KR20190053648A - The pulse oscillator with a base to use the washing machine - Google Patents

The pulse oscillator with a base to use the washing machine Download PDF

Info

Publication number
KR20190053648A
KR20190053648A KR1020170149746A KR20170149746A KR20190053648A KR 20190053648 A KR20190053648 A KR 20190053648A KR 1020170149746 A KR1020170149746 A KR 1020170149746A KR 20170149746 A KR20170149746 A KR 20170149746A KR 20190053648 A KR20190053648 A KR 20190053648A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
product
vibrators
vibrator
case
blast pipe
Prior art date
Application number
KR1020170149746A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
안진호
손두열
최현모
노영기
박현식
박순재
임동수
양윤호
신용태
한재선
이성구
김대일
Original Assignee
주식회사 에이아이코리아
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 에이아이코리아 filed Critical 주식회사 에이아이코리아
Priority to KR1020170149746A priority Critical patent/KR20190053648A/en
Publication of KR20190053648A publication Critical patent/KR20190053648A/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • B08B7/02—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by distortion, beating, or vibration of the surface to be cleaned

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

The present invention relates to a washer using a vibrator and a vibrator base. More specifically, since first and second vibrators are installed in the upper part of a cylindrical blast pipe installed inside a case, ultrasonic waves generated from the first and second vibrators are delivered to a product laid in the lower part through the blast pipe to wash the product, and then, the product laid on a vibrator base is vibrated to separate foreign substances, which results in efficient washing work. According to the present invention, a cylindrical blast pipe (20) is installed inside a case (10) having an open lower part, first and second vibrators (31)(32) having different wavelengths are installed in the upper part of the blast pipe (20), and different sound waves generated from the first and second vibrators (31)(32) are emitted to the lower part, so a product (50) laid in the lower part of the blast pipe (20) can be washed, and when the product (50) is laid on a vibrator base (33), the product (50) is vibrated to separate foreign substances.

Description

진동자와 진동자베이스를 이용한 세정기{The pulse oscillator with a base to use the washing machine}[0001] The present invention relates to a cleaner using a vibrator and a vibrator base,

본 발명은 진동자와 진동자베이스를 이용한 세정기 세정기에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 케이스의 내부에 장착된 원통형 송풍관의 상부에는 제1진동자와 제2진동자가 각각 설치되어, 제1,2진동자에서 발생되는 초음파들이 송풍관을 통해 하부 제품에 전달되어 하부에 놓여진 제품이 세정되고, 제품은 진동자베이스 위에 놓여져 제품이 진동되면서 이물질이 분리되어 효율적인 세정작업이 이루어질 수 있도록 한 발명에 관한 것이다.
The present invention relates to a cleaner cleaner using a vibrator and a vibrator base. More particularly, the present invention relates to a cleaner cleaner using a vibrator and a vibrator base. More specifically, a first vibrator and a second vibrator are installed on the upper part of a cylindrical blowing tube mounted inside the case, The ultrasonic waves are transmitted to the lower product through the blowing pipe so that the product placed on the lower side is cleaned and the product is placed on the vibrator base so that the product is vibrated and the foreign substance is separated so that the efficient cleaning operation can be performed.

일반적으로 반도체 소자는 기판 예를 들어, 실리콘웨이퍼(silicon wafer)를 이용하여 증착, 사진 및 식각 공정 등을 수행하여 제조되며, 여러 공정들을 거치는 동안 기판 상에는 각종 파티클, 금속 불순물, 유기 불순물 등과 같은 오염 물질이 잔존할 수 있기 때문에 세정과정이 필요하다.Generally, a semiconductor device is manufactured by performing deposition, photolithography and etching processes using a substrate, for example, a silicon wafer. During the processes, contamination such as various particles, metal impurities, organic impurities, A cleaning process is necessary because the material may remain.

종래에는 등록특허 10-1336719호 "기판세정장치"(선행기술) 및 공개특허 제10-2017-0103449호 "기판세정장치"(선행기술2)가 제안된 바 있다.Conventionally, a "substrate cleaning apparatus" (prior art) and a "substrate cleaning apparatus" (prior art 2) have been proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 10-1336719 and No. 10-2017-0103449.

상기 선행기술1은 "기판에 대한 세정 공정이 진행되며, 내부에는 기판을 회전 가능하게 지지하는 스핀척이 구비되는 세정 챔버; 상기 스핀척에서 이격되어 기판을 둘러싸도록 마련되며, 기판의 세정 공정 시 세정액을 포집하는 복수개의 회수컵을 구비하는 회수부 및 상기 회수컵 내에 유체 차단막을 형성시키는 차단막 형성부를 포함하고, 상기 차단막 형성부는, 회수컵 내로 분사되는 상기 유체를 구비하는 유체 공급원; 유체 공급원으로부터 복수 개의 회수컵으로 각각 연결된 복수 개의 유체 분사 경로; 및 유체를 분사할 때, 복수 개의 상기 유체 분사 경로를 선택적으로 개방 또는 폐쇄하는 제어부를 포함하는 기판세정장치"이다.In the prior art 1 , a cleaning chamber in which a cleaning process is performed on a substrate, a spin chuck is provided to support the substrate in a rotatable manner, a cleaning chamber spaced apart from the spin chuck to surround the substrate, A recovery chamber having a plurality of recovery cups for collecting the cleaning liquid, and a blocking film formation unit for forming a fluid blocking film in the recovery cup, wherein the blocking film formation unit comprises: a fluid supply source including the fluid to be injected into the recovery cup; A plurality of fluid ejection paths respectively connected to the plurality of recovery cups, and a controller for selectively opening or closing the plurality of fluid ejection paths when ejecting the fluid.

상기 선행기술2는 "회전되는 기판을 향해 세정액을 분사하는 적어도 2개의 노즐을 포함하는 노즐유닛 및 상기 노즐유닛의 세정 동작을 제어하는 제어유닛을 포함하며, 상기 제어유닛은 상기 적어도 2개의 노즐이 상호 시간차를 두고 상기 기판의 중심과 테두리 사이를 왕복하면서 상기 세정액을 분사하도록 제어하는 기판세정장치"이다.The prior art 2 includes a " nozzle unit including at least two nozzles for jetting a cleaning liquid toward a substrate to be rotated and a control unit for controlling the cleaning operation of the nozzle unit, So that the cleaning liquid is sprayed while reciprocating between the center and the rim of the substrate with mutual time differences. &Quot;

그러나, 상기 선행기술1은 세정 공정에 사용된 세정액의 회수를 효율적으로 할 수 있도록 구성한 기판세정장치이고, 선행기술2는 대형 사이즈의 기판에 대한 균일한 세정품질을 제공하기 위한 기판세정장치이므로 본원발명과 같이, 송풍관의 상부에 장착된 제1,2진동자들이 초음파들을 발산하여 송풍관 하부에 놓여진 제품이 세정되고, 제품은 진동자베이스 위에 놓여져 제품이 진동되면서 이물질이 분리되어 효율적인 세정이 이루어질 수 있도록 하는 기술은 찾아볼 수 없었다.
However, the prior art 1 is the substrate cleaning apparatus is configured to allow the number of times the effective of a cleaning liquid used in the cleaning step, the prior art 2 is because it is the substrate cleaning apparatus for providing a uniform cleaning quality for the substrate of large size present as invention, the first and second vibrators mounted in the upper portion of the blast pipe are cleaning products placed on the blast pipe to a lower dissipation of ultrasound, the product which is to be separated foreign matter is efficiently cleaned while placed on a vibrator base product oscillation No technology was found.

본 발명은 상기한 문제점을 감안하여 창안한 것으로서, 그 목적은 케이스의 내부 원통형 송풍관의 상부에 장착된 제1,2진동자들이 초음파들을 발산하여 송풍관 하부에 놓여진 제품이 세정되고, 제품은 진동자베이스 위에 놓여져 제품이 진동되면서 이물질이 분리되어 효율적인 세정이 이루어질 수 있도록 구성한 다중음파 진동자를 이용한 세정기를 제공함에 있는 것이다.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide an ultrasonic cleaning apparatus and a method of cleaning a product in which first and second vibrators mounted on an upper part of an inner cylindrical- The present invention provides a cleaner using a multi-sound wave oscillator configured such that foreign matter is separated while the product is vibrated so that efficient cleaning can be performed.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징은, 하부가 개방된 케이스(10)의 내부에는 원통형 송풍관(20)이 장착되고, 송풍관(20)의 상부에는 파장이 서로 다른 제1진동자(31)와 제2진동자(32)가 각각 설치되고, 제1,2진동자(31)(32)에서 발생되는 서로 다른 음파들이 송풍관(20)을 통해 하부로 발산되어, 송풍관(20)의 하부에 놓여진 제품(50)이 세정되며, 제품(50)은 진동자베이스(33) 위에 놓여져 제품(50)이 진동되면서 이물질이 분리될 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 진동자와 진동자베이스를 이용한 세정기에 의하여 달성될 수 있는 것이다.
In order to achieve the above object, the present invention is characterized in that a cylindrical blowing tube 20 is mounted inside a case 10 which is opened at the bottom, and a first oscillator 31 having a different wavelength is installed at an upper portion of the blowing tube 20, And the second vibrator 32. The sound waves emitted from the first and second vibrators 31 and 32 are diverged to the lower side through the blowing pipe 20 and the product placed under the blowing pipe 20 And the product 50 is placed on the vibrator base 33 so that the product 50 can be separated while the product 50 is being vibrated. The vibrator can be achieved by a cleaner using the vibrator base will be.

이상에서 상술한 바와 같은 본 발명은, 송풍관(20)의 하부에 반도체 웨이퍼와 같은 제품(50)을 놓아두고, 제1진동자(31)와 제2진동자(32)를 작동시키면 제1,2진동자(31)(32)에서 발생되는 서로 다른 주파수의 음파들이 송풍관(20)을 통해 하부로 발산되면, 송풍관(20)의 하부에 놓여진 제품(50)에 전달되어 깨끗하게 세정되는 한편, 진동자베이스(33) 위에 놓여진 제품(50)은 자체로 진동되면서 이물질이 분리되어 세정의 효율을 최대한 높여줄 수 있는 동시에 송풍관(20)의 상부에 장착된 분사노즐(40)에서 분사된 에어는 제품(50)을 세정한 후 케이스(10)의 내부로 유입된 후 케이스(10)의 상면에 뚫려진 배출구(11)를 통해 배출되는 것으로서 세정작업의 효율이 좋은 고기능성의 세정기를 제공할 수 있는 등의 이점이 있다.
As described above, according to the present invention as described above, when the first oscillator 31 and the second oscillator 32 are operated with a product 50 such as a semiconductor wafer placed below the blowing tube 20, The sound waves of different frequencies generated from the vibrator bases 31 and 32 are diverted to the lower part through the blower pipe 20 and are transmitted to the product 50 placed under the blower pipe 20 to be cleanly cleaned, The air blown from the spray nozzle 40 mounted on the upper portion of the air blowing pipe 20 is blown to the product 50 An advantage of being able to provide a highly functional cleaner having a high efficiency of cleaning operation as it is discharged through the discharge port 11 pierced into the upper surface of the case 10 after flowing into the case 10 after cleaning have.

도 1은 본 발명의 일실시예를 예시한 사시도,
도 2는 본 발명의 일부를 절단한 사시도,
도 3은 본 발명의 일실시예를 예시한 단면도.1 is a perspective view illustrating an embodiment of the present invention,
2 is a perspective view of a part of the present invention,
3 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of the present invention.

이하, 상기한 목적을 달성하기 위한 바람직한 실시예를 첨부된 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지는 도 3에서 도시한 바와 같이, 원통형 케이스(10)의 하부는 개방되어 있고, 케이스(10)의 내부에는 원통형 송풍관(20)이 장착되어 있다.As shown in Figs. 1 to 3, the lower portion of the cylindrical case 10 is open, and the cylindrical blowing pipe 20 is mounted inside the case 10. [

상기 송풍관(20)의 상부에는 파장이 서로 다른 주파수를 발진하는 제1진동자(31)와 제2진동자(32)가 각각 설치되어 있다.A first oscillator 31 and a second oscillator 32 oscillate at different frequencies at the upper portion of the blowing tube 20.

상기 제1,2진동자(31)(32)에서 발생되는 각각의 음파들이 송풍관(20)을 통해 하부로 발산되면, 송풍관(20)의 하부에 놓여진 제품(50)에 전달되어 세정할 수 있도록 구성되어 있다.When the sound waves generated from the first and second vibrators 31 and 32 are diverted to the lower side through the blowing pipe 20, the sound waves are transmitted to the product 50 placed under the blowing pipe 20, .

바람직하기로는 상기 제1,2진동자(31)(32)에서 발산되는 음파는 가각 서로 다른 주파수의 음파들을 발산하면 파장이 서로 다른 음파들이 상충작용을 일으켜 세척의 효율을 최대한 높여줄 수 있는 것이다.Preferably, the sound waves emitted from the first and second oscillators 31 and 32 diverge sound waves having different frequencies, so that the sound waves having different wavelengths can produce a conflicting effect, thereby maximizing the efficiency of washing.

상기 송풍관(20)의 상부에는 분사노즐(40)이 관통하여 접속되어 있고, 분사노즐(40)에서 분사된 에어 또는 가스(gas)는 제품(50)을 세정한 후 케이스(10)의 내부로 유입된 후 케이스(10)의 상면 배출구(11)를 통해 배출될 수 있도록 구성되어 있다.An air or gas injected from the injection nozzle 40 passes through the upper part of the blowing pipe 20 and is connected to the inside of the case 10 after cleaning the product 50. [ And can be discharged through the upper surface discharge port 11 of the case 10 after being introduced.

상기 제품(50)은 진동자베이스(33) 위에 놓여져 있고, 진동자베이스(33)에 의하여 제품(50)이 진동되면서 이물질이 분리될 수 있도록 구성되어 있다.The product 50 is placed on the vibrator base 33 so that the product 50 can be separated while the product 50 is being vibrated by the vibrator base 33.

전술한 구성으로 이루어진 본 발명은, 송풍관(20)의 하부에 반도체 웨이퍼나 PCB와 같은 제품(50)을 놓아두고, 제1진동자(31)와 제2진동자(32)를 작동시키면 제1,2진동자(31)(32)에서 발생되는 서로 다른 주파수의 음파들이 송풍관(20)을 통해 하부로 발산되면, 송풍관(20)의 하부에 놓여진 제품(50)에 전달되어 깨끗하게 세정되고, 진동자베이스(33) 위에 놓여진 제품(50)은 자체로 진동되면서 이물질이 분리되어 세정의 효율을 최대한 높여줄 수 있는 동시에 송풍관(20)의 상부에 장착된 분사노즐(40)에서 분사된 에어는 제품(50)을 세정한 후 케이스(10)의 내부로 유입된 후 케이스(10)의 상면에 뚫려진 배출구(11)를 통해 배출된다.In the present invention having the above-described configuration, when the first oscillator 31 and the second oscillator 32 are operated by placing a product 50 such as a semiconductor wafer or a PCB on the lower portion of the blowing tube 20, When the sound waves of different frequencies generated in the vibrators 31 and 32 are diverted to the lower side through the blowing pipe 20, the sound waves are transmitted to the product 50 placed under the blowing pipe 20 and are cleanly cleaned, The air blown from the spray nozzle 40 mounted on the upper portion of the air blowing pipe 20 is blown to the product 50 And then discharged into the case 10 through an outlet 11 pierced in the upper surface of the case 10.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 또한 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변형 실시가 가능한 것은 물론이고, 그와 같은 변경은 기재된 청구범위 내에 있게 된다.
While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but many variations and modifications may be made without departing from the scope of the invention. It will be understood by those skilled in the art that various changes may be made and equivalents may be resorted to without departing from the scope of the appended claims.

10 : 케이스
11 : 배출구
20 : 송풍관
31 : 제1진동자
32 : 제2진동자
33 : 진동자베이스
40 : 분사노즐
50 : 제품10: Case
11: Outlet
20: blower
31: First oscillator
32: second oscillator
33: Oscillator base
40: injection nozzle
50: Products

Claims (2)

하부가 개방된 케이스(10)의 내부에는 원통형 송풍관(20)이 장착되고, 송풍관(20)의 상부에는 파장이 서로 다른 제1진동자(31)와 제2진동자(32)가 각각 설치되고, 제1,2진동자(31)(32)에서 발생되는 각각의 음파들이 송풍관(20)을 통해 하부로 발산되어, 송풍관(20)의 하부에 놓여진 제품(50)이 세정되며, 제품(50)은 진동자베이스(33) 위에 놓여져 제품(50)이 진동되면서 이물질이 분리될 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 진동자와 진동자베이스를 이용한 세정기.
A cylindrical blowing tube 20 is mounted in the case 10 opened at the bottom and a first oscillator 31 and a second oscillator 32 having different wavelengths are provided at the upper portion of the blowing tube 20, The respective sound waves generated in the 1,2 vibrators 31 and 32 are diverted to the lower side through the blowing pipe 20 so that the product 50 placed under the blowing pipe 20 is cleaned, And is disposed on the base (33) so that the product (50) is vibrated so that foreign matter can be separated.
제 1항에 있어서,
상기 송풍관(20)의 상부에는 분사노즐(40)이 관통하여 접속되고, 분사노즐(40)에서 분사된 에어는 제품(50)을 세정한 후 케이스(10)의 내부로 유입된 후 케이스(10)의 상면 배출구(11)를 통해 배출될 수 있도록 구성한 것을 특징으로 하는 진동자와 진동자베이스를 이용한 세정기.The method according to claim 1,
The injection nozzle 40 is connected to the upper part of the blowing pipe 20 and the air injected from the injection nozzle 40 flows into the case 10 after cleaning the product 50, And the upper surface of the upper surface of the cleaner is discharged through the upper surface discharge port 11 of the cleaner.
KR1020170149746A 2017-11-10 2017-11-10 The pulse oscillator with a base to use the washing machine KR20190053648A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170149746A KR20190053648A (en) 2017-11-10 2017-11-10 The pulse oscillator with a base to use the washing machine

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170149746A KR20190053648A (en) 2017-11-10 2017-11-10 The pulse oscillator with a base to use the washing machine

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20190053648A true KR20190053648A (en) 2019-05-20

Family

ID=66678869

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170149746A KR20190053648A (en) 2017-11-10 2017-11-10 The pulse oscillator with a base to use the washing machine

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20190053648A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5955601B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP5156488B2 (en) Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method
KR101599214B1 (en) Ultrasonic cleaning apparatus for large area
JP4936146B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing apparatus cleaning method using the same
KR20160031393A (en) Substrate cleaning method and substrate cleaning apparatus
KR20110090120A (en) An ultrasonic cleaner and method thereof
US5927308A (en) Megasonic cleaning system
JP6473248B2 (en) Substrate cleaning apparatus, substrate processing apparatus, and substrate cleaning method
KR100895862B1 (en) Substrate processing apparatus and method of cleaning for the same
JP2008288541A (en) Single wafer processing cleaning apparatus
JP2930583B1 (en) Spin wafer single wafer processing equipment
JP6940281B2 (en) Substrate processing equipment and substrate processing method
KR20190053648A (en) The pulse oscillator with a base to use the washing machine
KR20190053645A (en) The washing machine using multiple sonic oscillator
JPH049670A (en) Analyzing apparatus
JP4255818B2 (en) Ultrasonic cleaning nozzle and ultrasonic cleaning device
KR20190053644A (en) The washing machine using the nozzle with a pulse
JPH09289186A (en) Cleaning device
JP2010177424A (en) Surface treatment device and surface treatment method
JPH0513397A (en) Cleaning device
JP4279008B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
KR20100059549A (en) Substrate supporting member, substrate processing apparatus having the same and method of processing substrate using the same
JPH0581314B2 (en)
JP6542613B2 (en) Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method
JP2007059832A (en) Substrate processing apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application