KR102066958B1 - 필터 - Google Patents

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KR102066958B1
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성중우
이준규
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삼성전기주식회사
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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 필터는 복수의 시리즈 공진기를 포함하는 시리즈부, 및 상기 복수의 시리즈 공진기와 접지 사이에 배치되는 복수의 션트 공진기를 포함하는 션트부를 포함하고, 상기 복수의 시리즈 공진기 및 상기 복수의 션트 공진기 각각은 체적 음향 공진기로 구성되고, 상기 복수의 션트 공진기 중 일부 션트 공진기의 공진 주파수는 상기 복수의 시리즈 공진기의 공진 주파수와 동일할 수 있다.

Description

필터{Filter}
본 발명은 필터에 관한 것이다.
최근 이동통신기기, 화학 및 바이오기기 등의 급속한 발달에 따라, 이러한 기기에서 사용되는 소형 경량필터, 오실레이터(Oscillator), 공진소자(Resonant element), 음향공진 질량센서(Acoustic Resonant Mass Sensor) 등의 수요도 증대하고 있다.
이러한 소형 경량필터, 오실레이터, 공진소자, 음향공진 질량센서 등을 구현하는 수단으로는 박막 체적 음향 공진기(FBAR: Film Bulk Acoustic Resonator)가 알려져 있다. 박막 체적 음향 공진기는 최소한의 비용으로 대량 생산이 가능하며, 초소형으로 구현할 수 있다는 장점이 있다. 또한, 필터의 주요한 특성인 높은 품질 계수(Quality Factor: Q)값을 구현하는 것이 가능하고, 마이크로주파수 대역에서도 사용이 가능하며, 특히 PCS(Personal Communication System)와 DCS(Digital Cordless System) 대역까지도 구현할 수 있다는 장점이 있다.
일반적으로, 박막 체적 음향 공진기는 기판상에 제1 전극, 압전층(Piezoelectric layer) 및 제2 전극을 차례로 적층하여 구현되는 공진부를 포함하는 구조로 이루어진다. 박막 체적 음향 공진기의 동작원리를 살펴보면, 먼저 제1 및 2 전극에 인가되는 전기에너지에 의해 압전층 내에 전계가 유기되고, 유기된 전계에 의해 압전층에서 압전 현상이 발생하여 공진부가 소정 방향으로 진동한다. 그 결과, 진동방향과 동일한 방향으로 음향파(Bulk Acoustic Wave)가 발생하여 공진을 일으키게 된다.
미국공개특허공보 제2008-0081398호
본 발명의 과제는 필터의 불필요한 면적을 줄이고, 대역폭을 확대할 수 있는 필터를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 필터는 복수의 시리즈 공진기를 포함하는 시리즈부, 및 상기 복수의 시리즈 공진기와 접지 사이에 배치되는 복수의 션트 공진기를 포함하는 션트부를 포함하고, 상기 복수의 시리즈 공진기 및 상기 복수의 션트 공진기 각각은 체적 음향 공진기로 구성되고, 상기 복수의 션트 공진기 중 일부 션트 공진기의 공진 주파수는 상기 복수의 시리즈 공진기의 공진 주파수와 동일할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 필터의 시리즈부는 별도의 소자 없이, 공진기만으로 구성되어, 불필요한 패드를 제거하여, 필터의 면적을 효율적으로 줄일 수 있다.
또한, 복수의 션트 공진기 중 일부 션트 공진기의 공진 주파수를 복수의 시리즈 공진기 공진 주파수와 동일하게 설계하여, 광대역의 대역폭을 확보할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 필터를 나타낸 단면도이다.
도 2는 필터의 예시적인 블록도이다.
도 3은 필터의 예시적인 회로도를 나타낸다.
도 4는 도 3의 필터의 주파수 응답을 나타낸다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 필터의 회로도이다.
도 6는 본 발명의 일 실시예에 따른 필터의 시뮬레이션 그래프이다.
도 7는 본 발명의 실시예에 대응하는 비교예의 시뮬레이션 그래프이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 필터의 회로도이다.
후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.
이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 필터를 나타낸 단면도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 필터(10)는 적어도 하나의 체적 음향 공진기(100) 및 캡(200)을 포함할 수 있다. 도 1에서, 필터(10)가 두 개의 체적 음향 공진기(100)를 포함하는 것으로 도시되어 있으나, 실시예에 따라 필터(10)는 하나의 체적 음향 공진기(100) 또는 세 개 이상의 체적 음향 공진기(100)을 포함할 수 있다. 체적 음향 공진기(100)는 박막 체적 음향파 공진기(Film Bulk Acoustic Resonator: FBAR)일 수 있다.
체적 음향 공진기(100)는 복수의 막으로 구성되는 적층 구조체에 의해 구성될 수 있다. 체적 음향 공진기(100)를 구성하는 적층 구조체는 기판(110), 절연층(115), 에어 캐비티(133), 지지부(134), 보조 지지부(135), 및 제1 전극(140), 압전층(150)과 제2 전극(160)으로 이루어진 공진부(155)를 포함할 수 있고, 추가적으로 보호층(170) 및 금속층(180)을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 체적 음향 공진기(100)의 제조 공정에 대해 설명하면, 절연층(115) 상에 희생층을 형성하고, 희생층의 일부를 제거하여, 지지부(134)가 마련되는 패턴을 형성한다. 여기서, 보조 지지부(135)는 잔존하는 희생층에 의해 형성된다. 희생층에 형성되는 패턴의 상면의 폭은 하면의 폭 보다 넓을 수 있고, 상면과 하면을 연결하는 패턴의 측면은 경사질 수 있다. 희생층에 패턴을 형성한 후에, 희생층 및 패턴에 의해 외부로 노출된 절연층(115) 상에 멤브레인(130)을 형성한다. 멤브레인(130)을 형성한 후에, 멤브레인(130)을 덮도록 지지부(134) 형성의 기초가 되는 식각 저지 물질을 형성한다.
식각 저지 물질을 형성한 후에, 희생층 상면에 형성된 멤브레인(130)이 외부로 노출되도록 식각 저지 물질의 일면은 평탄화 된다. 식각 저지 물질의 일면이 평탄화되는 공정에서 식각 저지 물질의 일부는 제거되고, 일부가 제거된 후에 패턴 내부에서 잔존하는 식각 저지 물질에 의해 지지부(134)가 형성될 수 있다. 식각 저지 물질(120)의 평탄화 과정의 결과, 지지부(134) 및 희생층의 일면은 대략 평탄할 수 있다. 여기서, 멤브레인(130)은 식각 저지 물질의 평탄화 공정의 정지층(Stop layer)으로 기능할 수 있다.
이후, 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160) 등을 적층한 후에 희생층을 식각하여 제거하는 식각 공정에 의해 에어 캐비티(133)가 형성될 수 있다. 일 예로, 희생층은 다결정 실리콘(Poly-Si)을 포함할 수 있다. 에어 캐비티(133)는 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)으로 구성되는 공진부(155가 소정 방향으로 진동할 수 있도록 공진부의 하부에 위치할 수 있다.
기판(110)은 실리콘 기판으로 구성될 수 있고, 기판(110)의 상면에는 기판(110)에 대하여 공진부(155)를 전기적으로 격리시키는 절연층(115)이 마련될 수 있다. 절연층(115)은 이산화규소(SiO2), 실리콘 나이트라이드(Si3N4), 산화 알루미늄(Al2O2), 및 질화 알루미늄(AlN) 중 적어도 하나로 형성 될 수 있으며, 화학 기상 증착 (Chemical vapor deposition), RF 마그네트론 스퍼터링(RF Magnetron Sputtering), 또는 에바포레이션(Evaporation)하여 기판(110) 상에 형성될 수 있다.
절연층(115) 상에는 식각 저지층이 추가적으로 형성될 수 있다. 식각 저지층은 식각 공정으로부터 기판(110) 및 절연층(115)을 보호하는 역할을 하고, 식각 저지층 상에 다른 여러 층이 증착되는데 필요한 기단 역할을 할 수 있다.
절연층(115) 상에는 에어 캐비티(133), 및 지지부(134)가 형성될 수 있다. 상술한 바와 같이, 에어 캐비티(133)는 절연층(115) 상에 희생층을 형성하고, 희생층에 지지부(134)가 마련되는 패턴을 형성한 후, 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160) 등을 적층한 후에 희생층을 에칭하여 제거하는 식각 공정에 의해 형성될 수 있다.
에어 캐비티(133)는 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)으로 구성되는 공진부(155)가 소정 방향으로 진동할 수 있도록 공진부(155)의 하부에 위치할 수 있다. 에어 캐비티(133)의 일 측에는 지지부(134)가 마련될 수 있다.
지지부(134)의 두께는 에어 캐비티(133)의 두께와 동일할 수 있다. 따라서, 에어 캐비티(133)와 지지부(134)에 의해 제공되는 상면은 대략 평탄할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 단차가 제거된 평탄한 면 상에 공진부(155)가 배치되어, 체적 음향 공진기의 삽입 손실 및 감쇄 특성을 개선할 수 있다.
지지부(134)의 단면은 대략 사다리꼴 형상일 수 있다. 구체적으로 지지부(134)의 상면의 폭은 하면의 폭보다 넓을 수 있고, 상면과 하면을 연결하는 측면은 경사질 수 있다. 지지부(134)는 희생층을 제거하기 위한 식각 공정에서 식각되지 않는 물질로 형성될 수 있다. 일 예로, 지지부(134)는 절연층(115)과 동일한 물질로 형성될 수 있고, 구체적으로, 지지부(134)는 이산화규소(SiO2) 및 질화 실리콘(Si3N4) 중 하나 또는 이들의 조합으로 형성될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 지지부(134)의 측면을 경사지게 형성하여 지지부(134)와 희생층의 경계에서 가파른(Abrupt) 단차가 발생하는 것을 방지하고, 지지부(134)의 하면의 폭을 좁게 형성하여 디슁(Dishing) 현상이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 일 예로, 지지부(134)의 하면과 측면이 이루는 각도는 110° ~ 160° 일 수 있고, 지지부(134)의 하면의 폭은 2㎛ ~ 30㎛일 수 있다.
지지부(134)의 외측으로 보조 지지부(135)가 마련될 수 있다. 보조 지지부(135)는 지지부(134)와 동일한 물질로 형성될 수 있고, 또한, 지지부(134)와 서로 다른 물질로 형성될 수 있다. 일 예로, 보조 지지부(135)가 지지부(134)와 서로 다른 물질로 형성되는 경우, 보조 지지부(135)는 절연층(115) 상에 형성되는 희생층 중 식각 공정 이후에 잔존하는 일 부분에 대응할 수 있다.
공진부(155)는 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)을 포함할 수 있다. 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)의 수직 방향으로 중첩된 공통 영역은 에어 캐비티(133)의 상부에 위치할 수 있다. 제1 전극(140) 및 제2 전극(160)은 금(Au), 티타늄(Ti), 탄탈(Ta), 몰리브덴(Mo), 루테늄(Ru), 백금(Pt), 텅스텐(W), 알루미늄(Al), 이리듐(Ir) 및 니켈(Ni) 중 하나 또는 이들의 합금으로 형성될 수 있다. 압전층(150)은 전기적 에너지를 탄성파 형태의 기계적 에너지로 변환하는 압전 효과를 일으키는 부분으로, 산화아연(ZnO), 질화 알루미늄(AlN), 도핑 알루미늄 질화물(Doped Aluminum Nitride), 지르콘 티탄산 납(Lead Zirconate Titanate), 쿼츠(Quartz) 등이 선택적으로 이용될 수 있다. 도핑 알루미늄 질화물(Doped Aluminum Nitride) 경우 희토류 금속(Rare earth metal) 전이 금속, 또는 알칼리 토금속(alkaline earth metal)을 더 포함할 수 있다. 일 예로, 상기 희토류 금속은 스칸듐(Sc), 에르븀(Er), 이트륨(Y), 및 란탄(La) 중 적어도 하나를 포함할 수 있고 희토류 함량은 1~20at%를 포함할 수 있다. 상기 전이 금속은 하프늄(Hf), 티타늄(Ti), 지르코늄(Zr), 탄탈(Ta), 및 니오븀(Nb) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한 알칼리 토금속은 마그네슘(Mg)을 포함할 수 있다.
멤브레인(130)은 캐비티(133)를 형성하는 과정에서 쉽게 제거되지 않는 재질로 형성된다. 예를 들어, 캐비티(133)를 형성하기 위하여, 희생층의 일부를 제거하기 위해 불소(F), 염소(Cl) 등의 할라이드계 에칭가스를 이용하는 경우, 멤브레인(130)은 상기 에칭가스와 반응성이 낮은 재질로 이루어질 수 있다. 이 경우, 멤브레인(130)은 이산화규소(SiO2), 질화규소(Si3N4) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 또한, 멤브레인(130)은 산화마그네슘(MgO), 산화지르코늄(ZrO2), 질화 알루미늄(AlN), 티탄산 지르콘산 연(PZT), 갈륨비소(GaAs), 산화하프늄(HfO2), 산화알루미늄(Al2O3), 산화티타늄(TiO2), 산화아연(ZnO) 중 적어도 하나의 재질을 함유하는 유전체층(Dielectric layer)으로 이루어지거나, 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 백금(Pt), 갈륨(Ga), 하프늄(Hf) 중 적어도 하나의 재질을 함유하는 금속층으로 이루어질 수 있다.
실시예에 따라, 멤브레인(130) 상에는 질화 알루미늄(AlN)으로 제조되는 시드층이 형성될 수 있다. 구체적으로, 시드층은 멤브레인(130)과 제1 전극(140) 사이에 배치될 수 있다. 시드층은 질화 알루미늄(AlN) 이외에도 HCP 구조를 가지는 유전체 또는 금속을 이용하여 형성될 수 있다. 금속일 경우 예를 들어, 시드층은 티타늄(Ti)으로 형성될 수 있다.
보호층(170)은 제2 전극(160) 상에 배치되어, 제2 전극(160)이 외부에 노출되는 것을 방지할 수 있다. 보호층(170)은 실리콘 옥사이드 계열, 실리콘 나이트라이드 계열 및 알루미늄 나이트라이드 계열, 알루미늄 옥사이드 계열 중의 하나의 절연 물질로 형성될 수 있다. 외부로 노출된 제1 전극(140) 및 제2 전극(160) 상에는 금속층(180)이 형성될 수 있다.
공진부(155)는 활성 영역과 비활성 영역으로 구획될 수 있다. 공진부(155)의 활성 영역은 제1 전극(140) 및 제2 전극(160)에 무선 주파수 신호와 같은 전기 에너지가 인가되는 경우 압전층(150)에서 발생하는 압전 현상에 의해 소정 방향으로 진동하여 공진하는 영역으로, 에어 캐비티(133) 상부에서 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)이 수직 방향으로 중첩된 영역에 해당한다. 공진부(155)의 비활성 영역은 제1 전극(140) 및 제2 전극(160)에 전기 에너지가 인가되더라도 압전 현상에 의해 공진하지 않는 영역으로, 활성 영역 외측의 영역에 해당한다.
공진부(155)는 압전 현상을 이용하여 특정 주파수를 가지는 무선 주파수 신호를 출력한다. 구체적으로 공진부(155)는 압전층(150)의 압전 현상에 따른 진동에 대응하는 공진 주파수를 가지는 무선 주파수 신호를 출력할 수 있다.
캡(200)은 복수의 체적 음향 공진기(100)를 형성하는 적층 구조체와 접합될 수 있다. 캡(200)은 복수의 체적 음향 공진기(100)가 수용되는 내부 공간을 구비하는 커버 형태로 형성될 수 있다. 캡(200)은 하면이 개방된 육면체 형상으로 형성될 수 있고, 따라서, 상부 및 상부와 연결되는 복수의 측부를 포함할 수 있다.
캡(200)은 복수의 체적 음향 공진기(100)의 공진부(155를 수용할 수 있도록 중앙에 수용부가 형성될 수 있다, 적층 구조체는 접합 영역에서 복수의 측부와 접합할 수 있고, 적층 구조체의 접합 영역은 적층 구조체의 가장자리에 해당할 수 있다. 캡(200)은 기판(110) 상에 적층되는 기판(110)과 접합될 수 있다. 또한, 이외에도, 캡(200)은 보호층(170), 멤브레인(130), 및 절연층(115), 제1 전극(140), 압전층(150), 제2 전극(160), 금속층(180) 중 적어도 하나와 접합될 수 있다.
도 2는 필터의 예시적인 블록도이다.
도 2를 참조하면, 필터(10)는 적어도 하나의 시리즈부(1100) 및 적어도 하나의 시리즈부(1100)와 접지 사이에 배치되는 적어도 하나의 션트부(1200)를 포함할 수 있다. 필터(10)는 도 2에 도시된 바와 같이, 래더 타입(ladder type)의 필터 구조로 형성될 수 있고, 이와 달리, 래티스 타입(lattice type)의 필터 구조로 형성될 수 있다
적어도 하나의 시리즈부(1100)는 입력 신호가 입력되는 신호 입력단(RFin)과 출력 신호가 출력되는 신호 출력단(RFout) 사이에 연결될 수 있고, 션트부(1200)는 시리즈부(1100)와 접지 사이에 연결될 수 있다. 도 2에서 필터(10)가 하나의 시리즈부(1100)와 션트부(1200)를 구비하는 것으로 도시되어 있으나, 시리즈부(1100) 및 션트부(1200)는 복수 개 구비될 수 있고, 시리즈부(1100) 및 션트부(1200)가 복수 개 구비되는 경우, 복수의 시리즈부(1100)가 서로 직렬 연결되고, 션트부(1200)가 직렬 연결된 시리즈부(1100)의 사이의 노드 중 일부와 접지 사이에 배치될 수 있다.
적어도 하나의 시리즈부(1100) 및 적어도 하나의 션트부(1200) 각각은 도 1에 도시된 체적 음향 공진기를 적어도 하나 구비할 수 있다.
도 3은 필터의 예시적인 회로도를 나타내고, 도 4는 도 3의 필터의 주파수 응답을 나타낸다.
도 3을 참조하면, 필터(10)는 신호 입력단(RFin)과 신호 출력단(RFout) 사이에 배치되는 시리즈 공진기(SE) 및 시리즈 공진기(SE)와 접지 사이에 배치되는 션트 공진기(SH)를 포함할 수 있다.
도 4를 참조하면, 제1 그래프(Graph 1)는 시리즈 공진기(SE)에 의한 주파수 응답을 나타내고, 제2 그래프(Graph2)는 션트 공진기(Sh)에 의한 주파수 응답을 나타내고, 제3 그래프(Graph 3)는 시리즈 공진기(SE) 및 션트 공진기(Sh)를 포함하는 필터에 의한 주파수 응답을 나타낸다.
시리즈 공진기(SE)에 의한 주파수 응답은 공진 주파수(fr_SE) 및 반공진 주파수(fa_SE)를 가지고, 션트 공진기(SH)에 의한 주파수 응답은 공진 주파수(fr_SH) 및 반공진 주파수(fa_SH)를 가진다.
필터의 주파수 응답을 참조하면, 필터의 대역폭(Band width)은 션트 공진기(SH)의 반공진 주파수(fa_SH) 및 시리즈 공진기(SE)의 공진 주파수(fr_SE)에 의해 결정될 수 있다.
필터가 대역 통과 필터로 구현되기 위하여, 시리즈 공진기(SE)의 공진 주파수(fr_SE)가 션트 공진기(SH)의 공진 주파수(fr_SH) 보다 높고, 시리즈 공진기(SE)의 반공진 주파수(fa_SE)가 션트 공진기(SH)의 반공진 주파수(fa_SH) 보다 높을 필요가 있다. 일 예로, 션트 공진기(Sh)의 압전층이 시리즈 공진기(SE)의 압전층 보다 두껍게 설계되어, 상기와 같은 공진 주파수 및 반공진 주파수의 관계가 설정될 수 있다. 한편, 유효 전기기계 결합 계수(effective electromechanical coupling coefficient, Kt2)는 하기의 수학식 1에 따라 정의될 수 있다.
Figure 112018068026049-pat00001
한편, 시리즈 공진기(SE)에 병렬로 인덕터를 연결하거나, 션트 공진기(SH)에 직렬로 인덕터를 연결하여, 필터의 대역폭이 넓게 조절될 수 있다. 시리즈 공진기(SE)에 병렬로 인덕터를 연결하는 경우, 반공진 주파수(fa_SE)가 높게 조절되어, 대역폭이 넓어질 수 있다. 다만, 시리즈 공진기(SE)에 병렬로 인덕터를 연결하는 경우, 반공진 주파수의 고조파가 발생하여, 감쇠(Attenuation) 특성이 열화되고, 대역폭을 증가시키기 위하여는 충분히 인덕턴스가 큰 인덕터가 요구되어, 품질계수(Q) 및 삽입 손실(Insertion loss) 특성이 열화될 수 있다. 또한, 시리즈 공진기(SE)에 병렬로 인덕터를 연결하는 경우, 시리즈 공진기(SE)와 인덕터를 연결하기 위한 패드가 필터 내에 추가적으로 마련되어야 하므로, 필터의 면적이 커지는 문제가 발생한다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 필터의 회로도이다.
도 5을 참조하면, 필터(10)는 복수의 시리즈 공진기(S1-S5) 및 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5)를 포함할 수 있다. 여기서, 복수의 시리즈 공진기(S1-S5)는 도 2의 시리즈부에 포함되는 구성에 해당하고, 복수의 션트 공진기는 도 2의 션트부에 포함되는 구성에 해당하고, 복수의 시리즈 공진기(S1-S5) 및 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5) 각각은 체적 음향 공진기로 구성될 수 있다.
복수의 시리즈 공진기(S1-S5)는 신호 입력단(RFin)과 신호 출력단(RFout) 사이에서, 서로 직렬로 연결될 수 있다. 일 예로, 제1 시리즈 공진기(S1), 제2 시리즈 공진기(S2), 제3 시리즈 공진기(S3), 제4 시리즈 공진기(S4), 및 제5 시리즈 공진기(S5)는 직렬로 연결될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 시리즈부는 별도의 소자 없이, 복수의 시리즈 공진기(S1-S5) 만으로 구성되어, 불필요한 패드를 제거하여, 필터의 면적을 효율적으로 줄일 수 있다.
복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5)는 복수의 시리즈 공진기(S1-S5)와 접지 사이에 배치될 수 있다. 일 예로, 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5) 각각은 서로 다른 시리즈 공진기(S1-S5)와 접지 사이에 배치될 수 있다.
제1 션트 공진기(Sh1)는 제1 시리즈 공진기(S1) 및 제2 시리즈 공진기(S2) 사이의 노드와 접지 사이에 배치될 수 있고, 제2 션트 공진기(Sh2)는 제2 시리즈 공진기(S2) 및 제3 시리즈 공진기(S3) 사이의 노드와 접지 사이에 배치될 수 있고, 제3 션트 공진기(Sh3)는 제3 시리즈 공진기(S3) 및 제4 시리즈 공진기(S4) 사이의 노드와 접지 사이에 배치될 수 있고, 제4 션트 공진기(Sh1)는 제4 시리즈 공진기(S4) 및 제5 시리즈 공진기(S5) 사이의 노드와 접지 사이에 배치될 수 있고, 제5 션트 공진기(Sh5)는 제5 시리즈 공진기(S5)와 신호 출력단(RFout) 사이의 노드와 접지 사이에 배치될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 필터(10)에 구비되는 복수의 시리즈 공진기(S1-S5) 및 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5)는 서로 다른 두 개의 공진 주파수를 가질 수 있다. 즉, 복수의 시리즈 공진기(S1-S5) 및 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5) 중 일부 공진기는 제1 공진 주파수를 가질 수 있고, 나머지 공진기는 제2 공진 주파수를 가질 수 있다.
이하, 설명의 편의상, 복수의 시리즈 공진기(S1-S5) 및 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5)의 공진 주파수를 중심으로 본 발명의 일 실시예에 따른 필터의 설계에 대해 서술하도록 한다. 다만, 이하의 설명이 복수의 시리즈 공진기(S1-S5) 및 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5)의 반공진 주파수에 적용될 수 있음은 물론이다.
체적 음향 공진기의 공진 주파수는 도 1의 복수의 막으로 구성되는 적층 구조체의 막의 두께에 따라 결정된다. 일 예로, 공진기의 공진 주파수는 압전층의 두께에 따라 결정될 수 있다.
따라서, 필터에 구비되는 복수의 공진기 각각이 다수의 공진 주파수를 가지는 경우, 공진기 각각의 적층 구조체의 막의 두께를 서로 다르게 설계하여야 한다. 다만, 다수의 공진기의 막의 두께를 서로 다르게 설계하는 경우, 다수의 공정이 수반되어 공정 수율이 악화되는 문제가 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 필터(10)를 서로 다른 2개의 공진 주파수를 가지는 공진기로 구성하여, 필터를 용이하게 설계할 수 있다.
다만, 복수의 시리즈 공진기(S1-S5)와 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5)가 서로 다른 공진 주파수를 가지도록 설계하는 경우, 필터(10)의 통과 대역이 좁다는 문제가 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 필터(10)는 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5) 중 일부 션트 공진기의 공진 주파수가 복수의 시리즈 공진기(S1-S5)의 공진 주파수와 동일하여, 광대역의 대역폭을 확보할 수 있다. 일 예로, 본 발명의 일 실시예에 따른 필터는 100~200MHz 폭의 대역폭을 가질 수 있다.
구체적으로, 필터(10)의 복수의 시리즈 공진기(S1-S5) 각각은 공진 주파수가 서로 동일할 수 있다. 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5) 중 일부 션트 공진기의 공진 주파수는 복수의 시리즈 공진기(S1-S5)의 공진 주파수와 동일하고, 나머지 션트 공진기의 공진 주파수는 복수의 시리즈 공진기(S1-S5)의 공진 주파수와 상이할 수 있다. 즉, 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5) 중 일부 션트 공진기의 공진 주파수는 나머지 션트 공진기의 공진 주파수와 상이할 수 있다. 또한, 나머지 션트 공진기의 각각의 공진 주파수는 서로 동일할 수 있다.
일 예로, 제3 션트 공진기(Sh3)의 공진 주파수는 제1 션트 공진기(Sh1), 제2 션트 공진기(Sh2), 제4 션트 공진기(Sh4), 및 제5 션트 공진기(Sh5)와 상이하고, 제3 션트 공진기(Sh3)의 공진 주파수는 복수의 시리즈 공진기(S1-S5)와 동일할 수 있다. 이하, 설명의 편의상, 제3 션트 공진기(Sh3)가 일부 션트 공진기에 해당하여, 제3 션트 공진기(Sh3)의 공진 주파수가 나머지 션트 공진기(Sh1, Sh2, Sh4, Sh5)의 공진 주파수와 상이하고, 복수의 시리즈 공진기(S1-S5)의 공진 주파수와 동일한 것을 가정하여 설명하도록 한다.
한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 제3 션트 공진기(Sh3)와 접지 사이에는 트리밍 인덕터(L)가 배치될 수 있다. 트리밍 인덕터(L)는 제3 션트 공진기(Sh3)와 접지 사이에 배치되어, 대역폭 내에서 삽입 손실(Insertion Loss)과 반사 손실(Return loss)을 개선할 수 있다.
도 6는 본 발명의 일 실시예에 따른 필터의 시뮬레이션 그래프이고, 도 7는 본 발명의 실시예에 대응하는 비교예의 시뮬레이션 그래프이다.
도 6의 실시예는 일부 션트 공진기에 해당하는 제3 션트 공진기(Sh3)가 시리즈 공진기의 공진주파수를 갖는 예이고, 도 7의 실시예는 일부 션트 공진기에 해당하는 제3 션트 공진기(Sh3)가 션트 공진기의 공진주파수를 갖는 예에 해당한다.
도 6의 실시예와 도 7의 비교예의 그래프를 비교하면, 본 발명의 실시예의 경우, 일부 션트 공진기에 해당하는 제3 션트 공진기(Sh3)에 트리밍 인덕터(L)을 연결하여, 비교예에 비하여, 약 2.5GHz~2.7GHz의 대역폭 내에서 삽입 손실(Insertion Loss)과 반사 손실(Return loss)을 개선하여, 통과 특성이 개선될 수 있다.
한편, 상술한 설명에서, 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5) 중 일부 션트 공진기의 공진 주파수가 복수의 시리즈 공진기(S1-S5)의 공진 주파수와 동일하고, 일부 션트 공진기와 접지 사이에 트리밍 인덕터가 배치되는 것으로 서술되었으나, 실시예에 따라, 복수의 시리즈 공진기(S1-S5) 중 일부 시리즈 공진기의 공진 주파수가 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5)의 공진 주파수와 동일하고, 일부 시리즈 공진기와 병렬로 트리밍 인덕터가 배치될 수 있다.
구체적으로, 도 8을 참조하면, 필터(10)는 복수의 시리즈 공진기(S1-S5) 및 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5)를 포함할 수 있다. 복수의 시리즈 공진기(S1-S5) 중 일부 시리즈 공진기의 공진 주파수는 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5)의 공진 주파수와 동일할 수 있다. 제3 시리즈 공진기(S3)가 일부 시리즈 공진기에 해당하는 것으로 가정하면, 제3 시리즈 공진기(S3)의 공진 주파수는 나머지 시리즈 공진기(S1, S2, S4, S5)의 공진 주파수와 상이하고, 복수의 션트 공진기(Sh1-Sh5)의 공진 주파수와 동일할 수 있다. 또한, 제3 시리즈 공진기(S3)와 병렬로 트리밍 인덕터(L)가 배치될 수 있다.
이상에서 본 발명이 구체적인 구성요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명이 상기 실시예들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형을 꾀할 수 있다.
따라서, 본 발명의 사상은 상기 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등하게 또는 등가적으로 변형된 모든 것들은 본 발명의 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.
10: 필터
100: 체적 음향 공진기
110: 기판
115: 절연층
120: 식각 저지 물질
130: 멤브레인
133: 에어 캐비티
134: 지지부
135: 보조 지지부
136: 프레임
140: 제1 전극
155: 공진부
150: 압전층
160: 제2 전극
170: 보호층
200: 캡
1100: 시리즈부
1200: 션트부

Claims (20)

  1. 복수의 시리즈 공진기를 포함하는 시리즈부; 및
    상기 복수의 시리즈 공진기와 접지 사이에 배치되는 복수의 션트 공진기를 포함하는 션트부; 를 포함하고,
    상기 복수의 시리즈 공진기 및 상기 복수의 션트 공진기 각각은 체적 음향 공진기로 구성되고, 상기 복수의 션트 공진기 중 일부 션트 공진기의 공진 주파수는 상기 복수의 시리즈 공진기의 공진 주파수와 동일한 필터.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 션트 공진기 중 상기 일부 션트 공진기의 공진 주파수는 나머지 션트 공진기의 공진 주파수와 상이한 필터.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 시리즈 공진기 각각은 공진 주파수가 서로 동일한 필터.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 션트 공진기 중 나머지 션트 공진기 각각은 공진 주파수가 서로 동일한 필터.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 시리즈부는 상기 복수의 시리즈 공진기만으로 구성되는 필터.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 션트부는 상기 일부 션트 공진기 각각과 연결되는 트리밍 인덕터를 포함하는 필터.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 트리밍 인덕터는 상기 필터의 삽입 손실 및 반사 손실 중 적어도 하나를 개선하는 필터.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 필터는 100~200MHz 폭의 대역폭을 가지는 필터.
  9. 복수의 시리즈 공진기를 포함하는 시리즈부; 및
    상기 복수의 시리즈 공진기와 접지 사이에 배치되는 복수의 션트 공진기를 포함하는 션트부; 를 포함하고,
    상기 복수의 시리즈 공진기 및 상기 복수의 션트 공진기 중 일부 공진기와 나머지 공진기는 서로 다른 공진 주파수를 가지고, 상기 복수의 션트 공진기 중 일부 션트 공진기의 공진 주파수는 상기 복수의 시리즈 공진기와 동일한 필터.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 복수의 션트 공진기 중 상기 일부 션트 공진기의 공진 주파수는 나머지 션트 공진기의 공진 주파수와 상이한 필터.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 복수의 시리즈 공진기 각각은 공진 주파수가 서로 동일한 필터.
  12. 제9항에 있어서,
    상기 시리즈부는 상기 복수의 시리즈 공진기만으로 구성되는 필터.
  13. 제9항에 있어서,
    상기 션트부는 상기 일부 션트 공진기 각각과 연결되는 트리밍 인덕터를 포함하는 필터.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 트리밍 인덕터는 상기 필터의 삽입 손실 및 반사 손실 중 적어도 하나를 개선하는 필터.
  15. 제9항에 있어서,
    상기 필터는 100~200MHz 폭의 대역폭을 가지는 필터.
  16. 제9항에 있어서,
    상기 복수의 시리즈 공진기 및 상기 복수의 션트 공진기 각각은 체적 음향 공진기로 구성되는 필터.
  17. 복수의 시리즈 공진기를 포함하는 시리즈부; 및
    상기 복수의 시리즈 공진기와 접지 사이에 배치되는 복수의 션트 공진기를 포함하는 션트부; 를 포함하고,
    상기 복수의 시리즈 공진기 및 상기 복수의 션트 공진기 각각은 체적 음향 공진기로 구성되고, 상기 복수의 시리즈 공진기 중 일부 시리즈 공진기의 공진 주파수는 상기 복수의 션트 공진기와 동일한 필터.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 복수의 시리즈 공진기 중 상기 일부 시리즈 공진기의 공진 주파수는 나머지 시리즈 공진기의 공진 주파수와 상이한 필터.
  19. 제17항에 있어서,
    상기 복수의 션트 공진기 각각은 공진 주파수가 서로 동일한 필터.
  20. 제17항에 있어서,
    상기 시리즈부는 상기 일부 시리즈 공진기 각각과 병렬로 연결되는 트리밍 인덕터를 포함하는 필터.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11496108B2 (en) * 2020-08-17 2022-11-08 Akoustis, Inc. RF BAW resonator filter architecture for 6.5GHz Wi-Fi 6E coexistence and other ultra-wideband applications
CN112073028B (zh) * 2020-08-24 2021-08-10 诺思(天津)微系统有限责任公司 滤波器带外抑制优化方法和滤波器、多工器、通信设备
CN113472313B (zh) * 2021-06-30 2022-09-09 中国电子科技集团公司第十三研究所 阶梯型结构窄带fbar滤波器

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050035904A (ko) * 2003-10-07 2005-04-20 삼성전기주식회사 공통접지 인덕터를 구비한 래더형 벌크탄성파 필터
KR20080081398A (ko) 2007-03-05 2008-09-10 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 소자 분리막 형성 방법
KR20090039753A (ko) * 2006-07-10 2009-04-22 스카이워크스 솔루션즈, 인코포레이티드 비선형 신호 왜곡이 감소된 벌크 탄성파 필터
JP2011040817A (ja) * 2009-08-06 2011-02-24 Taiyo Yuden Co Ltd 分波器

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5072047B2 (ja) * 2007-08-23 2012-11-14 太陽誘電株式会社 弾性波フィルタ、それを用いたデュプレクサおよびそのデュプレクサを用いた通信機
EP2362545A4 (en) * 2008-11-28 2014-04-23 Taiyo Yuden Kk FILTER, DUPLEXER AND ELECTRONIC DEVICE
CN103929148B (zh) * 2013-01-11 2017-09-19 中兴通讯股份有限公司 一种低插损压电声波带通滤波器及实现方法
JP6183462B2 (ja) * 2013-08-06 2017-08-23 株式会社村田製作所 高周波モジュール
CN109643984B (zh) * 2016-06-21 2023-09-01 诺思(天津)微系统有限责任公司 一种梯形结构宽带压电滤波器
US20180123555A1 (en) * 2016-10-31 2018-05-03 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Filter including bulk acoustic wave resonator

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20050035904A (ko) * 2003-10-07 2005-04-20 삼성전기주식회사 공통접지 인덕터를 구비한 래더형 벌크탄성파 필터
KR20090039753A (ko) * 2006-07-10 2009-04-22 스카이워크스 솔루션즈, 인코포레이티드 비선형 신호 왜곡이 감소된 벌크 탄성파 필터
KR20080081398A (ko) 2007-03-05 2008-09-10 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자의 소자 분리막 형성 방법
JP2011040817A (ja) * 2009-08-06 2011-02-24 Taiyo Yuden Co Ltd 分波器

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