KR20190107747A - 새로운 차광계 - Google Patents

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KR20190107747A
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KR1020197026424A
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Inventor
발레리 쁘리에르
헬렌 드롱이그니
Original Assignee
삐에르화브르데르모-코스메띠끄
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Publication date
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Abstract

본 발명은 다음을 포함하는, 3 또는 4종의 태양광 차단제들의 조합물로 구성되는 국소적 화장 또는 약학조성물에 관한 것이다.
- 임계 파장 > 370 nm을 달성하기 위하여,
i. 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진,
ii. 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논,
iii. 상기 조성물 총 중량 기준으로 2중량% 미만의 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM),
iv. 헥실2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일] 벤조에이트에서 선택되는 하나 또는 둘의 UVA 차단제,
- 2,4-비스[4-(2-에틸헥실옥시)-2-히드록시페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진 = (BEMT),
- 옥토크릴렌, PABA 및 에틸헥실 메톡시신나메이트를 제외한 UVB 차단제에서 선택되는 하나 또는 둘의 차단제,및 약학적 또는 화장학적 허용 가능한 부형제.

Description

새로운 차광계{NOVEL PHOTOPROTECTIVE SYSTEM}
본 발명은 화장 또는 약학조성물에서 차광계로서 유용한 태양광 차단제 (filter)들의 조합에 관한 것이다.
먼저, 본 발명의 범위에 있는 다양한 차단제들에 대한 명명 및 약어를 살펴본다:
UVA 차단제
- WO2005/121128에서 기재된 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진;
- 헥실 2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]벤조에이트 = CAS 등록번호: 302776-68-7 BASF에서 Uvinul A+®로 판매되는 차단제;
- 메타논, 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2- 히드록시 벤조일] 페닐]- = CAS 등록번호: 919803-06-8, BASF에서 C1332®로 판매;
- 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM) = 아보벤존 = CAS 등록번호: 70356-09-1, DSM에서 Parsol1789®로 판매.
UVB 차단제
- 디에틸헥실 부타미도 트리아존= CAS 등록번호:154702-15-5, 3V SIGMA에서 UVASorb HEB®로 판매;
- 2,4,6-트리스([1,1'-비페닐]-4-yl)-1,3,5-트리아진 = 트리스-비페닐 트리아진 = CAS 등록번호:31274-51-8, BASF에서 ETH50®로 판매;
- 옥틸 트리아존 = 에틸헥실 트리아존 = CAS 등록번호: 88122-99-0, BASF에서 UvinulT150®로 판매.
2-페닐벤지미다졸-5-술폰산 = 페닐벤지미다졸 술폰산 = CAS 등록번호 27503-81-7
- 2-에틸헥실 살리실레이트 = 에틸헥실 살리실레이트 = CAS 등록번호 118-60-5
광범위 스펙트럼 차단제
- 2,2’-메틸렌-비스-(6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페놀 = 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 (MBBT) = 비스옥트리졸 = CAS 등록번호: 103597-45-1, BASF에서 Tinosorb M®으로 판매;
- 2,4-비스[4-(2-에틸헥실옥시)-2-히드록시페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진 = 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 (BEMT) = 베모트리니놀 = CAS 등록번호: 187393-00-6, BASF에서 Tinosorb S®로 판매.
피부에 대한 태양복사선 영향은 기본적으로 다양한 피부층들에 도달하는 복사에너지에 따라 다르다. 일반적으로, 가장 짧은 파장을 가지는 (E=hc/l) 가장 강한 에너지 복사선은, 홍반 또는 일광화상을 일으키고, 에너지가 약한 복사선은 단순히 피부 그을림을 초래한다. 따라서 선스크린 (sunscreen)로 불리는 화장조성물에서 사용되는 일광 차단제는 단파장 복사선을 최대한 흡수하여야 하고, 더욱 장파의 복사선을 투과하여야 한다.
통상 UV-A 및 UV-B는 각각 400 nm 내지 320 nm, 및 320 nm 내지 280 nm 파장을 가지고 구별된다. UV-B 및 UV-A는 사람의 표피를 그을린다. UV-B는 홍반 및 피부화상을 유발시키고 자연 그을림 형성에 방해된다. 이러한 이유 및 미관적 이유로, 피부색을 조절하기 위하여 이러한 자연 그을림 조절 수단에 대한 계속적인 요구가 존재한다. 따라서, UV-B 복사선은 차단되어야 한다.
또한 UV-A 복사선은 특히 민감성 피부 또는 태양복사선에 계속하여 노출되는 피부에 대하여 피부 변화를 초래한다고 알려져 있다. UV-A 복사선은 특히 피부 탄력성 상실 및 주름살 형성을 초래하여, 조기 노화로 이어진다. 또한 일부 환자의 경우 홍반 형성 반응을 촉진하거나 이러한 반응을 확대하고 광독성 또는 광알레르기 반응들을 유발시킨다. 따라서 UV-A 역시 차단하는 것이 바람직하다.
또한, 일광 노출 또는 그을림을 위한 일광 램프 사용으로 인한 자외선 노출은 피부암을 유발할 수 있다.
마지막으로, 선행기술의 일부 항-UV 차단제는 알레르기 반응들 (접촉성 피부염) 및/또는 (무엇보다도 내분비계 장애물질로 작용될 수 있는) 의심되는 전신독성 주범으로 현재 알려져 있다.
따라서 효과적으로 자외선을 차단하고 직면한 불내성 및 독성의 단점들을 극복할 수 있는 차광계를 개발할 필요가 존재한다.
따라서, 내성 및/또는 독성 및/또는 광안정성 및/또는 낮은 UV 흡수 관점에서 만족스럽지 못한 UV 차단제 예컨대
- 옥토크릴렌,
- 파라-아미노벤조산 (PABA),
- 에틸헥실 메톡시신나메이트; 사용에 주의하여야 한다
바람직하게는, 본 발명에 의한 조성물은 다음을 함유하지 않는다
- 옥토크릴렌
- PABA 및 이의 유도체
- 에틸헥실 메톡시신나메이트를 포함한 신나메이트 화합물 부류;
- 벤조페논 부류 및
- 벤질리덴 캄포 부류 (family)
- 및, 예비적으로, 호모살레이트.
본 발명에서 “차광계”란, 표면 (피부, 모발, 등)에 도포된 후 UV-A 및/또는 UV-B 복사선의 흡수 및/또는 반사 및/또는 확산 메카니즘으로, 상기 복사선과 상기 표면과의 접촉을 방해하거나 적어도 제한할 수 있는 임의의 화합물 또는 화합물들의 조합을 의미한다.
용어 “자외선”이란 태양광 자외선 및 인공 자외선 (예를들면 그을림 램프)을 의미한다.
본 발명에 의한 새로운 차광계의 기술적 특징 및 예상되는 이점은 다음과 같다:
- 가장 광범위한 UV 흡수 스펙트럼 (최대 스펙트럼 범위는 290 내지 400 nm)
- 현재 판매되는 차단제에 비하여 UVA를 더욱 양호하게 포괄할 수 있는 370 nm 이상의 임계 파장 λc.
- 양호한 내성 및 독성 응답을 위한최소 차단제 수 (number) 및 농도 함유.
- 광 안정성 (UV 복사선 조사에서 차단계 무분해)
- 빛, 공기, 습기 및 온도에 대한 안정성.
- 독물학적 요건 충족 (환전한 내성, 무독성, 비-돌연변이 유발, 내분비계 장애물질이 아님, 등).
- 무결함 도포 형태 (끈적이지 않고, 비-화이트, 상쾌한 느낌, 광보호제로 적용 가능성).
본 발명에 의한 새로운 차광계는 현재 규정들을 충족한다: 무엇보다도 SPF/UVA 비율은 3 이하.
하나의 특정 실시태양에서, 본 발명에 의한 새로운 차광계는 최대 카테고리 (SPF 50+)에 해당되는 차광계에 관한 것이다.
다른 특정 실시태양에서, 본 발명에 의한 새로운 차광계의 SPF/UVA 비율은 2.5 이하이다.
본 발명에서 “광안정성, 빛 안정성 또는 광안정도”란, 5 MED 및 바람직하게는 10 MED 복사선 조사 후, 다음이 유지되는 것을 의미한다:
- 총 SPF (290 내지 400 nm)의 적어도 80% 및 바람직하게는 적어도 85% 및 더욱 바람직하게는 적어도 90%; 및
- 총 SPF의 UVA 부분 (320 내지 400 nm)에 대하여 적어도 80% 및 바람직하게는 적어도 85% 및 더욱 바람직하게는 적어도 90%.
현재 규정들을 충족하는 최적의 차광계를 연구하면서, 놀랍게도 예상치 못하게 다음으로 구성되는 3 또는 4 태양광 차단제들 조합을 함유하는 국소적, 화장 또는 약학조성물에 의해 상기 목적들이 달성될 수 있다는 것을 알았다:
- 임계 파장 > 370 nm을 획득할 수 있는, 다음에서 선택되는, 하나 또는 둘의 UVA 차단제:
i. 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진,
ii. 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논,
iii. 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM),
iv. 헥실 2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]벤조에이트,
- 2,4-비스[4-(2-에틸헥실옥시)-2-히드록시페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진 = (BEMT),
- 옥토크릴렌, PABA 및 에틸헥실 메톡시신나메이트를 제외한 UVB 차단제에서 선택되는 하나 또는 둘의 차단제,
상기 조성물은 또한 약학적 또는 화장학적으로 허용되는 부형제를 함유한다.
바람직하게는, 본 발명에 의한 3 또는 4종의 태양광 차단제들 조합은 옥토크릴렌, PABA 및 이의 유도체, 에틸헥실 메톡시신나메이트를 포함한 신나메이트 화합물 부류, 호모살레이트, 벤조페논 화합물 부류 및 벤질리덴 캄포 화합물 부류를 제외한 하나 또는 둘의 UVB 차단제를 포함한다.
부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM)은 UV 복사선 안정 차단제는 아니다. 분자 절단으로 흡수 활성이 없는 다양한 화학적 성분들로 분해된다. 따라서, 이러한 차단제의 광안정성 문제를 해결하기 위하여, 본 발명에 의한 조성물에서 BMDBM 함량은 조성물 총 중량에 대하여 2중량% 미만이다.
본 발명의 하나의 특정 실시태양에서, 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1.5중량% 이하이다.
본 발명의 다른 특정 실시태양에서, 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1중량% 미만이다.
바람직하게는, 본 발명에 의한 조성물은 상기 태양광 차단제들 조합의 모든 화합물들 함량은 조성물 총 중량에 대하여 20% 미만, 바람직하게는 16% 미만, 및 더욱 바람직하게는 14중량% 미만인 것에 특징이 있다.
현존 태양광 차단제는 다음과 같이 분류된다:
- 대부분의 복사선을 흡수하는 지방 용해성 또는 수용성 유기 차단제,
- 대부분의 복사선을 반사시키는 무기 선스크린,
- 복사선을 흡수하고 반사시키는 유기 선스크린.
본 발명에 의해 적용 가능한 UVA 차단제는 다음으로 구성된다:
- 유기 차단제: BMDBM 및 헥실 2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일] 벤조에이트;
- 유기 선스크린: 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진 및 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논
UVB 차단제는 다음으로 구성된다:
- 유기 차단제: 디에틸헥실 부타미도 트리아존 및 에틸헥실 트리아존, 에틸헥실 살리실레이트 및 페닐벤지미다졸 술폰산
- 유기 선스크린: 트리스-비페닐 트리아진
- 무기 선스크린 TiO2
현재, 2종의 광범위 스펙트럼 차단제이 시중에서 판매된다: BEMT 및 MBBT. 이들은 UVA 및 UVB 파장 영역들 모두를 흡수하는 차단제이다. BEMT는 유기 차단제이고 MBBT는 유기 선스크린이다.
BEMT는 본 발명에 의한 조성물에 필수적으로 존재하는 차단제이다.
본 발명의 하나의 특정 실시태양에서 및 조성물 중 3 또는 4종의 태양광 차단제들의 한정 범위에서, 상기 조성물은 광범위 스펙트럼 차단제 MBBT를 더욱 포함한다.
본 발명은 특히 다음 차광계들에 관한 것이다:
- 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진, BEMT 및 트리스-비페닐 트리아진;
- 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진, BEMT, 트리스-비페닐 트리아진 및 디에틸헥실 부타미도 트리아존;
- 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진, BEMT, MBBT 및 디에틸헥실 부타미도 트리아존;
- 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진, BMDBM, BEMT 및 트리스-비페닐 트리아진;
- 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진, 헥실 2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]벤조에이트, BEMT 및 트리스-비페닐 트리아진;
- 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진, BEMT, 트리스-비페닐 트리아진 및 TiO2,
- 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논, BEMT 및 트리스-비페닐 트리아진
- 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논, BEMT, 트리스-비페닐 트리아진 및 에틸헥실 살리실레이트.
본 발명의 하나의 실시태양에서, 최소한의 유기 차단제를 가지는 차광계들 및 따라서 유기 및/또는 무기 선스크린이 선호되는 차광계들이 제안된다.
바람직하게는, 상기 조합물은 최대한 3종의 유기 차단제들 및 바람직하게는 최대한 2종의 유기 차단제들, 및 더욱 바람직하게는, 단일 유기 차단제로 구성된다.
유기 및 무기 선스크린들은 매우 양호한 독물학적 프로필을 가진다.실제로, 물리적 형태 및 분자량 관점에서, 이들 성분은 피부 표면에 잔류하고, 임의의 경피적 흡수가 제한되고 차광계의 안전성을 개선시킨다.
본 발명의 특징 중 하나는 상기 조합물은 최대한 모두 4종의 차단제 및 바람직하게는 최대한 3종의 차단제로 구성되는 것이다.
본 발명의 일 특징에 의하면, UVA 태양광 차단제는 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진이고 다음의 다른 UVA 차단제와 조합된다:
-1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2- 히드록시벤조일]페닐]-메타논
- BMDBM 및
- 헥실 2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]벤조에이트.
본 발명의 다른 특징에 의하면, UVA 태양광 차단제는 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논이고 다음의 다른 UVA 차단제와 조합된다:
- 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진
- BMDBM 및
- 헥실 2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]벤조에이트.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1% 내지 5중량%로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1% 및 5중량%로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 헥실 2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]벤조에이트 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1% 내지 10중량%, 바람직하게는 1 내지 6%로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, BEMT 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1% 내지 4중량%로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 3 또는 4종의 태양광 차단제들의 조합물은 옥토크릴렌, PABA 및 이의 유도체, 에틸헥실 메톡시신나메이트를 포함한 신나메이트 화합물 부류, 호모살레이트, 벤조페논 화합물 부류 및 벤질리덴 캄포 화합물 부류를 제외한 하나 또는 둘의 UVB 차단제를 포함한다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, UVB 차단제는 다음 화합물들에서 선택된다:
- 디에틸헥실 부타미도 트리아존
- 에틸헥실 트리아존,
- 트리스-비페닐 트리아진.
- 에틸헥실 살리실레이트
- 페닐벤지미다졸 술폰산
- TiO2.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 트리스-비페닐 트리아진 함량은 조성물 총 중량에 대하여 3% 내지 7중량%로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 디에틸헥실 부타미도 트리아존 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1% 및 5중량%로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 에틸헥실 트리아존 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1% 내지 5중량%로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, TiO2 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1% 내지 10중량%로 이루어진다.
본 발명에 의한 조성물은 광범위 스펙트럼 차단제 MBBT를 더욱 포함한다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 태양광 차단제들의 조합은 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진, BEMT 및 트리스-비페닐 트리아진로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 태양광 차단제들의 조합은 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진, BEMT, 트리스-비페닐 트리아진 및 디에틸헥실 부타미도 트리아존으로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 태양광 차단제들의 조합은 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진, BEMT, 트리스-비페닐 트리아진 및 BMDBM으로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 태양광 차단제들의 조합은 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진, BEMT, MBBT 및 디에틸헥실 부타미도 트리아존으로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 태양광 차단제들의 조합은 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진, 헥실 2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]벤조에이트, BEMT 및 트리스-비페닐 트리아진으로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 태양광 차단제들의 조합은 5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진, BEMT, 트리스-비페닐 트리아진 및 TiO2로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 태양광 차단제들의 조합은 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논, BEMT 및 트리스-비페닐 트리아진으로 이루어진다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 태양광 차단제들의 조합은 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논, BEMT, 트리스-비페닐 트리아진 및 에틸헥실 살리실레이트로 이루어진다.
또한 본 발명은 상기와 같은 조합물을 함유한 특히 피부 및/또는 모발 차광용 국소 조성물에 관한 것이다.
“약학적 또는 화장학적 허용 가능한 부형제”란 조성물 제조, 보전 또는 투여를 위한 임의의 보조제 또는 부형제를 의미한다.
본 발명에 의한 조성물은 더욱 상세하게는 특히 피부 (안면 및/또는 신체) 및/또는 모발을 자외선으로부터 보호하기 위한 선스크린 조성물이다.
또한 본 발명은 피부 (안면 및/또는 신체) 및/또는 모발을 자외선으로부터 보호하는 방법에 관한 것이고 상기 조성물을 피부 (안면 및/또는 신체) 및/또는 모발에 도포하는 단계로 구성된다.
본 발명에 의한 조성물은 지방, 유기용매, 증점제, 연화제, 불투명화제, 안정화제, 완화제, 소포제 수분공급제, 방향제, 보존제, 폴리머, 충전제, 금속이온봉쇄제, 살균제, 악취흡착제, 염기성 또는 산성화제, 계면활성제, 자유-라디칼 제거제, 항산화제, 비타민 E 및 C, 알파-히드록시산 또는 특히 선스크린 조성물 제조용 화장품 또는 약품에 통상 사용되는 임의의 기타 성분들에서 선택되는 통상적인 화장 또는 약학 보조제를 더욱 포함한다.
지방은 오일 또는 왁스 또는 이들의 혼합물로 이루어지고, 지방산, 지방알코올 및 지방산에스테르를 더욱 포함한다. 오일은 동물성, 식물성, 광유 또는 합성오일 및 특히 바세린 오일, 파라핀 오일, 휘발성 또는 비휘발성 실리콘 오일, 이소파라핀, 폴리올레핀 및 불소화 및 과불소화 오일에서 선택된다. 유사하게, 왁스는 동물성, 화석, 식물성 또는 합성 왁스 예컨대 밀랍, 칸델리라 왁스, 카나우바 왁스, 석유 왁스 (또는 미세결정질 왁스), 파라핀, 및 이들의 혼합물에서 선택된다.
조성물은 특히 2 내지 20개의 탄소원자들, 바람직하게는 2 내지 10개의 탄소원자들, 유리하게는 2 내지 6개의 탄소원자들을 가지는 폴리올, 예컨대 글리세린; 글리콜 유도체들 예컨대 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜, 펜틸렌 글리콜, 헥실렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜 및 디에틸렌 글리콜; 글리콜 에테르 예컨대 모노-, 디- 또는 트리-프로필렌 글리콜의 C1-C4 알킬 에테르, 모노-, 디- 또는 트리에틸렌 글리콜의 C1-C4 알킬 에테르 및 이들의 혼합물에서 선택되는 실온 (대략 25°C)에서 수-혼화성인 폴리올을 더욱 포함한다.
조성물은 증점제 또는 유동개질제, 예를들면, 비이온성 에톡시화 소수성 개질 우레탄, 폴리카르복실산 증점제 예컨대 아크릴레이트/스테아레스 20 메타크릴레이트 공중합체, 카보머, 가교화 아크릴레이트 공중합체 및 이들의 혼합물을 더욱 포함한다.
조성물은 상기 조성물의 pH 조절을 위한 산 및 염기를 더욱 포함한다. 염기는 무기 (수산화나트륨, 수산화칼륨, 암모니아, 등) 또는 유기 예컨대 모노-, 디- 또는 트리에탄올아민, 아미노메틸프로판디올, N-메틸글루카민, 염기성 아미노산 예컨대 알기닌 및 리신, 및 이들의 혼합물일 수 있다.
조성물은 피부 컨디셔너를 더욱 포함한다. 예시적 피부 컨디셔너는, 제한되지는 않지만, 음이온성, 양이온성 및 비이온성 계면활성제 예컨대 라우릴황산나트륨, 디옥틸황화숙신산나트륨, 스테아린산나트륨, 소르비탄에스테르, 에톡시화 지방산, 에톡시화 지방알코올 예컨대 트리데세스-9 및 PEG-5 에틸헥사노에이트; 당업자에게 알려진 임의의 기타 유화제 및 분산제 (conditioning agent), 및 이들의 혼합물을 포함한다.
본 발명에 의한 조성물은 특히 수분공급제, 박리제, 장벽기능 개선제, 미백제, 항산화제, 피부 탄력제, 항-당화제, 진피 및/또는 상피 거대분자 합성 자극 및/또는 분해 방지제, 섬유아세포 또는 각질세포 증식 및/또는 각질세포 분화 자극제, NO 생성효소 억제제, 피지선 활성 증가제, 팽창제, 리포-재구성제, 체중감소제, 피부 미소순환 촉진제, 진정제 및/또는 자극성 작용제, 세보-조정제 또는 항-지루성 조제, 수렴제, 상처치료제, 소염제, 항-여드름 조제, 및 이들의 혼합물에서 선택되는 추가 활성제를 더욱 포함한다.
본 발명에 의한 조성물은 특히 피부 및/또는 모발 국소 도포용으로 적합한 임의의 형태로 제공된다. 특히, 지방상을 수상에 분산시켜 획득되는 에멀젼 형태, 예를들면 하나 이상의 수-중-유 또는 유-중-수 에멀젼, 또는 겔 또는 무수 액상, 점착성 (pasty) 또는 고체 생성물 형태, 또는 소구체 존재에서의 분산 형태로 제공될 수 있다. 본 발명에 의한 조성물은 덜 유동성일 수 있고 화이트 또는 유색 크림, 연고, 밀크, 로션, 유액, 페이스트, 마스크, 분말, 고체 스택 또는 선택적으로, 에어로졸, 폼 또는 스프레이일 수 있다. 이들 조성물은 내수성일 수 있다.
조성물의 평가 및 실시예들
토탈 ( total ) UV UVA 광안정도 생체외 평가 방법
A) 재료
- UV 분광광도계:
분광광도계로 표면에 선스크린 조성물 층이 존재하거나 부재하는 플레이트의 분광 투과율을 측정한다.
분광광도계로 290 nm 내지 400 nm 영역을 측정하여야 한다. 측정값 가변성을 줄이고 생성물 층 균일성 결여를 보상하기 위하여, 측정 영역은 적어도 0.5 cm2 정도는 되어야 한다.
이러한 측정에 사용한 분광광도계는 Labsphere® UV-1000S 또는 2000S이다.
- 플레이트:
플레이트는 선스크린 조성물이 도포되는 재료이다. 상기 재료는 UV에 투명, 비-형광성, 광 안정성 및 피험 조성물의 화합물들과 반응하지 않아야 한다. 본 프로토콜에서, 폴리메틸 메타크릴레이트 (PMMA) 플레이트들이 이상적이다.
- UV 광원:
*UV 광원은 가시광선 + UVA + UVB 스펙트럼으로 확산되는 제논 아크 램프의 태양광 시뮬레이터이다. 본 연구에서 사용되는 UV 광원은 Suntest CPS+ (Atlas)이다.
B) 방법:
- 미처리 플레이트에 대한 투과율 측정:
먼저, 대조 플레이트에 대한 UV 투과율을 결정한다. 이는 플레이트 표면이 완전히 덮이도록 글리세린 수 마이크로리터를 분산시켜 준비한다.
- 샘플 도포:
피처리 샘플을 PMMA 플레이트에 1.3 mg/cm2 (플레이트에 잔류하는 실제량)도포하였다. 정확한 양 및 결과 재현성을 보증하기 위하여, 도포 구역은 10 cm²보다 크다.
피처리 샘플을 동일 부피의 다수의 작은 방울들 형태로 플레이트 전체 표면 상에 분포시켜 도포하였다.
생성물의 양이 정확한지를 보증하기 위하여, 생성물 양 확인 방법이 적용된다 (예를들면: 생성물 도포 전후의 플레이트를 계량).
소정량의 샘플을 도포한 후, 전체 플레이트에 가능한 신속하게 (30초 내에) 샘플을 펼친다.
이후 샘플을 실온 암실에 15 분간 정치하여 균질 막 형성을 촉진시킨다.
- 샘플로 처리된 플레이트의 투과율 측정:
샘플로 처리된 플레이트를 분광광도계로 측정하고 샘플 통과 UV 복사선 투과율 평균값을 290 nm 내지 400 nm의 각각의 파장에 대하여 측정하였다 (플레이트의 다른 영역에서 측정된 단색 흡광도 이용).
- 측정 횟수:
각각의 샘플에 대하여 적어도 3개의 PMMA 플레이트들을 준비하여야 한다. 전체 표면 거의 분광광도계로 측정되지 않는 한 각각의 플레이트에 대하여 적어도 상이한 9 영역들에 대하여 측정한다.
C) 광안정도계산 :
5 및 10 MED 선량의 복사선 조사 전후의 흡광도 데이터 A(λ)로부터 생체외 SPF 및 UVA (PPD)를 계산.
Figure pat00001
식 중:
- E(λ)= 홍반 유효 스펙트럼
- S(λ)= 태양광 분광 조도
- A(λ)= 샘플 흡광도
- d λ= 파장 변화 (1 nm)
Figure pat00002
식 중:
-P(λ) = PPD 작용 스펙트럼 (지속형 즉시 흑화)
-I(λ)= 태양광 분광 조도
- A(λ)= 샘플 흡광도
-dλ = 파장 변화 (1 nm)
다음 식들로부터 광안정도 계산:
Figure pat00003
생체외 COLIPA UVA 및 임계 파장 평가 방법:
생체외 COLIPA UVA 및 임계 파장을 COLIPA 방법, 2011.3월 안내서에 따라 결정하였다.
실시예 1:
성분들 %
5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진 4
비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 3
트리스-비페닐 트리아진 5
글리세린 10.0
순수 QSP 100
Na2EDTA 0.1
잔탄검 0.3
C12-C15 알킬 벤조에이트 10.0
옥틸 팔미테이트 5.0
보존제 qs
스테아릴알코올 2.5
글리세롤 모노스테아레이트 2.5
세틸인산칼륨 1.8
결과
측정 변수: 조성물 1
생체외 SPF 66
COLIPA UVA 27.4
임계 파장 nm 378
UVA 광안정도 5 MED 100%
토탈 UV 광안정도 5 MED 100%
실시예 2
성분들 %
5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진 4
비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 3
메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 4
디에틸헥실 부타미도 트리아존 2
글리세린 10.0
순수 QSP 100
Na2EDTA 0.1
잔탄검 0.3
C12-C15 알킬 벤조에이트 10.0
옥틸 팔미테이트 5.0
보존제 qs
스테아릴알코올 2.5
글리세롤 모노스테아레이트 2.5
세틸인산칼륨 1.8
결과
측정 변수: 조성물 2
생체외 SPF 50.6
COLIPA UVA 28.7
임계 파장 nm 380
UVA 광안정도 5 MED 100%
토탈 UV 광안정도 5 MED 100%
실시예 3
성분들 %
5,6,5',6'-테트라페닐-3,3’-(1,4-페닐렌)-비스[1,2,4]트리아진 3
BMDBM 1
비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 3
트리스-비페닐 트리아진 5
글리세린 10.0
순수 QSP 100
Na2EDTA 0.1
잔탄검 0.3
C12-C15 알킬 벤조에이트 10.0
옥틸 팔미테이트 5.0
보존제 qs
스테아릴알코올 2.5
글리세롤 모노스테아레이트 2.5
세틸인산칼륨 1.8
결과
측정 변수: 조성물 3
생체외 SPF 86.3
COLIPA UVA 31.2
임계 파장 nm 378
UVA 광안정도 5 MED 93%
토탈 UV 광안정도 5 MED 100%
실시예 4
성분들 %
1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논 2.5
비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진 4
트리스-비페닐 트리아진 5
글리세린 10.0
순수 QSP 100
Na2EDTA 0.1
잔탄검 0.3
C12-C15 알킬 벤조에이트 10.0
옥틸 팔미테이트 5.0
보존제 qs
스테아릴알코올 2.5
글리세롤 모노스테아레이트 2.5
세틸인산칼륨 1.8

Claims (16)

  1. 3 또는 4종의 아래 태양광 차단제들로만 이루어진 조합물 및 하나 이상의 부형제를 함유하는 국소적 선스크린 조성물.
    - 임계 파장 > 370 nm을 달성하기 위하여,
    i. 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논, 및
    ii. 상기 조성물 총 중량 기준으로 2중량% 미만의 부틸 메톡시디벤조일메탄 (BMDBM)에서 선택되는 하나 또는 둘의 UVA 차단제, 단, 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논은 반드시 존재하고,
    - 2,4-비스[4-(2-에틸헥실옥시)-2-히드록시페닐]-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진 (BEMT),
    - 디에틸헥실 부타미도 트리아존, 에틸헥실 트리아존, 상기 조성물 총 중량 기준으로 3 중량% 내지 7 중량%의 트리스-비페닐 트리아진, 에틸헥실 살리실레이트, 페닐벤지미다졸 술폰산 및 TiO2에서 선택되는 하나 또는 둘의 UVB 차단제, 및
    - 선택적으로, 광범위 스펙트럼 태양광 차단제인 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 (MBBT).
  2. 제1항에 있어서, 상기 태양광 차단제들의 조합물에서 모든 화합물들 함량은 상기 조성물의 총 중량 기준으로 20% 미만인, 국소적 선스크린 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 하나의 UVA 태양광 차단제를 함유하는, 국소적 선스크린 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논의 함량은 상기 조성물 총 중량에 대하여 1 중량% 내지 5 중량%로 이루어지는, 국소적 선스크린 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 BEMT의 함량은 상기 조성물 총 중량에 대하여 1 중량% 내지 4 중량%로 이루어지는, 국소적 선스크린 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 디에틸헥실 부타미도 트리아존의 함량은 상기 조성물 총 중량에 대하여 1 중량% 내지 5 중량%로 이루어지는, 국소적 선스크린 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 상기 에틸헥실 트리아존의 함량은 상기 조성물 총 중량에 대하여 1 중량% 내지 5 중량%로 이루어지는, 국소적 선스크린 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 상기 TiO2의 함량은 상기 조성물 총 중량에 대하여 1 중량% 내지 10 중량%로 이루어지는, 국소적 선스크린 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 광범위 스펙트럼 태양광 차단제인 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀 (MBBT)을 더욱 포함하는, 국소적 선스크린 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 상기 태양광 차단제들의 조합물은 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논, BEMT 및 트리스-비페닐 트리아진로 이루어지는, 국소적 선스크린 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 상기 태양광 차단제들의 조합물은 1,1'-(1,4-피페라진디일)비스[1-[2-[4-(디에틸아미노)-2-히드록시벤조일]페닐]-메타논, BEMT, 트리스-비페닐 트리아진 및 에틸헥실 살리실레이트로 이루어지는, 국소적 선스크린 조성물.
  12. 제1항에 있어서, 총 3종의 태양광 차단제들을 함유하는, 국소적 선스크린 조성물.
  13. 제1항에 있어서, 총 4종의 태양광 차단제들을 함유하는, 국소적 선스크린 조성물.
  14. 제1항에 있어서, 차광제 (photoprotective agent)로 사용되는, 국소적 선스크린 조성물.
  15. 제1항에 있어서, 상기 태양광 차단제들의 조합물에서 모든 화합물들 함량은 상기 조성물의 총 중량 기준으로 16% 미만인, 국소적 선스크린 조성물.
  16. 제1항에 있어서, 상기 태양광 차단제들의 조합물에서 모든 화합물들 함량은 상기 조성물의 총 중량 기준으로 14% 미만인, 국소적 선스크린 조성물.
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