JP7332017B1 - Method for manufacturing release film and molded product - Google Patents

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Abstract

【課題】凹部に対する離型フィルムの埋め込みから、この凹部から離型フィルムを離型させるまでの間に、この凹部で露出する金属基板が酸化するのを的確に抑制または防止することができる離型フィルム、および、かかる離型フィルムを用いた成型品の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の離型フィルム10は、第1熱可塑性樹脂組成物からなる第1離型層1と、この第1離型層1に積層されたクッション層3とを有し、JIS K 7126-2に準拠して測定された、離型フィルム10の酸素透過度が60.0cc/(m2・atm・day)以上であることを満足する。【選択図】図4A mold release that can accurately suppress or prevent oxidation of a metal substrate exposed in a recess during a period from embedding a release film in a recess to releasing the release film from the recess. To provide a film and a method for producing a molded product using such a release film. A release film (10) of the present invention has a first release layer (1) made of a first thermoplastic resin composition, and a cushion layer (3) laminated on the first release layer (1). The oxygen permeability of the release film 10 measured in accordance with K 7126-2 is 60.0 cc/(m2·atm·day) or more. [Selection drawing] Fig. 4

Description

本発明は、離型フィルムおよび成型品の製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a release film and a method for producing a molded product.

回路が露出したフレキシブル回路基板に対して、カバーレイフィルムを、カバーレイフィルムが備える接着剤層を介して、加熱プレスにより接着してフレキシブルプリント回路基板すなわち積層体を形成する際に、離型フィルムが、一般的に、使用されている。 When forming a flexible printed circuit board, that is, a laminate by bonding a coverlay film to a flexible circuit board with an exposed circuit via an adhesive layer provided on the coverlay film by a hot press, a release film is commonly used.

このような離型フィルムを用いたフレキシブルプリント回路基板、換言すればフレキシブル回路基板とカバーレイフィルムとの積層体の形成の際に、離型フィルムには、2つの特性、すなわち、埋め込み性および離型性に優れることが要求されてきた。 When forming a flexible printed circuit board using such a release film, in other words, a laminate of a flexible circuit board and a coverlay film, the release film has two properties, i.e. embeddability and release. It has been required to be excellent in formability.

詳しくは、まず、フレキシブルプリント回路基板には、フレキシブル回路基板へのカバーレイフィルムの積層により、凹部が形成されるが、この凹部に対して、優れた埋め込み性を発揮することが離型フィルムに求められる。 In more detail, first, recesses are formed in the flexible printed circuit board by laminating a coverlay film on the flexible circuit board. Desired.

より具体的には、フレキシブル回路基板に対するカバーレイフィルムの積層は、カバーレイフィルムが備える接着剤層を介して行われるが、この積層の際に、凹部に対して、離型フィルムが優れた埋め込み性を発揮して、凹部内における接着剤のしみ出しが抑制されることが求められる。 More specifically, lamination of the coverlay film on the flexible circuit board is performed via an adhesive layer provided in the coverlay film. It is required that the oozing out of the adhesive in the concave portion is suppressed by exhibiting the properties.

また、上記のようなフレキシブル回路基板に対するカバーレイフィルムの積層の後には、形成されたフレキシブルプリント回路基板から、優れた離型性をもって離型フィルムが剥離されることが求められる。 Moreover, after lamination of the coverlay film on the flexible circuit board as described above, the release film is required to be peeled off from the formed flexible printed circuit board with excellent releasability.

より具体的には、形成されたフレキシブルプリント回路基板から、離型フィルムを剥離させる際に、フレキシブルプリント回路基板に対して、離型フィルムが優れた離型性を発揮して、フレキシブルプリント回路基板における折れシワおよび破断の発生が抑制されることが求められる。 More specifically, when the release film is peeled off from the formed flexible printed circuit board, the release film exerts excellent releasability against the flexible printed circuit board, and the flexible printed circuit board is formed. It is required to suppress the occurrence of creases and breakage in.

上記のような2つの特性(埋め込み性および離型性)に優れた離型フィルムとすることを目的に、例えば、特許文献1では、ポリエステル系エラストマー層と、ポリエステル層とを有する離型フィルムが提案されている。 For the purpose of making a release film excellent in the above two properties (embedding property and releasability), for example, Patent Document 1 discloses a release film having a polyester elastomer layer and a polyester layer. Proposed.

ところが、このフレキシブルプリント回路基板として、より優れた電気特性を有するものを製造することを考慮した場合、かかる構成をなす離型フィルムを用いて、フレキシブルプリント回路基板を製造すると、カバーレイフィルムを、フレキシブル回路基板に対して、加熱プレスする際に、離型フィルムとフレキシブル回路基板との間に残存する空気中に含まれる酸素に基づいて、フレキシブル回路基板が備える回路が酸化される。そのため、より優れた電気特性を有するフレキシブルプリント回路基板が得られているとはいえないのが実情であった。 However, in consideration of manufacturing a flexible printed circuit board having better electrical properties, when a flexible printed circuit board is manufactured using a release film having such a configuration, the coverlay film, When the flexible circuit board is hot-pressed, the circuits provided on the flexible circuit board are oxidized due to the oxygen contained in the air remaining between the release film and the flexible circuit board. Therefore, it cannot be said that a flexible printed circuit board having better electrical properties has been obtained.

また、このような問題は、金属基板上に配置された、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成された対象物に対して、離型フィルムを貼付した状態とし、この状態で熱硬化性樹脂の硬化反応を進行させることで、対象物を用いて成型品を製造する場合等についても同様に生じている。 In addition, such a problem can be solved by applying a release film to an object made of a material containing a semi-cured thermosetting resin and placed on a metal substrate. This is also the case when a molded product is produced using an object by advancing the curing reaction of a curable resin.

特開2011-88351号公報JP 2011-88351 A

本発明の目的は、凹部に対する離型フィルムの埋め込みから、この凹部から離型フィルムを離型させるまでの間に、この凹部で露出する金属基板が酸化するのを的確に抑制または防止することができる離型フィルム、および、かかる離型フィルムを用いた成型品の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to accurately suppress or prevent oxidation of the metal substrate exposed in the recess during the period from embedding the release film in the recess to releasing the release film from the recess. It is to provide a release film that can be formed and a method for manufacturing a molded product using such a release film.

このような目的は、下記(1)~(10)に記載の本発明により達成される。
(1) 第1熱可塑性樹脂組成物からなる第1離型層と、該第1離型層に積層されたクッション層とを有し、
金属基板上に配置された、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成された対象物の表面に、
前記第1離型層側の表面が接するように重ねて用いられる離型フィルムであって、
JIS K 7126-2に準拠して測定された、当該離型フィルムの酸素透過度は、100.0cc/(m ・atm・day)以上160.0cc/(m ・atm・day)以下であることを特徴とする離型フィルム。
Such objects are achieved by the present invention described in (1) to ( 10 ) below.
(1) having a first release layer made of a first thermoplastic resin composition and a cushion layer laminated on the first release layer;
On the surface of an object formed of a material containing a thermosetting resin in a semi-cured state, placed on a metal substrate,
A release film that is used so that the surface on the first release layer side is in contact ,
The oxygen permeability of the release film, measured in accordance with JIS K 7126-2, is 100.0 cc/(m 2 atm day) or more and 160.0 cc/(m 2 atm day) or less. A release film characterized by the following.

(2) 前記第1熱可塑性樹脂組成物は、ポリエステル系樹脂を含む上記(1)に記載の離型フィルム。 (2) The release film according to (1) above, wherein the first thermoplastic resin composition contains a polyester-based resin.

(3) 前記ポリエステル系樹脂は、結晶性を有し、前記第1離型層は、その結晶化度が10%以上50%以下である上記(1)または(2)に記載の離型フィルム。 (3) The release film according to (1) or (2) above, wherein the polyester resin has crystallinity, and the crystallinity of the first release layer is 10% or more and 50% or less. .

(4) 前記クッション層は、前記ポリエステル系樹脂と、ポリオレフィン系樹脂とを含む第3熱可塑性樹脂組成物からなる上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の離型フィルム。 (4) The release film according to any one of (1) to (3) above, wherein the cushion layer is made of a third thermoplastic resin composition containing the polyester resin and the polyolefin resin.

(5) 前記第1離型層は、その平均厚さが7μm以上38μm以下である上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の離型フィルム。 (5) The release film according to any one of (1) to (4) above, wherein the first release layer has an average thickness of 7 μm or more and 38 μm or less.

(6) 前記クッション層は、その平均厚さが40μm以上110μm以下である上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の離型フィルム。 (6) The release film according to any one of (1) to (5) above, wherein the cushion layer has an average thickness of 40 μm or more and 110 μm or less.

(7) 当該離型フィルムは、その平均厚さが50μm以上180μm以下である上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の離型フィルム。 (7) The release film according to any one of (1) to (6) above, wherein the release film has an average thickness of 50 µm or more and 180 µm or less.

(8) 前記第1離型層は、前記クッション層と反対側の表面における10点平均粗さ(Rz)が0.1μm以上20.0μm以下である上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の離型フィルム。 (8) Any one of (1) to (7) above, wherein the first release layer has a 10-point average roughness (Rz) of 0.1 μm or more and 20.0 μm or less on the surface opposite to the cushion layer. The release film described in .

(9) 当該離型フィルムは、前記クッション層の前記第1離型層と反対側に積層された、第2熱可塑性樹脂組成物からなる第2離型層を有する上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の離型フィルム。 (9) The release film has a second release layer made of a second thermoplastic resin composition and laminated on the side opposite to the first release layer of the cushion layer (1) to (8) ) The release film according to any one of ).

10) 上記(1)ないし()のいずれかに記載の離型フィルムの前記第1離型層が対象物側になるように、
前記対象物上に前記離型フィルムを配置する工程と、前記離型フィルムが配置された前記対象物に対し、加熱プレスを行う工程と、を含み、前記離型フィルムを配置する前記工程において、前記対象物の前記離型フィルムが配置される側の面が、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成されていることを特徴とする成型品の製造方法。
( 10 ) so that the first release layer of the release film according to any one of (1) to ( 9 ) is on the object side,
The step of placing the release film on the object, and the step of subjecting the object on which the release film is placed to a hot press, wherein the step of placing the release film includes: A method for manufacturing a molded product, wherein the surface of the object on which the release film is arranged is made of a material containing a semi-cured thermosetting resin.

本発明によれば、第1熱可塑性樹脂組成物からなる第1離型層と、この第1離型層に積層されたクッション層とを有する離型フィルムにおいて、JIS K 7126-2に準拠して測定された、離型フィルムの酸素透過度が60.0cc/(m・atm・day)以上であることを満足している。そのため、例えば、フレキシブル回路基板とカバーレイフィルムとを用いてフレキシブルプリント回路基板を得る際に、凹部に対する離型フィルムの埋め込みから、この凹部から離型フィルムを離型させるまでの間に、この凹部で露出する、フレキシブル回路基板が備える回路が酸化するのを的確に抑制または防止することができる。したがって、得られるフレキシブルプリント回路基板を、より優れた電気特性を有するものとし得る。 According to the present invention, a release film having a first release layer made of a first thermoplastic resin composition and a cushion layer laminated on the first release layer conforms to JIS K 7126-2. It is satisfied that the oxygen permeability of the release film is 60.0 cc/(m 2 ·atm · day) or more, as measured by Therefore, for example, when a flexible printed circuit board is obtained using a flexible circuit board and a coverlay film, the recess may be removed from the recess by embedding the release film in the recess and releasing the release film from the recess. It is possible to accurately suppress or prevent the oxidation of the circuit provided on the flexible circuit board, which is exposed in . Therefore, the resulting flexible printed circuit board can have better electrical properties.

フレキシブルプリント回路基板の製造に用いられるロールツーロールプレス機の主要部を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing the main parts of a roll-to-roll press used for manufacturing flexible printed circuit boards; 図1に示すロールツーロールプレス機を用いたフレキシブルプリント回路基板の製造方法における各工程を示す縦断面図である。1. It is a longitudinal cross-sectional view which shows each process in the manufacturing method of a flexible printed circuit board using the roll-to-roll press machine shown in FIG. 図1に示すロールツーロールプレス機を用いたフレキシブルプリント回路基板の製造方法における加熱プレス工程を示す縦断面図である。FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing a heat press step in the method for manufacturing a flexible printed circuit board using the roll-to-roll press machine shown in FIG. 1; 本発明の離型フィルムの実施形態を示す縦断面図である。1 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of a release film of the present invention; FIG. 図4に示す離型フィルムのA部を部分的に拡大した部分拡大縦断面図である。FIG. 5 is a partially enlarged longitudinal sectional view partially enlarging the A portion of the release film shown in FIG. 4; 図4に示す離型フィルムを製造する離型フィルム製造装置を模式的に示した側面図である。Fig. 5 is a side view schematically showing a release film manufacturing apparatus for manufacturing the release film shown in Fig. 4;

以下、本発明の離型フィルムおよび成型品の製造方法を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A method for manufacturing a release film and a molded product according to the present invention will be described in detail below based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.

なお、以下では、本発明の離型フィルムを用いた、フレキシブルプリント回路基板の製造を、ロールツーロールプレス機を用いて製造する場合を一例に説明する。また、本発明の離型フィルムおよび成型品の製造方法を説明するのに先立って、まず、このフレキシブルプリント回路基板の製造に用いられるロールツーロールプレス機について説明する。 In addition, below, the case where manufacture of a flexible printed circuit board using the release film of this invention is manufactured using a roll-to-roll press is demonstrated as an example. Prior to explaining the method for producing the release film and the molded product of the present invention, first, the roll-to-roll press used for producing the flexible printed circuit board will be explained.

<ロールツーロールプレス機>
図1は、フレキシブルプリント回路基板の製造に用いられるロールツーロールプレス機の主要部を示す側面図、図2は、図1に示すロールツーロールプレス機を用いたフレキシブルプリント回路基板の製造方法における各工程を示す縦断面図、図3は、図1に示すロールツーロールプレス機を用いたフレキシブルプリント回路基板の製造方法における加熱プレス工程を示す縦断面図である。なお、以下では、説明の都合上、図1~図3中の上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」と言い、左側を「左」、右側を「右」と言う。
<Roll-to-roll press machine>
FIG. 1 is a side view showing the main parts of a roll-to-roll press used for manufacturing flexible printed circuit boards, and FIG. FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing each process, and FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing a heat press process in a method for manufacturing a flexible printed circuit board using the roll-to-roll press machine shown in FIG. In the following, for convenience of explanation, the upper side in FIGS. ’ says.

ロールツーロールプレス機100(RtoRプレス機)は、離型フィルム10、フレキシブルプリント回路基板200(以下「FPC」と言うこともある。)およびガラスクロス300A、300Bを搬送する搬送手段(図示せず)と、FPC200が備えるフレキシブル回路基板210とカバーレイフィルム220(以下、「CLフィルム」と言うこともある。)とにおいて、離型フィルム10を用いてフレキシブル回路基板210に対してCLフィルム220を加熱プレスすることで接合する加熱プレス手段50と、フレキシブル回路基板210に対してCLフィルム220が接合されたFPC200から、離型フィルム10を離型(剥離)させる離型手段60とを備えている。 The roll-to-roll press machine 100 (RtoR press machine) includes a release film 10, a flexible printed circuit board 200 (hereinafter sometimes referred to as "FPC"), and a conveying means (not shown) that conveys the glass cloths 300A and 300B. ), and the flexible circuit board 210 and the coverlay film 220 (hereinafter also referred to as “CL film”) included in the FPC 200, the CL film 220 is attached to the flexible circuit board 210 using the release film 10. A hot press means 50 for joining by hot pressing and a releasing means 60 for releasing (peeling) the release film 10 from the FPC 200 to which the CL film 220 is joined to the flexible circuit board 210 are provided. .

搬送手段は、それぞれ異なる巻出しローラに巻回されたFPC200、離型フィルム10A、10B、および、ガラスクロス300A、300Bを、それぞれ、これらの長手方向に沿って、テンショナ(テンションローラー)の回転により、搬送するとともに、加熱プレス手段50および離型手段60による処理後に、巻取りローラに巻回するものである。 The conveying means rotates the FPC 200, the release films 10A and 10B, and the glass cloths 300A and 300B, which are respectively wound around different unwinding rollers, along their longitudinal directions by rotation of a tensioner (tension roller). , is conveyed, and after being processed by the hot press means 50 and the mold releasing means 60, it is wound around a take-up roller.

なお、各ローラは、それぞれ、例えば、ステンレス鋼等のような金属材料で構成されている。また、これらのローラは、回動軸(中心軸)同士が同じ方向を向いており、互いに離間して配置されている。 Each roller is made of a metal material such as stainless steel. Further, these rollers are arranged so that their rotation axes (central axes) face the same direction and are spaced apart from each other.

加熱プレス手段50は、図1に示すように、加熱圧着部52を有している。
加熱圧着部52は、一対の加熱圧着板521を有している。加熱圧着板521は、搬送手段により搬送されるとともに、重ね合わされた状態とされたガラスクロス300A、離型フィルム10A、FPC200、離型フィルム10Bおよびガラスクロス300Bに対向して、その上方および下方に1つずつ配置されている。そして、重ね合わされた状態とされたガラスクロス300A、離型フィルム10A、FPC200、離型フィルム10Bおよびガラスクロス300Bが、加熱圧着板521同士の間を通過する際に、加熱圧着板521により、ガラスクロス300A、300Bと、離型フィルム10A、10Bとを介して、FPC200が加熱しつつ加圧される。したがって、CLフィルム220が備える接着剤層222の硬化反応が、この加熱により進行するため、FPC200において、重ね合わされているフレキシブル回路基板210とCLフィルム220とが接着剤層222を介して接合される。
The hot press means 50 has a hot press portion 52 as shown in FIG.
The thermocompression bonding section 52 has a pair of thermocompression plates 521 . The thermocompression plate 521 is conveyed by the conveying means, facing the glass cloth 300A, the release film 10A, the FPC 200, the release film 10B, and the glass cloth 300B in a state of being superimposed, and upwardly and downwardly therefrom. placed one by one. When the glass cloth 300A, the release film 10A, the FPC 200, the release film 10B, and the glass cloth 300B, which are superimposed, pass between the heat-pressing plates 521, the heat-pressing plate 521 presses the glass. The FPC 200 is heated and pressurized via the cloths 300A, 300B and the release films 10A, 10B. Therefore, since the curing reaction of the adhesive layer 222 included in the CL film 220 proceeds due to this heating, the flexible circuit board 210 and the CL film 220, which are superimposed on each other in the FPC 200, are bonded via the adhesive layer 222. .

換言すれば、カバーレイ221とフレキシブル回路基板210とが、接着剤層222を介して接合される。また、FPC200の加熱・加圧の際、すなわち、カバーレイ221とフレキシブル回路基板210との接着剤層222を介した接合の際に、カバーレイ221に形成される凹部223内に離型フィルム10が埋入されることとなる。そのため、凹部223内における、接着剤層222に由来する接着剤のしみ出しが抑制される(図2(b)参照)。 In other words, the coverlay 221 and the flexible circuit board 210 are bonded via the adhesive layer 222 . Further, when the FPC 200 is heated and pressurized, that is, when the coverlay 221 and the flexible circuit board 210 are joined via the adhesive layer 222, the release film 10 is inserted into the concave portion 223 formed in the coverlay 221. will be embedded. Therefore, the seepage of the adhesive originating from the adhesive layer 222 in the concave portion 223 is suppressed (see FIG. 2B).

なお、加熱圧着板521により加熱圧着される前において、FPC200は、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とを重ね合わせることで積層された状態となってはいるが、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とは、CLフィルム220が備える接着剤層222を介して接合されていない。そして、加熱圧着板521による圧着により、CLフィルム220が備える接着剤層222がフレキシブル回路基板210に密着し、さらに、この状態で、加熱圧着板521による加熱により、接着剤層222の硬化反応が進行することで、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とが接着剤層222を介して接合される。 Note that the FPC 200 is in a laminated state by overlapping the flexible circuit board 210 and the CL film 220 before being thermocompression bonded by the thermocompression bonding plate 521 . and are not joined through the adhesive layer 222 of the CL film 220 . Then, the adhesive layer 222 provided in the CL film 220 is brought into close contact with the flexible circuit board 210 by pressure bonding by the thermocompression plate 521 , and further, in this state, by heating by the thermocompression plate 521 , the curing reaction of the adhesive layer 222 is initiated. By proceeding, the flexible circuit board 210 and the CL film 220 are bonded via the adhesive layer 222 .

離型手段60は、図1に示すように、加熱プレス手段50に対して、搬送方向の下流側に配置されている。この離型手段60は、FPC200と離型フィルム10A、10Bとを離間させるように構成されている。ここで、加熱プレス手段50が備える加熱圧着部52において、カバーレイ221に形成される凹部223内に離型フィルム10が埋入され、これにより、CLフィルム220(FPC200)に離型フィルム10が接合されているが、この離型手段60の作用により、CLフィルム220(FPC200)から離型フィルム10を剥離(離型)させ得るように構成されている(図2(c)参照)。したがって、離型手段60による作用に基づいて、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とが接着剤層222を介して接合された構成をなすFPC200が、離型フィルム10から剥離された状態で得られることとなる。 As shown in FIG. 1, the releasing means 60 is arranged downstream of the hot pressing means 50 in the conveying direction. The release means 60 is configured to separate the FPC 200 and the release films 10A and 10B. Here, the release film 10 is embedded in the concave portion 223 formed in the coverlay 221 in the thermocompression bonding portion 52 provided in the heat press means 50, whereby the release film 10 is attached to the CL film 220 (FPC 200). Although they are joined, the release means 60 is configured to allow the release film 10 to be peeled off (released) from the CL film 220 (FPC 200) (see FIG. 2(c)). Therefore, the FPC 200 having the configuration in which the flexible circuit board 210 and the CL film 220 are bonded via the adhesive layer 222 is obtained in a state of being separated from the release film 10 by the action of the release means 60. It will happen.

以上のようなロールツーロールプレス機100を用いて、フレキシブルプリント回路基板200(FPC200)を製造し得る。以下、このロールツーロールプレス機を用いたFPC200の製造方法について説明する。なお、このFPC200の製造方法に、本発明の成型品の製造方法が適用される。 A flexible printed circuit board 200 (FPC 200) can be manufactured using the roll-to-roll press machine 100 as described above. A method of manufacturing the FPC 200 using this roll-to-roll press will be described below. It should be noted that the method for manufacturing a molded product of the present invention is applied to the method for manufacturing this FPC 200 .

FPC200の製造方法は、本実施形態では、それぞれがシート状をなす、ガラスクロス300Aと、離型フィルム10Aと、FPC200と、離型フィルム10Bと、ガラスクロス300Bとを、この順で重ね合わされた状態をなす積層体とする第1の工程と、かかる積層体を加熱プレスすることで、FPC200において、フレキシブル回路基板210に対してカバーレイ221(CLフィルム220)を、接着剤層222を介して接合する第2の工程と、FPC200から離型フィルム10(10A、10B)を離型させて、フレキシブル回路基板210に対してCLフィルム220が接合されているFPC200を得る第3の工程とを有する。 In the present embodiment, the FPC 200 is manufactured by stacking a sheet-shaped glass cloth 300A, a release film 10A, the FPC 200, a release film 10B, and a glass cloth 300B in this order. In the first step of forming a laminated body in a state and by heat-pressing the laminated body, in the FPC 200, the coverlay 221 (CL film 220) is attached to the flexible circuit board 210 via the adhesive layer 222. a second step of bonding; and a third step of releasing the release films 10 (10A, 10B) from the FPC 200 to obtain the FPC 200 in which the CL film 220 is bonded to the flexible circuit board 210. .

以下、これらの各工程について、順次説明する。
(第1の工程)
まず、それぞれがシート状をなす、巻出しローラにそれぞれ巻回されたガラスクロス300Aと、離型フィルム10Aと、FPC200と、離型フィルム10Bと、ガラスクロス300Bとを、搬送手段による搬送の際に、この順で重ね合わされた状態をなす積層体とする(離型フィルム配置工程、図1、図2(a)、図3参照。)。
Each of these steps will be described below in sequence.
(First step)
First, the sheet-shaped glass cloth 300A, the release film 10A, the FPC 200, the release film 10B, and the glass cloth 300B wound around the unwinding roller are conveyed by the conveying means. Then, a layered product is obtained in which the layers are superimposed in this order (step of disposing release film, see FIGS. 1, 2(a), and 3).

なお、各部材(フィルム)を積層体に積層する方法は特に限定されず、例えば、ロールにより押し付けながら積層してもよいし、プレスにより押し付けながら積層してもよい。また、各部材を積層する順番も、任意に行うことが出来る。例えば、すべての部材を同時に積層してもよいし、カバーレイフィルム220とフレキシブル回路基板210を事前に積層しておき、その後その他の部材を同時に積層してもよい。 The method of laminating each member (film) on the laminate is not particularly limited, and for example, lamination may be performed while pressing with a roll or while pressing with a press. Also, the order of laminating each member can be arbitrarily set. For example, all members may be laminated at the same time, or the coverlay film 220 and the flexible circuit board 210 may be laminated in advance, and then the other members may be laminated at the same time.

また、この第1の工程における前記積層体の形成により、本発明の成型品の製造方法における、対象物(FPC200)上に離型フィルム10を配置する工程が構成される。 Further, the formation of the laminate in the first step constitutes the step of disposing the release film 10 on the object (FPC 200) in the method of manufacturing a molded product of the present invention.

(第2の工程)
次に、ガラスクロス300Aと、離型フィルム10Aと、FPC200と、離型フィルム10Bと、ガラスクロス300Bとが、この順で重ね合わされた積層体を、加熱プレス手段50(加熱圧着部52)を用いて、加圧しつつ加熱(加熱プレス)することで、接着剤層222がフレキシブル回路基板210に密着した状態で、接着剤層222の硬化反応が進行することから、FPC200において、フレキシブル回路基板210に対してカバーレイ221(CLフィルム220)が、接着剤層222を介して接合された接合体が形成される(加熱プレス工程、図1、図2(b)、図3参照。)。
(Second step)
Next, a laminated body in which the glass cloth 300A, the release film 10A, the FPC 200, the release film 10B, and the glass cloth 300B are superimposed in this order is pressed by the heat press means 50 (heat press bonding portion 52). By applying heat (heating press) while applying pressure, the curing reaction of the adhesive layer 222 proceeds while the adhesive layer 222 is in close contact with the flexible circuit board 210 . The coverlay 221 (CL film 220) is bonded to the substrate via the adhesive layer 222 to form a bonded body (heat press step, see FIGS. 1, 2(b) and 3).

そして、この際に、カバーレイ221に離型フィルム10Aが密着しつつ、カバーレイ221に形成される凹部223内に離型フィルム10Aが埋入されることから、凹部223内における、接着剤層222に由来する接着剤のしみ出しが抑制される。 At this time, since the release film 10A is embedded in the recess 223 formed in the coverlay 221 while the release film 10A is in close contact with the coverlay 221, the adhesive layer in the recess 223 222-derived adhesive is suppressed.

なお、FPC200(カバーレイ221)の凹部223に形成される段差は、例えば、FPC200が車載用のものに適用された場合には、その高さが30μm以上100μm以下程度の大きさに設定される。 The height of the step formed in the concave portion 223 of the FPC 200 (coverlay 221) is set to approximately 30 μm or more and 100 μm or less when the FPC 200 is applied to a vehicle. .

この第2の工程(加熱プレス工程)において、FPC200を加熱する温度は、特に限定されないが、例えば、100℃以上250℃以下であることが好ましく、150℃以上200℃以下であることがより好ましい。 In the second step (heat press step), the temperature for heating the FPC 200 is not particularly limited. .

また、第2の工程において、FPC200を加圧する際に、加熱圧着部52において設定される圧力は、特に限定されないが、1MPa以上14MPa以下であることが好ましく、より好ましくは5MPa以上14MPa以下に設定される。 Also, in the second step, the pressure set in the thermocompression bonding unit 52 when pressurizing the FPC 200 is not particularly limited, but is preferably 1 MPa or more and 14 MPa or less, more preferably 5 MPa or more and 14 MPa or less. be done.

さらに、前記積層体を搬送する搬送速度は、40mm/sec以上400mm/sec以下であることが好ましく、より好ましくは100mm/sec以上350mm/sec以下に設定される。換言すれば、第2の工程(本工程)において、前記積層体を、加熱プレス手段50を用いて加熱プレスし、剥離工程(次工程)において、前記接合体から離型フィルム10が剥離されるまでの密着時間は、好ましくは1.0sec以上10.0sec以下、より好ましくは4.0sec以上7.0sec以下に設定される。前記搬送速度すなわち前記密着時間を、かかる範囲内に設定することで、効率よくFPC200が製造されているといえる。すなわち、FPC200が優れた生産性をもって製造されているといえる。 Further, the transport speed for transporting the laminate is preferably set to 40 mm/sec or more and 400 mm/sec or less, more preferably 100 mm/sec or more and 350 mm/sec or less. In other words, in the second step (main step), the laminate is hot-pressed using the hot press means 50, and in the peeling step (next step), the release film 10 is peeled from the joined body. The close contact time up to is preferably set to 1.0 sec or more and 10.0 sec or less, more preferably 4.0 sec or more and 7.0 sec or less. It can be said that the FPC 200 is manufactured efficiently by setting the transport speed, ie, the contact time, within such a range. That is, it can be said that the FPC 200 is manufactured with excellent productivity.

なお、第2の工程により、本発明の成型品の製造方法における、離型フィルム10が配置された対象物(FPC200)に対し、加熱プレスを行う工程が構成される。また、カバーレイ221(絶縁層)が、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料で構成される場合には、対象物(FPC200)の離型フィルム10が配置される側の面を、カバーレイ221が構成する。そして、このカバーレイ221の表面に、第1離型層1側の表面が接するように離型フィルム10が重ねて用いられているため、離型フィルム10により、凹部223が形成されたカバーレイ221の形状を維持して、熱硬化性樹脂を硬化させ得ることから、フレキシブル回路基板210上に、カバーレイ221(成型品)を優れた精度で成型することができる。また、前記密着時間が前記範囲内に設定されているため、離型フィルム10により、凹部223が形成されたカバーレイ221の形状を維持した状態で、カバーレイ221を構成する熱硬化性樹脂の硬化反応を進行させることができる。 Note that the second step constitutes a step of hot pressing the object (FPC 200) on which the release film 10 is arranged in the method for manufacturing a molded product of the present invention. In addition, when the coverlay 221 (insulating layer) is made of a material containing a semi-cured thermosetting resin, the surface of the object (FPC 200) on which the release film 10 is arranged is covered. Ray 221 configures. Since the release film 10 is overlaid on the surface of the coverlay 221 so that the surface on the side of the first release layer 1 is in contact with the coverlay 221 , the release film 10 forms the coverlay with the concave portions 223 . Since the thermosetting resin can be cured while maintaining the shape of 221, the coverlay 221 (molded product) can be molded on the flexible circuit board 210 with excellent accuracy. In addition, since the adhesion time is set within the above range, the release film 10 maintains the shape of the coverlay 221 with the recesses 223 formed therein, and the thermosetting resin forming the coverlay 221 is removed. Curing reaction can proceed.

さらに、本実施形態においては加熱プレスにより加熱する手段を示したが、必ずしもこの方法に限定されるものではなく、例えば赤外線により加熱してもよいし、加熱ロールによる加熱を行ってもよい。 Furthermore, in the present embodiment, the means for heating by means of a heat press is shown, but the method is not necessarily limited to this method. For example, heating by infrared rays or heating by a heating roll may be performed.

このような第2の工程(加熱プレス工程)から、次工程である第3の工程(離型工程)におけるFPC200からの離型フィルム10の離型までの間において、FPC200に対して離型フィルム10が貼付される。このとき、本発明では、JIS K 7126-2に準拠して測定された、離型フィルム10の酸素透過度が60.0cc/(m・atm・day)以上であることを満足している。したがって、第2の工程(本工程)から第3の工程(次工程)において離型フィルム10を離型させるまでの間に、上記の通り、第2の工程(本工程)おいて、FPC200が加熱プレスされたとしても、凹部223で露出する、フレキシブル回路基板210が備える回路が酸化するのを的確に抑制または防止することができるため、得られるFPC200を、より優れた電気特性を有するものとし得るが、その詳細な説明は後に行うこととする。 From such a second step (heat press step) to the release of the release film 10 from the FPC 200 in the next step, the third step (release step), the release film 10 is applied to the FPC 200. 10 is attached. At this time, the present invention satisfies that the oxygen permeability of the release film 10 measured in accordance with JIS K 7126-2 is 60.0 cc/(m 2 ·atm · day) or more. . Therefore, between the second step (main step) and the release film 10 in the third step (next step), as described above, in the second step (main step), the FPC 200 is Even if it is hot-pressed, it is possible to accurately suppress or prevent oxidation of the circuit provided in the flexible circuit board 210 exposed in the recess 223, so that the obtained FPC 200 has better electrical properties. A detailed description will be given later.

(第3の工程)
次に、離型手段60において、FPC200から離型フィルム10(10A、10B)を離型させる。すなわち、カバーレイフィルム220とフレキシブル回路基板210との接合体から、離型フィルム10Aと離型フィルム10Bとを剥離する。これにより、フレキシブル回路基板210に対してCLフィルム220が接合されているFPC200を得る(剥離工程、図1、図2(c)図3参照。)。
(Third step)
Next, the release film 10 (10A, 10B) is released from the FPC 200 by the release means 60. Next, as shown in FIG. That is, the release film 10A and the release film 10B are separated from the joined body of the coverlay film 220 and the flexible circuit board 210 . As a result, the FPC 200 in which the CL film 220 is joined to the flexible circuit board 210 is obtained (separation step, see FIGS. 1, 2(c) and 3).

なお、離型手段60としては、特に限定されず、例えば、外側に真空装置を設置し、真空引きすることで剥離する構成のものであってもよいし、前記接合体と離型フィルム10A、10Bの間に空気を送り込むことで剥離する構成のものであってもよいし、接合体と離型フィルム10A、10Bの間に棒を挟みこみ剥離する構成のものであってもよい。 The releasing means 60 is not particularly limited. For example, it may be configured such that a vacuum device is installed on the outside, and the bonded body and the release film 10A are separated by vacuuming. It may be of a configuration in which air is sent between 10B to separate them, or a configuration in which a stick is sandwiched between the joined body and the release films 10A and 10B for separation may be used.

その後、カバーレイフィルム220とフレキシブル回路基板210の接合体と、ガラスクロス300A、離型フィルム10A、離型フィルム10B、ガラスクロス300Bをそれぞれの巻取りローラにて巻き取る。 After that, the joined body of the coverlay film 220 and the flexible circuit board 210, the glass cloth 300A, the release film 10A, the release film 10B, and the glass cloth 300B are wound up by respective winding rollers.

このような巻取りにより、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とが、CLフィルム220が備える接着剤層222を介して接合されたFPC200として、巻取りローラに巻き取られた状態で連続的に得られることとなる。 By such winding, the flexible circuit board 210 and the CL film 220 are continuously obtained as the FPC 200 bonded via the adhesive layer 222 of the CL film 220 while being wound on the winding roller. will be

以上のように、離型フィルム10を用いたロールツーロールプレス機100による、フレキシブルプリント回路基板200の製造方法を適用することで、連続的にフレキシブルプリント回路基板200が製造される。 As described above, the flexible printed circuit board 200 is continuously manufactured by applying the manufacturing method of the flexible printed circuit board 200 by the roll-to-roll press machine 100 using the release film 10 .

なお、上記第3の工程の後に、巻取りローラに巻き取られた状態のフレキシブルプリント回路基板200、または巻き取られたフレキシブルプリント回路基板200を個々の状態に切断した枚葉の状態のものを、オーブンなどで加熱することで、カバーレイ221を構成する熱硬化性樹脂の硬化反応をさらに進行させて、カバーレイ221を硬化させる工程を含んでいてもよい。 After the third step, the flexible printed circuit board 200 wound on the winding roller, or the wound flexible printed circuit board 200 cut into individual sheets is used. A step of curing the coverlay 221 by further advancing the curing reaction of the thermosetting resin forming the coverlay 221 by heating in an oven or the like may be included.

このフレキシブルプリント回路基板200の製造に用いられる離型フィルム10に、本発明の離型フィルムが適用される。以下、本発明の離型フィルムが適用された、離型フィルム10について、説明する。 The release film of the present invention is applied to the release film 10 used for manufacturing this flexible printed circuit board 200 . The release film 10 to which the release film of the present invention is applied will be described below.

<離型フィルム10>
図4は、本発明の離型フィルムの実施形態を示す縦断面図、図5は、図4に示す離型フィルムのA部を部分的に拡大した部分拡大縦断面図である。
離型フィルム10は、図4に示すように、本実施形態において、第1離型層1と、クッション層3と、第2離型層2とがこの順で積層された積層体で構成されており、FPC200が備えるCLフィルム220に対して、第1離型層1側の表面が接するように重ねて用いられる。
<Release film 10>
FIG. 4 is a vertical cross-sectional view showing an embodiment of the release film of the present invention, and FIG. 5 is a partially enlarged vertical cross-sectional view partially enlarging part A of the release film shown in FIG.
As shown in FIG. 4, in the present embodiment, the release film 10 is composed of a laminate in which a first release layer 1, a cushion layer 3, and a second release layer 2 are laminated in this order. The CL film 220 included in the FPC 200 is overlapped so that the surface on the first release layer 1 side is in contact with the CL film 220 .

そして、この離型フィルム10として、本発明では、JIS K 7126-2に準拠して測定された、離型フィルム10の酸素透過度が60.0cc/(m・atm・day)以上であるものが用いられる。 In the present invention, the release film 10 has an oxygen permeability of 60.0 cc/(m 2 ·atm · day) or more, which is measured according to JIS K 7126-2. things are used.

ここで、前述したように、離型フィルム10を用いたフレキシブルプリント回路基板200の製造方法では、離型フィルム10の凹部223に対する埋め込み性と、フレキシブルプリント回路基板200からの離型性との両立が図られることが求められ、さらに、FPC200として、より優れた電気特性を有するものが製造されることが求められる。 Here, as described above, in the method for manufacturing the flexible printed circuit board 200 using the release film 10, compatibility between embedding of the release film 10 in the concave portion 223 and releasability from the flexible printed circuit board 200 is achieved. Further, it is required that the FPC 200 having better electrical properties be manufactured.

しかしながら、第2の工程(本工程)から第3の工程(次工程)において離型フィルム10を離型させるまでの間に、上記の通り、第2の工程(本工程)おいて、FPC200を加熱プレスする際に、離型フィルム10とFPC200との間に残存する空気中に含まれる酸素に基づいて、フレキシブル回路基板210が備える回路が酸化されるため、より優れた電気特性を有するFPC200を得ることができないという問題があった。 However, between the second step (main step) and the release film 10 in the third step (next step), as described above, the FPC 200 is removed in the second step (main step). During the hot pressing, the circuit included in the flexible circuit board 210 is oxidized based on the oxygen contained in the air remaining between the release film 10 and the FPC 200, resulting in the FPC 200 having better electrical properties. The problem was that I couldn't get it.

かかる問題点に対応して、本発明では、離型フィルム10として、上記の通り、JIS K 7126-2に準拠して測定された、離型フィルム10の酸素透過度が60.0cc/(m・atm・day)以上であるものが選択されている。すなわち、離型フィルム10として、厚さ方向に対する酸素透過度に優れたものが選択されている。したがって、第2の工程(本工程)から第3の工程(次工程)において離型フィルム10を離型させるまでの間に、上記の通り、第2の工程(本工程)おいて、FPC200を加熱プレスする際に、離型フィルム10とFPC200との間に残存する酸素を、この離型フィルム10を介して透過させることができる。そのため、FPC200の加熱プレスの際に、FPC200が加熱されたとしても、凹部223で露出する、フレキシブル回路基板210が備える回路が酸化するのを的確に抑制または防止することができる。したがって、得られるFPC200を、より優れた電気特性を有するものとし得る。 In response to such problems, in the present invention, the release film 10 has an oxygen permeability of 60.0 cc/(m 2 ·atm·day) or more is selected. That is, the release film 10 is selected to have excellent oxygen permeability in the thickness direction. Therefore, between the second step (main step) and the release film 10 in the third step (next step), as described above, the FPC 200 is removed in the second step (main step). Oxygen remaining between the release film 10 and the FPC 200 can permeate through the release film 10 during hot pressing. Therefore, even if the FPC 200 is heated when the FPC 200 is heated and pressed, it is possible to accurately suppress or prevent the circuits of the flexible circuit board 210 exposed in the recesses 223 from being oxidized. Therefore, the obtained FPC 200 can have better electrical properties.

以下、この離型フィルム10を構成する各層について説明する。
<クッション層3>
まず、クッション層3について説明する。このクッション層3は、第1離型層1と第2離型層2との間の中間層として配置されている。
Each layer constituting the release film 10 will be described below.
<Cushion layer 3>
First, the cushion layer 3 will be explained. This cushion layer 3 is arranged as an intermediate layer between the first release layer 1 and the second release layer 2 .

このクッション層3は、第3熱可塑性樹脂組成物からなり、この第3熱可塑性樹脂組成物は、離型フィルム10に凹部223に対する埋め込み性を付与しつつ、離型フィルム10の酸素透過度を前記下限値以上に設定することを目的に、本発明では、複数種の熱可塑性樹脂を含有しているものが好ましく用いられる。 The cushion layer 3 is made of a third thermoplastic resin composition, and the third thermoplastic resin composition provides the release film 10 with embedding properties in the concave portions 223 and increases the oxygen permeability of the release film 10. For the purpose of setting the lower limit or more, in the present invention, one containing a plurality of types of thermoplastic resins is preferably used.

複数種の熱可塑性樹脂の組み合わせとしては、例えば、ポリエステル系樹脂とポリオレフィン系樹脂との組み合わせ、ポリオレフィン系樹脂同士の組み合わせ、および、ポリアミド系樹脂とポリオレフィン系樹脂との組み合わせ等が挙げられるが、中でも、ポリエステル系樹脂とポリオレフィン系樹脂との組み合わせを選択することで、離型フィルム10の酸素透過度を比較的容易に前記下限値以上に設定することができる。 Combinations of a plurality of types of thermoplastic resins include, for example, combinations of polyester resins and polyolefin resins, combinations of polyolefin resins, and combinations of polyamide resins and polyolefin resins. By selecting the combination of the polyester resin and the polyolefin resin, the oxygen permeability of the release film 10 can be relatively easily set to the above lower limit or higher.

ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリシクロヘキサンテレフタレート(PCT)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。なお、これらのうちの2種以上を組み合わせて用いる場合、このポリエステル系樹脂は、これらのブレンド体であってもよいし、共重合体であってもよい。これらの中でも、ポリエステル系樹脂は、特に、ポリブチレンテレフタレートであるのが好ましい。これにより、クッション層3に優れた凹部223に対する追従性を付与することができる。また、第1離型層1を構成する第1熱可塑性樹脂組成物に、ポリブチレンテレフタレートが含まれる場合、クッション層3を、第1離型層1に対して優れた密着性を発揮するものとし得る。さらに、離型フィルム10の酸素透過度をより容易に前記下限値以上に設定することができる。 The polyester-based resin is not particularly limited, but examples include polyethylene terephthalate (PET), polycyclohexane terephthalate (PCT), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), polycyclohexanedimethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, and the like. and one or more of these can be used in combination. When two or more of these are used in combination, the polyester resin may be a blend or a copolymer thereof. Among these, the polyester-based resin is particularly preferably polybutylene terephthalate. As a result, the cushion layer 3 can be provided with excellent conformability to the concave portion 223 . Further, when the first thermoplastic resin composition constituting the first release layer 1 contains polybutylene terephthalate, the cushion layer 3 exhibits excellent adhesion to the first release layer 1. can be Furthermore, the oxygen permeability of the release film 10 can be more easily set to the above lower limit or higher.

さらに、このポリエステル系樹脂は、結晶性を示すが、クッション層3において、その結晶化が抑制または防止されていることが好ましい。これにより、離型フィルム10の酸素透過度をより容易に前記下限値以上に設定することができる。 Furthermore, although this polyester resin exhibits crystallinity, it is preferable that the crystallization of the cushion layer 3 is suppressed or prevented. As a result, the oxygen permeability of the release film 10 can be more easily set to the lower limit value or higher.

また、ポリオレフィン系樹脂としては、特に限定されず、例えば、低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレンのようなポリエチレン、ポリプロプレン等のα-オレフィン系重合体、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン等を重合体成分として有する、エチレンとヘキセンとの共重合体、エチレンとオクテンとの共重合体、α-オレフィンと(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体、エチレンと(メタ)アクリル酸との共重合体のようなα-オレフィン系共重合体等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体(エチレン酢酸ビニル共重合体)およびエチレンと(メタ)アクリル酸との共重合体(エチレン(メタ)アクリル酸共重合体)のうちの少なくとも1種であるのが好ましい。これにより、クッション層3に優れた凹部223に対する追従性を付与することができる。また、離型フィルム10の酸素透過度をより容易に前記下限値以上に設定することができる。 The polyolefin resin is not particularly limited, and examples include polyethylene such as low-density polyethylene and high-density polyethylene, α-olefin polymers such as polypropylene, ethylene, propylene, butene, pentene, hexene, octene, and the like. as a polymer component, copolymers of ethylene and hexene, copolymers of ethylene and octene, copolymers of α-olefins and (meth)acrylic acid esters, copolymers of ethylene and vinyl acetate , α-olefin copolymers such as copolymers of ethylene and (meth)acrylic acid, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. Among these, at least one of a copolymer of ethylene and vinyl acetate (ethylene vinyl acetate copolymer) and a copolymer of ethylene and (meth)acrylic acid (ethylene (meth)acrylic acid copolymer) Seeds are preferred. As a result, the cushion layer 3 can be provided with excellent conformability to the concave portion 223 . In addition, the oxygen permeability of the release film 10 can be more easily set to the lower limit value or higher.

ポリエステル系樹脂とポリオレフィン系樹脂との組み合わせとする場合、この第3熱可塑性樹脂組成物における、ポリエステル系樹脂の含有量は、5重量%以上であることが好ましく、8重量%以上40重量%以下であることがより好ましい。これにより、離型フィルム10に優れた凹部223に対する追従性を付与することができる。また、離型フィルム10の酸素透過度をより容易に前記下限値以上に設定することができる。 When a combination of a polyester resin and a polyolefin resin is used, the content of the polyester resin in the third thermoplastic resin composition is preferably 5 wt% or more, and 8 wt% or more and 40 wt% or less. is more preferable. As a result, it is possible to provide the release film 10 with excellent conformability to the concave portions 223 . In addition, the oxygen permeability of the release film 10 can be more easily set to the lower limit value or higher.

また、クッション層3を構成する第3熱可塑性樹脂組成物には、前述した樹脂材料(熱可塑性樹脂)の他に、酸化防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、帯電防止剤、着色剤、安定剤のような添加剤が含まれていてもよい。 In addition to the resin material (thermoplastic resin) described above, the third thermoplastic resin composition constituting the cushion layer 3 contains an antioxidant, a slip agent, an antiblocking agent, an antistatic agent, a coloring agent, a stabilizing agent, and an antioxidant. Additives such as agents may also be included.

さらに、このクッション層3の150℃における貯蔵弾性率E’は、0.1MPa以上であるのが好ましく、0.5MPa以上150MPa以下であるのがより好ましく、1.0MPa以上100MPa以下であるのがさらに好ましい。クッション層3の150℃における貯蔵弾性率E’を、上記のように設定することで、前記第2の工程における、凹部223に対する離型フィルム10の埋め込みの際に、離型フィルム10の縁部から、クッション層3の一部がはみ出し、FPC200に付着するのを、的確に抑制または防止することができる。したがって、FPC200の汚染を、的確に抑制または防止することができる。また、前記第3の工程における、離型フィルム10の引き剥がしを、容易に行うことが可能となる。 Furthermore, the storage elastic modulus E′ of the cushion layer 3 at 150° C. is preferably 0.1 MPa or more, more preferably 0.5 MPa or more and 150 MPa or less, and more preferably 1.0 MPa or more and 100 MPa or less. More preferred. By setting the storage elastic modulus E′ of the cushion layer 3 at 150° C. as described above, when the release film 10 is embedded in the concave portion 223 in the second step, the edges of the release film 10 Therefore, it is possible to accurately suppress or prevent part of the cushion layer 3 from protruding and adhering to the FPC 200 . Therefore, contamination of the FPC 200 can be appropriately suppressed or prevented. Moreover, it is possible to easily peel off the release film 10 in the third step.

なお、クッション層3の150℃における貯蔵弾性率E’は、例えば、JIS K7244-4に準拠して、幅4mm、長さ20mmのクッション層3を用意し、動的粘弾性測定装置(日立ハイテクサイエンス社製、「DMA7100」)を用いて、引っ張りモード、周波数1Hz、昇温速度5℃/minとして測定することで得ることができる。 In addition, the storage elastic modulus E' of the cushion layer 3 at 150 ° C. is measured, for example, by preparing a cushion layer 3 having a width of 4 mm and a length of 20 mm according to JIS K7244-4, and using a dynamic viscoelasticity measuring device (Hitachi High Tech Science Co., Ltd., "DMA7100"), it can be obtained by measuring at a tension mode, a frequency of 1 Hz, and a heating rate of 5°C/min.

さらに、このクッション層3は、その平均厚さTkが40μm以上110μm以下であることが好ましく、より好ましくは50μm以上90μm以下に設定される。これにより、離型フィルム10の酸素透過度を、比較的容易に前記下限値以上に設定することができる。 Further, the cushion layer 3 preferably has an average thickness Tk of 40 μm or more and 110 μm or less, more preferably 50 μm or more and 90 μm or less. As a result, the oxygen permeability of the release film 10 can be relatively easily set to the lower limit value or higher.

<第1離型層1>
次に、第1離型層1について説明する。この第1離型層1は、クッション層3の一方の面側に積層されている。
<First release layer 1>
Next, the first release layer 1 is described. The first release layer 1 is laminated on one side of the cushion layer 3 .

第1離型層1は、可撓性を備え、前述した、離型フィルム10を用いたフレキシブルプリント回路基板200の製造方法において、FPC200が備えるCLフィルム220に対して、この第1離型層1が接触するように、離型フィルム10が重ね合わされる。そして、この製造方法の前記第2の工程において、重ね合わされているフレキシブル回路基板210とCLフィルム220とを、接着剤層222を介して接合する際に、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とで形成される凹部223の形状に追従して、押し込まれる層であり、離型フィルム10が破断するのを防止する保護(緩衝)材として機能するものである。さらに、第1離型層1は、前記第3の工程において、CLフィルム220(FPC200)からの離型フィルム10の優れた離型性を発揮させるための接触層としての機能を有している。 The first release layer 1 is flexible, and in the method for manufacturing the flexible printed circuit board 200 using the release film 10 described above, the first release layer Release films 10 are superimposed so that 1 is in contact. Then, in the second step of this manufacturing method, when the flexible circuit board 210 and the CL film 220 that are overlaid are joined via the adhesive layer 222, the flexible circuit board 210 and the CL film 220 are bonded together. It is a layer that follows the shape of the formed concave portion 223 and is pushed in, and functions as a protective (buffer) material that prevents the release film 10 from breaking. Furthermore, the first release layer 1 functions as a contact layer for exhibiting excellent releasability of the release film 10 from the CL film 220 (FPC 200) in the third step. .

したがって、離型フィルム10を、前記第2の工程において、FPC200に形成された凹部223に、接着剤層222に由来する接着剤がしみ出すのを的確に抑制または防止することができる。また、前記第2の工程における、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とが、CLフィルム220が備える接着剤層222を介して接合されたFPC200の形成の後に、前記第3の工程において、FPC200から離型フィルム10を剥離させる際に、FPC200に、伸びおよび破断が生じるのを的確に抑制または防止することができる。また、クッション層3を構成する第3熱可塑性樹脂組成物に、ポリエステル系樹脂が含まれる場合、第1離型層1を、クッション層3に対して優れた密着性を発揮するものとし得る。 Therefore, it is possible to accurately suppress or prevent the adhesive originating from the adhesive layer 222 from seeping into the concave portions 223 formed in the FPC 200 in the second step. Further, after forming the FPC 200 in which the flexible circuit board 210 and the CL film 220 are bonded via the adhesive layer 222 provided in the CL film 220 in the second step, in the third step, from the FPC 200 When the release film 10 is peeled off, the FPC 200 can be accurately suppressed or prevented from being stretched and broken. Moreover, when the third thermoplastic resin composition constituting the cushion layer 3 contains a polyester-based resin, the first release layer 1 can exhibit excellent adhesion to the cushion layer 3 .

また、第1離型層1は、フレキシブルプリント回路基板200の製造方法において、FPC200が備えるCLフィルム220に対して、この第1離型層1が接触している。したがって、この製造方法の前記第2の工程において、FPC200を加熱プレスする際に、加熱圧着板521からの熱を、CLフィルム220に伝達する機能をも有している。 In addition, the first release layer 1 is in contact with the CL film 220 included in the FPC 200 in the manufacturing method of the flexible printed circuit board 200 . Therefore, in the second step of this manufacturing method, it also has a function of transferring heat from the thermocompression plate 521 to the CL film 220 when the FPC 200 is hot pressed.

この第1離型層1は、第1熱可塑性樹脂組成物からなる。また、この第1熱可塑性樹脂組成物は、例えば、主としてポリエステル系樹脂を含有することが好ましい。これにより、第1離型層1に、前述した機能を比較的容易に付与することができる。さらに、離型フィルム10の酸素透過度を比較的容易に前記下限値以上に設定することができる。 This first release layer 1 is made of a first thermoplastic resin composition. Moreover, it is preferable that the first thermoplastic resin composition mainly contains a polyester-based resin, for example. This makes it possible to impart the above-described functions to the first release layer 1 relatively easily. Furthermore, the oxygen permeability of the release film 10 can be relatively easily set to the lower limit value or higher.

また、ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、前述した第3熱可塑性樹脂組成物で挙げたのと同様のものを用いることができ、中でも、特に、ポリブチレンテレフタレート(PBT)であるのが好ましい。これにより、ポリエステル系樹脂を用いることにより得られる効果をより顕著に発揮させることができる。また、クッション層3を構成する第3熱可塑性樹脂組成物に、ポリブチレンテレフタレートが含まれる場合、第1離型層1を、クッション層3に対して優れた密着性を発揮するものとし得る。さらに、離型フィルム10の酸素透過度をより容易に前記下限値以上に設定することができる。 In addition, the polyester resin is not particularly limited, but for example, the same ones as those mentioned in the third thermoplastic resin composition can be used, and among them, polybutylene terephthalate (PBT) is particularly preferred. is preferred. Thereby, the effect obtained by using the polyester-based resin can be exhibited more remarkably. Moreover, when the third thermoplastic resin composition constituting the cushion layer 3 contains polybutylene terephthalate, the first release layer 1 can exhibit excellent adhesion to the cushion layer 3 . Furthermore, the oxygen permeability of the release film 10 can be more easily set to the above lower limit or higher.

さらに、ポリエステル系樹脂は、結晶性を示すが、このポリエステル系樹脂で構成される第1離型層1は、その結晶化が抑制されていることが好ましく、具体的には、その結晶化度が10%以上50%以下程度であることが好ましく、10%以上35%以下程度であることがより好ましい。これにより、離型フィルム10の酸素透過度をより容易に前記下限値以上に設定することができる。 Furthermore, the polyester-based resin exhibits crystallinity, and the first release layer 1 made of this polyester-based resin preferably has its crystallization suppressed. is preferably about 10% or more and 50% or less, more preferably about 10% or more and 35% or less. As a result, the oxygen permeability of the release film 10 can be more easily set to the lower limit value or higher.

なお、離型層1、2およびクッション層3におけるポリエステル系樹脂のような結晶性を示す樹脂材料の結晶化は、例えば、後述する離型フィルム10の製造方法において、溶融状態または軟化状態の帯状のフィルム10’を冷却する際の冷却温度を、下記範囲内に設定することで行うことができる。 The crystallization of the resin material exhibiting crystallinity such as the polyester-based resin in the release layers 1 and 2 and the cushion layer 3 is, for example, in the method of manufacturing the release film 10 described later, in a melted or softened strip shape. The cooling temperature for cooling the film 10' can be set within the following range.

また、第1熱可塑性樹脂組成物は、主としてポリエステル系樹脂で構成される場合、ポリエステル系樹脂以外の熱可塑性樹脂が含まれていてもよく、この熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ4-メチル1-ペンテンのようなポリオレフィン系樹脂、シンジオタクチックポリスチレンのようなポリスチレン系樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Further, when the first thermoplastic resin composition is mainly composed of a polyester-based resin, it may contain a thermoplastic resin other than the polyester-based resin. Examples of the thermoplastic resin include polyethylene, polypropylene, Polyolefin-based resins such as poly-4-methyl-1-pentene, polystyrene-based resins such as syndiotactic polystyrene, and the like can be mentioned, and one or more of these can be used in combination.

また、第1熱可塑性樹脂組成物は、前述した熱可塑性樹脂の他に、さらに、無機粒子および有機粒子のうちの少なくとも1種を含むものであってもよい。 Moreover, the first thermoplastic resin composition may further contain at least one of inorganic particles and organic particles in addition to the thermoplastic resin described above.

無機粒子としては、特に限定されないが、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、アルミナ、窒化アルミニウム、ホウ酸アルミニウムウイスカ、窒化ホウ素、結晶性シリカ、非晶性シリカ、アンチモン酸化物、Eガラス、Dガラス、Sガラス等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of inorganic particles include, but are not limited to, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium oxide, magnesium oxide, alumina, aluminum nitride, aluminum borate whiskers, Boron nitride, crystalline silica, amorphous silica, antimony oxide, E glass, D glass, S glass, etc., may be mentioned, and one or more of these may be used in combination.

また、有機粒子としては、特に限定されないが、例えば、ポリスチレン粒子、アクリル粒子、ポリイミド粒子、ポリエステル粒子、シリコーン粒子、ポリプロピレン粒子、ポリエチレン粒子、フッ素樹脂粒子およびコアシェル粒子等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 The organic particles are not particularly limited, but include, for example, polystyrene particles, acrylic particles, polyimide particles, polyester particles, silicone particles, polypropylene particles, polyethylene particles, fluororesin particles and core-shell particles. It can be used alone or in combination of two or more.

さらに、無機粒子および有機粒子は、その平均粒子径が3μm以上20μm以下であるのが好ましく、5μm以上20μm以下であるのがより好ましい。これにより、第1熱可塑性樹脂組成物中に、無機粒子および有機粒子のうちの少なくとも一方が含まれる場合に、第1離型層1のクッション層3と反対側の表面における表面粗さを、後述する範囲内に比較的容易に設定することができる。 Furthermore, the inorganic particles and the organic particles preferably have an average particle size of 3 μm or more and 20 μm or less, more preferably 5 μm or more and 20 μm or less. As a result, when at least one of inorganic particles and organic particles is contained in the first thermoplastic resin composition, the surface roughness of the surface of the first release layer 1 opposite to the cushion layer 3 is It can be relatively easily set within the range described later.

第1離型層1は、その表面に凹凸形状を有する場合、前記表面における10点平均粗さ(Rz)が0.1μm以上20.0μm以下であることが好ましく、1.0μm以上10.0μm以下であることがより好ましい。これにより、離型フィルム10を、FPC200(フレキシブル回路基板210)から離型させる際に、この離型を優れた離型性をもって実施することができる。なお、前記10点平均粗さ(Rz)は、JIS B 0601-1994に準拠して測定することができる。 When the first release layer 1 has an uneven shape on its surface, the 10-point average roughness (Rz) on the surface is preferably 0.1 μm or more and 20.0 μm or less, and 1.0 μm or more and 10.0 μm. The following are more preferable. As a result, when the release film 10 is released from the FPC 200 (flexible circuit board 210), the release can be performed with excellent releasability. The 10-point average roughness (Rz) can be measured according to JIS B 0601-1994.

また、かかる構成をなす第1離型層1は、その150℃における貯蔵弾性率E’が50MPa以上であるのが好ましく、50MPa以上1000MPa以下であるのがより好ましく、50MPa以上300MPa以下であるのがさらに好ましい。これにより、第1離型層1に、前述した第1離型層1としての機能を確実に付与することができる。 In addition, the first release layer 1 having such a structure preferably has a storage modulus E′ at 150° C. of 50 MPa or more, more preferably 50 MPa or more and 1000 MPa or less, and 50 MPa or more and 300 MPa or less. is more preferred. Thereby, the function as the first release layer 1 described above can be reliably imparted to the first release layer 1 .

なお、第1離型層1の150℃における貯蔵弾性率E’は、JIS K7244-4に準拠して、幅4mm、長さ20mmの第1離型層1を用意し、動的粘弾性測定装置(日立ハイテクサイエンス社製、「DMA7100」)を用いて、引っ張りモード、周波数1Hz、昇温速度5℃/minとして測定することで得ることができる。 The storage elastic modulus E′ of the first release layer 1 at 150° C. is determined by preparing the first release layer 1 having a width of 4 mm and a length of 20 mm in accordance with JIS K7244-4, and dynamic viscoelasticity measurement. It can be obtained by measuring with a device (“DMA7100” manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) in a tension mode, a frequency of 1 Hz, and a heating rate of 5° C./min.

また、この第1離型層1は、その平均厚さT1が好ましくは7μm以上38μm以下に設定され、より好ましくは10μm以上30μm以下に設定される。これにより、第1離型層1の平均厚さが適切な範囲内に設定されるため、第1離型層1に、前述した第1離型層1としての機能をより確実に付与することができる。また、離型フィルム10の酸素透過度を、比較的容易に前記下限値以上に設定することができる。 The average thickness T1 of the first release layer 1 is preferably set to 7 μm or more and 38 μm or less, and more preferably set to 10 μm or more and 30 μm or less. As a result, the average thickness of the first release layer 1 is set within an appropriate range, so that the function of the first release layer 1 described above can be imparted to the first release layer 1 more reliably. can be done. In addition, the oxygen permeability of the release film 10 can be relatively easily set to the lower limit value or higher.

なお、第1離型層1の厚さは、上記の通り、第1離型層1のクッション層3と反対側の表面が凹凸形状を有する場合、凸部では凸部を含む位置、また、凹部では凹部を含む位置で、それぞれ、その厚さを測定することとする。 As described above, when the surface of the first release layer 1 on the side opposite to the cushion layer 3 has an uneven shape, the thickness of the first release layer 1 is the position including the protrusions, and The thickness of each recess is measured at a position including the recess.

また、第1離型層1を構成する第1熱可塑性樹脂組成物には、前述した樹脂材料、無機粒子、有機粒子の他に、前記第3熱可塑性樹脂組成物で挙げたのと同様の添加剤が含まれていてもよい。 In addition, the first thermoplastic resin composition constituting the first release layer 1 may contain, in addition to the above-described resin material, inorganic particles, and organic particles, the same materials as those listed for the third thermoplastic resin composition. Additives may be included.

<第2離型層2>
次に、第2離型層2について説明する。この第2離型層2は、クッション層3の他方の面側、すなわち、クッション層3の第1離型層1と反対の面側に積層されている。
<Second release layer 2>
Next, the second release layer 2 is described. The second release layer 2 is laminated on the other side of the cushion layer 3 , that is, on the side of the cushion layer 3 opposite to the first release layer 1 .

第2離型層2は、可撓性を備え、前述した、離型フィルム10を用いたフレキシブルプリント回路基板200の製造方法において、FPC200が備えるCLフィルム220に対して、第1離型層1が接触するように、離型フィルム10が重ね合わされ、そして、この製造方法の前記第2の工程において、重ね合わされているフレキシブル回路基板210とCLフィルム220とを、接着剤層222を介して接合する際に、加熱圧着板521からの力を、クッション層3に伝達する層として機能するものである。さらに、第2離型層2は、前記第3の工程において、ガラスクロス300と離型フィルム10との間で優れた離型性を発揮させるための接触層としての機能を有している。 The second release layer 2 has flexibility. are in contact with each other, and in the second step of this manufacturing method, the laminated flexible circuit board 210 and CL film 220 are bonded via an adhesive layer 222. It functions as a layer that transmits the force from the thermocompression plate 521 to the cushion layer 3 when the pressure is applied. Furthermore, the second release layer 2 functions as a contact layer for exhibiting excellent release properties between the glass cloth 300 and the release film 10 in the third step.

また、フレキシブルプリント回路基板200の製造方法において、加熱圧着板521に対して、第2離型層2がガラスクロス300を介して接触している。したがって、この製造方法の前記第2の工程において、FPC200を加熱プレスする際に、加熱圧着板521からの熱を、クッション層3に伝達する機能をも有している。 Further, in the manufacturing method of the flexible printed circuit board 200 , the second release layer 2 is in contact with the thermocompression plate 521 via the glass cloth 300 . Therefore, in the second step of this manufacturing method, the FPC 200 also has a function of transferring the heat from the thermocompression plate 521 to the cushion layer 3 when the FPC 200 is hot-pressed.

第2離型層2は、第2熱可塑性樹脂組成物からなる。また、この第2熱可塑性樹脂組成物は、前記第1熱可塑性樹脂組成物と同様に、主としてポリエステル系樹脂を含有することが好ましい。これにより、第2離型層2に、前述した機能を確実に付与することができる。さらに、離型フィルム10の酸素透過度を比較的容易に前記下限値以上に設定することができる。 The second release layer 2 is made of a second thermoplastic resin composition. Moreover, it is preferable that this second thermoplastic resin composition mainly contains a polyester-based resin, similarly to the first thermoplastic resin composition. Thereby, the function mentioned above can be provided to the 2nd release layer 2 reliably. Furthermore, the oxygen permeability of the release film 10 can be relatively easily set to the lower limit value or higher.

また、ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、前述した第3熱可塑性樹脂組成物で挙げたのと同様のものを用いることができ、中でも、特に、ポリブチレンテレフタレート(PBT)であるのが好ましい。これにより、ポリエステル系樹脂を用いることにより得られる効果をより顕著に発揮させることができる。さらに、離型フィルム10の酸素透過度をより容易に前記下限値以上に設定することができる。 In addition, the polyester resin is not particularly limited, but for example, the same ones as those mentioned in the third thermoplastic resin composition can be used, and among them, polybutylene terephthalate (PBT) is particularly preferred. is preferred. Thereby, the effect obtained by using the polyester-based resin can be exhibited more remarkably. Furthermore, the oxygen permeability of the release film 10 can be more easily set to the above lower limit or more.

さらに、ポリエステル系樹脂は、結晶性を示すが、このポリエステル系樹脂で構成される第2離型層2は、その結晶化が抑制されていることが好ましく、具体的には、その結晶化度が10%以上50%以下程度であることが好ましく、10%以上35%以下程度であることがより好ましい。これにより、離型フィルム10の酸素透過度をより容易に前記下限値以上に設定することができる。 Furthermore, the polyester-based resin exhibits crystallinity, and the second release layer 2 made of this polyester-based resin is preferably suppressed in crystallization. is preferably about 10% or more and 50% or less, more preferably about 10% or more and 35% or less. As a result, the oxygen permeability of the release film 10 can be more easily set to the lower limit value or higher.

なお、第2熱可塑性樹脂組成物は、主としてポリエステル系樹脂で構成される場合、ポリエステル系樹脂以外の熱可塑性樹脂が含まれていてもよく、この熱可塑性樹脂としては、前記第1熱可塑性樹脂組成物で挙げたのと同様のものを用いることができる。 In addition, when the second thermoplastic resin composition is mainly composed of a polyester resin, it may contain a thermoplastic resin other than the polyester resin, and the thermoplastic resin is the first thermoplastic resin. The same ones as mentioned in the composition can be used.

また、第2熱可塑性樹脂組成物は、前述した熱可塑性樹脂の他に、さらに、無機粒子および有機粒子のうちの少なくとも1種を含むものであってもよい。 Moreover, the second thermoplastic resin composition may further contain at least one of inorganic particles and organic particles in addition to the thermoplastic resin described above.

無機粒子および有機粒子としては、特に限定されないが、前記第1熱可塑性樹脂組成物で挙げたのと同様のものを用いることができる。 Although the inorganic particles and organic particles are not particularly limited, the same particles as those mentioned in the first thermoplastic resin composition can be used.

かかる構成をなす第2離型層2は、その150℃における貯蔵弾性率E’が50MPa以上であるのが好ましく、50MPa以上1000MPa以下であるのがより好ましい。これにより、第2離型層2に、前述した機能を確実に付与することができる。 The second release layer 2 having such a structure preferably has a storage modulus E' at 150°C of 50 MPa or more, more preferably 50 MPa or more and 1000 MPa or less. Thereby, the function mentioned above can be provided to the 2nd release layer 2 reliably.

また、この第2離型層2は、その平均厚さT2が好ましくは7μm以上38μm以下に設定され、より好ましくは10μm以上30μm以下に設定される。これにより、第2離型層2に、前述した機能をより確実に付与することができる。また、離型フィルム10の酸素透過度を、比較的容易に前記下限値以上に設定することができる。 The average thickness T2 of the second release layer 2 is preferably set to 7 μm or more and 38 μm or less, and more preferably set to 10 μm or more and 30 μm or less. Thereby, the function mentioned above can be provided to the 2nd release layer 2 more reliably. In addition, the oxygen permeability of the release film 10 can be relatively easily set to the lower limit value or higher.

さらに、第2離型層2を構成する第2熱可塑性樹脂組成物には、前述した樹脂材料、無機粒子、有機粒子の他に、前記第3熱可塑性樹脂組成物で挙げたのと同様の添加剤が含まれていてもよい。 Furthermore, the second thermoplastic resin composition that constitutes the second release layer 2 contains the resin material, inorganic particles, and organic particles described above, as well as the same as those listed for the third thermoplastic resin composition. Additives may be included.

また、第1離型層1と第2離型層2とにおいて、第1熱可塑性樹脂組成物と第2熱可塑性樹脂組成物とは、同一であっても異なっていても良いが、代替性を有すると言う観点からは、同一もしくは同質であることが好ましい。さらに、第1離型層1と第2離型層2とにおいて、その平均厚さは、同一であっても異なっていてもよい。 In addition, in the first release layer 1 and the second release layer 2, the first thermoplastic resin composition and the second thermoplastic resin composition may be the same or different, but substitutability are preferably the same or homogeneous from the viewpoint of having Furthermore, the average thickness of the first release layer 1 and the second release layer 2 may be the same or different.

以上のような第1離型層1とクッション層3と第2離型層2とが積層された構成をなす離型フィルム10において、その平均厚さTtは、50μm以上180μm以下であることが好ましく、80μm以上150μm以下であることがより好ましい。これにより、離型フィルム10の酸素透過度を、比較的容易に前記下限値以上に設定することができる。 In the release film 10 having the structure in which the first release layer 1, the cushion layer 3, and the second release layer 2 are laminated as described above, the average thickness Tt is 50 μm or more and 180 μm or less. It is preferably 80 μm or more and 150 μm or less, more preferably. As a result, the oxygen permeability of the release film 10 can be relatively easily set to the lower limit value or higher.

ここで、JIS K 7126-2に準拠して測定された、離型フィルム10の酸素透過度は、60.0cc/(m・atm・day)以上であればよいが、100.0cc/(m・atm・day)以上であることが好ましく、120.0cc/(m・atm・day)以上160.0cc/(m・atm・day)以下であることがより好ましい。離型フィルム10の酸素透過度を、上記の通り設定することで、第2の工程から第3の工程において離型フィルム10を離型させるまでの間に、第2の工程おいて、FPC200を加熱プレスする際に、離型フィルム10とFPC200との間に残存する酸素を、この離型フィルム10を介して透過させることができる。そのため、FPC200の加熱プレスの際に、FPC200が加熱されたとしても、凹部223で露出する、フレキシブル回路基板210が備える回路が酸化するのを的確に抑制または防止することができる。 Here, the oxygen permeability of the release film 10 measured in accordance with JIS K 7126-2 may be 60.0 cc/(m 2 ·atm · day) or more, but 100.0 cc/( m 2 ·atm·day) or more, and more preferably 120.0 cc/(m 2 ·atm·day) or more and 160.0 cc/(m 2 ·atm·day) or less. By setting the oxygen permeability of the release film 10 as described above, the FPC 200 is removed in the second step from the second step until the release film 10 is released in the third step. Oxygen remaining between the release film 10 and the FPC 200 can permeate through the release film 10 during hot pressing. Therefore, even if the FPC 200 is heated when the FPC 200 is heated and pressed, it is possible to accurately suppress or prevent the circuits of the flexible circuit board 210 exposed in the recesses 223 from being oxidized.

本発明において、離型フィルム10の酸素透過度は、JIS K 7126-2に規定されたプラスチック-フィルム及びシート-ガス透過度試験方法の等圧法に準拠して、温度23℃、相対湿度0%RHの条件下で測定される。 In the present invention, the oxygen permeability of the release film 10 is determined according to the isobaric method of the plastic-film and sheet-gas permeability test method specified in JIS K 7126-2 at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 0%. Measured under RH conditions.

また、JIS K 7129(B法)に準拠して測定された、離型フィルム10の水蒸気透過度は、1.0g/m・day(25℃・90%RH)超であるのが好ましく、1.4g/m・day(25℃・90%RH)以上であることがより好ましく、1.7g/m・day(25℃・90%RH)以上3.0g/m・day(25℃・90%RH)以下であることがさらに好ましい。離型フィルム10の水蒸気透過度を、上記の通り設定することで、第2の工程から第3の工程において離型フィルム10を離型させるまでの間に、第2の工程おいて、FPC200を加熱プレスする際に、離型フィルム10とFPC200との間に残存する空気中に含まれる水蒸気を、この離型フィルム10を介して透過させることができる。そのため、FPC200の加熱プレスの際に、FPC200の加熱下において、フレキシブル回路基板210やカバーレイ221の構成材料として含まれるポリイミドのような樹脂材料が、水蒸気を吸湿するのを的確に抑制または防止し得る。したがって、フレキシブル回路基板210が備える回路に対する半田付け時において、吸湿された水蒸気に由来する気泡がフレキシブル回路基板210とカバーレイフィルム220との間で発生するのが、的確に抑制または防止される。そのため、得られるFPC200を、フレキシブル回路基板210とカバーレイフィルム220との間における剥離の発生が的確に抑制または防止されたより信頼性に優れたものとし得る。 In addition, the water vapor transmission rate of the release film 10 measured in accordance with JIS K 7129 (B method) is preferably more than 1.0 g/m 2 ·day (25°C · 90% RH), It is more preferably 1.4 g/m 2 ·day (25° C./90% RH) or more, and 1.7 g/m 2 ·day (25° C./90% RH) or more and 3.0 g/m 2 ·day ( 25° C./90% RH) or less is more preferable. By setting the water vapor permeability of the release film 10 as described above, the FPC 200 is removed in the second step from the second step until the release film 10 is released in the third step. Vapor contained in the air remaining between the release film 10 and the FPC 200 can permeate through the release film 10 during hot pressing. Therefore, when the FPC 200 is heat-pressed, the resin material such as polyimide contained as the constituent material of the flexible circuit board 210 and the coverlay 221 can accurately suppress or prevent moisture absorption while the FPC 200 is heated. obtain. Therefore, during soldering to the circuit provided on the flexible circuit board 210, the generation of air bubbles originating from moisture absorbed between the flexible circuit board 210 and the coverlay film 220 is accurately suppressed or prevented. Therefore, the resulting FPC 200 can be made more reliable by appropriately suppressing or preventing delamination between the flexible circuit board 210 and the coverlay film 220 .

なお、離型フィルム10は、本実施形態では、第1離型層1と、クッション層3と、第2離型層2とが、この順で積層された積層体で構成されるが、かかる構成に限定されず、例えば、第1離型層1とクッション層3との間、および、第2離型層2とクッション層3との間の少なくとも一方に配置された、接着剤層のような中間層を備える積層体で構成されるものであってもよい。 In this embodiment, the release film 10 is composed of a laminate in which the first release layer 1, the cushion layer 3, and the second release layer 2 are laminated in this order. Not limited to the configuration, for example, an adhesive layer disposed between the first release layer 1 and the cushion layer 3 and/or between the second release layer 2 and the cushion layer 3 It may be composed of a laminate having an intermediate layer.

また、離型フィルム10は、前記第3の工程において、ガラスクロス300と離型フィルム10との間で優れた離型性を維持し得るのであれば、ガラスクロス300に接触する第2離型層2が、省略されたものであってもよい。 In addition, if the release film 10 can maintain excellent releasability between the glass cloth 300 and the release film 10 in the third step, the second release film 10 that contacts the glass cloth 300 Layer 2 may also be omitted.

<離型フィルム10の製造方法>
上述した構成をなす離型フィルム10は、例えば、以下のような製造方法により製造し得る。以下、離型フィルム10の製造方法の説明に先立って、まずは、離型フィルム製造装置について説明する。
<Method for producing release film 10>
The release film 10 configured as described above can be manufactured, for example, by the following manufacturing method. Before describing the method for manufacturing the release film 10, the release film manufacturing apparatus will be described first.

図6は、図4に示す離型フィルム10を製造する離型フィルム製造装置を模式的に示した側面図ある。なお、以下の説明では、図6中の上側を「上」、下側を「下」と言う。 FIG. 6 is a side view schematically showing a release film manufacturing apparatus for manufacturing the release film 10 shown in FIG. In the following description, the upper side in FIG. 6 is called "upper", and the lower side is called "lower".

図6に示す離型フィルム製造装置1000は、フィルム供給部600と、フィルム成形部700とを有している。 A release film manufacturing apparatus 1000 shown in FIG. 6 has a film supply section 600 and a film forming section 700 .

フィルム供給部600は、本実施形態では、押出機610と、押出機610の溶融樹脂吐出部に配管を介して接続されたTダイ620とで構成されている。このTダイ620により、溶融状態または軟化状態の帯状のフィルム10’がフィルム成形部700に供給される。 In this embodiment, the film supply section 600 is composed of an extruder 610 and a T-die 620 connected to the molten resin discharge section of the extruder 610 via a pipe. The T-die 620 supplies the belt-shaped film 10 ′ in a melted or softened state to the film forming section 700 .

Tダイ620は、共押出法で溶融状態または軟化状態のフィルム10’を帯状のフィルムとした状態で押し出す押出成形部である。Tダイ620には、前述した離型フィルム10を構成する各層の構成材料が溶融状態で、順次装填されることなり、この溶融状態の材料をTダイ620から押し出すことで、帯状をなすフィルム10’が連続的に送り出される。 The T-die 620 is an extrusion molding unit that extrudes the melted or softened film 10 ′ in the form of a belt-shaped film by a coextrusion method. The T-die 620 is sequentially charged with the material constituting each layer of the release film 10 described above in a molten state. ' is sent out continuously.

フィルム成形部700は、タッチロール710と、冷却ロール720と、後段冷却ロール730とを有している。これらのロールは、それぞれ図示しないモータ(駆動手段)により、それぞれ単独回転するように構成されており、これらのロールの回転により、冷却され、連続的に送り出されるようになっている。このフィルム成形部700に、溶融状態または軟化状態のフィルム10’を連続的に送り込むことにより、フィルム10’の表面が平坦化されるとともに、フィルム10’が所望の厚さに設定されて冷却される。そして、押出機610(Tダイ620)に装填する、離型フィルム10を構成する各層の構成材料を適宜選択することにより、冷却されたフィルム10’として、第1離型層1と、クッション層3と、第2離型層2とがこの順で積層された積層体で構成された離型フィルム10を得ることができる。 The film forming section 700 has a touch roll 710 , a cooling roll 720 and a post cooling roll 730 . These rolls are configured to rotate independently by motors (driving means) (not shown), respectively, and are cooled by the rotation of these rolls and fed out continuously. By continuously feeding the film 10′ in a melted or softened state into the film forming section 700, the surface of the film 10′ is flattened, and the film 10′ is set to a desired thickness and cooled. be. Then, by appropriately selecting the constituent materials of each layer constituting the release film 10 loaded in the extruder 610 (T die 620), the first release layer 1 and the cushion layer are formed as the cooled film 10'. 3 and the second release layer 2 are laminated in this order.

以上のような離型フィルム製造装置1000を用いた離型フィルム10の製造方法により、離型フィルム10が製造される。 The release film 10 is manufactured by the method for manufacturing the release film 10 using the release film manufacturing apparatus 1000 as described above.

離型フィルム製造装置1000を用いた離型フィルム10の製造方法は、押出工程と、成形工程と、冷却工程とを有している。 A method for manufacturing the release film 10 using the release film manufacturing apparatus 1000 includes an extrusion process, a molding process, and a cooling process.

<1A>まず、帯状をなす溶融状態または軟化状態のフィルム10’を押し出す(押出工程)。 <1A> First, a belt-shaped melted or softened film 10' is extruded (extrusion step).

この押出工程では、押出機610に、離型フィルム10を構成する各層の構成材料が順次装填される。また、離型フィルム10を構成する各層の構成材料は、押出機610内において、溶融または軟化した状態となっている。 In this extrusion process, the extruder 610 is sequentially loaded with constituent materials for each layer constituting the release film 10 . In addition, the constituent material of each layer constituting the release film 10 is in a melted or softened state inside the extruder 610 .

<2A>次に、フィルム10’の表面を平坦化するとともに、フィルム10’を所定の厚さに設定する(成形工程)。本工程は、タッチロール710と、冷却ロール720との間で行われる。 <2A> Next, the surface of the film 10' is flattened and the thickness of the film 10' is set to a predetermined thickness (forming step). This step is performed between the touch roll 710 and the cooling roll 720 .

<3A>次に、フィルム10’の表面を冷却する(冷却工程)。本工程は、冷却ロール720と、後段冷却ロール730との間で行われる。 <3A> Next, the surface of the film 10' is cooled (cooling step). This step is performed between the cooling roll 720 and the post cooling roll 730 .

これら冷却ロール720および後段冷却ロール730で、フィルム10’の表面を冷却する冷却温度は、好ましくは20℃以上120℃以下程度、より好ましくは40℃以上90℃以下程度に設定される。これにより、第1離型層1、クッション層3および第2離型層2に、それぞれ、ポリエステル系樹脂のような結晶性を示す樹脂材料が含まれる場合、この樹脂材料の結晶化を的確に抑制または防止することができる。 The cooling temperature at which the surface of the film 10 ′ is cooled by the cooling roll 720 and the post-stage cooling roll 730 is preferably set to about 20° C. or higher and 120° C. or lower, more preferably about 40° C. or higher and 90° C. or lower. As a result, when the first release layer 1, the cushion layer 3, and the second release layer 2 each contain a resin material exhibiting crystallinity such as a polyester-based resin, the crystallization of the resin material can be accurately performed. It can be suppressed or prevented.

なお、冷却ロール720と、後段冷却ロール730とは、いずれか一方が冷却手段を備えており、一方のロールにおいて、フィルム10’が冷却される構成をなしていてもよい。 One of the cooling roll 720 and the post-cooling roll 730 may be provided with cooling means, and the film 10 ′ may be cooled by one of the rolls.

以上のような工程<1A>~工程<3A>について、押出機610に装填する、離型フィルム10を構成する各層の構成材料を適宜選択して実施することで、第1離型層1と、クッション層3と、第2離型層2とがこの順で積層された積層体で構成された離型フィルム10を得ることができる。 Regarding the steps <1A> to <3A> as described above, by appropriately selecting the constituent materials of each layer constituting the release film 10 loaded in the extruder 610, the first release layer 1 and the , the cushion layer 3 and the second release layer 2 are laminated in this order.

以上、本発明の離型フィルムおよび成型品の製造方法について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。 Although the method for producing the release film and the molded product of the present invention has been described above, the present invention is not limited to these.

例えば、前記実施形態では、本発明の離型フィルムを、加熱冷却板同士の間に配置されたフレキシブルプリント回路基板を1段に積層して製造するプレス成型法に適用する場合について説明したが、積層されるフレキシブルプリント回路基板の数は、1段に限定されず、2段以上であってもよい。 For example, in the above-described embodiment, the case where the release film of the present invention is applied to a press molding method in which flexible printed circuit boards arranged between heating and cooling plates are laminated in one stage to manufacture was described. The number of laminated flexible printed circuit boards is not limited to one, and may be two or more.

また、本発明の離型フィルムを、加熱冷却板同士の間に配置されたフレキシブルプリント回路基板に対してロールツーロールプレス機を用いて加圧する場合に適用されることとしたが、これに限定されず、フレキシブルプリント回路基板に対する加圧は、例えば、プレス成型法を用いて実施することもできるし、さらには、真空圧空成形法を用いて実施することもできる。 In addition, the release film of the present invention is applied to the case where the flexible printed circuit board placed between the heating and cooling plates is pressed using a roll-to-roll press machine, but it is limited to this. Instead, the pressure applied to the flexible printed circuit board can be performed using, for example, a press molding method, or can be performed using a vacuum pressure molding method.

以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in detail below based on examples, but the present invention is not limited to these.

1.原材料の準備
離型フィルムを製造するための原材料として、それぞれ、以下のものを用意した。
1. Preparation of raw materials As raw materials for manufacturing the release film, the following were prepared respectively.

・熱可塑性樹脂材料
低密度ポリエチレン(LDPE、宇部丸善社製、「R300」)
エチレン酢酸ビニル共重合体(EVA、三井ダウポリケミカル社製、「P1403」)
ポリブチレンテレフタレート(PBT、長春石油化学社製、「1100-630S」)
共重合ポリブチレンテレフタレート(PBT、三菱エンジニアリングプラスチック社製、「5505S」)
ポリプロピレン(PP、住友化学社製、「FH1016」)
グリコール変性ポリエチレンテレフタレート(PETG、SELENIS社製、「NF411」)
・ Thermoplastic resin material Low-density polyethylene (LDPE, manufactured by Ube Maruzen Co., Ltd., "R300")
Ethylene vinyl acetate copolymer (EVA, Mitsui Dow Polychemicals, "P1403")
Polybutylene terephthalate (PBT, manufactured by Changchun Petrochemical Co., Ltd., "1100-630S")
Copolymerized polybutylene terephthalate (PBT, manufactured by Mitsubishi Engineering-Plastics, "5505S")
Polypropylene (PP, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., "FH1016")
Glycol-modified polyethylene terephthalate (PETG, manufactured by SELENIS, "NF411")

2.離型フィルムの製造
<実施例1>
まず、第1熱可塑性樹脂組成物および第2熱可塑性樹脂組成物として、それぞれ、ポリブチレンテレフタレート(PBT、1100-630S)で構成されるものを用意した。また、第3熱可塑性樹脂組成物として、ポリブチレンテレフタレート(PBT、1100-630S)15重量部と、エチレン酢酸ビニル共重合体(EVA、P1403)35重量部と、低密度ポリエチレン(LDPE、R300)30重量部と、ポリプロピレン(PP、FH1016)20重量部とで構成されるものを用意した。
2. Production of release film <Example 1>
First, as the first thermoplastic resin composition and the second thermoplastic resin composition, polybutylene terephthalate (PBT, 1100-630S) was prepared. Further, as the third thermoplastic resin composition, 15 parts by weight of polybutylene terephthalate (PBT, 1100-630S), 35 parts by weight of ethylene vinyl acetate copolymer (EVA, P1403), and low density polyethylene (LDPE, R300) 30 parts by weight and 20 parts by weight of polypropylene (PP, FH1016) were prepared.

次いで、離型フィルム製造装置1000を用いた共押出Tダイ法により、第1熱可塑性樹脂組成物、第3熱可塑性樹脂組成物および第2熱可塑性樹脂組成物を共押し出ししてフィルム化することにより、第1離型層1とクッション層3と第2離型層2とがこの順で積層された積層体を形成することで実施例1の離型フィルム10を得た。 Then, the first thermoplastic resin composition, the third thermoplastic resin composition and the second thermoplastic resin composition are co-extruded by a co-extrusion T-die method using the release film manufacturing apparatus 1000 to form a film. Thus, the release film 10 of Example 1 was obtained by forming a laminate in which the first release layer 1, the cushion layer 3, and the second release layer 2 were laminated in this order.

なお、離型フィルム製造装置1000を用いて、第1熱可塑性樹脂組成物、第3熱可塑性樹脂組成物および第2熱可塑性樹脂組成物をフィルム化する際の冷却ロール720および後段冷却ロール730による冷却温度は、60℃に設定した。 In addition, using the release film manufacturing apparatus 1000, the first thermoplastic resin composition, the third thermoplastic resin composition and the second thermoplastic resin composition are formed into films by the cooling roll 720 and the post cooling roll 730 The cooling temperature was set at 60°C.

また、得られた離型フィルム10において、第1離型層1の平均厚さT1は20μm、クッション層3の平均厚さTkは80μm、第2離型層2の平均厚さT2は20μmであった。 In the obtained release film 10, the average thickness T1 of the first release layer 1 was 20 μm, the average thickness Tk of the cushion layer 3 was 80 μm, and the average thickness T2 of the second release layer 2 was 20 μm. there were.

さらに、離型フィルム10について、その酸素透過度を、酸素透過率測定装置(MOCON社製、「OX-TRAN 2/22L」)を用いて、JIS K 7126-2に規定されたプラスチック-フィルム及びシート-ガス透過度試験方法の等圧法に準拠して、温度23℃、相対湿度0%RHの条件下で測定したところ100.0cc/(m・atm・day)であった。 Furthermore, the oxygen permeability of the release film 10 was measured using an oxygen permeability measuring device (manufactured by MOCON, "OX-TRAN 2/22L"), and the plastic-film specified in JIS K 7126-2 It was 100.0 cc/(m 2 ·atm · day) when measured under conditions of a temperature of 23°C and a relative humidity of 0% RH according to the isobaric method of the sheet-gas permeability test method.

また、離型フィルム10について、その水蒸気透過度を、水蒸気透過率測定装置(MOCON社製、「PERMATRAN-W3/34」)を用いて、K 7129(B法)に準拠して、温度25℃、相対湿度90%RHの条件下で測定したところ2.5g/m・day(25℃・90%RH)であった。 In addition, the water vapor transmission rate of the release film 10 was measured using a water vapor transmission rate measuring device (manufactured by MOCON, "PERMATRAN-W3/34") in accordance with K 7129 (B method) at a temperature of 25 ° C. , and a relative humidity of 90% RH, it was 2.5 g/m 2 ·day (25°C, 90% RH).

さらに、第1離型層1、およびクッション層3について、それぞれ、150℃における貯蔵弾性率E’を、動的粘弾性測定装置(日立ハイテクサイエンス社製、「DMA7100」)を用いて、引っ張りモード、周波数1Hz、昇温速度5℃/minとして測定したところ160MPaおよび16MPaであった。 Furthermore, the storage elastic modulus E′ at 150° C. of each of the first release layer 1 and the cushion layer 3 was measured using a dynamic viscoelasticity measuring device (manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd., “DMA7100”) in tensile mode. , a frequency of 1 Hz, and a heating rate of 5° C./min, the results were 160 MPa and 16 MPa.

また、第1離型層1について、クッション層3と反対側で露出する表面における10点平均粗さ(Rz)を、表面粗さ測定装置(ミツトヨ社製、「SURFTST SJ-210」)を用いて測定したところ5μmであった。 In addition, for the first release layer 1, the 10-point average roughness (Rz) on the surface exposed on the side opposite to the cushion layer 3 was measured using a surface roughness measuring device ("SURFTST SJ-210" manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.). It was 5 μm when measured by

また、第1離型層1、および第2離型層2について、それぞれ、結晶化度を、薄膜評価用試料水平型X線回折装置(リガク社製、「Smart Lab」)を用いて、広角X線回折法により分析したところ33%および35%であった。 In addition, the crystallinity of each of the first release layer 1 and the second release layer 2 was measured using a sample horizontal X-ray diffractometer for thin film evaluation (manufactured by Rigaku, "Smart Lab"). Analysis by X-ray diffraction revealed 33% and 35%.

なお、広角X線回折法による分析に基づく、第1離型層1および第2離型層2の結晶化度の算出は、以下のようにして行った。すなわち、薄膜評価用試料水平型X線回折装置により測定された回折測定プロットに、2θ=12.0°~28.18°の範囲内において直線状のベースラインを引いた後に、結晶質相および非晶質相に対してそれぞれガウス関数としてフィッティングを行い、これにより得られた結晶質相のピーク総面積および非晶質相のピーク総面積に基づいて、下記式Aを用いることで、第1離型層1および第2離型層2の結晶化度を算出した。
結晶化度(%)=
結晶質相のピーク総面積/
(結晶質相のピーク総面積+非晶質相のピーク総面積)×100 … A
Calculation of the crystallinity of the first release layer 1 and the second release layer 2 based on the analysis by the wide-angle X-ray diffraction method was performed as follows. That is, after drawing a linear baseline in the range of 2θ = 12.0 ° to 28.18 ° on the diffraction measurement plot measured by a sample horizontal X-ray diffractometer for thin film evaluation, the crystalline phase and Fitting is performed on the amorphous phase as a Gaussian function, and based on the total peak area of the crystalline phase and the total peak area of the amorphous phase obtained by this, using the following formula A, the first The crystallinity of the release layer 1 and the second release layer 2 was calculated.
Crystallinity (%) =
Total peak area of crystalline phase/
(total peak area of crystalline phase + total peak area of amorphous phase) × 100 ... A

また、薄膜評価用試料水平型X線回折装置における測定条件は、以下に示すように設定した。
X線源…CuKα線、管電圧…45kV-200mA、入射光学系…集中法、測定範囲…5-80°、測定間隔…0.02°、走査速度…5.0°/min、走査方法…Out-of-Plane法
The measurement conditions in the sample horizontal X-ray diffractometer for thin film evaluation were set as follows.
X-ray source: CuKα ray, tube voltage: 45 kV-200 mA, incident optical system: focusing method, measurement range: 5-80°, measurement interval: 0.02°, scanning speed: 5.0°/min, scanning method: Out-of-Plane method

<実施例2~4、比較例1>
離型フィルム製造装置1000を用いて、第1熱可塑性樹脂組成物、第3熱可塑性樹脂組成物および第2熱可塑性樹脂組成物をフィルム化する際の冷却ロール720および後段冷却ロール730による冷却温度を、表1のように変更したこと以外は、前記実施例1と同様にして、離型フィルム10の酸素透過度が表1に示すようになっている実施例2~4、比較例1の離型フィルム10を得た。
<Examples 2 to 4, Comparative Example 1>
Cooling temperature by the cooling roll 720 and the subsequent cooling roll 730 when filming the first thermoplastic resin composition, the third thermoplastic resin composition and the second thermoplastic resin composition using the release film manufacturing apparatus 1000 In the same manner as in Example 1, except that the was changed as shown in Table 1, Examples 2 to 4 in which the oxygen permeability of the release film 10 is as shown in Table 1, Comparative Example 1 A release film 10 was obtained.

<実施例5、6、比較例2>
第1熱可塑性樹脂組成物、第2熱可塑性樹脂組成物および第3熱可塑性樹脂組成物として、表1に示すものを用いて、平均厚さが表1に示すようになっている、第1離型層1、クッション層3および第2離型層2を成膜したこと以外は、前記実施例1と同様にして、離型フィルム10の厚さ方向における酸素透過度が表1に示すようになっている実施例5、6、比較例2の離型フィルム10を得た。
<Examples 5 and 6, Comparative Example 2>
As the first thermoplastic resin composition, the second thermoplastic resin composition, and the third thermoplastic resin composition, those shown in Table 1 are used, and the average thickness is as shown in Table 1. Except that the release layer 1, the cushion layer 3, and the second release layer 2 were formed, the oxygen permeability in the thickness direction of the release film 10 was as shown in Table 1 in the same manner as in Example 1. The release films 10 of Examples 5 and 6 and Comparative Example 2 were obtained.

3.評価
各実施例および各比較例の離型フィルム10について、それぞれ、以下の評価を行った。
3. Evaluation The release films 10 of each example and each comparative example were evaluated as follows.

3-1.回路の酸化に基づく変色性
各実施例および各比較例の離型フィルム10について、それぞれ、幅270mmのものとし、そして、フレキシブル回路基板210(日鉄ケミカル&マテリアル社製、「MB12-12-12REG」)に、カバーレイフィルム220(有沢製作所社製、「CMA0525」)を、このカバーレイフィルム220が備える接着剤層222をフレキシブル回路基板210側にして貼付することで形成される、ピッチ50μm、幅50μm、高さ18μmの凹凸を備えるFPC200(積層体)とした後に、離型フィルム10を、図3に示すように積層されたFPC200に対して、RtoRプレス機(TRM社製、「RR Q-CURE 100TON CONTINUOUS LAMINATOR」)を用いて、180℃、110kg/cm、150secの設定条件で押し込んだ。その後、離型手段60としてFPC200と離型フィルム10の間に棒を挟み込み剥離する構成を適用し、搬送速度200mm/s、送り量500mm、加熱圧着板521から離型手段60までの距離を50mmとし、離型フィルム10を引き剥がした。そして、FPC200の凹部223で露出する回路の酸化に基づく変色の程度を目視にて確認し、以下の基準に従って評価した。
3-1. Discoloration due to circuit oxidation The release film 10 of each example and each comparative example was 270 mm wide, and a flexible circuit board 210 (Nippon Steel Chemical & Material Co., Ltd., "MB12-12-12REG ”), and a coverlay film 220 (“CMA0525” manufactured by Arisawa Seisakusho Co., Ltd.) is attached with the adhesive layer 222 of the coverlay film 220 facing the flexible circuit board 210, with a pitch of 50 μm, After making FPC 200 (laminate) having unevenness of 50 μm in width and 18 μm in height, release film 10 is applied to FPC 200 laminated as shown in FIG. -CURE 100TON CONTINUOUS LAMINATOR"), and pressed under the set conditions of 180° C., 110 kg/cm 2 , and 150 sec. After that, as the release means 60, a configuration in which a bar is sandwiched between the FPC 200 and the release film 10 is applied, and the conveying speed is 200 mm/s, the feed rate is 500 mm, and the distance from the hot pressing plate 521 to the release means 60 is 50 mm. Then, the release film 10 was peeled off. Then, the degree of discoloration due to oxidation of the circuit exposed in the concave portion 223 of the FPC 200 was visually confirmed and evaluated according to the following criteria.

[評価基準]
◎:回路に酸化に基づく変色が認められない。
○:回路に酸化に基づく変色が若干認められるものの、
回路の電気特性に影響をおよぼすものではない。
×:回路に酸化に基づく明らかな変色が認められ、
回路の電気特性に影響をおよぼすものである。
[Evaluation criteria]
A: No discoloration due to oxidation is observed in the circuit.
○: Although some discoloration due to oxidation is observed in the circuit,
It does not affect the electrical characteristics of the circuit.
×: Obvious discoloration due to oxidation is observed in the circuit,
It affects the electrical characteristics of the circuit.

3-2.ポリイミド基板の半田耐性
各実施例および各比較例の離型フィルム10について、それぞれ、幅270mmのものとし、そして、フレキシブル回路基板210に、カバーレイフィルム220(有沢製作所社製、「CMA0525」)を、このカバーレイフィルム220が備える接着剤層222をフレキシブル回路基板210側にして貼付することで形成される、ピッチ50μm、幅50μm、高さ18μmの凹凸を備えるFPC200(積層体)とした後に、離型フィルム10を、図3に示すように積層されたFPC200に対して、RtoRプレス機(TRM社製、「RR Q-CURE 100TON CONTINUOUS LAMINATOR」)を用いて、180℃、110kg/cm、150secの設定条件で押し込んだ。その後、離型手段60としてFPC200と離型フィルム10の間に棒を挟み込み剥離する構成を適用し、搬送速度200mm/s、送り量500mm、加熱圧着板521から離型手段60までの距離を50mmとし、離型フィルム10を引き剥がした。
3-2. Solder Resistance of Polyimide Substrate The release film 10 of each example and each comparative example was 270 mm wide, and a coverlay film 220 (manufactured by Arisawa Seisakusho Co., Ltd., "CMA0525") was applied to the flexible circuit board 210. , FPC 200 (laminate) having unevenness with a pitch of 50 μm, a width of 50 μm, and a height of 18 μm, which is formed by attaching the adhesive layer 222 of the coverlay film 220 to the flexible circuit board 210 side, The release film 10 is applied to the laminated FPC 200 as shown in FIG . It was pushed in under the setting condition of 150 sec. After that, as the release means 60, a configuration in which a bar is sandwiched between the FPC 200 and the release film 10 is applied, and the conveying speed is 200 mm/s, the feed rate is 500 mm, and the distance from the hot pressing plate 521 to the release means 60 is 50 mm. Then, the release film 10 was peeled off.

次いで、JPCA規格JPCA-DG04に準拠して、RtoRプレス機を用いてプレスしたFPC200を、110℃、1hrの条件下で乾燥させた。その後、FPC200を、260℃に加熱された半田液中に10sec間浸漬させた後に、半田液中から取り出した。そして、フレキシブル回路基板210とカバーレイフィルム220との間における気泡の発生の有無を目視にて確認し、以下の基準に従って評価した。なお、各実施例および各比較例の離型フィルム10について、それぞれ、上記の通りとして、FPC200を得る試験を、100回繰り返して実施した。 Then, according to JPCA standard JPCA-DG04, FPC200 pressed using an RtoR press was dried at 110° C. for 1 hour. After that, the FPC 200 was immersed in a solder liquid heated to 260° C. for 10 seconds, and then taken out from the solder liquid. Then, the presence or absence of air bubbles generated between the flexible circuit board 210 and the coverlay film 220 was visually confirmed and evaluated according to the following criteria. For the release films 10 of each example and each comparative example, the test for obtaining FPC 200 was repeated 100 times as described above.

[評価基準]
◎: フレキシブル回路基板210とカバーレイフィルム220との間に気泡が発生しない。
○: フレキシブル回路基板210とカバーレイフィルム220との間に気泡が発生する確率が1%未満である。
×: フレキシブル回路基板210とカバーレイフィルム220との間に気泡が発生する確率が1%以上である。
[Evaluation criteria]
A: No air bubbles are generated between the flexible circuit board 210 and the coverlay film 220 .
○: The probability of air bubbles being generated between the flexible circuit board 210 and the coverlay film 220 is less than 1%.
x: The probability that air bubbles are generated between the flexible circuit board 210 and the coverlay film 220 is 1% or more.

3-3.離型フィルムの埋め込み性
各実施例および各比較例の離型フィルム10について、それぞれ、幅270mmのものとし、そして、フレキシブル回路基板210に、カバーレイフィルム220(有沢製作所社製、「CMA0525」)を、このカバーレイフィルム220が備える接着剤層222をフレキシブル回路基板210側にして貼付することで形成される、ピッチ50μm、幅50μm、高さ18μmの凹凸を備えるFPC200(積層体)とした後に、離型フィルム10を、図3に示すように積層されたFPC200に対して、RtoRプレス機(TRM社製、「RR Q-CURE 100TON CONTINUOUS LAMINATOR」)を用いて、180℃、110kg/cm、150secの設定条件で押し込んだ。その後、FPC200と離型フィルム10との積層体とした状態で、この積層体を厚さ方向に裁断(カット)した後に、離型フィルム10の一端を持ち離型フィルム10を引き剥がした。離型フィルム10の一端を把持して引き剥がした際の、FPC200の凹部における平面視での接着剤の最大しみ出し量を測定し、以下の基準に従って評価した。
3-3. Embedability of release film The release film 10 of each example and each comparative example was 270 mm wide, and a cover lay film 220 (manufactured by Arisawa Seisakusho Co., Ltd., "CMA0525") was placed on the flexible circuit board 210. The FPC 200 (laminate) having unevenness with a pitch of 50 μm, a width of 50 μm, and a height of 18 μm, which is formed by attaching the adhesive layer 222 of the cover lay film 220 to the flexible circuit board 210 side. , the release film 10 is applied to the laminated FPC 200 as shown in FIG . , was pushed under the setting condition of 150 sec. After that, in a state in which the FPC 200 and the release film 10 were laminated, the laminate was cut in the thickness direction, and then one end of the release film 10 was held and the release film 10 was peeled off. When one end of the release film 10 was gripped and peeled off, the maximum amount of the adhesive seeping out in the concave portion of the FPC 200 in plan view was measured and evaluated according to the following criteria.

[評価基準]
◎:最大しみ出し量が55mm未満である。
○:最大しみ出し量が55以上65mm未満である。
×:最大しみ出し量が65mm以上である。
[Evaluation criteria]
A: The maximum seepage amount is less than 55 mm.
Good: The maximum seepage amount is 55 or more and less than 65 mm.
x: The maximum seepage amount is 65 mm or more.

3-4.離型フィルムの離型性
各実施例および各比較例の離型フィルム10について、それぞれ、幅270mmのものとし、そして、フレキシブル回路基板210に、カバーレイフィルム220(有沢製作所社製、「CMA0525」)を、このカバーレイフィルム220が備える接着剤層222をフレキシブル回路基板210側にして貼付することで形成される、ピッチ50μm、幅50μm、高さ18μmの凹凸を備えるFPC200(積層体)とした後に、離型フィルム10を、図3に示すように積層されたFPC200に対して、RtoRプレス機(TRM社製、「RR Q-CURE 100TON CONTINUOUS LAMINATOR」)を用いて、180℃、110kg/cm、150secの設定条件で押し込んだ。その後、離型手段60としてFPC200と離型フィルム10の間に棒を挟み込み剥離する構成を適用し、搬送速度200mm/s、送り量500mm、加熱圧着板521から離型手段60までの距離を50mmとし、離型フィルム10を引き剥がした。その際の、離型フィルム10の引き剥がし易さ(離型性)について、以下の基準に従って評価した。
3-4. Releasability of release film The release film 10 of each example and each comparative example was 270 mm wide, and a coverlay film 220 (manufactured by Arisawa Seisakusho Co., Ltd., "CMA0525") was applied to the flexible circuit board 210. ) was formed by attaching the adhesive layer 222 of the cover lay film 220 to the flexible circuit board 210 side, and the FPC 200 (laminated body) provided with unevenness with a pitch of 50 μm, a width of 50 μm, and a height of 18 μm. Later, the release film 10 is applied to the laminated FPC 200 as shown in FIG. 2 , pressed under the setting condition of 150 sec. After that, as the release means 60, a configuration in which a bar is sandwiched between the FPC 200 and the release film 10 is applied, and the conveying speed is 200 mm/s, the feed rate is 500 mm, and the distance from the hot pressing plate 521 to the release means 60 is 50 mm. Then, the release film 10 was peeled off. At that time, the ease of peeling off the release film 10 (releasability) was evaluated according to the following criteria.

[評価基準]
○:離型フィルム引き剥がし時に、剥離可能である。
×:離型フィルム引き剥がし時に、クッション層同士が融着して剥離が困難である。
[Evaluation criteria]
Good: Peelable when the release film is peeled off.
x: When the release film is peeled off, the cushion layers are fused to each other and the separation is difficult.

3-5.まとめ
前記3-1.回路の酸化に基づく変色性、前記3-2.ポリイミド基板の半田耐性、前記3-3.離型フィルムの埋め込み性、および前記3-4.離型フィルムの離型性、において得られた評価結果を表1に示す。
3-5. Conclusion 3-1. Discoloration due to circuit oxidation, 3-2. Solder resistance of polyimide substrate, 3-3. Embedability of release film, and 3-4. Table 1 shows the evaluation results obtained in the releasability of the release film.

Figure 0007332017000002
Figure 0007332017000002

表1に示すように、各実施例では、離型フィルム10の酸素透過度が60.0cc/(m・atm・day)以上であることを満足しており、その結果、FPC200の凹部223で露出する回路における、酸化に基づく変色が抑制されている結果を示した。 As shown in Table 1, each example satisfied that the release film 10 had an oxygen permeability of 60.0 cc/(m 2 ·atm · day) or more. The results showed that discoloration due to oxidation was suppressed in circuits exposed to .

これに対して、各比較例では、離型フィルム10の酸素透過度が60.0cc/(m・atm・day)以上であることを満足しておらず、これに起因して、FPC200の凹部223で露出する回路において、酸化に基づく変色が明らかに認められる結果を示した。 On the other hand, in each comparative example, it is not satisfied that the release film 10 has an oxygen permeability of 60.0 cc/(m 2 ·atm · day) or more. The result showed that discoloration due to oxidation was clearly observed in the circuit exposed in the recess 223 .

1 第1離型層
2 第2離型層
3 クッション層
10 離型フィルム
10A 離型フィルム
10B 離型フィルム
10’ フィルム
50 加熱プレス手段
52 加熱圧着部
60 離型手段
100 ロールツーロールプレス機
200 フレキシブルプリント回路基板(FPC)
210 フレキシブル回路基板
220 カバーレイフィルム(CLフィルム)
221 カバーレイ
222 接着剤層
223 凹部
300A ガラスクロス
300B ガラスクロス
521 加熱圧着板
600 フィルム供給部
610 押出機
620 Tダイ
700 フィルム成形部
710 タッチロール
720 冷却ロール
730 後段冷却ロール
1000 離型フィルム製造装置
T1 第1離型層の平均厚さ
T2 第2離型層の平均厚さ
Tk クッション層の平均厚さ
Tt 離型フィルムの平均厚さ
1 first release layer 2 second release layer 3 cushion layer 10 release film 10A release film 10B release film 10' film 50 heat press means 52 heat press unit 60 release means 100 roll-to-roll press machine 200 flexible Printed circuit board (FPC)
210 flexible circuit board 220 coverlay film (CL film)
221 Coverlay 222 Adhesive layer 223 Concave portion 300A Glass cloth 300B Glass cloth 521 Thermocompression plate 600 Film supply section 610 Extruder 620 T die 700 Film forming section 710 Touch roll 720 Cool roll 730 Post cooling roll 1000 Release film manufacturing apparatus T1 Average thickness of first release layer T2 Average thickness of second release layer Tk Average thickness of cushion layer Tt Average thickness of release film

Claims (10)

第1熱可塑性樹脂組成物からなる第1離型層と、該第1離型層に積層されたクッション層とを有し、
金属基板上に配置された、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成された対象物の表面に、
前記第1離型層側の表面が接するように重ねて用いられる離型フィルムであって、
JIS K 7126-2に準拠して測定された、当該離型フィルムの酸素透過度は、100.0cc/(m ・atm・day)以上160.0cc/(m ・atm・day)以下であることを特徴とする離型フィルム。
Having a first release layer made of a first thermoplastic resin composition and a cushion layer laminated on the first release layer,
On the surface of an object formed of a material containing a thermosetting resin in a semi-cured state, placed on a metal substrate,
A release film that is used so that the surface on the first release layer side is in contact ,
The oxygen permeability of the release film, measured in accordance with JIS K 7126-2, is 100.0 cc/(m 2 atm day) or more and 160.0 cc/(m 2 atm day) or less. A release film characterized by the following.
前記第1熱可塑性樹脂組成物は、ポリエステル系樹脂を含む請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the first thermoplastic resin composition contains a polyester-based resin. 前記ポリエステル系樹脂は、結晶性を有し、前記第1離型層は、その結晶化度が10%以上50%以下である請求項2に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 2, wherein the polyester resin has crystallinity, and the crystallinity of the first release layer is 10% or more and 50% or less. 前記クッション層は、前記ポリエステル系樹脂と、ポリオレフィン系樹脂とを含む第3熱可塑性樹脂組成物からなる請求項3に記載の離型フィルム。 4. The release film according to claim 3, wherein the cushion layer is made of a third thermoplastic resin composition containing the polyester resin and the polyolefin resin. 前記第1離型層は、その平均厚さが7μm以上38μm以下である請求項1または4に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1 or 4, wherein the first release layer has an average thickness of 7 µm or more and 38 µm or less. 前記クッション層は、その平均厚さが40μm以上110μm以下である請求項5に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 5, wherein the cushion layer has an average thickness of 40 µm or more and 110 µm or less. 当該離型フィルムは、その平均厚さが50μm以上180μm以下である請求項6に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 6, wherein the release film has an average thickness of 50 µm or more and 180 µm or less. 前記第1離型層は、前記クッション層と反対側の表面における10点平均粗さ(Rz)が0.1μm以上20.0μm以下である請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the first release layer has a 10-point average roughness (Rz) of 0.1 µm or more and 20.0 µm or less on the surface opposite to the cushion layer. 当該離型フィルムは、前記クッション層の前記第1離型層と反対側に積層された、第2熱可塑性樹脂組成物からなる第2離型層を有する請求項1に記載の離型フィルム。 2. The release film according to claim 1, further comprising a second release layer made of a second thermoplastic resin composition and laminated on the side opposite to the first release layer of the cushion layer. 請求項1に記載の離型フィルムの前記第1離型層が対象物側になるように、
前記対象物上に前記離型フィルムを配置する工程と、前記離型フィルムが配置された前記対象物に対し、加熱プレスを行う工程と、を含み、前記離型フィルムを配置する前記工程において、前記対象物の前記離型フィルムが配置される側の面が、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成されていることを特徴とする成型品の製造方法。
So that the first release layer of the release film according to claim 1 is on the object side,
The step of placing the release film on the object, and the step of subjecting the object on which the release film is placed to a hot press, wherein the step of placing the release film includes: A method for manufacturing a molded product, wherein the surface of the object on which the release film is arranged is made of a material containing a semi-cured thermosetting resin.
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