KR20200126985A - 광학 요소, 및 광학 요소의 파면 효과를 교정하기 위한 방법 - Google Patents

광학 요소, 및 광학 요소의 파면 효과를 교정하기 위한 방법 Download PDF

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KR20200126985A
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케르스틴 힐트
토랄프 그루너
비탈리 스클로버
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칼 짜이스 에스엠테 게엠베하
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Abstract

본 발명은 광학 시스템에서, 특히 마이크로리소그래피 투영 노광 장치 또는 마스크 검사 장치의 광학 시스템에서 사용하기 위한 광학 요소, 및 광학 요소의 파면 효과를 교정하기 위한 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 광학 요소는 적어도 하나의 교정 층(12, 22), 및 광학 시스템 내에 존재하는 파면 수차가 하기 조작에 의해서 적어도 부분적으로 교정될 수 있는 방식으로, 이러한 교정 층 내의 층 응력을 조작하기 위한 조작기를 갖는다. 조작기는, 전자기 복사선(5)으로 교정 층(12, 22)을 공간적으로 분해 조사를 하기 위한 복사선 공급원을 갖고, 이러한 공간적 분해 조사에 의해서, 서로 이격되고 각각의 경우에 그 구조(12a, 12b, 12c,...; 22a, 22b, 22c,...)가 수정된 복수의 이격된 지역이 교정 층(12, 22) 내에 생성될 수 있다.

Description

광학 요소, 및 광학 요소의 파면 효과를 교정하기 위한 방법
본원은 2018년 3월 5일자로 출원된 독일 특허출원 제10 2018 203 241.6호의 우선권을 주장한다. 이러한 독일 출원의 내용이 또한 본원의 내용에 참조로 포함된다.
본 발명은 광학 시스템에서, 특히 마이크로리소그래피 투영 노광 장치 또는 마스크 검사 장치의 광학 시스템에서 사용하기 위한 광학 요소, 및 광학 요소의 파면 효과를 교정하기 위한 방법에 관한 것이다.
마이크로리소그래피는 예를 들어 집적 회로 또는 LCD와 같은 마이크로구조의 구성요소를 생산하기 위해서 사용된다. 마이크로리소그래피 프로세스는, 조명 디바이스(illumination device) 및 투영 렌즈를 포함하는 투영 노광 장치로 지칭되는 것에서 실시된다. 이러한 경우에, 조명 디바이스에 의해서 조명되는 마스크(= 레티클)의 화상은, 투영 렌즈에 의해서, 감광성 층(포토레지스트)이 코팅되고 투영 렌즈의 화상 평면 내에 배열된 기재(예를 들어, 규소 웨이퍼) 상으로 투영되어, 마스크 구조를 기재의 감광성 코팅에 전사한다.
마스크 검사 장치는 마이크로리소그래피 투영 노광 장치용 레티클의 검사를 위해서 사용된다.
EUV 범위, 즉 예를 들어 약 13 nm 또는 약 7 nm의 파장을 위해서 설계된 투영 렌즈 또는 검사 렌즈에서, 적절한 광-투과 굴절 재료를 이용할 수 없음에 따라, 반사 광학 요소가 화상화 프로세스를 위한 광학 구성요소로서 사용된다.
여기에서, 특히, 파면 교정 층을 반사 광학 요소 상에 제공하는 것이 알려져 있고, 그러한 파면 교정 층의 두께 프로파일은, 광학 시스템의 동작 중에 발생되는 파면 수차를 교정하기 위해서, 후속하여 셋팅된다. 또한, 예를 들어, 투과에서 부가적인 광학적 파면 교정 요소로서 동작하는 필름 요소의 이용이 알려져 있고, 그러한 필름 요소는 변화되는 층 두께 프로파일에 의해서 희망 파면 교정을 유발한다.
종래 기술과 관련하여, 단지 예로서 US 6,844,272 B2, DE 10 2011 090 192 A1, US 9,063,277 B2, DE 10 2005 044 716 A1, DE 10 2015 200 328 A1, DE 10 2014 224 569 A1, US 8,508,854 B2, DE 38 32 126 A1, US 4,876,667 및 EP 0 217 293 B1을 참조한다.
본 발명의 목적은 광학 시스템에서, 특히 마이크로리소그래피 투영 노광 장치 또는 마스크 검사 장치의 광학 시스템에서 사용하기 위한 광학 요소, 및 비교적 적은 구조적 레이아웃으로 가능한 한 정밀하게 조정 가능한 파면 교정 효과가 얻어질 수 있게 하는, 광학 요소의 파면 효과를 교정하기 위한 방법을 제공하는 것이다.
이러한 목적은 독립항인 특허 제1항의 특징에 따른 광학 요소 및 독립항인 특허 제9항의 특징에 따른 방법에 의해서 달성된다.
광학 시스템에서, 특히 마이크로리소그래피 투영 노광 장치 또는 마스크 검사 장치의 광학 시스템에서 사용하기 위한 본 발명에 따른 광학 요소는:
- 적어도 하나의 교정 층; 및
- 광학 시스템 내에 존재하는 파면 수차가 하기 조작에 의해서 적어도 부분적으로 교정될 수 있는 방식으로, 이러한 교정 층 내의 층 응력을 조작하기 위한 조작기를 포함하고;
- 조작기는, 전자기 복사선으로 교정 층을 공간적 분해 조사하기(spatially resolved irradiation) 위한 복사선 공급원을 가지고; 그리고
- 이러한 공간적 분해 조사는, 교정 층 내에서, 각각의 경우에 그 구조와 관련하여 동일하게 수정된, 복수의 이격된 영역들이 생성될 수 있게 한다.
특히, 본 발명은, 층 응력의 변화를 수반하는 광학적 유효 표면의 변형을 통해서 광학 요소의 파면 효과를 희망하는 대로 셋팅하기 위한 적절한 방식으로 목표 방식으로 활용되는 또는 조작되는, 교정 층 내의 광학 요소에서 발생되는 층 응력에 의해서 희망 파면 교정을 생성한다는 개념을 기초로 한다.
결과적으로, 본 발명은, 특히, (거울 또는 렌즈 요소와 같은) 광학 요소에서 발생되는 층 응력이, 예를 들어 최소화되어야 하는 기생 효과(parasitic effect) 또는 교란 매개변수로 간주되지 않고, 그 대신 희망 파면 효과를 셋팅하기 위해서 의도적으로 활용되고 목표 방식으로 조작된다는 사실에서, 통상적인 접근방식과 상이하다. 여기에서, 이하에서 또한 더 구체적으로 설명되는 바와 같이, 이는, 특히, 층 응력의 국소적인 분포에 대한 파면 효과의 의존성을 설명하는 적절한 모델을 기초로 할 수 있고, 희망 파면 효과를 획득하기 위한 또는 관련 광학 요소의 모양(figure)을 변경(즉, 표면의 셋팅된 목표 형상으로부터의 편차)하기 위한 층 응력의 상응하는 국소적인 분포가 이러한 모델을 기초로 계산될 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 층 응력의 조작은 이러한 교정 층 내의 층 구조의 변화에 의해서 얻어진다. 특히, 층 구조의 이러한 변화는 적어도 부분적으로 비가역적일 수 있다.
따라서, 본 발명은, 특히, (텍스쳐(texture) 또는 결정 구조의 영구적인 변화의 의미에서) 관련 교정 층 내의 구조적 변화가 의도적으로 발생되고, 예를 들어, 열팽창 행태의, 예를 들어 단지 일시적인 변화가 아니라는 점에서, 통상적인 접근방식과 상이하다. 결과적으로, 본 발명에 따른 효과는, 특히, 기재 재료와 그 위에 위치된 층 또는 층 시스템 사이의 열팽창 계수의 차이에 의해서 유발되는 (바이메탈) 효과와 다르다.
그러한 통상적인 접근방식과 대조적으로, 바람직하게 관련 광학 요소의 모양의 변화의 적어도 50%가, 관련 교정 층의 구조적 변화를 통한 층 응력의 변화에 의해서 본 발명에 따라 발생된다.
실시예에 따라, 적어도 10%, 특히 적어도 20%의 층 응력 변화가, 교정 층 내에서, 10 mm의 측방향 거리에 걸쳐, 특히 1 mm의 측방향 거리에 걸쳐 층 응력의 조작 중에 생성된다. 본 발명에 따라, 비교적 현저한 구배가 층 응력 변화에서 생성될 수 있다.
층 응력을 조작하는데 적합한 물리적 효과는, 예를 들어, 재결정 또는 입자 성장을 통한 입자 크기의 조작, 예를 들어 입계에서의 이완(relaxation) 또는 공동의 수축에 의한 밀도의 측방향 변경, 예를 들어 상 변태 또는 석출에 의한 상의 성분의 변경, 이물질 원자 또는 흡수된 원자(예를 들어, 희가스, 수소, 수증기 등) 그리고 또한 공극 또는 변위의 효과, 그리고 층을 생성하기 위해서 실행되는 스퍼터링 프로세스에서의 대전 입자의 에너지 및 흐름의 조작을 포함한다.
일 실시예에 따라, 층 응력과 관련하여 본 발명에 따라 조작되는 교정 층은, 광학 요소의 각각의 광학적 유효 층 시스템에 부가적으로 제공되는 보조 층이다. 그러한 실시예는, 본 발명에 따른 층 응력의 수정이, 예를 들어, 서비스 수명, 층 시스템 내에 존재하는 계면의 안정성, 또는 추가적인 광학적 특성과 같은, 광학적 유효 층 시스템의 (예를 들어, 거울의 반사 층 시스템의) 특정 특성의 원치 않는 변화를 즉각적으로 수반할 필요가 없다는 장점을 갖는다.
결과적으로, 본 발명에 따라, 특히 적어도 하나의 교정 층이 광학 요소 내의 층 응력을 조작하기 위해서 또는 후속하여 교정하기 위해서 사용되고, 그러한 교정 층은, 예를 들어, 광학 요소의 광학적 유효 표면으로부터 이격된 측면(예를 들어, 거울 후방 측면)으로부터 접근될 수 있다. 여기에서, 층 응력의 조작은, 특히, 교정 층 또는 그 층 구조의 비가역적인 변화일 수 있고, 그에 따라, 본 발명에 따른 광학 요소의 제조가 완료된 후에, 층 응력의 조작을 통해서 모양을 상응하게 변경하기 위한 단일 (사후(post)) 처리가 실시될 수 있다. 추가적인 실시예에서, 층 응력과 관련하여 상응하게 한 차례 비가역적으로 각각 조작될 수 있는, 복수의 층 또는 층 영역이 또한 광학 요소 내에 제공될 수 있다.
그러나, 본 발명은 그러한 부가적인 보조 층의 존재로 제한되지 않는다. 따라서, 추가적인 실시예에서, 특정 효과를 획득하기 위해서 임의의 경우에 광학 시스템에 존재하는 (기능성) 층이 교정 층으로서 이용될 수 있고 층 응력과 관련하여 목표한 방식으로 조작될 수 있다.
본 발명에 따라, 층 응력을 조작하기 위해서 본 발명에 따라 존재하는 조작기는 전자기 복사선으로 교정 층을 공간적 분해 조사하기 위한 복사선 공급원을 포함한다. 여기에서, 이러한 공간적 분해 조사는, 각각의 경우에 그 구조와 관련하여 동일하게 수정된, 복수의 이격된 영역들이 생성될 수 있게 한다.
이러한 접근방식에 따라, 본 발명은, 예를 들어 각각의 경우에 결정 구조, 밀도 등과 관련하여, 관련 층 재료를 수정하는 전자기 복사선에 의해서 관련된 교정 층 내에서 생성되는 공간적 분해된, 국소적으로 제한된 구조 수정에 의해서, 파면 교정의 목적을 가지고 구현되는, 층 응력의 조작을 실현한다는 추가적인 개념을 포함한다. 관련된, 구조적으로 수정된 영역이 그 구조적 수정과 관련하여 그들 스스로 서로 상응하기 때문에, 관련 교정 층에 걸친 "디지털" 구성이 결과적으로 실현되고, 다시, 구조적 수정 또는 조사에 의해서 최종적으로 얻어지는 층 응력의 조작은, 관련된 구조적으로 수정된 영역들 사이의 거리에 따라 달라지는 것으로 설명될 수 있다.
다시, 이는, 이하에서 더 구체적으로 또한 설명되는 바와 같은, 적절한 사전 보정(calibration) 후에, 어떠한 거리 또는 어떠한 디지털 구성이 획득에 아주 적합한지, 또는 획득을 위해서 생성되어야 하는지, 희망하는 층 응력 분포, 또는 그러한 층 응력 분포에 수반되는 파면 교정을 예측할 수 있다는 장점을 갖는다.
원칙적으로, 목표 파면 교정을 위해서 광학 요소 내의 층 응력에 영향을 미치는 것이 또한 다른 방식으로(예를 들어, 전기적, 자기적 또는 열적 효과 또는 에너지 입력에 의해서) 실현될 수 있다.
층 내의 각각의 국소적으로 제한된, 구조적으로 수정된 영역의 전술한 생성은, (예를 들어, 약 1 ㎛의 크기일 수 있는) 충분히 작은 크기의 개별적인 국소적으로 제한된 영역의 경우에, 교정 층이 나머지 영역의 각각의 층 특성에 바람직하지 못한 영향을 미치지 않는다는 추가적인 장점을 갖는다.
일 실시예에 따라, 광학 요소는 거울이다.
실시예에 따라, 광학 요소는 30 nm 미만, 특히 15 nm 미만의 동작 파장을 위해서 설계된다.
본 발명은 또한 전술한 특징으로 광학 요소의 파면 효과를 교정하기 위한 방법에 관한 것이고, 그러한 방법은:
- 광학 요소의 주어진 파면 효과를 확인하는 단계;
- 이러한 확인의 결과에 따라, 교정 층 내의 층 응력의 국소적인 분포에 대한 파면 효과의 의존성을 설명하는 모델을 기초로 파면 효과를 조작하는 단계를 포함한다.
일 실시예에 따라, 주어진 파면 효과를 확인하는 단계 및 조작하는 단계가 반복적인 프로세스에서 반복적으로 실시된다.
일 실시예에 따라, 모델은 유한 요소 방법을 이용하여 확인된다. 결과적으로, 특정 층 응력 변화로부터 초래되는 모양 변화의 계산이, 예를 들어, 종래 기술로부터 알려진 FE 방법에 의해서 실시될 수 있다. 이와 관련하여, 예시적인 방식으로 논문 D. Yin et al.: "Numerical Modelling of Multilayered Coatings - Latest Developments and Applications" Manufacturing Rev. 2014, 1, 8 Published by EDP Sciences, 2014 DOI: 10.1051/mfreview/2014008 and Xianchao Cheng: "Thermal stress issues in thin film coatings of X-ray optics under high heat load" Physics, Universite de Grenoble, 2014, [NNT: 2014GRENY028]를 참조한다.
추가적인 실시예에서, 보정은 모델 셋팅 전에 실행될 수 있고, 그러한 보정의 범위에서 층 응력의 특정 변화로부터 초래되는 모양의 변화 또는 파면 효과의 상응하는 변화가 특정 값에 대해서 실험적으로 확인된다. 필요한 경우에, 그러한 실험적 결정이 몇몇 샘플링 지점에 대해서 실시될 수 있고, 적절한 보간법(interpolation)에 의해서 보충될 수 있다.
방법의 추가적인 바람직한 실시예 및 장점과 관련하여, 본 발명에 따른 광학 요소와 관련된 전술한 설명을 참조한다.
본 발명은 또한 마이크로리소그래피 투영 노광 장치, 특히 조명 디바이스 또는 투영 렌즈의 광학 시스템에 관한 것이고, 또한 전술한 특징을 가지는 적어도 하나의 광학 요소를 포함하는 마이크로리소그래피 투영 노광 장치에 관한 것이다.
발명의 추가적인 구성이 설명 및 종속항으로부터 수집될 수 있다.
이하에서, 첨부 도면에 도시된 예시적인 실시예를 기초로, 본 발명을 더 구체적으로 설명한다.
도 1은 설명을 위한 개략도를 도시한다.
도 2의 a) 내지 도 2의 c)는 본 발명의 일 실시예에 따른 광학 요소의 구조 및 동작 모드를 도시한다.
도 3은 본 발명에 따른 방법의 가능한 시퀀스를 설명하기 위한 흐름도를 도시한다.
도 4는 EUV에서의 동작을 위해서 설계된 마이크로리소그래피 투영 노광 장치의 가능한 구성의 개략도를 도시한다.
실시예
이하에서, 먼저 도 1에 도시된 개략도를 참조하여, 본 발명에 따른 광학 요소의 가능한 구성을 설명할 것이다.
이하에서 설명된 실시예에서 공통되는 것은, 관련 층 구조의 조작에 의해서 해당 층에서 목표 층 응력 변화를 발생시키는 것을 고려하여, 예를 들어 거울과 같은 광학 요소 내의 층이 희망하는 모양 교정 또는 파면 효과를 획득하기 위한 교정 층으로서 사용된다는 것이다. 원칙적으로, 이러한 교정 층은 구체적으로 설명된 목적을 위해서 관련 광학 요소 내로 도입되는 부가적인 보조 층일 수 있다. 그러나, 추가적인 실시예에서, 임의의 경우에, 층 구조 내에 존재하는 (기능성) 층이 본 발명의 의미 내에서 교정 층으로서 부가적으로 사용될 수 있다.
도 1은, 순전히 개략도로, 본 발명에 따라, 거울 기재(11)와 반사 층 시스템(13) 사이에 형성된 교정 층(12)과 함께, 거울 기재(11) 및 반사 층 시스템(13)을 갖는 EUV 거울의 기본적으로 가능한 구조를 도시한다. 거울 기재(11)는, ULE®과 같은, 임의의 적합한 거울 기재 재료를 포함하고, 본 발명에 따라 그리고 도 1에 개략적으로 도시된 바와 같이, 거울 기재는 광학적 유효 표면(10a)으로부터 멀어지는 쪽으로 대면되는 거울(10)의 (후방) 측면으로부터 전자기 복사선(5)으로 조사된다. 이러한 전자기 복사선(5)의 파장은, 거울 기재 재료가 이러한 복사선에 대해서 충분히 투명하도록 하는 방식으로 적절히 선택되고; (ULE®이 거울 기재 재료로서 사용되는) 예시적인 실시예에서, 이는 예를 들어 300 nm일 수 있다.
교정 층(12)은, 전자기 복사선(5)이, 결과적으로, 교정 층(12)의 텍스쳐 또는 결정 구조 내의 구조적 변화에 의해서 층 응력의 조작을 갖게 하는 방식으로 선택되는 층 재료로부터 생산된다. 원칙적으로, 재결정은 사실상 모든 금속 재료(예를 들어, 은(Ag), 구리(Cu), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 코발트(Co))에서 상이한 온도들에서 발생된다. 여기에서, 예를 들어, 심지어 몰리브덴(Mo)과 같은 고융점 금속의 경우에도, 희망 효과를 획득하는데 있어서 단펄스 레이저 어닐링이 도움이 될 수 있다. 또한, 예를 들어 게르마늄 텔루르 안티몬(Ge-Te-Sb), 인듐 안티몬 텔루르(In-Sb-Te), 팔라듐 규소(Pd-Si) 또는 은 텔루르(Ag-Te)와 같은 2원계 및 3원계 합금이 적절한 상 변태 재료로 언급될 수 있다. 이러한 맥락에서, 예시적인 방식으로, 적절한 재료와 관련하여 EP 0 217 293 A1, EP 0 307 750 A1 및 US 4,876,667을 참조한다.
도 1에 도시된 바와 같이, 교정 층(12)에는, 각각의 경우에 구조와 관련하여 동일하게 수정된, 이격된 영역들(12a, 12b, 12c,...)이 생성되도록 공간적 분해 방식으로 전술한 바와 같이 전자기 복사선(5)이 충돌할 수 있고, 그러한 프로세스에서 생성된 층 응력 변화는 이러한 영역들(12a, 12b, 12c,...) 사이의 (예를 들어, 약 1 ㎛ 이상의) 거리에 의해서 목표로 하는 방식으로 희망에 따라 셋팅될 수 있다.
설명된 층 응력의 변화는, 다시, (영역 14 및 15에 표시된 바와 같은) 거울(10)의 광학적 유효 표면의 변형을 초래하고, 그에 따라 목표로 하는 방식으로 조정될 수 있는 모양의 또는 파면 효과의 수정을 초래한다.
도 2의 a) 및 도 2의 b)에 도시된 바와 같이, 그 구조와 관련하여 수정된 영역들은 임의의 적합한 기하형태를 가질 수 있다(그리고, 예를 들어, 도 2의 a)에 따른 실질적으로 원통형의 기하형태인 영역(12a, 12b, 12c,...)으로서, 또는 도 2의 b)에 따른 실질적으로 원뿔형의 기하형태인 영역(22a, 22b, 22c,...)으로서 설계될 수 있다). 도 2의 c)는, 순전히 개략도로서, 그 구조와 관련하여 수정된 영역들의 상대적인 분포에 관한 도면을 기재의 방향으로부터의 평면도로 도시한다.
도 3은, 예를 들어 도 1 및 도 2의 거울(10)과 같은 광학 요소의 파면 효과를 교정하기 위한 본 발명에 따른 방법의 가능한 시퀀스를 설명하기 위한 흐름도를 도시한다.
"S31"은 먼저, 광학 요소의 생산 중에 실행되는, 본 발명에 따른 교정 층을 관련 광학 요소 내로 도입하는 단계를 나타낸다. 이어서, 단계(S32)에서, 존재하는 관련 광학 요소의 또는 거울(10)의 실제 모양을 측정한다. 단계(S33)에서, 특정 목표 모양으로부터의 이러한 실제 모양의 편차가 특정 문턱값 미만인지의 여부(즉, 여전히 "공차 이내"인지의 여부)에 관한 체크를 실행한다. 단계(S33)에서의 문의에 따라 이러한 것에 해당하지 않는 경우에, 적절한 층 응력 변화가 단계(S34)에서 확인되고, 이를 기초로, 이전에 결정된 모양 편차가 교정될 수 있거나, 상응 파면 효과가 얻어질 수 있다. 이를 위해서, 교정 층의 층 응력의 국소적인 분포에 대한 파면 효과의 의존성을 설명하는 적합한 모델을 이용할 수 있다. 관련 모델은, 다시, 유한 요소 방법을 이용하여 확인될 수 있거나, 달리 실험적으로 결정될 수 있고, 실험적으로 결정되는 경우에 상응 보정이 실험적으로 실시된다. 그러한 보정의 경우에, 결정된 층 응력 변화 또는 파면 효과의 상응하는 변화로부터 초래되는 모양 변화가 특정 값에 대해서 실험적으로 확인될 수 있고, 또한 적절한 보간법으로 몇몇 샘플링 지점에 대해서만 실험적으로 확인될 수 있다.
후속 단계(S35)에서, 예를 들어 도 1을 기초로 설명된 방식으로, 층 응력의 상응하는, 목표로 하는 (국소적인 또는 전반적인) 변화가 있고, 이때 단계(S33)로 복귀되고, 이제 실제 모양이 공차 이내에 있는지의 여부에 대해서 달리 체크하고, 단계(S34 및 S35)가 필요할 때 다시 실행된다. 전술한 반복은, 실제 모양을 갖는 광학 요소 또는 거울(10)이 목표 모양에 관한 공차 범위 내에 위치될 때(S36)까지, 실행된다.
원칙적으로, 교정 층 내의 층 응력은, 발생되는 국소적인 또는 전반적인 에너지 입력에 의해서, 예를 들어 교정 층 내의 열적, 전기적, 자기적 또는 다른 효과에 의해서, 다른 적합한 방식으로 조작될 수 있다.
도 4는, EUV에서의 동작을 위해서 설계된 그리고 본 발명에 따른 파면 교정 요소 또는 광학 요소를 포함할 수 있는, 예시적인 투영 노광 장치의 개략도를 도시한다.
도 4에 따라, EUV를 위해서 설계된 투영 노광 장치(40) 내의 조명 디바이스가 필드 패싯 거울(field facet mirror)(43) 및 퓨필 패싯 거울(pupil facet mirror)(44)을 포함한다. 순전히 예로서, 플라즈마 광원(41) 및 수집기 거울(42)을 포함하는 광원 유닛으로부터의 광이 필드 패싯 거울(43) 상으로 지향된다. 예를 들어, 자유 전자 레이저(FEL)가 또한 추가적인 실시예에서 광원으로서 사용될 수 있다. 제1 망원경 거울(45) 및 제2 망원경 거울(46)이 퓨필 패싯 거울(44)의 하류에서 광 경로 내에 배열된다. 편향 거울(47)이 광 경로 내에서 하류에 배열되고, 그러한 편향 거울은, 입사되는 복사선을, 6개의 거울(61 내지 66)을 포함하는 투영 렌즈의 객체 평면(object plane) 내의 객체 필드 상으로 지향시킨다. 객체 필드의 위치에서, 반사 구조물-포함 마스크(51)가 마스크 스테이지(50) 상에 배열되고, 마스크는 투영 렌즈의 도움으로 화상 평면 내로 화상화되고, 화상 평면 내에서, 감광성 층(포토레지스트)으로 코팅된 기재(71)가 웨이퍼 스테이지(70) 상에 위치된다.
비록 특정 실시예를 기초로 본 발명을 설명하였지만, 예를 들어 개별적인 실시예의 특징의 조합 및/또는 교환을 통한, 수 많은 변경 및 대안적 실시예가 당업자에게 자명할 것이다. 따라서, 당연히, 당업자는, 그러한 변경 및 대안적인 실시예가 또한 본 발명에 포함된다는 것, 그리고 본 발명의 범위가 첨부된 특허 청구항 및 그 균등물의 의미 내에서만 제한된다는 것을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (15)

  1. 광학 시스템에서, 특히 마이크로리소그래피 투영 노광 장치 또는 마스크 검사 장치의 광학 시스템에서 사용하기 위한 광학 요소이며:
    · 적어도 하나의 교정 층(12, 22); 및
    · 광학 시스템 내에 존재하는 파면 수차가 하기 조작에 의해서 적어도 부분적으로 교정될 수 있는 방식으로, 이러한 교정 층 내의 층 응력을 조작하기 위한 조작기를 포함하고;
    · 상기 조작기는, 전자기 복사선(5)으로 상기 교정 층(12, 22)을 공간적 분해 조사하기 위한 복사선 공급원을 갖고; 그리고
    · 이러한 공간적 분해 조사는, 상기 교정 층(12, 22) 내에서, 각각의 경우에 그 구조와 관련하여 동일하게 수정된, 복수의 이격된 영역들(12a, 12b, 12c,...; 22a, 22b, 22c,...)이 생성될 수 있게 하는, 광학 요소.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 층 응력의 조작은 이러한 교정 층(12, 22) 내의 층 구조의 변화에 의해서 얻어지는 것을 특징으로 하는, 광학 요소.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 층 구조의 이러한 변화가 적어도 부분적으로 비가역적인 것을 특징으로 하는, 광학 요소.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    적어도 10%, 특히 적어도 20%의 층 응력 변화가, 상기 교정 층(12, 22) 내에서, 10 mm의 측방향 거리에 걸쳐, 특히 1 mm의 측방향 거리에 걸쳐 상기 층 응력의 조작 중에 생성되는 것을 특징으로 하는, 광학 요소.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 요소가 광학적 유효 층 시스템을 가지고, 상기 교정 층은 이러한 층 시스템에 더하여 제공된 보조 층인 것을 특징으로 하는, 광학 요소.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 영역들(12a, 12b, 12c,...; 22a, 22b, 22c,...) 사이에 존재하는 거리가 상기 복사선 공급원에 의해서 조정될 수 있는 것을 특징으로 하는, 광학 요소.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 요소가 거울인 것을 특징으로 하는, 광학 요소.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 광학 요소가 30 nm 미만, 특히 15 nm 미만의 동작 파장을 위해서 설계되는 것을 특징으로 하는, 광학 요소.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 광학 요소의 파면 효과를 교정하기 위한 방법이며:
    a) 상기 광학 요소의 주어진 파면 효과를 확인하는 단계;
    b) 이러한 확인의 결과에 따라, 교정 층 내의 층 응력의 국소적인 분포에 대한 파면 효과의 의존성을 설명하는 모델을 기초로 상기 파면 효과를 조작하는 단계를 포함하는, 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    주어진 파면 효과를 확인하는 단계 및 조작하는 단계가 반복적인 프로세스에서 반복적으로 실시되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    이러한 모델이 유한 요소 방법을 이용하여 확인되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  12. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    보정이 이러한 모델의 셋팅에 앞서서 실행되고, 상기 보정의 범위에서 층 응력의 특정 변화로부터 초래되는 모양의 변화 또는 파면 효과의 상응하는 변화가 특정 값에 대해서 실험적으로 확인되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  13. 제12항에 있어서,
    이러한 실험적 결정이 복수의 샘플링 지점에 대해서 실시되고, 보간법이 이러한 샘플링 지점들 사이에서 실행되는 것을 특징으로 하는, 방법.
  14. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 적어도 하나의 광학 요소를 포함하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치(40), 특히 조명 디바이스, 또는 투영 렌즈의 광학 시스템.
  15. 조명 디바이스 및 투영 렌즈를 포함하는 마이크로리소그래피 투영 노광 장치(10)에 있어서, 투영 노광 장치(40)가 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에서 청구된 바와 같은 광학 요소를 포함하는 것을 특징으로 하는, 마이크로리소그래피 투영 노광 장치(10).
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