KR20190111715A - 가열 어셈블리 - Google Patents

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KR20190111715A
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heating
heating element
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support plate
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창러 관
지안후이 난
진빈 장
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동타이 하이-테크 이큅먼트 테크놀로지 씨오., 엘티디
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Abstract

본 발명은 반도체 설비 가공 기술분야에 관한 것으로서, 특히 가열 어셈블리에 관한 것이다. 본 발명이 제공하는 가열 어셈블리는 받침판의 하부에 설치되고, 상하로 설치된 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛을 포함하며, 제1 가열유닛은 복수의 평행으로 배치된 제1 가열소자를 포함하고, 제2 가열유닛은 복수의 평행으로 배치된 제2 가열소자를 포함하며; 제1 가열소자의 배치방향은 제2 가열소자의 배치방향에 수직되며, 제1 가열소자와 제2 가열소자의 받침판 가열면에서의 투영은 복수의 고리형 가열 영역을 형성한다. 본 발명은 구조가 간단하고 설계가 합리하며, 상하 두개 층의 가열유닛을 구비하여 각각의 가열유닛은 모두 복수의 가열소자를 포함하며, 두 개의 가열유닛의 가열소자가 받침판 가열면에서의 투영은 함께 복수의 고리형 가열 영역을 형성하며, 이를 통하여 받침판의 가열면을 복수의 고리형 영역으로 분할하여 가열온도 분포의 균일성을 효과적으로 향상시키며, 공정 결과의 향상에 유리하다.

Description

가열 어셈블리{HEATING ASSEMBLY}
본 발명은 반도체 설비 가공 기술분야에 관한 것으로, 특히 가열 어셈블리에 관한 것이다.
현재, 광전 소자, 태양 에너지 소자, 반도체 소자는 일반적으로 다양한 제조 공정으로 기판 표면을 처리하여 제조된다. 에피택셜 필름 또는 소재가 화학기상증착(CVD) 공정 또는 금속 유기물 CVD(MOCVD) 공정에 의해 기판상에 성장 또는 증착되는 방법은 광범위하게 사용되고 있으며, 에피택셜 필름 또는 소재는 특정 소자, 예를 들어, 광전 소자, 태양 에너지 소자 등의 경우에 따라 복수의 서로 다른 조성을 갖는 층을 포함한다.
일반적으로, CVD 기술은 반응 유형 또는 압력에 의해 분류되며, 저압 CVD(LPCVD), 상압 CVD(APCVD), 플라즈마 강화 CVD(PECVD) 및 금속 유기화합물 CVD(MOCVD) 등을 포함한다. 그 공통적인 특징은 공정 증착에 사용되는 챔버는 공기로부터 차단되고, 내부의 필름 증착 공정에 사용되는 웨이퍼 기판은 일정한 공정 온도까지 가열되어야 하며, 예를 들어, 실리콘 에피택셜을 위한 APCVD 및 GaN을 증착하기 위한 MOCVD는 그 에피택셜 공정 온도가 1000℃를 초과한다. 고온에서 온도의 균일성을 유지하는 것은 공정의 결과에 아주 큰 영향을 미치며, 예를 들어, LED 업계에서 MOCVD 설비의 온도 균일성은 1℃에 도달할 것을 요구한다.
특히, 평판형 반응 챔버의 경우, 예를 들어, 공개특허 CN102422392 가열 램프 시스템 및 그 방법의 실시방안에서, 웨이퍼 캐리어로 웨이퍼 기판을 웨이퍼 캐리어 레일을 따라 공정 증착 챔버 내부로 이송시키고, 웨이퍼 기판을 지지하는 웨이퍼 서셉터(susceptor)의 하면은 가열 램프 어셈블리로부터 방사되는 에너지에 노출되며, 웨이퍼 기판은 웨이퍼 서셉터에 의해 공정 온도까지 가열된다. 구체적으로 도 1에 도시된 바와 같이, 적외선 가열 램프 어셈블리는 웨이퍼 캐리어 레일의 하부에 배치되고, 복수의 장착 높이가 일치한 적외선 가열 램프 튜브(624)를 포함하며, 복수의 적외선 가열 램프 튜브(624)는 평행되게 배치되어 가열존을 형성한다. 그러나 이러한 적외선 가열 램프 튜브의 평행하게 배치되는 방식은 각각의 램프 튜브의 전기량을 독립적으로 조절하여 램프 튜브의 방사 에너지를 제어할 수는 있지만, 램프 튜브의 평행하게 배치되는 방향의 온도 분포만 조절할 수 있고, 램프 튜브의 수직되게 배치되는 방향의 온도 분포는 조절할 수 없으며, 즉, 각각의 램프 튜브의 길이방향에서 출력을 조절할 수 없으므로 이 방향에서의 온도 분포도 조절할 수 없다. 이러한 문제로 인해 종래 제어기술의 온도 분포는 더 높은 균일성 요구를 만족시킬 수 없다.
본 발명은 구조가 간단하고 설계가 합리하며, 전체 받침판의 가열 영역 원주방향 온도 분포의 균일한 제어를 실현할 수 있는 가열 어셈블리를 제공함으로써, 종래의 가열방식으로는 단일 방향으로만 온도 분포가 조절되어 더 높은 온도 균일성을 만족시키지 못하는 과제를 해결하고자 한다.
상술한 기술적 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 받침판의 하부에 마련되어 상기 받침판의 가열면을 가열하는 가열 어셈블리에 있어서, 상하로 설치된 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛을 포함하고, 상기 제1 가열유닛은 복수의 평행으로 배치된 제1 가열소자를 포함하고, 상기 제2 가열유닛은 복수의 평행으로 배치된 제2 가열소자를 포함하며; 상기 제1 가열소자의 배치방향은 상기 제2 가열소자의 배치방향에 수직되며, 상기 제1 가열소자와 상기 제2 가열소자의 받침판 가열면에서의 투영은 복수의 고리형 가열 영역을 형성하는 가열 어셈블리를 제공한다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 상기 제1 가열소자 및 제2 가열소자는 모두 가열 구간과 비가열 구간을 포함하고, 상기 제1 가열소자와 제2 가열소자의 가열 구간이 상기 받침판의 가열면에서의 투영은 대체적으로 "回"자형 모양을 이룬다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 상기 제1 가열소자 및 제2 가열소자는 모두 독립적으로 제어되는 가열 램프 튜브이고, 상기 가열 램프 튜브는 석영 유리 튜브 및 상기 석영 유리 튜브 내에 마련되는 필라멘트를 포함한다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 상기 각 가열 램프 튜브 내의 필라멘트의 출력을 제어하는 컨트롤러를 더 포함한다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 상기 가열 램프 튜브는 상기 필라멘트 발열 구간에 대응되는 관벽 하면에 반사층이 마련된다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 상기 가열 램프 튜브는 적외선 가열 램프 튜브를 포함한다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 상기 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛은 모두 램프 케이스를 더 포함하고, 복수의 상기 제1 가열소자 및 복수의 상기 제2 가열소자는 대응되는 상기 램프 케이스 내에 간격을 두고 설치되며, 복수의 상기 제1 가열소자 및 복수의 제2 가열소자는 모두 적어도 두가지 저항치를 갖는 저항선을 포함한다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 상기 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛의 출력을 독립적으로 제어하는 컨트롤러를 더 포함한다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 상기 램프 케이스는 상기 저항선의 가열 구간에 대응되는 관벽 하면에 반사층이 마련된다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 상기 반사층은 Ag층, Al층, AlNd층, 석영층 및 세라믹층 중의 하나 또는 하나 이상을 포함한다.
본 발명의 상술한 기술방안은 아래와 같은 장점을 가진다.
본 발명은 받침판의 하부에 설치되어 받침판의 가열면을 가열하고, 상하로 설치된 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛을 포함하며, 제1 가열유닛은 복수의 평행으로 배치된 제1 가열소자를 포함하고, 제2 가열유닛은 복수의 평행으로 배치된 제2 가열소자를 포함하며; 제1 가열소자의 배치방향은 제2 가열소자의 배치방향에 수직되며, 제1 가열소자와 제2 가열소자의 받침판 가열면에서의 투영은 복수의 고리형 가열 영역을 형성하는 가열 어셈블리를 제공한다. 본 발명이 제공하는 가열 받침판에 사용되는 가열 어셈블리는 구조가 간단하고 설계가 합리하며, 상하 두 개 층의 가열유닛을 구비하여 각각의 가열유닛은 모두 복수의 가열소자를 포함하며, 두 개의 가열유닛의 가열소자가 받침판 가열면에서의 투영은 함께 복수의 고리형 가열 영역을 형성하며, 이를 통하여 받침판의 가열면을 복수의 고리형 영역으로 분할함으로써 가열온도 분포의 균일성을 효과적으로 향상시키며, 단일 방향의 가열방식으로 인한 온도 불균일 문제를 해결하며, 공정 결과의 향상에 유리하다.
도 1은 종래기술의 적외선 가열 램프 튜브의 배치 구조를 나타내는 개략도이다.
도 2는 본 발명의 가열 어셈블리의 실시예 1에 따른 피가열 받침판과 가열 어셈블리의 배치 방식을 나타내는 개략도이다.
도 3은 본 발명의 가열 어셈블리의 실시예 1에 따른 가열 어셈블리의 배치 방식을 나타내는 개략도이다.
이하, 본 발명에 따른 실시예의 목적, 기술방안 및 장점을 더욱 명확하게 설명하기 위하여, 본 발명에 따른 실시예의 기술방안을 본 발명의 실시예의 도면을 참조하여 명확하고 상세하게 설명한다. 이하에서 설명되는 실시예는 본 발명의 일부 실시예일 뿐이며 전부 실시예가 아니다. 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 실시예의 기초상에서 창조적인 노동을 진행하지 않고 얻은 기타 모든 실시예는 본 발명의 보호범위에 속할 것이다.
실시예 1
도 2 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예는, 받침판(1)의 하부에 설치되어 상기 받침판(1)의 가열면을 가열하며, 상하로 설치된 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛을 포함하고, 상기 제1 가열유닛은 복수의 평행으로 배치된 제1 가열소자(4)를 포함하고, 상기 제2 가열유닛은 복수의 평행으로 배치된 제2 가열소자(5)를 포함하며; 상기 제1 가열소자(4)의 배치방향은 상기 제2 가열소자(5)의 배치방향에 수직되며, 상기 제1 가열소자(4)와 상기 제2 가열소자(5)의 받침판(1) 가열면에서의 투영은 고리형 가열 영역을 형성하는 가열 어셈블리를 제공한다.
본 실시예에서, 가열 어셈블리는 상하로 설치된 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛을 포함하며, 즉 두 개 층의 가열유닛을 포함하며; 제1 가열유닛은 제2 가열유닛의 상부에 설치될 수 있으며, 제2 가열유닛의 하부에 설치될 수도 있으며, 구체적으로 실제적인 실시 조건에 따라 합리하게 설치될 수 있다. 여기서, 제1 가열유닛은 복수의 수직방향으로 설치된 제1 가열유닛(4)(즉, 도 1의 Y축에 평행됨)을 포함하고, 제2 가열유닛은 복수의 수평방향으로 설치된 제2 가열유닛(5)(즉, 도 1의 X축에 평행됨)을 포함한다. 제1 가열유닛(4)과 제2 가열유닛(5)은 함께 받침판(1)을 가열하는 가열 영역을 형성하며, 제1 가열유닛(4)과 제2 가열유닛(5)은 받침판(1)의 가열면에서의 투영은 고리형 가열 영역을 형성하고, 이를 통해, 받침판(1)의 가열면을 복수의 고리형 영역으로 분할할 수 있어 가열 온도 분포의 균일성을 효과적으로 향상시키며 단일 방향의 가열방식에 의한 온도 불균일 문제를 해결하며 공정 결과의 향상에 유리하다.
특히, 본 실시예에서, 피가열되는 사각형 받침판(1)은 상층 가열유닛의 상부에 놓여 가열소자와 평면상으로 평행되며 받침판(1)의 크기는 보편적으로 가열 영역의 면적보다 작아 온도의 균일성을 확보한다. 또한, 본 출원이 제공하는 가열 어셈블리는 구조가 간단하고, 설계가 합리하며 가열 온도가 균일하며 실용성이 강하고 표준화 생산 및 보급에 유리하다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 제1 가열소자(4) 및 제2 가열소자(5)는 모두 가열 구간(2)과 비가열 구간(3)을 포함하고, 제1 가열소자(4)와 제2 가열소자(5)의 가열 구간(2)이 받침판(1)의 가열면에서의 투영은 대체적으로 "回"자형 모양을 이룬다.
제1 가열소자(4) 및 제2 가열소자(5)는 배치된 후, 도 2 내지 도 3에 도시된 바와 같이, 도 2 및 도 3의 굵은 선은 가열 구간(2)을 나타내고, 나머지 연결된 가는 선은 비가열 구간(3)부분을 나타내며, 이론적으로 비가열 구간은 열을 발생하지 않는다. 이와 같이, 제1 가열유닛과 제2 가열유닛이 상하로 설치될 경우, 제1 가열소자(4)와 제2 가열소자(5)의 비가열 구간(3)이 받침판(1)에서의 투영은 겹치게 되나, 제1 가열소자(4)와 제2 가열소자(5)의 가열 구간(2)이 받침판(1)에서의 투영은 마감부분이 연결되어 대체적으로 "回"자형의 복수 고리형 가열 영역이 형성되며 받침판(1)의 가열 온도 분포의 균일성을 진일보로 향상시키는데 유리하다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 제1 가열소자(4) 및 제2 가열소자(5)는 모두 독립적으로 제어되는 가열 램프 튜브이고, 가열 램프 튜브는 석영 유리 튜브 및 석영 유리 튜브 내에 마련되는 필라멘트를 포함한다.
본 실시예에서, 제1 가열소자(4) 및 제2 가열소자(5)는 모두 독립적으로 제어되는 가열 램프 튜브이며, 가열 램프 튜브는 석영 유리 튜브 및 필라멘트로 조성된다. 여기서, 도 2 및 도 3의 굵은 선은 필라멘트 발열 영역을 나타내고, 나머지 연결된 가는 선은 필라멘트의 도전성 부분이며, 이론적으로 도전성 부분은 발열하지 않는다.
평면도로부터 보면, 제1 가열소자(4) 및 제2 가열소자(5)의 가열 구간(2)은 하나 하나의 동심 정사각형을 이루며, 각각의 정사각형의 각 변(필라멘트)은 출력을 모두 독립적으로 제어할 수 있다. 모든 가열 램프 튜브가 동일한 출력에서 가열되는 경우, 피가열되는 받침판(1)은 중심이 뜨겁고 주위가 차가운 온도 분포를 나타낼 수 있고, 본 발명의 배치 방식하에서는 마침 받침판(1)을 복수의 고리형 영역으로 분할할 수 있으며, 각 영역의 가열 출력은 단독으로 제어될 수 있으며, 또한 각 고리형 영역도 4개 변의 가열 출력을 단독으로 제어할 수 있어 시스템의 기타 요인으로 인한 열유동장이 비대칭되는 경우를 보완한다.
따라서, 각각의 필라멘트에 대한 출력 조절을 통해 전체 받침판(1)에 대한 가열 영역의 원주 방향의 온도 분포를 균일하게 제어할 수 있다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 각각의 가열 램프 튜브 내의 필라멘트의 출력을 제어하는 컨트롤러를 더 포함한다.
또한, 본 출원이 제공하는 가열 어셈블리는 컨트롤러를 더 포함하고, 컨트롤러는 받침판(1)의 가열 과정에서의 온도 변화에 따라 각각의 가열 램프 튜브 내의 필라멘트의 전류의 크기를 실시간으로 제어할 수 있어, 복수의 고리형 가열 영역의 온도 분포를 균일하게 할 수 있다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 가열 램프 튜브의 필라멘트 발열 구간에 대응되는 관벽 하면에 반사층이 마련된다.
바람직하게, 본 실시예에서 가열 램프 튜브의 관벽 하면에는 반사층이 마련되어 필라멘트의 가열 출력이 모두 위로 방사되도록 확보함으로써 가열 효율을 향상시킨다. 램프 튜브벽은 투명하므로 하층 필라멘트 고온 영역에는 상층 램프 튜브에 의해 막히는 경우가 발생하지만, 적외선 방사 효율에 영향을 주지 않으며, 상층 램프 튜브는 하층 램프 튜브에 의해 가열되지 않는다. 받침판(1)은 램프 튜브로 조성된 평면에 평행됨으로, 가열 거리는 열방사 효율에 영향주지 않는다. 따라서, 두 개 층의 램프 튜브의 배치 방식에서 필라멘트와 받침판(1)의 거리는 서로 다르지만, 가열 균일성에는 거의 영향주지 않는다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 반사층은 Ag층, Al층, AlNd층, 석영층 및 세라믹층 중의 하나 또는 하나 이상을 포함한다.
구체적으로, 반사층은 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈, 크롬 중의 하나 또는 하나 이상의 합금 조합을 사용할 수 있고, 석영 또는 세라믹 등 비금속재를 사용할 수도 있다. 바람직하게, 본 실시예에서 비교적 우수한 반사효과를 확보하기 위하여, 반사층은 Ag(은)층, Al(알루미늄)층, AlNd(알루미늄 네오디뮴 합금)층, 석영층 또는 세라믹층을 사용하며, 여기서, 실제적인 실시 조건에 따라 합리적인 반사층 재료 유형을 선택할 수 있다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 가열 램프 튜브는 적외선 가열 램프 튜브를 포함한다.
바람직하게, 본 실시예에서 가열 램프 튜브는 적외선 가열 램프 튜브를 사용하고 적외선 가열의 속도는 빠르며 가열 효과가 우수하고 받침판(1)의 가열 효율을 향상시키는데 유리하며, 적외선 가열 램프 튜브는 가열의 수요에 따라 형상, 크기, 출력, 파장을 변화시킬 수 있어 필요한 시간과 지점에서 필요한 온도에 도달할 수 있으며 유연성이 강하다.
실시예 2
실시예 2와 실시예 1의 구별은 다음과 같다:
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛은 모두 램프 케이스를 더 포함하고, 복수의 제1 가열소자 및 복수의 제2 가열소자는 대응되는 램프 케이스 내에 간격을 두고 설치되며, 복수의 제1 가열소자 및 복수의 제2 가열소자는 모두 적어도 두가지 저항치를 갖는 저항선을 포함한다.
본 실시예에서, 제1 가열유닛은 제1 램프 케이스 및 제1 램프 케이스 내에 설치된 복수의 제1 가열소자를 포함하고, 복수의 제1 가열소자는 평행되게 배치되는 방식으로 제1 램프 케이스 내에 간격을 두고 설치되며; 상응하게, 제2 가열유닛은 제2 램프 케이스 및 제2 램프 케이스 내에 설치된 복수의 제2 가열소자를 포함하고, 복수의 제2 가열소자는 평행되게 배치되는 방식으로 제2 램프 케이스 내에 간격을 두고 설치된다. 평면도로부터 보면, 제1 가열소자 및 제2 가열소자의 가열 구간은 하나 하나의 동심 정사각형을 이루고, 모든 가열 램프 튜브가 동일한 출력으로 가열될 경우, 피가열되는 받침판은 중심이 뜨겁고, 주위가 차가운 온도 분포를 나타내며, 여기서, 본 발명은 복수의 제1 가열소자 및 복수의 제2 가열소자를 모두 적어도 두 가지 저항치를 갖는 저항선으로 설치하여, 전류를 인가할 경우, 시스템의 기타 요소로 인한 열유동장이 비대칭되는 경우를 보완한다.
따라서, 서로 다른 가열 램프 튜브를 그룹핑한 후 출력 조절을 통해, 전체 받침판 가열 영역에 대한 원주 방향의 온도 분포를 균일하게 제어할 수 있다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛의 출력을 독립적으로 제어하는 컨트롤러를 더 포함한다.
또한, 본 출원에서 제공하는 가열 어셈블리는 컨트롤러를 더 포함하고, 컨트롤러는 받침판의 가열 과정에서의 온도 변화에 따라, 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛의 전류의 크기를 실시간으로 제어할 수 있어, 복수의 고리형 가열 영역의 온도분포를 균일하게 할 수 있다.
바람직한 상기 기술방안에 따르면, 램프 케이스의 저항선의 가열 구간에 대응되는 관벽 하면에는 반사층이 마련된다. 여기서, 램프 케이스는 투명한 석영 유리로 제조된다.
실시예 1과 유사하게, 본 실시예에서 램프 케이스의 관벽 하면에는 반사층이 마련되어 필라멘트의 가열 출력이 모두 위로 방사되도록 확보하여 가열 효율을 향상시킨다. 바람직하게, 반사층은 금, 은, 구리, 알루미늄, 니켈, 크롬 중의 하나 또는 하나 이상의 합금으로 조성될 수 있으며, 석영 또는 세라믹 등 비금속재로 제조될 수도 있다.
기타 기술방안은 실시예 1과 동일하기에, 반복하여 서술하지 않는다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 받침판의 하부에 설치되어 상기 받침판의 가열면을 가열하며, 상하로 설치된 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛을 포함하고, 상기 제1 가열유닛은 복수의 평행으로 배치된 제1 가열소자를 포함하고, 상기 제2 가열유닛은 복수의 평행으로 배치된 제2 가열소자를 포함하며; 상기 제1 가열소자의 배치방향은 상기 제2 가열소자의 배치방향에 수직되며, 상기 제1 가열소자와 상기 제2 가열소자의 받침판 가열면에서의 투영은 복수의 고리형 가열 영역을 형성하는 가열 어셈블리를 제공한다. 본 발명은 구조가 간단하고 설계가 합리하며, 상하 두 층의 가열유닛을 구비하여 각각의 가열유닛은 모두 복수의 가열소자를 포함하며, 두 개의 가열유닛의 가열소자의 받침판 가열면에서의 투영은 함께 복수의 고리형 가열 영역을 형성하며, 이를 통하여 받침판의 가열면을 복수의 고리형 영역으로 분할하여 가열온도 분포의 균일성을 효과적으로 향상시키고 단일 방향의 가열방식으로 인한 온도가 불균일한 문제를 해결함으로써 공정 결과의 향상에 유리하다.
상기 실시예들은 본 발명의 기술방안을 설명하기 위하여 제시된 것으로서 본 발명을 한정하는 것이 아니다. 상술한 실시예를 참조하여 본 발명에 대해 상세하게 설명하였으나 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 상술한 실시예들에 기재된 기술방안을 수정할 수 있으며, 또는 그중 일부 기술특징에 대해 균등 치환 가능하며 이러한 수정 또는 치환은 해당 기술방안의 본질이 본 발명의 실시예들의 기술방안의 사상과 범위를 벗어나지 않음을 이해할 수 있을 것이다.
624: 적외선 가열 램프 튜브 1: 받침판
2: 가열 구간 3: 비가열 구간
4: 제1 가열소자 5: 제2 가열소자

Claims (10)

  1. 받침판의 하부에 마련되어 상기 받침판의 가열면을 가열하는 가열 어셈블리에 있어서,
    상하로 설치된 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛을 포함하고,
    상기 제1 가열유닛은 복수의 평행으로 배치된 제1 가열소자를 포함하고, 상기 제2 가열유닛은 복수의 평행으로 배치된 제2 가열소자를 포함하며; 상기 제1 가열소자의 배치방향은 상기 제2 가열소자의 배치방향에 수직되며, 상기 제1 가열소자와 상기 제2 가열소자의 받침판 가열면에서의 투영은 복수의 고리형 가열 영역을 형성하는 것을 특징으로 하는 가열 어셈블리.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 가열소자 및 제2 가열소자는 모두 가열 구간과 비가열 구간을 포함하고, 상기 제1 가열소자와 제2 가열소자의 가열 구간의 상기 받침판 가열면에서의 투영은 대체적으로 "回"자형 모양을 이루는 것을 특징으로 하는 가열 어셈블리.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 제1 가열소자 및 제2 가열소자는 모두 독립적으로 제어되는 가열 램프 튜브이고, 상기 가열 램프 튜브는 석영 유리 튜브 및 상기 석영 유리 튜브 내에 마련되는 필라멘트를 포함하는 것을 특징으로 하는 가열 어셈블리.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 각 가열 램프 튜브 내의 필라멘트의 출력을 제어하는 컨트롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가열 어셈블리.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 가열 램프 튜브는 상기 필라멘트 발열 구간에 대응되는 관벽 하면에 반사층이 마련되는 것을 특징으로 하는 가열 어셈블리.
  6. 제3항에 있어서,
    상기 가열 램프 튜브는 적외선 가열 램프 튜브를 포함하는 것을 특징으로 하는 가열 어셈블리.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛은 모두 램프 케이스를 더 포함하고, 복수의 상기 제1 가열소자 및 복수의 상기 제2 가열소자는 대응되는 상기 램프 케이스 내에 간격을 두고 설치되며, 복수의 상기 제1 가열소자 및 복수의 제2 가열소자는 모두 적어도 두 가지 저항치를 갖는 저항선을 포함하는 것을 특징으로 하는 가열 어셈블리.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1 가열유닛 및 제2 가열유닛의 출력을 독립적으로 제어하는 컨트롤러를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 가열 어셈블리.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 램프 케이스는, 상기 저항선의 가열 구간에 대응되는 관벽 하면에 반사층이 마련되는 것을 특징으로 하는 가열 어셈블리.
  10. 제5항 또는 제9항에 있어서,
    상기 반사층은 Ag층, Al층, AlNd층, 석영층 및 세라믹층 중의 하나 또는 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 가열 어셈블리.
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