KR101867125B1 - Gate valve and substrate processing apparatus - Google Patents

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KR101867125B1 KR1020140129214A KR20140129214A KR101867125B1 KR 101867125 B1 KR101867125 B1 KR 101867125B1 KR 1020140129214 A KR1020140129214 A KR 1020140129214A KR 20140129214 A KR20140129214 A KR 20140129214A KR 101867125 B1 KR101867125 B1 KR 101867125B1
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

반송 중인 기판 상에의 파티클의 낙하를 억제할 수 있는 게이트 밸브 및 그러한 게이트 밸브를 이용한 기판 처리 장치를 제공한다. 게이트 밸브(70a)는, 처리실(30a)의 반입출구의 개폐에 이용되는 것이며, 반입출구(61a)에 연통하는 개구부(71a)가 형성된 벽부(71b)와, 개구부(71a)를 개폐하는 밸브체(72)와, 밸브체(72)를, 개구부(71a)를 폐색하는 폐색 위치와, 개구부(71a)로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동시키는 밸브체 이동부(73)와, 벽부(71b)의 개구부(71a)의 주위에 마련된 제 1 시일부(81)와, 밸브체(72)에 마련되며, 밸브체(72)가 개구부(71a)를 폐색할 때에, 제 1 시일부(81)에 대응하는 위치에서 제 1 시일부(81)와 협동하여 밸브체(72)와 벽부(71b) 사이를 시일하는 제 2 시일부(82)를 갖는다. 제 1 시일부(81)는 시일 부분의 주위로부터 이탈하는 파티클을 보지하는 파티클 보지부(85)를 갖는다.A gate valve capable of suppressing the falling of particles on a substrate being conveyed, and a substrate processing apparatus using such a gate valve. The gate valve 70a is used for opening and closing the inlet and outlet of the processing chamber 30a and includes a wall portion 71b having an opening 71a communicating with the inlet and outlet 61a, A valve body moving portion 73 for moving the valve body 72 between a closed position for closing the opening 71a and a retracted position retracted from the opening 71a, The first sealing portion 81 provided around the opening 71a and the first sealing portion 81 provided on the valve body 72 correspond to the first sealing portion 81 when the valve body 72 closes the opening 71a And a second seal portion 82 for sealing between the valve body 72 and the wall portion 71b in cooperation with the first seal portion 81 at a position where the valve body 72 and the wall portion 71b are located. The first seal portion 81 has a particle retaining portion 85 for retaining particles which are separated from the periphery of the seal portion.

Description

게이트 밸브 및 기판 처리 장치{GATE VALVE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}[0001] DESCRIPTION [0002] GATE VALVE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS [

본 발명은 기판에 소정의 처리를 실시하는 처리 장치에 있어서의 처리실의 개폐에 이용되는 게이트 밸브 및 그것을 이용한 기판 처리 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gate valve used for opening and closing a processing chamber in a processing apparatus that performs a predetermined process on a substrate and a substrate processing apparatus using the same.

액정 디스플레이(LCD)를 대표하는 플랫 패널 디스플레이(FPD)나 태양 전지 등의 제조 과정에서는, 대형의 유리 기판에 대해, 에칭이나 성막 등의 소정의 처리를 실시하는 처리 장치에 있어서의 처리실을 복수 구비한 멀티 하우징 타입의 처리 시스템이 알려져 있다(예컨대, 특허문헌 1).BACKGROUND ART [0002] In a manufacturing process of a flat panel display (FPD) or a solar cell representing a liquid crystal display (LCD), a large number of processing chambers in a processing apparatus for performing predetermined processing such as etching or film formation A multi-housing type processing system is known (for example, Patent Document 1).

이와 같은 멀티 하우징 타입의 기판 처리 시스템은 기판(피처리체)을 반송하는 반송 장치가 마련된 공통 반송실을 갖고, 이 공통 반송실의 주위에, 처리실이나, 공통 반송실과 대기압 분위기 사이에 미처리의 기판과 처리 완료의 기판을 교환하는 로드록실 등을 구비하고 있다. 이들 공통 반송실, 처리실 및 로드록실은 배기 기구를 이용하여 배기함으로써 내부가 진공 상태가 되어 진공 용기로서 기능한다.Such a multi-housing type substrate processing system has a common transfer chamber provided with a transfer device for transferring a substrate (object to be processed), and a process chamber, an untreated substrate between the common transfer chamber and the atmospheric pressure atmosphere And a load lock chamber for replacing the processed substrate. These common transport chambers, treatment chambers, and load lock chambers are evacuated by using an exhaust mechanism, so that the inside is evacuated and functions as a vacuum chamber.

이들 처리실이나 로드록실 등의 진공 용기에는 피처리체를 출납하기 위한 개구부가 마련되어 있으며, 개구부는 게이트 밸브를 이용하여 개폐된다. 개구부를 게이트 밸브에 의해 폐쇄함으로써, 처리실이나 로드록실의 내부는 기밀하게 시일된다.These vacuum chambers, such as the process chamber and the load lock chamber, are provided with openings for inserting and removing objects to be processed, and the openings are opened and closed by using gate valves. By closing the opening by the gate valve, the interior of the processing chamber or the load lock chamber is sealed in an airtight manner.

게이트 밸브는, 상기 특허문헌 1에 기재되어 있는 바와 같이, 처리실의 기판을 반입출하기 위한 반입출구에 연통하는 개구부가 형성된 하우징과, 개구부를 개폐하기 위한 밸브체와, 밸브체를 구동하는 구동부를 갖고 있다. 하우징의 개구부가 형성된 벽부의 개구부의 주위 부분에는 시일부를 갖고 있으며, 밸브체가 개구부에 위치한 상태에서, 밸브체를 시일부에 마련된 O링에 가압하는 것에 의해, 개구부가 밀폐되도록 되어 있다.The gate valve includes a housing having an opening communicating with an inlet and an outlet for loading and unloading a substrate of the processing chamber, a valve body for opening and closing the opening, and a driving portion for driving the valve body, as described in Patent Document 1 have. The opening portion is sealed by pressing the valve body against the O-ring provided in the seal portion in a state in which the valve body is located in the opening portion in the peripheral portion of the opening portion of the wall portion where the opening of the housing is formed.

일본 특허 공개 제 1993-196150 호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 1993-196150

그런데, 처리 장치가 기상 반응에 의한 성막 처리를 실행하는 경우, 개구부의 주위에 처리 가스의 성분이 돌아 들어감으로써, 기상 반응에 의해 퇴적물이 생겨 파티클로서 부착되는 경우가 있다. 특히, 시일부의 주위는 폐공간으로 되어 있기 때문에, 처리 가스의 성분에 의한 퇴적물이 생기기 쉽다. 그 경우에는, 게이트 밸브(밸브체)의 개폐 동작에 의해, 시일부의 주위에 부착되어 있는 파티클이 불안정해져서, 반송 중의 기판에 낙하할 우려가 있다. 기판 위에 파티클이 낙하하면 결함의 원인이 되어, 제품 불량이 되어버린다.However, when the processing apparatus performs the film forming process by the vapor phase reaction, the components of the process gas flow around the openings, so that sediments are formed by the vapor phase reaction and adhere as particles. In particular, since the periphery of the seal portion is a closed space, sediments due to the components of the process gas are liable to be generated. In this case, the particles attached to the periphery of the seal portion become unstable by the opening and closing operation of the gate valve (valve body), and there is a fear that the particles fall on the substrate during transportation. If particles fall on the substrate, it will cause defects, resulting in product defects.

본 발명은 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 반송 중의 기판 상으로의 파티클의 낙하를 억제할 수 있는 게이트 밸브 및 그러한 게이트 밸브를 이용한 기판 처리 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of such circumstances, and it is an object of the present invention to provide a gate valve capable of suppressing the falling of particles onto a substrate during transportation and a substrate processing apparatus using such a gate valve.

상기 과제를 해결하기 위해서, 본 발명의 제 1 관점에 있어서는, 기판에 소정의 처리를 실시하는 처리 장치에 있어서의 처리실의 반입출구의 개폐에 이용되는 게이트 밸브로서, 상기 반입출구에 연통하는 개구부가 형성된 벽부와, 상기 개구부를 개폐하는 밸브체와, 상기 밸브체를, 상기 개구부를 폐색하는 폐색 위치와 상기 개구부로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동시키는 밸브체 이동부와, 상기 벽부의 개구부의 주위에 마련된 제 1 시일부와, 상기 밸브체에 마련되며, 상기 밸브체가 상기 개구부를 폐색할 때에, 상기 제 1 시일부에 대응하는 위치에서 상기 제 1 시일부와 협동하여 상기 밸브체와 상기 벽부 사이를 시일하는 제 2 시일부를 갖고, 상기 제 1 시일부는, 상기 제 1 시일부와 상기 제 2 시일부에 의해 형성되는 시일 부분의 주위로부터 이탈하는 파티클을 보지하는 파티클 보지부를 갖는 것을 특징으로 하는 게이트 밸브를 제공한다.In order to solve the above problems, according to a first aspect of the present invention, there is provided a gate valve used for opening and closing an inlet and an outlet of a process chamber in a processing apparatus that performs a predetermined process on a substrate, A valve body for moving the valve body between a closed position for closing the opening and a retracted position retracted from the opening; a valve body moving part for moving the valve body around the opening of the wall part; And a second seal portion provided on the valve body and configured to cooperate with the first seal portion at a position corresponding to the first seal portion to seal the valve body and the wall portion when the valve body closes the opening portion Wherein the first seal portion has a first seal portion and a second seal portion, and the first seal portion has a second seal portion for sealing the seal portion formed by the first seal portion and the second seal portion, And a particle retaining portion for retaining a particle to be held by the particle retaining portion.

상기 제 1 관점에 있어서, 상기 파티클 보지부는 상기 벽부의 상기 밸브체 측에 상기 개구부를 둘러싸도록 마련된 환상을 이루는 제 1 오목부를 갖는 구성으로 할 수 있다. 상기 제 1 오목부는 상기 개구부를 둘러싸도록 돌출하여 마련된 2개의 프레임부의 사이에 형성되거나, 또는 상기 벽부의 상기 밸브체측의 면에 형성되는 것으로 할 수 있다. 상기 제 2 시일부는 상기 밸브체의 상기 개구부를 폐색하는 폐색면에 상기 제 1 오목부에 삽입되는 환상의 돌출부를 갖는 구성으로 할 수 있다. 혹은, 상기 제 2 시일부는, 상기 제 1 시일부와의 사이에 래비린스 시일을 형성하도록, 상기 밸브체에 형성된 환상을 이루는 제 2 오목부를 갖는 구성으로 할 수 있다. 이러한 경우에, 상기 제 2 오목부는 상기 밸브체의 상기 폐색면에 형성되거나, 또는 상기 폐색면으로부터 돌출하여 마련된 2개의 프레임부의 사이에 형성되는 것으로 할 수 있다.In the first aspect, the particle retaining portion may have an annular first recessed portion provided on the valve body side of the wall portion so as to surround the opening portion. The first concave portion may be formed between two frame portions protruding to surround the opening portion or may be formed on a surface of the wall portion on the side of the valve body. And the second seal portion may have an annular protrusion that is inserted into the first recessed portion on the occluding surface for occluding the opening portion of the valve element. Alternatively, the second seal portion may have an annular second concave portion formed in the valve body so as to form a labyrinth seal between the second seal portion and the first seal portion. In this case, the second concave portion may be formed on the occluding surface of the valve element, or may be formed between two frame portions protruding from the occluding surface.

상기 제 1 관점에 있어서, 상기 파티클 보지부는 상기 개구부를 둘러싸도록 상기 벽부의 상기 밸브체측의 면으로부터 돌출하여 마련된 프레임부를 갖는 구성으로 할 수 있다. 이러한 경우에, 상기 제 2 시일부는 상기 밸브체의 상기 개구부를 폐색하는 폐색면에 상기 프레임부가 삽입되는 오목부를 갖는 구성으로 할 수 있다.In the first aspect, the particle retaining portion may have a frame portion protruding from the surface of the wall portion on the valve body side so as to surround the opening portion. In this case, the second seal portion may have a recessed portion into which the frame portion is inserted, on a closed surface for closing the opening portion of the valve element.

상기 제 1 관점에 있어서, 상기 파티클 보지부는, 상기 개구부의 위쪽에 상기 벽부의 상기 밸브체측의 면으로부터 차양 형상으로 돌출하여 마련된 돌출부를 갖는 구성으로 할 수 있다. 이러한 경우에, 상기 제 2 시일부는 상기 밸브체의 상기 개구부를 폐색하는 폐색면에 상기 돌출부가 삽입되는 오목부를 갖는 구성으로 할 수 있다.In the first aspect, the particle retaining portion may have a protruding portion provided above the opening portion, the protruding portion protruding in an oblong shape from the surface of the wall portion on the valve body side. In this case, the second seal portion may have a recessed portion into which the protruding portion is inserted on the occluding surface for occluding the opening portion of the valve element.

상기 제 1 관점에 있어서, 상기 제 1 시일부 및 상기 제 2 시일부 중 어느 하나는 시일 부재를 갖고, 상기 제 1 시일부 및 상기 제 2 시일부 중 다른 하나는 상기 시일 부재가 접촉하는 시일면을 가지며, 상기 밸브체가 상기 개구부를 폐색할 때에, 상기 시일 부재가 상기 시일면에 가압되도록 할 수 있다.Wherein one of the first seal portion and the second seal portion has a seal member and the other of the first seal portion and the second seal portion has a seal surface And when the valve body closes the opening, the sealing member can be pressed against the sealing surface.

상기 제 1 관점에 있어서, 상기 밸브체는 상기 밸브체 이동부측의 제 1 부분과, 상기 폐색면을 포함하는 제 2 부분을 갖고, 상기 제 2 부분이 상기 제 1 부분으로부터 분리 가능하게 구성되어 있어도 좋다. 이러한 경우에, 상기 제 2 부분은 상기 처리실측으로부터 분리 가능하게 구성되는 것이 바람직하다.In the first aspect, it is preferable that the valve body has a first portion on the valve body moving portion side and a second portion including the blocking surface, and the second portion is detachable from the first portion good. In this case, it is preferable that the second portion is configured to be detachable from the processing chamber side.

상기 제 1 관점에 있어서, 상기 처리 장치는 복수의 기판을 처리하는 것이며, 상기 처리실은 복수의 기판을 처리하기 위한 복수의 처리 공간을 갖고, 상기 반입출구는 복수의 상기 처리 공간에 대응하여 복수 마련되며, 상기 벽부에는 복수의 상기 반입출구에 대응하여 상기 개구부가 복수 마련되며, 상기 밸브체를 복수의 상기 개구부에 대응하여 복수 갖는 것으로 할 수 있다.In the first aspect, it is preferable that the processing apparatus is for processing a plurality of substrates, the processing chamber has a plurality of processing spaces for processing a plurality of substrates, the loading / A plurality of the openings corresponding to the plurality of the loading / unloading outlets are provided in the wall portion, and a plurality of the valve bodies may be provided corresponding to the plurality of the openings.

본 발명의 제 2 관점에서는, 기판을 처리하는 처리실과, 상기 처리실 내에서 소정의 처리를 실행하는 처리 기구와, 상기 처리실에 마련된 기판의 반입출구를 개폐하는 게이트 밸브를 갖고, 상기 게이트 밸브는 상기 반입출구에 연통하는 개구부가 형성된 벽부와, 상기 개구부를 개폐하는 밸브체와, 상기 밸브체를, 상기 개구부를 폐색하는 폐색 위치와 상기 개구부로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동시키는 밸브체 이동부와, 상기 벽부의 개구부의 주위에 마련된 제 1 시일부와, 상기 밸브체에 마련되며, 상기 밸브체가 상기 개구부를 폐색할 때에, 상기 제 1 시일부에 대응하는 위치에서 상기 제 1 시일부와 협동하여 상기 밸브체와 상기 벽부 사이를 시일하는 제 2 시일부를 갖고, 상기 제 1 시일부는 상기 제 1 시일부와 상기 제 2 시일부에 의해 형성되는 시일 부분의 주위로부터 이탈하는 파티클을 보지하는 파티클 보지부를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치를 제공한다.According to a second aspect of the present invention, there is provided a plasma processing apparatus comprising: a processing chamber for processing a substrate; a processing mechanism for performing a predetermined process in the processing chamber; and a gate valve for opening and closing a loading / unloading port of the substrate provided in the processing chamber, A valve body for opening and closing the opening; a valve body moving portion for moving the valve body between a closed position for closing the opening and a retracted position retracted from the opening; A first seal portion provided around the opening portion of the wall portion; and a second seal portion provided on the valve body and cooperating with the first seal portion at a position corresponding to the first seal portion when the valve body closes the opening portion, And a second seal portion for sealing between the valve body and the wall portion, wherein the first seal portion is formed by the first seal portion and the second seal portion Provides a substrate processing apparatus characterized in that it has a particle not for holding the particles to escape from the periphery of the sealing part parts.

상기 제 2 관점에 있어서, 상기 처리실은 복수의 기판을 처리하기 위한 복수의 처리 공간을 갖고, 상기 반입출구는 복수의 상기 처리 공간에 대응하여 복수 마련되며, 상기 게이트 밸브는 상기 벽부에 복수의 상기 반입출구에 대응하여 상기 개구부를 복수 갖고, 상기 밸브체를 복수의 상기 개구부에 대응하여 복수 갖는 것으로 할 수 있다.In the second aspect, the processing chamber has a plurality of processing spaces for processing a plurality of substrates, a plurality of the loading / unloading outlets are provided corresponding to the plurality of processing spaces, and the gate valve includes a plurality of A plurality of the openings corresponding to the loading and unloading ports, and a plurality of the valve bodies corresponding to the plurality of the openings.

본 발명에 의하면, 개구부가 형성된 벽부의 개구부의 주위에 마련된 제 1 시일부와, 밸브체에 마련되며, 밸브체가 개구부를 폐색할 때에, 제 1 시일부에 대응하는 위치에서 제 1 시일부와 협동하여 밸브체와 벽부 사이를 시일하는 제 2 시일부를 갖는 게이트 밸브에 있어서, 제 1 시일부에 개구부의 주위에 부착되는 파티클을 보지하는 파티클 보지부를 마련했으므로, 반송 중인 기판 상으로의 파티클의 낙하를 억제할 수 있다.According to the present invention, there is provided a valve device comprising: a first sealing portion provided around an opening portion of a wall portion having an opening portion formed therein; and a second sealing portion provided on the valve body and cooperating with the first sealing portion at a position corresponding to the first sealing portion, And a second seal portion that seals between the valve body and the wall portion. The first seal portion is provided with the particle retaining portion for retaining the particles adhering to the periphery of the opening portion, so that the falling of the particles onto the substrate .

도 1은 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브를 갖는 기판 처리 시스템을 개략적으로 도시하는 평면도,
도 2는 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브의 기본예를 도시하는 종단면도,
도 3은 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브의 기본예에 있어서의 제 1 시일부를 도시하는 정면도,
도 4는 본 발명의 제 1 실시형태에 있어서의 게이트 밸브의 기본예에 있어서의 밸브체를 도시하는 정면도,
도 5는 본 발명의 제 1 실시형태에 있어서의 게이트 밸브의 동작을 설명하기 위한 도면,
도 6은 종래의 게이트 밸브에 있어서, 반송 중의 기판 위에 파티클이 낙하하는 현상을 설명하기 위한 도면,
도 7은 본 발명의 제 1 실시형태에 있어서의 게이트 밸브를 이용했을 때의 게이트 밸브를 개방하고 기판을 반송하는 상태를 도시하는 도면,
도 8은 본 발명의 제 1 실시형태에 있어서의 게이트 밸브의 제 1 변형예를 도시하는 종단면도,
도 9는 본 발명의 제 1 실시형태에 있어서의 게이트 밸브의 제 2 변형예를 도시하는 종단면도,
도 10은 본 발명의 제 1 실시형태에 있어서의 게이트 밸브의 제 3 변형예를 도시하는 종단면도,
도 11은 본 발명의 제 1 실시형태에 있어서의 게이트 밸브의 제 4 변형예를 도시하는 종단면도,
도 12는 본 발명의 제 1 실시형태에 있어서의 게이트 밸브의 제 5 변형예를 도시하는 종단면도,
도 13은 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브의 유지보수성을 고려한 제 1 구성예를 도시하는 종단면도,
도 14는 제 1 구성예의 게이트 밸브를 유지보수할 때의 동작을 설명하는 도면,
도 15는 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브의 유지보수성을 고려한 제 2 구성예를 도시하는 종단면도,
도 16은 제 2 구성예의 게이트 밸브를 유지보수할 때의 동작을 설명하는 도면,
도 17은 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브의 유지보수성을 고려한 제 3 구성예를 도시하는 종단면도,
도 18은 제 3 구성예의 게이트 밸브를 유지보수할 때의 동작을 설명하는 도면,
도 19는 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브의 유지보수성을 고려한 제 4 구성예를 도시하는 종단면도,
도 20은 제 4 구성예의 게이트 밸브를 유지보수할 때의 동작을 설명하는 도면,
도 21은 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브의 유지보수성을 고려한 제 5 구성예를 도시하는 종단면도,
도 22는 제 5 구성예의 게이트 밸브를 유지보수할 때의 동작을 설명하는 도면,
도 23은 본 발명의 제 2 실시형태에 따른 게이트 밸브를 갖는 기판 처리 시스템에 이용되는 기판 반송 장치를 도시하는 측면도,
도 24는 본 발명의 제 2 실시형태에 따른 게이트 밸브를 도시하는 종단면도,
도 25는 본 발명의 제 2 실시형태에 따른 게이트 밸브의 동작을 설명하기 위한 도면.1 is a plan view schematically showing a substrate processing system having a gate valve according to a first embodiment of the present invention,
2 is a longitudinal sectional view showing a basic example of a gate valve according to the first embodiment of the present invention,
3 is a front view showing the first seal portion in the basic example of the gate valve according to the first embodiment of the present invention,
Fig. 4 is a front view showing a valve body in the basic example of the gate valve in the first embodiment of the present invention, Fig.
5 is a view for explaining the operation of the gate valve in the first embodiment of the present invention,
6 is a view for explaining a phenomenon in which a particle falls on a substrate during transport in a conventional gate valve,
7 is a view showing a state in which a gate valve is opened and a substrate is transported when a gate valve according to the first embodiment of the present invention is used;
8 is a longitudinal sectional view showing a first modification of the gate valve according to the first embodiment of the present invention,
9 is a longitudinal sectional view showing a second modification of the gate valve according to the first embodiment of the present invention,
10 is a longitudinal sectional view showing a third modification of the gate valve according to the first embodiment of the present invention,
11 is a longitudinal sectional view showing a fourth modification of the gate valve according to the first embodiment of the present invention,
12 is a longitudinal sectional view showing a fifth modified example of the gate valve according to the first embodiment of the present invention,
13 is a longitudinal sectional view showing a first configuration example in which maintenance of the gate valve according to the first embodiment of the present invention is taken into consideration;
14 is a view for explaining the operation when the gate valve of the first configuration example is maintained,
Fig. 15 is a longitudinal sectional view showing a second configuration example in which maintenance of the gate valve according to the first embodiment of the present invention is taken into consideration; Fig.
16 is a view for explaining the operation when maintenance of the gate valve of the second configuration example is performed,
17 is a vertical cross-sectional view showing a third configuration example in which the maintenance of the gate valve according to the first embodiment of the present invention is taken into account;
18 is a view for explaining the operation when maintenance of the gate valve of the third configuration example is performed,
19 is a longitudinal sectional view showing a fourth structural example taking account of the maintenance property of the gate valve according to the first embodiment of the present invention,
20 is a view for explaining the operation when maintenance of the gate valve of the fourth structural example is performed,
21 is a longitudinal sectional view showing a fifth structural example in which the maintenance performance of the gate valve according to the first embodiment of the present invention is taken into consideration;
22 is a view for explaining the operation when the gate valve according to the fifth configuration example is maintained,
23 is a side view showing a substrate transport apparatus used in a substrate processing system having a gate valve according to a second embodiment of the present invention,
24 is a longitudinal sectional view showing a gate valve according to a second embodiment of the present invention,
25 is a view for explaining the operation of the gate valve according to the second embodiment of the present invention;

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태에 대해 설명한다. 참조하는 도면 전체에 걸쳐서, 동일한 부분에 대해서는 동일한 참조 부호를 부여한다.BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals are used to designate like parts throughout the drawings.

<제 1 실시형태>&Lt; First Embodiment >

(제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브가 이용된 기판 처리 시스템)(Substrate processing system using the gate valve according to the first embodiment)

도 1은 본 발명의 제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브가 이용된 기판 처리 시스템을 개략적으로 도시하는 평면도이다. 이 기판 처리 시스템(1)은, 예컨대, 액정 디스플레이(LCD)와 같은 FPD용 유리 기판 혹은 태양 전지용 유리 기판으로서 이용되는 직사각형 기판에 대해 예컨대 에칭이나 성막 등의 처리를 실행하는 장치로서 구성되어 있다. 이들 처리는 플라즈마를 이용한 것이어도 좋고, 또한, 플라즈마화되지 않은 처리 가스를 이용한 것이어도 좋다.1 is a plan view schematically showing a substrate processing system using a gate valve according to a first embodiment of the present invention. The substrate processing system 1 is constituted as an apparatus for performing, for example, an etching or film forming process on a rectangular substrate used as an FPD glass substrate or a glass substrate for a solar cell, such as a liquid crystal display (LCD). These processes may be performed using plasma or may be performed using a process gas that is not plasmaized.

도 1에 도시하는 바와 같이, 기판 처리 시스템(1)은 진공으로 보지된 공통 반송실(10)과, 이 공통 반송실(10)에 접속되며, 진공으로 보지된 3개의 처리실(30a, 30b, 30c)과, 대기측에 배치된 기판 수용 용기(도시하지 않음)와 진공으로 보지된 공통 반송실(10) 사이에서 기판(G)을 교환하는 로드록실(40)과, 공통 반송실(10) 내에 마련된, 기판(G)을 반송하는 기판 반송 장치(50)를 구비하고 있다. 처리실(30a, 30b, 30c), 로드록실(40)은 공통 반송실(10)의 각 측면에 접속되어 있다. 처리실(30a, 30b, 30c)은 모두 진공 중에서 기판(G)에 에칭이나 성막 등의 처리 가스를 이용한 처리를 실행하는 처리 장치의 구성 부재로서 마련되며, 각 처리 장치는 처리실 이외에, 처리실 내에서 소정의 처리를 실행하기 위해서 필요 구성요소, 예컨대, 처리실 내에서 기판(G)을 지지하는 기구, 처리실 내를 소정의 감압 분위기로 유지하기 위한 배기 기구, 처리실 내에 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급 기구 등을 갖고 있다.1, the substrate processing system 1 includes a common transport chamber 10 held in vacuum, three processing chambers 30a, 30b, and 30c connected to the common transport chamber 10 and held in vacuum, A load lock chamber 40 for exchanging a substrate G between a substrate holding container (not shown) disposed on the atmosphere side and a vacuum chamber maintained in vacuum; And a substrate transfer device 50 for transferring the substrate G, The processing chambers 30a, 30b, and 30c and the load lock chamber 40 are connected to the respective side surfaces of the common transport chamber 10. The processing chambers 30a, 30b and 30c are all provided as constituent members of a processing apparatus for performing processing using a processing gas such as etching or film forming on the substrate G in vacuum. For example, a mechanism for supporting the substrate G in the processing chamber, an exhaust mechanism for maintaining the inside of the processing chamber in a predetermined reduced pressure atmosphere, a processing gas supply mechanism for supplying the processing gas into the processing chamber, etc. Lt; / RTI &gt;

또한, 로드록실(40)은 대기측에 배치된 기판 수용 용기(도시하지 않음)와, 진공으로 보지된 공통 반송실(10) 사이에서 기판(G)을 교환하기 위한 것이며, 대기 분위기와 감압 분위기 사이에서 전환 가능한 진공 예비실로서 기능한다.The load lock chamber 40 is for exchanging the substrate G between a substrate accommodating container (not shown) disposed on the atmosphere side and a common transport chamber 10 kept in vacuum, Which can be switched between.

공통 반송실(10)에는, 그 내부에 기판 반송 장치(50)가 마련되어 있는 동시에, 처리실(30a, 30b, 30c), 로드록실(40)에 대응하는 위치에 개구부(60)가 형성되어 있다. 한편, 처리실(30a, 30b, 30c)의 개구부(60)에 대응하는 위치에는 각각 기판(G)을 반입출하기 위한 반입출구(61a, 61b, 61c)가 마련되어 있다. 또한, 로드록실(40)의 개구부(60)에 대응하는 위치에는 개구부(62a)가 마련되어 있다. 그리고, 기판 반송 장치(50)에 의해, 개구부(60), 반입출구(61a, 61b, 61c) 및 개구부(62a)를 거쳐서 기판(G)의 반송이 실행된다.The substrate transport apparatus 50 is provided in the common transport chamber 10 and the openings 60 are formed at positions corresponding to the process chambers 30a, 30b and 30c and the load lock chamber 40. [ On the other hand, loading / unloading ports 61a, 61b and 61c for loading / unloading the substrate G are provided at positions corresponding to the openings 60 of the process chambers 30a, 30b and 30c, respectively. An opening 62a is provided at a position corresponding to the opening 60 of the load lock chamber 40. [ The substrate transfer device 50 transfers the substrate G through the opening 60, the loading / unloading ports 61a, 61b, and 61c, and the opening 62a.

공통 반송실(10)과 이들에 접속되어 있는 처리실(30a, 30b, 30c) 사이에는 각각 게이트 밸브(70a, 70b, 70c)가 마련되어 있다. 또한, 공통 반송실(10)과 로드록실(40) 사이에는 게이트 밸브(70d)가 마련되어 있다. 이들 게이트 밸브에 의해 반입출구(61a, 61b, 61c) 및 개구부(62a)가 개폐된다. 또한, 게이트 밸브(70a, 70b, 70c)는 처리실(30a, 30b, 30c)을 각각 포함하는 처리 장치의 구성요소로서도 기능한다.Gate valves 70a, 70b, and 70c are provided between the common transport chamber 10 and the process chambers 30a, 30b, and 30c connected to the common transport chamber 10, respectively. A gate valve 70d is provided between the common transport chamber 10 and the load lock chamber 40. [ These gate valves open / close the loading / unloading ports 61a, 61b, 61c and the opening 62a. The gate valves 70a, 70b, and 70c also function as components of the processing apparatus including the processing chambers 30a, 30b, and 30c, respectively.

로드록실(40)의 대기측에는 기판 처리 시스템(1)의 외부로 개방되는 개구부(62b)가 형성되어 있어서, 처리 전의 기판(G)의 로드, 처리 완료의 기판(G)의 언로드에 사용되며, 대기 상태 하에 개방된 게이트(63)에 의해 개폐된다.An opening 62b that opens to the outside of the substrate processing system 1 is formed on the atmosphere side of the load lock chamber 40 and is used for unloading the processed substrate G and the processed substrate G, And is opened and closed by a gate 63 that is opened in a standby state.

기판 반송 장치(50)는 기판을 지지하는 기판 지지 아암(51)과 선회 가능한 베이스 부재(52)에 의해 구성되어 있으며, 또한, 기판 지지 아암(51)은 베이스 부재(52) 상을 직선 주행 가능하게 구성되어 있으므로, 이에 의한 진출 퇴피 동작 및 선회 동작에 의해 처리실(30a, 30b, 30c) 및 로드록실(40)에 액세스 가능하게 되어 있다.The substrate transfer apparatus 50 is constituted by a substrate support arm 51 for supporting a substrate and a swingable base member 52. The substrate support arm 51 is capable of linearly running on the base member 52 The processing chambers 30a, 30b, and 30c and the load lock chamber 40 can be accessed by the advancing / retreating operation and the pivoting operation.

또한, 본 실시형태에서는, 3개의 처리실(30a, 30b, 30c)이 공통 반송실(10)을 둘러싸는 구성에 대해 설명하지만, 로드록실(40)과 직선 상태에 있는 처리실(30b)만을 갖는 단일의 처리실로 이루어지는 장치에 있어서도 마찬가지이다.In the present embodiment, the three treatment chambers 30a, 30b, and 30c surround the common transfer chamber 10, but only one treatment chamber 30b, which is in a straight line with the load lock chamber 40, And the like.

(제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브의 구성)(Configuration of Gate Valve According to First Embodiment)

다음으로 제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브에 대해 상세하게 설명한다.Next, the gate valve according to the first embodiment will be described in detail.

여기에서는, 공통 반송실(10)과 처리실(30a) 사이의 게이트 밸브(70a)를 예로 들어 설명한다. 게이트 밸브(70b, 70c)도 게이트 밸브(70a)와 마찬가지로 구성되어 있다. 또한, 게이트 밸브(70d)는 게이트 밸브(70a)와 마찬가지로 형성되어 있어도 좋지만, 처리 가스에 기인하는 파티클의 영향이 적기 때문에, 통상 이용하는 구성이어도 좋다.Here, the gate valve 70a between the common transport chamber 10 and the process chamber 30a will be described as an example. The gate valves 70b and 70c are also configured similarly to the gate valve 70a. The gate valve 70d may be formed in the same manner as the gate valve 70a, but it may be of a generally used structure because the influence of particles caused by the process gas is small.

도 2는 제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브(70a)의 기본예를 도시하는 종단면도이며, 도 3는 게이트 밸브의 제 1 시일부를 도시하는 정면도이며, 도 4는 밸브체를 도시하는 정면도이다.Fig. 2 is a longitudinal sectional view showing a basic example of the gate valve 70a according to the first embodiment, Fig. 3 is a front view showing the first seal portion of the gate valve, and Fig. 4 is a front view showing the valve body.

제 1 실시형태에 있어서의 게이트 밸브(70a)는 공통 반송실(10)과 처리실(30a) 사이에 마련된 하우징(71)을 갖고 있다. 하우징(71)의 처리실(30a)측의 수직 벽부(71b)에는 처리실(30a)의 반입출구(61a)에 대응하는 위치에 개구부(71a)가 형성되어 있다. 한편, 하우징(71)의 공통 반송실(10)측의 수직 벽부(71d)에는 공통 반송실(10)의 개구부(60)보다 큰 개구부(71c)가 형성되어 있다.The gate valve 70a in the first embodiment has a housing 71 provided between the common transport chamber 10 and the process chamber 30a. An opening 71a is formed in the vertical wall portion 71b of the housing 71 on the processing chamber 30a side at a position corresponding to the loading / unloading port 61a of the processing chamber 30a. An opening 71c larger than the opening 60 of the common transport chamber 10 is formed in the vertical wall portion 71d of the housing 71 on the common transport chamber 10 side.

게이트 밸브(70a)는, 또한, 하우징(71) 내에 마련된, 개구부(71a)를 개폐하는 밸브체(72)와, 밸브체(72)를 이동시키는 밸브체 이동부(73)를 갖고 있다. 밸브체(72)의 개구부(71a)측의 면은 개구부(71a)보다 대면적의 폐색면(72a)으로 되어 있으며, 밸브체(72)가 개구부(71a)를 폐색할 때에는, 폐색면(72a)이 개구부(71a) 및 그 주위를 덮도록 되어 있다. 밸브체 이동부(73)는 구동 기구(도시하지 않음)의 동력을 밸브체(72)에 전달하여 이동시키는 것이며, 승강 로드(74)와, 승강 로드(74)에 밸브체(72)를 연결하는 연결부(75)를 갖고 있다.The gate valve 70a further includes a valve body 72 provided in the housing 71 for opening and closing the opening 71a and a valve body moving part 73 for moving the valve body 72. [ The surface of the valve body 72 on the side of the opening 71a is larger than the surface of the opening 71a. When the valve body 72 closes the opening 71a, the closing surface 72a ) Covers the opening 71a and the periphery thereof. The valve body moving section 73 is configured to move the power of a driving mechanism (not shown) to the valve body 72 and move the valve body 72. The valve body moving section 73 includes a lifting rod 74 and a valve body 72 connected to the lifting rod 74 (Not shown).

구동 기구는 승강 기구 및 진퇴 기구(모두 도시하지 않음)를 갖고 있고, 승강 기구에 의해 승강 로드(74)를 거쳐서 밸브체(72)가 승강되며, 밸브체(72)가 개구부(71a)에 대응하는 높이 위치에 있을 때, 진퇴 기구에 의해, 개구부(71a)를 폐색하는 폐색 위치와, 개구부(71a)로부터 후퇴한 후퇴 위치 사이에서 이동 가능하게 되어 있다. 기판(G)을 반송할 때에는, 밸브체(72)를, 진퇴 기구에 의해 폐색 위치로부터 후퇴 위치로 후퇴시키고 나서, 승강 기구에 의해 개구부(71a)의 하방의 퇴피 위치로 하강시켜서 개구부(71a)를 개방한다.The drive mechanism has a lifting mechanism and an advancing / retreating mechanism (both not shown). The lifting mechanism moves the valve body 72 up and down via the lifting rod 74, and the valve body 72 corresponds to the opening 71a The movable member is movable between a closed position for closing the opening 71a and a retracted position for retracting from the opening 71a by the advancing / retracting mechanism. The valve body 72 is retracted from the closed position to the retracted position by the advancing and retreating mechanism and is then lowered to the retracted position below the opening 71a by the lifting mechanism to move the valve body 72 to the opening 71a, Lt; / RTI &gt;

또한, 승강 기구 및 진퇴 기구는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 승강 기구로서는, 에어 실린더나 모터 등을 이용할 수 있으며, 진퇴 기구로서는, 링크 기구, 캠 기구, 에어 실린더, 모터 등을 이용할 수 있다.Although the elevating mechanism and the advancing / retracting mechanism are not particularly limited, an air cylinder or a motor can be used as the elevating mechanism, and a link mechanism, a cam mechanism, an air cylinder, a motor and the like can be used as the advancing / retracting mechanism.

게이트 밸브(70a)는, 또한, 하우징(71)의 수직 벽부(71b)의 개구부(71a)의 주위에 마련된 제 1 시일부(81)와, 밸브체(72)에 마련된 제 2 시일부(82)를 갖는다. 제 2 시일부(82)는, 밸브체(72)가 개구부(71a)를 폐색할 때에, 제 1 시일부(81)에 대응하는 위치에서 제 1 시일부(81)와 협동하여 밸브체(72)와 수직 벽부(71b) 사이를 시일한다.The gate valve 70a further includes a first seal portion 81 provided around the opening 71a of the vertical wall portion 71b of the housing 71 and a second seal portion 82 provided on the valve body 72 ). The second seal portion 82 cooperates with the first seal portion 81 at a position corresponding to the first seal portion 81 to close the valve body 72 when the valve body 72 closes the opening 71a And the vertical wall portion 71b.

제 1 시일부(81)는, 도 2 및 도 3에 도시하는 바와 같이, 수직 벽부(71b)의 밸브체(72)측의 면(71e)에 있어서의 개구부(71a)의 바로 외측의 부분을 따라서 주회하도록 돌출하여 프레임 형상으로 마련된 환상의 내측 프레임부(83)와, 면(71e)에 있어서의 내측 프레임부(83)의 외측의 부분을 따라서 주회하도록 돌출하여 프레임 형상으로 마련된 환상의 외측 프레임부(84)를 갖고, 내측 프레임부(83)와 외측 프레임부(84) 사이에는 개구부(71a)를 둘러싸도록 환상의 오목부(85)가 형성되어 있다. 오목부(85)의 주위에는, 처리실(30a)로부터 침입한 처리 가스 성분에 의해 생긴 퇴적물로부터 발생한 파티클이 부착되지만, 오목부(85)의 평면부는 제 1 시일부(81)와 제 2 시일부(82)에 의해 형성되는 시일 부분의 주위로부터 이탈하는 파티클을 보지하는 파티클 보지부로서 기능한다. 또한, 제 1 시일부(81)는 오목부(85)의 바닥부를 따라서 마련된 환상의 O링(86)을 갖고 있다.2 and 3, the first seal portion 81 has a portion immediately outside the opening portion 71a on the surface 71e of the vertical wall portion 71b on the valve body 72 side An annular inner frame portion 83 protruding so as to protrude so as to turn around and an annular outer frame 73 protruding so as to run around the outer portion of the inner frame portion 83 on the surface 71e, And an annular concave portion 85 is formed between the inner frame portion 83 and the outer frame portion 84 so as to surround the opening 71a. Particles generated from the deposit formed by the processing gas component penetrated from the treatment chamber 30a are attached to the periphery of the concave portion 85. The flat portion of the concave portion 85 is formed by the first seal portion 81 and the second seal portion 81, And serves as a particle retaining portion for retaining particles which are separated from the periphery of the seal portion formed by the seal portion 82. The first seal portion 81 has an annular O-ring 86 provided along the bottom of the recessed portion 85.

제 2 시일부(82)는, 도 2 및 도 4에 도시하는 바와 같이, 밸브체(72)의 폐색면(72a)에 형성되고, 내측 프레임부(83)가 삽입되는 환상의 오목부(87)와, 오목부(87)의 외측 부분에 형성되며, 오목부(85)에 삽입되는 환상의 돌출부(88)를 갖는다. 오목부(87)는 스폿 페이싱 가공에 의해 형성할 수 있으며, 돌출부(88)는 오목부(87)를 형성했을 때에 형성된다.2 and 4, the second seal portion 82 is formed on the closed surface 72a of the valve body 72 and has an annular recess 87 And an annular protrusion 88 formed in the outer portion of the recess 87 and inserted into the recess 85. [ The concave portion 87 can be formed by spot faceting, and the projecting portion 88 is formed when the concave portion 87 is formed.

밸브체(72)가 개구부(71a)를 폐색할 때에는, 제 1 시일부의 내측 프레임부(83)가 제 2 시일부(82)의 오목부(87)에 삽입되며, 제 2 시일부(82)의 돌출부(88)가 제 1 시일부의 오목부(85)에 삽입되어 래비린스 구조의 시일이 형성된다. 이때, 돌출부(88)의 선단면이 O링(86)에 접촉하는 시일면이 된다. 또한, O링은 제 2 시일부(82)에 있어서의 돌출부(88)의 선단면에 마련해도 좋다. 이 경우는, O링에 접촉하는 오목부(85)의 바닥부가 시일면이 된다.The inner frame portion 83 of the first seal portion is inserted into the recess 87 of the second seal portion 82 and the second seal portion 82 is inserted into the recess 87 of the second seal portion 82. [ The protrusion 88 of the first seal portion is inserted into the recess 85 of the first seal portion to form a seal of the labyrinth structure. At this time, the tip end surface of the projecting portion 88 is a sealing surface contacting the O-ring 86. [ The O-ring may be provided on the distal end surface of the projecting portion 88 of the second seal portion 82. In this case, the bottom of the concave portion 85 which comes into contact with the O-ring becomes the sealing surface.

또한, 편의상, 도 3에서는 내측 프레임부(83) 및 외측 프레임부(84)에 해칭을 실시하고, 도 4에서는 오목부(87) 이외의 부분에 해칭을 실시하고 있다.3, hatching is performed on the inner frame portion 83 and the outer frame portion 84, and hatching is performed on portions other than the recessed portion 87 in Fig.

(기판 처리 시스템의 처리 동작)(Processing operation of the substrate processing system)

다음으로, 이와 같이 구성되는 기판 처리 시스템의 처리 동작에 대해 설명한다.Next, the processing operation of the substrate processing system configured as described above will be described.

우선, 게이트(63)를 개방하고 기측 기판 반송 장치(도시하지 않음)에 의해 미처리의 기판(G)을 대기 분위기의 로드록실(40)에 반입하며, 게이트(63)를 폐쇄하고 로드록실(40) 내를 감압 분위기로 한다. 그리고, 로드록실(40)과 공통 반송실(10) 사이의 게이트 밸브(70d)를 개방하고, 기판 반송 장치(50)의 기판 지지 아암(51)을 로드록실(40) 내로 진출시키고, 로드록실(40) 내에 반입된 미처리의 기판(G)을 받는다. 이어서, 기판 반송 장치(50)의 기판 지지 아암(51)을 공통 반송실(10)로 퇴피시키고, 로드록실(40)과 공통 반송실(10) 사이의 게이트 밸브(70d)를 폐쇄한다.First, the gate 63 is opened and an unprocessed substrate G is carried into the load lock chamber 40 in an atmospheric atmosphere by a substrate transferring device (not shown). Then, the gate 63 is closed and the load lock chamber 40 ) Is set to a reduced pressure atmosphere. The gate valve 70d between the load lock chamber 40 and the common transfer chamber 10 is opened to advance the substrate support arm 51 of the substrate transfer apparatus 50 into the load lock chamber 40, And receives the unprocessed substrate G carried in the substrate 40. Subsequently, the substrate support arm 51 of the substrate transport apparatus 50 is retracted to the common transport chamber 10, and the gate valve 70d between the load lock chamber 40 and the common transport chamber 10 is closed.

이어서, 기판 반송 장치(50)의 기판 지지 아암(51)을 처리실(30a, 30b, 또는 30c)에 상대시키고, 공통 반송실(10)과 처리실(30a, 30b, 또는 30c) 사이의 게이트 밸브(70a, 70b, 또는 70c)를 개방하고, 기판 지지 아암(51)을 처리실(30a, 30b, 또는 30c)에 진출시키고, 기판(G)을 처리실(30a, 30b, 또는 30c)로 반송한다. 이어서, 기판 지지 아암(51)을 공통 반송실(10)에 퇴피시키고, 그 게이트 밸브를 폐쇄하고, 처리실(30a, 30b, 또는 30c)에 있어서의 처리를 개시한다. 그 사이에, 다음의 기판(G)의 반송이 가능하면, 기판 지지 아암(51)에 의해 로드록실(40)로부터 복수의 기판(G)을 취출하고, 처리실(30a, 30b, 및 30c) 중 처리가 실행되고 있지 않은 처리실로 반송한다.Subsequently, the substrate support arm 51 of the substrate transfer apparatus 50 is brought into contact with the process chamber 30a, 30b or 30c, and the gate valve (not shown) between the common transfer chamber 10 and the process chamber 30a, 30b or 30c 30b or 30c and the substrate G is transferred to the processing chamber 30a, 30b or 30c by opening the substrate supporting arms 51a, 50a, 70b, or 70c. Subsequently, the substrate supporting arm 51 is retracted into the common transport chamber 10, the gate valve is closed, and the processing in the processing chamber 30a, 30b, or 30c is started. A plurality of substrates G are taken out from the load lock chamber 40 by the substrate supporting arm 51 and the substrates G are removed from the processing chambers 30a, 30b, and 30c To the processing chamber where the processing is not being executed.

처리실에서의 처리가 종료되면, 게이트 밸브(70a, 70b, 70c) 중 대응하는 게이트 밸브를 개방하고, 기판 지지 아암(51)을 그 처리실에 진출시키고, 처리 완료의 기판(G)을 받는다. 이어서, 기판 지지 아암(51)을 공통 반송실(10)에 퇴피시키고, 그 게이트 밸브를 폐쇄한다. 이어서, 기판 지지 아암(51)을 로드록실(40)에 상대시키고, 공통 반송실(10)과 로드록실(40) 사이의 게이트 밸브(70d)를 개방하고, 기판 지지 아암(51)을 로드록실(40)에 진출시키고, 처리 완료의 기판(G)을 로드록실(40)로 반송한다. 이어서, 기판 지지 아암(51)을 공통 반송실(10)에 퇴피시키고, 공통 반송실(10)과 로드록실(40) 사이의 게이트 밸브(70d)를 폐쇄하고, 로드록실(40) 내를 대기 분위기로 한다. 이후, 게이트(63)를 개방하고 대기측 기판 반송 장치(도시하지 않음)에 의해 처리 완료의 기판(G)을 로드록실(40)로부터 반출한다.When the processing in the processing chamber is completed, the corresponding gate valve among the gate valves 70a, 70b and 70c is opened, the substrate supporting arm 51 is advanced to the processing chamber, and the processed substrate G is received. Subsequently, the substrate supporting arm 51 is retracted into the common transport chamber 10, and the gate valve is closed. Subsequently, the substrate supporting arm 51 is opposed to the load lock chamber 40, the gate valve 70d between the common transport chamber 10 and the load lock chamber 40 is opened, (40), and transfers the processed substrate (G) to the load lock chamber (40). Subsequently, the substrate support arm 51 is retracted into the common transport chamber 10, the gate valve 70d between the common transport chamber 10 and the load lock chamber 40 is closed, Atmosphere. Thereafter, the gate 63 is opened and the processed substrate G is taken out of the load lock chamber 40 by an atmospheric side substrate transfer device (not shown).

(제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브의 동작)(Operation of gate valve according to the first embodiment)

다음으로, 제 1 실시형태에 있어서의 게이트 밸브(70a)의 동작에 대해 설명한다. 또한, 게이트 밸브(70b, 70c)에 대해서도 마찬가지이다.Next, the operation of the gate valve 70a in the first embodiment will be described. The same applies to the gate valves 70b and 70c.

상술한 바와 같이, 게이트 밸브(70a)는 하우징(71)의 수직 벽부(71b)에 마련된 개구부(71a)를 밸브체(72)에 의해 개폐한다.The gate valve 70a opens and closes the opening portion 71a provided in the vertical wall portion 71b of the housing 71 by the valve body 72 as described above.

처리실(30a) 내에서, 기판(G)에 대해 에칭이나 성막 등의 처리 가스를 이용한 처리를 실행하는 처리가 실행될 때에는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 게이트 밸브(70a)의 밸브체(72)는 개구부(71a)를 폐색한 상태로 되어 있다. 구체적으로는, 밸브체(72)의 폐색면(72a)이 개구부(71a) 및 그 주위를 덮고, 제 1 시일부(81)의 내측 프레임부(83)가 제 2 시일부(82)의 오목부(87)에 삽입되며, 제 2 시일부(82)의 돌출부(88)가 제 1 시일부의 오목부(85)에 삽입되어 래비린스 구조의 시일이 형성된다. 이때, 오목부(85)의 바닥부에 마련된 O링(86)이 돌출부(88)의 시일면에 접촉하여 밀봉 상태가 형성된다.2, the valve body 72 of the gate valve 70a is closed when the processing for executing the processing using the processing gas such as etching or film formation is performed on the substrate G in the processing chamber 30a. The opening 71a is closed. More specifically, the closing surface 72a of the valve body 72 covers the opening 71a and the periphery thereof, and the inner frame portion 83 of the first sealing portion 81 is engaged with the concave portion of the second sealing portion 82 And the projecting portion 88 of the second seal portion 82 is inserted into the concave portion 85 of the first seal portion to form the seal of the labyrinth structure. At this time, the O-ring 86 provided at the bottom of the concave portion 85 comes into contact with the sealing surface of the projection 88 to form a sealed state.

처리실(30a) 내에서의 처리가 종료된 후, 도 5의 (a)에 도시하는 바와 같이, 진퇴 구동 기구(도시하지 않음)에 의해 밸브체(72)를 후퇴 위치로 후퇴시키고, 이어서, 도 5의 (b)에 도시하는 바와 같이, 승강 구동 기구(도시하지 않음)에 의해 밸브체(72)를 하강시켜서 개구부(71a)를 개방하고, 그 상태에서 처리실(30a)로부터 기판(G)을 반출한다.After the processing in the treatment chamber 30a is completed, as shown in Fig. 5A, the valve body 72 is retracted to the retracted position by the advancing and retreating drive mechanism (not shown) The valve body 72 is lowered by the elevation drive mechanism (not shown) to open the opening 71a and the substrate G is removed from the processing chamber 30a in this state Out.

반대로, 도 5의 (b)의 개방 상태로부터, 밸브체(72)에 의해 개구부(71a)를 폐색할 때에는, 승강 구동 기구(도시하지 않음)에 의해 밸브체(72)를 상승시키고, 도 5의 (a)에 도시하는, 밸브체(72)가 개구부(71a)에 대응하는 높이 위치가 된 시점에서, 진퇴 구동 기구(도시하지 않음)에 의해 밸브체(72)를 폐색 위치까지 진출시켜서, 도 2의 상태로 한다.Conversely, when the valve body 72 closes the opening 71a from the open state shown in FIG. 5 (b), the valve body 72 is raised by the elevation drive mechanism (not shown) The valve body 72 is advanced to the closed position by the advancing / retracting drive mechanism (not shown) at the time when the valve body 72 reaches the height position corresponding to the opening 71a shown in Fig. The state shown in FIG. 2 is set.

그런데, 처리실(30a)에서의 처리가 성막이나 에칭 등의 처리 가스를 이용한 처리를 실행하는 것인 경우, 처리 가스는 개구부(71a)를 통해 O링의 주위까지는 침입할 수 있기 때문에, 처리 중에 개구부(71a)로부터 침입한 처리 가스의 성분이 O링(86)의 주위에 퇴적물을 생성하고, 이 퇴적물로부터 발생한 파티클이 O링(86)의 주위에 부착되는 일이 있다. 종래는, 도 6의 (a)에 도시하는 바와 같이, 수직 벽부(71b)의 개구부(71a)의 주위 부분의 시일부는, O링(86)이 마련되어 있을 뿐이며, 벨브체(72')의 폐색면(72a')을 시일부의 O링에 접촉시키는 것에 의해 시일하고 있기 때문에, 밸브체(72)의 개폐 동작에 의해 O링(86)의 주위에 부착되어 있는 파티클(P)이 불안정해지면, 도 6의 (b)에 도시하는 바와 같이, 개구부(71a)를 개방하고 기판(G)을 반송할 때에, O링(86)의 주위 부분으로부터 파티클(P)이 이탈하여, 기판(G) 상에 파티클(P)이 낙하할 우려가 있다.However, in the case where the processing in the processing chamber 30a performs processing using a processing gas such as film formation or etching, since the processing gas can penetrate to the periphery of the O-ring through the opening 71a, The component of the process gas invading from the O-ring 71a may generate sediments around the O-ring 86, and the particles generated from the deposit may adhere to the periphery of the O- 6 (a), the seal portion of the peripheral portion of the opening portion 71a of the vertical wall portion 71b is provided only with the O-ring 86, and the sealing portion of the valve body 72 ' When the particle P attached to the periphery of the O-ring 86 becomes unstable due to the opening and closing operation of the valve element 72, the surface 72a 'is sealed by contacting the O- The particles P are released from the peripheral portion of the O-ring 86 and are held on the substrate G when the opening 71a is opened and the substrate G is transported, as shown in Fig. 6 (b) The particles P may fall.

이에 대하여, 본 실시형태의 게이트 밸브(70a)에서는, 도 7에 도시하는 바와 같이, 개구부(71a)의 주위에 마련된 제 1 시일부(81)는 개구부(71a)를 둘러싸도록 환상의 내측 프레임부(83)와 환상의 외측 프레임부(84) 사이에 형성된 환상의 오목부(85)를 형성하고, 이 오목부(85)를 O링(86)의 주위로부터 이탈하는 파티클을 보지하는 파티클 보지부로서 기능하도록 했으므로, O링(86)의 주위에 부착된 파티클(P)이 밸브체(72)의 개폐 동작에 의해 불안정하게 되어도, 이탈한 파티클(P)은 오목부(85)에 보지되며, 개구부(71a)를 개방하여 기판(G)을 반송할 때에 기판(G) 상에 파티클(P)이 낙하하는 것이 억제된다. 이 때문에, 파티클에 의한 기판(G)의 결함의 발생을 감소시켜서, 제품 수율을 향상시킬 수 있다. 또한, 파티클 보지부로서 기능하는 오목부(85)는, O링(86)의 주위로부터 이탈하는 파티클을 보지하는 결과, 파티클(P)이 기판(G) 상에 낙하하는 것뿐만 아니라, 기판(G) 아래의 부분 등으로부터 상승한 파티클이 기판(G)에 부착되는 일도 억제할 수 있다.7, in the gate valve 70a of the present embodiment, the first seal portion 81 provided around the opening portion 71a is formed so as to surround the opening portion 71a, An annular concave portion 85 formed between the annular outer frame portion 83 and the annular outer frame portion 84 is formed and the particle retaining portion 85 for holding the particle that separates the concave portion 85 from the periphery of the O- Even if the particle P attached to the periphery of the O-ring 86 becomes unstable due to the opening and closing operation of the valve body 72, the separated particle P is held in the recess 85, The particles P are prevented from falling on the substrate G when the opening portion 71a is opened and the substrate G is transported. Therefore, the generation of defects of the substrate G by the particles can be reduced, and the product yield can be improved. The concave portion 85 functioning as the particle retaining portion not only causes the particles P to fall onto the substrate G as a result of observing the particles which are separated from the periphery of the O ring 86, It is possible to suppress the adhesion of the particles raised from the portion below the substrate G to the substrate G. [

또한, 제 1 시일부(81)의 오목부(85)가 개구부(71a)를 둘러싸도록 마련되어 있으며, 그 중에 제 2 시일부(82)의 돌출부(88)가 삽입되도록 하여 시일되므로, 오목부(85)가 처리 가스의 배리어로서도 기능하며, O링(86)의 주위에 침입하는 처리 가스의 양 자체를 줄일 수 있어서, O링(86)의 주위에 처리 가스 성분으로부터 생기는 퇴적물을 퇴적하기 어렵게 할 수 있다. 또한, 제 2 시일부(82)는 환상의 오목부(87)를 갖고 있으며, 그 중에 제 1 시일부(81)의 내측 프레임부(83)가 삽입되어, 래비린스 구조의 시일이 형성되므로, 처리 가스를 배리어하는 기능을 한층 높게 할 수 있다. 이 때문에, 유지보수 주기를 연장할 수 있다.Since the concave portion 85 of the first seal portion 81 surrounds the opening 71a and the protrusion 88 of the second seal portion 82 is inserted into the concave portion 85, 85 function also as a barrier of the process gas and can reduce the amount of the process gas intruding around the O-ring 86, thereby making it difficult to deposit the deposit generated from the process gas component around the O-ring 86 . The second seal portion 82 has an annular recess 87 in which the inner frame portion 83 of the first seal portion 81 is inserted and a seal of the labyrinth structure is formed, It is possible to further enhance the function of barring the process gas. Therefore, the maintenance period can be extended.

(제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브에 있어서의 제 1 시일부 및 제 2 시일부의 변형예)(Modification of First Seal Portion and Second Seal Portion in Gate Valve According to First Embodiment)

다음으로, 제 1 시일부 및 제 2 시일부의 몇 개의 변형예에 대해 설명한다.Next, some modified examples of the first seal portion and the second seal portion will be described.

제 1 변형예에서는, 도 8에 도시하는 바와 같이, 제 1 시일부(81)가 개구부(71a)를 둘러싸도록 수직 벽부(71b)의 밸브체측의 면(71e)에 직접 형성된 환상의 오목부(85a)를 갖고 있으며, 그 오목부(85a)의 바닥부에 O링(86)을 갖고 있다. 오목부(85a)는 스폿 페이싱 가공에 의해 형성할 수 있다. 제 2 시일부(82)는 기본예와 마찬가지로 구성되어 있다. 이와 같은 구성의 경우도, 오목부(85a)가 O링(86)의 주위로부터 이탈하는 파티클을 보지하는 파티클 보지부로서 기능한다. 이 때문에, 개구부(71a)를 개방하고 기판(G)을 반송할 때에 오목부(85a)에 파티클(P)이 보지되어, 기판(G) 상에 파티클(P)이 낙하하는 것이 억제된다. 또한, 상기 기본예와 마찬가지로, 밸브체(72)에 의해 개구부(71a)를 폐색할 때에는, 오목부(85a)가 처리 가스 침입의 배리어로서도 기능하여, O링(86)의 주위에 처리 가스 성분에 의한 퇴적물을 퇴적하기 어렵게 할 수 있다. 또한, 밸브체(72)에 의해 개구부(71a)를 폐색할 때에, 오목부(85a)를 형성하는 것에 의해 개구부(71a)의 외측에 형성된 환상의 돌출부(84a)가 오목부(87)에 삽입되어, 역시 래비린스 구조의 시일을 형성할 수 있다.8, the first seal portion 81 includes an annular concave portion (not shown) formed directly on the valve body side surface 71e of the vertical wall portion 71b so as to surround the opening portion 71a And an O-ring 86 at the bottom of the recess 85a. The concave portion 85a can be formed by spot facing processing. The second seal portion 82 is configured similarly to the basic example. In this case also, the concave portion 85a functions as a particle retaining portion for retaining the particles which are separated from the periphery of the O-ring 86. [ Therefore, when the opening 71a is opened and the substrate G is transported, the particles P are held in the concave portion 85a, and the particles P are prevented from falling on the substrate G. [ Similarly to the above basic example, when the opening 71a is closed by the valve body 72, the concave portion 85a also functions as a barrier for the infiltration of the processing gas, It is possible to make it difficult to deposit sediments. When the opening 71a is closed by the valve body 72, an annular protrusion 84a formed on the outside of the opening 71a is formed in the recess 87 by forming the recess 85a So that the seal of the labyrinth structure can also be formed.

제 2 변형예에서는, 도 9에 도시하는 바와 같이, 제 2 시일부(82)에 대하여, 폐색면(72a)에 오목부(87)를 형성하는 대신에, 폐색면(72a)의 외연에 주회하도록 돌출하여 프레임 형상으로 마련된 외측 프레임부(88a)와, 그 내측으로 돌출하여 프레임 형상으로 마련된 내측 프레임부(88b)를 형성하며, 이들 사이에 오목부(87a)를 형성한다. 오목부(87a)는 오목부(87)와 동일한 위치에 마련되어 있으며, 오목부(87)와 완전히 동일하게 기능한다.9, instead of forming the concave portion 87 on the occluding surface 72a with respect to the second seal portion 82, the circumferential surface of the occluding surface 72a may be formed as the main surface of the second sealing portion 82, And an inner frame portion 88b protruding inwardly and provided in a frame shape are formed so as to form a recess 87a between the outer frame portion 88a and the inner frame portion 88b. The concave portion 87a is provided at the same position as the concave portion 87 and functions exactly the same as the concave portion 87. [

제 3 변형에서는, 도 10에 도시하는 바와 같이, 제 2 시일부(82)가 밸브체(72)의 폐색면(72a)의 외연에 주회하도록 돌출하여 프레임 형상으로 마련된 환상의 프레임부(88c)를 갖고 있으며, 밸브체(72)가 개구부(71a)를 폐색할 때에, 프레임부(88c)가 제 1 시일부(81)의 오목부(85)에 삽입되도록 되어 있다. 제 1 시일부(81)는 기본예와 마찬가지의 구성이다. 이와 같은 구성의 경우는, 제 2 시일부(82)에 오목부가 존재하지 않으므로, 래비린스 구조의 시일은 간이적인 것으로서 형성되며, 침입하는 가스의 억제 효과는 낮아지지만, 파티클 보지부인 오목부(85)의 존재에 의해, 기판(G) 상에 파티클(P)이 낙하하는 것이 억제되는 효과, 및 개구부(71a)를 폐색할 때에, 오목부(85)에 프레임부(88c)가 삽입되어 처리 가스 침입을 배리어하는 효과를 발휘할 수 있다. 이 경우에, 제 1 시일부(81)는, 오목부(85) 대신에, 수직 벽부(71b)의 밸브체측의 면(71e)에 직접 형성된 환상의 오목부(85a)를 갖는 것이어도 좋다.10, the second seal portion 82 has an annular frame portion 88c protruding from the outer periphery of the closed surface 72a of the valve element 72 and provided in a frame shape, And the frame portion 88c is inserted into the concave portion 85 of the first seal portion 81 when the valve body 72 closes the opening 71a. The first seal portion 81 has the same structure as the basic example. In this case, since the concave portion is not present in the second seal portion 82, the seal of the labyrinth structure is formed to be simple and the effect of suppressing the intruding gas is lowered. However, the concave portion 85 The effect of suppressing the falling of the particles P on the substrate G due to the presence of the processing gas and the effect that the frame portion 88c is inserted into the concave portion 85 when the opening portion 71a is closed, It is possible to exhibit an effect of blocking intrusion. In this case, the first seal portion 81 may have an annular concave portion 85a formed directly on the valve body side surface 71e of the vertical wall portion 71b instead of the concave portion 85.

제 4 변형예에서는, 도 11에 도시하는 바와 같이, 제 1 시일부(81)가 수직 벽부(71b)의 밸브체(72)측의 면(71e)에 있어서의 개구부(71a)의 바로 외측의 부분을 따라서 주회하도록 돌출하여 프레임 형상으로 마련된 환상의 프레임부(83a)를 단독으로 갖는다. O링(86)은 프레임부(83a)의 외측을 주회하도록 마련되어 있다. 제 2 시일부(82)는 기본예와 마찬가지이다. 이 예에서는, 제 1 시일부(81)에 오목부가 형성되어 있지 않지만, 프레임부(83a)가 파티클 보지부로서 기능한다. 즉, 환상의 프레임부(83a)의 상면에 파티클을 보지할 수 있어서, 반송하는 기판(G) 상에 파티클이 낙하하는 것을 억제할 수 있다. 또한, 밸브체(72)가 개구부(71a)를 폐색할 때에, 제 1 시일부(81)의 환상의 프레임부(83a)가 제 2 시일부(82)의 오목부(87)에 삽입되는 것에 의해, 처리 가스 침입을 방지하는 배리어가 형성되어, O링(86)의 주위에의 처리 가스 성분의 퇴적을 억제할 수 있다.11, the first seal portion 81 is provided on the outer side of the opening portion 71a on the surface 71e of the vertical wall portion 71b on the side of the valve element 72, Shaped frame portion 83a which is provided so as to protrude so as to run along the portion of the annular frame portion 83a. The O-ring 86 is provided so as to circulate around the outside of the frame portion 83a. The second seal portion 82 is the same as the basic example. In this example, the concave portion is not formed in the first seal portion 81, but the frame portion 83a functions as the particle holding portion. That is, the particles can be held on the upper surface of the annular frame portion 83a, so that the particles can be prevented from falling on the substrate G to be transported. The annular frame portion 83a of the first seal portion 81 is inserted into the recess 87 of the second seal portion 82 when the valve element 72 closes the opening 71a A barrier for preventing the intrusion of the process gas is formed, and deposition of the process gas component around the O-ring 86 can be suppressed.

또한, 이 예에서도, 제 2 변형예를 도시하는 도 9와 마찬가지로, 제 2 시일부(82)가 외측 프레임부(88a) 및 내측 프레임부(88b)에 의해 오목부(87a)를 형성한 것이어도 좋고, 제 3 변형예를 도시하는 도 10과 마찬가지로, 밸브체(72)의 폐색면(72a)의 외연에 주회하도록 돌출하여 프레임 형상으로 마련된 환상의 프레임부(88c)만을 갖는 것이어도 좋다. 이들의 경우에서도, 환상의 프레임부(83a)가 파티클 보지부로서 기능하는 것 이외에, 처리 가스 침입의 배리어로서도 기능한다.Also in this example, similarly to Fig. 9 showing the second modification, the second seal portion 82 has the concave portion 87a formed by the outer frame portion 88a and the inner frame portion 88b Or may have only an annular frame portion 88c protruding around the outer periphery of the closed surface 72a of the valve element 72 and provided in a frame shape as in the case of Fig. 10 showing the third modification. In these cases as well, the annular frame portion 83a also functions as a barrier to intrusion of the processing gas in addition to functioning as the particle retaining portion.

제 5 변형예에서는, 도 12의 (a) 및 (b)에 도시하는 바와 같이, 제 4 변형예에 있어서의 제 1 시일부(81)의 프레임부(83a) 대신에, 수직 벽부(71b)의 밸브체(72)측의 면(71e)에 있어서의 개구부(71a)의 상측에 차양 형상으로 돌출하는 돌출부(89)가 파티클 보지부로서 마련되어 있다. 한편, 제 2 시일부(82)에서는, 돌출부(89)에 대응하는 오목부(87b)가 형성되어 있으며, 밸브체(72)가 개구부(71a)를 폐색할 때에, 오목부(87b)에 돌출부(89)가 삽입된 상태가 된다. 제 5 변형예에서는, 처리 가스의 침입을 방지하는 효과는 약간 낮지만, 돌출부(89)에 의해, 반송하는 기판(G) 상에 파티클이 낙하하는 것을 억제하는 기능을 충분히 발휘할 수 있다.12 (a) and 12 (b), in place of the frame portion 83a of the first seal portion 81 in the fourth modification, the vertical wall portion 71b, A protruding portion 89 projecting in an oblong shape is provided as an upper portion of the opening 71a in the surface 71e on the valve body 72 side as a particle retaining portion. On the other hand, in the second seal portion 82, the recess 87b corresponding to the projection 89 is formed. When the valve element 72 closes the opening 71a, (89) is inserted. In the fifth modification, although the effect of preventing the intrusion of the processing gas is slightly lowered, the projection 89 can sufficiently exert the function of suppressing the falling of the particles on the substrate G to be transported.

또한, 차양 형상의 돌출부(89)는 개구부(71a)의 상측뿐만 아니라, 개구부(71a)를 둘러싸도록 U자 형상으로 측부로 연장되어도 좋다. 이에 의해, O링(86)의 측부에 부착된 파티클이 비스듬히 낙하하여 기판에 부착되는 것을 방지할 수 있다. 이때, 돌출부(89)가 삽입되는 오목부(87b)나 이에 대응한 형상으로 형성된다.Further, the projecting portion 89 of the awl-like shape may extend not only on the upper side of the opening portion 71a, but also to the side portion in a U-shape so as to surround the opening portion 71a. Thereby, it is possible to prevent the particles adhered to the side portion of the O-ring 86 from falling obliquely and adhering to the substrate. At this time, the protrusion 89 is formed in the recess 87b into which the protrusion 89 is inserted and the corresponding shape.

또한, 제 2 시일부(82)에 있어서, 밸브체의 폐색면(72a)에 차양 형상의 2개의 돌출부를 형성함으로써 오목부(87b)를 형성해도 좋고, 제 3 변형예를 도시하는 도 10과 마찬가지로, 밸브체(72)의 폐색면(72a)의 외연을 주회하도록 돌출하여 프레임 형상으로 마련된 환상의 프레임부(88c)만을 갖는 것이어도 좋다.10A and 10B showing the third modified example may be used. In the second seal portion 82, the recessed portion 87b may be formed by forming two protruding portions of a flange shape on the closed surface 72a of the valve body. Likewise, the valve body 72 may have only an annular frame portion 88c projecting so as to revolve around the outer edge of the closed surface 72a of the valve body 72 and provided in a frame shape.

(제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브의 유지보수성을 고려한 구성예)(Configuration Example Taking Account of Maintainability of Gate Valve According to First Embodiment)

다음으로, 제 1 실시형태에 따른 게이트 밸브의 유지보수성을 고려한 구성예에 대해 설명한다.Next, a configuration example in which the maintenance of the gate valve according to the first embodiment is considered will be described.

종래, 게이트 밸브를 유지보수하는 경우는, 밸브체와, 연결부 및 승강 샤프트 등으로 이루어지는 밸브체 이동부를 일체적으로 분리할 필요가 있어서, 그 분리에 시간이 걸리는 동시에, 유지보수 후의 백래쉬 조정에 장시간을 필요로 하며, 반나절부터 1일간 처리 시스템을 멈출 필요가 있었다. 이하의 예는 이러한 유지보수 시간을 단축할 수 있는 것이다.Conventionally, in the case of maintenance of the gate valve, it is necessary to integrally separate the valve body, the valve body moving portion composed of the connecting portion and the elevating shaft, etc., so that it takes time to separate the valve body and the backlash after maintenance, And it was necessary to stop the processing system for one day from the half day. The following example can shorten this maintenance time.

최초로 유지보수성을 고려한 제 1 구성예에 대해 설명한다.First, an example of the first configuration in which maintainability is considered will be described.

도 13은 유지보수성을 고려한 게이트 밸브의 제 1 구성예를 도시하는 단면도이다. 본 예에서는, 게이트 밸브의 밸브체(72)가 연결부(75)에 연결된 제 1 부분(171)과, 폐색면(72a)을 포함하는 제 2 부분(172)을 갖고 있으며, 제 1 부분(171)의 중앙에는 위치 결정 부재(173)가 마련되어 있고, 제 2 부분(172)이 제 1 부분(171)에 위치 결정 부재(173)에 의해 위치 결정된 상태에서, 나사(174)에 의해 고정되어 있으며, 나사(174)를 분리하는 것에 의해, 제 2 부분(172)을 분리하여 교환 가능하게 되어 있다. 또한, 제 1 시일부(81) 및 제 2 시일부(82)는, 도 2에 도시하는 기본예와 마찬가지의 구성을 갖고 있다. 위치 결정 부재는, 한쪽 면에 오목부와 다른쪽 면에 볼록부, 혹은, 양쪽 면에 오목부와 이들에 끼워 맞추는 삽입 부재와 같은 끼워 맞춤 구조라도 좋으며, 이 경우, 중앙에 한정되지 않고 복수 개소에 마련해도 좋다. 또한, 끼워 맞춤 구조에 한정되지 않으며, 제 1 부분 및 제 2 부분의 측면에서 위치 맞춤을 실행하는 구조라도 좋다.13 is a cross-sectional view showing a first configuration example of the gate valve in consideration of maintenance property. In this example, the valve body 72 of the gate valve has a first portion 171 connected to the connection portion 75 and a second portion 172 including the blocking surface 72a, and the first portion 171 And the second portion 172 is fixed by the screw 174 in a state where the second portion 172 is positioned by the positioning member 173 in the first portion 171 And the screw 174 are separated, so that the second portion 172 can be separated and exchanged. The first seal portion 81 and the second seal portion 82 have the same configuration as the basic example shown in Fig. The positioning member may have a fitting structure such as a concave portion on one side and a convex portion on the other side or a concave portion on both sides and an insertion member to be fitted to the concave portion and the concave portion on both sides. In this case, . Further, the present invention is not limited to the fitting structure, and a structure may be employed in which positioning is performed on the side surfaces of the first portion and the second portion.

이와 같은 게이트 밸브를 유지보수할 때에는, 도 14의 (a)에 도시하는 바와 같이, 밸브체(72)를 하강시킨 상태에서 나사(174)를 분리하고, 이어서, 도 14의 (b)에 도시하는 바와 같이, 폐색면(72a)을 포함하는 제 2 부분(172)을 분리하여, 제 2 부분(172)을 교환한다.14 (a), the screw 174 is detached in a state in which the valve body 72 is lowered. Then, as shown in Fig. 14 (b) The second portion 172 including the occluding surface 72a is separated and the second portion 172 is exchanged.

유지보수에 있어서는, 밸브체(72)의 폐색면(72a)측에 퇴적된 퇴적물을 제거하는 것이 주체가 되지만, 본 예에서는 밸브체(72)의 제 2 부분(172)을 분리하여 교환하는 것만으로 좋으며, 유지보수 시간을 현저하게 저감할 수 있다.In the maintenance, it is the main subject to remove deposits deposited on the blocking surface 72a side of the valve body 72. In this example, however, the second portion 172 of the valve body 72 must be separated and replaced And the maintenance time can be remarkably reduced.

또한, 도 13에서는 제 1 시일부(81) 및 제 2 시일부(82)로서, 도 2의 기본예를 이용하고 있지만, 상기 제 1 내지 제 5 변형예의 구성을 이용해도 좋다. 이 경우도, 유지보수에 대해서는 도 14와 마찬가지로 하여 실행된다. 또한, 폐색면(72a)을 포함하는 제 2 부분(172)을 분리하도록 했지만, 밸브체(72)의 전부를 연결부(75)로부터 분리하여 교환하도록 해도 좋다.Although the basic example of Fig. 2 is used as the first seal portion 81 and the second seal portion 82 in Fig. 13, the structures of the first to fifth modifications described above may also be used. Also in this case, the maintenance is performed in the same manner as in Fig. Although the second portion 172 including the blocking surface 72a is separated, the entire valve body 72 may be separated from the connection portion 75 and replaced.

다음으로, 유지보수성을 고려한 제 2 구성예에 대해 설명한다.Next, a second configuration example in which maintenance is considered will be described.

도 15는 유지보수성을 고려한 게이트 밸브의 제 2 구성예를 도시하는 단면도이다. 본 예에서는, 게이트 밸브의 밸브체(72)가 연결부(75)에 연결된 제 1 부분(171)과, 폐색면(72a)을 포함하는 제 2 부분(172)을 갖고 있으며, 제 2 부분(172)이 제 1 부분(171)에 중앙의 위치 결정 부재(173)에 의해 위치 결정된 상태에서, 나사(174)에 의해 고정되어 있는 점은 제 1 구성예와 동일하지만, 제 1 시일부(81) 및 제 2 시일부(82)로서, 도 11의 제 4 변형예의 구성을 갖고, 밸브체(72)의 제 2 부분(172)의 주연 근방 부분에 가고정부(181)를 갖고 있다.15 is a cross-sectional view showing a second example of the configuration of the gate valve in consideration of maintainability. In this example, the valve body 72 of the gate valve has a first portion 171 connected to the connection portion 75 and a second portion 172 including the blocking surface 72a, and the second portion 172 Is fixed to the first portion 171 by the screw 174 while being positioned by the positioning member 173 at the center is the same as that of the first structural example, And a second seal portion 82 having a configuration of a fourth modified example of Fig. 11 and having a taut portion 181 in the vicinity of the periphery of the second portion 172 of the valve body 72. Fig.

이와 같은 게이트 밸브를 유지보수할 때에는, 도 16의 (a)에 도시하는 바와 같이, 밸브체(72)의 제 2 부분(172)의 가고정부(181)에 가고정 나사(182)를 장착하여, 수직 벽부(71b)의 개구부(71a)에 대응하는 부분에 가고정한 후, 나사(174)를 분리한다. 그 후, 도 16의 (b)에 도시하는 바와 같이, 제 1 부분(171)과 제 2 부분(172)을 분리시킨 후, 제 1 부분(171)과 밸브체 이동부(73)를 하강시키고, 가고정되어 있는 제 2 부분(172)을 교환하고, 교환한 제 2 부분(172)을 다시 가고정 나사(182)로 가고정한다. 그 다음은, 밸브체 이동부(73)를 거쳐서 제 1 부분(171)을 상승시키고, 제 1 부분(171)과 새로운 제 2 부분(172)을 나사(174)에 의해 고정한다.16 (a), a temporary fixing screw 182 is mounted on the temporary fixing portion 181 of the second portion 172 of the valve body 72 And then fixed to the portion corresponding to the opening 71a of the vertical wall portion 71b, and then the screw 174 is separated. 16 (b), after separating the first portion 171 and the second portion 172, the first portion 171 and the valve body moving portion 73 are lowered , The second fixed portion 172 is exchanged, and the exchanged second portion 172 is fixed again by the fixed fixing screw 182. Next, the first portion 171 is raised through the valve body moving portion 73 and the first portion 171 and the new second portion 172 are fixed by the screws 174. Next,

본 예에서도, 종전의 예와 마찬가지로, 유지보수 시에 제 2 부분(172)을 교환하기만 하면 되므로, 유지보수 시간을 단축할 수 있다. 또한, 제 2 부분(172)을 수직 벽부(71b)의 개구부(71a)에 대응하는 부분에 가고정하고, 제 1 부분(171) 및 밸브체 이동부(73)를 하강시키고 나서 제 2 부분(172)을 교환하므로, 제 2 부분(172)이 제 1 부분(171)이나 밸브체 이동부(73)와 간섭하는 일이 없어서, 교환이 용이하다.In this example as well, as in the previous example, since only the second part 172 needs to be replaced at the time of maintenance, the maintenance time can be shortened. The second portion 172 is fixed to the portion corresponding to the opening 71a of the vertical wall portion 71b and the first portion 171 and the valve body moving portion 73 are lowered and then the second portion 172 The second portion 172 does not interfere with the first portion 171 or the valve body moving portion 73, so that the second portion 172 can be exchanged easily.

또한, 도 15에서는 제 1 시일부(81) 및 제 2 시일부(82)로서 도 11의 제 4 변형예를 이용하고 있지만, 이에 한정하는 것은 아니다.In Fig. 15, the fourth modified example of Fig. 11 is used as the first seal portion 81 and the second seal portion 82, but the present invention is not limited thereto.

다음으로, 유지보수성을 고려한 제 3 구성예에 대해 설명한다.Next, a third example of configuration in which maintenance is considered will be described.

도 17은 유지보수성을 고려한 게이트 밸브의 제 3 구성예를 도시하는 단면도이다. 본 예에서는, 제 1 구성예와 마찬가지로, 게이트 밸브의 밸브체(72)가 연결부(75)에 연결된 제 1 부분(171)과, 폐색면(72a)을 포함하는 제 2 부분(172)을 갖고 있다. 제 1 구성예와 상이한 것은, 제 2 부분(172)이 제 1 부분(171)에 중앙의 위치 결정 부재(173)에 의해 위치 결정되어 고정될 때에, 처리실측으로부터 개구부(71a)를 거쳐서 나사(175)에 의해 고정되어 있는 점, 및 밸브체(72)의 폐색면(72a)의 개구부(71a) 상부에 대응하는 위치 및 수직 벽부(71b)의 개구부(71a) 정면에 대응하는 위치에, 각각 가고정부(184a, 184b)를 갖는 점이다. 또한, 제 1 시일부(81) 및 제 2 시일부(82)는 도 2에 도시하는 기본예와 마찬가지의 구성을 갖고 있다.17 is a cross-sectional view showing a third example of the structure of the gate valve in consideration of the maintenance property. The valve body 72 of the gate valve has the first portion 171 connected to the connection portion 75 and the second portion 172 including the blocking surface 72a in the present embodiment, have. The second structure 172 is different from the first structure in that when the second portion 172 is positioned and fixed to the first portion 171 by the center positioning member 173, 175 and a position corresponding to the upper portion of the opening 71a of the closed surface 72a of the valve body 72 and a position corresponding to the front surface of the opening 71a of the vertical wall portion 71b, And has temporary fixed portions 184a and 184b. The first seal portion 81 and the second seal portion 82 have the same configuration as the basic example shown in Fig.

이와 같은 게이트 밸브를 유지보수할 때에는, 도 18의 (a)에 도시하는 바와 같이, 처리실측으로부터 가고정 브래킷(185)을 삽입하고, 가고정 브래킷(185)을 제 2 부분(172)의 가고정부(184a)와 가고정부(184b)에 장착하여 제 2 부분(172)을 수직 벽부(71b)에 가고정한 후, 처리실측으로부터 나사(175)를 분리한다. 그 후, 도 18의 (b)에 도시하는 바와 같이, 제 1 부분(171)과 제 2 부분(172)을 분리시킨 후, 제 1 부분(171)과 밸브체 이동부(73)를 하강시키고, 가고정되어 있는 제 2 부분(172)을 처리실측으로부터 교환하고, 교환한 제 2 부분(172)을 다시 가고정 브래킷(185)으로 가고정한다. 그 후, 도 18의 (c)에 도시하는 바와 같이, 제 1 부분(171)과 밸브체 이동부(73)를 제 2 부분(172)에 대응하는 위치까지 상승시켜서 위치 결정 부재(173)에 의해 위치 결정하고, 이어서, 가고정 브래킷(185)을 처리실측으로 분리하고, 나사(175)를 처리실측로부터 삽입하여 제 2 부분(172)을 제 1 부분(171)에 고정한다. 이에 의해 모두 처리실측으로부터의 작업에 의해, 게이트 밸브의 유지보수를 실행할 수 있다. 가고정 브래킷(185)을 가고정부(184a) 및 가고정부(184b)에 장착하는 방법으로서는, 도 18에서는 예로서 나사 고정을 도시했지만, 고정할 수 있으면 나사 고정에 한정되지 않으며, 예컨대, 가고정 브래킷(185)과 가고정부(184a) 및 가고정부(184b)가 끼워 맞춤되어 고정되는 끼워 맞춤 구조를 이용해도 좋다. 또한, 나사 고정으로 고정하는 경우, 유지보수 이외의 경우에 나사 구멍이 노출되는 것을 피하기 위해서, 보호용의 나사를 삽입해 두거나, 또는 보호판을 마련하는 등의 방법에 의해, 나사 구멍을 보호해 두어도 좋다.18 (a), the stationary bracket 185 is inserted from the processing chamber side, and the stationary bracket 185 is inserted into the second portion 172 The second portion 172 is fixed to the vertical wall portion 71b by mounting the second portion 172 to the fixing portion 184a and the fixing portion 184b and then the screw 175 is detached from the processing chamber side. 18 (b), after the first portion 171 and the second portion 172 are separated from each other, the first portion 171 and the valve body moving portion 73 are lowered , The temporarily fixed second portion 172 is exchanged from the processing chamber side and the exchanged second portion 172 is again pushed and fixed to the fixed bracket 185. 18 (c), the first portion 171 and the valve body moving portion 73 are raised to the position corresponding to the second portion 172, and the valve body is moved to the positioning member 173 And then the temporary fixing bracket 185 is separated to the process chamber side and the screw portion 175 is inserted from the processing chamber side to fix the second portion 172 to the first portion 171. [ As a result, the maintenance of the gate valve can be carried out by the operation from the processing chamber side. As a method of mounting the temporary fixing bracket 185 to the fixing portion 184a and the fixing portion 184b, although screw fixing is shown as an example in Fig. 18, the fixing bracket 185 is not limited to screw fixing, A fitting structure in which the bracket 185 and the temporary fixing portion 184a and the temporary fixing portion 184b are fitted and fixed may be used. Further, in the case of fixing by screw fixing, in order to avoid exposing the screw hole in the case other than maintenance, the screw hole may be protected by inserting a protective screw or by providing a protective plate .

상기 제 1 구성예 및 제 2 구성예는 게이트 밸브의 유지보수 시에 공통 반송실(10)측으로부터 액세스할 필요가 있으며, 이 때문에, 하나의 처리실에 대응하는 게이트 밸브를 유지보수할 때에, 공통 반송실(10) 내의 기판 반송 장치(50)를 정지할 필요가 있어서, 다른 처리실에서의 처리를 할 수 없다. 이에 대하여, 본 예에서는, 처리실측으로부터 게이트 밸브의 유지보수를 실행할 수 있으므로, 하나의 처리실에 대응하는 게이트 밸브를 유지보수할 때에도, 다른 처리실에 의한 처리를 실행할 수 있어서, 유지보수에 의한 스루풋 저하를 작게 할 수 있다.It is necessary to access the gate valve corresponding to one process chamber from the common transfer chamber 10 side during the maintenance of the gate valve, It is necessary to stop the substrate transfer apparatus 50 in the transfer chamber 10, so that the processing in another process chamber can not be performed. On the other hand, in this example, since the maintenance of the gate valve can be performed from the process chamber side, even when the gate valve corresponding to one process chamber is maintained, the processing by another process chamber can be performed, Can be reduced.

또한, 도 17에서는 제 1 시일부(81) 및 제 2 시일부(82)로서, 도 2의 기본예를 이용하고 있지만, 상기 제 1 내지 제 5 변형예의 구성을 이용해도 좋다. 이러한 경우도, 유지보수에 대해서는 도 18과 마찬가지로 하여 실행된다.Although the basic example shown in Fig. 2 is used as the first seal portion 81 and the second seal portion 82 in Fig. 17, the structures of the first to fifth modifications described above may be used. In this case, maintenance is also carried out in the same manner as in Fig.

다음으로, 유지보수성을 고려한 제 4 구성예에 대해 설명한다.Next, a fourth configuration example in which maintenance is considered will be described.

도 19는 유지보수성을 고려한 게이트 밸브의 제 4 구성예를 도시하는 단면도이다. 본 예에서는, 게이트 밸브의 밸브체(72)가 연결부(75)에 연결된 제 1 부분(191)과, 폐색면(72a)을 포함하는 제 2 부분(192)을 갖고 있다. 제 1 부분(191)은 폐색면(72a)의 하측 부분을 포함하도록 구성되며, 제 2 부분(192)의 높이 방향의 폭은 개구부(71a)의 높이 방향의 폭보다 짧아지도록 구성되어 있다. 제 1 부분(191)의 중앙에는 위치 결정 부재(193)가 마련되어 있으며, 제 2 부분(192)이 제 1 부분(191)에 위치 결정 부재(193)로 위치 결정된 상태에서, 처리실측으로부터 삽입된 나사(176)에 의해 고정되어 있다. 나사(176)를 분리함으로써, 제 2 부분(192)을 분리하여 교환 가능하게 되어 있다. 제 1 시일부(81) 및 제 2 시일부(82)로서는, 도 12의 제 5 변형예의 구성을 갖고 있다. 즉, 제 1 시일부(81)로서, 수직 벽부(71b)의 밸브체(72)측의 면(71e)에 있어서의 개구부(71a)의 상측에 차양 형상으로 돌출하는 돌출부(89)가 파티클 보지부로서 마련되어 있으며, 제 2 시일부(82)로서, 제 2 부분(192)의 돌출부(89)에 대응하는 부분에 오목부(87b)가 형성되어 있으며, 밸브체(72)가 개구부(71a)를 폐색할 때에, 오목부(87b)에 돌출부(89)가 삽입된 상태가 된다. 밸브체(72)의 폐색면(72a)에 대해서는, 제 1 부분(191)에 대응하는 영역과, 제 2 부분(192)에 대응하는 영역으로 분단되기 때문에, 도시하고 있지 않지만, 예컨대, 제 2 부분(192)의 하단과 제 1 부분(191)의 접합부에서 시일 부재를 마련하는 등 기밀성을 유지하는 구조로 한다.19 is a cross-sectional view showing a fourth structural example of the gate valve in consideration of maintenance property. In this example, the valve body 72 of the gate valve has a first portion 191 connected to the connection portion 75 and a second portion 192 including the blocking surface 72a. The first portion 191 is configured to include the lower portion of the occluding surface 72a and the width of the second portion 192 in the height direction is configured to be shorter than the width in the height direction of the opening 71a. A positioning member 193 is provided at the center of the first portion 191 and the second portion 192 is positioned in the first portion 191 with the positioning member 193, And is fixed by screws 176. By separating the screw 176, the second portion 192 can be removed and replaced. The first seal portion 81 and the second seal portion 82 have the structure of the fifth modification of Fig. That is, as the first seal portion 81, a projecting portion 89 protruding in a round shape on the upper side of the opening portion 71a on the surface 71e of the vertical wall portion 71b on the side of the valve body 72, And the second seal portion 82 is provided with a concave portion 87b at a portion corresponding to the protruding portion 89 of the second portion 192. The valve body 72 has the opening 71a, The projection 89 is inserted into the concave portion 87b. The blocking face 72a of the valve body 72 is divided into the region corresponding to the first portion 191 and the region corresponding to the second portion 192. Therefore, And a seal member is provided at a joint portion between the lower end of the portion 192 and the first portion 191 to maintain airtightness.

이와 같은 게이트 밸브를 유지보수할 때에는, 도 20에 도시하는 바와 같이, 나사(176)를 처리실측에서 분리한 후, 제 1 부분(191) 및 밸브체 이동부(73)를 공통 반송실(10)측으로 슬라이드한 후, 제 2 부분(192)을 제 1 부분으로부터 분리시키고, 경사지게 한 상태에서 처리실측으로 분리할 수 있다. 이와 같이 하는 것에 의해, 개구부(71a)가 좁은 경우에도, 가고정을 위한 지그를 사용하는 일 없이, 처리실측으로부터 유지보수를 실행할 수 있다.20, after the screw 176 is separated from the processing chamber side, the first portion 191 and the valve body moving portion 73 are moved to the common transfer chamber 10 The second portion 192 can be separated from the first portion and can be separated from the processing chamber side while being inclined. By doing so, even when the opening 71a is narrow, maintenance can be performed from the process chamber side without using a jig for temporary fixation.

또한, 본 예에서는, 밸브체(72)의 폐색면(72a)이 제 1 부분(191)에 대응하는 영역과 제 2 부분(192)에 대응하는 영역으로 분단되기 때문에, 제 1 시일부(81) 및 제 2 시일부(82)로서 상기 제 5 변형예를 이용하고 있지만, 환상의 프레임부나 환상의 오목부를 제 1 부분(191) 및 제 2 부분(192)에 걸쳐서 정밀도 양호하게 형성할 수 있으면, 제 1 시일부(81) 및 제 2 시일부(82)로서 기본예 및 제 1 내지 제 3 변형예를 이용해도 좋다.Since the blocking surface 72a of the valve body 72 is divided into the region corresponding to the first portion 191 and the region corresponding to the second portion 192 in the present example, And the second seal portion 82 are used. However, if the annular frame portion or the annular recess portion can be formed with high precision over the first portion 191 and the second portion 192 The first seal portion 81 and the second seal portion 82 may be used as the basic example and the first to third modifications.

다음으로, 유지보수성을 고려한 제 5 구성예에 대해 설명한다.Next, a fifth configuration example in which maintenance is considered will be described.

도 21은 유지보수성을 고려한 게이트 밸브의 제 5 구성예를 도시하는 단면도이다. 본 예에서는, 제 3 구성예와 마찬가지로, 게이트 밸브의 밸브체(72)가 연결부(75)에 연결된 제 1 부분(171)과, 폐색면(72a)을 포함하는 제 2 부분(172)을 갖고, 제 2 부분(172)이 제 1 부분(171)에 중앙의 위치 결정 부재(173)로 위치 결정되어 고정될 때에, 처리실측으로부터 개구부(71a)를 거쳐서 나사(175)에 의해 고정되어 있다. 또한, 제 3 구성예와는 달리, 제 1 시일부(81)를 포함하는 개구부(71a)의 주위 부분 및 처리실의 반입출구(61a)의 주위 부분을 포함하는 주위 부재(202)가 분리 가능하게 되어 있다. 또한, 제 1 시일부(81) 및 제 2 시일부(82)가 도 8의 제 1 변형예의 구성을 갖고 있다. 즉, 제 1 시일부(81)가, 수직 벽부(71b)의 밸브체측의 면(71e)에, 파티클 보지부로서 기능하는 환상의 오목부(85a)가 개구부(71a)를 둘러싸도록 직접 형성되어 있다.21 is a cross-sectional view showing a fifth example of the configuration of the gate valve in consideration of the maintenance property. The valve body 72 of the gate valve has the first portion 171 connected to the connection portion 75 and the second portion 172 including the blocking surface 72a in the present embodiment, The second portion 172 is fixed to the first portion 171 by the screw 175 from the processing chamber side through the opening portion 71a when the second positioning portion 173 is positioned and fixed by the positioning member 173 at the center. Further, unlike the third embodiment, the peripheral member 202 including the peripheral portion of the opening 71a including the first seal portion 81 and the peripheral portion of the inlet / outlet port 61a of the process chamber is detachably . The first seal portion 81 and the second seal portion 82 have the structure of the first modification of Fig. That is, the first seal portion 81 is formed directly on the valve body side surface 71e of the vertical wall portion 71b so as to surround the opening portion 71a in the form of an annular recessed portion 85a functioning as a particle retaining portion have.

이와 같은 게이트 밸브를 유지보수할 때에는, 도 22에 도시하는 바와 같이, 최초로 주위 부재(202)를 처리실측으로 분리하여 넓은 개구부(203)를 형성하고, 이어서, 나사(175)를 처리실측으로부터 분리한 후, 밸브체(72)의 제 2 부분(172)을 개구부(203)를 거쳐서 처리실측으로부터 교환한다.22, the peripheral member 202 is first separated into the processing chamber side to form a wide opening portion 203, and then the screw 175 is separated from the processing chamber side The second portion 172 of the valve body 72 is exchanged from the processing chamber side through the opening portion 203. Then,

이에 의해, 제 3 구성예와 마찬가지로 모두 처리실측으로부터의 작업에 의해 게이트 밸브의 유지보수를 실행할 수 있는 것 이외에, 수직 벽부(71b)측의 제 1 시일부(81)를 포함하는 주위 부재(202)를 분리 가능하게 함으로써, 제 1 시일부(81)도 용이하게 유지보수할 수 있다. 또한, 주위 부재(202)를 분리하는 것에 의해, 넓은 개구부(203)가 형성되므로, 밸브체(72)의 제 1 부분(171)을 이동하는 일 없이, 또한, 제 2 부분(172)을 가고정하는 일 없이, 제 2 부분(172)을 교환할 수 있다. 이 때문에, 게이트 밸브의 유지보수를 한층 용이하게 실행할 수 있다.As a result, the maintenance of the gate valve can be carried out by an operation from the process chamber side as in the third configuration example, and the peripheral member 202 (including the first seal portion 81) on the side of the vertical wall portion 71b The first seal portion 81 can be easily maintained. Since the wide opening 203 is formed by separating the peripheral member 202, the first portion 171 of the valve body 72 can be moved without moving the second portion 172, The second portion 172 can be exchanged without being determined. Therefore, maintenance of the gate valve can be more easily performed.

<제 2 실시형태>&Lt; Second Embodiment >

다음으로, 제 2 실시형태에 대해 설명한다.Next, the second embodiment will be described.

본 실시형태에서는, 복수의 기판을 다단으로 배치하여 소정의 처리를 실행하는 처리 장치를 갖는 기판 처리 시스템에 본 발명을 적용한 예에 대해서 설명한다.In the present embodiment, an example in which the present invention is applied to a substrate processing system having a processing apparatus that arranges a plurality of substrates in multiple stages and performs predetermined processing will be described.

본 실시형태의 기판 처리 시스템의 평면도는 도 1과 마찬가지이지만, 공통 반송실(10), 처리실(30a, 30b, 30c) 및 로드록실(40)은 모두 복수의 기판(G)을 높이 방향으로 배치 가능하게 되어 있다. 기판 반송 장치(50)는 복수의 기판을 반송하도록 구성되어 있다.The substrate processing system of this embodiment is similar to that of Fig. 1 except that the common transfer chamber 10, the processing chambers 30a, 30b and 30c and the load lock chamber 40 are arranged in the height direction It is possible. The substrate transfer apparatus 50 is configured to transfer a plurality of substrates.

3개의 기판을 반송하는 경우를 예로 들면, 기판 반송 장치(50)는, 도 23에 도시하는 바와 같이, 수직 방향으로 배열된 3개의 기판 지지 아암(51a, 51b, 51c)이 선회 가능한 베이스 부재(52) 상을 직선 주행 가능하게 구성되어 있으며, 이에 의한 진출 퇴피 동작 및 선회 동작에 의해 처리실(30a, 30b, 30c) 및 로드록실(40)에 액세스 가능하게 되어 있다. 또한, 도면부호(53)는 베이스 부재(52)의 선회 동작을 실현하기 위한 구동계이다.23, the three substrate supporting arms 51a, 51b, 51c arranged in the vertical direction are pivotable with respect to the base member 52, so that the processing chambers 30a, 30b, 30c and the load lock chamber 40 can be accessed by the advancing and retreating operation and the pivoting operation. Reference numeral 53 denotes a drive system for realizing the swing operation of the base member 52. [

처리실(30a, 30b, 30c)은 복수의 기판(G)을 각각 처리하기 위한 복수의 처리 공간을 갖고 있으며, 각 처리 공간에 대응하여 각각 복수의 반입출구(61a)를 갖고 있다. 한편, 공통 반송실(10)은, 복수의 기판(G)이 일괄적으로 통과 가능하도록 하나의 개구부(60)를 갖고 있다.The processing chambers 30a, 30b, and 30c have a plurality of processing spaces for processing the plurality of substrates G, respectively, and have a plurality of loading / unloading outlets 61a corresponding to the respective processing spaces. On the other hand, the common transport chamber 10 has one opening portion 60 so that a plurality of substrates G can pass collectively.

제 1 실시형태와 마찬가지로, 공통 반송실(10)과 이들에 접속되어 있는 처리실(30a, 30b, 30c) 사이에는 각각 게이트 밸브(70a, 70b, 70c)가 마련되어 있으며, 공통 반송실(10)과 로드록실(40) 사이에는 게이트 밸브(70d)가 마련되어 있다. 다만, 본 실시형태의 게이트 밸브는 복수의 기판을 반송할 때에 적용되는 것이기 때문에, 그 구성은 제 1 실시형태와는 상이하다. Similar to the first embodiment, gate valves 70a, 70b and 70c are provided between the common transport chamber 10 and the process chambers 30a, 30b and 30c connected to the common transport chamber 10, A gate valve 70d is provided between the load lock chambers 40. [ However, since the gate valve of the present embodiment is applied when transporting a plurality of substrates, the structure is different from that of the first embodiment.

또한, 제 1 실시형태와 마찬가지로, 단일의 처리실만을 구비하여 직선 형상으로 배열된 구성이어도 좋다.Further, as in the first embodiment, a configuration in which only a single treatment chamber is provided and arranged in a straight line may be employed.

(제 2 실시형태에 따른 게이트 밸브의 구성)(Configuration of Gate Valve According to Second Embodiment)

다음으로, 제 2 실시형태에 있어서의 게이트 밸브에 대해 상세하게 설명한다.Next, the gate valve according to the second embodiment will be described in detail.

여기에서는, 공통 반송실(10)과 처리실(30a) 사이에 게이트 밸브(70a)를 예로 들어 설명한다. 게이트 밸브(70b, 70c)도 게이트 밸브(70a)와 마찬가지로 구성되어 있다.Here, the gate valve 70a will be described as an example between the common transport chamber 10 and the process chamber 30a. The gate valves 70b and 70c are also configured similarly to the gate valve 70a.

도 24는 제 2 실시형태에 있어서의 게이트 밸브(70a)의 종단면도이다. 제 2 실시형태에 있어서의 게이트 밸브(70a)는 공통 반송실(10)과 처리실(30a) 사이에 마련된 하우징(71)을 갖고 있으며, 하우징(71)의 처리실(30a)측의 수직 벽부(71b)에는, 처리실(30a)의 복수의 반입출구(61a)에 대응하는 위치에 복수의 개구부(71a)가 형성되어 있다. 한편, 하우징(71)의 공통 반송실(10)측의 수직 벽부(71d)에는 공통 반송실(10)의 개구부(60)에 대응하는 개구부(71c)가 형성되어 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 반입출구(61a) 및 개구부(71a)가 3개인 경우에 대해 예시하고 있다. 처리실(30a) 내에는, 기판(G)을 처리하기 위한 3개의 처리 공간(＃1 내지 ＃3)을 갖고 있으며, 각 처리 공간은 각 반입출구(61a)에 대응하는 위치에 존재한다. 또한, 각 처리 공간이 구획되어 있어도 좋다.24 is a longitudinal sectional view of the gate valve 70a in the second embodiment. The gate valve 70a according to the second embodiment has a housing 71 provided between the common transport chamber 10 and the process chamber 30a and the vertical wall portion 71b on the process chamber 30a side of the housing 71 , A plurality of openings 71a are formed at positions corresponding to the plurality of loading / unloading ports 61a of the processing chamber 30a. An opening 71c corresponding to the opening 60 of the common transport chamber 10 is formed in the vertical wall portion 71d of the housing 71 on the common transport chamber 10 side. Further, in the present embodiment, the case where there are three carry-in / out openings 61a and openings 71a is exemplified. The processing chamber 30a has three processing spaces # 1 to # 3 for processing the substrate G, and each processing space exists at a position corresponding to each of the loading / unloading outlets 61a. Further, each processing space may be partitioned.

본 실시형태의 게이트 밸브(70a)는, 또한, 하우징(71) 내에 마련된, 복수의 개구부(71a)를 각각 개폐하는 복수의 밸브체(72)와, 밸브체(72)를 이동시키는 밸브체 이동부(73)를 갖고 있다. 밸브체(72)의 개구부(71a)측의 면은 개구부(71a)보다 대면적의 폐색면(72a)으로 되어 있으며, 밸브체(72)가 개구부(71a)를 폐색할 때에는, 폐색면(72a)이 개구부(71a) 및 그 주위를 덮도록 되어 있다. 밸브체 이동부(73)는 구동 기구(도시하지 않음)의 동력을 밸브체(72)에 전달하여 이동시키는 것이며, 승강 로드(74)와 승강 로드(74)에 복수의 밸브체(72)를 연결하는 복수의 연결부(75)를 갖고 있다.The gate valve 70a of the present embodiment further includes a plurality of valve bodies 72 provided in the housing 71 for opening and closing a plurality of openings 71a respectively and a valve body 72 for moving the valve body 72 As shown in Fig. The surface of the valve body 72 on the side of the opening 71a is larger than the surface of the opening 71a. When the valve body 72 closes the opening 71a, the closing surface 72a ) Covers the opening 71a and the periphery thereof. The valve body moving portion 73 is configured to move the power of the driving mechanism (not shown) to the valve body 72 and to move the valve body 72 to the lift rod 74 and the lift rod 74, And has a plurality of connection portions 75 for connection.

구동 기구는 승강 기구 및 진퇴 기구(모두 도시하지 않음)를 갖고 있으며, 승강 기구에 의해 승강 로드(74)를 거쳐서 일괄적으로 복수의 밸브체(72)가 승강되며, 복수의 밸브체(72)가 대응하는 개구부(71a)에 대응하는 높이 위치에 있을 때, 진퇴 기구에 의해, 개구부(71a)를 폐색하는 폐색 위치와, 개구부(71a)로부터 후퇴한 후퇴 위치 사이에서 일괄적으로 이동 가능하게 되어 있다. 기판(G)을 반송할 때에는, 복수의 밸브체(72)를 진퇴 기구에 의해 일괄적으로 폐색 위치로부터 후퇴 위치로 후퇴시키고 나서, 승강 기구에 의해 개구부(71a)의 하방의 퇴피 위치에 일괄적으로 하강시킨다. 또한, 복수의 밸브체(72)는 개별적으로 구동하도록 해도 좋다.The drive mechanism has a lifting mechanism and an advancing / retreating mechanism (both not shown). A plurality of valve bodies 72 are lifted and lowered collectively by the lifting mechanism via the lifting rod 74, When the movable member 71 is at the height position corresponding to the corresponding opening 71a, it can be collectively moved between the closed position for closing the opening 71a and the retracted position for retracting from the opening 71a by the advancing and retreating mechanism have. When the substrate G is transported, the plurality of valve bodies 72 are retracted collectively from the closed position to the retracted position by the advancing / retracting mechanism, and then the retracted position . Further, the plurality of valve bodies 72 may be driven separately.

게이트 밸브(70a)는, 또한, 하우징(71)의 수직 벽부(71b)의 각각의 개구부(71a)의 주위에 마련된 제 1 시일부(81)와, 각각의 밸브체(72)에 마련된 제 2 시일부(82)를 갖는다. 제 2 시일부(82)는, 밸브체(72)가 개구부(71a)를 폐색할 때에, 제 1 시일부(81)에 대응하는 위치에서 제 1 시일부(81)와 협동하여 밸브체(72)와 수직 벽부(71b) 사이를 시일한다.The gate valve 70a further includes a first seal portion 81 provided around each opening portion 71a of the vertical wall portion 71b of the housing 71 and a second seal portion 81 provided around each of the valve portions 72, And a sealing portion 82. The second seal portion 82 cooperates with the first seal portion 81 at a position corresponding to the first seal portion 81 to close the valve body 72 when the valve body 72 closes the opening 71a And the vertical wall portion 71b.

각 제 1 시일부(81)는, 제 1 실시형태의 도 2 및 도 3에 도시하는 기본예와 마찬가지로, 수직 벽부(71b)의 밸브체(72)측의 면(71e)에 있어서의 개구부(71a)의 외측에 주회하도록 돌출하여 프레임 형상으로 마련된 환상의 내측 프레임부(83) 및 외측 프레임부(84)를 갖고, 내측 프레임부(83)와 외측 프레임부(84) 사이에는 개구부(71a)를 둘러싸도록, 파티클 보지부로서 기능하는 환상의 오목부(85)가 형성되어 있다. 또한, 제 1 시일부(81)는 오목부(85)의 바닥부를 따라서 마련된 환상의 O링(86)을 갖고 있다.Each of the first seal portions 81 has an opening portion 71e on the surface 71e of the vertical wall portion 71b on the side of the valve element 72 as in the basic example shown in Figures 2 and 3 of the first embodiment And an opening portion 71a is formed between the inner frame portion 83 and the outer frame portion 84. The inner frame portion 83 has an annular inner frame portion 83 and an outer frame portion 84, An annular concave portion 85 functioning as a particle retaining portion is formed. The first seal portion 81 has an annular O-ring 86 provided along the bottom of the recessed portion 85.

각 제 2 시일부(82)는, 제 1 실시형태의 도 2 및 도 4에 도시하는 기본예와 마찬가지로, 밸브체(72)의 폐색면(72a)에 형성된, 내측 프레임부(83)가 삽입되는 환상의 오목부(87)와, 오목부(87)의 외측 부분에 형성되며, 오목부(85)에 삽입되는 환상의 돌출부(88)를 갖는다.Each of the second seal portions 82 is formed so that the inner frame portion 83 formed on the closed surface 72a of the valve body 72 is inserted into the second seal portion 82 in the same manner as in the basic example shown in Figs. And an annular projecting portion 88 formed in the outer portion of the recess 87 and inserted into the recess 85. The annular recess 87 is formed in the recessed portion 87,

제 1 실시형태의 기본예와 마찬가지로, 밸브체(72)가 개구부(71a)를 폐색할 때에는, 제 1 시일부의 내측 프레임부(83)가 제 2 시일부(82)의 오목부(87)에 삽입되며, 제 2 시일부(82)의 돌출부(88)가 제 1 시일부의 오목부(85)에 삽입되어, 래비린스 구조의 시일이 형성된다. 이때, 돌출부(88)의 선단면이 O링(86)에 접촉하는 시일면이 된다.When the valve body 72 closes the opening 71a in the same manner as in the basic example of the first embodiment, the inner frame portion 83 of the first seal portion is fitted into the recess 87 of the second seal portion 82 And the projecting portion 88 of the second seal portion 82 is inserted into the concave portion 85 of the first seal portion to form a seal of the labyrinth structure. At this time, the tip end surface of the projecting portion 88 is a sealing surface contacting the O-ring 86. [

(제 2 실시형태에 따른 게이트 밸브의 동작)(Operation of gate valve according to the second embodiment)

다음으로, 제 2 실시형태에 있어서의 게이트 밸브(70a)의 동작에 대해 설명한다.Next, the operation of the gate valve 70a in the second embodiment will be described.

처리실(30a) 내에서, 기판(G)에 대해 에칭이나 성막 등의 처리 가스를 이용한 처리를 실행하는 처리가 실행될 때에는, 도 24에 도시하는 바와 같이, 게이트 밸브(70a)의 복수의 밸브체(72)는 각각 대응하는 개구부(71a)를 폐색한 상태로 되어 있다. 밸브체(72)에 의한 개구부(71a)의 폐색 상태는 제 1 실시형태에 있어서의 도 2에 도시하는 상태와 마찬가지이다.24, when a process of performing processing using a process gas such as etching or film formation is performed on the substrate G in the process chamber 30a, a plurality of valve bodies (not shown) of the gate valve 70a 72 are in a state in which the corresponding openings 71a are closed. The closed state of the opening 71a by the valve body 72 is the same as the state shown in Fig. 2 in the first embodiment.

처리실(30a) 내에서의 처리가 종료된 후, 도 25에 도시하는 바와 같이, 진퇴 구동 기구에 의해 복수의 밸브체(72)를 일괄적으로 후퇴 위치로 후퇴시키고, 이어서, 승강 구동 기구에 의해 복수의 밸브체(72)를 일괄적으로 하강시키고, 밸브체(72)가 개구부(71a)와 이에 인접하는 다른 개구부(71a) 사이의 부분에 위치하도록 해서 개구부(71a)를 개방한 상태로 하고, 그 상태에서 처리실(30a)로부터 복수의 기판(G)을 반출한다. 반대로, 개방 상태에서, 밸브체(72)에 의해 개구부(71a)를 폐색할 때에는, 승강 구동 기구에 의해 복수의 밸브체(72)를 일괄적으로 상승시키고, 각 밸브체(72)가 개구부(71a)에 대응하는 높이 위치가 된 시점에서, 진퇴 구동 기구에 의해 복수의 밸브체(72)를 폐색 위치까지 진출시키고, 도 24의 상태로 한다. 이때의 동작은, 제 1 실시형태의 도 5의 (a) 및 (b)에 준하여 실행된다.After the processing in the treatment chamber 30a is completed, as shown in Fig. 25, the plurality of valve bodies 72 are retracted collectively to the retreat position by the advancing and retreating drive mechanism, and then, The plurality of valve bodies 72 are lowered collectively and the valve body 72 is positioned at a portion between the opening portion 71a and another adjacent opening portion 71a so that the opening portion 71a is opened , And the plurality of substrates G are carried out from the processing chamber 30a in this state. Conversely, when the opening 71a is closed by the valve body 72 in the open state, the lift mechanism drives the plurality of valve bodies 72 in a lump to raise the valve body 72 to the openings 71a, the plurality of valve bodies 72 are advanced to the closed position by the advancing and retreating drive mechanism, and the state shown in Fig. 24 is set. The operation at this time is performed in accordance with the steps (a) and (b) of the first embodiment.

각각의 개구부(71a)의 주위에 마련된 제 1 시일부(81)는 개구부(71a)를 둘러싸도록 환상의 내측 프레임부(83)와 환상의 외측 프레임부(84) 사이에 형성된 환상의 오목부(85)를 형성하고, 이 오목부(85)를 O링(86)의 주위에 부착되는 파티클을 보지하는 파티클 보지부로서 기능하도록 했으므로, 제 1 실시형태와 마찬가지로, 개구부(71a)를 개방하여 기판(G)을 반송할 때에, 기판(G) 상에 파티클이 낙하하는 것이 억제된다. 이 때문에, 파티클에 의한 기판(G)의 결함의 발생을 감소시켜서, 제품 수율을 향상시킬 수 있다.The first seal portion 81 provided around each opening portion 71a is formed in an annular concave portion formed between the annular inner frame portion 83 and the annular outer frame portion 84 so as to surround the opening portion 71a And the recessed portion 85 functions as a particle retaining portion for retaining the particles adhering to the periphery of the O-ring 86. Therefore, similarly to the first embodiment, the opening 71a is opened, The particles are prevented from falling on the substrate G when the substrate G is transported. Therefore, the generation of defects of the substrate G by the particles can be reduced, and the product yield can be improved.

또한, 제 1 시일부(81)의 오목부(85)가 개구부(71a)를 둘러싸도록 마련되어 있으며, 그 중에 제 2 시일부(82)의 돌출부(88)가 삽입되도록 해서 시일되므로, 오목부(85)가 처리 가스의 배리어로서도 기능하여, O링(86)의 주위에 침입하는 처리 가스의 양 자체를 줄일 수 있어서, O링(86)의 주위에 처리 가스 성분을 퇴적하기 어렵게 할 수 있다. 또한, 제 2 시일부(82)는 환상의 오목부(87)를 가지고 있으며, 그 중에 제 1 시일부(81)의 내측 프레임부(83)가 삽입되어, 래비린스 구조의 시일이 형성되므로, 처리 가스를 배리어하는 기능을 한층 높게 할 수 있다. 이 때문에, 유지보수 주기를 연장시킬 수 있다.Since the concave portion 85 of the first seal portion 81 surrounds the opening 71a and the protrusion 88 of the second seal portion 82 is inserted into the concave portion 85, 85 can also function as a barrier of the process gas to reduce the amount of the process gas intruding around the O-ring 86, making it difficult to deposit process gas components around the O-ring 86. The second seal portion 82 has an annular recess 87 in which the inner frame portion 83 of the first seal portion 81 is inserted and a seal of the labyrinth structure is formed, It is possible to further enhance the function of barring the process gas. Therefore, the maintenance period can be extended.

또한, 제 2 실시형태에서도, 제 1 시일부 및 제 2 시일부로서, 제 1 실시형태의 제 1 내지 제 5 변형예의 것을 이용할 수 있다. 다만, 도 12에 도시하는 제 5 변형예의 경우에는, 개구부(71a)의 상측에 차양 형상으로 돌출하는 돌출부(89)를 파티클 보지부로서 마련하며, 개구부(71a)의 하측 부분에는 파티클 보지부가 존재하지 않으므로, 그 개구부(71a) 아래에 다른 개구부(71a)가 존재하는 경우에는, 다른 개구부(71a)를 기판(G)이 통과할 때에, 그 기판(G)에 파티클이 낙하할 우려가 있으므로 바람직하지 않다.Also in the second embodiment, the first to fifth modifications of the first embodiment can be used as the first seal portion and the second seal portion. In the fifth modification shown in Fig. 12, a protruding portion 89 protruding in an oblong shape on the upper side of the opening 71a is provided as a particle retaining portion, and a particle retaining portion is provided in a lower portion of the opening 71a The other openings 71a are present under the openings 71a so that the particles G may fall on the substrate G when the substrate G passes through the other openings 71a I do not.

또한, 제 1 실시형태에 있어서의 게이트 밸브의 유지보수성을 고려한 제 1 구성예 내지 제 5 구성예를 적용하는 것도 가능하다.It is also possible to apply the first to fifth configuration examples in which the maintenance of the gate valve in the first embodiment is taken into consideration.

<다른 적용><Other applications>

또한, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 일 없이 여러 가지 변형 가능하다. 예컨대, 상기 실시형태에서는, 진퇴 기구가 소정의 높이 위치에서 밸브체를 수평으로 구동하도록 기재했지만, 밸브체를 진퇴시킬 때에 링크 기구 등에 의해 경사지게 이동하도록 해도 좋다. 또한, 게이트 밸브로서 하우징을 갖는 것을 나타냈지만, 개구부를 갖는 벽부가 존재하면 하우징이 아니어도 좋다. 또한, 게이트 밸브의 개구부를 갖는 벽부가 처리실의 반입출구를 갖는 벽부라도 좋다. 또한, 처리하는 기판으로서, 액정 디스플레이(LCD)와 같은 FPD용 유리 기판 혹은 태양 전지용 유리 기판을 예시했지만, 이에 한정하지 않으며, 반도체 기판 등의 다른 기판에 적용 가능하다는 것은 말할 필요도 없다.In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be modified in various ways. For example, in the above-described embodiment, the valve body is horizontally driven at a predetermined height position, but the valve body may be inclined by a link mechanism or the like when the valve body is moved forward or backward. Furthermore, although it has been shown that the gate valve has a housing, it may not be a housing if a wall portion having an opening is present. Further, the wall portion having the opening portion of the gate valve may be a wall portion having the loading / unloading port of the treatment chamber. As a substrate to be processed, a FPD glass substrate or a solar cell glass substrate such as a liquid crystal display (LCD) is exemplified, but it is needless to say that the present invention is applicable to other substrates such as a semiconductor substrate.

1 : 기판 처리 시스템 10 : 공통 반송실
30a, 30b, 30c : 처리실 40 : 로드록실
50 : 기판 반송 장치 70a, 70b, 70c : 게이트 밸브
71 : 하우징 71a : 개구부
71b : 수직 벽부 72 : 밸브체
72a : 폐색면 73 : 밸브체 이동부
81 : 제 1 시일부 82 : 제 2 시일부
83 : 내측 프레임부 83a : 프레임부
84 : 외측 프레임부 85, 85a : 오목부
86 : O링 87, 87a : 오목부
88 : 돌출부 88a : 외측 프레임부
88b : 내측 프레임부 88c : 프레임부
89 : 돌출부 171, 191 : 제 1 부분
172, 192 : 제 2 부분 173, 193 : 위치 결정 부재
174, 175, 176 : 나사 181, 184a, 184b : 가고정부
182 : 가고정 나사 185 : 가고정 브래킷
202 : 주위 부재 203 : 개구부1: substrate processing system 10: common transport chamber
30a, 30b, 30c: processing chamber 40: load lock chamber
50: substrate transfer devices 70a, 70b, 70c: gate valve
71: housing 71a: opening
71b: vertical wall portion 72: valve body
72a: closed surface 73: valve body moving part
81: first seal part 82: second seal part
83: inner frame part 83a:
84: outer frame part 85, 85a:
86: O-rings 87, 87a:
88: projecting portion 88a: outer frame portion
88b: Inner frame portion 88c:
89: protrusions 171, 191: first part
172, 192: second portion 173, 193: positioning member
174, 175, 176: screws 181, 184a, 184b:
182: Fixing screws 185: Fixing brackets
202: peripheral member 203: opening

Claims (16)

기판에 소정의 처리를 실시하는 처리 장치에 있어서의 처리실의 반입출구의 개폐에 이용되는 게이트 밸브에 있어서,
상기 반입출구에 연통하는 개구부가 형성된 수직 벽부와,
상기 개구부를 개폐하는 밸브체와,
상기 밸브체를, 상기 개구부를 폐색하는 폐색 위치와, 상기 개구부로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동시키는 밸브체 이동부와,
상기 개구부를 둘러싸는 O링과, 상기 밸브체가 폐색 위치에 있을 때 상기 수직 벽부의 개구부의 주위로부터 상기 밸브체를 향하여, 상기 O링과 상기 밸브체의 접촉면인 시일면보다 수평방향으로 더 돌출하여 연장되는 돌출부를 포함하며 상기 수직 벽부 상에 마련된 제 1 시일부와,
상기 밸브체에 마련되며, 상기 밸브체가 상기 개구부를 폐색할 때에, 상기 제 1 시일부에 대응하는 위치에서 상기 제 1 시일부와 협동하여 상기 밸브체와 상기 수직 벽부 사이를 시일하는 제 2 시일부를 구비하고,
상기 제 1 시일부의 상기 돌출부는, 상기 제 1 시일부와 상기 제 2 시일부에 의해 형성되는 시일 부분의 주위로부터 이탈하는 파티클을 보지하는 파티클 보지부로 기능하며,
상기 밸브체는 상기 밸브체 이동부측의 제 1 부분과, 상기 개구부를 폐색하는 폐색면 및 상기 제 2 시일부를 포함하는 제 2 부분을 갖고, 상기 제 2 부분이 상기 제 1 부분으로부터 분리 가능하게 구성되며, 상기 제 1 부분과 상기 제 2 부분 사이에 위치 결정 부재를 갖는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.A gate valve used for opening and closing a loading / unloading port of a processing chamber in a processing apparatus that performs a predetermined process on a substrate,
A vertical wall portion having an opening communicating with the loading /
A valve body for opening and closing the opening,
A valve body moving portion for moving the valve body between a closed position for closing the opening portion and a retreat position retracted from the opening portion,
An O-ring surrounding the opening, and an O-ring projecting from the periphery of the opening of the vertical wall portion toward the valve body when the valve body is in the closed position, further projecting in the horizontal direction than the sealing surface which is the contact surface between the O- A first seal portion provided on the vertical wall portion,
And a second seal portion provided on the valve body and sealing the valve body and the vertical wall portion in cooperation with the first seal portion at a position corresponding to the first seal portion when the valve body closes the opening portion Respectively,
The projecting portion of the first seal portion functions as a particle retaining portion for retaining particles which are separated from the periphery of the seal portion formed by the first seal portion and the second seal portion,
Wherein the valve body has a first portion on the side of the valve body moving portion, a second portion including a blocking surface for blocking the opening portion and the second seal portion, and the second portion is detachable from the first portion And a positioning member between the first portion and the second portion.
Gate valve. 제 1 항에 있어서,
상기 파티클 보지부는, 상기 수직 벽부의 상기 밸브체측에 상기 개구부를 둘러싸도록 마련된 환상을 이루는 제 1 오목부를 갖는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.The method according to claim 1,
Wherein the particle retaining portion has an annular first concave portion provided on the valve body side of the vertical wall portion so as to surround the opening portion
Gate valve. 제 2 항에 있어서,
상기 제 1 오목부는 상기 개구부를 둘러싸도록 돌출하여 마련된 2개의 프레임부의 사이에 형성되거나, 또는, 상기 수직 벽부의 상기 밸브체측의 면에 형성되는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.3. The method of claim 2,
The first concave portion is formed between two frame portions protruding to surround the opening portion or formed on a surface of the vertical wall portion on the side of the valve body
Gate valve. 제 2 항에 있어서,
상기 제 2 시일부는, 상기 밸브체의 상기 개구부를 폐색하는 폐색면에 상기 제 1 오목부에 삽입되는 환상의 돌출부를 갖는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.3. The method of claim 2,
Characterized in that the second seal portion has an annular protrusion that is inserted into the first recessed portion on a closed surface for closing the opening portion of the valve element
Gate valve. 제 2 항에 있어서,
상기 제 2 시일부는, 상기 제 1 시일부와의 사이에 래비린스 시일을 형성하도록 상기 밸브체에 형성된 환상을 이루는 제 2 오목부를 갖는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.3. The method of claim 2,
And the second seal portion has an annular second concave portion formed in the valve body so as to form a labyrinth seal between the second seal portion and the first seal portion
Gate valve. 제 5 항에 있어서,
상기 제 2 오목부는 상기 밸브체의 상기 개구부를 폐색하는 폐색면에 형성되거나, 또는, 상기 폐색면으로부터 돌출하여 마련된 2개의 프레임부의 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.6. The method of claim 5,
And the second recess is formed on the occluding surface closing the opening of the valve element or between two frame portions protruding from the occluding surface.
Gate valve. 제 1 항에 있어서,
상기 파티클 보지부는, 상기 개구부를 둘러싸도록 상기 수직 벽부의 상기 밸브체측의 면으로부터 돌출하여 마련된 프레임부를 갖는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.The method according to claim 1,
Characterized in that the particle retaining portion has a frame portion protruding from the surface of the vertical wall portion on the side of the valve element so as to surround the opening portion
Gate valve. 제 7 항에 있어서,
상기 제 2 시일부는, 상기 밸브체의 상기 개구부를 폐색하는 폐색면에 상기 프레임부가 삽입되는 오목부를 갖는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.8. The method of claim 7,
Characterized in that the second seal portion has a concave portion into which the frame portion is inserted in a closed surface for closing the opening portion of the valve element
Gate valve. 제 1 항에 있어서,
상기 파티클 보지부는, 상기 개구부의 상측에 상기 수직 벽부의 상기 밸브체측의 면으로부터 차양 형상으로 돌출하여 마련된 돌출부를 갖는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.The method according to claim 1,
Characterized in that the particle retaining portion has a protruding portion protruding in an oblong shape from the surface of the vertical wall portion on the valve body side on the upper side of the opening portion
Gate valve. 제 9 항에 있어서,
상기 제 2 시일부는, 상기 밸브체의 상기 개구부를 폐색하는 폐색면에 상기 돌출부가 삽입되는 오목부를 갖는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.10. The method of claim 9,
And the second seal portion has a concave portion into which the protruding portion is inserted in a blocked surface for closing the opening portion of the valve element
Gate valve. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제 1 시일부 및 상기 제 2 시일부 중 어느 하나는 시일 부재를 갖고, 상기 제 1 시일부 및 상기 제 2 시일부 중 다른 하나는, 상기 시일 부재가 접촉하는 시일면을 가지며, 상기 밸브체가 상기 개구부를 폐색할 때에, 상기 시일 부재가 상기 시일면에 가압되는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.11. The method according to any one of claims 1 to 10,
Wherein one of the first seal portion and the second seal portion has a seal member and the other of the first seal portion and the second seal portion has a seal surface on which the seal member contacts, And the sealing member is pressed against the sealing surface when the opening is closed.
Gate valve. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 제 2 부분을 상기 처리실측으로부터 분리 가능하게 구성되는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.The method according to claim 1,
And the second portion is detachable from the processing chamber side.
Gate valve. 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 처리 장치는 복수의 기판을 처리하는 것이며, 상기 처리실은 복수의 기판을 처리하기 위한 복수의 처리 공간을 갖고, 상기 반입출구는 복수의 상기 처리 공간에 대응하여 복수 마련되며, 상기 수직 벽부에는, 복수의 상기 반입출구에 대응하여 상기 개구부가 복수 마련되고, 상기 밸브체를 복수의 상기 개구부에 대응하여 복수 갖는 것을 특징으로 하는
게이트 밸브.11. The method according to any one of claims 1 to 10,
Wherein the processing apparatus has a plurality of processing spaces for processing a plurality of substrates, a plurality of the loading / unloading ports are provided corresponding to the plurality of processing spaces, A plurality of the openings corresponding to the plurality of the carry-in / out openings are provided, and a plurality of the valve bodies are provided corresponding to the plurality of the openings
Gate valve. 기판을 처리하는 처리실과,
상기 처리실 내에서 소정의 처리를 실행하는 처리 기구와,
상기 처리실에 마련된 기판의 반입출구를 개폐하는 게이트 밸브를 구비하고,
상기 게이트 밸브는,
상기 반입출구에 연통하는 개구부가 형성된 수직 벽부와,
상기 개구부를 개폐하는 밸브체와,
상기 밸브체를, 상기 개구부를 폐색하는 폐색 위치와, 상기 개구부로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이에서 이동시키는 밸브체 이동부와,
상기 개구부를 둘러싸는 O링과, 상기 밸브체가 폐색 위치에 있을 때 상기 수직 벽부의 개구부의 주위로부터 상기 밸브체를 향하여, 상기 O링과 상기 밸브체의 접촉면인 시일면보다 수평방향으로 더 돌출하여 연장되는 돌출부를 포함하며 상기 수직 벽부 상에 마련된 제 1 시일부와,
상기 밸브체에 마련되며, 상기 밸브체가 상기 개구부를 폐색할 때에, 상기 제 1 시일부에 대응하는 위치에서 상기 제 1 시일부와 협동하여 상기 밸브체와 상기 수직 벽부 사이를 시일하는 제 2 시일부를 갖고,
상기 제 1 시일부의 상기 돌출부는, 상기 제 1 시일부와 상기 제 2 시일부에 의해 형성되는 시일 부분의 주위로부터 이탈하는 파티클을 보지하는 파티클 보지부로 기능하며,
상기 밸브체는 상기 밸브체 이동부측의 제 1 부분과, 상기 개구부를 폐색하는 폐색면 및 상기 제 2 시일부를 포함하는 제 2 부분을 갖고, 상기 제 2 부분이 상기 제 1 부분으로부터 분리 가능하게 구성되며, 상기 제 1 부분과 상기 제 2 부분 사이에 위치 결정 부재를 갖는 것을 특징으로 하는
기판 처리 장치.A processing chamber for processing the substrate,
A processing mechanism for executing predetermined processing in the processing chamber,
And a gate valve for opening and closing the loading / unloading port of the substrate provided in the processing chamber,
Wherein the gate valve comprises:
A vertical wall portion having an opening communicating with the loading /
A valve body for opening and closing the opening,
A valve body moving portion for moving the valve body between a closed position for closing the opening portion and a retreat position retracted from the opening portion,
An O-ring surrounding the opening, and an O-ring projecting from the periphery of the opening of the vertical wall portion toward the valve body when the valve body is in the closed position, further projecting in the horizontal direction than the sealing surface which is the contact surface between the O- A first seal portion provided on the vertical wall portion,
And a second seal portion provided on the valve body and sealing the valve body and the vertical wall portion in cooperation with the first seal portion at a position corresponding to the first seal portion when the valve body closes the opening portion Have,
The projecting portion of the first seal portion functions as a particle retaining portion for retaining particles which are separated from the periphery of the seal portion formed by the first seal portion and the second seal portion,
Wherein the valve body has a first portion on the side of the valve body moving portion, a second portion including a blocking surface for blocking the opening portion and the second seal portion, and the second portion is detachable from the first portion And a positioning member between the first portion and the second portion.
/ RTI &gt; 제 15 항에 있어서,
상기 처리실은 복수의 기판을 처리하기 위한 복수의 처리 공간을 갖고, 상기 반입출구는, 복수의 상기 처리 공간에 대응하여 복수 마련되며,
상기 게이트 밸브는, 상기 수직 벽부에 복수의 상기 반입출구에 대응하여 상기 개구부를 복수 갖고, 상기 밸브체를 복수의 상기 개구부에 대응하여 복수 갖는 것을 특징으로 하는
기판 처리 장치.16. The method of claim 15,
Wherein the processing chamber has a plurality of processing spaces for processing a plurality of substrates, a plurality of the loading / unloading ports are provided corresponding to the plurality of processing spaces,
Wherein the gate valve has a plurality of the openings corresponding to the plurality of the loading / unloading outlets in the vertical wall portion, and the plurality of the valve bodies are provided corresponding to the plurality of the openings
/ RTI &gt;
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