KR20190055448A - 기판 처리 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 피처리 기판에 대한 약액 도포 공정이 행해지는 기판 처리 장치는, 기판을 지지하는 기판지지부와, 기판에 약액을 도포하는 약액 도포 유닛과, 기판이 기판지지부에 지지된 상태에서 약액을 예비 건조(precuring)하는 예비 건조 유닛을 포함하는 것에 의하여, 약액의 흘러내림을 방지하고 균일한 두께의 약액 코팅막을 형성하는 효과를 얻을 수 있다.
Description
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 균일한 두께의 약액 코팅막을 형성할 수 있는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
최근 들어 반도체의 수율 및 생산성을 높이기 위한 다양한 시도가 이루어지고 있다.
이 중, 패널 레벨 패키지(Panel Level Package ; PLP)는, 반도체 패키지용 PCB(인쇄회로기판)이 없이 저렴한 비용으로 입출력이 많은 고성능 반도체 칩을 패키징(칩과 기기를 잇는 선을 패널에 직접 심는 패키징)하는 기술로서, 웨이퍼 레벨 패키지(WLP) 공정보다도 앞선 기술로 평가되고 있다.
반도체 패키지를 제조하는 공정에서는 피처리 기판의 표면에 레지스트액 등의 약액을 도포하는 코팅 공정이 수반된다. 피처리 기판의 크기가 작았던 종래에는 피처리 기판의 중앙부에 약액을 도포하면서 피처리 기판을 회전시키는 것에 의하여 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하는 스핀 코팅 방법이 사용되었다.
그러나, 피처리 기판의 크기가 대형화됨에 따라 스핀 코팅 방식은 거의 사용되지 않으며, 피처리 기판의 폭에 대응하는 길이를 갖는 슬릿 형태의 슬릿 노즐과 피처리 기판을 상대 이동시키면서 슬릿 노즐로부터 약액을 피처리 기판의 표면에 도포하는 방식의 코팅 방법이 사용되고 있다.
보다 구체적으로, 반도체 패키지를 제조하는 공정은, 피처리 기판의 표면에 약액을 도포하고, 도포된 약액을 건조시키고, 약액을 건조시킨 후에 필요한 패턴으로 노광하는 등의 공정을 순차적으로 거치면서 행해진다.
한편, 기판에 도포된 약액이 건조되기 전에, 기판의 휘어짐이 발생하면, 약액이 흘러내려 약액의 코팅 두께를 균일하게 형성하기 어렵기 때문에 공정 중에 기판의 평탄도가 균일하게 유지될 수 있어야 한다.
그러나, 기존에는 거치대에 안착된 기판의 상면에 약액이 도포된 직후, 리프트핀을 이용하여 기판을 거치대의 상부로 리프팅시킨 상태에서 이송 유닛을 통해 기판을 건조 유닛으로 이송해야 함에 따라, 기판의 리프팅 공정 중에 기판의 휘어짐이 발생하는 문제점이 있고, 이에 따라 아직 경화되지 않은 약액이 흘러내려 약액 코팅막의 두께 차이가 발생하는 문제점이 있다.
특히, 기존에는 기판의 리프팅 공중 중에 리프팅핀에 의해 지지되지 않은 기판의 가장자리 부위에서 처짐이 발생하는 문제점이 있고, 기판 가장자리의 처짐에 의하여, 기판의 가장자리 부위에 도포된 약액이 흘러내림에 따라 약액 코팅막의 두께를 균일하게 형성하기 어렵고, 얼룩이 발생하는 문제점이 있다.
이에 따라, 최근에는 기판에 도포된 약액의 흘러내림을 방지하고, 약액 코팅막의 두께를 균일하게 형성하기 위한 다양한 검토가 이루어지고 있으나, 아직 미흡하여 이에 대한 개발이 요구되고 있다.
본 발명은 균일한 두께의 약액 코팅막을 형성할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
특히, 본 발명은 약액이 도포된 기판을 건조 공정이 행해지는 건조 유닛으로 이송하는 공정 중에 약액의 흘러내림을 방지할 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 얼룩의 발생을 방지하고, 약액 코팅막의 품질을 향상시킬 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 기판의 처리 시간을 단축하고, 수율 및 공정 효율을 향상시킬 수 있도록 하는 것을 목적으로 한다.
상술한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 약액이 도포된 기판을 후속 공정이 행해지는 후속 유닛으로 이송하기 전에, 약액을 예비 건조하는 것에 의하여, 기판의 이송 공정 중에 기판의 휘어짐이 발생하더라도, 기판에 도포된 약액의 흘러내림을 방지하고, 약액 코팅막의 두께를 균일하게 형성할 수 있다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 균일한 두께의 약액 코팅막을 형성하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
특히, 본 발명에 따르면 약액이 도포된 기판의 이송 공정 중에 기판의 휘어짐(예를 들어, 기판의 가장자리 처짐)이 발생하더라도, 기판에 도포된 약액의 흘러내림을 방지하고, 약액 코팅막의 두께를 균일하게 형성하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면 얼룩의 발생을 방지하고, 약액 코팅막의 품질을 향상시키는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
또한, 본 발명에 따르면 기판의 처리 시간을 단축하고, 수율 및 공정 효율을 향상시키는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면,
도 2는 도 1의 예비 건조 유닛을 도시한 도면,
도 3은 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 약액 도포 유닛을 설명하기 위한 도면,
도 4 및 도 5는 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 예비 건조 유닛을 설명하기 위한 도면,
도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 기판의 이송 공정을 설명하기 위한 도면,
도 8은 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 후속 건조 유닛을 설명하기 위한 도면,
도 9는 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 기판지지부의 다른 실시예를 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 도 1의 예비 건조 유닛을 도시한 도면,
도 3은 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 약액 도포 유닛을 설명하기 위한 도면,
도 4 및 도 5는 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 예비 건조 유닛을 설명하기 위한 도면,
도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 기판의 이송 공정을 설명하기 위한 도면,
도 8은 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 후속 건조 유닛을 설명하기 위한 도면,
도 9는 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 기판지지부의 다른 실시예를 설명하기 위한 도면이다.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 참고로, 본 설명에서 동일한 번호는 실질적으로 동일한 요소를 지칭하며, 이러한 규칙 하에서 다른 도면에 기재된 내용을 인용하여 설명할 수 있고, 당업자에게 자명하다고 판단되거나 반복되는 내용은 생략될 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 도면이고, 도 2는 도 1의 예비 건조 유닛을 도시한 도면이다. 또한, 도 3은 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 약액 도포 유닛을 설명하기 위한 도면이고, 도 4 및 도 5는 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 예비 건조 유닛을 설명하기 위한 도면이며, 도 6 및 도 7은 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 기판의 이송 공정을 설명하기 위한 도면이다. 또한, 도 8은 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 후속 건조 유닛을 설명하기 위한 도면이다.
도 1 내지 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 피처리 기판에 대한 약액 도포 공정이 행해지는 기판 처리 장치(1)는, 기판을 지지하는 기판지지부(100)와, 기판에 약액을 도포하는 약액 도포 유닛(300)과, 기판이 기판지지부(100)에 지지된 상태에서 약액을 예비 건조(precuring)하는 예비 건조 유닛(400)을 포함한다.
예비 건조 유닛(400)은 약액이 도포된 기판(10)이 기판지지부(100)에 지지된 상태에서, 다시 말해서, 기판지지부(100)에서부터 후속 공정이 행해지는 후속 유닛(예를 들어, 후속 건조 유닛)으로 이송되기 전에 미리 약액을 예비 건조시킨다.
이는, 기판의 이송 공정 중에 기판에 도포된 약액의 흘러내림을 방지하고, 균일한 두께의 약액 코팅막을 형성하기 위함이다.
즉, 기판의 상면에 약액이 도포된 직후, 리프트핀을 이용하여 기판을 리프팅시키면, 리프팅핀에 의해 지지되지 않은 기판의 특정 부위(예를 들어, 가장자리 부위)에서 휘어짐이 발생함에 따라 아직 경화되지 않은 약액이 흘러내려 약액 코팅막의 두께 차이가 발생하는 문제점이 있다.
하지만, 본 발명은 약액이 도포된 기판을 후속 유닛으로 이송하기 전에, 기판지지부(100)에 지지된 기판에 약액을 도포한 후 곧바로 약액을 예비 건조하는 것에 의하여, 기판의 이송 공정 중에 기판의 휘어짐(예를 들어, 기판의 가장자리 처짐)이 발생하더라도, 기판에 도포된 약액의 흘러내림을 방지하고, 약액 코팅막의 두께를 균일하게 형성하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
더욱이, 본 발명은 기판을 이송하지 않고 기판지지부에서 곧바로 예비 건조 공정을 행할 수 있으므로, 기판의 이송에 따른 처리 시간 증가를 방지하고, 수율 및 공정 효율을 향상시키는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
참고로, 기판(10)은 세정 처리 유닛(200)에서 세정 공정이 완료된 후에 약액 도포 유닛(300)으로 공급될 수 있다.
도 1을 참조하면, 세정 처리 유닛(200)은 기판(10)에 대한 세정 공정을 수행할 수 있는 다양한 구조로 구비될 수 있으며, 세정 처리 유닛(200)의 구조 및 세정 방식에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.
일 예로, 도 1을 참조하면, 패널 레벨 패키지에 사용되는 기판(10)이 공급되면, 세정액 노즐(210)로부터 세정액이 고압 분사되면서, 처리 공정이 행해지는 피처리 기판(10)의 표면이 세정된다. 세정 공정이 행해진 피처리 기판(10)은 이송 롤러(220)의 회전에 의하여 약액 도포 유닛(300)으로 이송된다.
아울러, 세정 처리 유닛(200)에서 세정된 기판(10)은 약액 도포 유닛(300)으로 이송되기 전에, 대략 "L"자 형태의 정렬부재(230)에 의해 자세 및 위치가 정해진 자세와 위치로 정렬될 수 있다. 경우에 따라서는 피처리 기판이 세정 처리 유닛을 거치지 않고 약액 도포 유닛에 공급되도록 구성하는 것도 가능하다.
도 3을 참조하면, 약액 도포 유닛(300)은 세정 처리 유닛(200)에서 세정 공정이 완료된 기판(10)의 표면에 약액(예를 들어, 레지스트액 ; PR)을 도포하도록 구비된다.
여기서, 약액 도포 유닛(300)에 의해 약액이 도포되는 영역은 피처리 기판(10)의 전체 표면일 수도 있고, 다수의 셀 영역으로 분할된 부분일 수도 있다.
일 예로, 약액 도포 유닛(300)은 기판(10)의 이송 경로 양측에 고정 설치되는 겐트리에 결합되어 기판(10)의 표면에 약액을 도포하도록 구비된다. 아울러, 약액 도포 유닛(300)의 저단부에는 기판(10)의 너비와 대응하는 길이의 슬릿 노즐이 형성되며, 슬릿 노즐을 통해 약액이 분사되어 기판(10)의 표면에 도포될 수 있다.
아울러, 약액 도포 유닛(300)에는 예비토출장치(미도시)가 구비되며, 예비토출장치는 슬릿 노즐을 통해 기판(10)상에 약액을 도포하기 직전에 슬릿 노즐 토출구 측에 잔류되어 있는 도포액을 탈락시킴과 아울러 차후 양호한 도포를 위해 토출구를 따라 약액 비드층을 미리 형성할 수 있다.
기판지지부(100)는 기판(10)에 대한 약액 코팅 공정이 행해지는 동안 기판(10)의 저면을 평탄하게 지지하게 하기 위해 마련된다.
기판지지부(100)는 기판(10)이 지지될 수 있는 다양한 형태 및 구조로 형성될 수 있으며, 기판지지부(100)의 형태 및 구조에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 일 예로, 기판지지부(100)는 대략 사각 플레이트 형상으로 형성될 수 있다.
여기서, 기판(10)이 기판지지부(100)에 지지된다 함은, 기판(10)의 저면이 기판지지부(100)에 대해 평탄하게 지지되는 것으로 정의된다. 일 예로, 기판(10)은 기판지지부(100)의 상면에 밀착되게 지지된다. 경우에 따라서는, 기판이 기판지지부에 진공 흡착되도록 구성하는 것도 가능하다. 다르게는 기판이 기판지지부에서 균일한 높이로 부상된 상태로 지지되도록 구성하는 것도 가능하다.(도 9 참조)
또한, 기판지지부(100)는 약액 도포 유닛(300)에 대해 이동 가능하게 구비될 수 있다. 기판에 대한 약액 도포는 고정 설치된 약액 도포 유닛(300)에 대해 기판지지부(100)가 이동하면서 행해진다.
일 예로, 기판지지부(100)는 이송레일(미도시)을 따라 직선 이동하도록 구성될 수 있다. 이때, 이송 레일은 N극과 S극의 영구 자석이 교대로 배열되고, 기판지지부(100)를 파지하는 파지 부재의 코일에 인가되는 전류 제어에 의하여 정교한 위치 제어가 가능한 리니어 모터의 원리로 구동될 수 있다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 예비 건조 유닛(400)은 약액이 도포된 기판(10)이 기판지지부(100)에 지지된 상태에서 약액을 예비 건조하도록 마련된다.
즉, 예비 건조 유닛(400)은, 약액이 도포된 기판(10)을 기판지지부(100)에서 후속 공정이 행해지는 후속 유닛(예를 들어, 후속 건조 유닛)으로 이송하기 전에, 기판이 기판지지부(100)에 지지된 상태에서 곧바로 약액을 예비 건조하도록 구성된다.
여기서, 예비 건조라 함은, 기판(10)에서 약액의 흘러내림이 방지되는 상태로 약액이 건조되는 것으로 정의된다. 다시 말해서, 예비 건조 유닛(400)에서의 예비 건조 공정에 의해 기판(10)에 도포된 약액은 기판(10)이 휘어지더라도 흘러내리지 않을 정도로 건조된다.
보다 구체적으로, 예비 건조 유닛(400)은 약액에 포함된 솔벤트 중 일부를 부분적으로 건조시키도록 구성된다. 물론, 예비 건조 유닛(400)에 의한 예비 건조 공정에 의하여 약액에 포함된 솔벤트가 모두 건조되도록 하는 것도 가능하지만, 이를 위해서는 불가피하게 예비 건조 공정 시간이 매우 길어져야 하기 때문에, 예비 건조 유닛(400)에서는 약액이 흘러내리지 않을 정도로만 약액에 포함된 솔벤트 중 일부만을 건조하도는 것이 바람직하다.
예비 건조 유닛(400)은 약액에 대한 예비 건조 공정을 행할 수 있는 다양한 구조로 형성될 수 있다.
바람직하게, 예비 건조 유닛(400)은 진공 상태에서 약액을 예비 건조하도록 구성되고, 약액을 예비 건조하는 중에 기판지지부(100)의 온도는 균일하게 유지된다. 더욱 바람직하게, 예비 건조 유닛(400)은 -50 kpa ~ -90 kpa의 진공 범위에서 약액을 예비 건조하도록 구성된다.
이와 같이, 예비 건조 유닛(400)이 열을 가하지 않고 진공 상태에서 약액을 예비 건조하도록 하는 것에 의하여, 기판지지부(100)의 온도를 균일하게 유지할 수 있으므로, 다음 기판에 대한 약액 코팅 공정 중에 기판지지부(100)의 온도 편차에 의한 얼룩의 발생을 방지하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
즉, 기판지지부(100)가 가열된 상태에서 다음 기판에 대한 약액 코팅 공정이 행해지면 코팅 품질이 저하되고, 기판지지부(100)의 영역별 온도 편차에 의해 얼룩이 발생하는 문제점이 있다. 하지만, 본 발명에서는 예비 건조 공정 중에 기판지지부(100)의 온도를 균일하게 유지하는 것에 의하여, 기판지지부(100)의 온도 편차에 의한 얼룩의 발생을 방지하고 코팅 품질을 향상시키는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
일 예로, 예비 건조 유닛(400)은, 기판(10)을 덮도록 배치되는 건조 챔버(410)와, 건조 챔버(410)에 진공압을 인가하는 진공압 형성부(420)를 포함한다.
보다 구체적으로, 건조 챔버(410)는 하부가 개방된 박스 형태로 형성되어 상하 방향을 따라 이동 가능하게 마련되고, 기판(10)에 대한 예비 건조가 행해지는 예비 건조 위치에 기판(10)이 배치되면, 건조 챔버(410)가 하강하며 상기 기판을 덮도록 배치된다.
여기서, 예비 건조 위치라 함은, 기판(10)이 약액 도포 유닛(300)을 완전히 통과한 위치로 정의되며, 예비 건조 위치에서는 건조 챔버(410)의 상하 이동이 허용된다.
이때, 예비 건조 공정이 행해지는 건조 챔버(410)의 내부 공간은 외부와 완전히 밀폐되게 구성될 수 있으나, 예비 건조 공정에 문제가 없다면 건조 챔버(410)의 내부 공간이 완전히 밀폐되지 않아도 무방하다.
진공압 형성부(420)는 요구되는 조건 및 설계 사양에 따라 다양한 방식으로 건조 챔버(410)의 내부에 진공압을 인가하도록 구성될 수 있으며, 진공압 형성부(420)의 종류 및 구조에 의해 본 발명이 제한되거나 한정되는 것은 아니다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는, 기판지지부(100)에서 기판(10)을 리프팅시키는 리프팅 유닛(120)과, 리프팅 유닛(120)에 의해 기판지지부(100)로부터 리프팅된 기판(10)을 후속 건조 유닛(500)으로 이송하는 이송 유닛(130)을 포함하며, 예비 건조 유닛(400)은 기판이 기판지지부(100)에서 리프팅되기 전에 약액을 예비 건조시키도록 구성된다.
일 예로, 후속 건조 유닛(500)은 예비 건조 유닛(400)보다 높은 온도 범위에서 약액을 후속 건조하도록 구성된다. 경우에 따라서는 후속 건조 유닛이 진공 상태에서 기판의 약액을 열건조하도록 구성하는 것도 가능하다.
리프팅 유닛(120)은 상하 방향을 따라 이동 가능하게 제공되는 복수개의 리프팅핀(미도시)을 포함하며, 리프팅 유닛(120)에 의해 기판의 저면은 기판지지부(100)로의 상면으로부터 이격되게 리프팅될 수 있다.
이송 유닛(130)은 리프팅 유닛(120)에 의해 리프팅된 기판(10)을 이송 가능한 다양한 구조로 형성될 수 있다. 일 예로, 이송 유닛(130)은 리프팅 유닛(120)에 의해 리프팅된 기판(10)의 가장자리 저면을 부분적으로 지지한 상태로 기판을 이송하도록 구성될 수 있다.
도 8을 참조하면, 기판 처리 장치는 예비 건조 유닛(400)에서 예비 건조 공정이 행해진 기판(10)을 이송받아 약액을 후속 건조하는 후속 건조 유닛(500)을 포함한다.
후속 건조 유닛(500)은 열건조 방식으로 약액을 건조할 수 있는 다양한 구조로 형성될 수 있다. 일 예로, 후속 건조 유닛(500)은 기판을 가열하는 가열플레이트를 포함한다. 가열플레이트는 사각 플레이트 형태로 형성될 수 있으며, 예비 건조 공정이 행해진 기판(10)은 이송 유닛(130)에 의하여 가열플레이트의 상면에 안착된다.
참고로, 가열플레이트로서는 기판(10)보다 큰 사이즈를 갖는 하나의 가열플레이트가 사용될 수 있으나, 경우에 따라서는 기판보다 작은 사이즈를 갖는 복수개의 가열플레이트를 연속적으로 배치하는 것도 가능하다.
아울러, 기판(10)에 대한 가열 건조 공정 중에 가열플레이트의 가열 온도는 소정 온도 조건으로 균일하게 유지될 수 있다.
다르게는, 기판에 대한 가열 건조 공정 중에 기판의 가열 온도가 점진적으로 변화(예를 들어, 점진적으로 증가)하도록 구성하는 것도 가능하다. 이와 같이, 기판에 대한 가열 건조 공정 중에 기판의 가열 온도를 단계적으로 증가시키는 것에 의하여, 기판(10)에 도포된 약액에 함유된 솔벤트 성분을 점진적으로 약액으로부터 증발시키면서 건조시킬 수 있으므로, 약액 내에 함유된 솔벤트 성분이 급작스럽게 건조되면서 약액의 유동에 의한 얼룩이 생기는 문제를 해결할 수 있다.
참고로, 기판은 후속 건조 유닛(500)에서 정지된 상태로 정해진 가열 온도로 정해진 시간 동안 가열될 수 있다. 경우에 따라서는 기판이 후속 건조 유닛을 통과하는 동안 정지하지 않고 천천히 이동하면서 가열되는 것도 가능하다.
아울러, 후속 건조 유닛(500)(400)의 가열플레이트는 기판(10)의 하부에 배치될 수 있으나, 경우에 따라서는 후속 건조 유닛의 가열플레이트를 기판의 상부에 배치하는 것도 가능하다.
한편, 전술 및 도시한 본 발명의 실시예에서는 기판이 기판지지부(100)의 상면에 밀착되게 지지되는 예를 들어 설명하고 있지만, 경우에 따라서는 기판지지부가 기판을 부상시킨 상태로 이송하도록 구성하는 것도 가능하다.
이하에서는 도 9를 참조하여, 기판지지부(100')의 다른 실시예를 설명하기로 한다.
도 9는 본 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 기판지지부의 다른 실시예를 설명하기 위한 도면이다. 아울러, 전술한 구성과 동일 및 동일 상당 부분에 대해서는 동일 또는 동일 상당한 참조 부호를 부여하고, 그에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도 9를 참조하면, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 기판지지부(100')는 기판을 부상시킨 상태로 이송하도록 구성된다.
여기서, 기판(10)이 부상된다 함은, 기판(10)이 소정 간격을 두고 공중에 띄워진 상태를 의미한다.
바람직하게, 도 9를 참조하면, 기판지지부(100')는 기판(10)의 하부에 배치되는 초음파 발생부(예를 들어, 초음파에 의해 가진되는 진동플레이트)(미도시)를 포함하고, 기판(10)은 초음파 발생부에 의한 진동 에너지에 의해 부상된다. 이때, 기판지지부(100')에 의해 부상된 기판(10)은 일측이 이송부재(미도시)에 의해 파지된 상태로 이송부재가 이동함에 따라 이송될 수 있다.
이와 같이, 초음파 발생부에 의한 진동 에너지에 의해 기판(10)이 부상되도록 하는 것에 의하여, 기판(10)의 부상력을 정밀하게 제어할 수 있고, 기판(10)이 반송되는 동안 외부 접촉에 의한 손상 및 변형을 최소화하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
특히, 초음파 발생부를 이용한 부상 방식에서는, 기판(10)의 전 걸쳐 균일한 부상력을 형성할 수 있기 때문에, 약액 도포 유닛(도 1의 300 참조)으로부터 약액이 도포되는 도포 영역에서 약액 도포 유닛(300)에 대한 기판(10)의 배치 높이를 보다 정교하게 제어 및 유지하는 유리한 효과를 얻을 수 있다.
예비 건조 유닛(400)은 기판이 부상되게 지지된 상태에서 기판(10)을 덮도록 배치되며, 기판(10)은 후속 건조 유닛(500)(도 1의 500 참조)으로 이송되기 전에 곧바로 예비 건조 유닛(400)에서 예비 건조된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
1 : 기판 처리 시스템 100,100' : 기판지지부
120 : 리프팅 유닛 130 : 이송 유닛
200 : 세정 처리 유닛 300 : 약액 도포 유닛
400 : 예비 건조 유닛 410 : 건조 챔버
420 : 진공압 형성부 500 : 후속 건조 유닛
120 : 리프팅 유닛 130 : 이송 유닛
200 : 세정 처리 유닛 300 : 약액 도포 유닛
400 : 예비 건조 유닛 410 : 건조 챔버
420 : 진공압 형성부 500 : 후속 건조 유닛
Claims (15)
- 피처리 기판에 대한 약액 도포 공정이 행해지는 기판 처리 장치로서,
기판을 지지하는 기판지지부와;
상기 기판에 약액을 도포하는 약액 도포 유닛과;
상기 기판이 상기 기판지지부에 지지된 상태에서 상기 약액을 예비 건조(precuring)하는 예비 건조 유닛을;
포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항에 있어서,
상기 예비 건조 유닛은 진공 상태에서 상기 약액을 상기 예비 건조하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제2항에 있어서,
상기 예비 건조 유닛은,
상기 기판을 덮도록 배치되는 건조 챔버와;
상기 건조 챔버에 진공압을 인가하는 진공압 형성부를;
포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제3항에 있어서,
상기 약액 도포 유닛은 고정 설치되고,
상기 약액 도포 유닛에 대해 상기 기판이 이동하면서 상기 기판에 상기 약액이 도포되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제4항에 있어서,
상기 건조 챔버는 하부가 개방되며 상하 방향을 따라 이동 가능하게 마련되고, 상기 기판에 대한 상기 예비 건조가 행해지는 예비 건조 위치에 상기 기판이 배치되면, 상기 건조 챔버가 하강하며 상기 기판을 덮도록 배치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제4항에 있어서,
상기 기판지지부는 상기 약액 도포 유닛에 대해 이동 가능하게 마련된 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제4항에 있어서,
상기 기판지지부는 상기 기판을 부상시킨 상태로 이송하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제7항에 있어서,
상기 기판지지부는 초음파에 의한 진동 에너지를 이용하여 상기 기판을 부상시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제2항에 있어서,
상기 예비 건조 유닛이 상기 약액을 상기 예비 건조하는 중에 상기 기판지지부의 온도는 균일하게 유지되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제2항에 있어서,
상기 예비 건조 유닛은 -50 kpa ~ -90 kpa의 진공 범위에서 상기 약액을 상기 예비 건조하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 예비 건조 유닛에서 상기 예비 건조 공정이 행해진 상기 기판을 이송받아 상기 약액을 후속 건조하는 후속 건조 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제11항에 있어서,
상기 후속 건조 유닛은 상기 예비 건조 유닛보다 높은 온도 범위에서 상기 약액을 상기 후속 건조하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제10항에 있어서,
상기 기판지지부에서 상기 기판을 리프팅시키는 리프팅 유닛과;
상기 리프팅 유닛에 의해 상기 기판지지부로부터 리프팅된 상기 기판을 상기 후속 건조 유닛으로 이송하는 이송 유닛;을 포함하고,
상기 예비 건조 유닛은 상기 기판이 리프팅되기 전에 상기 약액을 상기 예비 건조시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 예비 건조 유닛은 상기 기판에서 상기 약액의 흘러내림이 방지되는 상태로 상기 약액을 상기 예비 건조하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
- 제14항에 있어서,
상기 예비 건조 유닛은 상기 약액에 포함된 솔벤트 중 일부를 부분적으로 건조시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020170152182A KR20190055448A (ko) | 2017-11-15 | 2017-11-15 | 기판 처리 장치 |
CN201890000816.6U CN211350584U (zh) | 2017-06-14 | 2018-02-05 | 基板处理装置 |
PCT/KR2018/001512 WO2018230806A1 (ko) | 2017-06-14 | 2018-02-05 | 기판 처리 장치 |
US16/495,368 US20200013638A1 (en) | 2017-06-14 | 2018-02-05 | Substrate processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020170152182A KR20190055448A (ko) | 2017-11-15 | 2017-11-15 | 기판 처리 장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR20190055448A true KR20190055448A (ko) | 2019-05-23 |
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ID=66681218
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KR1020170152182A KR20190055448A (ko) | 2017-06-14 | 2017-11-15 | 기판 처리 장치 |
Country Status (1)
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KR (1) | KR20190055448A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR102339910B1 (ko) * | 2021-03-30 | 2021-12-17 | 주식회사 나래나노텍 | 박막 건조장치 및 이를 구비한 박막 제조 시스템 |
-
2017
- 2017-11-15 KR KR1020170152182A patent/KR20190055448A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR102339910B1 (ko) * | 2021-03-30 | 2021-12-17 | 주식회사 나래나노텍 | 박막 건조장치 및 이를 구비한 박막 제조 시스템 |
WO2022211200A1 (ko) * | 2021-03-30 | 2022-10-06 | 주식회사 나래나노텍 | 박막 건조장치 및 이를 구비한 박막 제조 시스템 |
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