KR20200084241A

KR20200084241A - 박판 지지장치 및 박판 처리 장치

Info

Publication number: KR20200084241A
Application number: KR1020190000402A
Authority: KR
Inventors: 성동영; 김민관; 최지웅
Original assignee: 에이피에스홀딩스 주식회사
Priority date: 2019-01-02
Filing date: 2019-01-02
Publication date: 2020-07-10
Also published as: KR102600425B1

Abstract

본 발명은 박판 지지장치 및 박판 처리 장치에 관한 것으로서, 박판을 지지하기 위한 지지장치로서, 제1지지대; 상기 제1지지대와 이격되어 구비되는 제2지지대; 사이에 상기 박판을 배치할 수 있도록, 상기 제1지지대 및 상기 제2지지대에 서로 나란하게 연결되는 적어도 한 쌍의 가이드 로드; 상기 박판의 일측을 고정할 수 있도록 상기 제1지지대에 연결되는 제1고정부; 및 상기 박판의 타측을 고정할 수 있고, 상기 박판을 인장시킬 수 있도록 상기 가이드 로드에 이동 가능하게 연결되는 제2고정부;를 포함하고, 두께가 얇은 박판의 이송 및 처리를 용이하게 할 수 있다.

Description

박판 지지장치 및 박판 처리 장치{Jig for sheet and processing apparatus thereof}

본 발명은 박판 지지장치 및 박판 처리 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 두께가 얇은 박판의 이송 및 처리를 용이하게 할 수 있는 박판 지지장치 및 박판 처리 장치에 관한 것이다.

유기발광다이오드(Organic Light Emitting Diode; 이하 OLED)는 기판 상의 두 전극 사이에 형성되는 유기물층, 예컨대 유기 발광층에 전기적인 신호를 공급하면 자체 발광하는 발광 소자이다. 이와 같은 OLED는 넓은 시야각과 저전압 구동 및 동영상 재생 능력 등이 우수하기 때문에 문자와 영상 등을 디스플레이할 수 있는 표시 장치에 적용되고 있다.

OLED는 기판 상의 두 전극 사이에 형성되는 유기물층에 전기적인 신호를 공급하여 자체 발광을 유도하게 되는 것으로서, 통상 상기 유기물층은 다수의 개구 패턴을 갖는 박막 형성용 스크린 마스크를 이용하여 진공 증착 공정에 의해 형성된다. 이와 같은 유기물층을 형성하기 위한 스크린 마스크는 단위 마스크 패턴이 다수 형성된 금속 띠(band or strip) 또는 스틱(stick) 형태로 제작된 다수개의 마스크 스틱을 사각 틀 형태의 마스크 프레임에 나란하게 고정되도록 용접된 상태로 진공증착공정에 사용되고 있다.

한편, 최근에 이르러 점차적으로 대면적화되는 OLED의 개발 추세에 따라 유리 기판도 대면적화되면서 유기물층 형성을 위한 마스크 스틱의 크기도 점차적으로 증대하고 있다. 이와 함께 OLED의 해상도가 높아지면서 마스크 스틱의 두께도 점차 감소하고 있다. 마스크 스틱은 Fe-Ni 합금인 인바(INVAR)를 이용하여 제조될 수 있고, 디스플레이의 해상도에 따라 HD(High Definition)급과 FHD(Full High Definition)급의 경우 25 내지 35㎛ 정도, QHD(Quad High Definition)급의 경우에는 15 내지 20㎛ 정도, UHD(Ultra High Definition)급의 경우에는 13 내지 15㎛ 정도, 그리고 1000 PPI(Pixel Per Inch)급의 경우에는 10㎛ 정도의 두께를 갖는다. 이렇게 마스크 스틱의 크기가 증대되고, 두께가 얇아짐에 따라 마스크 스틱을 이송 및 처리하는 과정에서 구겨짐, 접힘 등의 변형이 쉽게 발생할 수 있다. 또한, 마스크 스틱을 처리, 예컨대 세정하는 과정에서 세정 용액에 의해 가해지는 압력에 의해 마스크 스틱이 변형되는 문제가 발생할 수 있다.

이와 같이 마스크 스틱이 변형되면, 예컨대 마스크 스틱을 세정하는 과정에서 구겨지거나 접힌 부분에 부착된 이물질이 제대로 제거되지 않아 기판에 유기물층을 증착할 때 마스크 스틱에 부착된 이물질에 의해 결함이 발생하는 문제가 있다. 또한, 변형된 마스크 스틱을 이용하여 기판에 유기물층을 증착하면, 마스크 스틱에 형성된 패턴이 왜곡되는 현상이 발생할 수 있다. 따라서 이러한 마스크 스틱을 이용하여 기판에 유기물층을 증착하면, 유기물층이 원하는 패턴으로 형성되지 않는 치명적인 불량이 발생하는 문제가 있다.

KR

2012-0125038

A

본 발명은 박판의 변형을 억제 혹은 방지할 수 있는 박판 지지장치 및 박판 처리 장치를 제공한다.

본 발명은 박판의 처리를 용이하게 할 수 있는 박판 지지장치 및 박판 처리 장치를 제공한다.

본 발명의 실시 예에 따른 박판 지지장치는, 박판을 지지하기 위한 지지장치로서, 제1지지대; 상기 제1지지대와 이격되어 구비되는 제2지지대; 사이에 상기 박판을 배치할 수 있도록, 상기 제1지지대 및 상기 제2지지대에 서로 나란하게 연결되는 적어도 한 쌍의 가이드 로드; 상기 박판의 일측을 고정할 수 있도록 상기 제1지지대에 연결되는 제1고정부; 및 상기 박판의 타측을 고정할 수 있고, 상기 박판을 인장시킬 수 있도록 상기 가이드 로드에 이동 가능하게 연결되는 제2고정부;를 포함할 수 있다.

상기 제2지지대는 상기 가이드 로드에 이동 가능하도록 연결될 수 있다.

상기 제1지지대와 상기 제2지지대에 각각 연결되는 파지부를 더 포함할 수 있다.

상기 제2지지대의 이동을 제한하기 위한 스토퍼를 더 포함할 수 있다.

상기 제2고정부를 이동시키기 위한 이동부를 더 포함할 수 있다.

상기 이동부는, 상기 제2고정부에 구비되는 제1체결돌기; 상기 제1체결돌기와 마주보도록 구비되는 상기 제2지지대에 구비되는 제2체결돌기; 및 일측은 상기 제2고정부를 이동시킬 수 있도록 상기 제2체결돌기와 나사결합되고, 타측은 상기 제1체결돌기에 회전 가능하도록 연결되는 조절로드;를 포함할 수 있다.

상기 제1고정부는, 상기 제1지지대에 연결되는 고정 플레이트; 상부면에 상기 박판의 일측을 안착시키기 위해 상기 고정 플레이트에 연결되는 제1지지플레이트; 및 상기 박판의 일측을 가압하여 상기 제1지지플레이트에 고정시키기 위한 제1고정부재;를 포함할 수 있다.

상기 제2고정부는, 상기 가이드 로드에 이동 가능하도록 연결되는 고정블록; 상부면에 상기 박판의 타측을 안착시키기 위해 상기 고정블록에 연결되는 제2지지플레이트; 및 상기 박판의 타측을 가압하여 상기 제2지지플레이트에 고정시키기 위한 제2고정부재;를 포함할 수 있다.

상기 박판을 지지할 수 있도록 상기 제1고정부와 상기 제2고정부의 사이에 배치 가능한 보조 지지플레이트를 더 포함할 수 있다.

상기 보조 지지플레이트는 상기 가이드 로드와 결합 가능하도록 형성될 수 있다.

상기 제1지지플레이트, 상기 제2지지플레이트, 상기 보조 지지플레이트, 제1고정부재 및 상기 제2고정부재에서 적어도 상기 박판과 접촉하는 영역을 합성수지로 형성할 수 있다.

상기 제1지지플레이트와 상기 제2지지플레이트의 상부면에는 상기 박판을 정렬하기 위한 정렬 돌기가 구비될 수 있다.

본 발명의 실시 예에 따른 박판 처리 장치는, 박판을 인장시켜 지지하기 위한 지지장치; 및 내부에 상기 지지장치를 수용할 수 있는 공간을 제공하고, 상기 지지장치를 안착시킬 수 있는 안착부를 구비하는 용기;를 포함할 수 있다.

상기 안착부는, 상기 박판의 저면과 상기 용기의 내부 바닥면 사이에 공간을 형성할 수 있도록 상기 용기의 내벽에 돌출되어 구비될 수 있다.

본 발명의 실시 예에 따르면, 두께가 얇은 박판, 예컨대 OLED의 유기물을 증착하는데 사용되는 마스크 스틱을 인장시킨 상태로 세정 등의 처리를 수행할 수 있다. 따라서 박판을 처리하는 과정에서 박판이 구겨지거나 휘어져 변형되는 것을 억제 혹은 방지할 수 있다. 이를 통해 박판을 이용한 공정의 수율을 향상시키고, 제조되는 제품의 품질 및 신뢰성을 향상시킬 수 있다.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 박판 처리 장치를 보여주는 도면.
도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 박판 지지장치의 분해 사시도.
도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 박판 지지장치의 사시도.
도 4는 도 3에 도시된 선A-A'에 따른 박판 지지장치의 단면도.
도 5는 도 3에 도시된 제1고정부(X영역)를 상세하게 보여주는 도면.
도 6은 도 3에 도시된 제2고정부(Y영역)를 상세하게 보여주는 도면.
도 7은 본 발명의 변형 예에 따른 박판 지지장치의 사시도.
도 8 및 도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 박판 지지장치를 이용하여 박판을 지지하는 과정을 순차적으로 보여주는 도면.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.

본 발명에 따른 박판 지지장치 및 박판 처리 장치는 두께가 매우 얇은 박판을 인장시켜 평평하게 지지한 상태로 처리할 수 있다. 이하에서는 박판이 마스크 스틱인 것으로 설명하지만, 다양한 박판을 지지 및 처리하는데 적용될 수 있음은 물론이다.

도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 박판 처리 장치를 보여주는 도면이고, 도 2는 본 발명의 실시 예에 따른 박판 지지장치의 분해 사시도이고, 도 3은 본 발명의 실시 예에 따른 박판 지지장치의 사시도이고, 도 4는 도 3에 도시된 선A-A'에 따른 박판 지지장치의 단면도이다. 그리고 도 5는 도 3에 도시된 제1고정부(X영역)를 상세하게 보여주는 도면이고, 도 6은 도 3에 도시된 제2고정부(Y영역)를 상세하게 보여주는 도면이고, 도 7은 본 발명의 변형 예에 따른 박판 지지장치의 사시도이다.

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 박판 처리 장치는, 박판(300)을 인장시켜 지지할 수 있는 지지장치(200) 및 내부에 지지장치(200)를 수용할 수 있는 공간을 제공하고, 지지장치(200)를 안착시킬 수 있는 안착부(110)를 구비하는 용기(100)를 포함할 수 있다.

먼저, 용기(100)는 박판(300)을 지지하고 있는 지지장치(200)를 수용할 수 있는 공간을 제공할 수 있다. 이때, 용기(100) 내부에는 처리 용액(L)이 수용될 수도 있으며, 이 경우 처리 용액(L)은 지지장치(200)의 일부 또는 적어도 박판(300)을 침지시킬 수 있을 정도로 용기(100) 내부에 수용될 수 있다. 처리 용액(L)은 박판(300)을 세정하기 위한 세정 용액을 포함할 수 있으며, 세정 용액은 탈이온수, 알콜 등을 포함할 수 있다. 여기에서는 처리 용액(L)이 용기(100) 내부에 수용되는 것으로 설명하지만, 지지장치(200)를 용기(100) 내부의 안착부(110)에 안착시킨 상태에서 처리 용액을 박판(300)에 분사하는 방식으로 박판(300)을 처리할 수도 있다.

용기(100)에는 지지장치(200)를 안착시킬 수 있는 안착부(110)가 형성될 수 있다. 안착부(110)는 지지장치(200)의 양쪽 단부 또는 가장자리를 안착시킬 수 있도록 용기(100)의 내벽의 적어도 일부에 돌출되도록 구비될 수 있다. 이와 같이 안착부(110)를 용기(100)의 내벽에 돌출되도록 형성하는 이유는, 박판(300)을 처리할 때 박판(300)의 저면과 용기(100)의 내부 바닥면 사이에 공간을 형성하여 처리 용액(L)과 접촉하는 박판(300)의 면적을 증대시키기 위함이다. 또한, 박판(300)을 처리하는 과정에서 박판(300)에서 분리되는 이물질이 박판(300)에서 용이하게 분리되도록 하기 위함이다. 여기에서는 안착부(110)가 용기(100)의 내벽에 돌출되도록 구비되는 것으로 설명하지만, 안착부(110)는 용기(100)의 내벽을 따라 연속적으로 구비될 수도 있다. 이때, 박판(300)을 처리 용액(L)에 침지시켜 처리 또는 세정하는 경우, 안착부(110)는 지지장치(200) 전체가 처리 용액(L)에 침지될 수 있는 높이에 구비될 수도 있고, 적어도 지지장치(200)에 지지되어 있는 박판(300)이 처리 용액(L)에 침지될 수 있는 높이에 구비될 수 있다.

안착부(110)를 이와 같이 형성하는 이유는 지지장치(200)에 지지된 박판(300) 전체가 처리 용액(L)에 노출 또는 접촉될 수 있도록 하기 위함이다.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 박판 지지장치(200)는 제1지지대(210)와, 제1지지대(210)와 이격되어 구비되는 제2지지대(220)와, 사이에 박판(300)을 배치할 수 있도록 제1지지대(210) 및 제2지지대(220)에 서로 나란하게 연결되는 적어도 한 쌍의 가이드 로드(260)와, 박판(300)의 일측을 고정할 수 있도록 제1지지대(210)에 연결되는 제1고정부(230) 및 박판(300)의 타측을 고정할 수 있고, 박판(300)을 인장시킬 수 있도록 가이드 로드(260)에 이동 가능하게 연결되는 제2고정부(240)를 포함할 수 있다.

여기에서 박판(300)은 길이와 폭을 가지며, 핸들링하거나 처리할 때 판판함을 유지하지 못하고 휘거나 구겨질 수 있는 두께를 갖는 플레이트를 의미할 수 있다. 박판(300)은 다양한 길이와 폭을 가질 수 있으며, 매우 얇은 두께, 예컨대 0㎛ 초과 1000㎛ 정도 또는 1 내지 10㎛ 정도의 두께를 가질 수 있다.

본 발명의 실시 예에서 박판(300)은 OLED 소자를 제조하는 경우, 유기물층을 증착하는데 사용되는 미세 금속 마스크(Fine Metal Mask, FMM)를 형성하기 위한 마스크 스틱을 포함할 수 있다. 마스크 스틱은 Fe-Ni 합금인 인바(INVAR)를 이용하여 제조되고, 일방향으로 연장되도록 형성될 수 있다. 마스크 스틱은 복수개가 마스크 프레임(미도시)에 용접되어 사용될 수 있다. 이때, 마스크 스틱에 형성되는 패턴은 마스크 스틱에 포토레지스트를 도포한 후, 노광 및 식각공정을 통해 형성되거나, 마스크 스틱을 직접적으로 레이저를 조사하여 형성될 수 있다. 그리고 마스크 스틱에 패턴을 형성한 이후에는 마스크 스틱에 잔류하는 포토레지스트나 식각 잔류물을 제거하기 위한 세정 공정이 수행되고 있다. 이와 같이 마스크 스틱을 세정하기 위해서는 마스크 스틱을 이송해야 하는데, 마스크 스틱은 매우 얇은 박판으로 이루어져 변형되기 쉬운 문제점이 있다. 이에 마스크 스틱을 마스크 프레임에 용접시키기 이전에 본 발명의 실시 예에 따른 지지장치를 이용하여 마스크 스틱을 인장시킨 상태로 이송 및 세정하게 되면, 마스크 스틱이 변형되는 것을 억제 혹은 방지할 수 있다.

박판(300), 즉 마스크 스틱은 유기물층을 증착하기 위한 패턴이 형성되는 제1영역(Ⅰ)과, 마스크 프레임에 고정하거나 핸들링 시 파지하기 위한 제2영역(Ⅱ)을 포함할 수 있고, 제2영역(Ⅱ)은 양쪽 단부에 각각 형성될 수 있다. 제2영역(Ⅱ)에는 마스크 스틱을 마스크 프레임에 용접하기 위해 정해진 위치에 정렬하기 위한 홈부(310)가 형성될 수 있다. 홈부(310)는 구멍, 돌기 등 다양한 형태로 형성될 수도 있다.

지지장치(200)는 박판(300)의 양쪽 단부, 예컨대 제2영역(Ⅱ)을 지지할 수 있다. 특히, 지지장치(200)는 구겨지거나 휘기 쉬운 박판(300)을 인장시킨 상태로 지지할 수 있다. 또한, 지지장치(200)는 휴대용 또는 이동 가능하도록 형성되어 박판(300)을 인장시켜 지지한 상태로 박판(300)을 이송하거나 처리하는데 사용될 수 있다. 또한, 박판(300)을 인장시킨 상태로 보관하는데도 사용될 수 있다. 지지장치(200)는 박판(300)을 이송하거나 보관하는데 단독으로 사용될 수도 있고, 박판(300)을 처리, 예컨대 세정하기 위한 장치와 함께 사용될 수도 있다.

제1지지대(210)와 제2지지대(220)는 금속 재질로 형성될 수 있으며, 블록 형상으로 형성될 수 있다. 이때, 제1지지대(210)와 제2지지대(220)는 박판(300)의 폭 길이보다 길게 형성되는 수평부와 수평부의 양쪽에 상하방향으로 연장되는 수직부를 포함하는 대략 'U'자형으로 형성될 수 있다. 제1지지대(210)와 제2지지대(220)는 이격되도록 배치될 수 있고, 적어도 박판(300)의 길이보다 멀리 이격되도록 배치될 수 있다.

제1지지대(210)에는 가이드 로드(260)의 일단을 삽입시킬 수 있는 제1삽입구(212)가 형성될 수 있다. 이때, 제1삽입구(212)는 적어도 2개 이상으로 형성될 수 있으며, 제1지지대(210)의 수직부에 가이드 로드(260)의 개수에 대응하는 개수로 형성될 수 있다. 본 실시 예에서는 2쌍의 가이드 로드(260), 즉 4개의 가이드 로드(260)를 사용하고 있기 때문에 제1지지대(210)에는 4개의 제1삽입구(212)가 형성될 수 있다. 4개의 제1삽입구(212) 중 2개의 제1삽입구(212)는 가이드 로드(260)를 박판(300)의 폭보다 넓은 거리를 가지며 이격되도록 제1지지대(210)의 수직부에 형성될 수 있다. 그리고 나머지 2개의 제1삽입구(212)는 2개의 제1삽입구(212) 상부에 이격되도록 제1지지대(210)의 수직부에 형성될 수 있다.

제2지지대(220)에는 가이드 로드(260)의 타단을 삽입시킬 수 있는 제2삽입구(222)가 형성될 수 있다. 이때, 제2지지대(220)는 제1지지대(210)와 거의 동일한 구조로 형성될 수 있다. 이에 제2삽입구(222)는 제1삽입구(212)와 거의 동일한 형태로 제2지지대(220)에 형성될 수 있다.

이와 같이 형성된 제1지지대(210)와 제2지지대(220)에는 지지장치(200)를 이동시키기 위한 파지부(214, 224)가 형성될 수 있다. 파지부(214, 224)는 작업자가 용이하게 파지할 수 있도록 제1지지대(210)와 제2지지대(220)의 상부에 돌출되도록 형성될 수 있다. 파지부(214, 224)는 'ㄷ'자, 'L'자, 'I'자 등 다양한 형상으로 형성될 수 있으며, 그 형태는 제한되지 않는다.

가이드 로드(260)는 금속 재질로 형성될 수 있으며, 일방향으로 연장되는, 예컨대 박판(300)의 길이보다 긴 봉 형태로 형성될 수 있다. 가이드 로드(260)는 제1지지대(210)에 형성된 제1삽입구(212)와 제2지지대(220)에 형성된 제2삽입구(222)에 삽입되어 박판(300)을 수용할 수 있는 공간을 형성할 수 있다. 이때, 4개의 가이드 로드(260)는 서로 이격되어 나란하게 배치될 수 있는데, 박판(300)의 폭방향으로 양쪽에 각각 2개씩 배치될 수 있다. 그리고 제1지지대(210)에 연결되는 가이드 로드(260)의 일단은 제1삽입구(212)에 고정되도록 연결될 수 있고, 제2지지대(220)에 연결되는 가이드 로드(260)의 타단은 제2삽입구(222)에 이동 가능하도록 연결될 수 있다. 즉, 제2지지대(220)는 가이드 로드(260)를 따라 이동 가능하도록 연결될 수 있다. 이는 박판(300)의 길이에 따라 제2지지대(220)를 이동시켜 박판(300)이 수용되는 공간을 확보하기 위함이다. 이 경우, 지지장치(200)를 이용하여 박판(300)을 지지할 때 박판(300)이 인장된 상태를 안정적으로 유지할 수 있도록 외력을 가해 가이드 로드(260)를 따라 제2지지대(220)를 이동시킬 수 있도록 가이드 로드(260)와 제2지지대(220)를 연결할 수 있다. 또는, 제2지지대(220) 또는 가이드 로드(260)에 스토퍼(미도시)를 추가로 구비하여 제2지지대(220)의 이동을 제한할 수도 있다.

도 5를 참조하면, 제1고정부(230)는 박판(300)의 일측을 고정할 수 있도록 제1지지대(210)에 연결될 수 있다. 제1고정부(230)는 제1지지대(210)에 연결되는 고정 플레이트(232)와, 상부면에 박판(300)의 일측을 안착시키기 위해 고정 플레이트(232)에 연결되는 제1지지 플레이트(234) 및 박판(300)의 일측을 가압하여 제1지지플레이트에 고정시키기 위한 제1고정부재(236)를 포함할 수 있다.

고정 플레이트(232)는 제2지지대(220) 측을 향해 연장되도록 제1지지대(210)의 수평부에 연결될 수 있다. 이때, 고정 플레이트(232)는 금속 재질로 형성될 수 있다.

제1지지 플레이트(234)는 상부에 박판(300)의 일측을 지지하기 위한 구성으로, 고정 플레이트(232)와 적어도 일부가 중첩되도록 고정 플레이트(232)의 상부에 연결될 수 있다. 이때, 고정 플레이트(232)는 박판(300)과 접촉 시 박판(300)에 손상을 주지 않기 위해서 합성수지로 형성될 수 있으며, 예컨대 페놀계 합성수지인 베이클라이트(bakelite)로 형성될 수 있다.

제1지지 플레이트(234)는 박판(300)의 일측을 지지하기 위해서 적어도 박판(300)의 폭보다 긴 폭을 갖도록 형성될 수 있고, 박판(300)의 단부에 형성되는 제2영역의 길이 정도의 길이를 갖도록 형성될 수 있다. 그리고 제1지지 플레이트(234)는 박판(300)을 지지할 때 박판(300)의 위치 설정을 용이하게 하기 위하여 박판(300)의 폭방향으로 양쪽에 연장되는 'ㄷ'자형태로 형성될 수도 있다.

제1고정부재(236)는 제1지지 플레이트(234)에 안착되는 박판(300)의 일측을 가압할 수 있도록 고정 플레이트(232)에 설치될 수 있다. 제1고정부재(236)는 박판(300)의 제2영역(Ⅱ)에 형성된 홈부(310)의 양쪽을 가압할 수 있도록 한 쌍으로 구비될 수 있다.

제1고정부재(236)는 상하방향으로 이동 가능하도록 고정 플레이트(232)에 연결되는 제1작동부(236a)와, 박판(300)의 일측을 가압하도록 제1작동부(236a)에 연결되는 제1가압부(236b)를 포함할 수 있다. 제1작동부(236a)는 수직부와 수평부를 포함하는 대략 'ㄴ'자 형태로 형성될 수 있다. 이때, 제1작동부(236a)의 수직부는 작업자가 파지할 수 있도록 상하방향으로 연장되도록 형성되고, 박판(300)의 길이방향으로 회전할 수 있도록 힌지를 통해 고정 플레이트(232)에 연결될 수 있다. 그리고 제1작동부(236a)의 수평부는 제1작동부(236a)의 수직부의 회전방향에 따라 상하방향으로 이동할 수 있도록 제1작동부(236a)의 수직부에 연결될 수 있다. 이때, 제1작동부(236a)의 수평부는 제2지지대(220) 측을 향해 연장되도록 구비될 수 있다. 제1가압부(236b)는 박판(300)의 일측 상부면을 가압할 수있도록 제1작동부(236a)의 수평부에 연결될 수 있다. 제1가압부(236b)는 박판(300)을 가압할 때 박판(300)의 손상을 억제할 수 있도록 제1지지 플레이트(234)와 동일한 재질로 형성될 수 있다.

이와 같은 구성을 통해 제1고정부재(236)의 제1가압부(236b)는 박판(300)을 가압하지 않는 경우, 도 5의 (a)에 도시된 것처럼 상승한 상태를 유지할 수 있다. 그리고 제1고정부재(236)의 제1가압부(236b)는 박판(300)을 가압하는 경우, 도 5의 (b)에 도시된 것처럼 하강한 상태를 유지할 수 있다.

도 6을 참조하면, 제2고정부(240)는 가이드 로드(260)에 이동 가능하도록 연결되는 고정블록(242)와, 상부면에 박판(300)의 타측을 안착시키기 위해 고정블록(242)에 연결되는 제2지지 플레이트(244) 및 박판(300)의 타측을 가압하여 제2지지 플레이트(244)에 고정시키기 위한 제2고정부재(246)를 포함할 수 있다.

고정블록(242)은 금속 재질로 형성될 수 있으며, 가이드 로드(260)를 따라 이동할 수 있도록 가이드 로드(260)에 연결될 수 있다. 이때, 고정블록(242)은 제1지지대(210) 또는 제2지지대(220)와 유사한 형태로 형성될 수 있다. 즉, 고정블록(242)은 수평부와, 수평부의 양쪽에 상하방향으로 연장되는 수직부를 포함할 수 있다. 그리고 고정블록(242)의 수직부에는 가이드 로드(260)가 삽입될 수 있는 제3삽입구(243)가 형성될 수 있다. 제3삽입구(243)는 가이드 로드(260)의 개수에 대응하는 개수, 예컨대 4개로 형성될 수 있다.

그리고 고정블록(242)은 박판(300)을 인장시키기 위해 제1지지대(210)와 제2지지대(220) 사이에서 가이드 로드(260)를 따라 이동해야 하기 때문에, 지면 또는 작업대로부터 이격되도록 제1지지대(210)와 제2지지대(220)보다 낮은 높이를 가질 수 있다.

제2지지 플레이트(244)는 상부에 박판(300)의 타측을 지지하기 위한 구성으로, 고정블록(242)과 적어도 일부가 중첩되도록 고정블록(242)의 상부에 연결될 수 있다. 이때, 고정블록(242)은 박판(300)과 접촉 시 박판(300)에 손상을 주지 않기 위해서 합성수지로 형성될 수 있으며, 예컨대 페놀계 합성수지인 베이클라이트(bakelite)로 형성될 수 있다.

제2지지 플레이트(244)는 박판(300)의 타측을 지지하기 위해서 적어도 박판(300)의 폭보다 긴 폭을 갖도록 형성될 수 있고, 박판(300)의 단부에 형성되는 제2영역의 길이 정도의 길이를 갖도록 형성될 수 있다. 그리고 제2지지 플레이트(244)는 박판(300)을 지지할 때 박판(300)의 위치 설정을 용이하게 하기 위하여 박판(300)의 폭방향으로 양쪽에 연장되는 'ㄷ'자형태로 형성될 수도 있다. 이때, 제1지지 플레이트(234)와 제2지지 플레이트(244)는 박판(300)을 인장시켰을 때 박판(300)이 수평을 유지할 수 있도록 각각의 상부면이 동일한 높이를 갖도록 형성 및 배치될 수 있다.

제2고정부재(246)는 제2지지 플레이트(244)에 안착되는 박판(300)의 타측을 가압할 수 있도록 고정블록(242)에 설치될 수 있다. 제2고정부재(246)는 박판(300)의 제2영역(Ⅱ)에 형성된 홈부(310)의 양쪽을 가압할 수 있도록 한 쌍으로 구비될 수 있다. 제2고정부재(246)는 상하방향으로 이동 가능하도록 고정블록(242)에 연결되는 제2작동부(246a)와, 박판(300)의 일측을 가압하도록 제2작동부(246a)에 연결되는 제2가압부(246b)를 포함할 수 있다. 제2고정부재(246)는 제1고정부재(236)와 거의 동일한 구조로 형성되므로, 구체적인 설명은 생략하기로 한다.

이와 같은 구성을 통해 제2고정부재(246)의 제2가압부(246b)는 박판(300)을 가압하지 않는 경우, 도 6의 (a)에 도시된 것처럼 상승한 상태를 유지할 수 있다. 그리고 제2고정부재(246)의 제2가압부(246b)는 박판(300)을 가압하는 경우에는 도 6의 (b)에 도시된 것처럼 하강한 상태를 유지할 수 있다. 또한, 제2고정부(240)는 도 6의 (c)에 도시된 것처럼, 박판(300)의 타측을 가압, 즉 고정한 상태에서 제2지지대(220) 측으로 이동하여 박판(300)을 인장시킬 수 있다.

이때, 작업자가 직접 제2고정부(240)를 제2지지대(220) 측으로 이동시킬 수 있다. 이 경우, 제2고정부(240)가 이동된 위치에 고정되지 않을 수 있다. 따라서 별도의 이동부(250)를 구비하여 제2고정부(240)를 이동시키고 이동된 위치에서 고정된 상태를 유지시킬 수 있다.

이동부(250)는 제2고정부(240)에 구비되는 제1체결돌기(252)와, 제1체결돌기(252)와 마주보도록 구비되는 제2지지대(220)에 구비되는 제2체결돌기(254) 및 일측은 제2고정부(240)를 이동시킬 수 있도록 제2체결돌기(254)와 나사결합되고, 타측은 제1체결돌기(252)에 회전 가능하도록 연결되는 조절로드(256)를 포함할 수 있다.

도 3 및 도 4를 참조하면, 제1체결돌기(252)는 제2고정부(240)의 고정블록(242)에 형성될 수 있다. 제1체결돌기(252)에는 조절로드(256)를 삽입시키기 위한 제1체결구(미도시)가 형성될 수 있다. 제2체결돌기(254)에는 조절로드(256)를 삽입시키기 위한 제2체결구(미도시)가 형성될 수 있다. 그리고 조절로드(256)는 외주면에 나산산이 형성되는 봉 형상으로 형성될 수 있다. 그리고 조절로드(256)에는 조절로드(256)를 회전시키기 위한 레버(258)가 구비될 수 있다. 조절로드(256)는 제1체결구와 제2체결구에 각각 삽입될 수 있고, 이때 레버(258)는 조절로드(256)를 회전시킬 수 있도록 제2체결돌기(254) 측에 배치될 수 있다. 조절로드(256)의 일측이 삽입되는 제1체결구에는 조절로드(256)와 나사 결합할 수 있도록 나사산이 형성될 수 있다. 그리고 조절로드(256)의 타측은 제2체결구에 회전 가능하도록 연결될 수 있다. 이와 같은 구성을 통해 레버(258)를 이용하여 조절로드(256)를 회전시키면, 조절로드(256)의 회전 방향을 따라 제2고정부(240)가 가이드 로드(260)를 따라 제1지지대(210) 측 또는 제2지지대(220) 측으로 이동할 수 있다.

이와 같은 구성을 통해 이동부(250)는 박판(300)을 제1고정부(230)와 제2고정부(240)에 용이하게 지지 또는 고정시킬 수 있고, 제1고정부(230)와 제2고정부(240)에 지지되어 있는 박판(300)을 인장시킬 수 있도록 제2고정부(240)를 이동시켜 제2고정부(240)와 제2지지대(220) 사이의 거리를 조절할 수 있다.

한편, 제1고정부(230)와 제2고정부(240)는 박판(300)의 양 단부, 예컨대 제2영역(Ⅱ)을 지지 및 고정하기 때문에 박판(300)을 인장시키기 전까지 박판(300)의 제1영역(Ⅰ)은 자중에 의해 처지면서 지면 또는 작업대에 접촉할 수 있다. 이 경우 이물질 등에 의해 박판(300)이 오염될 수 있다. 따라서 제1고정부(230)와 제2고정부(240) 사이에 보조 지지플레이트(270)가 구비될 수도 있다. 보조 지지플레이트(270)는 박판(300)을 제1고정부(230)와 제2고정부(240)에 고정하는 과정에서 박판(300)의 하부에서 박판(300)이 지면 또는 작업대에 접촉하지 않게 지지할 수 있을 정도의 크기를 갖도록 형성될 수 있다. 단, 보조 지지플레이트(270)는 가이드 로드(260) 사이에 배치될 수 있을 정도의 폭을 갖도록 형성될 수 있다. 그리고 보조 지지플레이트(270)는 적어도 제1지지 플레이트(234) 또는 제2지지 플레이트(244)의 높이보다 낮은 높이를 갖도록 형성될 수 있다. 보조 지지플레이트(270)의 높이가 제1지지 플레이트(234) 또는 제2지지 플레이트(244)의 높이보다 높은 경우에는 박판(300)을 인장시켰을 때 보조 지지플레이트(270)에 의해 박판(300)이 휘어질 수 있기 때문이다.

이와 같은 보조 지지플레이트(270)는 박판(300)을 제1고정부(230)와 제2고정부(240)에 고정시키는 과정에서 사용될 수 있다. 그리고 박판(300)을 이동시키거나 처리하는 과정에서는 박판(300) 하부에서 보조 지지플레이트(270)를 제거할 수 있다.

도 7은 본 발명의 변형 예에 따른 박판 지지장치의 사시도이다.

본 발명의 변형 예에 따른 박판 지지장치는, 제1지지 플레이트(234), 제2지지 플레이트(244) 및 보조 지지플레이트(270)의 형상을 제외하고 앞서 설명한 실시 예에 따른 박판 지지장치와 거의 동일한 구성을 가질 수 있다.

도 7을 참조하면, 제1지지 플레이트(234)와 제2지지 플레이트(244)는 박판(300)이 안착되는 상부면에 정렬 돌기(244a)가 형성될 수 있다. 정렬 돌기(244a)는 박판(300)의 양 단부, 즉 제2영역(Ⅱ)에 형성된 홈부(310)와 맞물려질 수 있는 형태로 형성될 수 있다. 정렬 돌기(244a)는 박판(300)을 제1고정부(230)와 제2고정부(240)에 지지 또는 고정시킬 때 제1지지 플레이트(234) 및 제2지지 플레이트(244)에서 박판(300)의 위치를 정확하게 설정해주는 역할을 할 수 있다. 이에 박판(300)을 제1고정부(230) 및 제2고정부(240)에 지지 또는 고정한 후 인장시켰을 박판(300)의 양단부가 서로 어긋나서 박판(300)의 중심부가 비틀어지는 등의 문제가 발생하는 것을 억제 혹은 방지할 수 있다.

그리고 보조 지지플레이트(270)의 상부면에는 가이드 로드(260)의 일부가 삽입될 수 있는 삽입홈(270a)이 형성될 수 있다. 이와 같은 구성을 통해 보조 지지플레이트(270)는 가이드 로드(260)에 의해 구속되어 이동이 제한될 수 있다. 이는 박판(300)을 제1고정부(230) 및 제2고정부(240)에 지지하는 과정에서 제1지지대(210)나 제2지지대(220)가 움직이면 박판(300)과 보조 지지플레이트(270) 간에 마찰이 발생하여 박판(300)이 손상될 수 있기 때문이다.

이하에서는 본 발명의 실시 예에 따른 박판 지지장치를 이용하여 박판을 지지 또는 고정시키는 과정에 대해서 설명한다.

도 8 및 도 9는 본 발명의 실시 예에 따른 박판 지지장치를 이용하여 박판을 지지하는 과정을 순차적으로 보여주는 도면이다.

먼저, 박판(300), 예컨대 유기물층을 증착하기 위한 패턴이 형성된 마스크 스틱을 마련할 수 있다. 이렇게 마련된 박판(300)은 세정 등과 같은 처리를 위해 세정공정이 이루어지는 장소로 이송될 수 있다. 이때, 박판(300)을 인장한 상태로 처리하기 위하여 지지장치(200)에 지지 또는 고정시킬 수 있다.

박판(300)은 정전척 등과 같은 이송기구를 이용하여 지지장치(200)가 설치된 장소로 이송될 수 있다.

박판(300)이 이송되면, 박판(300)을 지지장치(200)의 상부에 안착시킬 수 있다. 박판(300)은 지지장치(200)의 상부, 즉 가이드 로드(260) 사이에 형성되는 공간에 안착될 수 있다. 이때, 가이드 로드(260) 사이에는 보조 지지플레이트(270)가 배치될 수 있다.

이후, 도 8의 (a)에 도시된 바와 같이 박판(300)의 일측을 제1고정부(230)의 제1지지 플레이트(234) 상부에 안착시킬 수 있다. 이때, 제1고정부재(236)의 제1가압부(236b)와 제2고정부재(246)의 제2가압부(246b)는 상승한 상태를 유지할 수 있다. 그리고 박판(300)을 용이하게 고정할 수 있도록 제1고정부(230)와 제2고정부(240) 사이의 거리는 박판(300)의 길이보다 짧은 거리를 유지할 수 있다.

제1지지 플레이트(234) 상부에 박판(300)의 일측이 안착되면, 도 8의 (b)에 도시된 바와 같이 제1작동부(236a)를 이용하여 제1가압부(236b)를 하강시킴으로써 박판(300)의 일측을 가압할 수 있다. 이에 박판(300)의 일측은 제1고정부(230), 즉 제1지지 플레이트(234)에 지지 또는 고정될 수 있다.

박판(300)의 일측이 지지 또는 고정되면, 도 9의 (a)에 도시된 바와 같이 제2고정부(240)를 제2작동부(246a)를 이용하여 제2가압부(246b)를 하강시킴으로써 박판(300)의 타측을 가압할 수 있다. 이에 박판(300)의 타측은 제2고정부(240), 즉 제2지지 플레이트(244)에 지지 또는 고정될 수 있다.

박판(300)의 양쪽이 제1고정부(230) 및 제2고정부(240)에 지지 또는 고정되면, 이동부(250)의 레버(258)를 회전시켜 제2고정부(240)를 제2지지대(220) 측으로 이동시킨다. 이때, 박판(300)이 인장되어 판판하게 펴질 때까지 레버(258)를 회전시킬 수 있다. 레버(258)의 회전을 중단시키면 박판(300)은 인장된 상태로 제1고정부(230) 및 제2고정부(240)에 지지될 수 있다.

이후, 작업자는 파지부(214, 224)를 이용하여 지지장치(200)를 들어서 박판(300)의 처리 장소, 예컨대 세정공정이 이루어지는 장소로 이송한 후 세정 공정을 수행하기 위해 마련된 용기(100)의 내부에 지지장치(200)를 넣을 수 있다. 이때, 작업자는 지지장치(200)를 용기(100)의 내부에 형성된 안착부(110)에 안착시킬 수 있다.

박판(300)을 세정 용액에 침지시켜 세정하는 경우에는, 용기(100) 내부에 세정 용액을 마련해놓을 수 있으며, 이 경우 세정 용액은 적어도 박판(300)이 침지될 정도로 용기(100) 내부에 수용되어 있을 수 있다.

그리고 박판(300)에 세정 용액을 분사하는 방식으로 세정하는 경우에는, 용기(100)의 상부에서 세정 용액을 박판(300)에 분사하면서 세정 공정을 수행할 수 있다.

이와 같이 박판을 인장된 상태로 처리하면, 박판을 세정 용액에 침지시키거나 박판에 세정 용액을 분사할 때 발생하는 압력으로 인해 박판이 변형되거나 손상되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 박판에 부착되어 있는 이물질을 효과적으로 제거할 수 있다.

본 발명을 첨부 도면과 전술된 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였으나, 본 발명은 그에 한정되지 않으며, 후술되는 특허청구범위에 의해 한정된다. 따라서, 본 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 후술되는 특허청구범위의 기술적 사상에서 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 변형 및 수정할 수 있다.

100: 용기 200: 지지장치
210: 제1지지대 220: 제2지지대
230: 제1고정부 240: 제2고정부
250: 이동부 260: 가이드 로드
270: 보조 지지플레이트
300: 박판

Claims

박판을 지지하기 위한 지지장치로서,
제1지지대;
상기 제1지지대와 이격되어 구비되는 제2지지대;
사이에 상기 박판을 배치할 수 있도록, 상기 제1지지대 및 상기 제2지지대에 서로 나란하게 연결되는 적어도 한 쌍의 가이드 로드;
상기 박판의 일측을 고정할 수 있도록 상기 제1지지대에 연결되는 제1고정부; 및
상기 박판의 타측을 고정할 수 있고, 상기 박판을 인장시킬 수 있도록 상기 가이드 로드에 이동 가능하게 연결되는 제2고정부;를 포함하는 박판 지지장치.
청구항 1에 있어서,
상기 제2지지대는 상기 가이드 로드에 이동 가능하도록 연결되는 박판 지지장치.
청구항 2에 있어서,
상기 제1지지대와 상기 제2지지대에 각각 연결되는 파지부를 더 포함하는 박판 지지장치.
청구항 3에 있어서,
상기 제2지지대의 이동을 제한하기 위한 스토퍼를 더 포함하는 박판 지지장치.
청구항 4에 있어서,
상기 제2고정부를 이동시키기 위한 이동부를 더 포함하는 박판 지지장치.
청구항 5에 있어서,
상기 이동부는,
상기 제2고정부에 구비되는 제1체결돌기;
상기 제1체결돌기와 마주보도록 구비되는 상기 제2지지대에 구비되는 제2체결돌기; 및
일측은 상기 제2고정부를 이동시킬 수 있도록 상기 제2체결돌기와 나사결합되고, 타측은 상기 제1체결돌기에 회전 가능하도록 연결되는 조절로드;를 포함하는 박판 지지장치.
청구항 6에 있어서,
상기 제1고정부는,
상기 제1지지대에 연결되는 고정 플레이트;
상부면에 상기 박판의 일측을 안착시키기 위해 상기 고정 플레이트에 연결되는 제1지지플레이트; 및
상기 박판의 일측을 가압하여 상기 제1지지플레이트에 고정시키기 위한 제1고정부재;를 포함하는 박판 지지장치.
청구항 7에 있어서,
상기 제2고정부는,
상기 가이드 로드에 이동 가능하도록 연결되는 고정블록;
상부면에 상기 박판의 타측을 안착시키기 위해 상기 고정블록에 연결되는 제2지지플레이트; 및
상기 박판의 타측을 가압하여 상기 제2지지플레이트에 고정시키기 위한 제2고정부재;를 포함하는 박판 지지장치.
청구항 8에 있어서,
상기 박판을 지지할 수 있도록 상기 제1고정부와 상기 제2고정부의 사이에 배치 가능한 보조 지지플레이트를 더 포함하는 박판 지지장치.
청구항 9에 있어서,
상기 보조 지지플레이트는 상기 가이드 로드와 결합 가능하도록 형성되는 박판 지지장치.
청구항 10에 있어서,
상기 제1지지플레이트, 상기 제2지지플레이트, 상기 보조 지지플레이트, 제1고정부재 및 상기 제2고정부재에서 적어도 상기 박판과 접촉하는 영역을 합성수지로 형성하는 박판 지지장치.
청구항 11에 있어서,
상기 제1지지플레이트와 상기 제2지지플레이트의 상부면에는 상기 박판을 정렬하기 위한 정렬 돌기가 구비되는 박판 지지장치.
청구항 1 내지 12 중 어느 한 항에 의한 지지장치; 및
내부에 상기 지지장치를 수용할 수 있는 공간을 제공하고, 상기 지지장치를 안착시킬 수 있는 안착부를 구비하는 용기;를 포함하는 박판 처리 장치.
청구항 13에 있어서,
상기 안착부는,
상기 박판의 저면과 상기 용기의 내부 바닥면 사이에 공간을 형성할 수 있도록 상기 용기의 내벽에 돌출되어 구비되는 박판 처리 장치.