KR20200099888A - 발열판 겸용 세라믹 히터를 구비한 머리 미용기구 - Google Patents

발열판 겸용 세라믹 히터를 구비한 머리 미용기구 Download PDF

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Abstract

본 발명은 발열판 겸용 세라믹 히터를 구비한 머리 미용기구에 관한 것으로서, 종래의 알루미늄 발열판을 생략하고 세라믹 히터 자체가 직접 모발에 접촉하여 가열하는 구조의 머리 미용기구를 제공하는 데 그 목적이 있다.
이를 위하여 본 발명은, 상부 아암(10) 및 하부 아암(20)과, 상기 상부 아암(10)과 하부 아암(20)을 서로 연결하는 힌지부(30)를 포함하여 이루어지는 머리 미용기구에 있어서, 상기 상부 아암(10)은, 내측에 구비되는 알루미늄 프레임(50)과, 상기 알루미늄 프레임(50)에 끼워지는 발열판 겸용 세라믹 히터(60)를 포함하여 구성되고, 상기 하부 아암(20)은, 내측에 구비되는 알루미늄 프레임(50)과, 상기 알루미늄 프레임(50)에 끼워지는 발열판 겸용 세라믹 히터(60)를 포함하여 구성되어, 상기 상부 아암(10) 및 하부 아암(20)에 구비되는 발열판 겸용 세라믹 히터(60)는, 서로 마주보면서 한 면이 외부로 노출되어 모발(H)에 직접 접촉하는 것을 특징으로 한다.

Description

발열판 겸용 세라믹 히터를 구비한 머리 미용기구{HAIRDRESSING APPLIANCE HAVING CERAMIC HEATER OF HEATING PLATE TYPE}
본 발명은 발열판 겸용 세라믹 히터를 구비한 머리 미용기구에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 세라믹 히터 자체가 발열판이 되어 직접 모발에 접촉하도록 함으로써 원하는 온도에 신속히 도달할 수 있고, 발열판이 변형되거나 평탄도가 저하되는 것을 방지할 수 있으며, 머리 미용기구의 사용 수명을 연장시킬 수 있는 발열판 겸용 세라믹 히터를 구비한 머리 미용기구에 관한 것이다.
일반적으로 머리 미용기구는, 전기에 의해 가열되는 발열판을 이용하여 사람의 헤어 스타일을 연출하는데 사용된다.
상기 머리 미용기구는, 곱슬머리를 펴는 스트레이트 퍼머(Straight Permanent), 모발에 웨이브를 주는 컬링(Curling) 퍼머, 염색 등을 하는데 사용된다.
도 1은 이러한 머리 미용기구의 일례를 도시한 것이다.
종래의 머리 미용기구는, 도 1에 도시된 바와 같이, 한 쌍의 상부 아암(Arm)(10) 및 하부 아암(20)과, 상기 상부 아암(10)과 하부 아암(20)을 연결하는 힌지부(30)를 포함하여 구성된다.
상기 힌지부(30)는, 일정한 탄성력을 구비하여 상부 아암(10)과 하부 아암(20)이 일정각도로 벌어지도록 구비된다.
상기한 구조에 의해, 사용자가 상부 아암(10)과 하부 아암(20)을 손으로 쥐면 상기 상부 아암(10)과 하부 아암(20)이 서로 밀착된다.
그리고 상기 힌지부(30)의 단부에는 전원과 연결되는 전원코드 연결부(40)가 구비된다.
또한 상부 아암(20)의 상부에는, 발열판 온도, 퍼머시점 등의 정보를 표시하는 표시부(14)와, 전원 스위치 및 온도 조절버튼을 포함하는 조작부(16)가 구비된다.
그리고 상기 상부 아암(10) 및 하부 아암(20)의 내면에는, 알루미늄 발열판과 평판상의 세라믹 히터 플레이트(Ceramic Heater Plate, 이하 간단히 '세라믹 히터'라 한다)가 각각 구비된다.
종래의 알루미늄 발열판 및 세라믹 히터의 구조는, 도 2에 도시된 바와 같이, 상부 아암(10)의 내측에 상부 알루미늄 발열판(12)이 구비되고, 상기 상부 알루미늄 발열판(12)의 안쪽에 상부 세라믹 히터(14)가 구비된다.
본 명세서에서는 편의상 상부 아암에 구비되는 세라믹 히터를 '상부 세라믹 히터' 하부 아암에 구비되는 세라믹 히터를 '하부 세라믹 히터'라 칭하기로 한다.
상기 상부 세라믹 히터(14)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 얇은 채널 형상의 상부 알루미늄 발열판(12)의 틈새에 끼워진다.
또한 하부 아암(20)의 내측에는 하부 알루미늄 발열판(22)이 구비되고, 상기 하부 알루미늄 발열판(22)의 안쪽에 하부 세라믹 히터(24)가 구비된다.
상기 하부 세라믹 히터(24)는, 상기한 상부 세라믹 히터(14)와 마찬가지 방식으로 얇은 채널 형상의 하부 알루미늄 발열판(22)의 틈새에 끼워진다.
또한 상기 상부 세라믹 히터(14) 및 하부 세라믹 히터(24)에는 텅스텐 전극이 형성되며, 상기 텅스텐 전극은 리드 선(14a)을 통해 전원과 연결된다.
상기 세라믹 히터는 산화알루미늄(Al2O3) 분말을 주원료로 하여 제조되며, 산화알루미늄 분말에 망간, 니켈 등이 더 첨가될 수도 있다.
산화알루미늄 분말을 이용하여 세라믹 히터 플레이트를 제조하는 과정은 공지의 기술이므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
상기한 머리 미용기구에 의하면, 전원에 의해 상부 세라믹 히터(14)를 가열하여, 상부 세라믹 히터(14)가 상부 알루미늄 발열판(12)을 가열하도록 한다.
그리고 하부 세라믹 히터(24)를 가열하여, 하부 세라믹 히터(24)가 하부 알루미늄 발열판(22)을 가열하도록 한다.
상기 상부 알루미늄 발열판(12) 및 하부 알루미늄 발열판(22)이 원하는 온도에 도달하면, 사용자는 한손으로 모발을 잡고, 다른 손으로 머리 미용기구를 잡은 상태에서 모발을 쓸어내리면서 스트레이트 퍼머를 한다.
또한 염색을 할 경우에는 모발에 염색 약액을 바른 후 머리를 쓸어내리면서 염색 약액이 모발에 스며들도록 한다.
그런데 상기한 종래의 머리 미용기구는, 도 2에 도시된 바와 같이, 세라믹 히터(14)(24)가 모발(H)에 접촉하는 구조가 아니라, 세라믹 히터(14)(24)가 알루미늄 발열판(12)(22)을 가열하고, 이 알루미늄 가열판(12)(22)이 모발(H)에 접촉하는 구조로 되어 있다.
즉 종래의 머리 미용기구는, 세라믹 히터의 열이 중간 매개체인 알루미늄 발열판을 통해 모발에 전달되는 구조이므로, 열전달 효율이 저하된다는 단점이 있다.
이러한 단점을 해소하기 위해 세라믹 히터가 외부로 노출되도록 하는 방안을 생각해 볼 수 있으나, 이 경우에는 세라믹 히터를 고정하는 알루미늄 프레임의 가장자리가 세라믹 히터보다 높게 돌출된다.
이에 따라 상부 아암에 구비된 세라믹 히터의 면과 하부 아암에 구비된 세라믹 히터의 면이 서로 완전히 밀착될 수 없게 되는 문제가 발생한다.
또한 종래의 방식에 의해 제조되는 세라믹 히터는, 소결과정을 거쳐 제조된 것을 그대로 사용하므로 표면이 거칠고, 표면 가공을 할 경우에는 세라믹 히터가 깨지게 된다는 문제점이 있다.
KR 10-2010-0107971 A KR 10-0858028 B1 KR 10-09779136 B1
본 발명은 상기한 종래기술의 문제점을 해소하기 위한 것으로서, 종래의 알루미늄 발열판을 생략하고, 세라믹 히터 자체가 발열판이 되어 직접 모발에 접촉하여 가열할 수 있도록 하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 다른 목적은, 세라믹 히터의 열전달 효율을 향상시켜 머리 미용기구의 파지 후 세라믹 히터가 원하는 고온까지 급속히 도달되도록 하는 데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은, 세라믹 히터의 표면 가공시 세라믹 히터가 깨지는 현상이 발생하지 않도록 하여, 세라믹 히터의 표면을 매끄럽게 가공할 수 있도록 하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은, 장시간 사용하여도 세라믹 히터 플레이트의 평탄도가 저하되지 않도록 하는데 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 상부 아암 및 하부 아암과, 상기 상부 아암과 하부 아암을 서로 연결하는 힌지부를 포함하여 이루어지는 머리 미용기구에 있어서, 상기 상부 아암은, 내측에 구비되는 알루미늄 프레임과, 상기 알루미늄 프레임에 끼워지는 발열판 겸용 세라믹 히터를 포함하여 구성되고, 상기 하부 아암은, 내측에 구비되는 알루미늄 프레임과, 상기 알루미늄 프레임에 끼워지는 발열판 겸용 세라믹 히터를 포함하여 구성되어, 상기 상부 아암 및 하부 아암에 구비되는 발열판 겸용 세라믹 히터는, 서로 마주보면서 한 면이 외부로 노출되어 모발에 직접 접촉하는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 상부 아암과 하부 아암에 구비되는 발열판 겸용 세라믹 히터는, 외부로 노출되는 노출부와 알루미늄 프레임에 끼워지는 삽입부의 2단 구조로 형성되는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 발열판 겸용 세라믹 히터의 삽입부의 폭은, 상기 노출부의 폭보다 넓게 형성되고, 상기 삽입부의 양측부는, 단면이 채널 형상인 알루미늄 프레임의 틈새에 끼워져 조립되며, 상기 노출부는, 그 일면이 외부로 노출되는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 발열판 겸용 세라믹 히터의 노출부와 삽입부는, 크기가 10nm 이하인 산화알루미늄 분말을 주성분으로 하여 제조되고, 상기 발열판 겸용 세라믹 히터의 노출부는, 산화알루미늄 그린 시트에 텅스텐 전극을 형성하고, 1650℃에서 8시간 가열하는 1차 소결에 의해 제조되며, 상기 발열판 겸용 세라믹 히터의 노출부와 삽입부는, 1350℃에서 12시간 가열하는 2차 소결시에 서로 확산 접합되는 것을 특징으로 한다.
또한 상기 발열판 겸용 세라믹 히터의 노출부 일면은, 연삭, 래핑, 폴리싱 가공 중 어느 하나의 방식에 의해 표면이 가공되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면, 종래와 같이 세라믹 히터에 의해 가열된 알루미늄 발열판이 모발에 접촉하는 구조가 아니라, 세라믹 히터 자체가 직접 모발에 접촉하는 구조이므로, 열전달 효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
이에 따라 미용기구를 파지한 후 수초 내에 고온에 도달할 수 있으므로, 헤어 샵에서 아주 유용하게 사용할 수 있는 효과가 있다.
또한 표면이 손상될 우려가 없는 세라믹 히터 플레이트가 직접 모발에 접촉하는 구조이므로, 모발의 손상을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한 장시간 사용하여도 세라믹 히터 플레이트의 평탄도가 저하되지 않으므로 기구의 사용 수명을 연장시킬 수 있는 효과가 있다.
도 1은 종래기술에 따른 머리 미용기구의 사시도.
도 2는 종래기술에 따른 머리 미용기구의 상부 아암 및 하부 아암의 단면도.
도 3은 종래기술에 따른 머리 미용기구에서 알루미늄 발열판과 세라믹 히터의 조립과정을 나타낸 도면.
도 4는 본 발명에 따른 머리 미용기구의 상부 아암 및 하부 아암의 단면도.
도 5는 본 발명에 따른 머리 미용기구에서 알루미늄 프레임과 세라믹 히터의 조립과정을 나타낸 도면.
도 6은 본 발명에 따른 발열판 겸용 세라믹 히터의 제조과정을 설명하기 위한 도면.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
본 발명에 따른 머리 미용기구를 설명하기에 앞서, 도 1 및 도 2를 참고하여 일반적인 머리 미용기구의 구조를 간략히 살펴본다.
스트레이트 퍼머를 하거나 염색을 하는데 사용되는 머리 미용기구는, 상부 아암(10) 및 하부 아암(20)과, 상기 상부 아암(10)과 하부 아암(20)을 서로 연결하는 힌지부(30)를 포함하여 구성된다.
그리고 상기 상부 아암(10)의 내측에는 상부 알루미늄 발열판(12)이 구비되고, 하부 아암(20)의 내측에는 하부 알루미늄 발열판(22)이 구비된다.
상기 상부 알루미늄 발열판(12)은 그 안쪽에 구비된 상부 세라믹 히터(14)에 의해 가열되어 모발에 열을 전달하고, 하부 알루미늄 발열판(22)은 그 안쪽에 구비된 하부 세라믹 히터(24)에 의해 가열되어 모발에 열을 전달한다.
이어서 본 발명에 따른 머리 미용기구의 특징부를 도 4 내지 도 6을 참조하여 설명한다.
본 발명에 따른 머리 미용기구는, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 상부 아암(10)과 하부 아암(20)의 내측에 각각 구비되는 알루미늄 프레임(50)과, 상기 알루미늄 프레임(50)에 각각 끼워져 조립되는 발열판 겸용 세라믹 히터(60)를 포함하여 구성된다.
특히 상기 발열판 겸용 세라믹 히터(60)는, 평판상의 플레이트 형태로서 모발에 직접 접촉하여 열을 전달할 수 있도록 한면이 외부로 노출된다.
또한 본 발명에 따른 발열판 겸용 세라믹 히터(60)는, 도 5에 도시된 바와 같이, 한 면이 외부로 노출되는 노출부(60a)와 알루미늄 프레임(50)에 끼워져 고정되는 삽입부(60b)의 2단 구조로 형성된다.
도 5는 본 발명에 따라 제조된 세라믹 히터가 상부 아암(10)의 알루미늄 프레임(50)에 조립되는 과정을 나타낸 것으로, 하부 아암도 상기한 상부 아암과 동일한 방식으로 조립된다.
여기서 발열판 겸용 세라믹 히터(50)의 삽입부(60b)의 폭(D)은, 도 6에 도시된 바와 같이, 노출부(60a)의 폭(d)보다 넓게 형성된다.
상기한 구조에 의해, 도 5에 도시된 바와 같이, 삽입부(60b)가 단면이 채널 형상인 알루미늄 프레임(50)의 틈새에 견고하게 조립될 수 있다.
이로써, 도 4에 도시된 바와 같이, 발열판 겸용 세라믹 히터(60)의 노출부(60a)의 한 면이 평탄한 구조로 외부로 노출되고, 이 면이 직접 모발(H)에 접촉하여 열을 전달하게 된다.
또한 본 발명에 따른 발열판 겸용 세라믹 히터(60)의 노출부(60a)와 삽입부(60b)는, 크기가 10nm 이하인 산화알루미늄 분말을 주성분으로 하여 제조된다.
그리고 발열판 겸용 세라믹 히터(60)의 노출부(60a)는, 그린 시트(Green Sheet) 상태의 산화알루미늄에 텅스텐 전극(60c)을 형성하고 1650℃에서 8시간 가열하는 1차 소결에 의해 제조된다.
또한 발열판 겸용 세라믹 히터(60)의 노출부(60a)와 삽입부(60b)는, 본드에 의해 서로 접합된 후 1350℃에서 12시간 가열하는 2차 소결에 의해 서로 확산 접합(Diffusion Bonding)된다.
위와 같이 2차 소결시 온도를 1차 소결시의 온도보다 낮게 하고 시간을 더 길게 하는 이유는, 1차 소결시 형성된 텅스텐 전극(60c)이 산화알루미늄과의 비중 차이에 의해 2차 소결과정에서 아래로 침전되지 않도록 하기 위한 것이다.
상기한 조건에서 2차 소결을 함으로써, 비중이 높은 텅스텐 전극이 침전되는 것을 방지함과 동시에, 2매의 세라믹 히터 플레이트가 확산에 의해 서로 견고하게 접합되도록 할 수 있다.
또한 본 발명의 발열판 겸용 세라믹 히터는, 서로 다른 폭을 갖는 2매의 플레이트가 서로 겹쳐지는 2단 구조로 형성된다.
상기한 제조방식에 의해, 세라믹 히터의 표면을 연삭, 래핑(Lapping) 또는 폴리싱(Polishing) 가공을 하여 모발에 직접 접촉하는 표면을 매끄럽게 형성할 수가 있다.
상기한 연삭, 래핑, 폴리싱 가공방식은 공지의 기술이므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
또한 도 4에는 발열판 겸용 세라믹 히터가 상부 아암과 하부 아암에 모두 구비되는 것으로 도시되었지만, 한쪽 아암에만 본 발명에 따른 발열판 겸용 세라믹 히터를 구비하고, 다른 아암에는 종래와 같이 세라믹 히터에 의해 가열되는 알루미늄 발열판을 사용할 수도 있다.
세라믹 히터를 이용한 종래의 머리 미용기구는, 도 2에 도시된 바와 같이, 세라믹 히터(14)(24)가 알루미늄 발열판(12)(22)을 가열하고, 상기 한 쌍의 알루미늄 발열판(12)(22)이 모발(H)에 접촉하는 구조로 되어 있다.
즉 종래의 방식에 의하면, 세라믹 히터(14)(24)는 히터로서의 역할만 하고, 상기 세라믹 히터에 의해 가열된 알루미늄 발열판(12)(22)이 모발(H)에 접촉하여 열을 전달하게 되므로, 알루미늄 발열판(12)(22)을 급속하게 가열하는데 한계가 있다.
그러나 본 발명에 의하면, 도 4에 도시된 바와 같이, 별도의 알루미늄 발열판을 구비하지 않고, 세라믹 히터(60)의 한 면이 직접 모발(H)에 접촉하게 된다.
즉 본 발명은 세라믹 히터(60) 자체가 종래의 발열판의 역할을 겸하게 되므로, 세라믹 히터를 원하는 온도로 급속하게 가열할 수 있다.
또한 본 발명의 발열판 겸용 세라믹 히터(60)는, 1차 고온 소결 및 2차 저온 소결의 과정을 거쳐서 2단 구조로 제조된다. 즉 2매의 세라믹 히터 플레이트가 겹쳐서 제조된다.
이에 따라 세라믹 히터의 일면에 연삭, 래핑, 폴리싱 등의 표면가공을 하여도 세라믹 히터가 깨지지 않으므로, 외부로 노출되는 세라믹 히터의 일면을 아주 매끄럽게 가공할 수가 있다.
종래의 세라믹 히터는, 단일의 플레이트를 소결시킨 후 이를 그대로 사용하므로 표면상태가 매끄럽지 않다.
또한 종래의 방식으로 제조되는 세라믹 히터 플레이트는, 연삭, 래핑, 폴리싱 등의 표면가공시 깨지게 되므로 표면을 매끄럽게 가공할 수가 없다.
이러한 이유로 세라믹 히터가 알루미늄 발열판을 가열하도록 하고, 상기 알루미늄 발열판이 모발에 접촉하여 열을 전달하도록 하고 있는 것이다.
그러나 본 발명에 의하면, 발열판 겸용 세라믹 히터가, 텅스턴 전극을 형성하는 1차 고온 소결과, 2매의 세라믹 히터 플레이트를 접합하는 2차 저온 소결 과정을 거쳐 2단 구조로 제조된다.
이에 따라 세라믹 히터의 일면에 표면가공을 하여도 세라믹 히터가 깨지지 않게 되므로, 세라믹 히터의 일면을 매끄럽게 가공하여 발열판 겸용으로 사용할 수가 있다.
또한 본 발명에 의하면, 세라믹 히터가 노출부와 삽입부의 2단 구조로 제조되므로, 상기 삽입부가 알루미늄 프레임에 견고하게 끼워져 고정되도록 할 수 있고, 노출부가 평탄한 상태로 외부에 노출되도록 할 수 있다.
그리고 종래의 알루미늄 발열판은, 장시간 사용 시 고온에 의한 변형이 발생하여 발열판의 평탄도가 저하되는 문제가 있다.
그러나 본 발명은 고온에서도 열변형이 되지 않는 세라믹 히터 플레이트가 직접 모발에 접촉하므로, 장시간 사용하여도 세라믹 히터 플레이트의 평탄도가 저하되지 않는다.
이상으로 본 발명의 기술적 사상을 예시적으로 설명하고 도시하였지만, 본 발명은 이와 같이 설명된 그대로의 구성 및 작용에만 국한되지 아니한다. 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 기술적 사상의 범주를 일탈함이 없이 본 발명에 대해 다수의 변경 및 수정이 가능하다는 것을 잘 이해할 수 있을 것이다. 따라서 그러한 모든 적절한 변경 및 수정과 균등물들도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다.
10: 상부 아암(Arm) 12: 상부 알루미늄 발열판
14: 상부 세라믹 히터(Ceramic Heater)
14a: 리드(Lead) 선 15: 표시부
16: 조작부 20: 하부 아암
22: 하부 알루미늄 발열판
24: 하부 세라믹 히터(Ceramic Heater)
30: 힌지(Hinge)부 40: 전원코드 연결부
50: 알루미늄 프레임(Frame) 60: 발열판 겸용 세라믹 히터
60a: 노출부 60b: 삽입부
60c: 텅스텐 전극 60d: 리드 선
H: 모발

Claims (5)

  1. 상부 아암(10) 및 하부 아암(20)과, 상기 상부 아암(10)과 하부 아암(20)을 서로 연결하는 힌지부(30)를 포함하여 이루어지는 머리 미용기구에 있어서,
    상기 상부 아암(10)은, 내측에 구비되는 알루미늄 프레임(50)과, 상기 알루미늄 프레임(50)에 끼워지는 발열판 겸용 세라믹 히터(60)를 포함하여 구성되고,
    상기 하부 아암(20)은, 내측에 구비되는 알루미늄 프레임(50)과, 상기 알루미늄 프레임(50)에 끼워지는 발열판 겸용 세라믹 히터(60)를 포함하여 구성되어,
    상기 상부 아암(10) 및 하부 아암(20)에 구비되는 발열판 겸용 세라믹 히터(60)는, 서로 마주보면서 한 면이 외부로 노출되어 모발(H)에 직접 접촉하는 것을 특징으로 하는 발열판 겸용 세라믹 히터를 구비한 머리 미용기구.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 상부 아암(10)과 하부 아암(20)에 구비되는 발열판 겸용 세라믹 히터(60)는, 외부로 노출되는 노출부(60a)와 알루미늄 프레임에 끼워지는 삽입부(60b)의 2단 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 발열판 겸용 세라믹 히터를 구비한 머리 미용기구.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 발열판 겸용 세라믹 히터(60)의 삽입부(60b)의 폭(D)은, 상기 노출부(60a)의 폭(d)보다 넓게 형성되고,
    상기 삽입부(60b)의 양측부는, 단면이 채널 형상인 알루미늄 프레임(50)의 틈새에 끼워져 조립되며,
    상기 노출부(60a)는, 그 일면이 외부로 노출되는 것을 특징으로 하는 발열판 겸용 세라믹 히터를 구비한 머리 미용기구.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 발열판 겸용 세라믹 히터(60)의 노출부(60a)와 삽입부(60b)는, 크기가 10nm 이하인 산화알루미늄 분말을 주성분으로 하여 제조되고,
    상기 발열판 겸용 세라믹 히터(60)의 노출부(60a)는, 산화알루미늄 그린 시트(Green Sheet)에 텅스텐 전극(60c)을 형성하고, 1650℃에서 8시간 가열하는 1차 소결에 의해 제조되며,
    상기 발열판 겸용 세라믹 히터(60)의 노출부(60a)와 삽입부(60b)는, 1350℃에서 12시간 가열하는 2차 소결시에 확산 접합되는 것을 특징으로 하는 발열판 겸용 세라믹 히터를 구비한 머리 미용기구.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 발열판 겸용 세라믹 히터(60)의 노출부(60a) 일면은, 연삭, 래핑, 폴리싱 가공 중 어느 하나의 방식에 의해 표면이 가공되는 것을 특징으로 하는 발열판 겸용 세라믹 히터를 구비한 머리 미용기구.
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KR20100107971A (ko) 2009-03-27 2010-10-06 불루세라믹 주식회사 발열부재를 구비한 머리 미용기구 및 그 발열부재의 제조방법

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