KR20200101987A - 조명 라인을 생성하기 위한 광학 시스템(optical system for producing an illumination line) - Google Patents

조명 라인을 생성하기 위한 광학 시스템(optical system for producing an illumination line) Download PDF

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Abstract

본 발명은 조명 라인(illumination line)을 생성하기 위한 광학 시스템에 관한 것이다. 광학 시스템은 광축을 따라 레이저 빔(laser beam)을 생성하기 위한 레이저 빔 소스를 포함한다. 광학 시스템은 또한 레이저 빔의 빔 프로파일이 장축 및 단축을 포함하는 방식으로 레이저 빔을 형성하도록 설계된 빔 형성 장치, 및 레이저 빔의 빔 경로에서 빔 형성 장치의 하류에 배치되고, 이와 같이 형성된 레이저 빔을 조명 라인으로서 이미징하도록 설계된 이미징 장치를 포함한다. 빔 형성 장치는 제 1 렌즈 그룹 및 제 2 렌즈 그룹을 포함하는 적어도 하나의 망원경 조립체를 포함한다. 제 1 렌즈 그룹 및 제 2 렌즈 그룹은 적어도 단축에 대해 광 굴절력을 갖는다. 광학 시스템은 광축을 따라 제 1 및 제 2 렌즈 그룹 중 적어도 하나를 이동시키기 위한 제 1 이동 장치를 포함한다. 광학 시스템은 또한 제어 유닛을 포함하고, 이 제어 유닛은 레이저 빔 소스가 레이저 빔을 생성하는 동안 제 1 및 제 2 렌즈 그룹 중 적어도 하나가 이동되는 방식으로 제 1 이동 장치를 제어하도록 설계된다. 본 발명은 또한 조명 라인을 생성하기 위한 방법에 관한 것이다.

Description

조명 라인을 생성하기 위한 광학 시스템(OPTICAL SYSTEM FOR PRODUCING AN ILLUMINATION LINE)
본 발명은 특히 예를 들어 소위 레이저 리프트 오프(laser lift off) 적용 분야를 위한 또는 박막 층을 처리하기 위한 시스템을 위한, 조명 라인(illumination line)을 생성하기 위한 광학 시스템, 및 특히 레이저 리프트 오프 적용 분야를 위한 또는 박막 층을 처리하기 위한, 조명 라인을 생성하기 위한 방법에 관한 것이다.
아래 제시된 기술은 예를 들어 레이저 리프트 오프 적용 분야와 관련하여 사용될 수 있다. 레이저 리프트 오프 적용에 의해 유리 캐리어로부터 플라스틱 기판이 분리된다. 이 경우 레이저 라인(즉, 조명 라인)은 투명 유리를 통해 플라스틱 기판 상에 포커싱된다(focused). 접착부는 레이저 빔(laser beam)에 의해 분해되고, 플라스틱 기판은 이러한 방식으로 유리 기판으로부터 접촉하지 않고 분리된다. 예를 들어, 플렉시블 OLED 디스플레이는 제조를 위해 유리 플레이트에 접착된 PI 포일로 제조된다. 예를 들어 증착 및 포토리소그래피 공정을 포함하는 제조 작업 후, 디스플레이 기판은 레이저 리프트 오프(LLO) 공정을 사용하여 유리 캐리어로부터 분리된다. 이들 공정을 위해, 예를 들어 343 nm 및 355 nm 레이저 광을 방출하고 폴리이미드 층 또는 접착제 층에 의해서는 잘 흡수되지만 그럼에도 유리에 대해서는 거의 투명한 펄스형 고체 레이저가 사용된다.
LLO 공정의 가능한 적용 분야는 예를 들어 유리 캐리어로부터 플렉시블 OLED 디스플레이 기판을 분리하는 경우이다. 여기서 예를 들어 0.5 mm 두께의 평면의 유리 플레이트 상에 수 10 내지 100 ㎛의 폴리이미드 필름이 접착되고, 그 위에 OLED 디스플레이 구조가 구축된다. 디스플레이 포일을 완성한 후 이것은 유리 캐리어로부터 제거되어야 한다. 이를 위해, 레이저 라인이 343 nm 또는 355 nm에 대해 투명한 유리를 통해 플라스틱 포일에 포커싱된다. 100 내지 500 mJ/cm²의 일반적인 에너지 밀도에서, 20 내지 50 ㎛ 폭의 라인이 50 내지 300 mm/s의 속도로 그 위로 이동됨으로써 접착부가 분리된다. 플라스틱 기판은 이 경우 손상되지 않은 상태로 유지되고, 플렉시블 OLED 디스플레이 기판은 예를 들어 스마트 폰에서 추가 처리를 위해 사용될 수 있다.
제시된 기술의 다른 적용 분야는 박막 층의 처리에 관한 것이다. 레이저는 예를 들어 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor)(약어로: TFT)의 제조를 위해, 박막 층의 결정화를 위해 사용된다. 처리될 반도체로서, 특히 실리콘(약어로: Si), 보다 정확하게는 a-Si가 사용된다. 반도체 층의 두께는 예를 들어 50 nm이고, 이는 전형적으로 기판(예를 들어, 유리 기판) 또는 다른 캐리어 상에 위치된다.
층은 레이저 광, 예를 들어 펄스형 고체 레이저에 의해 조명된다. 여기서 예를 들어 532 nm 또는 515 nm의 파장을 갖는 광은 조명 라인으로 형성되고, 예를 들어 DE 10 2012 007 601 A1 또는 WO 2013/156384 A1을 참조하도록 한다. 몇 년 동안 또한 343 nm 및 355 nm 파장을 갖는 레이저도 이러한 공정에 사용되었다. 빔 형성 장치를 사용하여, 레이저 빔은 레이저 빔의 빔 프로파일이 장축 및 단축을 갖도록 형성될 수 있다. 그 후, 레이저 빔의 광으로부터 조명 라인을 생성하기 위해, 레이저 빔의 빔 경로에서 빔 형성 장치의 하류에 배치된 이미징 장치에 의해, 이와 같이 형성된 레이저 빔은 조명 라인으로서 이미징될 수 있다. 대응하는 광학 시스템이 예를 들어 DE 10 2015 002 537에 설명되어 있다.
구체적으로, 빔 형성 장치는 예를 들어 아나모픽(anamorphic) 광학계를 포함할 수 있고, 제 1 및 제 2 이미징 축에 대해 상이한 이미징 특성을 가질 수 있다. 특히, 빔 형성 장치는 이미징 장치 바로 전방의 위치에서 레이저 광으로부터, 빔 프로파일이 장축 및 단축을 가지는 레이저 빔을 생성하도록 구성될 수 있으며, 여기서 빔 프로파일은 장축에서 (가능한 한) 균질화된 (또는 실질적으로 균일한) 강도 분포를 갖는다. 이미징 장치는 그 후, 조명 라인의 단축을 생성하기 위해, (특히 오직) 빔 형성 장치에 의해 이미징 장치의 바로 전방에 생성된 빔 프로파일의 단축만을 포커싱한다. 그러나, 이미징 장치는 특히 장축에 대해 (실질적으로) 포커싱 특성을 갖지 않으므로, 빔 형성 장치에 의해 이미징 장치의 바로 전방에 생성된 빔 프로파일의 장축은 사실상 변경되지 않은 상태로 이미징 장치를 통과할 수 있고, 이에 따라 조명 라인의 장축에 대응하게 된다.
따라서, 레이저 빔의 미리 형성된 빔 프로파일과 같이, 조명 라인은 단축 및 장축을 가지며, 여기서 - 명확화를 위해 - 특히 이미징 장치에 의해 이미징하기 전의 레이저 빔의 빔 프로파일의 단축은 조명 라인의 단축에 대응하고, 빔 프로파일의 장축은 조명 라인의 (균질화된) 장축에 대응한다. 장축을 따른 조명 라인의 강도 분포는 이상적으로 직사각형이며, 예를 들어 수 100 mm, 예를 들어 750 mm 내지 1000 mm 또는 이보다 더 긴 길이[또는 반치전폭(Full Width at Half Maximum)(약어로: FWHM)]를 갖는다. 단축을 따른 강도 분포는 전형적으로 가우시안 형상이며, 대략 5 ㎛ 내지 100 ㎛의 FWHM을 갖는다. 따라서, 단축 및 장축은 비교적 높은 종횡비를 형성한다.
조명 라인은 단축 방향으로 약 1 mm/s 내지 50 mm/s, 바람직하게는 10 mm/s 내지 20 mm/s의 공급 속도로 반도체 층을 통해 안내된다. 광 빔의 강도(연속파 레이저의 경우) 또는 펄스 에너지(펄스형 레이저의 경우)는 반도체 층이 단시간에(즉, 대략 50 ns 내지 100 μs의 시간 스케일로) 용융되고 전기적 특성이 개선된 결정질 층으로서 다시 응고되도록 설정된다.
LLO 및 박막 트랜지스터의 제조와 관련된 위에서 설명한 적용 분야 외에도, 기판을 조명하기 위해 높은 종횡비를 갖는 조명 라인의 생성이 요구되는 여러 다른 적용 분야가 존재한다.
생성된 조명 라인의 품질은 특히 단축 및/또는 장축을 따라 포함되는 공간 강도 분포에 의존하고, 조명 라인으로 처리될 기판의 재료에 영향을 미친다. 따라서, 비정질 실리콘 층의 결정화에서, 이미 장축을 따른 강도 분포의 작은 비균질성이 발생하는데, 즉, 예를 들어 (예를 들어, 입자 크기의 국소적 변동에 기인하는) 결정 구조에서의 공간적 불균일성의 조명 라인을 공급할 때, 낮은 한 자릿수 백분율 범위의(예를 들어 약 2 %의), (이상적인) 균일한 강도 분포에 대한 절대 강도의 국소 편차 또는 변조가 발생하고, 이는 박막 층의 품질 및 이에 따라 또한 박막 트랜지스터의 품질에도 영향을 미친다. 이로부터 다음과 같은 관계가 형성된다: 조명 라인의 강도 분포가 더 균일할수록(즉, 더 균질할수록), 박막 층의 결정 구조가 더 균일하고(더 균질하고), 예를 들어 디스플레이 장치의 스크린 영역(예를 들어, 스크린, 모니터 등)의 TFTs와 같이, 이로부터 형성된 최종 제품의 특성이 더 균일해진다(더 균질해진다).
위에서 설명한 조명 라인의 강도의 공간적 균질성에 추가하여, 강도의 시간적 균질성(이는 주사 동안 강도의 시간적 변화를 의미함)이 비교적 크게 중요하다. 조명 라인의 강도의 시간적 변동에 의해, 조명 라인이 안내되는 조명된 재료의 영역이 상이한(즉, 불균일한 또는 불균일한) 강도로 조명되고, 이는 형성된 최종 제품의 바람직하지 않은 불균질한 특성을 초래할 수 있다.
이러한 배경에 대해, 생성된 조명 라인의 광학 특성을 시간이 지남에 따라 가능한 한 일정하게 유지하는 것이 바람직하다. 특히, 조명 라인의 강도(특히 전체 강도 분포 또는 적어도 최대 강도) 및 단축을 따른 조명 라인의 반치전폭(FWHM)을 시간이 지남에 따라 가능한 한 일정하게 유지하는 것이 바람직하다.
따라서, 본 발명의 목적은 품질이 높은 그리고 시간이 지남에 따라 일정한 조명 라인의 생성을 가능하게 하는, 특히 박막 층을 처리하기 위한 시스템을 위한, 조명 라인을 생성하기 위한 개선된 광학 시스템을 제공하는 것이다.
이러한 목적은 본원의 청구범위 제 1 항에 따른 광학 시스템 및 본원의 청구범위 제 12 항에 따른 방법에 의해 달성된다.
제 1 양태에 따르면, (특히 박막 층을 처리하기 위한 시스템을 위한) 조명 라인을 생성하기 위한 광학 시스템이 제공된다. 광학 시스템은 광축을 따라 레이저 빔을 생성하기 위한 레이저 빔 소스를 포함한다. 또한, 광학 시스템은 레이저 빔의 빔 프로파일이 장축 및 (특히 장축에 대해 직각으로 배향되는) 단축을 포함하는 방식으로 레이저 빔을 형성하도록 구성된 빔 형성 장치; 및 레이저 빔의 빔 경로에서 빔 형성 장치의 하류에 배치되고 이와 같이 형성된 레이저 빔(특히 이와 같이 형성된 레이저 빔의 단축)을 조명 라인으로서(또는 상으로) 이미징하도록 구성된 (특히 실린더형의) 이미징 장치를 포함한다. 빔 형성 장치는 제 1 렌즈 그룹 및 제 2 렌즈 그룹을 포함하는 적어도 하나의 망원경 조립체를 포함하고, 여기서 제 1 렌즈 그룹 및 제 2 렌즈 그룹은 적어도 단축에 대해 광 굴절력을 갖는다. 광학 시스템은 광축을 따라 제 1 및 제 2 렌즈 그룹 중 적어도 하나를 이동시키기 위한 제 1 이동 장치를 포함한다. 광학 시스템은 레이저 빔 소스가 레이저 빔을 생성하는 동안 제 1 및 제 2 렌즈 그룹 중 적어도 하나가 이동되는 방식으로 제 1 이동 장치를 제어하도록 구성된 제어 유닛을 더 포함한다.
레이저 빔의 빔 프로파일은 특히 이미징 장치의 (특히 바로) 전방의 레이저 빔의 빔 프로파일을 의미하는 것으로 이해된다. 망원경 조립체는 또한 텔레스코프 조립체로도 지칭될 수 있으며, 이러한 배열의 렌즈 그룹 또는 렌즈들의 광학적 배열 및 이들의 광학적 특성을 설명한다. 특히, 망원경 조립체는 아래에 더 상세히 설명되는 바와 같이 케플러 망원경 또는 갈릴레오 망원경일 수 있다. 망원경 조립체는 적어도 하나의 제 1 및 제 2 렌즈 그룹을 포함한다. 렌즈 그룹이라는 용어는 여기서 각각의 경우에 개별 렌즈(예를 들어 수렴 렌즈 또는 발산 렌즈) 또는 복수의 (예를 들어, 합착된(cemented)) 렌즈들로 구성된 렌즈 그룹일 수 있는 방식으로 이해되어야 한다. 가장 간단한 경우에, 따라서, 망원경 조립체는 2 개의 개별 렌즈로 구성될 수 있으며, 각각의 렌즈는 개별 렌즈로서 개별 렌즈 그룹을 형성한다. 망원경 조립체는 제 1 렌즈 그룹의 초점이 제 2 렌즈 그룹의 초점과 공간적으로 일치하도록 설계될 수 있다. 제 1 렌즈 그룹은 예를 들어 개별 실린더 렌즈로 이루어지거나 또는 복수의 실린더 렌즈로 구성될 수 있다. 제 2 렌즈 그룹에 대해서는 제 1 렌즈 그룹의 배열에 관계없이 동일하게 적용된다.
광축은 본 명세서에서 사용된 규칙에 따르면 z 축을 따라 연장된다. 따라서, 제 1 이동 장치는 z 축을 따라 제 1 렌즈 그룹, 제 2 렌즈 그룹 또는 두 렌즈 그룹을 이동시키도록 구성된다. 이를 위해, 제 1 이동 장치는 예를 들어 선형 서보 모터 또는 피에조 요소를 포함할 수 있다.
예를 들어 "제 1 이동 장치" 및 이후에 설명되는 "제 2 이동 장치"와 관련하여 사용되는 바와 같이, 용어 "제 1" 및 "제 2"는 단지 이들을 구별하기 위한 것일 뿐이고, 더 이상의 의미를 전달하지는 않는다. 대안적으로, 예를 들어, "제 1 이동 장치"는 "이동 장치"로서 그리고 "제 2 이동 장치"는 "추가의 이동 장치"로서 지칭될 수도 있다.
제어 유닛은 예를 들어 적어도 하나의 프로세서 및 적어도 하나의 메모리를 포함할 수 있다. 명령은 메모리에 저장될 수 있으며, 이 명령은 제어 유닛이 미리 정의된 순서에 따라 제 1 이동 장치를 제어하게 한다. 또한, 제어 유닛은 또한 아래에서 더 설명되는 예를 들어 레이저 빔 소스 및 2 개의 셔터 요소와 같은, 광학 시스템의 추가의 요소들을 제어하는데 사용될 수 있다.
위에서 설명된 기술은 레이저 빔의 생성 동안 발생하는 광학 시스템의 광학적 변화가 망원경 조립체의 이동 또는 조정에 의해 보상될 수 있다는 효과 및 이점을 갖는다. 특히, 레이저 빔에 의해 야기된 광학 시스템의 광학 구성 요소의 가열에 의해 야기되는 열 렌즈 효과는 제 1 이동 장치의 이동에 의해 보상되거나 또는 적어도 감소될 수 있다.
레이저 빔 소스는 레이저 공진기, 빔 경로에서 레이저 공진기의 하류에 배치된 주파수 증배 결정 조립체, 및 빔 경로에서 레이저 공진기와 결정 조립체 사이에 배치된 제 1 셔터 요소를 포함할 수 있다. 또한, 제어 유닛은 (특히 제어 유닛의 메모리에 저장된 제어 데이터에 기초하여) 제 1 셔터 요소의 개방 상태에 따라 제 1 이동 장치를 제어하도록 구성될 수 있다.
레이저 공진기는 예를 들어 특히 적외선 범위의 레이저 복사선을 방출하는 고체 레이저일 수 있다. 레이저 공진기는 예를 들어 Nd:YAG 레이저를 포함할 수 있다. 주파수 증배 결정 조립체는 예를 들어 주파수를 2배로 하기 위한 결정(또한: SHG 결정) 및/또는 주파수를 3배로 하기 위한 결정(또한: THG 결정)을 포함할 수 있다. 제 1 이동 장치의 제어에 추가하여, 제어 유닛은 제 1 셔터 요소를 제어하도록 구성될 수 있다. 제 1 셔터 요소는 예를 들어 기계적 셔터를 포함할 수 있다. 셔터 요소는 레이저 빔 소스가 레이저 빔을 생성하지 않는 상태에 있도록 레이저 빔을 차단하거나, 또는 레이저 빔 소스가 레이저 빔을 생성하는 상태에 있도록 (예를 들어, 기계식 셔터가 빔 경로로부터 밖으로 이동됨으로써) 레이저 빔을 통과시킬 수 있도록 제어될 수 있다. 다른 말로 하면, 제 1 셔터 요소는 주파수 증배 레이저 복사선을 위한 레이저 빔 소스의 온/오프 스위치를 의미하는 것으로 이해될 수 있고, 여기서 제 1 셔터 요소를 제어함으로써, 레이저 빔 소스는 레이저 빔을 생성하거나 또는 레이저 빔의 생성을 정지시키도록 될 수 있다. 따라서, 셔터 요소에 의해, 주파수 증배 결정 조립체가 레이저 빔에 노출되는 시간은 레이저 빔이 또한 실제로 기판(예를 들어, 박막 층)을 조명하는데 사용되는 시간으로 감소될 수 있다.
제 1 셔터 요소의 개방 상태에 따른 제어는 제 1 및/또는 제 2 렌즈 그룹의 이동의 시간 순서가 제 1 셔터 요소의 폐쇄 또는 개방에 의존적이라는 것(특히 제 1 셔터 요소의 폐쇄 또는 개방에 의해 트리거된다는 것)을 의미한다. 다른 말로 하면, 셔터 요소의 개방의 구동은 제 1 이동 장치의 구동과 미리 정의된 시간적 관계를 가질 수 있다. 특히, 제 1 이동 장치의 구동은 셔터 요소의 개방(또는 개방 명령)에 의해 트리거될 수 있다.
제어 유닛은 제 1 셔터 요소의 개방 후(특히 직후), 망원경 조립체가 제 1 위치로부터 제 2 위치로 연속적으로 이동되어, (특히 레이저로) 결정 조립체를 가열함으로써 야기되는 열 렌즈 효과를 적어도 부분적으로 보상하는 방식으로 제 1 이동 장치를 제어하도록 구성될 수 있다.
제어 유닛은 제 1 셔터 요소 및 제 1 이동 장치의 제어를 수행할 수 있고, 여기서 제어 유닛의 메모리에는 제어 데이터가 저장되며, 이 제어 데이터는 제어 유닛이 제 1 셔터 요소를 개방한 직후에 망원경 조립체를 제 1 위치로부터 제 2 위치로 이동하게 한다.
열 렌즈 효과는 예를 들어 레이저에서 생성되는 레이저 빔의 빔 웨이스트(beam waist)가 광축을 따라 변위되는 것을 발생시킬 수 있다. 이러한 변위는 조명 라인을 생성하기 위한 광학 시스템에서, 기판 상의 초점 폭 및 초점 위치 및 이에 따라 강도가 변하게 한다. 제어 유닛은 (특히 단축을 따른) 조명 라인의 폭 및/또는 조명 라인의 강도가 실질적으로 일정하게 유지되는 방식으로 이러한 변위를 보상하도록 구성될 수 있다.
제어 유닛의 메모리에는 제어 데이터가 저장될 수 있고, 이러한 저장 데이터는 예를 들어 열 렌즈 효과의 시간 의존성을 나타내는 시뮬레이션 데이터 또는 캘리브레이션 데이터(calibration data)에 기초한다. 제 1 이동 유닛을 제어하기 위한 제어 데이터는 이러한 열 렌즈 효과를 최상의 방식으로 보상하도록 구성될 수 있다.
적어도 하나의 망원경 조립체는 예를 들어 케플러 망원경 또는 갈릴레오 망원경일 수 있다. 망원경 조립체는 실질적으로 시준된 입사되는 레이저 빔을 실질적으로 시준된 레이저 빔으로서 출사할 수 있도록 구성될 수 있다. 망원경 조립체는 케플러 망원경인 경우 양의 굴절력을 갖는 2 개의 렌즈 그룹, 특히 2 개의 개별 수렴 렌즈로 구성될 수 있다. 여기서, (빔 경로에서 제 2 렌즈 그룹 이전에 배치된) 제 1 렌즈 그룹의 이미지 측 초점은 (망원경 조립체의 적어도 하나의 가능한 위치에서) 제 2 렌즈 그룹의 물체 측 초점과 실질적으로 일치할 수 있다. 망원경 조립체는 갈릴레오 망원경인 경우 음의 굴절력을 갖는 제 1 렌즈 그룹(빔 경로에서 제 2 렌즈 그룹 이전에 배치됨) 및 양의 굴절력을 갖는 제 2 렌즈 그룹으로 구성될 수 있다. 이 경우, 제 1 렌즈 그룹의 물체 측 초점은 (망원경 조립체의 적어도 하나의 가능한 위치에서) 제 2 렌즈 그룹의 물체 측 초점과 실질적으로 일치할 수 있다. 따라서 갈릴레오 망원경은 빔 확장기를 나타낼 수 있다(예를 들어, 1:5 빔 확장기 또는 1:5 망원경).
망원경 조립체는 케플러 망원경일 수 있고, 여기서 제 1 렌즈 그룹 및 제 2 렌즈 그룹은 동일한 초점 거리를 갖는다. 대안적으로, 제 2 렌즈 그룹은 제 1 렌즈 그룹보다 더 큰 초점 거리를 가질 수 있고, 여기서 제 2 렌즈 그룹은 빔 경로에서 제 1 렌즈 그룹 이후에 배치되어, 망원경 조립체에 입사하는 레이저 빔은 확장된 레이저 빔으로 출사된다. 망원경 조립체에 추가하여, 빔 경로에서 망원경 조립체 이전에 또는 이후에 추가의 망원경 조립체가 위치할 수 있다. 예를 들어, 추가의 망원경 조립체는 빔 경로에서 망원경 조립체 이후에 제공될 수 있고, 여기서 망원경 조립체는 제 1 및 제 2 렌즈 그룹이 동일한 초점 거리를 갖는 망원경 조립체이고, 여기서 추가의 망원경 조립체는 빔 확장 망원경 조립체(예를 들어, 1:5 망원경)이다.
제 2 렌즈 그룹은 빔 경로에서 제 1 렌즈 그룹 이후에 배치될 수 있고, 여기서 제 1 이동 장치는 제 1 렌즈 그룹을 이동시키도록 구성되고, 여기서 제 2 렌즈 그룹은 (특히, 빔 형성 장치의 다른 요소에 대해, 레이저 빔 소스에 대해 그리고/또는 이미징 장치에 대해) 강성으로 장착된다.
따라서, 제 1 렌즈 그룹은 이동 장치에 의해 이동될 수 있는 한편, 제 2 렌즈 그룹은 빔 형성 장치의 다른 (광학) 요소와 함께 그 위치에 유지된다. 망원경 조립체의 제 1 렌즈 그룹을 변위시킴으로써 열 렌즈 효과가 특히 효과적으로 보상될 수 있는 것으로 밝혀졌다.
제어 유닛은 빔 경로의 방향으로 광축을 따라 제 1 셔터 요소를 개방한 후 제 1 렌즈 그룹을 변위시키도록 구성될 수 있다.
광학 시스템은 광축을 따라 이미징 장치를 이동시키기 위한 제 2 이동 장치를 더 포함할 수 있다. 이미징 장치는 예를 들어 기판 바로 전방의 실린더형 포커싱 렌즈 또는 실린더형 대물 렌즈를 의미할 수 있다. 제어 유닛은 이미징 장치가 제 1 및 제 2 렌즈 그룹 중 적어도 하나와 동시에 이동되는 방식으로 제 2 이동 장치를 제어하도록 구성될 수 있다.
이미징 장치의 이동은 열 렌즈 효과에 의해 그리고/또는 제 1 이동 장치의 이동에 의해 야기되는 광축을 따른 (단축에 대한) 초점 위치의 변위를 보상하는 역할을 할 수 있다. 제어 유닛의 메모리에는 상응하는 제어 데이터가 저장될 수 있으며, 이 상응하는 제어 데이터는 제 1 및/또는 제 2 이동 장치의 이동의 시간적 및 공간적 순서를 정의한다. 이러한 제어 데이터는 이전의 캘리브레이션 또는 이전의 시뮬레이션을 기초로 하여 얻어질 수 있다.
제어 유닛은 제 1 셔터 요소가 개방된 후(특히 직후) 이미징 장치가 제 1 위치로부터 제 2 위치로 연속적으로 이동되는 방식으로 제 2 이동 장치를 제어하도록 구성될 수 있다.
이미징 장치는 (특히 기판으로) 광축 방향으로 조명 라인의 단축의 초점 위치의 변위를 보상하기 위해 특히 제 1 위치로부터 제 2 위치로 이동된다. 초점 위치의 이러한 변위는 예를 들어 열 렌즈 효과 및/또는 제 1 이동 장치의 이동에 의해 야기될 수 있다. 제 2 이동 장치의 이동에 의해, 광축 방향으로의 초점 위치 및 이에 따라 이미징 평면(조명되는 기판의 평면)에서 조명 라인의 폭(FWHM) 및 강도가 일정하게 유지되도록 보장될 수 있다.
광학 시스템은 제 2 셔터 요소를 더 포함할 수 있으며, 이 제 2 셔터 요소는 빔 경로에서 결정 조립체 이후에 배치된다. 제어 유닛은 제 2 셔터 요소가 폐쇄된 동안 먼저 제 1 셔터 요소가 개방되고 미리 결정된 시간 후에 제 2 셔터 요소가 개방되는 방식으로, 제 1 셔터 요소 및 제 2 셔터 요소를 제어하도록 구성될 수 있다.
따라서, 제 1 이동 장치에 의해 수행된 보정에 추가하여, 제 1 셔터 요소가 개방된 직후 광학 시스템의 광학 특성의 변화가, 이 시점에 제 2 셔터 요소가 여전히 폐쇄되어 있기 때문에, 조명 라인에 영향을 미치지 않도록 보장될 수 있다. 열 렌즈 효과가 어느 정도 "정착"되었거나 또는 안정화된 경우에만, 제 2 셔터 요소가 개방되고, 제 2 셔터 요소가 개방된 상태에서 열 렌즈 효과의 약간의 변화는 제 1 이동 장치에 의해 보상될 수 있거나 또는 이러한 변화는 공정에 중요하지 않을 정도로 충분히 작다.
제 2 양태에 따르면, 조명 라인을 생성하기 위한 방법이 제공된다. 이 방법은 광축을 따라 레이저 빔을 생성하는 단계, 레이저 빔의 빔 프로파일이 장축 및 단축을 포함하는 방식으로 레이저 빔을 형성하는 단계, 이와 같이 형성된 레이저 빔을 조명 라인으로서 이미징하는 단계, 및 레이저 빔이 생성되는 동안 광축을 따라 망원경 조립체의 적어도 하나의 제 1 렌즈 그룹 또는 제 2 렌즈 그룹을 이동시키는 단계 - 제 1 렌즈 그룹 및 제 2 렌즈 그룹은 적어도 단축에 대해 광 굴절력을 가짐 - 를 포함한다.
제 1 양태의 광학 시스템과 관련하여 위에서 설명된 언급은 또한 제 2 양태의 방법에 대해서도 그에 상응하게 적용된다. 특히, 제 2 양태의 방법은 제 1 양태의 광학 시스템에 의해 수행될 수 있고, 여기서 제 1 양태의 모든 세부 사항은 또한, 가능하다면, 제 2 양태에 대해서도 적용될 수 있다.
레이저 빔을 생성하는 레이저 빔 소스는 레이저 공진기, 빔 경로에서 레이저 공진기의 하류에 배치되는 주파수 증배 결정 조립체, 및 빔 경로에서 레이저 공진기와 결정 조립체 사이에 배치되는 제 1 셔터 요소를 포함할 수 있다. 제 1 렌즈 그룹 또는 제 2 렌즈 그룹은 제 1 셔터 요소의 개방 상태에 따라 이동될 수 있다.
제 1 셔터 요소의 개방 후, 망원경 조립체는 결정 조립체의 가열에 의해 야기되는 열 렌즈 효과를 적어도 부분적으로 보상하기 위해, 제 1 위치로부터 제 2 위치로 연속적으로 이동될 수 있다.
열 렌즈 효과는 광축을 따른 레이저 빔의 빔 웨이스트의 변위를 야기할 수 있다. 이동에 의해, 조명 라인의 폭 및/또는 조명 라인의 강도(특히 전체 강도 분포 또는 적어도 최대 강도)가 실질적으로 일정하게 유지되는 방식으로 이러한 변위가 보상될 수 있다.
본 발명은 이하에서 첨부 도면을 참조하여 더 설명된다.
도 1a 및 도 1b는 상이한 관찰 방향으로부터 박막 층을 처리하기 위한 시스템을 위한 광학 시스템의 개략적인 개요도를 도시한다.
도 2는 도 1a 및 도 1b로부터의 광학 시스템의 레이저 빔 소스의 세부 사항 및 열 렌즈 효과에 의해 야기되는 레이저에서의 빔 웨이스트의 변위를 도시한다.
도 3은 도 1a 및 도 1b의 광학 시스템에서 빔 웨이스트의 변위의 개략도 및 이와 관련된 실린더형 이미징 대물 렌즈의 조명의 변화를 도시한다.
도 4는 기판 평면에서 조명 라인의 강도 및 폭에 대한 열 렌즈 효과의 영향을 도시한다.
도 5는 주파수 증배 레이저 빔이 반복적으로 스위칭 온 및 오프될 때 조명 라인의 강도 및 폭에 대한 열 렌즈 효과의 영향을 도시한다.
도 6은 본 발명에 따른 광학 시스템에서 빔 프로파일(가우시안 빔 전파)의 개략도를 도시한다.
도 7은, 도 6으로부터의 배치에 대해, 평면 번호 6에서 조명 라인의 폭에 대한 렌즈 그룹 번호 1 및 이미징 장치 번호 5의 변위의 영향을 도시한다.
도 8은, 도 6의 배치에 대해, 렌즈 그룹 번호 1 및 이미징 장치 번호 5의 적절한 변위와 관련하여 레이저 빔의 웨이스트 위치의 변위의 시간 프로파일을 도시한다.
도 9는 제 1 및 제 2 셔터 요소의 제어의 시간 순서를 도시한다.
박막 층을 처리하기 위한 시스템을 위한 광학 시스템이 도 1a 및 도 1b에 도시되어 있고, 일반적으로 10으로 표시된다. 이하에서는 박막 층을 처리하기 위한 시스템을 위한 광학 시스템(10)을 언급하지만, 설명된 광학 시스템(10)은 조명 라인이 요구되는 임의의 다른 각 적용에 사용될 수 있다. 광학 시스템(10)은 레이저 빔(14)의 빔 프로파일(16)이 장축 및 단축을 갖는 방식으로 레이저 빔(14)을 형성하도록 구성된 빔 형성 장치(12), 및 레이저 빔(14)의 빔 경로에서 빔 형성 장치(12)의 하류에 배치되고 이와 같이 형성된 레이저 빔(14)을 조명 라인(22)으로서 이미징하도록 구성된 이미징 장치(18)를 포함한다. 따라서, 이미징 장치(18)는 빔 형성 장치(12)에 의해 형성된 레이저 빔(14)의 단축으로부터 조명 라인(22)의 단축을 생성한다.
통상적으로, 도면에서의 단축은 x 축에 평행하고, 장축은 y 축에 평행하며, 광학 시스템(10)의 광축은 z 축에 평행하게 연장해야 한다. 도 1a에서, 광학 시스템(10)은 예를 들어 위에서 본 것으로 도시되어 있고(x 방향을 따른 관찰 방향), 그리고 도 1b에서는 예를 들어 측면으로부터 본 것으로 도시되어 있다(y 방향을 따른 관찰 방향).
빔 형성 장치(12)는 예를 들어 DE 10 2012 007 601 A1의 도 4 내지 도 6에 도시된 아나모픽 광학계(42)를 나타내거나 또는 포함할 수 있다. 특히, 빔 형성 장치(12)는 DE 10 2012 007 601 A1의 도 4 내지 도 6에 도시된 하나 이상의 구성 요소(20, 54, 56, 58, 62, 66, 68, 74)를 포함할 수 있다.
다른 말로 하면: 빔 형성 장치(12)는 제 1 이미징 축(x)(좌표계의 x 축에 평행), 제 1 이미징 축(x)에 수직인 제 2 이미징 축(y)(좌표계의 y 축에 평행), 및 제 1 및 제 2 이미징 축(x, y)에 수직인 광축(z)(좌표계의 z 축에 평행)에 의해 설명될 수 있다. 빔 형성 장치(12)(예를 들어 아나모픽 광학계)는 제 1 및 제 2 이미징 축(x, y)에 대해 상이한 이미징 특성을 갖는다. 빔 형성 장치(12)는 이미징 장치(18) 이전의 위치 "16"(예를 들어, 도 1a 및 도 1b 참조)에서 레이저 광으로부터 레이저 빔(14)을 생성하도록 구성될 수 있고, 이 레이저 빔의 빔 프로파일(16)은 장축(y) 및 단축(x)을 가지며, 여기서 빔 프로파일은 장축(y)에서 크게 균질화된 (또는 실질적으로 균질한) 강도 분포를 갖는다.
상세하게는: 빔 형성 장치(12)는 (특히 아나모픽 광학계로서) 다음을 포함할 수 있다(도 1a 및 도 1b 참조):
- 단축(x)에 대해 광학적으로 활성인, 즉, 단축(x)에 대해 굴절력을 갖는 제 1 망원경 조립체(20). 제 1 망원경 조립체(20)는 제 1 렌즈 그룹으로서 제 1 실린더 렌즈(23) 및 제 2 렌즈 그룹으로서 제 2 실린더 렌즈(24)로 구성된다. 제 1 실린더 렌즈(23)는 레이저 빔 소스(26)로부터 레이저 빔(14)을 수신하고, 이를 단축(x)에 대해 제 1 중간 이미지(28)로 포커싱한다. 제 2 실린더 렌즈(24)는 빔 경로에서 제 1 실린더 렌즈(23) 이후에 배치되고, 제 1 중간 이미지(28)의 광 빔을 시준한다. 도 1b에 도시된 바와 같이, 제 1 망원경 조립체(20)는 1:1 망원경이며, 이것은 케플러 망원경으로 설계된다. 여기서, 제 1 실린더 렌즈(23) 및 제 2 실린더 렌즈(24)는 각각 실질적으로 동일한 초점 거리를 갖는 수렴 렌즈이다. 제 1 실린더 렌즈(23)의 이미지 측의 초점은 실질적으로 제 2 실린더 렌즈의 물체 측의 초점과 일치한다.
- 빔 경로에서 제 1 망원경 조립체(20) 이후에 배치되고, 장축(y)에 대해 굴절력을 갖는 실린더 렌즈(30). 실린더 렌즈(30)는 레이저 빔 소스(26)로부터, 장축(y)에 대해 제 1 망원경 조립체(20)에 의해 영향을 받지 않는 레이저 빔(14)을 수신하여, 이를 중간 이미지(32)로 포커싱한다.
- 빔 경로에서 실린더 렌즈(30) 이후에 배치되고, 장축(y)에 대해 굴절력을 갖는 실린더 렌즈(34). 실린더 렌즈(34)는 중간 이미지(32)의 광 빔을 시준한다. 도 1a에 도시된 바와 같이, 실린더 렌즈(30) 및 실린더 렌즈(34)는 케플러 망원경을 형성하며, 이는 장축(y)에 대해 레이저 빔(14)을 확장시키는 역할을 한다.
- 빔 경로에서 실린더 렌즈(34) 이후에 배치되고, 단축(x)에 대해 광학적으로 활성인, 즉 단축(x)에 대해 굴절력을 갖는 제 2 망원경 조립체(36). 제 2 망원경 조립체(36)는 제 1 렌즈 그룹으로서 제 1 실린더 렌즈(38) 및 빔 경로에서 제 1 실린더 렌즈(38) 이후에 제 2 렌즈 그룹으로서 배치된 제 2 실린더 렌즈(40)로 구성된다. 제 1 실린더 렌즈(38)는 단축(x)에 대해 레이저 빔(14)을 확장시키고, 제 2 실린더 렌즈(40)는 이러한 확장된 레이저 빔을 다시 시준한다. 도 1b에 도시된 바와 같이, 제 2 망원경 조립체(36)는 갈릴레오 망원경으로 설계되는 빔 확장 망원경(예를 들어, 1:5 망원경)이다. 여기서, 제 1 실린더 렌즈(38)는 발산 렌즈이고, 제 2 실린더 렌즈(40)는 수렴 렌즈이며, 여기서 제 1 실린더 렌즈(38) 및 제 2 실린더 렌즈(40)의 초점은 실질적으로 서로 일치하거나 또는 중첩되어 위치된다. 가상의 제 2 중간 이미지가 빔 경로에서 제 1 실린더 렌즈(38)(도시되지 않음) 이전에 생성된다.
- 장축(y)에 대해 레이저 빔(14)을 (가능한 한) 균질화하기 위해 빔 경로에서 제 2 망원경 조립체(36) 이후에 배치된 아나모픽 균질화 광학계(42).
- 빔 경로에서 아나모픽 균질화 광학계(42) 이후에 배치되고, 장축(y)에 대해 굴절력을 가지며, 조명 라인(22) 상에 균질화된 레이저 빔을 중첩시키기 위한 콘덴서 실린더 렌즈(44).
빔 경로에서 콘덴서 실린더 렌즈(44) 이후에 이미징 장치(18)가 위치된다. 이미징 장치(18)는 예를 들어 DE 10 2012 007 601 A1의 도 4 내지 도 6에 도시된 구성 요소(66)를 포함하거나 또는 나타낼 수 있다. 후자의 경우에, 이미징 장치(18)는 따라서 예를 들어 포커싱 실린더 렌즈 광학계(66)를 나타내며, 이 포커싱 실린더 렌즈 광학계는 빔 경로에서 콘덴서 실린더 렌즈(44) 이후에 배치되고, 축(x)에 대해 조명 라인(22) 상으로 레이저 빔(14)을 포커싱하는데 사용된다.
빔 형성 장치(12)의 하류에 배치된 이미징 장치(18)는 이미징 장치(18) 전방에서 빔 프로파일(16)을 픽업하고, 레이저 빔(14)을 조명 라인(22)으로서 이미징하며, 여기서 오직(보다 정확하게는: 독점적으로) 빔 프로파일(16)의 단축(x)만이 포커싱되고, 빔 프로파일(16)의 균질화된 장축(y)은 그렇지 않다. 이미징 장치(18)는 전형적으로 비-회절 제한 방식으로 이미징되지만, 그러나 일부 실시예에서는 또한 회절 제한 방식으로 이미징될 수도 있다.
광학 시스템(10)에 의해 생성된 조명 라인(22)은 박막 층의 결정화를 위해, 예를 들어 박막 트랜지스터(Thin Film Transistors)(약어로: TFT)를 제조하기 위해 사용될 수 있다. 여기서 처리될 반도체 층에는 조명 라인(22)이 적용되고, 반도체 층을 통해 안내되며, 여기서 조명 라인(22)의 강도는 반도체 층이 단시간에 용융되고 전기적 특성이 개선된 결정질 층으로서 다시 응고되도록 설정된다.
위에서 설명한 바와 같이, 레이저 라인 빔 구조를 생성하기 위해 아나모픽 광학 조립체가 사용된다. 여기서 예를 들어 하나의 (장) 빔 축(y)에서, 레이저 빔 소스(26)에 의해 방출된 레이저 빔(14)은 실린더 렌즈 어레이의 도움으로 균질화된다. 다른 (단) 축(x)은 가우시안 빔으로서 광학적으로 처리되고, 레이저 빔 소스(26)의 빔 웨이스트는 균질화 평면으로 전달된다. 전형적인 배열이 도 1a 및 도 1b에 도시되어 있고, 위에서 상세하게 설명되었다.
균질화될 축(y)에서, 레이저 빔(14)은 실린더형으로 (일반적으로 2 내지 4 배) 확장되어, 2 개의 연속적인 렌즈 어레이로 안내된다. 균질화된 장 빔 축(y)은 콘덴서 실린더 렌즈(44)의 초점 거리에 형성된다. 레이저 빔 소스(26)에 형성된 레이저 빔(14)의 빔 웨이스트는 실린더형 1:1 망원경(20)으로 재-시준되고, 추가의 망원경(36)으로 확장되어, 포커싱 대물 렌즈(18)에 의해 원하는 폭의 가우시안 작은 빔 축(x)을 생성한다.
도 2는 도 1a 및 도 1b의 광학 시스템(10)의 레이저 빔 소스(26)의 세부 사항을 도시한다. 레이저 빔 소스(26)는 레이저 빔(14)을 생성하기 위한 레이저 공진기(46)를 포함하고, 여기서 이는 예를 들어 적외선 고체 레이저이고, 특히 Nd:YAG 레이저일 수 있다. 레이저 빔 소스(26)는 빔 경로에서 레이저 공진기(46) 이후에 제 1 셔터 요소(48)를 추가로 포함하는데, 여기서 이는 예를 들어 레이저 빔(14)을 차단하거나 또는 통과시키도록 구성되는 전자적으로 제어 가능한 기계적 셔터이다. 레이저 빔 소스(26)는 빔 경로에서 제 1 셔터 요소(48) 이후에, 빔 경로에서 수렴 렌즈(50) 이후에 배치되는 주파수 증배 결정 조립체(52)에서 레이저 빔(14)을 포커싱하기 위한 수렴 렌즈(50)를 더 포함한다. 주파수 증배 결정 조립체(52)는 레이저 빔(14)의 주파수를 2 배로 하기 위한(또는 파장을 절반으로 하기 위한) SHG 결정 및/또는 레이저 빔(14)의 주파수를 3 배로 하기 위한 THG 결정을 포함한다.
레이저 빔 소스(26)는 재-시준 렌즈(54)로서 수렴 렌즈를 더 포함한다. 재-시준 렌즈(54)는 레이저 빔(14)을 실질적으로 시준하는데 적합하다.
레이저 빔 소스(26)를 작동시키기 위한 가능한 작동 모드는 레이저 공진기(46)를 영구적으로 (또는 적어도 복수의 조명 공정을 포함하는 더 긴 시간 동안) 스위칭 온 상태로 두어, 이에 의해 시간적으로 매우 일정한 연속 적외선 레이저 빔(14)이 생성되게 하는 것이다. 그러나, 민감한 결정 조립체(52)(UV 레이저 광의 생성으로 인한 수명 제한) 및 필요한 경우 광학 시스템(10)의 다른 구성 요소를 불필요하게 레이저 복사선에 영구적으로 노출시키지 않기 위해, 제 1 셔터 장치(48)는 조명 라인(22)이 실제로 기판을 조명하기 위해 필요할 경우에만 개방된다. 다른 말로 하면, 레이저 빔(14)은 예를 들어 조명될 기판이 교환되기 때문에 현재 필요하지 않은 경우에는, 제 1 셔터 요소(48)를 폐쇄함으로써 스위칭 오프될 수 있다. 이러한 방식으로, 결정 조립체(52)가 레이저 빔(14)에 노출되는 시간이 최소화될 수 있어, 유효 수명이 증가될 수 있다.
필요한 경우 제 1 셔터 요소(48)가 개방되는 레이저 빔 소스(26)의 위에서 설명된 작동 모드는 이하에서 버스트 모드(burst mode)로도 지칭된다. 이하에서 레이저 빔 소스(26)가 레이저 빔(14)을 방출/방출하지 않거나 또는 레이저 빔 소스(26)가 스위칭 온/오프되는 것으로 언급되면, 이는 이 시점에서 제 1 셔터 요소(48)가 개방/폐쇄된다는 것을 의미한다.
예를 들어 리프트 오프 적용 분야(유리를 통해 유리에 접착된 포일을 조명)뿐만 아니라 얇은 층 실리콘 결정화 적용 분야에서도 조명 라인을 사용하기 위해서는, 레이저 빔(14)이 일정한(즉, 시간적으로 일정한) 폭(FWHM) 및 피크 강도를 갖는 것이 중요하다.
버스트 모드의 사용은 레이저 작동 시간 및 이에 따라 작동 비용을 감소시키고 최적화하기 위해 중요할 수 있다. 예를 들어 대형 유리 기판에 대한 일반적인 리프트 오프 공정에서 주기 시간은 60 내지 100 초의 범위이지만, 그러나 레이저 빔 자체는 유리 캐리어 디스크에서 플라스틱 기판을 분리하는데 단지 약 20 내지 30 초일뿐이다. 버스트 모드와 대조적으로, 레이저 빔 소스(26)의 연속 작동 중에 공정 셔터(아래에 더 설명되는 제 2 셔터 요소(66) 참조)가 폐쇄되고 개방될 것이며, 레이저 빔 소스(26)는 영구적으로 작동하고 영구적으로 결정 조립체(52)를 조명할 것이다.
버스트 모드 작동 시, UV 레이저 작동은 60 내지 100 초로부터 20 내지 30 초로 감소될 수 있으며, 작동 비용을 2 내지 4 배 감소시킬 수 있는 잠재력을 제공한다.
위에서 설명한 외부의(레이저 공진기(46)의 외부의) 주파수 증배 레이저 빔 소스(26)가 버스트 모드에서 작동한다면, 펄스 시퀀스의 시작과 함께(즉, 제 1 셔터 요소(48)의 개방 직후에) 증배 결정(SHG 및 THG)(52)에 처음 10 내지 20 초 동안 열 렌즈(방사형 온도 프로파일이 굴절률 변화를 야기함)가 형성되고, 이는 그 후 펄스 시퀀스가 종료될 때까지 실질적으로 안정적으로 유지된다. 이러한 열 렌즈는 레이저 빔(14)을 나타내는(빔 품질, 위치, 웨이스트 직경 및 발산 각도) 레이저 빔 웨이스트가 레이저의 다른 위치에서 광학적으로 생성되게 한다. 빔 위치는 여기서 IR 레이저 빔(14)의 포커싱이 주파수 증배 결정 조립체(52)로 어떻게 설계되는지에 따라 수 cm 내지 최대 0.5 미터까지 또는 심지어 그 이상까지 변할 수 있다. 도 2는 빔 웨이스트의 위치가 펄스 시퀀스의 시작 직후(제 1 셔터 요소(48)를 개방할 때, t = 0)의 위치(56)로부터 대략 t = 10 내지 20 초 후의 위치(58)로 어떻게 이동하는지를 도시한다. 위치(58)에서, 광학 시스템(10) 및 특히 형성된 열 렌즈는 열적 평형 상태에 있고, 빔 웨이스트의 위치는 제 1 셔터 요소(48)가 더 개방될 때 실질적으로 변하지 않는다.
방출된 레이저 빔(14)의 가상 원점(웨이스트)은 열 렌즈를 통해 (특히 광축을 따라 z 방향으로) 이동된다.
빔 웨이스트 위치의 변화는 균질화될 장 라인 빔 축(y)에 실질적으로 영향을 미치지 않는다.
그러나, 라인 빔의 작은 빔 축(x)의 생성은 가우시안 빔 전파를 사용하며, 이에 따라, 레이저 빔 소스(26)에서의 웨이스트 위치가 대물 렌즈(18)의 초점에서 빔 웨이스트에 영향을 미치게 한다.
일반적으로, 도 1a 및 도 1b에서와 같은 라인 빔 배열에서 10 내지 100 ㎛ FWHM(Full Width at Half Maximum)의 (단축(x)을 따른) 라인폭이 생성된다. 이를 위해, 레이저 빔은 1:1 망원경(제 1 망원경 조립체(20))에서 광학적으로 전송되고, 계속해서 추가 망원경(제 2 망원경 조립체(36))에서 1:1 내지 1:5로 확장된다. 실린더 대물 렌즈(18)에 의해 레이저 빔(14)은 균질화된 평면으로 포커싱된다(도 1b에 따른 배열을 나타내는 도 3 참조).
이 배열은 빔 웨이스트 위치의 변화가 설정된 피사계 심도의 범위 내에서 포커싱 대물 렌즈(18) 후방의 초점의 위치에 실질적으로 영향을 미치지 않는 방식으로 설계된다. 그러나 기본적으로 초점 위치는 (광축(z)을 따라) 변위된다. 그러나, 레이저 빔 소스(26)에서의 빔 웨이스트 위치의 변화는 실린더형 포커싱 대물 렌즈(18)(이미징 장치(18))의 조명에 상당한 영향을 미친다. 가우시안 빔 전파의 경우, 초점 직경은 다음 방정식을 따르도록 적용된다:
Figure pct00001
여기서, d는 초점의 직경이고, D는 초점 거리(f)를 갖는 이미징 장치(18) 상의 레이저 빔(14)의 직경(1/e2)이며, M2은 레이저 빔(14)의 빔 품질 번호이고, λ는 파장이다.
빔 웨이스트의 변위로 인해(도 2 및 3 참조) 포커싱 대물 렌즈(18) 상의 직경(D)이 작아지면, 초점 직경(d)이 커진다. 결과적으로, 조명 라인(22)의 평면에서 가우시안 분포의 피크 강도는 감소한다.
이러한 거동은 도 1a 및 도 1b에 따른 광학 시스템에서 레이저 빔 소스(26)로부터의 레이저 빔(14)으로 관찰되었다. 펄스 시퀀스가 스위칭 온될 때(제 1 셔터 요소(48)의 개방), 전형적으로 10 내지 20 초 내에 ~ 10 % 더 큰 폭(d)으로 증가하는 초점이 관찰된다. 그 후 초점의 폭 및 강도가 안정화된다.
결정 조립체(52)에서 생성된 열 렌즈의 결과인 이러한 거동이 도 4에 도시되어 있다. 시간 t = 720 초에서, 제 1 셔터 요소(48)는 개방되고, 레이저 빔 소스(26)는 레이저 빔(14)을 생성한다. 도 4의 상부 곡선(강도, 좌측 스케일)에 의해 알 수 있는 바와 같이, 조명 라인(22)의 초기 강도는 최대값으로부터 처음 약 10 초 내에, 추가 조명 과정에서(제 1 셔터 요소(48)는 개방된 상태로 유지됨) 실질적으로 일정하게 유지되는 값으로 감소된다. 이와 유사하게, 조명 라인(22)의 단축(x)을 따른 폭(하부 곡선, FWHM, 우측 스케일)은 레이저 빔(14)이 스위칭 온될 때 즉시 초기값에 있고, 계속해서 처음 약 10 초 내에 추가 조명 과정에서 실질적으로 일정하게 유지되는 값으로 증가한다.
도 5에 도시된 바와 같이, 위에서 설명한 조명 라인(22)의 거동은 재현 가능하고, 레이저 빔 소스(26)가 반복적으로 스위칭 온 및 오프되는 경우에도, 즉 제 1 셔터 요소(48)가 반복적으로 개방 및 폐쇄되는 경우에도(반복되는 버스트 모드에서) 발생한다.
주파수 변환을 효율적으로 설정하기 위해(굴절률의 조정), 레이저 빔 소스(26)의 결정 조립체(52)는 목표 온도로 능동적으로 안정화된다. 상이한 버스트 모드 시퀀스에 대해, 약간 다른 평형 상태가 설정될 수 있다.
본 발명에 따르면, 광학 시스템(10)은 제 1 이동 장치(60)를 포함하고(예를 들어, 도 1a 및 도 1b 참조), 이러한 제 1 이동 장치는 조명 라인(22)의 강도 및 폭(FWHM)을 변경하는 위에서 설명한 효과를 감소시키고 그리고 이를 완전히 보상하는데 적합하다.
다른 말로 하면, 본 발명에 따르면, 1:1 망원경(제 1 망원경 조립체(20)) 및/또는 1:1 ... 5 망원경(제 2 망원경 조립체(36))은 목표된 방식으로 디튜닝되어, 이에 의해 기판 상의(즉, 조명 라인(22)의 평면에서) 피크 강도 및 빔 폭이 변경되지 않거나 또는 단지 약간만(예를 들어 < 1 %) 변경되는 방식으로 위에서 설명한 빔 웨이스트 위치 변화를 보상할 수 있다.
시험된 실시예에서, 제 1 망원경 조립체(20)(1:1 망원경)가 이를 위해 특히 적합하다는 것이 밝혀졌다. 특정 배열에서는 0.1 내지 0.2 mm 조정으로 충분하다. 정의된 버스트 모드 시퀀스에 대해 빔 웨이스트 위치 변경의 시간적 거동이 재현될 수 있기 때문에, 펄스 시퀀스의 시작과 함께(즉, 제 1 셔터 요소(48)의 개방과 함께) 제 1 렌즈 그룹(23)의 고정 설정된 시간 의존적 조정(즉, 레이저 빔 소스(26)에 더 가깝게 위치된 제 1 망원경 조립체(20)의 수렴 렌즈(23)의 도 1a 및 도 1b의 배열에서)이 사용될 수 있다. 제 1 이동 장치(60)로는 리니어 드라이브(linear drive) 또는 예를 들어 피에조 드라이브(piezo drive)도 또한 적합하다.
포커싱 대물 렌즈(18) 후방의 단축(x)에 대한 초점의 변위는 통상적인 피사계 심도의 일부인, 광축(z)을 따라 전형적으로 20 내지 100 ㎛이다. 그러나, 기본적으로, 마찬가지로 제 2 이동 장치(62)에 의해 이미징 장치(18)(포커싱 대물 렌즈(18))를 동시에 이동시키는 것도 가능하다.
도 6에는 실제 빔 경로에서의 가우시안 빔 전파가 도시되어 있다. 빔 전파에 의해, 레이저 빔 소스(26)에서 각각의 웨이스트 시작 위치에 대해 빔 직경 및 초점 위치가 결정될 수 있다.
제 1 실린더 렌즈(38)의 조정은 도 7에서 빔 웨이스트 변화의 보상을 위해 예로서 도시되어 있고, 도 6에 도시된 구성에 대한 이미징 장치(18)의 관련 조정도 동시에 도시되어 있다. 피사계 심도가 조정보다 명백히 더 크지 않다면, 이미징 장치(18)의 동시 변위가 필요할 수 있다. 피사계 심도 범위는 레이저 빔(14)의 빔 품질(지수 M2)에 의해 또는 빔 변환 광학계에 의한 빔 품질의 가능한 처리/감소에 의해 결정된다.
도 7은 제 1 망원경 조립체(20)의 제 1 실린더 렌즈(23)의 위치에서의 적절한 변화("망원경 렌즈 시프트", 우측 스케일)를 상세하게 도시한다. 이미징 장치(18)의 위치에서의 적절한 변화가 또한 도시된다("포커싱 렌즈 시프트", 우측 스케일). 단축(x)에 대한 조명 라인(22)의 생성된 반치전폭("FWHM")이 또한 도 7에 도시되어 있고, 여기서 이것은 실질적으로 일정하게 유지되고, 이에 따라 열 렌즈의 효과가 거의 완전히 보상될 수 있다는 것을 알 수 있다.
도 8은 도 7에서와 같이 제 1 망원경 조립체(20) 및 이미징 장치(18)에서의 동일한 변화를 도시하고, 추가적으로 빔 웨이스트의 위치의 변화("레이저의 웨이스트 위치", 좌측 스케일)를 도시한다.
따라서 본 발명에 따르면, 실린더 렌즈(23, 24, 38 및 40) 중 적어도 하나는, 레이저 빔 소스(26)가 스위칭 온되는 즉시, 즉, 레이저 빔 소스(26)의 제 1 셔터 요소(48)가 개방되는 즉시(또는 그 직후), 관련 제 1 이동 장치(60)에 의해 광축(z)을 따라 이동되는 것이 제공된다. 여기서 제 1 망원경 조립체(20)의 제 1 실린더 렌즈(23)의 변위가 유리한 것으로 입증되었으며, 여기서 유사한 방식으로 그 대신에 또는 추가적으로 실린더 렌즈(24, 38 및/또는 40) 중 하나가 이동될 수 있다.
또한, 상기 도 7 및 도 8의 예들에서, 제 2 이동 장치(62)를 이용한 이미징 장치(18)의 변위가 설명되어 있지만, 이것은 그러나 선택적인 것이다.
제 1 이동 장치(60) 및 필요한 경우 제 2 이동 장치(62)의 이동을 제어하기 위해 제어 유닛(64)이 제공된다(도 1a 및 도 1b 참조). 각각의 이동 장치(60, 62)의 이동을 제어하는 것 이외에, 제어 유닛(64)은 레이저 빔 소스(26)를 제어하는 역할을 한다. 보다 구체적으로, 제어 유닛(64)은 레이저 빔 소스(26)의 스위칭 온 및 오프 또는 제 1 셔터 요소(48)의 개방 및 폐쇄의 시간 순서를 제어한다. 아래에서 설명하는 다른 선택적인 제 2 셔터 요소(66)는 또한 제어 유닛(64)에 의해 제어될 수 있다.
제어 유닛(64)은 제어 데이터가 저장되는 메모리를 포함하고, 상기 제어 데이터에 기초하여, 제 1 이동 장치(60)(및 필요한 경우 제 2 이동 장치(62))는 제 1 실린더 렌즈(23)(및 필요한 경우 이미징 장치(18))의 이동을 수행한다. 특히, 각각의 이동 장치(60, 62)의 이동의 시간 순서를 정의하는 데이터가 저장될 수 있다. 따라서, 제어 유닛(64)의 메모리에 저장된 데이터는 시간에 따라 제 1 실린더 렌즈(23)의 위치를 설명하는 도 7 및 도 8에 도시된 곡선을 나타낼 수 있다. 시간에 따라 이미징 장치(18)의 위치를 설명하는 곡선에도 동일하게 적용된다.
제어 데이터는 이전의 캘리브레이션에 기초하여 획득될 수 있거나, 또는 도 6과 관련하여 설명된 바와 같이 계산 및/또는 시뮬레이션에 의해 획득될 수도 있다.
특히, 제어 유닛(64)은 미리 결정된 위치-시간 관계에 따라 제 1 실린더 렌즈(23)를 (특히 제 1 셔터 요소(48)가 개방된 직후) 이동시키도록 구성될 수 있다. 선택적으로, 제어 유닛(64)은 미리 결정된 위치-시간 관계에 따라 이미징 장치(18)를 (특히 제 1 셔터 요소(48)가 개방된 직후에) 이동시키도록 구성될 수 있다.
제어 유닛(64)은 또한 광학 시스템(10) 또는 광학 시스템(10)을 포함하는 시스템의 추가의 기능 및/또는 요소에 대한 제어를 수행할 수 있다.
망원경 조립체(20, 36) 중 하나의 렌즈를 변위하는 위에서 설명한 기술에 추가하여, 광학 시스템(10)은 일 실시예에 따르면 제 2 셔터 요소(66)를 선택적으로 포함할 수 있다(도 1a 및 도 1b 참조). 제 2 셔터 요소(66)는 빔 경로에서 결정 조립체 이후의 임의의 위치에, 예를 들어 레이저 빔 소스(26) 바로 이후에 위치된다. 제 2 셔터 요소(66)는 제어 유닛(64)에 의해 제어된다.
보다 구체적으로, 제어 유닛(64)은 먼저 제 2 셔터 요소(66)가 폐쇄된 동안 제 1 셔터 요소는 개방되고, 미리 결정된 시간(예를 들어 10 내지 20 초의 범위) 후에 제 2 셔터 요소(66)가 개방되는 방식으로 제 1 셔터 요소(48) 및 제 2 셔터 요소(66)를 제어하도록 구성된다. 이러한 순서를 통해, 이러한 강한 초기 변화의 시점에서(예를 들어, 제 1 셔터 요소(48)가 개방된 후 처음 10 초에서) 제 2 셔터 요소(66)는 아직 폐쇄된 상태로 유지되며 이러한 시점에 조명 라인(22)이 생성되지 않으므로, 레이저 빔 소스(26)를 스위칭 온한 직후(즉, 제 1 셔터 요소(48)가 개방된 직후) 웨이스트 위치의 강한 변화가 조명 라인(22)의 빔 강도 또는 빔 폭의 강한 변화를 발생시키지 않는 것이 보장될 수 있다. 열 렌즈의 효과가 어느 정도 안정화된 후에만, 제 2 셔터 요소(66)가 개방되고 조명 라인(22)이 생성되며, 이 조명 라인의 강도 및 폭은 실질적으로 일정하게 유지된다. 이러한 미리 결정된 시간 후에 또한 빔 웨이스트의 위치에서 발생할 수 있는 사소한 변화는 위에서 설명한 바와 같이 제 1 이동 장치(60) 및 필요한 경우 제 2 이동 장치(62)의 이동에 의해 보상될 수 있다.
위에서 설명한 제 2 셔터 요소(66)를 사용하는 기술이 도 9에 도시되어 있다. 도면에서, 조명 라인(22)의 강도는 시간에 따라 도시되어 있다. 더 나은 설명을 위해, 도 9는 또한 제 2 셔터 요소(66)가 폐쇄되어 이에 따라 조명 라인(22)이 전혀 생성되지 않을 때 조명 라인(22)의 강도를 도시한다. 이 시간에 도시된 강도는 제 2 셔터 요소(66)가 개방된 경우 조명 라인(22)이 갖는 강도이다.
도 9에는 레이저 빔 소스(26)가 스위칭 온되는, 즉, 제 1 셔터 요소(48)가 개방되는 기간(68)이 도시되어 있다. 이 기간 동안, 강도는 초기에 최대값으로 위치될 것이고, 실질적으로 안정된 상태에 도달할 때까지, 처음 10 내지 20 초 내에 급격히 감소할 것이며, 도 4 및 도 5를 또한 참조하도록 한다. 그러나, 기간(70)에 의해 지시된 바와 같이, 초기에(제 1 셔터 요소(48)의 개방 후 미리 결정된 기간(72) 동안) 제 2 셔터 요소(66)는 여전히 폐쇄되고, 조명 라인(22)은 생성되지 않는다. 기간(72) 이후에만, 기간(74)에서, 제 2 셔터 요소(66)(공정 셔터)는 개방되고, 조명 라인(22)이 생성된다. 조명 라인(22)의 강도 및/또는 폭(FWHM)의 변동은 - 위에서 상세히 설명한 바와 같이 - 적어도 하나의 망원경 조립체(20, 36)의 적어도 하나의 렌즈 그룹(23, 24, 38, 40)을 이동시킴으로써 보상된다.
그러나, 일 예에서, 도 9와 관련하여 설명된 바와 같이, 제 1 이동 장치(60) 및 제 2 이동 장치(62)를 제공하지 않고, 오직 제 2 셔터 요소(66)를 제어함에 의해서만 열 렌즈의 효과를 보상하는 것이 또한 가능하다.
위에서 설명된 기술은 열 렌즈의 효과 및 특히 이와 관련된 레이저 빔(14)의 빔 웨이스트의 변위를 신뢰성 있고 간단하고 그리고 재현 가능한 방식으로 보상하는 방법을 제공한다. 이러한 방식으로, 기판은 일정한 강도 및 일정한 빔 폭으로 조명될 수 있으며, 이는 안정적인 재료 특성을 갖게 하고 이에 따라 재료 품질을 향상시킬 수 있다.
도면 또는 그 이미지 부분은 반드시 일정한 축척 비율로 도시된 것은 아니다. 이와 관련하여, 예를 들어, 도 1b에서 빔 프로파일(16)의 단축(x)은 도 1a의 장축(y)보다 더 길게 나타날 수 있다.
달리 명시적으로 설명되지 않는 한, 도면에서 동일한 참조 부호는 동일한 또는 동일하게 작용하는 요소를 나타낸다. 또한 도면에 도시된 특징들의 임의의 조합도 고려될 수 있다.

Claims (13)

  1. 조명 라인(illumination line)(22)을 생성하기 위한 광학 시스템(10)으로서,
    - 광축(z)을 따라 레이저 빔(laser beam)(14)을 생성하기 위한 레이저 빔 소스(26);
    - 상기 레이저 빔(14)의 빔 프로파일(16)이 장축(y) 및 단축(x)을 포함하는 방식으로 상기 레이저 빔(14)을 형성하도록 구성된 빔 형성 장치(12); 및
    - 상기 레이저 빔(14)의 빔 경로에서 상기 빔 형성 장치(12)의 하류에 배치되고, 이와 같이 형성된 상기 레이저 빔(14)을 조명 라인(22)으로서 이미징하도록 구성된 이미징 장치(18);
    를 포함하고,
    상기 빔 형성 장치(12)는 제 1 렌즈 그룹(23; 38) 및 제 2 렌즈 그룹(24; 40)을 포함하는 적어도 하나의 망원경 조립체(20; 36)를 포함하고, 상기 제 1 렌즈 그룹(23; 38) 및 상기 제 2 렌즈 그룹(24; 40)은 적어도 상기 단축(x)에 대해 광 굴절력을 가지며,
    상기 광학 시스템(10)은 상기 광축(z)을 따라 상기 제 1 및 제 2 렌즈 그룹 중 적어도 하나를 이동시키기 위한 제 1 이동 장치(60)를 포함하고,
    상기 광학 시스템(10)은 상기 레이저 빔 소스(26)가 상기 레이저 빔을 생성하는 동안 상기 제 1 및 제 2 렌즈 그룹 중 상기 적어도 하나가 이동되는 방식으로 상기 제 1 이동 장치(60)를 제어하도록 구성된 제어 유닛(64)을 더 포함하고,
    상기 레이저 빔 소스(26)는 레이저 공진기(46), 상기 빔 경로에서 상기 레이저 공진기(46)의 하류에 배치된 주파수 증배 결정 조립체(52), 및 상기 빔 경로에서 상기 레이저 공진기(46)와 상기 결정 조립체(52) 사이에 배치된 제 1 셔터 요소(48)를 포함하고,
    상기 제어 유닛(64)은 상기 제 1 셔터 요소(48)의 개방 상태에 따라 상기 제 1 이동 장치(60)를 제어하도록 구성되는, 광학 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제어 유닛(64)은, 상기 제 1 셔터 요소(48)의 개방 후 상기 망원경 조립체(20; 36)가 제 1 위치로부터 제 2 위치로 연속적으로 이동되어, 상기 결정 조립체(52)를 가열함으로써 야기되는 열 렌즈 효과를 적어도 부분적으로 보상하는 방식으로 상기 제 1 이동 장치(60)를 제어하도록 구성되는 것인, 광학 시스템.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 열 렌즈 효과는 상기 광축(z)을 따른 상기 레이저 빔(14)의 빔 웨이스트(beam waist)의 변위를 발생시키고, 상기 제어 유닛(64)은 상기 조명 라인(22)의 폭 또는 상기 조명 라인(22)의 최대 강도 중 적어도 하나가 일정하게 유지되는 방식으로 상기 변위를 보상하도록 구성되는 것인, 광학 시스템.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 망원경 조립체(20)는 케플러 망원경 또는 갈릴레오 망원경이고,
    상기 망원경 조립체(20; 36)는 시준된 입사되는 레이저 빔을 시준된 레이저 빔으로서 출사할 수 있도록 구성되는 것인, 광학 시스템.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 망원경 조립체(20)는 케플러 망원경이고, 상기 제 1 렌즈 그룹(23) 및 상기 제 2 렌즈 그룹(24)은 동일한 초점 거리를 가지며, 또는
    상기 제 2 렌즈 그룹(40)은 상기 빔 경로에서 상기 제 1 렌즈 그룹(38) 이후에 배치되고, 상기 제 2 렌즈 그룹(40)은 상기 제 1 렌즈 그룹(38)보다 더 큰 초점 거리를 가지므로, 상기 망원경 조립체(36)에 입사하는 레이저 빔은 확장된 레이저 빔으로서 출사되는 것인, 광학 시스템.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 렌즈 그룹(24; 40)은 상기 빔 경로에서 상기 제 1 렌즈 그룹(23; 38) 이후에 배치되고,
    상기 제 1 이동 장치(60)는 상기 제 1 렌즈 그룹(23; 38)을 이동시키도록 구성되며,
    상기 제 2 렌즈 그룹(24; 40)은 강성으로 장착되는 것인, 광학 시스템.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 제어 유닛(64)은 상기 제 1 셔터 요소(48)의 개방 후 상기 빔 경로의 방향으로 상기 광축(z)을 따라 상기 제 1 렌즈 그룹(23; 38)을 변위시키도록 구성되는 것인, 광학 시스템.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 광축(z)을 따라 상기 이미징 장치(18)를 이동시키기 위한 제 2 이동 장치(62)를 더 포함하고,
    상기 제어 유닛(64)은 상기 이미징 장치(18)가 상기 제 1 및 제 2 렌즈 그룹 중 상기 적어도 하나와 동시에 이동되는 방식으로 상기 제 2 이동 장치(62)를 제어하도록 구성되는 것인, 광학 시스템.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 제어 유닛(64)은 상기 제 1 셔터 요소(48)의 개방 후 상기 이미징 장치(18)가 제 1 위치로부터 제 2 위치로 연속적으로 이동되는 방식으로 상기 제 2 이동 장치(62)를 제어하도록 구성되는 것인, 광학 시스템.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 빔 경로에서 상기 결정 조립체(52) 이후에 배치되는 제 2 셔터 요소(66)를 더 포함하고,
    상기 제어 유닛(64)은, 상기 제 2 셔터 요소(66)가 폐쇄된 동안 먼저 상기 제 1 셔터 요소(48)가 개방되고 미리 결정된 시간 후에 상기 제 2 셔터 요소(66)가 개방되는 방식으로 상기 제 1 셔터 요소(48) 및 상기 제 2 셔터 요소(66)를 제어하도록 구성되는 것인, 광학 시스템.
  11. 조명 라인을 생성하기 위한 방법으로서,
    - 광축(z)을 따라 레이저 빔(14)을 생성하는 단계;
    - 상기 레이저 빔(14)의 빔 프로파일(16)이 장축(y) 및 단축(x)을 포함하는 방식으로 상기 레이저 빔(14)을 형성하는 단계;
    - 이와 같이 형성된 상기 레이저 빔(14)을 조명 라인(22)으로서 이미징하는 단계; 및
    - 상기 레이저 빔(14)이 생성되는 동안 상기 광축(z)을 따라 망원경 조립체(20; 36)의 적어도 하나의 제 1 렌즈 그룹(23; 38) 또는 제 2 렌즈 그룹(24; 40)을 이동시키는 단계 - 상기 제 1 렌즈 그룹(23; 38) 및 상기 제 2 렌즈 그룹(24; 40)은 적어도 상기 단축(x)에 대해 광 굴절력을 가짐 -
    를 포함하고,
    상기 레이저 빔(14)을 생성하는 레이저 빔 소스(26)는 레이저 공진기(46), 빔 경로에서 상기 레이저 공진기(46)의 하류에 배치된 주파수 증배 결정 조립체(52), 및 상기 빔 경로에서 상기 레이저 공진기(46)와 상기 결정 조립체(52) 사이에 배치된 제 1 셔터 요소(48)를 포함하고,
    상기 제 1 렌즈 그룹(23; 38) 또는 상기 제 2 렌즈 그룹(24; 40)은 상기 제 1 셔터 요소(48)의 개방 상태에 따라 이동되는, 조명 라인을 생성하기 위한 방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 셔터 요소(48)의 개방 후, 상기 망원경 조립체(20; 36)는 제 1 위치로부터 제 2 위치로 연속적으로 이동되어, 상기 결정 조립체(52)를 가열함으로써 야기되는 열 렌즈 효과를 적어도 부분적으로 보상하는 것인, 조명 라인을 생성하기 위한 방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 열 렌즈 효과는 상기 광축(z)을 따른 상기 레이저 빔(14)의 빔 웨이스트의 변위를 발생시키고, 상기 이동에 의해, 상기 조명 라인(22)의 폭 또는 상기 조명 라인(22)의 최대 강도 중 적어도 하나가 일정하게 유지되는 방식으로 상기 변위를 보상하는 것인, 조명 라인을 생성하기 위한 방법.
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