WO2013051877A2 - 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치 - Google Patents

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WO2013051877A2
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임광욱
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(주)선린
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    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L1/00—Enclosures; Chambers
    • B01L1/02—Air-pressure chambers; Air-locks therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67126—Apparatus for sealing, encapsulating, glassing, decapsulating or the like
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    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/8593—Systems
    • Y10T137/86292—System with plural openings, one a gas vent or access opening
    • Y10T137/8634—With vented outlet

Definitions

  • the present invention relates to a vacuum processing apparatus comprising a plurality of chambers for processing substrates such as LCD, OLED, SOLAR, and more particularly, to a vacuum processing apparatus having means for preventing back pressure between adjacent chambers. will be.
  • a process of treating substrates such as LCD, OLED, and SOLAR is provided with a closed chamber so that a predetermined process, such as thin film deposition, etching, etc., may be performed in a high vacuum atmosphere.
  • a predetermined process such as thin film deposition, etching, etc.
  • it is very important to keep the inside of the chamber free of contamination.
  • the chamber is a process chamber (PM) in which a predetermined substrate process is performed in a high vacuum state, a load lock chamber (LM) that loads or unloads a substrate, and is installed between the process chamber and the load lock chamber. And a transfer chamber (TM) for transferring the substrate.
  • PM process chamber
  • LM load lock chamber
  • TM transfer chamber
  • a slit that serves as a passage for passing the substrate is formed between each of the above-described chambers, and the slit valve for opening and closing the slit is provided in this slit to open and close the slit.
  • Such a slit valve is to open and close the slit constituting the passage between the chambers in the same shape as the slit by operating a valve plate consisting of a plate of a size larger than the opening of the slit, and a shaft operated by pneumatic and connected to the valve plate side It consists of a form including an actuator for lifting and lowering the valve plate.
  • valve plate 1 is provided with an O-ring 3 at the contact portion with the slit 2 in order to seal the slit 2.
  • O-ring 3 is compressed while the valve plate 1 is pressed toward the chamber to seal the slit.
  • the conventional vacuum processing apparatus seals the slit 2, which is a substrate passage between the chamber, with one valve plate 1, so that any one of the chambers adjacent to each other may be closed.
  • the pressure difference between the two chambers becomes very large. A force is generated in which the valve plate 1 sealing the slit 2 is pushed from the high pressure chamber (the chamber in which the vent is made) to the low pressure chamber (the chamber holding the vacuum).
  • the valve plate 1 is pushed in the direction of the transfer chamber TM by the pressure difference, and back pressure is generated.
  • a fine gap is generated in the contact surface between the o-ring 3 and the slit 2, which affects the vacuum of the other chambers, which in turn causes a process defect and thus a product defect.
  • the transfer chamber used as a common chamber must maintain a vacuum state.
  • the process chamber will be able to perform the process normally.
  • the present invention is provided with an inter-chamber back pressure preventing means for reducing the process failure by preventing the inter-leak caused by the back pressure between the chamber and the other chamber adjacent to the vent process during the vent process of the chamber in the vacuum processing apparatus It is an object to provide a vacuum processing apparatus.
  • Vacuum processing apparatus having an inter-chamber back pressure preventing means provided in the present invention has the following features.
  • Vacuum processing apparatus having an inter-chamber back pressure preventing means according to the present invention including a process chamber, a transfer chamber and a load lock chamber has a slit which is provided between the chambers and provides a passage through which the substrate enters and exits on both sides facing each other.
  • a cassette chamber each formed therein and providing a space for accommodating the slit valve having a first valve plate and a second valve plate which are moved up and down to open and close the slits, respectively, and venting for injecting vent gas from the respective chambers; Venting detection unit for sensing the process, and the first and second bypass lines connecting the respective chambers and the cassette chamber, respectively installed on the first and second bypass line, respectively, the flow of gas in each bypass line.
  • the first and second valves configured to intermittently control the casing to the first and second valve plates during the venting process of the respective chambers.
  • a cassette chamber positive pressure unit for inducing a positive pressure state between the chamber where the venting process is performed and the cassette chamber by bypassing the gas injected into each of the chambers while the slits on both sides of the chamber are respectively sealed; And a control unit for determining a venting process or a vacuum process of each chamber according to the detected signal from the chamber to control the flow of gas in the cassette chamber positive pressure part.
  • the vacuum processing apparatus having an inter-chamber back pressure preventing means further includes a vent valve connected to each chamber to inject vent gas into each chamber, and the vent detecting unit is installed at the vent valve side to vent It consists of a vent valve sensor that detects an electrical signal for operating in the open and closed state of the valve.
  • the slit valve further comprises a connecting member for connecting the first valve plate and the second valve plate, the first valve plate and the second valve plate is simultaneously driven by one driving means.
  • a cassette chamber is provided between a chamber (vent chamber) in which a vent process is performed and another chamber (vacuum chamber) adjacent to each other during a vent process of one chamber to provide a lifting operation space of a slit valve at a positive pressure to atmospheric pressure.
  • the valve plate which seals the vacuum chamber inside the cassette chamber is pressed against the vacuum chamber side, so that the sealing property (sealing) of the O-ring is further improved. The effect that can completely block the occurrence of interleak due to back pressure between the chamber and the vacuum chamber is exerted.
  • FIG. 1 is a conceptual diagram illustrating a slit valve between a trans chamber and a process chamber in a conventional vacuum processing apparatus.
  • FIG. 2 is a plan view illustrating a multi-type chamber to which a vacuum processing apparatus including an interchamber back pressure preventing means of the present invention is applied.
  • FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating a cassette chamber positive pressure induction part between a process chamber and a transfer chamber in the vacuum processing apparatus of the present invention.
  • FIG. 4 is a control block diagram showing the control flow by the control unit in the vacuum processing apparatus of the present invention.
  • FIG. 5 is a conceptual view illustrating a static pressure state between a cassette chamber and a transfer chamber in a state in which a process chamber is a venting process in the vacuum processing apparatus of the present invention.
  • FIG. 6 is a conceptual diagram illustrating a static pressure state between a cassette chamber and a process chamber in a state in which a transfer chamber is a venting process in the vacuum processing apparatus of the present invention.
  • FIG. 2 is a plan view illustrating a multi-process chamber type vacuum processing apparatus including an interchamber back pressure preventing means according to an exemplary embodiment of the present invention.
  • a load lock chamber 30 is provided at one side from a transfer chamber 20 commonly used in the center and commonly used, and a substrate processing process is performed at the other side.
  • the plurality of process chambers 10 are connected in parallel to each other.
  • a cassette chamber 40 is provided between each chamber to provide a space for operating a slit valve for opening and closing a slit serving as a passage of a substrate between the chambers.
  • the cassette chamber 40 when a venting process is performed in one of the chambers adjacent to the cassette chamber 40 and a vacuum process is performed in the other chamber, the cassette chamber 40 is the same pressure as the chamber where the venting process is performed.
  • a cassette chamber positive pressure induction part is provided to maintain a state, that is, a positive pressure state, to prevent the occurrence of interleak due to the pressure difference between the chamber in which the venting process is performed and the chamber in which the vacuum process is performed.
  • FIG. 3 is a conceptual diagram illustrating a cassette chamber positive pressure induction part constituting the gist of the present invention.
  • the cassette chamber positive pressure induction part provided between the process chamber and the transfer chamber is illustrated, but in the present invention, the cassette chamber positive pressure induction part is not limited to that provided in the cassette chamber between the process chamber and the transfer chamber, but is not limited to the load lock chamber and the transfer chamber. Of course, the same can be applied to the cassette chamber provided in between.
  • the vacuum processing apparatus including the inter-chamber back pressure preventing means according to the present invention is divided into large spaces adjacent to each other, for example, between the transfer chamber 20 and the process chamber 10.
  • the cassette chamber 40 which provides a space for raising and lowering the slit valve for opening and closing the conveyed passage, and any one chamber in which the venting process is performed in the transfer chamber 20 or the process chamber 10 and the cassette chamber 40 Cassette chamber positive pressure unit to achieve a positive pressure, the venting detection unit 60 for sensing the venting process of each chamber 10, 20, and the venting detection unit 60 receives the electrical signal from the operation of the cassette chamber positive pressure unit It is configured to include a control unit 80 for controlling.
  • the cassette chamber 40 is a rectangular parallelepiped case, which is installed between the transfer chamber 20 side and the process chamber 10 side, and has a slit 41 serving as a passage through which a substrate enters and exits. 42) are formed respectively.
  • a slit valve which is lifted and operated by pneumatic pressure is installed inside the cassette chamber 40 to open and close the respective slits 41 and 42.
  • the slit valve is responsible for dividing the opening and closing of each slit (41) 42 provided on both sides of the cassette chamber 40, the first and the first connected to each other integrally through the connecting member 43 while facing each other in a vertical position
  • It consists of a pneumatic cylinder type actuator (not shown) having a two valve plate (41) (42), and a shaft (not shown) coupled to the center of the connecting member (43).
  • the slit valve is formed in a dual sealing manner in which the first and second plates 41 and 42 connected to each other through the connecting member 43 are simultaneously lifted in accordance with the lifting operation of the other shaft while driving the actuator.
  • the O-ring 43 is provided at a contact portion with each of the slits 41 and 42. These are each provided.
  • the cassette constant pressure induction part may include a first bypass line 71 connecting the process chamber 10 and the cassette chamber 40 to each other so as to enable gas flow between the process chamber 10 and the cassette chamber 40, and the transfer chamber.
  • a second bypass line 72 connecting the transfer chamber 20 and the cassette chamber 10 to each other so as to enable gas flow between the 20 and the cassette chamber 10, and the first and second bypass lines.
  • First and second intermittent valves disposed on the 71 and 72 to respectively control the flow of gas in each of the bypass lines 71 and 72 to which they are assigned by control signals of the controller 80 to be described later. 73) (74).
  • a vacuum pump 94 is installed in the vacuum line 93 connected to one side of each chamber 10, 20, respectively.
  • a valve for opening the vacuum line 93 is provided in front of the vacuum pump 94.
  • vent lines 91 for injecting vent gas into the chambers in order to switch the interior of the chambers to the atmospheric pressure state.
  • the vent line 91 is provided with a vent valve 92 having only an opening / closing function to control the inflow of the vent gas into the chambers 10 and 20, respectively.
  • the vent gas generally uses nitrogen (N 2 ) having low reactivity.
  • a vent detector 60 is provided to detect whether the chamber 10 or 20 is vented during the process of venting the process chamber 10 and the transfer chamber 20.
  • the venting detection unit 60 is installed at the vent valve 92 side of each chamber 10, 20 so that the vent valve 92 is opened and closed in an open and closed state. It is a sensor to detect.
  • the controller 80 is electrically connected to the vent valve detecting sensor 60 and the first and second intermittent valves 73 and 74 provided in the chambers 10 and 20.
  • FIG. 4 is a control block diagram for operating the cassette chamber positive pressure induction part according to an embodiment of the present invention.
  • the controller 80 is configured to assign an event valve 92 when the vent valve 92 receives a signal of an open state from the vent valve detection sensor 60 of each chamber.
  • the chamber is determined to be a venting process step so that the control valve 73 or 74 installed on the bypass line 71 or 72 connected to the chamber and the cassette chamber is controlled to be operated in an open state.
  • the vent valve 92 receives a close signal from the vent valve detection sensor 60 of each chamber
  • the chamber to which the vent valve 92 is assigned is determined as a vacuum process step and the chamber
  • An intermittent valve 73 or 74 provided on the bypass line 71 or 72 connected to the cassette chamber is controlled to operate in a closed state.
  • FIG. 5 is a conceptual diagram illustrating an operation for inducing static pressure between the transfer chamber TM and the cassette chamber CM when the process chamber PM performs the venting process and the transfer chamber TM performs the vacuum process.
  • 6 illustrates an operation for inducing static pressure between the process chamber PM and the cassette chamber CM when the transfer chamber TM performs the venting process and the process chamber PM performs the vacuum process.
  • a process in which the process chamber PM performs a venting process will be described.
  • a problem may occur in any one of the processes of another process chamber.
  • the venting process of injecting nitrogen gas into the process chamber PM is performed to maintain the process chamber PM at atmospheric pressure due to the occurrence or periodic check.
  • the vent valve 92 on the side of the process chamber 10 is opened to inject nitrogen gas into the process chamber 10 from the outside.
  • the venting valve 92 on the side of the transfer chamber 20 is in a closed state so that a vacuum state is maintained so that work between other process chambers and processes can be continuously performed (see FIG. 3).
  • the venting valve detecting sensor 60 connected to the venting valve 92 side of each chamber 10, 20 senses an open or closed state signal of the venting valve 92 of each chamber 10, 20, and controls it. Each is sent as an electrical signal to 80. (See Fig. 4).
  • the controller 80 determines that the process chamber 10 performs the venting process and the transfer chamber 20 performs the vacuum process by a signal of the vent valve detection sensor 60 of each chamber 10, 20.
  • the first intermittent valve 73 installed on the first bypass line 71 connected to the process chamber 10 and the cassette chamber 40 is controlled to be opened, and the transfer chamber 20 and the cassette chamber are opened.
  • the second intermittent valve 74 installed on the second bypass line 72 connected to 40 controls to be closed.
  • the venting gas introduced into the chamber 10 through the process is introduced into the cassette chamber 40 through the first bypass line 71, and the process chamber 10 and the cassette chamber 40 are at the same atmospheric pressure (Pa). Can maintain a constant pressure.
  • the cassette chamber 40 and the transfer chamber 20 are closed by the second bypass line 72 to block the inflow of the venting gas from the cassette chamber 40 to the transfer chamber 20 in a vacuum state.
  • the pressure Pv can be maintained continuously.
  • the cassette chamber 40 and the transfer chamber 20 transfer the second valve plate 52 sealing the slit on the transfer chamber 20 side due to the pressure difference according to the atmospheric pressure Pa and the vacuum pressure Pv.
  • the sealing force (sealing) of the O-ring 43 is further shaped so that no interleak due to the pressure difference occurs.
  • the first intermittent valve 71 is open and the second intermittent valve is performed.
  • 72 operates the vacuum pump (94 of FIG. 3) installed in the process chamber 10 in the closed state, and the process chamber 10 and the cassette chamber 40 are respectively in a vacuum state.
  • the controller 80 may close the first intermittent valve 73 and close the second intermittent valve 74 when the first valve operates. control to ensure that the process is open).
  • the second intermittent valve 74 is always kept open while the process chamber 10 is being fixed.
  • the venting process of the transfer chamber TM in the case of the transfer chamber TM, when a problem occurs inside the transfer chamber TM during the process, for example, a problem occurs in the transfer robot.
  • the venting process of injecting nitrogen gas into the transfer chamber TM is performed because the transfer chamber TM must be maintained at atmospheric pressure for repair and inspection of the transfer robot.
  • the control unit 80 determines that the transfer chamber 20 performs the venting process and the other process chamber 10 performs the vacuum process by the signal of the vent valve detection sensor 60 of each chamber 10, 20.
  • the first intermittent valve 73 installed on the first bypass line 71 connected to the process chamber 10 and the cassette chamber 40 is controlled to be closed, and the transfer chamber 20 and the cassette chamber are closed.
  • the second intermittent valve 74 installed on the second bypass line 72 connected to 40 controls to be open.
  • the venting gas introduced into the transfer chamber 20 is introduced into the cassette chamber 40 through the second bypass line 72 so that the transfer chamber 20 and the cassette chamber 40 are in the same atmospheric pressure (Pa) state. Can maintain a constant pressure.
  • the first intermittent valve 73 on the first bypass line 71 is closed to vent the gas from the cassette chamber 40 to the process chamber 10. The inflow of is cut off and the vacuum pressure Pv can be maintained continuously.
  • the cassette chamber 40 and the process chamber 10 process the first valve plate 51 sealing the slit on the side of the process chamber 10 due to the pressure difference according to the atmospheric pressure Pa and the vacuum pressure Pv.
  • the sealing force (sealing) of the O-ring 43 is further shaped so that no interleak due to the pressure difference occurs.
  • the first intermittent valve 73 is closed and the second intermittent when the continuous process is performed by maintaining the vacuum state of the transfer chamber 20 again.
  • the valve 74 operates the vacuum pump (94 in FIG. 3) installed in the transfer chamber 20 in an open state so that the transfer chamber 20 and the cassette chamber 40 are respectively vacuumed.
  • the first intermittent valve 73 is closed and the second intermittent valve 74 is kept open. The process then takes place.
  • the vent chamber (vent state) of the cassette chamber CM is the same as the process chamber PM during the venting process of the process chamber PM.
  • the cassette chamber CM becomes a vent (standby state) similarly to the transfer chamber TM.
  • each valve plate of the slit valve seals the slit of both chambers (PM) in the cassette chamber (CM) provided between both chambers when the process chamber (PM) or the transfer chamber (TM) is vented.
  • the cassette chamber CM acts as a buffer to be in a vent state (standby state), thereby preventing interleaving between chambers due to back pressure due to pressure difference between both chambers.

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Abstract

본 발명은 LCD, OLED, SOLAR 등의 기판을 처리하기 위한 다수의 챔버로 일어진 진공 처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 서로 이웃하는 챔버 간에 역압을 방지하기 위한 수단이 구비된 진공 처리 장치에 관한 것이다. 이를 위해 챔버 간에 사이에 구비되어 기판의 출입되는 슬릿을 개폐하는 슬릿밸브의 동작을 제공하는 공간을 제공하는 카세트 챔버의 압력을 벤트(대기상태)가 이루어지는 챔버의 압력과 동일하게 정압이 이루어지도록 하여 진공이 이루어지는 챔버(진공 챔버)측의 슬릿을 밀폐하고 있는 슬릿밸브의 밸브플레이트를 진공 챔버측으로 더욱 가압 밀착시킴으로써 벤트 챔버와 진공 챔버의 압력 차이에 의한 인터리크를 발생하는 것을 방지하여 기판의 불량을 줄일 수 있도록 한 것이다.

Description

챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치
본 발명은 LCD, OLED, SOLAR 등의 기판을 처리하기 위한 다수 개의 챔버로 이루어진 진공 처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 서로 이웃하는 챔버간에 역압을 방지하기 위한 수단이 구비된 진공 처리 장치에 관한 것이다.
통상적으로 LCD, OLED, SOLAR 등의 기판을 처리하는 공정은 대부분 고진공 분위기에서 공정이 이루어지는 소정의 공정, 예를 들면 박막증착 , 식각 등의 공정 등이 진행될 수 있도록 밀폐된 챔버가 구비된다. 또한 이러한 챔버를 통하여 기판 수율을 높이기 위해서는 챔버 내부가 오염되지 않도록 유지하는 것이 매우 중요하다.
챔버는 고진공 상태에서 소정의 기판 공정이 수행되는 프로세스 챔버(Process chamber, PM)와, 기판을 로드 또는 언로드 하는 로드락 챔버(Load lock chamber, LM)와, 그리고 프로세스 챔버와 로드락 챔버 사이에 설치되어 기판을 이송하는 트랜스퍼 챔버(Transfer chamber, TM) 등으로 되어 있다.
한편, 상술한 각 챔버들 사이에는 기판을 통과시키기 위한 통로 역할을 하는 슬릿(slit)이 형성되어 있고, 이 슬릿에는 슬릿을 개폐하는 슬릿밸브가 설치되어 있어서 슬릿의 개폐가 이루어지도록 되어 있다.
이러한 슬릿밸브는 실질적으로 챔버 간의 통로를 이루는 슬릿을 개폐하는 것으로 슬릿과 동일한 형상으로 슬릿의 개구부보다 큰 크기의 플레이트로 이루어진 밸브 플레이트와, 공압에 의해 작동되며 밸브 플레이트 측에 연결되는 샤프트를 동작시켜서 밸브플레이트를 승강시키는 엑추에이터 등을 포함하는 형태로 이루어져 있다.
또한, 밸브 플레이트(1)에는 슬릿(2)을 실링하기 위해서 슬릿(2)과의 접촉 부위에 오링(3)이 구비된다. 밸브 플레이트(1)를 이용하여 슬릿(2)을 폐쇄할 경우 밸브 플레이트(1)가 챔버측으로 가압되면서 오링(3)이 압축되어 슬릿이 밀폐되는 것이다.
그러나 도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 진공 처리 장치는 챔버와 챔버 사이의 기판 통로인 슬릿(2)을 하나의 밸브플레이트(1)로 밀폐하기 때문에 만일 서로 이웃하는 챔버 중에서 어느 하나의 챔버를 대기압 상태로 유지하기 위해 질소 등의 가스를 주입하는 벤트(Vent) 공정이 이루어지는 경우에는 두 챔버간에 압력 차이가 매우 커진다. 슬릿(2)을 밀폐하는 밸브플레이트(1)가 압력이 높은 챔버(벤트가 이루어지는 챔버)에서 압력이 낮은 챔버(진공을 유지하는 챔버)측로 밀리는 힘이 발생된다.
이때, 프로세스 챔버(PM)가 높은 압력(벤트가 이루어지는 챔버)일 경우 밸브 플레이트(1)는 압력차에 의해서 트렌스퍼 챔버(TM) 방향으로 밀리면서 역압이 발생 된다. 이 경우에 오링(3)과 슬릿(2)의 접촉면에 미세한 틈새가 발생되어 이웃하는 다른 챔버의 진공에 영향을 주고, 이는 결국 공정 불량을 유발해서 제품에 불량이 발생되는 문제점이 있다.
특히, 최근에는 기판의 대량 생산을 추구하는 추세이므로 설비 또한 중앙에 마련된 트랜스퍼 챔버(TM)를 중심으로 이와 이웃한 다수의 프로세스 챔버(PM)가 하나의 설비에 마련되어 복수의 공정이 동시에 수행되는 멀티 프로세스 챔버형 진공 처리장치가 널리 사용되고 있는 실정이다.
이 경우에 다수의 프로세스 챔버 중에서 어느 하나의 프로세스 챔버에 문제가 발생하거나 또는 주기 점검(PM)으로 인하여 프로세스 챔버에 벤트 공정을 수행하는 경우에 공통 챔버로 사용되는 트랜스퍼 챔버는 진공 상태를 유지해야만 다른 프로세스 챔버가 정상적으로 공정을 수행할 수 있게 된다.
그러나 이러한 멀티 프로세스 챔버에 있어서 어느 한 프로세스 챔버의 벤트 공정 시에 공통으로 사용되는 트랜스퍼 챔버와의 압력 차이에 의한 역압으로 인해 벤트 중인 프로세스 챔버와 트랜스퍼 챔버 사이에 인터리크(interleak)가 발생되어 트랜스퍼 챔버의 진공이 깨지면서 공정 중인 다른 프로세스 챔버의 진공에도 영향을 주게 됨으로써 전체 공정에 불량을 야기하는 문제점이 있다.
본 발명은 진공 처리장치에서 챔버의 벤트 공정 시에 벤트 공정이 이루어지는 챔버와 이와 이웃하는 다른 챔버 사이에 역압에 의한 인터 리크가 발생되는 것을 방지함으로써 공정 불량을 줄일 수 있는 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에서 제공하는 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치는 다음과 같은 특징이 있다.
프로세스 챔버, 트랜스퍼 챔버 및 로드락 챔버를 포함하는 본 발명에 의한 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치는 상기 각 챔버 사이에 설치되고 서로 마주보는 양측에 기판이 출입되는 통로를 제공하는 슬릿이 각각 형성되며 내부에 상기 슬릿을 각각 개폐하기 위해 승강 동작하는 제1 밸브플레이트와 제2 밸브플레이트를 구비한 슬릿밸브를 수용하는 공간을 제공하는 카세트 챔버와, 상기 각 챔버에서 벤트 가스를 주입하는 벤팅 공정을 감지하는 벤팅 감지부와, 상기 각 챔버와 카세트 챔버를 각각 연결하는 제1 및 제2 바이패스 라인과 상기 제1 및 제2 바이패스 라인 상에 각각 설치되어 각 바이패스 라인에서 가스의 흐름을 단속하는 제1 및 제2 단속밸브로 구성되어 상기 각 챔버의 벤팅 공정 시에 상기 제1 및 제2 밸브플레이트로 상기 카세트 챔버의 양측 슬릿을 각각 밀폐한 상태에서 상기 각 챔버로 주입된 가스를 상기 카세트 챔버로 바이패스하여 벤팅 공정이 이루어지는 챔버와 카세트 챔버 사이에 정압 상태를 유도하는 카세트 챔버 정압부와, 상기 벤팅 감지부로부터 감지된 신호에 따라 상기 각 챔버의 벤팅 공정 또는 진공 공정을 판단하여 상기 카세트 챔버 정압부의 가스의 흐름을 단속하는 제어부를 포함한다.
또한 본 발명에 의한 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치는 상기 각 챔버에 연결되어 각 챔버로 벤트 가스를 주입하는 벤트 밸브를 더 포함하고, 상기 벤팅 감지부는 상기 벤트 밸브측에 설치되어 벤트 밸브의 오픈 및 클로즈 상태로 동작하기 위한 전기적 신호를 감지하는 벤트 밸브 감지센서로 이루어진다.
여기서, 상기 슬릿밸브는 상기 제1 밸브플레이트와 제2 밸브플레이트를 연결하는 연결부재를 더 포함하여 상기 제1 밸브플레이트와 제2 밸브플레이트는 하나의 구동 수단에 의해 동시에 구동된다.
본 발명은 어느 한 챔버의 벤트 공정 시에 벤트 공정이 이루어지는 챔버(벤트 챔버)와 이와 이웃하는 다른 챔버(진공 챔버) 사이에 마련되어 슬릿밸브의 승강 동작 공간을 제공하는 카세트 챔버가 서로 대기압 상태로 정압이 이루어지는 한편, 카세트 챔버와 진공 챔버는 대기압과 진공압에 따른 압력 차이로 인해 카세트 챔버 내부에서 진공 챔버를 밀폐하고 있는 밸브플레이트가 진공 챔버측으로 가압 밀착됨으로써 오링의 밀폐성(실링)이 더욱 향상되어 벤트 챔버와 진공 챔버 간에 역압에 의한 인터 리크가 발생되는 것을 완전히 차단할 수 있는 효과가 발휘된다.
도 1은 종래의 진공 처리장치에서 트랜스 챔버와 프로세스 챔버 사이의 슬릿밸브를 도시한 개념도이다.
도 2는 본 발명의 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치가 적용되는 멀티형 챔버를 도시한 평면도이다.
도 3은 본 발명의 진공 처리장치에서 프로세스 챔버와 트랜스퍼 챔버 사이의 카세트 챔버 정압유도부를 도시한 개념도이다.
도 4는 본 발명의 진공 처리장치에서 제어부에 의한 제어 흐름을 도시한 제어 블록도이다.
도 5는 본 발명의 진공 처리장치에서 프로세스 챔버가 벤팅 공정인 상태에서 카세트 챔버와 트랜스퍼 챔버간의 정압 상태를 도시한 개념도이다.
도 6은 본 발명의 진공 처리장치에서 트랜스퍼 챔버가 벤팅 공정인 상태에서 카세트 챔버와 프로세스 챔버간의 정압 상태를 도시한 개념도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조해서 본 발명의 일 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.
이하에서 설명되는 본 발명의 프로세스 챔버(PM), 로드락 챔버(LM), 트랜스퍼 챔버(TM) 및 카세트 챔버(CM)를 설명함 있어서 이들 구성에 대하 도면상에 표시된 구성 번호와 약자를 혼용하여 사용하고 있으나, 이는 설명의 편의상 서로 혼용하여 사용한 것으로 실질적으로 동일한 구성을 설명하는 것이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 챔버간 역압 방지수단을 구비한 멀티 프로세스 챔버형 진공 처리장치를 도시한 평면도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 의한 진공 처리장치는 통상 중앙에 마련되어 공통으로 사용되는 트랜스퍼 챔버(20)로부터 일측에는 로드락 챔버(30)가 마련되고, 타측으로는 기판 가공 공정을 진행하는 복수의 프로세스 챔버(10)가 상호 병렬로 연결된다.
또한, 각 챔버 사이에는 챔버간에 기판의 통로 역할을 하는 슬릿을 개폐하는 슬릿밸브가 동작하는 공간을 제공하는 카세트 챔버(40)가 각각 마련된다.
본 발명에서는 카세트 챔버(40)를 기준으로 이와 이웃하는 챔버들 중에서 어느 한 챔버에는 벤팅 공정이 이루어지고 다른 챔버에서는 진공 공정이 이루어지는 경우에, 카세트 챔버(40)를 벤팅 공정이 이루어지는 챔버와 동일한 압력 상태, 즉 정압 상태를 유지하도록 하는 카세트 챔버 정압유도부를 마련하여 벤팅 공정이 이루어지는 챔버와 진공 공정이 이루어지는 챔버 사이에 압력 차이로 인한 인터리크 발생을 방지한다.
이와 관련된 도 3은 본 발명의 요지를 이루는 카세트 챔버 정압유도부를 도시한 개념도이다.
도 3에서는 프로세스 챔버와 트랜스퍼 챔버 사이에 마련된 카세트 챔버 정압 유도부를 도시하였으나, 본 발명에서는 카세트 챔버 정압유도부가 프로세스 챔버와 트랜스퍼 챔버 사이의 카세트 챔버에 구비된 것에 한정되는 것이 아니라 로드락 챔버와 트랜스퍼 챔버 사이의 마련된 카세트 챔버에도 동일하게 적용될 수 있음은 물론이다.
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치는 크게 서로 이웃하는 챔버, 예를 들어 트랜스퍼 챔버(20)와 프로세스 챔버(10) 사이를 구획하면서 기판의 이송되는 통로를 개폐하는 슬릿밸브의 승강 동작하는 공간을 제공하는 카세트 챔버(40)와, 트랜스퍼 챔버(20) 또는 프로세스 챔버(10) 중에서 벤팅 공정이 이루어지는 어느 한 챔버와 카세트 챔버(40)가 서로 정압을 이루도록 하는 카세트 챔버 정압부와, 각 챔버(10)(20)의 벤팅 공정을 감지하는 벤팅 감지부(60)와, 이 벤팅 감지부(60)로터 전기적 신호를 받아 카세트 챔버 정압부의 동작을 제어하는 제어부(80)를 포함하여 구성된다.
카세트 챔버(40)는 내부가 비어 있는 직육면체 형상의 케이스로 트랜스퍼 챔버(20)측과 프로세스 챔버(10)측 사이에 설치되고 서로 마주보는 측면에는 기판이 출입되는 통로 역할을 하는 슬릿(41)(42)이 각각 형성된다.
카세트 챔버(40) 내부에는 각 슬릿(41)(42)을 개폐할 수 있도록 공압에 의해 승강 작동되는 슬릿밸브가 설치된다.
이때, 슬릿밸브는 카세트 챔버(40)의 양측에 마련된 각 슬릿(41)(42)의 개폐를 나누어서 담당하는 것으로 수직 자세로 서로 마주보면서 연결부재(43)를 통해 서로 일체로 연결된 제1 및 제2 밸브플레이트(41)(42)와, 연결부재(43)의 중앙에 결합되는 샤프트(미도시)를 가지는 공압 실린더 방식의 엑추에이터(미도시)로 구성된다. 이러한 슬릿밸브는 엑추에이터의 구동에 다른 샤프트의 승강 동작에 따라 연결부재(43)를 통해 서로 연결된 제1 및 제2 플레이트(41)(42)가 동시에 승강하는 듀얼 실링 방식으로 이루어진다.
그리고 제1 및 제2 밸브 플레이트(41)(42)에는 카세트 챔버(40) 양측의 슬릿(41)(42)을 실링하기 위해서 각 슬릿(41)(42)과의 접촉 부위에 오링(43)이 각각 구비된다.
카세트 정압 유도부는 프로세스 챔버(10)와 카세트 챔버(40) 사이에 가스의 흐름이 가능하도록 프로세스 챔버(10)와 카세트 챔버(40)를 서로 연결하는 제1 바이패스 라인(71)과, 트랜스퍼 챔버(20)와 카세트 챔버(10) 사이에 가스의 흐름이 가능하도록 트랜스퍼 챔버(20)와 카세트 챔버(10)를 서로 연결하는 제2 바이패스 라인(72)과, 제 1 및 제2 바이패스라인(71)(72) 상에 각각 설치되어 후술하는 제어부(80)의 제어 신호에 의해 이들이 배속된 각 바이패스라인(71)(72)의 가스의 흐름을 단속하는 제1 및 제2 단속밸브(73)(74)로 이루어진다.
한편, 각 챔버(10)(20)에는 공정 중에 진공 상태를 형성하기 위해서 각 챔버(10)(20)의 일측에 연결된 진공라인(93)에는 진공펌프(94)가 각각 설치된다. 진공펌프(94)의 전단에는 진공 라인(93)을 개페하는 밸브가 설치된다.
또한, 각 챔버(10)(20)의 또 다른 일측에는 챔버 내부를 대기압 상태로 전환하기 위해 챔버 내부로 벤트 가스를 주입하기 위한 벤트라인(91)이 각각 마련된다. 벤트라인(91)에는 각 챔버(10)(20)로 벤트 가스의 유입을 단속하기 위해 개폐 기능만을 갖는 벤트밸브(92)가 각각 설치된다.
여기서, 벤트 가스는 일반적으로 반응성이 낮은 질소(N2)를 사용한다.
한편, 본 발명에서는 프로세스 챔버(10)와 트랜스퍼 챔버(20)의 벤팅 공정 시에 각 챔버(10)(20)의 벤팅 공정 여부를 감지하는 벤팅 감지부(60)가 마련된다.
이때, 벤팅 감지부(60)는 각 챔버(10)(20)의 벤트밸브(92) 측에 설치되어 벤트밸브(92)가 오픈(open) 및 클로즈(close) 상태로 개폐 동작하기 위한 전기적 신호를 감지하는 센서이다.
제어부(80)는 각 챔버(10)(20)에 마련된 벤트밸브 감지센서(60)와 제1 및 제2 단속밸브(73)(74)와 전기적으로 연결되어 있다.
이와 관련한 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 카세트 챔버 정압 유도부를 동작시키기 위한 제어 블록도이다.
도 4에 도시된 바와 같이, 제어부(80)는 각 챔버의 벤트밸브 감지센서(60)로부터 벤트밸브(92)가 오픈(open) 상태의 신호를 받는 경우에 이 벤트밸브(92)가 배속된 챔버가 벤팅 공정 단계로 판단하여 해당 챔버와 카세트 챔버에 연결된 바이패스라인(71 또는 72) 상에 설치된 단속밸브(73 또는 74)를 오픈(open) 상태로 동작되도록 제어한다. 반대로, 각 챔버의 벤트밸브 감지센서(60)로부터 벤트밸브(92)가 클로즈(close) 상태의 신호를 받는 경우에 이 벤트밸브(92)가 배속된 챔버가 진공 공정 단계로 판단하여 해당 챔버와 카세트 챔버에 연결된 바이패스라인(71 또는 72) 상에 설치된 단속밸브(73 또는 74)를 클로즈(close) 상태로 동작되도록 제어한다.
이하에서는, 상술한 바와 같이 구성된 본 발명에 따른 진공 처리장치에서 어느 한 챔버의 벤팅 공정 중에 이와 이웃하는 다른 챔버 사이에 역압 방지를 위한 동작을 설명하기로 한다.
도 5는 프로세스 챔버(PM)가 벤팅 공정을 수행하고 트랜스퍼 챔버(TM)가 진공 공정을 수행하는 경우에 트랜스퍼 챔버(TM)와 카세트 챔버(CM) 사이에 정압을 유도하기 위한 동작을 설명한 개념도이고, 도 6은 트랜스퍼 챔버(TM)가 벤팅 공정을 수행하고 프로세스 챔버(PM)가 진공 공정을 수행하는 경우에 프로세스 챔버(PM)와 카세트 챔버(CM) 사이에 정압을 유도하기 위한 동작을 설명하는 개념도이다.
도 5를 참조하여 프로세스 챔버(PM)가 벤팅 공정을 수행하는 공정을 설명하면, 프로세스 챔버(PM)가 다수 구비된 멀티 챔버에서 다른 프로세스 챔버의 공정 중에 어느 하나의 프로세스 챔버(PM)에 문제가 생기거나 또는 주기 점검으로 인하여 프로세스 챔버(PM)를 대기압 상태로 유지하기 위해 프로세스 챔버(PM)에 질소 가스를 주입하는 벤팅 공정을 수행하게 된다.
이때, 외부로부터 프로세스 챔버(10)로 질소 가스를 주입하기 위해 프로세스 챔버(10)측의 벤팅밸브(92)는 개방된 상태를 이룬다. 그리고 트랜스퍼 챔버(20)에는 다른 프로세스 챔버와 공정 간의 작업을 연속적으로 이루어질 수 있도록 진공 상태가 유지되도록 트랜스퍼 챔버(20)측의 벤팅밸브(92)는 클로즈 상태가 된다.(도3 참조)
각 챔버(10)(20)의 벤팅밸브(92)측에 연결된 벤팅밸브 감지센서(60)는 각 챔버(10)(20)의 벤팅밸브(92)의 오픈 또는 클로즈 상태 신호를 감지하여 이를 제어부(80)로 전기적 신호로 각각 보낸다.(도 4 참조)
제어부(80)는, 각 챔버(10)(20)의 벤팅밸브 감지센서(60)의 신호에 의해 프로세스 챔버(10)가 벤팅 공정을 수행하고 트랜스퍼 챔버(20)가 진공 공정을 수행하는 것으로 판단하여, 프로세스 챔버(10)와 카세트 챔버(40)에 연결된 제1 바이패스라인(71) 상에 설치된 제1 단속밸브(73)는 오픈(open) 되도록 제어하고, 트랜스퍼 챔버(20)와 카세트 챔버(40)에 연결된 제2 바이패스라인(72) 상에 설치치된 제2 단속밸브(74)는 클로즈(close) 되도록 제어한다.
이로 인해, 프로세스로 챔버(10)로 유입된 벤팅 가스는 제1 바이패스라인(71)을 통해 카세트 챔버(40)로 유입되고, 프로세스 챔버(10)와 카세트 챔버(40)는 동일한 대기압(Pa) 상태로 정압을 유지할 수 있다. 한편, 카세트 챔버(40)와 트랜스퍼 챔버(20)는 제2 바이패스라인(72)이 클로즈(close) 되어 카세트 챔버(40)에서 트랜스퍼 챔버(20)로의 벤팅 가스의 유입이 차단됨으로써 진공 상태의 압력(Pv)을 계속하여 유지할 수 있다.
이때, 카세트 챔버(40)와 트랜스퍼 챔버(20)는 대기압(Pa)과 진공압(Pv)에 따른 압력 차이로 인해 트랜스퍼 챔버(20)측의 슬릿를 밀폐하고 있는 제2 밸브플레이트(52)를 트랜스퍼 챔버(20)측으로 가압 밀착함으로써 오링(43)의 밀폐력(실링)이 더욱 형상되어 압력 차이에 따른 인터리크가 전혀 발생되지 않게 된다.
상술한 프로세스 챔버(10)의 벤팅 공정이 완료된 이후에 프로세스 챔버(10)를 다시 진공 상태를 유지하여 공정을 수행하는 경우에는 제1 단속밸브(71)는 오픈(open) 상태 그리고 제2 단속밸브(72)는 클로즈(close)한 상태에서 프로세스 챔버(10)에 설치된 진공 펌프(도3의 94)를 가동함으로써 프로세스 챔버(10)와 카세트 챔버(40)는 각각 진공 상태로 된다.
이후 프로세스 챔버(10)와 카세트 챔버(40)의 진공이 완료된 후 최초 밸브의 동작시 제어부(80)는 제1 단속밸브(73)는 클로즈(close) 및 제2 단속밸브(74)는 오픈(open) 되도록 제어하여 이후 공정이 이루어지도록 한다.
참고로, 프로세스 챔버(10)의 고정 중에는 제2 단속밸브(74)는 항상 오픈(open) 상태가 유지된다.
도 6을 참조하여, 트랜스퍼 챔버(TM)의 벤팅 공정과 관련하여 설명하면, 트랜스퍼 챔버(TM)의 경우에는 공정 중에 트랜스퍼 챔버(TM) 내부에 문제가 발생되는 경우, 예를 들어 이송 로봇에 문제가 생기는 경우 등에는 이송 로봇의 수리 및 점검을 위해 트랜스퍼 챔버(TM)를 대기압 상태로 유지하여야 하기 때문에 트랜스퍼 챔버(TM)에 질소 가스를 주입하는 벤팅 공정을 수행하게 된다.
이 경우 외부로부터 트랜스퍼 챔버(20)로 질소 가스를 주입하기 위해 트랜스퍼 챔버(20)측의 벤팅밸브(92)를 오픈(open) 하게 되는 경우에도 다른 프로세스 챔버(10)는 오염 방지를 위한 진공 상태를 유지하기 위해 계속적인 진공 공정 작업이 이루어진다. 이때 프로세스 챔버(10)측의 벤팅밸브(92)는 클로즈(close) 상태가 된다.(도 3 참조)
제어부(80)는 각 챔버(10)(20)의 벤팅밸브 감지센서(60)의 신호에 의해 트랜스퍼 챔버(20)는 벤팅 공정을 수행하고 다른 프로세스 챔버(10)는 진공 공정을 수행하는 것으로 판단하여, 프로세스 챔버(10)와 카세트 챔버(40)에 연결된 제1 바이패스라인(71) 상에 설치된 제1 단속밸브(73)는 클로즈(close) 되도록 제어하고, 트랜스퍼 챔버(20)와 카세트 챔버(40)에 연결된 제2 바이패스라인(72) 상에 설치치된 제2 단속밸브(74)는 오픈(open) 되도록 제어한다.
이로 인해, 트랜스퍼 챔버(20)로 유입된 벤팅 가스는 제2 바이패스라인(72)을 통해 카세트 챔버(40)로 유입되어 트랜스퍼 챔버(20)와 카세트 챔버(40)는 동일한 대기압(Pa) 상태로 정압을 유지할 수 있다. 한편, 카세트 챔버(40)와 프로세스 챔버(10)는 제1 바이패스라인(71)상의 제1 단속밸브(73)이 클로즈(close) 되어 카세트 챔버(40)로부터 프로세스 챔버(10)로의 벤팅 가스의 유입이 차단되어 진공 상태의 압력(Pv)을 계속하여 유지할 수 있다.
이때, 카세트 챔버(40)와 프로세스 챔버(10)는 대기압(Pa)과 진공압(Pv)에 따른 압력 차이로 인해 프로세스 챔버(10)측의 슬릿를 밀폐하고 있는 제1 밸브플레이트(51)를 프로세스 챔버(10)측으로 가압 밀착함으로써 오링(43)의 밀폐력(실링)이 더욱 형상되어 압력 차이에 따른 인터리크가 전혀 발생되지 않게 된다.
상술한 트랜스퍼 챔버(20)의 벤팅 공정이 완료된 이후에 재차 트랜스퍼 챔버(20)의 진공 상태를 유지하여 계속적인 공정을 수행하는 경우에는 제1 단속밸브(73)는 클로즈(close) 그리고 제2 단속밸브(74)는 오픈(open) 한 상태에서 트랜스퍼 챔버(20)에 설치된 진공 펌프(도3의 94)를 가동하여 트랜스퍼 챔버(20)와 카세트 챔버(40)가 각각 진공이 되도록 한다.
이후 트랜스퍼 챔버(20)와 카세트 챔버(40)의 진공이 완료된 상태에서는 제1 단속밸브(73)는 클로즈(close) 그리고 제2 단속밸브(74)는 오픈(open)된 상태를 계속적으로 유지하면서 이후 공정이 이루어지도록 한다.
이와 같이, 본 발명에 따른 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치에 있어서는 프로세스 챔버(PM)의 벤트 공정 시에 카세트 챔버(CM)는 프로세스 챔버(PM)와 동일하게 벤트(대기 상태)가 되고, 또한 트랜스퍼 챔버(TM)의 벤트 공정 시에 카세트 챔버(CM)는 트랜스퍼 챔버(TM)와 동일하게 벤트(대기 상태)가 된다. 이는 결국 프로세스 챔버(PM) 또는 트랜스퍼 챔버(TM)가 벤트 공정이 이루어지는 경우에 양 챔버 사이에 마련된 카세트 챔버(CM)에서 슬릿밸브의 각 밸브플레이트가 양 챔버(TM)(PM)의 슬릿을 밀폐한 상태에서 카세트 챔버(CM)는 벤트 상태(대기 상태)가 되는 완충 역할을 함으로써 양 챔버 간의 압력 차이에 따른 역압에 의해 챔버간의 인터리크가 발생되는 것을 방지할 수 있게 된다.
한편, 로드락 챔버(RM)의 경우에는 외부로부터 기판이 유입되거나 또는 공정이 완료된 기판을 외부로 반출하는 경우에 벤팅 공정이 이루어지게 되는데, 이때 로드락 챔버(RM)와 트랜스퍼 챔버(TM) 사이의 카세트 챔버(CM)의 정압을 유지하기 위한 구성 및 방법은 상술한 트랜스퍼 챔버와 프로세스 챔버 사이의 카세트 챔버의 정압을 유지하기 위한 구성 및 방법과 동일하게 적용된다.
이상 본 발명을 몇 가지 바람직한 실시예를 사용하여 설명하였으나, 이들 실시예는 예시적인 것이며 한정적인 것이 아니다. 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 지닌 자라면 본 발명의 사상과 첨부된 특허청구범위에 제시된 권리범위에서 벗어나지 않으면서 다양한 변화와 수정을 가할 수 있음을 이해할 것이다.

Claims (3)

  1. 프로세스 챔버, 트랜스퍼 챔버 및 로드락 챔버를 포함하는 진공 처리장치에 있어서,
    상기 각 챔버 사이에 설치되고 서로 마주보는 양측에 기판이 출입되는 통로를 제공하는 슬릿이 각각 형성되며 내부에 상기 슬릿을 각각 개폐하기 위해 승강 동작하는 제1 밸브플레이트와 제2 밸브플레이트를 구비한 슬릿밸브를 수용하는 공간을 제공하는 카세트 챔버와,
    상기 각 챔버에서 벤트 가스를 주입하는 벤팅 공정을 감지하는 벤팅 감지부;
    상기 각 챔버와 카세트 챔버를 각각 연결하는 제1 및 제2 바이패스 라인과, 상기 제1 및 제2 바이패스 라인 상에 각각 설치되어 각 바이패스 라인에서 가스의 흐름을 단속하는 제1 및 제2 단속밸브로 구성되어, 상기 각 챔버의 벤팅 공정 시에 상기 제1 및 제2 밸브플레이트로 상기 카세트 챔버의 양측 슬릿을 각각 밀폐한 상태에서 상기 각 챔버로 주입된 가스를 상기 카세트 챔버로 바이패스하여 벤팅 공정이 이루어지는 챔버와 카세트 챔버 사이에 정압 상태를 유도하는 카세트 챔버 정압부; 및
    상기 벤팅 감지부로부터 감지된 신호에 따라 상기 각 챔버의 벤팅 공정 또는 진공 공정을 판단하여 상기 카세트 챔버 정압부의 가스의 흐름을 단속하는 제어부;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 각 챔버에 연결되어 각 챔버로 벤트 가스를 주입하는 벤트 밸브를 더 포함하고, 상기 벤팅 감지부는 상기 벤트 밸브측에 설치되어 벤트 밸브의 오픈 및 클로즈 상태로 동작하기 위한 전기적 신호를 감지하는 벤트 밸브 감지센서로 이루어진 것을 특징으로 하는 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 슬릿밸브는 상기 제1 밸브플레이트와 제2 밸브플레이트를 연결하는 연결부재를 더 포함하여 상기 제1 밸브플레이트와 제2 밸브플레이트는 하나의 구동 수단에 의해 동시에 구동되는 것을 특징으로 하는 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치.
PCT/KR2012/008067 2011-10-05 2012-10-05 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치 WO2013051877A2 (ko)

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US14/348,056 US9180445B2 (en) 2011-10-05 2012-10-05 Vacuum processing apparatus having a means for preventing counter-pressure between chambers
CN201280046795.9A CN103858207B (zh) 2011-10-05 2012-10-05 腔室之间具备反压防止机构的真空处理装置
JP2014534476A JP2015513338A (ja) 2011-10-05 2012-10-05 チャンバ間逆圧防止手段を備えた真空処理装置

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KR1020110101299A KR101171990B1 (ko) 2011-10-05 2011-10-05 챔버간 역압 방지수단을 구비한 진공 처리장치.
KR10-2011-0101299 2011-10-05

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