KR20190032275A - 파장 변환 부재 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

색도를 고정밀도로 조정할 수 있는, 파장 변환 부재 및 그 제조 방법을 제공한다. 서로 대향하는 제 1 주면 (1a) 및 제 2 주면 (1b) 을 갖는 파장 변환 부재 (1) 로서, 유리 매트릭스 (2) 와, 유리 매트릭스 (2) 중에 배치되어 있는 형광체 입자 (3) 를 구비하고, 제 1 주면 (1a) 및 제 2 주면 (1b) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도가, 제 1 주면 (1a) 및 제 2 주면 (1b) 으로부터 20 ㎛ 내측의 표층 바닥면 (1c, 1d) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도보다 낮은 것을 특징으로 하고 있다.

Description

파장 변환 부재 및 그 제조 방법
본 발명은, 발광 다이오드 (LED : Light Emitting Diode) 나 레이저 다이오드 (LD : Laser Diode) 등이 발하는 광의 파장을 다른 파장으로 변환하는 파장 변환 부재 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
최근, 형광 램프나 백열등을 대신하는 차세대의 광원으로서, LED 나 LD 를 사용한 발광 디바이스 등에 대한 주목이 높아지고 있다. 그러한 차세대 광원의 일례로서, 청색광을 출사하는 LED 와, LED 로부터의 광의 일부를 흡수하여 황색광으로 변환하는 파장 변환 부재를 조합한 발광 디바이스가 개시되어 있다. 이 발광 디바이스는, LED 로부터 출사된 청색광과 파장 변환 부재로부터 출사된 황색광의 합성광인 백색광을 발한다. 특허문헌 1 에는, 파장 변환 부재의 일례로서 유리 매트릭스 중에 형광체 분말을 분산시킨 파장 변환 부재가 제안되어 있다.
일본 공개특허공보 2003-258308호
특허문헌 1 와 같은 파장 변환 부재는, 유리 매트릭스 중에 형광체 분말이 분산되어 이루어지는 유리 모재를 연마하여 두께를 얇게 함으로써 제작되고 있다. 그러나, 이와 같은 방법으로 얻어진 파장 변환 부재에 있어서는, 발광색의 색 편차 (색도의 편차) 가 발생하는 경우가 있었다. 그 때문에, 원하는 색도의 파장 변환 부재를 양호한 정밀도로 얻을 수 없는 경우가 있었다.
본 발명의 목적은, 색도를 고정밀도로 조정할 수 있는, 파장 변환 부재 및 그 제조 방법을 제공하는 것에 있다.
본 발명에 관련된 파장 변환 부재는, 서로 대향하는 제 1 주면 및 제 2 주면을 갖는 파장 변환 부재로서, 유리 매트릭스와, 유리 매트릭스 중에 배치되어 있는 형광체 입자를 구비하고, 제 1 주면 및 제 2 주면에 있어서의 형광체 입자의 농도가, 제 1 주면 및 제 2 주면으로부터 20 ㎛ 내측에 있어서의 형광체 입자의 농도보다 낮은 것을 특징으로 하고 있다.
제 1 주면과 제 2 주면 사이의 중앙부에 있어서의 형광체 입자의 농도가 높고, 제 1 주면 및 제 2 주면을 향함에 따라 형광체 입자의 농도가 낮아지고 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 파장 변환 부재의 제조 방법은, 본 발명에 따라 구성된 파장 변환 부재의 제조 방법으로서, 유리 매트릭스가 되는 유리 입자와, 형광체 입자를 함유하는 슬러리를 조제하는 공정과, 슬러리를 기재에 도포하여 건조시키고, 건조가 완료될 때까지의 사이에 형광체 입자를 하방으로 침강시킴으로써, 하면에 있어서의 형광체 입자의 농도가 상면에 있어서의 형광체 입자의 농도보다 높은, 제 1, 제 2 그린 시트를 얻는 공정과, 하면끼리를 중첩하도록, 제 1, 제 2 그린 시트를 적층하고, 일체화하여 소성하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.
파장 변환 부재의 제 1 주면 및/또는 제 2 주면을 연마하는 공정을 추가로 구비하는 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 색도를 고정밀도로 조정할 수 있는, 파장 변환 부재 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 제 1 실시형태에 관련된 파장 변환 부재의 모식적 정면 단면도이다.
도 2 는, 본 발명의 제 1 실시형태에 관련된 파장 변환 부재의 제 1 주면에 있어서의 형광체 입자의 농도를 나타내는 모식적 평면도이다.
도 3 은, 본 발명의 제 1 실시형태에 관련된 파장 변환 부재의 제 1 주면으로부터 20 ㎛ 내측의 표층 바닥면에 있어서의 형광체 입자의 농도를 나타내는 모식적 평면 단면도이다.
도 4(a) ∼ (d) 는, 본 발명의 제 1 실시형태에 관련된 파장 변환 부재의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 모식적 정면 단면도이다.
도 5 는, 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 파장 변환 부재의 모식적 정면 단면도이다.
이하, 바람직한 실시형태에 대해 설명한다. 단, 이하의 실시형태는 단순한 예시로서, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것이 아니다. 또, 각 도면에 있어서, 실질적으로 동일한 기능을 갖는 부재는 동일한 부호로 참조하는 경우가 있다.
(제 1 실시형태)
도 1 은, 본 발명의 제 1 실시형태에 관련된 파장 변환 부재의 모식적 정면 단면도이다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 파장 변환 부재 (1) 는, 유리 매트릭스 (2) 와, 유리 매트릭스 (2) 중에 배치되어 있는 형광체 입자 (3) 를 구비한다. 파장 변환 부재 (1) 는, 서로 대향하는 제 1, 제 2 주면 (1a, 1b) 을 갖는다.
본 실시형태에 있어서, 제 1 주면 (1a) 은, 여기광을 입사시키는 입사면이다. 여기광의 입사에 의해 형광체 입자 (3) 로부터 형광이 출사된다. 제 2 주면 (1b) 은, 형광 및 여기광을 출사시키는 출사면이다. 또한, 본 실시형태에서는, 제 1 주면 (1a) 과 제 2 주면 (1b) 이 대향하고 있는 방향을 두께 방향으로 한다.
유리 매트릭스 (2) 는, 무기 형광체 등의 형광체 입자 (3) 의 분산매로서 사용할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 붕규산염계 유리, 인산염계 유리, 주석인산염계 유리, 비스무트산염계 유리 등을 사용할 수 있다. 붕규산염계 유리로는, 질량％ 로, SiO2 30 ∼ 85 ％, Al2O3 0 ∼ 30 ％, B2O3 0 ∼ 50 ％, Li2O ＋ Na2O ＋ K2O 0 ∼ 10 ％, 및 MgO ＋ CaO ＋ SrO ＋ BaO 0 ∼ 50 ％ 를 함유하는 것을 들 수 있다. 주석인산염계 유리로는, 몰％ 로, SnO 30 ∼ 90 ％, P2O5 1 ∼ 70 ％ 를 함유하는 것을 들 수 있다. 유리 매트릭스 (2) 의 연화점은, 250 ℃ ∼ 1000 ℃ 인 것이 바람직하고, 300 ℃ ∼ 950 ℃ 인 것이 보다 바람직하고, 500 ℃ ∼ 900 ℃ 의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다. 유리 매트릭스 (2) 의 연화점이 지나치게 낮으면, 파장 변환 부재 (1) 의 기계적 강도나 화학적 내구성이 저하되는 경우가 있다. 또, 유리 매트릭스 (2) 자체의 내열성이 낮아지기 때문에, 형광체 입자 (3) 로부터 발생하는 열에 의해 연화 변형하는 경우가 있다. 한편, 유리 매트릭스 (2) 의 연화점이 지나치게 높으면, 제조시의 소성 공정에 의해, 형광체 입자 (3) 가 열화되어, 파장 변환 부재 (1) 의 발광 강도가 저하되는 경우가 있다. 또, 유리 매트릭스 (2) 는 무알칼리 유리인 것이 바람직하다. 이로써, 형광체 입자 (3) 의 실활을 억제할 수 있다. 또한, 파장 변환 부재 (1) 의 기계적 강도 및 화학적 내구성을 높이는 관점에서는 유리 매트릭스 (2) 의 연화점은 500 ℃ 이상인 것이 바람직하고, 600 ℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, 700 ℃ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 800 ℃ 이상인 것이 더욱 바람직하고, 특히 850 ℃ 이상인 것이 바람직하다. 그러한 유리로는, 붕규산염계 유리를 들 수 있다. 단, 유리 매트릭스 (2) 의 연화점이 높아지면, 소성 온도도 높아지고, 결과적으로 제조 비용이 높아지는 경향이 있다. 따라서, 파장 변환 부재 (1) 를 염가로 제조하는 관점에서는, 유리 매트릭스 (2) 의 연화점은 550 ℃ 이하인 것이 바람직하고, 530 ℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 500 ℃ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 480 ℃ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 특히 460 ℃ 이하인 것이 바람직하다. 그러한 유리로는, 주석인산염계 유리, 비스무트산염계 유리를 들 수 있다.
형광체 입자 (3) 는, 여기광의 입사에 의해 형광을 출사하는 것이면, 특별히 한정되는 것이 아니다. 형광체 입자 (3) 의 구체예로는, 예를 들어, 산화물 형광체, 질화물 형광체, 산질화물 형광체, 염화물 형광체, 산염화물 형광체, 황화물 형광체, 산황화물 형광체, 할로겐화물 형광체, 칼코겐화물 형광체, 알루민산염 형광체, 할로인산염화물 형광체 및 가닛계 화합물 형광체에서 선택된 1 종 이상 등을 들 수 있다. 여기광으로서 청색광을 사용하는 경우, 예를 들어, 녹색광, 황색광 또는 적색광을 형광으로서 출사하는 형광체를 사용할 수 있다.
형광체 입자 (3) 의 평균 입자경은, 1 ㎛ ∼ 50 ㎛ 인 것이 바람직하고, 5 ㎛ ∼ 25 ㎛ 인 것이 보다 바람직하다. 형광체 입자 (3) 의 평균 입자경이 지나치게 작으면, 발광 강도가 저하되는 경우가 있다. 한편, 형광체 입자 (3) 의 평균 입자경이 지나치게 크면, 발광색이 불균질해지는 경우가 있다.
유리 매트릭스 (2) 중에서의 형광체 입자 (3) 의 함유량은, 1 ∼ 70 체적％ 의 범위 내인 것이 바람직하고, 1.5 ∼ 50 체적％ 의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, 2 ∼ 30 체적％ 의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다. 형광체 입자 (3) 의 함유량이 지나치게 적으면, 파장 변환 부재 (1) 의 발광 강도가 불충분해지는 경우가 있다. 한편, 형광체 입자 (3) 의 함유량이 지나치게 많으면, 원하는 발광색이 얻어지지 않는 경우가 있다. 또, 파장 변환 부재 (1) 의 기계적 강도가 저하되는 경우가 있다.
파장 변환 부재 (1) 의 두께는, 0.01 ㎜ ∼ 1 ㎜ 의 범위 내인 것이 바람직하고, 0.03 ㎜ ∼ 0.5 ㎜ 의 범위 내인 것이 보다 바람직하고, 0.05 ㎜ ∼ 0.35 ㎜ 의 범위 내인 것이 더욱 바람직하고, 0.075 ㎜ ∼ 0.3 ㎜ 의 범위 내인 것이 특히 바람직하고, 0.1 ㎜ ∼ 0.25 ㎜ 의 범위 내인 것이 가장 바람직하다. 파장 변환 부재 (1) 의 두께가 지나치게 두꺼우면, 파장 변환 부재 (1) 에 있어서의 광의 산란이나 흡수가 지나치게 커져, 형광의 출사 효율이 낮아지는 경우가 있다. 파장 변환 부재 (1) 의 두께가 지나치게 얇으면, 충분한 발광 강도가 잘 얻어지지 않게 되는 경우가 있다. 또, 파장 변환 부재 (1) 의 기계적 강도가 불충분해지는 경우가 있다.
본 실시형태의 특징은, 제 1 주면 (1a) 및 제 2 주면 (1b) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도가, 제 1 주면 (1a) 및 제 2 주면 (1b) 으로부터 20 ㎛ 내측에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도보다 낮은 것에 있다. 이하, 본 실시형태의 특징에 대해, 도 1 ∼ 도 3 을 참조하여 설명한다.
도 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에서는, 제 1 주면 (1a) 으로부터 20 ㎛ 내측의 면을 표층 바닥면 (1c) 으로 한다. 동일하게, 제 2 주면 (1b) 으로부터 20 ㎛ 내측의 면을 표층 바닥면 (1d) 으로 한다. 제 1 주면 (1a) 에서 표층 바닥면 (1c) 까지의 영역 및 제 2 주면 (1b) 에서 표층 바닥면 (1d) 까지의 영역이, 본 실시형태에 있어서의 표층 (B) 이다. 또, 표층 바닥면 (1c) 과 표층 바닥면 (1d) 사이의 영역이, 본 실시형태에 있어서의 중앙부 (A) 이다.
도 2 는, 제 1 주면 (1a) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도를 나타내는 모식적 평면도이다. 도 3 은, 제 1 주면 (1a) 으로부터 20 ㎛ 내측의 표층 바닥면 (1c) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도를 나타내는 모식적 평면 단면도이다. 도 2 및 도 3 에 나타내는 바와 같이, 제 1 주면 (1a) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 면적 점유율은, 표층 바닥면 (1c) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 면적 점유율보다 작아져 있다. 따라서, 제 1 주면 (1a) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도는, 제 1 주면 (1a) 으로부터 20 ㎛ 내측의 표층 바닥면 (1c) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도보다 낮아져 있다.
동일하게, 제 2 주면 (1b) 측에 있어서도, 제 2 주면 (1b) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 면적 점유율은, 표층 바닥면 (1d) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 면적 점유율보다 작아져 있다. 따라서, 제 2 주면 (1b) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도는, 제 2 주면 (1b) 으로부터 20 ㎛ 내측의 표층 바닥면 (1d) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도보다 낮아져 있다.
제 1 주면 (1a) 및 제 2 주면 (1b) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 면적 점유율은, 표층 바닥면 (1c) 및 표층 바닥면 (1d) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 면적 점유율의 10 ％ 이상인 것이 바람직하고, 20 ％ 이상인 것이 보다 바람직하고, 특히 30 ％ 이상인 것이 바람직하고, 70 ％ 이하인 것이 바람직하고, 60 ％ 이하인 것이 보다 바람직하고, 특히 50 ％ 이하인 것이 바람직하다. 당해 면적 점유율이 지나치게 작으면, 연마했을 때의 색도 변화량이 지나치게 작아, 생산 효율이 저하되는 경향이 있다. 한편, 당해 면적 점유율이 지나치게 크면, 연마했을 때의 색도 변화량이 지나치게 커, 색도 조정을 고정밀도로 실시하는 것이 곤란해진다.
또한, 면적 점유율은 각 주면 및 각 표층 바닥면의 SEM (주사형 전자 현미경) 화상을 2 치화하고, 단위면적당에서 차지하는 형광체 입자 부분의 면적 비율에 의해 산출한다. 표층 바닥면에 대해서는, 주면을 연마함으로써 표층 바닥면을 노출시킨 상태에서 화상을 촬영한다.
본 실시형태에서는, 제 1 주면 (1a) 과 제 2 주면 (1b) 사이의 중앙부 (A) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도가 높고, 제 1 주면 (1a) 및 제 2 주면 (1b) 을 향함에 따라 형광체 입자 (3) 의 농도가 낮아지고 있다. 본 실시형태의 파장 변환 부재 (1) 는, 보다 상세하게는, 중앙부 (A) 의 중심부로부터, 제 1 주면 (1a) 및 제 2 주면 (1b) 을 향함에 따라 형광체 입자 (3) 의 농도가 서서히 낮아지는 농도 구배를 갖고 있다. 따라서, 표층 (B) 도, 제 1 주면 (1a) 및 제 2 주면 (1b) 을 향함에 따라 형광체 입자 (3) 의 농도가 서서히 낮아지는 농도 구배를 갖고 있다. 또한, 도 1 에 있어서, 표층 (B) 에 형광체 입자 (3) 가 도시되어 있지 않지만, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 표층 (B) 에도 형광체 입자 (3) 가 함유되어 있어도 된다. 도 1 에 있어서는, 중앙부 (A) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도가 높은 것을 나타내기 때문에, 중앙부 (A) 에만 형광체 입자 (3) 를 도시하고 있다.
파장 변환 부재 (1) 는, 입사한 여기광의 파장을 변환하여 형광을 출사하는 목적으로 사용된다. 백색광의 발광 디바이스의 경우에는, 예를 들어 LED 등의 광원으로부터의 여기광인 청색광과, 형광인 황색광의 합성광으로서의 백색광이 파장 변환 부재 (1) 로부터 출사된다. 파장 변환 부재 (1) 로부터 출사되는 광의 색도의 조정은, 일반적으로, 파장 변환 부재 (1) 의 제 1 주면 (1a) 및 제 2 주면 (1b) 중 적어도 일방을 연마하여, 파장 변환 부재 (1) 의 두께를 얇게 함으로써 조정된다. 파장 변환 부재 (1) 의 두께를 얇게 함으로써, 파장 변환 부재 (1) 로부터 출사하는 형광의 비율을 적게 하고, 파장 변환 부재 (1) 를 투과하는 여기광의 비율을 많게 할 수 있다. 파장 변환 부재 (1) 의 두께의 조정은, 일반적으로 표층 (B) 의 영역 내에서 연마함으로써 실시된다.
본 실시형태에 있어서는, 제 1 주면 (1a) 및 제 2 주면 (1b) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도는, 표층 바닥면 (1c) 및 표층 바닥면 (1d) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도보다 낮아져 있다. 그 때문에, 제 1 주면 (1a) 또는 제 2 주면 (1b) 을 연마하는 것에 의한 두께의 변화에 대한 색도의 변화가 작다. 즉, 연마에 의한 두께의 변화에 대해, 색도를 근소하게 변화시킬 수 있어, 색도를 미세조정할 수 있다. 따라서, 본 실시형태에 의하면, 색도를 고정밀도로 조정할 수 있다.
이하에 있어서, 파장 변환 부재 (1) 의 제조 방법의 일례에 대해 설명한다.
(파장 변환 부재의 제조 방법)
도 4(a) ∼ (d) 는, 제 1 실시형태에 관련된 파장 변환 부재의 제조 방법의 일례를 설명하기 위한 모식적 정면 단면도이다.
파장 변환 부재 (1) 의 제조 방법에서는, 먼저, 유리 매트릭스가 되는 유리 입자와, 형광체 입자와, 바인더 수지나 용제 등의 유기 성분을 함유하는 슬러리를 조제한다. 다음으로, 도 4(a) 에 나타내는 바와 같이, 슬러리 (4) 를, 기재인 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 수지 필름 (6) 상에 닥터 블레이드법 등에 의해 도포한다.
다음으로, 슬러리 (4) 를 건조시킨다. 이 때, 슬러리 (4) 의 건조가 완료될 때까지의 사이에, 형광체 입자 (3) 를 하방으로 침강시킨다. 이로써, 도 4(b) 에 나타내는, 하면 (5Ab) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도가 상면 (5Aa) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도보다 높은, 제 1 그린 시트 (5A) 를 얻는다.
또한, 슬러리 (4) 의 유리 입자의 밀도는, 형광체 입자 (3) 의 밀도보다 작다. 그것에 의해, 형광체 입자 (3) 를 바람직하게 침강시킬 수 있다. 따라서, 제 1 그린 시트 (5A) 에 있어서, 보다 확실하게 상기와 같은 형광체 입자 (3) 의 농도 분포로 할 수 있다.
한편, 도 4(a) 및 도 4(b) 에 나타낸 공정과 동일한 방법에 의해, 도 4(c) 에 나타내는 제 2 그린 시트 (5B) 를 얻는다. 제 2 그린 시트 (5B) 도, 하면 (5Bb) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도는 상면 (5Ba) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도보다 높다.
다음으로, 도 4(c) 에 나타내는 바와 같이, 하면 (5Ab, 5Bb) 끼리를 중첩하도록, 제 1, 제 2 그린 시트 (5A, 5B) 를 적층한다. 다음으로, 제 1, 제 2 그린 시트 (5A, 5B) 의 열압착을 실시하고, 일체화하여 소성을 실시한다. 이로써, 도 4(d) 에 나타내는 파장 변환 부재 (1) 를 제작한다.
또한, 파장 변환 부재 (1) 의 제 1 주면 (1a) 및 제 2 주면 (1b), 또는 어느 일방을 연마함으로써, 파장 변환 부재 (1) 의 색도 조정을 실시해도 된다. 연마의 방법으로는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 랩 연마나, 경면 연마에 의해 실시할 수 있다. 랩 연마는 경면 연마보다 연마 속도가 빠르다는 이점이 있다. 한편, 경면 연마는 랩 연마보다 연마면 정밀도를 높이는 것이 가능하다. 파장 변환 부재 (1) 의 두께와 색도에는 상관 관계가 있으므로, 미리 이 상관 관계를 구해둠으로써, 원하는 색도를 얻기 위한 파장 변환 부재 (1) 의 목표 두께를 구할 수 있다. 두께와 색도의 상관 관계는, 예를 들어 목표 색도보다 높은 상태에서 연마를 실시하면서 두께와 색도를 측정함으로써 구할 수 있다. 이 경우, 색도와 두께의 상관 관계를 양호한 정밀도로 얻는 관점에서는, 최종 제품의 마무리면과 동등한 표면 상태 (표면 조도) 가 되는 연마 방법을 채용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 최종 제품의 마무리를 경면 연마에 의해 실시하는 경우에는, 색도와 두께의 상관 관계를 구할 때의 연마 방법도 경면 연마를 채용하는 것이 바람직하다.
(제 2 실시형태)
도 5 는, 제 2 실시형태에 관련된 파장 변환 부재의 모식적 정면 단면도이다. 본 실시형태의 파장 변환 부재 (11) 는, 도 4(c) 에 나타낸 제 1, 제 2 그린 시트 (5A, 5B) 에 더하여, 제 1, 제 2 그린 시트 (5A, 5B) 와 동일한 방법에 의해 제작한 제 3 그린 시트를 추가로 적층하여 제조할 수 있다. 구체적으로는, 제 3 그린 시트에 있어서의, 형광체 입자 (3) 의 농도가 높은 하면을, 제 1, 제 2 그린 시트 (5A, 5B) 의 적층체에 적층하고, 일체화하여 소성함으로써 제조할 수 있다.
본 실시형태에 있어서도, 제 1 주면 (11a) 및 제 2 주면 (11b) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도는, 표층 바닥면 (11c) 및 표층 바닥면 (11d) 에 있어서의 형광체 입자 (3) 의 농도보다 낮아져 있다. 그 때문에, 제 1 주면 (11a) 또는 제 2 주면 (11b) 을 연마하는 것에 의한 두께의 변화에 대한 색도의 변화가 작아, 색도를 고정밀도로 조정할 수 있다.
1 : 파장 변환 부재
1a, 1b : 제 1, 제 2 주면
1c, 1d : 표층 바닥면
2 : 유리 매트릭스
3 : 형광체 입자
4 : 슬러리
5A : 제 1 그린 시트
5Aa : 상면
5Ab : 하면
5B : 제 2 그린 시트
5Ba : 상면
5Bb : 하면
6 : 수지 필름
11 : 파장 변환 부재
11a, 11b : 제 1, 제 2 주면
11c, 11d : 표층 바닥면
A : 중앙부
B : 표층

Claims (4)

  1. 서로 대향하는 제 1 주면 및 제 2 주면을 갖는 파장 변환 부재로서,
    유리 매트릭스와,
    상기 유리 매트릭스 중에 배치되어 있는 형광체 입자를 구비하고,
    상기 제 1 주면 및 상기 제 2 주면에 있어서의 상기 형광체 입자의 농도가, 상기 제 1 주면 및 상기 제 2 주면으로부터 20 ㎛ 내측에 있어서의 상기 형광체 입자의 농도보다 낮은, 파장 변환 부재.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 주면과 상기 제 2 주면 사이의 중앙부에 있어서의 상기 형광체 입자의 농도가 높고, 상기 제 1 주면 및 상기 제 2 주면을 향함에 따라 상기 형광체 입자의 농도가 낮아지고 있는, 파장 변환 부재.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 파장 변환 부재를 제조하는 방법으로서,
    상기 유리 매트릭스가 되는 유리 입자와, 상기 형광체 입자를 함유하는 슬러리를 조제하는 공정과,
    상기 슬러리를 기재에 도포하여 건조시키고, 건조가 완료될 때까지 사이에 상기 형광체 입자를 하방으로 침강시킴으로써, 하면에 있어서의 상기 형광체 입자의 농도가 상면에 있어서의 상기 형광체 입자의 농도보다 높은, 제 1, 제 2 그린 시트를 얻는 공정과,
    상기 하면끼리를 중첩하도록, 상기 제 1, 제 2 그린 시트를 적층하고, 일체화하여 소성하는 공정을 구비하는, 파장 변환 부재의 제조 방법.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 파장 변환 부재의 상기 제 1 주면 및/또는 상기 제 2 주면을 연마하는 공정을 추가로 구비하는, 파장 변환 부재의 제조 방법.
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