KR101147654B1

KR101147654B1 - 기판 처리 방법

Info

Publication number: KR101147654B1
Application number: KR1020090115411A
Authority: KR
Inventors: 류승수; 최기용; 김형배; 손병덕
Original assignee: 세메스 주식회사
Priority date: 2009-11-26
Filing date: 2009-11-26
Publication date: 2012-05-23
Also published as: KR20110058573A

Abstract

본 발명은 건조 유닛을 포함하는 기판 처리 장치 및 이를 이용한 기판 처리 장치를 제공한다. 건조 유닛은 감압부재가 건조 챔버의 내부공간을 감압하고, 히터가 가열에 의해 건조챔버의 내부공간 온도를 상승시켜 기판에 도포된 감광액을 감압건조한다.

기판, 감광액, 감압, 건조, 진공, 가열, 히터

Description

기판 처리 방법{SUBSTRATE TREATING METHOD}

본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판에 도포된 감광액을 감압건조하는 장치 및 방법에 관한 것이다.

평판 표시 장치를 제조하기 위한 공정들 중, 포토리소그래피 공정은 기판에 형성된 막질에 감광액인 포토레지스트 액을 도포(Photoresist coating)하는 도포공정 및 포토레지스트의 유기용제를 휘발시키기 위해 포토레지스트를 건조(Photoresist solvent drying)하는 건조공정을 포함한다.

일반적으로, 도포공정은 도포노즐이 이동하며 기판에 포토레지스트를 도포하고, 건조공정은 기판이 놓인 공간을 감압하여 포토레지스트에 함유된 유기용제를 휘발시켜 포토레지스트액을 건조한다.

기판이 놓인 공간을 감압하여 포토레지스트액을 건조할 경우, 포토레지스트액의 건조가 균일하게 일어나지 않는다. 특히, 포토레지스트액의 도포층이 두껍게 형성된 경우 유기용제가 도포층에 많이 함유되므로, 감압건조만으로 상기 유기용제 를 휘발시키기 위해서는 공정시간이 길어진다.

또한, 기판의 중심영역은 가장자리영역에 비하여 감압통로로 제공되는 배기홀로부터 먼 거리에 위치하므로, 기판의 중심영역의 도포층에 함유된 유지용제가 가장자리영역의 도포층에 함유된 유기용제에 비해 상대적으로 적게 휘발된다. 이로 인하여, 기판의 영역에 따라 도포층의 건조가 불균일하게 수행된다.

본 발명은 기판에 도포된 감광액을 균일하게 건조할 수 있는 기판 처리 장치 및 방법을 제공한다.

본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들을 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명은 기판에 도포된 감광액을 감압건조하는 건조유닛을 제공한다. 건조 유닛은 상기 감압건조가 수행되는 내부 공간이 형성된 건조 챔버; 상기 내부공간에 위치하며, 기판을 지지하는 스테이지; 상기 내부공간과 연결되며, 상기 내부공간을 감압하는 감압부재; 및 상기 건조 챔버에 설치되며, 가열에 의해 상기 내부공간의 온도를 상승시키는 히터를 포함한다.

상기 히터는 상기 스테이지의 상부 및 상기 스테이지의 하부에 각각 설치된다. 상기 히터는 일부가 상기 내부공간에 노출된다.

상기 히터는 상기 스테이지의 상부에 상기 스테이지와 대향되게 위치되는 상 부 히터를 포함한다.

또한, 본 발명은 건조 유닛을 포함하는 기판 처리 장치를 제공한다. 기판 처리 장치는 기판에 감광액을 도포하는 도포 유닛; 상기 도포 유닛의 일측에 배치되며, 기판에 도포된 감광액을 감압 건조하는 감압 건조 유닛; 및 상기 도포 유닛과 상기 감압 건조 유닛간에 기판을 이송하는 이송유닛을 포함하되, 상기 건조 유닛은 내부 공간이 형성된 건조 챔버; 상기 내부공간에 위치하며, 기판을 지지하는 스테이지; 상기 내부공간과 연결되며, 상기 내부공간을 감압하는 감압부재; 상기 스테이지의 상부 및 하부에 각각 위치하며, 상기 내부공간의 온도를 상승시키는 히터를 포함한다.

또한, 본 발명은 기판 처리 방법을 제공한다. 건조 챔버의 내부공간을 감압하여 상기 내부공간 내에 위치하는 기판에 도포된 감광액을 감압건조하되, 상기 내부공간의 감압이 진행되는 동안, 가열에 의해 상기 내부공간의 온도를 상승시킨다.

상기 가열은 상기 기판의 상부 및 하부에서 동시에 진행된다.

본 발명에 의하면, 기판에 도포된 감광액의 감압건조가 진행되는 동안 가열에 의해 감광액이 건조되므로 도포층의 영역에 따라 감광액이 균일하게 건조된다.

이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 6을 참조하여 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예 는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.

본 실시예에서 기판은 평판 디스플레이용 패널의 일종인 박막 트랜지스터-액정 디스플레이(Thin Film Transistor - Liquid Crystal Display, TFT-LCD)용 패널이거나 유기 발광 다이오드(Organic Light Emitting Diodes, OLED) 디스플레이용 패널 평판 표시 패널 제조에 사용되는 기판을 예로 들어 설명하였으나, 기판은 반도체 칩 제조에 사용되는 웨이퍼(wafer)가 제공될 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 평면도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 정면도이다.

도 1 및 2를 참조하면, 기판 처리 장치는 도포 유닛(100), 건조 유닛(200), 그리고 이송 유닛(300)을 포함한다. 도포 유닛(100)은 기판(11)에 감광액을 도포하며, 건조 유닛(200)은 기판(11)에 도포된 감광액을 감압 건조한다. 그리고, 이송 유닛(300)은 도포 유닛(100)과 건조 유닛(200)간에 기판(11)을 이송한다. 이하, 각 구성에 대해서 상세하게 설명한다.

도포 유닛(100)은 스테이지(111), 도포 노즐(112), 노즐 구동기(113), 감광액 공급라인(114), 그리고 프라이밍 부재(120)를 포함한다.

스테이지(111)는 사각형상의 플레이트로 제공되며, 기판(11)을 지지한다. 스테이지(111)의 상면은 기판(11)보다 넓은 면적으로 제공되며, 스테이지(111)의 상 면에 기판(11)이 놓인다. 스테이지(111)의 상면에는 진공홀들이 이격하여 복수개 형성되며, 각각의 진공홀들은 스테이지(111) 내부에 형성된 내부통로와 연결된다. 내부통로는 진공라인(미도시)을 통해 진공펌프(미도시)와 연결되며, 진공펌프에 의해 진공홀들이 감압된다. 도포 공정이 진행되는 동안, 진공홀들의 감압으로 기판(11)은 스테이지(111)에 진공흡착된다. 스테이지(111)에는 상?하면을 관통하는 리프트 홀(미도시)이 형성된다. 리프트 홀에는 리프트 핀(미도시)이 위치하며, 리프트 핀은 리프트 홀을 따라 상하방향으로 승강가능하도록 제공된다. 리프트 핀은 승강하여 스테이지(111) 상부에 위치한 기판(11)을 스테이지(111) 상면에 로딩시킨다.

도포 노즐(112)은 스테이지(111)에 놓인 기판(11)을 따라 이동하며 기판(11) 표면에 처리액을 도포한다. 실시예에 의하면, 도포 노즐(112)은 기판(11) 표면에 감광액(photoresist liquid)을 도포한다. 도포 노즐(112)은 프라이밍 부재(120)가 위치하는 스테이지(111)의 일측 상부와 스테이지(111)의 타측 상부 사이를 이동하며 감광액을 토출한다. 도포 노즐(112)은 그 길이방향이 도포 노즐(112)의 이동방향에 수직하게 배치된다. 도포 노즐(112)의 저면에는 감광액을 토출하는 토출구(112a)가 슬릿형상으로 형성된다. 토출구(112a)는 도포 노즐(112)의 길이방향을 따라 형성된다. 도포 노즐(112)의 내부에는 감광액 공급라인(114)에서 제공된 감광액이 공급되는 슬릿공간 및 상기 슬릿공간에 공급된 감광액이 토출구를 통해 토출되기 전 일시적으로 머무르는 버퍼공간이 길이방향을 따라 제공될 수 있다.

감광액 공급라인(114)은 도포 노즐(112)로 감광액을 공급한다. 감광액 공급 라인(114)은 감광액 저장부(미도시)와 도포 노즐(112)을 연결한다. 감광액 저장부에 저장된 감광액은 감광액 공급라인(114)을 통하여 도포 노즐(112)에 형성된 슬릿공간으로 공급된다. 감광액 공급라인(114) 상에는 밸브(미도시)가 설치되며, 밸브는 감광액 공급라인(114)의 유로를 개폐하여 도포 노즐(112)에 공급되는 감광액의 유량을 조절한다.

노즐 구동기(113)는 도포 노즐(112)과 연결되며, 도포 노즐(112)을 스캔이동시킨다. 노즐 구동기(113)는 프라이밍 부재(120)의 상부와 스테이지(111)의 타측 상부 사이 구간에서 도포 노즐(112)을 스캔이동시킨다.

프라이밍 부재(120)는 스테이지(111)의 일측에 설치된다. 프라이밍 부재(120)는 도포 노즐(112)의 토출구(112a)에서 토출되는 도포액을 균일화하는 프라이밍 처리를 수행한다. 프라이밍 처리는 프라이밍 롤러(121)의 일부가 세정액에 침지된 상태에서 프라이밍 롤러(121)가 회전하고, 회전하는 프라이밍 롤러(121)의 외주면으로 도포 노즐(112)이 처리액을 토출하면서 수행된다. 프라이밍 롤러(121)의 외주면에 부착된 감광액은 세정액에 의해 세정되고, 프라이밍 롤러(121)의 외주면과 접촉하는 블레이드(미도시)에 의해 제거된다. 프라이밍 처리가 완료된 도포 노즐(112)은 스테이지(111)에 놓인 기판(11)을 따라 이동하며 기판(11) 표면에 처리액을 도포한다.

도 3은 도 1 및 2의 건조 유닛을 나타내는 단면도이다.

도 1 내지 3을 참조하면, 건조 유닛(200)은 건조 챔버(210), 기판 지지 부재(220), 감압부재(230), 히터(241, 242)를 포함한다.

건조 챔버(210)는 기판(11)에 도포된 감광액을 감압건조하는 공간(213)이 내부에 형성된다. 실시예에 의하면, 건조 챔버(210)는 하부 챔버(211), 상부 챔버(212), 그리고 챔버 구동기(214)를 포함한다.

하부 챔버(211)는 사각형상의 플레이트로 제공된다. 하부 챔버(211)는 후술하는 스테이지(221)보다 넓은 면적으로 제공된다. 하부 챔버(211)에는 배기홀(211a)이 형성된다. 배기홀(211a)은 하부 챔버(211)의 가장자리 영역에 이격하여 복수개 형성된다. 구체적으로, 배기홀(211a)들은 스테이지(221)가 놓이는 영역 외측에 형성되고, 후술하는 상부 챔버(212)의 개방된 하면에 대응하는 영역내에 형성된다. 배기홀(211a)들은 후술하는 감압부재(230)와 연결되며, 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 감압하는 통로로 제공된다.

상부 챔버(212)는 사각형상의 플레이트로 제공되며, 하부가 개방된 공간(213)이 내부에 형성된다. 상부 챔버(212)에 형성된 공간(213)은 건조 챔버(210)의 내부공간(213)으로 제공된다. 상부 챔버(212)에 형성된 공간(213)은 상기 공간(213)내에 스테이지(221)가 위치할 수 있도록 스테이지(221)보다 넓은 면적으로 형성된다. 그리고, 상기 공간(213)은 상부 챔버(212)의 개방된 하부에 대응하는 영역내에 배기홀(211a)이 위치될 수 있도록 충분한 넓이로 형성된다.

챔버 구동기(214)는 상부 챔버(212)가 스테이지(221)에 안착되도록 상부 챔버(212)를 승강시킨다. 챔버 구동기(214)는 스테이지(221)에 기판(11)을 로딩시키거나, 스테이지(221)로부터 기판(11)을 언로딩시키는 과정에서 상부 챔버(212)를 하부 채버(211) 상부에 위치시킨다. 그리고, 감압건조공정이 진행되는 동안 상부 챔버(212)를 하부챔버(211)에 안착시킨다.

기판 지지 부재(220)는 건조 챔버(210)의 내부공간(213)에 위치하며, 기판(11)을 지지한다. 기판 지지 부재(220)는 스테이지(221), 지지핀(222), 지지축(223), 그리고 리프트 핀(미도시)을 포함한다. 스테이지(221)는 사각형상의 플레이트로 제공되며, 건조 챔버(210)에 고정설치된다. 스테이지(221)의 상면은 기판(11)보다 넓은 면적으로 제공된다. 스테이지(221)의 상면에는 지지핀(222)이 설치된다. 지지핀(222)은 서로 이격하여 복수개 제공되며, 기판(11)이 스테이지(221)의 상면으로부터 이격하여 지지되도록 스테이지(221)의 상면으로부터 상부로 돌출되어 설치된다. 지지축(223)은 스테이지(221)의 하부에 설치되며 스테이지(221)를 지지한다. 지지축(223)은 원기둥 형상으로 서로 이격하여 복수개 제공되며, 스테이지(221)의 하면이 하부 챔버(211)의 상면과 이격하여 지지되도록 스테이지(221)와 하부 챔버(211) 사이 공간에서 상하방향으로 배치된다. 스테이지(221)가 하부 챔버(211)와 이격하여 배치되므로써, 후술하는 하부 히터(241)가 효율적으로 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 가열할 수 있다.

스테이지(221)에는 상?하면을 관통하는 리프트 홀(미도시)이 형성된다. 리프트 홀내에는 리프트 핀(미도시)이 위치하며, 리프트 핀은 리프트 홀을 따라 상하방향으로 승강가능하도록 제공된다. 리프트 핀은 승강하여 스테이지(221) 상부에 위치한 기판(11)을 지지핀(222)에 로딩시키거나, 지지핀(222)으로부터 기판(11)을 언로딩시킨다.

감압부재(230)는 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 감압한다. 감압부 재(230)는 진공라인(231) 및 진공펌프(232)를 포함한다. 진공라인(231)은 배기홀(211a)과 진공펌프(232)를 연결한다. 진공펌프(232)는 진공라인(231)상에 설치되며, 내부공간(213)에 머무르는 공기를 배기홀(211a)과 진공라인(231)을 통하여 외부로 배기한다. 상기 공기의 배기로 건조 챔버(210)의 내부공간(213)은 감압된다. 감압부재(230)는 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 상압에서 제1압력으로 감압하는 초기 진공 단계 및 상기 제1압력에서 제2압력으로 감압하는 메인 진공 단계로 감압한다. 초기 진공 단계는 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 저진공 상태로 감압하여 감광액에 함유된 유기용제등을 증발시킨다. 그리고, 메인 진공 단계는 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 고진공 상태로 감압 및 고진공 상태를 유지하여 상기 감광액에 함유된 유기용제등을 증발시킨다.

건조 챔버(210)에는 히터(241, 242)가 설치되며, 히터(241, 242)는 가열에 의해 건조 챔버(210)의 내부공간의 온도를 상승시킨다. 히터(241, 242)는 스테이지(221)의 하부에 설치되는 하부 히터(241) 및 스테이지의 상부에 설치되는 상부히터(242)를 포함한다. 실시예에 의하면, 상부 히터(242)는 상부 챔버(212)에 설치되며, 하부 히터(241)는 하부 챔버(211)에 설치된다. 상부 히터(242)는 스테이지(221)와 대향하는 상부 챔버(212)의 내측벽에 설치되며, 그 일부가 건조 챔버(210)의 내부공간(213)에 노출된다. 하부 히터(241)는 스테이지(221)와 대향하는 하부 챔버(211)의 상면에 설치되며, 그 일부가 건조 챔버(210)의 내부공간(213)에 노출된다. 이와 같이, 상부 히터(242)와 하부 히터(241)는 일부가 건조 챔버(210)의 내부공간(213)에 노출되므로 건조 챔버(210)의 내부공간(213)의 온도를 효과적 으로 가열할 수 있다. 상부 히터(242)와 하부 히터(241)는 동시에 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 가열할 수 있다.

일반적으로, 감광액에 함유된 유기용제는 내부공간(213)의 감압에 의해 휘발되지만, 감광액층이 두껍게 형성되는 경우와 같이 감광액에 함유된 유기용제의 양이 많은 경우, 감압건조만으로 유기용제를 효과적으로 휘발시키기 어렵다. 그러나, 본 발명은 감압건조공정이 진행되는 동안 가열에 의해 내부공간(213)의 온도를 상승시키므로 감광액에 함유된 유기용제의 양이 많더라도 유기용제의 휘발이 효과적으로 일어난다.

히터(241, 242)는 내부에 히팅라인(heating line)이 매설된 가열판(heating plate)으로 제공될 수 있다. 가열판(241, 242)은 기판(11)에 대응하는 면적으로 제공된다. 히팅라인은 외부의 전원(243)과 전기적으로 연결되며, 전원(243)으로부터 공급된 전류에 저항하므로써 열을 발생시킨다. 히팅라인은 가열판과 전기적으로 절연되도록 절연체에 의해 코팅되어 제공될 수 있다.

내부공간(213)을 감압하여 감광액을 진공건조하는 경우, 배기홀(211a)과 인접한 기판(11)의 가장자리영역에서 배기되는 공기의 흐름이 기판(11)의 중심영역에 비해 원활하게 형성된다. 이에 의하여, 기판(11)의 가장자리영역의 도포층에 함유된 유기용제의 휘발이 기판(11)의 중심영역의 도포층에 비해 원활하게 일어나 기판(11)의 영역에 따라 감광액의 건조가 상이하게 일어난다. 그러나, 본 발명은 감압건조가 진행되는 동안 기판(11)의 면적에 대응하는 넓이를 갖는 가열판(241, 242)에 의해 내부공간(213)의 온도가 상승되므로 도포층의 영역에 따라 유기용제가 균일하게 휘발된다. 이에 의하여, 기판(11)의 영역에 따라 감광액의 건조가 균일하게 일어난다.

히터(241, 242)는 감압부재(230)에 의해 건조 챔버(210)의 내부공간(213)이 감압되는 동안, 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 가열한다. 선택적으로, 히터(241, 242)는 메인 진공 단계에서 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 가열할 수 있다. 초기 진공 단계에서 감광액에 함유된 유기용제를 서서히 휘발시킨 후, 메인 진공 단계에서 고진공 상태로 잔여 유기용제를 방출함과 동시에 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 가열하여 유기용제를 휘발시킬 수 있다. 또한, 유기용제가 감광액으로부터 방출된 후 건조 챔버(210) 내부공간(213)의 온도를 고온으로 유지하여 기판(11)에 도포된 감광액을 건소시킬 수 있다.

이와 달리, 히터는 감압건조공정 후 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 가열할 수 있다.

이와 같이, 건조 유닛(200)은 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 감압하여 감광액에 함유된 유기용제를 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 가열하여 기판(11)에 도포된 감광액을 건조시킬 수 있다.

이송 유닛(300)은 도포 유닛(100)과 건조 유닛(200)간에 기판(11)을 이송한다. 이송 유닛(300)은 가이드 레일(310) 및 이송 트랜스퍼(320)를 포함한다. 가이드 레일(310)은 도포 유닛(100)과 건조 유닛(300)의 양측에 한 쌍으로 제공되며, 도포 유닛(100)과 건조 유닛(300)이 배치된 방향으로 서로 나란하게 배치된다. 가이드 레일(310)은 도포 유닛(100)의 일측에서부터 건조 유닛(200)의 타측까지 제공 된다. 가이드 레일(310)에는 이송 트랜스퍼(320)가 설치된다. 이송 트랜스퍼(320)는 각각의 가이드 레일(310)에 설치되며, 기판(11)의 측부를 지지하여 기판(11)을 이송한다. 하나의 이송 트랜스퍼(320)는 기판(11)의 일 측부를 지지하고, 다른 하나의 이송 트랜스퍼(320)는 기판(11)의 타 측부를 지지한다. 각각의 이송 트랜스퍼(320)는 이동축(321)과 반송아암(322)를 포함한다. 이동축(321)은 가이드 레일(310)에 상하방향으로 설치되며, 가이드 레일(310)을 따라 이동한다. 그리고, 이동축(310)은 상하방향으로 이동가능하도록 제공된다. 이동축(310)의 상단에는 반송아암(322)이 설치되며, 반송아암(322)은 기판(11)의 측부를 지지한다. 반송아암(322)은 이동축(321)과 함께 상하방향으로 이동한다. 상기 구조에 의하여, 이송 유닛(300)은 도포 유닛(310)에서 감광액의 도포가 완료된 기판(11)의 측부를 지지하여 건조 유닛(200)으로 이송하고, 건조 챔버(210) 내부에 위치하는 기판 지지 유닛(220)에 기판(11)을 안착시킨다.

상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 사용하여 기판을 처리하는 방법을 설명하면 다음과 같다.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 방법을 나타내는 순서도이고, 도 5는 도 4의 도포 공정을 나타내는 도면이다.

도 4 및 5를 참조하면, 프라이밍 부재(120)에서 프라이밍 처리가 완료된 도포 노즐(112)은 노들 구동기(113)에 의하여 스테이지(111) 상부로 이동한다. 그리고, 기판(11)을 따라 스캔이동하며 스테이지(111)에 진공흡착된 기판(11)의 상면으 로 감광액을 토출하여 도포막을 형성시킨다.

도포 공정이 완료되면, 진공홀이 상압 상태를 유지하여 스테이지(111)로부터 기판(11)이 디척킹되고, 리프트 핀이 리프트 홀을 따라 상승하여 기판(11)이 스테이지(111)부터 언로딩된다.

이송 트랜스퍼(320)는 가이드 레일(310)을 따라 이동하여 반송아암(321)을 기판(11)의 하부에 위치시켜 기판(11)을 지지한다. 이송 트랜스퍼(320)는 기판(11)을 지지하여 가이드 레일(310)을 따라 건조 유닛(200)으로 이동한다. 기판(11)이 건조 유닛(200)의 스테이지(221) 상부로 이송되면, 리프트 핀이 리프트 홀을 따라 승강하여 지지핀(222)에 기판(11)을 안착시켜 감압 건조 공정에 제공한다.

도 6은 도 4의 감압 건조 공정을 나타내는 도면이다.

도 4 및 6을 참조하면, 기판(11)이 지지핀(222)에 안착되면, 챔버 구동기(214)에 의해 상부 챔버(212)가 하부 챔버(211)에 안착된다. 상부 챔버(212)는 하부가 개방된 내부공간(213)에 스테이지(221)가 위치하도록 하부 챔버(211)에 안착된다. 또한, 상부 챔버(212)는 하부 챔버(211)에 형성된 배기홀(211a)이 내부공간(213)에 위치하도록 스테이지(221)에 안착된다. 상부 챔버(212)가 안착되면, 감압부재(230)가 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 감압한다. 진공펌프(232)의 구동으로 배기홀(211a) 및 진공라인(231)을 통해 건조 챔버(210)의 내부공간(213)에 머무르는 공기가 감압된다. 감압부재(230)는 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 상압에서 제1압력으로 감압하는 초기 진공 단계 및 상기 제1압력에서 제2압력으로 감압하는 메인 진공 단계로 감압한다. 초기 진공 단계는 건조 챔버(210)의 내부공 간(213)을 저진공 상태로 감압하여 감광액에 함유된 유기용제등을 증발시킨다. 그리고, 메인 진공 단계는 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 고진공 상태로 감압 및 고진공 상태를 유지하여 상기 감광액에 함유된 유기용제등을 증발시킨다.

감압부재(230)에 의해 건조 챔버(210)의 내부 공간(213)이 감압되는 동안, 히터(241, 242)는 가열에 의해 건조 챔버(210)의 내부공간(213)의 온도를 상승시킨다. 건조 챔버(210)의 내부공간(213)의 가열은 기판(11)의 상부에 위치한 상부 히터(242) 및 기판(11)의 하부에 위치한 하부 히터(241)에서 동시에 진행될 수 있다. 또는, 상부 히터(242)와 하부 히터(241) 중 어느 하나의 히터에 의해 가열이 진행될 수 있다.

히터(241, 242)는 초기 진공 단계와 메인 진공 단계가 진행되는 동안 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 가열할 수 있다.

선택적으로, 히터(241,242)는 메인 진공 단계가 진행되는 동안 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 가열할 수 있다. 메인 진공 단계에서 고진공 상태로 잔여 유기용제를 방출함과 동시에, 가열에 의하여 유기용제를 방출시키므로써 효과적으로 감광액을 건조시킬 수 있다.

이와 달리, 히터(241, 242)는 메인 진공 단계 후, 건조 챔버(210) 내부공간(213)의 온도를 고온으로 유지하여 기판(11)에 도포된 감광액을 건조시킬 수 있다.

이와 같이, 건조 유닛(200)은 건조 챔버(210)의 내부공간(213)을 감압하여 감광액에 함유된 유기용제를 제거함과 동시에, 가열에 의해 기판(11)에 도포된 감 광액을 건조시킬 수 있으므로 감광액의 건조가 효과적으로 진행된다.

이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한, 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나태 내고 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당 업계의 기술 또는 지식의 범위 내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한, 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타낸 평면도이다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 정면도이다.

도 3은 도 1 및 2의 건조 유닛을 나타내는 단면도이다.

도 4는 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 방법을 나타내는 순서도이다.

도 5는 도 4의 도포 공정을 나타내는 도면이다.

도 6은 도 4의 감압 건조 공정을 나타내는 도면이다.

Claims

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건조 챔버의 내부공간을 감압하여 상기 내부공간 내에 위치하는 기판에 도포된 감광액을 감압건조하되,

상기 내부공간의 감압이 진행되는 동안, 가열에 의해 상기 내부공간의 온도를 상승시키는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
제 6 항에 있어서,

상기 가열은 상기 기판의 상부 및 하부에서 동시에 진행되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.