KR20190104625A - Resin composition, the manufacturing method of resin composition, and structure - Google Patents

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Abstract

간이적인 방법으로 도전 입자를 분산시킬 수 있어, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 있는 이방성 도전 접착제, 이방성 도전 접착제의 제조 방법, 및 접속 구조체를 제공한다. 이방성 도전 접착제는, 절연성 필러에 의해 도전 입자의 표면의 일부가 피복된 피복 도전 입자와, 절연성 필러와, 절연성 바인더를 함유하고, 절연성 바인더 중에 피복 도전 입자가 분산되어 있고, 도전 입자의 입자경이 7 ㎛ 이상이고, 상기 절연성 필러의 입자경이 상기 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 이고, 상기 도전 입자에 대한 상기 절연성 필러의 양이 0.78 ∼ 77 체적% 이다.An anisotropic conductive adhesive which can disperse | distribute electroconductive particle by a simple method, and can suppress the short between the electrode terminals of an electronic component, the manufacturing method of an anisotropic conductive adhesive, and a bonded structure are provided. The anisotropic conductive adhesive contains coated conductive particles covered with a part of the surface of the conductive particles by an insulating filler, an insulating filler and an insulating binder, and the coated conductive particles are dispersed in the insulating binder, and the particle diameter of the conductive particles is 7 It is micrometer or more, the particle diameter of the said insulating filler is 0.02 to 0.143% of the particle diameter of the said electroconductive particle, and the quantity of the said insulating filler with respect to the said electroconductive particle is 0.78 to 77 volume%.

Description

수지 조성물, 수지 조성물의 제조 방법, 및 구조체Resin composition, the manufacturing method of resin composition, and structure

본 기술은, 수지 조성물, 수지 조성물의 제조 방법, 및 구조체에 관한 것이다. 본 출원은, 일본에 있어서 2017년 3월 6일에 출원된 일본 특허출원 번호 특원2017-042220호를 기초로 하여 우선권을 주장하는 것으로서, 이 출원은 참조됨으로써, 본 출원에 원용된다.This technology relates to a resin composition, the manufacturing method of a resin composition, and a structure. This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2017-042220 for which it applied on March 6, 2017 in Japan, and this application is integrated in this application by reference.

입자를 함유하는 수지 조성물에 있어서, 입자에는 응집에 의한 성능 저하 등의 다양한 요인에 의해, 높은 분산성이 요구된다 (예를 들어 특허문헌 1 을 참조). 이것은, 특히 전자 부품용 수지 조성물, 전자 부품용 접착제 등에 있어서 강하게 요구된다. 입자의 분산성이 낮은 경우, 수지 조성물의 품질 안정성을 유지하는 것은 곤란하기 때문이다.In the resin composition containing particle | grains, high dispersibility is calculated | required by particle | grains by various factors, such as the performance fall by aggregation (for example, refer patent document 1). This is especially strongly demanded in resin compositions for electronic parts, adhesives for electronic parts, and the like. This is because it is difficult to maintain the quality stability of the resin composition when the dispersibility of the particles is low.

전자 부품용 접착제의 일례로서, 회로 접속 재료가 있으며, 그 중의 이방성 도전 접착제는, 일반적으로, 절연성 바인더 중에 도전 입자가 분산된 것이 사용된다 (예를 들어 특허문헌 2 ∼ 4 를 참조). 그런데, 이방성 도전 접착제 중의 도전 입자는, 제조 직후에는 분산되어 있더라도, 응집되는 경우가 있다. 도전 입자의 응집은, 도전 입자 포착 효율의 저하, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트 발생 등의 요인이 된다. 그 때문에, 도전 입자의 표면에 미리 절연 피막을 형성하는 경우가 있다 (예를 들어 특허문헌 2 를 참조).As an example of the adhesive agent for electronic components, there exists a circuit connection material, The thing in which the electroconductive particle disperse | distributed in the insulating binder is generally used (for example, refer patent documents 2-4). By the way, the electrically-conductive particle in an anisotropic conductive adhesive may aggregate although it is disperse | distributed immediately after manufacture. Aggregation of electroconductive particle becomes a factor, such as a fall of the electroconductive particle trapping efficiency and the short generation between the electrode terminals of an electronic component. Therefore, an insulating film may be previously formed in the surface of electroconductive particle (for example, refer patent document 2).

그러나, 도전 입자의 표면에 절연 피막을 형성하면, 제조 비용이 증가하는 경향이 있다. 특히, 도전 입자의 입자경이 커질수록, 도전 입자의 표면적도 커지고, 도전 입자의 표면에 절연 피막을 형성하기 위한 기술적 난이도도 높아져, 제조 비용이 보다 증가하는 경향이 있다. 그 때문에, 도전 입자의 입자경이 큰 경우라도, 간이적인 방법으로 도전 입자를 균일하게 분산시켜, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제하는 것이 요구되고 있다.However, when an insulating film is formed on the surface of electroconductive particle, there exists a tendency for manufacturing cost to increase. In particular, the larger the particle diameter of the conductive particles, the larger the surface area of the conductive particles, the higher the technical difficulty for forming an insulating film on the surface of the conductive particles, and the more the production cost tends to increase. Therefore, even when the particle diameter of electroconductive particle is large, it is calculated | required to disperse | distribute electroconductive particle uniformly by a simple method and to suppress the short between the electrode terminals of an electronic component.

또, 절연성 바인더 중에 분산시키는 입자의 입자경이 작은 경우라도, 균일하게 분산시키는 것이 요구되고 있다.Moreover, even when the particle diameter of the particle | grains disperse | distributed in an insulating binder is small, it is calculated | required to disperse | distribute uniformly.

일본 공개특허공보 2015-134887호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-134887 일본 공개특허공보 2015-133301호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-133301 일본 공개특허공보 2014-241281호Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-241281 일본 공개특허공보 평11-148063호Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-148063

또, 본 기술은, 이와 같은 종래의 실정을 감안하여 제안된 것으로서, 간편한 수법에 의해 입자를 균일하게 분산시킬 수 있는 수지 조성물, 수지 조성물의 제조 방법, 및 구조체를 제공한다.Moreover, this technology is proposed in view of such a conventional situation, and provides the resin composition, the manufacturing method of a resin composition, and a structure which can disperse | distribute a particle uniformly by a simple method.

또, 이방성 도전 접착제인 경우에 있어서는, 도전 입자의 입자경이 큰 경우라도, 간이적인 방법으로 도전 입자를 균일하게 분산시킬 수 있어, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 있는 이방성 도전 접착제, 이방성 도전 접착제의 제조 방법, 및 접속 구조체를 제공한다.In the case of an anisotropic conductive adhesive, even when the particle diameter of the conductive particles is large, the anisotropic conductive adhesive can uniformly disperse the conductive particles by a simple method and can suppress the short between the electrode terminals of the electronic component. The manufacturing method of an anisotropic conductive adhesive, and a bonded structure are provided.

본 기술에 관련된 수지 조성물은, 소입자경 필러에 의해 대경 (大徑) 입자의 표면의 일부가 피복된 피복 대경 입자와, 소입자경 필러와, 절연성 바인더를 함유하고, 상기 피복 대경 입자는 분산되어 이루어지고, 상기 대경 입자의 입자경이 2 ㎛ 이상이고, 상기 소입자경 필러의 입자경이 상기 대경 입자의 입자경의 0.02 ∼ 5.0 % 이고, 상기 대경 입자에 대한 상기 소입자경 필러의 양이 156 체적% 미만이다.The resin composition which concerns on this technique contains the coated large diameter particle | grains by which one part of the surface of large diameter particle was coat | covered with the small particle diameter filler, the small particle diameter filler, and an insulating binder, and the said coated large diameter particle | grains is made to disperse | distribute The particle size of the large-diameter particles is 2 µm or more, the particle size of the small-diameter filler is 0.02 to 5.0% of the particle diameter of the large-diameter particles, and the amount of the small-diameter filler to the large-diameter particles is less than 156 volume%.

본 기술에 관련된 수지 조성물의 제조 방법은, 평균 입경이 2 ㎛ 이상인 대경 입자와, 입자경이 상기 대경 입자의 입자경의 0.02 ∼ 5.0 % 인 소입자경 필러를 교반함으로써, 상기 소입자경 필러에 의해 상기 대경 입자가 피복된 제 1 피복 입자를 얻는 공정 (A) 와, 상기 제 1 피복 입자와 절연성 바인더를 교반함으로써, 상기 소입자경 필러에 의해 상기 대경 입자의 표면의 일부가 피복된 제 2 피복 입자가, 상기 절연성 바인더 중에 분산된 수지 조성물을 얻는 공정 (B) 를 갖고, 상기 공정 (A) 에서는, 상기 대경 입자에 대한 상기 소입자경 필러의 양이 156 체적% 미만이 되도록 상기 대경 입자와 상기 소입자경 필러를 배합한다. 또한, 본 발명에서 입자, 필러로 표현을 구분하여 사용하고 있는 것은, 크기가 다른 것을 알기 쉽게 하기 위해서이다.The manufacturing method of the resin composition which concerns on this technique is the said large diameter particle by the said small particle diameter filler by stirring the large diameter particle whose average particle diameter is 2 micrometers or more, and the small particle diameter filler whose particle diameter is 0.02-5.0% of the particle diameter of the said large diameter particle. Step (A) of obtaining the first coated particle coated with a thin layer and the second coated particle having a part of the surface of the large diameter particle covered by the small particle diameter filler are stirred by stirring the first coated particle and the insulating binder. It has a process (B) which obtains the resin composition disperse | distributed in an insulating binder, In the said process (A), the said large diameter particle | grains and the said small particle diameter filler are made so that the quantity of the said small particle diameter filler with respect to the said large diameter particle | grains may be less than 156 volume%. Blend. In addition, in this invention, the expression is distinguished and used for particle | grains and a filler in order to make it easy to understand that a size differs.

본 기술에 관련된 이방성 도전 접착제는, 절연성 필러에 의해 도전 입자의 표면의 일부가 피복된 피복 도전 입자와, 절연성 필러와, 절연성 바인더를 함유하고, 상기 절연성 바인더 중에 상기 피복 도전 입자가 분산되어 있고, 상기 도전 입자의 입자경이 7 ㎛ 이상이고, 상기 절연성 필러의 입자경이 상기 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 이고, 상기 도전 입자에 대한 상기 절연성 필러의 양이 0.78 ∼ 77 체적% 이다.The anisotropic conductive adhesive according to the present technology includes coated conductive particles covered with a part of the surface of the conductive particles by an insulating filler, an insulating filler, and an insulating binder, wherein the coated conductive particles are dispersed in the insulating binder, The particle diameter of the said electroconductive particle is 7 micrometers or more, the particle diameter of the said insulating filler is 0.02 to 0.143% of the particle diameter of the said electroconductive particle, and the quantity of the said insulating filler with respect to the said electroconductive particle is 0.78-77 volume%.

본 기술에 관련된 이방성 도전 접착제의 제조 방법은, 평균 입경이 7 ㎛ 이상인 도전 입자와, 입자경이 상기 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 인 절연성 필러를 교반함으로써, 상기 절연성 필러에 의해 상기 도전 입자가 피복된 제 1 피복 도전 입자를 얻는 공정 (A) 와, 상기 제 1 피복 도전 입자와 절연성 바인더를 교반함으로써, 상기 절연성 필러에 의해 상기 도전 입자의 표면의 일부가 피복된 제 2 피복 도전 입자가, 상기 절연성 바인더 중에 분산된 이방성 도전 접착제를 얻는 공정 (B) 를 갖고, 상기 공정 (A) 에서는, 상기 도전 입자에 대한 상기 절연성 필러의 양이 0.78 ∼ 77 체적% 가 되도록 상기 도전 입자와 상기 절연성 필러를 배합한다.In the method for producing an anisotropic conductive adhesive according to the present technology, the conductive particles are formed by the insulating filler by stirring conductive particles having an average particle diameter of 7 µm or more and an insulating filler having a particle diameter of 0.02 to 0.143% of the particle diameter of the conductive particles. By agitation of the step (A) of obtaining the coated first coated conductive particles and the first coated conductive particles and the insulating binder, the second coated conductive particles coated with a portion of the surface of the conductive particles by the insulating filler, It has a process (B) of obtaining the anisotropic conductive adhesive dispersed in the said insulating binder, In the said process (A), the said electroconductive particle and the said insulating filler so that the quantity of the said insulating filler with respect to the said electroconductive particle may be 0.78-77 volume%. Compound.

본 기술에 관련된 접속 구조체는, 상기 이방성 도전 접착제로 이루어지는 이방성 도전 필름을 개재하여, 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품이 접속된 것이다.In the bonded structure according to the present technology, the first electronic component and the second electronic component are connected via an anisotropic conductive film made of the anisotropic conductive adhesive.

본 기술에 의하면, 대경 입자의 표면의 일부가 소입자경 필러에 의해 피복된 일부 피복 입자를 형성함으로써, 대경 입자를 균일하게 분산시킬 수 있다.According to the present technology, by forming a portion of the surface of the large-diameter particles covered with the small-diameter filler, the large-diameter particles can be uniformly dispersed.

본 기술에 의하면, 도전 입자의 입자경이 큰 경우라도, 간이적인 방법으로 도전 입자 (절연성 필러에 의해 도전 입자의 표면의 일부가 피복된 피복 도전 입자) 를 균일하게 분산시킬 수 있어, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 있다.According to the present technology, even when the particle diameter of the conductive particles is large, the conductive particles (coated conductive particles covered with a part of the surface of the conductive particles by the insulating filler) can be uniformly dispersed by the simple method, and the electrode of the electronic component Short between terminals can be suppressed.

도 1 은 본 실시형태에 관련된 접속 구조체의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 2 는 도전 입자와 절연성 필러를 교반함으로써 얻어진 혼합물의 일례를 나타내는 도면이다.
도 3 은 절연성 필러로 피복된 피복 도전 입자와, 절연성 바인더를 교반함으로써 얻어진 이방성 도전 접착제의 일례를 나타내는 도면이다.
도 4 는 절연성 필러로 피복되어 있지 않은 도전 입자를 나타내는 도면이다.
도 5 는 절연성 필러로 피복되어 있지 않은 도전 입자와, 절연성 바인더를 교반함으로써 얻어진 이방성 도전 접착제의 일례를 나타내는 도면이다.
도 6 은 도전 입자와 절연성 필러를 교반함으로써 얻어진 혼합물의 일례를 나타내는 도면이다.
도 7 은 본 기술을 적용시킨 일부 피복 입자의 제 1 예를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 8 은 본 기술을 적용시킨 일부 피복 입자의 제 2 예를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
도 9 는 본 기술을 적용시킨 일부 피복 입자의 제 3 예를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
1 is a cross-sectional view showing an example of a bonded structure according to the present embodiment.
It is a figure which shows an example of the mixture obtained by stirring electroconductive particle and an insulating filler.
It is a figure which shows an example of the anisotropic conductive adhesive obtained by stirring the coating electroconductive particle coated with the insulating filler, and an insulating binder.
It is a figure which shows the electroconductive particle not coat | covered with an insulating filler.
It is a figure which shows an example of the anisotropic conductive adhesive obtained by stirring electrically conductive particle which is not coat | covered with an insulating filler, and an insulating binder.
It is a figure which shows an example of the mixture obtained by stirring electroconductive particle and an insulating filler.
7 is a cross-sectional view schematically showing a first example of some coated particles to which the present technology is applied.
8 is a cross-sectional view schematically showing a second example of some coated particles to which the present technology is applied.
9 is a cross-sectional view schematically showing a third example of some coated particles to which the present technology is applied.

본 기술은, 대경 입자의 표면의 일부가 소입자경 필러에 의해 피복된 일부 피복 입자를 형성함으로써, 절연성 바인더 중의 대경 입자의 분산성을 향상시키는 것이다. 한편, 대경 입자의 표면의 전부가 소입자경 필러에 의해 피복되어 있는 경우, 대경 입자에 대한 소입자경 필러의 양이 지나치게 많아져, 절연성 바인더 중의 대경 입자의 분산성이 저하되는 경향이 있다.This technique improves the dispersibility of the large diameter particle in an insulating binder by forming some coating particle | grains in which one part of the surface of large diameter particle was coat | covered with the small particle diameter filler. On the other hand, when the whole surface of large diameter particle | grains is coat | covered with the small particle diameter filler, the quantity of the small particle diameter filler with respect to large diameter particle | grains becomes large too much, and there exists a tendency for the dispersibility of the large diameter particle in an insulating binder to fall.

일부 피복 입자는, 대경 입자와 소입자경 필러의 분말을 혼합하고 (바람직하게는 이것들만으로 혼합하는 것이 바람직하다), 대경 입자의 표면에 소입자경 필러를 피복시킨 후, 이 혼합물을 수지 조성물과 혼합 (혼련) 시킴으로써, 대경 입자의 표면을 피복하는 일부의 소입자경 필러를 박리함으로써 얻을 수 있다. 역설적으로 말하면, 일부 피복 입자가 형성되어 있으면, 대경 입자에 대한 소입자경 필러의 양이 적당량으로서, 절연성 바인더 중의 대경 입자의 분산성이 높다고도 할 수 있다. 이것은 예를 들어 유성 교반 장치 등을 사용하여, 높은 시어 (전단력) 를 가하여 실시함으로써, 대경 입자 표면에 대한 소입자경 필러의 피복과 일부 박리를 효율적으로 실시할 수 있다.Some coated particles mix (preferably only mix them) the powder of the large-diameter particles and the small-diameter filler, coat the small-diameter filler on the surface of the large-diameter particles, and then mix the mixture with the resin composition ( By kneading), thereby removing some of the small particle size fillers covering the surface of the large diameter particles. Paradoxically speaking, if some coated particles are formed, the amount of the small particle diameter filler to the large diameter particles is an appropriate amount, and it can be said that the dispersibility of the large diameter particles in the insulating binder is high. This can be carried out by applying a high shear (shear force) using, for example, an planetary stirring device or the like, to efficiently coat and partially peel the small particle diameter filler to the surface of the large diameter particles.

이하, 제 1 실시형태에 대해 설명한다.Hereinafter, 1st Embodiment is described.

[제 1 실시형태][First embodiment]

<수지 조성물><Resin composition>

본 실시형태에 관련된 수지 조성물은, 소입자경 필러에 의해 대경 입자의 표면의 일부가 피복된 일부 피복 입자와, 소입자경 필러와, 절연성 바인더를 함유하고, 일부 피복 입자는 분산되어 이루어지고, 대경 입자의 입자경이 2 ㎛ 이상이고, 소입자경 필러의 입자경이 대경 입자의 입자경의 0.02 ∼ 5.0 % 이고, 대경 입자에 대한 소입자경 필러의 양이 156 체적% 미만이다. 또한, 이와 같은 0.02 ∼ 5.0 % 라는 표기는, 특별히 언급이 없으면 0.02 % 이상 5.0 % 이하를 가리킨다.The resin composition which concerns on this embodiment contains some coating particle | grains by which a part of the surface of the large diameter particle was coat | covered with the small particle diameter filler, the small particle diameter filler, and an insulating binder, and some coating particle is disperse | distributed and a large diameter particle The particle diameter of is 2 micrometers or more, the particle diameter of a small particle diameter filler is 0.02 to 5.0% of the particle diameter of a large diameter particle, and the quantity of the small particle diameter filler with respect to a large diameter particle is less than 156 volume%. In addition, such description as 0.02-5.0% points out 0.02% or more and 5.0% or less unless there is particular notice.

본 명세서에 있어서, 대경 입자의 입자경은, 화상형 입도 분포계 (일례로서, FPIA-3000 : 말번사 제조) 에 의해 측정한 값으로 할 수 있다. 이 개수는 1000 개 이상, 바람직하게는 2000 개 이상인 것이 바람직하다. 또, 소입자경 필러의 입자경은, 예를 들어, 전자 현미경 관찰하여, 임의의 100 개의 평균값으로 할 수 있고, 200 개 이상으로 함으로써 보다 정밀도를 높일 수도 있다.In this specification, the particle diameter of large diameter particle | grains can be made into the value measured by the image type particle size distribution meter (for example, FPIA-3000: Malvern company make). This number is 1000 or more, Preferably it is 2000 or more. Moreover, the particle diameter of a small particle diameter filler can be made into arbitrary 100 average values, for example by electron microscope observation, and can also raise a precision more by setting it as 200 or more.

또, 대경 입자에 대한 소입자경 필러의 양 (체적%) 은, 다음 식에 의해 구한 값으로 할 수 있다.In addition, the quantity (volume%) of the small particle diameter filler with respect to a large diameter particle | grain can be made into the value calculated | required by following Formula.

대경 입자 (A) 에 대한 소입자경 필러 (B) 의 양 (체적%)Amount (volume%) of small particle diameter filler (B) with respect to large diameter particle (A)

= {(Bw/Bd)/(Aw/Ad)} × 100= {(Bw / Bd) / (Aw / Ad)} × 100

Aw : 대경 입자 (A) 의 질량 조성 (질량%)Aw: Mass composition (mass%) of large diameter particle (A)

Bw : 소입자경 필러 (B) 의 질량 조성 (질량%)Bw: Mass composition (mass%) of small particle diameter filler (B)

Ad : 대경 입자 (A) 의 비중Ad: specific gravity of large diameter particles (A)

Bd : 소입자경 필러 (B) 의 비중Bd: specific gravity of small particle filler (B)

도 7 ∼ 도 9 는 각각 본 기술을 적용시킨 일부 피복 입자의 제 1 ∼ 제 3 예를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 도 7 ∼ 도 9 에 나타내는 바와 같이, 일부 피복 입자 (20) 는, 소입자경 필러에 의해 대경 입자 (21) 의 표면의 일부가 피복되어 있다. 바꿔 말하면, 일부 피복 입자 (20) 는, 그 표면에, 소입자경 필러에 의해 피복된 피복부 (22) 와, 대경 입자의 표면이 노출된 노출부 (23) 를 갖는다. 일부 피복 입자 (20) 는, 예를 들어 도 7 에 나타내는 바와 같이 노출부 (23) 가 표면에 전체적으로 군데군데 있어도 되고, 도 8 에 나타내는 바와 같이 노출부 (23) 가 일부에 있어도 되고, 도 9 에 나타내는 바와 같이 노출부 (23) 가 전체의 절반 이상 있어도 된다. 본 방식으로 얻어진 일부 피복된 대경 입자의 분산성을 간이하게 얻는 것을 제 1 목적으로 하고 있기 때문으로, 피복 상태에 따라 대경 입자의 성능을 얻는 것을 우선시키고 있기 때문은 아니기 때문이다.7-9 is sectional drawing which shows typically the 1st-3rd example of the some coating particle to which this technique was applied, respectively. As shown in FIGS. 7-9, some coated particle 20 is coat | covered a part of surface of the large diameter particle 21 by the small particle diameter filler. In other words, some coated particle 20 has the coating part 22 coat | covered with the small particle diameter filler on the surface, and the exposed part 23 which the surface of the large diameter particle was exposed. For example, as for the some covered particle 20, as shown in FIG. 7, the exposed part 23 may be located in the whole surface, and as shown in FIG. 8, the exposed part 23 may exist in a part, and FIG. As shown in the figure, the exposed portion 23 may be half or more of the whole. This is because the first object is to easily obtain the dispersibility of some of the coated large diameter particles obtained by the present method, and it is not because priority is given to the performance of the large diameter particles depending on the coating state.

일부 피복 입자 (20) 는, 수지 조성물을 필름상으로 한 후, 전자 현미경 등에 의한 면 시야 관찰에 있어서, 일부 피복을 확인할 수 있으면 된다. 이것은, 관찰 지점을 복수 회 변경하여 동일한 결과가 얻어지는 것이 바람직하다. 상세하게 확인하는 경우에는, 일부 피복 입자 (20) 단면에 있어서, 적어도 최외표면의 일부가 피복되어 있는 것을 확인할 수 있으면 된다. 또한, 관찰하는 필름체의 표리면에서 동일 지점을 관측함으로써, 보다 정밀하게 또한 간편하게 확인할 수 있다. 이 수법이면, 대경 입자의 일부 피복 유무의 판정만으로 판별할 수 있다. 박리된 소입자경 필러와 대경 입자가 중첩되어 있는 경우의 판정은, 초점 거리의 조정으로부터 개별적으로 판정하는 것도 가능하다고 생각한다.Some coating particle | grains 20 should just be able to confirm some coating | cover in surface view observation by an electron microscope etc. after making a resin composition into a film form. This preferably changes the observation point a plurality of times to obtain the same result. When confirming in detail, what is necessary is just to be able to confirm that at least one part of outermost surface is coat | covered in the cross section of some covered particles 20. Moreover, by observing the same point in the front and back of the film body to observe, it can confirm more precisely and simply. According to this method, it can discriminate | determine only by determination of the presence or absence of partial coating of large diameter particle | grains. The determination in the case where the peeled small particle diameter filler and the large diameter particle overlap is considered to be possible to determine individually from adjustment of a focal length.

일부 피복 입자 (20) 에 있어서의 피복부 (22) 의 비율은, 예를 들어, 상기 서술한 수지 조성물을 필름상으로 한 후, 전자 현미경 등에 의한 면 시야 관찰에 의해 확인할 수도 있다. 혹은, 수지 조성물을 경화 혹은 동결시켜, 임의의 100 개의 일부 피복 입자 단면의 최외표면을 전자 현미경 관찰하여, 임의의 100 개의 일부 피복 입자의 피복부의 비율의 평균값으로 할 수 있다. 이와 같은 일부 피복 입자의 피복부의 비율의 평균값은, 예를 들어 15 % 이상 100 % 미만이면 되고, 30 ∼ 95 % 여도 된다.The ratio of the coating | coated part 22 in some coating particle | grains 20 can also be confirmed by surface view observation by an electron microscope etc., for example, after making the above-mentioned resin composition into a film form. Or the resin composition can be hardened or frozen, and the outermost surface of arbitrary 100 partial coverage particle cross sections can be observed under an electron microscope, and can be made into the average value of the ratio of the coating part of arbitrary 100 partial coverage particles. The average value of the ratio of the coating | coated part of such some coating particle | grains may be 15% or more and less than 100%, for example, and may be 30 to 95%.

또, 일부 피복 입자 (20) 의 개수 비율은, 전부 피복 입자 및 일부 피복 입자의 전체에 대하여, 70 % 이상, 바람직하게는 80 % 이상, 보다 바람직하게는 95 % 이상이다. 일부 피복 입자 (20) 의 개수 비율은, 예를 들어, 수지 조성물을 경화 혹은 동결시켜, 임의의 100 개의 전부 피복 입자 및 일부 피복 입자를 전자 현미경 관찰하여, 임의의 100 개의 전부 피복 입자 및 일부 피복 입자에 대한 일부 피복 입자의 개수로 할 수 있다.Moreover, the number ratio of the some covered particle 20 is 70% or more, Preferably it is 80% or more, More preferably, it is 95% or more with respect to the whole of all the covered particle | grains and some covered particle | grains. The number ratio of some of the coated particles 20 is, for example, by curing or freezing the resin composition, electron microscope observation of any 100 of all the coated particles and some of the coated particles, and any 100 of all the coated particles and some of the coating. It may be set as the number of some coated particles to the particles.

대경 입자는, 특별히 한정되지 않으며, 수지 조성물의 기능에 따라 재질이 적절히 선택된다. 예를 들어, 수지 조성물에 도전성을 부여하는 경우, 예를 들어, 도전 입자, 금속 입자 등이 선택되고, 또, 수지 조성물에 스페이서 기능을 부여하는 경우, 예를 들어, 아크릴 고무, 스티렌 고무, 스티렌올레핀 고무, 실리콘 고무 등이 선택된다. 이것은 소입자경 필러와의 조합에서 피복 및 일부 피복이 발생하면 특별히 한정은 없으며, 유기물이어도 되고, 무기물이어도 되고, 또 금속 도금 수지 입자와 같이 유기물과 무기물을 조합한 것이어도 된다. 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다. 1 종 단독이면 분산성의 평가는 용이해진다. 2 종 이상인 경우에는, 외관이 명확하게 상이한 것인 것이 동일한 이유에서 바람직하다.A large diameter particle | grain is not specifically limited, A material is suitably selected according to the function of a resin composition. For example, when giving electroconductivity to a resin composition, for example, electroconductive particle, metal particle, etc. are selected, and when giving a spacer function to a resin composition, For example, acrylic rubber, styrene rubber, styrene Olefin rubber, silicone rubber and the like are selected. If coating and partial coating occur in combination with a small particle diameter filler, there is no limitation in particular, It may be an organic substance, an inorganic substance, and may combine the organic substance and inorganic substance like metal plating resin particle. You may use individually by 1 type and may use 2 or more types together. Evaluation of dispersibility becomes easy if it is single 1 type. When it is 2 or more types, it is preferable for the same reason that an external appearance differs clearly.

대경 입자의 입자경은, 2 ㎛ 이상이다. 또, 대경 입자의 입자경의 상한은, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 대경 입자가 도전 입자인 경우, 접속 구조체에 있어서의 도전 입자의 포착 효율의 관점에서, 예를 들어 50 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 20 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다.The particle diameter of large diameter particle | grains is 2 micrometers or more. Moreover, the upper limit of the particle diameter of large diameter particle | grains is not specifically limited, For example, when large diameter particle | grains are electroconductive particle, it is preferable that it is 50 micrometers or less from a viewpoint of the trapping efficiency of the electroconductive particle in a bonded structure, for example, It is more preferable that it is 20 micrometers or less.

수지 조성물 내의 대경 입자의 개수 밀도는, 목적에 따라 적절히 조정할 수 있지만, 하한으로는 20 개/㎟ 이상인 것이 바람직하고, 100 개/㎟ 이상인 것이 보다 바람직하고, 150 개/㎟ 이상인 것이 보다 더 바람직하다. 지나치게 적은 경우, 소입자경 필러와의 비율에 있어서의 조정 마진이 적어져, 재현성이 곤란해지기 때문이다. 또, 상한은 80000 개/㎟ 이하인 것이 바람직하고, 70000 개/㎟ 이하인 것이 보다 바람직하고, 65000 개/㎟ 이하인 것이 보다 더 바람직하다. 대경 입자의 개수 밀도가 지나치게 커지면, 소입자경 필러의 피복이나 수지 조성물과의 혼합이 곤란해진다. 개수 밀도는 지지체의 평활면에 필름상으로 형성하고, 면 시야에 있어서의 관찰로부터 구할 수 있다. 이 때의 두께는, 대경 입자의 1.3 배 이상 혹은 10 ㎛ 이상, 상한은 대경 입자의 4 배 이하, 바람직하게는 2 배 이하 혹은 40 ㎛ 이하로 할 수 있다. 이 두께는 수지 조성물에서 유래하기 때문에, 일의적으로 정하는 것은 어려우므로, 이와 같이 범위를 설정하고 있다. 면 시야 관찰은 금속 현미경, SEM 등의 전자 현미경을 사용할 수 있다. 관찰 화상으로부터 개개의 대경 입자를 계측하여 구해도 되고, 공지된 화상 해석 소프트웨어 (일례로서, WinROOF (미타니 상사 주식회사) 를 들 수 있다) 를 사용하여 계측해도 된다. 수지 조성물의 경우에는 필름상으로 한 경우의 두께에 따라 변동되기 때문에, 대경 입자의 1.3 배 혹은 4 배의 두께로 한 면 시야 개수 밀도로 정할 수 있다. 또한, 용매를 함유하고 있는 경우에는 건조 후의 두께로 한다.Although the number density of the large diameter particle | grains in a resin composition can be suitably adjusted according to the objective, it is preferable that it is 20 pieces / mm <2> or more as a minimum, It is more preferable that it is 100 pieces / mm <2> or more, It is still more preferable that it is 150 pieces / mm <2> or more. . When too small, the adjustment margin in the ratio with a small particle diameter filler decreases, and reproducibility becomes difficult. Moreover, it is preferable that an upper limit is 80000 piece / mm <2> or less, It is more preferable that it is 70000 piece / mm <2> or less, It is still more preferable that it is 65000 piece / mm <2> or less. When the number density of large diameter particle | grains becomes large too much, coating | coating of a small particle diameter filler and mixing with a resin composition will become difficult. The number density is formed in the film form on the smooth surface of a support body, and can be calculated | required from observation in a surface view. The thickness at this time may be 1.3 times or more or 10 micrometers or more of large diameter particles, and an upper limit may be 4 times or less, preferably 2 times or less or 40 micrometers or less of large diameter particles. Since this thickness originates from a resin composition, since it is difficult to determine uniquely, it sets the range in this way. Surface-view observation can use electron microscopes, such as a metal microscope and SEM. Each large diameter particle may be measured and obtained from an observation image, and you may measure using well-known image analysis software (for example, WinROOF (Mitani Corporation) is mentioned). In the case of a resin composition, since it changes with the thickness at the time of making it into a film form, it can be set as the surface field number density by 1.3 times or 4 times the thickness of large diameter particle | grains. In addition, when it contains a solvent, it is set as the thickness after drying.

소입자경 필러는, 그 대부분이 절연성 바인더 중에 분산되어 있고, 일부가 대경 입자의 표면의 일부를 피복한다. 소입자경 필러로는, 절연성 필러를 사용할 수 있다. 절연성 필러로는, 예를 들어, 산화티탄, 산화알루미늄, 실리카, 산화칼슘, 산화마그네슘 등의 산화물, 수산화칼슘, 수산화마그네슘, 수산화알루미늄 등의 수산화물, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산아연, 탄산바륨 등의 탄산염, 황산칼슘, 황산바륨 등의 황산염, 규산칼슘 등의 규산염, 질화알루미늄, 질화붕소, 질화규소 등의 질화물 등을 들 수 있다. 절연성 필러는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Most of small particle size fillers are disperse | distributed in an insulating binder, and a part coat | covers a part of surface of large diameter particle | grains. An insulating filler can be used as a small particle diameter filler. Examples of the insulating filler include oxides such as titanium oxide, aluminum oxide, silica, calcium oxide and magnesium oxide, hydroxides such as calcium hydroxide, magnesium hydroxide and aluminum hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, zinc carbonate and barium carbonate. Sulfates, such as a carbonate, calcium sulfate, and barium sulfate, Silicates, such as a calcium silicate, Nitrides, such as aluminum nitride, boron nitride, and silicon nitride, etc. are mentioned. An insulating filler may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

소입자경 필러의 입자경의 상한은, 대경 입자의 14 % 이하, 바람직하게는 0.3 % 이하로 할 수 있다. 혹은 100 ㎚ 이하인 것이 바람직하고, 50 ㎚ 이하인 것이 보다 바람직하다. 대경 입자의 표면적에 대하여 소입자경 필러가 지나치게 크지 않음으로써, 대경 입자의 표면에 흠집이 나는 등의 문제를 억제할 수 있다. 또, 소입자경 필러의 입자경의 하한은, 10 ㎚ 이상인 것이 바람직하다. 대경 입자의 표면적에 대하여 소입자경 필러가 지나치게 작지 않음으로써, 대경 입자의 응집을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 지나치게 작은 경우, 수지 조성물의 점도가 지나치게 상승함으로써 분산성에 대한 영향도 우려된다.The upper limit of the particle size of the small particle size filler may be 14% or less, preferably 0.3% or less of the large diameter particles. Or it is preferable that it is 100 nm or less, and it is more preferable that it is 50 nm or less. When the small particle diameter filler is not too large with respect to the surface area of the large diameter particles, problems such as scratches on the surface of the large diameter particles can be suppressed. Moreover, it is preferable that the minimum of the particle diameter of a small particle diameter filler is 10 nm or more. By small particle diameter filler not being too small with respect to the surface area of large diameter particle | grains, aggregation of large diameter particle | grains can be suppressed more effectively. When too small, the viscosity of a resin composition raises too much and the influence on dispersibility is also concerned.

이상에 설명한 대경 입자와 소입자경 필러의 크기의 관계로부터, 대경 입자와 소입자경 필러의 입자경의 비율 (소입자경 필러의 입자경/대경 입자의 입자경) 은, 0.02 ∼ 5.0 % 이고, 0.02 ∼ 2.5 % 인 것이 바람직하다.From the relationship between the size of the large-diameter particles and the small-particle filler described above, the ratio of the particle diameter of the large-diameter particles and the small-particle filler (the particle diameter of the small-diameter filler / particle diameter of the large-diameter particles) is 0.02 to 5.0%, and is 0.02 to 2.5%. It is preferable.

또, 상기 서술한 입자경의 비율을 만족하는 대경 입자에 대한 소입자경 필러의 체적 비율은 156 체적% 미만이다. 이것을 초과하면 수지 중으로의 균일 분산이 용이하게 얻어지기 어려워진다. 또한, 하한값은 0 % 를 초과하는 것은 당연하지만, 대경 입자와 소입자경 필러의 크기의 비율 외에, 이것들의 형상 등도 관계되기 때문에 일의적으로 정하기 어렵다. 그러나, 0.78 % 이상이면 특별히 문제는 없다고 생각되며, 3.9 % 이상이면 바람직하고, 7.8 % 이상이면 보다 바람직하다. 또한, 상한값은 78 체적% 이하인 것이 바람직하고, 39 % 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 이들 수치는 대경 입자와 소입자경 필러의 관계로부터 적절히 선택할 수 있는 것이다. 이와 같은 조건을 만족함으로써, 대경 입자의 분산성을 양호하게 할 수 있다.Moreover, the volume ratio of the small particle diameter filler with respect to the large diameter particle which satisfy | fills the ratio of the particle diameter mentioned above is less than 156 volume%. If it exceeds this, uniform dispersion in resin will become difficult to be obtained easily. In addition, although a lower limit may exceed 0%, it is difficult to determine uniquely since these shapes etc. are related besides the ratio of the size of a large diameter particle | grain and a small particle diameter filler. However, it is considered that there is no problem in particular if it is 0.78% or more, It is preferable in it being 3.9% or more, More preferably, it is 7.8% or more. Moreover, it is preferable that it is 78 volume% or less, and, as for an upper limit, it is more preferable that it is 39% or less. In addition, these numerical values can be suitably selected from the relationship of a large diameter particle | grain and a small particle diameter filler. By satisfy | filling such conditions, the dispersibility of large diameter particle | grains can be made favorable.

절연성 바인더 (절연성 수지) 는, 공지된 절연성 바인더를 사용할 수 있다. 경화형으로는, 열 경화형, 광 경화형, 광열 병용 경화형 등을 들 수 있다. 예를 들어, (메트)아크릴레이트 화합물과 광 라디칼 중합 개시제를 함유하는 광 라디칼 중합형 수지, (메트)아크릴레이트 화합물과 열 라디칼 중합 개시제를 함유하는 열 라디칼 중합형 수지, 에폭시 화합물과 열 카티온 중합 개시제를 함유하는 열 카티온 중합형 수지, 에폭시 화합물과 열 아니온 중합 개시제를 함유하는 열 아니온 중합형 수지 등을 들 수 있다. 또, 공지된 점착제 조성물을 사용해도 된다.As the insulating binder (insulating resin), a known insulating binder can be used. As a hardening type, a thermosetting type, a photocuring type, the hardening type for photothermal combined use, etc. are mentioned. For example, radical photopolymerization resin containing a (meth) acrylate compound and a radical photopolymerization initiator, thermal radical polymerization type resin containing a (meth) acrylate compound and a thermal radical polymerization initiator, an epoxy compound, and a thermal cationic Thermal cation polymerization type resin containing a polymerization initiator, thermal anion polymerization type resin containing an epoxy compound and a thermal anion polymerization initiator, etc. are mentioned. Moreover, you may use a well-known adhesive composition.

수지 조성물은, 필요에 따라, 일부 피복 입자, 소입자경 필러, 절연성 바인더 이외의 다른 성분을 추가로 함유하고 있어도 된다. 다른 성분으로는, 예를 들어, 용제 (메틸에틸케톤, 톨루엔, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등), 응력 완화제, 실란 커플링제 등을 들 수 있다.The resin composition may further contain other components other than some coating particle | grains, a small particle diameter filler, and an insulating binder as needed. As another component, a solvent (methyl ethyl ketone, toluene, propylene glycol monomethyl ether acetate etc.), a stress relaxation agent, a silane coupling agent etc. are mentioned, for example.

이상과 같이, 수지 조성물은, 대경 입자의 입자경이 2 ㎛ 이상이고, 소입자경 필러의 입자경이 대경 입자의 입자경의 0.02 ∼ 5.0 % 이고, 대경 입자에 대한 소입자경 필러의 양이 156 체적% 미만임으로써, 높은 분산성을 갖는다.As described above, the resin composition has a particle diameter of the large diameter particles of 2 µm or more, a particle diameter of the small particle diameter filler is 0.02 to 5.0% of the particle size of the large diameter particle, and the amount of the small particle diameter filler to the large diameter particle is less than 156 volume%. As a result, it has high dispersibility.

또, 예를 들어, 수지 조성물을 제 1 부재와 제 2 부재 사이의 스페이서로서 기능시키는 경우, 대경 입자에 부착되는 소입자경 필러의 양이 적기 때문에, 대경 입자의 대략 직경의 스페이서로 할 수 있다. 또, 예를 들어, 수지 조성물을 대경 입자가 도전 입자이고, 소입자경 필러가 절연성 필러인 이방성 도전 접착제로 하는 경우, 도전 입자에 부착되는 절연성 필러의 양이 적기 때문에, 우수한 도통성을 얻을 수 있다.For example, when a resin composition functions as a spacer between a 1st member and a 2nd member, since the quantity of the small particle diameter filler adhering to a large diameter particle is small, it can be set as the spacer of the substantially diameter of a large diameter particle. For example, when the resin composition is an anisotropic conductive adhesive whose large diameter particles are conductive particles and the small particle diameter filler is an insulating filler, since the amount of the insulating filler adhered to the conductive particles is small, excellent conductivity can be obtained. .

또, 예를 들어, 수지 조성물을 대경 입자가 도전 입자이고, 소입자경 필러가 절연성 필러인 이방성 도전 접착제로 이루어지는 이방성 도전 필름으로 하는 경우, 도전 입자의 분산성이 매우 높기 때문에, 이방성 도전 필름 전체의 도전 입자의 개수 밀도 (개/㎟) 와, 당해 이방성 도전 필름으로부터 임의로 추출한 0.2 ㎜ × 0.2 ㎜ 의 영역에 있어서의 도전 입자의 개수 밀도 (개/㎟) 의 차를 15 % 이하로 할 수 있다. 여기서, 개수 밀도의 차는, 임의로 추출한 소정 영역에 있어서의 도전 입자의 개수 밀도의 최대값과 최소값의 차이다.For example, when the resin composition is an anisotropic conductive film made of an anisotropic conductive adhesive whose large diameter particles are conductive particles and the small particle diameter filler is an insulating filler, since the dispersibility of the conductive particles is very high, the entire anisotropic conductive film The difference between the number density (pieces / mm 2) of the conductive particles and the number density (pieces / mm 2) of the conductive particles in a 0.2 mm × 0.2 mm region arbitrarily extracted from the anisotropic conductive film can be 15% or less. Here, the difference in the number density is the difference between the maximum value and the minimum value of the number density of the conductive particles in a predetermined region which is arbitrarily extracted.

<수지 조성물의 제조 방법><Method for producing resin composition>

본 실시형태에 관련된 수지 조성물의 제조 방법은, 이하의 공정 (A) 와 공정 (B) 를 갖는다.The manufacturing method of the resin composition which concerns on this embodiment has the following process (A) and a process (B).

[공정 (A)][Step (A)]

공정 (A) 에서는, 대경 입자와, 입자경이 대경 입자보다 작은 소입자경 필러를 교반함으로써, 제 1 피복 입자를 얻는다. 공정 (A) 에서는, 공정 (B) 에서 얻어지는 제 2 피복 입자의 응집을 억제하기 위해, 대경 입자를 소입자경 필러로 피복시킨다. 또, 공정 (A) 에서는, 상기 서술한 바와 같이, 대경 입자에 대한 소입자경 필러의 양이 156 체적% 미만이 되도록 대경 입자와 소입자경 필러를 배합한다. 이와 같은 조건을 만족함으로써, 공정 (A) 에서 대경 입자의 표면에 대한 소입자경 필러의 피복을 용이하게 진행시킴과 함께, 공정 (B) 에서 제 1 피복 입자에 있어서의 소입자경 필러를 용이하게 괴리시킬 수 있다.In a process (A), a 1st coating particle is obtained by stirring a large diameter particle | grain and a small particle diameter filler whose particle diameter is smaller than a large diameter particle. In process (A), in order to suppress aggregation of the 2nd coating particle obtained by process (B), a large diameter particle is coat | covered with a small particle diameter filler. Moreover, in a process (A), large diameter particle | grains and a small particle diameter filler are mix | blended so that the quantity of the small particle diameter filler with respect to large diameter particle | grains may be less than 156 volume%. By satisfying such conditions, the coating of the small particle diameter filler on the surface of the large diameter particle is easily carried out in the step (A), and the small particle diameter filler in the first coated particle is easily separated in the step (B). You can.

대경 입자와 소입자경 필러를 교반하는 방법은, 건식법, 습식법 중 어느 것이어도 되고, 건식법이 바람직하다. 공지된 토너 등에서 이용되고 있는 수법을 적용할 수 있기 때문이다. 대경 입자와 소입자경 필러를 교반하기 위한 장치는, 예를 들어, 유성식 교반 장치, 진탕기, 래버러토리 믹서, 교반 프로펠러 등을 들 수 있다. 특히, 평균 입경이 비교적 큰 대경 입자를 절연성 필러로 피복시키는 관점에서, 높은 시어가 가해지는 유성식 교반 장치가 바람직하다. 볼 밀이나 비즈 밀 등 매체를 사용하는 방식은, 배제하는 것은 아니지만 바람직하지 않다. 대경 입자와 소입자경 필러 이외에 제거하는 것이 존재하면, 생산성 상에서는 바람직하지 않기 때문이다. 또, 이와 같은 매체 (볼이나 비즈) 를 사용하면, 대경 입자나 소입자경 필러의 표면 상태에 대한 영향을 감안할 요인이 증가하기 때문에, 제품 설계가 어려워진다. 유성식 교반 장치는, 재료 (대경 입자와 소입자경 필러의 혼합물) 가 들어 있는 용기를 자전시키면서 공전시키는 방식의 교반 장치를 말한다. 용기에서마다 생산하는 배치 방식의 경우, 품질 관리를 하기 쉬워지는 점에서도 바람직하다. 즉, 용이하게 고정밀도로 대경 입자와 소입자경 필러가 분산된 수지 조성물이 얻어지기 쉬워진다.The method of stirring a large diameter particle | grain and a small particle diameter filler may be any of a dry method and a wet method, and a dry method is preferable. This is because the technique used in known toners and the like can be applied. As an apparatus for stirring a large diameter particle | grain and a small particle diameter filler, an planetary stirring apparatus, a shaker, a laboratory mixer, a stirring propeller, etc. are mentioned, for example. In particular, from the viewpoint of coating large diameter particles having a relatively large average particle diameter with the insulating filler, a planetary stirring device to which a high shear is applied is preferable. The method of using a medium such as a ball mill or a bead mill is not preferred, although it is not excluded. It is because it is not preferable on productivity if it removes other than a large diameter particle | grain and a small particle diameter filler. Moreover, when using such a medium (ball or beads), since the factor which considers the influence on the surface state of a large diameter particle | grain and a small particle diameter filler increases, product design becomes difficult. The planetary stirring device refers to a stirring device of a system in which a container containing a material (a mixture of large diameter particles and small particle diameter filler) is rotated while rotating. In the case of the batch system produced every time in a container, it is also preferable at the point which becomes easy to control quality. That is, the resin composition in which the large diameter particle | grains and the small particle diameter filler were disperse | distributed easily with high precision is easy to be obtained.

대경 입자 및 소입자경 필러는, 상기 서술한 이방성 도전 접착제에서 설명한 대경 입자 및 소입자경 필러와 바람직한 범위가 동일하다. 특히, 공정 (A) 에 있어서 대경 입자를 소입자경 필러로 피복시키는 관점에서, 건분 (乾粉) 상태의 대경 입자를 사용하는 것이 바람직하다.The large diameter particle | grains and the small particle diameter filler have the same preferable range as the large diameter particle | grains and small particle diameter filler demonstrated by the above-mentioned anisotropic conductive adhesive agent. In particular, in the step (A), from the viewpoint of coating the large diameter particles with the small particle diameter filler, it is preferable to use the large diameter particles in a dry powder state.

[공정 (B)][Step (B)]

공정 (B) 에서는, 제 1 피복 입자와 절연성 바인더를 교반함으로써, 제 2 피복 입자와, 제 1 피복 입자에 있어서의 대경 입자로부터 괴리된 소입자경 필러가, 절연성 바인더 중에 분산된 수지 조성물이 얻어진다.In the step (B), by stirring the first coated particles and the insulating binder, a resin composition obtained by dispersing the second coated particles and the small particle size filler separated from the large diameter particles in the first coated particles in the insulating binder is obtained. .

공정 (B) 에서는, 제 1 피복 입자를 절연성 바인더 중에서 교반함으로써, 제 1 피복 입자에 있어서의 소입자경 필러에 대경 입자와의 마찰이나 높은 시어가 가해짐으로써, 이 소입자경 필러가 대경 입자로부터 괴리되어, 대경 입자의 표면의 일부가 소입자경 필러에 피복된 일부 피복 입자 (제 2 피복 입자) 가 얻어진다. 또, 제 1 피복 입자에 있어서의 대경 입자로부터 괴리된 소입자경 필러가, 제 2 피복 입자 간에 개재되기 때문에, 제 2 피복 입자의 응집을 억제할 수 있다. 이와 같이, 공정 (B) 를 실시함으로써, 제 2 피복 입자의 응집을 억제할 수 있어, 절연성 바인더 중에 제 2 피복 입자를 분산시킬 수 있다. 이 때, 소입자경 필러도 동시에 분산되게 된다. 즉 본 발명에서는, 혼합 공정이 최소한의 횟수여도 된다. 예를 들어 종래와 같이 점도 조정을 위해 소입자경 필러를 때마다 첨가할 수도 있지만, 분산 상태의 재현성을 얻는 것이 곤란을 수반하는 것은 용이하게 예상할 수 있다. 그러나, 분말 (대경 입자와 소입자경 필러) 을 미리 조제하고, 그것에 수지 조성물을 배합함으로써, 필요한 양을 조제 가능하게 할 수 있기 때문에, 재료 비용이나 제조 비용의 면에서도 바람직하다. 또, 분산성의 문제가 있는 배치에 관해서도 비교하기 쉬운 점에서, 불량 요인의 해석도 용이해져, 상기 서술한 바와 같이 품질 관리의 면에서도 메리트가 있다. 또, 배치식의 경우에는 소량으로의 개발 검토에서 대량 제조로 이행될 때 등, 검토할 요인이 적어지는 것과 같은 메리트가 있다. 또 동일한 이유에서 공정 (A) 와 공정 (B) 를 동일한 용기, 동일한 유성식 교반 장치를 사용하여 실시하는 것이, 생산성이나 품질 관리 상에서도 바람직하다. 컨태미네이션의 영향도 억제하는 것을 기대할 수 있다. 대량 생산하는 경우에는, 동일 장치를 늘리기만 해도 되게 된다. 요컨대, 소량 다품종에 대응 가능하고, 또한 스케일 업에도 대응할 수 있다. 따라서, 생산 관리의 조정도 용이해진다.In the step (B), the small particle diameter filler is separated from the large diameter particle by adding friction with the large diameter particle or high shear to the small particle diameter filler in the first coated particle by stirring the first coated particle in the insulating binder. Thus, some coated particles (second coated particles) in which part of the surface of the large diameter particles is coated on the small particle diameter filler are obtained. Moreover, since the small particle diameter filler separated from the large diameter particle in a 1st covering particle is interposed between 2nd covering particle, aggregation of a 2nd covering particle can be suppressed. Thus, by performing a process (B), aggregation of a 2nd coating particle can be suppressed and a 2nd coating particle can be disperse | distributed in an insulating binder. At this time, the small particle diameter filler is also dispersed at the same time. That is, in this invention, the mixing process may be a minimum number of times. For example, although a small particle diameter filler may be added every time for viscosity adjustment like conventionally, it can be anticipated easily that it is difficult to acquire the reproducibility of a dispersed state. However, since a required amount can be prepared by preparing powder (large diameter particle | grain and a small particle diameter filler) beforehand, and mix | blending a resin composition with it, it is also preferable from a viewpoint of a material cost and a manufacturing cost. Moreover, since it is easy to compare also about the batch which has the problem of dispersibility, the analysis of a defect factor becomes easy, and there exists a merit also in terms of quality control as mentioned above. Moreover, in the case of batch type, there are merit that there are few factors to consider, such as when transitioning from a small amount of development examination to a mass production. Moreover, for the same reason, it is preferable also on productivity and quality control to perform process (A) and process (B) using the same container and the same planetary stirring apparatus. It can be expected to suppress the influence of contamination. In the case of mass production, it is only necessary to increase the same apparatus. In short, it is possible to cope with a small quantity of various kinds and can also cope with scale up. Therefore, adjustment of production management also becomes easy.

또, 대경 필러의 표면을 충분히 작은 소입자경 필러로 피복하는 것은, 후술하는 바와 같은 이방성 도전 접속과 같이, 대경 입자인 도전 입자를 단자로 협지하는 경우, 도전 입자의 표면 상태의 품질 유지의 면에서 바람직하다. 즉, 대경 입자끼리에서 접촉하는 것에 의한 표면 상태의 이레귤러를, 소입자경 필러가 피복하여 개재함으로써 보호하는 기능을 기대할 수 있다. 또, 혼합 (혼련) 으로 피복이 해제되는 정도이기 때문에, 단자 간에 협지되는 것과 같은 직접적인 힘이 대경 입자에 가해지면, 일부 피복이 도통을 저해한다고는 생각하기 어렵다. 또, 단자 배열 간의 절연성에 있어서도, 대경 입자는 높은 분산성을 유지하고 있지만, 동시에 일부 피복도 유지하고 있기 때문에, (대경 입자가 연결됨으로써 발생하는) 쇼트는 회피되기 쉬운 상태로 되어 있다고 생각된다. 구체적인 효과를 예시하면, 대경 입자가 금속 도금 수지 입자인 도전 입자의 경우, 금속 도금의 두께나 재질, 수지 입자의 경도 등에 대해, 종래보다 선택의 폭이 넓어지는 것을 기대할 수 있다. 스페이서와 같이 협지하여 사용하는 것에 대해서도, 동일한 점을 말할 수 있다.In addition, coating the surface of a large diameter filler with a small particle diameter filler sufficiently small in terms of maintaining the quality of the surface state of the conductive particles when the conductive particles which are large diameter particles are sandwiched by the terminal, such as anisotropic conductive connections as described later. desirable. That is, the small particle diameter filler coat | covers and interposes the regular of the surface state by contacting with large diameter particle | grains, and can expect the function to be protected. In addition, since the coating is released by mixing (kneading), it is hard to think that some coatings hinder conduction when a direct force such as sandwiched between the terminals is applied to the large diameter particles. Moreover, also in insulation between terminal arrangements, although the large diameter particle | grains maintain high dispersibility, and also hold | maintain some coating | covering at the same time, it is thought that the short (produced by connecting large diameter particle | grains) is in the state which is easy to avoid. When the specific effect is illustrated, in the case of the electroconductive particle whose large diameter particle | grain is a metal plating resin particle, it can be expected that the range of selection becomes wider than before regarding the thickness and material of metal plating, the hardness of resin particle, etc. The same thing can be said about using it together with a spacer.

제 1 피복 입자와 절연성 바인더를 교반하는 방법은, 특별히 한정되지 않으며, 상기 서술한 공정 (A) 에 있어서의 교반 방법을 채용할 수 있다. 특히, 제 1 피복 입자와 절연성 바인더를 교반하였을 때, 제 1 피복 입자를 구성하는 소입자경 필러를 괴리시키는 관점에서, 높은 시어가 가해지는 교반 방법, 예를 들어 유성식 교반 장치를 사용한 교반 방법이 바람직하다. 유성식 교반 장치를 사용함으로써, 절연성 바인더 중에서, 제 1 피복 입자에 있어서의 대경 입자와 소입자경 필러의 마찰이나 높은 시어가 가해짐으로써, 제 1 피복 입자에 있어서 대경 입자로부터 소입자경 필러의 적당한 괴리가 발생한다고 생각된다.The method of stirring a 1st coating particle and an insulating binder is not specifically limited, The stirring method in the above-mentioned process (A) can be employ | adopted. In particular, from the viewpoint of separating the small particle diameter filler constituting the first coated particle when the first coated particle and the insulating binder are stirred, a stirring method in which a high shear is applied, for example, a stirring method using a planetary stirring device is preferable. Do. By using the planetary stirring device, friction and high shear of the large diameter particles and the small particle filler in the first coated particle are applied in the insulating binder, so that a suitable deviation between the small particle filler and the small particle filler in the first coated particle is obtained. I think it happens.

이상의 공정 (A) 및 공정 (B) 를 갖는 제조 방법에 의하면, 간이적인 방법으로 절연성 바인더 중에 제 2 피복 입자가 분산된 수지 조성물이 얻어진다. 또한, 본 제조 방법은, 필요에 따라, 상기 서술한 공정 (A) 및 공정 (B) 이외의 다른 공정을 추가로 갖고 있어도 된다. 또한, 상기 서술하고 있는 바와 같이 공정 (A) 및 공정 (B) 를 동일 용기, 동일 장치 (유성 교반식 혼합 장치) 로 실시하는 것이, 생산성이나 품질 면에서 바람직하다.According to the manufacturing method which has the above process (A) and a process (B), the resin composition which the 2nd coating particle disperse | distributed in an insulating binder is obtained by a simple method. In addition, this manufacturing method may further have other processes other than the process (A) and process (B) mentioned above as needed. In addition, it is preferable from a viewpoint of productivity and quality to perform process (A) and a process (B) by the same container and the same apparatus (oil-type mixing apparatus) as mentioned above.

<구조체><Structure>

본 실시형태에 관련된 구조체는, 상기 서술한 수지 조성물을 개재하여 제 1 부재와 제 2 부재가 접착되어 있다. 수지 조성물이 경화성 수지이면, 경화시켜 고정시켜도 되고, 점착제이면 첩부 (貼付) 하기만 해도 된다. 이것은 일례로서, 예를 들어 형 (型) 에 수지 조성물을 충전시키고, 경화시켜 성형체를 얻어도 된다. 예를 들어, 수지 조성물을 제 1 부재와 제 2 부재 사이의 스페이서로서 기능시키는 경우, 대경 입자에 부착되는 소입자경 필러의 양이 적기 때문에, 대경 입자의 대략 직경의 스페이서로 할 수 있다. 또, 예를 들어, 수지 조성물을 대경 입자가 도전 입자이고, 소입자경 필러가 절연성 필러인 도전 접착제로 하는 경우, 도전 입자에 부착되는 절연성 필러의 양이 적기 때문에, 우수한 도통성을 얻을 수 있다. 이방성 도전 접착제로 하는 경우에는, 단자 및 단자 배열의 관계가 보다 복잡하게 작용하기 때문에, 이 효과는 보다 발휘할 수 있다. 또한, 이것들은 미리 필름체로 해도 된다.As for the structure which concerns on this embodiment, the 1st member and the 2nd member are adhere | attached through the resin composition mentioned above. If a resin composition is curable resin, it may be made to harden | cure and fix it, and if it is an adhesive, you may just stick. As an example, for example, a mold may be filled with a resin composition and cured to obtain a molded article. For example, when a resin composition functions as a spacer between a 1st member and a 2nd member, since the quantity of the small particle diameter filler adhering to a large diameter particle is small, it can be set as the spacer of the substantially diameter of a large diameter particle. For example, when the resin composition is a conductive adhesive whose large diameter particles are conductive particles and the small particle diameter filler is an insulating filler, the amount of the insulating filler adhered to the conductive particles is small, so that excellent conductivity can be obtained. In the case of an anisotropic conductive adhesive, since the relationship between the terminal and the terminal arrangement is more complicated, this effect can be more exhibited. In addition, these may be made into a film body beforehand.

또한, 수지 조성물을 접착제 혹은 접착 필름으로 하여, 제 1 물품과 제 2 물품을 접속시키는 구조체, 및 그 제조 방법도 본 발명은 포함한다. 이들 물품은 전자 부품이어도 되고, 도통부를 구비하여 (이방성은 필수로 하지 않는다) 도통성이 있어도 되는데, 이것에 한정되는 것은 아니다. 또, 수지 조성물이 접착성 유무에 상관없이, 제 1 물품과 제 2 물품을 첩합 (貼合) 시킨 것이나 그 첩합 방법도 본 발명은 포함한다. 요컨대, 제 1 물품과 제 2 물품의 첩합체나, 이것들을 가압시키는 첩합 방법이 된다. 또, 제 1 물품에만 수지 조성물이나 그 필름체를 형성한 것도 본 발명에는 포함된다. 이것은 제 1 물품에 도포 혹은 필름체로 하여 첩합시키면 된다. 수지 조성물이 점착체이면, 점착층을 형성하게 된다. 지지체에 형성함으로써 점착 필름으로 할 수도 있다.Moreover, this invention also includes the structure which connects a 1st article and a 2nd article using a resin composition as an adhesive agent or an adhesive film, and its manufacturing method. These articles may be electronic components, and may be provided with a conducting portion (anisotropy is not essential), but may be conductive, but is not limited thereto. Moreover, this invention also includes the thing which bonded together the 1st article and the 2nd article, and the bonding method with or without adhesiveness. In short, it becomes a bonding body of a 1st article and a 2nd article, and a bonding method which pressurizes these. Moreover, what formed the resin composition and its film body only in a 1st article is also included in this invention. This may be bonded to the first article as a coating or film. If a resin composition is an adhesive, it will form an adhesion layer. It can also be set as an adhesive film by forming in a support body.

이하, 제 2 실시형태에 대해 설명한다.Hereinafter, 2nd Embodiment is described.

[제 2 실시형태]Second Embodiment

<이방성 도전 접착제><Anisotropic Conductive Adhesive>

본 실시형태에 관련된 이방성 도전 접착제는, 절연성 필러에 의해 도전 입자의 표면의 일부가 피복된 피복 도전 입자 (후술하는 제 2 피복 도전 입자) 와, 절연성 필러와, 절연성 바인더를 함유하고, 이 피복 도전 입자가 절연성 바인더 중에 분산되어 있다. 또한, 이하의 설명에서는, 평균 입경이 7 ㎛ 이상인 도전 입자와, 절연성 필러를 교반함으로써 얻어지는, 절연성 필러에 의해 도전 입자가 피복된 피복 도전 입자를「제 1 피복 도전 입자」라고 한다. 또, 제 1 피복 도전 입자와 절연성 바인더를 교반함으로써 얻어지는, 절연성 필러에 의해 도전 입자의 표면의 일부가 피복된 피복 도전 입자를「제 2 피복 도전 입자」라고 한다.The anisotropic conductive adhesive agent which concerns on this embodiment contains the coating conductive particle (second coating conductive particle mentioned later) in which one part of the surface of the conductive particle was coat | covered with the insulating filler, an insulating filler, and an insulating binder, and this coating conductive Particles are dispersed in an insulating binder. In addition, in the following description, the electrically-conductive particle whose average particle diameter is 7 micrometers or more and the electrically conductive particle coat | covered by the insulating filler obtained by stirring the insulating filler are called "1st covering conductive particle." In addition, the coating conductive particle in which one part of the surface of the conductive particle was coat | covered by the insulating filler obtained by stirring a 1st coating conductive particle and an insulating binder is called "second coating conductive particle."

이방성 도전 접착제는, 필름상의 이방성 도전 필름 (ACF : Anisotropic Conductive Film), 또는 페이스트상의 이방성 도전 페이스트 (ACP : Anisotropic Conductive Paste) 중 어느 것이어도 된다. 취급 용이성의 면에서는 이방성 도전 필름이 바람직하고, 비용의 면에서는 이방성 도전 페이스트가 바람직하다.The anisotropic conductive adhesive may be either an anisotropic conductive film (ACF) or a anisotropic conductive paste (ACP). An anisotropic conductive film is preferable at the point of ease of handling, and an anisotropic conductive paste is preferable at the point of cost.

이하, 이방성 도전 접착제를 구성하는 제 2 피복 도전 입자 (도전 입자, 절연성 필러), 절연성 바인더, 추가로 함유해도 되는 그 밖의 성분에 대해 설명한다.Hereinafter, the 2nd coating electroconductive particle (conductive particle, insulating filler) which comprises an anisotropic conductive adhesive agent, an insulating binder, and the other component which may contain further are demonstrated.

[도전 입자][Conductive Particles]

도전 입자의 재질은, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 니켈, 구리, 금, 은, 팔라듐 등의 금속 입자, 수지 입자의 표면을 금속으로 피복한 금속 피복 수지 입자 등을 들 수 있다. 금속 피복 수지 입자에 있어서의 수지 입자로는, 예를 들어, 에폭시 수지, 페놀 수지, 아크릴 수지, 아크릴로니트릴·스티렌 수지, 벤조구아나민 수지, 디비닐벤젠계 수지, 스티렌계 수지의 입자를 사용할 수 있다. 도전 입자는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The material of the conductive particles is not particularly limited. For example, metal particle | grains, such as nickel, copper, gold, silver, and palladium, metal coating resin particle | grains which coat | covered the surface of the resin particle with metal, etc. are mentioned. As the resin particles in the metal-coated resin particles, for example, particles of an epoxy resin, a phenol resin, an acrylic resin, an acrylonitrile styrene resin, a benzoguanamine resin, a divinylbenzene resin, or a styrene resin can be used. Can be. Electroconductive particle may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

도전 입자의 입자경은, 7 ㎛ 이상이다. 또, 도전 입자의 입자경의 상한은, 특별히 제한되지 않지만, 접속 구조체에 있어서의 도전 입자의 포착 효율의 관점에서, 예를 들어 50 ㎛ 이하인 것이 바람직하다. 도전 입자의 입자경은, 화상형 입도 분포계 (일례로서, FPIA-3000 : 말번사 제조) 에 의해 측정할 수 있다. 1000 개 이상, 바람직하게는 2000 개 이상 측정하여 구하는 것이 바람직하다.The particle diameter of the conductive particles is 7 µm or more. The upper limit of the particle diameter of the conductive particles is not particularly limited, but is preferably 50 µm or less from the viewpoint of the trapping efficiency of the conductive particles in the bonded structure. The particle size of the conductive particles can be measured by an image type particle size distribution meter (as an example, FPIA-3000: manufactured by Malvern). It is preferable to obtain by measuring 1000 or more, preferably 2000 or more.

[절연성 필러][Insulating filler]

절연성 필러는, 절연성 무기 입자를 사용할 수 있다. 예를 들어, 산화티탄, 산화알루미늄, 실리카, 산화칼슘, 산화마그네슘 등의 산화물, 수산화칼슘, 수산화마그네슘, 수산화알루미늄 등의 수산화물, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산아연, 탄산바륨 등의 탄산염, 황산칼슘, 황산바륨 등의 황산염, 규산칼슘 등의 규산염, 질화알루미늄, 질화붕소, 질화규소 등의 질화물 등을 들 수 있다. 절연성 필러는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.As the insulating filler, insulating inorganic particles can be used. For example, oxides such as titanium oxide, aluminum oxide, silica, calcium oxide, magnesium oxide, hydroxides such as calcium hydroxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, carbonates such as calcium carbonate, magnesium carbonate, zinc carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, Sulfates, such as barium sulfate, Silicates, such as a calcium silicate, Nitrides, such as aluminum nitride, boron nitride, and silicon nitride, etc. are mentioned. An insulating filler may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

도전 입자와 절연성 필러의 크기 (입자경) 의 관계에 대해, 도전 입자의 표면적에 대하여 절연성 필러가 현저하게 작음으로써, 도전 입자의 표면에 대한 절연성 필러의 피복과 괴리가 용이하게 진행되게 된다. 이로써, 제 1 피복 도전 입자를 절연성 바인더 중에서 교반시키면, 제 1 피복 도전 입자에 있어서의 도전 입자로부터 괴리된 절연성 필러가 제 2 피복 도전 입자 간에 개재되기 때문에, 제 2 피복 도전 입자의 응집을 억제할 수 있다. 따라서, 절연성 바인더 중에 제 2 피복 도전 입자를 균일하게 분산시킬 수 있다.With respect to the relationship between the size of the conductive particles and the insulating filler (particle diameter), the insulating filler is significantly smaller with respect to the surface area of the conductive particles, so that the coating and the separation of the insulating filler on the surface of the conductive particles easily proceed. Thus, when the first coated conductive particles are stirred in the insulating binder, the insulating filler separated from the conductive particles in the first coated conductive particles is interposed between the second coated conductive particles, thereby suppressing aggregation of the second coated conductive particles. Can be. Accordingly, the second coated conductive particles can be uniformly dispersed in the insulating binder.

구체적으로, 절연성 필러의 입자경의 상한은, 1000 ㎚ 이하인 것이 바람직하고, 50 ㎚ 이하인 것이 보다 바람직하다. 도전 입자의 표면적에 대하여 절연성 필러가 지나치게 크지 않음으로써, 도전 입자의 표면에 흠집이 나는 등의 문제를 억제할 수 있다. 또, 절연성 필러의 입자경의 하한은, 10 ㎚ 이상인 것이 바람직하다. 도전 입자의 표면적에 대하여 절연성 필러가 지나치게 작지 않음으로써, 도전 입자의 응집을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 절연성 필러의 입자경은, 전자 현미경 등의 관찰 결과로부터 구할 수 있다.Specifically, the upper limit of the particle diameter of the insulating filler is preferably 1000 nm or less, and more preferably 50 nm or less. When the insulating filler is not too large with respect to the surface area of the conductive particles, problems such as scratches on the surface of the conductive particles can be suppressed. Moreover, it is preferable that the minimum of the particle diameter of an insulating filler is 10 nm or more. When the insulating filler is not too small with respect to the surface area of the conductive particles, aggregation of the conductive particles can be more effectively suppressed. The particle diameter of an insulating filler can be calculated | required from observation results, such as an electron microscope.

이상에 설명한 도전 입자와 절연성 필러의 크기의 관계로부터, 도전 입자와 절연성 필러의 입자경의 비율 (절연성 필러의 입자경/도전 입자의 입자경) 은, 0.02 ∼ 0.143 % 이고, 0.02 ∼ 0.10 % 인 것이 바람직하다.From the relationship of the magnitude | size of the electrically conductive particle and insulating filler demonstrated above, the ratio of the particle diameter of the electrically conductive particle and the insulating filler (particle diameter of the insulating filler / particle diameter of the electrically conductive particle) is 0.02 to 0.143%, and it is preferable that it is 0.02 to 0.10%. .

또, 상기 서술한 입자경의 비율을 만족하는 도전 입자에 대한 절연성 필러의 개수 비율, 즉, 1 개의 도전 입자에 대한 절연성 필러의 양은 0.78 ∼ 77 체적% 이고, 3.9 ∼ 38.7 체적% 인 것이 바람직하고, 7.7 ∼ 15.5 체적% 인 것이 보다 바람직하다. 이와 같은 조건을 만족함으로써, 도전 입자의 분산성을 양호하게 할 수 있다.Moreover, the number ratio of the insulating filler with respect to the electrically-conductive particle which satisfy | fills the ratio of the particle diameter mentioned above, ie, the quantity of the insulating filler with respect to one electrically-conductive particle, is 0.78-77 volume%, It is preferable that it is 3.9-38.7 volume%, It is more preferable that it is 7.7-15.5 volume%. By satisfy | filling such conditions, the dispersibility of electroconductive particle can be made favorable.

[절연성 바인더][Insulating binder]

절연성 바인더 (절연성 수지) 는, 공지된 이방성 도전 접착제에서 사용되는 절연성 바인더를 사용할 수 있다. 경화형으로는, 열 경화형, 광 경화형, 광열 병용 경화형 등을 들 수 있다. 예를 들어, (메트)아크릴레이트 화합물과 광 라디칼 중합 개시제를 함유하는 광 라디칼 중합형 수지, (메트)아크릴레이트 화합물과 열 라디칼 중합 개시제를 함유하는 열 라디칼 중합형 수지, 에폭시 화합물과 열 카티온 중합 개시제를 함유하는 열 카티온 중합형 수지, 에폭시 화합물과 열 아니온 중합 개시제를 함유하는 열 아니온 중합형 수지 등을 들 수 있다.As the insulating binder (insulating resin), an insulating binder used in a known anisotropic conductive adhesive can be used. As a hardening type, a thermosetting type, a photocuring type, the hardening type for photothermal combined use, etc. are mentioned. For example, radical photopolymerization resin containing a (meth) acrylate compound and a radical photopolymerization initiator, thermal radical polymerization type resin containing a (meth) acrylate compound and a thermal radical polymerization initiator, an epoxy compound, and a thermal cationic Thermal cation polymerization type resin containing a polymerization initiator, thermal anion polymerization type resin containing an epoxy compound and a thermal anion polymerization initiator, etc. are mentioned.

이하에서는, 구체예로서, 막 형성 수지와, 에폭시 수지와, 잠재성 경화제를 함유하는 열 아니온 중합형의 절연성 바인더를 들어 설명한다.Hereinafter, the thermal anion polymerization type insulating binder containing film forming resin, an epoxy resin, and a latent hardening | curing agent is demonstrated as a specific example.

막 형성 수지는, 평균 분자량이 10000 ∼ 80000 정도인 수지가 바람직하다. 막 형성 수지로는, 에폭시 수지, 변성 에폭시 수지, 우레탄 수지, 페녹시 수지 등의 각종 수지를 들 수 있다. 이것들 중에서도, 막 형성 상태, 접속 신뢰성 등의 관점에서 페녹시 수지가 바람직하다. 막 형성 수지는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.As for film formation resin, resin whose average molecular weight is about 10000-80000 is preferable. As film formation resin, various resins, such as an epoxy resin, a modified epoxy resin, a urethane resin, and a phenoxy resin, are mentioned. Among these, a phenoxy resin is preferable from a viewpoint of a film formation state, connection reliability, etc. Film formation resin may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

에폭시 수지로는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 나프탈렌형 에폭시 수지, 비페닐형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀형 에폭시 수지, 스틸벤형 에폭시 수지, 트리페놀메탄형 에폭시 수지, 페놀아르알킬형 에폭시 수지, 나프톨형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지, 트리페닐메탄형 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 에폭시 수지는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.Although it does not specifically limit as an epoxy resin, For example, a naphthalene type epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, a phenol novolak-type epoxy resin, a bisphenol type epoxy resin, a stilbene type epoxy resin, a triphenol methane type epoxy resin, a phenol Aralkyl type epoxy resins, naphthol type epoxy resins, dicyclopentadiene type epoxy resins, triphenylmethane type epoxy resins, and the like. An epoxy resin may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

잠재성 경화제로는, 예를 들어, 이미다졸계, 하이드라지드계, 아민이미드, 디시안디아미드, 혹은, 안티몬계, 인계, 불소계 등의 산 발생제 등을 들 수 있다. 이것들은, 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이것들 중에서도, 이미다졸 화합물 입자의 표면을 폴리우레탄계, 폴리에스테르계 등의 고분자 경화물로 피복한 마이크로 캡슐형의 것이 바람직하게 사용된다. 또, 마이크로 캡슐형 경화제를 액상 에폭시 수지 중에 분산시켜 이루어지는 마스터 배치형 경화제를 사용해도 된다.As a latent hardening | curing agent, acid generators, such as an imidazole series, a hydrazide system, an amine imide, a dicyandiamide, or an antimony system, phosphorus system, a fluorine system, etc. are mentioned, for example. These can be used individually or in combination of 2 or more types. Among these, the microcapsule type which coat | covered the surface of the imidazole compound particle with hardened | cured material, such as a polyurethane system and polyester type, is used preferably. Moreover, you may use the master batch type hardening | curing agent which disperse | distributes a microcapsule type hardening | curing agent in a liquid epoxy resin.

[그 밖의 성분][Other Ingredients]

이방성 도전 접착제는, 필요에 따라, 제 2 피복 도전 입자와 절연성 바인더 이외의 다른 성분을 추가로 함유하고 있어도 된다. 다른 성분으로는, 예를 들어, 용제 (메틸에틸케톤, 톨루엔, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 등), 응력 완화제, 실란 커플링제 등을 들 수 있다. 또, 이방성 도전 접착제는, 제 1 피복 도전 입자에 있어서의 도전 입자로부터 괴리된 절연성 필러를 추가로 함유하고 있어도 된다.The anisotropic conductive adhesive may further contain other components other than 2nd covering electroconductive particle and an insulating binder as needed. As another component, a solvent (methyl ethyl ketone, toluene, propylene glycol monomethyl ether acetate etc.), a stress relaxation agent, a silane coupling agent etc. are mentioned, for example. Moreover, the anisotropic conductive adhesive may further contain the insulating filler isolated from the electroconductive particle in a 1st covering electroconductive particle.

이상과 같이, 이방성 도전 접착제는, 도전 입자의 입자경이 7 ㎛ 이상이고, 절연성 필러의 입자경이 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 이고, 도전 입자에 대한 절연성 필러의 양이 0.78 ∼ 77 체적% 이다. 제 1 피복 도전 입자를 절연성 바인더 중에서 교반시키면, 제 1 피복 도전 입자에 있어서의 도전 입자로부터 괴리된다. 그 때문에, 피복된 절연성 필러가 입자 표면에 잔존하는 제 2 피복 도전 입자를 얻는 경우도 있고, 이와 같은 잔존 상태는 공지된 관찰 수법 (SEM 이나 TEM 등의 전자 현미경) 에 의해 확인할 수 있다. 이와 같은 절연성 필러의 잔존 상태와 도전 입자의 분산 상태에 의해 본 발명의 수법에 의해 얻어진 것인지를 확인할 수 있다.As described above, the anisotropic conductive adhesive has a particle diameter of the conductive particles of 7 µm or more, a particle diameter of the insulating filler is 0.02 to 0.143% of the particle diameter of the conductive particles, and the amount of the insulating filler to the conductive particles is 0.78 to 77 volume%. . When the first coated conductive particles are stirred in the insulating binder, the first coated conductive particles are separated from the conductive particles in the first coated conductive particles. Therefore, the coated insulating filler sometimes obtains the second coated conductive particles remaining on the particle surface, and such a remaining state can be confirmed by a known observation method (electron microscope such as SEM or TEM). It can be confirmed whether it is obtained by the method of this invention by the residual state of such an insulating filler and the dispersion state of electroconductive particle.

이방성 도전 접착제는, 제 1 피복 도전 입자에 있어서의 도전 입자로부터 괴리된 절연성 필러가 제 2 피복 도전 입자 간에 개재되기 때문에, 제 2 피복 도전 입자의 응집을 억제할 수 있다. 따라서, 절연성 바인더 중에 제 2 피복 도전 입자를 분산시킬 수 있어, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 있다. 또, 이방성 도전 접착제는, 절연성 바인더 중의 제 2 피복 도전 입자의 근방에, 제 1 피복 도전 입자와 절연성 바인더의 교반에 의해 제 1 피복 도전 입자에 있어서의 도전 입자로부터 괴리된 절연성 필러가 일정한 비율로 균일하게 존재한다. 이와 같은 이방성 도전 접착제에 있어서는, 제 2 피복 도전 입자의 분산 상태와, 절연성 필러가 존재하는 영역에 높은 상관성을 나타내게 되어, 도전 입자 포착률을 안정시킬 수 있다.The anisotropic conductive adhesive can suppress the aggregation of the second coated conductive particles because the insulating filler separated from the conductive particles in the first coated conductive particles is interposed between the second coated conductive particles. Therefore, the 2nd covering electroconductive particle can be disperse | distributed in an insulating binder, and the short between the electrode terminals of an electronic component can be suppressed. Moreover, in the anisotropic conductive adhesive agent, the insulating filler which isolate | separated from the conductive particle in a 1st coating conductive particle by stirring of a 1st coating conductive particle and an insulating binder in the vicinity of the 2nd coating conductive particle in an insulating binder is fixed ratio. Uniformly present. In such an anisotropic conductive adhesive, high correlation is exhibited in the dispersed state of the 2nd coating conductive particle and the area | region where an insulating filler exists, and the conductive particle capture rate can be stabilized.

또, 본 기술에서는, 7 ㎛ 이상의 비교적 큰 도전 입자에 간이적으로 절연성 필러를 피복시키고, 절연성 바인더로의 혼련시에 괴리시킴으로써, 도전 입자의 표면 (도전층) 에 미리 절연 처리를 실시하지 않아도, 충분한 쇼트 억제의 효과를 얻을 수 있다. 즉, 도전 입자의 도전층에는 괴리되지 않고 미량으로 잔존한 절연성 필러 이외에는 절연 처리의 흔적이 없어진다. 그 때문에, 도전 입자의 취급성이 우수하고, 또, 비용 상으로도 유리하다. 이방성 도전 접착제의 설계에 있어서도, 파라미터가 적어짐으로써, 개발 상에서도 우위성이 있다. 또한, 공지된 수법에 의해 미리 절연 처리를 실시한 도전 입자를 사용함으로써, 보다 절연성이 우수한 도전 입자를 사용하는 것에 의한 성능의 향상이나, 설계 자유도를 증대시킬 수도 있다. 따라서, 본 기술은, 도전 입자의 표면 (도전층) 에 미리 절연 처리를 실시한 것을 사용하는 양태를 배제하는 것은 아니다.In addition, in the present technology, the insulating filler is simply coated on relatively large conductive particles of 7 µm or more, and separated at the time of kneading into the insulating binder, so that the surface (conductive layer) of the conductive particles is not previously subjected to insulation treatment. Sufficient short suppression effect can be obtained. That is, there is no trace of the insulation treatment except for the insulating filler remaining in a small amount without being separated from the conductive layer of the conductive particles. Therefore, it is excellent in the handleability of electroconductive particle and also advantageous in cost. Also in the design of an anisotropic electrically conductive adhesive agent, when there are few parameters, there is an advantage also in development. Moreover, by using the electrically-conductive particle which pre-insulated by the well-known method, the performance improvement by using the electrically conductive particle excellent in insulation, and the freedom of design can also be increased. Therefore, this technique does not exclude the aspect which uses what performed the insulation process previously to the surface (electroconductive layer) of electroconductive particle.

<이방성 도전 접착제의 제조 방법><Method for Producing Anisotropic Conductive Adhesive>

본 실시형태에 관련된 이방성 도전 접착제의 제조 방법은, 이하의 공정 (A) 와 공정 (B) 를 갖는다.The manufacturing method of the anisotropic conductive adhesive agent which concerns on this embodiment has the following process (A) and process (B).

[공정 (A)][Step (A)]

공정 (A) 에서는, 평균 입경이 7 ㎛ 이상인 도전 입자와, 입자경이 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 인 절연성 필러를 교반함으로써, 제 1 피복 도전 입자를 얻는다. 공정 (A) 에서는, 공정 (B) 에서 얻어지는 제 2 피복 도전 입자의 응집을 억제하기 위해, 도전 입자를 절연성 필러로 피복시킨다. 또, 공정 (A) 에서는, 상기 서술한 바와 같이, 도전 입자에 대한 절연성 필러의 양이 0.78 ∼ 77 체적% 가 되도록 도전 입자와 절연성 필러를 배합한다. 이와 같은 조건을 만족함으로써, 공정 (A) 에서 도전 입자의 표면에 대한 절연성 필러의 피복을 용이하게 진행시킴과 함께, 공정 (B) 에서 제 1 피복 도전 입자에 있어서의 절연성 필러를 용이하게 괴리시킬 수 있다.In a process (A), a 1st covering electroconductive particle is obtained by stirring the electrically-conductive particle whose average particle diameter is 7 micrometers or more, and the insulating filler which is 0.02 to 0.143% of the particle diameter of a particle diameter electroconductive particle. In process (A), in order to suppress aggregation of the 2nd coating electroconductive particle obtained by process (B), electroconductive particle is coat | covered with an insulating filler. Moreover, in a process (A), as above-mentioned, electroconductive particle and insulating filler are mix | blended so that the quantity of the insulating filler with respect to electroconductive particle may be 0.78-77 volume%. By satisfying such conditions, the coating of the insulating filler on the surface of the conductive particles can be easily carried out in the step (A), and the insulating filler in the first coated conductive particles can be easily separated in the step (B). Can be.

도전 입자와 절연성 필러를 교반하는 방법은, 건식법, 습식법 중 어느 것이어도 되고, 건식법이 바람직하다. 도전 입자와 절연성 필러를 교반하기 위한 장치는, 예를 들어, 유성식 교반 장치, 진탕기, 래버러토리 믹서, 교반 프로펠러 등을 들 수 있다. 특히, 평균 입경이 비교적 큰 도전 입자를 절연성 필러로 피복시키는 관점에서, 높은 시어가 가해지는 유성식 교반 장치가 바람직하다. 유성식 교반 장치는, 재료 (도전 입자와 절연성 필러의 혼합물) 가 들어 있는 용기를 자전시키면서 공전시키는 방식의 교반 장치를 말한다.The method of stirring electroconductive particle and an insulating filler may be any of a dry method and a wet method, and a dry method is preferable. As an apparatus for stirring electroconductive particle and an insulating filler, an planetary stirring apparatus, a shaker, a laboratory mixer, a stirring propeller, etc. are mentioned, for example. In particular, from the viewpoint of coating the conductive particles having a relatively large average particle diameter with the insulating filler, a planetary stirring device to which a high shear is applied is preferable. The planetary stirring device refers to a stirring device of a system in which a container containing a material (a mixture of conductive particles and insulating filler) is revolved while rotating.

도전 입자 및 절연성 필러는, 상기 서술한 이방성 도전 접착제에서 설명한 도전 입자 및 절연성 필러와 바람직한 범위가 동일하다. 특히, 공정 (A) 에 있어서 도전 입자를 절연성 필러로 피복시키는 관점에서, 건분 상태의 도전 입자를 사용하는 것이 바람직하다.The conductive particles and the insulating filler have the same preferred ranges as the conductive particles and the insulating filler described in the above-described anisotropic conductive adhesive. In particular, from the viewpoint of coating the conductive particles with the insulating filler in the step (A), it is preferable to use the conductive particles in a dry powder state.

[공정 (B)][Step (B)]

공정 (B) 에서는, 제 1 피복 도전 입자와 절연성 바인더를 교반함으로써, 제 2 피복 도전 입자와, 제 1 피복 도전 입자에 있어서의 도전 입자로부터 괴리된 절연성 필러가, 절연성 바인더 중에 분산된 이방성 도전 접착제가 얻어진다.In the step (B), by stirring the first coated conductive particles and the insulating binder, the insulating filler separated from the second coated conductive particles and the conductive particles in the first coated conductive particles is dispersed in the insulating binder. Is obtained.

공정 (B) 에서는, 제 1 피복 도전 입자를 절연성 바인더 중에서 교반함으로써, 제 1 피복 도전 입자에 있어서의 절연성 필러에 도전 입자와의 마찰이나 높은 시어가 가해짐으로써, 이 절연성 필러가 도전 입자로부터 괴리되어, 도전 입자의 표면의 일부가 절연성 필러에 피복된 피복 도전 입자 (제 2 피복 도전 입자) 가 얻어진다. 또, 제 1 피복 도전 입자에 있어서의 도전 입자로부터 괴리된 절연성 필러가, 제 2 피복 도전 입자 간에 개재되기 때문에, 제 2 피복 도전 입자의 응집을 억제할 수 있다. 이와 같이, 공정 (B) 를 실시함으로써, 제 2 피복 도전 입자의 응집을 억제할 수 있어, 절연성 바인더 중에 제 2 피복 도전 입자를 분산시킬 수 있다.In the step (B), the insulating filler is separated from the conductive particles by adding friction with the conductive particles or high shear to the insulating filler in the first coated conductive particles by stirring the first coated conductive particles in the insulating binder. Thus, coated conductive particles (second coated conductive particles) in which part of the surface of the conductive particles is coated with the insulating filler are obtained. Moreover, since the insulating filler which isolate | separated from the electroconductive particle in a 1st covering electroconductive particle is interposed between 2nd covering electroconductive particle, aggregation of a 2nd covering electroconductive particle can be suppressed. Thus, by performing a process (B), aggregation of a 2nd coating conductive particle can be suppressed and a 2nd coating conductive particle can be disperse | distributed in an insulating binder.

제 1 피복 도전 입자와 절연성 바인더를 교반하는 방법은, 특별히 한정되지 않으며, 상기 서술한 공정 (A) 에 있어서의 교반 방법을 채용할 수 있다. 특히, 제 1 피복 도전 입자와 절연성 바인더를 교반하였을 때, 제 1 피복 도전 입자를 구성하는 절연성 필러를 괴리시키는 관점에서, 높은 시어가 가해지는 교반 방법, 예를 들어 유성식 교반 장치를 사용한 교반 방법이 바람직하다. 유성식 교반 장치를 사용함으로써, 제 1 피복 도전 입자에 있어서의 도전 입자와 절연성 필러의 마찰이나 높은 시어가 가해짐으로써, 제 1 피복 도전 입자에 있어서 도전 입자로부터 절연성 필러의 괴리가 발생하는 경우가 있다.The method of stirring the 1st covering electroconductive particle and an insulating binder is not specifically limited, The stirring method in the above-mentioned process (A) can be employ | adopted. In particular, when the first coated conductive particles and the insulating binder are stirred, a stirring method in which a high shear is applied, for example, a stirring method using a planetary stirring device, from the viewpoint of separating the insulating filler constituting the first coated conductive particles, desirable. By using the planetary stirring device, the friction between the conductive particles and the insulating filler in the first coated conductive particles and high shear is applied, so that a deviation of the insulating filler may occur from the conductive particles in the first coated conductive particles. .

이상의 공정 (A) 및 공정 (B) 를 갖는 제조 방법에 의하면, 간이적인 방법으로 절연성 바인더 중에 제 2 피복 도전 입자가 분산된 이방성 도전 접착제가 얻어진다. 이 이방성 도전 접착제를 사용함으로써, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 있다. 또한, 공정 (A) 및 공정 (B) 를 동일 용기, 동일 장치 (유성 교반식 혼합 장치) 로 실시하면, 제조 상의 공수 (工數) 의 면에서도, 컨태미네이션 혼입 방지와 같은 품질 관리의 면에서도, 바람직해진다.According to the manufacturing method which has the above process (A) and a process (B), the anisotropic conductive adhesive agent by which the 2nd coating conductive particle was disperse | distributed in the insulating binder by a simple method is obtained. By using this anisotropic conductive adhesive, the short between the electrode terminals of an electronic component can be suppressed. Moreover, when process (A) and process (B) are performed by the same container and the same apparatus (oil-type mixing apparatus), even from the aspect of manufacturing process, the surface of quality control, such as prevention of contamination mixing, Also, it becomes preferable.

또한, 본 제조 방법은, 필요에 따라, 상기 서술한 공정 (A) 및 공정 (B) 이외의 다른 공정을 추가로 갖고 있어도 된다.In addition, this manufacturing method may further have other processes other than the process (A) and process (B) mentioned above as needed.

<이방성 도전 필름><Anisotropic Conductive Film>

본 실시형태에 관련된 이방성 도전 필름은, 상기 서술한 이방성 도전 접착제로 이루어지는 것이고, 절연성 바인더로 이루어지는 접착제층에 상기 서술한 제 2 피복 도전 입자가 분산되어 있다. 예를 들어, 이방성 도전 필름 전체 (예를 들어, 1.0 ㎜ × 1.0 ㎜) 의 제 2 피복 도전 입자의 개수 밀도 (개/㎟) 와, 이방성 도전 필름 중의 임의로 추출한 좁은 영역 (예를 들어, 0.2 ㎜ × 0.2 ㎜) 에 있어서의 제 2 피복 도전 입자의 개수 밀도 (개/㎟) 의 차가 15 % 이하인 것이 바람직하고, 10 % 이하인 것이 보다 바람직하고, 실질적으로 동일 (일례로서, 5 % 이내) 한 것이 보다 더 바람직하다. 또, 이방성 도전 페이스트로 하여 접속에 사용하는 경우, 일례로서, 상기 동일한 분산성이 얻어지는 것이 바람직하다. 이것은, 지지체 등의 평활면 상에 층상으로 함으로써 확인할 수 있다.The anisotropic conductive film which concerns on this embodiment consists of an anisotropic conductive adhesive mentioned above, and the 2nd coating conductive particle mentioned above is disperse | distributed to the adhesive bond layer which consists of an insulating binder. For example, the number density (piece / mm <2>) of the 2nd covering electroconductive particle of the whole anisotropic conductive film (for example, 1.0 mm x 1.0 mm), and the narrow area | region extracted arbitrarily in the anisotropic conductive film (for example, 0.2 mm) It is preferable that the difference of the number density (piece / mm <2>) of the 2nd covering electroconductive particle in (x 0.2 mm) is 15% or less, It is more preferable that it is 10% or less, It is substantially the same (for example, within 5%) Even more preferred. Moreover, when using for connection as an anisotropic electrically conductive paste, it is preferable that the same dispersibility is obtained as an example. This can be confirmed by making it layered on smooth surfaces, such as a support body.

이와 같이 이방성 도전 필름 전체의 제 2 피복 도전 입자의 개수 밀도와, 이방성 도전 필름의 임의로 추출한 좁은 영역에 있어서의 제 2 피복 도전 입자의 개수 밀도의 차가 작음으로써, 제 2 피복 도전 입자가 필름 전체에 걸쳐서 균일하게 분산되어 있는 것을 확인할 수 있다. 따라서, 도전 입자 포착률이 안정되어, 도통 불량이나 쇼트를 억제할 수 있다. 제 2 피복 도전 입자가 필름 전체에 걸쳐서 균일하게 분산되어 있는 경우, 이방성 도전 필름의 품질 검사 그 자체의 공수도 저감시킬 수 있는 효과가 있다. 균일하게 분산되어 있는 경우, 이레귤러한 응집이 존재하면 발견하기 쉬워지기 때문이다. 그 때문에, 특히 10 m 이상의 장척으로 한 경우에 보다 효과를 발휘하게 된다. 또, 이방성 도전 필름이 10 m 이상, 바람직하게는 50 m 이상의 장척이면, 연속적으로 접속을 실시할 수 있는 점에서, 접속 구조체의 제조 방법의 비용 저감의 효과도 있다. 장척의 상한은 특별히 없지만, 접속 장치의 개량을 최소한에 그치게 하는 점이나, 취급의 관점에서 5000 m 이하가 바람직하고, 1000 m 이하가 보다 바람직하고, 600 m 이하가 보다 더 바람직하다.Thus, since the difference of the number density of the 2nd covering conductive particles of the whole anisotropic conductive film and the number density of the 2nd covering conductive particles in the narrow region extracted arbitrarily of the anisotropic conductive film is small, a 2nd covering conductive particle is made into the whole film. It can be confirmed that it is uniformly dispersed over. Therefore, the electroconductive particle trapping rate is stabilized and the conduction defect and the short can be suppressed. When the 2nd coating conductive particle is disperse | distributed uniformly over the whole film, there exists an effect which can also reduce the man-hour of the quality inspection itself of an anisotropic conductive film. It is because it becomes easy to find when there exists regular aggregation when it is disperse | distributing uniformly. Therefore, the effect is more exhibited especially when the length is set to 10 m or more. Moreover, when anisotropic conductive film is 10 m or more, Preferably it is 50 m or more, since it can connect continuously, there is also the effect of cost reduction of the manufacturing method of a bonded structure. Although there is no long upper limit in particular, 5000 m or less is preferable, 1000 m or less is more preferable, and 600 m or less is more preferable at the point of minimizing improvement of a connection device, and handling.

또, 본 발명과 같이 도전 입자경이 7 ㎛ 이상으로 비교적 큰 경우, 접속되는 전자 부품이 세라믹 기판 등과 같이 표면이 유리 등보다 평활하지 않은 것 (표면에 굴곡을 갖는 것) 의 접속에 적합하다. 또, 이와 같이 비교적 큰 도전 입자가 균일하게 분산되어 있음으로써, 접속되는 전자 부품에 굴곡을 갖고 있어도 접속시의 수지의 유동에 의해 포착의 영향을 잘 받지 않는다. 도전 입자가 응집되어 있는 경우, 굴곡에 의해 도전 입자가 포착되는 단자면이 일정하지 않은 점에서, 단자마다의 포착 상태를 일정하게 유지할 수 없게 될 우려가 생기기 때문이다.Moreover, when the electrically-conductive particle diameter is comparatively large like 7 micrometers or more like this invention, it is suitable for the connection of the electronic component to be connected whose surface is not smoother than glass, such as a ceramic substrate (having curvature on the surface). Moreover, since comparatively large electroconductive particle is disperse | distributed uniformly like this, even if it has the curvature in the connected electronic component, it is hard to be influenced by capture | acquisition by the flow of resin at the time of connection. This is because when the conductive particles are agglomerated, the terminal surface on which the conductive particles are trapped due to bending is not constant, so that the trapped state for each terminal cannot be kept constant.

이방성 도전 필름 중의 제 2 피복 도전 입자의 입자 밀도는, 특히 도통 신뢰성과 쇼트 억제를 양립시킬 수 있으면 특별히 제약은 없지만, 일례로서, 지나치게 작으면 도통 신뢰성을 만족하기 어려워지기 때문에, 20 개/㎟ 이상이 바람직하고, 100 개/㎟ 이상이 보다 바람직하다. 또, 상한으로는 지나치게 크면 쇼트의 발생 리스크가 높아지기 때문에, 일례로서, 3000 개/㎟ 이하가 바람직하고, 2000 개/㎟ 이하가 보다 바람직하고, 1000 개/㎟ 이하가 보다 바람직하다. 이것들은 도전 입자경과 접속되는 단자 사이즈에 따라 적절히 조정하면 된다. 또, 이방성 도전 페이스트를 사용한 경우에도, 일례로서, 상기 동일한 것이 바람직하다. 이것은, 지지체 등의 평활면 상에 층상으로 함으로써 확인할 수 있다.The particle density of the second coated conductive particles in the anisotropic conductive film is not particularly limited as long as both the conduction reliability and the short suppression can be achieved. However, as an example, if it is too small, it becomes difficult to satisfy the conduction reliability. Is preferable and 100 pieces / mm <2> or more is more preferable. Moreover, as an upper limit, since the risk of short generation becomes high, as an example, 3000 piece / mm <2> or less is preferable, 2000 piece / mm <2> or less is more preferable, 1000 piece / mm <2> or less is more preferable. What is necessary is just to adjust these suitably according to the terminal size connected with a conductive particle diameter. Moreover, also when using an anisotropic electrically conductive paste, the same thing is preferable as an example. This can be confirmed by making it layered on smooth surfaces, such as a support body.

이방성 도전 필름 중의 제 2 피복 도전 입자의 평면에서 봤을 때에 있어서의 면적 점유율의 상한은, 80 % 이하인 것이 바람직하고, 75 % 이하인 것이 보다 바람직하고, 70 % 이하인 것이 보다 더 바람직하다. 이와 같이 높은 면적 점유율이 되는 것은, 이방성 도전 필름의 두께와 입자경의 비율에 따라 상이하기도 하지만, 절연성 수지에 제 2 피복 도전 입자가 혼련되면서, 높은 균일성을 갖기 때문이다. 이와 같이 높은 면적 점유율이라도 쇼트의 발생 리스크를 회피할 수 있는 것은, 본 발명의 특징 중 하나라고 할 수 있다. 또, 이방성 도전 페이스트로 하여 접속에 사용하는 경우, 일례로서, 상기 동일한 분산성이 얻어지는 것이 바람직하다. 이것은, 지지체 등의 평활면 상에 층상으로 함으로써 확인할 수 있다.The upper limit of the area occupancy in the plan view of the second coated conductive particles in the anisotropic conductive film is preferably 80% or less, more preferably 75% or less, and even more preferably 70% or less. Such a high area occupancy is due to the high uniformity of the second coating conductive particles being kneaded with the insulating resin, although they may differ depending on the ratio of the thickness and the particle diameter of the anisotropic conductive film. It can be said that one of the features of the present invention can avoid the risk of occurrence of a short even in such a high area occupancy. Moreover, when using for connection as an anisotropic electrically conductive paste, it is preferable that the same dispersibility is obtained as an example. This can be confirmed by making it layered on smooth surfaces, such as a support body.

또, 이방성 도전 필름 중의 제 2 피복 도전 입자의 평면에서 봤을 때에 있어서의 면적 점유율의 하한은, 이방성 도전 필름의 두께와 입자경의 비율에 따라 상이하기도 하지만, 일례로서 0.2 % 보다 크면 최저한 도통 성능을 확보할 수 있고, 5 % 보다 큰 것이 실용상 바람직하고, 10 % 보다 큰 것이 보다 바람직하다. 또, 이방성 도전 페이스트를 사용한 경우에도, 일례로서, 상기 동일한 것이 바람직하다. 이것은, 지지체 등의 평활면 상에 층상으로 함으로써 확인할 수 있다.The lower limit of the area occupancy in the plan view of the second coated conductive particles in the anisotropic conductive film may vary depending on the thickness and the particle diameter ratio of the anisotropic conductive film. It can be ensured and it is preferable practically that it is larger than 5%, and it is more preferable that it is larger than 10%. Moreover, also when using an anisotropic electrically conductive paste, the same thing is preferable as an example. This can be confirmed by making it layered on smooth surfaces, such as a support body.

이방성 도전 필름 중의 제 2 피복 도전 입자의 평면에서 봤을 때에 있어서의 면적 점유율은 광학 현미경이나 금속 현미경, SEM 등의 전자 현미경에 의한 관찰을 기초로 산출할 수 있다. 공지된 화상 해석 소프트웨어 (일례로서, WinROOF (미타니 상사 주식회사) 를 들 수 있다) 를 사용하여 계측해도 된다. 또 면적 점유율의 산출 면적은, 개수 밀도를 구하는 면적의 일례와 동일해도 되고, 보다 큰 면적 (예를 들어, 2 ㎜ × 2 ㎜ 나 5 ㎜ × 5 ㎜) 에서 구해도 된다. 또, 이방성 도전 페이스트로 하여 접속에 사용하는 경우, 일례로서, 상기 동일한 분산성이 얻어지는 것이 바람직하다. 이것은, 지지체 등의 평활면 상에 층상으로 함으로써 확인할 수 있다.The area occupancy in the plan view of the second coated conductive particles in the anisotropic conductive film can be calculated based on observation by an electron microscope such as an optical microscope, a metal microscope, or an SEM. You may measure using well-known image analysis software (For example, WinROOF (Mitani Corporation) is mentioned). Moreover, the calculated area of area occupancy may be the same as an example of the area which calculates | requires a number density, and may calculate | require from a larger area (for example, 2 mm x 2 mm or 5 mm x 5 mm). Moreover, when using for connection as an anisotropic electrically conductive paste, it is preferable that the same dispersibility is obtained as an example. This can be confirmed by making it layered on smooth surfaces, such as a support body.

이방성 도전 필름의 형성 방법으로는, 예를 들어 이방성 도전 접착제를 도포법에 의해 성막하고 건조시키는 방법을 들 수 있다. 이방성 도전 필름의 두께는, 예를 들어 하한은 입자경과 동일해도 되고, 바람직하게는 입자경의 1.3 배 이상 혹은 10 ㎛ 이상으로 할 수 있다. 예를 들어 상한은 40 ㎛ 이하 혹은 입자경의 2 배 이하로 할 수 있다. 또, 이방성 도전 필름은, 박리 필름 상에 형성할 수 있다.As a formation method of an anisotropic conductive film, the method of film-forming and drying an anisotropic conductive adhesive agent by a coating method is mentioned, for example. For example, the lower limit of the thickness of the anisotropic conductive film may be the same as the particle diameter, and preferably 1.3 times or more or 10 μm or more of the particle diameter. For example, an upper limit can be 40 micrometers or less or 2 times or less of a particle diameter. Moreover, an anisotropic conductive film can be formed on a peeling film.

<접속 구조체><Connection structure>

본 실시형태에 관련된 접속 구조체는, 상기 서술한 이방성 도전 필름을 개재하여, 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품이 접속되어 있다. 예를 들어 도 1 에 나타내는 바와 같이, 접속 구조체 (1) 는, 이방성 도전 필름 (2) 중의 도전 입자 (제 2 피복 도전 입자) (3) 를 개재하여, 복수의 단자 (4a) 로 이루어지는 제 1 단자열 (4) 을 구비하는 제 1 전자 부품 (5) 과, 제 1 단자열 (4) 에 대향하고 복수의 단자 (6a) 로 이루어지는 제 2 단자열 (6) 을 구비하는 제 2 전자 부품 (7) 이 접속되어 있다.In the connection structure which concerns on this embodiment, the 1st electronic component and the 2nd electronic component are connected through the anisotropic conductive film mentioned above. For example, as shown in FIG. 1, the bonded structure 1 is the 1st which consists of several terminal 4a through the electrically-conductive particle (2nd covering electroconductive particle) 3 in the anisotropic conductive film 2 A second electronic component 5 having a first electronic component 5 having a terminal string 4 and a second terminal string 6 facing the first terminal string 4 and comprising a plurality of terminals 6a; 7) is connected.

제 1 전자 부품 및 제 2 전자 부품은, 특별히 제한은 없으며, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다. 제 1 전자 부품으로는, 예를 들어, 플렉시블 기판 (FPC : Flexible Printed Circuits), 투명 기판 등을 들 수 있다. 투명 기판은, 투명성이 높은 것이면 특별히 한정은 없으며, 유리 기판, 플라스틱 기판 등을 들 수 있다. 또, 제 2 전자 부품으로는, 예를 들어, 카메라 모듈, IC (Integrated Circuit) 모듈, IC 칩 등을 들 수 있다. 제 2 전자 부품은, 센서가 탑재된 기능성 모듈이어도 된다. 카메라 모듈에서는, 전기적 절연성, 열적 절연성이 우수한 관점에서 세라믹 기판이 사용되는 경우가 있다. 세라믹 기판이나 기능성 모듈은, 소형화 (예를 들어 1 ㎠ 이하) 에서의 치수 안정성이 우수하다는 등의 이점이 있다.There is no restriction | limiting in particular in a 1st electronic component and a 2nd electronic component, According to the objective, it can select suitably. As a 1st electronic component, a flexible substrate (FPC: Flexible Printed Circuits), a transparent substrate, etc. are mentioned, for example. The transparent substrate is not particularly limited as long as it has high transparency, and examples thereof include a glass substrate and a plastic substrate. Moreover, as a 2nd electronic component, a camera module, an IC (Integrated Circuit) module, an IC chip, etc. are mentioned, for example. The second electronic component may be a functional module on which a sensor is mounted. In the camera module, a ceramic substrate is sometimes used from the viewpoint of excellent electrical insulation and thermal insulation. Ceramic substrates and functional modules have advantages such as excellent dimensional stability in downsizing (for example, 1 cm 2 or less).

<접속 구조체의 제조 방법><Method for Manufacturing Connected Structure>

본 실시형태에 관련된 접속 구조체의 제조 방법은, 제 1 단자열 (4) 을 구비하는 제 1 전자 부품 (5) 과, 제 1 단자열 (4) 에 대향하는 제 2 단자열 (6) 을 구비하는 제 2 전자 부품 (7) 을, 상기 서술한 이방성 도전 필름을 개재하여 압착하는 것을 포함한다. 이로써, 제 1 단자열 (4) 과 제 2 단자열 (6) 을 도전 입자 (3) 를 개재하여 접속시킬 수 있다.The manufacturing method of the bonded structure which concerns on this embodiment is equipped with the 1st electronic component 5 provided with the 1st terminal string 4, and the 2nd terminal string 6 which opposes the 1st terminal string 4. And compressing the second electronic component 7 to be made through the anisotropic conductive film described above. Thereby, the 1st terminal string 4 and the 2nd terminal string 6 can be connected through the electroconductive particle 3.

제 1 전자 부품 (5) 및 제 2 전자 부품 (7) 은, 상기 서술한 접속 구조체에 있어서의 제 1 전자 부품 (5) 및 제 2 전자 부품 (7) 과 동일하다. 또, 이방성 도전 접착제에 대해서도, 상기 서술한 이방성 도전 접착제와 동일하다.The 1st electronic component 5 and the 2nd electronic component 7 are the same as the 1st electronic component 5 and the 2nd electronic component 7 in the connection structure mentioned above. Moreover, also about an anisotropic conductive adhesive agent, it is the same as that of the anisotropic conductive adhesive agent mentioned above.

실시예Example

이하, 본 기술의 제 1 실시예에 대해 설명한다.Hereinafter, a first embodiment of the present technology will be described.

[실험예 1]Experimental Example 1

[이방성 도전 접착제 (수지 조성물) 의 제조][Production of Anisotropic Conductive Adhesive (Resin Composition)]

평균 입경 3 ㎛ 의 도전 입자 (대경 입자, Ni 도금 (두께 115 ㎚), 수지 코어, 비중 3.44 g/㎤) 를 1 g 과, 절연성 필러로서 평균 입경 10 ㎚ 의 실리카 필러 (소입자경 필러, 제품명 : YA010C, 비중 2.2 g/㎤) 를 0.5 g (도전 입자에 대하여 78.2 체적%) 을, 유성식 교반 장치 (제품명 : 아와토리 렌타로, THINKY 사 제조) 에 투입하고, 5 분간 교반하여, 도전 입자와 절연성 필러의 혼합물을 제조하였다.1 g of conductive particles (large diameter particles, Ni plating (thickness 115 nm), resin core, specific gravity 3.44 g / cm 3) having an average particle diameter of 3 μm, and a silica filler (small particle diameter filler, product particle size: 10 nm) as an insulating filler 0.5 g (78.2% by volume of conductive particles) was added to YA010C and specific gravity 2.2 g / cm 3) to a planetary stirring device (product name: Awatori Renta, manufactured by THINKY), and stirred for 5 minutes to conduct conductive particles and A mixture of insulating fillers was prepared.

절연성 필러의 개수 비율에 대해서는,「적당량」,「과잉」,「부족」중 어느 것으로 평가하였다. 구체적으로, 도전 입자에 대한 실리카 필러의 개수 비율, 즉, 도전 입자에 대한 실리카 필러의 양이 1.56 체적% 초과, 156 체적% 미만의 범위에 있는 경우를「적당량」으로 평가하였다. 또, 도전 입자에 대한 실리카 필러의 양이 156 체적% 를 초과하는 경우를「과잉」으로 평가하였다. 또한, 도전 입자에 대한 실리카 필러의 양이 1.56 체적% 미만인 경우를「부족」으로 평가하였다.About the ratio of the number of insulating fillers, it evaluated with "suitable quantity", "excess", and "lack". Specifically, the case where the ratio of the number of silica fillers to the conductive particles, that is, the amount of the silica fillers to the conductive particles, was in the range of more than 1.56% by volume and less than 156% by volume was evaluated as "suitable amount." Moreover, when the quantity of the silica filler with respect to electroconductive particle exceeds 156 volume%, it evaluated as "excess." In addition, the case where the quantity of the silica filler with respect to electroconductive particle is less than 1.56 volume% was evaluated as "lack".

도전 입자와 절연성 필러의 혼합물과, 이하의 각 성분으로 이루어지는 절연성 바인더를 유성식 교반 장치 (제품명 : 아와토리 렌타로, THINKY 사 제조) 에 투입하고, 1 분간 교반하여 이방성 도전 접착제를 제조하였다.A mixture of the conductive particles and the insulating filler and an insulating binder composed of the following components were added to a planetary stirring device (product name: Awatori Renta, manufactured by THINKY), and stirred for 1 minute to prepare an anisotropic conductive adhesive.

절연성 바인더는, 에폭시 수지 (EP828 : 미츠비시 화학사 제조) ; 20 g 과, 페녹시 수지 (YP-50 : 신닛테츠 스미킨 화학사 제조) ; 30 g 과, 경화제 (노바큐어 3941HP, 아사히 화성사 제조) ; 50 g 을 톨루엔으로 희석시켜 조정하고, 혼합시킨 것을 사용하였다.The insulating binder is an epoxy resin (EP828: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation); 20 g and phenoxy resin (YP-50: manufactured by Shinnitetsu Sumkin Chemical Co., Ltd.); 30 g and a curing agent (Novacure 3941HP, manufactured by Asahi Chemical Co., Ltd.); 50 g of the mixture was diluted with toluene, adjusted, and mixed.

[이방성 도전 필름 (필름체) 의 제조][Production of Anisotropic Conductive Film (Film Body)]

이방성 도전 접착제를 PET 필름 상에 도포하고, 80 ℃ 의 오븐에서 5 분간 건조시켜, 이방성 도전 접착제로 이루어지는 점착층을 PET 필름 상에 형성하였다. 이로써, 두께 12 ㎛ (대경 입자의 입경의 4 배) 의 이방성 도전 필름을 얻었다. 또한, 이방성 도전 필름 내의 도전 입자의 개수 밀도가 약 5000 개/㎟ 가 되도록 조정하였다.The anisotropic conductive adhesive was apply | coated on PET film, it dried for 5 minutes in 80 degreeC oven, and the adhesion layer which consists of an anisotropic conductive adhesive was formed on PET film. This obtained the anisotropic conductive film of thickness 12micrometer (4 times the particle diameter of a large diameter particle). Moreover, it adjusted so that the number density of the electroconductive particle in an anisotropic conductive film might be about 5000 piece / mm <2>.

[실험예 2]Experimental Example 2

절연성 필러의 배합량을 0.15 g (도전 입자에 대하여 23.5 체적%) 으로 변경하여 이방성 도전 접착제를 제조한 것 이외에는, 실험예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하고, 평가를 실시하였다.The anisotropic conductive film was produced and evaluated similarly to Experimental Example 1 except having changed the compounding quantity of the insulating filler to 0.15g (23.5 volume% with respect to the electrically-conductive particle), and manufactured the anisotropic conductive adhesive agent.

[실험예 3]Experimental Example 3

절연성 필러의 배합량을 0.05 g (도전 입자에 대하여 7.8 체적%) 으로 변경하여 이방성 도전 접착제를 제조한 것 이외에는, 실험예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하고, 평가를 실시하였다.The anisotropic conductive film was produced and evaluated similarly to Experimental Example 1 except having changed the compounding quantity of an insulating filler to 0.05 g (7.8 volume% with respect to electrically conductive particle), and manufactured the anisotropic conductive adhesive.

[실험예 4]Experimental Example 4

절연성 필러를 배합하지 않고 이방성 도전 접착제를 제조한 것 이외에는, 실험예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하고, 평가를 실시하였다.Except having manufactured the anisotropic conductive adhesive agent without mix | blending an insulating filler, it carried out similarly to Experimental example 1, and produced the anisotropic conductive film, and evaluated.

[실험예 5]Experimental Example 5

절연성 필러의 배합량을 1 g (도전 입자에 대하여 156 체적%) 으로 변경하여 이방성 도전 접착제를 제조한 것 이외에는, 실험예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하고, 평가를 실시하였다.Anisotropic conductive films were prepared in the same manner as in Experimental Example 1 except that the compounding amount of the insulating filler was changed to 1 g (156 vol% based on the conductive particles) to prepare an anisotropic conductive adhesive, and evaluation was performed.

[실험예 6]Experimental Example 6

절연성 필러의 배합량을 0.01 g (도전 입자에 대하여 1.56 체적%) 으로 변경하여 이방성 도전 접착제를 제조한 것 이외에는, 실험예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하고, 평가를 실시하였다.The anisotropic conductive film was produced and evaluated similarly to Experimental Example 1 except having changed the compounding quantity of an insulating filler to 0.01g (1.56 volume% with respect to electroconductive particle), and manufactured the anisotropic conductive adhesive.

[절연성 필러의 유무][With or without insulating filler]

이방성 도전 필름 중의 도전 입자의 단면을 주사형 전자 현미경으로 관찰하여, 도전 입자의 표면에 절연성 필러가 부착되어 있는지의 여부를 확인하였다. 도전 입자의 표면에 절연성 필러가 부착되어 있는 경우를「유」로 평가하고, 부착되어 있지 않은 경우를「무」로 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The cross section of the electroconductive particle in an anisotropic conductive film was observed with the scanning electron microscope, and it was confirmed whether the insulating filler adhered to the surface of the electroconductive particle. The case where the insulating filler adhered to the surface of the electroconductive particle was evaluated as "yes", and the case where it was not attached was evaluated as "nothing". The results are shown in Table 1.

[도전 입자의 개수 밀도의 차][Difference in Number Density of Conductive Particles]

이방성 도전 필름 전체 (1.0 ㎜ × 1.0 ㎜) 의 도전 입자의 개수 밀도 (개/㎟) 와, 이 이방성 도전 필름으로부터 임의로 10 개 지점 추출한 0.2 ㎜ × 0.2 ㎜ 의 영역에 있어서의 도전 입자의 개수 밀도 (개/㎟) 의 차를 평가하였다. 평가 기준을 이하에 나타낸다. A 또는 B 가 바람직하다. 결과를 표 1 에 나타낸다. 또한, 개수 밀도의 차는, 임의로 추출한 소정 영역에 있어서의 도전 입자의 개수 밀도의 최대값과 최소값의 차이다.The number density of the conductive particles of the entire anisotropic conductive film (1.0 mm × 1.0 mm) (number / mm 2) and the number density of the conductive particles in the 0.2 mm × 0.2 mm region arbitrarily extracted 10 points from the anisotropic conductive film ( Pieces / mm 2) was evaluated. Evaluation criteria are shown below. A or B is preferred. The results are shown in Table 1. In addition, the difference of number density is the difference of the maximum value and minimum value of the number density of the electroconductive particle in the predetermined area | region extracted arbitrarily.

A : 개수 밀도차가 10 % 이하A: Number density difference is 10% or less

B : 개수 밀도차가 10 % 보다 크고 15 % 이하B: Number density difference is larger than 10% and 15% or less

C : 개수 밀도차가 15 % 초과 (보다 크다)C: number density difference is more than 15% (greater than)

[접속 구조체의 제조][Manufacture of bonded structure]

플렉시블 기판 (구리 배선 : 라인/스페이스 (L/S) = 25 ㎛/25 ㎛, 단자 높이 : 8 ㎛, 폴리이미드 두께 : 25 ㎛) 과, ITO 베타 유리 (두께 : 0.7 ㎜) 를, 제조된 이방성 도전 필름을 사용하여, 가열 가압 부재에 의해 가열 가압 (180 ℃, 2 ㎫, 20 초) 하여, 접속 구조체를 얻었다.A flexible substrate (copper wiring: line / space (L / S) = 25 µm / 25 µm, terminal height: 8 µm, polyimide thickness: 25 µm), and ITO beta glass (thickness: 0.7 mm) were manufactured. Using the electrically conductive film, it heated and pressurized (180 degreeC, 2 Mpa, 20 second) with the heating press member, and obtained the bonded structure.

[초기 저항값][Initial resistance value]

디지털 멀티미터 (요코가와 전기사 제조) 를 사용하여, 4 단자법으로 전류 1 ㎃ 를 흘렸을 때의 접속 구조체의 도통 저항값을 측정하였다. 접속 구조체의 도통 저항값이 2.0 Ω 미만인 평가를「OK」로 하고, 도통 저항값이 2.0 Ω 이상인 평가를「NG」로 하였다. 실험예 1 ∼ 3 에 있어서, 전부 OK 였다.Using the digital multimeter (manufactured by Yokogawa Electric Co., Ltd.), the conduction resistance value of the connected structure when a current of 1 mA was flown by the four-terminal method was measured. The evaluation whose conduction resistance value of a bonded structure is less than 2.0 ohms was made into "OK", and the evaluation whose conduction resistance value is 2.0 ohms or more was made into "NG". In Experimental Examples 1-3, all were OK.

[접속 신뢰 시험 후의 저항값][Resistance value after connection reliability test]

접속 구조체를 60 ℃, 상대 습도 95 % 의 분위기하에 1000 시간 방치 후, 이 접속 구조체의 도통 저항값을 초기 저항값과 동일한 방법으로 측정하였다. 평가 기준은, 5.0 Ω 미만인 평가를「OK」로 하고, 도통 저항값이 5.0 Ω 이상인 평가를「NG」로 하였다. 실험예 1 ∼ 3 에 있어서, 전부 OK 였다.After leaving a bonded structure at 60 degreeC and the atmosphere of 95% of a relative humidity for 1000 hours, the conduction resistance value of this bonded structure was measured by the method similar to an initial stage resistance value. Evaluation criteria made evaluation of less than 5.0 ohms "OK", and made the evaluation of conduction resistance value 5.0 ohms or more "NG". In Experimental Examples 1-3, all were OK.

[도전 입자 포착수][Conductive Particle Capture]

접속 구조체 샘플에 대해, 대향하는 단자로 포착된 도전 입자수에 대해 실험예 1 ∼ 3 에서는 충분한 수가 포착되어 있는 것을 확인하였다. 또, 실험예 1 ∼ 3 과 실험예 4 ∼ 6 에서 포착 상태를 비교하면, 실험예 1 ∼ 3 의 쪽이 각 범프에 있어서의 포착수는 균일한 경향을 나타냈다.About the bonded structure sample, it confirmed that the sufficient number was captured by Experimental Examples 1-3 with respect to the electroconductive particle number captured by the opposing terminal. Moreover, when the capture | acquisition state was compared in Experimental Examples 1-3 and Experimental Examples 4-6, Experimental Examples 1-3 showed the uniform tendency of the number of capture | acquisition in each bump.

[쇼트][short]

초기 저항값의 평가에서 사용한 것과 동일한 접속 구조체를 제조하고, 인접하는 단자 간의 쇼트 발생 유무를 평가하였다. 쇼트 발생률이 50 ppm 이하일 때의 평가를「OK」로 하고, 쇼트 발생률이 50 ppm 을 초과하였을 때의 평가를「NG」로 하였다. 실험예 1 ∼ 3 에 있어서, 전부 OK 였다.The same bonded structure used in the evaluation of the initial resistance value was manufactured, and the presence or absence of short generation between adjacent terminals was evaluated. The evaluation when a shot incidence rate is 50 ppm or less was made into "OK", and the evaluation when a shot incidence rate exceeded 50 ppm was made into "NG". In Experimental Examples 1-3, all were OK.

Figure pct00001
Figure pct00001

실험예 1 ∼ 3 에서는, 도전 입자에 대한, 입자경이 도전 입자의 입자경의 0.02 % 이상 5.0 % 이하인 절연성 필러의 양이 1.56 체적% 초과 156 체적% 미만으로 하여, 도전 입자와 절연성 필러를 교반함으로써, 이방성 도전 필름에 있어서의 도전 입자 (제 2 피복 도전 입자) 의 개수 밀도의 차를 작게 할 수 있는 것을 알 수 있었다. 특히, 실험예 1 ∼ 3 으로부터 7.8 ∼ 78.2 체적% 로 하면 양호한 상태가 얻어지는 것을 알 수 있다. 즉, 도전 입자의 분산성이 양호한 것을 알 수 있었다.In Experimental Examples 1-3, the amount of the insulating filler whose particle diameter is 0.02% or more and 5.0% or less of the particle diameter with respect to electroconductive particle was made more than 1.56 volume% and less than 156 volume%, and by stirring a conductive particle and an insulating filler, It was found that the difference in the number density of the conductive particles (second coated conductive particles) in the anisotropic conductive film can be made small. In particular, it can be seen from Experimental Examples 1 to 3 that a favorable state can be obtained by setting it to 7.8 to 78.2% by volume. That is, it was found that the dispersibility of the conductive particles is good.

실험예 1 ∼ 3 에 있어서, 필름 단면에 있어서의 도전 입자의 SEM 화상 관찰을 실시한 결과, 절연성 필러의 피복 상태를 확인할 수 있었다. 또한, 이와 같이 하여 얻어진 절연성 바인더 중의 제 2 피복 도전 입자에 있어서, 절연성 필러의 피복의 일부는 잔존하는 경우가 있다. 이 도전 입자 표면의 절연성 필러의 피복의 잔존은, 실험예 1 ∼ 3 에 관련된 제 2 피복 도전 입자의 전자 현미경 (SEM) 에 의한 관찰로부터 확인할 수 있었다.In Experimental Examples 1-3, SEM image observation of the electroconductive particle in a film cross section was performed, and the coating | coating state of the insulating filler was confirmed. In addition, in the 2nd covering electroconductive particle in the insulating binder obtained in this way, a part of coating | cover of an insulating filler may remain. Remaining | survival of the coating | cover of the insulating filler on the surface of this electrically conductive particle was confirmed from the observation by the electron microscope (SEM) of the 2nd coating conductive particle which concerns on Experimental Examples 1-3.

또, 실험예 1 ∼ 3 에서는, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 있는 것을 알 수 있었다. 또한, 실험예 1 ∼ 3 에서는, 도전 입자 포착률이 양호하고, 초기 저항값, 신뢰성 시험 후의 저항값의 평가도 양호한 것을 알 수 있었다. 또한, 실험예 1, 2 에서는, 특히 도전 입자의 분산성이 보다 양호한 것을 알 수 있었다.Moreover, in Experimental Examples 1-3, it turned out that the short between the electrode terminals of an electronic component can be suppressed. Moreover, in Experimental Examples 1-3, it turned out that the electroconductive particle capture | acquisition rate is favorable and evaluation of the resistance value after initial stage resistance value and the reliability test was also favorable. Moreover, in Experimental example 1 and 2, it turned out especially that the dispersibility of electroconductive particle is more favorable.

입자경이 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 5.0 % 인 절연성 필러를 배합하지 않았던 실험예 4 에서는, 도전 입자의 개수 밀도의 차를 작게 할 수 없는 것을 알 수 있었다. 즉, 실험예 4 에서는, 도전 입자의 분산성이 양호하지 않은 것을 알 수 있었다. 또, 실험예 4 에서는, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 없고, 도전 입자 포착률이 양호하지 않은 것을 알 수 있었다. 또, 실험예 4 에서는, 실시예 1 ∼ 3 과 비교하면 초기 저항값, 신뢰성 시험 후의 저항값의 평가가 모두 양호하지 않은 것을 알 수 있었다.In Experimental Example 4 in which the particle diameter was not blended with an insulating filler having 0.02 to 5.0% of the particle size of the conductive particles, it was found that the difference in the number density of the conductive particles could not be reduced. That is, in Experimental Example 4, it was found that the dispersibility of the conductive particles was not good. In addition, in Experimental Example 4, it was found that the short between the electrode terminals of the electronic component could not be suppressed and that the conductive particle capture ratio was not good. Moreover, in Experimental Example 4, it turned out that evaluation of the initial stage resistance value and the resistance value after a reliability test was not favorable compared with Examples 1-3.

도전 입자에 대한, 입자경이 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.5 % 인 절연성 필러의 양을 156 체적% 로 한 실험예 5 에서는, 도전 입자의 개수 밀도의 차를 작게 할 수 없는 것을 알 수 있었다. 즉, 실험예 5 에서는, 입자경이 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.5 % 인 절연성 필러의 개수 비율이 과잉이었기 때문에, 도전 입자의 분산성이 양호하지 않은 것을 알 수 있었다. 또, 실험예 5 에서는, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 없고, 도전 입자 포착률이 양호하지 않은 것을 알 수 있었다. 또, 실험예 5 에서는, 실시예 1 ∼ 3 과 비교하면 초기 저항값, 신뢰성 시험 후의 저항값의 평가가 모두 양호하지 않은 것을 알 수 있었다.In Experimental Example 5 in which the amount of the insulating filler having a particle size of 0.02 to 0.5% of the particle size of the conductive particles with respect to the conductive particles was 156% by volume, it was found that the difference in the number density of the conductive particles could not be reduced. That is, in Experimental Example 5, since the number ratio of the insulating filler whose particle diameter is 0.02 to 0.5% of the particle diameter of electroconductive particle was excessive, it turned out that the dispersibility of electroconductive particle is not favorable. Moreover, in Experimental Example 5, it turned out that the short between the electrode terminals of an electronic component cannot be suppressed, and the electroconductive particle capture rate is not favorable. Moreover, in Experimental Example 5, compared with Examples 1-3, it turned out that evaluation of the initial stage resistance value and the resistance value after a reliability test was neither favorable.

도전 입자에 대한, 입자경이 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.5 % 인 절연성 필러의 양을 1.57 체적% 로 한 실험예 6 에서는, 도전 입자의 개수 밀도의 차를 작게 할 수 없는 것을 알 수 있었다. 즉, 실험예 6 에서는, 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.5 % 의 입자경인 절연성 필러의 개수 비율이 부족하였기 때문에, 도전 입자의 분산성이 양호하지 않은 것을 알 수 있었다. 또, 실험예 6 에서는, 실시예 1 ∼ 3 과 비교하면 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 없고, 도전 입자 포착률이 양호하지 않은 것을 알 수 있었다.In Experimental Example 6 in which the amount of the insulating filler having a particle size of 0.02 to 0.5% of the particle size of the conductive particles to 1.57% by volume with respect to the conductive particles, it was found that the difference in the number density of the conductive particles could not be reduced. That is, in Experimental Example 6, it was found that the dispersibility of the conductive particles was not good because the ratio of the number of the insulating fillers having the particle diameter of 0.02 to 0.5% of the particle diameter of the conductive particles was insufficient. Moreover, in Experimental Example 6, compared with Examples 1-3, the short between the electrode terminals of an electronic component was not able to be suppressed, and it turned out that the electroconductive particle capture rate is not favorable.

이하, 본 기술의 제 2 실시예에 대해 설명한다.Hereinafter, a second embodiment of the present technology will be described.

[실시예 1]Example 1

[이방성 도전 접착제의 제조][Production of Anisotropic Conductive Adhesive]

평균 입경 20 ㎛ 의 도전 입자 (Au 도금 (외층, 두께 34 ㎚)/Ni 도금 (내층, 두께 200 ㎚), 수지 코어, 비중 1.4 g/㎤) 를 1 g 과, 절연성 필러로서 평균 입경 10 ㎚ 의 실리카 필러 (제품명 : YA010C, 비중 2.2 g/㎤) 를 0.5 g (도전 입자에 대하여 38.7 체적%) 을, 유성식 교반 장치 (제품명 : 아와토리 렌타로, THINKY 사 제조) 에 투입하고, 5 분간 교반하여, 도전 입자와 절연성 필러의 혼합물을 제조하였다.1 g of conductive particles (Au plating (outer layer, thickness 34 nm) / Ni plating (inner layer, thickness 200 nm), resin core, specific gravity 1.4 g / cm 3) having an average particle diameter of 20 μm and an insulating filler having an average particle diameter of 10 nm 0.5 g (38.7% by volume of conductive particles) of a silica filler (product name: YA010C, specific gravity 2.2 g / cm 3) was added to a planetary stirring device (product name: manufactured by THINKY Co., Ltd.), and stirred for 5 minutes. Thus, a mixture of conductive particles and insulating filler was prepared.

절연성 필러의 개수 비율에 대해서는,「적당량」,「과잉」,「부족」중 어느 것으로 평가하였다. 구체적으로, 도전 입자에 대한 실리카 필러의 개수 비율, 즉, 도전 입자에 대한 실리카 필러의 양이 0.78 ∼ 77 체적% 의 범위에 있는 경우를「적당량」으로 평가하였다. 또, 도전 입자에 대한 실리카 필러의 양이 77 체적% 를 초과하는 경우를「과잉」으로 평가하였다. 또한, 도전 입자에 대한 실리카 필러의 양이 0.78 체적% 미만인 경우를「부족」으로 평가하였다.About the ratio of the number of insulating fillers, it evaluated with "suitable quantity", "excess", and "lack". Specifically, the case where the number ratio of the silica filler to the conductive particles, that is, the amount of the silica filler to the conductive particles is in the range of 0.78 to 77% by volume was evaluated as "appropriate amount". Moreover, when the quantity of the silica filler with respect to electroconductive particle exceeded 77 volume%, it evaluated as "excess." In addition, the case where the quantity of the silica filler with respect to electroconductive particle is less than 0.78 volume% was evaluated as "lack".

도전 입자와 절연성 필러의 혼합물과, 이하의 각 성분으로 이루어지는 절연성 바인더를 유성식 교반 장치 (제품명 : 아와토리 렌타로, THINKY 사 제조) 에 투입하고, 1 분간 교반하여 이방성 도전 접착제를 제조하였다.A mixture of the conductive particles and the insulating filler and an insulating binder composed of the following components were added to a planetary stirring device (product name: Awatori Renta, manufactured by THINKY), and stirred for 1 minute to prepare an anisotropic conductive adhesive.

절연성 바인더는, 에폭시 수지 (EP828 : 미츠비시 화학사 제조) ; 20 g 과, 페녹시 수지 (YP-50 : 신닛테츠 스미킨 화학사 제조) ; 30 g 과, 경화제 (노바큐어 3941HP, 아사히 화성사 제조) ; 50 g 을 톨루엔으로 희석, 혼합시킨 것을 사용하였다.The insulating binder is an epoxy resin (EP828: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation); 20 g and phenoxy resin (YP-50: manufactured by Shinnitetsu Sumkin Chemical Co., Ltd.); 30 g and a curing agent (Novacure 3941HP, manufactured by Asahi Chemical Co., Ltd.); 50 g of which was diluted with toluene and mixed was used.

[이방성 도전 필름의 제조][Production of Anisotropic Conductive Film]

이방성 도전 접착제를 PET 필름 상에 도포하고, 80 ℃ 의 오븐에서 5 분간 건조시켜, 이방성 도전 접착제로 이루어지는 점착층을 PET 필름 상에 형성하였다. 이로써, 두께 25 ㎛ 의 이방성 도전 필름을 얻었다. 또한, 이방성 도전 필름 내의 도전 입자의 개수 밀도가 약 300 개/㎟ 가 되도록 조정하였다.The anisotropic conductive adhesive was apply | coated on PET film, it dried for 5 minutes in 80 degreeC oven, and the adhesion layer which consists of an anisotropic conductive adhesive was formed on PET film. This obtained the 25-micrometer-thick anisotropic conductive film. In addition, it adjusted so that the number density of the electroconductive particle in an anisotropic conductive film might be about 300 piece / mm <2>.

[절연성 필러의 유무][With or without insulating filler]

이방성 도전 필름 중의 도전 입자의 단면을 주사형 전자 현미경으로 관찰하여, 도전 입자의 표면에 절연성 필러가 부착되어 있는지의 여부를 확인하였다. 도전 입자의 표면에 절연성 필러가 부착되어 있는 경우를「유」로 평가하고, 부착되어 있지 않은 경우를「무」로 평가하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.The cross section of the electroconductive particle in an anisotropic conductive film was observed with the scanning electron microscope, and it was confirmed whether the insulating filler adhered to the surface of the electroconductive particle. The case where the insulating filler adhered to the surface of the electroconductive particle was evaluated as "yes", and the case where it was not attached was evaluated as "nothing". The results are shown in Table 2.

[도전 입자의 개수 밀도의 차][Difference in Number Density of Conductive Particles]

이방성 도전 필름 전체 (1.0 ㎜ × 1.0 ㎜) 의 도전 입자의 개수 밀도 (개/㎟) 와, 이 이방성 도전 필름으로부터 임의로 10 개 지점 추출한 0.2 ㎜ × 0.2 ㎜ 의 영역에 있어서의 도전 입자의 개수 밀도 (개/㎟) 의 차를 평가하였다. 평가 기준을 이하에 나타낸다. A 또는 B 가 바람직하다. 또한, 개수 밀도의 차는, 임의로 추출한 소정 영역에 있어서의 도전 입자의 개수 밀도의 최대값과 최소값의 차이다. 결과를 표 2 에 나타낸다.The number density of the conductive particles of the entire anisotropic conductive film (1.0 mm × 1.0 mm) (number / mm 2) and the number density of the conductive particles in the 0.2 mm × 0.2 mm region arbitrarily extracted 10 points from the anisotropic conductive film ( Pieces / mm 2) was evaluated. Evaluation criteria are shown below. A or B is preferred. In addition, the difference of number density is the difference of the maximum value and minimum value of the number density of the electroconductive particle in the predetermined area | region extracted arbitrarily. The results are shown in Table 2.

A : 개수 밀도차가 10 % 이하A: Number density difference is 10% or less

B : 개수 밀도차가 10 % 보다 크고 15 % 이하B: Number density difference is larger than 10% and 15% or less

C : 개수 밀도차가 15 % 초과 (보다 크다)C: number density difference is more than 15% (greater than)

[접속 구조체의 제조][Manufacture of bonded structure]

플렉시블 기판 (구리 배선 : 라인/스페이스 (L/S) = 100 ㎛/100 ㎛, 단자 높이 : 12 ㎛, 폴리이미드 두께 : 25 ㎛) 과, 알루미나제 세라믹 기판 (금/텅스텐 배선 : 라인/스페이스 (L/S) = 100 ㎛/100 ㎛, 배선 높이 : 10 ㎛, 기판 두께 : 0.4 ㎜) 을, 제조된 이방성 도전 필름을 사용하여, 가열 가압 부재에 의해 가열 가압 (180 ℃, 1 ㎫, 20 초) 하여, 접속 구조체를 얻었다.Flexible substrate (copper wiring: line / space (L / S) = 100 µm / 100 µm, terminal height: 12 µm, polyimide thickness: 25 µm), and alumina ceramic substrate (gold / tungsten wiring: line / space ( L / S) = 100 µm / 100 µm, wiring height: 10 µm, substrate thickness: 0.4 mm, using a manufactured anisotropic conductive film, heat pressurization (180 ° C, 1 MPa, 20 seconds) with a heating press member ) To obtain a bonded structure.

[초기 저항값][Initial resistance value]

디지털 멀티미터 (요코가와 전기사 제조) 를 사용하여, 4 단자법으로 전류 1 ㎃ 를 흘렸을 때의 접속 구조체의 도통 저항값을 측정하였다. 접속 구조체의 도통 저항값이 1.0 Ω 미만인 평가를「OK」로 하고, 도통 저항값이 1.0 Ω 이상인 평가를「NG」로 하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.Using the digital multimeter (manufactured by Yokogawa Electric Co., Ltd.), the conduction resistance value of the connected structure when a current of 1 mA was flown by the four-terminal method was measured. The evaluation whose conduction resistance value of a bonded structure is less than 1.0 ohm was made into "OK", and the evaluation whose conduction resistance value is 1.0 ohm or more was made into "NG". The results are shown in Table 2.

[접속 신뢰 시험 후의 저항값][Resistance value after connection reliability test]

접속 구조체를 60 ℃, 상대 습도 95 % 의 분위기하에 1000 시간 방치 후, 이 접속 구조체의 도통 저항값을 초기 저항값과 동일한 방법으로 측정하였다. 평가 기준은, 초기 저항값과 동일하게 하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.After leaving a bonded structure at 60 degreeC and the atmosphere of 95% of a relative humidity for 1000 hours, the conduction resistance value of this bonded structure was measured by the method similar to an initial stage resistance value. Evaluation criteria were made the same as the initial resistance value. The results are shown in Table 2.

[도전 입자 포착수][Conductive Particle Capture]

접속 구조체 샘플에 대해, 대향하는 단자로 포착된 도전 입자수를 세고, 전체 단자수 150 개로 포착된 도전 입자수의 평균값을 구하고, 이 평균값을 이하의 기준으로 평가하였다. 평가 기준을 이하에 나타낸다. A 또는 B 가 바람직하다. 결과를 표 2 에 나타낸다.About the bonded structure sample, the number of the electroconductive particle captured by the opposing terminal was counted, the average value of the number of electroconductive particle captured by the total number of terminal 150 was calculated | required, and this average value was evaluated based on the following references | standards. Evaluation criteria are shown below. A or B is preferred. The results are shown in Table 2.

A : 5 개 이상A: 5 or more

B : 3 ∼ 4 개B: 3-4 pieces

C : 2 개 미만C: less than 2

[쇼트][short]

초기 저항값의 평가에서 사용한 것과 동일한 접속 구조체를 제조하고, 인접하는 단자 간의 쇼트 발생 유무를 평가하였다. 쇼트 발생률이 50 ppm 이하일 때의 평가를「OK」로 하고, 쇼트 발생률이 50 ppm 을 초과하였을 때의 평가를「NG」로 하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.The same bonded structure used in the evaluation of the initial resistance value was manufactured, and the presence or absence of short generation between adjacent terminals was evaluated. The evaluation when a shot incidence rate is 50 ppm or less was made into "OK", and the evaluation when a shot incidence rate exceeded 50 ppm was made into "NG". The results are shown in Table 2.

[실시예 2]Example 2

절연성 필러의 배합량을 0.15 g (도전 입자에 대하여 11.6 체적%) 으로 변경하여 이방성 도전 접착제를 제조한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하고, 평가를 실시하였다.The anisotropic conductive film was produced and evaluated similarly to Example 1 except having changed the compounding quantity of the insulating filler to 0.15g (11.6 volume% with respect to the electrically-conductive particle), and manufactured the anisotropic conductive adhesive agent.

[실시예 3]Example 3

절연성 필러의 배합량을 0.05 g (도전 입자에 대하여 3.9 체적%) 으로 변경하여 이방성 도전 접착제를 제조한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하고, 평가를 실시하였다.The anisotropic conductive film was produced and evaluated similarly to Example 1 except having changed the compounding quantity of the insulating filler to 0.05g (3.9 volume% with respect to the electrically-conductive particle), and manufactured the anisotropic conductive adhesive agent.

[비교예 1]Comparative Example 1

절연성 필러를 배합하지 않고 이방성 도전 접착제를 제조한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하고, 평가를 실시하였다.Except having manufactured the anisotropic conductive adhesive agent without mix | blending an insulating filler, it carried out similarly to Example 1, and produced the anisotropic conductive film and evaluated.

[비교예 2]Comparative Example 2

절연성 필러의 배합량을 1.0 g (도전 입자에 대하여 77.3 체적%) 으로 변경하여 이방성 도전 접착제를 제조한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하고, 평가를 실시하였다.The anisotropic conductive film was produced and evaluated similarly to Example 1 except having changed the compounding quantity of the insulating filler to 1.0g (77.3 volume% with respect to the electrically-conductive particle), and manufactured the anisotropic conductive adhesive agent.

[비교예 2]Comparative Example 2

절연성 필러의 배합량을 0.01 g (도전 입자에 대하여 0.77 체적%) 으로 변경하여 이방성 도전 접착제를 제조한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 이방성 도전 필름을 제조하고, 평가를 실시하였다.The anisotropic conductive film was produced and evaluated similarly to Example 1 except having changed the compounding quantity of an insulating filler into 0.01g (0.77 volume% with respect to the electrically-conductive particle), and manufactured the anisotropic conductive adhesive agent.

Figure pct00002
Figure pct00002

실시예에서는, 도전 입자에 대한, 입자경이 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 인 절연성 필러의 양이 0.78 ∼ 77 체적% 로 하여, 도전 입자와 절연성 필러를 교반함으로써, 이방성 도전 필름에 있어서의 도전 입자 (제 2 피복 도전 입자) 의 개수 밀도의 차를 작게 할 수 있는 것을 알 수 있었다. 특히, 실시예로부터 3.9 ∼ 38.7 체적% 로 하면 양호한 상태가 얻어지는 것을 알 수 있다. 즉, 도전 입자의 분산성이 양호한 것을 알 수 있었다. 또, 실시예에서는, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 있는 것을 알 수 있었다. 또한, 실시예에서는, 도전 입자 포착률이 양호하고, 초기 저항값, 신뢰성 시험 후의 저항값의 평가도 양호한 것을 알 수 있었다. 특히, 실시예 1, 2 에서는, 도전 입자의 분산성이 보다 양호한 것을 알 수 있었다.In Examples, the conductivity in the anisotropic conductive film is obtained by stirring the conductive particles and the insulating filler with the amount of the insulating filler having a particle size of 0.02 to 0.143% of the particle size of the conductive particles to 0.78 to 77% by volume with respect to the conductive particles. It turned out that the difference of the number density of particle | grains (2nd covering electroconductive particle) can be made small. In particular, it can be seen from the examples that a favorable state can be obtained by using 3.9 to 38.7% by volume. That is, it was found that the dispersibility of the conductive particles is good. Moreover, in the Example, it turned out that the short between the electrode terminals of an electronic component can be suppressed. Moreover, in the Example, it turned out that the electroconductive particle capture rate is favorable and evaluation of the resistance value after initial stage resistance value and the reliability test was also favorable. In particular, in Examples 1 and 2, it turned out that the dispersibility of electroconductive particle is more favorable.

실시예에서는, 도전 입자와 절연성 필러를 교반함으로써, 도 2 에 나타내는 바와 같이 제 1 피복 도전 입자 (10) 가 얻어진다. 그리고, 제 1 피복 도전 입자 (10) 를 절연성 바인더 중에서 교반함으로써, 제 1 피복 도전 입자 (10) 에 있어서의 도전 입자로부터 실리카 필러가 괴리되어, 도 3 에 나타내는 바와 같이 제 2 피복 도전 입자 (11) 가 얻어진다. 또, 괴리된 실리카 필러가 제 2 피복 도전 입자 (11) 간에 개재된다. 이로써, 제 2 피복 도전 입자 (11) 의 응집이 억제되어, 절연성 바인더 중에 제 2 피복 도전 입자 (11) 를 균일하게 분산시킬 수 있다. 또한, 이와 같이 하여 얻어진 절연성 바인더 중의 제 2 피복 도전 입자 (11) 에 있어서, 절연성 필러의 피복의 일부는 잔존하는 경우가 있다. 이 도전 입자 표면의 절연성 필러의 피복의 잔존은, 실시예 1 ∼ 3 에 관련된 제 2 피복 도전 입자 (11) 의 전자 현미경 (SEM) 에 의한 관찰로부터 확인할 수 있었다.In the Example, the 1st coating electroconductive particle 10 is obtained as shown in FIG. 2 by stirring electroconductive particle and an insulating filler. And by stirring the 1st coating conductive particle 10 in an insulating binder, a silica filler isolate | separates from the conductive particle in the 1st coating conductive particle 10, and as shown in FIG. 3, the 2nd coating conductive particle 11 ) Is obtained. In addition, the separated silica filler is interposed between the second coated conductive particles 11. Thereby, aggregation of the 2nd covering electroconductive particle 11 is suppressed and the 2nd covering electroconductive particle 11 can be disperse | distributed uniformly in an insulating binder. In addition, in the 2nd covering electroconductive particle 11 in the insulating binder obtained in this way, a part of coating | cover of an insulating filler may remain. Remaining | survival of the coating | cover of the insulating filler on the surface of this electroconductive particle was confirmed from observation by the electron microscope (SEM) of the 2nd coating electroconductive particle 11 which concerns on Examples 1-3.

입자경이 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 인 절연성 필러를 배합하지 않았던 비교예 1 에서는, 도전 입자의 개수 밀도의 차를 작게 할 수 없는 것을 알 수 있었다. 즉, 비교예 1 에서는, 도전 입자의 분산성이 양호하지 않은 것을 알 수 있었다. 또, 비교예 1 에서는, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 없고, 도전 입자 포착률이 양호하지 않은 것을 알 수 있었다. 비교예 1 에서는, 도 4 에 나타내는 바와 같이 실리카 필러로 피복되어 있지 않은 도전 입자 (생 (生) 입자) (12) 를 사용함으로써, 도 5 에 나타내는 바와 같이 절연성 바인더 중에 있어서 복수의 도전 입자 (12) 가 연결, 응집되었다.In Comparative Example 1 in which the particle diameter was not blended with an insulating filler having 0.02 to 0.143% of the particle size of the conductive particles, it was found that the difference in the number density of the conductive particles could not be reduced. That is, in Comparative Example 1, it was found that the dispersibility of the conductive particles was not good. Moreover, in the comparative example 1, it turned out that the short between the electrode terminals of an electronic component cannot be suppressed, and the electroconductive particle capture rate is not favorable. In the comparative example 1, as shown in FIG. 4, by using the electrically-conductive particle (raw particle) 12 which is not coat | covered with the silica filler, as shown in FIG. 5, the some electrically-conductive particle 12 in an insulating binder is shown. ) Are linked and aggregated.

도전 입자에 대한, 입자경이 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 인 절연성 필러의 양을 77.3 체적% (77 체적% 초과) 로 한 비교예 2 에서는, 도전 입자의 개수 밀도의 차를 작게 할 수 없는 것을 알 수 있었다. 즉, 비교예 2 에서는, 입자경이 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 인 절연성 필러의 개수 비율이 과잉이었기 때문에, 도전 입자의 분산성이 양호하지 않은 것을 알 수 있었다. 또, 비교예 2 에서는, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 없고, 도전 입자 포착률이 양호하지 않은 것을 알 수 있었다. 또, 비교예 2 에서는, 초기 저항값, 신뢰성 시험 후의 저항값의 평가가 모두 양호하지 않은 것을 알 수 있었다. 비교예 2 에서는, 도전 입자와 실리카 필러를 혼합시킨 후, 예를 들어 도 6 에 나타내는 바와 같이 2 개의 도전 입자가 실리카 필러로 피복된 피복 도전 입자 (13) 가 일부 형성되어 있는 것을 알 수 있었다.In Comparative Example 2 in which the amount of the insulating filler having a particle size of 0.02 to 0.143% of the particle size of the conductive particles to the conductive particles was 77.3% by volume (greater than 77% by volume), the difference in the number density of the conductive particles cannot be made small. I could see that. That is, in the comparative example 2, since the number ratio of the insulating filler whose particle diameter is 0.02 to 0.143% of the particle diameter of electroconductive particle was excessive, it turned out that the dispersibility of electroconductive particle is not favorable. Moreover, in the comparative example 2, it turned out that the short between the electrode terminals of an electronic component cannot be suppressed, and the electroconductive particle capture rate is not favorable. Moreover, in the comparative example 2, it turned out that evaluation of the initial stage resistance value and the resistance value after a reliability test was neither favorable. In the comparative example 2, after mixing electrically conductive particle and a silica filler, it turned out that the coating electrically-conductive particle 13 in which two electrically conductive particles were coat | covered with the silica filler was formed, for example as shown in FIG.

도전 입자에 대한, 입자경이 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 인 절연성 필러의 양을 0.77 체적% (0.78 체적% 미만) 로 한 비교예 3 에서는, 도전 입자의 개수 밀도의 차를 작게 할 수 없는 것을 알 수 있었다. 즉, 비교예 3 에서는, 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 의 입자경인 절연성 필러의 개수 비율이 부족하였기 때문에, 도전 입자의 분산성이 양호하지 않은 것을 알 수 있었다. 또, 비교예 3 에서는, 전자 부품의 전극 단자 간에 있어서의 쇼트를 억제할 수 없고, 도전 입자 포착률이 양호하지 않은 것을 알 수 있었다.In Comparative Example 3 in which the amount of the insulating filler having a particle size of 0.02 to 0.143% of the particle size of the conductive particles relative to the conductive particles was 0.77% by volume (less than 0.78% by volume), the difference in the number density of the conductive particles cannot be made small. I could see that. That is, in the comparative example 3, since the number ratio of the insulating filler which is 0.02 to 0.143% of the particle diameter of the conductive particle was insufficient, it turned out that the dispersibility of electrically conductive particle is not favorable. Moreover, in the comparative example 3, it turned out that the short between the electrode terminals of an electronic component cannot be suppressed, and the electroconductive particle capture rate is not favorable.

1 : 접속 구조체
2 : 이방성 도전 필름
3 : 도전 입자
4 : 제 1 단자열
5 : 제 1 전자 부품
6 : 제 2 단자열
7 : 제 2 전자 부품
10 : 제 1 피복 도전 입자
11 : 제 2 피복 도전 입자
12 : 도전 입자
13 : 피복 도전 입자
20 : 일부 피복 입자
21 : 대경 입자
22 : 피복부
23 : 노출부
1: connection structure
2: anisotropic conductive film
3: conductive particles
4: first terminal string
5: the first electronic component
6: second terminal string
7: second electronic components
10: first covering conductive particles
11: second coating conductive particles
12: conductive particles
13: coated conductive particles
20: some coated particles
21: large diameter particle
22: covering part
23: exposed part

Claims (23)

소입자경 필러에 의해 대경 입자의 표면의 일부가 피복된 피복 대경 입자와, 소입자경 필러와, 절연성 바인더를 함유하고,
상기 피복 대경 입자는 분산되어 이루어지고,
상기 대경 입자의 입자경이 2 ㎛ 이상이고,
상기 소입자경 필러의 입자경이 상기 대경 입자의 입자경의 0.02 % 이상 5.0 % 이하이고,
상기 대경 입자에 대한 상기 소입자경 필러의 양이 156 체적% 미만인, 수지 조성물.
It contains the coated large diameter particle | grains in which one part of the surface of the large diameter particle was coat | covered by the small particle diameter filler, the small particle diameter filler, and an insulating binder,
The coated large diameter particles are dispersed and
The particle diameter of the said large diameter particle is 2 micrometers or more,
The particle diameter of the said small particle diameter filler is 0.02% or more and 5.0% or less of the particle diameter of the said large diameter particle | grains,
The resin composition whose quantity of the said small particle diameter filler with respect to the said large diameter particle | grains is less than 156 volume%.
제 1 항에 있어서,
상기 대경 입자가 도전 입자인, 수지 조성물.
The method of claim 1,
The resin composition, wherein the large diameter particles are conductive particles.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 소입자경 필러가 실리카 필러인, 수지 조성물.
The method according to claim 1 or 2,
The resin composition, wherein the small particle filler is a silica filler.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 대경 입자의 입자경이 50 ㎛ 미만인, 수지 조성물.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The resin composition whose particle diameter of the said large diameter particle | grains is less than 50 micrometers.
평균 입경이 2 ㎛ 이상인 대경 입자와, 입자경이 상기 대경 입자의 입자경의 0.02 % 이상 5.0 % 이하인 소입자경 필러를 교반함으로써, 상기 소입자경 필러에 의해 상기 대경 입자가 피복된 제 1 피복 입자를 얻는 공정 (A) 와,
상기 제 1 피복 입자와 절연성 바인더를 교반함으로써, 상기 소입자경 필러에 의해 상기 대경 입자의 표면의 일부가 피복된 제 2 피복 입자가, 상기 절연성 바인더 중에 분산된 수지 조성물을 얻는 공정 (B) 를 갖고,
상기 공정 (A) 에서는, 상기 대경 입자에 대한 상기 소입자경 필러의 양이 156 체적% 미만이 되도록 상기 대경 입자와 상기 소입자경 필러를 배합하는, 수지 조성물의 제조 방법.
The process of obtaining the 1st coating particle by which the said large diameter particle was coat | covered by the said small particle diameter filler by stirring the large diameter particle whose average particle diameter is 2 micrometers or more, and the small particle diameter filler whose particle diameter is 0.02% or more and 5.0% or less of the particle diameter of the said large diameter particle. (A) Wow,
By stirring the said 1st coating particle and an insulating binder, the 2nd coating particle which a part of the surface of the said large diameter particle was coat | covered with the said small particle diameter has the process (B) which obtains the resin composition disperse | distributed in the said insulating binder. ,
In the said process (A), the said large diameter particle and the said small particle diameter filler are mix | blended so that the quantity of the said small particle size filler with respect to the said large diameter particle may be less than 156 volume%.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물로 이루어지는 접착제.The adhesive agent which consists of a resin composition in any one of Claims 1-4. 제 6 항에 기재된 접착제로 이루어지는 접착 필름.The adhesive film which consists of an adhesive agent of Claim 6. 제 7 항에 있어서,
당해 접착 필름 전체의 상기 대경 입자의 개수 밀도 (개/㎟) 와, 당해 접착 필름으로부터 임의로 추출한 0.2 ㎜ × 0.2 ㎜ 의 영역에 있어서의 상기 대경 입자의 개수 밀도 (개/㎟) 의 차가 15 % 이하인, 접착 필름.
The method of claim 7, wherein
The difference of the number density (piece / mm <2>) of the said large-diameter particle | grains of the whole said adhesive film, and the number density (piece / mm <2>) of the said large diameter particle in the area | region of 0.2 mmx0.2 mm extracted arbitrarily from the said adhesive film is 15% or less , Adhesive film.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 기재된 수지 조성물로 이루어지고, 상기 대경 입자가 도전 입자인 이방성 도전 접착제.An anisotropic conductive adhesive consisting of the resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the large diameter particles are conductive particles. 제 9 항에 기재된 이방성 도전 접착제로 이루어지는 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film which consists of an anisotropic conductive adhesive of Claim 9. 제 6 항에 기재된 접착제, 또는 제 7 항에 기재된 접착 필름을 개재하여, 제 1 부재와 제 2 부재가 접속된 구조체.The structure by which the 1st member and the 2nd member were connected through the adhesive agent of Claim 6, or the adhesive film of Claim 7. 제 9 항에 기재된 이방성 도전 접착제, 또는 제 10 항에 기재된 이방성 도전 필름을 개재하여, 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품이 이방성 접속된 접속 구조체.The connection structure in which the 1st electronic component and the 2nd electronic component were anisotropically connected through the anisotropic conductive adhesive agent of Claim 9, or the anisotropic conductive film of Claim 10. 제 6 항에 기재된 접착제, 또는 제 7 항에 기재된 접착 필름을 개재하여, 제 1 부재와 제 2 부재를 접속시키는 구조체의 제조 방법.The manufacturing method of the structure which connects a 1st member and a 2nd member through the adhesive agent of Claim 6, or the adhesive film of Claim 7. 제 9 항에 기재된 이방성 도전 접착제, 또는 제 10 항에 기재된 이방성 도전 필름을 개재하여, 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품을 이방성 접속시키는 접속 구조체의 제조 방법.The manufacturing method of the bonded structure which anisotropically connects a 1st electronic component and a 2nd electronic component via the anisotropic conductive adhesive agent of Claim 9, or the anisotropic conductive film of Claim 10. 절연성 필러에 의해 도전 입자의 표면의 일부가 피복된 피복 도전 입자와, 절연성 필러와, 절연성 바인더를 함유하고,
상기 절연성 바인더 중에 상기 피복 도전 입자가 분산되어 있고,
상기 도전 입자의 입자경이 7 ㎛ 이상이고,
상기 절연성 필러의 입자경이 상기 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 이고,
상기 도전 입자에 대한 상기 절연성 필러의 양이 0.78 ∼ 77 체적% 인, 이방성 도전 접착제.
Contains coated conductive particles, part of the surface of the conductive particles covered by the insulating filler, an insulating filler, and an insulating binder,
The said coating conductive particle is disperse | distributed in the said insulating binder,
The particle diameter of the said electroconductive particle is 7 micrometers or more,
The particle diameter of the said insulating filler is 0.02 to 0.143% of the particle diameter of the said electroconductive particle,
The anisotropic conductive adhesive agent whose quantity of the said insulating filler with respect to the said electroconductive particle is 0.78-77 volume%.
제 15 항에 있어서,
상기 절연성 필러가 실리카 필러인, 이방성 도전 접착제.
The method of claim 15,
The said insulating filler is a silica filler.
제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,
상기 도전 입자의 입자경이 50 ㎛ 이하인, 이방성 도전 접착제.
The method according to claim 15 or 16,
Anisotropic conductive adhesive whose particle diameter of the said electroconductive particle is 50 micrometers or less.
제 15 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 접착제로 이루어지는 이방성 도전 필름.The anisotropic conductive film which consists of an anisotropic conductive adhesive in any one of Claims 15-17. 제 18 항에 있어서,
당해 이방성 도전 필름 전체의 상기 피복 도전 입자의 개수 밀도 (개/㎟) 와, 당해 이방성 도전 필름으로부터 임의로 추출한 0.2 ㎜ × 0.2 ㎜ 의 영역에 있어서의 상기 피복 도전 입자의 개수 밀도 (개/㎟) 의 차가 15 % 이하인, 이방성 도전 필름.
The method of claim 18,
Of the number density (pieces / mm 2) of the coated conductive particles of the entire anisotropic conductive film and the number density (pieces / mm 2) of the coated conductive particles in a 0.2 mm × 0.2 mm region arbitrarily extracted from the anisotropic conductive film. Anisotropic conductive film whose difference is 15% or less.
평균 입경이 7 ㎛ 이상인 도전 입자와, 입자경이 상기 도전 입자의 입자경의 0.02 ∼ 0.143 % 인 절연성 필러를 교반함으로써, 상기 절연성 필러에 의해 상기 도전 입자가 피복된 제 1 피복 도전 입자를 얻는 공정 (A) 와,
상기 제 1 피복 도전 입자와 절연성 바인더를 교반함으로써, 상기 절연성 필러에 의해 상기 도전 입자의 표면의 일부가 피복된 제 2 피복 도전 입자가, 상기 절연성 바인더 중에 분산된 이방성 도전 접착제를 얻는 공정 (B) 를 갖고,
상기 공정 (A) 에서는, 상기 도전 입자에 대한 상기 절연성 필러의 양이 0.78 ∼ 77 체적% 가 되도록 상기 도전 입자와 상기 절연성 필러를 배합하는, 이방성 도전 접착제의 제조 방법.
A step of obtaining first coated conductive particles coated with the conductive particles by the insulating filler by stirring the conductive particles having an average particle diameter of 7 µm or more and the insulating filler having a particle diameter of 0.02 to 0.143% of the particle diameter of the conductive particles (A ) Wow,
By stirring the said 1st coating conductive particle and an insulating binder, the process (B) which the 2nd coating conductive particle by which the part of the surface of the said conductive particle was coat | covered with the said insulating filler obtains the anisotropic conductive adhesive dispersed in the said insulating binder. With
In the said process (A), the manufacturing method of the anisotropic conductive adhesive which mix | blends the said electroconductive particle and the said insulating filler so that the quantity of the said insulating filler with respect to the said electroconductive particle may be 0.78-77 volume%.
제 15 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 접착제, 또는 제 18 항에 기재된 이방성 도전 필름을 개재하여, 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품이 이방성 접속된 접속 구조체.The connection structure in which the 1st electronic component and the 2nd electronic component were anisotropically connected through the anisotropic conductive adhesive of any one of Claims 15-17, or the anisotropic conductive film of Claim 18. 제 21 항에 있어서,
상기 제 1 전자 부품 또는 상기 제 2 전자 부품이 세라믹 기판인, 접속 구조체.
The method of claim 21,
The connection structure according to claim 1, wherein the first electronic component or the second electronic component is a ceramic substrate.
제 15 항 내지 제 17 항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 접착제, 또는 제 18 항에 기재된 이방성 도전 필름을 개재하여, 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품을 이방성 접속시키는 접속 구조체의 제조 방법.The manufacturing method of the bonded structure which anisotropically connects a 1st electronic component and a 2nd electronic component via the anisotropic conductive adhesive agent in any one of Claims 15-17, or the anisotropic conductive film of Claim 18.
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