JP6126368B2 - Mold release film for LED encapsulant and method for producing LED encapsulant using the same - Google Patents

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発光ダイオード(LED:Light Emitting Diode。以下、単に「LED」とも記す)を含む半導体チップは、通常、封止樹脂で封止された半導体パッケージと呼ばれる樹脂成形体として基板上に実装される。このような半導体パッケージは、例えば、半導体チップを配置した金型に封止樹脂を注入し、注入された封止樹脂を硬化成形することで製造される。   A semiconductor chip including a light emitting diode (LED: hereinafter also simply referred to as “LED”) is usually mounted on a substrate as a resin molded body called a semiconductor package sealed with a sealing resin. Such a semiconductor package is manufactured, for example, by injecting a sealing resin into a mold in which a semiconductor chip is arranged, and curing the injected sealing resin.

近年、半導体パッケージの小型軽量化に伴い、封止樹脂の量を減らすことが検討されている。また、封止樹脂の量を減らした場合であっても半導体チップと封止樹脂とが強固に接着されるように、封止樹脂に含有させる離型剤の量を減らすことが検討されている。このため、硬化成形後の封止樹脂を金型から容易に離型させるべく、金型内面と封止樹脂との間に離型フィルムを配置する方法が採用されている(例えば、特許文献1参照)。   In recent years, with the reduction in size and weight of semiconductor packages, it has been studied to reduce the amount of sealing resin. In addition, even when the amount of the sealing resin is reduced, it has been studied to reduce the amount of the release agent contained in the sealing resin so that the semiconductor chip and the sealing resin are firmly bonded. . For this reason, a method of disposing a release film between the inner surface of the mold and the sealing resin is employed in order to easily release the sealing resin after curing molding from the mold (for example, Patent Document 1). reference).

樹脂材料の金型成形に用いられる離型フィルムとして、例えば、特許文献2〜7に開示されたものが知られている。特許文献2には、4−メチル−1−ペンテン樹脂からなる表面層と、ポリエステルを含有するポリマーアロイからなる支持体層とを備えた離型フィルムが記載されている。特許文献3には、4−メチル−1−ペンテン共重合体からなる樹脂層と、ポリオレフィンまたはポリアミドからなる樹脂層が積層された多層インフレーションフィルムが記載されている。   As a release film used for molding a resin material, for example, those disclosed in Patent Documents 2 to 7 are known. Patent Document 2 describes a release film having a surface layer made of 4-methyl-1-pentene resin and a support layer made of a polymer alloy containing polyester. Patent Document 3 describes a multilayer inflation film in which a resin layer made of 4-methyl-1-pentene copolymer and a resin layer made of polyolefin or polyamide are laminated.

特許文献4には、「多層プリント基板製造用の離型フィルム」として、A層(表面層)/B層(接着層)/C層(基材層)/B’層(接着層)/A’層(表面層)の5層構造を有し、A層(表面層)およびA’層(表面層)が4−メチル−1−ペンテン系重合体樹脂を含むフィルムが記載されている。特許文献5には、「半導体樹脂パッケージ製造用の離型フィルム」として、前述と同様の5層構造を有し、さらにB層(接着層)が変性4−メチル−1−ペンテン系重合体を含み、C層(基材層)がポリアミド樹脂を含むフィルムが記載されている。   In Patent Document 4, as a “release film for producing a multilayer printed circuit board”, A layer (surface layer) / B layer (adhesive layer) / C layer (base material layer) / B ′ layer (adhesive layer) / A A film having a five-layer structure of 'layer (surface layer), wherein A layer (surface layer) and A' layer (surface layer) contain 4-methyl-1-pentene polymer resin is described. Patent Document 5 describes a “release film for manufacturing a semiconductor resin package” having a five-layer structure similar to that described above, and further comprising a modified 4-methyl-1-pentene polymer as a B layer (adhesive layer). In addition, a film in which the C layer (base material layer) contains a polyamide resin is described.

特許文献6には、「LED封止体用の離型フィルム」として、4−メチル−1−ペンテン共重合体からなる表面層と、ポリエステル共重合体からなる樹脂層の積層フィルムが記載されている。同用途のフィルムとして、特許文献7には、4−メチル−1−ペンテン共重合体と熱可塑性エラストマーのポリマーアロイフィルムが記載されている。   Patent Document 6 describes a laminated film of a surface layer made of a 4-methyl-1-pentene copolymer and a resin layer made of a polyester copolymer as a “release film for an LED encapsulant”. Yes. As a film for the same application, Patent Document 7 describes a polymer alloy film of 4-methyl-1-pentene copolymer and a thermoplastic elastomer.

特許第4096659号公報Japanese Patent No. 4096659 特開2000−218752号公報JP 2000-218752 A 特開2001−62893号公報JP 2001-62893 A 特開2004−82717号公報JP 2004-82717 A 国際公開第2010/023907号公報International Publication No. 2010/023907 特開2011−240547号公報JP 2011-240547 A 特開2012−153775号公報JP 2012-153775 A

しかしながら、LEDの封止体(パッケージ)を製造する際に使用される金型などは、通常の半導体パッケージを製造するための金型に比してギャップ(上金型と下金型のパーティング面からキャビティの最深部までの段差)が大きく、形状が複雑である場合が多い。また、LED封止体のレンズ部分は、封止体内のLED素子からの光の方向を調整するものでもある。そのため、LED素子からの光を設計どおりに集光できるように、LEDパッケージ製造時に、LEDパッケージの表面状態を制御する必要がある。   However, the mold used for manufacturing the LED sealing body (package) has a gap (partition between the upper mold and the lower mold) as compared with a mold for manufacturing a normal semiconductor package. The step from the surface to the deepest part of the cavity is large, and the shape is often complicated. The lens portion of the LED sealing body also adjusts the direction of light from the LED elements in the sealing body. Therefore, it is necessary to control the surface state of the LED package so that the light from the LED element can be condensed as designed.

これに対して、特許文献2〜5等に記載された離型フィルムをLEDパッケージ製造に使用すると、フィルムの機械的強度(弾性率等)が高く、金型の形状に沿って伸びきれず(追従せず)、金型面に密着しない場合があった。それにより、金型内の離型フィルムに「放射状の皺」が生じることがあった。また、これらの離型フィルムを、強引に伸ばして金型の形状に追従させたとしても、離型層の最表面が均一に伸びず(均一に伸張変形せず)、ネッキングが生じる場合があった。それにより、金型内の離型フィルムに「厚みムラ」が生じることがあった。一方、フィルムの機械的強度が低い場合は、金型の形状に沿って伸びる際に、フィルムが局所的に伸びすぎてしまい、金型内の離型フィルムに「凹凸皺」が生じることがあった。これらにより、樹脂成形体を離型フィルムから剥離する際の離型性が低下し、樹脂成形体の表面に「放射状の皺」、「厚みムラ」あるいは「凹凸皺」が転写されて、外観が損なわれる場合があった。   On the other hand, when the release film described in Patent Documents 2 to 5 and the like is used for LED package manufacturing, the film has high mechanical strength (such as elastic modulus) and cannot extend along the shape of the mold ( In some cases, it did not follow). As a result, “radial wrinkles” may occur in the release film in the mold. Further, even if these release films are forcibly stretched to follow the shape of the mold, the outermost surface of the release layer does not extend uniformly (it does not uniformly stretch and deform), and necking may occur. It was. Thereby, “thickness unevenness” may occur in the release film in the mold. On the other hand, when the mechanical strength of the film is low, the film may stretch too much when stretched along the shape of the mold, resulting in “uneven wrinkles” on the release film in the mold. It was. As a result, the releasability when the resin molded body is peeled from the release film is lowered, and "radial wrinkles", "thickness unevenness" or "uneven wrinkles" are transferred to the surface of the resin molded body, and the appearance In some cases, it was damaged.

また、特許文献7に記載の離型フィルムは、機械的強度が低すぎるため、離型フィルムを金型内に固定する際に、金型温度等の条件によっては、離型フィルムが破れる場合があった。このように、特許文献2〜7に記載の離型フィルムをLEDパッケージ製造に使用すると、離型層の最表面が不均一に伸びることによる厚みムラや、フィルムが局所的に伸びすぎることによる凹凸皺が生じやすかった。それにより、局所的に離型性が悪化し、離型フィルムの一部が残渣として残ったりして、LEDパッケージの表面が荒れ、LED素子からの光を設計どおりに集光できない場合があった。   Moreover, since the release film described in Patent Document 7 has too low mechanical strength, the release film may be broken depending on conditions such as mold temperature when the release film is fixed in the mold. there were. As described above, when the release film described in Patent Documents 2 to 7 is used for LED package manufacturing, uneven thickness due to uneven extension of the outermost surface of the release layer and unevenness due to excessive extension of the film locally. It was easy for wrinkles to occur. As a result, the releasability deteriorates locally, a part of the release film remains as a residue, the surface of the LED package becomes rough, and the light from the LED element may not be collected as designed. .

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、複雑な形状の金型に対して追従させても、フィルムの破れや厚みムラなどを生じず、離型性が良好で、かつ得られる樹脂成形体の表面状態が良好な離型フィルムを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and does not cause tearing of the film or uneven thickness even if it follows a mold having a complicated shape. It aims at providing the release film with the favorable surface state of a molded object.

[1] 基材層Cと、4−メチル−1−ペンテンと前記4−メチル−1−ペンテン1以外の炭素数2〜20のα−オレフィンとの共重合体を主成分として含む最外層Aと、を含み、前記最外層Aが離型層であり、前記共重合体における前記4−メチル−1−ペンテン1以外の炭素数2〜20のα−オレフィン由来の構成単位の含有割合が1質量%以上であり、前記最外層Aの表面の十点平均粗さRzJISが、0μm以上1.5μm以下であり、23℃で測定される最大押し込み深さをD(μm)としたときに、下記式で定義される前記最外層Aのダイナミック硬さが0.5以上8.0以下である、LED封止体用金型離型フィルム。
ダイナミック硬さ=3.8584×0.5/D
[2] 前記金型離型フィルムの前記最外層Aとは反対側の面の十点平均粗さRzJISが、0μm以上1.5μm以下である、[1]に記載のLED封止体用金型離型フィルム。
[3] 前記基材層Cと前記最外層Aとを接着させる接着層Bをさらに含む、[1]または[2]に記載のLED封止体用金型離型フィルム。
[4] 前記共重合体における、4−メチル−1−ペンテン由来の構成単位の含有割合が93質量%以上である、[1]〜[3]のいずれかいずれかに記載のLED封止体用金型離型フィルム。
[5] 前記基材層Cと、前記基材層Cを挟持する、前記最外層Aおよび前記共重合体を含む他の最外層A’と、前記最外層Aと前記基材層Cとを接着させる接着層Bおよび前記他の最外層A’と前記基材層Cとを接着させる接着層B’と、を含む、[1]〜[4]のいずれかに記載のLED封止体用金型離型フィルム。
[6] 前記基材層Cは、ポリアミド樹脂を含む、[1]〜[5]のいずれかに記載のLED封止体用金型離型フィルム。
[7] 前記接着層Bは、変性4−メチル−1−ペンテン共重合体を含む、[3]〜[6]のいずれかに記載のLED封止体用金型離型フィルム。
[8] 前記基材層Cは、ポリアミド6を含む、[1]〜[7]のいずれかに記載のLED封止体用金型離型フィルム。
[9] 120℃における引張破壊応力が、4.0MPa以上40MPa以下である、[1]〜[8]のいずれかに記載のLED封止体用金型離型フィルム。
[10] 120℃における貯蔵弾性率E’が、30MPa以上200MPa以下である、[1]〜[9]のいずれかに記載のLED封止体用金型離型フィルム。
[11] [1]〜[10]のいずれかに記載のLED封止体用金型離型フィルムを、前記離型フィルムの最外層Aとは反対側の面が金型内面に接するように配置する工程と、前記金型内に、LED搭載基板を配置する工程と、前記金型内に封止樹脂を充填して型締めし、前記封止樹脂を硬化させてLED封止体を得る工程と、得られた前記LED封止体を前記離型フィルムから剥離させる工程とを含む、LED封止体の製造方法。
[1] Outermost layer A containing a base material layer C, a copolymer of 4-methyl-1-pentene and an α-olefin having 2 to 20 carbon atoms other than 4-methyl-1-pentene 1 as a main component. The outermost layer A is a release layer, and the content ratio of the structural unit derived from an α-olefin having 2 to 20 carbon atoms other than the 4-methyl-1-pentene 1 in the copolymer is 1. When the 10-point average roughness RzJIS of the surface of the outermost layer A is 0 μm or more and 1.5 μm or less, and the maximum indentation depth measured at 23 ° C. is D (μm), The mold release film for LED sealing bodies whose dynamic hardness of the outermost layer A defined by a following formula is 0.5-8.0.
Dynamic hardness = 3.8854 × 0.5 / D 2
[2] The mold for LED encapsulant according to [1], wherein the ten-point average roughness RzJIS of the surface opposite to the outermost layer A of the mold release film is 0 μm or more and 1.5 μm or less. Mold release film.
[3] The mold release film for an LED encapsulant according to [1] or [2], further including an adhesive layer B that adheres the base material layer C and the outermost layer A.
[4] The LED encapsulant according to any one of [1] to [3], wherein the content ratio of the constituent unit derived from 4-methyl-1-pentene in the copolymer is 93% by mass or more. Mold release film.
[5] The base layer C, the outermost layer A ′ including the outermost layer A and the copolymer sandwiching the base layer C, the outermost layer A, and the base layer C. The LED sealing body according to any one of [1] to [4], including an adhesive layer B to be bonded and an adhesive layer B ′ to which the other outermost layer A ′ and the base material layer C are bonded. Mold release film.
[6] The mold release film for an LED encapsulant according to any one of [1] to [5], wherein the base material layer C includes a polyamide resin.
[7] The mold release film for an LED encapsulant according to any one of [3] to [6], wherein the adhesive layer B includes a modified 4-methyl-1-pentene copolymer.
[8] The mold release film for an LED encapsulant according to any one of [1] to [7], wherein the base material layer C includes polyamide 6.
[9] The mold release film for an LED encapsulant according to any one of [1] to [8], wherein the tensile fracture stress at 120 ° C. is 4.0 MPa or more and 40 MPa or less.
[10] The mold release film for an LED encapsulant according to any one of [1] to [9], wherein a storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. is 30 MPa or more and 200 MPa or less.
[11] In the mold release film for an LED sealing body according to any one of [1] to [10], a surface opposite to the outermost layer A of the release film is in contact with an inner surface of the mold. A step of arranging, a step of arranging an LED mounting substrate in the mold, a sealing resin filling the mold and clamping, and the sealing resin is cured to obtain an LED sealing body. The manufacturing method of a LED sealing body including a process and the process of peeling the obtained said LED sealing body from the said release film.

本発明の離型フィルムは、金型内で破れることなく、複雑な形状の金型に対する追従性に優れており、離型面の最表面が均一に伸び、かつ樹脂成形体からの離型性に優れている。それにより、外観の良好な樹脂成形体を得ることできる。本発明の離型フィルムは、これらの優れた特性を生かし、LEDパッケージをはじめとする比較的複雑な形状を有する金型を用いた各種樹脂成形体を製造する工程において好適に用いることができる。   The release film of the present invention is excellent in followability to a complex-shaped mold without being broken in the mold, the outermost surface of the release surface is uniformly extended, and the release property from the resin molded body Is excellent. Thereby, a resin molded article having a good appearance can be obtained. The release film of the present invention can be suitably used in a process for producing various resin molded articles using a mold having a relatively complicated shape such as an LED package, taking advantage of these excellent characteristics.

本発明の離型フィルムの好ましい構成の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the preferable structure of the release film of this invention. フィルムの製造装置の一部の例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the example of a part of manufacturing apparatus of a film. 金型に離型フィルムを配置した状態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the state which has arrange | positioned the release film in the metal mold | die. 金型内に封止樹脂を充填した状態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the state with which sealing resin was filled in the metal mold | die. 型締めして封止樹脂を硬化させる状態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the state which clamps and hardens sealing resin. 型開きした状態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state of mold opening typically. LEDパッケージの一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of an LED package typically. 実施例の離型フィルムの評価方法において、金型に離型フィルムを配置した状態を模式的に示す断面図である。In the evaluation method of the release film of an Example, it is sectional drawing which shows typically the state which has arrange | positioned the release film in the metal mold | die. 実施例の離型フィルムの評価方法において、金型に配置した離型フィルムを真空吸着させる状態を模式的に示す断面図である。In the evaluation method of the release film of an Example, it is sectional drawing which shows typically the state which vacuum-sucks the release film arrange | positioned at the metal mold | die. 実施例の離型フィルムの評価方法において、離型フィルム上に封止樹脂を配置した状態を模式的に示す断面図である。In the evaluation method of the release film of an Example, it is sectional drawing which shows typically the state which has arrange | positioned sealing resin on a release film. 実施例の離型フィルムの評価方法において、型締めして封止樹脂を硬化させる状態を模式的に示す断面図である。In the evaluation method of the release film of an Example, it is sectional drawing which shows typically the state which clamps and hardens sealing resin. 実施例の離型フィルムの評価方法において、型開きした状態を模式的に示す断面図である。In the evaluation method of the release film of an Example, it is sectional drawing which shows typically the state which opened the mold.

1.LED封止体用金型離型フィルム
本発明のLED封止体用金型離型フィルム(離型フィルム)は、基材層Cと、4−メチル−1−ペンテン共重合体を主成分として含む最外層Aとを含む。
1. The mold release film for LED sealing bodies The mold release film for LED sealing bodies (release film) of this invention has the base material layer C and 4-methyl-1-pentene copolymer as a main component. Including the outermost layer A.

本発明における離型フィルムは、成形金型の内部で、LED封止体を製造するときに、成形金型の内面に配置される。金型内面に本発明の離型フィルムを配置することで、得られるLED封止体を金型から容易に剥離することができる。   The release film in the present invention is disposed on the inner surface of the molding die when manufacturing the LED sealing body inside the molding die. By disposing the release film of the present invention on the inner surface of the mold, the obtained LED sealing body can be easily peeled from the mold.

最外層A(離型層)
最外層Aは、基材層Cの一方の面上に直接または他の層(接着層Bなど)を介して配置され、フィルムに離型性を付与する機能を有する。最外層Aは、後述するLED封止体の製造工程において、LED封止体と接するように配置される。そのため、最外層Aは、高い離型性と耐熱性とを有することが求められる。
Outermost layer A (release layer)
The outermost layer A is disposed directly on one surface of the base material layer C or via another layer (such as an adhesive layer B), and has a function of imparting releasability to the film. The outermost layer A is disposed so as to be in contact with the LED sealing body in the manufacturing process of the LED sealing body described later. Therefore, the outermost layer A is required to have high release properties and heat resistance.

最外層Aは、4−メチル−1−ペンテン共重合体を主成分として含む。4−メチル−1−ペンテン共重合体は、融点が220〜240℃と高く、樹脂成形体の製造工程における金型温度で溶融しないだけでなく、表面エネルギーが低いことから離型性に優れる。本発明において、記号「〜」はその両端の範囲を含むものであり、以下においても同様である。   The outermost layer A contains 4-methyl-1-pentene copolymer as a main component. The 4-methyl-1-pentene copolymer has a high melting point of 220 to 240 ° C., and not only does not melt at the mold temperature in the production process of the resin molded body, but also has excellent releasability because of low surface energy. In the present invention, the symbol “˜” includes the range of both ends thereof, and the same applies to the following.

4−メチル−1−ペンテン共重合体とは、4−メチル−1−ペンテンと4−メチル−1−ペンテン以外の他の成分との共重合体をいう。   The 4-methyl-1-pentene copolymer refers to a copolymer of 4-methyl-1-pentene and other components other than 4-methyl-1-pentene.

4−メチル−1−ペンテンと共重合体される他の成分は、好ましくは炭素原子数2〜20のα−オレフィンである。炭素原子数2〜20のα−オレフィンの例には、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−デセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−ヘプタデセン、1−オクタデセン、および1−エイコセン等が含まれる。これらのα−オレフィンは、単独で、または2種以上を組み合せて用いてもよい。   The other component copolymerized with 4-methyl-1-pentene is preferably an α-olefin having 2 to 20 carbon atoms. Examples of the α-olefin having 2 to 20 carbon atoms include ethylene, propylene, 1-butene, 1-hexene, 1-heptene, 1-octene, 1-decene, 1-tetradecene, 1-hexadecene and 1-heptadecene. 1-octadecene, 1-eicosene and the like. These α-olefins may be used alone or in combination of two or more.

炭素原子数2〜20のα−オレフィンは、好ましくは炭素原子数7〜20のα−オレフィンであり、より好ましくは炭素原子数8〜20のα−オレフィンであり、さらに好ましくは炭素原子数12〜20のα−オレフィンである。   The α-olefin having 2 to 20 carbon atoms is preferably an α-olefin having 7 to 20 carbon atoms, more preferably an α-olefin having 8 to 20 carbon atoms, and further preferably 12 carbon atoms. ~ 20 alpha olefins.

4−メチル−1−ペンテン共重合体における、4−メチル−1−ペンテン由来の構成単位の含有割合は、93質量%以上が好ましく、93〜99質量%がより好ましく、93〜95質量%がさらに好ましい。このような、4−メチル−1−ペンテン共重合体は、4−メチル−1−ペンテンに由来する良好な剛性と、α−オレフィンに由来する良好な成形性とを有する。   The content ratio of the constituent unit derived from 4-methyl-1-pentene in the 4-methyl-1-pentene copolymer is preferably 93% by mass or more, more preferably 93 to 99% by mass, and 93 to 95% by mass. Further preferred. Such 4-methyl-1-pentene copolymer has good rigidity derived from 4-methyl-1-pentene and good moldability derived from α-olefin.

4−メチル−1−ペンテン共重合体における、炭素原子数2〜20のα−オレフィン由来の構成単位の含有割合は、結晶化度を一定以下にするためには、1質量%以上であることが好ましく、5質量%以上であることがより好ましい。炭素原子数2〜20のα−オレフィン由来の構成単位の含有割合の上限は、例えば7質量%程度としうる。   In the 4-methyl-1-pentene copolymer, the content of the structural unit derived from the α-olefin having 2 to 20 carbon atoms is 1% by mass or more in order to keep the crystallinity below a certain level. Is preferable, and it is more preferable that it is 5 mass% or more. The upper limit of the content ratio of the structural unit derived from an α-olefin having 2 to 20 carbon atoms can be, for example, about 7% by mass.

4−メチル−1−ペンテン共重合体は、結晶性を有することが好ましい。具体的には、4−メチル−1−ペンテン共合体は、アイソタクチック構造またはシンジオタクチック構造を有することが好ましく、アイソタクチック構造を有することがより好ましい。4−メチル−1−ペンテン共重合体の分子量は、成形性および機械的特性を満たす範囲であれば、特に限定されない。   The 4-methyl-1-pentene copolymer preferably has crystallinity. Specifically, the 4-methyl-1-pentene copolymer preferably has an isotactic structure or a syndiotactic structure, and more preferably has an isotactic structure. The molecular weight of the 4-methyl-1-pentene copolymer is not particularly limited as long as it satisfies the moldability and mechanical properties.

4−メチル−1−ペンテン共重合体の、ASTM D1238に準じて、荷重5.0kg、温度260℃で測定されるメルトフローレート(MFR)は、0.5〜250g/10分であることが好ましく、1.0〜150g/10分であることがより好ましい。4−メチル−1−ペンテン共重合体のMFRが、上記範囲にあると、製膜性や得られるフィルムの機械的特性に優れる。   According to ASTM D1238, the melt flow rate (MFR) of the 4-methyl-1-pentene copolymer measured at a load of 5.0 kg and a temperature of 260 ° C. is 0.5 to 250 g / 10 min. Preferably, it is 1.0 to 150 g / 10 min. When the MFR of the 4-methyl-1-pentene copolymer is in the above range, the film forming property and the mechanical properties of the obtained film are excellent.

4−メチル−1−ペンテン共重合体は、任意の方法で製造されうる。例えば、4−メチル−1−ペンテンをチーグラ・ナッタ触媒、メタロセン系触媒等の公知の触媒の存在下で重合させて得ることができる。本発明で用いられる4−メチル−1−ペンテン共重合体は、前述のように製造したものであってもよいし;市販品であってもよい。4−メチル−1−ペンテン共重合体の市販品の例には、三井化学株式会社製TPX等が含まれる。   The 4-methyl-1-pentene copolymer can be produced by any method. For example, 4-methyl-1-pentene can be obtained by polymerizing in the presence of a known catalyst such as a Ziegler-Natta catalyst or a metallocene catalyst. The 4-methyl-1-pentene copolymer used in the present invention may be one produced as described above; it may be a commercial product. Examples of commercially available 4-methyl-1-pentene copolymers include TPX manufactured by Mitsui Chemicals.

最外層Aは、本発明の目的を損なわない範囲で、4−メチル−1−ペンテン共重合体以外に、他の樹脂や、添加剤をさらに含んでもよい。添加剤の例には、耐熱安定剤、耐候安定剤、発錆防止剤、耐銅害安定剤、帯電防止剤等の通常ポリオレフィンに配合される公知の添加剤が含まれる。4−メチル−1−ペンテン共重合体以外の化合物の含有量は、4−メチル−1−ペンテン共重合体100質量部に対して、0.0001質量部以上10質量部未満とすることが好ましい。   The outermost layer A may further contain other resins and additives in addition to the 4-methyl-1-pentene copolymer as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the additive include known additives usually blended in polyolefins such as a heat resistance stabilizer, a weather resistance stabilizer, a rust inhibitor, a copper damage resistance stabilizer, and an antistatic agent. The content of the compound other than 4-methyl-1-pentene copolymer is preferably 0.0001 parts by mass or more and less than 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of 4-methyl-1-pentene copolymer. .

前述した通り、LED封止体などの製造に用いられる金型は、半導体樹脂パッケージなどの製造に用いられる通常の金型よりも、形状が複雑で、ギャップが大きい傾向がある。従来の離型フィルムは、機械的強度が高く、LED封止体などの製造に用いられる金型に用いると、金型の形状に対して追従しにくく、離型フィルムの最表面が不均一に伸びて、離型フィルムの表面に「厚みムラ」が生じることがある。このような厚みムラが生じると、離型フィルムの離型性が局所的に低下し、離型フィルムの一部が残渣として残り、樹脂成形体であるLEDパッケージの表面が荒れることがある。   As described above, a mold used for manufacturing an LED sealing body or the like tends to have a more complicated shape and a larger gap than a normal mold used for manufacturing a semiconductor resin package or the like. The conventional release film has high mechanical strength, and when used in a mold used for manufacturing an LED encapsulant or the like, it is difficult to follow the shape of the mold, and the outermost surface of the release film is not uniform. Elongation may cause “thickness unevenness” on the surface of the release film. When such thickness unevenness occurs, the releasability of the release film is locally lowered, a part of the release film remains as a residue, and the surface of the LED package that is a resin molded body may be roughened.

そこで、本発明では、LED封止体などの製造に用いられる金型の形状に対する追従性を高め、かつ樹脂成形体からの離型性を高め、さらに得られるLED封止体をLED素子からの光の集光を妨げない表面状態にするために、最外層Aの表面のダイナミック硬さを一定以下にすることが好ましい。具体的には、最外層Aの表面のダイナミック硬さが、0.5以上8.0以下であることが好ましく、0.5以上5.0以下であることがより好ましく、0.5以上4.0以下であることがさらに好ましい。   Therefore, in the present invention, the followability with respect to the shape of a mold used for manufacturing an LED sealed body or the like is increased, the releasability from the resin molded body is increased, and the obtained LED sealed body is further separated from the LED element. In order to obtain a surface state that does not hinder the collection of light, it is preferable that the dynamic hardness of the surface of the outermost layer A is made constant or less. Specifically, the dynamic hardness of the surface of the outermost layer A is preferably 0.5 or more and 8.0 or less, more preferably 0.5 or more and 5.0 or less, and 0.5 or more and 4 or less. More preferably, it is 0.0 or less.

最外層Aのダイナミック硬さは、以下の方法で算出されうる。
1)まず、島津製作所製ダイナミック超微小硬度計DUH−W201S(ダイヤモンド製三角すい圧子115°)を用いて、離型フィルムの最外層Aの、負荷−徐荷試験モードにおける最大押し込み深さD(μm)を測定する。測定条件は、温度23±2℃、湿度50±5%下、試験荷重(P)0.50mN、負荷速度0.142mN/sec、保持時間5secとしうる。
2)得られた最大押し込み深さDの測定値を下記式に当てはめて、ダイナミック硬さを算出する。
ダイナミック硬さ=3.8584×0.5/D
The dynamic hardness of the outermost layer A can be calculated by the following method.
1) First, the maximum indentation depth D in the load-unloading test mode of the outermost layer A of the release film using a dynamic ultra-micro hardness meter DUH-W201S (diamond triangular cone indenter 115 °) manufactured by Shimadzu Corporation (Μm) is measured. The measurement conditions may be a temperature of 23 ± 2 ° C., a humidity of 50 ± 5%, a test load (P) of 0.50 mN, a load speed of 0.142 mN / sec, and a holding time of 5 sec.
2) The measured value of the obtained maximum indentation depth D is applied to the following formula to calculate the dynamic hardness.
Dynamic hardness = 3.8854 × 0.5 / D 2

最外層Aのダイナミック硬さは、最外層Aの表面の結晶化度と関係しており、表面の結晶化度が高いほどダイナミック硬さは高く;結晶化度が低いほどダイナミック硬さは低くなる。   The dynamic hardness of the outermost layer A is related to the crystallinity of the surface of the outermost layer A. The higher the crystallinity of the surface, the higher the dynamic hardness; the lower the crystallinity, the lower the dynamic hardness. .

一般的には、結晶化度を高くする(ダイナミック硬さを高くする)ほど、離型性が高まると考えられる。これに対して、本発明者らは、LED封止体などの製造工程においては、最外層Aの表面の結晶化度をむしろ低くする(ダイナミック硬さを低くする)ことで、離型性が高まることを見出した。   In general, it is considered that the higher the crystallinity (the higher the dynamic hardness), the higher the releasability. On the other hand, in the manufacturing process of the LED encapsulant and the like, the present inventors have a relatively low moldability (reducing the dynamic hardness) by lowering the crystallinity of the surface of the outermost layer A. I found it to increase.

この理由は、必ずしも明らかではないものの以下のように推測される。即ち、離型フィルムは、LED封止体の製造に用いられる金型では、通常の金型よりも高度に伸張(延伸)されやすい。このとき、樹脂成形体と接する離型フィルムの最外層Aの表面の結晶化度が低いと、最外層Aの表面が均一に伸張変形しやすい(延伸されやすい)ため、離型フィルムの表面も局所的に延伸される部分が少なくなり、厚みムラ(凹凸)が生じにくい。それにより、成形時に、封止樹脂が離型フィルムの凹凸とLED搭載基板との間に入り込むのを抑制し、離型性が高まると考えられる。また、離型フィルムの表面の厚みムラ(凹凸)が抑制されるため、厚みムラ(凸凹)が樹脂成形体の表面に転写されるのを抑制でき、外観の良好な樹脂成形体(LEDパッケージ)を得ることができる。また、離型性の局所的な悪化による離型フィルムの残渣の発生を抑制でき、表面状態の良好な樹脂成形体(LEDパッケージ)を得ることができる。   Although this reason is not necessarily clear, it is guessed as follows. That is, the release film is more easily stretched (stretched) in a mold used for manufacturing an LED encapsulant than in a normal mold. At this time, if the crystallinity of the surface of the outermost layer A of the release film in contact with the resin molded body is low, the surface of the outermost layer A is easily stretched and deformed uniformly (easily stretched). Locally stretched portions are reduced and thickness unevenness (unevenness) is unlikely to occur. Thereby, at the time of shaping | molding, it is thought that sealing resin suppresses entering between the unevenness | corrugation of a release film and a LED mounting substrate, and mold release property improves. Moreover, since uneven thickness (unevenness) on the surface of the release film is suppressed, transfer of uneven thickness (irregularity) to the surface of the resin molded body can be suppressed, and a resin molded body (LED package) having a good appearance. Can be obtained. Moreover, generation | occurrence | production of the residue of a release film by the local deterioration of mold release property can be suppressed, and the resin molding (LED package) with a favorable surface state can be obtained.

さらに、最外層Aが均一に伸張変形する(延伸される)結果、局所的に延伸される部分が少なくなり、機械的強度を維持しやすい。その結果、金型成形時の離型フィルムの破れも抑制しうると考えられる。   Furthermore, as a result of the outermost layer A being uniformly stretched and deformed (stretched), the number of locally stretched portions is reduced, and the mechanical strength is easily maintained. As a result, it is thought that tearing of the release film during mold molding can be suppressed.

最外層Aのダイナミック硬さは、前述の通り、最外層Aの結晶化度によって調整することができ;最外層Aの結晶化度は、最外層Aの構成材料(具体的には、4−メチル−1−ペンテン共重合体における共重合成分の種類や含有割合など)や、フィルムの製造工程でのキャストロールの温度などによって調整されうる。   As described above, the dynamic hardness of the outermost layer A can be adjusted by the crystallinity of the outermost layer A; the crystallinity of the outermost layer A depends on the constituent material of the outermost layer A (specifically, 4- And the like, and the temperature of the cast roll in the film production process.

最外層Aの表面の結晶化度を低くしてダイナミック硬さを小さくするためには、例えば最外層Aの4−メチル−1−ペンテン共重合体における、4−メチル−1−ペンテン以外の他の成分である炭素原子数2〜20のα−オレフィンの含有割合を多くしたり;α−オレフィンの炭素原子数を多くしたり;フィルムの製造工程でのキャストロール温度を調整したりすることが好ましい。   In order to reduce the crystallinity of the surface of the outermost layer A and reduce the dynamic hardness, for example, other than 4-methyl-1-pentene in the 4-methyl-1-pentene copolymer of the outermost layer A Increasing the content of the α-olefin having 2 to 20 carbon atoms, which is a component of the above; increasing the number of carbon atoms of the α-olefin; adjusting the cast roll temperature in the film production process preferable.

本発明では、後述するLED封止体などの樹脂成形体の製造工程において、得られる樹脂成形体の表面の光沢を向上させ、かつ樹脂成形体からの離型性をさらに高めるため、樹脂成形体と接する最外層Aの表面粗さを一定以下にすることが好ましい。具体的には、最外層Aの表面の十点平均粗さRzJISが、0μm以上1.5μm以下であることが好ましく、0μm以上1.0μm以下であることがより好ましく、0μm以上0.5μm以下であることがさらに好ましい。   In the present invention, in the production process of a resin molded body such as an LED sealing body to be described later, the resin molded body is improved in order to improve the gloss of the surface of the obtained resin molded body and to further improve the releasability from the resin molded body. It is preferable to make the surface roughness of the outermost layer A in contact with the surface below a certain level. Specifically, the ten-point average roughness RzJIS of the surface of the outermost layer A is preferably 0 μm or more and 1.5 μm or less, more preferably 0 μm or more and 1.0 μm or less, and 0 μm or more and 0.5 μm or less. More preferably.

即ち、最外層Aの表面の粗さが大きすぎると、金型成形時に、最外層Aの表面の粗面形状が、樹脂成形体であるLED封止体の表面に転写される。LED封止体のレンズ部分は、封止体内のLED素子からの光の方向を調整するものでもある。そのため、LED封止体の表面に、粗面形状に起因する凹凸があると、LED素子からの光が拡散してしまい、設計どおりに光を集光することが困難になることがある。   That is, if the roughness of the surface of the outermost layer A is too large, the rough surface shape of the surface of the outermost layer A is transferred to the surface of the LED sealing body that is a resin molded body during mold molding. The lens portion of the LED sealing body is also for adjusting the direction of light from the LED elements in the sealing body. Therefore, if the surface of the LED sealing body has irregularities due to the rough surface shape, the light from the LED element diffuses, and it may be difficult to collect the light as designed.

また、最外層Aの表面の粗さが大きすぎると、金型成形時に最外層Aの表面の凹凸に液状の成形用樹脂が入り込むため、成形用樹脂の硬化後に樹脂成形体からの離型フィルムの離型性が低下することがある。   Further, if the surface roughness of the outermost layer A is too large, the liquid molding resin enters the irregularities on the surface of the outermost layer A during mold molding, so that the release film from the resin molded body after the molding resin is cured The releasability of may decrease.

これに対して、最外層Aの表面の十点平均粗さRzJISが0μm以上1.5μm以下の範囲であると、最外層Aの表面の平滑性が樹脂成形体の表面に転写して、金型設計通りに集光性を再現することが出来る。また、最外層Aの表面の凹凸に液状の成形用樹脂が入り込みにくいため、樹脂成形体からの離型がさらに容易になる。また、金型内で、離型フィルムと基板との間に隙間が形成されにくいため、樹脂成形体のバリの発生を抑制でき、金型形状を精度よく再現できる。   On the other hand, if the 10-point average roughness RzJIS of the surface of the outermost layer A is in the range of 0 μm or more and 1.5 μm or less, the smoothness of the surface of the outermost layer A is transferred to the surface of the resin molded body, Condensation can be reproduced as designed. In addition, since the liquid molding resin does not easily enter the irregularities on the surface of the outermost layer A, the mold release from the resin molded body is further facilitated. Moreover, since it is difficult to form a gap between the release film and the substrate in the mold, it is possible to suppress the occurrence of burrs in the resin molded body and to accurately reproduce the mold shape.

最外層Aの表面の十点平均粗さRzJISは、JIS−B0601に準拠した方法;具体的には、表面粗さ形測定機(東京精密社製、surfcom 130A)を用いて、測定長40mm、速度0.3mm/sにて測定されうる。   The ten-point average roughness RzJIS of the surface of the outermost layer A is a method in accordance with JIS-B0601; specifically, using a surface roughness type measuring instrument (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., surfcom 130A), a measurement length of 40 mm, It can be measured at a speed of 0.3 mm / s.

最外層Aの表面の十点平均粗さRzJISは、例えば、後述するフィルムの製造工程における、キャストロールの表面粗さ、またはタッチロールの表面粗さなどによって調整することができる。   The ten-point average roughness RzJIS of the surface of the outermost layer A can be adjusted by, for example, the surface roughness of the cast roll or the surface roughness of the touch roll in the film production process described later.

前述の通り、本発明の離型フィルムは、機械的強度が低いと、金型内で局所的に伸びすぎてしまい、金型内の離型フィルムに凹凸皺が生じることがある。例えば、最外層Aの主成分である4−メチル−1−ペンテン共重合体の単層フィルムは、降伏点を有するため、伸張変形する際に不均一変形が生じやすい。それにより、フィルムが局所的に伸びすぎることによる凹凸皺が発生しやすい。このような凹凸皺も、前述と同様に、局所的な離型性の低下を生じさせ、樹脂成形体であるLEDパッケージの表面が荒れる原因となる。   As described above, when the release film of the present invention has a low mechanical strength, it may be stretched locally in the mold, and uneven mold may occur in the release film in the mold. For example, a single-layer film of 4-methyl-1-pentene copolymer, which is the main component of the outermost layer A, has a yield point, and therefore tends to be unevenly deformed when stretch-deformed. Thereby, uneven wrinkles due to excessive stretching of the film tend to occur. Similar to the above, such uneven ridges also cause a local decrease in releasability and cause the surface of the LED package, which is a resin molded body, to become rough.

この凹凸皺は、金型温度で均一変形する基材層Cを、本発明の離型フィルムに含有させることで解決できる。そのため、基材層Cは、降伏点を有さない材料で構成されることが好ましい。   This uneven surface can be solved by including the base material layer C that is uniformly deformed at the mold temperature in the release film of the present invention. Therefore, the base material layer C is preferably composed of a material that does not have a yield point.

基材層C
基材層Cは、離型フィルムの基材としての機能を有する。そのため、基材層Cは、耐熱性および機械的特性に優れることが好ましい。特に、基材層Cの主成分となる樹脂は、最外層Aの主成分である4−メチル−1−ペンテン共重合体よりも、高温での強度および耐クリープ性に優れることが好ましい。ここでの高温とは、樹脂成形体を製造する際の金型温度を意味する。
Base material layer C
The base material layer C has a function as a base material of the release film. Therefore, it is preferable that the base material layer C is excellent in heat resistance and mechanical properties. In particular, the resin that is the main component of the base material layer C is preferably superior in strength and creep resistance at a higher temperature than the 4-methyl-1-pentene copolymer that is the main component of the outermost layer A. The high temperature here means the mold temperature when producing the resin molded body.

このような樹脂の例には、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂およびポリアミド樹脂が含まれる。なかでも、ポリアミド樹脂が好ましく、脂肪族ポリアミド樹脂がより好ましい。これらのポリアミド樹脂は、ポリエチレンテレフタレート樹脂等のポリエステル系樹脂と比較して、後述の接着層Bに含まれる変性4−メチル−1ーペンテン系重合体との接着性が高いため、最外層Aと基材層Cとの層間剥離を効果的に抑制できる。   Examples of such resins include polycarbonate resins, polyester resins and polyamide resins. Of these, polyamide resins are preferable, and aliphatic polyamide resins are more preferable. Since these polyamide resins have higher adhesiveness with the modified 4-methyl-1-pentene polymer contained in the adhesive layer B described later, compared to polyester resins such as polyethylene terephthalate resin, the outermost layer A and the base resin Delamination with the material layer C can be effectively suppressed.

脂肪族ポリアミド樹脂は、ラクタムの開環重合;脂肪族ジアミン成分と脂肪族ジカルボン酸成分との重縮合反応;または脂肪族アミノカルボン酸の重縮合によって得ることができる。   The aliphatic polyamide resin can be obtained by ring-opening polymerization of lactam; polycondensation reaction between an aliphatic diamine component and an aliphatic dicarboxylic acid component; or polycondensation of an aliphatic aminocarboxylic acid.

ラクタムを開環重合して得られる脂肪族ポリアミドの例には、ポリアミド6、ポリアミド11、ポリアミド12およびポリアミド612等が含まれる。脂肪族ジアミン成分と脂肪族ジカルボン酸成分との重縮合で得られる脂肪族ポリアミドの例には、ポリアミド66、ポリアミド610、ポリアミド46、ポリアミドMXD6、ポリアミド6T、ポリアミド6Iおよびポリアミド9T等が含まれる。   Examples of the aliphatic polyamide obtained by ring-opening polymerization of lactam include polyamide 6, polyamide 11, polyamide 12 and polyamide 612. Examples of the aliphatic polyamide obtained by polycondensation of an aliphatic diamine component and an aliphatic dicarboxylic acid component include polyamide 66, polyamide 610, polyamide 46, polyamide MXD6, polyamide 6T, polyamide 6I, and polyamide 9T.

なかでも、ポリアミド6またはポリアミド66が好ましく;ポリアミド6がより好ましい。これらのポリアミドは、後述する接着層Bとの接着性が良好であるだけでなく、高融点かつ高弾性率であり、耐熱性および機械的特性に優れるからである。これらのポリアミドを含む基材層Cを有する離型フィルムは、金型内でシワを生じ難いだけでなく、ピンホール状の破れも生じ難い。ピンホール状の破れを介した封止樹脂の漏れが著しいと、金型キャビティ内壁に封止樹脂の成分の一部が付着および堆積し、短時間で金型を汚染するため、好ましくない。   Of these, polyamide 6 or polyamide 66 is preferred; polyamide 6 is more preferred. This is because these polyamides not only have good adhesion to the adhesive layer B described later, but also have a high melting point and a high elastic modulus, and are excellent in heat resistance and mechanical properties. The release film having the base material layer C containing these polyamides is not only less likely to be wrinkled in the mold, but also less likely to be pinhole-shaped. If the leakage of the sealing resin through the pinhole-like breakage is significant, a part of the component of the sealing resin adheres to and accumulates on the inner wall of the mold cavity, which is not preferable.

脂肪族ポリアミドの、DSC法により測定される融点は、190℃以上が好ましい。190℃よりも低い融点を有する脂肪族ポリアミドを基材層Cとする離型フィルムは、耐熱性が十分でないことがあり、シワが生じやすいからである。   The melting point of aliphatic polyamide measured by DSC method is preferably 190 ° C. or higher. This is because a release film having an aliphatic polyamide having a melting point lower than 190 ° C. as the base material layer C may not have sufficient heat resistance and is likely to be wrinkled.

基材層Cは、多層であってもよく、例えば「C/C’/C」で示されるように3層であってもよい。その場合、基材層Cおよび基材層C’の少なくとも一方がポリアミド6を含むことが好ましい。   The base material layer C may be a multilayer, for example, three layers as indicated by “C / C ′ / C”. In that case, it is preferable that at least one of the base material layer C and the base material layer C ′ includes the polyamide 6.

基材層Cは、前述のポリアミド樹脂等以外の他の樹脂をさらに含んでもよい。他の樹脂の好ましい例には、最外層Aの主成分である4−メチル−1−ペンテン系重合体よりも、高温での引張応力や圧縮応力に対する耐クリープ性に優れる耐熱エラストマーや、応力緩和しにくく、弾性回復性の高い耐熱エラストマーなどが含まれる。   The base material layer C may further include other resins other than the above-described polyamide resin and the like. Preferred examples of other resins include heat-resistant elastomers that are superior in creep resistance to tensile stress and compressive stress at high temperatures and stress relaxation than 4-methyl-1-pentene polymers that are the main component of outermost layer A. Heat resistant elastomers that are difficult to resist and have high elastic recovery properties are included.

このような耐熱エラストマーの例には、接着層Bとの接着性を考慮すると、熱可塑性ポリアミド系エラストマー、熱可塑性ポリエステル系エラストマーなどが含まれる。   Examples of such heat resistant elastomers include thermoplastic polyamide-based elastomers, thermoplastic polyester-based elastomers, and the like in consideration of adhesiveness with the adhesive layer B.

熱可塑性ポリアミド系エラストマーの例には、ポリアミドをハードセグメントとし、ポリエステルまたはポリエーテルをソフトセグメントとするブロック共重合体が含まれる。ハードセグメントを構成するポリアミドの例には、ポリアミド6、ポリアミド66、ポリアミド610、ポリアミド612、ポリアミド11などが含まれる。ソフトセグメントを構成するポリエーテルの例には、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリプロピレングリコール(PPG)、ポリテトラメチレングリコール(PTMG)などが含まれる。   Examples of the thermoplastic polyamide-based elastomer include a block copolymer having polyamide as a hard segment and polyester or polyether as a soft segment. Examples of the polyamide constituting the hard segment include polyamide 6, polyamide 66, polyamide 610, polyamide 612, polyamide 11 and the like. Examples of the polyether constituting the soft segment include polyethylene glycol (PEG), polypropylene glycol (PPG), polytetramethylene glycol (PTMG), and the like.

熱可塑性ポリエステル系エラストマーの例には、結晶性の芳香族ポリエステル単位からなる結晶性重合体をハードセグメントとし、ポリエーテル単位または脂肪族ポリエステル単位からなる非晶性重合体をソフトセグメントとするブロック共重合体が含まれる。ハードセグメントを構成する結晶性の芳香族ポリエステル単位からなる結晶性重合体の例には、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリブチレンナフタレート(PBN)などが含まれる。ソフトセグメントを構成するポリエーテル単位からなる非晶性重合体の例には、ポリテトラメチレンエーテルグリコール(PTMG)などが含まれる。ソフトセグメントを構成する脂肪族ポリエステル単位からなる非晶性重合体の例には、ポリカプロラクトン(PCL)などの脂肪族ポリエステルが含まれる。   Examples of thermoplastic polyester elastomers include block copolymers in which a crystalline polymer composed of crystalline aromatic polyester units is used as a hard segment, and an amorphous polymer composed of polyether units or aliphatic polyester units is used as a soft segment. A polymer is included. Examples of the crystalline polymer comprising crystalline aromatic polyester units constituting the hard segment include polybutylene terephthalate (PBT) and polybutylene naphthalate (PBN). Examples of the amorphous polymer composed of polyether units constituting the soft segment include polytetramethylene ether glycol (PTMG). Examples of the amorphous polymer composed of aliphatic polyester units constituting the soft segment include aliphatic polyesters such as polycaprolactone (PCL).

熱可塑性ポリエステル系エラストマーの具体例には、ポリブチレンテレフタレート(PBT)とポリテトラメチレンエーテルグリコール(PTMG)とのブロック共重合体;ポリブチレンテレフタレート(PBT)とポリカプロラクトン(PCL)とのブロック共重合体;ポリブチレンナフタレート(PBN)と脂肪族ポリエステルとのブロック共重合体などが含まれる。   Specific examples of the thermoplastic polyester elastomer include a block copolymer of polybutylene terephthalate (PBT) and polytetramethylene ether glycol (PTMG); a block copolymer of polybutylene terephthalate (PBT) and polycaprolactone (PCL). Polymers; block copolymers of polybutylene naphthalate (PBN) and aliphatic polyesters are included.

熱可塑性ポリアミド系エラストマーおよび熱可塑性ポリエステル系エラストマーのDSC法により測定される融点は、190℃以上であることが好ましい。なお、熱可塑性エラストマーの融点が190℃未満であっても、熱可塑性エラストマーを、架橋剤や架橋助剤により化学的に架橋させたり、紫外線や電子線、ガンマ線などで物理的に架橋させたりすることで、高温での耐クリープ性や弾性回復性を向上させてもよい。   The melting point of the thermoplastic polyamide-based elastomer and the thermoplastic polyester-based elastomer measured by the DSC method is preferably 190 ° C. or higher. Even if the melting point of the thermoplastic elastomer is less than 190 ° C., the thermoplastic elastomer is chemically crosslinked with a crosslinking agent or a crosslinking aid, or physically crosslinked with ultraviolet rays, electron beams, gamma rays, or the like. Thus, creep resistance and elastic recovery at high temperatures may be improved.

基材層Cは、本発明の目的を損なわない範囲で、公知の添加剤をさらに含んでいてもよい。基材層Cがポリアミド樹脂を主成分として含む場合、添加剤は、例えば耐熱老化の改善を目的とした銅化合物系を含む耐熱安定剤;ステアリン酸カルシウムおよびステアリン酸アルミニウムなどの滑剤などの公知の添加剤であってよい。   The base material layer C may further contain a known additive as long as the object of the present invention is not impaired. When the base material layer C contains a polyamide resin as a main component, the additive is, for example, a heat-resistant stabilizer containing a copper compound for the purpose of improving heat aging; known additives such as lubricants such as calcium stearate and aluminum stearate It may be an agent.

前述の通り、最外層Aのダイナミック硬さが一定以下であっても、基材層Cが金型温度で降伏点を有していたり、機械的強度が低すぎたりすると、離型フィルムの金型への固定時や金型成形時に、離型フィルムが局所的に伸びすぎて、凹凸皺を生じることがある。そのような凹凸皺は、樹脂成形体の表面に転写されて、外観不良を生じる場合がある。そこで、基材層Cは、降伏点を有さず、かつ120℃での貯蔵弾性率E’が一定範囲内であることが好ましく、例えば15MPa以上1000MPa以下であることが好ましい。   As described above, even if the dynamic hardness of the outermost layer A is below a certain level, if the base material layer C has a yield point at the mold temperature or the mechanical strength is too low, the mold of the release film At the time of fixing to a mold or molding a mold, the release film may be excessively stretched locally, resulting in irregularities. Such uneven ridges may be transferred to the surface of the resin molded body, resulting in poor appearance. Therefore, the base material layer C does not have a yield point, and the storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. is preferably within a certain range, for example, preferably 15 MPa or more and 1000 MPa or less.

接着層B
本発明の離型フィルムは、基材層Cと最外層Aとの層間接着性を高めるためには、基材層Cと最外層Aとを接着させる接着層Bをさらに含むことが好ましい。
Adhesive layer B
In order to improve the interlayer adhesion between the base material layer C and the outermost layer A, the release film of the present invention preferably further includes an adhesive layer B that adheres the base material layer C and the outermost layer A.

接着層Bは、基材層Cと最外層Aとの間に配置される。接着層Bを配置することで、成形において型締めする際に、金型内で離型フィルムに応力が集中し易い箇所における基材層Cと最外層Aとの層間剥離を抑制しうる。応力が集中しやすい箇所とは、例えば金型のキャビティの周縁部分(金型のキャビティ面とパーティング面の境界部分)などである。   The adhesive layer B is disposed between the base material layer C and the outermost layer A. By disposing the adhesive layer B, it is possible to suppress delamination between the base material layer C and the outermost layer A at a location where stress tends to concentrate on the release film in the mold when the mold is clamped. The part where the stress tends to concentrate is, for example, a peripheral part of the mold cavity (a boundary part between the cavity surface of the mold and the parting surface).

接着層Bは、最外層Aおよび基材層Cの両方に対してなじみやすい樹脂を含むことが好ましい。そのため、接着層Bの主成分となる樹脂は、最外層Aの主成分である4−メチル−1−ペンテン共重合体を、基材層Cとなじみやすいように変性したもの(変性4−メチル−1−ペンテン共重合体)を含むことが好ましい。基材層Cは、好ましくはポリアミド樹脂を含むことから、変性4−メチル−1−ペンテン共重合体は、4−メチル−1−ペンテン共重合体を、不飽和カルボン酸およびその酸無水物の少なくとも一方(以下「不飽和カルボン酸等」ともいう)で変性したものであることが好ましい。   The adhesive layer B preferably contains a resin that is easily compatible with both the outermost layer A and the base material layer C. Therefore, the resin that is the main component of the adhesive layer B is a resin obtained by modifying 4-methyl-1-pentene copolymer, which is the main component of the outermost layer A, so as to be easily compatible with the base material layer C (modified 4-methyl). -1-pentene copolymer). Since the base material layer C preferably contains a polyamide resin, the modified 4-methyl-1-pentene copolymer is obtained by converting the 4-methyl-1-pentene copolymer into an unsaturated carboxylic acid and its acid anhydride. It is preferably modified with at least one (hereinafter also referred to as “unsaturated carboxylic acid etc.”).

不飽和カルボン酸等で変性された4−メチル−1−ペンテン共重合体は、4−メチル−1−ペンテン共重合体と不飽和カルボン酸等とを共重合させること、好ましくは4−メチル−1−ペンテン共重合体と不飽和カルボン酸等とをグラフト重合させることによって得ることができる。4−メチル−1−ペンテン共重合体と不飽和カルボン酸等とのグラフト重合は、公知の方法、例えば4−メチル−1−ペンテン共重合体と不飽和カルボン酸等とを過酸化物等の存在下で溶融混練することによって行うことができる。   The 4-methyl-1-pentene copolymer modified with an unsaturated carboxylic acid or the like is obtained by copolymerizing a 4-methyl-1-pentene copolymer with an unsaturated carboxylic acid or the like, preferably 4-methyl- It can be obtained by graft polymerization of 1-pentene copolymer and unsaturated carboxylic acid. Graft polymerization of 4-methyl-1-pentene copolymer and unsaturated carboxylic acid or the like may be carried out by a known method, for example, 4-methyl-1-pentene copolymer and unsaturated carboxylic acid or the like such as peroxide. It can be carried out by melt-kneading in the presence.

変性される4−メチル−1−ペンテン共重合体は、好ましくは前述の4−メチル−1−ペンテン共重合体でありうる。変性される4−メチル−1−ペンテン共重合体は、最外層Aと同一のものでもよいし、異なるものでもよい。変性される4−メチル−1−ペンテン共重合体の、135℃、デカヒドロナフタレン中で測定される極限粘度[η]は、0.5〜25dl/gが好ましく、0.5〜5dl/gがより好ましい。   The 4-methyl-1-pentene copolymer to be modified may preferably be the aforementioned 4-methyl-1-pentene copolymer. The 4-methyl-1-pentene copolymer to be modified may be the same as or different from that of the outermost layer A. The intrinsic viscosity [η] of the modified 4-methyl-1-pentene copolymer measured in decahydronaphthalene at 135 ° C. is preferably 0.5 to 25 dl / g, preferably 0.5 to 5 dl / g. Is more preferable.

不飽和カルボン酸等の例には、カルボキシル基と不飽和基を有する炭素数3〜20の不飽和化合物、無水カルボン酸基と不飽和基を有する炭素数3〜20の不飽和化合物などが含まれる。不飽和基の例には、ビニル基、ビニレン基、および不飽和環状炭化水素基が含まれる。   Examples of the unsaturated carboxylic acid include unsaturated compounds having 3 to 20 carbon atoms having a carboxyl group and an unsaturated group, unsaturated compounds having 3 to 20 carbon atoms having a carboxylic anhydride group and an unsaturated group, and the like. It is. Examples of the unsaturated group include a vinyl group, a vinylene group, and an unsaturated cyclic hydrocarbon group.

不飽和カルボン酸等の具体的な例には、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和モノカルボン酸;マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、アリルコハク酸、メサコン酸、グルタコン酸、ナジック酸TM、メチルナジック酸、テトラヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸等の不飽和ジカルボン酸;および無水マイレン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水アリルコハク酸、無水グルタコン酸、無水ナジック酸TM、無水メチルナジック酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸等の不飽和ジカルボン酸無水物などが含まれる。なかでも、マレイン酸、無水マレイン酸、ナジック酸TM、または無水ナジック酸TMが好ましく、無水マレイン酸がより好ましい。これらは単独で、または2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Specific examples of unsaturated carboxylic acids include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid; maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, allyl succinic acid, mesaconic acid, glutaconic acid, nadic acid TM Unsaturated dicarboxylic acids such as methyl nadic acid, tetrahydrophthalic acid, methyl hexahydrophthalic acid; and maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, allyl succinic anhydride, glutaconic anhydride, nadic acid anhydride TM, methyl nadic anhydride Examples thereof include unsaturated dicarboxylic acid anhydrides such as acid, tetrahydrophthalic anhydride, and methyltetrahydrophthalic anhydride. Among these, maleic acid, maleic anhydride, nadic acid TM, or nadic anhydride TM is preferable, and maleic anhydride is more preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

変性された4−メチル−1−ペンテン共重合体(以下「変性4−メチル−1−ペンテン共重合体」ともいう)のグラフト率は、20質量%以下であることが好ましく、0.1〜5質量%であることがより好ましく、0.5〜2質量%であることがさらに好ましい。グラフト率が上記範囲にある変性4−メチル−1−ペンテン共重合体は、最外層Aおよび基材層Cの両方に対して良好な接着性を有する。   The graft ratio of the modified 4-methyl-1-pentene copolymer (hereinafter also referred to as “modified 4-methyl-1-pentene copolymer”) is preferably 20% by mass or less. More preferably, it is 5 mass%, and it is further more preferable that it is 0.5-2 mass%. The modified 4-methyl-1-pentene copolymer having a graft ratio in the above range has good adhesion to both the outermost layer A and the base material layer C.

変性4−メチル−1−ペンテン共重合体は、実質的に架橋構造を有さないことが好ましい。変性4−メチル−1−ペンテン系重合体が架橋構造を有さないことは、変性4−メチル−1−ペンテン共重合体を、例えばp−キシレン等の有機溶媒に溶解させて、ゲル状物が存在しないことによって確認できる。   It is preferable that the modified 4-methyl-1-pentene copolymer has substantially no crosslinked structure. The fact that the modified 4-methyl-1-pentene polymer does not have a crosslinked structure means that the modified 4-methyl-1-pentene copolymer is dissolved in an organic solvent such as p-xylene to form a gel-like product. Can be confirmed by the absence of.

変性4−メチル−1−ペンテン共重合体の、135℃、デカヒドロナフタレン中で測定される極限粘度[η]は、0.2〜10dl/gであることが好ましく、0.5〜5dl/gであることがより好ましい。   The intrinsic viscosity [η] of the modified 4-methyl-1-pentene copolymer measured in decahydronaphthalene at 135 ° C. is preferably 0.2 to 10 dl / g, and preferably 0.5 to 5 dl / g. More preferably, it is g.

接着層Bの主成分となる樹脂は、前述の変性4−メチル−1−ペンテン共重合体のみであってもよいし、変性4−メチル−1−ペンテン共重合体と他のα−オレフィン重合体との混合物であってもよい。変性4−メチル−1−ペンテン共重合体と他のα−オレフィン重合体との混合物における、変性4−メチル−1−ペンテン共重合体の含有割合は、20〜40質量%であることが好ましい。   The resin as the main component of the adhesive layer B may be only the above-mentioned modified 4-methyl-1-pentene copolymer, or the modified 4-methyl-1-pentene copolymer and other α-olefin polymers. It may be a mixture with coalescence. The content ratio of the modified 4-methyl-1-pentene copolymer in the mixture of the modified 4-methyl-1-pentene copolymer and another α-olefin polymer is preferably 20 to 40% by mass. .

α−オレフィン重合体は、好ましくは炭素原子数2〜20のα−オレフィン重合体である。炭素原子数2〜20のα−オレフィン重合体の例には、エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−テトラデセン、1−オクタデセンなどの重合体が含まれる。中でも、1−ブテン系重合体が好ましい。   The α-olefin polymer is preferably an α-olefin polymer having 2 to 20 carbon atoms. Examples of the α-olefin polymer having 2 to 20 carbon atoms include polymers such as ethylene, propylene, 1-butene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-tetradecene and 1-octadecene. It is. Among these, a 1-butene polymer is preferable.

1−ブテン系重合体は、1−ブテンの単独重合体、または1−ブテンと1−ブテン以外の炭素原子数2〜20のα−オレフィンとの共重合体でありうる。1−ブテン以外の炭素原子数2〜20のα−オレフィンの例には、エチレン、プロピレン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−テトラデセン、1−オクタデセンなどが含まれ;好ましくはエチレンまたはプロピレンである。   The 1-butene polymer may be a homopolymer of 1-butene or a copolymer of 1-butene and an α-olefin having 2 to 20 carbon atoms other than 1-butene. Examples of α-olefins having 2 to 20 carbon atoms other than 1-butene include ethylene, propylene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-tetradecene, 1-octadecene, etc .; preferably Ethylene or propylene.

1−ブテン系重合体は、1−ブテン由来の構成単位を60質量%以上含むことが好ましく、80質量%以上含むことがより好ましい。このような1−ブテン系重合体は、変性4−メチル−1−ペンテン共重合体との混合性(または相溶性)に優れるためである。   The 1-butene polymer preferably contains 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more of a structural unit derived from 1-butene. This is because such a 1-butene polymer is excellent in miscibility (or compatibility) with the modified 4-methyl-1-pentene copolymer.

1−ブテン系重合体の、ASTM D1238に準じて、荷重2.16kg、温度190℃で測定されるメルトフローレート(MFR)は、0.01〜100g/10分であることが好ましく、0.1〜50g/10分であることがより好ましい。MFRが上記範囲内にある1−ブテン系重合体は、変性4−メチル−1−ペンテン共重合体との混合性(または相溶性)が良好であり、接着層Bの接着性を高めうる。   The melt flow rate (MFR) of the 1-butene polymer measured at a load of 2.16 kg and a temperature of 190 ° C. in accordance with ASTM D1238 is preferably 0.01 to 100 g / 10 min. It is more preferable that it is 1-50 g / 10min. The 1-butene polymer having an MFR in the above range has good mixing properties (or compatibility) with the modified 4-methyl-1-pentene copolymer, and can improve the adhesiveness of the adhesive layer B.

接着層Bも、最外層Aや基材層Cと同様に、主成分の他に、前述の添加剤を含んでもよい。   Similar to the outermost layer A and the base material layer C, the adhesive layer B may also contain the aforementioned additives in addition to the main component.

本発明の離型フィルムに含まれる基材層Cおよび接着層Bは、それぞれ一つであっても、複数あってもよい。基材層Cが、多層である場合、複数の基材層が直接積層されてもよいし、基材層同士の間に他の層(例えば接着層)がさらに配置されてもよい。   The substrate layer C and the adhesive layer B included in the release film of the present invention may be either one or plural. When the base material layer C is a multilayer, a plurality of base material layers may be directly laminated, or another layer (for example, an adhesive layer) may be further disposed between the base material layers.

他の最外層A’
本発明の離型フィルムは、必要に応じて、前述した層以外の層をさらに含んでもよい。そのような層の例には、基材層Cの他方の面上に直接または接着層Bなどを介して配置され、離型フィルムの最外層Aとは反対側の面を構成する他の最外層A’が含まれる。
Other outermost layer A '
The release film of the present invention may further include a layer other than the layers described above, if necessary. Examples of such a layer include other outermost layers that are disposed on the other surface of the base material layer C directly or via an adhesive layer B and constitute the surface opposite to the outermost layer A of the release film. An outer layer A ′ is included.

樹脂成形体からの離型性だけでなく、金型からの離型性も得るためには、他の最外層A’は、4−メチル−1−ペンテン系重合体を主成分として含むことが好ましい。   In order to obtain not only mold releasability from the resin molded body but also mold releasability from the mold, the other outermost layer A ′ may contain a 4-methyl-1-pentene polymer as a main component. preferable.

他の最外層A’に含まれる4−メチル−1−ペンテン系重合体は、4−メチル−1−ペンテンの単独重合体であっても、4−メチル−1−ペンテンとそれ以外の他の成分との共重合体(4−メチル−1−ペンテン共重合体)であってもよい。他の最外層A’に含まれる4−メチル−1−ペンテン共重合体としては、最外層Aに含まれる4−メチル−1−ペンテン共重合体と同様のものが挙げられる。   The 4-methyl-1-pentene polymer contained in the other outermost layer A ′ may be a homopolymer of 4-methyl-1-pentene, but 4-methyl-1-pentene and other other polymers. A copolymer with a component (4-methyl-1-pentene copolymer) may be used. Examples of the 4-methyl-1-pentene copolymer contained in the other outermost layer A ′ include those similar to the 4-methyl-1-pentene copolymer contained in the outermost layer A.

他の最外層A’の表面の十点平均粗さRzJISは、特に制限されないが、最外層A’と同様に一定以下であることが好ましい。これは、後述するLED封止体の製造工程において、ある一定の成形圧力が離型フィルムと樹脂成形体に加わることにより、最外層A’のRzJISに起因する凹凸だけでなく、他の最外層A’のRzJIS(金型に接している面のRzJIS)に起因する凸凹も樹脂成形体へ転写されるおそれがあるからである。   The ten-point average roughness RzJIS of the surface of the other outermost layer A ′ is not particularly limited, but it is preferably not more than a certain value like the outermost layer A ′. This is because not only the irregularities caused by RzJIS of the outermost layer A ′ but also other outermost layers by applying a certain molding pressure to the release film and the resin molded body in the manufacturing process of the LED sealing body described later. This is because unevenness caused by Az RzJIS (RzJIS of the surface in contact with the mold) may be transferred to the resin molded body.

即ち、他の最外層A’の表面の十点平均粗さRzJISは、0μm以上1.5μm以下であることが好ましく、0μm以上1.0μm以下であることがより好ましく、0μm以上0.5μm以下であることがさらに好ましい。   That is, the ten-point average roughness RzJIS of the surface of the other outermost layer A ′ is preferably 0 μm or more and 1.5 μm or less, more preferably 0 μm or more and 1.0 μm or less, and 0 μm or more and 0.5 μm or less. More preferably.

他の最外層A’の表面の十点平均粗さRzJISは、前述と同様に、フィルムの製造工程におけるキャストロールまたはタッチロールの表面粗さ(好ましくはタッチロールの表面粗さ)などによって調整することができる。   The ten-point average roughness RzJIS of the surface of the other outermost layer A ′ is adjusted by the surface roughness of the cast roll or touch roll (preferably the surface roughness of the touch roll) in the film production process, as described above. be able to.

もちろん、基材層Cが、耐熱性だけでなく離型性も有する場合には、離型フィルムの最外層Aとは反対側の面を構成する層は、基材層Cであってもよい。   Of course, when the base material layer C has not only heat resistance but also releasability, the layer constituting the surface opposite to the outermost layer A of the release film may be the base material layer C. .

本発明の離型フィルムの具体的な積層構造の例には、以下の態様が含まれる。以下の態様において、Aは最外層Aであり;Bは接着層Bであり;Cは基材層Cであり;A’は他の最外層A’であり;C’は、基材層C(中心層)の一つであり;Dは基材層Cと基材層C’を接着する接着層である。
A/C
A/C/A’
A/B/C
A/B/C/B/A’
A/B/C/C’/C/B/A’
A/B/C/D/C’/D/C/B/A’
Examples of the specific laminated structure of the release film of the present invention include the following aspects. In the following embodiments, A is the outermost layer A; B is the adhesive layer B; C is the substrate layer C; A ′ is the other outermost layer A ′; C ′ is the substrate layer C. D is an adhesive layer that bonds the base material layer C and the base material layer C ′.
A / C
A / C / A '
A / B / C
A / B / C / B / A '
A / B / C / C '/ C / B / A'
A / B / C / D / C '/ D / C / B / A'

これらの中でも、製造が容易であることなどから、「A/B/C/B/A’」の5層構造が好ましい。図1は、本発明の離型フィルムの好ましい構成の一例を示す模式図である。図1に示されるように、離型フィルム10は、基材層11と、基材層11を挟持する最外層15およびそれとは反対側の面を構成する他の最外層15’と、基材層11と最外層15との間、または基材層11と他の最外層15’との間に配置される一対の接着層13とを有する。基材層11は前記基材層Cであり;最外層15は前記最外層Aであり;接着層13は前記接着層Bであり;他の最外層15’は他の最外層A’である。   Among these, a five-layer structure of “A / B / C / B / A ′” is preferable because it is easy to manufacture. FIG. 1 is a schematic view showing an example of a preferred configuration of the release film of the present invention. As shown in FIG. 1, the release film 10 includes a base material layer 11, an outermost layer 15 that sandwiches the base material layer 11, another outermost layer 15 ′ that constitutes a surface opposite to the base material layer 11, and a base material It has a pair of contact bonding layer 13 arrange | positioned between the layer 11 and the outermost layer 15, or between the base material layer 11 and other outermost layer 15 '. The base layer 11 is the base layer C; the outermost layer 15 is the outermost layer A; the adhesive layer 13 is the adhesive layer B; the other outermost layer 15 ′ is the other outermost layer A ′. .

離型フィルム10の一方の面を構成する最外層15は、得られる樹脂成形体に接し;他方の面を構成する他の最外層15’は、金型内面に接する。そのため、離型フィルム10は、得られる樹脂成形体からの離型性だけでなく、金型内面からの離型性も良好になりうる。   The outermost layer 15 constituting one surface of the release film 10 is in contact with the obtained resin molding; the other outermost layer 15 ′ constituting the other surface is in contact with the inner surface of the mold. Therefore, the release film 10 can have good release properties from the inner surface of the mold as well as release properties from the obtained resin molding.

このように、離型フィルム10は、中心層に対して対称な積層構造を有することが好ましい。対称な積層構造を有する離型フィルムは、金型内に固定されて加熱されたときに、熱膨張差や吸湿等による変形(反りなど)を生じにくいからである。   Thus, it is preferable that the release film 10 has a symmetrical laminated structure with respect to the center layer. This is because the release film having a symmetric laminated structure is less likely to be deformed (warped or the like) due to a difference in thermal expansion or moisture absorption when heated in a mold.

また、最外層15と他の最外層15’や一対の接着層13などの、離型フィルム10の中心層に対して対称な位置に配置される一対の層(同じ材質で構成される層)の厚みを同じにすることが好ましい。熱膨張率などに起因する変形量を互いに打ち消して、離型フィルムの変形(反りなど)を高度に抑制しうるからである。   In addition, a pair of layers (layers made of the same material) arranged at positions symmetrical to the center layer of the release film 10 such as the outermost layer 15 and the other outermost layer 15 ′ and a pair of adhesive layers 13. It is preferable to have the same thickness. This is because the deformation amounts (warping, etc.) of the release film can be highly suppressed by canceling out the deformation amounts due to the coefficient of thermal expansion.

離型フィルムの物性
離型フィルムの総厚みは、20〜100μmであることが好ましく、40〜60μmであることがより好ましい。離型フィルムの総厚みを一定以上にすることで、フィルムの機械的強度を確保しやすい。一方、離型フィルムの総厚みを一定以下とすることで、複雑な形状の金型に対しても良好な追従性が得られやすい。
Physical properties of release film The total thickness of the release film is preferably 20 to 100 µm, and more preferably 40 to 60 µm. By setting the total thickness of the release film to a certain level or more, it is easy to ensure the mechanical strength of the film. On the other hand, by setting the total thickness of the release film to a certain value or less, good followability can be easily obtained even for a complicatedly shaped mold.

具体的には、離型フィルムの総厚みが大きすぎると、機械的強度が高くなりすぎるため、金型の微細な形状に追従しにくい(金型への追従性が低下する)ことがある。それにより、金型の形状を忠実に再現できなかったり、樹脂成形体のサイズが設計よりも小さくなったりする可能性がある。それにより、余剰の封止樹脂が、金型から漏れ出すおそれがある。一方、離型フィルムの総厚みが小さすぎると、離型フィルムの機械的強度が低すぎて、成形工程で離型フィルムが破れて、樹脂漏れなどの不具合を生じる可能性がある。   Specifically, if the total thickness of the release film is too large, the mechanical strength becomes too high, and it may be difficult to follow the fine shape of the mold (followability to the mold will be reduced). Thereby, there is a possibility that the shape of the mold cannot be faithfully reproduced, or the size of the resin molded body may be smaller than the design. Thereby, excess sealing resin may leak from the mold. On the other hand, if the total thickness of the release film is too small, the mechanical strength of the release film is too low, and the release film may be torn in the molding process, causing problems such as resin leakage.

離型フィルムの各層の厚みは、離型フィルムの総厚みが前記範囲になるように調整されればよい。具体的には、最外層Aの厚みは、1〜30μmであることが好ましく、5〜15μmであることがより好ましい。接着層Bの厚みは、1〜20μmであることが好ましく;基材層Cの厚みは、10〜40μmであることが好ましい。   The thickness of each layer of a release film should just be adjusted so that the total thickness of a release film may become the said range. Specifically, the thickness of the outermost layer A is preferably 1 to 30 μm, and more preferably 5 to 15 μm. The thickness of the adhesive layer B is preferably 1 to 20 μm; the thickness of the base material layer C is preferably 10 to 40 μm.

接着層Bおよび基材層Cがそれぞれ複数ある場合、複数の接着層Bの合計厚みは2〜20μmであることが好ましく、複数の基材層Cの合計厚みは20〜40μmであることが好ましい。接着層Bが複数ある場合、各接着層Bの厚みは1〜10μmであることが好ましい。   When there are a plurality of adhesive layers B and substrate layers C, the total thickness of the plurality of adhesive layers B is preferably 2 to 20 μm, and the total thickness of the plurality of substrate layers C is preferably 20 to 40 μm. . When there are a plurality of adhesive layers B, the thickness of each adhesive layer B is preferably 1 to 10 μm.

他の最外層A’の厚みは、最外層Aと同様であってよく、例えば1〜30μmとすることができ、好ましくは5〜15μmである。   The thickness of the other outermost layer A ′ may be the same as that of the outermost layer A, and may be, for example, 1 to 30 μm, and preferably 5 to 15 μm.

離型フィルムの金型の形状に対する追従性をさらに高めるためには、金型温度での貯蔵弾性率E’を調整することが必要である。金型温度の代表例は120℃であるため、120℃での貯蔵弾性率E’を目安とすることが好ましい。即ち、本発明の離型フィルムの120℃における貯蔵弾性率E’は、30MPa以上200MPa以下であることが好ましく、65MPa以上150MPa以下であることがより好ましい。封止樹脂の種類によっては、金型温度を120℃よりも高くする場合があるが、120℃での貯蔵弾性率E’がこの範囲の離型フィルムであれば外観不良等の問題なく使用できる。   In order to further improve the followability of the release film to the mold shape, it is necessary to adjust the storage elastic modulus E 'at the mold temperature. Since a typical example of the mold temperature is 120 ° C., the storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. is preferably used as a guide. That is, the storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. of the release film of the present invention is preferably 30 MPa or more and 200 MPa or less, and more preferably 65 MPa or more and 150 MPa or less. Depending on the type of sealing resin, the mold temperature may be higher than 120 ° C., but if the release elastic modulus E ′ at 120 ° C. is in this range, it can be used without problems such as poor appearance. .

離型フィルムの120℃における貯蔵弾性率E’が30MPa未満であると、離型フィルムが柔らかすぎるため、金型への固定時または金型成形時に離型フィルムが局所的に伸びすぎて、凹凸皺を生じる可能性がある。それにより、凹凸皺が樹脂成形体の表面に転写されて、外観不良を生じることがある。一方、120℃における貯蔵弾性率E’が150MPa超であると、離型フィルムが硬すぎるため、金型の形状に沿って伸びきれず(追従しきれず)、金型面に密着させることができない可能性がある。それにより、放射状の皺が生じ、その皺が樹脂成形体の表面に転写されて外観不良を生じることがある。   When the storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. of the release film is less than 30 MPa, the release film is too soft, so that the release film is stretched locally at the time of fixing to the mold or when the mold is formed. May cause wrinkles. Thereby, the uneven ridges may be transferred to the surface of the resin molded body, resulting in poor appearance. On the other hand, when the storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. is more than 150 MPa, the release film is too hard, so that it cannot extend along the shape of the mold (it cannot follow up) and cannot be brought into close contact with the mold surface. there is a possibility. Thereby, radial wrinkles are generated, and the wrinkles may be transferred to the surface of the resin molded body, resulting in poor appearance.

離型フィルムの貯蔵弾性率E’は、以下の方法に準拠して測定されうる。
動的粘弾性装置RSA−II(TA Instruments社製)を用いて、引張モード:振動周波数1Hz、測定速度:−80℃からサンプルが融解して測定不能になる温度まで、3℃/分の速度で昇温しながら、離型フィルムの搬送方向(MD方向)の弾性率を測定し、120℃における貯蔵弾性率E’を算出する。
The storage elastic modulus E ′ of the release film can be measured according to the following method.
Using a dynamic viscoelastic device RSA-II (manufactured by TA Instruments), tensile mode: vibration frequency 1 Hz, measurement speed: speed of 3 ° C./minute from −80 ° C. to a temperature at which the sample melts and becomes unmeasurable The elastic modulus in the conveyance direction (MD direction) of the release film is measured while raising the temperature at, and the storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. is calculated.

離型フィルムの貯蔵弾性率E’は、主に基材層Cや最外層Aの種類によって調整されうる。   The storage elastic modulus E ′ of the release film can be adjusted mainly by the type of the base layer C and the outermost layer A.

金型への固定時または金型成形時の離型フィルムの破れを抑制するために、本発明の離型フィルムの120℃における引張破壊応力は、4MPa以上40MPa以下であることが好ましく、10MPa以上25MPa以下であることがより好ましい。   In order to suppress breakage of the release film during fixing to the mold or during mold forming, the tensile fracture stress at 120 ° C. of the release film of the present invention is preferably 4 MPa or more and 40 MPa or less, preferably 10 MPa or more. More preferably, it is 25 MPa or less.

120℃における引張破壊応力が4MPa未満であると、金型に離型フィルムを装着するために真空吸着させる際に、フィルムが破れやすい。そのため、真空漏れが生じて、離型フィルムを金型内に吸着できなかったり、破れた箇所から封止樹脂が漏れ出して、金型を汚染したりする可能性がある。一方、120℃における引張破壊応力が40MPa超であると、フィルム由来と考えられる放射状の皺が樹脂成形体に転写され、外観不良を生じる可能性がある。   When the tensile fracture stress at 120 ° C. is less than 4 MPa, the film is easily broken when vacuum-adsorbed for mounting the release film on the mold. For this reason, there is a possibility that a vacuum leak occurs and the release film cannot be adsorbed in the mold, or the sealing resin leaks from the torn part and contaminates the mold. On the other hand, when the tensile fracture stress at 120 ° C. is more than 40 MPa, radial wrinkles that are considered to be derived from the film are transferred to the resin molded body, which may cause poor appearance.

離型フィルムの引張破壊応力は、以下の方法に準拠して測定されうる。
1)試験片として、離型フィルムから幅10mmで切り出した短冊片を準備する。短冊の長手方向が、フィルムの搬送方向と平行になるようにする。
2)120℃に調整した恒温槽つきの引張試験機に、前記試験片を、チャック間距離が10mmとなるように把持させる。そして、試験片を、引張速度20mm/分(一定)にて引っ張る。得られた引張応力−ひずみ曲線における引張破壊応力を、JIS−K7161に準拠して求める。
The tensile fracture stress of the release film can be measured according to the following method.
1) As a test piece, a strip piece cut out from a release film with a width of 10 mm is prepared. The longitudinal direction of the strip should be parallel to the film transport direction.
2) The test piece is held by a tensile tester with a thermostat adjusted to 120 ° C. so that the distance between chucks is 10 mm. Then, the test piece is pulled at a tensile speed of 20 mm / min (constant). The tensile fracture stress in the obtained tensile stress-strain curve is determined according to JIS-K7161.

離型フィルムの引張破壊応力は、主に基材層Cの種類によって調整されうる。   The tensile fracture stress of the release film can be adjusted mainly by the type of the base material layer C.

本発明の離型フィルムは、樹脂成形体と接する最外層Aのダイナミック硬さが一定以下に調整されている。そのため、離型フィルムの金型への固定時や金型成形時;特に金型成形時に、離型フィルムを破断させることなく、その最外層Aの表面を均一に伸張変形させやすくし、ネッキングによる厚みムラを抑制できる。それにより、樹脂成形体からの離型性を高めることができ、外観不良の少ない樹脂成形体を得ることができる。   In the release film of the present invention, the dynamic hardness of the outermost layer A in contact with the resin molded body is adjusted to a certain level or less. Therefore, when the release film is fixed to the mold or when the mold is formed; particularly when the mold is formed, the surface of the outermost layer A is easily stretched and deformed without breaking the release film. Unevenness in thickness can be suppressed. Thereby, the mold release property from a resin molding can be improved, and a resin molding with few external appearance defects can be obtained.

また、本発明の離型フィルムは、基材層Cをさらに有する。そのため、離型フィルムの金型への固定時や金型成形時に、離型フィルムが局所的に伸びすぎることによる凹凸皺をさらに抑制できる。それにより、樹脂成形体からの離型性をさらに高めることができ、外観不良の少ない樹脂成形体を得ることができる。   Moreover, the release film of the present invention further has a base material layer C. Therefore, when the release film is fixed to the mold or when the mold is formed, it is possible to further suppress uneven wrinkles due to excessive extension of the release film locally. Thereby, the releasability from the resin molded body can be further enhanced, and a resin molded body with few appearance defects can be obtained.

2.離型フィルムの製造方法
本発明の離型フィルムは、任意の方法で製造することができる。例えば、前述の4−メチル−1−ペンテン共重合体を含む最外層A用材料の溶融物と、基材層C用材料の溶融物とを共押出して得ることができる。
2. Release Film Production Method The release film of the present invention can be produced by any method. For example, it can be obtained by coextrusion of the melt of the material for the outermost layer A containing the aforementioned 4-methyl-1-pentene copolymer and the melt of the material for the base layer C.

即ち、本発明の離型フィルムは、1)少なくとも前述の4−メチル−1−ペンテン共重合体を含む最外層A用材料の溶融物と、基材層C用材料の溶融物とを積層しながら共押出する工程、2)共押出された積層物を、キャストロール(冷却ロール)上で冷却固化する工程と、を経て得ることができる。以下、図2を参照しながら、最外層A/接着層B/基材層Cの3層構造の離型フィルム29を製造する例を説明する。   That is, the release film of the present invention is obtained by laminating a melt of the outermost layer A material containing at least the aforementioned 4-methyl-1-pentene copolymer and a melt of the material for the base layer C. The step of co-extrusion while 2) the step of cooling and solidifying the co-extruded laminate on a cast roll (cooling roll) can be obtained. Hereinafter, an example of producing a release film 29 having a three-layer structure of outermost layer A / adhesive layer B / base material layer C will be described with reference to FIG.

図2は、フィルムの製造装置の一部の例を示す模式図である。図2に示されるように、フィルムの製造装置20は、主に、フィードブロック21bを有するダイス21aと、ダイス21aから押し出された溶融物を挟圧しながら冷却するキャストロール23およびタッチロール25とを有する。   FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a part of a film manufacturing apparatus. As shown in FIG. 2, the film manufacturing apparatus 20 mainly includes a die 21 a having a feed block 21 b, and a cast roll 23 and a touch roll 25 that cool while sandwiching a melt extruded from the die 21 a. Have.

1)の工程における、最外層A用材料、接着層B用材料、および基材層C用材料の各溶融物は、それぞれ溶融押出機で溶融混練して得ることができる。そして、最外層A用材料、接着層B用材料、および基材層C用材料の各溶融物を、それぞれ導管21b1、21b2および21b3を通じて、フィードブロック21bに供給する。フィードブロック21bでは、各層用の溶融物を所定の層構成となるように積層し、導管21b4を通じてダイス21aに供給する。そして、ダイス21a(例えばT型ダイス)のスリット口から、積層された溶融物をフィルム状に押し出す。   Each melt of the material for outermost layer A, the material for adhesive layer B, and the material for base material layer C in step 1) can be obtained by melt-kneading with a melt extruder. The melts of the outermost layer A material, the adhesive layer B material, and the base material layer C material are supplied to the feed block 21b through the conduits 21b1, 21b2, and 21b3, respectively. In the feed block 21b, the melt for each layer is laminated so as to have a predetermined layer configuration, and is supplied to the die 21a through the conduit 21b4. And the laminated | stacked molten material is extruded to a film form from the slit port of dice | dies 21a (for example, T-type dice | dies).

図2では、フィードブロックを有するダイスを用いたフィードブロック積層方式の例を示したが、これに限定されず、マルチホールドダイ方式やデュアルスロットダイ方式などを採用してもよい。   Although FIG. 2 shows an example of a feed block stacking method using dies having feed blocks, the present invention is not limited to this, and a multi-hold die method, a dual slot die method, or the like may be adopted.

2)の工程では、押し出された溶融物を、キャストロール23とタッチロール25とで狭圧しながら固化し、フィルム状の積層物を得る。   In the step 2), the extruded melt is solidified while being narrowed by the cast roll 23 and the touch roll 25 to obtain a film-like laminate.

得られる最外層Aのダイナミック硬さを精度よく調整するためには、最外層A用材料の溶融物がキャストロール23と接するように、溶融物を押し出すことが好ましい。   In order to accurately adjust the dynamic hardness of the outermost layer A to be obtained, it is preferable to extrude the melt so that the melt of the material for the outermost layer A is in contact with the cast roll 23.

キャストロール23の材質は、金属ロールであることが好ましい。キャストロール23の温度は、得られる最外層Aのダイナミック硬さが前述の範囲となるように調整されることが好ましい。即ち、キャストロール23の温度が低すぎると、得られる積層物に歪みが残ったり、結晶化度が低くなりすぎたりする可能性がある。キャストロール23の温度が高すぎると、冷却が不十分となり、得られる積層物の表層の結晶化度が高くなりすぎる可能性がある。キャストロール23の温度は、溶融物の種類や製造装置などによって異なるが、例えば15〜80℃とすることが好ましく、15〜40℃であることがより好ましい。   The material of the cast roll 23 is preferably a metal roll. The temperature of the cast roll 23 is preferably adjusted so that the dynamic hardness of the outermost layer A to be obtained falls within the above-mentioned range. That is, if the temperature of the cast roll 23 is too low, there is a possibility that distortion may remain in the obtained laminate or the crystallinity may be too low. If the temperature of the cast roll 23 is too high, the cooling becomes insufficient, and the crystallinity of the surface layer of the resulting laminate may become too high. Although the temperature of the cast roll 23 changes with the kind of melt, a manufacturing apparatus, etc., it is preferable to set it as 15-80 degreeC, for example, and it is more preferable that it is 15-40 degreeC.

キャストロール23の表面粗さは、得られる積層物の一方の面(好ましくは最外層Aの表面)のRzJISが前述の範囲となるように調整されればよい。   The surface roughness of the cast roll 23 may be adjusted so that RzJIS of one surface (preferably the surface of the outermost layer A) of the obtained laminate is in the above-described range.

タッチロール25は、可とう性を有する薄肉金属外筒を有するフレキシブルロールなどでありうる。タッチロール25の温度は、キャストロール23の温度と同様としうる。タッチロール25の表面粗さは、得られる積層物の他方の面(好ましくは他の最外層A’または基材層Cの表面)のRzJISが前述の範囲となるように調整されればよい。   The touch roll 25 may be a flexible roll having a thin metal outer cylinder having flexibility. The temperature of the touch roll 25 can be the same as the temperature of the cast roll 23. The surface roughness of the touch roll 25 may be adjusted so that the RzJIS of the other surface (preferably the surface of the other outermost layer A ′ or the base material layer C) of the obtained laminate is in the above range.

キャストロール23とタッチロール25とで挟圧しながら固化して得られた積層物は、必要に応じて他のロール27などでさらに搬送してもよい。それにより、例えば最外層A/接着層B/基材層Cの積層構造を有する離型フィルム29を得ることができる。   The laminate obtained by solidification while being sandwiched between the cast roll 23 and the touch roll 25 may be further conveyed by another roll 27 or the like as necessary. Thereby, for example, a release film 29 having a laminated structure of outermost layer A / adhesive layer B / base material layer C can be obtained.

3.離型フィルムを用いた金型成形方法
本発明の離型フィルムは、金型成形用の離型フィルムとして好適に用いられ、なかでも樹脂封止半導体;特にLEDパッケージの製造に好ましく用いられる。
3. Molding Method Using Release Film The release film of the present invention is suitably used as a release film for mold molding, and is particularly preferably used for the production of resin-encapsulated semiconductors; particularly LED packages.

本願発明のLEDパッケージ製造方法は、離型フィルムを成形用の金型に配置する第一の工程と、金型内にLED搭載基板を配置する第二の工程と、金型内に封止樹脂を充填して型締めし、封止樹脂を硬化させてLED封止体を得る第三の工程と、得られたLED封止体を離型フィルムから剥離させる第四の工程とを含む。   The LED package manufacturing method of the present invention includes a first step of arranging a release film in a molding die, a second step of arranging an LED mounting substrate in the die, and a sealing resin in the die. The mold is clamped, the sealing resin is cured to obtain an LED sealing body, and the fourth step of peeling the obtained LED sealing body from the release film is included.

図3に示されるように、上金型33a、および所定形状のキャビティ32が形成された下金型33bからなる成形用の金型33の下金型33bに、離型フィルム31を配置する。   As shown in FIG. 3, the release film 31 is disposed on a lower mold 33 b of a molding mold 33 including an upper mold 33 a and a lower mold 33 b in which a cavity 32 having a predetermined shape is formed.

本発明の離型フィルム31は、最外層Aとは反対側の面が、下金型33bの内面に接し;最外層A(離型層)が、後述の封止樹脂39と接するように配置する。例えば、本発明の離型フィルム31が、最外層A/接着層B/基材層C/接着層B/他の最外層A’の5層構造を有する場合、離型フィルム31は、他の最外層A’が下金型33bの内面と接し;最外層A(離型層)が、後述の封止樹脂39と接するように配置すればよい。そして、下金型33bに配置された離型フィルム31は、例えば吸引等の操作によって下金型33bの内面に密着させる。吸引時の金型温度は、例えば金型成形時と同様の温度としうる(第一の工程)。   The release film 31 of the present invention is disposed so that the surface opposite to the outermost layer A is in contact with the inner surface of the lower mold 33b; the outermost layer A (release layer) is in contact with a sealing resin 39 to be described later. To do. For example, when the release film 31 of the present invention has a five-layer structure of outermost layer A / adhesive layer B / base material layer C / adhesive layer B / other outermost layer A ′, What is necessary is just to arrange | position so that outermost layer A 'may contact the inner surface of the lower mold | die 33b; outermost layer A (release layer) may contact the sealing resin 39 mentioned later. And the release film 31 arrange | positioned at the lower metal mold | die 33b is closely_contact | adhered to the inner surface of the lower metal mold | die 33b, for example by operation, such as attraction | suction. The mold temperature at the time of suction may be, for example, the same temperature as at the time of mold molding (first step).

LEDパッケージを製造するためのキャビティ32は、直径0.5〜3mm程度の半球状あるいはそれに類似する形状である。即ち、従来の半導体封止用の金型に比して、LEDパッケージ製造用の金型は、上金型33aと下金型33bとのパーティング面からキャビティ32の最深部までの段差(ギャップ)が大きい。   The cavity 32 for manufacturing the LED package has a hemispherical shape having a diameter of about 0.5 to 3 mm or a similar shape. That is, in comparison with a conventional mold for semiconductor sealing, a mold for manufacturing an LED package has a step (gap) from the parting surface between the upper mold 33a and the lower mold 33b to the deepest part of the cavity 32. ) Is large.

なお、上金型33aには、複数のLED37を配置した基板35を配設する(第二の工程)。   The upper mold 33a is provided with a substrate 35 on which a plurality of LEDs 37 are arranged (second step).

次に、図4に示されるように、上金型33aと離型フィルム31を介した下金型33bとの間に、被成形材料として封止樹脂39を充填する。封止樹脂39としては、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を挙げることができる。なかでも、透明性を有する樹脂が好ましい。本発明の離型フィルムは、特にシリコーン樹脂を封止樹脂として用いた場合に、その成形温度において、ネッキングによる厚みムラを生じにくいため、高い離型性を有し、良好な外観の樹脂成形体を得ることができる。   Next, as shown in FIG. 4, a sealing resin 39 is filled as a molding material between the upper mold 33 a and the lower mold 33 b via the release film 31. Examples of the sealing resin 39 include thermosetting resins such as silicone resins and epoxy resins. Among these, a resin having transparency is preferable. The release film of the present invention has a high releasability and has a good appearance because it is difficult to cause thickness unevenness due to necking at the molding temperature especially when a silicone resin is used as a sealing resin. Can be obtained.

その後、図5に示されるように、金型33内に充填した封入樹脂39内に、LED37を配置して型締めする。型締め時の圧力は、特に限定されないが、1.0〜10.0MPa程度である。また、型締め時の温度も、特に限定されないが、110〜190℃程度とすればよい。   After that, as shown in FIG. 5, the LED 37 is placed in the encapsulating resin 39 filled in the mold 33 and the mold is clamped. Although the pressure at the time of mold clamping is not specifically limited, it is about 1.0-10.0 MPa. Moreover, the temperature at the time of mold clamping is not particularly limited, but may be about 110 to 190 ° C.

そして、所定の条件で封止樹脂39を硬化させる。硬化時の金型温度は、封止樹脂39の種類に応じて調整されうる。例えば、封止樹脂39としてシリコーン樹脂を用いた場合は、通常、80〜160℃あり;エポキシ樹脂を用いた場合は、通常、150〜200℃である(第三の工程)。   Then, the sealing resin 39 is cured under predetermined conditions. The mold temperature at the time of curing can be adjusted according to the type of the sealing resin 39. For example, when a silicone resin is used as the sealing resin 39, the temperature is usually 80 to 160 ° C .; when an epoxy resin is used, the temperature is usually 150 to 200 ° C. (third step).

その後、図6に示されるように、金型33を型開きする。離型フィルム31は、離型性に優れるため、金型33(上金型33a及び下金型33b)や封止樹脂39から容易に離型させることができる。以上の操作により、図7に示されるようなLEDパッケージ40を得ることができる(第四の工程)。   Thereafter, as shown in FIG. 6, the mold 33 is opened. Since the release film 31 is excellent in releasability, it can be easily released from the mold 33 (upper mold 33a and lower mold 33b) and the sealing resin 39. Through the above operation, the LED package 40 as shown in FIG. 7 can be obtained (fourth step).

本発明の離型フィルムは、最外層Aのダイナミック硬さが一定以下に調整されている。そのため、前述の第一の工程で離型フィルムを金型の内面に固定する際や、第三の工程で金型成形を行う際(特に第三の工程で金型成形を行う際)に、離型フィルムの最表面が均一に延伸されるため、離型フィルムの表面の厚みムラを抑制できる。さらに、本発明の離型フィルムは、基材層Cをさらに有するため、フィルムが局所的に伸びすぎることによる凹凸皺も抑制できる。それらにより、樹脂成形体からの離型性を高めつつ、厚みムラや凹凸皺がLEDパッケージの表面に転写されることによる外観不良を抑制できる。それにより、金型の内面形状を忠実に反映した、寸法精度の高いLEDパッケージを得ることができる。   In the release film of the present invention, the dynamic hardness of the outermost layer A is adjusted to a certain level or less. Therefore, when fixing the release film to the inner surface of the mold in the first process described above, or when performing mold molding in the third process (particularly when performing mold molding in the third process), Since the outermost surface of the release film is uniformly stretched, uneven thickness of the surface of the release film can be suppressed. Furthermore, since the release film of this invention further has the base material layer C, the uneven | corrugated wrinkles by a film extending too much locally can also be suppressed. Accordingly, it is possible to suppress appearance defects due to transfer of unevenness of thickness and irregularities on the surface of the LED package while improving releasability from the resin molded body. Thereby, it is possible to obtain an LED package with high dimensional accuracy that faithfully reflects the inner surface shape of the mold.

本発明の離型フィルムを用いた金型成形方法を、LEDパッケージの製造方法の例で説明したが、これに限定されず、成形金型を用いた各種成形方法に好ましく使用できる。また、本発明の離型フィルムは、前述の成形方法に限らず、通常の半導体素子の封止に適用されるトランスファー成形などの成形方法にも用いることができる。   The mold forming method using the release film of the present invention has been described in the example of the LED package manufacturing method. Moreover, the release film of the present invention is not limited to the above-described molding method, and can also be used in a molding method such as transfer molding applied to sealing of a normal semiconductor element.

以下において、実施例を参照して本発明をより詳細に説明する。これらの実施例によって、本発明の範囲は限定して解釈されない。   In the following, the invention will be described in more detail with reference to examples. These examples do not limit the scope of the present invention.

1.離型フィルムの材料
1)最外層A用材料/他の最外層A’用材料
(材料A−1)
4−メチル−1−ペンテンとダイアレン168(三菱化学株式会社製、炭素数16と18のα−オレフィンの混合物)との共重合体を、定法により製造した。共重合体中のダイアレン168由来の構成単位の含有割合は、6.5質量%とした。
(材料A−2)
4−メチル−1−ペンテンと1−デセンとの共重合体を、定法により製造した。共重合体中の1−デセン由来の構成単位の含有割合は、2.5質量%とした。
(材料A−3)
プロピレン78重量部、エチレン16重量部、1−ブテン6重量部の共重合体を得た。得られた共重合体90重量部と、ホモポリプロピレン(プライムポリマー製F107BV)10重量部とを溶融混錬して、熱可塑性エラストマーを得た。そして、60重量部の材料A−1と、40重量部の熱可塑性エラストマーとを260℃で2軸押出機にて混練し、混合物を得た。
1. Release Film Material 1) Material for outermost layer A / Material for other outermost layer A ′ (Material A-1)
A copolymer of 4-methyl-1-pentene and diallene 168 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, a mixture of α-olefins having 16 and 18 carbon atoms) was produced by a conventional method. The content rate of the structural unit derived from dialen 168 in the copolymer was 6.5% by mass.
(Material A-2)
A copolymer of 4-methyl-1-pentene and 1-decene was produced by a conventional method. The content ratio of the structural unit derived from 1-decene in the copolymer was 2.5% by mass.
(Material A-3)
A copolymer of 78 parts by weight of propylene, 16 parts by weight of ethylene and 6 parts by weight of 1-butene was obtained. 90 parts by weight of the obtained copolymer and 10 parts by weight of homopolypropylene (Prime Polymer F107BV) were melt-kneaded to obtain a thermoplastic elastomer. And 60 weight part material A-1 and 40 weight part thermoplastic elastomer were knead | mixed with a twin-screw extruder at 260 degreeC, and the mixture was obtained.

2)接着層B用材料
変性4−メチル−1−ペンテン共重合体の合成
4−メチル−1−ペンテンとダイアレン168(三菱化学株式会社製、炭素数16と18のα−オレフィンの混合物)との共重合体(ダイアレン168由来の構成単位の含有割合は6.5質量%)を、定法により準備した。
2) Material for Adhesive Layer B Synthesis of Modified 4-Methyl-1-pentene Copolymer 4-Methyl-1-pentene and Dialene 168 (Mitsubishi Chemical Corporation, Mixture of C16 and C18 α-Olefin) (The content ratio of the structural unit derived from Dialene 168 is 6.5% by mass) by a conventional method.

98.8質量部の前記共重合体、1質量部の無水マレイン酸、および有機過酸化物として0.2質量部の2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサンを、ヘンシェルミキサーで混合した。得られた混合物を、温度280℃を用いて二軸押出機で混練して、無水マレイン酸でグラフト変性された変性4−メチル−1−ペンテン共重合体を得た。得られた変性4−メチル−1−ペンテン共重合体のグラフト率は、0.9質量%であった。   98.8 parts by weight of the copolymer, 1 part by weight of maleic anhydride, and 0.2 parts by weight of 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane as the organic peroxide. And mixed with a Henschel mixer. The obtained mixture was kneaded with a twin screw extruder at a temperature of 280 ° C. to obtain a modified 4-methyl-1-pentene copolymer graft-modified with maleic anhydride. The graft ratio of the resulting modified 4-methyl-1-pentene copolymer was 0.9% by mass.

接着層B用材料の調製
得られた25質量部の変性4−メチル−1−ペンテン共重合体、50質量部の4−メチル−1−ペンテンとダイアレン168(三菱化学製、炭素数16と18のα−オレフィンの混合物)との共重合体(ダイアレン168由来の構成単位の含有割合は6.5質量%)、25質量部の1−ブテン共重合体、安定剤として0.10質量部のイルガノックス1010(Irganox1010)(BASF(株)製)、および0.03質量部のステアリン酸カルシウム(日油(株)製)を、ヘンシェルミキサーにて3分間低速回転して混合した。得られた混合物を、二軸押出機を用いて280℃で溶融混練して、接着層B用材料を得た。
Preparation of Adhesive Layer B Material 25 parts by weight of the modified 4-methyl-1-pentene copolymer, 50 parts by weight of 4-methyl-1-pentene and diallene 168 (Mitsubishi Chemical, carbon numbers 16 and 18) (A mixture of α-olefins) and a copolymer (the content ratio of the structural unit derived from dialne 168 is 6.5% by mass), 25 parts by mass of 1-butene copolymer, and 0.10 parts by mass of a stabilizer. Irganox 1010 (manufactured by BASF Corporation) and 0.03 parts by mass of calcium stearate (manufactured by NOF Corporation) were mixed by rotating at a low speed for 3 minutes using a Henschel mixer. The obtained mixture was melt-kneaded at 280 ° C. using a twin-screw extruder to obtain an adhesive layer B material.

3)基材層C用材料
(材料C−1)
ポリアミド6(宇部興産株式会社製、商品名1030B、溶融温度220℃)を準備した。
(材料C−2)
ポリエステル系エラストマー(東レ・デュポン社製、商品名ハイトレル4777、融点200℃)を準備した。
(材料C−3)
ポリアミド66(デュポン株式会社製、商品名ザイテル(R)45HSB、溶融温度262℃)を準備した。
3) Material for base material layer C (Material C-1)
Polyamide 6 (manufactured by Ube Industries, trade name: 1030B, melting temperature: 220 ° C.) was prepared.
(Material C-2)
A polyester elastomer (manufactured by Toray DuPont, trade name Hytrel 4777, melting point 200 ° C.) was prepared.
(Material C-3)
Polyamide 66 (manufactured by DuPont, trade name Zytel® 45HSB, melting temperature 262 ° C.) was prepared.

2.離型フィルムの製造と評価
(実施例1)
最外層A用材料A−1、接着層B用材料、基材層用材料C−1および他の最外層A’用材料A−1の各溶融物を、Tダイ成形機を用いて、表面が鏡面処理されたキャストロール上に共押出して、A−1(最外層A)/B(接着層B)/C−1(基材層C)/B(接着層B)/A−1(他の最外層A’)の5層構造を有する離型フィルムを得た。キャストロール温度は、20℃とした。フィルム厚みは、タッチロールにて調整した。離型フィルムの各層の厚みは、A−1/B/C/B/A−1=10/5/20/5/10μm(総厚み50μm)であった。
2. Production and Evaluation of Release Film (Example 1)
Each melt of the outermost layer A material A-1, the adhesive layer B material, the base material layer C-1 and the other outermost layer A ′ material A-1 is surfaced using a T-die molding machine. Are coextruded on a mirror-treated cast roll, and A-1 (outermost layer A) / B (adhesive layer B) / C-1 (base material layer C) / B (adhesive layer B) / A-1 ( A release film having a five-layer structure of another outermost layer A ′) was obtained. The cast roll temperature was 20 ° C. The film thickness was adjusted with a touch roll. The thickness of each layer of the release film was A-1 / B / C / B / A-1 = 10/5/20/5/10 μm (total thickness 50 μm).

得られた離型フィルムの、最外層Aのダイナミック硬さおよびRzJIS、フィルムの貯蔵弾性率および引張破断応力を、以下の方法で測定した。   The dynamic hardness and RzJIS of the outermost layer A of the obtained release film, the storage elastic modulus of the film, and the tensile breaking stress were measured by the following methods.

[ダイナミック硬さ]
島津製作所製ダイナミック超微小硬度計DUH−W201S(ダイヤモンド製三角すい圧子1115°)を用いて、離型フィルムの最外層Aの、負荷−徐荷試験モードにおける最大押し込み深さ(D)を測定した。測定は、温度23±2℃、湿度50±5%下で、試験荷重(P)0.50mN、負荷速度0.142mN/sec、保持時間5secの条件で行った。
[Dynamic hardness]
The maximum indentation depth (D) in the load-unload test mode of the outermost layer A of the release film is measured using a Shimadzu dynamic ultra-small hardness meter DUH-W201S (diamond triangular pan indenter 1115 °). did. The measurement was performed under the conditions of a temperature of 23 ± 2 ° C., a humidity of 50 ± 5%, a test load (P) of 0.50 mN, a load speed of 0.142 mN / sec, and a holding time of 5 sec.

そして、最大押し込み深さD(μm)の値を下記式に当てはめて、ダイナミック硬さを算出した。
ダイナミック硬さ=3.8584×0.5/D
And the value of the maximum indentation depth D (micrometer) was applied to the following formula, and dynamic hardness was computed.
Dynamic hardness = 3.8854 × 0.5 / D 2

[RzJIS]
成形体と接する最外層A(離型層)の表面のRzJISを、JIS−B0601に準拠して、表面粗さ測定機(東京精密社製、surfcom 130A)を用いて、測定長40mm、速度0.3mm/sにて測定した。
[RzJIS]
RzJIS of the surface of the outermost layer A (release layer) in contact with the molded body was measured according to JIS-B0601, using a surface roughness measuring machine (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd., surfcom 130A), measuring length 40 mm, speed 0 Measured at 3 mm / s.

[貯蔵弾性率]
動的粘弾性装置RSA−II(TA Instruments社製)を用いて、引張モード:振動周波数1Hz、測定速度:−80℃からサンプルが融解して測定不能になる温度まで、3℃/分の速度で昇温しながら、離型フィルムの搬送方向(MD方向)の弾性率を測定し、120℃における貯蔵弾性率E’を算出した。
[Storage modulus]
Using a dynamic viscoelastic device RSA-II (manufactured by TA Instruments), tensile mode: vibration frequency 1 Hz, measurement speed: speed of 3 ° C./minute from −80 ° C. to a temperature at which the sample melts and becomes unmeasurable The elastic modulus in the conveyance direction (MD direction) of the release film was measured while raising the temperature at, and the storage elastic modulus E ′ at 120 ° C. was calculated.

[引張破断応力]
1)試験片として、離型フィルムを切り出して、幅10mmの短冊状の試験片を得た。短冊状の試験片の長手方向が、フィルムの搬送方向と平行となるようにした。
2)前記試験片を、120℃に調整した恒温槽付きの引張試験機にて、チャック間距離が10mmとなるように把持して、引張速度20mm/分(一定)で引っ張った。得られた引張応力−ひずみ曲線における引張破壊応力を、JIS−K7161に準拠して求めた。
[Tensile breaking stress]
1) A release film was cut out as a test piece to obtain a strip-shaped test piece having a width of 10 mm. The longitudinal direction of the strip-shaped test piece was made parallel to the film transport direction.
2) The test piece was held by a tensile tester with a thermostat adjusted to 120 ° C. so that the distance between chucks was 10 mm, and pulled at a tensile speed of 20 mm / min (constant). The tensile fracture stress in the obtained tensile stress-strain curve was determined according to JIS-K7161.

その結果、最外層Aのダイナミック硬さは3.5であった。また、最外層Aの表面のRzJISは0.5μmであり、他の最外層A’の表面のRzJISは0.5μmであった。   As a result, the dynamic hardness of the outermost layer A was 3.5. The RzJIS of the surface of the outermost layer A was 0.5 μm, and the RzJIS of the surface of the other outermost layer A ′ was 0.5 μm.

さらに、得られた離型フィルムの成形時の真空吸着可否、得られた樹脂成形体(レンズ)の表面状態(平滑性、光沢および離型フィルムの残渣)の評価を、以下の方法で行なった。これらの結果を表1に示す。   Further, the following methods were used to evaluate the possibility of vacuum adsorption during molding of the obtained release film and the surface condition (smoothness, gloss, and release film residue) of the obtained resin molded body (lens). . These results are shown in Table 1.

図8〜12に示すように、簡易レンズ評価金型にてレンズを成形した。まず、図8に示されるように、金型内面に、半径1.25mmの半球状の孔100個と、半径0.9mmの半球状の孔300個とがそれぞれ均等な間隔で配置された下金型64を準備した。次いで、離型フィルム67を、下金型64の内面に配置し、外枠65で固定した。次いで、図9に示されるように、金型側面部に加工されたスリット部(図示なし)から真空引きを行い、離型フィルム67を下金型64のレンズ形状に追従させた。真空引きの際の金型温度は120℃とした。   As shown in FIGS. 8 to 12, a lens was molded with a simple lens evaluation mold. First, as shown in FIG. 8, 100 hemispherical holes having a radius of 1.25 mm and 300 hemispherical holes having a radius of 0.9 mm are arranged on the inner surface of the mold at equal intervals. A mold 64 was prepared. Next, the release film 67 was disposed on the inner surface of the lower mold 64 and fixed with the outer frame 65. Next, as shown in FIG. 9, evacuation was performed from a slit portion (not shown) processed on the side surface portion of the mold, and the release film 67 was made to follow the lens shape of the lower mold 64. The mold temperature during evacuation was 120 ° C.

1)真空吸着可否
前述の通り、下金型64に離型フィルム67を固定する際、下金型64の側面のスリット部分から真空引きを行い、離型フィルム67を金型内面に追従させる(図9参照)。その際、離型フィルム67の機械的強度が低いと、離型フィルム67が破れて真空吸着できない。そこで、離型フィルム67を金型内面に真空吸着させて追従させるときの離型フィルムの破れの有無を、以下の基準で評価した。
○:離型フィルムが破れることなく、真空吸着が可能
×:離型フィルムが破れ、真空吸着が不可能
1) Whether or not vacuum suction is possible As described above, when fixing the release film 67 to the lower mold 64, vacuuming is performed from the slit portion on the side surface of the lower mold 64 so that the release film 67 follows the inner surface of the mold ( (See FIG. 9). At this time, if the mechanical strength of the release film 67 is low, the release film 67 is broken and cannot be vacuum-sucked. Therefore, the presence or absence of tearing of the release film when the release film 67 is vacuum-adsorbed on the inner surface of the mold and followed is evaluated according to the following criteria.
○: Vacuum adsorption is possible without breaking the release film ×: Release film is broken and vacuum adsorption is impossible

一方、上金型61には、ポリイミドテープ(厚さ:50ミクロン)を貼付したステンレス板62(厚さ:1mm)を配置した。ステンレス板62の平面寸法は200×78mmであり;離型フィルム67の平面寸法は200×300mmであり;下金型64の平面寸法は46×88mmであった。   On the other hand, a stainless steel plate 62 (thickness: 1 mm) to which a polyimide tape (thickness: 50 microns) was attached was disposed on the upper mold 61. The planar dimension of the stainless steel plate 62 was 200 × 78 mm; the planar dimension of the release film 67 was 200 × 300 mm; and the planar dimension of the lower mold 64 was 46 × 88 mm.

次いで、図10に示されるように、離型フィルム67上に、シリンジにて封止樹脂63としてシリコーン樹脂(東レダウ・コーニング製OE6631(フェニル系))を1.4mL測量注入した。   Next, as shown in FIG. 10, 1.4 mL of a silicone resin (OE6631 (phenyl) manufactured by Toray Dow Corning) as a sealing resin 63 was measured and injected onto the release film 67 with a syringe.

次いで、図11に示されるように、20t油圧成形機(東邦マシナリー社製、図示なし)を使用して上下方向に圧縮した。圧縮条件は、温度120℃、圧力91kgf/cm(3MPa)、圧縮時間:5分間とした。この圧縮により、離型フィルム67が、下金型64の孔の形状に追従して延伸されるとともに、延伸されて形成された離型フィルム67の孔に、液状シリコーン樹脂が侵入し、加熱硬化反応によってシリコーン樹脂でできた半球形状のレンズが成形された。 Next, as shown in FIG. 11, it was compressed in the vertical direction using a 20t hydraulic molding machine (manufactured by Toho Machinery Co., Ltd., not shown). The compression conditions were a temperature of 120 ° C., a pressure of 91 kgf / cm 2 (3 MPa), and a compression time of 5 minutes. By this compression, the release film 67 is stretched following the shape of the hole of the lower mold 64, and the liquid silicone resin enters the holes of the release film 67 formed by stretching, and is heated and cured. A hemispherical lens made of silicone resin was molded by the reaction.

次いで、図12に示されるように、金型を解放して離型フィルム67を剥離後、成形されたレンズ88の表面状態を取り出した。そして、得られたレンズ88の表面状態(平滑性、光沢性および離型フィルムの残渣)を、光学顕微鏡(キーエンスマイクロスコープVHX−1000/1100)を用いて評価した。   Next, as shown in FIG. 12, the mold was released and the release film 67 was peeled off, and then the surface state of the molded lens 88 was taken out. Then, the surface state (smoothness, glossiness, and release film residue) of the obtained lens 88 was evaluated using an optical microscope (Keyence Microscope VHX-1000 / 1100).

2)レンズ表面の平滑性
得られたレンズ表面の皺の有無を、光学顕微鏡(100倍)にて観察した。
○:シワが観測されない
×:シワが観測される
2) Smoothness of lens surface The presence or absence of wrinkles on the obtained lens surface was observed with an optical microscope (100 times).
○: Wrinkles are not observed ×: Wrinkles are observed

3)レンズ表面の光沢性
得られたレンズ表面が平滑か否かを、光学顕微鏡(100倍)にて観察した。
○:表面が平滑であり透明性がある
×:表面がマット状であり透明性がない
3) Glossiness of lens surface It was observed with an optical microscope (100 times) whether or not the obtained lens surface was smooth.
○: The surface is smooth and transparent. ×: The surface is mat-like and not transparent.

4)離型性(レンズ表面における離型フィルムの残渣の有無)
得られた半径1.25mmのレンズ(100個)の表面を、光学顕微鏡(倍率100倍)にて観察し、離型フィルム残渣の有無を評価した。
○:レンズ上にフィルム残渣なし
△:レンズ上にフィルム残渣100個中1〜50個有り
×:レンズ上にフィルム残渣100個中51〜100個有り
4) Releasability (presence or absence of release film residue on lens surface)
The surface of the obtained lens (100 pieces) having a radius of 1.25 mm was observed with an optical microscope (magnification 100 times), and the presence or absence of a release film residue was evaluated.
○: No film residue on lens Δ: 1 to 50 out of 100 film residues on lens ×: 51 to 100 out of 100 film residues on lens

(実施例2)
キャストロールの温度を60℃にした以外は実施例1と同様にして離型フィルムを得た。最外層A(離型層)のダイナミック硬さは4.6であった。得られた離型フィルムを用いて実施例1と同様にレンズを成形して評価を行った。
(Example 2)
A release film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the temperature of the cast roll was changed to 60 ° C. The dynamic hardness of the outermost layer A (release layer) was 4.6. A lens was molded in the same manner as in Example 1 using the obtained release film, and evaluated.

(実施例3)
基材層Cの材料C−1を材料C−2に変更した以外は実施例2と同様にして離型フィルムを得た。最外層A、及び最外層Aとは反対側の面(最外層A’の表面)のRzJISは、1.0μmであった。得られた離型フィルムを用いて実施例1と同様にレンズ成形を実施して評価を行った。
(Example 3)
A release film was obtained in the same manner as in Example 2 except that the material C-1 of the base material layer C was changed to the material C-2. RzJIS of the outermost layer A and the surface opposite to the outermost layer A (the surface of the outermost layer A ′) was 1.0 μm. Using the obtained release film, lens molding was carried out in the same manner as in Example 1 for evaluation.

(比較例1)
最外層A用材料としてA−2、基材層用材料としてC−3および他の最外層A’用材料としてA−2を用い、かつ層厚みを変更した以外は実施例2と同様にしてA−2/B/C−3/B/A−2の5層構造を有する離型フィルムを得た。離型フィルムの各層の厚みは、A−2/B/C−3/B/A−2=5/3/22/3/5μm(総厚み38μm)とした。
(Comparative Example 1)
Example 2 except that A-2 was used as the material for the outermost layer A, C-3 was used as the material for the base layer, and A-2 was used as the material for the other outermost layer A ′, and the layer thickness was changed. A release film having a five-layer structure of A-2 / B / C-3 / B / A-2 was obtained. The thickness of each layer of the release film was A-2 / B / C-3 / B / A-2 = 5/3/22/3/5 μm (total thickness 38 μm).

得られた離型フィルムの最外層A(離型層)のダイナミック硬さは9.6であった。また、離型フィルムの最外層A(離型層)の表面のRzJISは0.5μmであり、他の最外層A’の表面のRzJISは8.0μmであった。さらに、得られた離型フィルムを用いて実施例1と同様にレンズを成形して評価を行った。   The dynamic hardness of the outermost layer A (release layer) of the obtained release film was 9.6. Further, the RzJIS of the surface of the outermost layer A (release layer) of the release film was 0.5 μm, and the RzJIS of the surface of the other outermost layer A ′ was 8.0 μm. Furthermore, a lens was molded in the same manner as in Example 1 using the obtained release film and evaluated.

(比較例2)
キャストロールの表面粗度を調整して、離型フィルムの最外層A(離型層)のRzJISが10μm、他の最外層A’の表面のRzJISが12μmとなるようにした以外は比較例1と同様にして離型フィルムを得た。得られた離型フィルムを用いて実施例1と同様にレンズを成形して評価を行った。
(Comparative Example 2)
Comparative Example 1 except that the surface roughness of the cast roll was adjusted so that the RzJIS of the outermost layer A (release layer) of the release film was 10 μm and the RzJIS of the surface of the other outermost layer A ′ was 12 μm. In the same manner, a release film was obtained. A lens was molded in the same manner as in Example 1 using the obtained release film, and evaluated.

(比較例3)
キャストロールの表面粗度を調整して、離型フィルムの最外層A(離型層)のRzJISが30μm、他の最外層A’の表面のRzJISが25μmとなるようにした以外は比較例1と同様にして離型フィルムを得た。得られた離型フィルムを用いて実施例1と同様にレンズを成形して評価を行った。
(Comparative Example 3)
Comparative Example 1 except that the surface roughness of the cast roll was adjusted so that the RzJIS of the outermost layer A (release layer) of the release film was 30 μm and the RzJIS of the surface of the other outermost layer A ′ was 25 μm. In the same manner, a release film was obtained. A lens was molded in the same manner as in Example 1 using the obtained release film, and evaluated.

(比較例4)
最外層A用材料A−1のみを用いた以外は実施例2と同様にして単層の離型フィルムを得た。得られた離型フィルムを用いて実施例1と同様にレンズを成形して評価を行った。
(Comparative Example 4)
A single-layer release film was obtained in the same manner as in Example 2 except that only the outermost layer A material A-1 was used. A lens was molded in the same manner as in Example 1 using the obtained release film, and evaluated.

(比較例5)
最外層A用材料A−3のみを用いた以外は比較例4と同様にして単層の離型フィルムを得た。得られた離型フィルムを用いて実施例1と同様にレンズを成形して評価を行った。
(Comparative Example 5)
A single layer release film was obtained in the same manner as Comparative Example 4 except that only the outermost layer A material A-3 was used. A lens was molded in the same manner as in Example 1 using the obtained release film, and evaluated.

実施例1〜3および比較例1〜5の評価結果を表1にまとめた。

Figure 0006126368
The evaluation results of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 are summarized in Table 1.
Figure 0006126368

表1に示されるように、実施例1〜3の離型フィルムは、一定以上の貯蔵弾性率や引張破断応力を有しつつ、比較例1〜3の離型フィルムよりも最外層Aのダイナミック硬さが低いことがわかる。それにより、実施例1〜3の離型フィルムは、真空吸着時に破断を生じることなく、比較例1〜3の離型フィルムよりも離型性に優れ、かつレンズ表面の平滑性も良好であることがわかる。   As shown in Table 1, the release films of Examples 1 to 3 have a storage elastic modulus and tensile rupture stress of a certain level or more, and the dynamics of the outermost layer A is higher than the release films of Comparative Examples 1 to 3. It can be seen that the hardness is low. Thereby, the release films of Examples 1 to 3 are superior to the release films of Comparative Examples 1 to 3 and have good lens surface smoothness without causing breakage during vacuum adsorption. I understand that.

このことから、離型フィルムの、樹脂成形体と接する最外層Aのダイナミック硬さがある程度低いと、離型性が高く、得られる樹脂成形体の外観も良好であることがわかる。最外層Aのダイナミック硬さが低いことは、最外層Aの表面の結晶化度が低いことを示している。即ち、一般的には、フィルムの少なくとも最外層Aの結晶化度が高いと、離型性が良好であることが知られている。これに反して、本発明の離型フィルムは、最外層Aの表面の結晶化度を低くすることで、離型性を高めている。   From this, it can be seen that when the dynamic hardness of the outermost layer A in contact with the resin molded body of the release film is low to some extent, the mold release property is high and the appearance of the resulting resin molded body is also good. The low dynamic hardness of the outermost layer A indicates that the crystallinity of the surface of the outermost layer A is low. In other words, it is generally known that when at least the outermost layer A of the film has a high degree of crystallinity, the releasability is good. On the contrary, the release film of the present invention has improved release properties by reducing the crystallinity of the surface of the outermost layer A.

また、実施例1〜3の離型フィルムは、樹脂成形体と接する最外層AのRzJISが小さいため、レンズ表面の光沢も良好であることがわかる。   Moreover, since the release films of Examples 1 to 3 have a small RzJIS of the outermost layer A in contact with the resin molded product, it can be seen that the gloss of the lens surface is also good.

比較例1〜3の離型フィルムは、封止樹脂との離型性が低く、レンズ表面にフィルム残渣が多数残ることがわかる。また、レンズ表面に放射状の皺が形成され、レンズ表面の平滑性が低いことがわかる。放射状の皺は、主に離型フィルムの機械的強度(貯蔵弾性率)が高いことに起因すると考えられる。また、比較例1〜3の離型フィルムは、レンズ表面の光沢が低いことがわかる。これは、最外層AのRzJISが大きいためであると考えられる。   It can be seen that the release films of Comparative Examples 1 to 3 have low releasability with the sealing resin, and many film residues remain on the lens surface. It can also be seen that radial wrinkles are formed on the lens surface, and the smoothness of the lens surface is low. It is considered that the radial wrinkles are mainly caused by the high mechanical strength (storage modulus) of the release film. Moreover, it turns out that the glossiness of the lens surface is low in the release film of Comparative Examples 1-3. This is considered to be because RzJIS of the outermost layer A is large.

比較例4の離型フィルムは、レンズ表面の平滑性が低いことがわかる。これは、比較例4の離型フィルムは基材層Cを有さないため、降伏点を有する。そのため、比較例4の離型フィルムは、金型への固定時や金型成形時に不均一に伸長変形し、局所的に伸びすぎて、凹凸皺が顕著に発生したと考えられる。さらに、比較例5の離型フィルムは、機械的強度が低いため、金型への追従性は良好であるものの、離型フィルムを金型内に真空吸着させる際に、本条件では離型フィルムが破れて、真空吸着させることができなかった。   It can be seen that the release film of Comparative Example 4 has low lens surface smoothness. This is because the release film of Comparative Example 4 does not have the base material layer C, and therefore has a yield point. Therefore, it is considered that the release film of Comparative Example 4 stretched and deformed non-uniformly when being fixed to the mold or when the mold was formed, and excessively stretched locally, so that uneven wrinkles were remarkably generated. Furthermore, although the release film of Comparative Example 5 has low mechanical strength, the followability to the mold is good, but when the release film is vacuum-adsorbed in the mold, the release film is used under these conditions. Was broken and could not be vacuum-adsorbed.

本発明のフィルムは、離型性に優れ、かつ外観の良好な樹脂成形体を提供することができるため、各種離型フィルムとして幅広く用いることができる。特に、本発明の離型フィルムは、半導体やLED封止体(LEDパッケージ)などを製造するための形状が複雑な金型を用いた成形に好ましく用いられる。   Since the film of the present invention can provide a resin molded article having excellent releasability and good appearance, it can be widely used as various release films. In particular, the release film of the present invention is preferably used for molding using a mold having a complicated shape for producing a semiconductor, an LED encapsulant (LED package) and the like.

10、29、31、67 離型フィルム
11 基材層
13 接着層
15 最外層
15’ 他の最外層
20 フィルムの製造装置
21a ダイス
21b フィードブロック
21b1、21b2、21b3、21b4 導管
23 キャストロール
25 タッチロール
27 ロール
32、66 キャビティ
33 金型
33a、61 上金型
33b、64 下金型
35 基板
37 LED
39、63 封止樹脂
40 LEDパッケージ
62 ステンレス板
65 外枠
88 レンズ(成形体)
10, 29, 31, 67 Release film 11 Base layer 13 Adhesive layer 15 Outermost layer 15 'Other outermost layer 20 Film production equipment 21a Dice 21b Feed block 21b1, 21b2, 21b3, 21b4 Conduit 23 Cast roll 25 Touch roll 27 Roll 32, 66 Cavity 33 Mold 33a, 61 Upper mold 33b, 64 Lower mold 35 Substrate 37 LED
39, 63 Sealing resin 40 LED package 62 Stainless steel plate 65 Outer frame 88 Lens (molded body)

Claims (10)

基材層Cと、
4−メチル−1−ペンテンと前記4−メチル−1−ペンテン1以外の炭素数16〜20のα−オレフィンとの共重合体を主成分として含み、前記共重合体以外の化合物の含有量が前記共重合体100質量部に対して10質量部未満である最外層Aと、
前記基材層Cと前記最外層Aとの間に配置され、これらを接着させる接着層Bと、
を含み、
前記最外層Aが離型層であり、
前記共重合体における前記4−メチル−1−ペンテン1以外の炭素数16〜20のα−オレフィン由来の構成単位の含有割合が5質量%以上であり、
前記最外層Aの表面の十点平均粗さRzJISが、0μm以上1.5μm以下であり、23℃で測定される最大押し込み深さをD(μm)としたときに、下記式で定義される前記最外層Aのダイナミック硬さが0.5以上8.0以下である、LED封止体用金型離型フィルム。
ダイナミック硬さ=3.8584×0.5/D
A base material layer C;
The content of 4-methyl-1-pentene and viewed contains as a main component a copolymer of the 4-methyl-1-pentene 1 except carbon number 16 to 20 of the α- olefin compound other than the copolymer The outermost layer A is less than 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the copolymer;
An adhesive layer B disposed between the base material layer C and the outermost layer A and bonding them;
Including
The outermost layer A is a release layer;
The content ratio of the structural unit derived from an α-olefin having 16 to 20 carbon atoms other than the 4-methyl-1-pentene 1 in the copolymer is 5% by mass or more,
When the 10-point average roughness RzJIS of the surface of the outermost layer A is 0 μm or more and 1.5 μm or less, and the maximum indentation depth measured at 23 ° C. is D (μm), it is defined by the following formula: The mold release film for LED sealing bodies whose dynamic hardness of the said outermost layer A is 0.5-8.0.
Dynamic hardness = 3.8854 × 0.5 / D 2
前記LED封止体用金型離型フィルムの前記最外層Aとは反対側の面の十点平均粗さRzJISが、0μm以上1.5μm以下である、請求項に記載のLED封止体用金型離型フィルム。 2. The LED sealing body according to claim 1 , wherein a ten-point average roughness RzJIS of a surface opposite to the outermost layer A of the mold release film for the LED sealing body is 0 μm or more and 1.5 μm or less. Mold release film. 前記共重合体における4−メチル−1−ペンテン由来の構成単位の含有割合が93質量%以上である、請求項1または2に記載のLED封止体用金型離型フィルム。 The mold release film for LED sealing bodies of Claim 1 or 2 whose content rate of the structural unit derived from 4-methyl-1- pentene in the said copolymer is 93 mass% or more. 前記基材層Cと、
前記基材層Cを挟持する、前記最外層Aおよび前記共重合体を含む他の最外層A’と、
前記最外層Aと前記基材層Cとを接着させる前記接着層Bおよび前記他の最外層A’と前記基材層Cとを接着させる接着層B’と、
を含む、請求項1〜のいずれか一項に記載のLED封止体用金型離型フィルム。
The base material layer C;
Other outermost layer A ′ containing the outermost layer A and the copolymer, sandwiching the base material layer C;
Wherein the 'adhesive layer B that is bonded with the said base layer C' and the outermost layer A wherein the adhesive layer adhering the base layer C B and the other outermost layer A,
The mold release film for LED sealing bodies as described in any one of Claims 1-3 containing this.
前記基材層Cは、ポリアミド樹脂を含む、請求項1〜のいずれか一項に記載のLED封止体用金型離型フィルム。 The said base material layer C is a metal mold release film for LED sealing bodies as described in any one of Claims 1-4 containing a polyamide resin. 前記接着層Bは、変性4−メチル−1−ペンテン共重合体を含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載のLED封止体用金型離型フィルム。 The said adhesion layer B is a metal mold release film for LED sealing bodies as described in any one of Claims 1-5 containing a modified | denatured 4-methyl- 1-pentene copolymer. 前記基材層Cは、ポリアミド6を含む、請求項1〜のいずれか一項に記載のLED封止体用金型離型フィルム。 The base layer C comprises a polyamide 6, LED encapsulant mold release film according to any one of claims 1-6. 120℃における引張破壊応力が、4.0MPa以上40MPa以下である、請求項1〜のいずれか一項に記載のLED封止体用金型離型フィルム。 Tensile breaking stress at 120 ° C. is less than 4.0 MPa 40 MPa, LED encapsulant mold release film according to any one of claims 1-7. 120℃における貯蔵弾性率E’が、30MPa以上200MPa以下である、請求項1〜のいずれか一項に記載のLED封止体用金型離型フィルム。 The mold release film for LED sealing bodies according to any one of claims 1 to 8, wherein a storage elastic modulus E 'at 120 ° C is 30 MPa or more and 200 MPa or less. 請求項1〜のいずれか一項に記載のLED封止体用金型離型フィルムを、前記離型フィルムの最外層Aとは反対側の面が金型内面に接するように配置する工程と、
前記金型内に、LED搭載基板を配置する工程と、
前記金型内に封止樹脂を充填して型締めし、前記封止樹脂を硬化させてLED封止体を得る工程と、
得られた前記LED封止体を前記離型フィルムから剥離させる工程と
を含む、LED封止体の製造方法。
Step a sealed LED die release film according to any one of claims 1 to 9 in which the surface opposite to the outermost layer A of the release film is placed in contact with the inner surface of the mold When,
Placing the LED mounting substrate in the mold; and
Filling the mold with a sealing resin, clamping the mold, and curing the sealing resin to obtain an LED sealing body;
And a step of peeling the obtained LED sealing body from the release film.
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