KR20200022185A - 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 및 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법 - Google Patents

초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 및 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 투명 기판을 준비하는 단계; 레이저를 준비하는 단계; 상기 레이저를 상기 투명 기판으로 조사하여 상기 기판 표면에 초소수성 패턴을 형성하는 단계; 상기 기판에 대하여 열처리를 하는 열처리 단계를 포함하는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법을 제공한다.
본 발명은, 투명한 물체의 표면에 레이저를 이용하여 초소수성 패턴을 형성할 수 있고, 초소수성 패턴 사이에 서로 이웃하는 친수성 구간에 선택적으로 시험 대상을 배치하여, 시험 대상의 관찰을 비교하며 수행할 수 있다.

Description

초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 및 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법{Superhydrophobic patterned biochip and its making method}
본 발명은 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 및 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 레이저를 이용하여 표면에 초소수성 패턴을 포함하는 초소수성 영역이 형성되는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 및 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법에 관한 것이다.
물을 차단하는 초소수성 표면은 생물학적 정량을 수행하는 마이크로 어레이 디바이스 등의 젖음(wetting) 성질 제어와 주위의 물이나 습기로부터 이롭지 못한 영향을 받는 초소형 전자소자의 보호뿐만 아니라 세포의 성장을 제어할 수 있는 표면처리방면 및 외부에 노출된 창이나 벽과 같은 표면의 자체정화(self-cleaning) 등에 활용되고 있다.
특히, 소수성 표면을 갖는 표면은 바이오 관련 연구 분야에서도 사용되고 있다.
대한민국 공개특허 2012-0127129호를 참조하면, 다중 단백질의 혼합물로부터 여러 목적 단밸질의 질량 분석기 가능한 친수성/소수성으로 패턴화된 바이오칩이 개시되어 있다.
상기한 기술을 살펴보면, 소정의 기판 상에 2단계의 화학반응을 통해 금으로 친수성/소수성 패턴이 형성되어 있음을 알 수 있다.
상기한 기술은 친수성/소수성 패턴이 금으로 이루어져 있어 높은 비용이 소모되는 문제점이 있다.
또한, 바이오칩의 사용 도중 금으로 이루어진 친수성/소수성 패턴이 손상을 입는 경우, 바이오칩의 기능이 제한되는 문제점이 있다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 투명한 물체의 표면에 레이저를 이용하여 초소수성 패턴을 형성할 수 있는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 초소수성 패턴 사이에 형성되는 초소수성 패턴 가공을 하지 않은 친수성 구간에 선택적으로 시험 대상을 배치하여, 시험 대상의 관찰을 비교하며 수행할 수 있는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 투명 기판을 준비하는 단계; 레이저를 준비하는 단계; 상기 레이저를 상기 투명 기판으로 조사하여 상기 투명 기판 일부에 초소수성 패턴을 형성하는 단계; 상기 기판에 대하여 열처리를 하는 열처리 단계를 포함하는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법을 제공한다.
상기 투명 기판은, 3축 방향 스테이지 상에 장착될 수 있다.
상기 투명 기판의 표면은 친수성을 가질 수 있다.
상기 투명 기판은, 사파이어(saphire), 유리, 쿼츠(quartz), 산화 세라믹, 산화알루미늄(Al2O3) 코팅된 석영, 실리카(Silica; SiO2) 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
상기 레이저는, 355 nm 파장의 앤디 야그(Nd:YAG) 나노 세컨드(nanosecond) 펄스 레이저일 수 있다
상기 레이저의 출력은, 0.05 내지 1.0W 일 수 있다.
상기 패턴은, 그리드(grid) 형태일 수 있다.
상기 패턴은, 일정 간격으로 배치되고 서로 평행한 복수의 직선을 포함할 수 있다.
상기 패턴은, 일정한 직경으로 이루어지고 매트릭스 형태로 복수개가 배치되는 복수의 원일 수 있다.
상기 패턴의 간격은, 50 내지 300μm 일 수 있다.
상기 패턴은 초소수성을 갖고, 상기 패턴과 상기 패턴 사이의 평탄한 면은 친수성을 가질 수 있다.
상기 열처리 단계는, 100 내지 300℃ 분위기에서 1 내지 24 시간 동안 유지되어 이루어질 수 있다.
상기한 목적을 달성하기 위해 본 발명은, 제1항 내지 제1항 중 어느 한 항에 의해 제조되는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩을 제공한다.
상기와 같은 본 발명은, 투명한 물체의 표면에 레이저를 이용하여 초소수성 패턴을 형성할 수 있는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 초소수성 패턴 사이에 형성되는 초소수성 패턴 가공을 하지 않은 친수성 구간에 선택적으로 시험 대상을 배치하여, 시험 대상의 관찰을 비교하며 수행할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법의 구성을 나타내는 순서도이다.
도 2는 본 발명에서 사용하는 레이저 발생기의 구성의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 3은 초소수성 패턴으로 이루어진 초소수성 영역이 형성된 기판의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 4은 기판 상에 형성되는 패턴의 형태의 일예를 나타내는 도면이다.
도 5는 도 4에 도시된 패턴을 보다 상세하게 나타내는 도면이다.
도 6은 초소수성 영역이 포함하는 패턴 형태의 다른 예를 나타내는 도면이다.
도 7은 초소수성 영역이 포함하는 패턴 형태의 또 다른 예를 나타내는 도면이다.
도 8은 조사되는 레이저의 출력 변화에 따른 기판 상의 패턴 형상 변화를 나타내는 도면이다.
도 9는 레이저의 출력에 따른 패턴의 접촉각과 슬라이딩각도를 나타내는 그래프이다.
도 10은 초소수성 패턴의 접촉각의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 11은 패턴의 스텝 사이즈에 따른 패턴의 접촉각과 슬라이딩각도를 나타내는 그래프이다.
도 12는 패턴의 스텝 사이즈에 따른 투과율을 나타내는 그래프이다.
도 13은 패턴의 스텝 사이즈에 따른 투과 상태를 나타내는 도면이다.
이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명에 따른 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법의 구성을 나타내는 순서도이다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법은 기판을 준비하는 단계(ST110), 레이저를 준비하는 단계(ST120), 조사하는 단계(S130T), 열처리 단계(ST140)를 포함한다.
기판을 준비하는 단계(ST110)는 초소수성 패턴이 표면에 형성되는 투명 기판(1)을 준비하는 단계이다. 여기서, 준비되는 투명 기판(1)은 사용자가 필요로 하는 소정의 형태와 면적과 형태를 갖는다. 여기서, 투명 기판(1)은 투명한 사파이어(saphire), 유리, 쿼츠(quartz), 산화 세라믹, 산화알루미늄(Al2O3) 코팅된 석영, 실리카(Silica; SiO2) 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
본 실시예에서는, 기판으로서 0.43mm 두께의 직사각형의 사파이어가 사용되는 것으로 상정하기로 한다.
여기서, 준비되는 투명 기판(1)의 표면은 초기에 친수성을 가질 수 있다.
레이저를 준비하는 단계(ST120)는 상기 단계(ST110)에서 준비된 투명 기판(1) 표면에 초소수성 패턴 형성을 위한 레이저를 조사하는 레이저 발생기를 준비하는 단계이다.
도 2는 본 발명에서 사용하는 레이저 발생기의 구성의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 2를 참조하면, 본 발명에서 사용하는 레이저 발생기(20)는 레이저 소스(21), 경로 전환 미러(22), 어테뉴에이터(attenuator)(23), 광 확산기(24), 집광 렌즈(25)를 포함할 수 있다.
도 2에 도시된 레이저 발생기(20)는 널리 알려진 공지의 기술이므로 이에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
한편, 준비된 투명 기판(1)은 소정의 3축 방향 스테이지(10) 상에 장착되어 있음을 알 수 있다. 3축 방향 스테이지(10)는 레이저 조사 중, 투명 기판(1)을 패턴 형성 진행 과정에 대응하여 소정 방향으로 이동시킬 수 있다.
여기서, 레이저 발생기(20)에서 출력되는 레이저의 출력은, 0.05 내지 1.0W 일 수 있다.
조사하는 단계(ST130)는 준비된 레이저 발생기(20)를 이용하여 준비된 기판(1) 표면에 레이저를 조사한다. 기판(1) 표면에 대한 레이저 조사에 의해 기판(1)상에는 소정의 패턴이 형성될 수 있다. 그리고, 형성된 패턴을 포함하는 부위는 초소수성 영역을 이룰 수 있다. 여기서, 초소수성 영역은 기판(1) 상에서 일정 간격으로 복수개로 형성될 수 있고, 그 간격은 사용자의 필요에 따라 다양하게 설정될 수 있다.
여기서, 조사되는 레이저는 엔디야그(nd-yag) 방식의 펄스 레이저로서, 파장 355 nm 나노세컨드(nanosecond) 펄스(pulse) 레이저일 수 있다.
여기서, 레이저를 조사하는 도중, 투명 기판(1)이 배치된 3축 방향 스테이지(10)는 3축 방향(X, Y, Z) 방향으로 동작하며 투명 기판(1) 상에 소정의 패턴이 형성될 수 있도록 한다. 한편, 본 실시예에서는 레이저 조사 중, 투명 기판이 3축 방향 스테이지에 의해 이동하는 것으로 설명하고 있으나, 사용자의 필요에 따라 레이저 갈바노미터를 이용하여 레이저 조사를 제어하도록 할 수도 있다.
다음의 [표 1]은 기판 상에 패턴 형성 시의 레이저 조사와 3축 방향 스테이지(10)의 동작 조건을 나타낸다.
레이저출력(W) 0.1 0.25 0.5 0.75 1 1.5 2
펄스주파수(Hz) 20
펄스 간격(ns) 20
스태이지이동속도(mm/s) 1
스텝(step) 사이즈(um) 100
샘플수 6 6 6 6 6 6 6
상기한 [표 1]에서 스텝(step) 사이즈는 후술하는 그리드 패턴의 간격을 나타낸다.
또한, 샘플수는 각각의 출력을 갖는 레이저에 의해 표면에 패턴이 형성되는 기판의 수를 나타낸다. 여기서는 각각 6개의 샘플수를 갖지만, 그 수는 사용자의 필요에 따라 변경될 수 있다.
도 3은 초소수성 패턴으로 이루어진 초소수성 영역이 형성된 기판의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 3을 참조하면, 기판(1) 상의 일부 영역에는 직선 형태이고 소정의 폭을 갖는 패턴이 서로 직교하는 그리드 형태로 형성됨을 알 수 있다. 초소수성 패턴을 포함하는 영역은 초소수성 영역(100)을 이룰 수 있다.
본 실시예에서, 초소수성 영역(100)은 바둑판 형태로 배치되어 있지만, 초소수성 영역(100)의 배치 형태는 사용자의 필요에 따라 다양하게 설정될 수 있다.
그리고, 초소수성 패턴을 포함하는 초소수성 영역(100)과 초소수성 영역(100)의 사이로는 친수성 영역(200)이 형성됨을 알 수 있다.
초소수성 영역(100)과 친수성 영역(200)에 대한 보다 상세한 설명은 후술하기로 한다.
도 4는 기판 상에 형성되는 초소수성 영역이 포함하는 초소수성 패턴의 형태의 일예를 나타내는 도면이다.
도 4을 참조하면, 레이저의 조사에 의해 기판(1) 상에 형성된 초소수성 영역(100)이 포함하는 패턴(101)은 직선이 서로 직교하여 형성되는 그리드(grid) 형태임을 알 수 있다. 여기서, 패턴(101)은 소정의 간격(a)을 가질 수 있다. 이에 대해서는 후술하기로 한다.
도 5는 도 4에 도시된 패턴을 보다 상세하게 나타내는 도면이다.
도 5를 참조하면, 기판(1) 상에 형성되는 패턴(101)은 소정의 깊이와 폭으로 이루어져 있음을 알 수 있다. 또한, 패턴 형성 시, 기판(1) 상에 형성된 패턴(101)을 따라서는 패턴(101)의 형성과 동시에 소정의 마이크로 버어(Micro burr)가 형성될 수 있다.
형성된 패턴(101)은 초소수성을 갖는다. 그리고, 패턴(101)에 인접한 부위도 초소수성을 가질 수 있다. 즉, 레이저를 이용한 패턴 형성 시, 패턴에 인접한 부위에는 패턴 형성 중 기판에서 레이저에 의해 기화된 미세한 입자가 코팅되어 초소수성을 가질 수 있다.
따라서, 레이저의 조사에 의해 형성된 패턴(101)과 패턴(101)에 인접한 부위는 초소수성을 가질 수 있다. 또한, 그리드 형태의 패턴(101) 상에서, 서로 직교하는 직선에 의해 이루어지는 사각형의 공간도 초소수성을 가질 수 있다.
한편, 초소수성 영역이 포함하는 패턴은 다른 형태로 이루어질 수 있다.
도 6은 초소수성 영역이 포함하는 패턴 형태의 다른 예를 나타내는 도면이다.
도 6을 참조하면, 초소수성 영역이 포함하는 패턴은 직선 형태로서, 복수개가 서로 일정 간격으로 평행하게 배치됨을 알 수 있다.
또한, 도 7은 초소수성 영역이 포함하는 패턴 형태의 또 다른 예를 나타내는 도면이다.
도 7을 참조하면, 초소수성 영역이 포함하는 패턴은 소정의 직경을 갖는 원형으로서, 복수개가 매트릭스 형태로 배치됨을 알 수 있다.
도 6와 도 7에 도시된 패턴도 패턴에 인접한 영역과 패턴과 패턴 사이의 영역은 초소수성을 가질 수 있다.
초소수성 영역이 포함하는 패턴의 형태는 상기와 같이 다양하지만, 이후의 설명에서는 초소수성 영역이 포함하는 패턴이 그리드 형태인 것으로 상정하여 설명하기로 한다.
도 8은 조사되는 레이저의 출력 변화에 따른 초소수성 영역이 포함하는 패턴 형상 변화를 나타내는 도면이다.
도 8의 a, b, c, d 는 각각 0.1W, 0.25W, 1W 및 2W 출력의 레이저를 이용하여 형성된 패턴을 나타낸다.
도 8의 a, b, c, d를 참조하면, 레이저의 출력이 0.1W, 0.25W, 1W 및 2W 일 때, 형성되는 패턴은 서로 다른 형상으로 이루어짐을 알 수 있다. 이와 같이, 형성되는 패턴의 형상은 레이저의 출력 증가에 따라 마이크로 버어의 높이 증가에 의한 것임을 알 수 있다.
즉, 레이저의 출력에 따라 소정 개수(예를 들어 10개)의 기판을 조사하였을 때, 레이저의 출력이 0.1W, 0.25W, 1W 및 2W로 증가함에 따라, 마이크로 버어의 높이는 0.85, 2.07, 5.60 및 6.95 ㅅm로 증가됨이 측정되었다.
도 8의 (a)에서 알 수 있는 바와 같이, 레이저 파워가 0.1W 이하로 감소되었을 때, 밝고 색이 투명한 평평한 사각형 모양의 영역이 나타남을 알 수 있다.
열처리 단계(ST140)는 표면에 초소수성 영역이 형성된 기판(1)에 대하여 소정의 열을 인가하여 열처리를 하는 단계이다.
사용자는 기판(1)을 소정의 오븐(oven)(미도시) 내에 배치한다. 사용자는 오븐을 동작시켜 약 200℃의 온도 상태가 유지되는 상태에서 6시간 동안 기판(1)을 유지하여 열처리를 수행한다. 이후, 기판(1)을 실온에서 냉각시켜, 열처리를 완료할 수 있다.
열처리의 완료에 의해 표면에 초소수성 영역이 형성된 기판을 사용하는 바이오칩이 완성될 수 있다.
상기와 같이 구성된 바이오칩의 초소수성에 대해서 살펴보기로 한다.
사용자는 서로 다른 출력을 갖는 레이저를 사용하여 완성된 바이오칩을 준비한다. 그리고, 준비된 바이오칩의 표면에 10 μL의 물방울을 떨어뜨려 초소수성을 측정하기로 한다.
도 9는 레이저의 출력에 따른 패턴의 접촉각과 슬라이딩각도를 나타내는 그래프이다.
도 9를 참조하여 설명하기로 한다.
우선, 패턴이 형성되지 않는 평탄한 사파이어 기판은 친수성을 갖는다. 즉, 레이저에 의한 패턴 형성이 이루어진 후, 열처리가 이루어지기 이전의 기판은 도 9의 (a)에 도시된 바와 같이, 접촉각(CA; contact angle)이 90 ㅀ 미만임을 알 수 있다. 또한, 도 9의 (b)에 도시된 바와 같이, 슬라이딩 각도(SA; Sliding Angle)가 측정되지 않음을 알 수 있다. 이는 기판을 180 ㅀ까지 기울여도 물방울이 흘러내리지 않음을 나타내는 것이다. 상기와 같은 접촉각과 슬라이딩 각도에 의해 열처리가 이루어지기 이전의 기판은 친수성임을 알 수 있다.
도 9에서 알 수 있는 바와 같이, 패턴은 열처리 전에는 친수성이지만, 열처리 후에는 초소수성을 갖게 됨을 알 수 있다.
여기서, 0.1 W 출력의 레이저를 사용하여 형성된 패턴은 약 160 ㅀ의 접촉각을 갖고, 슬라이딩 각도가 측정되지 않음을 알 수 있다. 특히, 0.1W보다 큰 출력의 레이저에 의해 형성된 패턴은 높은 접촉각(170° 이상)과 작은 슬라이딩 각도(10° 미만)를 갖고 있음을 나타낸다.
상기와 같은 기판은 자기 세정 응용 분야에 사용할 수 있다.
여기서, 초소수성 패턴의 소수성의 내구성을 평가하기 위해, 패턴이 형성된 기판의 열처리가 완료된 후 대기 중에 배치하고, 15일 경과 후에 초소수성을 측정하였다. 도 9의 (a)와 (b)에 참조하면, 열처리 후 15일이 경과한 기판의 접촉각과 슬라이딩 각도는 열처리 직후의 기판의 접촉각과 슬라이딩 각도와 동일함을 알 수 있다.
도 10은 초소수성 패턴의 접촉각의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 10을 참조하면, 표면에 패턴이 형성된 기판에 대하여 접촉각 이력(contact angle hysteresis)을 측정하였을 때, 0.25W 이상의 레이저로 형성된 패턴은 접촉각의 변화가 10°에서 20° 사이임을 알 수 있고, 이중, 0.25W 의 레이저로 형성된 패턴의 접촉각 변화가 최소임을 알 수 있다. 따라서, 0.25W 출력의 레이저를 사용하여 패턴이 최적의 초소수성을 나타냄을 알 수 있다.
도 11은 패턴의 스텝 사이즈에 따른 패턴의 접촉각과 슬라이딩각도를 나타내는 그래프이다.
0.25W의 레이저에 의해 형성된 패턴의 초소수성이 가장 좋은 결과를 나타내고 있으므로, 도 11에서는 0.25W의 레이저를 사용하여 다양한 스텝 사이즈를 갖는 패턴을 형성하여 초소수성을 측정하였다.
도 11을 참조하면, 패턴의 스텝 사이즈가 50, 100, 150, 200 및 300㎛로 변경됨을 알 수 있다.
각각의 패턴은 열처리 이전에는 모두 40도 미만의 접촉각을 갖고 있고, 슬라이딩 각도는 측정할 수 없음을 알 수 있다.
그러나, 열처리 후에는 각각의 패턴은 160이상의 접촉각을 갖고 있음을 알 수 있다. 또한, 50㎛의 패턴은 8도의 슬라이딩 각도를, 100㎛의 패턴은 4도의 슬라이딩 각도를 갖고 있음을 알 수 있다.
그리고, 150, 200, 300 μm의 패턴은 슬라이딩 각도를 측정할 수 없음을 알 수 있다.
따라서, 스텝 사이즈가 100㎛인 패턴의 초소수성이 가장 높음을 알 수 있다.
도 12는 패턴의 스텝 사이즈에 따른 투과율을 나타내는 그래프이고, 도 13은 패턴의 스텝 사이즈에 따른 투과 상태를 나타내는 도면이다.
도 12와 도 13을 참조하면, 패턴의 스텝 사이즈가 0, 50, 100, 150, 200 및 300㎛로 변경될 때의 투과율이 변화됨을 알 수 있다.
이에 대해서 설명하기로 한다.
패턴의 스텝 사이즈가 0, 즉 패턴의 형성이 이루어지지 않은 투명 기판의 투과율은 투명 기판(1)의 원래의 투과율을 나타낸다.
도 12에서 알 수 있는 바와 같이, 스텝 사이즈가 50 μm인 경우, 투과율은 70 내지 75%임을 알 수 있고, 100 μm 인 경우에는 투과율이 75 내지 80%임을 알 수 있다. 또한, 도 13에서 알 수 있는 바와 같이, 스텝 사이즈가 50 μm, 100 μm, 200 μm, 300 μm 로 증가할수록, 투과율이 상승하여, 바이오칩을 통한 사물의 투시가 용이해짐을 알 수 있다.
또한, 도 12와 도 13을 참조하였을 때, 스텝 사이즈가 100 μm 이상인 경우, 기판을 통해 바이오칩 배면의 배경이 투시될 수 있다.
상기와 같이, 스텝 사이즈가 100 μm 이상일 때, 투과 정도는 실용적으로 사용가능하므로, 스텝 사이즈는 100 μm인 것이 바람직하다.
상기와 같이 표면에 그리드 형태의 패턴이 형성된 바이오칩은 세포의 선택적 성장에 사용될 수 있다.
즉, 바이오칩 표면에 형성된 패턴은 초소수성을 갖고 있고, 패턴이 가공되지 않은 부위는 친수성을 갖고 있다. 따라서, 초소수성을 갖는 부위에는 소정의 혈액이나 시약이 부착되지 않지만, 친수성을 갖는 부분은 혈액이나 시약이 부착될 수 있다. 이에 따라, 사용자는 패턴에 의해 구분된 서로 이웃하는 영역에 서로 다른 혈액이나 시약을 배치시킬 수 있고, 배치된 혈액이나 시약이 서로 분리된 상태에서 소정의 테스트를 동시에 진행할 수 있게 된다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
1: 투명 기판 10: 3축 방향 스테이지
20: 레이저 발생기

Claims (13)

  1. 투명 기판을 준비하는 단계;
    레이저를 준비하는 단계;
    상기 레이저를 상기 투명 기판으로 조사하여 상기 투명 기판의 일부에 초소수성 패턴을 형성하는 단계;
    상기 초소수성 패턴이 형성된 상기 투명 기판에 대하여 열처리를 하는 열처리 단계를 포함하는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 투명 기판은,
    3축 방향 스테이지 상에 장착되는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 투명 기판의 표면은 친수성을 갖는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법.
  4. 제1항 또는 제3항에 있어서,
    상기 투명 기판은,
    사파이어(saphire), 유리, 쿼츠(quartz), 산화 세라믹, 산화알루미늄(Al2O3) 코팅된 석영, 실리카(Silica; SiO2) 중 어느 하나를 포함하는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 레이저는,
    355 nm 파장의 앤디 야그(Nd:YAG) 나노 세컨드(nanosecond) 펄스 레이저인 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법.
  6. 제1항 또는 제5항에 있어서,
    상기 레이저의 출력은,
    0.05 내지 1.0W 인 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 초소수성 패턴은,
    그리드(grid) 형태인 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 초소수성 패턴은,
    서로 평행하고 일정 간격으로 배치되는 복수의 직선을 포함하는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 초소수성 패턴은,
    일정 직경을 갖고, 매트릭스 형태로 배치되어 이루어지는 복수의 원을 포함하는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 초소수성 패턴의 간격은,
    50 내지 300μm 인 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법.
  11. 제1항에 있어서,
    상기 초소수성 패턴 사이의 평탄한 면은 친수성을 갖는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 열처리 단계는,
    100 내지 300℃ 분위기에서 1 내지 24 시간 동안 유지되어 이루어지는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩 제조방법.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 의해 제조되는 초소수성 패턴을 갖는 바이오칩.
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