JP6126446B2 - Release film and method for producing LED element sealing body - Google Patents

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本発明は、離型フィルムおよび半導体素子封止体の製造方法に関する。   The present invention relates to a release film and a method for producing a semiconductor element encapsulant.

半導体デバイスは、通常、基板と、その上に実装されたLEDチップなどの半導体素子とを含み、これらが封止樹脂で封止された封止体でありうる。このような封止体は、例えば基板上に実装された半導体素子を金型内に配置した後;該金型内に封止樹脂を注入し、硬化成形して製造される。そして、硬化成形して得られる封止体を金型から剥離しやすくするために、金型内面に離型フィルムを配置する方法が採られている(例えば特許文献1)。   The semiconductor device usually includes a substrate and a semiconductor element such as an LED chip mounted thereon, and can be a sealing body in which these are sealed with a sealing resin. Such a sealing body is manufactured by, for example, placing a semiconductor element mounted on a substrate in a mold; injecting a sealing resin into the mold and curing. And in order to make it easy to peel the sealing body obtained by hardening molding from a metal mold | die, the method of arrange | positioning a release film on the metal mold | die inner surface is taken (for example, patent document 1).

LEDなどの樹脂封止に用いられる離型フィルムとしては、ポリシロキサンの塗布層を有するポリエステル樹脂フィルム(特許文献1)や、ポリウレタン系エラストマーを主成分とする熱可塑性エラストマー組成物からなるフィルム(特許文献2)などが提案されている。また、プリント配線板などの樹脂封止に用いられる離型フィルムとしては、結晶性芳香族ポリエステル樹脂をマトリックスとして含み、結晶融解熱量が一定以上に調整された離型フィルム(特許文献3)や、ポリエーテル骨格を含まない結晶性芳香族ポリエステルと、ポリエーテル骨格を含むポリエステルとの混合樹脂からなり、結晶融解熱量が一定以上に調整された離型フィルム(特許文献4)などが提案されている。   As a release film used for resin sealing of LED and the like, a polyester resin film having a polysiloxane coating layer (Patent Document 1) and a film made of a thermoplastic elastomer composition mainly composed of a polyurethane elastomer (patent) Document 2) has been proposed. Moreover, as a release film used for resin sealing such as a printed wiring board, a release film containing a crystalline aromatic polyester resin as a matrix and having a heat of crystal fusion adjusted to a certain level (Patent Document 3), A release film (Patent Document 4), which is made of a mixed resin of a crystalline aromatic polyester not containing a polyether skeleton and a polyester containing a polyether skeleton and whose crystal heat of fusion is adjusted to a certain level or more has been proposed. .

特開2010−245477号公報JP 2010-245477 A 特開2012−206490号公報JP 2012-206490 A 特許第4436803号公報Japanese Patent No. 4436803 特許第4391725号公報Japanese Patent No. 4391725

ところで、LEDの樹脂封止に用いられる金型は、通常の半導体素子の樹脂封止に用いられる金型と比べてギャップ(上金型と下金型のパーティング面からキャビティの最深部までの段差)が大きく、かつ形状が複雑であることが多い。そのため、LEDの樹脂封止に用いられる離型フィルムは、複雑な金型の形状に対しても、破れや皺を生じることなく良好に追従できること(高い金型追従性を有すること)が求められる。   By the way, the mold used for resin sealing of the LED has a gap (from the parting surface of the upper mold and the lower mold to the deepest part of the cavity as compared with the mold used for resin sealing of a normal semiconductor element. The step is large and the shape is often complicated. Therefore, the release film used for LED resin sealing is required to be able to follow a complicated mold shape without tearing or wrinkling (having high mold followability). .

しかしながら、特許文献1のフィルムは、少なくとも2層構造を有するため、フィルム厚みが大きくなりやすい。また、特許文献2のフィルムは、十分な機械的強度を得るためには、フィルム厚みを大きくする必要があった。そのため、特許文献1および2のフィルムは、いずれも金型に対する追従性が十分でないおそれがあった。特許文献3および4のフィルムは、高い結晶融解熱量を有することから、金型形状に対する追従性が十分でないおそれがあった。   However, since the film of Patent Document 1 has at least a two-layer structure, the film thickness tends to increase. Moreover, in order to obtain sufficient mechanical strength, the film of Patent Document 2 has to have a large film thickness. Therefore, the films of Patent Documents 1 and 2 may not have sufficient followability to the mold. Since the films of Patent Documents 3 and 4 have a high amount of heat of crystal melting, there is a possibility that followability to the mold shape is not sufficient.

また、寸法精度が高く、表面が平滑なLEDの封止体を得るためには、離型フィルムが高い離型性を有することも求められる。   In addition, in order to obtain an LED encapsulant with high dimensional accuracy and a smooth surface, it is also required that the release film has high releasability.

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、複雑な形状の金型に対しても破れや皺を生じることなく追従できる良好な金型追従性と、良好な離型性とを有する離型フィルムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and has good mold following ability and good mold releasability capable of following a complicated-shaped mold without causing breakage or wrinkles. It aims at providing a release film.

[1] 少なくとも一方の最表層に配置された、ポリブチレンテレフタレートを含むポリエステル樹脂層を含み、前記ポリエステル樹脂層の、広角X線回折法(XRD)により測定される結晶化度が15%以上25%以下であり、前記ポリエステル樹脂層の最表層を、ATR法により、ATR結晶としてGeを用い、赤外光入射角を60°として測定して得られるFT−IRスペクトルにおいて、2910cm−1以上2930cm−1以下の領域の最大吸収ピーク強度をPa、2950cm−1以上2970cm−1以下の領域の最大吸収ピーク強度をPbとしたときに、下記式(1)の関係を満たす、離型フィルム。
0.6≦Pa/Pb≦2.0・・・ 式(1)
[2] 半導体素子の樹脂封止に用いられる、[1]に記載の離型フィルム。
[3] 前記樹脂封止に用いられる封止樹脂がシリコーン樹脂である、[1]または[2]に記載の離型フィルム。
[4] 前記半導体素子が、発光素子または受光素子である、[2]または[3]に記載の離型フィルム。
[5] 前記発光素子が、LED素子である、[4]に記載の離型フィルム。
[6] 前記ポリブチレンテレフタレートを含むポリエステル樹脂層の単層フィルムである、[1]〜[5]のいずれかに記載の離型フィルム。
[1] A polyester resin layer containing polybutylene terephthalate disposed on at least one outermost layer, and the crystallinity of the polyester resin layer measured by wide angle X-ray diffraction (XRD) is 15% or more and 25 % In the FT-IR spectrum obtained by measuring the outermost layer of the polyester resin layer by the ATR method using Ge as an ATR crystal and an infrared light incident angle of 60 °, 2910 cm −1 to 2930 cm A release film that satisfies the relationship of the following formula (1), where Pa is the maximum absorption peak intensity in the region of −1 or less and Pb is the maximum absorption peak intensity in the region of 2950 cm −1 or more and 2970 cm −1 or less.
0.6 ≦ Pa / Pb ≦ 2.0 Formula (1)
[2] The release film according to [1], which is used for resin sealing of a semiconductor element.
[3] The release film according to [1] or [2], wherein the sealing resin used for the resin sealing is a silicone resin.
[4] The release film according to [2] or [3], wherein the semiconductor element is a light emitting element or a light receiving element.
[5] The release film according to [4], wherein the light-emitting element is an LED element.
[6] The release film according to any one of [1] to [5], which is a single layer film of a polyester resin layer containing the polybutylene terephthalate.

[7] [1]〜[6]のいずれかに記載の離型フィルムを金型内面に配置する工程と、前記金型内に、半導体素子が実装された基板を配置する工程と、前記金型内に封止樹脂を充填して型締めし、前記封止樹脂を硬化させて半導体素子封止体を得る工程と、前記半導体素子封止体から前記離型フィルムを剥離する工程と、を含む、半導体素子封止体の製造方法。
[8] 前記離型フィルムのポリブチレンテレフタレートを含むポリエステル樹脂層が前記半導体素子と対向するように、前記離型フィルムを前記金型内面に配置する、[7]に記載の半導体素子封止体の製造方法。
[9] 前記封止樹脂は、シリコーン樹脂である、[7]または[8]に記載の半導体素子封止体の製造方法。
[10] 前記半導体素子が、発光素子または受光素子である、[7]〜[9]のいずれかに記載の半導体素子封止体の製造方法。
[7] A step of disposing the release film according to any one of [1] to [6] on the inner surface of the mold, a step of disposing a substrate on which a semiconductor element is mounted in the mold, and the mold Filling a mold with a sealing resin, clamping the mold, curing the sealing resin to obtain a semiconductor element sealing body, and peeling the release film from the semiconductor element sealing body. A method for manufacturing a sealed semiconductor element.
[8] The encapsulated semiconductor element according to [7], wherein the release film is disposed on the inner surface of the mold so that a polyester resin layer containing polybutylene terephthalate of the release film faces the semiconductor element. Manufacturing method.
[9] The method for manufacturing a sealed semiconductor element according to [7] or [8], wherein the sealing resin is a silicone resin.
[10] The method for producing a sealed semiconductor element according to any one of [7] to [9], wherein the semiconductor element is a light emitting element or a light receiving element.

本発明によれば、複雑な形状の金型に対しても良好な追従性を有し、かつ良好な離型性を有する離型フィルムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can provide the mold release film which has favorable followable | trackability also to the metal mold | die of a complicated shape, and has favorable mold release property.

本発明の離型フィルムのATR-IRスペクトルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the ATR-IR spectrum of the release film of this invention. 本発明の離型フィルムの、GIWAXS測定により得られるout−of−plane(面外方向)の回折プロファイルの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the diffraction profile of the out-of-plane (out-of-plane direction) obtained by GIWAXS measurement of the release film of this invention. フィルムの製造装置の一部の例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the example of a part of manufacturing apparatus of a film. LEDの封止体の製造工程の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing process of the sealing body of LED. LEDの封止体の製造工程の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing process of the sealing body of LED. LEDの封止体の製造工程の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing process of the sealing body of LED. LEDの封止体の製造工程の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing process of the sealing body of LED. LEDの封止体の製造工程の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing process of the sealing body of LED. 実施例におけるLEDの封止体の製造工程の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing process of the sealing body of LED in an Example. 実施例におけるLEDの封止体の製造工程の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing process of the sealing body of LED in an Example. 実施例におけるLEDの封止体の製造工程の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing process of the sealing body of LED in an Example. 実施例におけるLEDの封止体の製造工程の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing process of the sealing body of LED in an Example. 実施例におけるLEDの封止体の製造工程の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing process of the sealing body of LED in an Example.

1.離型フィルム
本発明の離型フィルムは、少なくとも一方の最表層に配置されたポリエステル樹脂層を含む。
1. Release Film The release film of the present invention includes a polyester resin layer disposed on at least one outermost layer.

ポリエステル樹脂層について
ポリエステル樹脂層は、離型フィルムの少なくとも一方の最表層に配置され、離型層Aとして機能する。ポリエステル樹脂層は、結晶性や耐熱性が高いことから、ポリブチレンテレフタレートを含むことが好ましい。
About the polyester resin layer The polyester resin layer is disposed on at least one outermost layer of the release film and functions as the release layer A. The polyester resin layer preferably contains polybutylene terephthalate because it has high crystallinity and heat resistance.

ポリブチレンテレフタレートの固有粘度は、ポリエステル樹脂層の機械的強度を一定以上とし、かつ溶融成形性を確保するためなどから、1.0〜1.5であることが好ましく、1.0〜1.2であることがより好ましい。上記固有粘度は、JIS K 7367−5に基づき25℃で測定されうる。   The intrinsic viscosity of the polybutylene terephthalate is preferably 1.0 to 1.5 in order to make the mechanical strength of the polyester resin layer a certain level or more and to ensure melt moldability. 2 is more preferable. The intrinsic viscosity can be measured at 25 ° C. based on JIS K 7367-5.

ポリブチレンテレフタレートの融点は、一定以上の耐熱性と成形性を得る観点から、200〜245℃であることが好ましい。融点は、示差走査熱量分析装置(マックサイエンス社製、DSC3100S)を用いて、昇温速度20℃/分で昇温したときに検出される融解時の吸熱ピーク温度として測定されうる。融点の下限値は、210℃であることが好ましい。融点が200℃未満であると、十分な耐熱性が得られない可能性がある。   The melting point of polybutylene terephthalate is preferably 200 to 245 ° C. from the viewpoint of obtaining heat resistance and moldability that are above a certain level. The melting point can be measured as an endothermic peak temperature at the time of melting detected when the temperature is increased at a rate of temperature increase of 20 ° C./min using a differential scanning calorimeter (manufactured by Mac Science, DSC3100S). The lower limit of the melting point is preferably 210 ° C. If the melting point is less than 200 ° C., sufficient heat resistance may not be obtained.

ポリブチレンテレフタレートの市販品の例には、三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製ノバデュラン5020、5010CS、5510Sまたは5505S、ポリプラスチックス(株)製ジュラネックス、東レ(株)製トレコンなどが含まれる。   Examples of commercially available products of polybutylene terephthalate include NOVADURAN 5020, 5010CS, 5510S or 5505S manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd., Juranex manufactured by Polyplastics Co., Ltd., and Toraycon manufactured by Toray Industries, Inc.

ポリエステル樹脂層は、本発明の効果を損なわない範囲で、他の樹脂や添加剤をさらに含んでもよい。他の樹脂の例には、ポリブチレンテレフタレート以外のポリエステル樹脂(例えば1,4−ブタンジオール以外の脂肪族ジオールとテレフタル酸などの芳香族ジカルボン酸とを反応させて得られるポリエステル樹脂)やポリエステルエラストマー(例えばポリブチレンテレフタレートエラストマー)などが含まれ、好ましくはポリブチレンテレフタレートエラストマーやポリエチレンテレフタレートなどでありうる。   The polyester resin layer may further contain other resins and additives as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of other resins include polyester resins other than polybutylene terephthalate (for example, polyester resins obtained by reacting aliphatic diols other than 1,4-butanediol with aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid) and polyester elastomers. (For example, polybutylene terephthalate elastomer) and the like, preferably polybutylene terephthalate elastomer and polyethylene terephthalate.

添加剤の例には、耐熱安定剤、耐候安定剤、発錆防止剤、耐銅害安定剤、帯電防止剤、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、繊維、無機物、高級脂肪酸塩などが含まれる。   Examples of additives include heat stabilizers, weathering stabilizers, rust inhibitors, copper damage stabilizers, antistatic agents, inorganic fillers, flame retardants, UV absorbers, fibers, inorganic substances, higher fatty acid salts, etc. included.

ポリブチレンテレフタレートの含有量は、ポリエステル樹脂層に対して60質量%以上であることが好ましく、80質量%以上であることがより好ましく、100質量%であることがさらに好ましい。ポリブチレンテレフタレートの含有量を一定以上とすることで、耐熱性を有しつつ、高い追従性と離型性とを有するポリエステル樹脂層が得られやすい。   The content of polybutylene terephthalate is preferably 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and further preferably 100% by mass with respect to the polyester resin layer. By setting the content of polybutylene terephthalate to a certain level or more, it is easy to obtain a polyester resin layer having high followability and releasability while having heat resistance.

離型フィルムは、ポリエステル樹脂層からなる単層フィルムであってもよいし;ポリエステル樹脂層と他の層とを含む積層フィルムであってもよい。積層フィルムに含まれるポリエステル樹脂層は、離型フィルムの少なくとも一方の最表層;好ましくは離型フィルムの被成形物(例えば半導体素子)の封止体と接する側の最表層に配置される。積層フィルムに含まれる他の層は、基材層Cや接着層Bなどでありうる。   The release film may be a single layer film composed of a polyester resin layer; or a laminated film including a polyester resin layer and other layers. The polyester resin layer contained in the laminated film is disposed on at least one outermost layer of the release film; preferably on the outermost layer on the side in contact with the sealing body of the molded product (for example, a semiconductor element) of the release film. Other layers included in the laminated film may be a base material layer C, an adhesive layer B, or the like.

基材層Cを構成する樹脂の例には、離型フィルムの機械的強度や耐熱性を高めるためなどから、ポリカーボネート樹脂、ポリブチレンテレフタレート以外の他のポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂などが含まれる。なかでも、耐熱性または離型層Aとの接着性が良好な樹脂が好ましく、ポリアミド樹脂やポリブチレンテレフタレート以外の他のポリエステル樹脂などが好ましい。   Examples of the resin constituting the base layer C include polycarbonate resin, polyester resin other than polybutylene terephthalate, polyamide resin, polyolefin resin, and cyclic polyolefin to increase the mechanical strength and heat resistance of the release film. Resin, polyurethane resin and the like are included. Among these, a resin having good heat resistance or good adhesion to the release layer A is preferable, and a polyester resin other than polyamide resin or polybutylene terephthalate is preferable.

基材層Cの120℃における貯蔵弾性率E’は、離型フィルムの機械的強度を十分に高めるためなどから、例えば15MPa以上1000MPa以下としうる。   The storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. of the base material layer C can be set to 15 MPa or more and 1000 MPa or less, for example, in order to sufficiently increase the mechanical strength of the release film.

接着層Bは、接着樹脂で構成されうる。接着樹脂は、ポリエステル樹脂層(離型層A)および基材層Cの両方に対してなじみやすい樹脂を含むことが好ましい。接着樹脂の具体例としては、少なくとも一部が不飽和カルボン酸及び/又は不飽和カルボン酸の酸無水物によりグラフト変性された変性4−メチル−1−ペンテン系重合体、当該変性4−メチル−1−ペンテン系重合体とα−オレフィン系重合体を含む混合物、およびポリオレフィン系エラストマー等を挙げることができる。   The adhesive layer B can be made of an adhesive resin. The adhesive resin preferably contains a resin that is easily compatible with both the polyester resin layer (release layer A) and the base material layer C. Specific examples of the adhesive resin include a modified 4-methyl-1-pentene polymer graft-modified with an unsaturated carboxylic acid and / or an acid anhydride of an unsaturated carboxylic acid, the modified 4-methyl- Examples thereof include a mixture containing a 1-pentene polymer and an α-olefin polymer, and a polyolefin elastomer.

接着層の厚さは、ポリエステル樹脂層と基材層Cの接着性を向上させることができる厚さであればよく、特に制限はないが、通常は4〜6μm程度である。   The thickness of the adhesive layer is not particularly limited as long as it can improve the adhesiveness between the polyester resin layer and the base material layer C, but is usually about 4 to 6 μm.

接着層Bおよび基材層Cも、ポリエステル樹脂層と同様に、主成分の他に前述の添加剤をさらに含んでもよい。   Similar to the polyester resin layer, the adhesive layer B and the base material layer C may further include the above-described additives in addition to the main component.

本発明の離型フィルムがポリエステル樹脂層と他の層とを含む積層フィルムである場合の、積層構造の例には、以下のものが含まれる。以下において、Aは離型層Aを示し;Bは接着層Bを示し;Cは基材層Cを示し;A’は他の離型層A’を示す。離型層Aが、前述のポリエステル樹脂層に該当する。本発明の離型フィルムが積層フィルムである場合、中心層に対して対称な積層構造を有することが好ましい。対称な積層構造を有する離型フィルムは、金型内に固定されて加熱されたときに、熱膨張差や吸湿等による変形(反りなど)を生じにくいからである。他の離型層A’は、離型層Aと同じであっても異なってもよいが、変形の生じにくさや、金型形状の追従性の観点からは、他の離型層A’は、離型層Aと同じ材料であることが好ましい。特に、他の離型層A’の結晶化度が、離型層Aと同様に、15%以上25%以下であると、金型形状の追従性の観点から好ましい。
A/C
A/C/A’
A/B/C
A/B/C/B/A’
Examples of the laminated structure when the release film of the present invention is a laminated film including a polyester resin layer and other layers include the following. In the following, A represents the release layer A; B represents the adhesive layer B; C represents the substrate layer C; A ′ represents the other release layer A ′. The release layer A corresponds to the above-described polyester resin layer. When the release film of the present invention is a laminated film, it is preferable to have a symmetric laminated structure with respect to the center layer. This is because the release film having a symmetric laminated structure is less likely to be deformed (warped or the like) due to a difference in thermal expansion or moisture absorption when heated in a mold. The other release layer A ′ may be the same as or different from the release layer A. However, from the viewpoint of difficulty in deformation and followability of the mold shape, the other release layer A ′ is The material is the same as that of the release layer A. In particular, the degree of crystallinity of the other release layer A ′ is preferably 15% or more and 25% or less in the same manner as the release layer A, from the viewpoint of the followability of the mold shape.
A / C
A / C / A '
A / B / C
A / B / C / B / A '

なかでも、良好な金型追従性と離型性を有するだけでなく、良好な耐熱性も有し、製造工程を簡易化できることから、離型フィルムはポリエステル樹脂層からなる単層フィルムであることが好ましい。   In particular, the mold release film is a single-layer film composed of a polyester resin layer because it has not only good mold followability and mold releasability, but also good heat resistance and can simplify the manufacturing process. Is preferred.

離型フィルムの厚みは、20〜100μmであることが好ましく、40〜60μmであることがより好ましい。離型フィルムの厚みを一定以上にすることで、フィルムの機械的強度を高めうる。一方、離型フィルムの厚みを一定以下とすることで、複雑な形状の金型に対しても良好な追従性が得られやすい。   The thickness of the release film is preferably 20 to 100 μm, and more preferably 40 to 60 μm. By setting the thickness of the release film to a certain value or more, the mechanical strength of the film can be increased. On the other hand, by setting the thickness of the release film to a certain value or less, good followability can be easily obtained even for a complicatedly shaped mold.

本発明の離型フィルムを、例えばLEDの樹脂封止に用いられるような複雑な形状の金型に対しても良好に追従させるためには、離型フィルムの最表層に配置されたポリエステル樹脂層の結晶化度を低くすることが好ましい。結晶化度が低いフィルムは、適度な柔軟性を有すると考えられる。適度な柔軟性を有すると、金型追従性が良くなる。従って、離型フィルムの最表層に設けられる層の結晶化度が、金型追従性に影響する。具体的には、本発明のポリエステル樹脂層の結晶化度は、15%以上25%以下であることが好ましく、18%以上23%以下であることがより好ましい。   In order to allow the release film of the present invention to follow well with a mold having a complicated shape such as used for LED resin sealing, for example, a polyester resin layer disposed on the outermost layer of the release film It is preferable to lower the crystallinity of. A film having a low degree of crystallinity is considered to have moderate flexibility. When it has an appropriate flexibility, the mold following ability is improved. Therefore, the crystallinity of the layer provided on the outermost layer of the release film affects the mold followability. Specifically, the crystallinity of the polyester resin layer of the present invention is preferably 15% or more and 25% or less, and more preferably 18% or more and 23% or less.

離型フィルムの結晶化度は、広角X線回折法(XRD)により、以下の条件で測定されうる。
(測定装置および測定条件)
装置:(株)リガク製RINT2500
出力: 50kV−300mA
ターゲット:Cu(CuKα)
光学系:平行ビーム法光学系
測定速度:2°/min
測角範囲:2θ=5〜35°
樹脂の非晶質部分と結晶質部分の両方の回折ピークが現れる、2θ=7〜35°の回折角度におけるピークの積分強度から、下記式(2)にて結晶化度(%)を算出する。
結晶化度(χc)=(結晶質部分(2θ=16°、17°、20°、23°、25°の付近のピーク)の積分強度/非晶質と結晶質を含む部分(2θ=7〜35°)の積分強度)×100(%)・・・式(2)
The crystallinity of the release film can be measured by the wide angle X-ray diffraction method (XRD) under the following conditions.
(Measurement equipment and measurement conditions)
Apparatus: RINT2500 manufactured by Rigaku Corporation
Output: 50kV-300mA
Target: Cu (CuKα)
Optical system: Parallel beam method optical system Measurement speed: 2 ° / min
Angular measuring range: 2θ = 5-35 °
From the integrated intensity of the peak at a diffraction angle of 2θ = 7 to 35 ° at which diffraction peaks of both the amorphous part and the crystalline part of the resin appear, the crystallinity (%) is calculated by the following formula (2). .
Crystallinity (χc) = (Integral intensity of crystalline part (peaks near 2θ = 16 °, 17 °, 20 °, 23 °, 25 °) / part containing amorphous and crystalline (2θ = 7) Integral intensity of ˜35 °) × 100 (%) Expression (2)

離型フィルムが、ポリエステル樹脂層からなる単層フィルムである場合、当該離型フィルムをそのまま測定用サンプルとすればよい。一方、離型フィルムが、ポリエステル樹脂層と他の層とを含む積層フィルムである場合、ポリエステル樹脂層を剥離または切り出したものを測定用サンプルとすればよい。測定用サンプルを切り出す際は、ポリエステル樹脂層の厚み方向の全体を切り出す必要はなく、再現性が得られる程度の厚み方向の範囲を切り出せばよい。   When the release film is a single layer film made of a polyester resin layer, the release film may be used as a measurement sample as it is. On the other hand, when the release film is a laminated film including a polyester resin layer and other layers, a sample obtained by peeling or cutting the polyester resin layer may be used as a measurement sample. When cutting out the measurement sample, it is not necessary to cut out the entire thickness direction of the polyester resin layer, and it is sufficient to cut out a range in the thickness direction to the extent that reproducibility is obtained.

ポリエステル樹脂層の結晶化度は、主に製膜時のキャストロールの温度によって調整されうる。結晶化度を低くするためには、例えばキャストロールの温度を低くすることが好ましい。   The crystallinity of the polyester resin layer can be adjusted mainly by the temperature of the cast roll during film formation. In order to reduce the crystallinity, it is preferable to lower the temperature of the cast roll, for example.

一方で、ポリエステル樹脂層の結晶化度を低くすると、フィルム表面の柔軟性も増すことから、離型性が低下しやすい。これに対して本発明者らは、離型フィルムのポリエステル樹脂層の表面をATR測定して得られるFT−IRスペクトル(ATR−IRスペクトル)において、2910cm−1以上2930cm−1以下の領域の吸収ピークの強度が一定以上となる場合に、離型性が高まることを見出した。 On the other hand, when the crystallinity of the polyester resin layer is lowered, the flexibility of the film surface is increased, so that the releasability is likely to be lowered. In contrast, the inventors of the present invention have an absorption in the region of 2910 cm −1 or more and 2930 cm −1 or less in the FT-IR spectrum (ATR-IR spectrum) obtained by ATR measurement of the surface of the polyester resin layer of the release film. It has been found that the releasability is enhanced when the intensity of the peak is above a certain level.

2910cm−1以上2930cm−1以下の領域の吸収ピークは、ポリブチレンテレフタレートの主鎖を構成するメチレン鎖(アルキレン鎖)に由来する。そのため、2910cm−1以上2930cm−1以下の領域の吸収ピークの強度が一定以上であることは、ポリエステル樹脂層の表面にポリブチレンテレフタレートのアルキレン鎖(非極性部位)が露出している(配向している)ことを示すと考えられる。つまり、ポリエステル樹脂層の表面にポリブチレンテレフタレートのアルキレン鎖(非極性部位)を露出させる(配向させる)ことで、離型フィルムの離型性を高められることを見出した。 Absorption peak of 2910cm -1 or 2930 cm -1 The following region is from a methylene chain (alkylene chain) constituting the main chain of polybutylene terephthalate. Therefore, the intensity of the absorption peak in the region of 2910 cm −1 or more and 2930 cm −1 or less is greater than or equal to a certain level, which means that the alkylene chain (nonpolar site) of polybutylene terephthalate is exposed (oriented) on the surface of the polyester resin layer. It is thought that it shows. That is, it has been found that the release property of the release film can be enhanced by exposing (orienting) the alkylene chain (nonpolar site) of polybutylene terephthalate on the surface of the polyester resin layer.

具体的には、ポリエステル樹脂層の最表層をATR法により測定されるFT−IRスペクトル(ATR−IRスペクトル)において、2910cm−1以上2930cm−1以下の領域の吸収ピーク強度の最大値(最大吸収ピーク強度)をPa、2950cm−1以上2970cm−1以下の領域の吸収ピーク強度の最大値(最大吸収ピーク強度)をPbとしたとき、下記式(1)の関係を満たすことが好ましい。
0.6≦Pa/Pb≦2.0・・・ 式(1)
Specifically, in the FT-IR spectrum (ATR-IR spectrum) measured by the ATR method on the outermost layer of the polyester resin layer, the maximum absorption peak intensity (maximum absorption) in the region of 2910 cm −1 to 2930 cm −1. when the peak intensity) Pa, the maximum value of the absorption peak intensity of 2950 cm -1 or 2970cm -1 following areas (maximum absorption peak intensity) was Pb, it is preferable to satisfy the relation of the following formula (1).
0.6 ≦ Pa / Pb ≦ 2.0 Formula (1)

また、Pa/Pbは、0.7以上1.2以下の範囲であることがより好ましい。   Further, Pa / Pb is more preferably in the range of 0.7 to 1.2.

ATR−IRスペクトルは、フーリエ変換赤外分光光度計(日本分光(株)製、FT−IR8300)を用いて、ATR結晶をGeとし、赤外光入射角θを60°として、ATR測定を行うことにより得ることができる。   The ATR-IR spectrum is measured using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR8300, manufactured by JASCO Corporation), with the ATR crystal being Ge and the infrared light incident angle θ being 60 °. Can be obtained.

図1は、本発明の離型フィルムのATR-IRスペクトルの一例を示す図である。図1に示されるように、2910cm−1以上2930cm−1以下の領域に吸収ピークaが確認され、2950cm−1以上2970cm−1以下の領域に吸収ピークbが確認される。各波長領域での吸収ピークの強度は、ベースラインに対する吸収ピークの高さの最大値を読み取って得ることができる。ベースラインは、3050cm−1付近と2750cm−1付近の平坦部とを結んだ線とする(図1参照)。 FIG. 1 is a diagram showing an example of an ATR-IR spectrum of the release film of the present invention. As shown in FIG. 1, 2910cm -1 or 2930 cm -1 following areas in the absorption peak a is confirmed, the absorption peak b is confirmed in the following regions 2950 cm -1 or 2970cm -1. The intensity of the absorption peak in each wavelength region can be obtained by reading the maximum value of the absorption peak height with respect to the baseline. Baseline, the line connecting the flat portion in the vicinity of 3050 cm -1 and near 2750 cm -1 (see Figure 1).

ATR−IRスペクトルにおけるピーク強度比Pa/Pb;即ち、ポリエステル樹脂層の表面に露出するポリブチレンテレフタレートのアルキレン鎖の割合は、主に製膜時の溶融物とキャストロールとの密着強度や密着時間により調整されうる。   The peak intensity ratio Pa / Pb in the ATR-IR spectrum; that is, the proportion of the alkylene chain of the polybutylene terephthalate exposed on the surface of the polyester resin layer is mainly the adhesion strength and adhesion time between the melt and the cast roll during film formation. Can be adjusted.

例えば、溶融物がキャストロールに密着しすぎると、急冷されすぎるため、溶融物の表面エネルギーが十分には緩和されにくい。その結果、溶融物に含まれるポリブチレンテレフタレートのC=Oなどの極性部位が表面に露出し、アルキレン鎖などの非極性部位が表面に露出しにくくなり、2910cm−1以上2930cm−1以下の領域の吸収ピークaが生じにくい。これらのことから、ATR−IRスペクトルにおけるピーク強度比Pa/Pbを一定以上にする;即ち、ポリエステル樹脂層の表面にポリブチレンテレフタレートのアルキレン鎖を露出させやすくするためには、溶融物をキャストロール上で急冷させすぎないことが好ましい。具体的には、溶融物とキャストロールの密着強度を低くしたり(例えば密着方式をフリー方式またはエアーチャンバ−方式としたり);密着時間を短くしたり(例えばラインスピードを高くしたり)することが好ましい。 For example, if the melt is too close to the cast roll, it will be overcooled and the surface energy of the melt will not be sufficiently relaxed. As a result, polar sites such as C═O of polybutylene terephthalate contained in the melt are exposed on the surface, and nonpolar sites such as alkylene chains are difficult to be exposed on the surface, and the region is 2910 cm −1 or more and 2930 cm −1 or less. Absorption peak a is less likely to occur. For these reasons, the peak intensity ratio Pa / Pb in the ATR-IR spectrum is set to a certain level or higher; that is, in order to easily expose the polybutylene terephthalate alkylene chain on the surface of the polyester resin layer, the melt is cast roll. It is preferable not to cool too rapidly. Specifically, the adhesion strength between the melt and the cast roll is reduced (for example, the adhesion method is a free method or an air chamber method); the adhesion time is shortened (for example, the line speed is increased). Is preferred.

このように、ポリエステル樹脂層全体の結晶化度を低くしても、ATR−IRスペクトルの結果から示されるように、ポリエステル樹脂層の表面にポリブチレンテレフタレートのアルキレン鎖(非極性部位)を配向させることで、高い離型性を得ることができる。   As described above, even when the crystallinity of the entire polyester resin layer is lowered, as shown from the result of the ATR-IR spectrum, the alkylene chain (nonpolar site) of polybutylene terephthalate is oriented on the surface of the polyester resin layer. Thus, high releasability can be obtained.

また、本発明者らは、離型フィルムのポリエステル樹脂層の最表層をGIWAXS(Grazing Incidence Wide Angle X-ray (Neutron) Scattering)測定して得られる面外方向(Out of plane)の回折プロファイルにおいて特定のピークが存在する場合にも、離型性が高まることを見出した。   In addition, the inventors of the present invention have used a diffraction profile in the out-of-plane direction obtained by measuring the outermost layer of the polyester resin layer of the release film by GIWAXS (Grazing Incidence Wide Angle X-ray (Neutron) Scattering). It has been found that the releasability is enhanced even when a specific peak is present.

図2は、本発明の離型フィルムのポリエステル樹脂層の最表層をGIWAXS測定して得られるOut of plane(面外方向)の回折プロファイルの一例を示す図である。図2に示されるように、本発明の離型フィルムは、GIWAXS測定して得られる面外方向の回折プロファイルにおいて、フィルム面に平行な結晶格子面(100)に由来するピーク(q=16.4nm−1)を有する。 FIG. 2 is a diagram showing an example of an out-of-plane diffraction profile obtained by performing GIWAXS measurement on the outermost layer of the polyester resin layer of the release film of the present invention. As shown in FIG. 2, the release film of the present invention has a peak (q = 16.16) derived from a crystal lattice plane (100) parallel to the film plane in the diffraction profile in the out-of-plane direction obtained by GIWAXS measurement. 4 nm −1 ).

前述の広角X線回折法(XRD)の測定では、ポリエステル樹脂層全体の結晶性を知ることができるのに対し;GIWAXSの測定では、X線の入射角度を変えることで、深さ方向(厚み方向)の結晶性を知ることができる。これらのことから、ポリエステル樹脂層の最表層をGIWAXS測定で得られるOut of plane(面外方向)の回折プロファイルにおいて、フィルム面に平行な結晶格子面(100)と(010)に由来するピークが存在することは、ポリエステル樹脂層の最表層が、非晶性ではなく結晶性を有することを意味する。   In the above-mentioned wide-angle X-ray diffraction (XRD) measurement, the crystallinity of the entire polyester resin layer can be known; whereas in the GIWAXS measurement, the X-ray incident angle is changed to change the depth direction (thickness). Direction) crystallinity. From these, in the diffraction profile of the out of plane (out-of-plane direction) obtained by GIWAXS measurement on the outermost layer of the polyester resin layer, peaks derived from crystal lattice planes (100) and (010) parallel to the film plane Existence means that the outermost layer of the polyester resin layer is not amorphous but crystalline.

GIWAXS測定は、大型放射光施設SPring−8(兵庫県)高分子専用ビームラインBL03XUを用いて、入射角θ=0.08°、波長λ=0.1nmの条件で行うことができる。そして、得られる二次元の回折プロファイルから、Out of plane(面外方向)の一次元の回折プロファイルを得て、フィルム面に平行な結晶格子面(100)に由来するピークの有無を確認する。   GIWAXS measurement can be performed under the conditions of an incident angle θ = 0.08 ° and a wavelength λ = 0.1 nm using a large synchrotron radiation facility SPring-8 (Hyogo) polymer beam line BL03XU. Then, a one-dimensional diffraction profile of Out of plane (out-of-plane direction) is obtained from the obtained two-dimensional diffraction profile, and the presence or absence of a peak derived from the crystal lattice plane (100) parallel to the film surface is confirmed.

フィルム面に平行な結晶格子面(100)に由来するピークを生じさせるためには、前述と同様に、溶融物とキャストロールとの密着強度を低くしたり;密着時間を短くしたりすることによって調整されうる。   In order to generate a peak derived from the crystal lattice plane (100) parallel to the film surface, as described above, the adhesion strength between the melt and the cast roll is lowered; or the adhesion time is shortened. Can be adjusted.

離型フィルムの金型の形状に対する追従性を高めるためには、金型温度での貯蔵弾性率E’を調整することが好ましい。金型温度の代表例は、120℃であるため、120℃での貯蔵弾性率E’を目安とすることが好ましい。即ち、本発明の離型フィルムの120℃における貯蔵弾性率E’は、好ましくは30MPa以上200MPa以下であり、より好ましくは65MPa以上150MPa以下である。   In order to improve the followability of the release film to the mold shape, it is preferable to adjust the storage elastic modulus E 'at the mold temperature. Since a typical example of the mold temperature is 120 ° C., it is preferable to use the storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. as a guide. That is, the storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. of the release film of the present invention is preferably 30 MPa or more and 200 MPa or less, more preferably 65 MPa or more and 150 MPa or less.

離型フィルムの120℃における貯蔵弾性率E’が低すぎると、離型フィルムの機械的強度が十分でない可能性がある。一方、120℃における貯蔵弾性率E’が高すぎると、離型フィルムが硬すぎるため、金型の形状に沿って伸びきれず(追従しきれず)、皺が生じる可能性がある。   If the storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. of the release film is too low, the mechanical strength of the release film may not be sufficient. On the other hand, when the storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. is too high, the release film is too hard, so that it cannot be stretched along the shape of the mold (it cannot follow) and wrinkles may occur.

離型フィルムの貯蔵弾性率E’は、以下の方法に準拠して測定されうる。
動的粘弾性装置RSA−II(TA Instruments社製)を用いて、引張モード:振動周波数1Hz、測定速度:−80℃からサンプルが融解して測定不能になる温度まで、3℃/分の速度で昇温しながら、離型フィルムの搬送方向(MD方向)の弾性率を測定し、120℃における貯蔵弾性率E’を算出する。
The storage elastic modulus E ′ of the release film can be measured according to the following method.
Using a dynamic viscoelastic device RSA-II (manufactured by TA Instruments), tensile mode: vibration frequency 1 Hz, measurement speed: speed of 3 ° C./minute from −80 ° C. to a temperature at which the sample melts and becomes unmeasurable The elastic modulus in the conveyance direction (MD direction) of the release film is measured while raising the temperature at, and the storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. is calculated.

離型フィルムの、ポリエステル樹脂層表面の十点平均粗さRzJISは、0μm以上1.5μm以下であることが好ましい。RzJISを上記範囲とすることで、特にLEDの樹脂封止を行う際に、表面の平滑性が高く、集光性の高い封止体が得られやすい。   The ten-point average roughness RzJIS on the surface of the polyester resin layer of the release film is preferably 0 μm or more and 1.5 μm or less. By setting RzJIS within the above range, a sealing body with high surface smoothness and high light condensing properties can be easily obtained, particularly when performing LED resin sealing.

離型フィルムのポリエステル樹脂層の表面の十点平均粗さRzJISは、JIS−B0601に準拠した方法;具体的には、表面粗さ形測定機((株)東京精密社製、surfcom 130A)を用いて、測定長40mm、速度0.3mm/sにて測定されうる。   The ten-point average roughness RzJIS of the surface of the polyester resin layer of the release film is a method based on JIS-B0601; specifically, a surface roughness type measuring machine (surfcom 130A, manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.) It can be measured at a measurement length of 40 mm and a speed of 0.3 mm / s.

離型フィルムのポリエステル樹脂層の表面の十点平均粗さRzJISは、例えば、後述するフィルムの製造工程における、キャストロールやタッチロールの表面粗さなどによって調整されうる。   The ten-point average roughness RzJIS of the surface of the polyester resin layer of the release film can be adjusted by, for example, the surface roughness of a cast roll or a touch roll in the film production process described later.

本発明の離型フィルムの最表層に配置されるポリエステル樹脂層は、広角X線回折法(XRD)で測定される結晶化度が一定以下に調整されている。そのような離型フィルムは、最表層が適度な柔軟性を有するため、複雑な金型形状に対しても良好な金型追従性を示す。また、本発明の離型フィルムのポリエステル樹脂層の最表層の、ATR−IRスペクトルにおけるピーク強度比Pa/Pbが一定以上に調整されている。そのようなポリエステル樹脂層の表面には、ポリブチレンテレフタレートの主鎖を構成するアルキレン鎖(非極性部位)が多く露出しているため、良好な離型性を示す。このように、本発明の離型フィルムは、良好な金型追従性と離型性とを両立しうる。   The polyester resin layer disposed in the outermost layer of the release film of the present invention has a crystallinity measured by wide angle X-ray diffraction (XRD) adjusted to a certain level or less. In such a release film, since the outermost layer has an appropriate flexibility, the mold followability is good even for a complicated mold shape. Moreover, the peak intensity ratio Pa / Pb in the ATR-IR spectrum of the outermost layer of the polyester resin layer of the release film of the present invention is adjusted to a certain level or more. Since many alkylene chains (nonpolar sites) constituting the main chain of polybutylene terephthalate are exposed on the surface of such a polyester resin layer, good releasability is exhibited. Thus, the release film of the present invention can achieve both good mold followability and release properties.

2.離型フィルムの製造方法
本発明の離型フィルムは、任意の方法で製造することができ、例えば1)ポリエステル樹脂層を構成する樹脂組成物の溶融物と、必要に応じて他の層を構成する樹脂組成物の溶融物とを押し出す工程と、2)押し出された溶融物をキャストロール(冷却ロール)上で冷却固化する工程と、を経て得ることができる。
2. Production method of release film The release film of the present invention can be produced by any method. For example, 1) a melt of a resin composition constituting a polyester resin layer, and other layers as necessary It can be obtained through a step of extruding the melt of the resin composition to be performed, and 2) a step of cooling and solidifying the extruded melt on a cast roll (cooling roll).

以下、図3を参照しながら、ポリエステル樹脂層単層で構成される離型フィルム29を製造する例を説明する。   Hereinafter, an example of producing a release film 29 composed of a single polyester resin layer will be described with reference to FIG.

図3は、フィルムの製造装置の一部の例を示す模式図である。図3に示されるように、フィルムの製造装置20は、主に、ダイス21と、ダイス21から押し出された溶融物を挟圧しながら冷却するキャストロール23およびタッチロール25とを有する。   FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a part of a film manufacturing apparatus. As shown in FIG. 3, the film manufacturing apparatus 20 mainly includes a die 21, and a cast roll 23 and a touch roll 25 that cool the molten product pushed out from the die 21 while pinching it.

1)の工程では、ポリエステル樹脂層を構成する樹脂組成物を、溶融押出機で溶融混練して溶融物とする。そして、得られた溶融物をダイスからフィルム状に押し出す。積層フィルムを製造する場合は、フィードブロック方式、マルチホールドダイ方式、デュアルスロットダイ方式などを採用しうる。   In the step 1), the resin composition constituting the polyester resin layer is melt-kneaded with a melt extruder to obtain a melt. And the obtained melt is extruded to a film form from a die. When manufacturing a laminated film, a feed block method, a multi-hold die method, a dual slot die method, or the like can be adopted.

2)の工程では、押し出された溶融物を、キャストロール23とタッチロール25とで狭圧しながら固化して、離型フィルムを得る。   In the step 2), the extruded melt is solidified while being narrowed by the cast roll 23 and the touch roll 25 to obtain a release film.

キャストロール23は、金属ロールであることが好ましい。タッチロール25は、可とう性を有する薄肉金属外筒を有するフレキシブルロールなどでありうる。   The cast roll 23 is preferably a metal roll. The touch roll 25 may be a flexible roll having a thin metal outer cylinder having flexibility.

離型フィルムの結晶化度は、主にキャストロール23の温度によって調整されうる。キャストロール23の温度は、溶融物の成形温度(溶融温度)、キャストロール23と溶融物との密着強度、フィルム製造装置の種類などにもよるが、例えば15℃以上60℃未満とすることが好ましく、15℃以上40℃以下とすることがより好ましい。キャストロール23の温度が高すぎると冷却が不十分となりやすい。そのため、得られる離型フィルムの結晶化度が高くなり、金型追従性が低下するおそれがある。   The crystallinity of the release film can be adjusted mainly by the temperature of the cast roll 23. The temperature of the cast roll 23 depends on, for example, the molding temperature (melting temperature) of the melt, the adhesion strength between the cast roll 23 and the melt, the type of film production apparatus, and the like. Preferably, the temperature is 15 ° C. or more and 40 ° C. or less. If the temperature of the cast roll 23 is too high, the cooling tends to be insufficient. For this reason, the degree of crystallinity of the obtained release film is increased, and the mold followability may be lowered.

離型フィルムの最表層のATR−IRスペクトルにおけるピーク強度比Pa/Pbは、主にキャストロール23の温度、キャストロール23とフィルム状の溶融物との密着強度や密着時間(ラインスピード)によって調整され;特にキャストロール23とフィルム状の溶融物との密着強度によって調整されうる。   The peak intensity ratio Pa / Pb in the ATR-IR spectrum of the outermost layer of the release film is mainly adjusted by the temperature of the cast roll 23, the adhesion strength between the cast roll 23 and the film-like melt, and the adhesion time (line speed). In particular, it can be adjusted by the adhesion strength between the cast roll 23 and the film-like melt.

即ち、キャストロール23とフィルム状の溶融物とを密着させすぎると、溶融物がキャストロール23上で急冷されすぎて溶融物の表面エネルギーが十分には緩和されにくい。その結果、得られる離型フィルムの表面には、ポリブチレンテレフタレートのアルキレン鎖(非極性部位)が露出しにくく、ATR−IRスペクトルにおけるピーク強度比Pa/Pbが低くなりやすい。そのため、キャストロール23とフィルム状の溶融物との密着強度は、キャストロール23の温度にもよるが、低めにすることが好ましく、例えば強制的に密着させない方式(フリー方式)や;溶融物の表面にエアーを当てて密着させる方式(エアーチャンバー方式)などを採用することが好ましい。   That is, if the cast roll 23 and the film-like melt are brought into close contact with each other, the melt is excessively cooled on the cast roll 23, and the surface energy of the melt is not sufficiently relaxed. As a result, the alkylene chain (nonpolar site) of polybutylene terephthalate is hardly exposed on the surface of the obtained release film, and the peak intensity ratio Pa / Pb in the ATR-IR spectrum tends to be low. Therefore, although the adhesion strength between the cast roll 23 and the film-like melt depends on the temperature of the cast roll 23, it is preferable to make it low, for example, a system that does not forcibly adhere (free system); It is preferable to adopt a method (air chamber method) or the like in which air is applied to the surface and closely adhered.

製膜時のラインスピードは、高めにすることが好ましく、10〜30m/分であることが好ましい。ラインスピードが低すぎると、生産効率が低いだけでなく、溶融物にキャストロールの温度が伝わりやすい(急冷されすぎる)。そのため、ATR−IRスペクトルにおけるピーク強度比Pa/Pbが低くなり;ポリブチレンテレフタレートのアルキレン鎖をフィルム表面に露出させにくくなる。   The line speed during film formation is preferably increased and is preferably 10 to 30 m / min. If the line speed is too low, not only is the production efficiency low, but the temperature of the cast roll is easily transmitted to the melt (too rapidly cooled). Therefore, the peak intensity ratio Pa / Pb in the ATR-IR spectrum is lowered; it is difficult to expose the alkylene chain of polybutylene terephthalate on the film surface.

キャストロール23の表面粗さは、得られる離型フィルムの表面(好ましくは被成形物と接する面)のRzJISが前述の範囲となるように調整されればよい。   The surface roughness of the cast roll 23 may be adjusted so that the RzJIS of the surface of the release film to be obtained (preferably the surface in contact with the object to be molded) is in the above range.

タッチロール25の温度は、キャストロール23の温度と同様としうる。タッチロール25の表面粗さは、得られる離型フィルムの他方の表面のRzJISが前述の範囲となるように調整されればよい。   The temperature of the touch roll 25 can be the same as the temperature of the cast roll 23. The surface roughness of the touch roll 25 should just be adjusted so that RzJIS of the other surface of the release film obtained may become the above-mentioned range.

キャストロール23とタッチロール25とで挟圧しながら固化して得られたフィルムは、必要に応じて他のロール27などでさらに搬送してもよい。それにより、ポリエステル樹脂層単層で構成される離型フィルム29を得ることができる。   The film obtained by solidification while being sandwiched between the cast roll 23 and the touch roll 25 may be further conveyed by another roll 27 or the like as necessary. Thereby, the release film 29 comprised by the polyester resin layer single layer can be obtained.

3.離型フィルムを用いた金型成形方法
本発明の離型フィルムは、金型成形用の離型フィルムとして用いられ、なかでも半導体素子の封止体を製造するときの離型フィルムとして好ましく用いられる。
3. Die Molding Method Using Release Film The release film of the present invention is used as a release film for mold molding, and is particularly preferably used as a release film for producing a semiconductor element sealing body. .

即ち、本発明の半導体素子の封止体の製造方法は、離型フィルムを成形用の金型に配置する第一の工程と、金型内に半導体素子を実装した基板を配置する第二の工程と、金型内に封止樹脂を充填して型締めし、封止樹脂を硬化させて半導体素子の封止体を得る第三の工程と、得られた半導体素子の封止体を離型フィルムから剥離する第四の工程とを含む。   That is, the manufacturing method of the semiconductor element sealing body of the present invention includes a first step of disposing a release film in a molding die and a second step of disposing a substrate on which the semiconductor element is mounted in the mold. Separating the process, the third step of filling the mold with a sealing resin and clamping the mold to cure the sealing resin to obtain a semiconductor element sealing body; and the obtained semiconductor element sealing body. And a fourth step of peeling from the mold film.

半導体素子は、好ましくは発光素子または受光素子であり、より好ましくはLEDチップでありうる。   The semiconductor element is preferably a light emitting element or a light receiving element, and more preferably an LED chip.

図4A〜4Eは、LEDの封止体の製造工程の一例を示す模式図である。図4Aに示されるように、上金型33a、および所定形状のキャビティ32が形成された下金型33bからなる成形用の金型33の下金型33bに、離型フィルム31を配置する。   4A to 4E are schematic views illustrating an example of a manufacturing process of an LED sealing body. As shown in FIG. 4A, a release film 31 is placed on a lower mold 33b of a molding mold 33 including an upper mold 33a and a lower mold 33b in which a cavity 32 having a predetermined shape is formed.

離型フィルム31が、ポリブチレンテレフタレートを含むポリエステル樹脂層(離型層A)を含む積層フィルムである場合、離型層Aとは反対側の面が、下金型33bの内面に接し;離型層Aが、後述の封止樹脂39と接するように配置する。そして、下金型33bに配置された離型フィルム31は、例えば吸引等の操作によって下金型33bの内面に密着させる。吸引時の金型温度は、例えば金型成形時と同様の温度としうる(第一の工程)。   When the release film 31 is a laminated film including a polyester resin layer (release layer A) containing polybutylene terephthalate, the surface opposite to the release layer A is in contact with the inner surface of the lower mold 33b; The mold layer A is disposed so as to contact a sealing resin 39 described later. And the release film 31 arrange | positioned at the lower metal mold | die 33b is closely_contact | adhered to the inner surface of the lower metal mold | die 33b, for example by operation, such as attraction | suction. The mold temperature at the time of suction may be, for example, the same temperature as at the time of mold molding (first step).

LEDの封止体を製造するためのキャビティ32は、直径0.5〜3mm程度の半球状あるいはそれに類似する形状である。即ち、従来の半導体素子の封止体を製造するための金型に比して、LEDの封止体を製造するための金型は、上金型33aと下金型33bとのパーティング面からキャビティ32の最深部までの段差(ギャップ)が大きい。   The cavity 32 for manufacturing the LED sealing body has a hemispherical shape with a diameter of about 0.5 to 3 mm or a similar shape. That is, as compared with a mold for manufacturing a sealing body of a conventional semiconductor element, a mold for manufacturing an LED sealing body is a parting surface between an upper mold 33a and a lower mold 33b. To the deepest part of the cavity 32 is large.

なお、上金型33aには、複数のLED37を実装した基板35を配置する(第二の工程)。基板35は、セラミクス基板、シリコン基板、金属基板、ポリイミド樹脂などの樹脂基板でありうる。   In addition, the board | substrate 35 which mounted several LED37 is arrange | positioned at the upper metal mold | die 33a (2nd process). The substrate 35 can be a ceramic substrate, a silicon substrate, a metal substrate, a resin substrate such as a polyimide resin.

次に、図4Bに示されるように、上金型33aと離型フィルム31を介した下金型33bとの間に、被成形材料として封止樹脂39を充填する。封止樹脂39は、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂でありうる。なかでも、硬化物が透明である樹脂が好ましく、LEDの封止体の製造に好適であることなどから、好ましくはシリコーン樹脂である。シリコーン樹脂は、芳香族系シリコーン樹脂または脂肪族系シリコーン樹脂でありうる。   Next, as shown in FIG. 4B, a sealing resin 39 is filled as a molding material between the upper mold 33 a and the lower mold 33 b through the release film 31. The sealing resin 39 can be a thermosetting resin such as a silicone resin or an epoxy resin. Among these, a resin having a transparent cured product is preferable, and a silicone resin is preferable because it is suitable for manufacturing an LED encapsulant. The silicone resin may be an aromatic silicone resin or an aliphatic silicone resin.

その後、図4Cに示されるように、金型33内に充填した封入樹脂39内に、LED37を配置して型締めする。型締め時の圧力は、特に限定されないが、1.0〜10.0MPa程度である。また、型締め時の温度も、特に限定されないが、110〜190℃程度とすればよい。   Thereafter, as shown in FIG. 4C, the LED 37 is placed in the encapsulating resin 39 filled in the mold 33 and the mold is clamped. Although the pressure at the time of mold clamping is not specifically limited, it is about 1.0-10.0 MPa. Moreover, the temperature at the time of mold clamping is not particularly limited, but may be about 110 to 190 ° C.

そして、所定の条件で封止樹脂39を硬化させる。硬化時の金型温度は、封止樹脂39の種類に応じて調整されうる。例えば、封止樹脂39としてシリコーン樹脂を用いた場合は、通常、80〜160℃あり;エポキシ樹脂を用いた場合は、通常、150〜200℃である(第三の工程)。   Then, the sealing resin 39 is cured under predetermined conditions. The mold temperature at the time of curing can be adjusted according to the type of the sealing resin 39. For example, when a silicone resin is used as the sealing resin 39, the temperature is usually 80 to 160 ° C .; when an epoxy resin is used, the temperature is usually 150 to 200 ° C. (third step).

その後、図4Dに示されるように、金型33を型開きする。離型フィルム31は、離型性に優れるため、金型33(上金型33a及び下金型33b)や封止樹脂39から容易に離型することができる。以上の操作により、図4Eに示されるようなLEDの封止体40を得ることができる(第四の工程)。   Thereafter, as shown in FIG. 4D, the mold 33 is opened. Since the release film 31 is excellent in releasability, it can be easily released from the mold 33 (upper mold 33a and lower mold 33b) and the sealing resin 39. Through the above operation, an LED sealing body 40 as shown in FIG. 4E can be obtained (fourth step).

本発明の離型フィルムは、ポリブチレンテレフタレートを含むポリエステル樹脂層を含み、該ポリエステル樹脂層の広角X線回折法(XRD)により測定される結晶化度が一定以下に調整されている。そのため、前述の第一の工程で離型フィルムを金型の内面に固定する際や、第三の工程で金型成形を行う際(特に第三の工程で金型成形を行う際)に、離型フィルムが適度に柔軟であるため、破れや皺などを生じることなく、金型の複雑な形状に沿って良好に追従しうる。   The release film of the present invention includes a polyester resin layer containing polybutylene terephthalate, and the crystallinity of the polyester resin layer measured by wide-angle X-ray diffraction (XRD) is adjusted to a certain level or less. Therefore, when fixing the release film to the inner surface of the mold in the first process described above, or when performing mold molding in the third process (particularly when performing mold molding in the third process), Since the release film is moderately flexible, it can follow well along the complex shape of the mold without tearing or wrinkling.

また、本発明の離型フィルムのポリエステル樹脂層の表面には、ポリブチレンテレフタレートのアルキレン鎖(非極性部位)が多く露出している(ATR−IRスペクトルにおけるピーク強度比が一定以上に調整されている)。そのため、本発明の離型フィルムは、柔軟性を有しつつも、フィルム表面の離型性が高められている。特に封止樹脂がシリコーン樹脂;好ましくは脂肪族シリコーン樹脂である場合においても、良好な離型性を有しうる。それにより、成形後に得られる封止体を、離型フィルムから容易に剥離することができる。   In addition, a lot of alkylene chains (nonpolar sites) of polybutylene terephthalate are exposed on the surface of the polyester resin layer of the release film of the present invention (the peak intensity ratio in the ATR-IR spectrum is adjusted to a certain level or more). ) Therefore, the mold release film of the present invention has improved mold release properties on the film surface while having flexibility. In particular, even when the sealing resin is a silicone resin; preferably an aliphatic silicone resin, it can have good releasability. Thereby, the sealing body obtained after shaping | molding can be easily peeled from a release film.

本発明の離型フィルムを用いた金型成形方法を、LEDの封止体の製造方法の例で説明したが、これに限定されず、成形金型を用いた各種成形方法に好ましく使用できる。また、本発明の離型フィルムは、前述の成形方法に限らず、通常の半導体素子の封止に適用されるトランスファー成形などの成形方法にも用いることができる。   Although the mold forming method using the release film of the present invention has been described in the example of the method for producing an LED encapsulant, it is not limited to this and can be preferably used in various molding methods using a mold. Moreover, the release film of the present invention is not limited to the above-described molding method, and can also be used in a molding method such as transfer molding applied to sealing of a normal semiconductor element.

以下において、実施例を参照して本発明をより詳細に説明する。これらの実施例によって、本発明の範囲は限定して解釈されない。   In the following, the invention will be described in more detail with reference to examples. These examples do not limit the scope of the present invention.

1.離型フィルムの材料
ノバデュラン5020:ポリブチレンテレフタレート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチック株式会社製、非強化HBグレード押出用、Tm:224℃)
ノバデュラン5010CS:ポリブチレンテレフタレート樹脂(三菱エンジニアリングプラスチック株式会社製、Tm:223℃)
1. Release film material Novaduran 5020: Polybutylene terephthalate resin (Mitsubishi Engineering Plastics, non-reinforced HB grade extrusion, Tm: 224 ° C)
NOVADURAN 5010CS: Polybutylene terephthalate resin (Mitsubishi Engineering Plastics, Tm: 223 ° C)

2.離型フィルムの作製
(実施例1)
ノバデュラン5020を、押出機にて270℃(成形温度)で溶融可塑化させた後、Tダイスからキャストロール上に押出成形して、厚み50μmの離型フィルム1を得た。キャストロールの温度は40℃とし、キャストロールの密着はフリーとした。
2. Production of release film (Example 1)
Novaduran 5020 was melt-plasticized at 270 ° C. (molding temperature) with an extruder and then extruded from a T-die onto a cast roll to obtain a release film 1 having a thickness of 50 μm. The temperature of the cast roll was 40 ° C., and the close contact of the cast roll was free.

(実施例2〜3、比較例1)
離型フィルムの材料、成形温度、キャストロールの温度を表1に示されるように変更し、かつ溶融物とキャストロールとの密着をエアーチャンバ−方式で行った以外は実施例1と同様にして離型フィルム2〜4を得た。エアーチャンバ−方式による溶融物とキャストロールとの密着は、溶融物の表面から風圧6.1×10−2MPaのエアーを当てることにより行った。
(Examples 2-3, Comparative Example 1)
The material of the release film, the molding temperature, and the temperature of the cast roll were changed as shown in Table 1, and the adhesion between the melt and the cast roll was performed in the same manner as in Example 1 except that the adhesion was performed by the air chamber method. Release films 2 to 4 were obtained. Adhesion between the melt and the cast roll by the air chamber method was performed by applying air having a wind pressure of 6.1 × 10 −2 MPa from the surface of the melt.

(比較例2〜4)
離型フィルムの材料、成形温度、キャストロールの温度を表1に示されるように変更し、かつ溶融物とキャストロールとの密着を静電気ピニング方式で行った以外は実施例1と同様にして離型フィルム5〜7を得た。静電気ピニング方式による溶融物とキャストロールとの密着は、溶融物に4〜5Vの静電気を印加することにより行った。
(Comparative Examples 2 to 4)
The release film material, the molding temperature, and the cast roll temperature were changed as shown in Table 1 and the melt and the cast roll were adhered by the electrostatic pinning method. Mold films 5 to 7 were obtained. The adhesion between the melt and the cast roll by the electrostatic pinning method was performed by applying 4 to 5 V static electricity to the melt.

(比較例5)
比較例4で製膜した離型フィルム7を、さらに90℃で30分間熱処理して離型フィルム7’を得た。
(Comparative Example 5)
The release film 7 formed in Comparative Example 4 was further heat-treated at 90 ° C. for 30 minutes to obtain a release film 7 ′.

(比較例6)
積水化学工業株式会社製FPC用離型フィルム RPフィルム(主成分:ポリブチレンテレフタレート、厚み:50μm)を離型フィルム8として準備した。
(Comparative Example 6)
A release film for FPC manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. An RP film (main component: polybutylene terephthalate, thickness: 50 μm) was prepared as a release film 8.

得られた離型フィルムの、1)XRDによる結晶化度、および2)ATR−IRスペクトルにおけるピーク強度比を、以下の方法で測定した。   The obtained release film was measured for 1) crystallinity by XRD, and 2) peak intensity ratio in ATR-IR spectrum by the following methods.

(XRDによる結晶化度)
得られた離型フィルムを30mm×30mmに切断し、下記の装置および条件にて、広角X線回折法(XRD)による結晶化度を測定した。
装置:リガク製RINT2500
出力:50kV−300mA
ターゲット:Cu(CuKα)
光学系:平行ビーム法光学系
測定速度:2°/min
測角範囲:2θ=5〜35°
樹脂の非晶質部分と結晶質部分の両方の回折ピークが現れる、2θ=7〜35°の回折角度におけるピークの積分強度から、下記式(2)にて結晶化度(%)を算出した。
結晶化度(χc)=(結晶質部分(2θ=16°、17°、20°、23°、25°の付近のピーク)の積分強度/非晶質と結晶質を含む部分(2θ=7〜35°)の積分強度)×100(%)・・・式(2)
(Crystallinity by XRD)
The obtained release film was cut into 30 mm × 30 mm, and the degree of crystallinity by wide angle X-ray diffraction (XRD) was measured with the following apparatus and conditions.
Device: Rigaku RINT2500
Output: 50kV-300mA
Target: Cu (CuKα)
Optical system: Parallel beam method optical system Measurement speed: 2 ° / min
Angular measuring range: 2θ = 5-35 °
From the integrated intensity of the peak at the diffraction angle of 2θ = 7 to 35 ° at which diffraction peaks of both the amorphous part and the crystalline part of the resin appear, the crystallinity (%) was calculated by the following formula (2). .
Crystallinity (χc) = (Integral intensity of crystalline part (peaks near 2θ = 16 °, 17 °, 20 °, 23 °, 25 °) / part containing amorphous and crystalline (2θ = 7) Integral intensity of ˜35 °) × 100 (%) Expression (2)

(ATR−IRスペクトルにおけるピーク強度比)
フーリエ変換赤外分光光度計(日本分光社(株)製、FT−IR8300)を使用して、ATR測定を行い、FT−IRスペクトル(ATR−IRスペクトル)を得た。ATR結晶はGeとし、赤外光入射角θは60°とした。ベースラインは、3050cm−1付近と2750cm−1付近の平坦部とを結んだ線とした(図1参照)。そして、所定の波長におけるピークの、ベースラインからの高さを読み取って、ピーク強度を求めた。具体的には、2910cm−1以上2930cm−1以下の領域の最大吸収ピーク強度Pa、2950cm−1以上2970cm−1以下の領域の最大吸収ピーク強度Pbをそれぞれ読み取り、ピーク強度比(Pa/Pb)を算出した。
(Peak intensity ratio in ATR-IR spectrum)
ATR measurement was performed using a Fourier transform infrared spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, FT-IR8300) to obtain an FT-IR spectrum (ATR-IR spectrum). The ATR crystal was Ge, and the infrared light incident angle θ was 60 °. Baseline was the line connecting the flat portion in the vicinity of 3050 cm -1 and near 2750 cm -1 (see Figure 1). Then, the peak intensity was obtained by reading the height of the peak at a predetermined wavelength from the baseline. Specifically, reading the maximum absorption peak intensity of 2910cm -1 or 2930 cm -1 following areas Pa, 2950 cm -1 or 2970cm -1 The following maximum absorption peak intensity Pb regions respectively, the peak intensity ratio (Pa / Pb) Was calculated.

さらに、得られた離型フィルムを用いて、以下の方法でLEDの封止体を製造したときの、離型フィルムの金型追従性と離型性を、以下の方法で評価した。   Furthermore, using the obtained release film, the mold following property and release property of the release film when an LED sealing body was produced by the following method were evaluated by the following methods.

(金型追従性)
図5A〜5Eに示すように、簡易レンズ評価金型にてレンズを成形した。まず、金型内面に、半径1.25mmの半球状の孔100個と、半径0.9mmの半球状の孔300個とがそれぞれ均等な間隔で配置された下金型64を準備した。次いで、離型フィルム67を、下金型64の内面に配置し、外枠65で固定した(図5A参照)。次いで、金型側面部に加工されたスリット部(図示なし)から真空引きを行い、離型フィルム67を下金型64のレンズ形状に追従させた(図5B参照)。真空引きの際の金型温度は120℃とした。
(Mold followability)
As shown in FIGS. 5A to 5E, lenses were molded using a simple lens evaluation mold. First, a lower mold 64 was prepared in which 100 hemispherical holes with a radius of 1.25 mm and 300 hemispherical holes with a radius of 0.9 mm were arranged on the inner surface of the mold at equal intervals. Next, the release film 67 was disposed on the inner surface of the lower mold 64 and fixed with the outer frame 65 (see FIG. 5A). Next, evacuation was performed from a slit portion (not shown) processed on the side surface portion of the mold, and the release film 67 was made to follow the lens shape of the lower mold 64 (see FIG. 5B). The mold temperature during evacuation was 120 ° C.

一方、上金型61には、ポリイミドテープ(厚さ:50ミクロン)を貼付したステンレス板62(厚さ:1mm)を配置した。ステンレス板62の平面寸法は200×78mmであり;離型フィルム67の平面寸法は200×300mmであり;下金型64の平面寸法は46×88mmであった。   On the other hand, a stainless steel plate 62 (thickness: 1 mm) to which a polyimide tape (thickness: 50 microns) was attached was disposed on the upper mold 61. The planar dimension of the stainless steel plate 62 was 200 × 78 mm; the planar dimension of the release film 67 was 200 × 300 mm; and the planar dimension of the lower mold 64 was 46 × 88 mm.

次いで、離型フィルム67上に、シリンジにて封止樹脂63としてシリコーン樹脂(東レダウ・コーニング製OE6636(芳香族系シリコーン樹脂))を1.4mL測量注入した(図5C参照)。   Next, 1.4 mL of a silicone resin (OE6636 (aromatic silicone resin) manufactured by Toray Dow Corning) as a sealing resin 63 was measured and injected onto the release film 67 with a syringe (see FIG. 5C).

次いで、20t油圧成形機(東邦マシナリー社製、図示なし)を使用して上下方向に圧縮した(図5D参照)。圧縮条件は、温度:120℃、圧力:91kgf/cm(3MPa)、圧縮時間:5分間とした。この圧縮により、離型フィルム67が、下金型64の孔の形状に追従して延伸されるとともに、延伸されて形成された離型フィルム67の孔に、液状シリコーン樹脂が侵入し、加熱硬化反応によってシリコーン樹脂でできた半球形状のレンズ(封止体)が成形された。 Subsequently, it compressed in the up-down direction using the 20t hydraulic molding machine (the Toho Machinery company make, illustration not shown) (refer FIG. 5D). The compression conditions were temperature: 120 ° C., pressure: 91 kgf / cm 2 (3 MPa), and compression time: 5 minutes. By this compression, the release film 67 is stretched following the shape of the hole of the lower mold 64, and the liquid silicone resin enters the holes of the release film 67 formed by stretching, and is heated and cured. A hemispherical lens (sealing body) made of silicone resin was molded by the reaction.

次いで、金型を解放して離型フィルムを剥離後、成形されたレンズ88を取り出した(図5E参照)。そして、得られたレンズ88の表面状態(皺の有無)を、光学顕微鏡(キーエンスマイクロスコープVHX−1000/1100)を用いて倍率:100倍で観察し、金型追従性を以下の基準で評価した。
○:レンズ表面に、離型フィルムから転写された皺が観測されない
×:レンズ表面に、離型フィルムから転写された皺が観測される
Next, after releasing the mold and peeling off the release film, the molded lens 88 was taken out (see FIG. 5E). And the surface state (presence or absence of wrinkles) of the obtained lens 88 is observed at a magnification of 100 times using an optical microscope (Keyence microscope VHX-1000 / 1100), and the mold following property is evaluated according to the following criteria. did.
○: No wrinkles transferred from the release film are observed on the lens surface ×: Wrinkles transferred from the release film are observed on the lens surface

(離型性)
LEDの封止体を成形後、型開き時に離型フィルムの、封止体からの剥がれ易さを目視観察し、離型性を以下の基準で評価した。
◎:成形後、型開き時に離型フィルムが伸びずに離型する
○:成形後、型開き時にやや離型フィルムが伸びるが、離型する
×:離型フィルムが封止体(レンズ)がくっついて離型しない
(Releasability)
After molding the LED sealing body, the ease of peeling of the release film from the sealing body was visually observed when the mold was opened, and the mold release property was evaluated according to the following criteria.
◎: After molding, the mold release film does not stretch when the mold is opened ○: After mold, the mold release film is slightly stretched when the mold is opened, but the mold is released ×: The mold release film is a sealing body (lens) Stick and don't release

シリコーン樹脂である、東レダウ・コーニング製OE6636(芳香族系シリコーン樹脂)を、信越化学株式会社製LPS3412またはKER2500(いずれも脂肪族系シリコーン樹脂)にそれぞれ変更した以外は、前述と同様にして離型フィルムの金型追従性および離型性を評価した。ただし、信越化学株式会社製KER2500を用いるときの圧縮条件は、温度:120℃、圧縮時間:3分間とした。   OE6636 (aromatic silicone resin) manufactured by Toray Dow Corning, which is a silicone resin, was changed to LPS3412 or KER2500 (both aliphatic silicone resins) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., respectively. The mold followability and releasability of the mold film were evaluated. However, the compression conditions when using KER2500 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. were temperature: 120 ° C., compression time: 3 minutes.

これらの評価結果を表1に示す。表中のCRは、キャストロールを示す。

Figure 0006126446
These evaluation results are shown in Table 1. CR in the table indicates a cast roll.
Figure 0006126446

実施例1〜3の離型フィルムは、良好な追従性と離型性を両立できることがわかる。特に離型性は、封止樹脂の種類によらず良好であることがわかる。これに対して、比較例1〜6の離型フィルムは、(特に封止樹脂として信越化学株式会社製LPS3412またはKER2500を用いた場合に)良好な追従性と離型性とを両立できないことがわかる。   It can be seen that the release films of Examples 1 to 3 can achieve both good followability and release properties. In particular, it can be seen that the releasability is good regardless of the type of sealing resin. On the other hand, the release films of Comparative Examples 1 to 6 cannot achieve both good followability and release properties (particularly when LPS3412 or KER2500 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. is used as the sealing resin). Recognize.

具体的には、比較例2と4の離型フィルムは、溶融物とキャストロールとが密着しすぎることから、ATR−IRスペクトルにおけるピーク強度比Pa/Pbが低く、離型性が低いことがわかる。これは、溶融物がキャストロール上で急冷されすぎて、フィルム表面に露出するポリブチレンテレフタレートのアルキレン鎖(非極性部位)の割合が減少したためと考えられる。また、比較例1と3の離型フィルムは、キャストロールの温度が比較的高いことから、結晶化度が高く、追従性が低いことがわかる。また、比較例3の離型フィルムは、溶融物とキャストロールとが密着しすぎることから、ATR−IRスペクトルにおけるピーク強度比Pa/Pbも低く、離型フィルムの表面にポリブチレンテレフタレートのアルキレン鎖(非極性部位)の露出が少ないことがわかる。   Specifically, in the release films of Comparative Examples 2 and 4, since the melt and the cast roll are too closely adhered, the peak intensity ratio Pa / Pb in the ATR-IR spectrum is low and the release property is low. Recognize. This is thought to be because the proportion of the alkylene chains (nonpolar sites) of the polybutylene terephthalate exposed on the film surface was reduced because the melt was overcooled on the cast roll. Moreover, since the release film of Comparative Examples 1 and 3 has a relatively high cast roll temperature, it can be seen that the crystallinity is high and the followability is low. In addition, since the release film of Comparative Example 3 is too close to the melt and the cast roll, the peak intensity ratio Pa / Pb in the ATR-IR spectrum is low, and the polybutylene terephthalate alkylene chain on the surface of the release film. It can be seen that there is little exposure of (nonpolar part).

比較例5の離型フィルムは、後熱処理によりフィルム全体の結晶化度が高くなるため、追従性が低いことがわかる。また、比較例5の離型フィルムは、フィルム全体の結晶化度は比較的高いものの、フィルム表面の結晶化度が選択的に高められてはいないため、十分な離型性が得られないことがわかる。   It can be seen that the release film of Comparative Example 5 has low followability because the crystallinity of the entire film is increased by post-heat treatment. Further, the release film of Comparative Example 5 has a relatively high crystallinity of the whole film, but the crystallinity of the film surface is not selectively increased, so that sufficient release properties cannot be obtained. I understand.

本発明によれば、複雑な形状の金型に対しても良好な追従性を有し、かつ良好な離型性を有する離型フィルムを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can provide the mold release film which has favorable followable | trackability also to the metal mold | die of a complicated shape, and has favorable mold release property.

29、31、67 離型フィルム
20 フィルムの製造装置
21 ダイス
23 キャストロール
25 タッチロール
27 ロール
32、66 キャビティ
33 金型
33a、61 上金型
33b、64 下金型
35 基板
37 LED
39、63 封止樹脂
40 LEDの封止体
62 ステンレス板
65 外枠
88 レンズ(封止体)

29, 31, 67 Release film 20 Film production device 21 Die 23 Cast roll 25 Touch roll 27 Roll 32, 66 Cavity 33 Mold 33a, 61 Upper mold 33b, 64 Lower mold 35 Substrate 37 LED
39, 63 Sealing resin 40 LED sealing body 62 Stainless steel plate 65 Outer frame 88 Lens (sealing body)

Claims (5)

ポリブチレンテレフタレートを含むポリエステル樹脂層(但し、炭素数18以上の脂肪酸、多価アルコールの脂肪酸エステル、脂肪酸金属塩、脂肪酸アミド及び変性タイプポリオレフィン環ワックスからなる群より選ばれる融点60℃以上の官能基を有する離型剤(B−1)、又は融点100℃以上のポリオレフィン樹脂(B−2)を含む態様を除く)の単層フィルムからなる、LED素子の樹脂封止に用いられる離型フィルムであって、
前記ポリエステル樹脂層の、広角X線回折法(XRD)により測定される結晶化度が15%以上25%以下であり、
前記ポリエステル樹脂層の最表層を、ATR法により、ATR結晶としてGeを用い、赤外光入射角を60°として測定して得られるFT−IRスペクトルにおいて、2910cm−1以上2930cm−1以下の領域の最大吸収ピーク強度をPa、2950cm−1以上2970cm−1以下の領域の最大吸収ピーク強度をPbとしたときに、下記式(1)の関係を満たし、
0.6≦Pa/Pb≦2.0・・・ 式(1)
前記離型フィルムの厚みが20〜100μmである、離型フィルム。
Polyester resin layer containing polybutylene terephthalate (however, a functional group having a melting point of 60 ° C. or more selected from the group consisting of fatty acids having 18 or more carbon atoms, fatty acid esters of polyhydric alcohols, fatty acid metal salts, fatty acid amides and modified type polyolefin ring waxes) A release film used for resin sealing of LED elements, comprising a single layer film of a release agent (B-1) having a melting point or a polyolefin resin (B-2) having a melting point of 100 ° C. or higher). There,
The degree of crystallinity of the polyester resin layer measured by wide angle X-ray diffraction (XRD) is 15% or more and 25% or less,
In the FT-IR spectrum obtained by measuring the outermost layer of the polyester resin layer using Ge as an ATR crystal by an ATR method and an infrared light incident angle of 60 °, a region of 2910 cm −1 or more and 2930 cm −1 or less When the maximum absorption peak intensity in the region of Pa and the maximum absorption peak intensity in the region of 2950 cm −1 to 2970 cm −1 is Pb, the relationship of the following formula (1) is satisfied:
0.6 ≦ Pa / Pb ≦ 2.0 Formula (1)
The release film whose thickness of the said release film is 20-100 micrometers.
前記樹脂封止に用いられる封止樹脂がシリコーン樹脂である、請求項1に記載の離型フィルム。   The release film of Claim 1 whose sealing resin used for the said resin sealing is a silicone resin. 請求項1又は2に記載の離型フィルムを金型内面に配置する工程と、
前記金型内に、LED素子が実装された基板を配置する工程と、
前記金型内に封止樹脂を充填して型締めし、前記封止樹脂を硬化させてLED素子封止体を得る工程と、
前記LED素子封止体から前記離型フィルムを剥離する工程と、
を含む、LED素子封止体の製造方法。
Placing the release film according to claim 1 or 2 on the inner surface of the mold;
Placing the substrate on which the LED element is mounted in the mold; and
Filling the mold with a sealing resin, clamping the mold, and curing the sealing resin to obtain an LED element sealing body; and
Peeling the release film from the LED element sealing body;
The manufacturing method of the LED element sealing body containing this.
前記ポリエステル樹脂層の最表面が前記LED素子と対向するように、前記離型フィルムを前記金型内面に配置する、請求項3に記載のLED素子封止体の製造方法。   The manufacturing method of the LED element sealing body of Claim 3 which arrange | positions the said release film on the said metal mold | die inner surface so that the outermost surface of the said polyester resin layer may oppose the said LED element. 前記封止樹脂は、シリコーン樹脂である、請求項3又は4に記載のLED素子封止体の製造方法。   The said sealing resin is a manufacturing method of the LED element sealing body of Claim 3 or 4 which is a silicone resin.
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