KR20190046348A - 롤투롤 공정 챔버 정화 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 롤투롤 공정 챔버 정화 장치에 관한 것으로, 증착공정이 진행되는 챔버(200), 상기 챔버(200)로 가스를 주입하기 위한 가스주입부(210), 상기 챔버(200) 내부에 배치되며, 상기 가스주입부(210)로부터의 가스를 분사하는 분사헤드(220), 상기 챔버(200)와 연결되며, 챔버(200)로부터의 파티컬을 수집하는 수조(230), 수조(230)의 상층부와 연결되며, 상층부에 위치하는 가스를 필터링하는 제1 필터(240), 및 필터링된 가스를 챔버(200)로 유입되게 하는 제1 송풍기(250)를 포함하며, 또한, 수조(230)의 하층부에 포집된 파티컬을 제거하기 위해 제2 필터(410)를 포함하며, 상기 제2 필터(410)를 통과한 액체가 다시 수조(230)으로 유입되도록 순환구조를 형성하는 함으로써, 챔버 내부 온도 편차에 따른 기류 흐름으로 챔버 내부에 존재하는 부유 입자의 하강흐름을 유도하여, 부유물의 제거가 가능하다.

Description

롤투롤 공정 챔버 정화 장치{APPARATUS FOR CLEANING CHAMBER IN ROLL-TO-ROLL PROCESSING}
본 발명은 롤투롤 공정 챔버 정화 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 롤투롤 공정을 진행함에 있어서 챔버 내부에 부유하는 파티클을 제거하기 위한 롤투롤 공정 챔버의 정화 장치에 관한 것이다.
롤투롤 방식은 인쇄회로기판(PCB)를 비롯한 주요 부품 생산라인에 적용되는 것으로서, 재단을 하지 않고 그대로 회전롤에 감아 사용하는 공법으로서, 생산량 증가 뿐만아니라 다양한 소재에 적용이 가능하여 기판제조 등에 활용되고 있다.
이러한 롤투롤 방식에 의한 롤투룰 공정은 챔버에서 롤 형태로 감겨 있는 필름을 이동되게 하고 그 위에 원하는 유기물질 또는 무기물질을 증착시키는 공정으로 필름 증착 공정을 진행함으로써 플렉시블 소재를 제작하는 등의 용도로 사용되고 있다.
최근에는 이러한 롤투롤 공정을 이용하여 플렉시블 디스플레이를 제작하려는 시도가 진행되고 있다.
그런데, 롤투룰 공정 챔버를 통해 필름 증착 공정을 진행함에 있어, 챔버 내부에 발생되는 파티클로 인해, 균일한 증착이 되지 않는 등의 제품의 신뢰성에 문제가 발생하여, 이러한 파티클 제어가 되지 않는 챔버 구조에서는 고품질의 롤투롤 증착막을 얻기에 한계점이 지적되고 있다.
또한, 챔버 내부에 발생되는 파티클을 제어코자 하는 경우에도 특정 클린 룸에서만 공정을 진행해야 하는 문제로 롤투룰 공정 설비의 어려움과 제조 단가가 상승하는 문제점이 발생하고 있었다.
본 발명은 전술한 바의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 롤투롤 공정을 진행함에 있어서 특정 클린 룸과 같은 설비 없이, 롤투롤 공정 챔버 내에 발생하는 파티컬을 제어함에 있다.
또한, 본 발명은 롤투롤 공정 챔버에 파티클 제거하기 위한 장치를 구비함으로써, 챔버 내부에 부유하는 파티컬을 효율적으로 제거하기 위한 공정 챔버를 제공함에 있다.
본 발명의 목적은 상기의 기재에 제한되지 않으며, 아래의 기재로부터 다른 목적들이 포함될 수 있다.
상기의 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 실시례에 따른 롤투롤 공정 챔버 정화 장치는, 증착공정이 진행되는 챔버, 상기 챔버로 가스를 주입하기 위한 가스주입부, 상기 챔버 내부에 배치되며, 상기 가스주입부로부터의 가스를 분사하는 분사헤드, 상기 챔버와 연결되며, 상기 챔버로부터의 파티컬을 수집하는 수조, 상기 수조의 상층부와 연결되며, 상기 상층부에 위치하는 가스를 필터링하는 제1 필터, 및 상기 필터링된 가스를 상기 챔버로 유입되게 하는 제1 송풍기를 포함한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시례로는, 수조 내부에 수집된 파티클을 필터링하는 제2 필터와 상기 수조부부터 파티클이 상기 제2 필터로 유입되게 하는 제2 송풍기를 포함한다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 실시례로는, 챔버의 측면에 정전기를 발생시키는 전기집진부를 배치하고, 분사헤드는 상기 전기집진부의 상측부위에서 더 많은 가스를 분사시키는 구조를 포함한다.
또한, 상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명의 또 다른 실시례에 따른 롤투롤 공정 챔버 정화 장치는, 가스 분사를 제어하는 제어부를 포함하여, 상기 제어부가 챔버 내부에 증착공정이 진행되기 전, 진행 중 및 진행 후 중 적어도 어느 하나의 시점에 자동적으로 상기 챔버로 가스가 주입되도록 하여, 작업자가 파티컬 제거를 위해 가스분사를 특별히 조작하지 않아도 자동적으로 가스주입을 제어하는 롤투롤 공정 챔버의 정화가 이루어지도록 하고 있다.
본 발명에 따른 롤투롤 공정 챔버 정화 장치에 의해, 챔버 내부 온도 편차에 따른 기류 흐름으로 챔버 내부에 존재하는 부유 입자의 하강흐름을 유도할 수 있게 되고, 기류흐름을 이용하여 파티클을 챔버 하부에 위치하는 수조로 유도 시킬 수 있게 되며, 수조 내부의 파티클은 물과 빠른 속도로 접촉 포집되게 하여, 증착 공정에 파티컬이 영향을 미치는 것을 방지할 수 있다.
또한, 수조의 상층부에 수집된 청정공기는 상부로 배출시켜, 다시 챔버 내부로 재순환이 가능하여 챔버 제어관리 및 가스 소모량을 줄이는 효과가 있다.
본 발명에 따른 롤투롤 공정 챔버 정화 장치는 수조 내부에 포집된 파티클은 멤브레인 필터를 통해서 걸러내어, 수조는 다시 깨끗한 물로 채워지게 하여, 파티컬 제거의 효율을 향상시킬 수 있다.
본 발명에 따른 롤투롤 공정 챔버 정화 장치는 챔버내부에 전기집진부를 추가 배치시키고, 상기 전기집진부의 상측부위에서의 가스를 분사를 차별화함으로써, 파티컬 제거의 효율을 항상시킬 수 있는 장점이 있다.
본 발명에 따른 롤투롤 공정 챔버 정화 장치는 작업자가 파티컬 제거를 위해 가스분사를 특별히 조작하지 않아도 자동적으로 증착공정 전, 후 또는 증착공정 중에 자동적으로 파티컬 제어가 가능케 함으로써, 효율적으로 파티컬 제거 작업을 진행할 수 있는 장점이 있다.
한편 그 외의 다양한 효과는 후술될 본 발명의 실시 예에 따른 상세한 설명에서 직접적 또는 암시적으로 개시될 것이다.
도 1은 증착공정을 보여주는 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 롤투롤 공정 챔버의 정화 장치를 도시한 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 롤투롤 공정 챔버 정화 장치의 동작을 설명하기 위해 참조되는 도면이다.
도 4은 본 발명의 실시례에 따른 수조 내부의 파티컬 제거 구성을 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명의 실시례에 따른 수조에 전기집진부가 설치된 구성을 보여주는 도면이다.
도 6는 본 발명의 실시례에 따른 챔버를 구동시키기 위한 구성을 도시한 블록도이다.
이하의 설명에서 사용되는 구성요소에 대한 접미사 "부"는 단순히 본 명세서 작성의 용이함만이 고려되어 부여되는 것으로서, 그 자체로 특별히 중요한 의미 또는 역할을 부여하는 것은 아니다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 명세서에 개시된 실시 예를 상세히 설명하되, 도면 부호에 관계없이 동일하거나 유사한 구성요소는 동일한 참조 번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 또한, 본 명세서에 개시된 실시 예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 명세서에 개시된 실시 예의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 첨부된 도면은 본 명세서에 개시된 실시 예를 쉽게 이해할 수 있도록 하기 위한 것일 뿐, 첨부된 도면에 의해 본 명세서에 개시된 기술적 사상이 제한되지 않으며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다..
도 1은 증착공정을 보여주는 개략적인 단면도이다.
도면을 참조하면 롤투롤 챔버는 내부에서 증착공정이 진행되는 챔버(100), 기판 등 증착 대상 소재를 지지하는 휠(110), 및 상기 증착 대상 소재에 증착시키고자 하는 유기물질 또는 무기물질을 분사시키는 증착헤드(120)를 포함한다.
이러한 롤투롤 챔버를 통해 증착 공정을 진행시키는 경우, 상기 휠(110)에 감겨진 증착 대상 소재가 상기 휠(110)의 구동에 의해 상기 챔버(100) 내부로 이송되고, 이송된 증착 대상 소재에 상기 증착헤드(120)을 통해 증착시키고자 하는 유기물질 또는 무기물질을 분사시켜 증착시키게 된다.
도 2는 본 발명에 따른 롤투롤 공정 챔버의 정화 장치를 도시한 단면도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 롤투롤 공정 챔버의 정화 장치는 증착공정이 진행되는 챔버(200), 상기 챔버(200)로 가스를 주입하기 위한 가스주입부(210), 상기 챔버(200) 내부에 배치되며, 상기 가스주입부(210)로부터의 가스를 분사하는 분사헤드(220), 상기 챔버(200)와 연결되며, 상기 챔버(200)로부터의 파티컬을 수집하는 수조(230), 상기 수조(230)의 상층부와 연결되며, 상기 상층부에 위치하는 가스를 필터링하는 제1 필터(240), 및 상기 필터링된 가스를 상기 챔버(200)로 유입되게 하는 제1 송풍기(250)를 포함할 수 있다.
본 출원명세서에서 챔버(200)라 함은 일반적으로 증착공정이 진행되는 챔버(100)만을 의미하지 않을 수 있으며, 도 2를 포함한 전체 도면에서와 같은 정화장치가 포함된 구성을 챔버(200)로 칭할 수 있음을 밝혀두고자 한다. 즉, 도 2에서 챔버(200)는 이해를 위해 편의상 증착공정이 진행되는 챔버(100)를 가리키고 있으나, 도 2를 포함하여 본 발명의 롤투롤 공정 챔버의 정화 장치의 적어도 일부 구성요고나 또는 전체 구성이 챔버(100)와 결합되어 챔버(100)을 구성할 수 있음을 밝혀둔다.
가스주입부(210)로부터 챔버(200)에 주입되는 가스의 일 실시례로는 공기, 산소, 질소가 될 수 있으며, 이에 한정되지 아니한다.
가스주입부(210)의 설치의 일 실시례로서는 챔버(200)과 이격되어 배치되고, 관을 통해 가스주입부(210)로부터의 가스가 챔버(200) 내부로 전달되게 구성할 수 있다.
가스주입부(210)설치의 다른 실시례로서는 챔버(200)의 일측에 장착될 수 있으며, 이 경우 챔버(200)의 상부에 설치될 수 있다.
설치되는 구체 실시례에 있어서도, 상기 챔버(200)의 내측으로 홈을 형성하여, 상기 홈에 상기 가스주입부(210)가 전체로 매입되게 하거나 일부만 매입되도록 배치되게 할 수 있으며, 상기 가스주입부(210)의 고정을 위해 나사 등의 고정유닛을 이용하여 고정하거나, 고정유닛 없이 장착할 수 있으며, 구체 설치 형식은 이에 한정되지 아니한다.
가스주입부(210)에서 분사되는 가스는 분사헤드(220)을 통해 챔버(200)내부에 주입되게 된다.
챔버(200) 내부에 주입된 가스의 온도는 챔버(200) 내부의 온도보다 낮을 수 있다.
분사헤드(220)는 챔버(200)의 내부 상측에 배치될 수 있다.
상기 챔버(200)의 내부 상측을 통해, 챔버(200) 내부의 온도보다 낮은 가스가 주입됨으로 인해, 챔버(200) 상부의 온도를 제어하게 되고, 챔버(200) 내부 온도 편차에 따른 기류 흐름으로 별도 장치 없이 챔버(2000 내부에 존재하는 부유 입자의 하강흐름을 유도할 수 있게 된다.
즉, 챔버(200) 내부 온도 편차에 따른 기류 흐름을 이용하여 파티클을 챔버 하부와 연결되는 수조(23)로 유도 시킬 수 있게 된다.
분사헤드(220)는 투입되는 가스가 고르게 분사되도록 홀 타입 구조로 형성될 수 있으며, 이에 한정되지 아니한다.
상기 홀 타입 구조의 예시로는 하나의 홀로 구성된 형성되거나, 소정을 단면에 다수개의 홀이 동일한 크기로 형성되어, 단면 전체에 골고루 가스가 분사되도록 형성될 수 있으며, 단면의 형상 및 홀의 형상은 원형, 사각형을 포함할 수 있으며, 이에 한정되지 아니한다.
또한 분사헤드(220)는 단면의 중앙부분이나 양 끝부분에 더 많은 가스가 분사되도록 형성될 수 있으며, 이 경우 복수 개의 홀을 통해 가스가 분사되는 경우, 홀의 크기는 일정하지 않을 수 있다.
챔버(200) 내부 파티클을 수조(230)로 효율적으로 유도시키기 위해 챔버(200)의 내부의 하측은 가스 또는 파티컬을 유도하기 위해 하측방향으로 폭이 좁아지는 형성이 될 수 있다.
이 경우에, 상기 챔버(200)의 내부의 상측에서부터 하측 방향으로 점차 좁아지는 형성을 가질 수 있으며, 또한, 수직방향으로 상측에서부터 일정 길이는 수직이며, 나머지 길이에서만 하측으로 갈수록 폭이 좁아지는 형상을 가질 수 있으며, 이에 한정하지 아니한다.
챔버(200)는 바닥에 형성된 관통홀(260)을 통해 수조(230)와 연결될 수 있으며, 상기 관통홀(260)을 통해 상기 챔버(200)의 하측으로 유도된 파티컬을 포함한 가스를 수조(230)으로 유도하게 된다.
수조(230)는 상기 관통홀(260)에 접촉되게 배치될 수 있으며, 또한, 관을 통해 연결될 수 있으며, 구체 설치 형태는 이에 한정되지 아니한다.
수조(230)에는 챔버(200)로부터 유도된 파티컬을 포집, 제거하기 위해, 파티컬 흡착을 위한 액체가 포함될 수 있으며, 상기 액체에는 물을 포함하며, 구체적인 실시례는 이에 한정되지 아니한다.
수조(230)에는 챔버(200)로부터 유도된 가스 및 파티컬이 포함되는데, 가스는 수조(230)의 상층부에 위치하게 되며, 파티컬은 하층부의 상기 액체에 포집하게 되어 파티컬의 포집 및 분리가 가능하게 된다.
수조(230)에 위치하는 가스는 상기 제1 필터로 전달될 수 있으며, 구체 실시례로서는, 수조(230)의 상층부에 상기 제1 필터가 배치되거나, 상기 수조(23))의 상층부와 상기 제1 필터가 관으로 연결되어, 상기 수조(230)의 상층부에 위치하는 청정 가스가 상기 제1 필터(240)에 의해 걸러지게 된다.
제 1 필터는 H2O 필터를 포함하며, 이에 한정하지 아니한다.
제1 필터(240)에 의해 필터링된 청정 가스는 제1 송풍기(250)에 의해 다시 상기 챔버(200)으로 유입할 수 있게 된다.
제1 송풍기(250)는 제2 필터와 결합되게 구성되거나 이격되게 구성될 수 있으며, 구체 구성은 이에 한정되지 아니한다.
도 3은 본 발명에 따른 롤투롤 공정 챔버 정화 장치의 동작을 보여주는 도면이다.
도 3을 참조하면, 도 3a에서는 가스주입부(210)에서 분사된 가스가 분사헤드(220)을 통해 챔버(200)내부에 주입되고 있는 것을 보여준다.
도 3a에서는 주입된 가스가 챔버(200)의 상부에서 균일하게 분사되는 것을 보여주고 있으나, 분사 형태는 이에 한정되지 아니한다.
도 3b에서는 챔버(200)의 내부 상측을 통해, 챔버(200) 내부의 온도보다 낮은 가스가 주입됨으로 인해, 챔버(200) 내부 온도 편차에 따른 기류 흐름이 발생하여, 챔버(200)내에 포함된 파티클(340)이 챔버 하부에 연결된 수조(230)으로 유도되고 있는 과정을 보여주고 있다.
도 3c에서는 수조(230)로 유도된 가스와 파티클(340)이 수조(230) 내에서 위치하는 있는 것을 보여준다.
상기 수조(230)로 유도된 가스와 파티클 중 가스는 수조(230)의 상층부(310)에 위치하게 되며, 상기 상층부(310)에 위치하는 가스는 파티컬이 포함되지 않는 청정 가스 상태가 되며, 제1 필터(240)에 의해 필터링된 후 필터링된 청정 가스는 제1 송풍기(250)에 의해 다시 상기 챔버(200)으로 유입하게 되며,
하층부(320)의 액체(330)에는 파티컬이 포집되어, 포집된 파티컬의 제거가 용이하게 된다.
도 4은 본 발명의 실시례에 따른 수조 내부의 파티컬 제거 구성을 보여주는 도면이다.
도 4를 참조하면, 수조(230)의 하층부(320)에 포집된 파티컬을 제거하기 위해 제2 필터(410)을 포함하는 구성을 보여주고 있으며, 상기 제2 필터(410)의 예시로는 멤브레인 필터를 포함하며, 이에 한정되지 아니한다.
상기 제2 필터(410)는 상기 수조(230)의 하층부(320)와 이격되게 관으로 연결되어 배치될 수 있다.
관으로 연결되어 배치되는 경우에는 상기 제2 필터(410)를 통과한 액체가 다시 수조(230)으로 유입되도록 순환구조를 형성하는 것이 바람직하며, 이에 한정되지 아니한다.
다른 실시례로서, 제2 필터(410)은 수조(230)의 하층부(320)에 위치하도록 장착될 수 있으며,
이 경우, 상기 제2 필터(410)는 수조(230)에 착탈 가능하게 설치되는 것이 바람직하다.
제2 필터(410)의 전 또는 후에는 제2 송풍기(420)가 배치될 수 있으며, 상기 제2 송풍기(420)는 상기 제2 필터와 결합되게 구성되거나 이격되게 구성될 수 있으며, 구체 구성은 이에 한정되지 아니한다.
상기와 같이, 수조(230) 내부에 포집된 파티클은 상기 제2 필터(410)를 통해서 걸러 지며, 수조(230)는 다시 깨끗한 물로 순환되어 질 수 있다.
도 5는 본 발명의 실시례에 따른 수조에 전기집진부(510)가 설치된 구성을 보여주는 도면이다.
전기집진부(510)는 챔버(200)의 내부에 적어도 하나 이상 배치될 수 있으며, 챔버(200) 내부의 일 측면에 배치될 수 있다.
도 5에 따르면, 실시례에 따른 전지집진부(510)가 챔버(200) 내부의 양측면에 배치되는 것을 보여주고 있다.
전기집진부는(510)는 챔버(200)의 측면에 배치되어 정전기를 발생시키게 되고, 발생된 정전기에 의해 파티컬이 상기 전기집진부를 부착되게 되어, 파티컬을 제거할 수 있게 된다.
전기집진부(510)가 챔버(200) 내부에 장착되는 경우, 상기 챔버(200)의 배치되는 분사헤드(220)는 상기 전기집진부(410)의 상측부위에서 가스가 더 많이 분사되도록 형성될 수 있다.
가스가 분사되는 분사헤드(220)의 단면의 형상은 원형, 사각형을 포함할 수 있으나, 이에 한정되지 아니하며, 가스가 분사되는 출구의 형상은 홀 타입 구조일 수 있으나, 이에 한정되지 아니하며, 홀이 복수 개로 형성되어, 전기집진부(410)의 상측부위에 보다 많은 홀이 배치되거나 보다 더 큰 홀이 배치될 수 있으며, 하나의 홀인 경우, 상기 전기집진부(410)의 상측부위에서 출구가 더 크도록 형성될 수 있으며, 이에 한정되지 아니한다.
도 6는 본 발명의 실시례에 따른 챔버를 구동시키기 위한 구성을 보여주는 블록도이다.
도 6을 참조하면, 롤투롤 공정의 진행과 종료 명령을 입력받기 위한 입력부(610)와, 상기 입력부로부터의 입력에 따라, 챔버(200)의 가동을 제어함과 아울러 본 발명의 실시례에 따른 챔버 정화 장치의 구동을 제어하는 제어부(620)와, 상기 제어부의 제어에 따라 상기 정화 장치의 구동 여부 등을 알려주는 출력부(630)를 포함할 수 있다.
입력부(610)는 작업자로부터 롤투롤 공정의 진행과 종료 명령뿐만아니라 본 발명의 실시례에 따른 챔버 정화 장치를 구동에 필요한 명령을 입력받기 위한 구성요소로서, 버턴 형태의 키 구조, 터치 스크린, 음성인식, 원격 조정 등이 실시례를 포함하며, 작업자의 명령을 수신하기 위한 구성이라면 특정 구성 및 방식에 한정되지 않는다.
제어부(620)는 입력부(610)로부터의 입력에 따라, 챔버(200)의 가동을 제어하게 되며, 또한, 본 발명의 실시례에 따른 챔버 정화 장치를 구동을 제어하게 된다.
본 발명에 따른 챔버 정화 장치를 구동하는 실시례로는 가스주입부(210)의 구동을 제어하여 가스가 챔버(200)로 주입되도록 하는 것을 포함할 수 있으며, 다른 실시례로서, 제1 송풍기(250) 또는 제2 송풍기(420)의 구동을 제어할 수 있다.
본 발명의 실시례에 의하면, 제어부(620)는 입력부(610)로부터 롤투롤 공정의 시작 명령이 있는 경우, 챔버의 증착공정의 시작과 함께 가스주입부가 구동되도록 제어할 수 있다.
본 발명의 다른 실시례에 의하면, 제어부(620)는 입력부(610)로부터 롤투롤 공정의 시작과 종료 명령의 입력여부를 감지하여, 상기 시작 또는 종료 명령이 있는 경우, 본 발명에 따른 챔버 정화 장치의 구동을 위한 명령이 입력되지 않는 경우에도, 챔버(200) 내부에 증착공정이 시작되기 전 또는 종료 후에 자동적으로 본 발명의 실시례에 따른 챔버 정화 장치를 구동하도록 제어할 수 있다.
상기에 의한 자동적으로 구동을 제어하는 경우에 상기 증착공정 시작 전 또는 종료 후 소정 시간만 구동하도록 제어할 수 있으며, 또한, 상기 증착공정 시작 전에 상기 챔버 정화 장치를 구동시키는 경우에는 상기 증착공정 진행 중에도 계속 구동되도록 제어할 수 있다.
제어부(620)는 본 발명의 실시례에 따른 챔버 정화 장치가 구동되는 경우, 구동 여부에 대한 알리기 위한 신호를 출력부(620)로 전달할 수 있다.
상기의 실시례에 따라, 자동적으로 본 발명의 실시례에 따른 챔버 정화 장치를 구동하도록 제어하는 경우에만 구동여부를 알리는 신호를 출력부(620)로 전달할 수 있으며, 다른 실시례로서, 작업자의 명령에 의해 본 발명의 실시례에 따른 챔버 정화 장치를 구동하는 경우와 차별되는 신호를 출력부(620)로 전달할 수 있다.
출력부(630)은 제어부로부터 본 발명의 실시례에 따른 챔버 정화 장치의 구동에 대한 신호가 있으면, 음성 또는 시각적 표시 유닛을 통해 출력할 수 있으며, 출력 방식 및 출력 유닛은 이에 한정되지 아니한다.
이상, 상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 롤투롤 공정 챔버 정화 장치는 챔버 내부 온도편차에 따른 공기 중 부유입자의 하강 흐름을 유도하여, 효과적으로 부유물질을 제거하는 한편, 필터링을 거친 후 순환되게 하는 시스템을 구성함으로써, 청정도가 유지 된 챔버 내부에서 필름, 기판 등의 증착 공정을 수행할 수 있게 하는 것이 가능하다.
또한, 상기의 상세한 설명은 모든 면에서 제한적으로 해석되어서는 아니되고 예시적인 것으로 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 첨부된 청구항의 합리적 해석에 의해 결정되어야 하고, 본 발명의 등가적 범위 내에서의 모든 변경은 본 발명의 범위에 포함된다.
200 : 챔버 210 : 가스주입부
220 : 분사헤드 230 : 수조
240 : 제1 필터 250 : 제1 송풍기
260 : 관통홀 310 : 상층부
320 : 하층부 330 : 액체
340 : 파티클 410 : 제2 필터
420 : 제2 송풍기 510 : 전기 집진부
610 : 입력부 620 : 제어부
630 : 출력부

Claims (14)

  1. 챔버;
    상기 챔버로 가스를 주입하기 위한 가스주입부;
    상기 가스주입부로부터의 가스를 분사하는 분사헤드;
    상기 챔버와 연결되며, 상기 챔버로부터의 파티컬을 수집하는 수조;
    상기 수조의 상층부와 연결되며, 상기 상층부에 위치하는 가스를 필터링하는 제1 필터; 및
    상기 필터링된 가스를 상기 챔버로 유입되게 하는 제1 송풍기;를 포함하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 수조의 하층부와 연결되며, 상기 하층부에 위치하는 파티클을 필터링하는 제2 필터를 더 포함하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 하층부에 위치하는 파티클이 상기 제2 필터로 유입되게 하는 제2 송풍기를 더 포함하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 챔버에 주입되는 상기 가스는 공기 또는 질소인 것을 특징으로 하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 가스는 챔버 내의 온도보다 낮은 온도인 것을 특징으로 하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 분사 헤드는 가스가 분사되는 적어도 하나의 홀을 포함하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 챔버 내부에 배치되며, 상기 챔버 내부의 파티컬을 필터링하는 제3 필터를 더 포함하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 챔버의 측면에 배치되며, 상기 정전기를 발생시키는 전기집진부를 더 포함하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 분사헤드는 가스가 분사되는 복수 개의 홀을 포함하며, 상기 전기집진부의 상측부위에 더 많은 상기 홀이 배치되거나 더 큰 크기의 상기 홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 챔버는 상부에서 하부로 갈수록 폭이 좁이지는 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  11. 제1항에 있어서,
    공정작업 시작 또는 종료 작업 명령을 입력받는 입력부;
    상기 입력부로부터 롤투롤 공정의 시작 또는 종료 명령 입력 여부를 감지하여 가스주입부의 구동을 제어하는 제어부를 포함하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 입력부로부터 롤투롤 공정의 시작 또는 종료 명령이 있는 경우, 챔버의 증착공정이 시작되기 전 또는 종료 후에 일정 시간 동안 가스주입부가 구동되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 제어부는,
    상기 입력부로부터 롤투롤 공정의 시작 명령이 있는 경우, 챔버의 증착공정의 시작과 함께 가스주입부가 구동되도록 제어하는 것을 특징으로 하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 제어부로부터 상기 가스주입부의 구동 여부에 대한 신호에 따라, 챔버로의 가스 주입 여부를 알리는 출력부를 포함하는 롤투롤 공정 챔버 정화 장치.

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990006894A (ko) * 1997-06-11 1999-01-25 히가시 데쓰로 용액을 사용한 처리장치 및 방법
KR20060015890A (ko) * 2004-08-16 2006-02-21 삼성전자주식회사 화학기상증착장치
KR20130084938A (ko) * 2012-01-18 2013-07-26 고려대학교 산학협력단 무기물 박막 태양전지 제조 장치 및 이의 제어 방법
KR20150141470A (ko) * 2014-06-10 2015-12-18 삼성전자주식회사 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치 클리닝 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990006894A (ko) * 1997-06-11 1999-01-25 히가시 데쓰로 용액을 사용한 처리장치 및 방법
KR20060015890A (ko) * 2004-08-16 2006-02-21 삼성전자주식회사 화학기상증착장치
KR20130084938A (ko) * 2012-01-18 2013-07-26 고려대학교 산학협력단 무기물 박막 태양전지 제조 장치 및 이의 제어 방법
KR20150141470A (ko) * 2014-06-10 2015-12-18 삼성전자주식회사 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치 클리닝 방법

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