JP2011096847A - Supporting material polyester film for interlayer insulation - Google Patents

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Toshiaki Iwata
俊明 岩田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyester film suitable for a supporting material to form an interlayer insulating film material to be used for a multilayer printed wiring board manufactured with a build-up method responding to a request for ultra-fine and high-density wiring. <P>SOLUTION: A polyester film is used as a supporting material for coating a thermosetting resin to form an interlayer insulating film. This supporting material polyester film for interlayer insulation is formed as a co-extrusion laminated polyester film formed of at least a double-layered polyester film, wherein an average roughness Ra at the center surface of one polyester film is 30 nm or less and an average roughness Rz of ten points is 200 nm or less, while an average roughness Ra at the center surface of the other polyester film is 10 to 50 nm, slackening degree of the film is 15 mm/m or less, and thickness of the film is in the range of 20 to 100 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、回路形成された導体層と絶縁層とを交互に積み上げたビルドアップ方式の多層プリント配線板に用いられるフィルム状の絶縁層を形成するための支持体として用いられるポリエステルフィルムに関する。   The present invention relates to a polyester film used as a support for forming a film-like insulating layer used in a build-up type multilayer printed wiring board in which circuit-formed conductor layers and insulating layers are alternately stacked.

近年、電子機器の高機能化、高密度化に対応した実装回路を提供する多層プリント配線板の分野では、絶縁層を複数積み上げるビルドアッププリント配線板が注目を浴びている。   In recent years, build-up printed wiring boards in which a plurality of insulating layers are stacked are attracting attention in the field of multilayer printed wiring boards that provide mounting circuits corresponding to higher functionality and higher density of electronic devices.

ビルドアッププリント配線板でのビルドアップ方式は、一層ずつ絶縁層を形成、導体パターンを作り、層間接続して導体層の多層化を実現する新しいプロセスである。革新的なビルドアップ方式の中核技術は、層間接続用のビア(微小径の穴)形成を用いて、多層配線板を立体的に接続する穴の微細化が進歩し、同一面積での層間接続穴の数を、大幅に増やすことができるようになった。これにより、ファインライン化や導体・絶縁層厚みの薄膜化技術も進み、さらに、ビアを層ごとに異なる位置に開けることができるため、層間接続穴を合理的に配置でき、パターン設計上大きな利点をもたらした。   The build-up method using a build-up printed wiring board is a new process for forming a multi-layered conductor layer by forming insulating layers one by one, creating a conductor pattern, and connecting the layers. The core technology of the innovative build-up method is the use of vias for connecting interlayers (small-diameter holes), and the miniaturization of the holes that connect multilayer wiring boards in three dimensions has progressed. The number of holes can be greatly increased. As a result, fine line technology and thinning technology for conductor / insulating layer thickness have also progressed, and furthermore, vias can be opened at different positions for each layer, so that interlayer connection holes can be arranged rationally, which is a great advantage in pattern design Brought about.

多層プリント配線板に用いられる絶縁層は、ガラスクロスに、エポキシ系ポリイミド系等の樹脂を含浸させたもの、あるいはセラミック系等の材料が用いられ、配線層の信号の伝藩速度やプリント配線板の特性インピーダンス等の電気特性を左右する重要なパラメーターであるため、そのような材料を選定することが必要であり、具体的には、できるだけ誘電率の低い材料が選定されており、各種提案もなされている。また、絶縁層の形成は、フィルム支持体の上に塗布する方法が、均一な厚さのものが得られるため、小型化や高性能化の要求に対して好ましく、塗布できる材料が用いられている。   Insulating layers used for multilayer printed wiring boards are made of glass cloth impregnated with epoxy-based polyimide resin, or ceramic-based materials. Because it is an important parameter that influences the electrical characteristics such as the characteristic impedance, it is necessary to select such a material. Specifically, a material having a dielectric constant as low as possible is selected, and various proposals are also available. Has been made. In addition, since the insulating layer is formed on the film support with a uniform thickness, it is preferable to meet the demands for miniaturization and high performance, and a material that can be applied is used. Yes.

絶縁層の形態は、小型化や高性能化に対応するための層間絶縁材として、フィルム状の支持体に絶縁層となる熱硬化性樹脂を塗布し、支持体のフィルムと硬化させた絶縁層とをロール状にする方法が提案されている。しかしながら、フィルム状の絶縁層を形成するための支持体であるフィルムに関しては、絶縁層の表面性や、絶縁層の形成時における生産性などに大きな影響を与えるにも関わらず、具体的な提案はなされていない状況である。特に、絶縁層塗工をする際にフィルムのたるみ量が大きいものへは塗布する絶縁樹脂の厚さを一定に加工することが困難になる。   The insulating layer is formed by applying a thermosetting resin as an insulating layer to a film-like support as an interlayer insulating material for miniaturization and high performance, and curing the support film with the film. A method has been proposed for forming a roll. However, with regard to the film that is a support for forming a film-like insulating layer, specific proposals are made despite the great influence on the surface properties of the insulating layer and the productivity when forming the insulating layer. The situation has not been made. In particular, when the insulating layer is applied, it is difficult to process the insulating resin to be applied with a constant thickness when the film has a large amount of sag.

特開2005−154727号公報JP 2005-154727 A 特開2005−39247号公報JP 2005-39247 A 特開2008−251971号公報JP 2008-251971 A

本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、その解決課題は、配線の微細化および高密度化に対応するためのビルドアップ法で製造する多層プリント配線板に用いられる、フィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体として、好適なポリエステルフィルムを提供することである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and its solution is a film-like interlayer insulation used for a multilayer printed wiring board manufactured by a build-up method to cope with miniaturization and high density of wiring. It is to provide a suitable polyester film as a support for forming the material.

本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特定の構成を有するフィルムによれば、上記課題を容易に解決できることを見いだし、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventor has found that the above problems can be easily solved by a film having a specific configuration, and has completed the present invention.

すなわち、本発明の要旨は、層間絶縁層を形成する熱硬化性樹脂を塗布するための支持体として使用されるポリエステルフィルムであって、少なくとも2層のポリエステル層からなる共押出積層ポリエステルフィルムであり、一方のポリエステルフィルム表面の中心平均粗さRaが30nm以下であり、十点平均粗さRzが200nm以下であり、もう一方のポリエステルフィルム表面の中心平均粗さRaが10〜50nmであり、フィルムのたるみ量が15mm/m以下であり、フィルムの厚さが20〜100μmであることを特徴とする層間絶縁用支持体ポリエステルフィルムに存する。   That is, the gist of the present invention is a polyester film used as a support for applying a thermosetting resin that forms an interlayer insulating layer, and is a coextruded laminated polyester film comprising at least two polyester layers. The center average roughness Ra of one polyester film surface is 30 nm or less, the ten-point average roughness Rz is 200 nm or less, and the center average roughness Ra of the other polyester film surface is 10 to 50 nm. The sag amount is 15 mm / m or less, and the thickness of the film is 20 to 100 μm.

本発明のによれば、層間絶縁用支持体フィルムとして好適な材料を提供することができ、その工業的価値は高い。   According to the present invention, a material suitable as a support film for interlayer insulation can be provided, and its industrial value is high.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のフィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体は、通常、二軸配向ポリエステルフィルムよりなり、当該ポリエステルフィルムは、溶融押出機を2台または3台以上用いた、いわゆる共押出法により2層または3層以上の積層構成のフィルムである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The support for forming the film-like interlayer insulating material of the present invention is usually composed of a biaxially oriented polyester film, which is a so-called coextrusion method using two or three or more melt extruders. Is a film having a laminated structure of two layers or three or more layers.

本発明のポリエステルフィルムは、少なくとも2層以上の層を有し、それぞれの表面となる層に用いるポリステルへ、目的とする表面粗度を得るため、それぞれに異なる粒子を配合した原料を用いることができる。   The polyester film of the present invention has at least two layers, and in order to obtain the desired surface roughness to the polyester used for each surface layer, it is necessary to use raw materials in which different particles are blended. it can.

本発明において用いるポリエステルは、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものが好ましい。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレ−ト(PET)、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキシレ−ト(PEN)等が例示される。   The polyester used in the present invention is preferably obtained by polycondensation of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic glycol. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and examples of the aliphatic glycol include ethylene glycol, diethylene glycol, and 1,4-cyclohexanedimethanol. Typical polyesters include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene-2,6-naphthalenedicarboxylate (PEN) and the like.

また、本発明で用いるポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。共重合ポリエステルの場合は、30モル%以下の第三成分を含有した共重合体である。共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、および、オキシカルボン酸(例えば、P−オキシ安息香酸など)の一種または、二種以上が挙げられ、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノーネオペンチルグリコール等の一種または二種以上が挙げられる。   The polyester used in the present invention may be a homopolyester or a copolyester. In the case of a copolyester, it is a copolymer containing 30 mol% or less of the third component. Examples of the dicarboxylic acid component of the copolyester include isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, and oxycarboxylic acids (for example, P-oxybenzoic acid). Or 2 or more types are mentioned, As a glycol component, 1 type, or 2 or more types, such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 1, 4- cyclohexane dimethanone neopentyl glycol, is mentioned.

本発明のフィルムは、ポリエステルのフィルム上で形成された層間絶縁層の表面性と、絶縁層を形成した積層フィルムのロール巻き取る取り性とを両立させるため、特定の表面粗さを有することが好ましい。それを達成するため、例えば、平均粒子径が0.1〜10μm、好ましくは0.2〜10μmの粒子を含有させる。平均粒子径が0.1μm未満では、フィルムの表面粗度が低くなり、フィルムの滑り性が悪く、層間絶縁層を形成した後にロール状態で製品を得ることができないことがある。また、平均粒子径が10μmを超える場合は、層間絶縁層の表面粗度が大きくなり、回路の高密度化に弊害が生じることがある。   The film of the present invention has a specific surface roughness in order to achieve both the surface property of the interlayer insulating layer formed on the polyester film and the roll winding property of the laminated film on which the insulating layer is formed. preferable. In order to achieve this, for example, particles having an average particle diameter of 0.1 to 10 μm, preferably 0.2 to 10 μm are contained. If the average particle size is less than 0.1 μm, the surface roughness of the film is low, the slipping property of the film is poor, and the product may not be obtained in a roll state after forming the interlayer insulating layer. On the other hand, when the average particle diameter exceeds 10 μm, the surface roughness of the interlayer insulating layer is increased, which may adversely affect the circuit density.

上記粒子のフィルム中の含有量は、通常0.1〜10.0重量%、好ましくは1.0〜5.0重量%の範囲である。粒子の含有量が0.1重量%未満では、フィルムの滑り性が悪くなる傾向があり、含有量が10.0重量%を超えると、フィルムの表面粗度が大きくなり過ぎて平面性が損なわれることがある。   The content of the particles in the film is usually 0.1 to 10.0% by weight, preferably 1.0 to 5.0% by weight. If the content of the particles is less than 0.1% by weight, the slipperiness of the film tends to deteriorate, and if the content exceeds 10.0% by weight, the surface roughness of the film becomes too large and the flatness is impaired. May be.

かかる粒子の例として、酸化珪素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸リチウム、リン酸マグネシウム、フッ化リチウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、カオリン、タルク、カーボンブラック、窒化ケイ素、窒化ホウ素、および特公昭59−5216号公報に記載されているような架橋高分子微粉体を挙げることができ、本発明の要旨を損なわれない限り、これらに限定されるものではない。   Examples of such particles include silicon oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, lithium phosphate, magnesium phosphate, lithium fluoride, aluminum oxide, titanium oxide, kaolin, talc, carbon black, silicon nitride. , Boron nitride, and crosslinked polymer fine powder as described in JP-B-59-5216 are not limited thereto, as long as the gist of the present invention is not impaired.

一方、使用する粒子の形状に関しても特に限定されるわけではなく、球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれを用いてもよい。また、その硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて2種類以上を併用してもよい。   On the other hand, the shape of the particles to be used is not particularly limited, and any of a spherical shape, a block shape, a rod shape, a flat shape, and the like may be used. Moreover, there is no restriction | limiting in particular also about the hardness, specific gravity, a color, etc. These series of particles may be used in combination of two or more as required.

ポリエステル層中に粒子を添加する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用しうる。例えば、各層を構成するポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化の段階、もしくはエステル交換反応終了後、重縮合反応を進めてもよい。   The method for adding particles to the polyester layer is not particularly limited, and a conventionally known method can be adopted. For example, it can be added at any stage for producing the polyester constituting each layer, but the polycondensation reaction may proceed preferably after the esterification stage or after the transesterification reaction.

また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。   Also, a method of blending a slurry of particles dispersed in ethylene glycol or water with a vented kneading extruder and a polyester raw material, or a blending of dried particles and a polyester raw material using a kneading extruder. It is done by methods.

なお、本発明におけるポリエステルフィルム中には上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等を添加することができる。   In addition to the above-mentioned particles, conventionally known antioxidants, antistatic agents, thermal stabilizers, lubricants, dyes, pigments, and the like can be added to the polyester film in the present invention as necessary.

本発明における最大の特徴は、フィルムのたるみ量(平面性)が15mm/m以下であることであり、好ましくは7.5mm/m以下である。たるみ量が15mm/mを超えたフィルムに絶縁塗工をする際、塗布厚さを一定にする加工を行うことが困難になる。例えばコーターヘッドとフィルムの間隙が塗布厚さに影響する場合がそうであり、フィルム幅1460mm以上で、たるみ量が15mm/mを超える場合は、コーターヘッドとフィルムが部分的にしか接触できず、条件調整では対拠ができない。これはあらゆる塗工方式において同様の影響を及ぼし好ましくない。   The greatest feature of the present invention is that the amount of sag (planarity) of the film is 15 mm / m or less, preferably 7.5 mm / m or less. When an insulating coating is applied to a film having a sagging amount exceeding 15 mm / m, it is difficult to perform a process for making the coating thickness constant. For example, the gap between the coater head and the film affects the coating thickness. When the film width is 1460 mm or more and the amount of sag exceeds 15 mm / m, the coater head and the film can only partially contact each other. It cannot be countered by condition adjustment. This is undesirable because it has the same effect in all coating systems.

本発明において、ポリエステルフィルムの一方の面の中心線平均粗さ(Ra)は10〜50nmであり、20〜30nmの範囲が好ましい。中心線平均粗さRaが10nm未満では、フィルムの滑り性やフィルム間での、いわゆるエアーヌケが悪くなる傾向があり、層間絶縁層を形成した後にロール状態で製品を得ることができない。また、中心線平均粗さRaが50nmを超える場合は、ロール状に巻かれた時に、層間絶縁層のポリエステルフィルムの表面粗度が層間絶縁層の表面に転写し、層間絶縁層の欠点となる。   In the present invention, the center line average roughness (Ra) of one surface of the polyester film is 10 to 50 nm, preferably 20 to 30 nm. When the center line average roughness Ra is less than 10 nm, the slipperiness of the film and the so-called air leakage between the films tend to deteriorate, and a product cannot be obtained in a roll state after forming the interlayer insulating layer. Further, when the center line average roughness Ra exceeds 50 nm, the surface roughness of the polyester film of the interlayer insulating layer is transferred to the surface of the interlayer insulating layer when wound in a roll shape, which becomes a defect of the interlayer insulating layer. .

本発明のポリエステルフィルム自体は、接着シートとしてコア基材に層間絶縁層が接着された後は、剥離されその役割を終えるが、ポリエステルフィルムが剥がされた後のコア基材に接着された層間絶縁層の表面に影響を与える。   The polyester film itself of the present invention is peeled off after the interlayer insulating layer is bonded to the core substrate as an adhesive sheet, and the role is finished, but the interlayer insulation bonded to the core substrate after the polyester film is peeled off Affects the surface of the layer.

熱硬化性樹脂を塗布し、層間絶縁層が形成される側(前記のRaが10〜50nmの範囲にある面の反対側)のポリエステルフィルムの表面の中心線平均粗さ(Ra)は30nm以下であり、好ましくは20nm以下であり、十点平均粗さ(Rz)は200nm以下であり、好ましくは100nm以下である。中心性平均粗さRaが30nmを超えたり、十点平均粗さRzが200nmを超えたりする場合は、層間絶縁層の表面粗度が大きくなり、回路の高密度化に弊害が生じる。   The center line average roughness (Ra) of the surface of the polyester film on which the thermosetting resin is applied and the interlayer insulating layer is formed (the side opposite to the surface where Ra is in the range of 10 to 50 nm) is 30 nm or less. It is preferably 20 nm or less, and the ten-point average roughness (Rz) is 200 nm or less, preferably 100 nm or less. When the centrality average roughness Ra exceeds 30 nm or the ten-point average roughness Rz exceeds 200 nm, the surface roughness of the interlayer insulating layer increases, which causes a problem in increasing the circuit density.

本発明のポリエステルフィルムの厚みは、20〜100μm、好ましくは25〜50μmの範囲である。フィルム厚みが20μm未満では、絶縁材を塗布した際にシワが入り好ましくない。フィルム厚みが100μmを超えた場合は、使用ポリエステル量が増加するため、コスト的に好ましくない。   The thickness of the polyester film of the present invention is in the range of 20-100 μm, preferably 25-50 μm. If the film thickness is less than 20 μm, wrinkles occur when an insulating material is applied, which is not preferable. When the film thickness exceeds 100 μm, the amount of polyester used increases, which is not preferable in terms of cost.

本発明で層間絶縁層に用いる硬化性樹脂は、支持体上で層を形成することができ、十分な絶縁性を有するものであれば、特に限定なく使用でき、例えば、エポキシ樹脂系、アクリル系、ポリイミド樹脂系、ポリイミドアミド樹脂系、ポリシアネート樹脂系、ポリエステル樹脂系、熱硬化型ポリフェニレンエーテル樹脂系などが挙げられる。また、これらを2種以上組み合わせて使用したり、多層構造としたりすることも可能である。   The curable resin used for the interlayer insulating layer in the present invention can be used without particular limitation as long as it can form a layer on the support and has sufficient insulation, for example, epoxy resin-based, acrylic-based , Polyimide resin system, polyimide amide resin system, polycyanate resin system, polyester resin system, thermosetting polyphenylene ether resin system, and the like. Further, two or more of these may be used in combination, or a multilayer structure may be used.

層間絶縁層を支持体に形成する方法は、上記した熱硬化性樹脂などを溶媒に溶解した樹脂組成物ワニスを塗布した後、加熱することにより溶剤を乾燥させると同時に樹脂を硬化させる公知の方法で作成することができる。   A method of forming an interlayer insulating layer on a support is a known method in which a resin composition varnish in which the above-described thermosetting resin or the like is dissolved is applied, and then the solvent is dried by heating to simultaneously cure the resin. Can be created.

本発明は、層間絶縁層となる硬化樹脂層をポリエステルフィルムからなる支持体上に積層フィルムとして設け、当該積層フィルムをロール状とする。ロール状とする際は、そのままの状態でも、硬化樹脂の表面を保護するための保護フィルムを貼り合わせた状態でも、ロール状態で保管できれば、どちらでも構わない。但し、保護フィルムで保護することにより、樹脂組成物層表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができるので、保護フィルムの無い状態でロールとした場合も、最終的には保護フィルムを貼りあわせる工程を追加した方が好ましい。   In the present invention, a cured resin layer serving as an interlayer insulating layer is provided as a laminated film on a support made of a polyester film, and the laminated film is rolled. When making it into a roll shape, it does not matter whether it can be stored as it is, in a state where a protective film for protecting the surface of the cured resin is bonded, or in a roll state. However, by protecting with a protective film, it is possible to prevent the adhesion and scratches of dust etc. to the surface of the resin composition layer. It is preferable to add a step of bonding.

保護フィルムは、層間絶縁層の表面を保護する機能を有していれば特にこだわらず、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステルなどのプラスチックフィルムが用いられる。   The protective film is not particularly limited as long as it has a function of protecting the surface of the interlayer insulating layer, and a plastic film such as polyethylene, polypropylene, or polyester is used.

ポリエステルフィルムで形成する層間絶縁層の厚さは、導体層の厚さ以上とする。回路基板の導体層の厚さはが、通常5〜70μmの範囲であるので、樹脂組成物層の厚さは10〜100μmの厚みが好ましい。   The thickness of the interlayer insulating layer formed of the polyester film is not less than the thickness of the conductor layer. Since the thickness of the conductor layer of the circuit board is usually in the range of 5 to 70 μm, the thickness of the resin composition layer is preferably 10 to 100 μm.

本発明で得られた層間絶縁層を有するフィルムは、導電層をパターン加工して回路を形成する時に接着フィルムとして、層間絶縁層の保護フィルムが剥がされ、コア基板に積層される。コア基材/層間絶縁層/ポリエステルフィルム支持体の構成、またはコア基材の両面を層間絶縁層で挟む、ポリエステルフィルム支持体/層間絶縁/コア基材/層間絶縁層/ポリエステルフィルム支持体の構成で加熱処理などを行い、コア基材と層間絶縁層を接着させ、ポリエステルフィルムからなる支持体が剥がされる。   The film having an interlayer insulating layer obtained in the present invention is laminated on the core substrate by peeling off the protective film of the interlayer insulating layer as an adhesive film when patterning the conductive layer to form a circuit. Structure of core base material / interlayer insulating layer / polyester film support, or structure of polyester film support / interlayer insulation / core base material / interlayer insulating layer / polyester film support in which both sides of the core base material are sandwiched between interlayer insulating layers The core substrate and the interlayer insulating layer are adhered to each other by heating, and the support made of the polyester film is peeled off.

層間絶縁層をコア基材に接着する方法としては、真空ラミネート法により減圧下で回路基板にラミネートする方法が好適に用いられる。ラミネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。またラミネートを行う前に接着フィルムおよび回路基板を必要により加熱(プレヒート)しておいてもよい。   As a method of adhering the interlayer insulating layer to the core substrate, a method of laminating on the circuit board under reduced pressure by a vacuum laminating method is suitably used. The laminating method may be a batch method or a continuous method using a roll. Further, the adhesive film and the circuit board may be heated (preheated) as necessary before lamination.

ラミネートの条件は、圧着温度(ラミネート温度)を好ましくは70〜140℃、圧着圧力を好ましくは1〜11kgf/cm(9.8×10〜10.9×10N/m)とし、空気圧が20mmHg(26.7hPa)以下の減圧下でラミネートするのが好ましい。 The lamination conditions are bonding temperature (lamination temperature) of preferably 70 to 140 ° C., preferably the crimping pressure 1~11kgf / cm 2 (9.8 × 10 4 ~10 7 .9 × 10 4 N / m 2) And laminating under reduced pressure with an air pressure of 20 mmHg (26.7 hPa) or less.

真空ラミネートは市販の真空ラミネーターを使用して行うことができる。   The vacuum lamination can be performed using a commercially available vacuum laminator.

本発明における回路基板とは、主として、ガラスエポキシ、金属基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、BTレジン基板、熱硬化型ポリフェニレンエーテル基板等の基板の片面または両面にパターン加工された導体層(回路)が形成されたものをいう。また導体層と絶縁層が交互に層形成され、片面または両面がパターン加工された導体層(回路)となっている多層プリント配線板も本発明にいう回路基板に含まれる。なお導体回路層表面は黒化処理等により予め粗化処理が施されていた方が絶縁層の回路基板への密着性の観点から好ましい。   The circuit board in the present invention mainly includes a conductor layer (circuit) patterned on one or both sides of a substrate such as a glass epoxy, metal substrate, polyester substrate, polyimide substrate, BT resin substrate, thermosetting polyphenylene ether substrate, or the like. The one formed. Also included in the circuit board of the present invention is a multilayer printed wiring board in which conductor layers and insulating layers are alternately formed and a conductor layer (circuit) is patterned on one or both sides. The surface of the conductor circuit layer is preferably roughened by blackening or the like in advance from the viewpoint of adhesion of the insulating layer to the circuit board.

このように接着フィルムを回路基板にラミネートした後、支持フィルムを剥離する場合は剥離し、熱硬化することにより回路基板に絶縁層を形成することができる。加熱硬化の条件は150℃〜220℃で20分〜180分の範囲で選択され、より好ましくは160℃〜200℃で30〜120分である。絶縁層を形成した後、硬化前に支持フィルムを剥離しなかった場合は、ここで剥離する。   Thus, after laminating the adhesive film on the circuit board, when the support film is peeled off, the insulating film can be formed on the circuit board by peeling and thermosetting. The conditions of heat curing are selected in the range of 20 to 180 minutes at 150 to 220 ° C, more preferably 30 to 120 minutes at 160 to 200 ° C. If the support film is not peeled off after the insulating layer is formed, it is peeled off here.

次に回路基板上に形成された絶縁層に穴開けを行い、ビアホール、スルーホールを形成する。穴開けは、例えば、ドリル、レーザー、プラズマ等の公知の方法により、また必要によりこれらの方法を組み合わせて行うことができるが、炭酸ガスレーザー、YAGレーザー等のレーザーによる穴開けがもっとも一般的な方法である。   Next, a hole is made in the insulating layer formed on the circuit board to form a via hole and a through hole. Drilling can be performed by a known method such as drilling, laser, plasma, or a combination of these methods, if necessary. However, drilling by a laser such as a carbon dioxide laser or YAG laser is the most common. Is the method.

次に本発明におけるポリエステルフィルムの製造例について具体的に説明するが、以下の製造例に何ら限定されるものではない。   Next, although the manufacture example of the polyester film in this invention is demonstrated concretely, it is not limited to the following manufacture examples at all.

まず、先に述べたポリエステル原料を使用し、ダイから押し出された溶融シートを冷却ロールで冷却固化して未延伸シートを得る方法が好ましい。この場合、シートの平面性を向上させるためシートと回転冷却ドラムとの密着性を高める必要があり、静電印加密着法および/または液体塗布密着法が好ましく採用される。次に得られた未延伸シートは二軸方向に延伸される。その場合、まず、前記の未延伸シートを一方向にロールまたはテンター方式の延伸機により延伸する。延伸温度は、通常70〜120℃、好ましくは80〜110℃であり、延伸倍率は通常2.5〜7倍、好ましくは3.0〜6倍である。次いで、一段目の延伸方向と直交する延伸温度は通常70〜170℃であり、延伸倍率は通常3.0〜7倍、好ましくは3.5〜6倍である。そして、引き続き180〜270℃の温度で緊張下または30%以内の弛緩下で熱処理を行い、二軸配向フィルムを得る。上記の延伸においては、一方向の延伸を2段階以上で行う方法を採用することもできる。その場合、最終的に二方向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となるように行うのが好ましい。   First, a method of using the polyester raw material described above and cooling and solidifying a molten sheet extruded from a die with a cooling roll to obtain an unstretched sheet is preferable. In this case, in order to improve the flatness of the sheet, it is necessary to improve the adhesion between the sheet and the rotary cooling drum, and an electrostatic application adhesion method and / or a liquid application adhesion method are preferably employed. Next, the obtained unstretched sheet is stretched in the biaxial direction. In that case, first, the unstretched sheet is stretched in one direction by a roll or a tenter type stretching machine. The stretching temperature is usually 70 to 120 ° C., preferably 80 to 110 ° C., and the stretching ratio is usually 2.5 to 7 times, preferably 3.0 to 6 times. Subsequently, the extending | stretching temperature orthogonal to the 1st step | paragraph extending | stretching direction is 70-170 degreeC normally, and a draw ratio is 3.0-7 times normally, Preferably it is 3.5-6 times. Subsequently, heat treatment is performed at a temperature of 180 to 270 ° C. under tension or under relaxation within 30% to obtain a biaxially oriented film. In the above-described stretching, a method in which stretching in one direction is performed in two or more stages can be employed. In that case, it is preferable to carry out so that the draw ratios in the two directions finally fall within the above ranges.

また、本発明におけるポリエステルフィルム製造に関しては同時二軸延伸法を採用することもできる。同時二軸延伸法は前記の未延伸シートを通常70〜120℃、好ましくは80〜110℃で温度コントロールされた状態で機械方向および幅方向に同時に延伸し配向させる方法で、延伸倍率としては、面積倍率で4〜50倍、好ましくは7〜35倍、さらに好ましくは10〜25倍である。そして、引き続き、170〜250℃の温度で緊張下または30%以内の弛緩下で熱処理を行い、延伸配向フィルムを得る。上述の延伸方式を採用する同時二軸延伸装置に関しては、スクリュー方式、パンタグラフ方式、リニアー駆動方式等、従来公知の延伸方式を採用することができる。   The simultaneous biaxial stretching method can also be adopted for the production of the polyester film in the present invention. The simultaneous biaxial stretching method is a method in which the unstretched sheet is usually stretched and oriented in the machine direction and the width direction at 70 to 120 ° C., preferably 80 to 110 ° C., and the stretching ratio is as follows: The area magnification is 4 to 50 times, preferably 7 to 35 times, and more preferably 10 to 25 times. Subsequently, heat treatment is performed at a temperature of 170 to 250 ° C. under tension or under relaxation within 30% to obtain a stretched oriented film. With respect to the simultaneous biaxial stretching apparatus that employs the above-described stretching method, a conventionally known stretching method such as a screw method, a pantograph method, or a linear driving method can be employed.

さらに上述のポリエステルフィルムの延伸工程中にフィルム表面を処理する、いわゆる塗布延伸法(インラインコーティング)を施すことができる。塗布延伸法によりポリエステルフィルム上に塗布層が設けられる場合には、延伸と同時に塗布が可能になると共に塗布層の厚みを延伸倍率に応じて薄くすることができ、ポリエステルフィルムとして好適なフィルムを製造できる。   Furthermore, a so-called coating stretching method (in-line coating) in which the film surface is treated during the above-described polyester film stretching step can be applied. When a coating layer is provided on a polyester film by a coating stretching method, coating can be performed simultaneously with stretching and the thickness of the coating layer can be reduced according to the stretching ratio, producing a film suitable as a polyester film. it can.

本発明において、塗布層を設ける方法はリバースグラビアコート、ダイレクトグラビアコート、ロールコート、ダイコート、バーコート、カーテンコート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。塗工方式に関しては「コーティング方式」槇書店 原崎勇次著 1979年発行に記載例がある。   In the present invention, as a method for providing the coating layer, a conventionally known coating method such as reverse gravure coating, direct gravure coating, roll coating, die coating, bar coating, curtain coating or the like can be used. Regarding the coating method, there is a description example in “Coating method” published by Yasuharu Harasaki in 1979.

本発明において、ポリエステルフィルム上に塗布層を形成する際の硬化条件に関しては特に限定されるわけではなく、例えば、塗布延伸法(インラインコーティング)により塗布層を設ける場合、通常、170〜280℃で3〜40秒間、好ましくは200〜280℃で3〜40秒間を目安として熱処理を行うのが良い。   In this invention, it does not necessarily limit about the curing conditions at the time of forming a coating layer on a polyester film, For example, when providing a coating layer by the coating extending | stretching method (in-line coating), it is 170-280 degreeC normally. The heat treatment may be performed for 3 to 40 seconds, preferably 200 to 280 ° C. for 3 to 40 seconds.

また、塗布延伸法(インラインコーティング)あるいはオフラインコーティングに係わらず、必要に応じて熱処理と紫外線照射等の活性エネルギー線照射とを併用してもよい。   Moreover, you may use together heat processing and active energy ray irradiation, such as ultraviolet irradiation, as needed irrespective of the coating extending | stretching method (in-line coating) or offline coating.

また、ポリエステルフィルムにはあらかじめ、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施してもよい。   The polyester film may be subjected to surface treatment such as corona treatment or plasma treatment in advance.

本発明において、ポリエステルに粒子を配合する方法としては、特に限定されるものではなく、公知の方法を採用し得る。例えば、ポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化の段階、もしくはエステル交換反応終了後重縮合反応開始前の段階でエチレングリコール等に分散させたスラリーとして添加し、重縮合反応を進めてもよい。また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。   In the present invention, the method of blending the particles with the polyester is not particularly limited, and a known method can be adopted. For example, it can be added at any stage of producing the polyester, but it is preferably added as a slurry dispersed in ethylene glycol or the like at the stage of esterification or before the start of the polycondensation reaction after completion of the transesterification reaction, The polycondensation reaction may proceed. Also, a method of blending a slurry of particles dispersed in ethylene glycol or water with a vented kneading extruder and a polyester raw material, or a blending of dried particles and a polyester raw material using a kneading extruder. It is done by methods.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
また、本発明で用いた測定法は次のとおりである。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.
The measuring method used in the present invention is as follows.

(1)フィルム厚さ
マイクロメーターにより求めた。
(1) Film thickness It calculated | required with the micrometer.

(2)ポリエステルの固有粘度の測定
ポリエステルに非相溶な他のポリマー成分および顔料を除去したポリエステル1gを精秤し、フェノール/テトラクロロエタン=50/50(重量比)の混合溶媒100mlを加えて溶解させ、30℃で測定した。
(2) Measurement of intrinsic viscosity of polyester 1 g of polyester from which other polymer components and pigments incompatible with polyester have been removed are precisely weighed, and 100 ml of a mixed solvent of phenol / tetrachloroethane = 50/50 (weight ratio) is added. It was dissolved and measured at 30 ° C.

(3)平均粒径(d50:μm)の測定
遠心沈降式粒度分布測定装置(株式会社島津製作所社製SA−CP3型)を使用して測定した等価球形分布における積算(重量基準)50%の値を平均粒径とした。
(3) Measurement of average particle size (d 50 : μm) Integration (weight basis) 50% in equivalent spherical distribution measured using centrifugal sedimentation type particle size distribution measuring device (SA-CP3 type manufactured by Shimadzu Corporation) Was the average particle size.

(4)表面粗さ(Ra)
中心線平均粗さRa(μm)をもって表面粗さとする。(株)小坂研究所社製表面粗さ測定機(SE−3F)を用いて次のようにして求めた。即ち、フィルム断面曲線からその中心線の方向に基準長さL(2.5mm)の部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をx軸、縦倍率の方向をy軸として粗さ曲線 y=f(x)で表わしたとき、次の式で与えられた値を〔μm〕で表わす。中心線平均粗さは、試料フィルム表面から10本の断面曲線を求め、これらの断面曲線から求めた抜き取り部分の中心線平均粗さの平均値で表わした。尚、触針の先端半径は2μm、荷重は30mgとし、カットオフ値は0.08mmとした。
Ra=(1/L)∫ |f(x)|dx
(4) Surface roughness (Ra)
The center line average roughness Ra (μm) is defined as the surface roughness. It calculated | required as follows using the Kosaka Laboratory Co., Ltd. surface roughness measuring machine (SE-3F). That is, a portion having a reference length L (2.5 mm) is extracted from the film cross-section curve in the direction of the center line, the center line of the extracted portion is the x axis, and the direction of the vertical magnification is the y axis. When represented by (x), the value given by the following equation is represented by [μm]. The center line average roughness was represented by the average value of the center line average roughness of the extracted portion obtained from 10 cross section curves obtained from the sample film surface. The tip radius of the stylus was 2 μm, the load was 30 mg, and the cutoff value was 0.08 mm.
Ra = (1 / L) ∫ 0 L | f (x) | dx

(5)十点平均粗さ(Rz)
(株)小坂研究所製 表面粗さ測定機(SE−3F)によって得られた断面曲線から、基準長さ(2.5mm)だけ抜き取った部分の断面曲線における最高から5番目までの山頂の標高の平均値と、最深から5番目までの谷底の標高の平均値との差で表わした。十点平均粗さは、試料フィルム表面から10本の断面曲線を求め、これらの断面曲線から求めた抜き取り部分の十点平均粗さの平均値で表わした。尚、この時使用した触針の半径は、2.0μm 荷重30mgで カットオフ値は、0.08mmである。
(5) Ten point average roughness (Rz)
Elevation of the peak from the highest to the fifth in the cross-section curve of the section extracted by the reference length (2.5 mm) from the cross-section curve obtained by the surface roughness measuring machine (SE-3F) manufactured by Kosaka Laboratory Ltd. And the average value of the altitude of the bottom of the valley from the deepest to the fifth. The ten-point average roughness was represented by the average value of the ten-point average roughness of the extracted portion obtained from 10 cross-section curves obtained from the sample film surface. The radius of the stylus used at this time is 2.0 μm, the load is 30 mg, and the cutoff value is 0.08 mm.

(6)たるみ量の測定
空中に水平に置かれた2本の平行ロールに、ロール状フィルムから巻きだしたフィルムをかける。ここで、ロールの間隔は1.5m、フィルムにかかる張力は40g/mm2である。2本の平行ロールを結んでできる平面から、下に沈み込んだフィルム面までの距離を全面積で測定し、その(最大値−最小値)をフィルム幅で割った数値をたるみ量(mm/m)とした。
(6) Measurement of amount of sag The film unwound from the roll film is placed on two parallel rolls placed horizontally in the air. Here, the interval between the rolls is 1.5 m, and the tension applied to the film is 40 g / mm 2. Measure the distance from the plane formed by connecting two parallel rolls to the film surface submerged in the entire area, and divide the value by dividing the (maximum value-minimum value) by the film width (mm / m).

(ポリエステルの製造)
製造例1(ポリエチレンテレフタレートA)
ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール60部および酢酸マグネシウム・4水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から4時間を要して230℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート0.04部、三酸化アンチモン0.03部を添加した後、100分で温度を280℃、圧力を15mmHgに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に0.3mmHgとした。4時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度0.61のポリエチレンテレフタレートA1を得た。
(Manufacture of polyester)
Production Example 1 (Polyethylene terephthalate A)
100 parts of dimethyl terephthalate, 60 parts of ethylene glycol and 0.09 part of magnesium acetate tetrahydrate are placed in a reactor, the temperature is raised by heating, methanol is distilled off, transesterification is performed, and 4 hours are required from the start of the reaction. The temperature was raised to 230 ° C. to substantially complete the transesterification reaction. Next, after adding 0.04 part of ethylene glycol slurry ethyl acid phosphate and 0.03 part of antimony trioxide, the temperature reached 280 ° C. and the pressure reached 15 mmHg in 100 minutes. It was 0.3 mmHg. After 4 hours, the system was returned to atmospheric pressure to obtain polyethylene terephthalate A1 having an intrinsic viscosity of 0.61.

製造例2(ポリエチレンテレフタレートB)
ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール60部および酢酸マグネシウム・4水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から4時間を要して230℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート0.04部、三酸化アンチモン0.03部、平均粒径3.4μmのシリカ粒子を0.01部添加した後、100分で温度を280℃、圧力を15mmHgに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に0.3mmHgとした。4時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度0.61のポリエチレンテレフタレートBを得た。
Production Example 2 (Polyethylene terephthalate B)
100 parts of dimethyl terephthalate, 60 parts of ethylene glycol and 0.09 part of magnesium acetate tetrahydrate are placed in a reactor, the temperature is raised by heating, methanol is distilled off, transesterification is performed, and 4 hours are required from the start of the reaction. The temperature was raised to 230 ° C. to substantially complete the transesterification reaction. Next, 0.04 part of ethylene glycol slurry ethyl acid phosphate, 0.03 part of antimony trioxide and 0.01 part of silica particles having an average particle size of 3.4 μm were added, and then the temperature was 280 ° C. and the pressure was increased in 100 minutes. The pressure reached 15 mmHg, and the pressure was gradually reduced thereafter to finally reach 0.3 mmHg. After 4 hours, the system was returned to normal pressure to obtain polyethylene terephthalate B having an intrinsic viscosity of 0.61.

製造例3(ポリエチレンテレフタレートC)
製造例1において平均粒径3.4μmのシリカ粒子を0.01部添加する代わりに平均粒径0.70μmの合成炭酸カルシウム粒子を0.01部添加する以外は製造例1と同様にしてポリエチレンテレフタレートCを得た。
Production Example 3 (Polyethylene terephthalate C)
In the same manner as in Production Example 1, except that 0.01 parts of synthetic calcium carbonate particles having an average particle diameter of 0.70 μm are added instead of 0.01 parts of silica particles having an average particle diameter of 3.4 μm, polyethylene is added. Terephthalate C was obtained.

製造例4(ポリエチレンテレフタレートD)
製造例1において平均粒径3.4μmのシリカ粒子を0.01部添加する代わりに平均粒径0.27μmの合成炭酸カルシウム粒子を0.01部添加する以外は製造例1と同様にしてポリエチレンテレフタレートDを得た。
Production Example 4 (Polyethylene terephthalate D)
In the same manner as in Production Example 1, except that 0.01 parts of synthetic calcium carbonate particles having an average particle diameter of 0.27 μm are added instead of 0.01 parts of silica particles having an average particle diameter of 3.4 μm, polyethylene is added. Terephthalate D was obtained.

製造例5(ポリエチレンテレフタレートE)
製造例1において平均粒径3.4μmのシリカ粒子を0.01部添加する代わりに平均粒径1.50μmの合成炭酸カルシウム粒子を0.01部添加する以外は製造例1と同様にしてポリエチレンテレフタレートEを得た。
Production Example 5 (Polyethylene terephthalate E)
In the same manner as in Production Example 1, except that 0.01 parts of synthetic calcium carbonate particles having an average particle diameter of 1.50 μm are added in place of 0.01 parts of silica particles having an average particle diameter of 3.4 μm, polyethylene is added. Terephthalate E was obtained.

(ポリエステルフィルムの製造)
上記ポリエステルA〜Eを下記表1および2に示す配合比でA層、B層の混合原料とし、2台の二軸押出機に各々を供給し、各々285℃で溶融した後、全厚みに対して、A層/B層=50%/50%の厚み比となるように、2種2層の構成で20℃に冷却したキャスティングドラム上に共押出し、冷却固化させて無配向シートを得た。次いで、100℃にて縦方向に3〜5倍延伸した後、テンター内で予熱工程を経て120℃で4〜5倍の横延伸を施した後、200〜230℃で10秒間の熱処理を行い、その後180℃で幅方向に10%の弛緩を加え、表1および2に示す厚さのポリエステルフィルムを得た。
(Manufacture of polyester film)
The above polyesters A to E are mixed raw materials of the A layer and the B layer at the blending ratio shown in Tables 1 and 2 below, and each is supplied to two twin-screw extruders and melted at 285 ° C. On the other hand, it is co-extruded on a casting drum cooled to 20 ° C. in a two-layer / two-layer configuration so that the thickness ratio of A layer / B layer = 50% / 50%, and solidified by cooling to obtain a non-oriented sheet. It was. Next, the film is stretched 3 to 5 times in the longitudinal direction at 100 ° C., then subjected to a preheating step in the tenter and subjected to 4 to 5 times transverse stretching at 120 ° C., and then subjected to heat treatment at 200 to 230 ° C. for 10 seconds. Thereafter, 10% relaxation was applied in the width direction at 180 ° C. to obtain polyester films having thicknesses shown in Tables 1 and 2.

Figure 2011096847
Figure 2011096847

Figure 2011096847
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(ポリエステルフィルムへの樹脂組成ワニス塗布:層間絶縁層の形成)
下記の方法で作製した樹脂組成ワニスを、実施例1〜4、比較例1〜8で得られたポリエステルフィルムのB層表面上に、乾燥後の樹脂厚さが70μmとなる用にダイコーターで塗布し、80〜120℃(平均100℃)で乾燥し、ポリエステルフィルムを支持体とした層間絶縁層を作製した。
(Applying resin composition varnish to polyester film: Formation of interlayer insulation layer)
The resin composition varnish produced by the following method was applied to the surface of the B layer of the polyester film obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 8 with a die coater for the resin thickness after drying to be 70 μm. It apply | coated and dried at 80-120 degreeC (average 100 degreeC), and the interlayer insulation layer which made the polyester film the support body was produced.

上記の方法で得られたポリエステルフィルムの表面・加工特性を表3に示す。
《エポキシ樹脂組成物》
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製「エピコート828EL」)20部、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成(株)製YDB−500)20部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量215、軟化点78℃、大日本インキ化学(株)製エピクロンN−673)20部、末端エポキシ化ポリブタジエンゴム(ナガセ化成工業(株)製デナレックスR−45EPT)15部とをMEKに攪拌しながら加熱溶解させ、そこへ臭素化フェノキシ樹脂ワニス(不揮発分40重量%、臭素含有量25重量%、溶剤組成、キシレン:メトキシプロパノール:メチルエチルケトン=5:2:8、東都化成(株)製YPB−40−PXM40)50部、エポキシ硬化剤として2、4−ジアミノ−6−(2−メチル−1−イミダゾリエチル)−1、3、5−トリアジン・イソシアヌル酸付加物4部、さらに微粉砕シリカ2部、三酸化アンチモン4部、炭酸カルシウム5部を添加し樹脂組成ワニスを作製した。
Table 3 shows the surface and processing characteristics of the polyester film obtained by the above method.
<< Epoxy resin composition >>
20 parts of liquid bisphenol A type epoxy resin (“Epicoat 828EL” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 20 parts of brominated bisphenol A type epoxy resin (YDB-500 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), cresol novolac type epoxy resin (epoxy) Equivalent 215, softening point 78 ° C., Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. Epiklone N-673) 20 parts, terminal epoxidized polybutadiene rubber (Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd. Denarex R-45EPT) 15 parts are stirred in MEK. The solution was dissolved while heating, and brominated phenoxy resin varnish (non-volatile content 40% by weight, bromine content 25% by weight, solvent composition, xylene: methoxypropanol: methyl ethyl ketone = 5: 2: 8, YPB- manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. 40-PXM40) 50 parts, 2,4-diamino as epoxy curing agent 6- (2-Methyl-1-imidazoliethyl) -1,3,5-triazine / isocyanuric acid adduct 4 parts, 2 parts of finely pulverized silica, 4 parts of antimony trioxide and 5 parts of calcium carbonate A composition varnish was prepared.

《実用特性》
<得られたフィルムの塗布外観の検査>
樹脂組成ワニスをポリエステルフィルム上に塗布して、得た層間絶縁層の塗布外観を目視にて検査した。
○:極めて平面性がよく実用性に富んでいる
△:やや平面性に欠けるが実用的である
×:平面性が悪く実用性に欠ける
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
《Practical properties》
<Inspection of coating appearance of the obtained film>
The resin composition varnish was applied on a polyester film, and the coating appearance of the obtained interlayer insulating layer was visually inspected.
○: Extremely flat and rich in practicality △: Slightly lacking in flatness, but practical ×: Inferior flatness and lack of practicality Of the above criteria, those above Δ are not problematic for practical use It is a usable level.

《ロール外観》
樹脂組成ワニスをポリエステルフィルム上に塗布し、層間絶縁層を有するフィルムの製造において、当該フィルムの製品ロールの外観を目視観察し評価し、その結果を表3に示す。特に、ロール両端面のズレを観察した。
(ロール外観良好) ◎>○>△>× (ロール外観不良)
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
<Roll appearance>
The resin composition varnish was applied on a polyester film, and in the production of a film having an interlayer insulating layer, the appearance of the product roll of the film was visually observed and evaluated. The results are shown in Table 3. In particular, the deviation of both end faces of the roll was observed.
(Roll appearance is good) ◎>○>△> × (Roll appearance is bad)
Among the above criteria, those above Δ are levels that can be used without any problem in actual use.

《表面特性》
得られた層間絶縁層のポリエステルフィルムに相当する表面を観察し、電気特性に影響を与える突起の有無や、突起の均一性の表面特性を下記の通り評価し、その結果を表3に示す。
◎:突起の均一性を有し、電気特性に悪影響を与える大きな突起は見られない
○:突起の均一性が僅かに劣り、大きな突起も若干見られる
△:実用上問題なく使用できるレベルの均一性と突起の大きさが見られる
×:突起の均一性に劣り、電気特性に悪影響を与える突起が見られる
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
<Surface characteristics>
The surface corresponding to the polyester film of the obtained interlayer insulating layer was observed, and the presence / absence of protrusions affecting the electrical characteristics and the surface characteristics of the uniformity of the protrusions were evaluated as follows. The results are shown in Table 3.
◎: Projection uniformity, no large projections that adversely affect electrical characteristics are observed ○: Projection uniformity is slightly inferior, and some large projections are seen △: Uniformity at a level that can be used practically without problems X: Protrusions that are inferior in the uniformity of the protrusions and have an adverse effect on the electrical characteristics are observed. Among the above judgment criteria, those above Δ are levels that can be used without problems in actual use.

《コストの優位性》
得られる特性と、歩留まり等の製造に関わるコスト評価を下記の通り評価し、その結果を表3に示す。
○:コスト的に優位性が見られる
△:コスト的に若干劣る
×:コスト的に劣る
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
《Cost advantage》
The obtained characteristics and the cost evaluation related to the production such as yield are evaluated as follows, and the results are shown in Table 3.
◯: Advantage in terms of cost Δ: Slightly inferior in cost ×: Inferior in cost Among the above criteria, those above Δ are at a level that can be used without problems in actual use.

Figure 2011096847
Figure 2011096847

本発明のフィルムは、層間絶縁層を形成する熱硬化性樹脂を塗布するための支持体として好適に利用することができる。   The film of this invention can be utilized suitably as a support body for apply | coating the thermosetting resin which forms an interlayer insulation layer.

Claims (1)

層間絶縁層を形成する熱硬化性樹脂を塗布するための支持体として使用されるポリエステルフィルムであって、少なくとも2層のポリエステル層からなる共押出積層ポリエステルフィルムであり、一方のポリエステルフィルム表面の中心平均粗さRaが30nm以下であり、十点平均粗さRzが200nm以下であり、もう一方のポリエステルフィルム表面の中心平均粗さRaが10〜50nmであり、フィルムのたるみ量が15mm/m以下であり、フィルムの厚さが20〜100μmであることを特徴とする層間絶縁用支持体ポリエステルフィルム。 A polyester film used as a support for applying a thermosetting resin that forms an interlayer insulating layer, a coextruded laminated polyester film comprising at least two polyester layers, the center of one polyester film surface The average roughness Ra is 30 nm or less, the ten-point average roughness Rz is 200 nm or less, the center average roughness Ra of the other polyester film surface is 10 to 50 nm, and the sag amount of the film is 15 mm / m or less. A support polyester film for interlayer insulation, wherein the thickness of the film is 20 to 100 μm.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011194759A (en) * 2010-03-23 2011-10-06 Mitsubishi Plastics Inc Polyester film for supporting interlayer insulating material
JP2015230901A (en) * 2014-06-03 2015-12-21 三菱瓦斯化学株式会社 Resin laminate and printed wiring board

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