KR20200046033A - (e)-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부트-2-엔을 제조하는 액체상 공정 - Google Patents

(e)-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부트-2-엔을 제조하는 액체상 공정 Download PDF

Info

Publication number
KR20200046033A
KR20200046033A KR1020207005567A KR20207005567A KR20200046033A KR 20200046033 A KR20200046033 A KR 20200046033A KR 1020207005567 A KR1020207005567 A KR 1020207005567A KR 20207005567 A KR20207005567 A KR 20207005567A KR 20200046033 A KR20200046033 A KR 20200046033A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
chcf
catalyst
ccl
chclch
mixture
Prior art date
Application number
KR1020207005567A
Other languages
English (en)
Inventor
셍 펭
앤드류 잭슨
스테판 브란드스타드터
마리오 조셉 나파
Original Assignee
더 케무어스 컴퍼니 에프씨, 엘엘씨
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 더 케무어스 컴퍼니 에프씨, 엘엘씨 filed Critical 더 케무어스 컴퍼니 에프씨, 엘엘씨
Publication of KR20200046033A publication Critical patent/KR20200046033A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/25—Preparation of halogenated hydrocarbons by splitting-off hydrogen halides from halogenated hydrocarbons
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
    • B01J23/74—Iron group metals
    • B01J23/745—Iron
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
    • B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
    • B01J27/08—Halides
    • B01J27/10—Chlorides
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
    • B01J27/06—Halogens; Compounds thereof
    • B01J27/135—Halogens; Compounds thereof with titanium, zirconium, hafnium, germanium, tin or lead
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/0234—Nitrogen-, phosphorus-, arsenic- or antimony-containing compounds
    • B01J31/0235—Nitrogen containing compounds
    • B01J31/0239—Quaternary ammonium compounds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02—Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/0234—Nitrogen-, phosphorus-, arsenic- or antimony-containing compounds
    • B01J31/0255—Phosphorus containing compounds
    • B01J31/0267—Phosphines or phosphonium compounds, i.e. phosphorus bonded to at least one carbon atom, including e.g. sp2-hybridised phosphorus compounds such as phosphabenzene, the other atoms bonded to phosphorus being either carbon or hydrogen
    • B01J31/0268—Phosphonium compounds, i.e. phosphine with an additional hydrogen or carbon atom bonded to phosphorous so as to result in a formal positive charge on phosphorous
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
    • C07C17/20—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
    • C07C17/202—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction
    • C07C17/206—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction the other compound being HX
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C19/00—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms
    • C07C19/08—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine
    • C07C19/10—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine and chlorine
    • C07C19/12—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine and chlorine having two carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
    • C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
    • C07C21/18—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
    • C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
    • C07C21/18—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine
    • C07C21/185—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine tetrafluorethene
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2531/00—Additional information regarding catalytic systems classified in B01J31/00
    • B01J2531/90—Catalytic systems characterized by the solvent or solvent system used
    • B01J2531/98—Phase-transfer catalysis in a mixed solvent system containing at least 2 immiscible solvents or solvent phases

Abstract

액체상에서 E-CF3CH=CHCF3을 제조하는 방법이 본 명세서에 개시된다. CF3CH2CHClCF3 및 CF3CHClCH2CCl3의 제조 방법이 또한 개시된다.

Description

(E)-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부트-2-엔을 제조하는 액체상 공정
관련 출원과의 상호 참조
본 출원은 2017년 9월 11일자로 출원된 미국 가출원 제62/556,744호의 이득을 주장하며, 상기 출원의 개시 내용은 전체적으로 본 명세서에 참고로 포함된다.
기술분야
본 명세서의 개시 내용은 CF3CH2CHClCF3으로부터 (E)-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부트-2-엔(E-CF3CH=CHCF3)을 제조하는 액체상 공정에 관한 것이다. 본 명세서의 개시 내용은 CF3CH2CHClCF3 및 CF3CHClCH2CCl3의 제조 방법을 추가로 제공한다.
다양한 유형의 폴리우레탄 폼(foam)이 그의 제조를 위하여 발포제(팽창제)를 필요로 한다. 역사적으로, 폴리우레탄 폼은 주요 발포제로서 CFC(클로로플루오로카본) 및 HCFC(하이드로클로로플루오로카본)를 사용하였다. CFC는 성층권 오존의 파괴에 있어서 염소-함유 분자의 영향으로 인해 불리하게 되었다. 또한, CFC의 생성 및 사용은 몬트리올 의정서에 의해 제한되었다. HCFC는 CFC 대체물로서 제안되었으며, 현재 폼 발포제로서 이용된다. 그러나, HCFC가 또한 성층권 오존의 고갈에 기여하는 것으로 밝혀졌으며, 그 결과 그들의 사용이 철저히 검토되어 왔다. HCFC의 광범위한 사용은 몬트리올 의정서 하에 궁극적으로 단계적인 폐지가 예정되어 있다.
하이드로플루오로올레핀(HFO)은 낮은 지구 온난화 지수를 갖는 폴리우레탄 및 관련 폼에서 발포제로서 사용되는 화합물의 부류를 나타낸다. HFO의 제조 방법은 이전에 기재되어 있다(예를 들어, 미국 특허 출원 공개 제2007/152200호는 불포화 플루오로카본을 포함하는 소화 및 진화 조성물 및 HFO의 제조 방법을 기재한다). 미국 특허 제8,461,401호는 헥사플루오로-2-부텐(HFO-1336)의 제조 방법을 기재한다. 그러나, 이러한 방법은 액체상에서 수행될 때 수율 손실을 겪는다. 공정의 제1 단계에서 수율 손실을 최소화하기 위하여, 증기상 공정이 이용된다. 전체 공정은 하나의 액체상 단계 및 2개의 기체상 단계를 포함한다. 기체상 반응기를 이용하는 비용은 높을 수 있다.
따라서, 비용을 저감시키면서도 수율을 개선한 HFO, 특히 HFO-1336의 제조 방법에 대한 필요성이 존재한다. 하나의 상, 예를 들어, 액체상에서 행해질 수 있는 HFO의 제조 방법에 대한 필요성이 또한 존재한다.
참고 문헌의 포함
본 명세서에 언급된 모든 간행물, 특허, 및 특허 출원은 각각의 개별 간행물, 특허 또는 특허 출원이 구체적으로 그리고 개별적으로 표시되어 참고로 포함된 경우와 동일한 정도로 본 명세서에 참고로 포함된다. 상충되는 경우에는, 본 명세서에서의 임의의 정의를 포함하는 본 출원이 좌우할 것이다.
(E)-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부트-2-엔(E-CF3CH=CHCF3; E-1336mzz)을 제조하는 액체상 공정이 본 명세서에서 제공된다. 본 명세서에서 제공된 방법은 CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 유효량의 염기로 처리하여 E-CF3CH=CHCF3을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계를 포함하며, 이 방법은 액체상 공정이다. 일부 실시 형태에서, 혼합물은 E-CF3CH=CHCF3과, 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3 중 하나 이상을 포함한다.
일부 실시 형태에서, 염기는 수산화리튬, 산화리튬, 수산화나트륨, 산화나트륨, 수산화칼륨, 산화칼륨, 수산화루비듐, 산화루비듐, 수산화세슘, 산화세슘, 수산화칼슘, 산화칼슘, 수산화스트론튬, 산화스트론튬, 수산화바륨, 및 산화바륨으로 이루어진 군으로부터 선택된다. 일부 실시 형태에서, 염기는 수산화칼륨이다. 일부 실시 형태에서, 염기는 수산화나트륨이다. 일부 실시 형태에서, 염기는 수용액 중에 존재한다. 일부 실시 형태에서, 수용액 중의 염기의 농도는 약 4 M 내지 약 12 M이다.
일부 실시 형태에서, 본 방법은 상 전이 촉매의 존재 하에 수행된다. 일부 실시 형태에서, 상 전이 촉매는 4차 암모늄 염, 헤테로사이클릭 암모늄 염, 유기 포스포늄 염, 및 비이온성 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된다. 일부 실시 형태에서, 상 전이 촉매는 벤질트라이메틸암모늄 클로라이드, 벤질트라이에틸암모늄 클로라이드, 메틸트라이카프릴암모늄 클로라이드, 메틸트라이부틸암모늄 클로라이드, 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드, 다이메틸다이페닐포스포늄 요오다이드, 메틸트라이페녹시포스포늄 요오다이드, 테트라부틸포스포늄 브로마이드, 테트라부틸포스포늄 클로라이드, 헥사데실트라이부틸포스포늄 브로마이드, 및 DL-α-토코페롤 메톡시폴리에틸렌 글리콜 석시네이트로 이루어진 군으로부터 선택된다. 일부 실시 형태에서, 상 전이 촉매는 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드이다.
본 명세서에서 제공된 방법의 일부 실시 형태에서, 염기는 수산화나트륨이고 상 전이 촉매는 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드이다.
본 명세서에서 제공된 방법의 일부 실시 형태에서, 혼합물은 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3 중 하나 이상을 추가로 포함한다. 일부 실시 형태에서, E-CF3CH=CHCF3은 약 95% 이상의 수율로 생성된다. 일부 실시 형태에서, E-CF3CH=CHCF3은 혼합물의 다른 성분들에 대해 약 99 몰% 이상의 선택성으로 생성된다.
본 명세서에서 제공된 방법의 일부 실시 형태에서, E-CF3CH=CHCF3은 혼합물로부터 실질적으로 단리된다.
일부 실시 형태에서, 본 방법은 CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 제조하는 단계를 포함한다. 일부 실시 형태에서, CF3CH2CHClCF3은 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 HF와 접촉시키는 단계를 포함하는 제2 공정에 따라 제조되며, 제2 공정은 액체상 공정이다.
일부 실시 형태에서, 촉매는 금속 할로겐화물이다. 일부 실시 형태에서, 금속 할로겐화물은 SbF5, SbCl5, SbCl3, SnCl4, TaCl5, TiCl4, NbCl5, MoCl6, WCl6, 안티몬(V) 클로로플루오라이드, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다. 일부 실시 형태에서, 금속 할로겐화물은 SbF5이다. 일부 실시 형태에서, 금속 할로겐화물은 TaCl5이다. 일부 실시 형태에서, 금속 할로겐화물은 안티몬(V) 클로로플루오라이드이다.
일부 실시 형태에서, 제2 공정은 약 50℃ 내지 약 100℃의 온도에서 수행된다.
일부 실시 형태에서, CF3CH2CHClCF3은 약 93% 이상의 수율로 생성된다. 일부 실시 형태에서, CF3CH2CHClCF3은 약 95% 이상의 수율로 생성된다.
일부 실시 형태에서, 본 방법은 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 제조하는 단계를 포함한다. 일부 실시 형태에서, CF3CHClCH2CCl3은 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 접촉시키는 단계를 포함하는 제3 공정에 의해 제조되며, 제3 공정은 액체상 공정이다.
일부 실시 형태에서, 유기인 화합물은 포스페이트 에스테르, 포스페이트 아미드, 포스폰산, 포스폰산 에스테르, 포스핀산, 포스핀산 에스테르, 포스핀 옥사이드, 포스핀 이미드, 포스포늄 염, 포스포렌, 포스파이트, 포스포네이트, 포스피나이트, 및 포스핀으로 이루어진 군으로부터 선택된다. 일부 실시 형태에서, 유기인 화합물은 포스페이트, 다이포스페이트, 트라이포스페이트, 및 트라이알킬포스페이트로 이루어진 군으로부터 선택된다. 일부 실시 형태에서, 유기인 화합물은 트라이부틸포스페이트이다.
일부 실시 형태에서, 촉매의 금속은 Fe, Co, Ni, Cu, Mo, Cr, 및 Mn으로 이루어진 군으로부터 선택된다. 일부 실시 형태에서, 금속은 Fe이다.
일부 실시 형태에서, 제3 공정은 약 100℃ 내지 약 120℃의 온도에서 일어난다.
E-CF3CH=CHCF3의 제조 방법이 본 명세서에서 제공되며, 이 제조 방법은 (a) 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 접촉시켜 CF3CHClCH2CCl3을 생성하는 단계; (b) 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3을 HF와 접촉시켜 CF3CH2CHClCF3을 생성하는 단계; 및 (c) CF3CH2CHClCF3을 유효량의 염기로 처리하여 E-CF3CH=CHCF3을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계를 포함하며, 이 제조 방법은 액체상 공정이다. 일부 실시 형태에서, 단계 (c)는 상 전이 촉매의 존재 하에 수행된다. 일부 실시 형태에서, 혼합물은 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3 중 하나 이상을 추가로 포함한다. 일부 실시 형태에서, E-CF3CH=CHCF3은 혼합물로부터 실질적으로 단리된다.
E-CF3CH=CHCF3의 제조 방법이 본 명세서에서 제공되며, 이 제조 방법은 (a) 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 접촉시켜 CF3CHClCH2CCl3을 생성하는 단계; (b) 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3을 HF와 접촉시켜 CF3CH2CHClCF3을 생성하는 단계; 및 (c) 상 전이 촉매의 존재 하에 CF3CH2CHClCF3을 유효량의 염기로 처리하여 E-CF3CH=CHCF3을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계를 포함하며, 이 제조 방법은 액체상 공정이다. 일부 실시 형태에서, 단계 (c)의 염기는 수산화나트륨이다. 일부 실시 형태에서, 혼합물은 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3 중 하나 이상을 추가로 포함한다. 일부 실시 형태에서, E-CF3CH=CHCF3은 혼합물로부터 실질적으로 단리된다.
(a) E-CF3CH=CHCF3, 및 (b) 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 추가 화합물을 포함하는 조성물이 또한 본 명세서에서 제공되며, 이 조성물은 약 99 몰% 초과의 E-CF3CH=CHCF3을 포함한다.
(a) E-CF3CH=CHCF3, 및 (b) 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 추가 화합물을 포함하는, 본 명세서에 기재된 방법에 따라 제조된 조성물이 또한 본 명세서에서 제공되며, 이 조성물은 약 99 몰% 초과의 E-CF3CH=CHCF3을 포함한다.
이하에서 뒤따르는 상세한 설명을 참조하여 다른 목적 및 이점이 당업자에게 명백하게 될 것이다.
하이드로플루오로올레핀 (E)-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부트-2-엔(E-CF3CH=CHCF3; E-1336mzz)은 지구 온난화 지수가 낮은 발포제이다. E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)의 제조 방법이 본 명세서에서 제공된다. 본 방법은,
(a) 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 접촉시켜 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 생성하는 단계;
(b) 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 HF와 접촉시켜 CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 생성하는 단계; 및
(c) CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 유효량의 염기로 처리하여 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계를 포함하는 액체상 공정이다.
일부 실시 형태에서, 단계 (c)는 상 전이 촉매의 존재 하에 수행된다.
일부 실시 형태에서, E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)은 혼합물로부터 실질적으로 단리된다.
단계 (a) - CF 3 CHClCH 2 CCl 3 (343jfd)의 생성
단계 (a)에서는, 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 반응시켜 2,4,4,4-테트라클로로-1,1,1-트라이플루오로부탄(CF3CHClCH2CCl3; 343jfd)을 생성한다. 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 반응시키는 것은 액체상에서 수행된다.
일부 실시 형태에서, 단계 (a)의 유기인 화합물은 포스페이트 에스테르, 포스페이트 아미드, 포스폰산, 포스폰산 에스테르, 포스핀산, 포스핀산 에스테르, 포스핀 옥사이드, 포스핀 이미드, 포스포늄 염, 포스포렌, 포스파이트, 포스포네이트, 포스피나이트, 또는 포스핀이다. 일부 실시 형태에서, 유기인 화합물은 포스페이트, 다이포스페이트, 트라이포스페이트, 또는 트라이알킬포스페이트이다. 일부 실시 형태에서, 유기인 화합물은 트라이부틸포스페이트이다.
일부 실시 형태에서, 단계 (a)의 유기인 화합물은 단계 (a)의 반응 혼합물 조성물의 약 0.1 중량% 내지 약 5 중량%, 예를 들어, 단계 (a)의 반응 혼합물 조성물의 약 0.5 중량% 내지 약 2.5 중량%, 또는 약 1 중량% 내지 약 1.5 중량%를 구성한다.
일부 실시 형태에서, 단계 (a)의 촉매의 금속은 철(Fe), 코발트(Co), 니켈(Ni), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo), 크롬(Cr), 또는 망간(Mn)이다. 일부 실시 형태에서, 금속은 철이다. 일부 실시 형태에서, 금속을 포함하는 촉매는 철 분말이다.
일부 실시 형태에서, 단계 (a)의 금속을 포함하는 촉매는 단계 (a)의 반응 혼합물 조성물의 약 0.01 중량% 내지 약 1 중량%, 예를 들어, 조성물의 약 0.1 중량% 내지 약 0.7 중량%, 또는 약 0.3 중량% 내지 약 0.6 중량%를 구성한다. 일부 실시 형태에서, 금속을 포함하는 촉매는 단계 (a)의 반응 혼합물 조성물의 약 0.5 중량%를 구성한다.
일부 실시 형태에서, 사염화탄소는 조성물의 약 50 중량% 내지 약 90 중량%, 예를 들어, 단계 (a)의 반응 혼합물 조성물의 약 55 중량% 내지 약 85 중량%, 약 60 중량% 내지 약 80 중량%, 약 65 중량% 내지 약 75 중량%, 또는 약 68 중량% 내지 약 72 중량%의 양으로 단계 (a)의 반응 혼합물 조성물에 존재할 수 있다.
일부 실시 형태에서, 3,3,3-트라이플루오로프로펜은 조성물의 약 10 중량% 내지 약 50 중량%, 예를 들어, 단계 (a)의 반응 혼합물 조성물의 약 15 중량% 내지 약 45 중량%, 약 20 중량% 내지 약 40 중량%, 약 25 중량% 내지 약 35 중량%, 또는 약 28 중량% 내지 약 32 중량%의 양으로 단계 (a)의 반응 혼합물 조성물에 존재할 수 있다.
일부 실시 형태에서, 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 액체상에서 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 반응시켜 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 생성하는 단계는 약 90℃ 내지 약 130℃, 약 100℃ 내지 약 120℃, 또는 약 105℃ 내지 약 115℃의 온도에서 수행된다. 일부 실시 형태에서, 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 액체상에서 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 반응시켜 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 생성하는 단계는 약 90℃, 95℃, 100℃, 105℃, 110℃, 115℃, 120℃, 125℃, 또는 약 130℃의 온도에서 수행된다.
일부 실시 형태에서, 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 액체상에서 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 반응시켜 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 생성하는 단계는 약 1시간 내지 약 10시간 또는 약 2시간 내지 약 5시간의 시간 동안 수행된다. 일부 실시 형태에서, 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 액체상에서 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 반응시켜 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 생성하는 단계는 약 1시간, 2시간, 3시간, 4시간, 5시간, 6시간, 7시간, 8시간, 9시간, 또는 약 10시간의 시간 동안 수행된다.
금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 액체상에서 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 반응시켜 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 생성하는 단계는 약 90℃ 내지 약 130℃, 약 100℃ 내지 약 120℃, 또는 약 105℃ 내지 약 115℃의 온도에서 약 1시간 내지 약 10시간 또는 약 2시간 내지 약 5시간의 시간 동안 수행될 수 있다. 일부 실시 형태에서, 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 액체상에서 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 반응시켜 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 생성하는 단계는 약 105℃ 내지 약 115℃의 온도에서 약 2시간 내지 약 5시간의 시간 동안 수행된다. 일부 실시 형태에서, 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 액체상에서 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 반응시켜 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 생성하는 단계는 약 110℃의 온도에서 약 3시간의 시간 동안 수행된다.
일부 실시 형태에서, CF3CHClCH2CCl3(343jfd)은 단계 (b) 전에 단리된다. 일부 실시 형태에서, CF3CHClCH2CCl3(343jfd)은 약 90%, 92%, 94%, 96% 초과, 또는 약 98% 초과의 순도로 단리된다. 일부 실시 형태에서, 순도는 크로마토그래피에 의해 측정된다. 일부 실시 형태에서, 순도는 기체 크로마토그래피(GC) 분석에 의해 결정된다.
일부 실시 형태에서, 3,3,3-트라이플루오로프로펜의 약 95% 이상이 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)으로 전환된다. 예를 들어, 3,3,3-트라이플루오로프로펜의 약 95%, 96%, 97%, 98%, 99%, 또는 100%가 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)으로 전환된다. 일부 실시 형태에서, CF3CHClCH2CCl3(343jfd)은 혼합물의 다른 성분들에 대해 약 80 몰% 내지 약 100 몰%, 또는 약 85 몰% 내지 약 95 몰%, 또는 약 87 몰% 내지 약 90 몰%의 선택성으로 생성된다.
단계 (b) - CF 3 CH 2 CHClCF 3 (346mdf)의 생성
단계 (b)에서는, 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 플루오르화수소(HF)로 처리하여 2-클로로-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(CF3CH2CHClCF3; 346mdf)을 생성한다. CF3CHClCH2CCl3(343jfd)을 HF와 반응시키는 단계는 액체상에서 수행된다.
일부 실시 형태에서, 단계 (b)의 촉매는 금속 할로겐화물이다. 일부 실시 형태에서, 금속 할로겐화물은 SbF5, SbCl5, SbCl3, SnCl4, TaCl5, TiCl4, NbCl5, MoCl6, WCl6, 안티몬(V) 클로로플루오라이드, 또는 이들의 조합이다. 일부 실시 형태에서, 촉매는 SbF5, TaCl5, 안티몬(V) 클로로플루오라이드, 또는 이들의 조합이다. 일부 실시 형태에서, 촉매는 SbF5이다. 일부 실시 형태에서, 촉매는 TaCl5이다. 일부 실시 형태에서, 촉매는 안티몬(V) 클로로플루오라이드이다.
일부 실시 형태에서, 단계 (b)의 촉매는 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물의 약 0.1 중량% 내지 약 20 중량%, 예를 들어, 조성물의 약 1 중량% 내지 약 15 중량%, 또는 약 5 중량% 내지 약 10 중량%, 또는 약 10 중량% 내지 약 15 중량%를 구성한다. 일부 실시 형태에서, 촉매는 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물의 약 8 중량% 내지 약 10 중량% 또는 약 12 중량% 내지 약 15 중량%를 구성한다.
일부 실시 형태에서, CF3CHClCH2CCl3(343jfd)은 조성물의 약 20 중량% 내지 약 50 중량%, 예를 들어, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물의 약 25 중량% 내지 약 45 중량%, 약 30 중량% 내지 약 40 중량%, 또는 약 32 중량% 내지 약 35 중량%의 양으로 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물에 존재할 수 있다.
일부 실시 형태에서, HF는 조성물의 약 40 중량% 내지 약 70 중량%, 예를 들어, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물의 약 45 중량% 내지 약 65 중량%, 약 50 중량% 내지 약 60 중량%, 또는 약 52 중량% 내지 약 56 중량%의 양으로 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물에 존재할 수 있다.
일부 실시 형태에서, 단계 (b)의 반응물들은 동시에 함께 첨가될 수 있다. 일부 실시 형태에서, 단계 (b)의 반응물들은 순차적으로 임의의 순서로 첨가될 수 있다. 일부 실시 형태에서, 단계 (b)의 반응물들은 하기 순서로 순차적으로 첨가된다: (1) 촉매; (2) HF; (3) CF3CHClCH2CCl3(343jfd).
일부 실시 형태에서, 촉매의 첨가 후에, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 약 0℃ 내지 약 20℃, 예를 들어, 약 0℃, 5℃, 10℃, 15℃, 또는 약 20℃의 온도로 냉각된다. 일부 실시 형태에서, 촉매의 첨가 후에, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 HF의 첨가 전에 약 0℃ 내지 약 20℃의 온도로 냉각된다.
일부 실시 형태에서, HF의 첨가 후에, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 약 90℃ 내지 약 120℃, 또는 약 100℃ 내지 약 110℃, 예를 들어, 약 90℃, 95℃, 100℃, 105℃, 110℃, 115℃, 또는 약 20℃의 온도로 가열된다. 일부 실시 형태에서, 가열은 약 30분 내지 약 5시간 또는 약 30분, 1시간, 2시간, 3시간, 4시간, 또는 약 5시간의 시간 동안 수행된다. 일부 실시 형태에서, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 약 30분 내지 약 5시간의 시간 동안 약 90℃ 내지 약 120℃, 또는 약 100℃ 내지 약 110℃의 온도로 가열된다. 일부 실시 형태에서, HF의 첨가 후에, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)의 첨가 전에 약 30분 내지 약 5시간의 시간 동안 약 90℃ 내지 약 120℃ 또는 약 100℃ 내지 약 110℃의 온도로 가열된다.
일부 실시 형태에서, HF의 첨가 후에, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 약 0℃ 내지 약 20℃, 예를 들어, 약 0℃, 5℃, 10℃, 15℃, 또는 약 20℃의 온도로 냉각된다. 일부 실시 형태에서, HF의 첨가 후에, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)의 첨가 전에 약 0℃ 내지 약 20℃의 온도로 냉각된다.
일부 실시 형태에서, HF의 첨가 후에, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 약 30분 내지 약 5시간의 시간 동안 약 90℃ 내지 약 120℃ 또는 약 100℃ 내지 약 110℃의 온도로 가열된 후에, CF3CHClCH2CCl3(343jfd)의 첨가 전에 약 0℃ 내지 약 20℃의 온도로 냉각된다.
일부 실시 형태에서, CF3CHClCH2CCl3(343jfd)의 첨가 후에, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 약 50℃ 내지 약 150℃, 약 75℃ 내지 약 130℃, 또는 약 100℃ 내지 약 115℃의 온도로 가열된다. 일부 실시 형태에서, CF3CHClCH2CCl3(343jfd)의 첨가 후에, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 약 50℃, 55℃, 60℃, 65℃, 70℃, 75℃, 80℃, 85℃, 90℃, 95℃, 100℃, 105℃, 110℃, 115℃, 120℃, 125℃, 130℃, 135℃, 140℃, 145℃, 또는 약 150℃의 온도로 가열된다. 일부 실시 형태에서, CF3CHClCH2CCl3(343jfd)의 첨가 후에, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 약 5시간 내지 약 30시간 또는 약 15시간 내지 약 25시간의 시간 동안 가열된다. 일부 실시 형태에서, CF3CHClCH2CCl3(343jfd)의 첨가 후에, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 약 5시간, 10시간, 15시간, 20시간, 24시간, 또는 약 30시간의 시간 동안 가열된다. 일부 실시 형태에서, CF3CHClCH2CCl3(343jfd)의 첨가 후에, 단계 (b)의 반응 혼합물 조성물은 약 5시간 내지 약 30시간 또는 약 15시간 내지 약 25시간의 시간 동안 약 50℃ 내지 약 150℃, 약 75℃ 내지 약 130℃, 또는 약 100℃ 내지 약 115℃의 온도로 가열된다.
일부 실시 형태에서, 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)과 HF 사이의 액체상 반응에서 생성되는 CF3CH2CHClCF3(346mdf)은 단계 (c) 전에 단리된다. 일부 실시 형태에서, CF3CH2CHClCF3(346mdf)은 약 90 몰%, 91 몰%, 92 몰%, 93 몰%, 94 몰%, 95 몰%, 96 몰%, 97 몰%, 98 몰% 초과, 또는 약 99 몰% 초과의 순도로 단리된다. 일부 실시 형태에서, 순도는 크로마토그래피에 의해 측정된다. 일부 실시 형태에서, 순도는 기체 크로마토그래피(GC) 분석에 의해 결정된다.
일부 실시 형태에서, CF3CHClCH2CCl3(343jfd)의 약 95% 이상이 CF3CH2CHClCF3(346mdf)으로 전환된다. 예를 들어, CF3CHClCH2CCl3(343jfd)의 약 95%, 96%, 97%, 98%, 99%, 또는 100%가 CF3CH2CHClCF3(346mdf)으로 전환된다.
일부 실시 형태에서, 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3(343jfd)과 HF 사이의 액체상 반응에서, CF3CH2CHClCF3(346mdf)은 약 90%, 91%, 92%, 93%, 94%, 95%, 96%, 97%, 98%, 또는 99% 초과의 수율로 생성된다.
단계 (c) - E -CF 3 CH=CHCF 3 ( E -1336mzz)의 생성
단계 (c)에서는, CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 유효량의 염기로 처리하여 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함하는 혼합물을 형성한다. CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 유효량의 염기와 반응시켜 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계는 액체상에서 수행된다.
일부 실시 형태에서, 단계 (c)의 염기는 무기 염기이다. 일부 실시 형태에서, 단계 (c)의 염기는 수산화리튬, 산화리튬, 수산화나트륨, 산화나트륨, 수산화칼륨, 산화칼륨, 수산화루비듐, 산화루비듐, 수산화세슘, 산화세슘, 수산화칼슘, 산화칼슘, 수산화스트론튬, 산화스트론튬, 수산화바륨, 및 산화바륨이다. 일부 실시 형태에서, 염기는 수산화칼륨이다. 일부 실시 형태에서, 염기는 수산화나트륨이다.
일부 실시 형태에서, 단계 (c)의 염기는 수용액 중에 존재한다. 일부 실시 형태에서, 수용액 중의 염기의 농도는 약 1 M 내지 약 12 M, 또는 약 4 M 내지 약 12 M, 또는 약 5 M 내지 약 10 M이다. 일부 실시 형태에서, 수용액 중의 염기의 농도는 약 5 M 또는 약 10 M이다.
일부 실시 형태에서, CF3CH2CHClCF3(346mdf)은 조성물의 약 20 중량% 내지 약 60 중량%, 예를 들어, 단계 (c)의 반응 혼합물 조성물의 약 25 중량% 내지 약 55 중량%, 약 30 중량% 내지 약 50 중량%, 또는 약 35 중량% 내지 약 45 중량%의 양으로 단계 (c)의 반응 혼합물 조성물에 존재할 수 있다.
일부 실시 형태에서, 단계 (c)는 상 전이 촉매의 존재 하에 수행된다. 일부 실시 형태에서, 상 전이 촉매는 4차 암모늄 염, 헤테로사이클릭 암모늄 염, 유기 포스포늄 염, 또는 비이온성 화합물이다. 일부 실시 형태에서, 상 전이 촉매는 벤질트라이메틸암모늄 클로라이드, 벤질트라이에틸암모늄 클로라이드, 메틸트라이카프릴암모늄 클로라이드, 메틸트라이부틸암모늄 클로라이드, 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드, 다이메틸다이페닐포스포늄 요오다이드, 메틸트라이페녹시포스포늄 요오다이드, 테트라부틸포스포늄 브로마이드, 테트라부틸포스포늄 클로라이드, 헥사데실트라이부틸포스포늄 브로마이드, 또는 DL-α-토코페롤 메톡시폴리에틸렌 글리콜 석시네이트이다. 일부 실시 형태에서, 상 전이 촉매는 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드이다. 구매가능한 예시적인 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드 상 전이 촉매는 알리콰트(Aliquat)(등록상표) 336(미국 미주리주 세인트 루이스 소재의 시그마 알드리치(Sigma Aldrich))이다.
일부 실시 형태에서, 상 전이 촉매는 조성물의 약 0.01 중량% 내지 약 5 중량%, 예를 들어, 단계 (c)의 반응 혼합물 조성물의 약 0.1 중량% 내지 약 2.5 중량%, 약 0.5 중량% 내지 약 1.5 중량%, 또는 약 0.9 중량% 내지 약 1.3 중량%의 양으로 단계 (c)의 반응 혼합물 조성물에 존재할 수 있다.
일부 실시 형태에서, CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 유효량의 염기와 반응시켜 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계는 약 50℃ 내지 약 100℃, 약 60℃ 내지 약 90℃, 또는 약 60℃ 내지 약 80℃의 온도에서 수행된다. 일부 실시 형태에서, CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 유효량의 염기와 반응시켜 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계는 약 50℃, 55℃, 60℃, 65℃, 70℃, 75℃, 80℃, 85℃, 90℃, 95℃, 또는 약 100℃의 온도에서 수행된다.
일부 실시 형태에서, CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 유효량의 염기와 반응시켜 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계는 약 1시간 내지 약 10시간 또는 약 2시간 내지 약 5시간의 시간 동안 수행된다. 일부 실시 형태에서, CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 유효량의 염기와 반응시켜 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계는 약 1시간, 2시간, 3시간, 4시간, 5시간, 6시간, 7시간, 8시간, 9시간, 또는 약 10시간의 시간 동안 수행된다.
CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 유효량의 염기와 반응시켜 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계는 약 50℃ 내지 약 100℃, 약 60℃ 내지 약 90℃, 또는 약 60℃ 내지 약 80℃의 온도에서 약 1시간 내지 약 10시간 또는 약 2시간 내지 약 5시간의 시간 동안 수행될 수 있다. 일부 실시 형태에서, CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 유효량의 염기와 반응시켜 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계는 약 60℃ 내지 약 80℃의 온도에서 약 1시간 내지 약 3시간의 시간 동안 수행된다. 일부 실시 형태에서, CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 유효량의 염기와 반응시켜 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계는 약 70℃의 온도에서 약 2시간의 시간 동안 수행된다.
일부 실시 형태에서, CF3CH2CHClCF3(346mdf)을 유효량의 염기와 반응시켜 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계는 또한 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3 중 하나 이상을 생성한다.
일부 실시 형태에서, E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)은 혼합물로부터 실질적으로 단리된다. 일부 실시 형태에서, E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)은 약 90%, 92%, 94%, 95%, 96%, 97%, 98%, 또는 99% 초과의 수율로 형성된다. 일부 실시 형태에서, E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)의 수율은 95% 초과이다.
일부 실시 형태에서, E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)은 반응 혼합물의 다른 성분들에 대해 약 95 몰%, 96 몰%, 97 몰%, 98 몰%, 또는 99 몰% 초과의 선택성으로 생성된다. 일부 실시 형태에서, E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)은 반응 혼합물의 다른 성분들에 대해 약 99 몰% 이상의 선택성으로 생성된다.
조성물
E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함하는 조성물이 또한 본 명세서에서 제공된다. 일부 실시 형태에서, 조성물은 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz) 및 하나 이상의 추가 화합물을 포함한다. 일부 실시 형태에서, 조성물은 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)과, 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3으로부터 선택되는 하나 이상의 추가 성분을 포함한다.
일부 실시 형태에서, 조성물은 약 90 몰%, 91 몰%, 92 몰%, 93 몰%, 94 몰%, 95 몰%, 96 몰%, 97 몰%, 98 몰% 초과, 또는 약 99 몰% 초과의 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함한다. 일부 실시 형태에서, 조성물은 약 99 몰% 초과의 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함한다.
본 명세서에 기재된 방법에 따라 제조된 조성물이 또한 본 명세서에서 제공된다. 일부 실시 형태에서, 본 명세서에 기재된 방법에 의해 제조된 조성물은 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함한다. 일부 실시 형태에서, 본 명세서에 기재된 방법에 의해 제조된 조성물은 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz) 및 하나 이상의 추가 화합물을 포함한다. 일부 실시 형태에서, 본 명세서에 기재된 방법에 의해 제조된 조성물은 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)과, 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3으로부터 선택되는 하나 이상의 추가 성분을 포함한다.
일부 실시 형태에서, 본 명세서에 기재된 방법에 의해 제조된 조성물은 약 90 몰%, 91 몰%, 92 몰%, 93 몰%, 94 몰%, 95 몰%, 96 몰%, 97 몰%, 98 몰% 초과, 또는 약 99 몰% 초과의 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함한다. 일부 실시 형태에서, 본 명세서에 기재된 방법에 의해 제조된 조성물은 약 99 몰% 초과의 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 포함한다.
실시예
본 발명을 하기 실시예에서 추가로 설명한다. 이러한 실시예는 바람직한 실시 형태를 나타내면서 오직 예로서 주어지는 것으로 이해되어야만 한다. 당업자라면, 상기 논의 및 이러한 실시예로부터 바람직한 특징을 확인할 수 있으며, 본 발명의 사상 및 범주를 벗어나지 않고서도 본 발명을 다양하게 변경하고 수정하여 본 발명을 다양한 용도 및 조건에 적합하게 할 수 있다.
재료
철 분말, 사염화탄소, 알리콰트(등록상표) 336 및 수산화나트륨은 미국 미주리주 세인트 루이스 소재의 시그마 알드리치로부터 입수가능하였다. 플루오르화수소, SbCl5 및 3,3,3-트라이플루오로프로펜은 신퀘스트 랩스, 인크.(Synquest Labs, Inc.)로부터 구매하였다.
실시예 1: 343jfd의 제조
3,3,3-트라이플루오로프로펜(66 g, 0.68 mol)을 400 mL 하스텔로이(Hastelloy) 반응기 내의 사염화탄소(158 g, 1.0 mol), Fe 분말(1.12 g, 0.02 mol) 및 트라이부틸포스페이트(2.66, 0.01 mol)의 혼합물에 첨가하였다. 반응기를 3시간 동안 약 110℃로 가열하였다. 혼합물(217 g)을 용기로 옮기고 GC에 의해 분석하였다(100% 3,3,3-트라이플루오로프로펜 전환율, 343jfd에 대한 88% 선택성). 동일한 반응을 2회 반복하고, 재료의 3개의 배치(batch)를 모두 합하였다. 후속 분별에 의해 299 g의 98% 순도 CCl3CH2CHClCF3(343jfd)을 얻었다. b.p. 92 내지 94℃/140 토르. 1H NMR (CDCl3, 400 ㎒) δ: 4.52 (1H, q-d-d, J1=J2=6.9 ㎐, J3=1.8 ㎐), 3.44 (1H, d-d, J1=16.0 ㎐, J2=1.9 ㎐), 3.26 (1H, d-d, J1=16.0 ㎐, J2=7.6 ㎐). 19F NMR (CDCl3, 376 ㎒) δ: -74.85 (3F, d, J=6.9 ㎐). MS (EI): 213 (M+-Cl).
실시예 2: 346mdf의 제조
SbF 5 촉매
240 mL 하스텔로이 C 용기를 SbF5로 충전하고 드라이아이스/아세톤으로 20℃로 냉각하였다. HF를 첨가하고, 용기를 냉각하고 3회 배기시켰다. CCl3CH2CHClCF3(343jfd)을 첨가하고 용기를 N2로 3회 퍼징하였다. 이어서, 반응 용기를 원하는 온도로 가열하고 20시간 동안 진탕하였다. 50 g의 얼음물을 첨가하여 반응물을 켄칭(quenching)하였다. 이어서, 생성물 분포를 GC에 의해 분석하였으며, 이는 표 1에 나타나 있다.
TaCl 5 촉매
TaCl5(10.5 g)를 210 mL 하스텔로이 C 반응기에 첨가한 후에 HF(49 g)를 첨가하였다. 반응 혼합물을 1시간 동안 100℃로 가열하고 이어서 0℃로 냉각하였다. CCl3CH2CHClCF3(343jfd)을 첨가하고 반응물을 20시간 동안 100℃로 다시 가열하였다. 50 g의 얼음물을 첨가하여 반응물을 켄칭하였다. 이어서, 생성물 분포를 GC에 의해 분석하였으며, 이는 표 1에 나타나 있다.
[표 1]
Figure pct00001
CF3CH2CHClCF3 (346mdf): b.p. 48 내지 49℃. 1H NMR (CDCl3, 400 ㎒) δ: 4.36 (1H, q-d-d, J1=J2=6.9 ㎐, J3=1.8 ㎐), 2.90-2.80 (1H, m), 2.72-2.61(1H, m). 19F NMR (CDCl3, 376 ㎒) δ: -64.84 - -64.93 (3F, s), -76.17 - -76.25 (3F, s). MS (EI): 200 (M+).
실시예 3: E -CF 3 CH=CHCF 3 ( E -1336mzz)의 제조
0.27 g의 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드(알리콰트(등록상표) 336)의 존재 하에 실온(RT)에서 346mdf(10 g, 0.05 mol) 및 물(6.8 mL)에 NaOH(6 mL, 0.06 mol)의 수용액을 첨가하였다. 첨가 후에 반응 온도를 70℃로 올리고, 기체 크로마토그래피를 사용하여 반응을 모니터링하였다. 2시간 후에, 7.2 g의 생성물 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 드라이아이스 트랩에서 수집하였다(E-1336mzz 선택성 99.4%, 수율: 95.4%).
실시예 4: E -CF 3 CH=CHCF 3 ( E -1336mzz)의 제조
실온(RT)에서 346mdf(10 g, 0.05 mol) 및 물(6.8 mL)에 KOH(6 mL, 0.06 mol)의 수용액을 첨가하였다. 첨가 후에 반응 온도를 70℃로 올리고, 기체 크로마토그래피를 사용하여 반응을 모니터링하였다. 2시간 후에, 7.6 g의 생성물 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 드라이아이스 트랩에서 수집하였다(E-1336mzz 선택성 99.5%, 수율: 96%).
생성물 조성이 하기 표 2에 나타나 있으며 99% 초과의 E-1336mzz를 함유한다.
[표 2]
Figure pct00002
비교예: E -CF 3 CH=CHCF 3 ( E -1336mzz)의 제조
실온(RT)에서 346mdf(10 g, 0.05 mol) 및 물(6.8 mL)에 NaOH(6 mL, 0.06 mol)의 수용액을 첨가하였다. 첨가 후에 반응 온도를 70℃로 올리고, 기체 크로마토그래피를 사용하여 반응을 모니터링하였다. 2시간 후에, 0.1 g의 생성물 E-CF3CH=CHCF3(E-1336mzz)을 드라이아이스 트랩에서 수집하였다(수율: 1% 미만).
기타 실시 형태
1. 일부 실시 형태에서, 본 출원은 CF3CH2CHClCF3을 유효량의 염기로 처리하여 E-CF3CH=CHCF3을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계를 포함하는, E-CF3CH=CHCF3의 제조 방법을 제공하며, 이 제조 방법은 액체상 공정이다.
2. 일부 실시 형태에서, 본 출원은 CF3CH2CHClCF3을 유효량의 염기로 처리하여 E-CF3CH=CHCF3과, 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3 중 하나 이상을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계를 포함하는, E-CF3CH=CHCF3의 제조 방법을 제공하며, 이 제조 방법은 액체상 공정이다.
3. 염기는 수산화리튬, 산화리튬, 수산화나트륨, 산화나트륨, 수산화칼륨, 산화칼륨, 수산화루비듐, 산화루비듐, 수산화세슘, 산화세슘, 수산화칼슘, 산화칼슘, 수산화스트론튬, 산화스트론튬, 수산화바륨, 및 산화바륨으로 이루어진 군으로부터 선택되는, 실시 형태 1 또는 실시 형태 2의 제조 방법.
4. 염기는 수산화칼륨인, 실시 형태 1 또는 실시 형태 2의 제조 방법.
5. 염기는 수산화나트륨인, 실시 형태 1 또는 실시 형태 2의 제조 방법.
6. 염기는 수용액 중에 존재하는, 실시 형태 1 내지 실시 형태 5 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
7. 수용액 중의 염기의 농도는 약 4 M 내지 약 12 M인, 실시 형태 6의 제조 방법.
8. 상 전이 촉매의 존재 하에 수행되는, 실시 형태 1 내지 실시 형태 7 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
9. 상 전이 촉매는 4차 암모늄 염, 헤테로사이클릭 암모늄 염, 유기 포스포늄 염, 및 비이온성 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는, 실시 형태 8의 제조 방법.
10. 상 전이 촉매는 벤질트라이메틸암모늄 클로라이드, 벤질트라이에틸암모늄 클로라이드, 메틸트라이카프릴암모늄 클로라이드, 메틸트라이부틸암모늄 클로라이드, 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드, 다이메틸다이페닐포스포늄 요오다이드, 메틸트라이페녹시포스포늄 요오다이드, 테트라부틸포스포늄 브로마이드, 테트라부틸포스포늄 클로라이드, 헥사데실트라이부틸포스포늄 브로마이드, 및 DL-α-토코페롤 메톡시폴리에틸렌 글리콜 석시네이트로 이루어진 군으로부터 선택되는, 실시 형태 8 또는 실시 형태 9의 제조 방법.
11. 상 전이 촉매는 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드인, 실시 형태 8 또는 실시 형태 9의 제조 방법.
12. 염기는 수산화나트륨이고 상 전이 촉매는 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드인, 실시 형태 8 또는 실시 형태 9의 제조 방법.
13. 혼합물은 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3 중 하나 이상을 추가로 포함하는, 실시 형태 1 내지 실시 형태 12 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
14. E-CF3CH=CHCF3은 약 95% 이상의 수율로 생성되는, 실시 형태 1 내지 실시 형태 13 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
15. E-CF3CH=CHCF3은 혼합물의 다른 성분들에 대해 약 99 몰% 이상의 선택성으로 생성되는, 실시 형태 1 내지 실시 형태 13 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
16. E-CF3CH=CHCF3은 혼합물로부터 실질적으로 단리되는, 실시 형태 1 내지 실시 형태 13 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
17. CF3CH2CHClCF3은 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3을 HF와 접촉시키는 단계를 포함하는 제2 공정에 따라 제조되며, 제2 공정은 액체상 공정인, 실시 형태 1 내지 실시 형태 13 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
18. 촉매는 금속 할로겐화물인, 실시 형태 17의 제조 방법.
19. 금속 할로겐화물은 SbF5, SbCl5, SbCl3, SnCl4, TaCl5, TiCl4, NbCl5, MoCl6, WCl6, 안티몬(V) 클로로플루오라이드, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는, 실시 형태 18의 제조 방법.
20. 금속 할로겐화물은 SbF5인, 실시 형태 18의 제조 방법.
21. 금속 할로겐화물은 TaCl5인, 실시 형태 18의 제조 방법.
22. 금속 할로겐화물은 안티몬(V) 클로로플루오라이드인, 실시 형태 18의 제조 방법.
23. 제2 공정은 약 50℃ 내지 약 100℃의 온도에서 수행되는, 실시 형태 17 내지 실시 형태 22 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
24. CF3CH2CHClCF3은 약 93% 이상의 수율로 생성되는, 실시 형태 17 내지 실시 형태 23 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
25. CF3CH2CHClCF3은 약 95% 이상의 수율로 생성되는, 실시 형태 17 내지 실시 형태 24 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
26. CF3CHClCH2CCl3은 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 접촉시키는 단계를 포함하는 제3 공정에 의해 제조되며, 제3 공정은 액체상 공정인, 실시 형태 17 내지 실시 형태 25 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
27. 유기인 화합물은 포스페이트 에스테르, 포스페이트 아미드, 포스폰산, 포스폰산 에스테르, 포스핀산, 포스핀산 에스테르, 포스핀 옥사이드, 포스핀 이미드, 포스포늄 염, 포스포렌, 포스파이트, 포스포네이트, 포스피나이트, 및 포스핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는, 실시 형태 26의 제조 방법.
28. 유기인 화합물은 포스페이트, 다이포스페이트, 트라이포스페이트, 및 트라이알킬포스페이트로 이루어진 군으로부터 선택되는, 실시 형태 26 또는 실시 형태 27의 제조 방법.
29. 유기인 화합물은 트라이부틸포스페이트인, 실시 형태 26 내지 실시 형태 28 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
30. 제3 공정의 촉매의 금속은 Fe, Co, Ni, Cu, Mo, Cr, 및 Mn으로 이루어진 군으로부터 선택되는, 실시 형태 26 내지 실시 형태 29 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
31. 제3 공정의 촉매의 금속은 Fe인, 실시 형태 26 내지 실시 형태 29 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
32. 제3 공정은 약 100℃ 내지 약 120℃의 온도에서 일어나는, 실시 형태 26 내지 실시 형태 29 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
33. 일부 실시 형태에서, 본 출원은
(a) 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 접촉시켜 CF3CHClCH2CCl3을 생성하는 단계;
(b) 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3을 HF와 접촉시켜 CF3CH2CHClCF3을 생성하는 단계; 및
(c) CF3CH2CHClCF3을 유효량의 염기로 처리하여 E-CF3CH=CHCF3을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계를 포함하는, E-CF3CH=CHCF3의 제조 방법을 추가로 제공하며,
이 제조 방법은 액체상 공정이다.
34. 단계 (c)는 상 전이 촉매의 존재 하에 수행되는, 실시 형태 33의 제조 방법.
35. 단계 (c)의 혼합물은 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3 중 하나 이상을 추가로 포함하는, 실시 형태 33의 제조 방법.
36. 일부 실시 형태에서, 본 출원은
(a) 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 접촉시켜 CF3CHClCH2CCl3을 생성하는 단계;
(b) 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3을 HF와 접촉시켜 CF3CH2CHClCF3을 생성하는 단계; 및
(c) 상 전이 촉매의 존재 하에 CF3CH2CHClCF3을 유효량의 염기로 처리하여 E-CF3CH=CHCF3을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계를 포함하는, E-CF3CH=CHCF3의 제조 방법을 추가로 제공하며, 이 제조 방법은 액체상 공정이다.
37. 단계 (c)의 염기는 수산화나트륨인, 실시 형태 36의 제조 방법.
38. 단계 (c)의 혼합물은 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3 중 하나 이상을 추가로 포함하는, 실시 형태 36 또는 실시 형태 37의 제조 방법.
39. E-CF3CH=CHCF3은 혼합물로부터 실질적으로 단리되는, 실시 형태 36 내지 실시 형태 38 중 어느 한 실시 형태의 제조 방법.
40. 일부 실시 형태에서, 본 출원은 E-CF3CH=CHCF3; 및 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 추가 화합물을 포함하는 조성물을 추가로 제공하며, 이 조성물은 약 99 몰% 초과의 E-CF3CH=CHCF3을 포함한다.
41. 일부 실시 형태에서, 본 출원은 본 명세서에서 제공된 임의의 방법에 따라 제조된 조성물을 추가로 제공하며, 이 조성물은 E-CF3CH=CHCF3; 및 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 추가 화합물을 포함하고, 이 조성물은 약 99 몰% 초과의 E-CF3CH=CHCF3을 포함한다.
본 발명이 그의 상세한 설명과 관련하여 설명되었지만, 전술한 설명은 예시하고자 하는 것이지 첨부된 청구범위의 범주에 의해 한정되는 본 발명의 범주를 제한하고자 하는 것이 아님을 이해하여야 한다. 다른 태양, 이점, 및 수정이 하기의 청구범위의 범주 내에 있다. 본 발명의 임의의 특정 태양 및/또는 실시 형태에 관하여 본 명세서에 기재된 임의의 특징이 본 명세서에 기재된 본 발명의 임의의 다른 태양 및/또는 실시 형태의 임의의 다른 특징 중 하나 이상과 조합될 수 있으며 이 조합의 상용성을 보장하도록 적절히 수정될 수 있음이 본 발명이 관련된 기술 분야(들)의 숙련자에게 인식될 것이다. 그러한 조합은 본 개시 내용에 의해 고려되는 본 발명의 일부인 것으로 간주된다.

Claims (29)

  1. CF3CH2CHClCF3을 유효량의 염기로 처리하여 E-CF3CH=CHCF3을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계를 포함하며, 액체상 공정인, E-CF3CH=CHCF3의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 혼합물은 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3 중 하나 이상을 추가로 포함하는, 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서, 염기는 수산화리튬, 산화리튬, 수산화나트륨, 산화나트륨, 수산화칼륨, 산화칼륨, 수산화루비듐, 산화루비듐, 수산화세슘, 산화세슘, 수산화칼슘, 산화칼슘, 수산화스트론튬, 산화스트론튬, 수산화바륨, 및 산화바륨으로 이루어진 군으로부터 선택되는, 제조 방법.
  4. 제3항에 있어서, 염기는 수산화칼륨 또는 수산화나트륨인, 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서, 염기는 약 4 M 내지 약 12 M의 수용액인, 제조 방법.
  6. 제1항에 있어서, 4차 암모늄 염, 헤테로사이클릭 암모늄 염, 유기 포스포늄 염, 및 비이온성 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 상 전이 촉매의 존재 하에 수행되는, 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상 전이 촉매는 벤질트라이메틸암모늄 클로라이드, 벤질트라이에틸암모늄 클로라이드, 메틸트라이카프릴암모늄 클로라이드, 메틸트라이부틸암모늄 클로라이드, 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드, 다이메틸다이페닐포스포늄 요오다이드, 메틸트라이페녹시포스포늄 요오다이드, 테트라부틸포스포늄 브로마이드, 테트라부틸포스포늄 클로라이드, 헥사데실트라이부틸포스포늄 브로마이드, 및 DL-α-토코페롤 메톡시폴리에틸렌 글리콜 석시네이트로 이루어진 군으로부터 선택되는, 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상 전이 촉매는 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드인, 제조 방법.
  9. 제6항에 있어서, 염기는 수산화나트륨이고 상 전이 촉매는 메틸트라이옥틸암모늄 클로라이드인, 제조 방법.
  10. 제1항에 있어서, E-CF3CH=CHCF3은 혼합물로부터 실질적으로 단리되는, 제조 방법.
  11. 제1항에 있어서, CF3CH2CHClCF3은 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3을 HF와 접촉시키는 단계를 포함하는 제2 공정에 따라 제조되며, 제2 공정은 액체상 공정인, 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서, 촉매는 SbF5, SbCl5, SbCl3, SnCl4, TaCl5, TiCl4, NbCl5, MoCl6, WCl6, 안티몬(V) 클로로플루오라이드, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 금속 할로겐화물인, 제조 방법.
  13. 제12항에 있어서, 금속 할로겐화물은 SbF5, TaCl5, 및 안티몬(V) 클로로플루오라이드로 이루어진 군으로부터 선택되는, 제조 방법.
  14. 제11항에 있어서, 제2 공정은 약 50℃ 내지 약 100℃의 온도에서 수행되는, 제조 방법.
  15. 제11항에 있어서, CF3CHClCH2CCl3은 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 접촉시키는 단계를 포함하는 제3 공정에 의해 제조되며, 제3 공정은 액체상 공정인, 제조 방법.
  16. 제15항에 있어서, 유기인 화합물은 포스페이트 에스테르, 포스페이트 아미드, 포스폰산, 포스폰산 에스테르, 포스핀산, 포스핀산 에스테르, 포스핀 옥사이드, 포스핀 이미드, 포스포늄 염, 포스포렌, 포스파이트, 포스포네이트, 포스피나이트, 및 포스핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는, 제조 방법.
  17. 제16항에 있어서, 유기인 화합물은 트라이부틸포스페이트인, 제조 방법.
  18. 제15항에 있어서, 촉매의 금속은 Fe, Co, Ni, Cu, Mo, Cr, 및 Mn으로 이루어진 군으로부터 선택되는, 제조 방법.
  19. 제18항에 있어서, 금속은 Fe인, 제조 방법.
  20. 제15항에 있어서, 제3 공정은 약 100℃ 내지 약 120℃의 온도에서 수행되는, 제조 방법.
  21. (a) 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 접촉시켜 CF3CHClCH2CCl3을 생성하는 단계;
    (b) 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3을 HF와 접촉시켜 CF3CH2CHClCF3을 생성하는 단계; 및
    (c) CF3CH2CHClCF3을 유효량의 염기로 처리하여 E-CF3CH=CHCF3을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계
    를 포함하며,
    액체상 공정인, E-CF3CH=CHCF3의 제조 방법.
  22. 제21항에 있어서, 단계 (c)는 상 전이 촉매의 존재 하에 수행되는, 제조 방법.
  23. 제21항에 있어서, 단계 (c)의 혼합물은 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3 중 하나 이상을 추가로 포함하는, 제조 방법.
  24. 제21항에 있어서, E-CF3CH=CHCF3은 혼합물로부터 실질적으로 단리되는, 제조 방법.
  25. (a) 금속을 포함하는 촉매 및 유기인 화합물의 존재 하에 사염화탄소를 3,3,3-트라이플루오로프로펜과 접촉시켜 CF3CHClCH2CCl3을 생성하는 단계;
    (b) 촉매의 존재 하에 CF3CHClCH2CCl3을 HF와 접촉시켜 CF3CH2CHClCF3을 생성하는 단계; 및
    (c) 상 전이 촉매의 존재 하에 CF3CH2CHClCF3을 유효량의 염기로 처리하여 E-CF3CH=CHCF3을 포함하는 혼합물을 형성하는 단계
    를 포함하며,
    액체상 공정인, E-CF3CH=CHCF3의 제조 방법.
  26. 제25항에 있어서, 단계 (c)의 염기는 수산화나트륨인, 제조 방법.
  27. 제25항에 있어서, 단계 (c)의 혼합물은 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3 중 하나 이상을 추가로 포함하는, 제조 방법.
  28. 제25항에 있어서, E-CF3CH=CHCF3은 혼합물로부터 실질적으로 단리되는, 제조 방법.
  29. (a) E-CF3CH=CHCF3; 및
    (b) 헥사플루오로아이소부틸렌(1336mt), 1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부탄(356mff), (E)-1-클로로-1,1,4,4,4-펜타플루오로부트-2-엔(1335lzz) 및 Z-CF3CH=CHCF3으로 이루어진 군으로부터 선택되는 하나 이상의 추가 화합물
    을 포함하며,
    약 99 몰% 초과의 E-CF3CH=CHCF3을 포함하는, 조성물.
KR1020207005567A 2017-09-11 2018-09-10 (e)-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부트-2-엔을 제조하는 액체상 공정 KR20200046033A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201762556744P 2017-09-11 2017-09-11
US62/556,744 2017-09-11
PCT/US2018/050229 WO2019051389A1 (en) 2017-09-11 2018-09-10 LIQUID PHASE PROCESS FOR THE PREPARATION OF (E) -1,1,1,4,4,4-HEXAFLUOROBUT-2-EN

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20200046033A true KR20200046033A (ko) 2020-05-06

Family

ID=63686137

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020207005567A KR20200046033A (ko) 2017-09-11 2018-09-10 (e)-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부트-2-엔을 제조하는 액체상 공정

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10611709B2 (ko)
JP (1) JP7270609B2 (ko)
KR (1) KR20200046033A (ko)
CN (1) CN111065616A (ko)
WO (1) WO2019051389A1 (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MX2020005612A (es) * 2017-12-04 2020-09-24 Chemours Co Fc Llc Proceso e intermedios para preparar 1,1,3-tricloro-4,4,4-trifluoro but-1-eno y (e)-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-eno.
CN109721465B (zh) * 2018-12-17 2022-03-15 西安近代化学研究所 一种制备反式-1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯的方法
US20220194882A1 (en) * 2019-04-05 2022-06-23 The Chemours Company Fc, Llc Processes for producing z-1,1,1,4,4,4-hexafluorobut-2-ene and intermediates for producing same
TW202239046A (zh) 2021-03-19 2022-10-01 美商科慕Ｆｃ有限責任公司 鋰離子電池組的熱防護
TW202346449A (zh) 2022-04-22 2023-12-01 美商科慕Ｆｃ有限責任公司 包含ｅ－１，１，１，４，４，４－六氟－２－丁烯之氟丁烯組成物及其用途
CN116037120B (zh) * 2023-03-31 2023-07-14 北京宇极科技发展有限公司 1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯的正反异构体的制备方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4213975A1 (de) * 1992-04-29 1993-11-04 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von hexafluorbutan und dabei zugaengliche zwischenprodukte
US6548719B1 (en) * 2001-09-25 2003-04-15 Honeywell International Process for producing fluoroolefins
WO2007059468A1 (en) 2005-11-10 2007-05-24 Great Lakes Chemical Corporation Fire extinguishing and fire suppression compositions comprising unsaturate flouorocarbons
US8461401B2 (en) 2010-03-26 2013-06-11 Honeywell International Inc. Method for making hexafluoro-2-butene
US9212109B2 (en) * 2011-10-24 2015-12-15 The Chemours Company Fc, Llc Catalytic processes for making hydromonochlorofluorobutane and hydromonochlorofluoropentane compounds
CN103172489B (zh) * 2013-03-14 2015-07-15 巨化集团技术中心 一种1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯的合成方法
CN106687430B (zh) 2014-03-21 2021-04-27 科慕埃弗西有限公司 生产z-1，1，1，4，4，4-六氟-2-丁烯的方法
CN104370690B (zh) 2014-11-20 2016-08-17 西安近代化学研究所 一种反式-1,1,1,4,4,4-六氟-2-丁烯的合成方法
CN106349007B (zh) * 2016-08-22 2019-06-11 巨化集团技术中心 一种z-hfo-1336的制备方法
EP3601467A1 (en) * 2017-03-20 2020-02-05 The Chemours Company FC, LLC Compositions and uses of trans-1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene

Also Published As

Publication number Publication date
JP2020533286A (ja) 2020-11-19
WO2019051389A1 (en) 2019-03-14
US20190077733A1 (en) 2019-03-14
US10611709B2 (en) 2020-04-07
CN111065616A (zh) 2020-04-24
JP7270609B2 (ja) 2023-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20200046033A (ko) (e)-1,1,1,4,4,4-헥사플루오로부트-2-엔을 제조하는 액체상 공정
EP3872059B1 (en) Process for the preparation of 2,3,3,3 tetrahydrofluoropropene
EP2066605B1 (en) Process to manufacture 2,3,3,3-tetrafluoropropene
EP2285761B1 (en) Process for the preparation of 1,1,1-trifluoro-2,3-dichloropropane
EP2268595B1 (en) Process for the preparation of 2,3,3,3-tetrafluoropropene
US8927791B2 (en) Method for producing tetrafluoropropenes
US7678949B2 (en) Process for the preparation of 1,3,3,3-tetrafluoropropene and/or 2,3,3,3-tetrafluoropropene
KR102052141B1 (ko) 2,3,3,3-테트라플루오로프로펜의 제조 방법
US8754272B2 (en) Process for cis-1-chloro-3,3,3-trifluoropropene
CZ7197A3 (cs) Způsob výroby 1,1,1,3,3-pentafluorpropanu
KR20180039665A (ko) 클로로알칸의 신규 플루오린화 방법
JP2016503055A (ja) ３，３，３−トリフルオロプロピンの合成
CN103508844B (zh) 一种液相氟化制备1,2-二氯-3,3,3-三氟丙烯的方法
JP2014533276A (ja) ヒドロハロアルカンを製造する触媒的フッ素化プロセス
US20120046505A1 (en) Processes for reducing the amount of monofluoroacetate in hydrofluoroolefin production
EP3490964B1 (en) Process for producing halogenated olefins
KR20150130330A (ko) 단계식 불화 방법 및 반응기 시스템
KR20080066853A (ko) 플루오르화 유기 화합물의 제조 방법
WO2010121098A1 (en) Improved process for the preparation of halo-olefins
TW201319012A (zh) 製造氫鹵碳化物及選定化合物之製程

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal