KR20190136335A - 세라믹 타겟의 제조방법 및 이로부터 제조된 세라믹 타겟 - Google Patents

세라믹 타겟의 제조방법 및 이로부터 제조된 세라믹 타겟 Download PDF

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Abstract

본 발명은 세라믹분말과 나노입자현탁액의 혼합물을 압출 성형 및 소성하는 단계를 포함하는 세라믹 타겟의 제조방법 및 이로부터 제조된 세라믹 타겟에 관한 것이다.
본 발명에서는 상기 세라믹분말에 나노입자현탁액을 혼합하여 압출함으로써 상대밀도가 높은 장척의 그린 바디를 얻고 이 그린 바디를 소성하여 상대밀도가 높은 세라믹 타겟을 제조할 수 있다. 이렇게 하여 얻은 세라믹 타겟은, 높은 밀도로 인하여, 스퍼터링 공법에서 유리한 스퍼터링 타겟 재료로서 사용될 수 있다.

Description

세라믹 타겟의 제조방법 및 이로부터 제조된 세라믹 타겟{METHOD FOR MANUFACTURING OF CERAMIC TARGET AND CERAMIC TARGET MADE THEREFROM}
본 발명은 세라믹 타겟의 제조방법 및 이로부터 제조된 세라믹 타겟에 관한 것으로, 상세하게는 압출 성형법을 이용하여 고밀도의 세라믹 타겟을 제조하는 방법에 관한 것이다.
일반적으로 스퍼터링(sputtering)법은 진공용기 내에 비활성기체를 도입시키면서 스퍼터링 타겟을 포함하는 캐소드에 직류(DC) 또는 고주파(RF) 전압을 가하여 글로우 방전(glow discharge)을 발생시켜 막을 형성하는 방법이다. 이렇게 스퍼터링법에 의해 형성된 막은 부착력이 강하고, 막 두께의 제어가 용이하며, 합금의 박막화에 있어서의 재현성이 우수하다. 뿐만 아니라 고융점 재료의 박막화가 용이하기 때문에 반도체 등의 전자·전기부품용 재료의 성막, 예를 들어 액정 디스플레이용 투명 도전막의 제작, 하드디스크의 기록층 제작, 반도체 메모리의 배선재료의 제작 등 다양한 분야에서 사용되고 있다.
스퍼터링법을 이용하여 성막을 진행할 때, 파티클 발생은 제품 불량의 원인이 된다. 이와 같은 파티클 발생을 일으키는 주요 요인으로 스퍼터링 중에 발생하는 아킹과 노들을 들 수 있다. 종래 이러한 아킹이나 노들의 발생은, 스퍼터링 타겟의 표면을 연마하여 평활성을 높일수록 저감된다고 알려져 있다. 일례로, 대한민국 등록특허공보 제10-1390039호에는 볼밀링 기를 이용하여 세라믹 분말을 미세하게 분쇄하여 건조 후 압축성형하는 방식으로 고밀도 세라믹을 제조하는 기술이 개시되어 있다.
그러나 유리기판 사이즈가 대형화됨에 따라 다수의 타겟재를 연결한 장척의 타겟재가 요구되고 있으며, 다수의 타겟재를 연결함으로써 존재하는 분할부로 인해 아킹이 발생할 수 밖에 없다.
대한민국 등록특허공보 제10-1390039호
본 발명은, 상기한 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 세라믹분말과 나노입자현탁액의 혼합물을 세라믹 원료로 사용하여 압출 성형 및 소결을 실시함으로써 뛰어난 기계적 성질, 특히 높은 밀도를 가지는 세라믹 타겟의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 상기 제조방법으로 제조된 세라믹 타겟을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일례는 (a) 평균입경이 10 ㎛ 이하인 세라믹분말 및 평균입경이 1 ㎛ 이하인 나노입자현탁액을 혼합하여 세라믹 원료를 준비하는 단계; (b) 상기 세라믹 원료와, 수계바인더(water based binder), 가소제 및 물을 함께 혼합하고 혼련시켜 혼합물을 얻는 단계; (c) 상기 혼합물을 압출 성형하고 건조하여 그린 바디를 얻는 단계; 및 (d) 상기 얻어진 그린 바디를 소성하여 세라믹 소결체를 얻는 단계를 포함하는, 세라믹 타겟의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 상기 제조방법으로 제조된 세라믹 타겟을 제공한다.
본 발명의 일례에 따른 세라믹 타겟은, 세라믹분말과 나노입자현탁액의 혼합물을 원료로 하여 압출 성형법으로 제조함에 따라 성형 밀도를 갖도록 형성될 수 있고, 이를 스퍼터링 타겟으로 사용하여 성막하는 경우 분할 수가 증가함으로 인해 노듈이 발생하지 않아 이상방전으로 인한 불량을 방지할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 세라믹 타겟에 대한 주사전자현미경(SEM) 이미지이다.
이하, 본 발명을 상세하게 설명한다.
<세라믹 타겟의 제조방법>
본 발명의 일례에 따른 세라믹 타겟의 제조방법은
(a) 평균입경이 10 ㎛ 이하인 세라믹분말 및 평균입경이 1 ㎛ 이하인 나노입자현탁액을 혼합하여 세라믹 원료를 준비하는 단계;
(b) 상기 세라믹 원료와, 수계바인더(water based binder), 가소제 및 물을 함께 혼합하고 혼련시켜 혼합물을 얻는 단계;
(c) 상기 혼합물을 압출 성형하고 건조하여 그린 바디를 얻는 단계; 및
(d) 상기 얻어진 그린 바디를 소성하여 세라믹 소결체를 얻는 단계
를 포함하는 것으로, 고밀도의 세라믹 타겟을 제조할 수 있다.
이하, 본 발명의 일례에 따른 세라믹 타겟의 제조방법에 대해 설명한다. 그러나, 본 발명의 세라믹 타겟의 제조방법은 하기 제조방법으로 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라 각 공정의 단계가 변형되거나 또는 선택적으로 혼용될 수 있다.
(a) 세라믹 원료 준비
이 단계는 평균입경이 10 ㎛ 이하인 세라믹분말과 평균입경이 1 ㎛ 이하인 나노입자현탁액을 혼합하여 세라믹 원료를 준비하는 단계이다.
세라믹분말과 나노입자현탁액을 혼합하여 준비되는 상기 세라믹 원료는 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 타이타늄(Ti), 지르코늄(Zr) 등과 같은 금속원소가 산소, 탄소, 질소 등과 결합하여 만든 산화물, 탄화물, 질화물로 이루어질 수 있다.
이 단계는 구체적으로 (a-1) 제1 무기 베이스 분말과 제2 무기 베이스 분말을 90:10 내지 99:1의 질량비로 혼합한 분말 혼합물로부터 세라믹분말 및 슬러리를 제조하는 단계; (a-2) 상기 제조된 슬러리를 밀링하여 나노입자현탁액을 제조하는 단계; 및 (a-3) 상기 세라믹분말과 상기 나노입자현탁액을 90:10 내지 55:45의 비율로 혼합하는 단계를 포함할 수 있다.
이하에서 각 단계를 구체적으로 살펴본다.
(a-1) 세라믹분말 및 슬러리 제조
이 단계는 제1 무기 베이스 분말과 제2 무기 베이스 분말을 90:10 내지 99:1의 질량비로 혼합하여 분말 혼합물을 얻은 후, 상기 분말 혼합물의 일부는 체질기를 이용하여 조대분말을 제거하여 세라믹 분말을 제조하고 다른 일부는 물 및 첨가제와 혼합하여 슬러리 상태의 혼합물을 제조하는 단계이다.
상기 제1 무기 베이스 분말과 제2 무기 베이스 분말은 각각 독립적으로 산화인듐분말, 산화주석분말, 산화아연분말, 산화갈륨분말 등의 산화금속분말로부터 선택되거나, 기타 할로겐화금속 또는 황화금속 분말로부터 선택된다.
일례에 따르면, 상기 제1 무기 베이스 분말은 산화인듐분말이고, 상기 제2 무기 베이스 분말은 산화주석분말일 수 있다. 상기 산화인듐이나 산화주석으로는 당 업계에 알려진 통상적인 성분을 제한 없이 사용할 수 있다. 예컨대, 상기 제1 무기 베이스 분말과 상기 제2 무기 베이스 분말로는 각각 In2O3와 SnO2를 사용할 수 있다.
상기 제1 무기 베이스 분말과 상기 제2 무기 베이스 분말은 혼합되기 이전에 입자 크기가 수 ㎛ 이하로 분쇄된 상태일 수도 있다. 이때 제1 무기 베이스 분말의 평균입경은 0.1 내지 1 ㎛ 범위이고, 제2 무기 베이스 분말의 평균입경은 0.5 내지 5 ㎛ 범위일 수 있다.
또한 제1 무기 베이스 분말과 제2 무기 베이스 분말의 질량비(혼합비)는 90:10 내지 99:1 범위일 수 있다. 상기 범위는 최종 생성물에 요구되는 광 특성, 전기적 특성, 물리적 특성에 맞춰 조절될 수 있다.
바람직한 일례에 따르면, 제1 무기 베이스 분말(In2O3) 90 중량%와 제2 무기 베이스 분말(SnO2) 10 중량%가 혼합된 분말 혼합물을 주성분으로 하여 세라믹분말 및 슬러리를 제조하며, 이때 전체의 합은 100 중량%를 유지하도록 한다.
상기 제1 무기 베이스 분말과 제2 무기 베이스 분말을 혼합한 분말 혼합물은, 산화물, 산할로겐화물 및 산황화물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 혼합물일 수 있다. 바람직하게는, 상기 분말 혼합물은 ITO(Indium-Tin-Oxide), IZO(Indium-Zinc-Oxide) 및 IGZO(Indium-Gallium-Tin-Oxide)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 산화물일 수 있다.
일례에 따르면, 상기 산화물은 SnO2량 환산으로 1 내지 10 질량%의 Sn 함유량을 갖는 ITO일 수 있다. 또한, 상기 산화물은 In2O3량 환산으로 40 내지 60 질량%의 In 함유량, Ga2O3량 환산으로 20 내지 40 질량%의 Ga 함유량, 및 ZnO량 환산으로 10 내지 30 질량%의 Zn 함유량을 갖는 IGZO일 수 있다.
전술한 제1, 제2 무기 베이스 분말을 혼합 시, 필요에 따라 당 업계에 알려진 통상적인 첨가제, 예컨대 분산제, 소포제 등을 추가로 포함할 수 있다.
분산제는 분쇄된 원료입자가 용액 내에서 장시간 동안 고르게 안정된 분산을 유지하면서 동시에 입자를 미세하게 분쇄시키기 위해 첨가한다. 사용 가능한 분산제의 비제한적인 예로는, 시트르산 등의 카르복실기가 붙은 유기산 계열, 폴리아크릴산 (PAA) 또는 그의 염, 공중합체, 또는 이들의 조합 등이 있다. 상기 분산제는 슬러리 내 분말 혼합물에 대하여 0.5 내지 3 중량% 범위로 사용될 수 있다.
소포제는 슬러리 내의 거품을 제거하기 위한 것으로, 통상적으로 실리콘유, 옥틸알콜, 붕초 등을 사용할 수 있다. 상기 소포제는 슬러리 내 분말 혼합물에 대하여 0.001 내지 0.01 중량% 범위로 사용될 수 있다.
(a-2) 나노입자현탁액 제조
이 단계는 (a-1) 단계에서 제조된 슬러리를 밀링하여 나노입자현탁액을 제조하는 단계이다.
앞서 제1 무기 베이스 분말, 제2 무기 베이스 분말, 물 및 첨가제를 혼합하여 준비된 슬러리를 밀링하여 나노입자현탁액을 얻는다. 이때 밀링은 당 업계에 알려진 통상적인 볼밀, 비드밀 등을 사용하여 수행될 수 있다. 밀링을 통하여 얻어진 나노입자현탁액의 점도는 300±50cps로 조절하는 것이 바람직하다. 이때, 밀링을 통하여 얻어진 나노입자현탁액에 포함된 입자들의 평균입경은 5 ㎛이하, 바람직하게는 50 내지 100 nm일 수 있다.
(a-3) 세라믹분말과 나노입자현탁액의 혼합
이 단계에서는 (a-1) 단계에서 제조된 세라믹분말과 (a-2) 단계에서 얻어진 나노입자현탁액을 혼합한다.
세라믹분말과 나노입자현탁액의 혼합 비율은 중량비로 90:10~55:45, 바람직하게는 55:45~75:25일 수 있다. 이와 같이 세라믹분말과 나노입자현탁액을 적당한 비율로 혼합함으로써 분말의 충진율이 개선된 세라믹 원료를 얻을 수 있다.
(b) 혼합
이 단계는 (a) 단계에서 준비된 세라믹 원료와, 수계바인더(water based binder) 및 물을 함께 혼합하여 혼합물을 얻는 단계이다.
수계 바인더는 셀룰로오스계, 아크릴계, 에폭시계, 우레탄계 바인더 중 하나일 수 있으며, 그 중에서 셀룰로오스계 바인더, 특히 메틸셀룰로오스가 바람직하다. 수계 바인더는 상기 세라믹 원료 100중량부에 대하여 3.5 내지 9.5 중량부 사용할 수 있다.
필요에 따라 가소제 등의 첨가제를 배합할 수 있다. 가소제의 일례로는 글리세린을 들 수 있으며, 가소제는 상기 세라믹 원료 100중량부에 대하여 1.5 내지 5.5 중량부 사용할 수 있다.
물은 상기 세라믹 원료 100 중량부에 대하여 7 내지 20 중량부 사용하는 것이 바람직하다. 물 등의 증발량을 줄임으로써 건조 시 발생할 수 있는 크랙 등의 결함을 줄일 수 있다.
상기와 같이 세라믹 원료에, 수계 바인더 및 물을 혼합한 후 균질도를 높이기 위해 혼련 과정을 실시하는 것이 바람직하다. 혼련 과정은 3롤밀을 이용하여 실시할 수 있다. 균질도를 높이기 위하여 혼련 과정을 반복하는 것이 바람직하며, 예를 들면, 2회 내지 5회 반복할 수 있다.
(c) 압출 성형 및 건조
이 단계는 (b) 단계에서 얻어진 혼합물을 압출 성형하고 건조하여 그린 바디를 얻는 단계이다.
(b) 단계에서 얻어진 혼합물을 진공 압출 성형기를 이용하여 압출하여 압출 성형물을 얻는다. 이때 얻어진 압출 성형물은 폭 10 내지 300 mm, 두께 1 내지 15 mm일 수 있다. 상기 압출 성형물의 폭과 두께는 금형의 모양에 따라 달라질 수 있다.
상기 압출 성형물을 길이방향으로 300 내지 600 mm로 절단한 후 건조한다. 건조 방법은 특별히 제한되는 것은 아니나 마이크로웨이브, 열풍 건조 등의 방법 중 하나를 이용할 수 있다. 특히 마이크로 웨이브 사용이 바람직하며 건조 시의 표면온도가 50℃를 넘지 않도록 하는 것이 바람직하다.
전술한 바와 같이, 압출 성형 및 건조하여 얻은 그린 바디는 50%를 초과하는 상대밀도를 가질 수 있다.
(d) 소성
이 단계는 그린 바디를 소성하여 세라믹 소결체를 얻는 단계이다.
소성은 1300 내지 1600℃, 특히 1480 내지 1600℃의 온도에서 실시하는 것이 바람직하다. 소성단계는 산소가스 분위기, 불활성 가스 분위기, 또는 산소와 불활성 가스 혼합 분위기 하에서 이루어질 수 있다.
그린 바디를 소성하여 얻어진 세라믹 소결체는 스퍼터링법에서 스퍼터링 타겟으로 사용되는 세라믹 타겟이다.
전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 세라믹 타겟의 제조방법은 세라믹분말과 나노입자현탁액을 혼합하여 사용함으로써 분말의 충진율이 개선되도록 한다. 이로 인해 건조 후의 상대밀도가 50%를 초과하는 그린 바디를 얻을 수 있고, 이로부터 고밀도의 세라믹 타겟을 제조할 수 있다.
<세라믹 타겟>
본 발명의 일 실시예에 따른 세라믹 타겟은 상기 제조방법으로 제조되어, 높은 밀도를 가지며 우수한 비저항값을 나타낼 수 있다.
구체적으로, 제조된 세라믹 타겟의 계산된 상대밀도는 98% 이상이다.
상대밀도는 이론밀도에 대한 측정밀도의 비율로 계산한다. 본 발명의 일례에서 제조된 세라믹분말은 In2O3가 90%, SnO2가 10%로 구성된다. 이때, In2O3과 SnO2의 측정밀도는 각각 7.179 g/㎤, 6.95 g/㎤이므로, 비율로 계산하면 상기 구성으로 제조된 세라믹분말의 이론밀도는 7.156 g/㎤인 것을 알 수 있다.
또한, 본 발명의 일례에서 제조된 세라믹 타겟의 측정밀도는 비중계를 이용하여 대기에서의 중량과 수중에서의 중량을 차례로 측정한 후 아래 식에 따라 계산할 수 있다.
Figure pat00001
(상기 식에서, ρ는 밀도, A는 공기중에서의 시편의 무게, B는 액체 속에서의 시편의 무게, 그리고 ρl는 액체의 밀도를 나타낸다.)
또한, 세라믹 타겟의 비저항값은 1×10-3Ω ㎝ 이하이다.
이와 같이, 본 발명에 따른 세라믹 타겟은 높은 밀도를 가지며 비저항값이 우수하므로, 스퍼터링법을 이용한 성막을 진행할 때 아킹과 노들의 발생을 방지할 수 있는 스퍼터링 타겟의 재료로 사용되는 것이 바람직하다. 그러나 이에 특별히 제한되지 않으며, 전술한 세라믹 타겟이 적용될 수 있는 모든 다른 용도에 제한 없이 적용 가능하다.
이하, 본 발명을 실시예를 통해 구체적으로 설명하나, 하기 실시예는 본 발명의 한 형태를 예시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
평균입경 2㎛의 세라믹분말 58중량부 및 평균입경이 80㎚인 나노입자현탁액(60 wt%로 분산) 42중량부를 혼합한 인듐틴옥사이드(ITO) 100중량부와, 수계 바인더인 메틸셀룰로오스 4.5중량부, 가소제인 글리세린 2.5중량부 및 물 0.2중량부를 함께 믹서를 이용하여 15분간 혼합하였다. 상기 혼합물을 3roll mill을 이용하여 3회 혼련한 후, 이것을 진공 압출 성형기로 성형하여 폭 250 ㎜, 두께 15 ㎜의 그린 바디(green body)를 얻었다. 압출된 그린 바디를 길이방향으로 300 ㎜로 절단하여, 열풍건조 장치에서 55℃ 분위기에서 12시간 건조하였다. 건조된 그린 바디를 1550℃에서 소성하여 세라믹 소결체를 얻었다. 소성된 세라믹 소결체의 상대밀도를 계산한 결과 99.8%이었다.
[실시예 2]
평균입경 2㎛의 세라믹분말 71중량부 및 평균입경이 80㎚인 나노입자현탁액(60 wt%로 분산) 29중량부를 혼합한 인듐틴옥사이드(ITO) 100중량부와, 수계 바인더인 메틸셀룰로오스 4.5중량부, 가소제인 글리세린 2.5중량부 및 물 5.4중량부를 함께 믹서를 이용하여 15분간 혼합하였다. 상기 혼합물을 3roll mill을 이용하여 3회 혼련한 후, 이것을 진공 압출 성형기로 성형하여 폭 250 ㎜, 두께 15 ㎜의 그린 바디를 얻었다. 압출된 그린 바디를 길이방향으로 300 ㎜로 절단하여, 열풍건조 장치에서 55℃에서 12시간 건조하였다. 건조된 그린 바디를 1550℃에서 소성하여 세라믹 소결체를 얻었다. 소성된 세라믹 소결체의 상대밀도를 계산한 결과 98.3%이었다.
[비교예 1]
평균입경 2㎛의 세라믹분말인 인듐틴옥사이드(ITO) 100중량부와, 수계 바인더인 메틸셀룰로오스 4.5중량부, 가소제인 글리세린 2.5중량부 및 물 17중량부와 함께 믹서를 이용하여 15분간 혼합하였다. 상기 혼합물을 3roll mill을 이용하여 3회 혼련한 후, 이것을 진공 압출 성형기로 성형하여 폭 250 ㎜, 두께 15 ㎜의 그린 바디를 얻었다. 압출된 그린 바디를 길이방향으로 300 ㎜로 절단하여, 열풍건조 장치에서 55℃에서 12시간 건조하였다. 건조된 그린 바디를 1550℃에서 소성하여 세라믹 소결체를 얻었다. 소성된 세라믹 소결체의 상대밀도를 계산한 결과 91.2%이었다.
[비교예 2]
평균입경 80㎚의 나노입자현탁액(60wt%로 분산)인 인듐틴옥사이드(ITO) 100중량부를 가열교반하여 83 wt%의 현탁액을 제조하였다. 상기 현탁액 100중량부를 수계 바인더인 메틸셀룰로오스 4.5중량부, 가소제인 글리세린 2.5중량부와 함께 믹서를 이용하여 15분간 혼합하였다. 상기 혼합물을 3roll mill을 이용하여 3회 혼련한 후, 이것을 진공 압출 성형기로 성형하여 폭 250 ㎜, 두께 15 ㎜의 그린 바디를 얻었다. 압출된 그린 바디를 길이방향으로 300 ㎜로 절단하여, 열풍건조 장치에서 55℃에서 12시간 건조하였다. 건조된 그린 바디를 1550℃에서 소성하여 세라믹 소결체를 얻었다. 소성된 세라믹 소결체의 상대밀도를 계산한 결과 89.7%이었다.
상기 실시예 1 내지 2 및 비교예 1 내지 2에서 얻어진 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
세라믹분말 나노입자
현탁액		 바인더 가소제 물 성형
밀도		 소결
밀도
실시예 1 ITO 분말
평균입경 2㎛
(SnO2 함량 9.8%)
58중량부		 In2O3, SnO2 혼합 슬러리
평균입경
80 ㎚
(SnO2 함량 10%)
42중량부		 메틸
셀룰로오스
(Mw=4,000)
4.5중량부		 글리세린
2.5중량부		 0.2
중량부		 56.4% 99.8%
실시예 2 ITO 분말
평균입경
2㎛
(SnO2 함량 9.8%)
71중량부		 ITO 나노분말
평균입경
80 ㎚
(SnO2 함량 10%)
29중량부		 메틸
셀룰로오스
(Mw=4,000)
4.5 중량부		 글리세린
2.5중량부		 5.4
중량부		 53.3% 98.3%
비교예 1 ITO 분말평균입경
2㎛
(SnO2 함량 9.8%)
100중량부		 - 메틸
셀룰로오스
(Mw=4,000)
4.5 중량부		 글리세린
2.5중량부		 17
중량부		 49.3% 91.2%
비교예 2 - ITO 나노분말
평균입경
80㎚
(SnO2 함량 10%)
100중량부		 메틸
셀룰로오스
(Mw=4,000)
4.5 중량부		 글리세린
2.5중량부		 - 47.4% 89.7%
상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 세라믹분말과 나노입자현탁액이 혼합된 원료를 사용함으로써 상대 밀도가 높은 고밀도의 세라믹 소결체가 얻어진 것을 확인하였다.
앞서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 세라믹분말 또는 나노입자현탁액을 단독으로 사용한 세라믹 타겟의 제조방법(비교예 1, 2)과 달리, 세라믹분말과 나노입자현탁액을 혼합하여 사용함으로써 분말의 충진율이 개선된 고밀도의 세라믹 타겟을 제조할 수 있다. 또한 종래 스퍼터링법에 의한 박막 제조 시에 제품 불량의 원인이었던 아킹 또는 노들의 발생을 방지할 수 있으므로 스퍼티링 타겟의 재료에 적합한 고밀도, 낮은 저항의 세라믹 타겟을 제조할 수 있다.

Claims (20)

  1. (a) 평균입경이 10 ㎛ 이하인 세라믹분말 및 평균입경이 1 ㎛ 이하인 나노입자현탁액을 혼합하여 세라믹 원료를 준비하는 단계;
    (b) 상기 세라믹 원료와, 수계바인더(water based binder), 가소제 및 물을 함께 혼합하고 혼련시켜 혼합물을 얻는 단계;
    (c) 상기 혼합물을 압출 성형하고 건조하여 그린 바디를 얻는 단계; 및
    (d) 상기 얻어진 그린 바디를 소성하여 세라믹 소결체를 얻는 단계
    를 포함하는, 세라믹 타겟의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 (a) 단계는,
    (a-1) 제1 무기 베이스 분말과 제2 무기 베이스 분말을 90:10 내지 99:1의 질량비로 혼합한 분말 혼합물로부터 세라믹분말 및 슬러리를 제조하는 단계;
    (a-2) 상기 제조된 슬러리를 밀링하여 나노입자현탁액을 제조하는 단계; 및
    (a-3) 상기 세라믹분말과 상기 나노입자현탁액을 90:10 내지 55:45의 비율로 혼합하는 단계
    를 포함하는 것인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 (a-1) 단계에서 상기 분말 혼합물은 산화물, 산할로겐화물 및 산황화물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 혼합물인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 산화물은 ITO(Indium-Tin-Oxide), IZO(Indium-Zinc-Oxide) 및 IGZO(Indium-Gallium-Tin-Oxide)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 혼합물인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 산화물은 SnO2량 환산으로 1 내지 10 질량%의 Sn 함유량을 갖는 ITO인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 산화물은 In2O3량 환산으로 40 내지 60 질량%의 In 함유량, Ga2O3량 환산으로 20 내지 40 질량%의 Ga 함유량, 및 ZnO량 환산으로 10 내지 30 질량%의 Zn을 갖는 IGZO인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  7. 제2항에 있어서,
    상기 (a-1) 단계에서 제1 무기 베이스 분말의 평균입경은 0.1 내지 1 ㎛이고, 제2 무기 베이스 분말의 평균입경은 0.5 내지 5 ㎛인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  8. 제2항에 있어서,
    상기 (a-1) 단계에서 상기 슬러리 내 분말 혼합물에 대하여 0.5 내지 3 중량% 범위로 분산제를 더 혼합하는, 세라믹 타겟의 제조방법.
  9. 제2항에 있어서,
    상기 (a-1) 단계에서 상기 첨가제는 상기 슬러리 내 분말 혼합물에 대하여 0.001 내지 0.01 중량% 범위로 소포제를 더 혼합하는, 세라믹 타겟의 제조방법.
  10. 제2항에 있어서,
    상기 (a-2) 단계에서 상기 나노입자현탁액의 점도는 300±50 cps인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  11. 제2항에 있어서,
    상기 (a-2) 단계에서 상기 나노입자현탁액의 평균입경은 50 내지 100 nm인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 (b) 단계에서 상기 수계 바인더는 상기 세라믹 원료 100중량부에 대하여 3.5 내지 9.5 중량부 사용하는 것인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 (b) 단계에서 상기 수계 바인더는 셀룰로오스계, 아크릴계, 에폭시계 및 우레탄계 바인더로 이루어진 군에서 선택되는 것인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 (b) 단계에서 상기 가소제는 상기 세라믹 원료 100중량부에 대하여 1.5 내지 5.5 중량부 사용하는 것인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  15. 제1항에 있어서,
    상기 (b) 단계에서 상기 물은 상기 세라믹 원료 100중량부에 대하여 7 내지 20 중량부 사용하는 것인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  16. 제1항에 있어서,
    상기 단계 (c)에서 상기 그린 바디는 50%를 초과하는 상대밀도를 갖는 것인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  17. 제1항에 있어서,
    상기 단계 (d)에서 상기 소성단계는 1300 내지 1600℃의 온도에서 실시하는 것인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  18. 제1항에 있어서,
    상기 단계 (d)에서 상기 소성단계는 산소 가스, 불활성 가스 또는 이들의 혼합 가스 분위기하에서 실시하는 것인, 세라믹 타겟의 제조방법.
  19. 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조되며 상대 밀도가 98% 이상인 세라믹 타겟.
  20. 제19항에 있어서,
    비저항값이 1×10- 3Ω ㎝ 이하인, 세라믹 타겟.
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