KR20200017689A - 기판처리장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 외기노출이 차단되는 기판처리장치에 관한 것이다.
본 발명은, 밀폐된 처리공간을 형성하며, 기판처리를 수행하는 공정챔버(10)와; 상기 공정챔버(10)가 설치되는 공정챔버설치공간(S1)을 포함하여 적어도 2개 이상의 복수의 독립된 내부공간들을 형성하는 하우징(100)과; 상기 하우징(100) 외부에 구비되는 배기펌프를 통해 상기 유해가스가 배기되도록, 상기 하우징(100)에 상기 배기펌프와 연통되어 구비되는 배기부(200)를 포함하며, 상기 하우징(100)은, 독립된 상기 내부공간들 내 상기 유해가스를 상기 배기부(200)를 통해 배기하기 위하여, 상기 내부공간들로부터 상기 배기부(200) 측으로 상기 유해가스를 전달하기 위한 배기유로가 내부에 형성되는 배기프레임(130)을 하나 이상 포함하며, 서로 결합되어 설치되는 복수의 프레임(110)들과; 외부와 차단되는 복수의 상기 내부공간들이 형성되도록, 상기 프레임(110)들에 결합되는 복수의 플레이트(120)들을 포함하는 기판처리장치를 개시한다.

Description

기판처리장치{Substrate processing apparatus}
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유해가스의 외부로의 누출을 방지하고, 유해가스의 배기가 원활한 기판처리장치에 관한 것이다.
기판에 식각 또는 증착 등의 기판처리를 수행하기 위해서는, 기판처리장치의 공정챔버 내부로 공정이나 세정을 위한 각종 가스를 공급하게되며, 이로써 공정챔버 뿐만 아니라 기판처리장치를 구성하는 각종 설치물들에 인체에 유해한 유해가스가 남아있을 수 있고, 또 일부 유해가스는 기판처리장치 외부로 누출될 수 있다.
특히, 종래의 기판처리장치의 경우, 공정챔버 내부로 공급되는 가스나 공정과정에서 발생하는 유해가스가 복수의 내부공간들이 형성되는 기판처리장치 내부의 복잡한 구조로인해, 내부의 배기시스템이 원활히 작동되지 못함으로써 유해가스가 내부공간에 그대로 남아있는 문제점이 있다.
또한, 종래의 기판처리장치의 경우, 기판처리장치를 이루는 하우징이 완전한 실링을 이루지 못함에 따라 공정과정에서 발생하는 유해가스가 외부로 누출되는 문제점이 있다.
상기와 같은 경우, 기판처리장치 내부의 유해가스가 외부로 누출되거나, 기판처리장치의 유지, 보수를 위한 작업과정에서 퍼지가스의 불충분, 잔류 파우더와 대기와의 반응, 유해가스 내부잔류 상황에서의 도어 개방 등에 의하여 유해가스가 외부로 노출되어, 작업자에 치명적인 악영향을 끼칠 수 있는 바, 작업자의 생명과 장치의 안정성이 담보되지 못하는 문제점이 있다.
본 발명의 목적은, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 기판처리를 수행하는 기판처리장치의 외부로 기판처리 과정에서 발생되는 유해가스가 노출되는 것을 방지하고, 복수의 내부공간들의 유해가스를 다른 내부공간에 영향없이 안정적으로 배기할 수 있는 기판처리장치를 제공하는데 있다.
본 발명은 상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 창출된 것으로서, 본 발명은, 밀폐된 처리공간을 형성하며, 기판처리를 수행하는 공정챔버(10)와; 상기 공정챔버(10)가 설치되는 공정챔버설치공간(S1)을 포함하여 적어도 2개 이상의 복수의 독립된 내부공간들을 형성하는 하우징(100)과; 상기 하우징(100) 외부에 구비되는 배기펌프를 통해 상기 유해가스가 배기되도록, 상기 하우징(100)에 상기 배기펌프와 연통되어 구비되는 배기부(200)를 포함하며, 상기 하우징(100)은, 독립된 상기 내부공간들 내 상기 유해가스를 상기 배기부(200)를 통해 배기하기 위하여, 상기 내부공간들로부터 상기 배기부(200) 측으로 상기 유해가스를 전달하기 위한 배기유로가 내부에 형성되는 배기프레임(130)을 하나 이상 포함하며, 서로 결합되어 설치되는 복수의 프레임(110)들과; 외부와 차단되는 복수의 상기 내부공간들이 형성되도록, 상기 프레임(110)들에 결합되는 복수의 플레이트(120)들을 포함하는 기판처리장치를 개시한다.
상기 하우징(100)은, 상기 내부공간들의 상기 유해가스가 외부로 누출되는 것을 방지하기 위하여, 상기 내부공간들이 외부보다 낮은 음압을 형성할 수 있다.
상기 하우징(100)은, 상기 공정챔버(10)의 하부에서 상기 공정챔버(10)로의 기판처리를 위한 공정가스 공급을 단속하는 가스공급유닛(20)이 설치되는 가스공급유닛설치공간(S2)이 상기 공정챔버설치공간(S1)의 하단에 형성될 수 있다.
상기 하우징(100)은, 상기 공정챔버설치공간(S1) 및 상기 가스공급유닛설치공간(S2) 내의 상기 유해가스를 상기 배기부(200)를 통해 배기할 수 있도록, 상기 배기프레임(130)을 통해 상기 공정챔버설치공간(S1) 및 상기 가스공급유닛설치공간(S2)과 각각 연통되며, 상기 배기부(200)가 설치되는 배기공간(S3)이 상기 공정챔버설치공간(S1)의 상단에 형성될 수 있다.
상기 배기프레임(130)은, 상기 공정챔버설치공간(S1) 및 상기 배기공간(S3) 사이에서 지면과 평행하게 설치되며, 상기 공정챔버설치공간(S1) 내 상기 유해가스의 상기 배기부(200)를 통한 배기를 위하여 상기 공정챔버설치공간(S1)과 상기 배기공간(S3)이 연통되도록 내부에 제1배기유로(132)가 형성되는 수평배기프레임(131)과, 지면에 수직으로 설치되며, 상기 가스공급유닛설치공간(S2) 내 상기 유해가스의 상기 배기부(200)를 통한 배기를 위하여, 상기 가스공급유닛설치공간(S2)과 상기 배기공간(S3)이 연통되도록 내부에 제2배기유로(141)가 형성되는 수직배기프레임(140)을 포함할 수 있다.
상기 수평배기프레임(131)은, 상기 가스공급유닛설치공간(S2) 내 상기 유해가스의 상기 배기부(200)를 통한 배기를 위하여, 상기 가스공급유닛설치공간(S2)과 상기 배기공간(S3)이 연통되도록 상기 제2배기유로(141)와 연결되는 제3배기유로(135)가 내부에 추가로 형성될 수 있다.
상기 제1배기유로(132) 및 상기 제3배기유로(135)가 서로 분리되어 형성됨으로써, 상기 공정챔버설치공간(S1) 및 상기 가스공급유닛설치공간(S2)이 상기 배기공간(S3)과 각각 독립적으로 연통될 수 있다.
상기 배기부(200)는, 상기 공정챔버설치공간(S1) 및 상기 가스공급유닛설치공간(S2)으로부터 상기 배기프레임(130)을 통해 전달되는 상기 유해가스가 직접 전달되도록, 상기 수평배기프레임(131)에 상기 제1배기유로(132)와 연통되어 결합되는 제1배기관(201)과, 상기 수평배기프레임(131)에 상기 제3배기유로(135)와 연통되어 결합되는 제2배기관(202)을 포함할 수 있다.
상기 하우징(100)은, 상기 공정챔버(10) 및 상기 가스공급유닛(20)을 제어하기 위한 제어유닛(30)이 설치되는 제어유닛설치공간(S4)이 상기 배기공간(S3)에 인접하여 형성되며, 상기 배기프레임(130)은, 상기 제어유닛설치공간(S4) 및 상기 배기공간(S3) 사이에 설치되며, 상기 제어유닛설치공간(S4) 내 상기 유해가스의 상기 배기부(200)를 통한 배기를 위하여 상기 제어유닛설치공간(S4)과 상기 배기공간(S3)이 서로 연통되도록 내부에 배기유로가 형성되는 상기 제어유닛배기프레임(150)을 포함할 수 있다.
상기 하우징(100)은, 상기 공정챔버(10)의 내부에 기판처리를 위하여 분사되는 상기 공정가스를 공급하는 가스소스부(40)가 설치되는 가스소스부설치공간(S5)이 상기 배기공간(S3)에 인접하여 형성되며, 상기 배기프레임(130)은, 상기 가스소스부설치공간(S5) 및 상기 배기공간(S3) 사이에 설치되며, 상기 가스소스부설치공간(S5) 내 상기 유해가스의 상기 배기부(200)를 통한 배기를 위하여 상기 가스소스부설치공간(S5)과 상기 배기공간(S3)이 서로 연통되도록 내부에 배기유로가 형성되는 상기 가스소스부배기프레임(160)을 포함할 수 있다.
상기 유해가스의 검출을 위하여, 상기 하우징(100) 내부에 설치되는 하나 이상의 가스검출센서(300)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 가스검출센서(300)의 상기 유해가스 검출 여부를 통해, 상기 하우징(100) 도어(121)의 잠금해제 가능여부가 결정될 수 있다.
본 발명에 따른 기판처리장치는, 하우징 내부에 공정챔버가 설치되고, 내부가 음압을 형성함으로써, 기판처리장치 내의 유해가스가 외부로 누출되는 것을 방지할 수 있는 이점이 있다.
본 발명에 따른 기판처리장치는, 독립된 복수의 내부공간들이 하우징 내부에 형성되고, 각 내부공간들에 존재하는 유해가스를 프레임을 이용한 비교적 간단한 배기구조를 통해 다른 내부공간에 영향을 끼치지 않고 배기함으로써 안전하고 효율적인 배기시스템 구현이 가능한 이점이 있다.
특히, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 내부에 설치되어 기판처리장치를 구성하는 설치물들의 외기 노출이 차단된 구조로서, 독립된 복수의 내부공간들 사이에 가스의 이동이 차단됨으로써, 특정 공간의 유지, 보수 시 유해가스에 의한 작업자의 피해를 방지할 수 있는 이점이 있다.
또한 본 발명에 따른 기판처리장치는, 내부에 가스디텍터를 구비함으로써, 내부공간에 존재하는 가스에 대한 정량적 수치 및 종류를 파악하고, 이를 활용하여 기판처리장치에 대한 유지, 보수 가능 시점을 판단할 수 있는 이점이 있다.
더 나아가, 본 발명에 따른 기판처리장치는, 내부에 설치되는 가스디텍터를 기판처리장치의 도어 개폐와 연동하여, 유해가스 등이 검출되는 경우 기판처리장치의 도어가 개방되지 않도록 제어되어, 도어 개방에 따른 예기치 않은 사고를 미연에 방지할 수 있는 이점이 있다.
도 1은, 본 발명에 따른 기판처리장치의 모습을 보여주는 사시도이다.
도 2는, 도 1의 기판처리장치의 내부모습을 보여주는 플레이트가 제거된 상태의 정면도이다.
도 3은, 도 1의 기판처리장치 및 공정챔버의 모습을 보여주는 부분단면도이다.
도 4는, 도 1의 기판처리장치의 프레임들의 결합 설치상태를 보여주는 사시도이다.
도 5는, 도 4의 기판처리장치의 배기구조를 보여주는 Ⅴ-Ⅴ 방향 부분단면도이다.
도 6는, 도 1의 기판처리장치 중 상부공간의 모습을 보여주는 천장의 플레이트 일부를 제거한 상태의 부분사시도이다.
도 7은, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 상부공간의 모습을 보여주는 천장의 플레이트 일부를 제거한 상태의 부분사시도이다.
이하 본 발명에 따른 기판처리장치에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
본 발명에 따른 기판처리장치는, 도 2에 도시된 바와 같이, 밀폐된 처리공간을 형성하며, 기판처리를 수행하는 공정챔버(10)와; 상기 공정챔버(10)의 하부에 설치되어, 상기 공정챔버(10)로의 기판처리를 위한 공정가스 공급을 단속하는 가스공급유닛(20)과; 상기 공정챔버(10)가 설치되는 공정챔버설치공간(S1)과, 상기 공정챔버설치공간(S1)의 하단에서 상기 가스공급유닛(20)이 설치되는 가스공급유닛설치공간(S2)을 포함하여 적어도 2개 이상의 독립된 내부공간들을 형성하는 하우징(100)과; 상기 하우징(100) 외부에 구비되는 배기펌프를 통해 상기 내부공간들의 유해가스가 배기되도록, 상기 하우징(100)에 상기 배기펌프와 연통되어 구비되는 배기부(200)를 포함하며, 상기 하우징(100)은, 독립된 상기 내부공간들 내 상기 유해가스를 상기 배기부(200)를 통해 배기하기 위하여, 상기 내부공간들로부터 상기 배기부(200) 측으로 상기 유해가스를 전달하기 위한 배기유로가 내부에 형성되는 배기프레임(130)을 하나 이상 포함하며, 서로 결합되어 설치되는 복수의 프레임(110)들과; 외부와 차단되는 상기 내부공간들이 형성되도록, 상기 프레임(110)들에 결합되는 복수의 플레이트(120)들을 포함한다.
본 발명의 처리대상인 기판은, 증착, 식각 등 기판처리가 수행되는 구성으로서, 반도체 제조용기판, LCD 제조용기판, OLED 제조용기판, 태양전지 제조용기판, 투명 글라스기판 등 어떠한 기판도 가능하다.
상기 공정챔버(10)는, 밀폐된 처리공간을 형성하며, 기판처리를 수행하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 공정챔버(10)는, 상측에 개구가 형성된 챔버본체(11)와, 챔버본체(11)의 개구에 탈착가능하게 결합되어, 챔버본체(11)와 함께 밀폐된 처리공간을 형성하는 상부리드(12)를 포함하여 구성될 수 있다.
또한, 상기 공정챔버(10)는, 내부에 기판을 지지하기 위한 기판지지부(13)가 설치될 수 있으며, 기판처리를 위한 처리공간이 내부에 형성되는 구성이면 종래에 개시된 어떠한 실시형태도 적용 가능한 바 자세한 설명은 생략한다.
상기 하우징(100)은, 공정챔버(10)가 설치되는 공정챔버설치공간(S1)을 포함하여 적어도 2개 이상의 복수의 독립된 내부공간들을 형성하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
예를 들면, 상기 하우징(100)은, 독립된 내부공간들 내 유해가스를 배기부(200)를 통해 배기하기 위하여, 내부공간들로부터 배기부(200) 측으로 유해가스를 전달하기 위한 배기유로가 내부에 형성되는 배기프레임(130)을 하나 이상 포함하며, 서로 결합되어 설치되는 복수의 프레임(110)들과; 외부와 차단되는 내부공간들이 형성되도록, 프레임(110)들에 결합되는 복수의 플레이트(120)들을 포함할 수 있다.
상기 하우징(100)은, 내부공간에 공정챔버(10)가 설치되며, 더 나아가 기판처리 공정의 수행을 위한 장치가 내부에 설치됨으로써, 유해가스를 포함한 각종 공정수행 과정에서 사용 및 발생되는 가스의 외부 누출을 방지할 수 있다.
특히 상기 하우징(100)은, 공정챔버(10)가 설치되는 내부공간에 음압을 형성하여, 내부공간의 유해가스가 외부로 누출되는 것을 방지하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
예로서, 상기 하우징(100)은, 공정챔버(10)가 설치되는 내부공간에 일정한 음압을 형성하기 위하여, 감압부재가 내부공간에 설치될 수 있으며, 감압부재를 통한 배기를 이용하여 내부공간을 음압으로 유지할 수 있다.
이 경우, 감압부재를 통한 배기의 양을 조절함으로써 내부공간의 압력을 조절할 수 있으며, 기판처리장치가 설치되는 클린룸의 압력상태를 기준으로 내부공간을 음압으로 유지함으로써, 내부공간에 존재하는 각종 유해가스의 외부 누출을 방지할 수 있다.
상기 하우징(100)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 공정챔버(10)의 하부에서 공정챔버(10)로의 기판처리를 위한 공정가스 공급을 단속하는 가스공급유닛(20)이 설치되는 가스공급유닛설치공간(S2)이 공정챔버설치공간(S1)의 하단에 형성될 수 있다.
상기 하우징(100)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 공정챔버설치공간(S1) 및 가스공급유닛설치공간(S2) 내의 유해가스를 배기부(200)를 통해 배기할 수 있도록, 배기프레임(130)을 통해 공정챔버설치공간(S1) 및 가스공급유닛설치공간(S2)과 각각 연통되며, 배기부(200)가 설치되는 배기공간(S3)이 공정챔버설치공간(S1)의 상단에 형성될 수 있다.
또한, 상기 하우징(100)은, 도 2에 도시된 바와 같이, 공정챔버(10) 및 가스공급유닛(20)을 제어하기 위한 제어유닛(30)이 설치되는 제어유닛설치공간(S4)이 상기 배기공간(S3)에 인접하여 형성될 수 있으며, 더 나아가, 상기 하우징(100)은, 공정챔버(10)의 내부에 기판처리를 위하여 분사되는 공정가스를 공급하는 가스소스부(40)가 설치되는 가스소스부설치공간(S5)이 상기 배기공간(S3)에 인접하여 형성될 수 있다.
일예로서, 상기 공정챔버설치공간(S1)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 하우징(100)의 3단구조의 내부공간에서 중앙에 형성되는 공간으로서, 공정챔버(10)가 설치될 수 있다.
이때, 상기 공정챔버설치공간(S1)은, 가스공급유닛설치공간(S2) 및 배기공간(S3)과의 가스의 이동을 방지하기 위하여, 가스공급유닛설치공간(S2) 및 배기공간(S3)과 분리되어 형성될 수 있다.
상기 가스공급유닛설치공간(S2)은, 하우징(100)의 3단구조의 내부공간에서 중앙에 형성되는 공정챔버설치공간(S1)을 기준으로 하단에 형성되는 공간으로서, 공정챔버(10)의 하부에 설치되어, 공정챔버(10)로의 기판처리를 위한 공정가스 공급을 단속하는 가스공급유닛(20) 뿐만아니라, 공정챔버(10) 내의 처리공간에 분사되는 공정가스 및 반응가스 등을 배기하기 위하여 공정챔버(10)와 연통되는 배기라인 및 펌프 등이 추가로 설치될 수 있다.
또한 상기 가스공급유닛설치공간(S2)은, 공정챔버(10) 내부에 기판(10)을 지지하기 위한 기판지지부(13)를 상하로 구동하기 위한 기판지지부용 상하구동부가 설치될 수 있으며, 공정챔버(10) 내부에서 기판(10)을 이송하기 위한 기판이송부를 상하이동 및 회전이동 시키기 위한 상하구동부 및 회전구동부가 추가로 설치될 수 있다.
상기 배기공간(S3)은, 하우징(100)의 3단구조의 내부공간에서 중앙에 형성되는 공정챔버설치공간(S1)을 기준으로 상단에 형성되는 공간으로서, 공정챔버(10)의 상부리드(12)를 상하로 이동하기 위한 상하구동부가 설치될 수 있다.
또한 상기 배기공간(S3)은, 공정챔버설치공간(S1) 및 가스공급유닛설치공간(S2) 내의 유해가스를 배기부(200)를 통해 배기할 수 있도록, 배기프레임(130)을 통해 공정챔버설치공간(S1) 및 가스공급유닛설치공간(S2)과 각각 연통되며, 배기부(200)가 설치될 수 있다.
즉, 공정챔버설치공간(S1) 및 가스공급유닛설치공간(S2) 내 유해가스를 배기부(200)를 통해 배기하기 위하여, 공정챔버설치공간(S1) 및 상기 가스공급유닛설치공간(S2)이 상기 배기공간(S3)과 연통될 수 있다.
상기 제어유닛설치공간(S4)은, 공정챔버(10) 및 가스공급유닛(20)을 제어하기 위한 제어유닛(30)이 설치되는 공간으로서, 배기공간(S3)에 인접하여 형성될 수 있다.
상기 가스소스부설치공간(S5)은, 공정챔버(10)의 내부에 기판처리를 위하여 분사되는 공정가스를 공급하는 가스소스부(40)가 설치되는 공간으로서, 배기공간(S3)에 인접하여 형성될 수 있다.
예를 들면, 상기 제어유닛설치공간(S4)과 상기 가스소스부설치공간(S5)은, 공정챔버설치공간(S1)의 상단에 설치되며, 배기공간(S3)을 기준으로 양옆에 인접하게 각각 형성될 수 있다.
이 경우, 배기공간(S3), 제어유닛설치공간(S4) 및 가스소스부설치공간(S5) 각각이 서로 분리되어 형성될 수 있도록, 복수의 프레임(110)들 및 복수의 플레이트(120)들이 서로 결합 설치될 수 있다.
상기 복수의 프레임(110)들은, 도 4에 도시된 바와 같이, 독립된 내부공간들 내 유해가스를 배기부(200)를 통해 배기하기 위하여, 내부공간들로부터 배기부(200) 측으로 유해가스를 전달하기 위한 배기유로가 내부에 형성되는 배기프레임(130)을 하나 이상 포함하는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
예를 들면, 상기 복수의 프레임(110)들은, 서로 결합되어 설치됨으로써, 하우징(100)의 구조를 형성하며, 지면과 수직하게 설치되는 복수의 수직프레임과 지면에 평행하게 설치되는 복수의 수평프레임을 포함하고, 적어도 3개 이상의 수직프레임이 설치된 상태에서 복수의 내부공간을 형성하기 위하여 수평프레임들이 지면에 평행하게 수직프레임들에 결합되어 설치될 수 있다.
상기 복수의 플레이트(120)들은, 외부와 차단되는 내부공간들이 형성되도록, 프레임(110)들에 결합되는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
예를 들면, 상기 복수의 플레이트(120)들은, 공정챔버설치공간(S1), 가스공급유닛설치공간(S2) 및 배기공간(S3)이 외부와 격리되어 독립적으로 형성되도록 프레임(110)들에 결합되어 하우징(100)을 복수의 프레임(110)들과 함께 구성할 수 있다.
즉, 상기 복수의 플레이트(120)들은, 하우징(100)의 측벽 및 상하면을 이루며, 더 나아가 각 공간의 도어(121)로서 구성될 수 있으며, 공정챔버설치공간(S1), 가스공급유닛설치공간(S2) 및 배기공간(S3) 등 내부공간들이 하우징(100) 내부에서 독립적으로 형성될 수 있도록, 하우징(100) 내부에 설치되어 각 내부공간들이 분리되어 형성될 수 있도록 할 수 있다.
또한, 상기 복수의 플레이트(120)들은, 하우징(100)의 내부공간 내 시설물의 유지, 보수를 위하여 내부공간이 외부로 노출되지 않고, 내부공간 내 시설물에 대한 작업이 가능하도록 하우징(100)의 측벽을 이루는 플레이트(120)에 작업용 글러브(122)가 추가로 설치될 수 있다.
한편, 공정챔버설치공간(S1)에 설치되는 공정챔버(10)의 하부면을 관통하여 가스공급유닛설치공간(S2)에 설치되는 배기라인 및 상하구동부로 인해 공정챔버(10) 내부의 공정가스 및 반응가스 등이 가스공급유닛설치공간(S2)으로 누출되거나, 가스공급유닛설치공간(S2)의 유해가스가 공정챔버(10)로 누출되는 문제가 있을 수 있다.
이 경우, 공정챔버(10)의 내부에 기판처리를 위하여 분사되는 공정가스의 가스공급유닛설치공간(S2)으로의 누출을 방지하기 위하여, 공정챔버설치공간(S1) 및 가스공급유닛설치공간(S2) 사이에 차단부재가 추가로 설치될 수 있다.
상기 차단부재는, 공정챔버(10)의 저면에 밀착설치되어, 공정챔버(10)와 가스공급유닛설치공간(S2) 사이의 가스이동을 방지할 수 있다.
상기 차단부재는, 공정챔버설치공간(S1) 및 가스공급유닛설치공간(S2) 사이에 설치되는 플레이트(120)를 대신하여 설치될 수 있으며, 공정챔버설치공간(S1) 및 가스공급유닛설치공간(S2) 사이에 설치되는 플레이트(120)의 상면에 설치될 수 있음은 또한 물론이다.
상기 차단부재는, 수직프레임 또는 수평프레임에 결합설치될 수 있으며, 외부온도변화에 따른 길이변화를 고려하여, 수직프레임 또는 수평프레임의 결합부위에 탄성재질의 탄성부재가 설치될 수 있다.
더 나아가, 상기 차단부재는, 수직프레임 또는 수평프레임의 결합부위가 외부 온도변화에 따른 길이변화를 고려하여 상하로 이동가능하도록 설치될 수 있다.
상기 배기프레임(130)은, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 하우징(100)의 내부공간들로부터 배기부(200) 측으로 유해가스를 전달하기 위한 배기유로가 내부에 형성되는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
상기 배기프레임(130)은, 유해가스의 전달을 위한 구성일 뿐만 아니라, 복수의 프레임(110)들 및 복수의 플레이트(120)들과 결합하여 하우징(100)을 구성함은 또한 물론이다.
예를 들면, 상기 배기프레임(130)은, 내부에 배기유로가 형성되어 공정챔버설치공간(S1) 및 가스공급유닛설치공간(S2)이 각각 배기공간(S3)과 연통되도록 하는 구성으로서, 공정챔버설치공간(S1) 및 배기공간(S3) 사이에서 지면과 평행하게 설치되며, 공정챔버설치공간(S1) 내 유해가스의 배기부(200)를 통한 배기를 위하여 공정챔버설치공간(S1)과 배기공간(S3)이 연통되도록 내부에 제1배기유로(132)가 형성되는 수평배기프레임(131)과, 지면에 수직으로 설치되며, 가스공급유닛설치공간(S2) 내 유해가스의 배기부(200)를 통한 배기를 위하여, 가스공급유닛설치공간(S2)과 배기공간(S3)이 연통되도록 내부에 제2배기유로(141)가 형성되는 수직배기프레임(140)을 포함할 수 있다.
또한 상기 배기프레임(130)은, 제어유닛설치공간(S4) 및 배기공간(S3) 사이에 설치되며, 제어유닛설치공간(S4) 내 유해가스의 배기부(200)를 통한 배기를 위하여 제어유닛설치공간(S4)과 배기공간(S3)이 서로 연통되도록 내부에 배기유로가 형성되는 제어유닛배기프레임(150)을 포함할 수 있다.
더 나아가, 상기 배기프레임(130)은, 가스소스부설치공간(S5) 및 배기공간(S3) 사이에 설치되며, 가스소스부설치공간(S5) 내 유해가스의 배기부(200)를 통한 배기를 위하여 가스소스부설치공간(S5)과 배기공간(S3)이 서로 연통되도록 내부에 배기유로가 형성되는 가스소스부배기프레임(160)을 포함할 수 있다.
상기 수평배기프레임(131)은, 공정챔버설치공간(S1) 및 배기공간(S3) 사이에 지면에 평행하게 설치되는 프레임으로서, 공정챔버설치공간(S1)을 향하여 하나 이상 형성되는 제1흡입구(133)와, 배기공간(S3)을 향하여 하나 이상 형성되는 제1배출구(134)와, 제1흡입구(133)와 제1배출구(134)를 연결함으로써, 공정챔버설치공간(S1)과 배기공간(S3)이 연통되도록하는 제1배기유로(132)가 형성될 수 있다.
이 경우, 상기 제1배기유로(132)는, 수평배기프레임(131)의 내부에 형성되는 홈으로써, 수평배기프레임(131)의 길이방향을 따라서 제1흡입구(133)와 제1배출구(134)가 연결되도록 형성될 수 있으며, 보다 바람직하게는 공정챔버설치공간(S1)과 배기공간(S3)이 최단거리로 연통되도록 형성될 수 있다.
상기 수직배기프레임(140)은, 가스공급유닛설치공간(S2) 및 배기공간(S3) 사이에 지면에 수직으로 설치되는 프레임으로서, 가스공급유닛설치공간(S2)을 향하여 하나 이상 형성되는 제2흡입구(142)와, 배기공간(S3)을 향하여 하나 이상 형성되는 제2배출구(143)와, 제2흡입구(142) 및 제2배출구(143)를 연결함으로써, 가스공급유닛설치공간(S2)과 배기공간(S3)이 연통되도록하는 제2배기유로(141)가 형성될 수 있다.
이 경우, 상기 제2배기유로(141)는, 수직배기프레임(140)의 내부에 형성되는 홈으로써, 수직배기프레임(140)의 길이방향을 따라서 제2흡입구(142)와 제2배출구(143)가 연결되도록 형성될 수 있다.
다른 예로서, 상기 수평배기프레임(131)은, 가스공급유닛설치공간(S2) 내 유해가스의 배기부(200)를 통한 배기를 위하여, 가스공급유닛설치공간(S2)과 배기공간(S3)이 연통되도록 제2배기유로(141)와 연결되는 제3배기유로(135)가 내부에 추가로 형성될 수 있으며, 이로써 제2배기유로(141) 및 제3배기유로(135)를 통해 가스공급유닛설치공간(S2)의 유해가스가 배기공간(S3)으로 이동할 수 있다.
한편, 제1배기유로(132) 및 제3배기유로(135)가 서로 분리되어 형성됨으로써, 공정챔버설치공간(S1) 및 가스공급유닛설치공간(S2)이 배기공간(S3)과 각각 독립적으로 연통될 수 있다.
즉, 상기 공정챔버설치공간(S1) 및 상기 가스공급유닛설치공간(S2)은, 배기공간(S3)과 각각 독립적으로 연통될 수 있으며, 보다 구체적으로는 공정챔버설치공간(S1)과 배기공간(S3)이 연통되고, 가스공급유닛설치공간(S2)과 배기공간(S3)이 연통되며 공정챔버설치공간(S1)과 가스공급유닛설치공간(S2)은 서로 연통됨이 없이 독립적일 수 있다.
이때, 상기 제2배기유로(141)가 제1배기유로(132)와 연결되어 가스공급유닛설치공간(S2)의 유해가스가 배기공간(S3)으로 이동할 수 있음은 또한 물론이다.
상기 제어유닛배기프레임(150)은, 제어유닛설치공간(S4) 및 배기공간(S3) 사이에 설치되며, 제어유닛설치공간(S4) 내 유해가스의 배기부(200)를 통한 배기를 위하여 제어유닛설치공간(S4)과 배기공간(S3)이 서로 연통되도록 내부에 배기유로가 형성되는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
상기 제어유닛배기프레임(150)은, 제어유닛설치공간(S4)측에 유해가스의 흡입을 위한 흡입구가 형성되고, 배기공간(S3)을 향하여 유해가스를 배출하기 위한 배출구(152)가 형성되며, 흡입구와 배출구(152)가 연통되도록 배기유로가 형성될 수 있다.
상기 제어유닛배기프레임(150)은, 내부에 길이방향으로 배기유로가 형성될 수 있으나, 보다 바람직하게는 제어유닛설치공간(S4)과 배기공간(S3) 사이에 최단거리로 형성되도록 배기유로가 형성될 수 있다.
상기 가스소스부배기프레임(160)은, 가스소스부설치공간(S5) 및 배기공간(S3) 사이에 설치되며, 가스소스부설치공간(S5) 내 유해가스의 배기부(200)를 통한 배기를 위하여 가스소스부설치공간(S5)과 배기공간(S3)이 서로 연통되도록 내부에 배기유로가 형성되는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
상기 가스소스부배기프레임(160)은, 제어유닛배기프레임(150)과 마찬가지로, 가스소스부설치공간(S5)측에 유해가스의 흡입을 위한 흡입구가 형성되고, 배기공간(S3)을 향하여 유해가스를 배출하기 위한 배출구(162)가 형성되며, 흡입구와 배출구(162)가 연통되도록 배기유로가 형성될 수 있다.
상기 가스소스부배기프레임(160)은, 내부에 길이방향으로 배기유로가 형성될 수 있으나, 보다 바람직하게는 가스소스부설치공간(S5)과 배기공간(S3) 사이에 최단거리로 형성되도록 배기유로가 형성될 수 있다.
상기 배기부(200)는, 하우징(100) 외부에 구비되는 배기펌프를 통해 내부공간들의 유해가스가 배기되도록, 하우징(100)에 배기펌프와 연통되어 구비되는 구성으로서, 다양한 구성이 가능하다.
상기 배기부(200)는, 하우징(100)의 내부공간들로부터 상부공간(S3)으로 전달되는 유해가스를 외부에 구비되는 배기펌프를 통해 배기할 수 있으며, 배기프레임(130)을 통해 공정챔버설치공간(S1), 가스공급유닛설치공간(S2), 제어부설치공간(S4) 및 가스소스부설치공간(S5)으로부터 배기공간(S3)으로 전달되는 유해가스를 외부로 배기할 수 있다.
예를 들면, 상기 배기부(200)는, 하우징(100)의 천장에 해당하는 플레이트(120)에 설치되어, 외부의 배기펌프와 연통되는 구성으로서, 공정챔버설치공간(S1), 가스공급유닛설치공간(S2), 제어부설치공간(S4) 및 가스소스부설치공간(S5)으로부터 전달되는 유해가스를 외부로 배기할 수 있는 구성이면 종래에 계시된 어떠한 형태의 배기포트도 적용 가능하다.
한편, 상기 배기부(200)는, 도 7에 도시된 바와 같이, 공정챔버설치공간(S1), 가스공급유닛설치공간(S2), 제어유닛설치공간(S4) 및 가스소스부설치공간(S5)으로부터 상기 배기프레임(130)을 통해 전달되는 유해가스가 직접 전달되도록, 각 내부공간들과 연통되는 복수의 배기관을 포함할 수 있다.
예를 들면, 공정챔버설치공간(S1) 및 가스공급유닛설치공간(S2)으로부터 기 배기프레임(130)을 통해 전달되는 유해가스가 직접 전달되도록, 수평배기프레임(131)에 제1배기유로(132)와 연통되어 결합되는 제1배기관(201)과, 수평배기프레임(131)에 제3배기유로(135)와 연통되어 결합되는 제2배기관(202)을 포함할 수 있다.
상기 제1배기관(201)은, 수평배기프레임(131) 내에 형성되는 제1배기유로(132)를 통해 전달되는 공정챔버설치공간(S1) 내의 유해가스를 배기부(200)에 직접 전달하기 위하여, 제1배출구(134)에 결합되어 제1배기유로(132)에 직접 연결되는 구성일 수 있다.
상기 제2배기관(202)은, 제1배기관(201)과 마찬가지로, 수평배기프레임(131) 내에 형성되는 제3배기유로(135)를 통해 전달되는 가스공급유닛설치공간(S2) 내의 유해가스를 배기부(200)에 직접 전달하기 위하여, 제2배출구(143)에 결합되어 제3배기유로(135)에 직접 연결되는 구성일 수 있다.
한편, 상기 배기부(200)는, 제어유닛설치공간(S4)으로부터 제어유닛배기프레임(150)을 통해 전달되는 유해가스가 직접 전달되도록, 제어유닛배기프레임(150)에 결합되는 제3배기관(203) 및 가스소스부설치공간(S5)으로부터 가스소스부배기프레임(160)을 통해 전달되는 유해가스가 직접 전달되도록, 가스소스부배기프레임(160)에 결합되는 제4배기관(204)을 더 포함할 수 있다.
상기 제3배기관(203) 및 상기 제4배기관(204)은, 각각 제어유닛배기프레임(150)에 형성되는 배출구(152) 및 가스소스부배기프레임(160)에 형성되는 배출구(162)에 각각 결합되어, 제어유닛설치공간(S4) 및 가스소스부설치공간(S5) 내의 유해가스를 배기부(200)로 직접 전달되도록 할 수 있다.
또한 본 발명에 따른 기판처리장치는, 유해가스의 검출을 위하여, 하우징(100) 내부에 설치되는 하나 이상의 가스검출센서(300)를 추가로 포함할 수 있다.
상기 가스검출센서(300)는, 하우징(100) 내부공간에 설치되어 내부공간의 유해가스의 정도를 측정하는 구성으로서, 다양한 구성일 수 있다.
상기 가스검출센서(300)는, 유해가스 뿐만아니라, 기판처리를 위하여 사용되는 공정가스, 공정처리에 따른 반응가스 및 퍼지가스 등 다양한 종류의 가스를 검출할 수 있으며, 하우징(100) 내부공간의 가스의 종류와 정량적 수치를 검출할 수 있다.
예를 들면, 상기 가스검출센서(300)는, 도 2에 도시된 바와 같이, 배기공간(S3)에 설치되어, 배기공간(S3)의 유해가스 정도를 파악할 수 있으며, 보다 바람직하게는 공정챔버설치공간(S1), 가스공급유닛설치공간(S2) 및 배기공간(S3) 각각에 설치되어, 각 공간의 가스의 종류와 정량적 수치를 검출할 수 있다.
이 경우, 상기 검출센서(300)의 가스 검출 여부를 통해, 하우징(100) 도어(121)의 잠금해제 가능여부가 결정될 수 있으며, 검출센서(300)의 유해가스 검출로 내부공간에 유해가스가 있는 경우, 도어(121)가 개방되지 않도록 잠금해제가 불가할 수 있다.
이상은 본 발명에 의해 구현될 수 있는 바람직한 실시예의 일부에 관하여 설명한 것에 불과하므로, 주지된 바와 같이 본 발명의 범위는 위의 실시예에 한정되어 해석되어서는 안 될 것이며, 위에서 설명된 본 발명의 기술적 사상과 그 근본을 함께하는 기술적 사상은 모두 본 발명의 범위에 포함된다고 할 것이다.
10: 공정챔버 20: 가스공급유닛
30: 제어유닛 40: 가스소스부
100: 하우징 200: 배기부
300: 가스검출센서

Claims (12)

  1. 밀폐된 처리공간을 형성하며, 기판처리를 수행하는 공정챔버(10)와;
    상기 공정챔버(10)가 설치되는 공정챔버설치공간(S1)을 포함하여 적어도 2개 이상의 복수의 독립된 내부공간들을 형성하는 하우징(100)과;
    상기 하우징(100) 외부에 구비되는 배기펌프를 통해 상기 유해가스가 배기되도록, 상기 하우징(100)에 상기 배기펌프와 연통되어 구비되는 배기부(200)를 포함하며,
    상기 하우징(100)은,
    독립된 상기 내부공간들 내 상기 유해가스를 상기 배기부(200)를 통해 배기하기 위하여, 상기 내부공간들로부터 상기 배기부(200) 측으로 상기 유해가스를 전달하기 위한 배기유로가 내부에 형성되는 배기프레임(130)을 하나 이상 포함하며, 서로 결합되어 설치되는 복수의 프레임(110)들과;
    외부와 차단되는 복수의 상기 내부공간들이 형성되도록, 상기 프레임(110)들에 결합되는 복수의 플레이트(120)들을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 하우징(100)은,
    상기 내부공간들의 상기 유해가스가 외부로 누출되는 것을 방지하기 위하여, 상기 내부공간들이 외부보다 낮은 음압을 형성하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 하우징(100)은,
    상기 공정챔버(10)의 하부에서 상기 공정챔버(10)로의 기판처리를 위한 공정가스 공급을 단속하는 가스공급유닛(20)이 설치되는 가스공급유닛설치공간(S2)이 상기 공정챔버설치공간(S1)의 하단에 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 하우징(100)은,
    상기 공정챔버설치공간(S1) 및 상기 가스공급유닛설치공간(S2) 내의 상기 유해가스를 상기 배기부(200)를 통해 배기할 수 있도록, 상기 배기프레임(130)을 통해 상기 공정챔버설치공간(S1) 및 상기 가스공급유닛설치공간(S2)과 각각 연통되며, 상기 배기부(200)가 설치되는 배기공간(S3)이 상기 공정챔버설치공간(S1)의 상단에 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 배기프레임(130)은,
    상기 공정챔버설치공간(S1) 및 상기 배기공간(S3) 사이에서 지면과 평행하게 설치되며, 상기 공정챔버설치공간(S1) 내 상기 유해가스의 상기 배기부(200)를 통한 배기를 위하여 상기 공정챔버설치공간(S1)과 상기 배기공간(S3)이 연통되도록 내부에 제1배기유로(132)가 형성되는 수평배기프레임(131)과,
    지면에 수직으로 설치되며, 상기 가스공급유닛설치공간(S2) 내 상기 유해가스의 상기 배기부(200)를 통한 배기를 위하여, 상기 가스공급유닛설치공간(S2)과 상기 배기공간(S3)이 연통되도록 내부에 제2배기유로(141)가 형성되는 수직배기프레임(140)을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 수평배기프레임(131)은,
    상기 가스공급유닛설치공간(S2) 내 상기 유해가스의 상기 배기부(200)를 통한 배기를 위하여, 상기 가스공급유닛설치공간(S2)과 상기 배기공간(S3)이 연통되도록 상기 제2배기유로(141)와 연결되는 제3배기유로(135)가 내부에 추가로 형성되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 제1배기유로(132) 및 상기 제3배기유로(135)가 서로 분리되어 형성됨으로써, 상기 공정챔버설치공간(S1) 및 상기 가스공급유닛설치공간(S2)이 상기 배기공간(S3)과 각각 독립적으로 연통되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 배기부(200)는,
    상기 공정챔버설치공간(S1) 및 상기 가스공급유닛설치공간(S2)으로부터 상기 배기프레임(130)을 통해 전달되는 상기 유해가스가 직접 전달되도록, 상기 수평배기프레임(131)에 상기 제1배기유로(132)와 연통되어 결합되는 제1배기관(201)과, 상기 수평배기프레임(131)에 상기 제3배기유로(135)와 연통되어 결합되는 제2배기관(202)을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  9. 청구항 4에 있어서,
    상기 하우징(100)은,
    상기 공정챔버(10) 및 상기 가스공급유닛(20)을 제어하기 위한 제어유닛(30)이 설치되는 제어유닛설치공간(S4)이 상기 배기공간(S3)에 인접하여 형성되며,
    상기 배기프레임(130)은,
    상기 제어유닛설치공간(S4) 및 상기 배기공간(S3) 사이에 설치되며, 상기 제어유닛설치공간(S4) 내 상기 유해가스의 상기 배기부(200)를 통한 배기를 위하여 상기 제어유닛설치공간(S4)과 상기 배기공간(S3)이 서로 연통되도록 내부에 배기유로가 형성되는 상기 제어유닛배기프레임(150)을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  10. 청구항 4에 있어서,
    상기 하우징(100)은,
    상기 공정챔버(10)의 내부에 기판처리를 위하여 분사되는 상기 공정가스를 공급하는 가스소스부(40)가 설치되는 가스소스부설치공간(S5)이 상기 배기공간(S3)에 인접하여 형성되며,
    상기 배기프레임(130)은,
    상기 가스소스부설치공간(S5) 및 상기 배기공간(S3) 사이에 설치되며, 상기 가스소스부설치공간(S5) 내 상기 유해가스의 상기 배기부(200)를 통한 배기를 위하여 상기 가스소스부설치공간(S5)과 상기 배기공간(S3)이 서로 연통되도록 내부에 배기유로가 형성되는 상기 가스소스부배기프레임(160)을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  11. 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 하나의 항에 있어서,
    상기 유해가스의 검출을 위하여, 상기 하우징(100) 내부에 설치되는 하나 이상의 가스검출센서(300)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 가스검출센서(300)의 상기 유해가스 검출 여부를 통해, 상기 하우징(100) 도어(121)의 잠금해제 가능여부가 결정되는 것을 특징으로 하는 기판처리장치.
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