KR20180126013A - Release film suitable for the manufacture of multilayer printed circuit boards - Google Patents

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KR20180126013A
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마사루 시미즈
켄지 시마
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미쓰이 가가쿠 토세로 가부시키가이샤
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Abstract

온도, 압력 등이 종래보다 높은 조건에서의 열 프레스, 또는 보다 장시간의 열 프레스 등의 가혹한 조건에서의 공정 후에도 흑화처리 동박 등의 조도(roughness)가 높은 금속 표면에서 용이하게 또한 충분하게 박리할 수 있는 공정용 이형필름(releasing film)을 제공한다. 상기 과제는, 열가소성 수지를 포함하는 공정용 이형필름이며, 이의 적어도 하나의 면은 하기와 같은 특징을 갖는 상기 공정용 이형필름에 의해 해결된다:
(1) 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션(nanoindentation)법으로 측정한 필름 복원성값 R이,
R ≥ 70(%)
이다.
It is possible to easily and sufficiently peel off a metal surface having a high roughness such as a blackening treated copper foil even after a step in a severe condition such as a hot press under a condition where the temperature, Lt; RTI ID = 0.0 > releasing < / RTI > film. The problem is solved by a release film for a process comprising a thermoplastic resin, the at least one side of which has the following characteristics:
(1) The film stability property R measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 占 폚,
R ≥ 70 (%)
to be.

Description

다층 프린트 배선판 제조에 적합한 이형 필름Release film suitable for the manufacture of multilayer printed circuit boards

본 발명은 소위 흑화처리 동박(copper foil) 등의 표면 조도(roughness)가 높은 금속 표면에서의 이형성(mold release characteristics)이 우수한 공정용 이형필름(releasing film) 관한 것으로, 보다 구체적으로는, 조면(rough surface)화 처리된 동박층을 갖는 다층 프린트 배선판 등의 금속/수지 적층체의 제조에 적합하게 사용되는 공정용 이형필름, 및 이를 이용한 다층 프린트 배선판 등의 금속/수지 적층체의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a releasing film for a process having excellent mold release characteristics on a metal surface having a high surface roughness such as a so-called blackened copper foil, and more specifically, a release film for process used suitably for the production of a metal / resin laminate such as a multilayer printed wiring board having a roughened copper foil layer, and a method for producing a metal / resin laminate such as a multilayer printed wiring board using the same will be.

최근 전자기기의 급속한 발전과 함께, IC의 집적도가 증가함에 따라 더 높은 정밀도, 높은 밀도, 높은 신뢰성화의 요구에 대응하기 위해 프린트 배선판이 많이 사용되고 있다.Recently, with the rapid development of electronic devices and the integration degree of ICs, the printed wiring boards are widely used in order to meet the demands of higher precision, higher density, and higher reliability.

이러한 프린트 배선판으로는, 단면 프린트 배선판, 양면 프린트 배선판, 다층 프린트 배선판, 플렉서블(flexible) 프린트 배선판이 있다. 특히 3층 이상의 도체의 중간에 절연층을 두고 일체화하여, 임의의 도체 상호 및 구현하는 전자부품과 임의의 도체층과의 접선이 가능하다는 점에서 다층 프린트 기판(이후, 「MLB」이라고도 한다.)의 응용 분야가 확대되고 있다.Examples of such a printed wiring board include a single-sided printed wiring board, a double-sided printed wiring board, a multilayer printed wiring board, and a flexible printed wiring board. (Hereinafter also referred to as " MLB ") in that an insulating layer is interposed between conductors of three or more layers in particular so that tangential lines between arbitrary conductors and an electronic component to be implemented and an arbitrary conductor layer can be formed. Has been expanding.

이러한 MLB는, 예를 들면 한 쌍의 단면 동장적층판(Copper Clad laminated) 또는 한 쌍의 양면 동장적층판을 양면 외장으로써 그 내부에 한층 또는 두층 이상의 내층 회로 기판을 프리프레그(prepreg)(에폭시수지 등)를 개재시켜 교대로 쌓아, 이들을 지그(jig)에 끼움과 동시에 쿠션재를 통해 프레스 열판에서 열 프레스하여 프리프레그를 경화시켜 강고하게 일체화된 적층체를 형성하고, 구멍, 스루 홀(through hole) 도금 등을 실시한 후 표면을 에칭(etching)함으로써 형성된다.Such an MLB may be formed by, for example, a pair of copper clad laminated boards or a pair of double-sided copper clad laminate boards with a double-sided jacket to form prepregs (epoxy resin or the like) And they are inserted into a jig, and at the same time, they are hot-pressed through a cushioning material in a press hot plate to cure the prepreg to form a laminated body which is firmly integrated, and holes, through hole plating And then etching the surface.

이러한 MLB를 제조하는 과정에서는, 통상의 동장적층판(외장판)과 지그 사이에 이형필름이 사용된다. 이 공정용 이형필름으로는 4-메틸-1-펜텐(4-Methyl-1-pentene) 공중합체, 폴리테트라플루오르에틸렌(polytetrafluoroethylene), 폴리에스테르(polyester), 신디오탁틱 폴리스티렌(syndiotactic polystyrene) 등의 열 프레스시의 가열 가압 공정에서 용융하지 않는 고내열성 수지로 구성된 필름이며, 강성, 표면 평활성 등이 뛰어난 것이 사용된다(예를 들면, 특허문헌 1 내지 특허문헌 4 등 참조).In the process of manufacturing such MLB, a release film is used between a normal copper-clad laminate (outer plate) and a jig. Examples of the release film for this process include 4-methyl-1-pentene copolymer, polytetrafluoroethylene, polyester, syndiotactic polystyrene, and the like. A film made of a high heat-resistant resin that does not melt in the heating and pressing process at the time of hot pressing, and has excellent rigidity and surface smoothness (see, for example, Patent Documents 1 to 4).

구리부착 적층판의 동박은 에폭시 수지와의 접착성을 높이기 위해 표면을 산화하거나, 산에 의한 에칭 처리를 수행하는 것으로부터 거칠게 하는, 이른바 흑화처리 동박과 같이 표면을 조면화 처리한 동박이 종종 사용된다. 이 경우에는, 상기의 각 공정용 이형필름에 있어서 열 프레스시의 가열 가압 공정 정도로 상기 동박면이 필름 표면에 침투하여, 이형필름을 박리할 수 없게 되는 문제가 생길 수 있다.The copper foil of the copper-clad laminate is often subjected to surface roughening such as so-called blackened copper foil which is roughened by oxidizing the surface or by etching with acid to improve adhesion with epoxy resin . In this case, in the above-mentioned release films for each process, the copper foil surface may penetrate the surface of the film at a degree of heating and pressing at the time of hot pressing, resulting in a problem that the release film can not be peeled off.

이에 대하여, 4-메틸-1-펜텐 (공)중합체로 구성되고, 실질적으로 왁스 또는 실리콘을 포함하지 않는 층(A)의 적어도 한쪽의 최외층에 폴리프로필렌 및/또는 폴리에틸렌 층(B)을 마련하는 시트를 4.3배 이상으로 축연신한 후 상기 시트의 적어도 한쪽의 최외층의 폴리프로필렌 및/또는 폴리에틸렌 층(B)을 박리하여 제거한 필름이며, 연신방향의 열수축 비율이 20% 이상인 것을 특징으로 하는 연신필름을 사용하는 것이 제안되고 있다(예를 들면, 특허문헌 5 참조).On the contrary, a polypropylene and / or polyethylene layer (B) is provided on at least one outermost layer of a layer (A) composed of a 4-methyl-1-pentene (co) polymer and substantially not containing wax or silicon And the polypropylene and / or polyethylene layer (B) on at least one of the outermost layers of the sheet is peeled off, and the heat shrinkage ratio in the stretching direction is 20% or more. It has been proposed to use a film (see, for example, Patent Document 5).

그러나, 당해 기술분야의 발전에 따라 다층 프린트 배선판용 이형필름 등의 공정용 이형필름에 대한 요구 수준은 매년 높아지고 있어 보다 고온, 고압의 열 프레스 등의 열악한 공정 조건에서도 조도가 높은 금속 표면에서 용이하게 또한 충분하게 박리할 수 있는 공정용 이형필름이 강하게 요구되고 있다. 단순히 이형필름의 강성 및 표면평활성을 높이는 것 만으로는 이 같은 요구에 부응할 수 없었다.However, with the development of the related art, the demand for release films for process such as release films for multilayer printed wiring boards has been increasing year by year, so that it is easy to be applied to metal surfaces having high roughness even under the poor process conditions such as high- There is a strong demand for a releasing film for process which can be sufficiently peeled off. Simply by increasing the rigidity and surface smoothness of the release film, it could not meet such a demand.

[특허문헌 1] 일본 특허 공개 2004-082717 호 공보[Patent Document 1] Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-082717 [특허문헌 2] 일본 특허 공개 평 10-67027 호 공보[Patent Document 2] Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 10-67027 [특허문헌 3] 일본 특허 공개 2014-8720 호 공보[Patent Document 3] JP-A-2014-8720 [특허문헌 4] 일본 특허 공개 2001-246635 호 공보[Patent Document 4] JP-A-2001-246635 [특허문헌 5] 일본 특허 제 4489699 호 명세서[Patent Document 5] Japanese Patent No. 4489699 Specification

본 발명은 상기의 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 온도, 압력 등이 종래보다 높은 조건에서의 열 프레스, 또는 보다 장시간의 열 프레스 등의 가혹한 조건에서의 공정 후에도, 흑화처리 동박 등의 조도가 높은 금속 표면에서, 용이하게 또한 충분하게 박리할 수 있는 공정용 이형필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a metal article having high roughness such as a blackened copper foil after a step in a severe condition such as a hot press under a condition where temperature, It is an object of the present invention to provide a releasing film for a process which can easily and sufficiently peel off from the surface.

본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 거듭한 결과, 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션(nanoindentation)법으로 측정한 필름 복원성값 R에 착안하여 해당 필름 복원성값 R이 일정치 이상일 때 상기 과제가 효과적으로 해결되는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result of intensive investigations to solve the above problems, the inventors of the present invention have found that when the film stability property R measured by a nanoindentation method at a test temperature of 180 캜 is measured, And found that the problems can be solved effectively, and the present invention has been accomplished.

즉, 본 발명 및 그 각 실시양태는 하기 [1] 내지 [10]에 기재된 바와 같다.That is, the present invention and the respective embodiments thereof are as described in the following [1] to [10].

[1][One]

열가소성 수지를 포함하는 공정용 이형필름으로, 이의 적어도 하나의 면이 하기와 같은 특징을 갖는, 상기 공정용 이형필름:A release film for a process comprising a thermoplastic resin, the at least one side of the release film having the following characteristics:

(1) 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 필름 복원성값 R이,(1) The film stability property R measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 占 폚,

R ≥ 70 (%)이다.R? 70 (%).

[2][2]

열가소성 수지를 포함하는 공정용 이형필름으로, 이의 적어도 하나의 면이 하기와 같은 특징을 갖는, 상기 [1]에 기재된 공정용 이형필름:A release film for a process comprising a thermoplastic resin, the release film for a process according to [1], wherein at least one surface thereof has the following characteristics:

(2) 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 경도 H가,(2) The hardness H measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 占 폚,

H ≥ 40 (MPa)H ≥ 40 (MPa)

이다.to be.

[3][3]

상기 (1)의 특성을 갖는 적어도 하나의 면과, 상기 (2)의 특성을 갖는 적어도 하나의 면이 동일한 면인, 상기 [2]에 기재된 공정용 이형필름. The release film for a process according to [2], wherein at least one surface having the characteristics of (1) and at least one surface having the characteristics of (2) are the same surface.

[4][4]

폴리에스테르 수지 및/또는 폴리아미드 수지를 포함하는, 상기 [1] 내지 [3] 중 어느하나에 기재된 공정용 이형필름.The release film for a process according to any one of [1] to [3], which comprises a polyester resin and / or a polyamide resin.

[5][5]

연신 혹은 무연신 폴리에스테르 필름층, 또는 연신 혹은 무연신 폴리아미드 필름층을 갖는, 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 공정용 이형필름.The release film for a process according to any one of the above [1] to [4], which has a stretched or non-stretched polyester film layer or a stretched or non-stretched polyamide film layer.

[6][6]

조면화 처리된 금속 표면으로부터의 박리에 사용되는, 상기 [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 공정용 이형필름.The release film for a process according to any one of [1] to [5], which is used for peeling from a roughened metal surface.

[7][7]

표면 조도 Rz가 1.0 ~ 6.5 μm인 금속 표면으로부터의 박리에 사용되는, 상기 [1] 내지 [6] 중 어느 하나에 기재된 공정용 이형필름.The release film for a process according to any one of the above [1] to [6], which is used for peeling from a metal surface having a surface roughness Rz of 1.0 to 6.5 μm.

[8][8]

상기 [1] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 이형필름을, 상기 (1)의 특성을 갖는 적어도 하나의 면에 있어서, 조면화 처리된 금속박층과 접촉시켜 열 프레스하는 공정, 및A step of hot-pressing the release film according to any one of [1] to [7] above in contact with the roughened metal foil layer on at least one surface having the characteristics of (1)

상기 공정용 이형필름을, 상기 금속박층으로부터 박리하는 공정,A step of peeling the process release film from the metal foil layer,

을 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속/수지 적층체의 제조방법.≪ / RTI > characterized in that the metal / resin laminate comprises a metal.

[9] [9]

상기 금속/수지 적층체가 다층 프린트 배선판인, 상기 [8]에 기재된 제조방법.The production method according to the above [8], wherein the metal / resin laminate is a multilayer printed wiring board.

[10][10]

상기 [9]에 기재된 제조방법에 의해 제조된 다층 프린트 기판을 갖는, 전기전자기기.An electrical and electronic apparatus having a multilayer printed circuit board manufactured by the manufacturing method according to the above-mentioned [9].

본 발명의 공정용 이형필름은 온도, 압력 등이 종래보다 높은 조건에서의 열 프레스, 또는 보다 장시간의 열 프레스 등의 가혹한 조건에서의 공정 후에도 흑화처리 동박 등 의 조도(roughness)가 높은 금속 표면에서, 이형제 등을 이용하지 않으며 또한 비싼 가공이 곤란한 고융점의 엔지니어링 플라스틱 등의 사용을 필요로 하지 않고, 용이하게 또한 충분하게 박리할 수 있는, 종래 기술에서는 실현할 수 없었던 실용상 높은 가치를 갖는 기술적 효과를 달성하는 것이다.The release film for a process of the present invention can be applied to a metal surface having a high degree of roughness such as a blackened copper foil after a step under a severe condition such as a thermal press at a higher temperature, , A technical effect with a high practical value that can not be realized in the prior art, which can be easily and satisfactorily peeled off without requiring the use of a high-melting-point engineering plastic which does not use a mold release agent, .

본 발명의 공정용 이형필름을 이용하는 제조방법은 다층 프린트 배선판 등의 금속/수지 적층 구조를 갖는 전기 전자 부품을, 높은 자유도로 생산성이 우수하게 제조할 수 있다.The production method using the process release film of the present invention can produce an electric / electronic part having a metal / resin laminated structure such as a multilayer printed wiring board with high productivity in a high degree of freedom.

[도 1] 동박층이 유리 섬유 - 에폭시 수지 복합 절연체의 양면에 적층한 경화된 양면 동장적층판의 개략 단면도이다.
[도 2] 도 1의 양면 동장적층판에 접착 프리프레그 및 동박층을 적층하고, 양 표면에 이형필름을 적층한 상태를 나타낸 개략 단면도이다.
[도 3] 도 2의 다층 적층판을 가압 성형하여 얻은 다층 적층판의 개략 단면도이다.
[도 4] 도 3의 다층 적층판에 접착 프리프레그 및 양면 동장적층판을 적층하고, 양 표면에 이형필름을 적층한 상태를 나타낸 개략 단면도이다.
[도 5] 도 4의 다층 적층판을 가압 성형하여 얻은 다층 적층판의 개략 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view of a cured double-sided copper-clad laminate in which a copper foil layer is laminated on both sides of a glass fiber-epoxy resin composite insulator.
Fig. 2 is a schematic cross-sectional view showing a state in which an adhesive prepreg and a copper foil layer are laminated on the double-sided copper clad laminate of Fig. 1 and a release film is laminated on both surfaces.
3 is a schematic cross-sectional view of a multilayer laminate obtained by pressure-molding the multilayer laminate of FIG. 2;
4 is a schematic cross-sectional view showing a state in which an adhesive prepreg and a double-sided copper clad laminate are laminated on the multilayer laminate of Fig. 3, and a release film is laminated on both surfaces. Fig.
5 is a schematic cross-sectional view of a multilayer laminate obtained by pressure-molding the multilayer laminate of FIG. 4;

(공정용 이형필름)(Release film for process)

본 발명의 공정용 이형필름은, 열가소성 수지를 포함하는 필름이며, 이의 적어도 하나의 면이 시험온도 180℃에서 최대 압입 하중(indenting load) 2 mN의 나노인덴테이션법으로 측정한 필름 복원성값 R이 70(%) 이상인, 특성(특성 (1))을 갖는 것이다.The release film for a process according to the present invention is a film comprising a thermoplastic resin, and at least one of its faces has a film stability value R measured by a nanoindentation method with a maximum indenting load of 2 mN at a test temperature of 180 캜 (Characteristic (1)) of not less than 70 (%).

필름 복원성값 R이 상기 범위에 있는 것에 의해, 흑화처리 동박 등의 조도가 높은 금속 표면으로부터 박리, 특히 비교적 고온, 고압 및/또는 장시간의 조도가 높은 금속 표면과 밀착한 후의 박리가 용이해진다. 따라서, 본 발명의 공정용 이형필름은 조도가 높은 표면을 갖는 금속층을 갖는 금속/수지 적층체의 제조, 특히 흑화 처리, 조면화 처리된 동박층을 갖는 다층 프린트 배선판의 제조에 특히 적합하게 이용할 수 있다.When the film stability value R is in the above range, peeling from a metal surface having high roughness such as a blackening-treated copper foil or the like can be facilitated, particularly after adhesion to a metal surface having a relatively high temperature, high pressure and / or long- Therefore, the release film for processing of the present invention can be suitably used for the production of a metal / resin laminate having a metal layer having a high-roughness surface, particularly for the production of a multilayer printed wiring board having a copper foil layer subjected to blackening treatment and roughening treatment have.

필름 복원성값 R은 측정온도 180℃에서 나노인덴터를 이용하여 능간각(line angle) 115°의 삼각뿔 다이아몬드 압자(Berkovich 압자)를, 최대 압입 하중 2 mN으로 필름 측정면에 압입함으로써 제하(unloading)하여 측정하는, 최대 압입 하중(2 mN)시의 압입 깊이와, 제하 후(0mN)의 압입 깊이의 비로부터 하기 식에 따라 계산된다.The film stability property R was measured by unloading a triangular diamond indenter (Berkovich indenter) with a line angle of 115 ° at a measurement temperature of 180 ° C by using a nanoindenter at the maximum indentation load of 2 mN on the film measurement surface, , And the ratio of the indentation depth at the maximum indentation load (2 mN) to the indentation depth after the removal (0 mN), which is measured by the following formula.

필름 복원성값 R(%)= (제하 후 압입 깊이/최대 압입 하중시의 압입 깊이) × 100Film stability property R (%) = (indentation depth after removal / indentation depth at maximum indentation load) x 100

필름 복원성값 R이 상기 범위에 있는 것에 의해 흑화처리 동박 표면 등의 조도가 높은 금속 표면으로부터의 박리가 용이하게 될 메커니즘은 반드시 명확한 것이 아니며, 또한 특정 이론에 구속되는 것을 의도하는 것은 아니지만, 비교적 고온, 고압 및/또는 장시간 조도가 높은 금속 표면과 밀착하여 열 프레스된 때, 조도가 높은 금속 표면의 요철 패턴에 추종하여 변형된 필름 표면이, 보다 더 평활한 형태로 복원하는 것으로부터, 금속 표면과의 밀착이 일부 해소되는 것과 어떤 관계가 있는 것으로 추정된다.Since the film stability property R is in the above range, the mechanism by which peeling from the surface of the metal having high roughness such as the blackening treated copper foil surface is easy is not necessarily clear, nor is it intended to be bound to a particular theory, , The film surface deformed in accordance with the concavo-convex pattern of the high-roughness metal surface is restored to a smoother form when it is hot-pressed against the metal surface having high pressure and / or long- It is presumed that there is some relation with the partial disappearance of the adhesion.

필름 복원성값 R은 73% 이상인 것이 보다 바람직하고, 75% 이상인 것이 특히 바람직하다.The film stability property R is more preferably 73% or more, particularly preferably 75% or more.

박리성 측면에서 필름 복원성값 R은 높은 편이 바람직하며, 본 발명에서 특별히 제한은 없지만, 가공성, 취급 등의 관점에서, 90% 이하인 것이 바람직하고, 85% 이하인 것이 특히 바람직하다.In view of workability and handling, the film stability is preferably 90% or less, and particularly preferably 85% or less, although the film stability property R is preferably high in terms of peelability, and is not particularly limited in the present invention.

본 발명의 이형필름의 필름 복원성값 R을 상기 범위로 하기 위해 사용하는 수지의 종류로는 특별히 한정되지 않고, 폴리에스테르 수지, 폴리아미드 수지, 테트라플루오로에틸렌에 유래하는 구성 단위를 포함하는 폴리테트라플루오로에틸렌 및 에틸렌-테트라플루오로에틸렌 공중합체 등인 불소 수지, 우레탄 수지, 폴리스티렌 수지 등의 수지 중에서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또한 이들을 병용할 수도 있다.The type of resin to be used in order to set the film stability property R of the release film of the present invention to the above range is not particularly limited, and polyester resin, polyamide resin, polytetrafluoroethylene containing a constituent unit derived from tetrafluoroethylene A fluorine resin such as fluoroethylene and ethylene-tetrafluoroethylene copolymer, a urethane resin, and a polystyrene resin. They may also be used in combination.

또한 사용되는 수지는 열가소성 수지일 수 있고, 열경화성 수지 또는 자외선, 전자선 등의 활성 에너지선을 추가하여 가교하는 활성 에너지선 경화성 수지를 사용할 수 있다.The resin to be used may be a thermoplastic resin, and a thermosetting resin or an active energy ray-curable resin for crosslinking by adding an active energy ray such as ultraviolet ray or electron beam may be used.

본 발명의 이형필름의 필름 복원성값 R을 상기 범위로 하는 것은, 상기 수지를 고분자량화하는 방법, 수지 필름에 에폭시 그룹 등 반응기를 포함하는 가교제를 함유시키는 방법, 연신배향하여 수지 분자의 배향을 갖추는 방법, 수지 필름에 열처리를 실행하는 방법 등에 따라 적절히 조정할 수 있다. 본 발명의 이형필름은, 이러한 필름 복원성값 R을 달성하기 위한 다른 방법으로는, 예를 들면 필름 표면에 러빙처리(rubbing process)를 실시하는 것 등을 들 수있다. 이형필름의 표면에 러빙처리를 실시함으로써 전술한 표면 경도를 달성하려고 하는 경우, 러빙방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 기존의 러빙장치를 사용할 수 있다.Setting the film stability property R of the release film of the present invention within the above range can be achieved by a method of increasing the molecular weight of the resin, a method of containing a crosslinking agent including a reactive group such as an epoxy group in a resin film, The method of preparing the resin film, the method of performing the heat treatment on the resin film, and the like. Another method for achieving such film stability value R of the release film of the present invention includes, for example, rubbing the surface of the film. When the above-described surface hardness is to be achieved by rubbing the surface of the release film, the rubbing method is not particularly limited, but a conventional rubbing apparatus can be used, for example.

본 발명의 공정용 이형필름에 있어서는, 이의 적어도 하나의 면이 시험온도 180℃에서 최대 압입 하중 2 mN의 나노인덴테이션법으로 측정한 경도 H가 40(MPa) 이상인, 특성(특성 (2))을 갖는 것이 바람직하다.In the release film for a process according to the present invention, at least one surface thereof has a hardness H of 40 (MPa) or more as measured by a nanoindentation method with a maximum indentation load of 2 mN at a test temperature of 180 캜, ).

경도 H가 상기 범위에 있는 것에 의해 조화 처리 동박 표면 등의 조도가 높은 금속 표면으로부터의 박리, 특히 비교적 고온, 고압 및/또는 장시간의 조도가 높은 금속 표면과 밀착한 후의 박리가 더욱 용이해진다. 따라서, 본 발명의 공정용 이형필름으로, 상기 (2)의 특성을 갖는 양태는 흑화처리된 동박층 등의 조도가 높은 금속 표면을 갖는 다층 프린트 배선판 등의 제조에 더욱 적합하게 이용할 수 있다.When the hardness H is in the above range, peeling from a metal surface having a high roughness such as a roughened surface of a copper foil, and peeling after adhesion with a metal surface having a relatively high temperature, high pressure and / or long- Therefore, with the release film for process according to the present invention, the embodiment having the characteristic (2) can be more suitably used for producing a multilayer printed wiring board or the like having a metal surface with high illuminance such as a blackened copper foil layer.

경도 H는, 측정온도 180℃에서 나노인덴터를 이용하여 능간각 115°의 삼각뿔 다이아몬드 압자(Berkovich 압자)을 최대 압입 하중 2 mN으로 필름 측정면에 압입한 후 제하했을 때, 최대 압입 하중(Fmax), 압입 깊이(hc)로부터 하기 식에 따라 계산된다.The hardness H was calculated by dividing the maximum indentation load (F) by the maximum indentation load (Berkovich indenter) at a measuring temperature of 180 ° C by using a nanoindenter after pushing the triangular diamond indenter (Berkovich indenter) max ) and the indentation depth (h c ).

경도 H = Fmax/(23.96 × hc 2)Hardness H = F max / ( 23.96 x h c 2 )

경도 H가 상기 범위에 있는 것에 의해 흑화처리 동박 표면 등의 조도가 높은 금속 표면으로부터의 박리가 더욱 용이하게 될 메커니즘은 반드시 명확한 것이 아니며, 또한 특정 이론에 구속되는 것을 의도하는 것은 아니지만, 비교적 고온, 고압 및/또는 장시간 조도가 높은 금속 표면과 밀착하여 열 프레스된 경우에도, 경도가 높은 필름 표면이 조도가 높은 금속 표면의 요철 패턴에 추종하여 변형하는 정도가 작고, 금속 표면과의 밀착 정도가 작은 것과 어떤 관계가 있는 것으로 추정된다.The mechanism by which the hardness H is in the above range makes it easier to peel off the surface of a metal having a high roughness such as a blackened copper foil surface is not necessarily clear and is not intended to be bound to a particular theory, Even in the case of hot pressing with a metal surface having a high pressure and / or a long time of high roughness, the degree of deformation of the film surface having a high hardness following the concavo-convex pattern of the metal surface with high roughness is small and the degree of close contact with the metal surface is small It is presumed that there is some relation with.

경도 H는 45 MPa 이상인 것이 보다 바람직하고, 55 MPa 이상인 것이 특히 바람직하다.The hardness H is more preferably 45 MPa or higher, and particularly preferably 55 MPa or higher.

박리성 측면에서 필름의 경도 H는 높은 편이 바람직하며, 본 발명에서 특별히 제한은 없지만, 가공성, 취급 등의 관점에서 130 MPa 이하인 것이 바람직하고, 115 MPa 이하인 것이 특히 바람직하다.From the viewpoints of workability and handling, it is preferable that the hardness H of the film is not more than 130 MPa, and particularly preferably not more than 115 MPa, although the hardness H of the film is preferably high in terms of peelability.

본 발명의 이형필름의 경도 H를 상기 범위로 하는 것은, 상기 수지를 고분자량화하는 방법, 수지 필름에 에폭시 그룹 등 반응기를 포함하는 가교제를 함유시키는 방법, 연신배향하여 수지 분자의 배향을 갖추는 방법, 수지 필름에 열처리를 실행하는 방법 등에 따라 적절히 조정할 수 있다.The setting of the hardness H of the release film of the present invention within the above range can be carried out by a method of increasing the molecular weight of the resin, a method of containing a crosslinking agent including a reactor such as an epoxy group in a resin film, a method of orienting resin molecules , A method of performing heat treatment on the resin film, and the like.

본 발명의 공정용 이형필름의 상기 양태에 있어서는, 상기 (1)의 특성을 갖는 적어도 하나의 면과, 상기 (2)의 특성을 갖는 적어도 하나의 면이 동일한 면인 것이 바람직하다. 즉, 본 발명의 상기 양태에 있어서는 적어도 하나의 면이 상기 (1)의 특성과, 상기 (2)의 특성을 동시에 갖는 것이 바람직하다.In the above-mentioned aspect of the process release film of the present invention, it is preferable that at least one surface having the characteristic (1) and the at least one surface having the characteristic (2) are the same surface. That is, in the above aspect of the present invention, it is preferable that at least one surface has both of the characteristics (1) and (2).

상기 적어도 하나의 면이, 상기 (1)의 특성과 상기 (2)의 특성을 동시에 갖는 것으로, 조도가 높은 금속 표면으로부터의 박리가 더욱 용이해지므로, 이와 같은 면은 열 프레스 등, 소위 흑화처리 동박과 같은 표면 조도가 높은 금속 표면과 접촉시켜 사용하는데 특히 적합하다.Since the at least one surface has the characteristics of (1) and the characteristic of (2) at the same time, the peeling from the surface of the metal having a high degree of roughness becomes easier, so that such a surface is subjected to so- It is particularly suitable for use in contact with a metal surface having a high surface roughness such as a copper foil.

본 발명의 공정용 이형필름은, 그의 적어도 하나의 면, 바람직하게는 상기 (1)의 특성을 갖는 적어도 하나의 면의, 물에 대한 접촉각이 90° 내지 130°인 것이 바람직하다. 이런 접촉각을 가짐으로써, 이 양태의 공정용 이형필름은 젖음성이 낮고, 조도가 높은 금속 표면, 특히 흑화 처리된 동박 표면으로부터 박리성이 우수하고, 다층 프린트 배선판 등의 성형품의 열 프레스 후의 이형을, 더욱 용이하게 할 수 있다.It is preferable that the process release film of the present invention has a contact angle with respect to water of at least one surface thereof, preferably at least one surface having the above-mentioned characteristic (1), of 90 to 130 degrees. By having such a contact angle, the release film for processing of this embodiment has a low wettability and is excellent in peelability from a metal surface having a high roughness, in particular, a blackened copper foil surface, and a mold release after hot pressing, It can be made even easier.

상기 적어도 하나의 면의 물에 대한 접촉각은, 바람직하게는 95° 내지 120°이며, 보다 바람직하게는 98° 내지 115°, 더욱 바람직하게는 100° 내지 110°이다.The contact angle of the at least one surface with respect to water is preferably 95 ° to 120 °, more preferably 98 ° to 115 °, and still more preferably 100 ° to 110 °.

또한, 본 발명의 공정용 이형필름은 그 120℃에서의 인장탄성률이 75 Mpa 내지 500 MPa이거나 또는 그 170℃에서의 인장탄성률이 75 Mpa 내지 500 MPa인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 공정용 이형필름은 120℃에서의 인장탄성률이 75 Mpa 내지 500 MPa이며, 또한 170℃에서의 인장탄성률이 75 Mpa 내지 500 MPa인 것이 바람직하다.It is also preferable that the releasing film for processing of the present invention has a tensile elastic modulus at 120 ° C of 75 MPa to 500 MPa or a tensile elastic modulus at 170 ° C of 75 MPa to 500 MPa. It is also preferable that the release film for processing of the present invention has a tensile elastic modulus at 120 ° C of 75 MPa to 500 MPa and a tensile elastic modulus at 170 ° C of 75 MPa to 500 MPa.

120℃에서의 인장탄성률이 75 Mpa 내지 500 MPa이거나, 또는 170℃에서의 인장탄성률이 75 Mpa 내지 500 Mpa인 것으로부터, 열 프레스 공정 등에 있어서의 주름의 발생을 효과적으로 억제할 수 있다.Since the tensile elastic modulus at 120 占 폚 is 75 MPa to 500 MPa or the tensile elastic modulus at 170 占 폚 is 75 MPa to 500 MPa, the generation of wrinkles in the hot press process and the like can be effectively suppressed.

본 실시양태의 공정용 이형필름은, 그 120℃에서의 인장탄성률이 80 MPa 내지 400 MPa인 것이 바람직하고, 85 MPa 내지 350 MPa인 것이 보다 바람직하고, 88 MPa 내지 300 MPa인 것이 더욱 바람직하고, 90 MPa 내지 280 MPa인 것이 특히 바람직하다.The release film for processing of the present embodiment preferably has a tensile elastic modulus at 120 ° C of 80 MPa to 400 MPa, more preferably 85 MPa to 350 MPa, further preferably 88 MPa to 300 MPa, Particularly preferably from 90 MPa to 280 MPa.

본 실시양태의 공정용 이형필름은 그 170℃에서의 인장탄성률이 80 MPa 내지 400 MPa인 것이 바람직하고, 85 MPa 내지 350 MPa인 것이 보다 바람직하고, 88 MPa 내지 300 MPa인 것이 보다 바람직하고, 90 MPa 내지 280 MPa인 것이 보다 바람직하고, 95 MPa 내지 200 MPa인 것이 더욱 바람직하고, 105 MPa 내지 170 MPa인 것이 특히 바람직하다.The release film for processing of the present embodiment preferably has a tensile elastic modulus at 170 캜 of 80 MPa to 400 MPa, more preferably 85 MPa to 350 MPa, even more preferably 88 MPa to 300 MPa, MPa to 280 MPa, more preferably 95 MPa to 200 MPa, and particularly preferably 105 MPa to 170 MPa.

본 실시양태의 공정용 이형필름은 그 120℃에서의 인장탄성률 및 170℃에서의 인장탄성률이 모두 상기의 바람직한 범위 내인 것이 가공시 자유도 및 용도가 확산되기 때문에 특히 바람직하다.The releasing film for processing of this embodiment is particularly preferable because both the tensile elastic modulus at 120 ° C and the tensile elastic modulus at 170 ° C are both within the above preferable range because the degree of freedom and use diffuse during processing.

또한, 본 발명의 공정용 이형필름은 그 TD 방향(가로 방향)의 23℃ 내지 120℃의 열치수변화율이 3% 이하이거나, 또는 그 TD 방향(가로 방향)의 23℃ 내지 170℃의 열치수변화율이 4% 이하인 것이 바람직하다. 또한 TD 방향(가로 방향)의 23℃ 내지 120℃의 열치수변화율이 3% 이하이고 TD 방향(가로 방향)의 23℃ 내지 170℃의 열치수변화율이 4% 이하인 것이 보다 바람직하다.The release film for a process of the present invention has a thermal dimensional change ratio of 23 to 120 캜 in the TD direction (transverse direction) of 3% or less, or a thermal dimension of 23 to 170 캜 in the TD direction (transverse direction) It is preferable that the rate of change is 4% or less. Further, it is more preferable that the thermal dimensional change ratio at 23 占 폚 to 120 占 폚 in the TD direction (transverse direction) is 3% or less and the thermal dimensional change rate at 23 占 폚 to 170 占 폚 in the TD direction (transverse direction) is 4%

TD 방향(가로 방향)의 23℃ 내지 120℃의 열치수변화율이 3% 이하이거나 또는 그 TD 방향(가로 방향)의 23℃ 내지 170℃의 열치수변화율이 4% 이하인 것으로부터 열 프레스 공정 등에 있어서의 주름의 발생을 더욱 효율적으로 억제할 수 있다. 이 실시양태에서, 가로(TD)방향의 열치수변화율이 상기 특정 값을 이용하는 것으로부터 주름의 발생이 더욱 유효하게 억제되는 메커니즘이 반드시 명확한 것은 아니지만, 비교적 열팽창/수축이 작은 필름을 사용함으로써 공정시 가열/냉각에 의한 공정용 이형필름의 열팽창/수축이 억제되는 것과 관련이 있는 것으로 추측된다.The thermal dimensional change ratio in the TD direction (transverse direction) of 23 ° C to 120 ° C is 3% or less, or the thermal dimensional change rate in the TD direction (transverse direction) of 23 ° C to 170 ° C is 4% It is possible to more effectively suppress the occurrence of wrinkles on the surface. In this embodiment, the mechanism in which the generation of wrinkles is more effectively suppressed from the fact that the rate of thermal dimensional change in the transverse direction (TD) uses the specific value is not necessarily clear. However, by using a film having relatively small thermal expansion / contraction, It is presumed that the thermal expansion / contraction of the release film for the process by heating / cooling is suppressed.

본 실시양태의 공정용 이형필름은 그 TD 방향(가로 방향)의 23℃ 내지 120℃의 열치수변화율이 2.5% 이하인 것이 바람직하고, 2.0% 이하인 것이 보다 바람직하고, 1.5% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 한편, 그 TD 방향(가로 방향)의 23℃ 내지 120℃의 열치수변화율이 -5.0% 이상인 것이 바람직하다.In the process for producing a release film for a process according to the present embodiment, the thermal dimensional change rate in the TD direction (transverse direction) of 23 ° C to 120 ° C is preferably 2.5% or less, more preferably 2.0% or less, and further preferably 1.5% or less. On the other hand, it is preferable that the thermal dimensional change rate in the TD direction (transverse direction) at 23 캜 to 120 캜 is -5.0% or more.

본 실시양태의 공정용 이형필름은 그 TD 방향(가로 방향)의 23℃ 내지 170℃의 열치수변화율이 3.5% 이하인 것이 바람직하고, 3.0% 이하인 것이 보다 바람직하고, 2.0% 이하인 것이 더욱 바람직하다. 한편, 그 TD 방향(가로 방향)의 23℃ 내지 170℃의 열치수변화율이 -5.0% 이상인 것이 바람직하다.In the release film for a process according to the present embodiment, the thermal dimensional change rate in the TD direction (transverse direction) of 23 ° C to 170 ° C is preferably 3.5% or less, more preferably 3.0% or less, and further preferably 2.0% or less. On the other hand, it is preferable that the thermal dimensional change ratio in the TD direction (transverse direction) at 23 캜 to 170 캜 is -5.0% or more.

본 발명의 공정용 이형필름은 그 TD 방향(가로 방향)의 열치수변화율 및 MD 방향(필름의 제조시의 긴 방향, 이하 “세로 방향”이라고도 함)의 열치수변화율의 합이 특정 값 이하인 것이 바람직하다.In the release film for a process of the present invention, the sum of the thermal dimensional change rate in the TD direction (transverse direction) and the thermal dimensional change rate in the MD direction (long direction in manufacturing the film, hereinafter also referred to as "longitudinal direction" desirable.

즉, 상기 공정용 이형필름의 가로(TD)방향의 23℃ 내지 120℃의 열치수변화율 및 세로(MD)방향의 23℃ 내지 120℃의 열치수변화율의 합은 6% 이하인 것이 바람직하고, 한편 그 TD 방향(가로 방향)의 23℃ 내지 120℃의 열치수변화율 및 세로(MD)방향의 23℃ 내지 120℃의 열치수변화율의 합이 - 5.0% 이상인 것이 바람직하다.That is, the sum of the thermal dimensional change ratio in the transverse direction (TD) direction of the process release film at 23 ° C to 120 ° C and the thermal dimensional change rate at 23 ° C to 120 ° C in the longitudinal (MD) direction is preferably 6% The sum of the thermal dimensional change rate in the TD direction (transverse direction) of 23 DEG C to 120 DEG C and the thermal dimensional change rate in the MD direction of 23 DEG C to 120 DEG C is preferably 5.0% or more.

본 실시양태의 공정용 이형필름은 가로(TD)방향의 23℃ 내지 120℃의 열치수변화율 및 세로(MD)방향의 23℃ 내지 120℃의 열치수변화율의 합이 6% 이하인 것으로부터 열 프레스 공정 등에 있어서의 주름의 발생을 더욱 효율적으로 억제할 수 있다.The release film for a process according to the present embodiment has a thermal dimensional change rate in a range of 23 占 폚 to 120 占 폚 in a transverse direction (TD) and a thermal dimensional change rate in a longitudinal direction (MD) of 23 占 폚 to 120 占 폚 of 6% It is possible to more effectively suppress the occurrence of wrinkles in the process and the like.

또한, 본 발명의 공정용 이형필름의 가로(TD)방향의 23℃ 내지 170℃의 열치수변화율 및 세로(MD)방향의 23℃ 내지 170℃의 열치수변화율의 합은 7% 이하인 것이 바람직하고, 한편 그 TD 방향(가로 방향)의 23℃ 내지 170℃의 열치수변화율 및 세로(MD)방향의 23℃ 내지 170℃의 열치수변화율의 합이 -5.0% 이상인 것이 바람직하다.The sum of the thermal dimensional change rate in the transverse direction (TD) of 23 DEG C to 170 DEG C and the thermal dimensional change rate of 23 DEG C to 170 DEG C in the longitudinal direction (MD) of the process release film of the present invention is preferably 7% , And the sum of the thermal dimensional change rate in the TD direction (transverse direction) of 23 ° C to 170 ° C and the thermal dimensional change rate in the MD direction of 23 ° C to 170 ° C is -5.0% or more.

본 실시양태의 공정용 이형필름은 가로(TD)방향의 23℃ 내지 170℃의 열치수변화율 및 세로(MD)방향의 23℃ 내지 170℃의 열치수변화율의 합이 7% 이하인 것으로부터 열 프레스 공정 등에 있어서의 주름의 발생을 더욱 효율적으로 억제할 수 있다.The release film for a process according to the present embodiment has a thermal dimensional change rate in the transverse direction (TD) of 23 ° C to 170 ° C and a thermal dimensional change rate in the MD direction of 23 ° C to 170 ° C of 7% It is possible to more effectively suppress the occurrence of wrinkles in the process and the like.

본 발명의 공정용 이형필름의 두께는, 필름으로써 막의 제조가 가능하고 이형필름으로써 사용가능한 범위라면, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상 5 ~ 150 μm, 바람직하게는 15 ~ 100 μm, 보다 바람직하게는 25 ~ 80 μm이다.The thickness of the process release film of the present invention is not particularly limited as long as the film can be used as a film and can be used as a release film. The thickness is usually 5 to 150 占 퐉, preferably 15 to 100 占 퐉, 25 to 80 μm.

본 발명의 공정용 이형필름의 상기 적어도 하나의 면은 특성 (1) 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 필름 복원성값 R이 R ≥ 70 (%)임을 만족하면 좋고, 재질 등에 특별한 제한은 없지만, 적절한 필름 복원성값 R을 비교적 쉽고 저렴하게 실현할 수 있기 때문에, 폴리에스테르 수지 및/또는 폴리아미드 수지를 포함하는 것이 바람직하다.The at least one surface of the release film for process of the present invention may satisfy the following characteristics: (1) the film stability property R measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 占 폚 is R? 70 (%); But it is preferable to include a polyester resin and / or a polyamide resin because a suitable film stability value R can be realized relatively easily and inexpensively.

(폴리에스테르 수지)(Polyester resin)

본 발명에서 바람직하게 사용되는 폴리에스테르 수지는 호모폴리에스테르(homopolyester)일 수 있고, 공중합 폴리에스테르일 수 있다. 호모폴리에스테르를 사용하는 경우, 방향족 디카르복실산과 지방족 글리콜을 중축합(polycondensation)시켜 얻어지는 것이 바람직하다. 방향족 디카르복실산으로는 테레프탈산(terephthalic acid), 2,6-나프탈렌 디카르복실산 등을 들 수 있고, 지방족 글리콜로는 에틸렌 글리콜(ethylene glycol), 디에틸렌 글리콜, 1,4-시클로헥산 디메탄올 등을 들 수 있다. 대표적인 폴리에스테르로는 폴리에틸렌 테레프탈레이트 (polyethylene terephthalate; PET), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 등을 예시할 수 있다. 한편, 공중합 폴리에스테르를 사용하는 디카르복실산 성분으로는 이소프탈산(isophthalic acid), 프탈산, 테레프탈산, 2,6-나프탈렌 디카르복실산, 아디프산(adipic acid), 세바스산(sebacic acid), 옥시카르복실산(예를 들어, P-옥시안식향산(p-oxybenzoic acid) 등) 등의 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있고, 글리콜 성분으로서 에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 부탄디올, 1,4-시클로헥산 디메탄올, 네오펜틸글리콜(neopentylglycol) 등의 1 종 또는 2 종 이상을 들 수 있다.The polyester resin preferably used in the present invention may be homopolyester or copolymerized polyester. When a homopolyester is used, it is preferably obtained by polycondensation of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic glycol. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid and 2,6-naphthalene dicarboxylic acid. Examples of the aliphatic glycol include ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-cyclohexane di Methanol and the like. Representative polyesters include polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), and the like. On the other hand, as the dicarboxylic acid component using the copolymer polyester, isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, (E.g., p-oxybenzoic acid), and the like. Examples of the glycol component include ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 1,4-cyclohexane dimethanol, neopentylglycol, and the like.

본 발명에서 바람직하게 사용되는 폴리에스테르는 용융중합반응에서 얻어진 것일 수있지만, 용융중합 후 칩(chip)화 한 폴리에스테르를 고상중합하여 얻어진 원료를 이용하면 원료 중에 포함되는 올리고머량이 감소할 수 있으므로 특히 바람직하다.The polyester preferably used in the present invention may be one obtained by a melt polymerization reaction. However, when a raw material obtained by solid phase polymerization of a polyester obtained by polymerizing a melt after polymerization is used, the amount of oligomers contained in the raw material may decrease desirable.

폴리에스테르 중에 함유된 올리고머량은 0.7 중량% 이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.5 중량% 이하이다. 해당 폴리에스테르 올리고머량이 적은 경우, 본 발명의 공정용 이형필름에 포함된 올리고머량의 저감, 나아가서는 필름 표면에 올리고머 석출 방지 효과가 특히 고도로 발휘된다.The amount of the oligomer contained in the polyester is preferably 0.7% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less. When the amount of the polyester oligomer is small, the amount of the oligomer contained in the process release film of the present invention is reduced, and the effect of preventing oligomer deposition on the film surface is particularly high.

공정용 이형필름이 폴리에스테르 수지를 포함하는 실시양태에 있어서, 폴리에스테르 수지를 포함하는 층에는 이활성(slippery) 부여를 주된 목적으로 입자를 함유할 수 있다. 함유하는 입자의 종류는 이활성 부여 가능한 입자이면 특별히 한정되는 것이 아니며, 구체적인 예를 들면, 실리카, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탄산바륨, 황산칼슘, 인산칼슘, 인산마그네슘, 카올린(kaolin), 산화알루미늄, 산화티탄 등의 입자를 들 수 있다. 또한 일본 특허 공개 59-5216 호 공보, 일본 특허 59-217755 호 공보 등에 기재되어 있는 내열성 유기 입자를 사용할 수 있다. 기타 내열성 유기 입자의 예로는 열경화성 요소수지, 열경화성 페놀수지, 열경화성 에폭시수지, 벤조구아나민(benzoguanamine) 수지 등을 들 수 있다. 또한 폴리에스테르 제조 공정 중 촉매 등의 금속 화합물의 일부를 침전, 미세 분산시킨 석출 입자를 사용할 수도 있다In embodiments where the process release film comprises a polyester resin, the layer comprising the polyester resin may contain particles for the primary purpose of imparting slippery. The type of particles contained therein is not particularly limited as long as it is a particle capable of imparting lubricity, and specific examples thereof include silica, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, magnesium phosphate, kaolin, , Titanium oxide, and the like. Further, heat-resistant organic particles described in JP-A 59-5216 and JP-59-217755 can be used. Examples of other heat-resistant organic particles include thermosetting urea resins, thermosetting phenol resins, thermosetting epoxy resins, and benzoguanamine resins. It is also possible to use precipitation particles in which a part of metal compounds such as catalysts are precipitated and finely dispersed in the polyester production process

한편, 사용하는 입자의 형상에 대해서도, 특별히 한정되는 것 없이, 구형, 괴상(massive), 봉상, 편평상 등의 어느 것을 사용하여도 좋다. 또한, 경도, 비중, 색상 등에 대해서도 특별한 제한은 없다. 이러한 일련의 입자는 필요에 따라 2종류 이상을 병용해도 좋다.On the other hand, the shape of particles to be used is not particularly limited, and any of spherical, massive, rod-shaped, and flat-shaped particles may be used. There are no particular restrictions on hardness, specific gravity, color, etc. These series of particles may be used in combination of two or more kinds, if necessary.

또한 사용하는 입자의 평균 입경은 일반적으로 0.01 ~ 3 μm, 바람직하게는 0.01 ~ 1 μm의 범위이다. 평균 입경이 0.01 μm 이상이면 입자가 응집이 억제되어 충분한 분 산성이 용이해지는 한편, 3 μm 이하이면 필름의 표면 조도가 실용상 바람직한 일정 한도 내로 억제된다.The average particle diameter of the particles used is generally in the range of 0.01 to 3 占 퐉, preferably 0.01 to 1 占 퐉. When the average particle size is 0.01 m or more, the aggregation of the particles is suppressed and the sufficient dispersibility is facilitated. On the other hand, when the average particle size is 3 m or less, the surface roughness of the film is suppressed within a desirable preferable range.

또한 폴리에스테르층 중의 입자 함량은 일반적으로 0.001 내지 5 중량%, 바람직하게는 0.005 내지 3 중량%의 범위이다. 입자 함량이 0.001 중량% 이상이면, 필름의 이활성이 충분하고, 한편 5 중량% 이하이면 충분한 필름의 투명성이 확보된다.The content of particles in the polyester layer is generally in the range of 0.001 to 5% by weight, preferably 0.005 to 3% by weight. When the content of the particles is 0.001% by weight or more, the film is sufficiently lubricated, and if it is 5% by weight or less, sufficient transparency of the film is secured.

폴리에스테르층 중에 입자를 첨가하는 방법으로는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 종래 공지의 방법을 채용하고 있다. 예를 들어, 각 층을 구성하는 폴리에스테르를 제조하는 모든 단계에서 첨가할 수 있으나, 바람직하게는 에스테르화 단계 또는 에스테르 교환반응 종료 후 중축합 반응을 진행할 수 있다.The method of adding particles to the polyester layer is not particularly limited, and conventionally known methods are employed. For example, the polyester constituting each layer may be added at every stage of production, but preferably the polycondensation reaction can proceed after the esterification step or the transesterification reaction.

또한 벤트(vent)식 혼련 압출기를 이용하여 에틸렌 글리콜 또는 물 등에 분산시킨 입자의 슬러리와 폴리에스테르 원료를 혼합하는 방법, 또는 혼련 압출기를 이용하여 건조시킨 입자와 폴리에스테르 원료를 혼합하는 방법 등에 의해 수행되고 있다.A method of mixing a polyester raw material with a slurry of a particle dispersed in ethylene glycol or water using a vent type kneading extruder or a method of mixing a polyester raw material with a dried particle using a kneading extruder .

(폴리아미드 수지)(Polyamide resin)

본 발명에서 바람직하게 사용되는 폴리아미드 수지는 지방족 폴리아미드 수지일 수도, 방향족 폴리아미드 수지일 수도 있지만, 지방족 폴리아미드 수지가 보다 바람직하다.The polyamide resin preferably used in the present invention may be an aliphatic polyamide resin or an aromatic polyamide resin, but an aliphatic polyamide resin is more preferable.

지방족 폴리아미드 수지는 락탐(lactam)의 고리열림중합(ring opening-polymerization); 지방족 디아민 성분 및 지방족 디카르복실산 성분의 중축합 반응; 지방족 아미노카르복실산의 중축합 등에 의해 제조할 수 있다.The aliphatic polyamide resin can be prepared by ring opening-polymerization of lactam; Polycondensation reaction of an aliphatic diamine component and an aliphatic dicarboxylic acid component; Polycondensation of an aliphatic aminocarboxylic acid, and the like.

락탐을 고리열림중합하여 얻어지는 지방족 폴리아미드의 예로는, 폴리아미드 6, 폴리아미드 11, 폴리아미드 12 및 폴리아미드 612 등이 포함된다. 지방족 디아민 성분 및 지방족 디카르복실산 성분의 중축합으로 얻어진 지방족 폴리아미드의 예로는, 폴리아미드 66, 폴리아미드 610, 폴리아미드 46, 폴리아미드 MXD6, 폴리아미드 6T, 폴리아미드 6I 및 폴리아미드 9T 등이 포함된다.Examples of the aliphatic polyamide obtained by ring opening polymerization of lactam include polyamide 6, polyamide 11, polyamide 12 and polyamide 612 and the like. Examples of the aliphatic polyamide obtained by the polycondensation of the aliphatic diamine component and the aliphatic dicarboxylic acid component include polyamide 66, polyamide 610, polyamide 46, polyamide MXD6, polyamide 6T, polyamide 6I and polyamide 9T .

그 중에서도 폴리아미드 6 또는 폴리아미드 66이 바람직하고; 폴리아미드 66이 보다 바람직하다. 이러한 폴리아미드는 상기 특성 (1)을 비교적 용이하게 실현하는 것이 가능하며, 고융점 뿐만 아니라 고탄성률이고 내열성 및 기계적 특성이 우수하기 때문이다. 또한 다른 층과의 접착성이 비교적 양호하기 때문에 적층 필름을 구성하는 경우에도 유리하다.Among them, polyamide 6 or polyamide 66 is preferable; Polyamide 66 is more preferable. Such a polyamide can realize the above-mentioned characteristic (1) comparatively easily, and has not only a high melting point but also a high elastic modulus, and excellent heat resistance and mechanical properties. In addition, it is advantageous also in the case of forming a laminated film because the adhesiveness to other layers is relatively good.

고융점 뿐만 아니라 고탄성률이고 내열성 및 기계적 특성이 우수한 폴리아미드를 이용한 필름은 주름, 찢어짐 등이 유효하게 억제되기 때문에 성형품 및 프레스 장비를 깨끗하게 유지하는 관점에서도 적합하다.A film using a polyamide having not only a high melting point but also a high elastic modulus and excellent heat resistance and mechanical properties is effectively suppressed from wrinkling and tearing, and is thus also suitable from the standpoint of keeping a molded article and press equipment clean.

지방족 폴리아미드의, DSC 법에 의해 측정되는 융점은 190℃ 이상이 바람직하다. 190℃ 이상의 융점을 갖는 것으로 부터, 비교적 고온에서의 열 프레스 등의 공정을 받게된 경우에도 주름을 효과적으로 억제할 수 있다.The melting point of the aliphatic polyamide as measured by the DSC method is preferably at least 190 캜. Since it has a melting point of 190 占 폚 or higher, wrinkles can be effectively suppressed even when a process such as hot pressing at a relatively high temperature is performed.

(기타 수지)(Other resin)

상기 폴리에스테르 수지 또는 폴리아미드 수지, 폴리에스테르 수지 또는 폴리아미드 수지 이외의 다른 수지를 더 포함할 수 있다. 기타 수지의 바람직한 예로는 고온에서의 인장응력과 압축응력에 대한 크리프 저항성(creep resistance)이 뛰어난 내열 탄성중합체(엘라스토머; elastomer), 및 응력의 완화가 어렵고 탄성 회복성이 높은 내열 탄성중합체 등이 포함된다.And may further comprise a resin other than the polyester resin or the polyamide resin, the polyester resin or the polyamide resin. Preferable examples of other resins include heat-resistant elastomers (elastomers) having excellent creep resistance against tensile stress and compressive stress at high temperatures, and heat-resistant elastomers having high elastic recovery properties, which are difficult to relieve stresses do.

이러한 내열 탄성중합체로는 폴리에스테르 수지 또는 폴리아미드 수지와의 친화성을 고려하면, 열가소성 폴리아미드계 탄성중합체, 열가소성 폴리에스테르계 탄성중합체 등이 바람직하다.As such heat-resistant elastomer, thermoplastic polyamide-based elastomer, thermoplastic polyester-based elastomer and the like are preferable in consideration of affinity with polyester resin or polyamide resin.

열가소성 폴리아미드계 탄성중합체의 예로는, 폴리아미드를 하드 세그먼트(hard segment)로, 폴리에스테르 또는 폴리에테르를 소프트 세그먼트(soft segment)로 하는 블록 공중합체가 포함된다. 하드 세그먼트를 구성하는 폴리아미드의 예로는, 폴리아미드 6, 폴리아미드 66, 폴리아미드 610, 폴리아미드 612, 폴리아미드 11 등이 포함된다. 소프트 세그먼트를 구성하는 폴리에테르의 예로는, 폴리에틸렌 글리콜(PEG), 폴리프로필렌 글리콜(PPG), 폴리테트라메틸렌 글리콜(PTMG) 등이 포함된다.Examples of the thermoplastic polyamide-based elastomer include a block copolymer having a polyamide as a hard segment and a polyester or a polyether as a soft segment. Examples of the polyamide constituting the hard segment include polyamide 6, polyamide 66, polyamide 610, polyamide 612, polyamide 11, and the like. Examples of the polyethers constituting the soft segment include polyethylene glycol (PEG), polypropylene glycol (PPG), polytetramethylene glycol (PTMG), and the like.

열가소성 폴리에스테르계 탄성중합체의 예로는, 결정성의 방향족 폴리에스테르 단위로 이루어진 결정성 중합체를 하드 세그먼트로 하고, 폴리에테르 단위 또는 지방족 폴리에스테르 단위로 이루어지는 비결정성 중합체를 소프트 세그먼트로 하는 블록 공중합체가 포함된다. 하드 세그먼트를 구성하는 결정성의 방향족 폴리에스테르 단위로 이루어진 결정성 중합체의 예로는, 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT), 폴리부틸렌 나프탈레이트(PBN) 등이 포함된다. 소프트 세그먼트를 구성하는 폴리에테르 단위로 구성된 비결정성 중합체의 예로는, 폴리테트라메틸렌에테르 글리콜(Poly(tetramethylene ether) glycol; PTMG) 등이 포함된다. 소프트 세그먼트를 구성하는 지방족 폴리에스테르 단위로 이루어지는 비결정성 중합체의 예로는, 폴리카프로락톤(polycaprolactone; PCL) 등의 지방족 폴리에스테르가 포함된다.Examples of the thermoplastic polyester elastomer include a block copolymer having a crystalline polymer composed of a crystalline aromatic polyester unit as a hard segment and a non-crystalline polymer composed of a polyether unit or an aliphatic polyester unit as a soft segment do. Examples of the crystalline polymer composed of the crystalline aromatic polyester unit constituting the hard segment include polybutylene terephthalate (PBT), polybutylene naphthalate (PBN) and the like. Examples of the amorphous polymer composed of polyether units constituting the soft segment include poly (tetramethylene ether) glycol (PTMG) and the like. Examples of the amorphous polymer composed of aliphatic polyester units constituting the soft segment include aliphatic polyesters such as polycaprolactone (PCL).

열가소성 폴리에스테르계 탄성중합체의 구체적인 예는, 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 및 폴리테트라메틸렌에테르 글리콜(PTMG)의 블록 공중합체; 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 및 폴리카프로락톤(PCL)의 블록 공중합체; 폴리부틸렌 나프탈레이트(PBN) 및 지방족 폴리에스테르의 블록 공중합체 등이 포함된다.Specific examples of the thermoplastic polyester elastomer include block copolymers of polybutylene terephthalate (PBT) and polytetramethylene ether glycol (PTMG); Block copolymers of polybutylene terephthalate (PBT) and polycaprolactone (PCL); Block copolymers of polybutylene naphthalate (PBN) and aliphatic polyester, and the like.

열가소성 폴리아미드계 탄성중합체 및 열가소성 폴리에스테르계 탄성중합체의 DSC 법에 의해 측정되는 융점은 190℃ 이상인 것이 바람직하다. 또한, 열가소성 탄성중합체의 융점이 190℃ 미만이어도, 열가소성 탄성중합체를 가교제와 가교 조제하여 화학적으로 가교시키거나, 자외선이나 전자선, 감마선 등으로 물리적으로 가교시키거나 하는 것으로부터, 고온에서의 크리프 저항성 및 탄성 복원성을 향상시킬 수 있다.The melting point of the thermoplastic polyamide-based elastomer and the thermoplastic polyester-based elastomer measured by the DSC method is preferably 190 ° C or higher. Further, even if the melting point of the thermoplastic elastomer is less than 190 캜, the thermoplastic elastomer is crosslinked chemically by preparing a crosslinking agent with the crosslinking agent, or physically crosslinked with ultraviolet rays, electron beams, gamma rays, etc., The elastic restoration property can be improved.

상기 폴리에스테르 수지 또는 폴리아미드 수지는 본 발명의 목적을 해치지 않는 범위에서 공지의 첨가제를 추가로 포함할 수 있다. 첨가제는 예를 들면, 대전 방지제, 산화 방지제, 예를 들어 구리 화합물계를 포함하는 내열 안정제, 예를 들면 스테아린산 칼슘 및 스테아린산 알루미늄 등의 윤활제, 열 안정제, 윤활제, 염료, 안료 등의 공지의 첨가제 중 하나 또는 그 조합일 수 있다.The polyester resin or the polyamide resin may further include known additives to the extent that the object of the present invention is not impaired. The additive may be, for example, an antistatic agent, an antioxidant, a heat-resistant stabilizer including, for example, a copper compound system, a known additive such as a lubricant such as calcium stearate and aluminum stearate, a heat stabilizer, a lubricant, Or a combination thereof.

(폴리에스테르 필름층 및 폴리아미드 필름층)(Polyester film layer and polyamide film layer)

본 발명에서 바람직하게 사용되는 상기 폴리에스테르 수지 또는 폴리아미드 수지는, 일반적으로 연신 또는 무연신의 필름 형태로 사용된다. 즉, 본 발명의 공정용 이형필름은 연신 또는 무연신의 폴리에스테르 필름층, 또는 연신 또는 무연신의 폴리아미드 필름층을 갖는 것이 바람직하다.The polyester resin or polyamide resin preferably used in the present invention is generally used in a stretched or unstretched film form. That is, the process release film of the present invention preferably has a stretched or non-stretched polyester film layer or a stretched or non-stretched polyamide film layer.

본 발명의 공정용 이형필름의 전부 또는 일부를 구성하는데 적합한 폴리에스테르 필름층의 두께는 필름으로써의 막 제조가 가능한 범위이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 일반적으로 12 ~ 250 μm, 바람직하게는 25 ~ 188 μm, 더욱 바람직하게는 38 ~ 125 μm의 범위이다. 연신 폴리에스테르 필름인 경우에는 3 ~ 50 μm인 것이 바람직하고, 5 ~ 35 μm인 것이 바람직하고, 7 ~ 20 μm인 것이 더욱 바람직하다. 또한 무연신 폴리에스테르 필름인 경우에는 5 ~ 80 μm인 것이 바람직하고, 8 ~ 50 μm인 것이 더욱 바람직하고, 10 ~ 35 μm인 것이 특히 바람직하다.The thickness of the polyester film layer suitable for constituting all or a part of the release film for processing of the present invention is not particularly limited as long as the film can be produced as a film, but is generally 12 to 250 탆, preferably 25 to 188 μm, and more preferably in the range of 38 to 125 μm. In the case of a stretched polyester film, the thickness is preferably 3 to 50 μm, more preferably 5 to 35 μm, and even more preferably 7 to 20 μm. Further, in the case of a non-oriented polyester film, it is preferably 5 to 80 μm, more preferably 8 to 50 μm, and particularly preferably 10 to 35 μm.

상기 폴리에스테르 필름의 제조방법은 특별히 제한은 없고, 종래 공지의 방법에 의해 적절하게 제조하는 것이 가능하나, 연신 폴리에스테르 필름인 경우, 예를 들어 하기에 기재된 지침에 따라 제조하는 것이 바람직하다.The production method of the polyester film is not particularly limited and can be suitably produced by conventionally known methods. In the case of a stretched polyester film, it is preferable to produce the polyester film according to the following guidelines, for example.

우선, 앞서 언급한 폴리에스테르 수지를 사용하여 다이에서 압출된 용융 시트를 냉각 롤에서 냉각 및 고화하여 미연신 시트를 얻는 방법이 바람직하다. 이 경우 시트의 평면성을 향상시키기 위해 시트와 회전냉각드럼과의 밀착성을 높일 필요가 있어, 정전인가밀착법 및/또는 액체도포밀착법의 선택이 바람직하다. 다음으로, 얻어진 미연신 시트는 이축방향으로 연장되는 것이 바람직하다. 순차이축연신의 경우, 상기의 미연신 시트를 먼저 한 방향으로 롤 또는 텐터 방식의 연신기로 연신한다. 연신온도는 일반적으로 70 ~ 120℃, 바람직하게는 80 ~ 110℃이며, 연신배율은 보통 2.5 ~ 7배, 바람직하게는 3.0 ~ 6배이다. 다음으로, 첫 번째 단계의 연신방향과 직교하는 방향으로 연장할 수 있다. 연신온도는 보통 70 ~ 170℃이며, 연신배율은 보통 3.0 ~ 7배, 바람직하게는 3.5 ~ 6배이다. 그리고 계속하여 180 ~ 270℃의 온도에의 긴장 하 또는 30% 이내의 이완 하에서 열처리하여 이축배향 필름을 얻는다. 상기의 연신에서는 한 방향 연신을 2단계 이상으로 수행하는 방법을 선택할 수 있다. 이 경우, 최종적으로 두 방향의 연신배율이 각각 상기 범위가 되도록 하는 것이 바람직하다.First, a method of obtaining an unstretched sheet by cooling and solidifying a molten sheet extruded from a die using the above-mentioned polyester resin in a cooling roll is preferable. In this case, in order to improve the planarity of the sheet, it is necessary to increase the adhesion between the sheet and the rotary cooling drum, and it is preferable to select the electrostatic adhesion method and / or the liquid application adhesion method. Next, the obtained unstretched sheet preferably extends in the biaxial direction. In the case of net shear stretching, the unstretched sheet is first stretched in one direction by a roll or tenter stretching machine. The stretching temperature is generally 70 to 120 占 폚, preferably 80 to 110 占 폚, and the stretching ratio is usually 2.5 to 7 times, preferably 3.0 to 6 times. And then extend in a direction perpendicular to the stretching direction of the first step. The stretching temperature is usually 70 to 170 ° C, and the stretching ratio is usually 3.0 to 7 times, preferably 3.5 to 6 times. Subsequently, the film is heat-treated under tension at a temperature of 180 to 270 ° C or under relaxation of 30% or less to obtain a biaxially oriented film. In the above stretching, a method of performing stretching in one direction in two or more steps can be selected. In this case, it is preferable that the stretching magnifications in the two directions finally become the above ranges.

또한, 본 실시양태에 있어서 폴리에스테르 필름 제조에 관해서는 동시이축연신법을 선택할 수 있다. 동시이축연신법은 상기의 미연신 시트를 보통 70 ~ 120℃, 바람직하게는 80 ~ 110℃로 온도가 제어된 상태에서 기계방향 및 폭방향(width direction)으로 동시에 연신배향시키는 방법으로, 연신배율로는, 면적배율로 4 ~ 50배, 바람직하게는 7 ~ 35배, 더욱 바람직하게는 10 ~ 25배가 일반적이다. 그리고 계속하여 170 ~ 250℃의 온도에서의 긴장 하 또는 30% 이내의 이완 하에서 열처리하여 연신배향 필름을 얻는다. 상기 연신방식을 선택하는 동시이축연신 장치에 관해서는, 스크류 방식, 팬터그래프(pantograph) 방식, 리니어 구동 방식 등 종래부터 공지된 연신 방식을 적절히 선택할 수 있다.In the present embodiment, simultaneous casting can be selected for the production of the polyester film. The simultaneous ply-folding method is a method in which the above-mentioned unstretched sheet is subjected to simultaneous stretching orientation in the machine direction and the width direction at a temperature controlled to 70 to 120 ° C, preferably 80 to 110 ° C, Is generally 4 to 50 times, preferably 7 to 35 times, more preferably 10 to 25 times as large as the area ratio. Subsequently, the stretched oriented film is subjected to heat treatment under tension at a temperature of 170 to 250 ° C or under relaxation of 30% or less. As for the simultaneous axial stretching apparatus for selecting the stretching method, a conventionally known stretching method such as a screw method, a pantograph method, and a linear driving method can be appropriately selected.

또한 상기 폴리에스테르 필름층이 표면에 형성된 도포층을 갖는 경우에는, 상술한 폴리에스테르 필름의 연신 공정 중에 필름 표면을 처리하는, 이른바 도포연신법(인라인 코팅)을 실시할 수 있다. 도포연신법에 의해 폴리에스테르 필름에 도포층이 형성되는 경우에는, 연신과 동시에 도포가 가능하게 됨과 함께 도포층의 두께를 연신배율에 따라 얇게 할 수 있고, 원하는 도포층을 갖는 폴리에스테르 필름층을 효율적으로 제조할 수 있다.When the polyester film layer has a coating layer formed on its surface, a so-called coating stretching method (in-line coating) in which the film surface is treated during the stretching process of the polyester film described above can be carried out. When the coating layer is formed on the polyester film by the coating stretching method, coating can be performed simultaneously with the stretching, and the thickness of the coating layer can be made thinner depending on the stretching magnification, and the polyester film layer having the desired coating layer It can be efficiently produced.

본 발명의 공정용 이형필름의 전부 또는 일부를 구성하는 데 적합한 폴리아미드 필름의 두께는 필름으로 막의 제조가 가능한 범위이면 특별히 한정되는 것은 아니지만, 일반적으로 12 ~ 250 μm, 바람직하게는 25 ~ 188 μm, 더욱 바람직하게는 38 ~ 125 μm의 범위이다. 연신 폴리아미드 필름인 경우에는 3 ~ 50 μm인 것이 바람직하고, 5 ~ 35 μm인 것이 바람직하고, 7 ~ 20 μm인 것이 더욱 바람직하다. 또한 무연신 폴리아미드 필름인 경우에는 5 ~ 80 μm인 것이 바람직하고, 8 ~ 50 μm인 것이 더욱 바람직하고, 10 ~ 35 μm인 것이 특히 바람직하다.The thickness of the polyamide film suitable for constituting all or a part of the release film for the process of the present invention is not particularly limited as long as the film can be formed into a film, but is generally 12 to 250 탆, preferably 25 to 188 탆 , More preferably in the range of 38 to 125 占 퐉. In the case of a drawn polyamide film, the thickness is preferably 3 to 50 μm, more preferably 5 to 35 μm, and even more preferably 7 to 20 μm. Further, in the case of a non-oriented polyamide film, it is preferably 5 to 80 μm, more preferably 8 to 50 μm, and particularly preferably 10 to 35 μm.

상기 폴리아미드 필름의 제조방법은 특별히 제한은 없고, 종래 공지의 방법에 의해 적절하게 제조하는 것이 가능하나, 연신 폴리아미드 필름인 경우, 예를 들어 하기의 기재에 따라 제조하는 것이 바람직하다.The method for producing the polyamide film is not particularly limited and can be suitably produced by a conventionally known method. In the case of a drawn polyamide film, it is preferable to produce it according to the following description, for example.

연신 폴리아미드 필름은, 예를 들어 폴리아미드 수지를 압출하여 필름상(원반 필름)으로 성형한 후 연신하여 얻을 수 있다. 폴리아미드 수지를 압출하는 경우, 폴리아미드 수지를 단독으로 압출할 수 있고, 폴리아미드 수지 및 기타 수지, 예를 들면 열가소성 폴리아미드계 탄성중합체와 드라이 혼합(dry blend)하여 사용할 수 있으며, 미리 단축, 또는 이축압출기를 이용하여 용융혼련한 것을 사용할 수도 있다.The oriented polyamide film can be obtained, for example, by extruding a polyamide resin, molding it into a film (original film), and then stretching it. When the polyamide resin is extruded, the polyamide resin can be extruded alone, and can be used by dry blending with a polyamide resin and other resins such as a thermoplastic polyamide elastomer. Or melt-kneaded using a twin-screw extruder.

이축연신 폴리아미드 필름을 제조하는 경우에는, 다음으로, 얻어진 미연신 필름을 이축방향으로 연신하는 것이 바람직하다. 순차이축연신의 경우, 상기의 미연신 시트를 먼저 한 방향으로 롤 또는 텐터 방식의 연신기로 연신한다. 연신온도는 보통 30 ~ 220℃, 바람직하게는 50 ~ 210℃이며, 연신배율은 보통 1.5 ~ 4.5배, 바람직하게는 2.5 ~ 4.0배이다. 그런 다음 첫 번째 단계의 연신방향과 직교하는 방향으로 연장할 수 있다. 연신온도는 보통 30 ~ 220℃이며, 연신배율은 보통 1.5 ~ 4.5배, 바람직하게는 2.5 ~ 4.0배이다.In the case of producing a biaxially stretched polyamide film, it is preferable to subsequently stretch the obtained unstretched film in the biaxial direction. In the case of net shear stretching, the unstretched sheet is first stretched in one direction by a roll or tenter stretching machine. The stretching temperature is usually 30 to 220 ° C, preferably 50 to 210 ° C, and the stretching magnification is usually 1.5 to 4.5 times, preferably 2.5 to 4.0 times. And then extend in a direction perpendicular to the stretching direction of the first step. The stretching temperature is usually 30 to 220 占 폚, and the stretching magnification is usually 1.5 to 4.5 times, preferably 2.5 to 4.0 times.

그리고 계속하여 190 ~ 210℃의 온도에서 열처리하여 이축연신 폴리아미드 필름을 얻는다. 상기의 연신에서는 한 방향 연신을 2단계 이상으로 수행하는 방법을 선택할 수 있다. 이 경우, 최종적으로 두 방향의 연신배율이 각각 상기 범위가 되도록 하는 것이 바람직하다.And then heat-treated at 190 to 210 캜 to obtain a biaxially stretched polyamide film. In the above stretching, a method of performing stretching in one direction in two or more steps can be selected. In this case, it is preferable that the stretching magnifications in the two directions finally become the above ranges.

또한, 본 실시양태의 폴리아미드 필름 제조에 관해서는, 동시이축연신법을 선택할 수 있다. 동시이축연신법은 상기의 미연신 폴리아미드 필름을 보통 30 ~ 220℃, 바람직하게는 50 ~ 210℃로 온도가 제어된 상태에서 기계방향 및 폭방향으로 동시에 연신배향시키는 방법으로, 연신배율로는 면적배율로 1.5 ~ 20배, 바람직하게는 5 ~ 15배, 더욱 바람직하게는 8 ~ 12배인 것이 일반적이다. 그리고 계속하여 190 ~ 210℃의 온도에서 열처리하여 연신배향 폴리아미드 필름을 얻는다. 상기 연신방식을 선택하는 동시이축연신 장치에 관해서는, 스크류 방식, 팬터그래프 방식, 리니어 구동 방식 등 종래부터 공지의 연신방식을 적절히 선택할 수 있다.As for the production of the polyamide film of this embodiment, the simultaneous casting method can be selected. The simultaneous ply-folding method is a method in which the above-mentioned unstretched polyamide film is simultaneously oriented in the machine direction and the width direction under the temperature control at 30 to 220 ° C, preferably 50 to 210 ° C, It is generally 1.5 to 20 times, preferably 5 to 15 times, more preferably 8 to 12 times as large as the magnification. Subsequently, heat treatment is performed at a temperature of 190 to 210 DEG C to obtain a stretched polyamide film. Conventionally known stretching methods such as a screw method, a pantograph method, and a linear driving method can be suitably selected for the simultaneous axial stretching device for selecting the stretching method.

(다층 필름)(Multilayer film)

본 발명의 공정은 본 발명의 목적에 반하지 않는 한, 단층 또는 2층 이상의 다층필름일 수 있다.The process of the present invention may be a single layer or a multilayer film of two or more layers, as long as it is against the object of the present invention.

2층 이상의 다층필름인 경우에는 최외층에 위치하는 적어도 1층의 적어도 하나의 표면이, (1) 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 필름 복원성값 R이 R ≥ 70 (%)인, 특성을 갖는다.At least one surface of at least one layer positioned on the outermost layer has (1) a film stability property R, measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 DEG C, of R? 70 (%), .

2층 이상의 다층필름을 구성하는 각각의 필름의 재질에는 특별히 제한은 없지만, 상기 (1) 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 필름 복원성값 R이 R ≥ 70 (%)인, 특성을 갖는 적어도 1층이, 폴리에스테르 수지 및/또는 폴리아미드 수지를 포함하는 것이 바람직하다.The material of each of the films constituting the multilayer film of two or more layers is not particularly limited, but it is preferable that the film has the following properties: (1) the film stability property R measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 deg. C is R? 70 At least one layer containing a polyester resin and / or a polyamide resin is preferable.

상기 (1)의 특성을 갖는 적어도 1층 이외의 층은, 폴리에스테르 수지 및/또는 폴리아미드 수지를 포함하는 층일 수 있고, 그 외는 수지, 예를 들면 다른 열가소성 수지를 포함하는 층일 수 있다. 보다 구체적으로는, 예를 들면 폴리페닐렌설파이드 수지(Poly(p-phenylene sulfide) resin; PPS 수지), 폴리설폰수지(PSF 수지), 폴리에테르설폰 수지(PES 수지), 폴리에테르에테르케톤 수지(PEEK 수지), 폴리이미드 수지(PI 수지), 폴리아미드이미드 수지(polyamidimide resin; PAI 수지), 폴리에테르이미드 수지(PEI 수지), 폴리에틸렌 나프탈레이트 수지(PEN 수지), 폴리아세탈 수지(polyacetal resin; POM 수지), 폴리카보네이트 수지(PC 수지), 폴리페닐렌에테르 수지(PPE 수지), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT 수지), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 수지(PET 수지), 환상 폴리올레핀 수지(cyclic polyolefin resin; COP 수지), 신디오탁틱 폴리스티렌 수지(syndiotactic polystyrene resin; SPS 수지), 폴리메틸펜텐 수지(PMP 수지), 폴리메틸 메타크릴레이트 수지(PMMA 수지), 폴리에틸렌 수지(PE 수지), 폴리프로필렌 수지(PP 수지), 폴리스티렌 수지(PS 수지), 폴리비닐 아세테이트 수지(PVAc 수지), 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌 수지(ABS 수지) 또는 아크릴로니트릴 스티렌 수지(AS 수지), 또는 이들의 조합 등을 포함하는 층일 수 있다.The layer other than at least one layer having the above-mentioned characteristic (1) may be a layer containing a polyester resin and / or a polyamide resin, and the other layer may be a resin, for example, a layer containing another thermoplastic resin. More specifically, it is possible to use, for example, poly (phenylene sulfide) resin (PPS resin), polysulfone resin (PSF resin), polyether sulfone resin (PES resin), polyether ether ketone resin PEEK resin), polyimide resin (PI resin), polyamideimide resin (PAI resin), polyetherimide resin (PEI resin), polyethylene naphthalate resin (PEN resin), polyacetal resin A resin such as a polycarbonate resin (PC resin), a polyphenylene ether resin (PPE resin), a polybutylene terephthalate (PBT resin), a polyethylene terephthalate resin (PET resin), a cyclic polyolefin resin ), Syndiotactic polystyrene resin (SPS resin), polymethylpentene resin (PMP resin), polymethylmethacrylate resin (PMMA resin), polyethylene resin (PE resin), polypropylene (PP resin), polystyrene resin (PS resin), polyvinyl acetate resin (PVAc resin), acrylonitrile butadiene styrene resin (ABS resin) or acrylonitrile styrene resin (AS resin) .

상기 실시양태에서 2층 이상의 수지층을 적층하는 방법은 특별히 제한은 없으며, 종래 공지의 방법을 적절하게 사용할 수 있지만, 예를 들면 폴리에스테르 수지 및/또는 폴리아미드 수지를 포함하는 층과 다른 수지로 이루어진 층을 적층하는 경우, 폴리에스테르 수지 및/또는 폴리아미드 수지와 다른 수지를 공압출하여 다층필름(원반 필름)을 얻어, 이를 연장할 수 있다. 또는 개별적으로 얻은 폴리에스테르 수지 및/또는 폴리아미드 수지를 포함하는 연신필름 및 다른 수지로 이루어진 연신필름을 열압착, 접착제, 접착층 등으로 적층할 수 있다. 폴리에스테르 수지 및/또는 폴리아미드 수지와 다른 수지를 공압출하여 원반필름을 얻기 위해서는 일반적으로 T 다이법, 원통형 다이법(인플레이션 법) 등의 막의 제조법을 사용할 수 있다.The method of laminating two or more resin layers in the above embodiment is not particularly limited and conventionally known methods can be suitably used. For example, a layer containing a polyester resin and / or a polyamide resin and a resin other than When laminated layers are formed, a multilayer film (original film) can be obtained by co-extruding a polyester resin and / or a polyamide resin and another resin to extend it. Alternatively, a stretched film comprising a separately obtained polyester resin and / or a polyamide resin and a stretched film composed of another resin may be laminated by thermocompression bonding, an adhesive, an adhesive layer, or the like. In order to obtain an original film by co-extruding a polyester resin and / or a polyamide resin and another resin, a film production method such as a T-die method or a cylindrical die method (inflation method) can be generally used.

접착제, 접착층에 의해 적층하는 경우의 접착제, 접착층에 이용하는 수지는, 양 층 사이의 접착력을 향상시킬 수 있는 수지일 수 있고, 특별히 제한은 없지만, 에폭시계 화합물, 이소시아네이트계 화합물, 아크릴계 화합물 및 우레탄계 화합물로 대표되는 접착제를 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또한 접착대상인 폴리에스테르 수지, 폴리아미드 수지, 또는 기타 수지, 또는 그 복수와 동일 또는 유사한 수지, 불포화 카르복실산 및/또는 그 산무수물에 의해 그라프트 변성한 수지를 사용할 수 있다.The adhesive used for the lamination by the adhesive layer, and the resin used for the adhesive layer may be a resin capable of improving the adhesion between the both layers, and there is no particular limitation, and epoxy compounds, isocyanate compounds, acrylic compounds and urethane compounds Can be appropriately selected and used. It is also possible to use a polyester resin, a polyamide resin or other resin to be adhered, a resin which is the same as or similar to the resin, an unsaturated carboxylic acid and / or an acid anhydride thereof.

그라프트 모노머로 사용되는 불포화 카르복실산 및/또는 그 산무수물로는 탄소수 3 ~ 20의 카르복실산 그룹을 하나 이상 갖는 불포화 화합물, 무수카르복실산 그룹을 하나 이상 갖는 불포화 화합물을 들 수 있고, 불포화 그룹으로는 비닐 그룹(vinyl group), 비니렌 그룹(vinylene group), 불포화 환상탄화수소 그룹 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 아크릴산, 메타크릴산 등의 불포화 모노카르복시산; 말레산(maleic acid), 푸마르산(fumaric acid), 이타콘산(itaconic acid), 시트라콘산(citraconic acid), 아릴숙신산(allylsuccinic acid), 메사콘산(mesaconic acid), 글루타콘산(glutaconate), 나딕산(nadic acid) TM, 메틸나딕산, 테트라하이드로프탈산(tetrahydrophthalic acid), 메틸 헥사히드로프탈산(methyl hexahydrophthalic acid) 등의 불포화 디카르복실산; 무수 말레산(maleic anhydride), 무수 이타콘산, 무수 시트라콘산, 무수 아릴숙신산, 무수 글루타콘산, 무수 나딕산 TM, 무수 메틸나딕산, 무수 테트라하이드로프탈산, 무수 메틸 테트라하이드로프탈산 등의 불포화 디카르복실산 무수물 등을 들 수 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 특히, 말레인산, 무수 말레인산, 나딕산 및 무수 나딕산인 것이 바람직하다.Examples of the unsaturated carboxylic acid and / or acid anhydride used as the graft monomer include an unsaturated compound having at least one carboxylic acid group having 3 to 20 carbon atoms and an unsaturated compound having at least one carboxylic anhydride group. Examples of the unsaturated group include a vinyl group, a vinylene group, and an unsaturated cyclic hydrocarbon group. Specifically, unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid; Maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, allylsuccinic acid, mesaconic acid, glutaconate, Unsaturated dicarboxylic acids such as nadic acid, methyl nadic acid, tetrahydrophthalic acid and methyl hexahydrophthalic acid; Unsaturated dicarboxylic acids such as maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, arylsuccinic anhydride, glutaconic anhydride, anhydrous nadic acid TM, anhydrous methylnadic acid, anhydrous tetrahydrophthalic acid and anhydrous methyl tetrahydrophthalic acid And carboxylic acid anhydrides. These may be used alone or in combination of two or more. In particular, maleic acid, maleic anhydride, nadic acid and anhydric nadic acid are preferable.

또한 그라프트 비율(graft rate)은 보통 20 중량% 미만, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%, 보다 바람직하게는 0.5 ~ 2 중량%이다. 그라프트 양이 상기 범위에 있는 것으로부터, 상기 그라프트 변성 수지는 수지로서의 기계적 특성, 안정성 등을 손상시키지 않고 충분한 접착성을 실현할 수 있다. 상기 그라프트 변성 수지는, 용액법, 용융혼련법 등 공지의 그라프트 중합법에 의해 제조할 수 있지만, 그 중에서도 용액의 형태로 얻어지는 용액법이 바람직하다.The graft rate is usually less than 20% by weight, preferably 0.1 to 5% by weight, more preferably 0.5 to 2% by weight. Since the amount of the graft is in the above range, the graft-modified resin can realize sufficient adhesiveness without impairing mechanical properties, stability, etc. as a resin. The graft-modified resin can be produced by a known graft polymerization method such as a solution method, a melt-kneading method, etc. Among them, a solution method obtained in the form of a solution is preferable.

본 발명의 공정용 이형필름은 온도, 압력 등이 종래보다 높은 조건에서의 열 프레스, 또는 보다 장시간의 열 프레스 등의 가혹한 조건에서도 조도가 높은 구리 등의 금속 표면으로부터 용이하고 또한 충분히 박리할 수 있기 때문에 표면 조도가 큰 금속 표면, 조면화 처리된 금속 표면에서의 박리를 동반하는 공정, 예를 들어 다층 프린트 배선판을 비롯한 금속/수지 적층체의 제조 공정에서 바람직하게 사용할 수 있다.The release film for a process of the present invention can be easily and sufficiently peeled off from a metal surface such as copper having a high degree of roughness even under severe conditions such as a hot press at a higher temperature, Therefore, it can be suitably used in a process involving peeling of a metal surface having a large surface roughness or a roughened metal surface, for example, in a process of manufacturing a metal / resin laminate including a multilayer printed wiring board.

본 발명의 공정용 이형필름을 금속/수지 적층체의 제조 공정에 사용하는 경우에는 본 발명의 공정용 이형필름을, 그의 (1) 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정 필름 복원성값 R이 R ≥ 70 (%)인 특성을 갖는 적어도 1면에서, 조면화 처리된 금속박층과 접촉시켜 열 프레스 가공한 다음, 상기 공정 분리형 필름을 상기 금속박층으로부터 박리한다.When the release film for a process according to the present invention is used in a process for producing a metal / resin laminate, the release film for process according to the present invention is preferably subjected to (1) a film resistance value R measured by a nanoindentation method at a test temperature of 180 ° C Is subjected to a hot press process in contact with the roughened metal foil layer on at least one surface having the characteristics of R? 70 (%), and then the process separable film is peeled from the metal foil layer.

다층 프린트 배선판의 재료가되는 단면 동장적층판, 양면 동장적층판 등의 동박층의 표면 조도는 일반적으로 Rz 1.0 ~ 6.5 μm, 일반적으로 1.5 ~ 4 .0 μm이며, 본 발명의 공정용 이형필름은, 이와 같은 표면 조도를 갖는 동박층 등의 금속 표면으로부터 박리에 특히 적합하다.The surface roughness of the copper foil layers such as the cross-section copper-clad laminate and the double-side copper-clad laminate, which are the materials of the multilayer printed wiring board, is generally Rz 1.0 to 6.5 μm and generally 1.5 to 4.0 μm. And is particularly suitable for peeling from a metal surface such as a copper foil layer having the same surface roughness.

이하, 5층 프린트 배선판의 제조를 예로써, 다층 프린트 배선판의 제조에 있어서 본 발명의 공정용 이형필름의 사용에 대해 설명한다.Hereinafter, the use of the process release film of the present invention in the production of a multilayer printed circuit board will be described by taking the production of a five-layer printed wiring board as an example.

동박층 2와 동박층 3 및 강화된 유리 섬유 - 에폭시 수지 복합 절연체 1로 구성된 양면 동장적층판의 동박층 2 및 동박층 3에 프린트 회로 패턴 형성을 한 후, 동박층 2, 동박층 3에 흑화처리 및 유기산계 에칭제를 이용한 에칭처리 등을 실시한다. 이 흑화처리 등의 에칭처리는 동박의 표면을 조면화하는 처리이며, 접착 프리프레그와의 접착성을 높일 수 있다.A printed circuit pattern is formed on the copper foil layer 2 and the copper foil layer 3 of the double-sided copper clad laminate composed of the copper foil layer 2 and the copper foil layer 3 and the reinforced glass fiber-epoxy resin composite insulator 1, And an etching treatment using an organic acid-based etching agent. The etching treatment such as the blackening treatment is a treatment of roughening the surface of the copper foil, and it is possible to improve the adhesion with the adhesive prepreg.

다음으로, 접착 프리프레그 6을 이용하여 상기 기판과 동박층 7 사이에서 첫 번째 다층 적층을 수행한다. 이때 동박층 2의 외측에, 본 발명에 상당하는 공정용 이형필름 4를 놓고, 동박층 7의 외측에도 마찬가지로 본 발명에 상당하는 공정용 이형필름 5를 두고, 적층면에 수직방향으로 열 프레스에 의한 가열, 가압을 실시한다(도 2). 가열 가압의 조건은, 예를 들면 190℃, 압력 30 kg/cm2, 시간 40분으로 하는 것이 바람직하다.Next, the first multi-layer lamination is performed between the substrate and the copper foil layer 7 using the adhesive prepreg 6. At this time, the process release film 4 according to the present invention is placed on the outside of the copper foil layer 2, and the process release film 5 corresponding to the present invention is similarly placed on the outside of the copper foil layer 7, (Fig. 2). Conditions of heat and pressure, for example, is preferably set to 190 ℃, pressure 30 kg / cm 2, time 40 minutes.

가열, 가압 후, 본 발명의 공정용 이형필름 4 및 5를 용이하게 박리할 수 있으며, 동박층 2 및 7의 표면 스크래치의 발생도 효과적으로 억제할 수 있다(도 3).After heating and pressing, the process release films 4 and 5 of the present invention can be easily peeled off, and the occurrence of surface scratches of the copper foil layers 2 and 7 can be effectively suppressed (FIG. 3).

이어 도 4와 같이, 동박층 11과 동박층 9 및 강화된 유리 섬유 - 에폭시 수지 복합 절연체 10로 이루어진 적층판과 먼저 만든 동박층 2, 동박층 3, 동박층 7로 이루어진 3층 기판을 접착 프리프레그 8을 이용하여 두 번째 다층 적층을 수행한다. 동박층 11 및 동박층 2의 외측에 이형필름 5 및 이형필름 4를 놓고, 가열, 가압하여 적층일체화한다. 가열, 가압 조건은, 예를 들면 190℃, 압력 30 kg/cm2, 시간 40분으로 하는 것이 바람직하다.As shown in Fig. 4, a three-layer substrate composed of a laminate composed of the copper foil layer 11, the copper foil layer 9 and the reinforced glass fiber-epoxy resin composite insulator 10 and the copper foil layer 2, the copper foil layer 3, 8 is used to perform a second multi-layer lamination. The release film 5 and the release film 4 are placed on the outer sides of the copper foil layer 11 and the copper foil layer 2, and are laminated and integrated by heating and pressing. Heating and pressing conditions, for example, is preferably set to 190 ℃, pressure 30 kg / cm 2, time 40 minutes.

가열, 가압 후, 본 발명의 공정용 이형필름 4 및 5를 용이하게 박리할 수 있으며, 동박층 2 및 11의 표면 스크래치의 발생도 효과적으로 억제할 수 있다(도 5).After heating and pressing, the process release films 4 and 5 of the present invention can be easily peeled off, and the occurrence of surface scratches of the copper foil layers 2 and 11 can be effectively suppressed (FIG. 5).

이상으로, 5층 프린트 배선판의 제조를 예로, 다층 프린트 배선판의 제조에 있어서 본 발명의 공정용 이형필름의 사용에 대해 설명했지만, 본 발명의 공정용 이형필름은 그 외의 구성의 다층 프린트 배선판의 제조에도 적합하게 사용할 수 있다. 또한 다층 프린트 배선판 뿐만 아니라 금속/수지 적층체의 제조 등의 조도가 높은 금속 표면을 갖는 부재를 가열, 가압하는 제조 공정에서도 뛰어난 거친 표면으로부터의 박리성을 살려, 바람직하게 사용할 수 있다.As described above, the use of the process release film of the present invention in the production of a multilayer printed circuit board has been described as an example of the production of a five-layer printed circuit board. However, the process release film of the present invention is not limited to the manufacture of multilayered printed circuit boards Can also be used suitably. In addition, not only a multilayer printed wiring board but also a member having a metal surface with a high degree of illuminance such as the production of a metal / resin laminate can be preferably used because of its excellent peelability from a rough surface even in a manufacturing process for heating and pressing.

본 발명의 공정용 이형필름을 이용하여 다층 프린트 배선판을 고품질, 저비용, 그리고 높은 생산 효율로 제조할 수 있다. 이와 같은 다층 프린트 배선 기판은 전자 부품의 실장에 적합하게 사용할 수 있으며, 또한 정보 처리 기기, 디스플레이, 통신기기, 수송기기 등에 사용되는 전기전자기기에 적합하게 탑재된다.By using the process release film of the present invention, a multilayer printed wiring board can be manufactured with high quality, low cost, and high production efficiency. Such a multilayer printed wiring board can be suitably used for mounting electronic components, and is suitably mounted on electrical and electronic devices used in information processing apparatuses, displays, communication apparatuses, transportation apparatuses, and the like.

실시예Example

이하, 본 발명을 실시예에 의하여 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이것에 의해 어떠한 제한이 되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

이하의 실시예/비교예에서, 물성/특성 평가는 하기와 같은 방법으로 실시했다.In the following EXAMPLES / COMPARATIVE EXAMPLES, properties / characteristics were evaluated in the following manner.

(180℃에서 나노인덴테이션법에 의한 필름 복원성값 R)(Film stability value R by the nanoindentation method at 180 DEG C)

측정온도 180℃에서 나노인덴터를 이용하여 능간각 115°의 삼각뿔 다이아몬드 압자(Berkovich 압자)를 최대 압입 하중 2 mN으로 필름 측정면으로 누르고 나서 제하하여 최대 압입 하중(2 mN) 시의 압입 깊이와 제하 후(0 mN)의 압입 깊이를 측정했다. 하기 식에 따라 계산되어 얻어진 최대 압입 하중(2 mN)시의 압입 깊이와 제하 후(0 mN)의 압입 깊이의 비율을 필름 복원성값 R로 하였다.(Berkovich indenter) of 115 ° angle with a nanoindenter using a nanoindenter at a measurement temperature of 180 ° C, and then depressurized to the film measurement surface at a maximum indentation load of 2 mN to determine the indentation depth at the maximum indentation load (2 mN) The depth of indentation after removal (0 mN) was measured. The ratio of the indentation depth at the maximum indentation load (2 mN) obtained after calculation according to the following formula and the indentation depth after removal (0 mN) was defined as the film stability value R.

필름 복원성값 R = 제하 후 압입 깊이/최대 압입 하중시의 압입 깊이Film stability value R = indentation depth after unloading / indentation depth at maximum indentation load

(180℃에서 나노인덴테이션에 의한 경도 H)(Hardness H by nanoindentation at 180 DEG C)

측정온도 180℃에서 나노인덴터를 이용하여 능간각 115°의 삼각뿔 다이아몬드 압자(Berkovich 압자)를 최대 압입 하중 2 mN으로 필름 측정면으로 누르고 나서 제하하였을 때의 최대 압입 하중(Fmax), 압입 깊이(hc)로부터 하기 식에 따라 계산하였다.The maximum indentation load ( Fmax ) and the indentation depth (Bmax) of the triangular diamond indenter (Berkovich indenter) of 115 ° angles with a nanoindenter at a measuring temperature of 180 ° C were measured at the maximum indentation load of 2 mN (hc) according to the following formula.

경도 H = Fmax/(23.96 × hc 2)Hardness H = F max / ( 23.96 x h c 2 )

(이형성)(Dissimilarity)

열 프레스에서 동장적층판의 제조에 공정용 이형필름을 사용하고, 프레스 해방, 냉각 후, 공정용 이형필름에 손으로 장력을 가하여 박리를 시도한 뒤 박리성을 하기의 기준으로 평가하였다.After releasing the press and cooling, the releasing film for the process was peeled off by applying a tensile force by hand to the release film for the production of the copper clad laminate in the hot press, and the peelability was evaluated based on the following criteria.

○ : 프레스 해방 후 장력을 가하면, 공정용 이형필름이 동박층 표면으로부터 간단하게 박리되었다.?: When the tensile force was applied after releasing the press, the release film for the process was simply peeled off from the surface of the copper foil layer.

× : 공정용 이형필름이 동박층 표면에 밀착되어 있고, 손으로 박리할 수 없다.X: The release film for processing is in close contact with the surface of the copper foil layer and can not be peeled off by hand.

공정용 이형필름으로써, 두께 12 μm의 이축연신 PET(폴리에틸렌 테레프탈레이트) 필름(UNITIKA 주식회사, 제품명: EMBLET PET12)을 사용했다.As the release film for the process, a biaxially stretched PET (polyethylene terephthalate) film (UNITIKA, product name: EMBLET PET12) having a thickness of 12 μm was used.

상기 이축연신 PET 필름의, 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 필름 복원성값 R은 70.8%이며, 같은 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 경도 H는 111.0 MPa이었다.The film stability property R of the biaxially stretched PET film measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 占 폚 was 70.8% and the hardness H measured by the nanoindentation method at the same test temperature of 180 占 폚 was 111.0 MPa.

동장적층판은 FR4(유리 에폭시/동박 18 μm 양면, 250 × 200 mm × 0.2 mmt)를 사용하고, 유기산계의 에칭제(MEC 주식회사, 제품명: MEC V-Bond. BO-7790V)를 이용하여 동박 표면 조도가 Ra: 2 μm 되도록 에칭처리한 조면화 동장적층판을 사용했다. 이 동장적층판 및 동장적층판 사이에, 수지층(접착제 프리프레그)를 통해 겹쳐 쌓고, 그 최상면 및 최하면에 추가로 공정용 이형필름을 배치한 후 180℃, 25 kg, 60분 조건에서 열 프레스하여 필름의 동박으로부터의 박리성을 확인했다.The copper-clad laminate was prepared by using FR4 (glass epoxy / copper foil 18 μm on both sides, 250 × 200 mm × 0.2 mmt) and using an organic acid-based etching agent (MEC Co., Ltd., product name: MEC V-Bond. BO-7790V) And a roughened copper clad laminate having an etching degree Ra of 2 μm was used. The adhesive layer was laminated between the copper-clad laminate and the copper-clad laminate through a resin layer (adhesive prepreg). Further, a release film for processing was further placed on the uppermost surface and the lowermost surface of the copper clad laminate and hot- And the peelability of the film from the copper foil was confirmed.

프레스 해방, 냉각 후에 손으로 장력을 가한 결과, 공정용 이형필름은 쉽게 동박층으로부터 박리되었다.As a result of applying the tensile force by hand after release of the press and cooling, the release film for the process was easily peeled from the copper foil layer.

공정용 이형필름으로써, 두께 15 μm의 이축연신 나일론 필름(KOHJIN Film & Chemicals 주식회사, 제품명: BONYL RX)을 사용했다.As the release film for the process, a biaxially stretched nylon film (KOHJIN Film & Chemicals Co., Ltd., product name: BONYL RX) having a thickness of 15 μm was used.

상기 이축연신 나일론 필름의, 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 필름 복원성값 R은 77.7%이며, 같은 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 경도 H는 58.7 MPa이었다.The biaxially oriented nylon film had a film stability value R of 77.7% as measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 ° C and a hardness H of 58.7 MPa as measured by the nanoindentation method at the same test temperature of 180 ° C.

실시예 1과 동일한 조건으로 적층판의 제조공정을 이용했다.The manufacturing process of the laminate was used under the same conditions as in Example 1. [

프레스 해방, 냉각 후에 장력을 가한 결과, 이형필름은 쉽게 동박층으로부터 박리되었다.As a result of applying a tensile force after release of the press and cooling, the release film easily peeled off from the copper foil layer.

시판의 PBT(폴리부틸렌 테레프탈레이트) 수지(Tm= 224℃, IV= 1.2[Mitsubishi Engineering-Plastics (주), 상품명: Novaduran 5020])를 이용하여 스크류 직경 40 mm 압출기 T-다이 필름 성형기에서, 수지온도 250℃, 칠드 로울(chilled roll)온도 80℃, 에어챔버 정압 440 mmHG 조건 하, 20 μm의 무연신 PBT 필름을 제작하고, 공정용 이형필름으로 사용했다.In a 40 mm extruder screw extruder T-die film molding machine using commercially available PBT (polybutylene terephthalate) resin (Tm = 224 占 폚, IV = 1.2 (Mitsubishi Engineering-Plastics, trade name: Novaduran 5020) A 20 mu m non-oriented PBT film was produced under the conditions of a resin temperature of 250 DEG C, a chilled roll temperature of 80 DEG C and an air chamber constant pressure of 440 mmHG, and used as a release film for the process.

상기 무연신 PBT 필름의, 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 필름 복원성값 R은 78.3%이며, 같은 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 경도 H는 68.0 MPa이었다.The film stability property R measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 占 폚 of the non-extensible PBT film was 78.3%, and the hardness H measured by the nanoindentation method at the same test temperature of 180 占 폚 was 68.0 MPa.

실시예 1과 동일한 조건으로 적층판의 제조공정을 이용했다.The manufacturing process of the laminate was used under the same conditions as in Example 1. [

프레스 해방, 냉각 후에 장력을 가한 결과, 이형필름은 쉽게 동박층으로부터 박리되었다.As a result of applying a tensile force after release of the press and cooling, the release film easily peeled off from the copper foil layer.

공정용 이형필름으로써, 두께 20 μm의 무연신 나일론 필름(TORAY ADVANCED FILM 주식회사, 제품명: rayfanno NO.1401)을 사용했다.As the release film for the process, a non-oriented nylon film (TORAY ADVANCED FILM Co., Ltd., product name: rayfanno NO.1401) having a thickness of 20 μm was used.

상기 무연신 나일론 필름의, 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 필름 복원성값 R은 76.6%이며, 같은 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 경도 H는 81.9 MPa이었다.The film stability property R measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 占 폚 of the non-oriented nylon film was 76.6%, and the hardness H measured by the nanoindentation method at the same test temperature of 180 占 폚 was 81.9 MPa.

실시예 1과 동일한 조건으로 적층판의 제조공정을 이용했다.The manufacturing process of the laminate was used under the same conditions as in Example 1. [

프레스 해방 후에 장력을 가한 결과, 이형필름은 쉽게 동박층으로부터 박리되었다.As a result of applying a tensile force after releasing the press, the releasing film was easily peeled from the copper foil layer.

[비교예 1][Comparative Example 1]

공정용 이형필름으로써, 두께 16 μm의 이축연신 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름(TORAY ADVANCED FILM 주식회사, 제품명: lumirror F865)을 사용했다.As the release film for the process, a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (TORAY ADVANCED FILM Co., Ltd., product name: lumirror F865) having a thickness of 16 μm was used.

상기 이축연신 PET 필름의, 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 필름 복원성값 R은 68.5%이며, 같은 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 경도 H는 34.7 MPa였다.The film stability property R of the biaxially stretched PET film measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 캜 was 68.5% and the hardness H measured by the nanoindentation method at the same test temperature of 180 캜 was 34.7 MPa.

실시예 1과 동일한 조건으로 적층판의 제조공정을 이용했다.The manufacturing process of the laminate was used under the same conditions as in Example 1. [

프레스 해방 후에 장력을 가했지만, 이형필름은 동박층 표면에 밀착되어 손으로 떼어낼 수 없었다.Although the tensile force was applied after release of the press, the release film was in close contact with the surface of the copper foil layer and could not be removed by hand.

결과를 표 1에 정리한다.The results are summarized in Table 1.

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 비교예 1Comparative Example 1 이형필름 Release film 연신 PETStretched PET 연신 나일론Stretched nylon 무연신 PBTLead-free PBT 무연신 나일론Non-renewable nylon 연신 PETStretched PET EMBLET
PET12
EMBLET
PET12
BONYL RXBONYL RX 무연신필름을
제막
Unleaded film
Forming
rayfanno NO.1401rayfanno NO.1401 lumirror
F865
lumirror
F865
필름두께Film thickness μmμm 1212 1515 2020 2020 1616 필름복원성값 R (180℃)Film stability property R (180 DEG C) %% 70.8 70.8 77.7 77.7 78.3 78.3 76.6 76.6 68.5 68.5 필름경도 H (180℃)Film Hardness H (180 ° C) MpaMpa 111.0 111.0 58.7 58.7 68.0 68.0 81.9 81.9 34.7 34.7 박리성Peelability XX

본 발명의 공정용 이형필름은, 가혹한 조건에서의 공정 후에도, 조도가 높은 금속 표면으로부터 용이하면서 충분히 박리가 가능한 것으로, 산업의 각 분야, 특히 다층 프린트 배선판 제조를 비롯한 전기 전자 산업 분야에서 높은 이용 가능성이 있다.The release film for a process of the present invention can be easily peeled off from a metal surface having a high degree of roughness even after a process under severe conditions and exhibits high availability in the fields of industry, .

1 : 유리 섬유 - 에폭시 수지 복합 절연체
2 : 동박층
3 : 동박층
4 : 이형필름
5 : 이형필름
6 : 접착 프리프레그
7 : 동박층
8 : 접착 프리프레그
9 : 동박층
10 : 유리 섬유 - 에폭시 수지 복합 절연체
11 : 동박층
1: Glass fiber-epoxy resin composite insulator
2: Copper foil layer
3: Copper foil layer
4: release film
5: release film
6: Adhesive prepreg
7: Copper foil layer
8: Adhesive prepreg
9: Copper foil layer
10: Glass fiber-epoxy resin composite insulator
11: Copper foil layer

Claims (10)

열가소성 수지를 포함하는 공정용 이형필름(releasing film)으로, 이의 적어도 하나의 면이 하기와 같은 특징을 갖는, 상기 공정용 이형필름:
(1) 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션(nanoindentation)법으로 측정한 필름 복원성값 R이,
R ≥ 70 (%).
A releasing film for a process comprising a thermoplastic resin, wherein at least one side of the releasing film has the following characteristics:
(1) The film stability property R measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 占 폚,
R ≥ 70 (%).
제 1항에 있어서, 열가소성 수지를 포함하는 공정용 이형필름으로, 이의 적어도 하나의 면이 하기와 같은 특징을 갖는, 공정용 이형필름:
(2) 시험온도 180℃에서 나노인덴테이션법으로 측정한 경도 H가,
H ≥ 40 (MPa).
The process according to claim 1, wherein the release film for process comprises a thermoplastic resin, wherein at least one side thereof has the following characteristics:
(2) The hardness H measured by the nanoindentation method at a test temperature of 180 占 폚,
H ≥ 40 (MPa).
제 2항에 있어서, 상기 (1)의 특성을 갖는 적어도 하나의 면과, 상기 (2)의 특성을 갖는 적어도 하나의 면이 동일한 면인, 공정용 이형필름.
The release film for a process according to claim 2, wherein at least one surface having the characteristics of (1) and at least one surface having the characteristics of (2) are the same surface.
제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리에스테르 수지 및/또는 폴리아미드 수지를 포함하는, 공정용 이형필름.
4. The release film according to any one of claims 1 to 3, comprising a polyester resin and / or a polyamide resin.
제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서, 연신 혹은 무연신 폴리에스테르 필름층, 또는 연신 혹은 무연신 폴리아미드 필름층을 갖는, 공정용 이형필름.
5. The release film according to any one of claims 1 to 4, having a stretched or non-stretched polyester film layer or a stretched or non-stretched polyamide film layer.
제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 조면화 처리된 금속 표면으로부터의 박리에 사용되는, 공정용 이형필름.
6. The release film according to any one of claims 1 to 5, used for peeling from a roughened metal surface.
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 표면 조도(roughness) Rz가 1.0 ~ 6.5 μm인 금속 표면으로부터의 박리에 사용되는, 공정용 이형필름.
7. The release film for a process according to any one of claims 1 to 6, which is used for peeling from a metal surface having a surface roughness Rz of 1.0 to 6.5 占 퐉.
제 1항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 기재된 공정용 이형필름을, 상기 (1)의 특성을 갖는 적어도 하나의 면에 있어서, 조면화 처리된 금속박층과 접촉시켜 열 프레스하는 공정, 및
상기 공정용 이형필름을, 상기 금속박층으로부터 박리하는 공정,
을 포함하는 것을 특징으로 하는, 금속/수지 적층체의 제조방법.
A process for hot-pressing a release film for process according to any one of claims 1 to 7 in contact with a roughened metal foil layer on at least one surface having the characteristics of (1)
A step of peeling the process release film from the metal foil layer,
≪ / RTI > characterized in that the metal / resin laminate comprises a metal.
제 8항에 있어서, 상기 금속/수지 적층체가 다층 프린트 배선판인, 제조방법.
The manufacturing method according to claim 8, wherein the metal / resin laminate is a multilayer printed wiring board.
제 9항에 기재된 제조방법에 의해 제조된 다층 프린트 기판을 갖는, 전기전자기기.
An electrical and electronic apparatus having a multilayer printed circuit board manufactured by the manufacturing method according to claim 9.
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