JP5180826B2 - Film and release film - Google Patents

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    • C08F210/00Copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
    • C08F210/14Monomers containing five or more carbon atoms
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    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
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    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/281Applying non-metallic protective coatings by means of a preformed insulating foil

Description

本発明は、4−メチル−1−ペンテン系共重合体から形成される層を含む耐熱性と離型性とに優れるフィルム、及びフィルム又はシート状の積層物を加圧成形により製造する際に好適に使用される離型フィルムに関するものである。より詳細には、フレキシブルプリント基板(以下、「FPC」ともいう。)における電気回路(銅箔)が形成された面に保護層であるカバーレイを、接着剤により加熱及び加圧して接着する際に好適に使用される離型フィルムに関する。   The present invention provides a film excellent in heat resistance and releasability including a layer formed from a 4-methyl-1-pentene copolymer, and a film or sheet-like laminate by manufacturing by pressure molding. It is related with the release film used suitably. More specifically, when a coverlay, which is a protective layer, is bonded to a surface of a flexible printed circuit board (hereinafter also referred to as “FPC”) on which an electric circuit (copper foil) is formed by heating and pressing with an adhesive. It is related with the release film used suitably for.

金属板等に複数の原料フィルム又はシートを挟み、加圧成形により積層物を製造する際には、金属板等と得られた積層物との接着を防止するために、離型フィルムが一般的に使用される。また、加圧成形に際しては加熱を伴う場合が多く、離型フィルムには高い耐熱性と優れた離型性が求められている。

離型フィルムは、フレキシブルプリント回路基板(以下、「FPC」ともいう。)製造用離型フィルム、航空機部品に使用されるACM材料用離型フィルム、リジッドプリント基板製造用離型フィルム、半導体封止材用離型フィルム、FRP成形用離型フィルム、ゴムシート硬化用離型フィルム、特殊粘着テープ用離型フィルム等として用いられている。
When a laminate is produced by pressing a plurality of raw material films or sheets on a metal plate, etc., a release film is generally used to prevent adhesion between the metal plate and the obtained laminate. Used for. In addition, pressure molding is often accompanied by heating, and a release film is required to have high heat resistance and excellent release properties.

The release film is a release film for manufacturing a flexible printed circuit board (hereinafter also referred to as “FPC”), a release film for ACM materials used for aircraft parts, a release film for manufacturing a rigid printed circuit board, and a semiconductor encapsulation. It is used as a release film for materials, a release film for FRP molding, a release film for rubber sheet curing, a release film for special adhesive tape, and the like.

FPCでは、通常、電気回路を形成した基板とカバーレイとを、熱硬化型接着剤により接着する。このカバーレイは、基板の片面だけに電気回路が形成されている場合は、電気回路が形成された基板の片面にのみに、また、基板の両面あるいは多層に互って電気回路が設けられている場合は、基板の両面に、接着されている。そして、その接着の際には、通常、基板と熱硬化型接着剤を塗布したカバーレイとを金属板に挟み、加熱及び加圧をする。そして、このカバーレイと金属板との接着を防止するため、FPC製造用離型フィルムは、金属板とカバーレイとの間に挟んで使用される。   In FPC, a substrate on which an electric circuit is formed and a cover lay are usually bonded with a thermosetting adhesive. In the case where an electrical circuit is formed only on one side of the substrate, the coverlay is provided only on one side of the substrate on which the electrical circuit is formed, and on both sides or multiple layers of the substrate. If it is, it is bonded to both sides of the substrate. And in the case of the adhesion | attachment, a board | substrate and the coverlay which apply | coated the thermosetting adhesive are normally pinched | interposed into a metal plate, and it heats and pressurizes. And in order to prevent adhesion | attachment with this coverlay and a metal plate, the release film for FPC manufacture is used between the metal plate and a coverlay.

従来から、FPC製造用離型フィルムとしては、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン-ヘキサフルオロプロピレン共重合体、およびポリフッ化ビニルなどのフッ素系重合体のフィルム、ポリメチルペンテンのフィルムなどが使用されている。   Conventionally, as release films for FPC production, polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, fluoropolymer films such as polyvinyl fluoride, and polymethylpentene films have been used. ing.

FPCの電気回路が形成された面では、電気回路が形成されたプリント部と、電気回路が形成されていない非プリント部とではその高さが異なっている。したがって、フィルム状のカバーレイで被覆する際に、非プリント部に空隙が形成され、その空隙に封入された残存空気によって電気回路が酸化され、電気回路の寿命を著しく低下させるという問題があった。   On the surface on which the electric circuit of the FPC is formed, the height of the printed part where the electric circuit is formed is different from that of the non-printed part where the electric circuit is not formed. Therefore, when covering with a film-like cover lay, there is a problem that a void is formed in the non-printed portion, and the electric circuit is oxidized by the residual air sealed in the void, and the life of the electric circuit is significantly reduced. .

FPCにおいては、他の部品との電気的接続のため、電気回路の端子部分が形成されており、その端子部分はカバーレイで被覆されず、露出している。そして、端子部分以外を被覆するためにカバーレイに塗布された接着剤が、加熱及び加圧によって接着する際に溶融し、しばしば、この電気回路の端子部分に流出し、接着剤の被覆層が形成され、電気的接続不良の原因となるという問題があった。また、基板、カバーレイ及び金属板に対して、従来の離型フィルムは熱膨張率が大きいため、加熱及び加圧プレスしてカバーレイの接着をする際に、離型フィルムの表面にシワが発生する。そのため、そのシワが発生した部分では、離型フィルムの追随不良により電気回路と離型フィルムとの間に空隙が生じる問題、さらに、シワがFPCに転写されるため、十分満足できる外観を有するFPCが得られない問題がある。   In the FPC, a terminal portion of an electric circuit is formed for electrical connection with other components, and the terminal portion is not covered with a coverlay but exposed. Then, the adhesive applied to the cover lay to cover other than the terminal part melts when bonded by heating and pressing, and often flows out to the terminal part of this electric circuit, and the adhesive coating layer is formed. There is a problem that it is formed and causes electrical connection failure. Also, since the conventional release film has a large coefficient of thermal expansion with respect to the substrate, cover lay and metal plate, when the cover lay is bonded by heating and pressing, the surface of the release film is wrinkled. Occur. Therefore, in the portion where the wrinkles are generated, there is a problem that a gap is generated between the electric circuit and the release film due to a follow-up failure of the release film. Further, since the wrinkles are transferred to the FPC, the FPC has a sufficiently satisfactory appearance. There is a problem that cannot be obtained.

特許文献1及び特許文献2には、上記問題を解決することを目的とする離型フィルムが開示されている。しかしながら、これらの離型フィルムは、基板表面の電気回路にカバーレイを接着するための加熱及び加圧をする工程において、そのフィルムに生じるシワの防止効果が必ずしも十分ではなく、満足できる外観を有するFPCが得られない問題がある。
特開平2-175247号公報 特開2003-211602号公報
Patent Documents 1 and 2 disclose release films aimed at solving the above problems. However, these release films have a satisfactory appearance because the effect of preventing wrinkles generated in the film is not always sufficient in the process of heating and pressurizing for bonding the coverlay to the electric circuit on the substrate surface. There is a problem that FPC cannot be obtained.
JP-A-2-175247 JP 2003-211602 A

本発明は、離型フィルムに好適なフィルム、特に、FPCを製造する加熱及び加圧工程において、カバーレイと金属板との接着、及び接着剤が流出して他の部材へ接着することを防止するとともに、非プリント部に空隙を形成せず、電気回路の端子部分などの露出した部分が接着剤の溶融流出によって汚染されることなく、さらにシワが発生しない離型フィルムに好適なフィルムを提供することである。
The present invention is a film suitable for a release film, in particular, adhesion between a cover lay and a metal plate in a heating and pressing process for manufacturing an FPC, and prevents the adhesive from flowing out and adhering to other members. In addition, no gap is formed in the non-printed part, exposed parts such as the terminal part of the electric circuit are not contaminated by the melted out flow of the adhesive, and a film suitable for a release film that does not generate wrinkles is provided. It is to be.

本発明者らは上記課題を解決するべく鋭意検討した結果、特定の4−メチル−1−ペンテン系共重合体から形成される層を含み、且つ特定の厚み構成と熱収縮率とを有するフィルムが上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成した。

すなわち本発明は、
[1]95.5質量%〜99.5質量%の4−メチル−1−ペンテンに由来する構成単位および0.5質量%〜4.5質量%の4−メチル−1−ペンテン以外の炭素原子数3〜20のオレフィンに由来する構成単位を有する4−メチル−1−ペンテン系共重合体から形成される層(A)を少なくとも1層有し、層(A)全体の厚みが40μm〜90μmであり、かつ
フィルム全体の熱収縮率が1%〜5%であるフィルムの提供。
[2]上記層(A)の単層フィルムである、前記[1]に記載のフィルムの提供。
[3]上記層(A)に加えて、さらに、ASTM D1525に基づくビカット軟化温度が50℃〜150℃である軟質ポリオレフィンから形成される層(B)を有し、かつ
少なくとも1層の上記層(A)が最外層である、多層からなる前記[1]に記載のフィルムの提供。
[4]ASTM D1525に基づくビカット軟化温度が50℃〜150℃である軟質ポリオレフィンから形成される層(B)と、少なくとも2層の上記層(A)とを有し、かつ
上記層(A)の2層がフィルム両側の最外層である、多層からなる前記[1]に記載のフィルムの提供。
[5]4−メチル−1−ペンテン以外の炭素原子数3〜20のオレフィンが、1-オクテン、1-デセン、1-テトラデセン、および1-オクタデセンから選ばれる少なくとも1種である、前記[1]〜[3]のいずれかに記載のフィルムの提供。
[6]軟質ポリオレフィンが、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン及び、メチルペンテンから選ばれる1種以上のオレフィンを(共)重合してなる重合体である、前記[3]または[4]に記載のフィルムの提供。
[7]軟質ポリオレフィンが、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体、エチレンとメタクリル酸エステルとの共重合体、エチレンとアクリル酸との共重合体、エチレンとメタクリル酸との共重合体及び、それらの部分イオン架橋物から選ばれる共重合体である、前記[3]または[4]に記載のフィルムの提供。
[8]上記層(A)全体の厚みが、フィルム全体の厚みの25%〜80%である、前記[3]〜[7]のいずれかに記載のフィルムの提供。
[9]上記層(A)から形成されるフィルム表面の少なくとも一方がエンボス処理されている、前記[2]〜[8]のいずれかに記載のフィルムの提供。
[10]押出成形法または共押出成形法によって得られる前記[1]〜[9]のいずれかに記載のフィルムの提供。
[11]前記[1]〜[10]のいずれかのフィルムから得られる、離型フィルム
を提供することである。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention include a layer formed from a specific 4-methyl-1-pentene copolymer, and has a specific thickness structure and heat shrinkage rate. Has found that the above problems can be solved, and has completed the present invention.

That is, the present invention
[1] Structural units derived from 95.5% by mass to 99.5% by mass of 4-methyl-1-pentene and carbon other than 0.5% by mass to 4.5% by mass of 4-methyl-1-pentene It has at least one layer (A) formed from a 4-methyl-1-pentene copolymer having a structural unit derived from an olefin having 3 to 20 atoms, and the total thickness of the layer (A) is 40 μm to Provision of a film having a thickness of 90 μm and a thermal shrinkage ratio of the whole film of 1% to 5%.
[2] The provision of the film according to [1], which is a single-layer film of the layer (A).
[3] In addition to the layer (A), the layer further includes a layer (B) formed from a soft polyolefin having a Vicat softening temperature of 50 ° C. to 150 ° C. based on ASTM D1525, and at least one layer described above The provision of the film according to the above [1], wherein (A) is an outermost layer and is composed of multiple layers.
[4] It has a layer (B) formed from a soft polyolefin having a Vicat softening temperature of 50 ° C to 150 ° C based on ASTM D1525, and at least two layers (A), and the layer (A) The film according to [1], wherein the two layers are outermost layers on both sides of the film.
[5] The olefin having 3 to 20 carbon atoms other than 4-methyl-1-pentene is at least one selected from 1-octene, 1-decene, 1-tetradecene, and 1-octadecene. ] Provision of the film in any one of [3].
[6] In the above [3] or [4], the soft polyolefin is a polymer obtained by (co) polymerizing one or more olefins selected from ethylene, propylene, butene, pentene, hexene, and methylpentene. Provision of the described film.
[7] A soft polyolefin is a copolymer of ethylene and acrylic acid ester, a copolymer of ethylene and methacrylic acid ester, a copolymer of ethylene and acrylic acid, a copolymer of ethylene and methacrylic acid, and The provision of the film according to the above [3] or [4], which is a copolymer selected from those partially ionically crosslinked products.
[8] The film according to any one of [3] to [7], wherein the thickness of the entire layer (A) is 25% to 80% of the thickness of the entire film.
[9] The film according to any one of [2] to [8], wherein at least one of the film surfaces formed from the layer (A) is embossed.
[10] The film according to any one of [1] to [9] obtained by an extrusion molding method or a coextrusion molding method.
[11] To provide a release film obtained from the film according to any one of [1] to [10].

本発明の、特定の4−メチル−1−ペンテン系共重合体から形成される層を含み、且つ特定の厚み構成及び熱収縮率を有するフィルムは、耐熱性及び離型性に優れることから、離型フィルムとして好適に使用することができる。特に、FPCの製造時に離型フィルムとして使用することで、基板とカバーレイとを加熱及び加圧して接着する際の、金属板とカバーレイとの接着、及び接着剤が流出して他の部材へ接着するのを防止できるとともに、成形時に非プリント部に空隙を形成せず、電気回路の端子部分などの露出した部分が接着剤の溶融流出によって汚染されることがない。
また、加熱及び加圧によりカバーレイを接着させる際に離型フィルムにシワが発生しないことから、追随不良による空隙の生成がなく、またシワの転写による外観不良が改善されたFPCを効率的に成形することができ、工業的に極めて価値がある。
Since the film of the present invention comprising a layer formed from a specific 4-methyl-1-pentene copolymer and having a specific thickness configuration and heat shrinkage ratio is excellent in heat resistance and releasability, It can be suitably used as a release film. In particular, when used as a release film during the manufacture of FPC, when the substrate and the cover lay are bonded by heating and pressing, the adhesion between the metal plate and the cover lay, and the adhesive flows out to other members. In addition, no gap is formed in the non-printed portion during molding, and exposed portions such as the terminal portions of the electric circuit are not contaminated by the melted out flow of the adhesive.
Also, when the coverlay is bonded by heating and pressurization, the release film does not wrinkle, so there is no generation of voids due to poor tracking, and FPC with improved appearance defects due to wrinkle transfer is efficiently It can be molded and is extremely valuable industrially.

さらに、特定の軟質ポリオレフィンを含む層は、離型フィルムが電気回路を形成した基板面への凸凹に追従するための良好なクッション性を付与するとともに、加熱及び加圧時のはみ出しが少なく、電気回路を形成した基板面や加熱及び加圧に使用する金属板に付着することによる、FPCの製品歩留まりの低下や作業性の低下等の問題を生じることがない。   Furthermore, the layer containing a specific soft polyolefin gives a good cushioning property for following the unevenness of the release film on the substrate surface on which the electric circuit is formed, and has little protrusion during heating and pressurization. It does not cause problems such as a decrease in product yield of FPC and a decrease in workability due to adhesion to a substrate surface on which a circuit is formed or a metal plate used for heating and pressing.

本発明のフィルムの断面図。Sectional drawing of the film of this invention. 本発明のフィルムを使用してフレキシブルプリント回路基板を成形する状態の一例を示す断面図。Sectional drawing which shows an example of the state which shape | molds a flexible printed circuit board using the film of this invention. 本発明のフィルムを使用して成形したフレキシブルプリント回路基板の端子露出部の一例を示す断面図。Sectional drawing which shows an example of the terminal exposure part of the flexible printed circuit board shape | molded using the film of this invention. 本発明のフィルムの製造装置の一例を示す図。The figure which shows an example of the manufacturing apparatus of the film of this invention.

〔符号の説明〕
1 4−メチル−1−ペンテン系共重合体から形成される層(A)
2 軟質ポリオレフィンから形成される層(B)
3 加熱、加圧用金属板
4 ステンレス板
5 離型フィルム(単層)
6 カバーレイ
7 カバーレイに塗布された熱硬化型接着剤
8 本発明のフィルム
9 フレキシブルプリント回路基板
10 電気回路の銅箔
11 フレキシブルプリント回路基板の電気回路部
20 押出機
21 マルチマニホールドタイプの3層共押出しT型ダイ
22 冷却ロール
23 加熱ロール
24 第1エンボスロール
25 第2エンボスロール
26 第1プレスロール
27 第2プレスロール
[Explanation of symbols]
1 Layer formed from 4-methyl-1-pentene copolymer (A)
2 Layer formed from soft polyolefin (B)
3 Metal plate for heating and pressurization 4 Stainless steel plate 5 Release film (single layer)
6 Coverlay 7 Thermosetting adhesive 8 applied to coverlay Film of the present invention 9 Flexible printed circuit board 10 Copper foil of electric circuit 11 Electric circuit section 20 of flexible printed circuit board Extruder 21 Multi-manifold type three layers Co-extruded T-type die 22 Cooling roll 23 Heating roll 24 First embossing roll 25 Second embossing roll 26 First press roll 27 Second press roll

本発明のフィルムは、4−メチル−1−ペンテン系共重合体から形成される層(A)を少なくとも1層有し、層(A)全体の厚みが40μm〜90μmであり、かつフィルム全体の熱収縮率が1%〜5%であるフィルムである。

[4−メチル−1−ペンテン系共重合体]
本発明で使用する4−メチル−1−ペンテン系共重合体とは、95.5質量%〜99.5質量%の4−メチル−1−ペンテンに由来する構成単位および0.5質量%〜4.5質量%の4−メチル−1−ペンテン以外の炭素原子数3〜20のオレフィンに由来する構成単位を有する結晶性の共重合体である。好ましくは4−メチル−1−ペンテン由来の構成単位が96質量%〜99質量%及び4−メチル−1−ペンテン以外の炭素原子数3〜20のオレフィン由来構成単位が1質量%〜4質量%、さらに好ましくは4−メチル−1−ペンテン由来の構成単位が97質量%〜98質量%及び4−メチル−1−ペンテン以外の炭素原子数3〜20のオレフィン由来構成単位が2質量%〜3質量%である。
The film of the present invention has at least one layer (A) formed from a 4-methyl-1-pentene copolymer, the total thickness of the layer (A) is 40 μm to 90 μm, and the entire film It is a film having a heat shrinkage rate of 1% to 5%.

[4-Methyl-1-pentene copolymer]
The 4-methyl-1-pentene copolymer used in the present invention is a structural unit derived from 95.5% by mass to 99.5% by mass of 4-methyl-1-pentene and 0.5% by mass to It is a crystalline copolymer having a structural unit derived from an olefin having 3 to 20 carbon atoms other than 4.5% by mass of 4-methyl-1-pentene. Preferably, the structural unit derived from 4-methyl-1-pentene is 96 mass% to 99 mass%, and the structural unit derived from olefin having 3 to 20 carbon atoms other than 4-methyl-1-pentene is 1 mass% to 4 mass%. More preferably, the structural unit derived from 4-methyl-1-pentene is 97% by mass to 98% by mass, and the structural unit derived from olefin having 3 to 20 carbon atoms other than 4-methyl-1-pentene is 2% by mass to 3%. % By mass.

本発明のフィルムを離型フィルムとしてFPCの製造に使用する場合、4−メチル−1−ペンテン以外の炭素原子数3〜20のオレフィンに由来する構成単位が前記上限値以下であれば、離型フィルムのシワの発生を防止でき、また前記下限値以上であれば、離型フィルムのクッション性が良好になるため、電気回路面のプリント部と非プリント部によって生じる凸凹に追従して離型フィルムが変形できる。   When the film of the present invention is used as a release film for the production of FPC, if the structural unit derived from an olefin having 3 to 20 carbon atoms other than 4-methyl-1-pentene is not more than the above upper limit value, the release is performed. The film can be prevented from wrinkling, and if it is above the lower limit, the release film has good cushioning properties. Therefore, the release film follows the unevenness caused by the printed part and non-printed part of the electric circuit surface. Can be transformed.

本発明で使用する4−メチル−1−ペンテン以外の炭素原子数3〜20のオレフィンとしては、プロピレン、1-ブテン、1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-テトラデセン、および1-オクタデセンから選ばれる少なくとも1種のオレフィンが挙げられる。これらの中でも4-メチル-1-ペンテンとの共重合性が良く、良好な靭性が得られることから、1-デセン、1-テトラデセンおよび1-オクタデセンが好ましい。   Examples of the olefin having 3 to 20 carbon atoms other than 4-methyl-1-pentene used in the present invention include propylene, 1-butene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-tetradecene, and 1- There may be mentioned at least one olefin selected from octadecene. Of these, 1-decene, 1-tetradecene and 1-octadecene are preferred because they have good copolymerizability with 4-methyl-1-pentene and provide good toughness.

本発明で使用する4−メチル−1−ペンテン系共重合体は、ASTM D1238(温度260℃、荷重5.0kg)に基づくメルトフローレートが、0.5g/10分〜200g/10分、好ましくは5g/10分〜100g/10分、更に好ましくは10g/10分〜50g/10分である。該メルトフローレートが200g/10分以下であれば、十分な機械的強度を得ることができ、一方、該メルトフローレートが0.5g/10分以上であると良好な成形性が得られることから好ましい。   The 4-methyl-1-pentene copolymer used in the present invention has a melt flow rate based on ASTM D1238 (temperature 260 ° C., load 5.0 kg) of 0.5 g / 10 min to 200 g / 10 min, preferably Is 5 g / 10 min to 100 g / 10 min, more preferably 10 g / 10 min to 50 g / 10 min. If the melt flow rate is 200 g / 10 min or less, sufficient mechanical strength can be obtained. On the other hand, if the melt flow rate is 0.5 g / 10 min or more, good moldability can be obtained. To preferred.

本発明で使用する4−メチル−1−ペンテン系共重合体のDSCで測定される融点(Tm)は220℃〜240℃の範囲にあるのが好ましく、225℃〜240℃の範囲にあるのがさらに好ましい。また、ASTM D1525に準拠して測定して得られるビカット軟化温度は160℃〜200℃の範囲にあるのが好ましく、170℃〜200℃の範囲にあるのがさらに好ましい。   The melting point (Tm) measured by DSC of the 4-methyl-1-pentene copolymer used in the present invention is preferably in the range of 220 ° C to 240 ° C, and is in the range of 225 ° C to 240 ° C. Is more preferable. Further, the Vicat softening temperature obtained by measurement according to ASTM D1525 is preferably in the range of 160 ° C to 200 ° C, and more preferably in the range of 170 ° C to 200 ° C.

本発明で使用する4−メチル−1−ペンテン系共重合体は、従来公知の方法で製造することができ、重合触媒や重合方法にも特に制約はない。   The 4-methyl-1-pentene copolymer used in the present invention can be produced by a conventionally known method, and the polymerization catalyst and the polymerization method are not particularly limited.

触媒としては、例えばチーグラー型触媒(担持または非担持ハロゲン含有チタン化合物とアルミニウム化合物の組み合わせに基づくもの)、フィリップス型触媒(担持酸化クロムに基づくもの)、カミンスキー型触媒(担持または非担持メタロセン型化合物と有機アルミニウム化合物、特にアルモキサンとの組み合わせに基づくもの)が挙げられる。   Examples of the catalyst include a Ziegler type catalyst (based on a combination of a supported or unsupported halogen-containing titanium compound and an aluminum compound), a Philips type catalyst (based on a supported chromium oxide), a Kaminsky type catalyst (supported or unsupported metallocene type). Compounds based on combinations of compounds and organoaluminum compounds, in particular alumoxanes).

重合方法としては、前記触媒の存在下でのスラリー重合法、気相流動床重合法、溶液重合法、あるいは圧力が20MPa以上、重合温度が100℃以上での高圧バルク重合法が挙げられる。   Examples of the polymerization method include a slurry polymerization method in the presence of the catalyst, a gas phase fluidized bed polymerization method, a solution polymerization method, or a high-pressure bulk polymerization method at a pressure of 20 MPa or more and a polymerization temperature of 100 ° C. or more.

具体的には、特開昭59-206418号公報、特開昭61−113604号公報及び、特開2003−105022号公報に記載されているように触媒の存在下に、4−メチル−1−ペンテンとそれ以外の炭素原子数3〜20のオレフィンとを共重合することにより、本発明で使用する4−メチル−1−ペンテン系共重合体を得ることができる。   Specifically, as described in JP-A-59-206418, JP-A-61-113604, and JP-A-2003-105022, 4-methyl-1- The 4-methyl-1-pentene copolymer used in the present invention can be obtained by copolymerizing pentene and other olefins having 3 to 20 carbon atoms.

本発明のフィルムは、上記層(A)の単層フィルムであってもよい。   The film of the present invention may be a single layer film of the above layer (A).

また、本発明のフィルムは、上記層(A)に加えて、さらに、ASTM D1525に基づくビカット軟化温度が50℃〜150℃である軟質ポリオレフィンから形成される層(B)を有し、かつ、少なくとも1層の上記層(A)が最外層である、多層フィルムであってもよい。
[軟質ポリオレフィン]
軟質ポリオレフィンとは、本発明のフィルムを離型フィルムとして使用する際の加熱及び加圧時に、離型フィルムにやわらかくなる特性を付与するものである。
In addition to the layer (A), the film of the present invention further has a layer (B) formed from a soft polyolefin having a Vicat softening temperature of 50 ° C. to 150 ° C. based on ASTM D1525, and A multilayer film in which at least one layer (A) is the outermost layer may be used.
[Soft polyolefin]
The soft polyolefin imparts a softening property to the release film during heating and pressurization when the film of the present invention is used as a release film.

軟質ポリオレフィンのASTM D1525に基づくビカット軟化温度は50℃〜150℃、好ましくは60℃〜150℃、さらに好ましくは70℃〜150℃であり、ASTM D1238(荷重5.0kg、温度260℃)に基づくメルトフローレートの値は0.5g/10分〜200g/10分、好ましくは5g/10分〜100g/10分であり、DSCで測定される融点(Tm)は80℃〜240℃、好ましくは100℃〜240℃である。   Vicat softening temperature of soft polyolefin based on ASTM D1525 is 50 ° C to 150 ° C, preferably 60 ° C to 150 ° C, more preferably 70 ° C to 150 ° C, based on ASTM D1238 (load 5.0 kg, temperature 260 ° C) The melt flow rate is 0.5 g / 10 min to 200 g / 10 min, preferably 5 g / 10 min to 100 g / 10 min, and the melting point (Tm) measured by DSC is 80 ° C. to 240 ° C., preferably 100 ° C to 240 ° C.

本発明の多層フィルムをFPC製造用の離型フィルムとして使用する場合、上記軟質ポリオレフィンは、いわゆるクッション性を離型フィルムに付与するために用いられる。   When using the multilayer film of this invention as a release film for FPC manufacture, the said soft polyolefin is used in order to provide what is called cushion property to a release film.

したがって、上記軟質ポリオレフィンは、FPC製造の際、表面に電気回路を形成した基板面の凸凹の追従性を向上させ、カバーレイの端面から接着剤が電気回路上に流れ出すのを防止する。   Therefore, the flexible polyolefin improves the followability of the unevenness of the substrate surface on which the electric circuit is formed on the surface during FPC manufacture, and prevents the adhesive from flowing out from the end surface of the coverlay onto the electric circuit.

上記条件を満足する軟質ポリオレフィンとしては、具体的には、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン及び、メチルペンテンから選ばれる1種以上のオレフィンの単独重合体あるいは共重合体、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体、エチレンとメタクリル酸エステルとの共重合体、エチレンとアクリル酸との共重合体、エチレンとメタクリル酸との共重合体及び、それらの部分イオン架橋物、複数のエチレンとアクリル酸またはアクリル酸エステル共重合体のブレンド物等を例示することができ、その他にも特開平2−175247号公報に開示された軟質ポリオレフィン等が挙げられる。これらは単独で用いても、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the flexible polyolefin that satisfies the above conditions include a homopolymer or copolymer of one or more olefins selected from ethylene, propylene, butene, pentene, hexene, and methylpentene, and ethylene and an acrylate ester. Copolymer of ethylene and methacrylic acid ester, copolymer of ethylene and acrylic acid, copolymer of ethylene and methacrylic acid, and their partially ionic cross-linked products, a plurality of ethylene and acrylic Examples thereof include blends of acid or acrylate ester copolymers, and other examples include soft polyolefins disclosed in JP-A-2-175247. These may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、例えばプロピレン・ブテン−1共重合体、エチレン・エチルアクリレート共重合体が、適度な柔軟性とクッション性を有する点で特に好適に使用することができる。また、これらの軟質ポリオレフィンは1層で用いることもできるが、2層以上の多層として用いることもできる。   Among these, for example, a propylene / butene-1 copolymer and an ethylene / ethyl acrylate copolymer can be particularly preferably used because they have appropriate flexibility and cushioning properties. These soft polyolefins can be used as a single layer, but can also be used as a multilayer of two or more layers.

これらの軟質ポリオレフィンは、市場から容易に入手することができ、例えば三井化学(株)製、商品名:タフマーXR、三井デュポンポリケミカル(株)製、商品名:エバフレックス等を挙げることができる。
[本発明のフィルム]
本発明のフィルムは、95.5質量%〜99.5質量%の4−メチル−1−ペンテンに由来する構成単位および0.5質量%〜4.5質量%の4−メチル−1−ペンテン以外の炭素原子数3〜20のオレフィンに由来する構成単位を有する4−メチル−1−ペンテン系共重合体から形成される層(A)を少なくとも1層有し、層(A)全体の厚みが40μm〜90μmであり、かつフィルム全体の熱収縮率が1%〜5%であるフィルムである。
These flexible polyolefins can be easily obtained from the market, and examples thereof include Mitsui Chemicals Co., Ltd., trade name: Tafmer XR, Mitsui DuPont Polychemical Co., Ltd., trade name: Evaflex, etc. .
[Film of the present invention]
The film of the present invention comprises a structural unit derived from 95.5% by mass to 99.5% by mass of 4-methyl-1-pentene and 0.5% by mass to 4.5% by mass of 4-methyl-1-pentene. And having at least one layer (A) formed from a 4-methyl-1-pentene copolymer having a structural unit derived from an olefin having 3 to 20 carbon atoms, and the total thickness of the layer (A) Is a film having a thermal shrinkage of 1% to 5%.

本発明のフィルムは、上記層(A)を有する点に特徴がある。したがって、本発明のフィルムは上記層(A)のみからなる単層フィルム、上記層(A)を少なくとも1層有する多層フィルムである。   The film of the present invention is characterized by having the layer (A). Therefore, the film of the present invention is a single-layer film composed only of the layer (A) or a multilayer film having at least one layer (A).

上記多層フィルムを離型フィルムとして使用する場合、上記層(A)は離型性に優れるため、少なくとも1層の上記層(A)が最外層であることが好ましい。   When the multilayer film is used as a release film, the layer (A) is excellent in releasability, so that at least one layer (A) is preferably the outermost layer.

上記層(A)は本発明の目的を損なわなければ、4−メチル−1−ペンテン系共重合体以外の重合体として、例えば、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリエステル等を含んでもよいが、上記層(A)は4−メチル−1−ペンテン系共重合体を90質量%〜100質量%含むことが好ましく、95質量%〜100質量%含むことがさらに好ましく、100質量%含むことが特に好ましい。   If the layer (A) does not impair the object of the present invention, examples of the polymer other than 4-methyl-1-pentene copolymer include fluorine resins such as polytetrafluoroethylene, polyphenylene sulfide, and polyester. The layer (A) may contain 90% to 100% by mass of the 4-methyl-1-pentene copolymer, more preferably 95% to 100% by mass, and more preferably 100% by mass. % Is particularly preferable.

本発明の多層フィルムをFPC製造用の離型フィルムとして使用するに際して、特に表面に電気回路を形成した基板面の起伏差が大きく、より良好なクッション性を必要とする場合は、さらに軟質ポリオレフィンから形成される層(B)を有する多層フィルムであることが好ましく、上記層(B)が2層以上の多層であってもよい。   When the multilayer film of the present invention is used as a release film for FPC production, particularly when there is a large undulation difference on the surface of the substrate having an electric circuit formed on the surface and a better cushioning property is required, a soft polyolefin is used. It is preferable that it is a multilayer film which has the layer (B) formed, and the said layer (B) may be a multilayer of two or more layers.

上記層(B)は、本発明の目的を損なわない範囲であれば、前記軟質ポリオレフィン以外の重合体として、例えば、ポリメチルペンテン、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル、ポリアミド−6、ポリアミド−6,6、ポリアミド11、ポリアミド12等のポリアミドを含んでもよいが、層(B)は軟質ポリオレフィンを90質量%〜100質量%含むことが好ましく、95質量%〜100質量%含むことがさらに好ましく、100質量%含むことが特に好ましい。   The layer (B) is a polymer other than the soft polyolefin as long as the object of the present invention is not impaired, for example, polymethylpentene, polyethylene terephthalate (PET), polyester such as polybutylene terephthalate (PBT), Polyamide such as polyamide-6, polyamide-6,6, polyamide 11, polyamide 12 and the like may be included, but the layer (B) preferably contains 90% to 100% by mass of soft polyolefin, and 95% to 100% by mass. % Is more preferable, and 100% by mass is particularly preferable.

本発明の多層フィルムとしては、本発明の目的を損なわなければ、層(A)及び層(B)以外の層(C)を有していてもよい。   The multilayer film of the present invention may have a layer (C) other than the layer (A) and the layer (B) as long as the object of the present invention is not impaired.

層(C)に使用できる樹脂としては耐熱性の高い熱可塑性樹脂が好ましい。たとえば、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル、及びポリアミド−6、ポリアミド−6,6、ポリアミド11、ポリアミド12等のポリアミドが挙げられる。これらの樹脂は市場から容易に入手することができる。たとえば、プライムポリマー社製、プライムポリプロ、三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、商品名;ノバペット、東レ(株)製、商品名;アミラン等を挙げることができる。また、これらの樹脂は単独で使用しても、2種以上を組み合わせて使用しても良い。   The resin that can be used for the layer (C) is preferably a thermoplastic resin having high heat resistance. Examples thereof include polyolefins such as polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polybutylene terephthalate (PBT), and polyamides such as polyamide-6, polyamide-6,6, polyamide 11, and polyamide 12. These resins can be easily obtained from the market. For example, Prime Polymer Co., Ltd., Prime Polypro, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd., trade name: Novapet, manufactured by Toray Industries, Inc., trade name: Amilan, and the like can be mentioned. These resins may be used alone or in combination of two or more.

本発明の多層フィルムとして具体的には、層(A)/層(B)及び層(A)/層(C)の2層構造の積層体、層(A)/層(B)/層(C)、層(A)/層(C)/層(A)及び層(A)/層(B)/層(A)の3層構造の積層体が挙げられる。   Specifically, as the multilayer film of the present invention, a laminate having a two-layer structure of layer (A) / layer (B) and layer (A) / layer (C), layer (A) / layer (B) / layer ( C), layer (A) / layer (C) / layer (A) and layer (A) / layer (B) / layer (A) three-layer structure.

離型フィルムとして使用する際に表裏を識別して使用する手間が省けることから、少なくとも2層の上記層(A)とを有し、かつ上記層(A)の2層がフィルム両側の最外層であることが好ましく、良好なクッション性が得られることから、上記層(B)を含むことが好ましい。特に層(A)/層(B)/層(A)の3層フィルムであることが好ましい。   Since it eliminates the trouble of identifying the front and back when using as a release film, it has at least two layers (A), and the two layers (A) are the outermost layers on both sides of the film. It is preferable that the above layer (B) is included because good cushioning properties are obtained. In particular, a three-layer film of layer (A) / layer (B) / layer (A) is preferable.

本発明の多層フィルムにおいて、上記層(A)が離型層として作用し、上記層(B)がクッション層として作用する。しかも、上記層(B)は、適度のクッション性を有しているために、FPC製造のプレス工程において、非プリント部へのカバーレイの押し込みが確実に行われ、空隙の全くない、一体化されたFPCの成形が達成される。   In the multilayer film of the present invention, the layer (A) acts as a release layer, and the layer (B) acts as a cushion layer. Moreover, since the layer (B) has an appropriate cushioning property, the cover lay is surely pushed into the non-printed part in the pressing process of FPC manufacturing, and there is no gap at all. FPC molding is achieved.

本発明のフィルムにおいて、上記層(A)が1層である場合、上記層(A)の厚みは、40μm〜90μmであることが好ましく、40μm〜80μmであることがさらに好ましい。   In the film of the present invention, when the layer (A) is a single layer, the thickness of the layer (A) is preferably 40 μm to 90 μm, and more preferably 40 μm to 80 μm.

また、本発明の多層フィルムにおいて、上記層(A)が2層以上である場合、上記層(A)全体の厚みが40μm〜90μmであることが好ましく、40μm〜80μmであることがさらに好ましい。   Moreover, in the multilayer film of this invention, when the said layer (A) is two or more layers, it is preferable that the thickness of the said layer (A) whole is 40 micrometers-90 micrometers, and it is further more preferable that they are 40 micrometers-80 micrometers.

上記層(A)を両側の最外層とする場合、これらの層(A)の厚みが同じであると、多層フィルムが反ることがなく、即ち弓なりに曲がることがなく、好ましい。   When the layer (A) is the outermost layer on both sides, it is preferable that the thickness of these layers (A) is the same because the multilayer film does not warp, that is, does not bend in a bow.

上記層(A)の厚みが上記下限値以上であると、シワの発生を防止することができ、上記上限値以下であるとクッション性を維持できるため好ましい。   It is preferable for the thickness of the layer (A) to be not less than the above lower limit value because wrinkles can be prevented and the cushioning property can be maintained if it is not more than the above upper limit value.

上記層(B)の厚みは30〜100μmであり、好ましくは40〜90μmである。   The layer (B) has a thickness of 30 to 100 μm, preferably 40 to 90 μm.

上記層(B)の厚みが上記下限値以上であるとクッション性を維持できるため好ましく、上記上限値以下であると、加熱及び加圧処理した際の層(B)のはみだし量を低減できるため好ましい。   Cushioning properties can be maintained when the thickness of the layer (B) is not less than the above lower limit value, and it is preferable that the thickness of the layer (B) is not more than the above upper limit value because the amount of protrusion of the layer (B) when heated and pressurized is reduced. preferable.

本発明の多層フィルムにおいて、フィルム全体の厚みに対する上記層(A)全体の厚みの割合は25%〜80%であり、好ましくは30%〜60%であり、さらに好ましくは30〜50%である。   In the multilayer film of the present invention, the ratio of the total thickness of the layer (A) to the total thickness of the film is 25% to 80%, preferably 30% to 60%, more preferably 30 to 50%. .

上記層(B)を含む多層フィルムである場合、フィルム全体厚みに対する層(A)全体の厚みの割合が上記下限値以上であると、シワの発生を防止することができ、また上限値以下であれば、良好なクッション性を得られることから好ましい。   In the case of a multilayer film including the layer (B), the generation of wrinkles can be prevented when the ratio of the total thickness of the layer (A) to the total film thickness is not less than the above lower limit, and not more than the upper limit. If there is, it is preferable because good cushioning properties can be obtained.

本発明のフィルム全体の熱収縮率は1%〜5%、好ましくは1%〜3%、さらに好ましくは1.5%〜2.5%である。熱収縮率が1%以上であれば、特に、FPCにカバーレイを接着する際の離型フィルムとして本発明のフィルムを用いる場合、フィルム表面にシワを生じることがなく好ましい。また、熱収縮率が5%以下であれば、カバーレイを接着する際に、電気回路面と離型フィルムとの間に空隙が生じることがなく好ましい。   The heat shrinkage ratio of the entire film of the present invention is 1% to 5%, preferably 1% to 3%, more preferably 1.5% to 2.5%. If the heat shrinkage rate is 1% or more, particularly when the film of the present invention is used as a release film for bonding a coverlay to an FPC, it is preferable that no wrinkles are generated on the film surface. Moreover, when the heat shrinkage rate is 5% or less, it is preferable that no gap occurs between the electric circuit surface and the release film when the coverlay is bonded.

本発明のフィルムにおける熱収縮率とは、本発明のフィルムを加熱して収縮させる際の、加熱前のフィルムの長さに対して、フィルムが収縮した割合である。すなわち、加熱前に室温で測定したフィルムの長さL1と、温度170℃雰囲気下で30分放置した後に取り出し、室温で冷却して30分後に測定した前記L1に相当する部分の長さL2として、下記式(1)で求めた値を熱収縮率とする。   The thermal contraction rate in the film of the present invention is the ratio of the film contracted with respect to the length of the film before heating when the film of the present invention is heated and contracted. That is, the length L1 of the film measured at room temperature before heating and the length L2 corresponding to the L1 measured after 30 minutes after leaving at room temperature 170 ° C. for 30 minutes after cooling at room temperature. The value obtained by the following formula (1) is defined as the heat shrinkage rate.

熱収縮率(%)=(L1 - L2) / L1 × 100 (1)
(式中、L1:加熱前のフィルムの長さ;cm、L2:加熱後のL1に相当する部分の長さ;cm)
本発明のフィルムの熱収縮率は、フィルムの延伸方向での値である。すなわち、熱収縮率を測定する際のフィルムの長さは、フィルムの延伸方向に対して平行な方向での長さである。
Thermal contraction rate (%) = (L1−L2) / L1 × 100 (1)
(In the formula, L1: length of the film before heating; cm, L2: length of the portion corresponding to L1 after heating; cm)
The heat shrinkage rate of the film of the present invention is a value in the stretching direction of the film. That is, the length of the film when measuring the thermal shrinkage is the length in the direction parallel to the stretching direction of the film.

例えば、本発明のフィルムを押出成形または共押出成形した直後に、そのまま連続して延伸ロールを用いて延伸する場合はMD方向、即ち、押出方向の長さである。また、本発明のフィルムは2軸延伸してもよく、2軸延伸は逐次でも同時2軸延伸でもよい。2軸延伸した場合の熱収縮率は、それぞれの延伸方向での値である。また、押出方向は、フィルム表面に生じるダイラインに対して平行な方向であり、該ダイラインから容易に特定することができる。   For example, immediately after the film of the present invention is extrusion-molded or co-extrusion-molded, when it is continuously stretched using a stretching roll, it is the length in the MD direction, that is, the extrusion direction. The film of the present invention may be biaxially stretched, and the biaxial stretching may be sequential or simultaneous biaxial stretching. The thermal contraction rate in the case of biaxial stretching is a value in each stretching direction. The extrusion direction is a direction parallel to the die line generated on the film surface, and can be easily specified from the die line.

また本発明のフィルムは、上記層(A)から形成されるフィルム表面の少なくとも一方がエンボス処理されていることが好ましい。このエンボス処理後のフィルム表面層のJIS B0601に基づく面粗度Ryは、0.01〜20μm、好ましくは0.1〜10μm、さらに好ましくは0.1〜5μm、特に好ましくは0.1μm〜2μmである。該フィルム表面層の面粗度が上記の範囲内であると、良好な離型性を得ることができる。   In the film of the present invention, at least one of the film surfaces formed from the layer (A) is preferably embossed. The surface roughness Ry based on JIS B0601 of the film surface layer after the embossing treatment is 0.01 to 20 μm, preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 0.1 to 5 μm, particularly preferably 0.1 μm to 2 μm. It is. When the surface roughness of the film surface layer is within the above range, good releasability can be obtained.

また本発明のフィルムは、温度150℃における弾性率(E’)が、1.5×107〜8.5×107MPaの範囲であることが好ましい。ここで温度150℃における弾性率(E’)とは、延伸方向の温度150℃での動的貯蔵弾性率を示す。具体的には、本発明のフィルムから延伸方向に長さ0.13mm、延伸方向に対して垂直な方向に5mmのサンプルを切り出し、動的貯蔵弾性率測定装置、例えばTA社製(RSA−II)を用いて測定温度;−150〜200℃、昇温速度;3℃/分、測定モード;引張り、測定周波数;1Hzの条件で測定することで、温度150℃における弾性率(E’)を求めることができる。The film of the present invention preferably has an elastic modulus (E ′) at a temperature of 150 ° C. in the range of 1.5 × 10 7 to 8.5 × 10 7 MPa. Here, the elastic modulus (E ′) at a temperature of 150 ° C. indicates a dynamic storage elastic modulus at a temperature of 150 ° C. in the stretching direction. Specifically, a sample having a length of 0.13 mm in the stretching direction and a thickness of 5 mm in the direction perpendicular to the stretching direction was cut out from the film of the present invention, and a dynamic storage modulus measuring device, for example, manufactured by TA (RSA-II). ) Is used to measure the elastic modulus (E ′) at a temperature of 150 ° C. by measuring at a temperature of −150 to 200 ° C., a rate of temperature increase: 3 ° C./min, a measurement mode; Can be sought.

本発明のフィルムをFPC製造用の離型フィルムとして使用する場合、FPCにカバーレイを接着するために加熱する際の離型フィルムの温度は150℃に近い。したがって、温度150℃における弾性率が上記下限値以上であると、離型フィルムはシワの発生を防止でき、また上記上限値以下であれば、離型フィルムは良好なクッション性を得ることができる。
[本発明のフィルムの製造方法]
本発明のフィルムは、95.5質量%〜99.5質量%の4−メチル−1−ペンテンに由来する構成単位および0.5質量%〜4.5質量%の4−メチル−1−ペンテン以外の炭素原子数3〜20のオレフィンに由来する構成単位を有する4−メチル−1−ペンテン系共重合体から形成される層(A)を少なくとも1層有し、層(A)全体の厚みが40μm〜90μmであり、かつフィルム全体の熱収縮率が1%〜5%であるフィルムである。
When using the film of this invention as a release film for FPC manufacture, the temperature of the release film at the time of heating in order to adhere | attach a coverlay on FPC is close to 150 degreeC. Therefore, when the elastic modulus at a temperature of 150 ° C. is equal to or higher than the lower limit value, the release film can prevent wrinkles, and when the elastic modulus is equal to or lower than the upper limit value, the release film can obtain good cushioning properties. .
[Production Method of Film of the Present Invention]
The film of the present invention comprises a structural unit derived from 95.5% by mass to 99.5% by mass of 4-methyl-1-pentene and 0.5% by mass to 4.5% by mass of 4-methyl-1-pentene. And having at least one layer (A) formed from a 4-methyl-1-pentene copolymer having a structural unit derived from an olefin having 3 to 20 carbon atoms, and the total thickness of the layer (A) Is a film having a thermal shrinkage of 1% to 5%.

本発明のフィルムは、Tダイ装置を使った押出成形法、共押出成形法、加熱プレス法や溶媒キャスト法で各層を単層で製膜したものを積層し加熱圧着する等の公知の方法によって製造できる。特にTダイ装置を使った押出成形法または共押出成形法が各層の厚みをダイリップ部のダイオリフィスの間隔を調節することで、フィルムを容易にかつ均一に制御することができ、また幅広化ができる点で優れている。さらに、幅広のフィルムを製造した後、多種多様なFPCの幅に合わせた幅にスリットすることが容易なため、Tダイ装置を使った押出成形法または共押出成形法がFPC製造用の離型フィルムの製造方法として好ましい。また共押出成形法によれば、各樹脂間の接着界面で溶融状態での混じり合いがよく行われるので、接着強度にも優れた積層フィルムが得られる。   The film of the present invention is formed by a known method such as laminating a single layer of each layer formed by extrusion molding using a T-die apparatus, co-extrusion molding, heating press or solvent casting, and then thermocompression bonding. Can be manufactured. In particular, the extrusion method or coextrusion method using a T-die device can control the thickness of each layer easily and uniformly by adjusting the distance between the die orifices of the die lip part, and widening the width. It is excellent in that it can be done. Furthermore, after manufacturing a wide film, it is easy to slit to a width that matches the width of a wide variety of FPCs. Therefore, an extrusion molding method using a T-die device or a coextrusion molding method is a mold release for FPC manufacturing. This is preferable as a film production method. Further, according to the coextrusion molding method, since the mixing in the molten state is often performed at the bonding interface between the resins, a laminated film having excellent adhesive strength can be obtained.

具体的には層(A)のみからなる単層フィルムを製造する場合は、例えば、単層Tダイ付き押出成形機を用いて、押出機及びTダイの温度を260〜330℃に設定して押出成形することができる。

具体的には層(A)/層(B)/層(A)からなる前記3層フィルムを製造する場合は、例えば2種3層Tダイ付き押出成形機を用いて、押出機及びTダイの温度を230〜330℃に設定して押出成形することができる。
Specifically, when producing a single layer film consisting only of the layer (A), for example, using an extruder with a single layer T die, the temperature of the extruder and the T die is set to 260 to 330 ° C. Can be extruded.

Specifically, in the case of producing the three-layer film composed of layer (A) / layer (B) / layer (A), for example, using an extruder with two types of three-layer T-die, an extruder and a T-die Can be extruded at a temperature of 230 to 330 ° C.

また、この多層フィルムは、各層を接着剤によって一体化して多層フィルムとすることもでき、各層間にウレタン系、イソシアネート系、エポキシ系のような接着剤を薄膜状に塗布し、必要によりこれらを圧着することによって成形することができる。   In addition, this multilayer film can be made into a multilayer film by integrating each layer with an adhesive, and an adhesive such as urethane, isocyanate, or epoxy is applied between each layer in a thin film, and if necessary, these layers are applied. It can be formed by pressure bonding.

また、別法として、各樹脂層の間に無水マレイン酸グラフトポリエチレン、無水マレイン酸グラフトポリプロピレンのような接着性樹脂をフィルム状で各樹脂層と同時に押し出し積層することもできる。また、予め成形されたフィルム又はシートを前述した順序で熱間圧着または熱間圧延する方法を採用することもできる。   Alternatively, an adhesive resin such as maleic anhydride grafted polyethylene or maleic anhydride grafted polypropylene can be extruded and laminated simultaneously with each resin layer between the resin layers. Moreover, the method of hot-pressing or hot-rolling the preformed film or sheet in the order mentioned above is also employable.

また、本発明の熱収縮率が1%〜5%であるフィルムは、単層フィルムである場合、上記層(A)の単層フィルムを製造した後、該フィルムを延伸することで得ることができ、また、多層フィルムである場合は、前記軟質ポリオレフィンから形成される層(B)を有し、少なくとも1層の上記層(A)が最外層である、多層からなるフィルムを製造した後、該多層からなるフィルムを延伸することで得ることができる。   Moreover, when the film having a heat shrinkage rate of 1% to 5% according to the present invention is a single layer film, the film can be obtained by stretching the film after producing the single layer film of the layer (A). In addition, in the case of a multilayer film, it has a layer (B) formed from the soft polyolefin, and at least one of the layers (A) is an outermost layer, after manufacturing a multilayer film, It can be obtained by stretching a film composed of the multilayer.

また、延伸方法としては従来公知の方法を適宜採用することができ、テンター法、ロール延伸法等の方法により延伸することができる。例えば、前記層(A)/層(B)/層(A)からなる多層フィルムを延伸する場合、延伸方向の熱収縮率を1%〜5%とするためには、延伸する際の加熱温度は50℃〜200℃、好ましくは100℃〜150℃の範囲である。また微量な延伸倍率で延伸することが必要であり、延伸倍率は、通常1%〜5%、好ましくは2%〜4%である。また延伸は一軸延伸または二軸延伸で行うことができ、二軸延伸は逐次でも同時に行っても良い。   Moreover, as a stretching method, a conventionally known method can be appropriately employed, and stretching can be performed by a method such as a tenter method or a roll stretching method. For example, when a multilayer film composed of the layer (A) / layer (B) / layer (A) is stretched, the heating temperature at the time of stretching is set to 1% to 5% in the stretching direction. Is in the range of 50 ° C to 200 ° C, preferably 100 ° C to 150 ° C. Moreover, it is necessary to extend | stretch by a trace stretch ratio, and a stretch ratio is 1%-5% normally, Preferably it is 2%-4%. The stretching can be performed by uniaxial stretching or biaxial stretching, and the biaxial stretching may be performed sequentially or simultaneously.

具体的には、本発明のフィルムは、押出成形法または共押出成形法で得られた原料フィルムを、ロールを使用して延伸してもよい。押出成形法または共押出成形法で得られた原料フィルムを、少なくとも2本以上の独立して回転する周速速の異なるロールの表面に接触させて通過させる際に、原料フィルムが先に接触するロールの周速度(m/分)より、原料フィルムが後で接触するロールの周速度(m/分)を速くする。すなわち、本発明のフィルムの延伸方法は、原料フィルムが先に接触するロール表面を通過する速度より、後で接触するロール表面を通過する速度が速くなるようにロールの周速度を制御することで、該2本以上のロールの間をフィルムが通過する際に延伸する方法である。   Specifically, the film of the present invention may be obtained by stretching a raw material film obtained by an extrusion molding method or a coextrusion molding method using a roll. When the raw material film obtained by the extrusion molding method or the coextrusion molding method is brought into contact with the surface of at least two or more independently rotating rolls having different peripheral speeds, the raw material film comes into contact first. The peripheral speed (m / min) of the roll with which the raw film comes into contact later is made faster than the peripheral speed (m / min) of the roll. That is, the film stretching method of the present invention is such that the peripheral speed of the roll is controlled so that the speed at which the raw material film passes through the roll surface that comes into contact later is faster than the speed at which the raw material film passes through the roll surface that comes in contact first. The film is stretched when the film passes between the two or more rolls.

延伸に使用するロールとしては表面が鏡面であるロール、またはエンボスロールを使用することも可能である。エンボスロールの場合エンボス深さとしては、平均粗さ(Ra)が1μm〜200μm、好ましくは2μm〜100μmに加工されたロールを使用することが好ましい。   As the roll used for stretching, it is also possible to use a roll having a mirror surface or an embossing roll. In the case of an embossing roll, as the embossing depth, it is preferable to use a roll having an average roughness (Ra) of 1 μm to 200 μm, preferably 2 μm to 100 μm.

次に、前記層(A)/層(B)/層(A)からなるフィルムを製造する場合について例示する。本発明のフィルムの製造装置の一例を示す図4において、3台の押出機20でそれぞれ溶融された4−メチル−1−ペンテン系共重合体及び軟質ポリオレフィンは、マルチマニホールドタイプの3層共押出しT型ダイ21を通して押し出されて冷却ロール22で一旦50℃〜150℃まで冷却されてフィルムとなる。次いで、フィルムは温度50℃〜200℃の加熱ロール23で加熱され、引き続き、温度50℃〜200℃の第1エンボスロール24、次いで第2エンボスロール25でエンボス処理されるとともに、第1エンボスロールの周速度より、第2エンボスロールの周速度を速くすることで、即ち、フィルムが第1プレスロール26と第1エンボスロール24の間を通過する速度より、第2プレスロール27と第2エンボスロール25の間を通過する速度を速くすることにより、第1エンボスロールと第2エンボスロールの間でフィルムを延伸して本発明のフィルム8を得ることができる。   Next, the case where the film which consists of the said layer (A) / layer (B) / layer (A) is manufactured is illustrated. In FIG. 4 showing an example of the film production apparatus of the present invention, the 4-methyl-1-pentene copolymer and the flexible polyolefin respectively melted by three extruders 20 are multi-manifold type three-layer coextrusion. It is extruded through a T-die 21 and once cooled to 50 ° C. to 150 ° C. by a cooling roll 22 to form a film. Next, the film is heated with a heating roll 23 having a temperature of 50 ° C. to 200 ° C., subsequently embossed with a first embossing roll 24 having a temperature of 50 ° C. to 200 ° C., and then with a second embossing roll 25, and the first embossing roll The peripheral speed of the second embossing roll is made faster than the peripheral speed of the second embossing roll, that is, the speed at which the film passes between the first pressing roll 26 and the first embossing roll 24 is increased. By increasing the speed of passing between the rolls 25, the film 8 of the present invention can be obtained by stretching the film between the first embossing roll and the second embossing roll.

熱収縮率が1%〜5%のフィルムを得るためには、フィルムを延伸する際、該フィルムに先に接触するロール表面の周速度に対して、該フィルムに後で接触するロールの周速度を、1.01〜1.05倍、さらに1.02〜1.04倍とすることが好ましい。また、その際のロール温度は50℃〜200℃、好ましくは100℃〜150℃の範囲である。また、該フィルムに後で接触するロール表面の周速度、すなわち加工速度は、5m/分〜100m/分、好ましくは10m/分〜70m/分である。また、熱収縮率が1%を下回らない範囲であれば、離型フィルムの保管時の自然収縮を防止するために、延伸処理後に樹脂の融点未満の温度でのアニーリング処理を行っても良い。   In order to obtain a film having a heat shrinkage rate of 1% to 5%, when the film is stretched, the peripheral speed of the roll that comes into contact with the film later is compared to the peripheral speed of the roll surface that comes into contact with the film first. Is preferably 1.01 to 1.05 times, more preferably 1.02 to 1.04 times. Moreover, the roll temperature in that case is 50 to 200 degreeC, Preferably it is the range of 100 to 150 degreeC. The peripheral speed of the roll surface that comes into contact with the film later, that is, the processing speed, is 5 m / min to 100 m / min, preferably 10 m / min to 70 m / min. Further, if the thermal shrinkage rate is within a range not less than 1%, an annealing treatment at a temperature lower than the melting point of the resin may be performed after the stretching treatment in order to prevent spontaneous shrinkage during storage of the release film.

なお、フィルムの成形工程と、該フィルムの延伸工程とは、工程を分けて行うことが可能である。   The film forming step and the film stretching step can be performed separately.

フィルムの成形工程と延伸工程とを分けて行う場合、成形して得られたフィルムの自然収縮を防止するために、樹脂の融点未満の温度でのアニーリング処理を行った後、延伸を行っても良い。また、当然のことながら、フィルムの成形工程と延伸工程とは連続しても実施することも可能である。このような工程を実施するための装置は一般に市販されている。   When the film forming process and the stretching process are performed separately, the film may be stretched after being annealed at a temperature lower than the melting point of the resin in order to prevent spontaneous shrinkage of the film obtained by molding. good. As a matter of course, the film forming process and the stretching process can be performed continuously. Devices for carrying out such steps are generally commercially available.

[離型フィルム]
本発明のフィルムは、耐熱性と離型性に優れ、離型フィルムとして好適に使用可能である。具体的には、FPC製造用離型フィルム、航空機部品に使用されるACM材料用離型フィルム、リジッドプリント基板製造用離型フィルム、半導体封止材用離型フィルム、FRP成形用離型フィルム、ゴムシート硬化用離型フィルム、特殊粘着テープ用離型フィルムが挙げられる。
[Release film]
The film of the present invention is excellent in heat resistance and releasability, and can be suitably used as a release film. Specifically, release films for FPC production, release films for ACM materials used for aircraft parts, release films for rigid printed circuit board production, release films for semiconductor sealing materials, release films for FRP molding, Examples include a release film for curing a rubber sheet and a release film for a special adhesive tape.

これらの中でも、本発明のフィルムは、FPC製造用の離型フィルムとして好適に使用することができる。   Among these, the film of this invention can be used conveniently as a release film for FPC manufacture.

FPC製造においては、熱硬化型の接着剤を用いて、電気回路を形成した基板とカバーレイ層とを金属板に挟んで加熱および加圧して接着させる工程がある。該工程において、カバーレイ層と金属板とが加熱および加圧するときに接着してしまう事態を避けるために、その中間に本発明の離型フィルムを挟んで使用する。   In FPC manufacturing, there is a step of using a thermosetting adhesive to bond a substrate on which an electric circuit is formed and a coverlay layer by heating and pressing between metal plates. In this step, in order to avoid a situation where the coverlay layer and the metal plate are bonded when heated and pressed, the release film of the present invention is sandwiched between them.

図1は本発明の多層フィルムの断面図である。また図2は、本発明の離型フィルムを使用して、FPCを成形する際のプレス時の状態の断面図である。本発明の離型フィルムを使用することによって、非プリント部の空隙はカバーレイによって完全に押し込み密着され、一体化される。図2中、8は本発明のフィルム、9はFPCを示す。   FIG. 1 is a cross-sectional view of the multilayer film of the present invention. Moreover, FIG. 2 is sectional drawing of the state at the time of the press at the time of shape | molding FPC using the release film of this invention. By using the release film of the present invention, the voids in the non-printed part are completely pressed and adhered by the coverlay and integrated. In FIG. 2, 8 is the film of the present invention, and 9 is the FPC.

本発明の離型フィルムは、プレス成形時にカバーレイによって塗布した熱硬化型の接着剤が加熱によって流動を開始する前に変形し、しかも、中間層(B)のクッション性と、最外層(A)の離型性が優れているため、図3に示されるように、離型フィルムである本発明のフィルム8が、カバーレイ6の端面と、電気回路の銅箔面10に密着し、接着剤の流出が起きることなく、露出部とカバーレイ被覆部の境界区分がはっきりなされた状態でFPCを成形することができる。   The release film of the present invention is deformed before the thermosetting adhesive applied by the coverlay at the time of press molding starts to flow by heating, and the cushioning property of the intermediate layer (B) and the outermost layer (A 3), the film 8 of the present invention, which is a release film, adheres closely to the end face of the cover lay 6 and the copper foil surface 10 of the electric circuit, as shown in FIG. The FPC can be molded in a state where the boundary between the exposed portion and the coverlay covering portion is clear without causing the agent to flow out.

さらに本発明の離型フィルムは、カバーレイを接着する加熱および加圧成形時に、離型フィルムにシワが発生しにくいため、シワが発生した部分での電気回路面の凸凹への離型フィルムの追従不良による空隙の生成がなく、またFPCにシワが転写されず、外観が極めて良好なFPCを得ることができる。   Furthermore, since the release film of the present invention is less likely to wrinkle in the release film during heating and pressure molding for bonding the coverlay, the release film is unevenly formed on the surface of the electric circuit at the wrinkled portion. There is no generation of voids due to poor tracking, and wrinkles are not transferred to the FPC, so that an FPC with an extremely good appearance can be obtained.

さらに、カバーレイを接着する加熱及び加圧成形時に、前記層(B)のはみ出しが少ないため、前記層(B)が電気回路を形成した基板面や、加熱及び加圧成形に使用する金属板に付着することによる、FPCの製品歩留まりの低下や作業性の低下等の問題を生じることがない。   Further, since there is little protrusion of the layer (B) at the time of heating and pressure forming for bonding the cover lay, the substrate surface on which the layer (B) forms an electric circuit, or a metal plate used for heating and pressure forming There are no problems such as a decrease in the product yield of the FPC and a decrease in workability due to adhering to the substrate.

以下に本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
[樹脂の測定]
(1)測定対象
樹脂(4−メチル−1−ペンテン系共重合体、軟質ポリオレフィン)
(2)メルトフローレイト(MFR)
樹脂のMFRは、ASTM D1238に準じ、荷重5.0kg、温度260℃で測定した。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to these examples.
[Measurement of resin]
(1) Measurement object Resin (4-methyl-1-pentene copolymer, soft polyolefin)
(2) Melt flow rate (MFR)
The MFR of the resin was measured at a load of 5.0 kg and a temperature of 260 ° C. according to ASTM D1238.

(3)密度
樹脂の密度は、ASTM D1505に準じ、密度勾配管法で測定した。
(3) Density The density of the resin was measured by a density gradient tube method according to ASTM D1505.

(4)融点
樹脂の融点は、DSC装置(Seiko Instruments社製)で測定した。
(4) Melting | fusing point Melting | fusing point of resin was measured with the DSC apparatus (made by Seiko Instruments).

DSC装置(Seiko Instruments社製)を使用し、空気中、各樹脂の融点より30℃高い温度まで10℃/分で昇温したときの、融解に基づく吸熱ピーク温度を樹脂の融点とした。その後、各樹脂の融点より30℃高い温度で3分間保持し、次いで10℃/分で室温まで降温した。   The DSC apparatus (manufactured by Seiko Instruments) was used, and the endothermic peak temperature based on melting when the temperature was raised at 10 ° C./min to 30 ° C. higher than the melting point of each resin in the air was defined as the melting point of the resin. Then, it hold | maintained at 30 degreeC temperature higher than melting | fusing point of each resin for 3 minutes, and then it cooled to room temperature at 10 degreeC / min.

(5)ビカット軟化温度
樹脂のビカット軟化温度は、射出成形して得られた各樹脂の厚さ1/6インチのプレートを使用して、ASTM D1525に準じて測定した。
[フィルムの測定]
(1)熱収縮率
フィルムの製造には、Tダイ付き押出成形機または共押出成形機を用いた。押出機の設定温度およびTダイの設定温度は290℃とした。押出成形して得られたフィルムの幅は600mmである。このフィルムの任意の位置から、押出し方向(以下、MD方向という)に長さ30cm、MD方向に対して垂直な方向(以下、TD方向という)に長さ30cmのフィルムを切り出し、これを試験フィルムとした。後述する加熱前の試験フィルムの室温でのMD方向の長さをL1(cm)とした。試験フィルムを温度170℃のエアーオーブン中で30分間加熱した後取り出して、室温で30分間冷却した。冷却後の試験フィルムの室温でのMD方向の長さをL2(cm)とした。下記式(1)で得られた値をフィルムの熱収縮率とした。
(5) Vicat softening temperature The Vicat softening temperature of the resin was measured according to ASTM D1525 using a 1/6 inch thick plate of each resin obtained by injection molding.
[Film measurement]
(1) Heat Shrinkage For the production of the film, an extruder with a T die or a coextrusion machine was used. The set temperature of the extruder and the set temperature of the T die were 290 ° C. The width of the film obtained by extrusion molding is 600 mm. A film having a length of 30 cm in the extrusion direction (hereinafter referred to as the MD direction) and a length of 30 cm in the direction perpendicular to the MD direction (hereinafter referred to as the TD direction) was cut out from an arbitrary position of the film, and this was tested. It was. The length in the MD direction at room temperature of the test film before heating described below was defined as L1 (cm). The test film was heated in an air oven at a temperature of 170 ° C. for 30 minutes and then taken out and cooled at room temperature for 30 minutes. The length in the MD direction at room temperature of the test film after cooling was L2 (cm). The value obtained by the following formula (1) was defined as the heat shrinkage rate of the film.

熱収縮率(%)=(L1 − L2) / L1 × 100 (1)
(2)外観シワ
フィルムの製造にはTダイ付き押出成形機または共押出成形機を用いた。押出機の設定温度およびTダイの設定温度を290℃とした。押出成形して得られたフィルムの幅は600mmである。5m毎にMD方向に長さ30cm、TD方向に長さ21cmのフィルムを合計10枚切り出し、これを試験フィルムとした。この試験フィルムを、図2に示す8の位置にセットし加熱および加圧工程を行った。該工程の条件は、温度160℃、圧力2MPa、加熱および加圧時間30分であった。流動開始温度80℃のエポキシ系接着剤を30μmの厚さでカバーレイに塗布した。ポリイミドフィルムからなるカバーレイ(厚さ:25μm)を基板上に形成されている電気回路面に接着した。その後、試験フィルムを取り出し、目視によってフィルムのシワの発生状況を下記のように評価した。
目視で試験フィルム10枚全てにシワが確認されない場合;○
目視で試験フィルム10枚中1〜4枚にシワが確認される場合;△
目視で試験フィルム10枚中5〜10枚にシワが確認される場合;×
(3)はみ出し量
フィルムの製造にはTダイ付き押出成形機または共押出成形機を用いた。押出機の設定温度およびTダイの設定温度を290℃とした。押出成形して得られたフィルムの幅は600mmである。このフィルムの任意の位置から、MD方向に長さ10cm、TD方向に長さ10cmのフィルムを合計4枚切り出し、これを試験フィルム[S1]とした。
Thermal contraction rate (%) = (L1−L2) / L1 × 100 (1)
(2) Appearance wrinkle For the production of the film, an extruder with a T die or a coextrusion machine was used. The set temperature of the extruder and the set temperature of the T die were 290 ° C. The width of the film obtained by extrusion molding is 600 mm. A total of 10 films having a length of 30 cm in the MD direction and a length of 21 cm in the TD direction were cut out every 5 m, and used as test films. This test film was set at a position 8 shown in FIG. 2 and subjected to heating and pressurizing steps. The process conditions were a temperature of 160 ° C., a pressure of 2 MPa, and a heating and pressing time of 30 minutes. An epoxy adhesive having a flow start temperature of 80 ° C. was applied to the coverlay with a thickness of 30 μm. A coverlay (thickness: 25 μm) made of a polyimide film was bonded to the electric circuit surface formed on the substrate. Thereafter, the test film was taken out, and the occurrence of wrinkles on the film was visually evaluated as follows.
When wrinkles are not confirmed on all 10 test films visually;
When wrinkles are visually confirmed on 1 to 4 of 10 test films;
When wrinkles are confirmed on 5 to 10 of 10 test films visually; ×
(3) Extrusion amount For production of the film, an extrusion molding machine with a T-die or a coextrusion molding machine was used. The set temperature of the extruder and the set temperature of the T die were 290 ° C. The width of the film obtained by extrusion molding is 600 mm. A total of four films having a length of 10 cm in the MD direction and a length of 10 cm in the TD direction were cut out from arbitrary positions of this film, and this was designated as test film [S1].

ステンレス板(32cm×32cm×厚さ5mm)を[A]、緩衝材として新聞紙10枚(30cm×30cm)を[B]、アルミ板(30cm×30cm×厚さ0.1mm)を[C]とした。   Stainless steel plate (32 cm x 32 cm x thickness 5 mm) [A], 10 sheets of newspaper (30 cm x 30 cm) as cushioning material [B], aluminum plate (30 cm x 30 cm x thickness 0.1 mm) [C] did.

はみ出し量を測定する検体として、下から[A]/[B]/[C]/[S1]/[C]/[B]/[A]の順に重ねたものを使用した。ここで、[C]上に重ねる試験フィルム[S1]4枚は、それぞれ重ならないように並べた。   As a specimen for measuring the amount of protrusion, the specimens stacked in the order of [A] / [B] / [C] / [S1] / [C] / [B] / [A] from the bottom were used. Here, the four test films [S1] stacked on [C] were arranged so as not to overlap each other.

次いで、上記検体を温度180℃、圧力8MPaで10分間、加熱および加圧処理した後、圧力5MPaで保圧して、3分間で室温まで冷却して4枚の試験フィルム[S1]を取り出した。取り出した4枚の試験フィルム[S1]の層(A)の端からはみ出した層(B)の長さをそれぞれ測定し、その最大値をはみ出し量とした。

(4)表面粗さ(Ry)
フィルムの製造にはTダイ付き押出成形機または共押出成形機を用いた。押出機の設定温度およびTダイの設定温度を290℃とした。押出成形して得られたフィルムの幅は600mmである。このフィルムの任意の位置から、MD方向に長さ10cm、TD方向に長さ10cmのフィルムを切り出し、これを試験フィルムとした。この試験フィルムの中心から、任意の方向で5cmを基準長さとし、JIS B0601に基づき、フィルムの表面層の表面粗さを求めた。
Next, the specimen was heated and pressurized at a temperature of 180 ° C. and a pressure of 8 MPa for 10 minutes, then held at a pressure of 5 MPa, cooled to room temperature in 3 minutes, and four test films [S1] were taken out. The length of the layer (B) protruding from the end of the layer (A) of the four test films [S1] taken out was measured, and the maximum value was taken as the amount of protrusion.

(4) Surface roughness (Ry)
For the production of the film, an extruder with a T-die or a co-extrusion machine was used. The set temperature of the extruder and the set temperature of the T die were 290 ° C. The width of the film obtained by extrusion molding is 600 mm. From an arbitrary position of this film, a film having a length of 10 cm in the MD direction and a length of 10 cm in the TD direction was cut out and used as a test film. The surface roughness of the surface layer of the film was determined based on JIS B0601, with 5 cm as the reference length in any direction from the center of the test film.

(5)弾性率(E’)
フィルムの弾性率(E’)は、フィルムのMD方向の温度150℃における動的貯蔵弾性率を測定することにより評価した。
(5) Elastic modulus (E ')
The elastic modulus (E ′) of the film was evaluated by measuring the dynamic storage elastic modulus at a temperature of 150 ° C. in the MD direction of the film.

フィルムの製造にはTダイ付き押出成形機または共押出成形機を用いた。押出機の設定温度およびTダイの設定温度を290℃とした。押出成形して得られたフィルムの幅は600mmである。このフィルムの任意の位置から、MD方向に長さ0.13mm、TD方向に長さ5mmのフィルムを切り出し、これを試験フィルムとした。この試験フィルムのMD方向の温度150℃における動的貯蔵弾性率を動的貯蔵弾性率測定装置(TA社製、RSA−II)により測定した。測定条件は、測定温度範囲;−150℃〜200℃、昇温速度;3℃/分、測定モード;引張り、測定周波数;1Hzである。上記測定結果より温度150℃におけるフィルムの弾性率(E’)を求めた。   For the production of the film, an extruder with a T-die or a co-extrusion machine was used. The set temperature of the extruder and the set temperature of the T die were 290 ° C. The width of the film obtained by extrusion molding is 600 mm. From an arbitrary position of this film, a film having a length of 0.13 mm in the MD direction and a length of 5 mm in the TD direction was cut out and used as a test film. The dynamic storage elastic modulus at a temperature of 150 ° C. in the MD direction of the test film was measured by a dynamic storage elastic modulus measuring apparatus (TAA, RSA-II). The measurement conditions are a measurement temperature range; -150 ° C to 200 ° C, a rate of temperature increase: 3 ° C / minute, a measurement mode; a tension, a measurement frequency: 1 Hz. From the measurement results, the elastic modulus (E ′) of the film at a temperature of 150 ° C. was determined.

[実施例1]
フィルムの製造にはマルチマニホールドタイプの3層共押出しT型ダイ付きの押出機を用いた。第1押出機及び第3押出機で(A1)4−メチル−1−ペンテン系共重合体(1−デセン含有量;2.4質量%、MFR;25g/10分、融点;233℃)を温度300℃で可塑化した。また第2押出機で(B1)プロピレン・1−ブテン共重合体(密度;0.89g/cm3、MFR;30g/10分、融点;110℃、ビカット軟化温度;78℃、1−ブテン含有量;20モル%)を温度300℃で可塑化した。
[Example 1]
For production of the film, a multi-manifold type three-layer coextrusion extruder with a T-die was used. (A1) 4-methyl-1-pentene copolymer (1-decene content; 2.4% by mass, MFR; 25 g / 10 minutes, melting point; 233 ° C.) in the first extruder and the third extruder Plasticization was performed at a temperature of 300 ° C. In addition, (B1) propylene / 1-butene copolymer (density: 0.89 g / cm 3 , MFR: 30 g / 10 min, melting point: 110 ° C., Vicat softening temperature: 78 ° C., containing 1-butene in the second extruder Amount; 20 mol%) was plasticized at a temperature of 300 ° C.

A1を層(A)及びB1を層(B)として、共押出しT型ダイ中で層(A)/層(B)/層(A)の複合化を行った。さらに、この複合化物をロールで引き取り(20m/分)ながら3層からなる多層フィルムを製造した。   The layer (A) / layer (B) / layer (A) was composited in a co-extruded T-type die with A1 as the layer (A) and B1 as the layer (B). Further, a multilayer film consisting of three layers was produced while taking this composite with a roll (20 m / min).

次いで得られた多層フィルムの表面を、平均粗さ(Ra)が25μmの2本のエンボスロールでエンボス処理した。ロール温度130℃、エンボス加工速度20m/分とした。多層フィルムが先に接触する第1エンボスロールの周速度に対する、多層フィルムが後で接触する第2エンボスロールの周速度を1.03倍とした。両周速度の比を1.03倍とすることにより、A1/B1/A1=25/70/25μmの構成で総厚み120μm、MD方向(延伸方向)の弾性率(E’)が5×10MPa、熱収縮率が2.1%の多層フィルムを得た。Next, the surface of the obtained multilayer film was embossed with two embossing rolls having an average roughness (Ra) of 25 μm. The roll temperature was 130 ° C. and the embossing speed was 20 m / min. The circumferential speed of the 2nd embossing roll which a multilayer film contacts later with respect to the circumferential speed of the 1st embossing roll which a multilayer film contacts previously was 1.03 times. By setting the ratio of both peripheral speeds to 1.03 times, with a configuration of A1 / B1 / A1 = 25/70/25 μm, the total thickness is 120 μm, and the elastic modulus (E ′) in the MD direction (stretching direction) is 5 × 10. A multilayer film with 7 MPa and a heat shrinkage of 2.1% was obtained.

次いで、得られた多層フィルムを図2に示す加熱および加圧工程にセットし、カバーレイを、基板上に形成されている電気回路面に接着させ、FPCを作成した。温度160℃、圧力2MPa、加熱および加圧時間30分の条件とした。該カバーレイはポリイミドフィルムからなり、厚さは25μmである。また、流動開始温度80℃のエポキシ系接着剤を30μmの厚さでカバーレイに塗布した。   Next, the obtained multilayer film was set in the heating and pressurizing steps shown in FIG. 2, and the coverlay was adhered to the electric circuit surface formed on the substrate to prepare an FPC. The temperature was 160 ° C., the pressure was 2 MPa, and the heating and pressing time was 30 minutes. The cover lay is made of a polyimide film and has a thickness of 25 μm. In addition, an epoxy adhesive having a flow start temperature of 80 ° C. was applied to the coverlay with a thickness of 30 μm.

作成したFPCは、カバーレイと基板本体が完全に密着し、空気の残存部分は見られなかった。   In the prepared FPC, the coverlay and the substrate main body were completely adhered, and no remaining portion of air was observed.

また、目視による評価でカバーレイの接着に使用した多層フィルム(3層フィルム)にシワは発生しておらず、また、得られたフレキシブルプリント基板の外観も良好であった。評価結果をまとめて表1に示す。   In addition, wrinkles were not generated in the multilayer film (three-layer film) used for adhesion of the coverlay by visual evaluation, and the appearance of the obtained flexible printed board was also good. The evaluation results are summarized in Table 1.

[実施例2]
B1の代わりに、(B2)エチレン・エチルアクリレート共重合体(MFR;27g/10分、融点;90℃、ビカット軟化温度;70℃および、エチルアクリレート含有量;15モル%)を使用した以外は、表1に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Example 2]
Instead of B1, (B2) an ethylene / ethyl acrylate copolymer (MFR; 27 g / 10 min, melting point: 90 ° C., Vicat softening temperature; 70 ° C. and ethyl acrylate content; 15 mol%) was used. A multilayer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 1.

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表1に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 1.

[実施例3]
B1の代わりに、(B3)プロピレン・1−ブテン・4−メチル-1−ペンテン共重合体(プロピレン含有量;36モル%、1-ブテン含有量;14モル%、4-メチル-1−ペンテン含有量;50モル%、密度0.880g/cm3、MFR;27g/10分、ビカット軟化温度;80℃)50質量%と、直鎖状低密度ポリエチレン(密度;0.92g/cm3、MFR;15g/10分、ビカット軟化温度;100℃)50質量%とのブレンド物((MFR;20g/10分、ビカット軟化温度;85℃)を使用した以外は、表1に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Example 3]
(B3) propylene / 1-butene / 4-methyl-1-pentene copolymer (propylene content; 36 mol%, 1-butene content; 14 mol%, 4-methyl-1-pentene instead of B1) Content: 50 mol%, density 0.880 g / cm3, MFR: 27 g / 10 min, Vicat softening temperature: 80 ° C., 50% by mass, linear low density polyethylene (density; 0.92 g / cm3, MFR; Example 1 under the conditions shown in Table 1 except that a blend of 15 g / 10 min, Vicat softening temperature; 100 ° C. and 50% by mass ((MFR; 20 g / 10 min, Vicat softening temperature; 85 ° C.)) was used. A multilayer film was produced in the same procedure as described above.

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表1に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 1.

[実施例4]
第1押出機及び第3押出機の押出量を変更することで、層(A)の厚みを20μmとした以外は、表1に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Example 4]
A multilayer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 1 except that the thickness of the layer (A) was changed to 20 μm by changing the extrusion amounts of the first extruder and the third extruder. .

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表1に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 1.

[実施例5]
第1押出機及び第3押出機の押出量を変更することで、層(A)の厚みを35μmとした以外は、表1に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Example 5]
A multilayer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 1, except that the thickness of the layer (A) was changed to 35 μm by changing the extrusion amounts of the first extruder and the third extruder. .

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表1に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 1.

[実施例6]
第1押出機のみを用いて、層(A)の厚みが50μmの単層フィルムとした以外は、表1に示す条件で実施例1と同様な手順で単層フィルムを製造した。
を製造した。
[Example 6]
A single-layer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 1, except that the thickness of the layer (A) was 50 μm using only the first extruder.
Manufactured.

次いで、この単層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this single layer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表1に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 1.

[実施例7]
A1の代わりに、(A2)4−メチル−1−ペンテン系共重合体(1−デセン含有量;1.0質量%、MFR;25g/10分、融点;238℃)を使用した以外は、表1に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Example 7]
Instead of A1, (A2) 4-methyl-1-pentene copolymer (1-decene content; 1.0% by mass, MFR; 25 g / 10 min, melting point; 238 ° C.) was used. A multilayer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 1.

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表1に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 1.

[実施例8]
A1の代わりに、(A3)4−メチル−1−ペンテン系共重合体(1−デセン含有量;4.0質量%、MFR;27g/10分、融点;229℃)を使用した以外は、表1に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Example 8]
Instead of A1, (A3) 4-methyl-1-pentene copolymer (1-decene content; 4.0% by mass, MFR; 27 g / 10 min, melting point; 229 ° C.) was used. A multilayer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 1.

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表1に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 1.

[実施例9]
A1の代わりに、(A4)A4:4−メチル−1−ペンテン系共重合体(1−テトラデセン含有量;2質量%、MFR;22g/10分、融点;232℃)を使用した以外は、表1に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Example 9]
Instead of A1, (A4) A4: 4-methyl-1-pentene copolymer (1-tetradecene content; 2% by mass, MFR; 22 g / 10 min, melting point; 232 ° C.) was used. A multilayer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 1.

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表1に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 1.

Figure 0005180826
Figure 0005180826

[比較例1]
第1押出機及び第3押出機の押出量を変更することで、層(A)の厚みを5μmとした以外は、表2に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Comparative Example 1]
A multilayer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 2, except that the thickness of the layer (A) was changed to 5 μm by changing the extrusion amounts of the first extruder and the third extruder. .

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表2に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

[比較例2]
第1押出機及び第3押出機の押出量を変更することで、層(A)の厚みを50μmとした以外は、表2に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Comparative Example 2]
A multilayer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 2 except that the thickness of the layer (A) was changed to 50 μm by changing the extrusion amounts of the first extruder and the third extruder. .

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表2に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

[比較例3]
A1の代わりに、(A5)4−メチル−1−ペンテン系共重合体(1−デセン含有量;5.0質量%、MFR;24g/10分、融点;226℃)を使用した以外は、表2に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Comparative Example 3]
Instead of A1, (A5) 4-methyl-1-pentene copolymer (1-decene content; 5.0% by mass, MFR; 24 g / 10 min, melting point; 226 ° C.) was used. A multilayer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 2.

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表2に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

[比較例4]
A1の代わりに、(A5)4−メチル−1−ペンテン系共重合体(1−デセン含有量;5.0質量%、MFR;24g/10分、融点;226℃)、またB1の代わりに、B2を使用した以外は、表2に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Comparative Example 4]
Instead of A1, (A5) 4-methyl-1-pentene copolymer (1-decene content; 5.0% by mass, MFR; 24 g / 10 minutes, melting point; 226 ° C.), and instead of B1 A multilayer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 2 except that B2 was used.

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表2に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

[比較例5]
A1の代わりに、(A5)4−メチル−1−ペンテン系共重合体(1−デセン含有量;5.0質量%、MFR;24g/10分、融点;226℃)、またB1の代わりに、B3を使用した以外は、表2に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Comparative Example 5]
Instead of A1, (A5) 4-methyl-1-pentene copolymer (1-decene content; 5.0% by mass, MFR; 24 g / 10 minutes, melting point; 226 ° C.), and instead of B1 A multilayer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 2 except that B3 was used.

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表2に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

[比較例6]
A1の代わりに、(A6)4−メチル−1−ペンテン系共重合体(1−デセン含有量;0.2質量%、MFR;25g/10分、融点;241℃)を使用した以外は、表2に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Comparative Example 6]
Instead of A1, (A6) 4-methyl-1-pentene copolymer (1-decene content; 0.2% by mass, MFR; 25 g / 10 min, melting point; 241 ° C.) was used. A multilayer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 2.

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表2に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

[比較例7]
A1の代わりに、(A7)4−メチル−1−ペンテン系共重合体(1−デセン含有量;10質量%、MFR;22g/10分、融点;221℃)を使用した以外は、表2に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Comparative Example 7]
Table 2 except that (A7) 4-methyl-1-pentene copolymer (1-decene content; 10% by mass, MFR; 22 g / 10 min, melting point; 221 ° C.) was used instead of A1. A multilayer film was produced by the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in FIG.

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表2に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

[比較例8]
A1の代わりに、(A8)4−メチル−1−ペンテン系共重合体(エチレン含有量;2質量%、MFR;26g/10分、融点;241℃)を使用した以外は、表2に示す条件で実施例1と同様な手順で多層フィルムを製造した。
[Comparative Example 8]
It shows in Table 2 except having used (A8) 4-methyl- 1-pentene type copolymer (ethylene content; 2 mass%, MFR; 26 g / 10min, melting | fusing point; 241 degreeC) instead of A1. A multilayer film was produced under the same conditions as in Example 1.

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表2に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

[比較例9]
第1エンボスロールと第2エンボスロールの周速度を同じにした以外は、実施例1と同様に行って、未延伸の多層フィルムを製造した。
[Comparative Example 9]
An unstretched multilayer film was produced in the same manner as in Example 1 except that the peripheral speeds of the first embossing roll and the second embossing roll were the same.

次いで、このフィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, the film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

目視による評価で、カバーレイの接着に使用した離型フィルムにシワが発生しており、そのシワがフレキシブルプリント基に転写され外観に問題のあるフレキシブルプリント基板となった。評価結果を表2に示す。   As a result of visual evaluation, wrinkles were generated in the release film used for bonding the coverlay, and the wrinkles were transferred to the flexible print base, resulting in a flexible printed board having a problem in appearance. The evaluation results are shown in Table 2.

[比較例10]
第1エンボスロールの周速度に対する、第2エンボスロール周速度を1.15倍として、MD方向に15%延伸した以外は、実施例1と同様に行って多層フィルムを製造した。
[Comparative Example 10]
A multilayer film was produced in the same manner as in Example 1 except that the second embossing roll peripheral speed was 1.15 times the peripheral speed of the first embossing roll and the film was stretched 15% in the MD direction.

次いで、この多層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this multilayer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

出来上がったフレキシブルプリント基板は、カバーレイと基板本体との密着性が悪く、空気存部分が発生した。また延伸ムラに起因する模様がフレキシブルプリント基板に転写され、フレキシブルプリント基板の外観が不良であった。評価結果を表2に示す。   The completed flexible printed circuit board had poor adhesion between the coverlay and the substrate body, and air-borne portions were generated. Moreover, the pattern resulting from the stretching unevenness was transferred to the flexible printed circuit board, and the appearance of the flexible printed circuit board was poor. The evaluation results are shown in Table 2.

[比較例11]
第1押出機のみを用いて、層(A)の厚みが20μmの単層フィルムとした以外は、表2に示す条件で実施例1と同様な手順で単層フィルムを製造した。
[Comparative Example 11]
A single-layer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 2, except that the thickness of the layer (A) was 20 μm using only the first extruder.

次いで、この単層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this single layer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表2に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

[比較例12]
第1押出機のみを用いて、層(A)の厚みが150μmの単層フィルムとした以外は、表2に示す条件で実施例1と同様な手順で単層フィルムを製造した。
を製造した。
[Comparative Example 12]
A single layer film was produced in the same procedure as in Example 1 under the conditions shown in Table 2, except that the thickness of the layer (A) was 150 μm using only the first extruder.
Manufactured.

次いで、この単層フィルムを実施例1と同様な条件で加熱および加圧することで、カバーレイを基板上に形成されている電気回路面に接着した。   Next, this single layer film was heated and pressed under the same conditions as in Example 1 to adhere the coverlay to the electric circuit surface formed on the substrate.

実施例1と同様にして評価した結果を表2に示す。   The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 2.

Figure 0005180826
Figure 0005180826

本発明の、特定の4−メチル−1−ペンテン系共重合体から形成される層を含み、且つ特定の厚み構成及び熱収縮率を有するフィルムは、耐熱性及び離型性に優れることから、離型フィルムとして好適に使用することができる。特に、FPCの製造時に、離型フィルムとして使用することで、金属板とカバーレイとのとの接着、及び接着剤が流出して他の部材へ接着するのを防止できるとともに、成形時に非プリント部に空隙を形成せず、電気回路の端子部分などの露出した部分が接着剤の溶融流出によって汚染されることがない。   Since the film of the present invention comprising a layer formed from a specific 4-methyl-1-pentene copolymer and having a specific thickness configuration and heat shrinkage ratio is excellent in heat resistance and releasability, It can be suitably used as a release film. In particular, it can be used as a release film during the manufacture of FPC, preventing adhesion between the metal plate and the coverlay and preventing the adhesive from flowing out and adhering to other members, and non-printing during molding. No gap is formed in the portion, and exposed portions such as terminal portions of the electric circuit are not contaminated by the melted out flow of the adhesive.

加熱及び加圧によりカバーレイを接着させる際に離型フィルムにシワが発生しないことから、シワが発生した部分での電気回路が形成された基板表面の凹凸への離型フィルムの追従不良による空隙の生成がなく、またシワの転写による外観不良が改善されたFPCを効率的に成形することができることから、FPC製造用の離型フィルムとして好適に使用することができる。   Since the release film does not wrinkle when the coverlay is bonded by heating and pressurization, the gap due to the follow-up failure of the release film to the unevenness of the substrate surface where the electric circuit is formed in the wrinkled part In addition, since an FPC having an improved appearance defect due to the transfer of wrinkles can be efficiently formed, it can be suitably used as a release film for FPC production.

また、さらに、FPC製造時に特定の軟質ポリオレフィンを含む層を有するフィルムを離型フィルムとして用いた場合には、その離型フィルムは、良好なクッション性を有し、FPC表面の凸凹に追従でき、加熱及び加圧時の接着剤のはみ出しが少なく、FPC、及び加熱及び加圧時に使用する金属板への接着剤の付着によるFPCの製品歩留まりの低下、作業性の低下等の問題を生じることがない。   Furthermore, when a film having a layer containing a specific soft polyolefin is used as a release film during FPC production, the release film has good cushioning properties and can follow the unevenness of the FPC surface, There is little protrusion of the adhesive during heating and pressurization, which may cause problems such as a decrease in FPC product yield and workability due to adhesion of the adhesive to the metal plate used during heating and pressurization. Absent.

Claims (11)

95.5質量%〜99.5質量%の4−メチル−1−ペンテンに由来する構成単位および0.5質量%〜4.5質量%の4−メチル−1−ペンテン以外の炭素原子数3〜20のオレフィンに由来する構成単位を有する4−メチル−1−ペンテン系共重合体から形成される層(A)を少なくとも1層有し、層(A)全体の厚みが40μm〜90μmであり、かつ
フィルム全体の熱収縮率が1%〜5%であるフィルム。
Number of carbon atoms other than structural units derived from 95.5% to 99.5% by weight of 4-methyl-1-pentene and 0.5% to 4.5% by weight of 4-methyl-1-pentene It has at least one layer (A) formed from a 4-methyl-1-pentene copolymer having a structural unit derived from -20 olefins, and the total thickness of the layer (A) is 40 μm to 90 μm And the film whose heat shrinkage rate of the whole film is 1%-5%.
上記層(A)の単層フィルムである、請求項1に記載のフィルム。  The film according to claim 1, which is a monolayer film of the layer (A). 上記層(A)に加えて、さらに、ASTM D1525に基づくビカット軟化温度が50℃〜150℃である軟質ポリオレフィンから形成される層(B)を有し、かつ
少なくとも1層の上記層(A)が最外層である、多層からなる請求項1に記載のフィルム。
In addition to the layer (A), it further has a layer (B) formed from a soft polyolefin having a Vicat softening temperature of 50 ° C. to 150 ° C. based on ASTM D1525, and at least one layer (A) The film according to claim 1, wherein is an outermost layer.
ASTM D1525に基づくビカット軟化温度が50℃〜150℃である軟質ポリオレフィンから形成される層(B)と、少なくとも2層の上記層(A)とを有し、かつ
上記層(A)の2層がフィルム両側の最外層である、多層からなる請求項1に記載のフィルム。
It has a layer (B) formed from a soft polyolefin having a Vicat softening temperature of 50 ° C. to 150 ° C. based on ASTM D1525, and at least two layers (A), and two layers of the layer (A) The film according to claim 1, wherein the film is a multi-layered film which is an outermost layer on both sides of the film.
4−メチル−1−ペンテン以外の炭素原子数3〜20のオレフィンが、1-オクテン、1-デセン、1-テトラデセン、および1-オクタデセンから選ばれる少なくとも1種である、請求項1〜3のいずれかに記載のフィルム。  The olefin having 3 to 20 carbon atoms other than 4-methyl-1-pentene is at least one selected from 1-octene, 1-decene, 1-tetradecene, and 1-octadecene. The film in any one. 軟質ポリオレフィンが、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン及び、メチルペンテンから選ばれる1種以上のオレフィンを(共)重合してなる重合体である、請求項3または4に記載のフィルム。  The film according to claim 3 or 4, wherein the soft polyolefin is a polymer obtained by (co) polymerizing one or more olefins selected from ethylene, propylene, butene, pentene, hexene, and methylpentene. 軟質ポリオレフィンが、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体、エチレンとメタクリル酸エステルとの共重合体、エチレンとアクリル酸との共重合体、エチレンとメタクリル酸との共重合体及び、それらの部分イオン架橋物から選ばれる共重合体である、請求項3または4に記載のフィルム。  Soft polyolefin is a copolymer of ethylene and acrylic acid ester, a copolymer of ethylene and methacrylic acid ester, a copolymer of ethylene and acrylic acid, a copolymer of ethylene and methacrylic acid, and parts thereof The film according to claim 3 or 4, which is a copolymer selected from ionic cross-linked products. 上記層(A)全体の厚みが、フィルム全体の厚みの25%〜80%である、請求項3〜7のいずれかに記載のフィルム。  The film in any one of Claims 3-7 whose thickness of the said layer (A) whole is 25%-80% of the thickness of the whole film. 上記層(A)から形成されるフィルム表面の少なくとも一方がエンボス処理されている、請求項2〜8のいずれかに記載のフィルム。  The film according to any one of claims 2 to 8, wherein at least one of the film surfaces formed from the layer (A) is embossed. 押出成形法または共押出成形法によって得られる請求項1〜9のいずれかに記載のフィルム。  The film according to claim 1, which is obtained by an extrusion molding method or a coextrusion molding method. 請求項1〜10のいずれかのフィルムから得られる、離型フィルム。  A release film obtained from the film according to claim 1.
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Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5368054B2 (en) * 2008-10-15 2013-12-18 日本メクトロン株式会社 Method for manufacturing flexible circuit board and flexible circuit board
JP5622362B2 (en) * 2009-02-24 2014-11-12 三井化学株式会社 Laminated body
JP5297233B2 (en) * 2009-03-09 2013-09-25 三井化学株式会社 Release film for semiconductor encapsulation process and method for producing resin-encapsulated semiconductor using the same
KR20130118332A (en) * 2011-03-28 2013-10-29 제온 코포레이션 Thermosetting crosslinked cycloolefin resin composition, thermosetting crosslinked cycloolefin resin film, process for producing thermosetting crosslinked cycloolefin resin composition, and process for producing thermosetting crosslinked cycloolefin resin film
JP5704449B2 (en) * 2011-04-07 2015-04-22 住友ベークライト株式会社 Manufacturing method of fiber reinforced resin molded product, and fiber reinforced resin molded product
CN102294864A (en) * 2011-07-01 2011-12-28 刘烈新 Composite high temperature resistant release film
JP6225437B2 (en) * 2012-08-16 2017-11-08 住友ベークライト株式会社 Electromagnetic wave shielding film and method for coating electronic component
JP6237557B2 (en) * 2013-11-22 2017-11-29 王子ホールディングス株式会社 Biaxially stretched polypropylene film
JP2015159214A (en) * 2014-02-25 2015-09-03 住友ベークライト株式会社 Electromagnetic wave shield film, and flexible printed board
JP6271320B2 (en) * 2014-03-28 2018-01-31 アキレス株式会社 Release film
CN105172292A (en) * 2015-09-15 2015-12-23 蚌埠冠宜型材科技有限公司 Film for casting
CN106042553B (en) * 2016-06-13 2018-06-26 昆山致信天城电子材料有限公司 A kind of high temperature resistant release film and manufacturing process
JP2018167458A (en) * 2017-03-29 2018-11-01 日本メクトロン株式会社 Release film and method for manufacturing flexible printed board
JP6942530B2 (en) * 2017-06-20 2021-09-29 三井化学株式会社 Multi-layer biaxially stretched film and transfer film
SG11202004352PA (en) * 2017-11-17 2020-06-29 Agc Inc Laminated film and method for producing semiconductor element
EP3862161A4 (en) * 2018-10-04 2022-06-29 Nitto Denko Corporation Heat-resistant release sheet and thermocompression bonding method
WO2020196497A1 (en) 2019-03-28 2020-10-01 三井化学東セロ株式会社 Mold releasing film for printed wiring board manufacturing process, printed board manufacturing method, printed board manufacturing device, and printed board
CN111993734A (en) * 2019-05-27 2020-11-27 宁波长阳科技股份有限公司 High-temperature-resistant release film and preparation method thereof
CN112297559A (en) * 2019-07-31 2021-02-02 宁波长阳科技股份有限公司 Thermally stable release film and manufacturing method thereof
CN115515787A (en) * 2020-08-12 2022-12-23 住友电木株式会社 Release film and method for producing molded article
CN112622312A (en) * 2020-12-29 2021-04-09 宁波长阳科技股份有限公司 Release film and preparation method and application thereof
CN112778681B (en) * 2020-12-31 2023-09-29 苏州市新广益电子股份有限公司 Special demolding film for manufacturing flexible printed circuit board
CN112874097A (en) * 2021-02-07 2021-06-01 刘烈新 High-temperature efficient release type teflon and nylon multilayer composite material

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6232031A (en) * 1985-08-02 1987-02-12 Mitsui Petrochem Ind Ltd Surface roughened film and sheet made of 4-methyl-1-pentene polymer
JPH02175247A (en) * 1988-12-28 1990-07-06 Mitsui Petrochem Ind Ltd Release film composed of laminate
JPH02238911A (en) * 1989-03-13 1990-09-21 Mitsui Petrochem Ind Ltd Mold release film having roughened both surfaces made of poly 4-methyl-1-pentene and its manufacture
JP2000289170A (en) * 1999-04-09 2000-10-17 Toyobo Co Ltd Mold release film
JP2002225207A (en) * 2000-09-20 2002-08-14 Mitsui Chemicals Inc 4-methyl-1-pentene copolymer multilayer film and method of producing the same
JP2002252458A (en) * 2001-02-26 2002-09-06 Mitsubishi Polyester Film Copp Polyester film used for manufacturing multilayer printed wiring board
WO2006067964A1 (en) * 2004-12-21 2006-06-29 Mitsubishi Polyester Film Corporation Polyester release film for hot-press molding
WO2006120983A1 (en) * 2005-05-13 2006-11-16 Mitsui Chemicals, Inc. Laminate comprising 4-methyl-1-pentene polymer and release film comprising the same

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1392835A (en) * 2000-09-20 2003-01-22 三井化学株式会社 Multilayered 4-methyl-1 pentene copolymer film and process for producing the same
WO2004087401A1 (en) * 2003-03-28 2004-10-14 Mitsui Chemicals, Inc. Stretched film and method for production thereof
JP2006212954A (en) * 2005-02-04 2006-08-17 Mitsui Chemicals Inc Mold release film

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6232031A (en) * 1985-08-02 1987-02-12 Mitsui Petrochem Ind Ltd Surface roughened film and sheet made of 4-methyl-1-pentene polymer
JPH02175247A (en) * 1988-12-28 1990-07-06 Mitsui Petrochem Ind Ltd Release film composed of laminate
JPH02238911A (en) * 1989-03-13 1990-09-21 Mitsui Petrochem Ind Ltd Mold release film having roughened both surfaces made of poly 4-methyl-1-pentene and its manufacture
JP2000289170A (en) * 1999-04-09 2000-10-17 Toyobo Co Ltd Mold release film
JP2002225207A (en) * 2000-09-20 2002-08-14 Mitsui Chemicals Inc 4-methyl-1-pentene copolymer multilayer film and method of producing the same
JP2002252458A (en) * 2001-02-26 2002-09-06 Mitsubishi Polyester Film Copp Polyester film used for manufacturing multilayer printed wiring board
WO2006067964A1 (en) * 2004-12-21 2006-06-29 Mitsubishi Polyester Film Corporation Polyester release film for hot-press molding
WO2006120983A1 (en) * 2005-05-13 2006-11-16 Mitsui Chemicals, Inc. Laminate comprising 4-methyl-1-pentene polymer and release film comprising the same

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