve closing body in the valve box that are connected to the sealing surface. A valve body moving means for moving the valve body interchangeably, a link mechanism for attaching and detaching the pair of valve plates of the valve opening body and the valve closing body to the seal surface, and between the pair of valve plates of the valve opening body And a bellows that separates the inside of the valve box from the inside of the communication passage, and the valve opening that is moved when the valve is closed An inspection port having a lid that can be opened and closed, a processing chamber side on-off valve provided in a pipe that communicates the inside of the valve box and the processing chamber, and the valve By providing a pump-side on-off valve provided in a pipe that communicates the inside of the box and the pump, it is possible to prevent foreign matter from adhering to the seal surface and prevent the occurrence of leaks, so the degree of vacuum is reduced. Is not invited. In addition, since the communication path and the inside of the valve box can be isolated, entry of foreign matter into the valve box can be prevented, work for removing deposits in the valve box can be reduced, and maintenance can be performed. Can be prolonged. Further, since there is no problem that the valve cannot be closed due to a leak, the pump is not stopped even when cleaning the processing chamber, so that it does not take time to restart the pump. Furthermore, it is possible to check the accumulation of foreign matters attached to the valve opening body when the valve is closed, and foreign matters can be removed, so that maintenance costs and running costs can be reduced. And since the said valve opening body and the said valve closing body can move smoothly, operativity can be improved.
以下、本発明に係る真空ゲート弁の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。 Embodiments of a vacuum gate valve according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
図1は本発明の一実施例に係る真空ゲート弁の開弁状態を示す横断面図、図2は本発明の一実施例に係る真空ゲート弁の開弁状態を示す縦断面図、図3は本発明の一実施例に係る真空ゲート弁の閉弁状態を示す横断面図、図4は本発明の一実施例に係る真空ゲート弁の動作を示すものであり、同図(a)は閉弁状態,同図(b)は閉弁状態から開弁状態への動作,同図(c)は開弁状態を示した概略図、図5は他の実施例に係る真空ゲート弁の概略図、図6は本発明の一実施例における真空処理装置の概略図である。 FIG. 1 is a transverse sectional view showing a valve opening state of a vacuum gate valve according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a valve opening state of a vacuum gate valve according to an embodiment of the present invention, FIG. FIG. 4 is a transverse sectional view showing a closed state of the vacuum gate valve according to one embodiment of the present invention, FIG. 4 shows the operation of the vacuum gate valve according to one embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 5B is a schematic view showing the valve open state, and FIG. 5 is a schematic view of a vacuum gate valve according to another embodiment. FIG. 6 and FIG. 6 are schematic views of a vacuum processing apparatus in one embodiment of the present invention.
図6は、例えばCVT装置等である真空処理装置1の概略図を示す。真空ゲート弁2は真空処理室3と真空ポンプ4との間に設置され、真空処理室3と真空ポンプ4との間の密閉を図るものである。真空ゲート弁2と真空処理室3とは配管5で連通し、配管5には開閉弁6が設けられている。同様に、真空ゲート弁2と真空ポンプ4とは配管7で連通し、配管7には開閉弁8が設けられている。
FIG. 6 shows a schematic diagram of a vacuum processing apparatus 1 which is, for example, a CVT apparatus or the like. The
この真空ゲートポンプ2について図1乃至3を参照しながら詳細に説明する。
The
図1乃至3に示すように、真空ゲート弁2は箱状の弁箱11と、この弁箱11の上部に配置された円筒状のケース12とから構成されている。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
弁箱11には真空処理室3と連通する円形の処理室側排気口13と、真空ポンプ4と連通する円形のポンプ側排気口14とが形成され、この処理室側排気口13及びポンプ側排気口14はシール面13a,14aを有している。また、処理室側排気口13の下方には配管5が接続する処理室側連通口15が形成されると共に、ポンプ側排気口14の下方には配管7が接続するポンプ側連通口16が形成されている。
The
一方、ケース12内にはベローズ17が上下方向に延設されている。このベローズ17は上端がベロー受け18に支持されると共に、下端がベロー受け19に支持されている。ステム20はこのベローズ17に挿入され、ケース12を貫通するように配置されている。また、ベロー受け18の突起部18aはケース12に開口する長穴21に挿入され、かつ上下方向に摺動可能になっている。そして、ケース12の上部にはハンドル(移動手段)22が設置されており、ハンドル22のねじ部22aとステム20のねじ部20aとは噛み合わさっている。
On the other hand, a bellows 17 extends vertically in the
弁箱11内に位置するステム20の下端には一対の上下方向に延設する弁ホルダー23が設置されている。弁ホルダー23の上下部には上部ローラホルダー24と下部ローラホルダー25が設置されている。即ち、弁ホルダー23は上部ローラホルダー24を介してステム20に支持されている。また、上部ローラホルダー24及び下部ローラホルダー25はそれぞれ一対のローラ26,27を備えており、このローラ26,27は弁箱11の内壁に当接し、かつ回転可能に支持されている。
A pair of
弁ホルダー23の上方には開弁状態に専用で使用する開弁体28が配置され、一方、下方には閉弁状態に専用で使用する閉弁体31が配置されている。
Above the
開弁体28は真空処理室3側の処理室側開弁板29と、真空ポンプ4側のポンプ側開弁板30とから構成されている。この処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30には、処理室側排気口13及びポンプ側排気口14と同径の連通穴29a,30aが対向して開口されている。また、連通穴29a,30aの周囲には、シール面13a,14aに押圧するシール面29b,30bが形成されている。処理室側開弁板29とポンプ側開弁板30との間には、連通穴29a,30a間を連通するベローズ34が設置されている。そして、この連通穴29a,30aとベローズ34とは連通路35を形成している。
The
処理室側開弁板29とポンプ側開弁板30とは弁ホルダー23を前後方向から挟むように設置されている。処理室側開弁板29及びポンプ側開弁30はその両側端部の上下の位置において、弁ホルダー23に4つリンク部材36で支持している。
The processing chamber side
リンク部材36は2つの板材から構成され、連結部36a及び支持部36bを有している。連結部36aは、板材の一端同士が弁ホルダー23の側端部で重なって連結する部位である。支持部36bは、一方の板材の他端が処理室側開弁板29の側端部を支持すると共に、他方の板材の他端がポンプ側開弁板30の側端部を支持する部位である。
The
同様に、閉弁体31は真空処理室3側の処理室側閉弁板32と、真空ポンプ4側のポンプ側閉弁板33とから構成されている。処理室側閉弁板32及びポンプ側閉弁板33には、処理室側排気口13のシール面13a及びポンプ側排気口14のシール面14aに押圧するシール面32a,33aが形成されている。この処理室側閉弁板32とポンプ側閉弁板33とは弁ホルダー23を前後方向から挟むように設置されている。処理室側閉弁板32及びポンプ側閉弁板33はその両側端部の上下の位置において、弁ホルダー23に4つリンク部材37で支持されている。
Similarly, the
リンク部材37は2つの板材から構成され、連結部37a及び支持部37bを有している。連結部37aは、板材の一端同士が弁ホルダー23の側端部で重なって連結する部位である。支持部37bは、一方の板材の他端が処理室側閉弁板32の側端部を支持すると共に、他方の板材の他端がポンプ側閉弁板33の側端部を支持している。
The
なお、リンク部材36は図3に示す位置に開弁体28が配置されるときには、連結部36aが支持部36bよりも上方の位置になるように設置されている。また、リンク部材37は図1に示す位置に閉弁体31が配置されるときには、連結部37aが支持部37bよりも下方の位置になるように設置されている。
In addition, when the
処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30の上端部の中央にはコロ38が設置されると共に、処理室側閉弁板32及びポンプ側閉弁板33の下端部の中央にはコロ39が設置されている。このコロ38,39に対向するように弁箱11の上部及び下部の内壁には、ストッパー部40,41が形成されている。
A
次に、図4(a)〜(c)を参照しながら真空ゲート弁2の動作について説明する。
Next, the operation of the
先ず、図4(a)を用いて閉弁状態を説明する。 First, the closed state will be described with reference to FIG.
ハンドル22を回転することによりステム20が上方に移動すると、弁ホルダー23も上方に移動する。これにより、開弁体28は弁箱11内の上方に移動する。
When the
このとき、リンク部材の36の連結部36aは弁ホルダー23の移動により上昇し、リンク部材36の支持部36bは弁箱11の中央側に移動しながら上昇する。従って、この支持部36bに支持されている処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30も弁箱11の中央側に移動しながら上昇する。ベローズ34は、処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30の弁箱11の中央側への移動により縮まされる。そして、コロ38がストッパー部40に当接し、開弁体28は弁箱11内の上方に配置される。
At this time, the connecting portion 36 a of the
更に、弁ホルダー23が上方に移動すると、連結部36aだけが上昇し、処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30はコロ38の回転により弁箱11の中央側に更に移動する。
Further, when the
一方、閉弁体31は、弁ホルダー23の上方への移動に伴い、処理室側排気口13及びポンプ側排気口14に対向する位置に移動する。このとき、リンク部材37の連結部37aが弁ホルダー23の移動により上昇するので、リンク部材37の支持部37bは弁箱11の側壁側に移動する。これにより、この支持部材37bに支持されている処理室側閉弁板32及びポンプ側閉弁板33は、シール面32aを処理室側排気口13のシール面13aに押圧すると共に、シール面33aをポンプ側排気口14のシール面14aに押圧する。
On the other hand, the
従って、弁箱11と真空処理室3及び真空ポンプ4とを遮断することができる。つまり、真空処理室3と真空ポンプ4との間を密閉することができる。
Therefore, the
次に、図4(b)を用いて閉弁状態から開弁状態への動作について説明する。 Next, the operation from the valve closing state to the valve opening state will be described with reference to FIG.
閉弁状態から開弁状態へ動作させるときは、ハンドル22を回転することによりステム20を下方に移動し、弁ホルダー23を下方に移動させる。これにより、開弁体28及び閉弁体31も下方へ移動する。
When operating from the valve closing state to the valve opening state, the
そして、リンク部材36の連結部36aは弁ホルダー23の移動により下降し、リンク部材36の支持部36bは弁箱11の側壁側に移動しながら下降する。従って、処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30も弁箱11の側壁側に移動しながら下降する。このとき、ベローズ34は下方へ移動すると共に、徐々に伸びていく。また、リンク部材37の連結部37aは弁ホルダー23の移動により下降し、リンク部材37の支持部37bは弁箱11の中央側に移動しながら下降する。従って、処理室側閉弁板32及びポンプ側閉弁板30も弁箱11の中央側に移動しながら下降する。
The connecting portion 36 a of the
更に、開弁体28及び閉弁体31が下方に移動すると、図4(c)に示す開弁状態になる。
Furthermore, when the
次に、図4(c)を用いて開弁状態を説明する。 Next, the valve opening state will be described with reference to FIG.
開弁体28は、弁ホルダー23の下方への移動に伴い、処理室側排気口13及びポンプ側排気口14に対向する位置に移動する。このとき、処理室側開弁板29の連通穴29a及びポンプ側開弁板30の連通穴30aは処理室側排気口13及びポンプ側排気口14と同じ高さ(位置)に配置される。同時に、リンク部材36により弁箱11の側壁側に移動された処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30は、シール面29bを処理室側排気口13のシール面13aに押圧すると共に、シール面30bをポンプ側排気口14のシール面14aに押圧する。また、ベローズ34も所定の長さに伸ばされる。
As the
一方、閉弁体31はコロ38がストッパー部40に当接し、弁箱11内の下方に配置される。更に、弁ホルダー23が下方に移動すると、連結部37aだけが下降し、処理室側閉弁板32及びポンプ側閉弁板33はコロ39の回転により弁箱11の中央側に更に移動する。
On the other hand, the
従って、連通路35が形成されるので真空処理室3と真空ポンプ4とが連通し、真空ポンプ4による真空処理室4の真空処理を行うことができる。また、排気されたガスが弁箱11内に浸入することがないので、リークの発生を防止することができる。
Therefore, since the
ここで、開弁状態から閉弁状態の動作時においては、真空処理室3内及び真空ポンプ4内は真空域であり、弁箱11内は低圧または大気圧であるため、処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30を容易に移動させることができない場合がある。つまり、処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30を円滑に移動させるには、弁箱11内も真空域にして、弁箱11内の圧力と真空処理室3内及び真空ポンプ4内の圧力とを同等にする必要がある。
Here, during the operation from the open state to the closed state, the inside of the vacuum processing chamber 3 and the vacuum pump 4 are in a vacuum region, and the inside of the
そこで、開閉弁6を閉弁すると共に開閉弁8を開弁することにより、弁箱11内と真空処理室3内と真空ポンプ4内との圧力が均一となるので、処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30を円滑に移動させることができる。
Therefore, by closing the on-off valve 6 and opening the on-off valve 8, the pressures in the
同様に、閉弁状態から開弁状態の動作時においては、真空処理室3内及び真空ポンプ4内の圧力と弁箱11内とに圧力差があるため、処理室側閉弁板32及びポンプ側閉弁板33を容易に移動することができない場合がある。つまり、処理室側閉弁板32及びポンプ側閉弁板33を円滑に移動させるには、弁箱11内の圧力と真空処理室3内の圧力と真空ポンプ4内の圧力とを同等にする必要がある。
Similarly, during the operation from the valve closing state to the valve opening state, there is a pressure difference between the pressure in the vacuum processing chamber 3 and the vacuum pump 4 and the
そこで、開閉弁6,8を開弁することにより、弁箱11内と真空処理室3内と真空ポンプ4内との圧力が均一となるので、処理室側閉弁板32及びポンプ側閉弁板33を円滑に移動させることができる。
Therefore, by opening the on-off valves 6 and 8, the pressures in the
また、図5に示すように、閉弁時に移動した処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30と対応する前記弁箱に処理室側点検口42及びポンプ側点検口43と形成させてもよい。この点検口42,43には蓋部44,45が開閉可能に支持されている。図5では、蓋部44は閉状態を示し、蓋部45は開状態を示している。これにより、閉弁時において、蓋部44,45を開状態にして、処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30と連通路35に付着した反応生成物の堆積具合を点検することが可能であり、また、反応生成物を除去することができる。よって、メンテナンス費用やランニングコストの低減を図ることができる。更に、蓋部44,45を透明な素材で形成させておけば、開状態にしなくても点検ができる。
Further, as shown in FIG. 5, the processing chamber
従って、上述した構成をなすことにより、開弁状態において、弁箱11内と連通路35とを隔離することができるので、弁箱11内への反応生成物の浸入を防ぐことができる。また、開弁状態に専用で使用する開弁体28と、閉弁状態で使用する閉弁体31とを備えることにより、開弁状態及び閉弁状態において、常にシール面13a,14aがシールされているので、反応生成物の付着を防止することができる。
Therefore, by making the above-described configuration, the
これにより、リークの発生を防止することができ、真空度の低下を招くこともない。また、弁箱11内の堆積物の除去作業が低減でき、メンテナンスの長期化を図ることができる。しかも、リークのために閉弁ができなくなるという問題がないので、処理室内をクリーニングする際にも、ポンプを停止させることがないので、装置を再稼動するまでの時間を要しない。
Thereby, generation | occurrence | production of a leak can be prevented and the fall of a vacuum degree is not caused. Moreover, the removal work of the deposit in the
そして、ステム20が摺動しても、ケース12内においてベローズ17を設置することで気密性が低下することがない。しかも、ベロー受け18の突起部18aを長穴21に挿入しているので、ステム20の摺動に対して、ベローズ17が容易に伸縮できるようになっている。また、ローラ26,27を設置することにより開弁体28及び閉弁体31の上下方向の移動をスムーズにすると共に、コロ38,39を設置することにより開弁体28及び閉弁体31の弁箱11の中央側または側壁側への移動をスムーズに行える。
Even if the
なお、ハンドル22により開弁体28及び閉弁体31を移動できるようにしたが、エアーや油圧を用いたシリンダ等でも構わない。
Although the
従って、本発明に係る真空ゲート弁によれば、処理室側排気口13及びポンプ側排気口14に設けられた対向するシール面13a及びシール面14aを開閉する真空ゲート弁2であって、開弁時にシール面13a,14aに当接し、かつ処理室側排気口13とポンプ側排気口14との間を連通させる開弁体28と、閉弁時にシール面13a,14aに当接し、かつ処理室側排気口13とポンプ側排気口14との間を遮断させる閉弁体31と、開弁体28と閉弁体31とを収納する弁箱11と、弁箱11内で開弁体28と閉弁体31とをシール面13a,14aに対し交換時に移動させるハンドル22とを備えることにより、シール面13a,14aへの反応生成物の付着を防ぎ、リークの発生を防止することができる。
Therefore, the vacuum gate valve according to the present invention is a
また、開弁体28に処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30を備えると共に、閉弁体31に処理室側閉弁板32及びポンプ側閉弁板33とを備え、処理室側開弁板29のシール面29b及びポンプ側開弁板30のシール面30b、または処理室側閉弁板32のシール面32a及びポンプ側閉弁板33シール面33aをシール面13a及びシール面14aに着脱にするリンク部材36,37を備えることにより、開閉時においてシール面13a,14aをシールすることができるので、リークの発生を防止することができる。
The
また、処理室側開弁板29とポンプ側開弁板30との間にベローズ34を備えることにより、連通路35と弁箱11内とを隔離することができるので、弁箱11内への反応生成物の浸入を防ぐことができ、リークの発生を防止することができる。
Further, by providing the
また、弁箱11に開閉可能な蓋部44,45を有する点検口42,43を形成すると共に、該点検口42,43を閉弁時に移動した処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30と対向する位置に設けることにより、閉弁時に処理室側開弁板29及びポンプ側開弁板30と連通路35に付着した反応生成物の堆積具合を点検することが可能となり、また、反応生成物を容易に除去することができるので、メンテナンス費用やランニングコストの低減を図ることができる。
Further, the
更に、開弁状態から閉弁状態または閉弁状態から開弁状態に操作するときに、開閉弁6,8の少なくともどちらか一方を開状態とし、操作終了後に開閉弁6,8を閉状態とすることにより、弁箱11内と真空処理室3内または真空ポンプ4内との圧力が均一となるので、開弁板29,30及び閉弁板32,33の操作を円滑に行うことができる。
Further, when operating from the open state to the closed state or from the closed state to the open state, at least one of the on / off valves 6 and 8 is opened, and after the operation is finished, the on / off valves 6 and 8 are closed. As a result, the pressure in the
開弁状態で使用する弁体と、閉弁状態で使用する弁体との2つの弁体を備える真空ゲート弁に適用可能である。 The present invention can be applied to a vacuum gate valve including two valve bodies, that is, a valve body used in a valve-open state and a valve body used in a valve-closed state.
1 真空処理装置
2 真空ゲート弁
3 真空処理室
4 真空ポンプ
5,7 配管
6,8 開閉弁
11 弁箱
12 ケース
13 処理室側排気口
13a シール面
14 ポンプ側排気口
14a シール面
15 処理室側連通路
16 ポンプ側連通路
17,34 ベローズ
18,19 ベロー受け
18a 突起部
20 ステム
20a ねじ部
21 長穴
22 ハンドル
22a ねじ部
23 弁ホルダー
24 上部ローラホルダー
25 下部ローラホルダー
26,27 ローラ
28 開弁体
29 処理室側開弁板
29a 連通穴
29b シール面
30 ポンプ側開弁板
30a 連通穴
30b シール面
31 閉弁体
32 処理室側閉弁板
32a シール面
33 ポンプ側閉弁板
33a シール面
35 連通路
36,37 リンク部材
36a,37a 連結部
36b,37b 支持部
38,39 コロ
40,41 ストッパー部
42 処理室側点検口
43 ポンプ側点検口
44,45 蓋部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (6)
開弁時に前記シール面に当接し、かつ前記通り道を連通させる開弁体と、
閉弁時に前記シール面に当接し、かつ前記通り道を遮断させる閉弁体と、
前記開弁体と前記閉弁体とを収納する弁箱と、
前記弁箱内で前記開弁体と前記閉弁体とを前記シール面に対し交換的に移動させる弁体移動手段とを備える
ことを特徴とするゲート弁。 A gate valve that opens and closes an opposing seal surface provided in a fluid passageway;
A valve-opening body that is in contact with the seal surface when the valve is opened and that allows the passage to communicate;
A valve closing body that abuts the seal surface when the valve is closed and blocks the passage;
A valve box that houses the valve opening body and the valve closing body;
A gate valve comprising: valve body moving means for exchanging the valve opening body and the valve closing body with respect to the seal surface in the valve box.
前記開弁体と前記閉弁体とに一対の弁板を備え、
前記一対の弁板を前記シール面に着脱するリンク機構を備える
ことを特徴とするゲート弁。 The gate valve according to claim 1, wherein
The valve opening body and the valve closing body are provided with a pair of valve plates,
A gate valve comprising a link mechanism for attaching and detaching the pair of valve plates to and from the seal surface.
前記開弁体の前記一対の弁板間にベローズを備える
ことを特徴とするゲート弁。 The gate valve according to claim 2,
A gate valve comprising a bellows between the pair of valve plates of the valve opening body.
前記弁箱に開閉可能な点検口を形成すると共に、該点検口を閉弁時に移動した前記開弁体と対向する位置に設ける
ことを特徴とするゲート弁。 The gate valve according to any one of claims 1 to 3,
A gate valve characterized in that an inspection port that can be opened and closed is formed in the valve box, and the inspection port is provided at a position facing the valve opening that has moved when the valve is closed.
前記弁箱に開閉により前記弁箱内の流体を供排する2つの開閉弁を設け、
開弁状態から閉弁状態または閉弁状態から開弁状態に操作するときに、少なくともどちらか一方の前記開閉弁を開状態とし、操作終了後に前記2つの開閉弁を閉状態とする
ことを特徴とするゲート弁。 The gate valve according to any one of claims 1 to 4,
Two on-off valves for supplying and discharging fluid in the valve box by opening and closing the valve box are provided,
When operating from a valve-opened state to a valve-closed state or from a valve-closed state to a valve-opened state, at least one of the on-off valves is opened, and the two on-off valves are closed after completion of the operation. And gate valve.
開弁時に前記処理室側のシール面と前記ポンプ側のシール面とに一対の弁板が当接することで前記連通路を形成させる開弁体と、
閉弁時に前記処理室側のシール面と前記ポンプ側のシール面とに一対の弁板が当接して、前記連通路を遮断させる閉弁体と、
前記開弁体と前記閉弁体とを収納する弁箱と、
前記弁箱内で前記開弁体と前記閉弁体とを前記シール面に対し交換的に移動させる弁体移動手段と、
前記開弁体及び前記閉弁体の前記一対の弁板を前記シール面に着脱するリンク機構と、
前記開弁体の前記一対の弁板間に設けられ、かつ前記弁箱内と前記連通路内とを隔離するベローズと、
閉弁時に移動した前記開弁体と対応するように前記弁箱に形成され、かつ開閉可能な蓋部を有する点検口と、
前記弁箱内と前記処理室内とを連通する配管に設けられた処理室側開閉弁と、
前記弁箱内と前記ポンプとを連通する配管に設けられたポンプ側開閉弁とを備える
ことを特徴とする真空ゲート弁。 In the vacuum gate valve that opens and closes the communication path provided between the processing chamber side and the pump side,
A valve-opening body that forms the communication path by a pair of valve plates coming into contact with the sealing surface on the processing chamber side and the sealing surface on the pump side when the valve is opened;
A valve closing body that shuts off the communication path by a pair of valve plates coming into contact with the sealing surface on the processing chamber side and the sealing surface on the pump side when the valve is closed;
A valve box that houses the valve opening body and the valve closing body;
Valve body moving means for exchanging the valve opening body and the valve closing body with respect to the seal surface in the valve box;
A link mechanism for attaching and detaching the pair of valve plates of the valve opening body and the valve closing body to and from the seal surface;
A bellows provided between the pair of valve plates of the valve-opening body and separating the inside of the valve box and the inside of the communication path;
An inspection port formed on the valve box so as to correspond to the valve-opening body moved when the valve is closed, and having a lid that can be opened and closed;
A processing chamber side on-off valve provided in a pipe communicating the inside of the valve box and the processing chamber;
A vacuum gate valve, comprising: a pump-side on / off valve provided in a pipe communicating the inside of the valve box and the pump.
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102261516A (en) * | 2010-04-16 | 2011-11-30 | 亚威科股份有限公司 | Valve, Method For Operating Valve And Vaccuum Processing Appratus |
JP5011382B2 (en) * | 2007-05-08 | 2012-08-29 | 東京エレクトロン株式会社 | Valve and processing apparatus provided with the valve |
CN106907497A (en) * | 2017-05-09 | 2017-06-30 | 凯阀控股集团有限公司 | A kind of ceramic gate valve |
CN107575641A (en) * | 2017-10-10 | 2018-01-12 | 深圳市大成精密设备有限公司 | A kind of pilot-operated type vacuum valve |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008049353A1 (en) | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Vat Holding Ag | vacuum valve |
TWI385329B (en) * | 2008-11-21 | 2013-02-11 | V Tex Corp | Vacuum gate valve and its opening and closing method |
KR101065127B1 (en) * | 2009-02-12 | 2011-09-16 | 지에스칼텍스 주식회사 | Fractionator and drive control method of the same |
US8877001B2 (en) * | 2009-05-07 | 2014-11-04 | Applied Materials, Inc. | Shuttered gate valve |
KR101123299B1 (en) * | 2010-02-04 | 2012-03-20 | (주)엘티엘 | Vacuum isolation apparatus and manufacturing equipment for display device having the same |
TWI448635B (en) * | 2010-04-14 | 2014-08-11 | Wue Shyang Machinery Co Ltd | Two-way control valve |
EP2913573A1 (en) * | 2014-02-26 | 2015-09-02 | VAT Holding AG | Vacuum valve |
KR102206551B1 (en) * | 2019-03-25 | 2021-01-25 | 주식회사 에이씨엔 | Substrate treating apparatus |
-
2004
- 2004-07-28 JP JP2004219658A patent/JP2006038121A/en active Pending
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2005
- 2005-04-27 TW TW094113438A patent/TWI287075B/en active
- 2005-05-23 KR KR1020050042910A patent/KR100666894B1/en active IP Right Grant
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5011382B2 (en) * | 2007-05-08 | 2012-08-29 | 東京エレクトロン株式会社 | Valve and processing apparatus provided with the valve |
CN102261516A (en) * | 2010-04-16 | 2011-11-30 | 亚威科股份有限公司 | Valve, Method For Operating Valve And Vaccuum Processing Appratus |
CN106907497A (en) * | 2017-05-09 | 2017-06-30 | 凯阀控股集团有限公司 | A kind of ceramic gate valve |
CN107575641A (en) * | 2017-10-10 | 2018-01-12 | 深圳市大成精密设备有限公司 | A kind of pilot-operated type vacuum valve |
CN107575641B (en) * | 2017-10-10 | 2023-12-29 | 深圳市大成精密设备股份有限公司 | Pilot-operated vacuum valve |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200604457A (en) | 2006-02-01 |
KR20060046137A (en) | 2006-05-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080310 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080318 |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080708 |