KR20200078084A - 프론트 엔드 모듈 - Google Patents

프론트 엔드 모듈 Download PDF

Info

Publication number
KR20200078084A
KR20200078084A KR1020180167660A KR20180167660A KR20200078084A KR 20200078084 A KR20200078084 A KR 20200078084A KR 1020180167660 A KR1020180167660 A KR 1020180167660A KR 20180167660 A KR20180167660 A KR 20180167660A KR 20200078084 A KR20200078084 A KR 20200078084A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
filter
pass
bandwidth
filters
band
Prior art date
Application number
KR1020180167660A
Other languages
English (en)
Inventor
박타준
정원규
김성태
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020180167660A priority Critical patent/KR20200078084A/ko
Priority to US16/416,505 priority patent/US20200204157A1/en
Priority to CN201910776907.XA priority patent/CN111355471B/zh
Publication of KR20200078084A publication Critical patent/KR20200078084A/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/70Multiple-port networks for connecting several sources or loads, working on different frequencies or frequency bands, to a common load or source
    • H03H9/703Networks using bulk acoustic wave devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P1/00Auxiliary devices
    • H01P1/20Frequency-selective devices, e.g. filters
    • H01P1/213Frequency-selective devices, e.g. filters combining or separating two or more different frequencies
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/05Holders; Supports
    • H03H9/10Mounting in enclosures
    • H03H9/1007Mounting in enclosures for bulk acoustic wave [BAW] devices
    • H03H9/1014Mounting in enclosures for bulk acoustic wave [BAW] devices the enclosure being defined by a frame built on a substrate and a cap, the frame having no mechanical contact with the BAW device
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H7/00Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
    • H03H7/01Frequency selective two-port networks
    • H03H7/12Bandpass or bandstop filters with adjustable bandwidth and fixed centre frequency
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02007Details of bulk acoustic wave devices
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/05Holders; Supports
    • H03H9/10Mounting in enclosures
    • H03H9/1007Mounting in enclosures for bulk acoustic wave [BAW] devices
    • H03H9/105Mounting in enclosures for bulk acoustic wave [BAW] devices the enclosure being defined by a cover cap mounted on an element forming part of the BAW device
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/547Notch filters, e.g. notch BAW or thin film resonator filters
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/56Monolithic crystal filters
    • H03H9/562Monolithic crystal filters comprising a ceramic piezoelectric layer
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/56Monolithic crystal filters
    • H03H9/564Monolithic crystal filters implemented with thin-film techniques
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/56Monolithic crystal filters
    • H03H9/566Electric coupling means therefor
    • H03H9/568Electric coupling means therefor consisting of a ladder configuration
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/58Multiple crystal filters
    • H03H9/582Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/58Multiple crystal filters
    • H03H9/582Multiple crystal filters implemented with thin-film techniques
    • H03H9/586Means for mounting to a substrate, i.e. means constituting the material interface confining the waves to a volume
    • H03H9/588Membranes
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/58Multiple crystal filters
    • H03H9/60Electric coupling means therefor
    • H03H9/605Electric coupling means therefor consisting of a ladder configuration
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B1/00Details of transmission systems, not covered by a single one of groups H04B3/00 - H04B13/00; Details of transmission systems not characterised by the medium used for transmission
    • H04B1/06Receivers
    • H04B1/16Circuits
    • H04B1/18Input circuits, e.g. for coupling to an antenna or a transmission line
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B1/00Details of transmission systems, not covered by a single one of groups H04B3/00 - H04B13/00; Details of transmission systems not characterised by the medium used for transmission
    • H04B1/38Transceivers, i.e. devices in which transmitter and receiver form a structural unit and in which at least one part is used for functions of transmitting and receiving
    • H04B1/40Circuits
    • H04B1/44Transmit/receive switching
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H2210/00Indexing scheme relating to details of tunable filters
    • H03H2210/03Type of tuning
    • H03H2210/036Stepwise

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 프론트 엔드 모듈은, 순차적으로 적층되는 제1 전극, 압전층, 및 제2 전극을 포함하는 적어도 하나의 체적 음향 공진기를 각각 구비하고, 서로 다른 통과 대역을 담당하는 복수의 필터를 포함하는 필터부; 및 상기 복수의 필터 중 하나와 선택적으로 연결되어, 무선 주파수 신호의 경로를 형성하는 스위치부; 를 포함하고, 상기 서로 다른 통과 대역 중 인접하는 두 개의 통과 대역 중 하나의 통과 대역의 일부 주파수 대역과 다른 하나의 통과 대역의 일부 주파수 대역은 서로 중첩될 수 있다.

Description

프론트 엔드 모듈{FRONT END MODULE}
본 발명은 프론트 엔드 모듈에 관한 것이다.
최근 이동통신기기, 화학 및 바이오기기 등의 급속한 발달에 따라, 이러한 기기에서 사용되는 소형 경량필터, 오실레이터(Oscillator), 공진소자(Resonant element), 음향공진 질량센서(Acoustic Resonant Mass Sensor) 등의 수요도 증대하고 있다.
이러한 소형 경량필터, 오실레이터, 공진소자, 음향공진 질량센서 등을 구현하는 수단으로는 박막 체적 음향 공진기(FBAR: Film Bulk Acoustic Resonator)가 알려져 있다. 박막 체적 음향 공진기는 최소한의 비용으로 대량 생산이 가능하며, 초소형으로 구현할 수 있다는 장점이 있다. 또한, 필터의 주요한 특성인 높은 품질 계수(Quality Factor: Q)값을 구현하는 것이 가능하고, 수 GHz 주파수 대역에서도 사용이 가능하다.
일반적으로, 박막 체적 음향 공진기는 기판상에 제1 전극, 압전층(Piezoelectric layer) 및 제2 전극을 차례로 적층하여 구현되는 공진부를 포함하는 구조로 이루어진다. 박막 체적 음향 공진기의 동작원리를 살펴보면, 먼저 제1 및 2 전극에 인가되는 전기에너지에 의해 압전층 내에 전계가 유기되고, 유기된 전계에 의해 압전층에서 압전 현상이 발생하여 공진부가 소정 방향으로 진동한다. 그 결과, 진동방향과 동일한 방향으로 음향파(Bulk Acoustic Wave)가 발생하여 공진을 일으키게 된다.
미국공개특허공보 제2008-0081398호
본 발명의 과제는 고성능의 광대역 특성 및 우수한 감쇄 특성을 가지는 필터를 포함하는 프론트 엔드 모듈을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 프론트 엔드 모듈은, 순차적으로 적층되는 제1 전극, 압전층, 및 제2 전극을 포함하는 적어도 하나의 체적 음향 공진기를 각각 구비하고, 서로 다른 통과 대역을 담당하는 복수의 필터를 포함하는 필터부; 및 상기 복수의 필터 중 하나와 선택적으로 연결되어, 무선 주파수 신호의 경로를 형성하는 스위치부; 를 포함하고, 상기 서로 다른 통과 대역 중 인접하는 두 개의 통과 대역 중 하나의 통과 대역의 일부 주파수 대역과 다른 하나의 통과 대역의 일부 주파수 대역은 서로 중첩될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 프론트 엔드 모듈에 따르면, 차세대 이동통신의 폭 넓은 주파수 대역을 커버하면서도, 설계된 채널 간의 간섭을 줄일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 필터를 나타낸 단면도이다.
도 2은 체적 음향 공진기를 포함하는 필터의 예시적인 회로도이다.
도 3는 도 2의 필터의 주파수 응답을 나타낸다.
도 4은 본 발명의 일 실시예에 따른 프론트 엔드 모듈의 회로도이다.
도 5은 본 발명의 일 실시예에 따른 프론트 엔드 모듈의 회로도이다.
도 6는 도 5의 프론트 엔드 모듈의 복수의 필터가 담당하는 통과 대역을 나타낸다.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.
이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 필터를 나타낸 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 필터(10)는 적어도 하나의 체적 음향 공진기(100) 및 캡(200)을 포함할 수 있다. 도 1에서, 필터(10)가 두 개의 체적 음향 공진기(100)를 포함하는 것으로 도시되어 있으나, 실시예에 따라 필터(10)는 하나의 체적 음향 공진기(100) 또는 세 개 이상의 체적 음향 공진기(100)를 포함할 수 있다. 체적 음향 공진기(100)는 박막 체적 음향파 공진기(Film Bulk Acoustic Resonator: FBAR)일 수 있다.
체적 음향 공진기(100)는 복수의 막으로 구성되는 적층 구조체에 의해 구성될 수 있다. 체적 음향 공진기(100)를 구성하는 적층 구조체는 기판(110), 절연층(115), 에어 캐비티(133), 지지부(134), 보조 지지부(135), 및 제1 전극(140), 압전층(150)과 제2 전극(160)으로 이루어진 공진부(155)를 포함할 수 있고, 추가적으로 보호층(170) 및 금속층(180)을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 체적 음향 공진기(100)의 제조 공정에 대해 설명하면, 절연층(115) 상에 희생층을 형성하고, 희생층의 일부를 제거하여, 지지부(134)가 마련되는 패턴을 형성한다. 여기서, 보조 지지부(135)는 잔존하는 희생층에 의해 형성된다. 희생층에 형성되는 패턴의 상면의 폭은 하면의 폭 보다 넓을 수 있고, 상면과 하면을 연결하는 패턴의 측면은 경사질 수 있다. 희생층에 패턴을 형성한 후에, 희생층 및 패턴에 의해 외부로 노출된 절연층(115) 상에 멤브레인(130)을 형성한다. 멤브레인(130)을 형성한 후에, 멤브레인(130)을 덮도록 지지부(134) 형성의 기초가 되는 식각 저지 물질을 형성한다.
식각 저지 물질을 형성한 후에, 희생층 상면에 형성된 멤브레인(130)이 외부로 노출되도록 식각 저지 물질의 일면은 평탄화 된다. 식각 저지 물질의 일면이 평탄화되는 공정에서 식각 저지 물질의 일부는 제거되고, 일부가 제거된 후에 패턴 내부에서 잔존하는 식각 저지 물질에 의해 지지부(134)가 형성될 수 있다. 식각 저지 물질의 평탄화 과정의 결과, 지지부(134) 및 희생층의 일면은 대략 평탄할 수 있다. 여기서, 멤브레인(130)은 식각 저지 물질의 평탄화 공정의 정지층(Stop layer)으로 기능할 수 있다.
이후, 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160) 등을 적층한 후에 희생층을 식각하여 제거하는 식각 공정에 의해 에어 캐비티(133)가 형성될 수 있다. 일 예로, 희생층은 다결정 실리콘(Poly-Si)을 포함할 수 있다. 에어 캐비티(133)는 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)으로 구성되는 공진부(155)가 소정 방향으로 진동할 수 있도록 공진부의 하부에 위치할 수 있다.
기판(110)은 실리콘 기판으로 구성될 수 있고, 기판(110)의 상면에는 기판(110)에 대하여 공진부(155)를 전기적으로 격리시키는 절연층(115)이 마련될 수 있다. 절연층(115)은 이산화규소(SiO2), 실리콘 나이트라이드(Si3N4), 산화 알루미늄(Al2O2), 및 질화알루미늄(AlN) 중 적어도 하나로 형성 될 수 있으며, 화학 기상 증착 (Chemical vapor deposition), RF 마그네트론 스퍼터링(RF Magnetron Sputtering), 또는 에바포레이션(Evaporation)하여 기판(110) 상에 형성될 수 있다.
절연층(115) 상에는 식각 저지층이 추가적으로 형성될 수 있다. 식각 저지층은 식각 공정으로부터 기판(110) 및 절연층(115)을 보호하는 역할을 하고, 식각 저지층 상에 다른 여러 층이 증착되는데 필요한 기단 역할을 할 수 있다.
절연층(115) 상에는 에어 캐비티(133), 및 지지부(134)가 형성될 수 있다. 상술한 바와 같이, 에어 캐비티(133)는 절연층(115) 상에 희생층을 형성하고, 희생층에 지지부(134)가 마련되는 패턴을 형성한 후, 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160) 등을 적층한 후에 희생층을 에칭하여 제거하는 식각 공정에 의해 형성될 수 있다.
에어 캐비티(133)는 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)으로 구성되는 공진부(155)가 소정 방향으로 진동할 수 있도록 공진부(155)의 하부에 위치할 수 있다. 에어 캐비티(133)의 일 측에는 지지부(134)가 마련될 수 있다.
지지부(134)의 두께는 에어 캐비티(133)의 두께와 동일할 수 있다. 따라서, 에어 캐비티(133)와 지지부(134)에 의해 제공되는 상면은 대략 평탄할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 단차가 제거된 평탄한 면 상에 공진부(155)가 배치되어, 체적 음향 공진기의 삽입 손실 및 감쇄 특성을 개선할 수 있다.
지지부(134)의 단면은 대략 사다리꼴 형상일 수 있다. 구체적으로 지지부(134)의 상면의 폭은 하면의 폭보다 넓을 수 있고, 상면과 하면을 연결하는 측면은 경사질 수 있다. 지지부(134)는 희생층을 제거하기 위한 식각 공정에서 식각되지 않는 물질로 형성될 수 있다. 일 예로, 지지부(134)는 절연층(115)과 동일한 물질로 형성될 수 있고, 구체적으로, 지지부(134)는 이산화규소(SiO2) 및 질화 실리콘(Si3N4) 중 하나 또는 이들의 조합으로 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 지지부(134)의 측면을 경사지게 형성하여 지지부(134)와 희생층의 경계에서 가파른(Abrupt) 단차가 발생하는 것을 방지하고, 지지부(134)의 하면의 폭을 좁게 형성하여 디슁(Dishing) 현상이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 일 예로, 지지부(134)의 하면과 측면이 이루는 각도는 110° ~ 160° 일 수 있고, 지지부(134)의 하면의 폭은 2㎛ ~ 30㎛일 수 있다.
지지부(134)의 외측으로 보조 지지부(135)가 마련될 수 있다. 보조 지지부(135)는 지지부(134)와 동일한 물질로 형성될 수 있고, 또한, 지지부(134)와 서로 다른 물질로 형성될 수 있다. 일 예로, 보조 지지부(135)가 지지부(134)와 서로 다른 물질로 형성되는 경우, 보조 지지부(135)는 절연층(115) 상에 형성되는 희생층 중 식각 공정 이후에 잔존하는 일 부분에 대응할 수 있다.
공진부(155)는 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)을 포함할 수 있다. 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)의 수직 방향으로 중첩된 공통 영역은 에어 캐비티(133)의 상부에 위치할 수 있다. 제1 전극(140) 및 제2 전극(160)은 금(Au), 티타늄(Ti), 탄탈(Ta), 몰리브덴(Mo), 루테늄(Ru), 백금(Pt), 텅스텐(W), 알루미늄(Al), 이리듐(Ir) 및 니켈(Ni) 중 하나 또는 이들의 합금으로 형성될 수 있다. 압전층(150)은 전기적 에너지를 탄성파 형태의 기계적 에너지로 변환하는 압전 효과를 일으키는 부분으로, 산화아연(ZnO), 질화알루미늄(AlN), 도핑 알루미늄 질화물(Doped Aluminum Nitride), 지르콘 티탄산 납(Lead Zirconate Titanate), 쿼츠(Quartz) 등이 선택적으로 이용될 수 있다. 도핑 알루미늄 질화물(Doped Aluminum Nitride) 경우 희토류 금속(Rare earth metal) 전이 금속, 또는 알칼리 토금속(alkaline earth metal)을 더 포함할 수 있다. 일 예로, 상기 희토류 금속은 스칸듐(Sc), 에르븀(Er), 이트륨(Y), 및 란탄(La) 중 적어도 하나를 포함할 수 있고 희토류 함량은 1~20at%를 포함할 수 있다. 상기 전이 금속은 하프늄(Hf), 티타늄(Ti), 지르코늄(Zr), 탄탈(Ta), 및 니오븀(Nb) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한 알칼리 토금속은 마그네슘(Mg)을 포함할 수 있다.
멤브레인(130)은 캐비티(133)를 형성하는 과정에서 쉽게 제거되지 않는 재질로 형성된다. 예를 들어, 캐비티(133)를 형성하기 위하여, 희생층의 일부를 제거하기 위해 불소(F), 염소(Cl) 등의 할라이드계 에칭가스를 이용하는 경우, 멤브레인(130)은 상기 에칭가스와 반응성이 낮은 재질로 이루어질 수 있다. 이 경우, 멤브레인(130)은 이산화규소(SiO2), 질화규소(Si3N4) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 멤브레인(130)은 산화마그네슘(MgO), 산화지르코늄(ZrO2), 질화알루미늄(AlN), 티탄산 지르콘산 연(PZT), 갈륨비소(GaAs), 산화하프늄(HfO2), 산화알루미늄(Al2O3), 산화티타늄(TiO2), 산화아연(ZnO) 중 적어도 하나의 재질을 함유하는 유전체층(Dielectric layer)으로 이루어지거나, 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 백금(Pt), 갈륨(Ga), 하프늄(Hf) 중 적어도 하나의 재질을 함유하는 금속층으로 이루어질 수 있다.
실시예에 따라, 멤브레인(130) 상에는 질화알루미늄(AlN)으로 제조되는 시드층이 형성될 수 있다. 구체적으로, 시드층은 멤브레인(130)과 제1 전극(140) 사이에 배치될 수 있다. 시드층은 질화알루미늄(AlN) 이외에도 HCP 구조를 가지는 유전체 또는 금속을 이용하여 형성될 수 있다. 금속일 경우 예를 들어, 시드층은 티타늄(Ti)으로 형성될 수 있다.
보호층(170)은 제2 전극(160) 상에 배치되어, 제2 전극(160)이 외부에 노출되는 것을 방지할 수 있다. 보호층(170)은 실리콘 옥사이드 계열, 실리콘 나이트라이드 계열 및 알루미늄 나이트라이드 계열, 알루미늄 옥사이드 계열 중의 하나의 절연 물질로 형성될 수 있다. 외부로 노출된 제1 전극(140) 및 제2 전극(160) 상에는 금속층(180)이 형성될 수 있다.
공진부(155)는 활성 영역과 비활성 영역으로 구획될 수 있다. 공진부(155)의 활성 영역은 제1 전극(140) 및 제2 전극(160)에 무선 주파수 신호와 같은 전기 에너지가 인가되는 경우 압전층(150)에서 발생하는 압전 현상에 의해 소정 방향으로 진동하여 공진하는 영역으로, 에어 캐비티(133) 상부에서 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)이 수직 방향으로 중첩된 영역에 해당한다. 공진부(155)의 비활성 영역은 제1 전극(140) 및 제2 전극(160)에 전기 에너지가 인가되더라도 압전 현상에 의해 공진하지 않는 영역으로, 활성 영역 외측의 영역에 해당한다.
공진부(155)는 압전 현상을 이용하여 특정 주파수를 가지는 무선 주파수 신호를 출력한다. 구체적으로 공진부(155)는 압전층(150)의 압전 현상에 따른 진동에 대응하는 공진 주파수를 가지는 무선 주파수 신호를 출력할 수 있다.
캡(200)은 복수의 체적 음향 공진기(100)를 형성하는 적층 구조체와 접합될 수 있다. 캡(200)은 복수의 체적 음향 공진기(100)가 수용되는 내부 공간을 구비하는 커버 형태로 형성될 수 있다. 캡(200)은 하면이 개방된 육면체 형상으로 형성될 수 있고, 따라서, 상부 및 상부와 연결되는 복수의 측부를 포함할 수 있다.
캡(200)은 복수의 체적 음향 공진기(100)의 공진부(155)를 수용할 수 있도록 중앙에 수용부가 형성될 수 있다, 적층 구조체는 접합 영역에서 복수의 측부와 접합할 수 있고, 적층 구조체의 접합 영역은 적층 구조체의 가장자리에 해당할 수 있다. 캡(200)은 기판(110) 상에 적층되는 기판(110)과 접합될 수 있다. 또한, 이외에도, 캡(200)은 보호층(170), 멤브레인(130), 및 절연층(115), 제1 전극(140), 압전층(150), 제2 전극(160), 금속층(180) 중 적어도 하나와 접합될 수 있다.
도 2은 체적 음향 공진기를 포함하는 필터의 예시적인 회로도이고, 도 3는 도 2의 필터의 주파수 응답을 나타낸다.
도 2을 참조하면, 필터(10)는 제1 포트(P1)와 제2 포트(P2) 사이에 배치되는 시리즈 공진기(SE) 및 시리즈 공진기(SE)와 접지 사이에 배치되는 션트 공진기(SH)를 포함할 수 있다. 시리즈 공진기(SE) 및 션트 공진기(SH)는 도 1에 도시된 체적 음향 공진기에 대응될 수 있다.
도 2에서, 하나의 시리즈 공진기(SE) 및 하나의 션트 공진기(SH)가 도시되어 있으나, 실시예에 따라, 제1 포트(P1)와 제2 포트(P2) 사이에는 복수의 시리즈 공진기(SE)가 배치되고, 시리즈 공진기(SE) 각각와 접지 사이에 서로 다른 복수의 션트 공진기(SH)가 배치될 수 있다. 또한, 도 2에서 필터(10)가 시리즈 공진기(SE) 및 션트 공진기(SH)를 포함하여, 래더 타입으로 구성되는 것으로 도시되어 있으나, 실시예에 따라, 필터(10)는 래티스 타입으로 구성될 수 있다.
도 3를 참조하면, 제1 그래프(Graph 1)는 시리즈 공진기(SE)에 의한 주파수 응답(Z, Impedance)을 나타내고, 제2 그래프(Graph2)는 션트 공진기(SH)에 의한 주파수 응답(Z, Impedancece)을 나타내고, 제3 그래프(Graph 3)는 시리즈 공진기(SE) 및 션트 공진기(SH)를 포함하는 필터에 의한 주파수 응답(S-parameter)을 나타낸다.
시리즈 공진기(SE)에 의한 주파수 응답은 공진 주파수(fr_SE) 및 반공진 주파수(fa_SE)를 가지고, 션트 공진기(SH)에 의한 주파수 응답은 공진 주파수(fr_SH) 및 반공진 주파수(fa_SH)를 가진다.
필터(10)의 주파수 응답을 참조하면, 필터의 통과 대역(Pass band) 및 대역폭(Band width)은 시리즈 공진기(SE)의 반공진 주파수(fa_SE)와 션트 공진기(SH)의 공진 주파수(fr_SH)에 따라 결정된다.
5세대(5G) 통신은 기존 LTE(Long Term Evolution) 통신 대비 더 많은 대용량의 데이터와 더 빠른 데이터 전송 속도로 더 많은 기기들을 효율적으로 연결할 것으로 기대되고 있다.
5세대 통신에서, 사용되는 주파수의 대역폭은 수백MHz 수준으로 매우 넓으나, 실제 채널당 할당되는 대역폭은 최대 100MHz 수준으로 상대적으로 좁은 실정이다. 따라서, 전체 대역폭이 넓어지고, 채널 간의 폭이 줄어듦에 따라, 고성능의 광대역 특성 및 우수한 감쇄 특성을 가지는 필터가 요구되고 있다.
구체적으로, LTE 통신 대역 중 가장 넓은 대역폭을 가지는 n41(2.496~2.690GHz) 대역의 경우 BW/fc(Bandwidth/Center frequency)는 0.0748에 해당하고, 5세대 통신의 n77(3.3~4.2GHz) 대역의 경우 BW/fc는 0.24에 해당하고, 5세대 통신의 n79(4.4~5.0GHz) 대역의 경우 BW/fc는 0.128에 해당한다. n41(2.496~2.690GHz) 대역, n77(3.3~4.2GHz) 대역, n79(4.4~5.0GHz) 대역을 비교하면, 5세대 통신의 n77(3.3~4.2GHz) 대역, n79(4.4~5.0GHz) 대역이, LTE 통신의 n41(2.496~2.690GHz) 대역 보다 높은 광대역 특성을 구비하여야 함을 알 수 있다.
광대역 특성이 요구될수록, 압전 결합 계수(piezoelectric coupling coefficient, kt2)가 커지는 것이 바람직하나, 압전 결합 계수의 상승을 위하여, 체적 음향 공진기의 압전층의 불순물 농도를 증가시키는 것은 한계가 있기 때문에, 광대역 필터를 제작시에, 성능 열화가 필연적으로 수반되게 된다.
본 발명의 일 실시예에 따른 프론트 엔드 모듈은 서로 다른 통과 대역을 가지는 복수의 필터를 조합하여, 5세대 이동통신의 전체 통과 대역을 지원하되, 서로 다른 통과 대역을 가지는 복수의 필터를 선택적으로 연결하여, 설계된 채널의 통과 대역을 각각 담당함으로써, 고성능의 광대역 특성 및 우수한 감쇄 특성을 구현할 수 있다.
도 4은 본 발명의 일 실시예에 따른 프론트 엔드 모듈의 회로도이다.
도 4을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 프론트 엔드 모듈은 제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B)를 포함하고, 제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B)와 선택적으로 연결되는 제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)를 포함할 수 있다.
제1 필터(10A), 및 제2 필터(10B)는 필터부를 구성할 수 있고, 제1 필터(10A), 및 제2 필터(10B) 각각은 대역 통과 필터를 포함할 수 있다. 일 예로, 제1 필터(10A), 및 제2 필터(10B)는 도 2의 필터(10)를 포함할 수 있고, 따라서, 제1 필터(10A), 및 제2 필터(10B) 각각은 적어도 하나의 체적 음향 공진기를 포함할 수 있다. 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)는 하나의 칩(one-chip)에 의해 구현될 수 있다.
제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B)는 서로 다른 통과 대역(Pass band)를 가질 수 있다. 일 예로, 제1 필터(10A)의 통과 대역은 제2 필터(10B)의 통과 대역 보다 낮은 주파수 대역에 형성될 수 있다.
제1 필터(10A)의 통과 대역과 제2 필터(10B)의 통과 대역은 일부 주파수 대역이 중첩될 수 있다. 따라서, 제1 필터(10A)의 상한 주파수는 제2 필터(10B)의 하한 주파수 보다 높은 주파수 대역에 위치할 수 있다.
제1 필터(10A)의 통과 대역 및 제2 필터(10B)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭은, 제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B)가 지원하는 복수의 채널의 대역폭에 따라 결정될 수 있다.
구체적으로, 제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B)가 5세대 통신의 n77(3.3~4.2GHz) 대역을 담당하는 것으로 가정하면, n77(3.3~4.2GHz) 대역은 다양한 대역폭을 가지는 복수의 채널을 가질 수 있다. 예를 들어, n77(3.3~4.2GHz) 대역은 10MHz, 20MHz, 40MHz, 50MHz, 60MHz, 80MHz, 및 100MHz 등 다양한 대역폭을 가지는 채널을 가질 수 있다.
제1 필터(10A)의 통과 대역 및 제2 필터(10B)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭은, 다양한 대역폭을 가지는 복수의 채널 중 하나의 채널의 대역폭에 따라, 결정될 수 있다. 일 예로, 제1 필터(10A)의 통과 대역 및 제2 필터(10B)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭은, 제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B)가 지원하는 복수의 채널 중 최대 대역폭을 가지는 채널에 따라 결정될 수 있다. 구체적으로, 제1 필터(10A)의 통과 대역과 제2 필터(10B)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭 최대 대역폭을 가지는 채널의 대역폭과 동일하거나 클 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 최대 대역폭을 가지는 채널의 대역폭에 따라, 제1 필터(10A)의 통과 대역 및 제2 필터(10B)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭을 결정하여, 제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B)가 선택적으로 동작하는 경우에도, 채널들을 안정적으로 지원할 수 있다.
한편, 제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B)의 통과 대역(Pass band)의 대역폭(Band width)은 동일하게 설계될 수 있다. 다만, 실시예에 따라, 제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B)의 통과 대역(Pass band)의 대역폭(Band width)은 서로 다르게 설계될 수 있다.
제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)는 스위치부를 구성할 수 있다. 제1 스위치(SWA)는 일 단이 안테나와 연결되고, 타단이 제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B)와 연결될 수 있다. 제2 스위치(SWB)는 일단이 저잡음 증폭기(LNA) 및 RF IC 등과 같은 무선 주파수 신호 처리 소자와 연결될 수 있고, 타단이 제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B)와 연결될 수 있다.
제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)는 제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B)와 선택적으로 연결되어, 무선 주파수 신호의 경로를 형성할 수 있다. 제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)는 제1 필터(10A) 및 제2 필터(10B) 중 하나의 필터와 연결될 수 있다. 일 예로, 제1 필터(10A)의 동작 타이밍에서, 제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)는 제1 필터(10A)와 연결될 수 있고, 제2 필터(10B)의 동작 타이밍에서, 제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)는 제2 필터(10B)와 연결될 수 있다.
도 5은 본 발명의 일 실시예에 따른 프론트 엔드 모듈의 회로도이고, 도 6는 도 5의 프론트 엔드 모듈의 복수의 필터가 담당하는 통과 대역을 나타낸다. 도 5의 프론트 엔드 모듈은 도 4의 프론트 엔드 모듈과 유사하므로, 중복되는 설명은 생략하고, 차이점을 중심으로 설명하도록 한다.
도 5을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 프론트 엔드 모듈은 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)를 포함하고, 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)와 선택적으로 연결되는 제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)를 포함할 수 있다.
제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)는 필터부를 구성할 수 있고, 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C) 각각은 대역 통과 필터를 포함할 수 있다. 일 예로, 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)는 도 2의 필터(10)를 포함할 수 있고, 따라서, 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C) 각각은 적어도 하나의 체적 음향 공진기를 포함할 수 있다. 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)는 하나의 칩(one-chip)에 의해 구현될 수 있다.
제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)는 서로 다른 통과 대역(Pass band)를 가질 수 있다. 도 6를 참조하면, 제1 필터(10A)에 의한 주파수 응답(f1), 제2 필터(10B)에 의한 주파수 응답(f2), 및 제3 필터(10C)에 의한 주파수 응답(f3)을 참조하면, 제1 필터(10A)의 통과 대역은 제2 필터(10B)의 통과 대역 보다 낮은 주파수 대역에 형성될 수 있고, 제2 필터(10B)의 통과 대역은 제3 필터(10C)의 통과 대역 보다 낮은 주파수 대역에 형성될 수 있다. 도 6의 제1 필터(10A)에 의한 주파수 응답(f1), 제2 필터(10B)에 의한 주파수 응답(f2), 및 제3 필터(10C)한 주파수 응답(f3)에 의해, 5세대 이동통신의 전체 통과 대역의 주파수 응답(f4)이 커버될 수 있다.
제1 필터(10A)의 통과 대역과 제2 필터(10B)의 통과 대역은 일부 주파수 대역이 중첩될 수 있고, 제2 필터(10B)의 통과 대역과 제3 필터(10C)의 통과 대역은 일부 주파수 대역이 중첩될 수 있다. 따라서, 제1 필터(10A)의 상한 주파수는 제2 필터(10B)의 하한 주파수 보다 높은 주파수 대역에 위치할 수 있고, 제2 필터(10B)의 상한 주파수는 제3 필터(10C)의 하한 주파수 보다 높은 주파수 대역에 위치할 수 있다.
제1 필터(10A)의 통과 대역과 제2 필터(10B)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭 및 제2 필터(10B)의 통과 대역과 제3 필터(10C)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭은, 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)가 지원하는 복수의 채널의 대역폭에 따라 결정될 수 있다.
구체적으로, 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)가 5세대 통신의 n77(3.3~4.2GHz) 대역을 담당하는 것으로 가정하면, n77(3.3~4.2GHz) 대역은 다양한 대역폭을 가지는 복수의 채널을 가질 수 있다. 예를 들어, n77(3.3~4.2GHz) 대역은 10MHz, 20MHz, 40MHz, 50MHz, 60MHz, 80MHz, 및 100MHz 등 다양한 대역폭을 가지는 채널을 가질 수 있다.
제1 필터(10A)의 통과 대역과 제2 필터(10B)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭, 및 제2 필터(10B)의 통과 대역과 제3 필터(10C)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭은, 다양한 대역폭을 가지는 복수의 채널 중 하나의 채널의 대역폭에 따라, 결정될 수 있다. 일 예로, 제1 필터(10A)의 통과 대역과 제2 필터(10B)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭 및 제2 필터(10B)의 통과 대역과 제3 필터(10C)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭은, 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)가 지원하는 복수의 채널 중 최대 대역폭을 가지는 채널에 따라 결정될 수 있다. 구체적으로, 제1 필터(10A)의 통과 대역과 제2 필터(10B)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭 및 제2 필터(10B)의 통과 대역과 제3 필터(10C)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭은 최대 대역폭을 가지는 채널의 대역폭과 동일하거나 클 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 최대 대역폭을 가지는 채널의 대역폭에 따라, 제1 필터(10A)의 통과 대역과 제2 필터(10B)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭 및 제2 필터(10B)의 통과 대역과 제3 필터(10C)의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭을 결정하여, 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)가 선택적으로 동작하는 경우에도, 채널들을 안정적으로 지원할 수 있다.
한편, 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)의 통과 대역(Pass band)의 대역폭(Band width)은 동일하게 설계될 수 있다. 다만, 실시예에 따라, 제1 필터(10A), 제2 필터(10B), 및 제3 필터(10C)의 통과 대역(Pass band)의 대역폭(Band width)은 서로 다르게 설계될 수 있다.
제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)는 스위치부를 구성할 수 있다. 제1 스위치(SWA)는 일 단이 안테나와 연결되고, 타단이 제1 필터(10A), 제2 필터(10B) 및 제3 필터(10C)와 연결될 수 있다. 제2 스위치(SWB)는 일단이 저잡음 증폭기(LNA) 및 RF IC 등과 같은 무선 주파수 신호 처리 소자와 연결될 수 있고, 타단이 제1 필터(10A), 제2 필터(10B) 및 제3 필터(10C)와 연결될 수 있다.
제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)는 제1 필터(10A), 제2 필터(10B) 및 제3 필터(10C)와 선택적으로 연결되어, 무선 주파수 신호의 경로를 형성할 수 있다. 제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)는 제1 필터(10A), 제2 필터(10B) 및 제3 필터(10C) 중 하나의 필터와 연결될 수 있다. 일 예로, 제1 필터(10A)의 동작 타이밍에서, 제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)는 제1 필터(10A)와 연결될 수 있고, 제2 필터(10B)의 동작 타이밍에서, 제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)는 제2 필터(10B)와 연결될 수 있고, 제3 필터(10C)의 동작 타이밍에서, 제1 스위치(SWA) 및 제2 스위치(SWB)는 제3 필터(10C)와 연결될 수 있다.
이상에서 본 발명이 구체적인 구성요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명이 상기 실시예들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형을 꾀할 수 있다.
따라서, 본 발명의 사상은 상기 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등하게 또는 등가적으로 변형된 모든 것들은 본 발명의 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
10: 필터
10A: 제1 필터
10B: 제2 필터
10C: 제3 필터
SWA: 제1 스위치
SWB: 제2 스위치
SE: 시리즈 공진기
SH: 션트 공진기

Claims (16)

  1. 순차적으로 적층되는 제1 전극, 압전층, 및 제2 전극을 포함하는 적어도 하나의 체적 음향 공진기를 각각 구비하고, 서로 다른 통과 대역을 담당하는 복수의 필터를 포함하는 필터부; 및
    상기 복수의 필터 중 하나와 선택적으로 연결되어, 무선 주파수 신호의 경로를 형성하는 스위치부; 를 포함하고,
    상기 서로 다른 통과 대역 중 인접하는 두 개의 통과 대역 중 하나의 통과 대역의 일부 주파수 대역과 다른 하나의 통과 대역의 일부 주파수 대역은 서로 중첩되는 프론트 엔드 모듈.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 두 개의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭은, 상기 복수의 필터가 지원하는 복수의 채널 중 하나의 채널의 대역폭에 따라 결정되는 프론트 엔드 모듈.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 두 개의 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭은, 상기 복수의 필터가 지원하는 복수의 채널 중 최대 대역폭을 가지는 채널의 대역폭에 따라 결정되는 프론트 엔드 모듈.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 필터 각각은 대역 통과 필터를 포함하는 프론트 엔드 모듈.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 서로 다른 통과 대역의 대역폭은 동일한 프론트 엔드 모듈.
  6. 제1항에 있어서, 상기 스위치부는,
    상기 복수의 필터 각각의 일단과 안테나 사이에 배치되는 제1 스위치; 및
    상기 복수의 필터 각각의 타단과 무선 주파수 신호 처리 소자 사이에 배치되는 제2 스위치; 를 포함하는 프론트 엔드 모듈.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 체적 음향 공진기는 래더 타입 및 래티스 타입 중 적어도 하나의 형태로 연결되는 프론트 엔드 모듈.
  8. 순차적으로 적층되는 제1 전극, 압전층, 및 제2 전극을 포함하는 적어도 하나의 체적 음향 공진기를 각각 구비하고, 복수의 통과 대역 중 서로 다른 통과 대역을 담당하는 복수의 필터를 포함하는 필터부; 및
    상기 복수의 필터 중 하나와 선택적으로 연결되어, 무선 주파수 신호의 경로를 형성하는 스위치부; 를 포함하고,
    상기 복수의 통과 대역 중 인접하는 제1 통과 대역 및 상기 제1 통과 대역 보다 주파수 대역이 높은 제2 통과 대역에 있어서, 상기 제1 통과 대역의 상한 주파수는 상기 제2 통과 대역의 하한 주파수 보다 주파수가 높은 프론트 엔드 모듈.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제1 통과 대역 및 제2 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭은, 상기 복수의 필터가 지원하는 복수의 채널 중 하나의 채널의 대역폭에 따라 결정되는 프론트 엔드 모듈.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제1 통과 대역 및 제2 통과 대역에 의해 중첩되는 대역폭은, 상기 복수의 필터가 지원하는 복수의 채널 중 최대 대역폭을 가지는 채널의 대역폭에 따라 결정되는 프론트 엔드 모듈.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 복수의 필터 각각은 대역 통과 필터를 포함하는 프론트 엔드 모듈.
  12. 제8항에 있어서, 상기 필터부는,
    상기 제1 통과 대역을 담당하는 제1 필터 및 상기 제2 통과 대역을 담당하는 제2 필터를 포함하는 프론트 엔드 모듈.
  13. 제12항에 있어서, 상기 필터부는,
    상기 제2 통과 대역 보다 주파수 대역이 높은 제3 통과 대역을 담당하는 제3 필터를 더 포함하는 프론트 엔드 모듈.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제2 통과 대역의 상한 주파수는 상기 제3 통과 대역의 하한 주파수 보다 주파수가 높은 프론트 엔드 모듈.
  15. 제8항에 있어서,
    상기 복수의 필터는 하나의 칩으로 구현되는 프론트 엔드 모듈.
  16. 제8항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 체적 음향 공진기는 래더 타입 및 래티스 타입 중 적어도 하나의 형태로 연결되는 프론트 엔드 모듈.
KR1020180167660A 2018-12-21 2018-12-21 프론트 엔드 모듈 KR20200078084A (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180167660A KR20200078084A (ko) 2018-12-21 2018-12-21 프론트 엔드 모듈
US16/416,505 US20200204157A1 (en) 2018-12-21 2019-05-20 Front end module
CN201910776907.XA CN111355471B (zh) 2018-12-21 2019-08-22 前端模块

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180167660A KR20200078084A (ko) 2018-12-21 2018-12-21 프론트 엔드 모듈

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20200078084A true KR20200078084A (ko) 2020-07-01

Family

ID=71097919

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180167660A KR20200078084A (ko) 2018-12-21 2018-12-21 프론트 엔드 모듈

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20200204157A1 (ko)
KR (1) KR20200078084A (ko)
CN (1) CN111355471B (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116195199A (zh) * 2020-07-21 2023-05-30 株式会社村田制作所 高频电路

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080081398A (ko) 2007-03-05 2008-09-10 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 소자 분리막 형성 방법

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI106894B (fi) * 1998-06-02 2001-04-30 Nokia Mobile Phones Ltd Resonaattorirakenteita
GB2346049A (en) * 1999-01-19 2000-07-26 Roke Manor Research Duplex filtering
KR100666693B1 (ko) * 2004-11-23 2007-01-11 삼성전자주식회사 모놀리식 듀플렉서
US9038005B2 (en) * 2013-03-15 2015-05-19 Resonant Inc. Network synthesis design of microwave acoustic wave filters
US9819327B2 (en) * 2013-06-26 2017-11-14 Intel IP Corporation Bulk acoustic wave resonator tuner circuits
US10439589B2 (en) * 2016-06-24 2019-10-08 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Bulk acoustic wave resonator and filter including the same
US10256792B2 (en) * 2017-02-03 2019-04-09 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Filter module and front-end module including the same
WO2019021983A1 (ja) * 2017-07-25 2019-01-31 株式会社村田製作所 高周波フィルタ、マルチプレクサ、高周波フロントエンド回路および通信装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20080081398A (ko) 2007-03-05 2008-09-10 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 소자 분리막 형성 방법

Also Published As

Publication number Publication date
CN111355471A (zh) 2020-06-30
CN111355471B (zh) 2023-09-12
US20200204157A1 (en) 2020-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107786182B (zh) 体声波谐振器和包括该体声波谐振器的滤波器
JP4654220B2 (ja) 圧電共振子を含むフィルタ構造
KR100506729B1 (ko) 박막 벌크 어코스틱 공진기(FBARs)소자 및 그제조방법
JP6556099B2 (ja) 圧電薄膜共振器、フィルタおよびマルチプレクサ
JP6510987B2 (ja) 圧電薄膜共振器、フィルタおよびデュプレクサ
US10965271B2 (en) Acoustic resonator and method for fabricating the same
KR102066958B1 (ko) 필터
CN107317561B (zh) 体声波谐振器及其制造方法
JP2019016835A (ja) 圧電薄膜共振器、フィルタおよびマルチプレクサ
JP2018182463A (ja) 圧電薄膜共振器、フィルタおよびマルチプレクサ
KR102052795B1 (ko) 음향 공진기
US11418168B2 (en) Acoustic resonator and method for manufacturing the same
US20150130561A1 (en) Piezoelectric thin film resonator, filter and duplexer
US10523177B2 (en) Piezoelectric thin film resonator and fabrication method of the same, filter, and multiplexer
KR102449355B1 (ko) 음향 공진기 및 그의 제조 방법
KR102145309B1 (ko) 음향 공진기
KR20180023787A (ko) 체적 음향 공진기 및 이를 구비하는 필터
CN111355471B (zh) 前端模块
KR102449367B1 (ko) 음향 공진기 및 그의 제조 방법
KR102100125B1 (ko) 필터
US20200350892A1 (en) Front end module
JP2019201305A (ja) 音響共振器
KR102066959B1 (ko) 필터
US20240322792A1 (en) Piezoelectric thin film filter
KR20220168424A (ko) 체적 음향 공진기

Legal Events

Date Code Title Description
E601 Decision to refuse application