KR20190018435A - 입술 화장료 - Google Patents

Abstract

본 발명은 하얗게 되지 않고 투명감이 우수한 입술 화장료로서, 또한 UVA로부터 UVB에 걸치는 넓은 파장 영역에서 현저한 자외선 방어능을 갖는 입술 화장료를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은 (A) (A1) 옥토크릴렌, 디메티코디에틸벤잘말로네이트, 및 디에틸아미노히드록시벤조일벤조산 헥실로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종 및 (A2) 메톡시신남산 에틸헥실을 포함하는 자외선 흡수제를 5질량% 이상; (B) 고점도 유분을 30질량% 이상이며, 또한 70질량% 이하; 및 (C) 저점도 유분을 20질량% 이상이며, 또한 40질량% 이하 함유하고, (D) 산화티탄 및 산화아연의 합계 배합량이 0.5질량% 이하이며, (E) SPF가 20 이상이며, 또한 임계 파장이 370㎚ 이상인 것을 특징으로 하는 입술 화장료에 관한 것이다.

Description

입술 화장료

본 발명은 입술 화장료에 관한 것이다. 보다 상세하게는 UVA로부터 UVB에 걸치는 넓은 파장 영역에서 높은 자외선 방어능을 발휘하고, 또한 도포 시에 하얗게 되지 않고 투명성이 우수한 입술 화장료에 관한 것이다.

자외선의 해로부터 피부를 지키는 것은 스킨 케어, 보디 케어에 있어서의 중요한 과제 중 하나이며, 자외선이 피부에 부여하는 악영향을 최소한으로 억제하기 위해 여러 가지의 UV 케어 화장료가 개발되어 있다. 햇볕에 타거나 염증 등을 야기하는 것이 알려져 있는 중파장 자외선(UVB: 파장 290~320㎚)뿐만 아니라 장파장 자외선(UVA: 320~400㎚)의 피부로의 영향(광노화 등)이 알려지게 되어 넓은 파장 영역에 걸쳐 자외선으로부터 피부를 방어하는 화장료가 여러 가지 제안되어 있다.

입술은 각질층이 매우 얇고, 피지선도 거의 없으며, 천연 보습 인자(NMF 성분)도 적은 부위이기 때문에 입술의 수분량은 다른 피부에 비해서 적고, 수분 증산 속도가 빠르므로 매우 거칠어지기 쉽고, 멜라닌량도 적으므로 자외선의 영향을 받기 쉽다고 되어 있다. 따라서, 입술을 자외선 등의 외적 자극으로부터 보호하는 것은 중요한 의의를 갖고, 루주나 립크림 등의 입술 화장료의 일부에 자외선 흡수제나 자외선 산란제가 배합되도록 되어 있다.

여기에서 상술한 바와 같은 특징을 갖는 입술에 있어서의 경피 흡수는 다른 부위에 있어서의 경피 흡수에 비해서 안전성에 특히 주의할 필요가 있으며, 그 배합 성분은 경구 경로로 체내에 도입될 가능성도 있기 때문에 추가적인 안전성의 확보가 필요하게 된다. 한편, 루주 등의 입술 화장료에는 메이크업 화장료로서도 기능도 요구되어 도포했을 때에 하얗게 되지 않는 것이 필요하다.

특허문헌 1에는 자외선 흡수제인 (A) 파라메톡시신남산 2-에틸헥실과 (B) 벤조페논 유도체를 (C) 유분 및 (D) 점도 조정 성분과 조합하여 배합하고, 30℃에 있어서의 점도를 10000mPa·s 이상으로 함으로써 자외선 흡수능(SPF)이 상승적으로 향상하는 것에 의거하여 자외선 흡수제의 배합량을 억제해도 종래에 비교해서 높은 자외선 방어 효과(SPF)를 나타내는 유성 화장료가 얻어진다고 기재되어 있다.

그러나 SPF(Sun Protection Factor)는 주로 UVB 영역의 자외선에 대한 방어능을 나타내는 값이며, UVA 영역에서의 자외선 방어능에 대해서는 언급되어 있지 않다. 즉, 특허문헌 1에 기재된 자외선 흡수제의 조합에서는 SPF의 상승적 향상은 확인되어 있지만, UVA 영역에서의 자외선 방어능은 UVB 영역에 필적할 만큼 높지는 않다고 추측된다. 또한, 실시예에 배합되어 있는 왁스량으로는 백탁한 화장료로 되어 있을 가능성이 높다.

UVA 영역에 있어서의 자외선 방어능을 향상시키기 위해서는 UVA 영역에 흡수를 갖는 물질을 자외선 흡수제로서 배합하는 것이나 산화티탄이나 산화아연 등의 무기안료를 자외선 산란제로서 배합하는 것이 일반적이다. 그 중에서도 자외선 산란제는 그 표면에 있어서 자외선을 물리적으로 산란 및 흡수함으로써 자외선 방어 효과를 나타내지만, 피부에 도포했을 때의 부자연스러운 흼이 문제가 되는 경우가 있었다.

특허문헌 2에는 (a) 자외선 흡수제의 1종 또는 2종 이상을 3~15질량%, (b) 평균 입자 지름이 35~80㎚인 산화아연을 10~22질량%, 및 임의로 (c) 백색 안료를 0~0.5질량% 포함하는 자외선 방어 화장료가 개시되어 있다. 이 화장료는 입경이 큰 산화아연을 소정량 배합해서 백색 안료의 배합량을 억제함으로써 부자연스럽게 하얗게 되지 않고, SPF가 30 이상, 임계 파장이 370㎚ 이상이라는 브로드 스펙트럼(Broad Spectrum)을 달성한 화장료이다. 그러나 이 화장료는 통상의 피부로의 적용을 의도한 것이며, 입술 화장료에 요구되는 투명감이 결여된다고 추측된다.

일본 특허공개 2013-199452호 공보 일본 특허공개 2014-040377호 공보

따라서, 본 발명에 있어서의 과제는 하얗게 되지 않고 투명감이 우수한 입술 화장료이며, 또한 UVA로부터 UVB에 걸치는 넓은 파장 영역에서 현저한 자외선 방어능을 갖는 입술 화장료를 제공하는 것에 있다.

본 발명자 등은 상기 과제를 해결하도록 예의 연구를 행한 결과, 특정 자외선 흡수제를 조합하여 배합하고, 점도가 상이한 유분을 소정 비율로 배합함으로써 흼의 원인이 될 수 있는 산화아연 및 산화티탄의 배합량을 억제해도 SPF가 20 이상, 임계 파장이 370㎚ 이상이라는 브로드 스펙트럼을 달성할 수 있는 것을 발견하여 본 발명을 완성하는 것에 도달했다.

즉, 본 발명은,

(A) (A1) 옥토크릴렌, 디메티코디에틸벤잘말로네이트, 및 디에틸아미노히드록시벤조일벤조산 헥실로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 및 (A2) 메톡시신남산 에틸헥실을 포함하는 자외선 흡수제를 5질량% 이상;

(B) 고점도 유분을 30질량% 이상이며, 또한 70질량% 이하; 및

(C) 저점도 유분을 20질량% 이상이며, 또한 40질량% 이하 함유하고,

(D) 산화티탄 및 산화아연의 합계 배합량이 0.5질량% 이하이며,

(E) SPF가 20 이상이며, 또한 임계 파장이 370㎚ 이상인 것을 특징으로 하는 입술 화장료를 제공한다.

(발명의 효과)

본 발명의 입술 화장료는 상기 (A1) 및 (A2)라는 특정 자외선 흡수제의 조합, (B) 고점도 유분 및 (C) 저점도 유분을 소정량 배합함으로써 자외선 산란 작용을 갖는 산화티탄 및 산화아연의 배합량을 억제할 수 있다. 따라서, UVA로부터 UVB의 넓은 파장 영역에 걸쳐 우수한 자외선 방어능을 가질(「브로드 스펙트럼」을 달성할 수 있을) 뿐만 아니라 투명성이 우수하여 도포한 입술이 하얗게 되는 일이 없다. 그 결과, 루주에 의한 메이크업 효과를 저해하는 일 없이 입술을 자외선으로부터 양호하게 보호할 수 있다.

본 발명의 입술 화장료는 (A) 자외선 흡수제를 함유하고, 상기 자외선 흡수제는 (A1) 옥토크릴렌, 디메티코디에틸벤잘말로네이트, 및 디에틸아미노히드록시벤조일벤조산 헥실로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종, 및 (A2) 메톡시신남산 에틸헥실을 포함하고 있다.

옥토크릴렌(2-시아노-3,3-디페닐프로파-2-엔산 2-에틸헥실에스테르라고도 불린다)은 상온에서 액상의 디페닐 화합물이다.

디메티코디에틸벤잘말로네이트(폴리실리콘-15라고도 불린다)는 상온에서 액상의 실리콘 변성 화합물이다.

디에틸아미노히드록시벤조일벤조산 헥실은 상온에서 고형의 자외선 흡수제이다.

본 발명의 입술 화장료는 상기 옥토크릴렌, 디메티코디에틸벤잘말로네이트, 및 디에틸아미노히드록시벤조일벤조산 헥실로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종(「A1 성분」이라고도 칭한다)을 필수 성분으로서 함유한다. A1 성분을 배합하지 않으면 UVB로부터 UVA에 걸치는 넓은 파장 영역에서 충분한 자외선 방어 효과가 얻어지지 않는다.

또한, 본 발명의 입술 화장료는 메톡시신남산 에틸헥실(「A2 성분」이라고도 칭한다)을 함유한다.

메톡시신남산 에틸헥실은 상온에서 액상의 자외선 흡수제이며, 화장료 등에 범용되어 있다.

본 발명의 입술 화장료에 있어서의 자외선 흡수제(「A 성분」이라고도 칭한다)는 상기 A1 성분 및 A2 성분에 첨가하여 화장료에 배합 가능한 다른 자외선 흡수제를 포함하고 있어도 좋다.

다른 자외선 흡수제로서는 특별히 한정되지 않지만, 옥시벤존-3, 옥시벤존-5, 옥시벤존-6 등의 벤조페논계 자외선 흡수제, 파라아미노벤조산 글리세릴 등의 벤조산계 자외선 흡수제, 살리실산 에틸헥실 등의 살리실산계 자외선 흡수제, t-부틸메톡시디벤조일메탄 등의 벤조일메탄계 자외선 흡수제, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제 등을 예시할 수 있다.

본 발명의 입술 화장료에 있어서의 자외선 흡수제(A 성분)의 배합량은 5질량% 이상, 바람직하게는 5.5질량% 이상, 보다 바람직하게는 6질량%이다. 배합량이 5질량%를 충족하지 않으면 충분한 자외선 방어능이 얻어지지 않는다. 배합량의 상한값은 특별히 한정되지 않지만, 통상은 20질량% 이하, 바람직하게는 18질량% 이하, 보다 바람직하게는 15질량% 이하이다.

본 발명의 입술 화장료는 고점도 유분(「B 성분」이라고도 칭한다) 및 저점도 유분(「C 성분」이라고도 칭한다)을 함유한다.

본 발명에 있어서의 (B) 고점도 유분이란 30℃에 있어서 B형 점도계로 측정한 점도가 2,000mPa·s 이상인 유분을 의미하고, (C) 저점도 유분이란 30℃에 있어서 B형 점도계로 측정한 점도가 2,000mPa·s 미만인 유분을 의미한다.

본 발명에서 사용되는 (B) 고점도 유분은 일반적인 점도계로 점도를 측정 가능한 유동성을 갖는 고점도 액상 유분을 의미하고, 상온에서 고형 또는 일반적인 점도계로 점도를 측정 불능인 경도를 갖는 유분(이하, 본 명세서에서는 「왁스」라고 칭한다)은 포함하지 않는다.

본 발명에 있어서의 (B) 고점도 유분으로서는 말산 디이소스테아릴, 테트라이소스테아르산 수크로오스, 트리이소스테아린, 라우로일글루탐산 디(피토스테릴/옥틸도데실) 등의 고점도 에스테르유, 수첨 폴리이소부텐(수첨 이소폴리부텐)의 고점도 탄화수소유, 디메티콘 등의 고점도 실리콘유 등이 예시되지만, 이들에 한정되지 않는다. 이들 중에서도 말산 디이소스테아릴, 테트라이소스테아르산 수크로오스, 트리이소스테아린, 라우로일글루탐산 디(피토스테릴/옥틸도데실), 수첨 폴리이소부텐이 바람직하게 사용된다.

본 발명에서 사용되는 (C) 저점도 유분으로서는 세박산 디이소프로필, 트리에틸헥사노인, 미리스트산 이소프로필, 숙신산 디에틸헥실 등의 저점도 에스테르유, 미네랄 오일, 수첨 폴리데센 등의 저점도 탄화수소유, 디메티콘의 저점도 실리콘유가 예시되지만, 이들에 한정되지 않는다. 그 중에서도 세박산 디이소프로필, 트리에틸헥사노인, 미리스트산 이소프로필, 숙신산 디에틸헥실이 바람직하다.

또한, 본 발명의 (A) 성분에 해당하는 자외선 흡수제는 그 점도가 상기 소정 범위이어도 (C) 저점도 유분 또는 (B) 고점도 유분에는 포함되지 않는다.

본 발명의 입술 화장료에 있어서의 (B) 고점도 유분의 배합량은 30질량% 이상, 바람직하게는 32질량% 이상, 보다 바람직하게는 35질량% 이상이다. 배합량의 상한값은 특별히 한정되지 않지만, 통상은 70질량% 이하, 바람직하게는 68질량% 이하, 보다 바람직하게는 65질량% 이하이다.

본 발명의 입술 화장료에 있어서의 (C) 저점도 유분의 배합량은 20질량% 이상, 바람직하게는 22질량% 이상, 보다 바람직하게는 25질량%이다. 배합량의 상한값은 특별히 한정되지 않지만 통상은 40질량% 이하, 바람직하게는 35질량% 이하, 보다 바람직하게는 30질량% 이하이다.

본 발명의 입술 화장료에 있어서는 (B) 고점도 유분과 (C) 저점도 유분의 배합량 비율 [(B)/(C)]를 1~5의 범위로 하는 것이 바람직하며, 1~4의 범위로 하는 것이 특히 바람직하다.

본 발명의 입술 화장료는 상기 A~C 성분을 소정량으로 배합함으로써 우수한 자외선 흡수능을 발휘한다. 따라서, 화장료에 있어서 자외선 산란제로서 범용되어 있는 산화티탄 및 산화아연의 배합량을 억제할 수 있어 상기 분말에 의해 부자연스러운 흼이 발생하는 경우가 없다.

본 발명에 있어서의 산화티탄 및 산화아연은 백색 안료로서 사용되는 안료급의 분말뿐만 아니라 평균 입경이 작은 미립자 산화티탄 및 미립자 산화아연도 포함한다.

본 발명의 입술 화장료에 있어서의 산화티탄 및 산화아연(「D 성분」이라고도 칭한다)의 합계 배합량은 0.5질량% 이하, 바람직하게는 0.3질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.1질량%이다. 또한, 본 발명의 입술 화장료는 산화티탄 및 산화아연을 전혀 포함하지 않는 실시형태도 포함한다.

본 발명의 입술 화장료는 상기 구성으로 함으로써 자외선 산란제인 산화티탄 및 산화아연의 배합량을 억제해도 SPF가 20 이상이며, 또한 임계 파장이 370㎚ 이상이라는 특성을 갖는다. 즉, UVA로부터 UVB의 넓은 파장 영역에 걸쳐 밸런스 좋게 자외선을 방어하는 것이 가능하다.

여기에서 본 발명에 있어서의 「SPF(Sun Protection Factor)」의 값은 특기하지 않는 한 SPF 측정 장치 「SPF MASTER」(등록상표)를 사용하여 측정한 값이다.

임계 파장(Critical Wavelength)이란 2011년 6월에 공표된 미국 식품의약품국(U.S. Food and Drug Administration(FDA))의 파이널 룰에서 도입된 지표이며, 임계 파장(λc)은 하기 식으로 정의되는 값이다.

간결하게 설명하면 소정 플레이트에 자외선 방어 화장료를 도포하고, 4MED의 광을 조사한 후에 흡광 스펙트럼을 측정한다. 흡광 스펙트럼에 있어서의 290㎚~400㎚의 흡광도의 적분값을 100%로 했을 경우에 290㎚로부터 1㎚마다 적분한 값이 90%가 되는 파장이 임계 파장(λc)으로 정의된다. 상기 파이널 룰에서는 이 임계 파장(λc)이 370㎚ 이상이 되는 제품에 대해서만 「브로드 스펙트럼(Broad Spectrum)」으로 표시해서 판매하는 것이 허용된다.

본 발명의 입술 화장료는 상기 A~D 성분에 추가하여 립스틱이나 루주(페이스트상, 액상) 등의 입술 화장료에 통상 배합될 수 있는 다른 임의 성분을 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 포함하고 있어도 좋다.

특히, 본 발명의 입술 화장료를 고형 스틱상 또는 고형 페이스트상으로 할 경우에는 왁스(상기 정의에 따른다) 또는 유분 증점제(겔화제)를 배합하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 배합될 수 있는 왁스로서는 고체 유지, 납류, 탄화수소, 고급 알코올을 들 수 있다. 예를 들면, 목랍, 카카오지, 경화 피마자유 등의 고체 유지; 카르나우바 왁스, 밀랍, 칸델릴라 왁스, 호호바 왁스 등의 납류: 폴리에틸렌 왁스, 파라핀 왁스, 세레신, 마이크로크리스탈린 왁스 등의 탄화수소 왁스; 베헤닐 알코올, 세탄올, 바틸알코올 등의 고급 알코올; 실리콘 왁스 등이 예시된다. 이들 중에서도 폴리에틸렌 왁스, 파라핀 왁스, 마이크로크리스탈린 왁스 등의 탄화수소 왁스를 포함시킴으로써 스틱상으로 할 때의 고화력(固化力)(또는 성형성) 및 흼의 방지성이 향상하므로 특히 바람직하다.

본 발명의 입술 화장료에 있어서의 왁스의 배합량은 통상은 화장료 전량에 대하여 바람직하게는 4~13질량%, 보다 바람직하게는 7~10질량%이다.

본 발명에서 배합될 수 있는 유분 증점제(겔화제)로서는 덱스트린지방산 에스테르, 글리세린지방산 에스테르, 유기 변성 점토 광물 등을 예시할 수 있다. 덱스트린지방산 에스테르에는, 예를 들면 미리스트산 덱스트린, 팔미트산 덱스트린, (팔미트산/2-에틸헥산산)덱스트린 등이 포함된다. 글리세린지방산 에스테르에는, 예를 들면 베헨산 글리세릴, 옥타스테아르산 글리세릴, 에이코산 글리세릴 등이 포함된다.

고형 페이스트상의 화장료에 있어서의 유분 증점제의 배합량은 2.5질량%~15질량%, 바람직하게는 3.0질량%~12질량%, 4.0질량%~10질량%이다.

다른 임의 성분으로서는 수용성 고분자, 유용성 고분자, 저급 알코올, 고급 알코올, 계면활성제, 산화티탄 및 산화아연 이외의 분말 성분(안료를 포함한다), 색제, 약제 등을 들 수 있지만, 이들의 예시에 한정되는 것은 아니다.

수용성 고분자로서는 2-아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산(이하, 「AMPS」라고 약기한다)의 호모폴리머 또는 코폴리머를 들 수 있다. 코폴리머는 비닐피롤리돈, 아크릴산 아미드, 아크릴산 나트륨, 아크릴산 히드록시에틸 등의 코모노머로 이루어지는 코폴리머이다. 즉, AMPS 호모폴리머, 비닐피롤리돈/AMPS 공중합체, 디메틸아크릴아미드/AMPS 공중합체, 아크릴산 아미드/AMPS 공중합체, 아크릴산 나트륨/AMPS 공중합체 등이 예시된다.

또한, 카르복시비닐폴리머, 폴리아크릴산 암모늄, 폴리아크릴산 나트륨, 아크릴산 나트륨/아크릴산 알킬/메타크릴산 나트륨/메타크릴산 알킬 공중합체, 카라기난, 펙틴, 만난, 커들란, 콘드로이틴황산, 전분, 글리코겐, 아라비아검, 히알루론산 나트륨, 트래거캔스검, 크산탄검, 무코이틴황산, 히드록시에틸구아검, 카르복시메틸구아검, 구아검, 덱스트란, 케라토황산, 로커스트빈검, 석시노글루칸, 키틴, 키토산, 카르복시메틸키틴, 한천 등이 예시된다.

유용성 고분자로서는 트리메틸실록시규산, 알킬 변성 실리콘, 폴리아미드 변성 실리콘, 디메티콘 크로스폴리머, (디메티콘/비닐디메티콘)크로스폴리머, 폴리메틸실세스퀴옥산 등이 예시된다.

계면활성제는 음이온성, 양이온성, 비이온성 또는 양성의 계면활성제를 들 수 있고, 실리콘계 또는 탄화수소계의 계면활성제가 포함된다.

산화티탄 및 산화아연 이외의 분말 성분으로서는 황산바륨, 산화철, 탤크, 마이카, 세리사이트, 카올린, 운모티탄, 감청, 산화크롬, 수산화크롬, 실리카, 산화세륨 등의 착색 안료, 체질 안료 등을 들 수 있다. 또한, 나일론이나 아크릴계의 폴리머 구상 분말, 실리카 분말, 실리콘 분말 등도 필요에 따라 배합 가능하다.

본 발명의 입술 화장료는 무수 또는 물을 소량(예를 들면, 1.5질량% 이하) 포함하는 유성 화장료의 형태로 하는 것이 바람직하다. 구체적인 제형으로서는 고형(스틱, 페이스트)상, 크림상, 겔상으로 한 제형이 가능하며, 특히 고형 스틱상 또는 고형 페이스트상의 입술 화장료로 하는 것이 바람직하다.

실시예

이하에 실시예를 들어서 본 발명을 더 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 의해 조금도 한정되는 것은 아니다. 배합량은 특기하지 않는 한 그 성분이 배합되는 계 전량에 대한 질량%로 나타낸다.

하기 표 1~표 4에 열거하는 처방으로 입술 화장료의 시료를 조제했다. 이어서, 조제한 각 예의 시료에 대해서 SPF값 및 임계 파장을 측정했다.

또한, 각 시료에 대해서 「고화력」, 「윤기, 피트감」, 및 「도포의 흼」에 대해서 이하의 기준으로 평가했다.

(1) 고화력

고형 스틱 화장료, 페이스트상 화장료에 사용되는 상법에 따라 고화했을 때의 고화력을 평가했다.

A: 문제없이 고화할 수 있었다.

B: 고화는 가능하지만 무너지기 쉬웠다.

C: 고화 불능이었다.

(2) 윤기, 피트감

전문 패널에 의한 실사용 시험을 행했다.

A: 윤기, 피트감이 우수했다.

B: 윤기, 피트감이 뒤떨어져 있었다.

(3) 도포의 흼

각 시료를 입술에 적용했을 때의 흼을 전문 패널에 의해 평가했다.

A: 입술이 하얗게 되지 않는다.

B: 입술이 부자연스럽게 하얗게 되었다.

이상의 평가 결과도 표 1~표 4에 함께 나타낸다.

고형 스틱상의 루주에 관한 표 1 및 표 2에 나타낸 결과로부터 명백한 바와 같이 자외선 흡수제로서 A1 성분과 A2 성분의 조합을 포함하고, 고점도 유분 및 저점도 유분을 소정량으로 포함하는 실시예 1~8에서는 높은 SPF와 370㎚ 이상의 임계 파장이 달성되어 고화력, 윤기 및 피트감, 및 도포한 외관이 하얗게 되지 않는다는 모든 평가 항목에서 우량한 결과가 얻어졌다. 이들에 대하여 A1 성분을 포함하지 않는 비교예 1~4 및 6에서는 SPF가 20에 도달하지 않고, 임계 파장도 370㎚를 초과하는 경우는 없었다. 고점도 유분의 배합량이 30질량%를 충족하지 않는 비교예 5에서는 스틱상으로 성형(고화)할 수 없었다. 또한, 저점도 유분의 배합량이 40질량%를 초과하고, 고점도 유분(왁스 이외)과 저점도 유분의 배합량 비율((B)/(C))이 1 미만이 되는 비교예 7, 저점도 유분의 배합량이 20질량%를 충족하지 않고, 배합량 비율((B)/(C))이 5를 초과하는 비교예 8은 윤기감, 피트감이 뒤떨어지는 것으로 되었다.

동일 고형 스틱상 루주에 관한 표 3에 나타낸 결과에서는 모든 평가 항목에 있어서 우수한 실시예 9~11의 시료에 있어서의 왁스를 모두 탄화수소 왁스 이외의 왁스로 치환한 참고예 1~3에서는 스틱 고화력이 저하되고, 도포했을 때의 외관의 흼이 약간 눈에 띄게 되었다. 또한, 외관의 흼에 관해서는 왁스의 배합량이 13질량%를 초과하고 있는 것도 기여하고 있다고 생각된다(참고예 2 및 참고예 3). 따라서, 스틱상의 화장료로 할 경우에는 탄화수소계 왁스를 선택하여 배합량을 13질량% 이하로 하는 것이 바람직하다.

고형 페이스트상의 루주 화장료에 관한 표 4에 나타낸 결과에서는 모든 평가 항목에 있어서 우수한 실시예 13~15의 시료에 있어서의 왁스 또는 유분 증점제의 종류 또는 배합량을 변화시킨 결과, 13질량%를 초과하는 왁스를 배합한 참고예 4에서는 흼이 약간 눈에 띄게 되고, 유분 증점제의 배합량을 2질량%로 한 참고예 5에서는 고화력이 약간 부족하여 외관의 흼도 눈에 띄게 되었다. 즉, 고형 페이스트상의 루주 화장료로 할 경우에는 유분 증점제의 배합량을 2.5질량% 이상으로 하는 것이 바람직하다.

이하에 본 발명에 의한 메이크업 화장료의 다른 처방예를 열거한다. 하기 메이크업 화장료에 있어서도 선명한 형광 발색 및 투명감이 얻어진다.

처방예 1: 립글로스

배합 성분 배합량(질량%)

1. 트리에틸헥사노인 10.0

2. 수첨 이소폴리부텐 5.0

3. 말산 디이소스테아릴 56.5

4. 팔미트산 덱스트린 10.0

5. 세박산 디이소프로필 10.0

6. 디에틸아미노히드록시벤조일벤조산 헥실 1.0

7. 메톡시신남산 에틸헥실 5.0

8. 산화철 0.1

9. 적색 202 0.1

10. 토코페롤 적량

11. 향료 적량

12. 디페닐실록시페닐트리메티콘 잔여

Claims (10)

1. (A) (A1) 옥토크릴렌, 디메티코디에틸벤잘말로네이트, 및 디에틸아미노히드록시벤조일벤조산 헥실로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종 및 (A2) 메톡시신남산 에틸헥실을 포함하는 자외선 흡수제를 5질량% 이상;
   (B) 고점도 유분을 30질량% 이상이며, 또한 70질량% 이하; 및
   (C) 저점도 유분을 20질량% 이상이며, 또한 40질량% 이하 함유하고,
   (D) 산화티탄 및 산화아연의 합계 배합량이 0.5질량% 이하이며,
   (E) SPF가 20 이상이며, 또한 임계 파장이 370㎚ 이상인 것을 특징으로 하는 입술 화장료.
2. 제 1 항에 있어서,
   (B) 고점도 유분이 말산 디이소스테아릴, 테트라이소스테아르산 수크로오스, 트리이소스테아린, 라우로일글루탐산 디(피토스테릴/옥틸도데실), 및 수첨 폴리이소부텐으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 입술 화장료.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   (C) 저점도 유분이 세박산 디이소프로필, 트리에틸헥사노인, 미리스트산 이소프로필, 및 숙신산 디에틸헥실로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 입술 화장료.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   (B) 고점도 유분과 (C) 저점도 유분의 배합량 비율 「(B)/(C)」가 1~5의 범위 내인 입술 화장료.
5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
   적어도 1종의 왁스를 더 포함하며, 고형 스틱상인 입술 화장료.
6. 제 5 항에 있어서,
   상기 왁스의 배합량이 4~13질량%인 입술 화장료.
7. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
   상기 왁스가 폴리에틸렌 왁스, 파라핀 왁스, 및 마이크로크리스탈린 왁스로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 탄화수소 왁스를 포함하는 입술 화장료.
8. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
   적어도 1종의 유분 증점제를 더 포함하며, 고형 페이스트상인 입술 화장료.
9. 제 8 항에 있어서,
   상기 유분 증점제의 배합량이 2.5~15질량%인 입술 화장료.
10. 제 8 항 또는 제 9 항에 있어서,
    상기 유분 증점제가 덱스트린지방산 에스테르를 포함하는 입술 화장료.