KR20190140293A - 스핀척 및 기판처리장치 - Google Patents

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KR20190140293A
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Abstract

본 발명의 일 실시예는, 몸체; 상기 몸체 내에 구비된 도전성의 베이스; 상기 몸체에 회전력을 제공하는 회전모터; 상기 몸체의 상면에 구비되고, 상기 기판의 저면을 지지하며, 제1도전성부재를 매개로 상기 베이스에 전기적으로 연결되는 도전성의 서포트핀; 상기 몸체의 상면에 구비되고, 상기 기판의 측면을 지지하며, 제2도전성부재를 매개로 상기 베이스에 전기적으로 연결되는 도전성의 척핀; 상기 베이스에 전기적으로 연결되고, 상기 기판에 발생한 전하를 외부로 방출하는 접지부재;를 포함하는 스핀척을 제공한다.

Description

스핀척 및 기판처리장치{SPIN CHUCK AND APPARATUS FOR SUBSTRATE PROCESSING}
본 발명은 스핀척 및 기판처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판의 세정공정을 수행하는 스핀척 및 기판처리장치에 관한 것이다.
반도체 소자의 고밀도, 고집적화, 고성능화에 따라 회로패턴의 미세화가 급속히 진행되고 있다. 이때, 기판 표면에 잔류하는 파티클(Particle), 유기 오염물, 금속 오염물 등의 오염 물질은 소자의 특성과 생산 수율에 많은 영향을 미치게 된다.
이로 인해 기판 표면에 부착된 각종 오염 물질을 제거하는 세정 공정이 반도체 제조 공정에서 중요하게 대두되고 있으며, 반도체 제조의 각 단위 공정 전후 단계에서 기판의 세정공정이 실시되고 있다.
기판의 세정공정은 기판을 고속으로 회전하면서 처리액, 탈이온수, 건조가스 등을 기판으로 공급한다. 이들 처리액, 탈이온수, 건조가스 등은 기판 표면과의 마찰로 인해 정전기를 발생할 수 있다. 정전기는 기판을 손상시키고, 세정장치의 구동에 악영향을 미칠 수 있다.
한국공개특허 10-2010-0012718
본 발명은 정전기로 인해 기판이 손상되는 것을 방지할 수 있는 기판처리장치를 제공한다.
또한, 본 발명은 기판에 대전된 전하를 효율적으로 방출할 수 있는 기판처리장치를 제공한다.
본 발명의 목적은 전술한 바에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 본 발명의 다른 목적 및 장점들은 하기의 설명에 의해서 이해될 수 있다.
본 발명의 실시예에 의한 스핀척은, 몸체; 상기 몸체 내에 구비된 도전성의 베이스; 상기 몸체에 회전력을 제공하는 회전모터; 상기 몸체의 상면에 구비되고, 상기 기판의 저면을 지지하며, 제1도전성부재를 매개로 상기 베이스에 전기적으로 연결되는 도전성의 서포트핀; 상기 몸체의 상면에 구비되고, 상기 기판의 측면을 지지하며, 제2도전성부재를 매개로 상기 베이스에 전기적으로 연결되는 도전성의 척핀; 상기 베이스에 전기적으로 연결되고, 상기 기판에 발생한 전하를 외부로 방출하는 접지부재;를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 제1도전성부재는, 상기 몸체에 구비되며, 상기 서포트핀의 일단이 결합되는 도전성의 서포트핀블록; 상기 서포트핀블록과 상기 베이스를 전기적으로 연결하는 도전성의 접지블록;을 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 베이스의 테두리에는 절곡부가 구비되고, 상기 절곡부에는 상기 접지블록이 삽입되도록 블록홀이 관통될 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 베이스와 서포트핀블록의 사이에는 수지층이 충진될 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 접지블록이 삽입된 상기 블록홀에는 수지층이 충진될 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 서포트핀블록에는 상기 접지블록의 일단이 삽입되는 블록홈이 형성될 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 제2도전성부재는, 상기 몸체 내에 설치된 캠의 구동에 따라 상기 척핀을 이동시키는 도전성의 척로드; 상기 척로드의 이동을 안내하며, 상기 베이스와 전기적으로 연결되는 도전성의 로드가이드;를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에서, 상기 접지부재는 상기 회전모터에 구비될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 기판의 저면을 지지하는 서포트핀 및 기판의 측면을 지지하는 척핀을 통해 기판에 대전되는 전하를 선택적으로 또는 동시에 외부로 방출하여 기판의 손상을 최소화할 수 있다.
본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 공정 설비를 도시한 평면도이다.
도 2는 도 1의 공정챔버에 제공되는 기판처리장치의 구성을 도시한 단면도이다.
도 3은 도 2의 스핀척을 도시한 평면도이다.
도 4는 도 3의 “A-A”선을 절취한 단면도로서, 기판에서 발생되는 전하가 서포트핀을 통해 외부로 배출되는 경로를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 5는 도 3의 “B-B”선을 절취한 단면도로서, 기판에서 발생되는 전하가 척핀을 통해 외부로 배출되는 경로를 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 6은 도 5의 요부를 상세하게 도시한 단면도이다.
도 7은 도 5의 요부를 상세하게 도시한 사시도이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 본 발명의 본질과 관계없는 부분은 그에 대한 상세한 설명을 생략할 수 있으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 부여할 수 있다.
또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 여기서 사용되는 전문 용어는 단지 특정 실시 예를 언급하기 위한 것이며, 본 발명을 한정하도록 의도되지 않으며, 본 명세서에서 다르게 정의되지 않는 한 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 이해되는 개념으로 해석될 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판처리장치를 보여주는 평면도이다.
도 1을 참고하면, 기판처리장치는 인덱스모듈(10) 및 공정모듈(20)을 포함한다.
여기서, 기판은 반도체 소자나 평판 디스플레이(FPD: Flat Panel Display), 박막에 회로패턴이 형성된 물건의 제조에 이용되는 기판을 모두 포함하는 포괄적인 개념이다. 이러한 기판(S)의 예로는, 실리콘 웨이퍼, 유리기판, 유기기판 등이 있다.
인덱스모듈(10)은 외부로부터 기판을 반송 받은 후 공정모듈(20)로 기판을 반송한다. 공정모듈(20)은 세정공정, 린스공정 등을 수행할 수 있다.
인덱스모듈(10)은 기판처리장치의 전방에 배치되며, 로드챔버(11)와 이송프레임(12)을 포함한다.
로드챔버(11)에는 기판이 수용되는 캐리어(11a)가 놓인다. 캐리어(11a)로는 전면 개방 일체형 포드(FOUP: Front Opening Unified Pod)가 사용될 수 있다. 캐리어(11a)는 오버헤드 트랜스퍼(OHT: Overhead Transfer)에 의해 외부로부터 로드챔버(11)로 반입되거나 로드챔버(11)로부터 외부로 반출될 수 있다. 로드챔버(11)의 개수는 공정모듈(20)의 공정효율 및 풋 프린트 조건 등에 따라 증가하거나 감소할 수 있다.
이송프레임(12)은 로드챔버(11)에 놓인 캐리어(11a)와 공정모듈(20) 간에 기판을 반송한다. 이송프레임(12)은 인덱스레일(12a)과 인덱스로봇(12b)을 포함한다. 인덱스로봇(12b)은 인덱스레일(12a) 상에서 이동하며 기판을 반송할 수 있다. 예를 들어, 인덱스로봇(12b)은 기판을 캐리어(11a)로부터 인출하여 후술하는 버퍼슬롯(21a)에 놓을 수 있다.
공정모듈(20)은 버퍼챔버(21), 이송챔버(22), 공정챔버(23)를 포함한다.
버퍼챔버(21)는 인덱스모듈(10)과 공정모듈(20) 간에 반송되는 기판이 임시로 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼챔버(21)에는 기판이 놓이는 버퍼슬롯(21a)이 제공될 수 있다. 버퍼슬롯(21a)은 복수 제공될 수 있으며, 이에 따라 기판 역시 복수가 버퍼챔버(21)에 유입될 수 있다.
이송챔버(22)는 그 둘레에 배치된 버퍼챔버(21), 공정챔버(23) 간에 기판을 반송한다. 이송챔버(22)는 이송로봇(22a)과 이송레일(22b)을 포함한다. 이송로봇(22a)은 이송레일(22b) 상에서 이동하며 기판을 반송할 수 있다. 즉, 이송챔버(22)의 이송로봇(22a)은 버퍼슬롯(21a)에 놓인 기판을 인출하여 이를 공정챔버(23)로 반송할 수 있다.
공정챔버(23)에서는 세정액 및 린스액을 이용하여 기판의 세정 및 린스 공정을 수행할 수 있다.
공정챔버(23)는 복수 제공되며, 복수의 공정챔버(23)들은 이송챔버(22)의 측면에 일렬로 배치되거나 또는 상하로 적층되어 배치되거나 또는 이들의 조합에 의해 배치될 수 있다.
본 발명의 실시예에서는 공정챔버(23)들이 이송챔버(22)를 사이에 두고 서로 대칭으로 배치된 것을 예시하였으나, 공정챔버(23)의 배치는 상술한 예로 한정되지 않으며, 풋프린트나 공정효율 등을 고려하여 변경될 수 있다.
도 2는 도 1의 공정챔버 내의 구성을 도시한 단면도이다.
도 2를 참조하면, 공정챔버(23) 내에는 기판에 대해 세정공정을 수행하는 기판처리장치(30)가 제공된다.
기판처리장치(30)는 스핀척(100), 용액공급유닛(200), 용액회수유닛(300)을 포함한다.
스핀척(100)은 기판(S)을 지지한다. 스핀척(100)은 지지된 기판(S)을 회전시킬 수 있다. 스핀척(100)은 몸체(110), 모터축(121), 회전모터(120)를 포함한다.
몸체(110)는 기판(S)과 동일 또는 유사한 형태의 평판으로 형성될 수 있다. 일 실시예에서는 몸체가 원판 형태로 형성된다. 몸체(110)의 상면에는 서포트핀(130)과 척핀(150)이 구비된다. 서포트핀(130)은 기판(S)의 저면을 지지한다. 척핀(150)은 기판(S)이 정위치를 이탈하는 것을 방지하도록 기판의 측면을 지지한다.
모터축(121)은 몸체(110)의 하측에 연결된다. 모터축(121)은 회전모터(120)로부터 회전력을 전달받아 몸체(110)를 회전시킨다. 이에 따라 몸체(110)에 안착된 기판(S)이 회전할 수 있다.
용액공급유닛(200)은 기판(S)에 세정액 및/또는 린스액을 분사한다. 용액공급유닛(200)은 노즐(210), 노즐바(220), 노즐축(230), 제1구동모터(240)를 포함한다.
노즐(210)은 스핀척(100)에 안착된 기판(S)에 용액을 분사한다. 노즐(210)은 기판에 세정액을 공급하는 세정액 공급노즐(211) 및 세정액을 제거하기 위한 린스액을 공급하는 린스액 공급노즐(212)을 포함할 수 있다.
노즐(210)은 노즐바(220)의 일단 저면에 형성된다. 노즐바(220)는 노즐축(230)에 결합된다. 노즐축(230)은 승강 또는 회전할 수 있도록 제공된다.
제1구동모터(240)는 노즐축(230)을 승강 또는 회전시켜 노즐(210)의 위치를 조절할 수 있다.
용액회수유닛(300)은 기판(S)에 공급된 용액을 회수한다. 용액공급유닛(200)에 의해 기판(S)에 용액이 공급되면, 스핀척(100)은 기판(S)을 회전시켜 기판(S)의 전 영역에 세정 및/또는 린스를 위한 용액이 균일하게 공급되도록 할 수 있다. 기판(S)이 회전하면 기판(S)으로부터 용액이 비산한다. 비산하는 용액은 용액회수유닛(300)에 의해 회수될 수 있다.
용액회수유닛(300)은 회수통(310), 회수라인(320), 승강바(330), 제2구동모터(340)를 포함한다.
회수통(310)은 상면이 개방된 원통형으로 형성되며, 몸체(110)을 감싸도록 배치될 수 있다. 회수통(310)은 복수 개로 이루어지며, 중첩 구성될 수 있다. 예를 들면, 회수통(310)은 제1회수통(311), 제2회수통(312), 제3회수통(313)으로 구성될 수 있다. 각각의 회수통(311, 312, 313)은 공정에 사용된 처리액 중 서로 상이한 처리액을 회수할 수 있다.
복수의 회수통(310) 중 몸체(110)로부터 먼 거리에 있는 회수통(310)일수록 그 높이가 높게 형성될 수 있다. 회수통(310)들 사이의 공간에는 회전하는 기판(S)으로부터 비산되는 용액이 유입된다.
회수라인(320)은 회수통(310)의 하부에 연결된다. 즉, 각각의 회수통(311, 312, 313)에는 그 하측 방향으로 회수라인(321, 322, 323)이 연결된다. 각각의 회수라인(321, 322, 323)은 각각의 회수통(311, 312, 313)을 통해 유입된 처리액을 배출한다. 배출된 처리액은 용액 재사용 시스템을 통해 재사용될 수 있다.
승강바(330)는 회수통(310)에 연결된다. 승강바(330)는 제2구동모터(340)로부터 동력을 전달받아 회수통(310)을 상하로 이동시킨다. 승강바(330)는 회수통(310)이 복수인 경우 최외곽에 배치된 회수통(310)에 연결될 수 있다.
제2구동모터(340)는 승강바(330)에 상승 또는 하강을 위한 구동력을 제공한다. 즉, 제2구동모터(340)는 승강바(330)를 통해 회수통(310)을 승강시켜 공정에 필요한 높이로 조절할 수 있다.
도 3은 본 발명의 실시예에 적용되는 스핀척을 도시한 평면도이고, 도 4는 도 3의 “A-A”선을 절취한 단면도이며, 도 5는 도 3의 “B-B”선을 절취한 단면도이다.
도 3 내지 도 5를 참고하면, 스핀척(100)은 기판(S) 처리 공정 중 기판(S)을 지지하고 기판(S)을 회전시킨다. 스핀척(100)은 몸체(110), 회전모터(120)를 포함한다.
몸체(110)는 후술하는 베이스(111)의 외부를 감싸는 것으로, 몸체(110)의 상부에는 기판(S)이 놓인다. 몸체(110)는 평면에서 볼 때 대략 원판 형태로 형성될 수 있다.
회전모터(120)는 몸체(110)를 설정 속도로 회전시키는 것으로, 베이스(111)의 하측에 모터축(121)으로 결합된다. 회전모터(120)는 베이스(111)와 전기적으로 연결되며, 도전성 재질을 포함하는 재질로 제공될 수 있다.
몸체(110)의 내부에는 베이스(111)가 구비된다. 베이스(111)는 평면에서 볼 때, 대략 원판 형태로 형성될 수 있다. 베이스(111)는 도전성 재질을 포함하는 재질로 제공된다. 예컨대, 베이스(111)는 알루미늄 또는 수지로 제공될 수 있다.
몸체(110)의 상면에는 기판(S)을 지지할 수 있도록 서포트핀(130), 척핀(150)이 구비된다.
서포트핀(130)은 기판(S)의 저면을 지지하는 것으로서, 베이스(111)와 전기적으로 연결되도록 몸체(110)에 설치된다. 즉, 서포트핀(130)은 몸체(110)의 상측으로 돌출되도록 설치되어 기판(S)이 몸체(110)의 상면과 일정거리 이격되도록 기판(S)의 저면 가장자리를 지지한다.
서포트핀(130)은 기판에 대한 안정적인 지지력을 확보할 수 있도록 복수 설치될 수 있다. 일 실시예에서 서포트핀(130)은 6개가 설치된다. 서포트핀(130)들은 몸체(110)의 중심으로부터 동심원상에 배치될 수 있다. 서포트핀(130)은 몸체(110)의 중심을 기준으로 척핀(150)보다 가까운 거리에 위치한다.
서포트핀(130)은 도전성 재질을 포함하는 재질로 제공된다. 예컨대, 서포트핀(130)은 수지와 카본이 포함된 재질로 제공될 수 있다.
서포트핀(130)은 제1도전성부재(140)를 매개로 베이스(111)와 전기적으로 연결된다. 제1도전성부재(140)는 서포트핀블록(141), 접지블록(142)을 포함한다.
서포트핀블록(141)은 도 6 및 도 7에 도시된 바와 같이, 몸체(110)의 수용홈(110a)에 삽입 결합된다. 수용홈(110a)은 몸체(110)의 상면으로부터 하측 방향으로 오목하게 형성된다.
서포트핀블록(141)은 상면이 개방된 중공체로 형성될 수 있으며, 개방된 상면을 통해 서포트핀(130)의 하단 일부가 서포트핀블록(141)에 삽입 결합된다. 예컨대, 서포트핀(130)의 하단에는 숫나사가 형성되고 서포트핀블록(141)의 내측면에는 암나사가 형성됨으로써 서포트핀(130)과 서포트핀블록(141)은 서로 나사 결합될 수 있다. 서포트핀블록(141)은 도전성 재질을 포함하는 재질로 형성될 수 있다.
베이스(111)와 서포트핀블록(141) 사이에는 수지층(113)이 충진될 수 있다. 예컨대, 몸체(110)의 수용홈(110a)에 서포트핀블록(141)을 삽입 결합할 경우, 외부의 이물질이나 약액 등이 몸체(110)의 수용홈(110a)을 통해 몸체(110) 내부로 침투할 수 있다. 이와 같이 침투된 이물질이나 약액 등은 쇼트 등을 유발할 수 있다. 따라서, 몸체(110)의 수용홈(110a)과 서포트핀블록(141) 사이 특히, 베이스(111)와 서포트핀블록(141) 사이에는 절연성 수지층(113)이 충진될 수 있다.
접지블록(142)은 베이스(111)와 서포트핀블록(141)을 연결한다. 예컨대, 베이스(111)의 가장자리에는 하측 방향으로 절곡된 절곡부(112)가 구비되고, 절곡부(112)에는 접지블록(142)이 삽입되도록 블록홀(112a)이 형성될 수 있다. 더불어, 서포트핀블록(141)에는 베이스(111)의 절곡부(112)를 통해 삽입된 접지블록(142)이 삽입되도록 블록홈(141a)이 형성될 수 있다.
서포트핀블록(141)은 도전성 재질을 포함하는 재질로 형성될 수 있다. 따라서, 접지블록(142)은 베이스(111)의 절곡부(112)에 형성된 블록홀(112a) 및 서포트핀블록(141)의 블록홈(141a)에 삽입되어 베이스(111)와 서포트핀블록(141) 간의 전기적인 연결을 가능케 한다.
접지블록(142)이 삽입된 베이스(111)의 블록홀(112a)에는 수지층(114)이 충진될 수 있다. 예컨대, 베이스(111)와 서포트핀블록(141) 간의 전기적 연결을 도모하기 위해 베이스(111)의 절곡부(112)를 통해 접지블록(142)을 삽입한 경우, 외부의 이물질이나 약액 등이 절곡부(112)의 블록홀(112a)을 통해 서포트핀블록(141) 내부로 침투할 수 있다. 이와 같이 침투된 이물질이나 약액 등은 쇼트 등을 유발할 수 있다. 따라서, 상술한 쇼트 등을 방지할 수 있도록 베이스(111)의 블록홀(112a)에는 접지블록(142)이 삽입된 후에 절연성 수지층(114)이 충진될 수 있다.
척핀(150)은 스핀척(100)이 회전할 때 기판(S)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(S)의 측부를 지지한다. 척핀(150)은 전기 전도성 재질로 형성된다. 예컨대, 척핀(150)은 수지와 카본을 포함하는 재질로 제공될 수 있다.
몸체(110)의 중심으로부터 척핀(150)까지의 거리는 몸체(110)의 중심으로부터 서포트핀(130)까지의 거리보다 멀리 배치된다.
척핀(150)은 몸체(110)의 반경 방향을 따라 제1위치(P1)와 제2위치(P2) 간에 직선 이동 가능하도록 제공된다. 제2위치(P2)는 제1위치(P1)에 비해 몸체(110)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(S)이 스핀척(100)에 로딩 또는 언로딩 시에 척핀(150)은 제2위치(P2)에 위치되고, 기판(S)에 대해 공정 수행 시에 척핀(150)은 제1위치(P1)로 이동된다. 제1위치(P1)에서 척핀(150)은 기판(S)의 측부와 접촉된다.
척핀(150)은 제2도전성부재(160)를 매개로 베이스(111)와 전기적으로 연결된다. 제2도전성부재(160)는 척로드(161), 로드가이드(162)를 포함하며, 척로드(161) 및 로드가이드(162)는 캠(163)의 회전 시 척핀(150)의 위치를 가변시킬 수 있다.
척로드(161)는 척핀(150)의 하부에 연결되도록 배치될 수 있다. 척로드(161)는 몸체 내에 설치된 캠(163)의 회전 운동 시 직선 운동하여 척핀(150)의 위치를 이동시켜 준다. 척로드(161)는 도전성 재질을 포함하는 재질로 제공된다. 예컨대, 척로드(161)는 수지 또는 알루미늄 재질로 제공될 수 있다.
척로드(161)는 척핀(150)과 상응하는 개수로 제공될 수 있다. 일 실시예에서 척핀(150)과 척로드(161)는 각각 6개가 설치되어 있다.
로드가이드(162)는 척로드(161)의 직선 운동을 안내하며, 척로드(161)와 전기적으로 연결된다. 로드가이드(162)는 도전성 재질을 포함하는 재질로 제공될 수 있다. 예컨대, 로드가이드(162)는 알루미늄 또는 수지를 포함하는 재질로 제공될 수 있다. 로드가이드(162)는 베이스(111)와 접촉되도록 배치될 수 있다. 이에 따라 로드가이드(162)와 베이스(111)는 전기적으로 연결될 수 있다.
접지부재(170)는 베이스(111)와 전기적으로 연결되며, 회전모터(120)의 일측에 구비될 수 있다. 접지부재(170)는 접지핀, 접지케이블 등을 포함할 수 있으며, 기판(S)에 발생된 전하를 외부로 방출한다.
이와 같이 구성된 기판처리장치에서, 기판(S)에서 발생된 전하가 외부로 방출되는 경로를 도 4 및 도 5를 참고하여 설명하면 다음과 같다.
도 4 및 도 5를 참고하면, 기판(S)은 서포트핀(130)과 척핀(150)에 의해 지지된 상태에서 용액공급유닛으로부터 처리액을 공급받아 처리 공정을 수행한다. 이 과정에서 기판(S)에는 전하가 발생할 수 있다. 발생된 전하는 파티클을 유발하는 원인이 될 수 있으므로 이를 해소할 필요가 있다.
기판(S)이 스핀척(100)에 로딩되면, 기판(S)의 저면은 서포트핀(130)의 상단에 안착된다. 따라서, 기판(S)에 발생한 전하는 도 5의 점선과 같이 서로 전기적으로 연결된 서포트핀(130), 서포트핀블록(141), 접지블록(142), 베이스(111) 및 접지부재(170)를 순차적으로 통과하여 외부로 방출될 수 있다. 예컨대, 서포트핀(130)을 통한 접지는 공정을 실시하기 전에 진행될 수 있다.
또한, 척핀(150)은 기판(S)의 측면을 고정시켜 준다. 따라서, 척핀(150)을 통해서도 기판(S)에 발생한 전하를 제거할 수 있다. 즉, 기판(S)에 발생한 전하는 도 4의 점선과 같이 서로 전기적으로 연결된 척핀(150), 척로드(161), 로드가이드(162), 베이스(111) 및 접지부재(170)를 순차적으로 통과하여 외부로 방출된다. 예컨대, 척핀(150)을 통한 접지는 공정을 진행하는 중에 진행될 수 있다.
결론적으로, 공정 전 또는/및 공정 중에 발생하는 전하는 서포트핀(130) 또는/및 척핀(150)을 통해서 전기적으로 연결된 베이스(111)와 접지부재(170)를 순차적으로 통과하여 외부로 방출될 수 있다. 이로 인해 공정 중에 기판(S)에 발생된 전하를 외부로 방출하여 기판(S) 처리 공정에 효율을 향상시킬 수 있다.
본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있으므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다.
본 발명의 범위는 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
100; 스핀척 110; 몸체
111; 베이스 112; 절곡부
112a; 블록홀 113, 114; 수지층
120; 회전모터 121; 모터축
130; 서포트핀 140; 제1도전성부재
141; 서포트핀블록 141a; 블록홈
142; 접지블록 150; 척핀
160; 제2도전성부재 161; 척로드
162; 로드가이드 163; 캠
170; 접지부재

Claims (11)

  1. 기판을 처리하기 위한 스핀척에 있어서,
    몸체;
    상기 몸체 내에 구비된 도전성의 베이스;
    상기 몸체에 회전력을 제공하는 회전모터;
    상기 몸체의 상면에 구비되고, 상기 기판의 저면을 지지하며, 제1도전성부재를 매개로 상기 베이스에 전기적으로 연결되는 도전성의 서포트핀;
    상기 몸체의 상면에 구비되고, 상기 기판의 측면을 지지하며, 제2도전성부재를 매개로 상기 베이스에 전기적으로 연결되는 도전성의 척핀;
    상기 베이스에 전기적으로 연결되고, 상기 기판에 발생한 전하를 외부로 방출하는 접지부재;
    를 포함하는 스핀척.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1도전성부재는,
    상기 몸체에 구비되며, 상기 서포트핀의 일단이 결합되는 도전성의 서포트핀블록;
    상기 서포트핀블록과 상기 베이스를 전기적으로 연결하는 도전성의 접지블록;
    을 포함하는 스핀척.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 베이스의 테두리에는 절곡부가 구비되고,
    상기 절곡부에는 상기 접지블록이 삽입되도록 블록홀이 관통되는 스핀척.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 베이스와 서포트핀블록의 사이에는 수지층이 충진되는 스핀척.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 접지블록이 삽입된 상기 블록홀에는 수지층이 충진되는 스핀척.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 서포트핀블록에는 상기 접지블록의 일단이 삽입되는 블록홈이 형성되는 스핀척.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제2도전성부재는,
    상기 몸체 내에 설치된 캠의 구동에 따라 상기 척핀을 이동시키는 도전성의 척로드;
    상기 척로드의 이동을 안내하며, 상기 베이스와 전기적으로 연결되는 도전성의 로드가이드;
    를 포함하는 스핀척.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 접지부재는 상기 회전모터에 구비되는 스핀척.
  9. 기판처리장치에 있어서,
    제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 스핀척;
    액상의 약액을 기판에 공급하는 용액공급유닛; 및
    기판에 공급된 용액을 회수하는 용액회수유닛;
    을 포함하는 기판처리장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 용액공급유닛은,
    구동모터에 연결되어 승강 또는 회전하는 노즐축;
    상기 노즐축에 연결되며, 상기 스핀척에 안착된 기판에 약액을 분사하는 노즐;
    을 포함하는 기판처리장치.
  11. 제9항에 있어서,
    상기 용액회수유닛은,
    상기 스핀척의 외측에 설치되는 회수통;
    상기 회수통에 연결되며, 세정 후 배출되는 배출액을 공정챔버 외부로 배출하는 배출라인;
    을 포함하는 기판처리장치.
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