KR20200032734A - 소스를 자성 타겟 재료로 스퍼터링하기 위한 자력 방출 - Google Patents

소스를 자성 타겟 재료로 스퍼터링하기 위한 자력 방출 Download PDF

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KR20200032734A
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다니엘 티오도르 크롤리
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스퍼터링 컴포넌츠 인코포레이티드
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Abstract

회전식 타겟 캐소드를 위한 자석 바 조립체는 지지 구조체, 상기 지지 구조체에 움직일 수 있게 부착되고 복수의 자석을 포함하는 자석 바 구조체, 및 상기 지지 구조체와 상기 자석 바 구조체에 작동 가능하게 결합되는 위치 설정 기구를 포함한다. 상기 위치 설정 기구는 자석 바 구조체를 자성 타겟 재료 실린더 내측에 있는 동안 후퇴 위치와 전개 위치 사이에서 이동시키도록 구성된다. 상기 후퇴 위치는 상기 자석 바 조립체가 상기 타겟 실린더에 삽입되거나 상기 타겟 실린더로부터 제거될 때 자석들과 타겟 실린더의 자성 타겟 재료 사이의 자력을 실질적으로 감소시킨다. 상기 전개 위치는 상기 자석 바 조립체가 상기 타겟 실린더 내에 있을 때 자석들과 자성 타겟 재료 사이의 자력을 실질적으로 증가시키며, 상기 자석 바 구조체로부터의 자기장이 상기 자성 타겟 재료를 관통할 수 있게 한다.

Description

소스를 자성 타겟 재료로 스퍼터링하기 위한 자력 방출
스퍼터링 장치는 전형적으로 자성 타겟 재료를 포함하는 타겟 튜브와, 타겟 튜브에 삽입되는 자석 바를 포함한다.
자성 타겟 재료의 자기 특성은 타겟 재료와 자석 바 사이에 인력을 발생시킨다. 이러한 인력은 타겟 튜브의 내면과 자석 바 사이에 실질적인 힘을 생성하기에 충분히 커서, 자석 바를 타겟 튜브 내로 삽입하고 타겟 튜브로부터 제거하는 것을 어렵게 한다.
회전식 타겟 캐소드를 위한 자석 바 조립체는 지지 구조체, 지지 구조체에 움직일 수 있게 부착되고 복수의 자석을 포함하는 자석 바 구조체, 및 지지 구조체와 자석 바 구조체에 작동 가능하게 결합되는 위치 설정 기구(positioning mechanism)를 포함한다. 위치 설정 기구는 자석 바 구조체를 후퇴 위치(retracted position)와 전개 위치(deployed position) 사이에서 이동시키도록 구성된다. 자석 바 구조체의 후퇴 위치는 자석 바 조립체가 타겟 실린더에 삽입되거나 타겟 실린더로부터 제거될 때 자석과 타겟 실린더의 자성 타겟 재료 사이의 자력을 실질적으로 감소시킨다. 자석 바 구조체의 전개 위치는 자석 바 조립체가 타겟 실린더 내에 있을 때 자석과 자성 타겟 재료 사이의 자력을 실질적으로 증가시키며, 자석 바 구조체로부터의 자기장이 자성 타겟 재료를 관통할 수 있게 한다.
도 1a는 일 실시형태에 따른 회전식 타겟 캐소드용 자석 바 조립체의 사시도이다.
도 1b는 도 1a의 자석 바 조립체의 후퇴 위치에서의 측방 단면 사시도이다.
도 1c는 도 1a의 자석 바 조립체의 전개 위치에서의 측방 단면 사시도이다.
도 1d는 도 1a의 자석 바 조립체를 후퇴 위치에서 도 1a의 선 1E-1E를 따라서 취한 단면 사시도이다.
도 1e는 도 1a의 자석 바 조립체를 전개 위치에서 도 1a의 선 1E-1E를 따라서 취한 단면 사시도이다.
도 2a는 다른 실시형태에 따른 회전식 타겟 캐소드용 자석 바 조립체의 사시도이다.
도 2b는 도 2a의 자석 바 조립체의 후퇴 위치에서의 측방 단면 사시도이다.
도 2c는 도 2a의 자석 바 조립체의 전개 위치에서의 측방 단면 사시도이다.
도 2d는 도 2a의 자석 바 조립체를 후퇴 위치에서 도 2a의 선 2E-2E를 따라서 취한 단면 사시도이다.
도 2e는 도 2a의 자석 바 조립체를 전개 위치에서 도 2a의 선 2E-2E를 따라서 취한 단면 사시도이다.
도 3a는 또 다른 실시형태에 따른 회전식 타겟 캐소드용 자석 바 조립체의 사시도이다.
도 3b는 도 3a의 자석 바 조립체의 후퇴 위치에서의 측방 단면 사시도이다.
도 3c는 도 3a의 자석 바 조립체의 전개 위치에서의 측방 단면 사시도이다.
도 3d는 도 3a의 자석 바 조립체를 후퇴 위치에서 도 3a의 선 3E-3E를 따라서 취한 단면 사시도이다.
도 3e는 도 3a의 자석 바 조립체를 전개 위치에서 도 3a의 선 3E-3E를 따라서 취한 단면 사시도이다.
소스를 자성 타겟 재료로 스퍼터링하기 위한 자력 방출을 제공하는 다양한 장치 및 방법이 본원에 개시되고 설명된다. 본 발명의 기술은 자석 바의 자석들을 자기 타겟 재료로부터 후퇴시키기 위한 기구를 제공하여, 자석 바를 회전식 타겟 캐소드의 타겟 실린더 안으로 용이하게 삽입하고 또한 그로부터 용이하게 제거할 수 있게 한다.
자석 바가 후퇴 위치에, 즉 자석 바와 자성 타겟 재료 사이의 자력을 감소시키게 되는 후퇴 위치에 있을 때, 자석 바를 타켓 실린더 안으로 용이하게 삽입하고 또한 그로부터 용이하게 제거할 수 있도록, 자석 바를 자성 타겟 재료에 대해 이동시키기 위한 대안적인 위치 설정 기구가 제공된다. 위치 설정 기구는 또한 자석 바를 전개 위치에서는 타겟 실린더에 더 근접하게 이동시키도록 작동하여, 스퍼터링 프로세스가 타겟 실린더의 외면에서 발생하도록 자기장이 타겟 재료를 관통할 수 있게 한다.
본 발명의 기술은 다양한 장점 및 이점을 제공한다. 예를 들어, 고정식 자석 바를 타겟 튜브에 설치하거나 그로부터 제거하는 데 외부 자석 바 삽입 또는 제거 도구가 필요하지 않다. 또한, 타겟 실린더를 단부 블록에 탈착하는 중에 자석 바가 기계적으로 전개되거나 후퇴되므로 고가의 원격 제어 장비가 필요하지 않다.
본 발명의 기술은 회전식 타겟 캐소드를 위한 자석 바 조립체에 구현될 수 있는 바, 상기 자석 바 조립체는 지지 구조체에 움직일 수 있게 부착된 자석 바 구조체와, 상기 지지 구조체 및 상기 자석 바 구조체에 작동 가능하게 결합된 위치 설정 기구를 포함한다. 위치 설정 기구는 자석 바 구조체를 후퇴 위치와 전개 위치 사이에서 이동시키도록 구성된다. 자석 바 구조체의 후퇴 위치는 자석 바 조립체가 타겟 실린더에 삽입되거나 타겟 실린더로부터 제거될 때 자석 바 구조체와 타겟 실린더의 자성 타겟 재료 사이의 자력을 실질적으로 감소시킨다. 감소된 자력은 자석 바 조립체와 타겟 실린더의 내면 사이의 마찰력을 상당히 감소시켜서, 작업자가 더 쉽게 삽입하고 제거할 수 있게 한다.
일부 실시형태들에서, 자석 바 구조체가 전개 위치에 있을 때, 자석 바 구조체와 타겟 실린더 사이에 약 1 mm 내지 약 3 mm의 간극이 있다. 자석 바 구조체가 전개 위치로부터 후퇴 위치로 이동될 때, 자석 바 구조체와 타겟 실린더 사이의 간극은 약 10 mm 내지 약 20 mm 증가한다.
자석 바 조립체의 지지 구조체는, 전개 위치에 있을 때 자석 바 구조체와 타겟 실린더 사이의 거리를 정확하게 제한하기 위해, 실질적으로 강성일 수 있다. 냉각제 공급 및 복귀가 타겟 실린더의 일측에만 위치될 수 있도록 하기 위한 냉각제 통로도 또한 제공된다.
자석 바 구조체의 전개 위치는 자석 바 조립체가 타겟 실린더 내에 있을 때 자석과 자성 타겟 재료 사이의 자력을 실질적으로 증가시켜서, 자석 바 구조체로부터의 자기장이 자성 타겟 재료를 관통할 수 있게 한다. 자석 바 구조체가 전개 위치에 있는 동안에, 자성 타겟 재료의 표면에 생성된 자기장은 플라즈마를 자기적으로 구속시키기에 충분히 강할 필요가 있으며, 자기적으로 구속된 표준 스퍼터링 공정을 가능하게 하기에 충분히 강할 필요가 있다. 타겟 표면에 자기 구속을 생성하기에 충분한 자기장으로 자성 타겟 재료를 포화시키기 위해서는, 자석 바 구조체의 강한 자석들을 타겟 표면에 가깝게 유지시킬 필요가 있으며, 이는 자석들과 자석 타겟 재료 사이에 실질적으로 큰 인력을 생성한다.
자석 바 구조체와 자성 타겟 재료 사이의 자력을 감소시키기 위해, 자석 바 구조체를 삽입 및 제거를 위해 타겟 실린더 내면으로부터 후퇴시킬 수 있게 하는 위치 설정 기구의 대안적인 실시형태들이 구현될 수 있다. 그 때, 위치 설정 기구는 자석 바가 타겟 실린더 내의 정확한 위치에 있게 되면 자석 바 구조체를 전개 위치로 이동시키기 위해 사용된다. 자석 바 구조체의 위치 설정은 타겟 실린더가 회전식 타겟 캐소드의 단부 블록에 장착되기 전에 자석 바 조립체가 타겟 실린더 내부에 있는 동안에 일어날 수 있다. 자석 바 구조체를 전개 위치로 위치 설정하는 것도 또한 타겟 실린더가 회전식 타겟 캐소드의 단부 블록에 장착된 후에 이루어질 수 있다. 위치 설정은 기계적 힘, 전기적 힘, 공압 힘, 유압 힘 또는 자력의 임의의 조합을 이용하여 이루어질 수 있다. 위치 설정 기구는 자석 바 구조체의 완전히 전개된 위치 또는 완전히 후퇴된 위치를 제공하도록 구성된다.
자석 바 구조체가 타겟 실린더 외부에 있는 동안 자기장 미세 조절(magnetic field fine tuning)을 하기 위한 하나 이상의 조정 기구가 위치 설정 기구에 추가하여 제공될 수 있다. 예를 들어, 조정 기구는 타겟 실린더 표면의 자기장 균일성을 조절(tuning)하기 위해, 자석 바 조립체가 타겟 실린더 외부에 있는 동안에, 지지 구조체의 길이를 따르는 개별 조정을 제공할 수 있다.
일 실시형태에서, 위치 설정 기구는 기계식 연동 장치 조립체에 의해 제공된다. 다른 실시형태에서, 위치 설정 기구는 고무 스프링 및 팽창 가능한 블래더 조립체에 의해 제공된다. 또 다른 실시형태에서, 위치 설정 기구는 스프링이 없는 팽창 가능한 블래더에 의해 제공된다.
대안적인 실시형태에서, 회전식 타겟 캐소드를 위한 자석 바 조립체는 지지 구조체, 지지 구조체에 움직일 수 있게 부착된 자석 바 구조체, 및 자력 변형 완화 조립체를 포함한다. 상기 변형 완화 조립체는 제1 단부에서 지지 구조체에 결합된 변형 완화 단부 블록 연결부, 및 제1 단부와 반대되는 제2 단부에서 지지 구조체에 결합된 변형 완화 단부 캡 연결부를 포함한다. 변형 완화 조립체는 자석 바 조립체와 자기 타겟 실린더 사이의 자력이 단부 블록 연결부 및 단부 캡 연결부로 전달되는 것을 방지한다.
이하에서는 도면을 참조하여 다양한 예시적인 실시형태들에 대해 설명한다.
도 1a 내지 도 1e는 일 실시형태에 따른 회전식 타겟 캐소드용 자석 바 조립체(100)의 다양한 도면을 예시하고 있다. 일반적으로, 자석 바 조립체(100)는 강성의 장형(elongated) 지지 구조체(102), 및 지지 구조체(102)에 움직일 수 있게 부착된 자석 바 구조체(104)를 포함한다. 자석 바 구조체(104)는 요크(108)에 부착된 실질적으로 평행한 열의 자석들(106)의 어레이를 포함한다. 자석 바 구조체(104)는 뒤에서 설명되는 위치 설정 기구를 사용하여 후퇴 위치(도 1b 및 도 1d)와 전개 위치(도 1c 및 도 1e) 사이에서 이동 가능하다. 위치 설정 기구는 자석 바 구조체(104)가 후퇴 위치와 전개 위치 사이에서 이동 가능하도록 자석 바 구조체(104)를 회전 가능한 타겟 실린더의 내면에 대해 이동시키도록 구성된다.
지지 구조체(102)는 한 쌍의 대향 측면 플레이트(110, 112)와, 측면 플레이트들(110, 112) 사이에 예컨대 한 세트의 볼트(116)로 결합된 상부 플레이트(114)를 포함한다. 한 쌍의 대향 단부 플레이트(118, 120)는 예컨대 한 세트의 볼트(122)로 상부 플레이트(114)에 각각 움직일 수 있게 결합된다. 복수의 롤러(124)가 측면 플레이트(110, 112)에 움직일 수 있게 연결된다. 상기 롤러들(124)은 회전식 타겟 캐소드의 작동 중에 자석 바 구조체(104)를 타겟 실린더의 내면으로부터 멀리 유지시키도록 구성된다. 이동 제한 가이드 핀(126)이 측면 플레이트(110)의 슬롯(128)에 위치되고, 자석 바 구조체(104)를 정확하게 위치된 채로 유지시키도록 작동한다.
한 쌍의 강성 냉각제 튜브(130, 132)가 각각 단부 플레이트들(110, 112) 사이와 상부 플레이트(114) 위에 연결된다. 변형 완화 단부 블록 연결부(134)가 단부 플레이트(118)에 결합되고, 변형 완화 단부 캡 연결부(138)가 단부 플레이트(120)에 결합된다. 도 1b 및 도 1c에 도시된 바와 같이, 냉각제 튜브(130, 132)는 단부 플레이트(118) 내의 통로(136)를 통해 단부 블록 연결부(134)와 연통된다. 또한, 냉각제 튜브(130, 132)는 단부 플레이트(120) 내의 통로(140)를 통해 단부 캡 연결부(138)와 연통된다.
단부 블록 연결부(134)와 단부 캡 연결부(138)에 대한 변형 완화는 회전식 타겟 캐소드가 작동하는 동안 볼트들(122)을 따라 상하로 이동할 수 있는 단부 플레이트(118 및 120)에 의해 제공된다. 이 구성은 단부 블록 연결부(134)와 단부 캡 연결부(138)와 냉각제 튜브(130, 132)가 단부 플레이트(118 및 120)와 함께 이동할 수 있게 한다. 이는 타겟 실린더와 자석들 사이의 자력의 응력이 회전식 타겟 캐소드의 단부 블록 또는 단부 캡 부싱 상의 중앙 유틸리티 샤프트로 전달되지 않게 한다. 대신에, 자력은 자석들로부터 지지 구조체(102)로 전달된 다음 롤러들(124)을 통해 타겟 실린더로 전달된다.
자석 바 조립체(100)의 위치 설정 기구는 지지 구조체(102) 및 자석 바 구조체(104)를 지지하도록 결합된 기계식 연동 장치 조립체를 포함한다. 기계식 연동 장치 조립체는 자석 바 구조체(104)(도 1b 및 도 1c) 상의 한 세트의 위치 설정 연동 부재(146)와, 지지 구조체(102)(도 1d 및 도 1e)와 결합된 한 세트의 연동 핀 세트(148) 사이에 움직일 수 있게 연결된 한 세트의 연동 결합 바(144)를 포함한다. 위치 설정 나사(150)는 기계식 연동 장치 조립체에 움직일 수 있게 결합되어 자석 바 구조체(104)의 위치를 후퇴 위치와 전개 위치 사이에서 변경시킨다. 회전식 타겟 캐소드가 작동하는 동안에 자석 바 구조체(104)가 측방으로 운동하는 것을 방지하기 위해, 복수의 자석 바 비틀림 제한기(152)(도 1b 및 도 1c)가 자석 바 구조체(104)의 요크(108)에 결합된다.
도 2a 내지 도 2e는 다른 실시형태에 따른 회전식 타겟 캐소드용 자석 바 조립체(200)의 다양한 도면을 예시하고 있다. 일반적으로, 자석 바 조립체(200)는 강성의 장형 지지 구조체(202), 및 지지 구조체(202)에 움직일 수 있게 부착된 자석 바 구조체(204)를 포함한다. 자석 바 구조체(204)는 요크(208)에 부착된 실질적으로 평행한 열의 자석들(206)의 어레이를 포함한다. 자석 바 구조체(204)는 뒤에서 설명되는 위치 설정 기구를 사용하여 후퇴 위치(도 2b 및 도 2d)와 전개 위치(도 2c 및 도 2e) 사이에서 이동 가능하다. 위치 설정 기구는 자석 바 구조체(204)가 후퇴 위치와 전개 위치 사이에서 이동 가능하도록 자석 바 구조체(204)를 회전 가능한 타겟 실린더의 내면에 대해 이동시키도록 구성된다.
지지 구조체(202)는 한 쌍의 대향 측면 플레이트(210, 212)와, 측면 플레이트들(210, 212) 사이에 예컨대 한 세트의 체결구들(216)로 결합된 지지 블록(214)을 포함한다. 한 쌍의 대향 단부 플레이트(218, 220)는 예컨대 각각의 슬롯(223) 내에 위치된 한 세트의 볼트들(222)로 측면 플레이트들(210, 212) 사이에 각각 움직일 수 있게 결합된다. 자석 바 구조체(204)를 타겟 실린더의 내면으로부터 벗어나게 유지시킬 수 있도록 복수의 롤러(224)가 측면 플레이트(210, 212)에 움직일 수 있게 연결된다.
변형 완화 단부 블록 연결부(226)가 단부 플레이트(218)에 결합되고, 변형 완화 단부 캡 연결부(228)가 단부 플레이트(220)에 결합된다. 단부 블록 연결부(226)와 단부 캡 연결부(228)에 대한 변형 완화는 회전식 타겟 캐소드가 작동하는 동안 볼트들(222)에 의해 슬롯(223)을 따라 상하로 이동할 수 있는 단부 플레이트(218 및 220)에 의해 제공된다.
위치 설정 기구는 지지 구조체(202) 및 자석 바 구조체(204)를 지지하도록 결합된 스프링 및 블래더 조립체를 포함한다. 스프링 및 블래더 조립체는 지지 블록(214) 내의 복수의 수직 채널(234) 안에 위치된 한 세트의 압축 스프링들(232)을 포함한다. 한 세트의 작동 볼트들(236)이 각각의 수직 채널(234)을 통해 연장되고, 또한 자석 바 구조체(204)에 결합되는 동안 스프링(232)과 맞물린다. 스프링 및 블래더 조립체는 또한, 팽창성 블래더로서 기능하는 가요성 냉각제 튜브(240)를 포함한다. 가요성 냉각제 튜브(240)는 지지 블록(214) 아래에서 단부 블록 연결부(226)와 단부 캡 연결부(228) 사이에 결합된다(도 2b 및 도 2c).
가요성 냉각제 튜브(240)가 양단에서 개방될 때, 압축 스프링들(232)이 볼트들(236)과 자석 바 구조체(204)를 후퇴 위치로 상향으로 당기도록 바이어스된다(도 2b 및 도 2d). 가요성 냉각제 튜브(240)가 양단에서 폐쇄되어 가압될 때, 자석 바 구조체(204)가 지지 구조체(202)로부터 전개 위치로 하향으로 멀리 밀려난다(도 2c 및 도 2e).
스프링들(232)이 압축된 상태에서 전개 위치에 있는 동안, 지지 구조체(202)에 결합된 위치 잠금 기구가 스프링들(232)을 전개 위치에 유지시키도록 맞물려서, 가요성 냉각제 튜브(240)가 감압되고 양 단부에서 개방될 수 있게 한다. 예를 들어, 위치 잠금 기구는 스프링(232)을 제자리에 잠그기 위해 볼트(236) 위에서 활주할 수 있는 한 세트의 전개 잠금 바(242)를 포함할 수 있다. 가요성 냉각제 튜브(242)의 단부가 개방되어 있는 상태에서 자석 바 구조체(204)가 전개된 위치에 있는 동안, 가요성 냉각제 튜브(242)는 냉각제 공급 또는 복귀 경로로서 기능할 수 있다. 스프링들(232)이 자석 바 구조체(204)를 필요한 때에 다시 후퇴 위치로 이동시킬 수 있도록 하기 위해 위치 잠금 기구가 맞물림에서 해제될 수 있다.
가요성 냉각제 튜브(240)가 가압된 상태에 있는 동안에 고장이 나면 스프링들(232)로부터 저장된 에너지가 방출될 것이고, 이는 볼트들(236)과 자석 바 구조체(204)를 후퇴 위치로 자동적으로 끌어당길 것이라는 점에서, 스프링 및 블래더 조립체는 페일세이프(fail-safe) 작동을 제공한다.
또한, 자석 바 구조체(204)와 스프링들(232) 사이의 전개 거리는 자석 바 구조체(204)의 내외부로의 볼트들(236)의 나사 조임을 조정함으로써 조정 가능하다. 이는 자석 바 구조체(204)의 길이를 따르는 조정이 타겟 실린더의 표면의 자기장 균일성을 조절할 수 있게 한다.
도 3a 내지 도 3e는 또 다른 실시형태에 따른 회전식 타겟 캐소드용 자석 바 조립체(300)의 다양한 도면을 예시하고 있다. 일반적으로, 자석 바 조립체(300)는 강성의 장형 지지 구조체(302), 및 지지 구조체(302)에 움직일 수 있게 부착된 자석 바 구조체(304)를 포함한다. 자석 바 구조체(304)는 요크(308)에 부착된 실질적으로 평행한 열의 자석들(306)의 어레이를 포함한다. 자석 바 구조체(304)는 뒤에서 설명되는 위치 설정 기구를 사용하여 후퇴 위치(도 3b 및 도 3d)와 전개 위치(도 3c 및 도 3e) 사이에서 이동 가능하다. 위치 설정 기구는 자석 바 구조체(304)가 후퇴 위치와 전개 위치 사이에서 이동 가능하도록 자석 바 구조체(304)를 회전 가능한 타겟 실린더의 내면에 대해 이동시키도록 구성된다.
지지 구조체(302)는 한 세트의 지지 구조체 나사들(312)과 함께 유지되는 샌드위치 형태의 복수의 지지 플레이트(310)를 포함한다. 지지 플레이트(310)는 지지 구조체(302)을 통해 연장되는 내부 냉각제 통로(314)를 한정한다. 한 쌍의 대향 단부 플레이트(316, 318)는 예컨대 한 세트의 나사들(320)로 지지 플레이트(310)의 각 단부에 각각 결합된다. 자석 바 구조체(304)를 타겟 실린더의 내면으로부터 벗어나게 유지시킬 수 있도록 복수의 롤러(322)가 측면 플레이트(310)에 움직일 수 있게 연결된다.
느슨한 간극을 갖는 변형 완화 단부 블록 연결부(324)가 단부 플레이트(316)에 결합되고, 느슨한 간극을 갖는 변형 완화 단부 캡 연결부(326)가 단부 플레이트(318)에 결합된다. 각각의 연결부(324, 326)의 느슨한 간극은 예를 들어 고무제 중심 O-링(328)에 의해 제공될 수 있다.
위치 설정 기구는 지지 구조체(302) 및 자석 바 구조체(304)를 지지하도록 결합된 블래더 조립체를 포함한다. 블래더 조립체는 지지 플레이트들(310) 위에 위치된 후퇴 블래더(332), 및 후퇴 블래더(332) 위에 위치된 자석 바 작동 플레이트(334)를 포함한다. 자석 바 작동 플레이트(334)는 지지 플레이트(310)를 통과하는 복수의 볼트(336)에 의해 자석 바 구조체(304)의 요크(308)에 결합된다. 볼트들(336) 각각에 각각 결합된 한 세트의 자석 바 균일성 조정 너트들(338)은 자석 바 작동 플레이트(334)를 후퇴 블래더(332) 위의 제자리에 유지시켜서, 자석 바 구조체(304)의 길이에 따른 조정이 타겟 실린더의 표면 상의 자기장 균일성을 조절할 수 있게 한다. 블래더 충전 포트(340)는 후퇴 블래더(332)를 팽창시킬 수 있게 하기 위해 가스가 가스 공급원으로부터 제공될 수 있도록 후퇴 블래더(332)에 결합된다. 지지 구조체 나사들(312)은 도 3e에 도시된 바와 같이 자석 바 작동 플레이트(334)의 전개 운동을 제한한다.
후퇴 블래더(332)는 팽창될 때 자석 바 작동 플레이트(334)를 위로 밀어내어 결국에는 볼트들(336)과 자석 바 구조체(304)를 후퇴 위치로 상향으로 당긴다(도 3b 및 도 3d). 후퇴 블래더(332)가 수축될 때, 자석 바 작동 플레이트(334)가 볼트들(336)과 자석 바 구조체(304)를 전개 위치로 하향으로 밀어낸다(도 3c 및 도 3e).
예시적 실시형태
실시예 1은 회전식 타켓 캐소드를 위한 자석 바 조립체를 포함하는데, 이 자석 바 조립체는 지지 구조체; 상기 지지 구조체에 움직일 수 있게 부착되고, 복수의 자석을 포함하는 자석 바 구조체; 및 상기 지지 구조체와 상기 자석 바 구조체에 작동 가능하게 결합되며, 상기 자석 바 구조체를 후퇴 위치와 전개 위치 사이에서 이동시키도록 구성된 위치 설정 기구를 포함하고, 상기 자석 바 구조체의 후퇴 위치는 자석 바 조립체가 타겟 실린더에 삽입되거나 타겟 실린더로부터 제거될 때 자석들과 타겟 실린더의 자성 타겟 재료 사이의 자력을 실질적으로 감소시키고, 상기 자석 바 구조체의 전개 위치는 자석 바 조립체가 타겟 실린더 내에 있을 때 자석과 자성 타겟 재료 사이의 자력을 실질적으로 증가시키며, 자석 바 구조체로부터의 자기장이 자성 타겟 재료를 관통할 수 있게 한다.
실시예 2는 실시예 1의 자석 바 조립체로서, 상기 지지 구조체에 움직일 수 있게 연결되며 상기 자석 바 구조체를 상기 타겟 실린더의 내면으로부터 멀리 유지시키도록 구성된 복수의 롤러를 추가로 포함하는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 3은 실시예 1 및 2 중 어느 하나의 자석 바 조립체로서, 자력 변형 완화 조립체를 추가로 포함하는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 4는 실시예 3의 자석 바 조립체로서, 자력 변형 완화 조립체가, 제1 단부에서 상기 지지 구조체에 결합된 변형 완화 단부 블록 연결부, 및 상기 제1 단부와 반대인 제2 단부에서 상기 지지 구조체에 결합된 변형 완화 단부 캡 연결부를 포함하고, 상기 변형 완화 조립체는 자석 바 조립체와 자기 타겟 실린더 사이의 자력이 상기 단부 블록 연결부 및 상기 단부 캡 연결부로 전달되는 것을 방지하는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 5는 실시예 1 내지 4 중 어느 하나의 자석 바 조립체로서, 상기 지지 구조체는 전개 위치에 있을 때 상기 자석 바 구조체와 상기 타겟 실린더 사이의 거리를 정확하게 제한하기 위해 실질적으로 강성인, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 6은 실시예 1 내지 5 중 어느 하나의 자석 바 조립체로서, 냉각제 공급 및 복귀가 상기 타겟 실린더의 일측에만 위치될 수 있도록 하기 위한 냉각제 통로를 추가로 포함하는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 7은 실시예 1 내지 6 중 어느 하나의 자석 바 조립체로서, 타겟 실린더 표면의 자기장 균일성을 조절하기 위해, 자석 바 조립체가 타겟 실린더 외부에 있는 동안에, 상기 지지 구조체의 길이를 따르는 개별 조정을 제공하도록 구성된 하나 이상의 조정 기구를 추가로 포함하는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 8은 실시예 1 내지 7 중 어느 하나의 자석 바 조립체로서, 상기 위치 결정 기구는 기계식 기구, 전기식 기구, 공압 기구, 유압 기구, 또는 자력 기구 중 하나 이상을 사용하여 작동되는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 9는 실시예 1 내지 8 중 어느 하나의 자석 바 조립체로서, 상기 위치 설정 기구는 상기 지지 구조체와 상기 자석 바 구조체에 결합된 기계식 연동 장치 조립체를 포함하는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 10은 실시예 9의 자석 바 조립체로서, 상기 기계식 연동 장치 조립체에 움직일 수 있게 결합되어 상기 자석 바 구조체의 위치를 후퇴 위치와 전개 위치 사이에서 변경시키는 위치 설정 나사를 추가로 포함하는 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 11은 실시예 1 내지 8 중 어느 하나의 자석 바 조립체로서, 상기 위치 설정 기구는 상기 지지 구조체와 상기 자석 바 구조체에 결합된 스프링 및 팽창 가능한 블래더 조립체를 포함하는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 12는 실시예 11의 자석 바 조립체로서, 상기 스프링 및 팽창 가능한 블래더 조립체는 상기 지지 구조체 및 자석 바 구조체에 결합된 한 세트의 압축 스프링; 상기 자석 바 구조체에 결합되며, 상기 지지 구조체 및 상기 압축 스프링을 통해 연장되고 상기 압축 스프링과 맞물리는 한 세트의 작동 볼트; 및 팽창 가능한 블래더를 포함하며, 상기 지지 구조체와 상기 자석 바 구조체 사이에 결합된 가요성 냉각제 튜브를 포함하는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 13은 실시예 12의 자석 바 조립체로서, 상기 자석 바 구조체와 상기 압축 스프링 사이의 전개된 거리는 자석 바 구조체의 내외부로의 작동 볼트의 나사 조임을 조정함으로써 조정 가능하여, 상기 자석 바 구조체의 길이를 따르는 조정이 상기 타겟 실린더의 표면 상의 자기장 균일성을 조절할 수 있게 하는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 14는 실시예 12 내지 13 중 어느 하나의 자석 바 조립체로서, 상기 가요성 냉각제 튜브가 양단에서 개방될 때 상기 압축 스프링이 상기 작동 볼트와 상기 자석 바 구조체를 후퇴 위치로 당기도록 바이어스되고, 상기 가요성 냉각제 튜브가 양단에서 폐쇄되어 가압될 때 상기 자석 바 구조체가 상기 지지 구조체로부터 전개 위치로 멀리 밀려나는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 15는 실시예 14의 자석 바 조립체로서, 자석 바 구조체가 가압된 가요성 냉각제 튜브에 의해 전개 위치로 이동한 때, 상기 지지 구조체에 결합된 위치 잠금 기구가 상기 압축 스프링을 전개 위치에 유지하도록 맞물려서, 가요성 냉각제 튜브가 감압되고 양 단부에서 개방되게 하고; 상기 자석 바 구조체가 전개 위치에 있고 상기 가요성 냉각제 튜브 단부가 개방된 때, 상기 냉각제 튜브가 냉각제 공급 또는 복귀 통로로 기능하고; 상기 자석 바 구조체가 전개 위치에 있는 때, 상기 위치 잠금 기구가 맞물림에서 해제되어 자석 바 구조체를 다시 후퇴 위치로 이동시키는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 16은 실시예 1 내지 8 중 어느 하나의 자석 바 조립체로서, 상기 위치 설정 기구는 상기 지지 구조체와 상기 자석 바 구조체에 결합된 블래더 조립체를 포함하는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 17은 실시예 16의 자석 바 조립체로서, 상기 블래더 조립체는 상기 자석 바 구조체와 반대쪽인 상기 지지 구조체의 한 측면 상에 위치된 후퇴 블래더; 및 자석 바 작동 플레이트로서, 상기 후퇴 블래더를 당해 자석 바 작동 플레이트와 상기 지지 구조체 사이에 개재시키도록 위치되며, 상기 지지 구조체를 통과하는 복수의 볼트에 의해 상기 자석 바 구조체에 결합되는, 자석 바 작동 플레이트를 포함하는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 18은 실시예 17의 자석 바 조립체로서, 상기 후퇴 블래더는 팽창될 때 상기 자석 바 작동 플레이트를 밀어서 결국에는 상기 볼트와 상기 자석 바 구조체를 후퇴 위치로 당기고, 상기 후퇴 블래더가 수축될 때 상기 자석 바 작동 플레이트가 상기 볼트와 상기 자석 바 구조체를 후퇴 위치로 밀어 넣는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 19는 실시예 17 내지 18 중 어느 하나의 자석 바 조립체로서, 상기 자석 바 구조체의 길이를 따르는 조정이 상기 타겟 실린더의 표면 상의 자기장 균일성을 조절할 있게 하기 위해, 각각의 볼트에 각각 결합되는 자석 바 균일성 조정 너트들의 세트를 추가로 포함하는, 자석 바 조립체를 포함한다.
실시예 20은 회전식 타겟 캐소드를 위한 자석 바 조립체를 포함하며, 이 자석 바 조립체는 지지 구조체; 상기 지지 구조체에 움직일 수 있게 부착되고 복수의 자석을 포함하는 자석 바 구조체; 및 자력 변형 완화 조립체로서, 제1 단부에서 상기 지지 구조체에 결합된 변형 완화 단부 블록 연결부, 및 상기 제1 단부와 반대인 제2 단부에서 상기 지지 구조체에 결합된 변형 완화 단부 캡 연결부를 포함하는 자력 변형 완화 조립체를 포함하고, 상기 변형 완화 조립체는 당해 자석 바 조립체와 자기 타겟 실린더 사이의 자력이 상기 단부 블록 연결부 및 상기 단부 캡 연결부로 전달되는 것을 방지한다.
다수의 실시형태들이 설명되었지만, 설명된 실시형태들은 단지 예시적인 것이지 제한적이지 않은 것으로 간주되어야 하며, 설명된 실시형태들에 대한 다양한 변형이 본 발명의 범위를 벗어나지 않고 이루어질 수 있음을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 첨부된 청구범위에 의해 나타내어진다. 청구범위의 의미 및 등가 범위 내에 있는 모든 변경은 그 범위 내에 포함되어야 한다.

Claims (20)

  1. 회전식 타켓 캐소드를 위한 자석 바 조립체로서,
    지지 구조체;
    상기 지지 구조체에 움직일 수 있게 부착되고, 복수의 자석을 포함하는 자석 바 구조체; 및
    상기 지지 구조체와 상기 자석 바 구조체에 작동 가능하게 결합되며, 상기 자석 바 구조체를 후퇴 위치와 전개 위치 사이에서 이동시키도록 구성된 위치 설정 기구를 포함하고,
    상기 자석 바 구조체의 후퇴 위치는 자석 바 조립체가 타겟 실린더에 삽입되거나 타겟 실린더로부터 제거될 때 자석들과 타겟 실린더의 자성 타겟 재료 사이의 자력을 실질적으로 감소시키고,
    상기 자석 바 구조체의 전개 위치는 자석 바 조립체가 타겟 실린더 내에 있을 때 자석과 자성 타겟 재료 사이의 자력을 실질적으로 증가시키며, 자석 바 구조체로부터의 자기장이 자성 타겟 재료를 관통할 수 있게 하는, 자석 바 조립체.
  2. 제1항에 있어서, 상기 지지 구조체에 움직일 수 있게 연결되는 복수의 롤러를 추가로 포함하고, 상기 롤러는 상기 자석 바 구조체를 상기 타겟 실린더의 내면으로부터 멀리 유지시키도록 구성된, 자석 바 조립체.
  3. 제1항에 있어서, 자력 변형 완화 조립체를 추가로 포함하는 자석 바 조립체.
  4. 제3항에 있어서, 상기 자력 변형 완화 조립체는
    제1 단부에서 상기 지지 구조체에 결합된 변형 완화 단부 블록 연결부, 및
    상기 제1 단부와 반대인 제2 단부에서 상기 지지 구조체에 결합된 변형 완화 단부 캡 연결부를 포함하고,
    상기 변형 완화 조립체는 상기 자석 바 조립체와 상기 자성 타겟 실린더 사이의 자력이 상기 단부 블록 연결부 및 상기 단부 캡 연결부로 전달되는 것을 방지하는, 자석 바 조립체.
  5. 제1항에 있어서, 상기 지지 구조체는 전개 위치에 있을 때 상기 자석 바 구조체와 상기 타겟 실린더 사이의 거리를 정확하게 제한하기 위해 실질적으로 강성인, 자석 바 조립체.
  6. 제1항에 있어서, 냉각제 공급 및 복귀가 상기 타겟 실린더의 일측에만 위치될 수 있도록 하기 위한 냉각제 통로를 추가로 포함하는, 자석 바 조립체.
  7. 제1항에 있어서, 타겟 실린더 표면의 자기장 균일성을 조절(tuning)하기 위해, 자석 바 조립체가 타겟 실린더 외부에 있는 동안에, 상기 지지 구조체의 길이를 따르는 개별 조정을 제공하도록 구성된 하나 이상의 조정 기구를 추가로 포함하는, 자석 바 조립체.
  8. 제1항에 있어서, 상기 위치 결정 기구는 기계식 기구, 전기식 기구, 공압 기구, 유압 기구, 또는 자력 기구 중 하나 이상을 사용하여 작동되는, 자석 바 조립체.
  9. 제1항에 있어서, 상기 위치 설정 기구는 상기 지지 구조체와 상기 자석 바 구조체에 결합된 기계식 연동 장치 조립체를 포함하는, 자석 바 조립체.
  10. 제9항에 있어서, 상기 기계식 연동 장치 조립체에 움직일 수 있게 결합되어 상기 자석 바 구조체의 위치를 후퇴 위치와 전개 위치 사이에서 변경시키는 위치 설정 나사를 추가로 포함하는, 자석 바 조립체.
  11. 제1항에 있어서, 상기 위치 설정 기구는 상기 지지 구조체와 상기 자석 바 구조체에 결합된 스프링 및 팽창 가능한 블래더 조립체를 포함하는, 자석 바 조립체.
  12. 제11항에 있어서, 상기 스프링 및 팽창 가능한 블래더 조립체는
    상기 지지 구조체 및 자석 바 구조체에 결합된 한 세트의 압축 스프링;
    상기 자석 바 구조체에 결합되며, 상기 지지 구조체 및 상기 압축 스프링을 통해 연장되고 상기 압축 스프링과 맞물리는 한 세트의 작동 볼트; 및
    팽창 가능한 블래더를 포함하며, 상기 지지 구조체와 상기 자석 바 구조체 사이에 결합된 가요성 냉각제 튜브를 포함하는, 자석 바 조립체.
  13. 제12항에 있어서, 상기 자석 바 구조체와 상기 압축 스프링 사이의 전개된 거리는 자석 바 구조체의 내외부로의 작동 볼트의 나사 조임을 조정함으로써 조정 가능하여, 상기 자석 바 구조체의 길이를 따르는 조정이 상기 타겟 실린더의 표면 상의 자기장 균일성을 조절할 수 있게 하는, 자석 바 조립체.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 가요성 냉각제 튜브가 양단에서 개방될 때 상기 압축 스프링이 상기 작동 볼트와 상기 자석 바 구조체를 후퇴 위치로 당기도록 바이어스되고;
    상기 가요성 냉각제 튜브가 양단에서 폐쇄되어 가압될 때 상기 자석 바 구조체가 상기 지지 구조체로부터 전개 위치로 멀리 밀려나는, 자석 바 조립체.
  15. 제14항에 있어서,
    자석 바 구조체가 가압된 가요성 냉각제 튜브에 의해 전개 위치로 이동한 때, 상기 지지 구조체에 결합된 위치 잠금 기구가 상기 압축 스프링을 전개 위치에 유지하도록 맞물려서, 가요성 냉각제 튜브가 감압되고 양 단부에서 개방되게 하고;
    상기 자석 바 구조체가 전개 위치에 있고 상기 가요성 냉각제 튜브 단부가 개방된 때, 상기 냉각제 튜브가 냉각제 공급 또는 복귀 통로로 기능하고;
    상기 자석 바 구조체가 전개 위치에 있는 때, 상기 위치 잠금 기구가 맞물림에서 해제되어 자석 바 구조체를 다시 후퇴 위치로 이동시키는, 자석 바 조립체.
  16. 제1항에 있어서, 상기 위치 설정 기구는 상기 지지 구조체와 상기 자석 바 구조체에 결합된 블래더 조립체를 포함하는, 자석 바 조립체.
  17. 제16항에 있어서, 상기 블래더 조립체는
    상기 자석 바 구조체와 반대쪽인 상기 지지 구조체의 한 측면 상에 위치된 후퇴 블래더; 및
    자석 바 작동 플레이트로서, 상기 후퇴 블래더를 당해 자석 바 작동 플레이트와 상기 지지 구조체 사이에 개재시키도록 위치되며, 상기 지지 구조체를 통과하는 복수의 볼트에 의해 상기 자석 바 구조체에 결합되는, 자석 바 작동 플레이트를 포함하는, 자석 바 조립체.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 후퇴 블래더는 팽창될 때 상기 자석 바 작동 플레이트를 밀어서 결국에는 상기 볼트와 상기 자석 바 구조체를 후퇴 위치로 당기고;
    상기 후퇴 블래더가 수축될 때 상기 자석 바 작동 플레이트가 상기 볼트와 상기 자석 바 구조체를 후퇴 위치로 밀어 넣는, 자석 바 조립체.
  19. 제17항에 있어서, 상기 자석 바 구조체의 길이를 따르는 조정이 상기 타겟 실린더의 표면 상의 자기장 균일성을 조절할 있게 하기 위해, 각각의 볼트에 각각 결합되는 자석 바 균일성 조정 너트들의 세트를 추가로 포함하는, 자석 바 조립체.
  20. 회전식 타켓 캐소드를 위한 자석 바 조립체로서,
    지지 구조체;
    상기 지지 구조체에 부착되고, 복수의 자석을 포함하는 자석 바 구조체; 및
    자력 변형 완화 조립체로서, 제1 단부에서 상기 지지 구조체에 결합된 변형 완화 단부 블록 연결부, 및 상기 제1 단부와 반대인 제2 단부에서 상기 지지 구조체에 결합된 변형 완화 단부 캡 연결부를 포함하는 자력 변형 완화 조립체를 포함하고,
    상기 변형 완화 조립체는 당해 자석 바 조립체와 자기 타겟 실린더 사이의 자력이 상기 단부 블록 연결부 및 상기 단부 캡 연결부로 전달되는 것을 방지하는, 자석 바 조립체.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102105868B1 (ko) * 2018-10-24 2020-04-29 가부시키가이샤 알박 캐소드 장치 및 스퍼터링 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1161403A (ja) * 1997-08-20 1999-03-05 Mitsubishi Electric Corp スパッタリング装置及びスパッタリング方法
US20110062022A1 (en) * 2008-05-16 2011-03-17 Bekaert Advanced Coating rotatable sputtering magnetron with high stiffness
US20120175251A1 (en) * 2011-01-06 2012-07-12 Sputtering Components, Inc. Sputtering apparatus
US20160225591A1 (en) * 2013-03-01 2016-08-04 Sputtering Components, Inc. Sputtering apparatus

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0610774B2 (ja) 1987-12-17 1994-02-09 株式会社クボタ 自動走行作業車の撮像式操向制御装置
JPH0822367B2 (ja) 1992-11-27 1996-03-06 富士通株式会社 ガス浄化装置
US20040129561A1 (en) * 2003-01-07 2004-07-08 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Cylindrical magnetron magnetic array mid span support
WO2009040892A1 (ja) 2007-09-26 2009-04-02 Canon Anelva Corporation 方向が均一で、かつ方向を変えることができる磁場が生成可能な磁石アセンブリ及びこれを用いたスパッタリング装置
US20110155568A1 (en) * 2009-12-29 2011-06-30 Sputtering Components, Inc. Indexing magnet assembly for rotary sputtering cathode
US9093251B2 (en) * 2011-02-18 2015-07-28 Toyota Motor Europe Nv/Sa Sputtering magnetron assembly
US20130032476A1 (en) * 2011-08-04 2013-02-07 Sputtering Components, Inc. Rotary cathodes for magnetron sputtering system
GB201200574D0 (en) * 2012-01-13 2012-02-29 Gencoa Ltd In-vacuum rotational device
US20150235821A1 (en) * 2012-09-19 2015-08-20 General Plasma, Inc. Uniform force flange clamp
US9418823B2 (en) * 2013-03-01 2016-08-16 Sputtering Components, Inc. Sputtering apparatus
CN106795621B (zh) * 2014-04-28 2020-05-22 零件喷涂公司 磁控管组件和旋转靶阴极组件
US10378102B2 (en) * 2015-02-24 2019-08-13 Ulvac, Inc. Rotary cathode unit for magnetron sputtering apparatus
WO2016185714A1 (ja) * 2015-05-19 2016-11-24 株式会社アルバック マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット
US20180358212A1 (en) * 2015-12-09 2018-12-13 Applied Materials, Inc. System configured for sputter deposition on a substrate, shielding device for a sputter deposition chamber, and method for providing an electrical shielding in a sputter deposition chamber

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1161403A (ja) * 1997-08-20 1999-03-05 Mitsubishi Electric Corp スパッタリング装置及びスパッタリング方法
US20110062022A1 (en) * 2008-05-16 2011-03-17 Bekaert Advanced Coating rotatable sputtering magnetron with high stiffness
US20120175251A1 (en) * 2011-01-06 2012-07-12 Sputtering Components, Inc. Sputtering apparatus
US20160225591A1 (en) * 2013-03-01 2016-08-04 Sputtering Components, Inc. Sputtering apparatus

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