KR20200012740A - 임프린트 장치, 제어 방법, 임프린트 방법 및 제조 방법 - Google Patents

임프린트 장치, 제어 방법, 임프린트 방법 및 제조 방법 Download PDF

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Abstract

임프린트 헤드 온도를 안정화하도록 구성되는 장치 및 방법. 장치 및 방법은, 고정 표면에 부착된 장착부와, 장착부에 대해 이동가능한 가동 플레이트와, 가동 플레이트와 장착부 사이에 장착된 적어도 하나의 전자기 액추에이터를 포함하고, 가동 플레이트의 이동을 제어하기 위해 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 전류가 인가되고, 아이들 상태에서 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가되는 전류의 실효값이 연속 임프린팅 상태 동안 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가되는 전류의 실효값과 동등한 임프린트 장치를 포함한다.

Description

임프린트 장치, 제어 방법, 임프린트 방법 및 제조 방법{IMPRINT APPARATUS, CONTROL METHOD, IMPRINT METHOD AND MANUFACTURING METHOD}
본 개시내용은 나노임프린트 리소그래피에 사용하기 위한 임프린트 헤드를 포함하는 나노임프린트 기술에 관한 것이다.
반도체 제조 분야에서, 진보된 반도체 리소그래피의 사용은 빠르게 표준이 되고 있다. 나노임프린트 리소그래피 기술은 3 nm 미만 분해능 및 7 nm 미만 하프-피치까지의 현저한 복제 능력을 보유하는 것으로 공지되어 있다. 이와 관련하여, 나노임프린트 리소그래피는 다른 기술에 비해서 제공하는 능력에서 특이적이고; 그 분해능은 비길 데 없으며 분자 규모에 접근한다. 추가로, 반도체 및 디스플레이 제조 산업에서 워크호스(workhorse)인 포토리소그래피(PL)에 비해, 나노임프린트 리소그래피의 분해능은 패터닝되는 필드 크기에 의해 크게 영향을 받지 않으며, 이는 고 처리량 나노임프린트 리소그래피 공정을 초래할 가능성을 갖는다.
그러나 상업적으로 실행 가능한 IC 제조 공정에 대한 상기 분자 규모의 복제 분해능을 옮기는 것은 그 자체적으로 존재하는 다양한 공정 성능 문제를 해결하는 것을 요구한다. 주요 문제 중 일부는 템플릿의 열팽창 또는 템플릿의 온도 유도 평탄도 왜곡에 의해 유발되는 오정렬 및 오버레이 오차이다.
불안정한 임프린트 헤드 온도에 의해, 정렬 및 오버레이가 열화된다. 추가로, 문제는 코일 내의 줄(Joule) 가열을 유발하는 임프린트 헤드 보이스 코일 전류의 변화로 인해 발생하고, 보이스 코일 상의 부하는 일반적으로 연속 임프린팅 및 임프린트 헤드 아이들링 기간 동안 상이하며, 임프린팅 개시 후 새로운 정상 상태 온도에 도달하는 데 긴 기간(약 ~1 시간)이 요구된다.
본 나노임프린트 온도 안정화 장치 및 방법의 다양한 실시예는 몇몇 특징을 갖고, 그 중 단 하나만이 그들의 원하는 특성을 단독으로 책임지지 않는다. 이하의 청구항에 의해서 표현되는 바와 같은 본 실시예의 범위를 제한하지 않으면서, 이제 그들의 더 두드러진 특징을 간략히 설명한다. 이러한 논의를 고려한 후에, 그리고 특히 "발명을 실시하기 위한 구체적인 내용"이라는 명칭의 섹션을 판독한 후에, 본 실시예의 특징이 본 명세서에 설명된 장점을 어떻게 제공하는지 이해할 것이다.
제1 실시예에서, 임프린트 장치는 고정 표면에 부착된 장착부와, 상기 장착부에 대해 이동가능한 가동 플레이트와, 상기 가동 플레이트와 상기 장착부 사이에 장착된 적어도 하나의 전자기 액추에이터를 포함하고, 상기 가동 플레이트의 이동을 제어하기 위해 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 전류가 인가되며, 아이들 상태에서 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가된 전류의 실효값(rms)이 연속 임프린팅 상태 동안에 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가된 전류의 실효값과 동등하다.
다른 실시예에서, 임프린트 방법이 제공되며, 상기 방법은, 임프린트 템플릿을 가동 표면에 제공하는 단계와, 적어도 하나의 전자기 액추에이터를 사용하여 상기 가동 표면의 이동을 제어하는 단계와, 아이들 상태 동안, 기판으로부터 미리결정된 거리에 상기 가동 플레이트를 유지하기 위해 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 전류를 인가하는 단계를 포함하며, 아이들 상태 동안에 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가되는 상기 전류의 실효값이 연속 임프린팅 상태 동안에 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가되는 상기 전류의 실효값과 동등하다.
도 1은 본 개시내용의 예시적인 실시예에 따른 나노임프린트 리소그래피 시스템을 위한 임프린트 헤드의 평면도이다.
도 2는 본 개시내용의 제1 실시예에 따른 나노임프린트 리소그래피 시스템을 위한 임프린트 헤드의 평면도이다.
도 3은 본 개시내용의 제2 실시예에 따른 나노임프린트 리소그래피 시스템을 위한 임프린트 헤드의 평면도이다.
도 4는 본 개시내용의 제3 실시예에 따른 복수의 전자기 액추에이터를 포함하는 임프린트 헤드의 간략화된 도면이다.
도 5a 내지 도 5c는 본 개시내용의 제4 실시예에 따른 아이들 상태에서 임프린트 헤드가 진동하는 타이밍도이다.
예시적인 장치, 방법 및 시스템이 본원에서 설명된다. 본원에서 설명된 임의의 예시적인 실시예 또는 특징이 반드시 다른 실시예 또는 특징에 비해서 바람직하거나 유리한 것으로 해석되는 것은 아니다. 본 명세서에 설명된 예시적인 실시예는 제한되도록 의도되지 않는다. 개시된 시스템 및 방법의 소정 양태는 다양한 상이한 구성으로 배치 및 조합될 수 있고, 이들 모두는 본원에서 고려된다는 것이 즉시 이해될 것이다.
또한, 도면에 도시된 특정 배치는 제한적인 것으로 간주되어서는 안된다. 다른 실시예는 주어진 도면에 도시된 각각의 요소를 다소 포함할 수 있다는 것을 이해해야 한다. 또한, 도시된 요소의 일부는 조합되거나 생략될 수 있다. 또한, 예시적인 실시예는 도면에 도시되지 않은 요소를 포함할 수 있다.
임프린트 헤드 온도를 제어할 필요가 있기 때문에, 본 개시내용의 예시적인 실시예는 아이들링 및 임프린팅 동안 동일한 평균 보이스 코일 전력을 유지하기 위해 연속 임프린팅 동안과 동일한 rms 전류로 활성화된 임프린트 헤드를 유지하도록 아이들 또는 간헐적 임프린팅 기간 동안에 임프린트 헤드의 온도를 정확하게 제어하는 것을 제공한다. 이들 예시적인 실시예에 따르면, 도구 아이들 온도는 특정 임프린트 헤드 아이들 위치를 선택함으로써 도구 활동 온도에 매칭되도록 설정될 수 있다. 이는 임프린트 헤드 온도 안정성을 향상시킨다.
도 1은 본 개시내용의 예시적인 실시예에 따른 나노임프린트 리소그래피 시스템용 임프린트 헤드를 도시한다. 나노임프린트 리소그래피 시스템은, 이것으로 제한되는 것은 아니지만, 임프린트 헤드(100), 이동 플레이트(1), 임프린트 템플릿(2), 기판(3), 보이스 코일(4) 및 자석(5)을 갖는 전자기 액추에이터에 인가되는 전류 또는 전압을 제어하는 제어 유닛, 스프링(6), 고정 본체(7), 제1 평면(8), 기판 표면(9) 및 제2 평면(10)을 포함한다. 임프린트 헤드(100)는 Z-방향으로 병진운동하고 기판(3)에 대해 X 및/또는 Y 방향으로 대략 회전하는 능력을 갖는 장착가능 제어 헤드이다.
이동 플레이트(1)는 스프링(6)을 통해 고정 본체(7)에 부착되고, 평형 위치 또는 임의의 다른 특정 위치에서의 서스펜션을 허용한다. 또한, 이동 플레이트(1)는 기판(3)으로부터 설정 거리에 임프린트 템플릿(2)을 유지하고 전자기 액추에이터에 부착된다. 다른 실시예에서, 이동 플레이트(1)는 움직임을 차단하기 위해 고정 표면에 인가되는 힘을 이용하여 고정된 위치에 유지된다. 이는 제한되는 것은 아니지만 록킹 타입 기구, 범프 정지부, 기계적 인터로크 등을 포함한다. 이동 플레이트(1)는 이것으로 제한되는 것은 아니지만 상이한 재료로 구성될 수 있다. 예를 들어, 이동 플레이트는 접합 용융 실리카 공기 공동 윈도우를 갖는 실리콘 카바이드 본체와 금속 구성요소를 포함할 수 있다. 이 경우에, 이들 재료는 모두 다른 열팽창 계수를 갖고, 결과적으로 임프린트 헤드(100)의 온도 변화는 이동 플레이트(1)의 평탄도가 변화하게 할 수 있다. 이동 플레이트(1)는 불균일하게 이동할 수 있고, 플레이트의 일부 부분은 기판(3)에 대해 상이한 거리 및 상이한 방향으로 이동할 수 있다. 따라서, 이는 템플릿(2) 위치 및 형상이 변경되게 하여 오버레이 왜곡을 유발한다.
임프린트 템플릿(2)은 이동 플레이트(1)에 부착되며, 이때 그 저부 에지가 제1 평면(8)이다. 임프린트 템플릿은 위치 A2로부터 기판 표면(9)에 있는 위치 B2까지 또는 위치 C2까지 이동할 수 있으며, 이때 거리 A1 내지 B1는 거리 A2 내지 B2와 동일하고 거리 A1 내지 C1는 거리 A2 내지 C2와 동일하다.
기판(3)은 상위 에지가 설정 거리에서 제1 평면(8) 아래에 위치된 기판 표면(9)인 나노임프린트 리소그래피를 위한 임의의 허용가능한 고체 재료일 수 있다.
전술한 바와 같이, 보이스 코일(4) 및 자석(5)은 예시적 전자기 액추에이터를 구성하고, 제어 유닛에 의해 제어된다. 또한, 제어 유닛은 임프린팅 상태에서의 rms 전류를 획득할 수 있고, 획득된 rms 전류에 기초하여 아이들 상태에서의 전류를 제어할 수 있다. 이 예에서, 전자기 액추에이터는 보이스 코일(4) 측면이 이동 플레이트(1)에 부착된 상태에서 고정 본체(7)와 이동 플레이트(1) 사이에 위치된다. 그러나, 전자기 액추에이터의 측면은 또한 보이스 코일(4) 측면이 고정 본체(7)에 부착되는 상태로 역전될 수 있다. 전자기 액추에이터는 전류가 보이스 코일(4)을 통해 흘러 자석(5)에 의해 자기장 및 자기 모멘트를 생성하게 한다. 보이스 코일(4)은 특정 범위 내에서 상하로 수직 이동을 허용하도록 자석(5)의 중심에 있고 자석에 의해 둘러싸일 수 있지만 이것으로 한정되는 것은 아니다. 다른 실시예에서, 자석(5)은 동일한 수직 유형 이동을 허용하도록 보이스 코일(4) 내에서 중심에 위치되고 보이스 코일에 의해 둘러싸인다.
위에서 설명된 바와 같이, 전류가 전류의 방향에 따라 보이스 코일(4)과 자석(5) 사이의 인력 또는 반발력을 유발하는 전자기 액추에이터에 인가된다. 따라서, 상호작용은 전자기 액추에이터 및 이동 플레이트(1)의 수직 이동을 유발한다. 다른 실시예에서, 보이스 코일(4) 및 자석(5)을 갖는 복수의 전자기 액추에이터가 존재하고, 각각의 보이스 코일(4) 및 자석(5) 쌍의 변위는 상이할 수 있다.
스프링(6)은 기계적 에너지를 저장하는 탄성 물체일 수 있지만 이것으로 한정되지 않는다. 스프링(6)이 그 휴지 위치로부터 연장할 때, 스프링은 그 길이의 변화에 대략 비례하는 대향력을 가한다. 그 설계는 예시적인 목적을 위해 도시된 것과 다를 수 있다. 휴지 위치에서, 스프링(6)은 고정 본체(7)에서의 연결 지점으로부터 제2 평면(10)까지 측정된 d0와 동일한 길이를 갖는다. 또한, 다른 실시예에서, 보이스 코일(4) 및 자석(5)의 수에 대응하는 복수의 스프링(6)이 있다.
스프링(6)은 일 단부가 제2 평면(10)에서 이동 플레이트(1)에 부착되고 타 단부가 고정 본체(7)에 부착되어 이동 플레이트(1) 및 임프린트 템플릿(2)이 기판(3)으로부터 고정된 거리에서 평형상태로 현수되게 한다. 평형 위치에서, 제1 평면(8)은 위치 A2에 있고, 제2 평면(10)은 위치(A1)에 있다.
많은 인자로 인해, 임프린트 템플릿(2)의 오정렬 및 오버레이 오차가 발생할 수 있다. 이들 인자 중 하나는 임프린트 템플릿(2)의 열팽창일 수 있다. 임프린트 템플릿(2)은 매우 낮은 열팽창 계수를 갖는 용융 실리카인 것이 바람직하지만, 온도의 약간의 변화는 수 나노미터의 오정렬을 생성할 수 있으며, 이들 중 일부는 비선형적이고 해결하기 어려울 수 있다.
또한, 이동 플레이트(1)는 상이한 재료를 포함할 수 있다. 예를 들어, 이동 플레이트는 접합 용융 실리카 공기 공동 윈도우를 갖는 실리콘 카바이드 본체와 금속 구성요소를 포함할 수 있다. 이들 재료는 각각 상이한 열팽창 계수를 갖기 때문에, 임프린트 헤드(100) 온도의 변화는 이동 플레이트(1)가 위치를 시프트시키고 평탄하게 유지되지 않게 할 수 있다. 따라서, 평형 상태에서의 임프린트 템플릿(2)의 평탄도는 변화되어 오버레이 왜곡을 야기할 수 있다.
부가적으로, 임프린트 템플릿(2)과 기판(3)이 상이한 온도에 있을 때 오버레이 왜곡이 발생할 수 있다. 예를 들어, 임프린팅 및 기판(3)을 국부적으로 가열하는 동안 열이 임프린트 템플릿(2)으로부터 기판(3)으로 국부적으로 유동할 수 있다. 이는 또한 비선형 오버레이 왜곡을 유발할 수 있다.
마지막으로, 임프린트 헤드(100)를 포함하는 도구가 아이들 상태에 있는 경우, 보이스 코일(4)을 통해 흐르는 전류는 거의 또는 전혀 없고; 통상적으로 임의의 전류가 인가된다면, 이것은 단지 이동 플레이트(1)를 원하는 아이들 위치에 유지하는데 충분한 것이다. 이는, 임프린트 헤드(100)가 연속 임프린팅 상태에 있을 때, 즉 생산을 위해 사용중일 때, 보이스 코일(4)을 통해 흐르는 상당한 평균 전류가 존재할 때 같이 연속 임프린트 사이클이 행해지는 경우와 대조적이다. 최대 전류는 임프린트 템플릿(2)이 기판(3)과 접촉하는 위치(B2)에 있을 때 발생한다. 전류는 줄 가열 열로 인해 보이스 코일(4)이 가열되게 하며, 이는 또한 다시 자석(5), 이동 플레이트(1) 및 임프린트 템플릿(2)과 같은 주변 임프린트 헤드(100) 부품을 가열한다. 템플릿(2) 온도가 정상 상태로 상승하거나 정상 상태로 냉각되는 통상적인 과도 시간은 30분 내지 1시간의 범위 또는 10분 내지 2시간의 범위이다.
도구 상태는 종종 예측 불가능하기 때문에, 아래에서 설명되는 실시예는 템플릿(2) 온도를 유지하는 것을 목표로 한다.
도 2는 본 개시내용의 예시적 실시예에 따른 활성화된 보이스 코일 상태에서의 나노임프린트 리소그래피 시스템의 임프린트 헤드의 평면도이다.
이 실시예에서, 보이스 코일(4)은 연속 임프린팅 동안 (형태 I2R의) 평균 전기 보이스 코일(4) 전력에 대응하는 평균 전류로 계속적으로 활성화된다. 이는 이하의 형태인 임프린팅 동안의 rms (실효값) 전류와 동일하다:
Figure pat00001
여기서, I(t)는 시간 간격(T)에 걸쳐 측정된 순간 보이스 코일(4) 전류이며 이 시간 간격 후에 보이스 코일(4) 전류가 연속 임프린팅(예를 들어, 기판 상에의 단일 임프린트가 템플릿을 기판의 하나의 필드 상의 수지와 접촉시키고, 수지를 경화시키며, 경화된 수지로부터 템플릿을 분리하는 처리에 의해 행해지는 하나의 임프린트 사이클, 또는 기판 상의 모든 필드가 기판의 로딩 및 언로딩을 포함하는 스텝-앤드-리피드 처리에서 임프린트되는 하나의 기판 사이클) 동안 반복된다. 시간 간격(T)은 또한 임프린트 도구 활동 임프린트 시간일 수 있다.
이로써, 임프린트 템플릿(2)은 도구가 원하는 평균 전류를 유지하기 위해 아이들링될 때 제1 평면(8)이 위치 A2로부터 B2를 향해 이동하는 상태로 하향 방향으로 이동한다. 대응하여, 이동 플레이트(1)는 위치 A1으로부터의 B1를 향해 하향 방향으로 이동하며 스프링(6)은 길이(d1)로 연장된다. 이상적인 위치는 스프링(6)에 의해 가해지는 힘이 연속 임프린팅 동안의 rms 전류와 동등한 전류를 필요로 할 때에 도달된다.
도 3은 본 개시내용의 다른 예시적 실시예에 따른 활성화된 보이스 코일 상태에서의 나노임프린트 리소그래피 시스템의 임프린트 헤드의 평면도이다.
도 2에 설명된 실시예와 유사하게, 본 실시예에서, 보이스 코일(4)은 연속 임프린팅 동안 (형태 I2R의) 평균 전기 보이스 코일(4) 전력에 대응하는 평균 전류로 일정하게 활성화된다. 이는 임프린팅 동안의 rms 전류와 동등하다.
본 실시예에서, 임프린트 템플릿(2)은 도구가 원하는 평균 전류를 유지하기 위해 아이들링될 때 제1 평면(8)이 위치 A2으로부터 C2를 향해 이동하는 상태로 상향 방향으로 이동한다. 대응하여, 이동 플레이트(1)는 기판(3)으로부터 멀어지게 위치 A1으로부터 C1을 향해 상향 방향으로 이동하고, 스프링(6)은 길이(d2)로 압축된다. 이상적인 위치는 연속 임프린팅 동안의 rms 보이스 코일(4) 전류와 동등한 요구 평균 보이스 코일(4) 전류에 기초하여 계산된다.
도 4는 본 개시내용의 다른 예시적인 실시예에 따른 복수의 보이스 코일(4) 및 자석(5)을 갖는 다수의 전자기 액추에이터를 포함하는 임프린트 헤드의 간략화된 도면이다.
이 실시예에서, 개별적인 구성요소는 도 1에 설명된 실시예와 유사하다. 이로써, 각각의 그리고 그들 각각의 동작의 상세한 설명은 생략된다. 본 실시예에서, 복수의 보이스 코일(4), 자석(5) 및 스프링(6)이 존재하며, 보이스 코일(4)의 개수는 자석(5)의 개수에 대응한다.
여기서, 이동 플레이트(1)는 연속적이고 복수의 보이스 코일(4)을 포함하고, 고정 본체(7)는 복수의 자석(5)을 포함하는 연속 본체로서 연장된다. 따라서, 임프린트 템플릿(2)은 복수의 자석(5) 및 복수의 스프링(6)과 연동하는 복수의 보이스 코일(4)의 이동 및 위치결정에 의해 제어된다.
이러한 구성에서, 전류가 복수의 보이스 코일(4)에 인가되어 자기장 및 자기 모멘트를 생성한다. 아이들 또는 대기 상태에서, 각각의 보이스 코일(4) 및 자석(5) 쌍은 통상 동작 상태 동안 각각의 쌍에 의해 생성되는 열(전력)에 매칭되도록 개별적으로 제어될 것이다. 이는 각각의 쌍 위치에서의 온도의 정밀한 제어를 보장한다.
도 5a 내지 도 5c는 본 개시내용의 다른 예시적인 실시예에 따른 아이들 기간 동안 이동 플레이트(1)가 진동하는 타이밍도이다. 이 예에서 도 1을 참조하면, 아이들 기간 동안, 이동 플레이트(1)는 도 5a에 도시된 바와 같이 Z 방향으로 진동한다. 이는 시간에 대한 도 5b에 도시된 프로파일을 갖는 보이스 코일(4)의 사인파형 가속도를 유발한다. 이러한 유형의 진동을 달성하기 위해, 평균 보이스 코일(4) 전력은 도 5c에 도시된 바와 같이 설정된다. 이 예에서, 충분한 진폭 및 주파수를 갖는 보이스 코일(4)의 강제 진동은 연속 동작 동안 평균 보이스 코일 전력과 동등한 충분한 전력을 소비할 수 있다. 따라서, 임프린트 템플릿(2)을 갖는 이동 플레이트(1) 또한 아이들 상태에서 진동한다.
상술한 바와 같이 이동 플레이트(1)가 진동하도록 강제될 때, 관성 운동을 구동하는 rms 전류는 A1 위치 또는 C1과 B1 사이의 임의의 다른 편리한 미리결정된 위치 주위의 진동을 위한 연속 임프린팅 동안의 rms 임프린트 전류와 동일해질 수 있다.
또 다른 실시예에서, 매우 긴 아이들 시간 동안, 항상 평균 전류를 유지할 필요가 없을 수 있다. 이 경우, 임프린트 헤드(100)는 그 아이들 위치 또는 자연 평형 위치에 위치될 수 있고, 이어서 임프린트 헤드(100)를 평형 임프린트 온도로 가열하기 위해 예정된 임프린트 시작 시간보다 미리결정된 시간 전에 등가 전류의 평면으로 이동될 수 있다(예를 들어, 1 시간). 더 빠른 임프린트 개시가 요구되는 경우, 이동 플레이트(1)는 A1으로부터 더 멀리 이동되어 전류를 연속 임프린팅 중에 사용되는 rms 임프린트 전류를 인가하기 전에 소정 시간 간격 동안 연속 임프린팅 중에 사용되는 rms 임프린트 전류 위로 상승시킬 수 있다. 이것의 장점은 평형 온도로의 임프린트 헤드(100)의 더 빠른 가열이다. 따라서, 냉간 시동 후의 처음 여러 개 이상의 임프린트는 오버레이 개선으로부터 이익을 얻을 수 있다.
물품으로서의 역할을 하는 장치(반도체 장치, 자기 저장 매체, 액정 디스플레이 요소 등)의 제조 방법에 대해서 설명한다. 제조 방법은 상술한 임프린트 장치 또는 임프린트 방법을 사용하여 기판(웨이퍼, 유리 플레이트, 필름 유사 기판 등) 상에 패턴을 형성하는 단계를 포함한다. 제조 방법은 패턴이 형성된 기판을 처리하는 단계를 더 포함한다. 처리 단계는 패턴의 잔류 막을 제거하는 단계를 포함할 수 있다. 처리 단계는 또한 패턴을 마스크로서 사용하여 기판을 에칭하는 단계와 같은 다른 공지된 단계를 포함할 수 있다. 본 실시예에 따른 물품 제조 방법은 물품의 성능, 품질, 생산성, 및 생산 비용 중 적어도 하나에서 종래의 방법보다 우수하다.
본 개시내용을 예시적인 실시예를 참조하여 설명하였지만, 본 발명은 개시된 예시적인 실시예로 제한되지 않는다는 것을 이해해야 한다. 이하의 청구항의 범위는 모든 변형, 동등한 구조 및 기능을 포함하도록 최광의로 해석되어야 한다.

Claims (14)

  1. 임프린트 장치이며,
    고정 표면에 부착된 장착부와;
    상기 장착부에 대해 이동가능한 가동 플레이트와;
    상기 가동 플레이트와 상기 장착부 사이에 장착된 적어도 하나의 전자기 액추에이터를 포함하고,
    상기 가동 플레이트의 이동을 제어하기 위해 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 전류가 인가되며,
    아이들 상태에서 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가된 전류의 실효값이 연속 임프린팅 상태 동안에 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가된 전류의 실효값과 동등한, 임프린트 장치.
  2. 제1항에 있어서, 아이들 상태에서, 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가된 전류는 일정한, 임프린트 장치.
  3. 제2항에 있어서, 아이들 상태에서, 상기 가동 플레이트는 위치적으로 고정되는, 임프린트 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    일 단부에서 상기 장착부에 장착되고 다른 단부에서 상기 가동 플레이트에 장착되는 적어도 하나의 스프링을 더 포함하며,
    상기 가동 플레이트를 안정화시키기 위해 상기 적어도 하나의 스프링에 의해 힘이 가해지는, 임프린트 장치.
  5. 제1항에 있어서, 아이들 상태에서, 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가되는 상기 전류는 가변적인, 임프린트 장치.
  6. 제5항에 있어서, 아이들 상태에서, 상기 가동 플레이트는 고정 위치에 유지되는, 임프린트 장치.
  7. 제5항에 있어서, 아이들 상태에서, 상기 가동 플레이트는 진동하는, 임프린트 장치.
  8. 제5항에 있어서,
    일 단부에서 상기 장착부에 장착되고 다른 단부에서 상기 가동 플레이트에 장착되는 적어도 하나의 스프링을 더 포함하며,
    상기 가동 플레이트를 안정화시키기 위해 상기 적어도 하나의 스프링에 의해 힘이 가해지는, 임프린트 장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 가동 플레이트에 탈착가능하게 장착되는 적어도 하나의 임프린트 템플릿을 더 포함하는, 임프린트 장치.
  10. 고정 표면에 부착된 장착부, 상기 장착부에 대해 이동가능한 가동 플레이트, 및 상기 가동 플레이트와 장착부 사이에 장착되는 적어도 하나의 전자기 액추에이터를 포함하는 임프린트 장치를 제어하는 제어 방법이며,
    상기 가동 플레이트의 이동을 제어하기 위해 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 전류를 인가하는 단계를 포함하며,
    아이들 상태에서 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가되는 상기 전류의 실효값이 연속 임프린팅 상태 동안에 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가되는 상기 전류의 실효값과 동등한, 제어 방법.
  11. 임프린트 방법이며,
    임프린트 템플릿을 가동 표면에 제공하는 단계와;
    적어도 하나의 전자기 액추에이터를 사용하여 상기 가동 표면의 이동을 제어하는 단계와;
    아이들 상태 동안, 기판으로부터 미리결정된 거리에 상기 가동 플레이트를 유지하기 위해 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 전류를 인가하는 단계를 포함하며,
    아이들 상태 동안에 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가되는 상기 전류의 실효값이 연속 임프린팅 상태 동안에 상기 적어도 하나의 전자기 액추에이터에 인가되는 상기 전류의 실효값과 동등한, 임프린트 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 인가하는 단계에서, 상기 기판으로부터의 상기 미리결정된 거리는 상기 연속 임프린팅 상태의 개시에 기초하여 시간에 걸쳐 변하는, 임프린트 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 인가하는 단계에서는, 상기 가동 플레이트가 상기 기판으로부터 미리결정된 거리에 있고, 상기 임프린트 템플릿을 열적으로 가열하도록 상기 전자기 액추에이터로의 전류를 필요로 하는, 임프린트 방법.
  14. 물품 제조 방법이며,
    제10항에 따른 제어 방법을 사용하여 임프린트 장치를 제어하면서 기판에 패턴을 형성하는 단계; 및
    상기 패턴이 형성된 상기 기판을 처리하는 단계를 포함하는, 물품 제조 방법.
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