JP2010161091A - Support for forming interlayer insulating material - Google Patents

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Kazuhiro Kunugihara
一弘 椚原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyester film ideal for a support that copes with microfabrication of wiring and high density, is used for multilayer printed circuit boards manufactured by build-up methods, and forms film-like interlayer insulating materials. <P>SOLUTION: The support for forming interlayer insulating materials is a polyester film used as a support for spreading thermosetting resins for forming interlayer dielectrics. In the support for forming interlayer insulating materials, a centerline surface roughness Ra is 20-60 nm on one side of the polyester film, and the thickness is 20-100 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、導体回路層と絶縁層とを交互に積み上げたビルドアップ方式の多層プリント配線版に用いられるフィルム状の絶縁層を形成するための支持体として好適なポリエステルフィルムに関するものである。   The present invention relates to a polyester film suitable as a support for forming a film-like insulating layer used in a multilayer printed wiring board of a build-up system in which conductor circuit layers and insulating layers are alternately stacked.

プリント配線基板は、ICなどの電子部品を搭載、接続するために銅回路が形成されている基板であり、テレビなどの家電に用いられている民生用プリント配線基板と、コンピューターや計測機器などの産業用に用いられている産業用プリント配線板などが挙げられる。特に明確な区別がなされているわけではないが、プリント配線板の基材は、主に紙を基材とするフェノール樹脂積層板から製造されているものなどが民生用に使用され、エポキシ樹脂を用いたガラス布基材積層板などが産業用プリント配線板用の基材として使用されている。   A printed wiring board is a board on which a copper circuit is formed in order to mount and connect electronic components such as ICs, such as consumer printed wiring boards used in household appliances such as televisions, computers, measuring instruments, etc. Examples include industrial printed wiring boards used for industrial purposes. Although there is no clear distinction, the printed wiring board base material is mainly used for consumer use, such as those made from paper-based phenolic resin laminates. The used glass cloth base laminate is used as a base for an industrial printed wiring board.

プリント配線基板に設置されるICなど端子数が増加するに従い、限られた面積で必要な配線を収容するための手段として多層化が図られ、多層プリント配線板も量産されている。   As the number of terminals such as ICs installed on a printed wiring board increases, multilayering is achieved as means for accommodating necessary wiring in a limited area, and multilayer printed wiring boards are also mass-produced.

多層プリント配線板のなかでも、リジッド基板上に配線パターンを形成し、その上に絶縁層を形成し、さらにその上に配線パターンを形成し、さらに絶縁層を形成するという工程を繰り返すことで、プリント配線板を形成するビルドアップ法は、携帯電話などの小型化が必要な製品や、コンピューターなどの高速動作が必要な用途に適した方法として用いられており、近年、更なる電子機器の小型化、高性能化が進み、ビルドアップ層もさらに複層化され、配線の微細化および高密度化も一層進んでいる。   By repeating the process of forming a wiring pattern on a rigid substrate, forming an insulating layer thereon, further forming a wiring pattern thereon, and further forming an insulating layer among the multilayer printed wiring boards, The build-up method for forming printed wiring boards is used as a method suitable for products that require miniaturization, such as mobile phones, and applications that require high-speed operation, such as computers. The build-up layer has been further multi-layered, and the miniaturization and high density of the wiring are further advanced.

多層プリント配線板に用いられる絶縁層は、ガラスクロスに、エポキシ系、ポリイミド系等の樹脂を含浸させたもの、あるいはセラミック系等の材料が用いられ、配線層の信号の伝播速度やプリント配線板の特性インピーダンス等の電気特性を左右する重要なパラメーターであるため、そのような電気特性を満足するような材料を選定することが必要であり、具体的には、できるだけ誘電率の低い材料が選定されており、各種提案もなされている。また、絶縁層の形成は、フィルム支持体の上に塗布する方法が、均一な厚さのものが得られるため、小型化や高性能化の要求に対して好ましく、塗布できる材料が用いられている。   The insulating layer used in the multilayer printed wiring board is made of glass cloth impregnated with epoxy or polyimide resin, or ceramic material. The signal propagation speed of the wiring layer or the printed wiring board Therefore, it is necessary to select a material that satisfies such electrical characteristics. Specifically, a material having a dielectric constant as low as possible is selected. Various proposals have been made. In addition, since the insulating layer is formed on the film support with a uniform thickness, it is preferable to meet the demands for miniaturization and high performance, and a material that can be applied is used. Yes.

絶縁層の形態は、小型化や高性能化に対応するための層間絶縁材として、フィルム状の支持体に絶縁層となる熱硬化性樹脂などを塗布し、支持体のフィルムと硬化させた絶縁層とをロール状とする方法が提案されている。フィルム状態の絶縁層に関しては、樹脂とフィラーの最適な選択などにより、レーザー加工に適合し、粗化処理後の樹脂表面がめっき密着性を向上するように設計したビルドアップ用絶縁層を有するフィルムが提案され、近年の要求に対応するなど、絶縁層に関しては、種々の提案がなされている。   The insulation layer is formed by applying a thermosetting resin as an insulation layer to a film-like support as an interlayer insulation to cope with downsizing and high performance, and curing the support film with the film. A method has been proposed in which the layers are rolled. With regard to the insulating layer in the film state, it is a film having an insulating layer for buildup that is designed to be suitable for laser processing and to improve the plating adhesion of the resin surface after the roughening treatment, by optimal selection of resin and filler, etc. Various proposals have been made regarding the insulating layer, such as to meet recent demands.

しかしながら、フィルム状の絶縁層を形成するための支持体である、フィルムに関しては、絶縁層の表面性や、絶縁層の形成時における生産性などに大きな影響を与えるにも関わらず、具体的な提案はなされていない状況である。   However, the film, which is a support for forming a film-like insulating layer, has a specific effect in spite of having a great influence on the surface properties of the insulating layer and the productivity when forming the insulating layer. No proposal has been made.

特に、配線の微細化および高密度化を達成するための層間絶縁層の表面粗度は、絶縁層を塗布により形成する場合に重要な特性であるが、支持体に使用するフィルムに関しての提案がなされていない状況である。
特開平7−75274号公報 特開平7−264787号公報 特開2004−265697号公報
In particular, the surface roughness of the interlayer insulating layer to achieve finer and higher density wiring is an important characteristic when the insulating layer is formed by coating. However, there is a proposal for a film used for the support. The situation has not been made.
JP-A-7-75274 JP-A-7-264787 JP 2004-265697 A

本発明は、上記実情に鑑みなされたもので、その解決課題は、配線の微細化および高密度化に対応するための、ビルドアップ法で製造する多層プリント配線板に用いられる、フィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体として好適なポリエステルフィルムを提供することである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and the problem to be solved is a film-like interlayer used for a multilayer printed wiring board manufactured by a build-up method in order to cope with miniaturization and high density of wiring. It is to provide a polyester film suitable as a support for forming an insulating material.

本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特定の構成からなるポリエステルフィルムによれば、上記課題を容易に解決できることを知見し、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the present inventor has found that the above problems can be easily solved by a polyester film having a specific configuration, and has completed the present invention.

すなわち、本発明の要旨は、層間絶縁層を形成する熱硬化性樹脂を塗布するための支持体として使用されるポリエステルフィルムであって、当該ポリエステルフィルムの片面の中心線平均粗さ(Ra)が20〜60nmであり、厚さが20〜100μmであることを特徴とする層間絶縁材料形成用支持体に存する。   That is, the gist of the present invention is a polyester film used as a support for applying a thermosetting resin that forms an interlayer insulating layer, and the center line average roughness (Ra) of one side of the polyester film is It exists in the support body for interlayer insulation material formation characterized by being 20-60 nm and thickness being 20-100 micrometers.

以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明のフィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体は、二軸配向ポリエステルフィルムよりなることが好ましく、当該ポリエステルフィルムは、溶融押出機を2台または3台以上用いて、いわゆる共押出法により2層または3層以上の積層フィルムとすることができる。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The support for forming the film-like interlayer insulating material of the present invention is preferably composed of a biaxially oriented polyester film, which is a so-called coextrusion using two or three or more melt extruders. By a method, it can be set as the laminated film of 2 layers or 3 layers or more.

本発明の表裏で異なる表面性を有するポリエステルフィルムは、少なくとも2層以上の層を有することが必要であり、それぞれの表面となる層に用いるポリエステルへ、目的とする表面粗度を得るため、それぞれに異なる粒子を配合した原料を用いる。   The polyester film having different surface properties on the front and back of the present invention needs to have at least two layers, and in order to obtain the target surface roughness to the polyester used for each layer, A raw material containing different particles is used.

本発明においてポリエステルフィルムに使用するポリエステルは、ホモポリエステルであっても共重合ポリエステルであってもよい。ホモポリエステルからなる場合、芳香族ジカルボン酸と脂肪族グリコールとを重縮合させて得られるものが好ましい。芳香族ジカルボン酸としては、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられ、脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。代表的なポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)等が例示される。一方、共重合ポリエステルのジカルボン酸成分としては、イソフタル酸、フタル酸、テレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、オキシカルボン酸(例えば、P−オキシ安息香酸など)等の一種または二種以上が挙げられ、グリコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、ネオペンチルグリコール等の一種または二種以上が挙げられる。いずれにしても、本発明でいうポリエステルとは、通常60モル%以上、好ましくは80モル%以上がエチレンテレフタレート単位であるポリエチレンテレフタレート等であるポリエステルを指す。   The polyester used for the polyester film in the present invention may be a homopolyester or a copolyester. In the case of a homopolyester, those obtained by polycondensation of an aromatic dicarboxylic acid and an aliphatic glycol are preferred. Examples of the aromatic dicarboxylic acid include terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and examples of the aliphatic glycol include ethylene glycol, diethylene glycol, and 1,4-cyclohexanedimethanol. Representative polyester includes polyethylene terephthalate (PET) and the like. On the other hand, examples of the dicarboxylic acid component of the copolyester include isophthalic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, and oxycarboxylic acid (eg, P-oxybenzoic acid). 1 type, or 2 or more types is mentioned, As a glycol component, 1 type or 2 types or more, such as ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, butanediol, 1, 4- cyclohexane dimethanol, neopentyl glycol, is mentioned. In any case, the polyester referred to in the present invention refers to a polyester that is usually 60 mol% or more, preferably 80 mol% or more of polyethylene terephthalate or the like which is an ethylene terephthalate unit.

本発明のフィルムは、ポリエステルのフィルム上で形成された層間絶縁層の表面性と、絶縁層を形成した積層フィルムのロール巻き取る取り性とを両立させるため、特定の表面粗さを必要とする。そのためには、平均粒子径が0.1〜10μm、さらには0.2〜10μmの粒子を含有させることが好ましい。平均粒子径が0.1μm未満では、フィルムの表面粗度が低くなり、フィルムの滑り性が悪く、層間絶縁層を形成した後にロール状態で製品を得ることができないことがある。また、平均粒子径が10μmを超える場合は、層間絶縁層の表面粗度が大きくなり、回路の高密度化に弊害が生じることがある。   The film of the present invention requires a specific surface roughness in order to achieve both the surface property of the interlayer insulating layer formed on the polyester film and the roll winding property of the laminated film on which the insulating layer is formed. . For that purpose, it is preferable to contain particles having an average particle diameter of 0.1 to 10 μm, more preferably 0.2 to 10 μm. If the average particle size is less than 0.1 μm, the surface roughness of the film is low, the slipping property of the film is poor, and the product may not be obtained in a roll state after forming the interlayer insulating layer. On the other hand, when the average particle diameter exceeds 10 μm, the surface roughness of the interlayer insulating layer is increased, which may adversely affect the circuit density.

上記粒子のフィルム中の含有量は、0.1〜10.0重量%、さらには1.0〜5.0重量%とすることが好ましい。粒子の含有量が0.1重量%未満では、フィルムの滑り性が悪くなることがある。また、含有量が10.0重量%を超えると、フィルムの表面粗度が大きくなり過ぎて平面性が損なわれることがある。   The content of the particles in the film is preferably 0.1 to 10.0% by weight, more preferably 1.0 to 5.0% by weight. If the content of the particles is less than 0.1% by weight, the slipperiness of the film may be deteriorated. Moreover, when content exceeds 10.0 weight%, the surface roughness of a film becomes large too much and planarity may be impaired.

かかる粒子の例として、酸化珪素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸リチウム、リン酸マグネシウム、フッ化リチウム、酸化アルミニウム、酸化チタン、カオリン、タルク、カーボンブラック、窒化ケイ素、窒化ホウ素、および特公昭59−5216号公報に記載されているような架橋高分子微粉体を挙げることができ、本発明の要旨を損なわれない限り、これらに限定されるものではない。   Examples of such particles include silicon oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium carbonate, calcium sulfate, calcium phosphate, lithium phosphate, magnesium phosphate, lithium fluoride, aluminum oxide, titanium oxide, kaolin, talc, carbon black, silicon nitride. , Boron nitride, and crosslinked polymer fine powder as described in JP-B-59-5216 are not limited thereto, as long as the gist of the present invention is not impaired.

一方、使用する粒子の形状に関しても特に限定されるわけではなく、球状、塊状、棒状、扁平状等のいずれを用いてもよい。また、その硬度、比重、色等についても特に制限はない。これら一連の粒子は、必要に応じて2種類以上を併用してもよい。   On the other hand, the shape of the particles to be used is not particularly limited, and any of a spherical shape, a block shape, a rod shape, a flat shape, and the like may be used. Moreover, there is no restriction | limiting in particular also about the hardness, specific gravity, a color, etc. These series of particles may be used in combination of two or more as required.

ポリエステル層中に粒子を添加する方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知の方法を採用しうる。例えば、各層を構成するポリエステルを製造する任意の段階において添加することができるが、好ましくはエステル化の段階、もしくはエステル交換反応終了後、重縮合反応を進めてもよい。   The method for adding particles to the polyester layer is not particularly limited, and a conventionally known method can be adopted. For example, it can be added at any stage for producing the polyester constituting each layer, but the polycondensation reaction may proceed preferably after the esterification stage or after the transesterification reaction.

また、ベント付き混練押出機を用い、エチレングリコールまたは水などに分散させた粒子のスラリーとポリエステル原料とをブレンドする方法、または、混練押出機を用い、乾燥させた粒子とポリエステル原料とをブレンドする方法などによって行われる。   Also, a method of blending a slurry of particles dispersed in ethylene glycol or water with a vented kneading extruder and a polyester raw material, or a blending of dried particles and a polyester raw material using a kneading extruder. It is done by methods.

なお、本発明におけるポリエステルフィルム中には上述の粒子以外に必要に応じて従来公知の酸化防止剤、帯電防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等を添加することができる。   In addition to the above-mentioned particles, conventionally known antioxidants, antistatic agents, thermal stabilizers, lubricants, dyes, pigments, and the like can be added to the polyester film in the present invention as necessary.

本発明の最大の特徴は、支持体となるポリエステルフィルムを特定の表面粗度とすることであり、ポリエステルフィルムの片面の中心線平均粗さ(Ra)を10〜50nm、好ましくは20nm〜30nmの範囲とする。中心線平均粗さRaが10nm未満では、フィルムの滑り性やフィルム間でのエアーの抜けが悪く、層間絶縁層を形成した後にロール状態で製品を得ることができない。また、中心線平均粗さRaが50nmを超える場合は、ロール状に巻かれた時に、層間絶縁層のポリエステルフィルムの表面粗度が層間絶縁層の表面に転写し、層間絶縁層の欠点となり好ましくない。   The greatest feature of the present invention is that the polyester film as a support has a specific surface roughness, and the center line average roughness (Ra) on one side of the polyester film is 10 to 50 nm, preferably 20 to 30 nm. Range. When the center line average roughness Ra is less than 10 nm, the slipperiness of the film and the air escape between the films are poor, and a product cannot be obtained in a roll state after the interlayer insulating layer is formed. Further, when the center line average roughness Ra exceeds 50 nm, the surface roughness of the polyester film of the interlayer insulating layer is transferred to the surface of the interlayer insulating layer when wound in a roll shape, which is a disadvantage of the interlayer insulating layer. Absent.

本発明のポリエステルフィルム自体は、接着シートとしてコア基材に層間絶縁層が接着された後は、剥離されその役割を終えるが、ポリエステルフィルムが剥がされた後のコア基材に接着された層間絶縁層の表面に影響を与える。   The polyester film itself of the present invention is peeled off after the interlayer insulating layer is bonded to the core substrate as an adhesive sheet, and the role is finished, but the interlayer insulation bonded to the core substrate after the polyester film is peeled off Affects the surface of the layer.

熱硬化性樹脂を塗布し、層間絶縁層を形成することになる側のポリエステルフィルムの表面は、中心線平均粗さ(Ra)を30nm以下、さらには20nm以下とし、十点平均粗さRzを200nm以下、さらには100nm以下とすることが好ましい。中心性平均粗さRaが30nmを超えたり、十点平均粗さRzが200nmを超える場合は、層間絶縁層の表面粗度が大きくなり、回路の高密度化に弊害が生じることがある。   The surface of the polyester film on which the thermosetting resin is applied and the interlayer insulating layer is to be formed has a center line average roughness (Ra) of 30 nm or less, further 20 nm or less, and a ten-point average roughness Rz. It is preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less. When the centrality average roughness Ra exceeds 30 nm or the ten-point average roughness Rz exceeds 200 nm, the surface roughness of the interlayer insulating layer increases, which may adversely affect circuit density.

本発明のポリエステルフィルムの厚みは、20〜100μm、好ましくは25〜50μmの範囲である。フィルム厚みが20μm未満では、絶縁材を塗布した際にシワが入り好ましくない。フィルム厚みが100μmを越えた場合は、使用ポリエステル量が増加するため、コスト的に好ましくない。   The thickness of the polyester film of the present invention is in the range of 20-100 μm, preferably 25-50 μm. If the film thickness is less than 20 μm, wrinkles occur when an insulating material is applied, which is not preferable. When the film thickness exceeds 100 μm, the amount of polyester used increases, which is not preferable in terms of cost.

本発明で用いる層間絶縁層に用いる硬化性樹脂は、支持体上で層を形成することができ、十分な絶縁性を有するものであれば、特に限定なく使用でき、例えば、エポキシ樹脂系、アクリル系、ポリイミド樹脂系、ポリイミドアミド樹脂系、ポリシアネート樹脂系、ポリエステル樹脂系、熱硬化型ポリフェニレンエーテル樹脂系などが挙げられる。また、これらを2種以上組み合わせて使用したり、多層構造としたりすることも可能である。   The curable resin used for the interlayer insulating layer used in the present invention can be used without particular limitation as long as it can form a layer on a support and has sufficient insulating properties. System, polyimide resin system, polyimide amide resin system, polycyanate resin system, polyester resin system, thermosetting polyphenylene ether resin system, and the like. Further, two or more of these may be used in combination, or a multilayer structure may be used.

層間絶縁層を支持体に形成する方法は、上記した熱硬化性樹脂などを溶媒に溶解した該樹脂組成物ワニスを塗布した後、加熱することにより溶剤を乾燥させると同時に樹脂を硬化させる公知の方法で作成することができる。   A method for forming an interlayer insulating layer on a support is a known method in which the resin composition varnish in which the above-described thermosetting resin or the like is dissolved in a solvent is applied, and then the solvent is dried by heating to simultaneously cure the resin. Can be created by the method.

本発明は、層間絶縁層となる硬化樹脂層をポリエステルフィルムからなる支持体上に積層フィルムとして設け、当該積層フィルムをロール状とする。ロール状とする際は、そのままの状態でも、硬化樹脂の表面を保護するための保護フィルムを貼り合わせた状態でも、ロール状態で保管できれば、どちらでも構わない。ただし、保護フィルムで保護することにより、樹脂組成物層表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができるので、保護フィルムのない状態でロールとした場合も、最終的には保護フィルムを貼りあわせる工程を追加した方が好ましい。   In the present invention, a cured resin layer serving as an interlayer insulating layer is provided as a laminated film on a support made of a polyester film, and the laminated film is rolled. When making it into a roll shape, it may be either as it is, in a state where a protective film for protecting the surface of the cured resin is bonded, as long as it can be stored in a roll state. However, by protecting with a protective film, it is possible to prevent the adhesion and scratches of dust etc. to the resin composition layer surface, so even if it is a roll without a protective film, finally the protective film It is preferable to add a step of bonding.

保護フィルムとしては、層間絶縁層の表面を保護する機能を有していれば特にこだわらず、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステルなどのプラスチックフィルムが用いられる。   The protective film is not particularly limited as long as it has a function of protecting the surface of the interlayer insulating layer, and a plastic film such as polyethylene, polypropylene, or polyester is used.

ポリエステルフィルムで形成する層間絶縁層の厚さは、導体層の厚さ以上とすることが好ましい。回路基板の導体層の厚さはが、通常5〜70μmの範囲であるので、樹脂組成物層の厚さは10〜100μmの厚みが好ましい。   The thickness of the interlayer insulating layer formed of a polyester film is preferably equal to or greater than the thickness of the conductor layer. Since the thickness of the conductor layer of the circuit board is usually in the range of 5 to 70 μm, the thickness of the resin composition layer is preferably 10 to 100 μm.

本発明のフィルムを使用して得られた層間絶縁層を有するフィルムは、導電層をパターン加工して回路を形成する時に接着フィルムとして、層間絶縁層の保護フィルムが剥がされ、コア基板に積層される。コア基材/層間絶縁層/ポリエステルフィルム支持体の構成、またはコア基材の両面を層間絶縁層で挟む、ポリエステルフィルム支持体/層間絶縁/コア基材/層間絶縁層/ポリエステルフィルム支持体の構成で加熱処理などを行い、コア基材と層間絶縁層を接着させ、ポリエステルフィルムからなる支持体が剥がされる。   The film having an interlayer insulating layer obtained by using the film of the present invention is laminated on the core substrate by peeling off the protective film of the interlayer insulating layer as an adhesive film when patterning the conductive layer to form a circuit. The Structure of core base material / interlayer insulating layer / polyester film support, or structure of polyester film support / interlayer insulation / core base material / interlayer insulating layer / polyester film support in which both sides of the core base material are sandwiched between interlayer insulating layers The core substrate and the interlayer insulating layer are adhered to each other by heating, and the support made of the polyester film is peeled off.

層間絶縁層をコア基材に接着する方法としては、真空ラミネート法により減圧下で回路基板にラミネートする方法が好適に用いられる。ラミネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。またラミネートを行う前に接着フィルムおよび回路基板を必要により加熱(プレヒート)しておいてもよい。   As a method of adhering the interlayer insulating layer to the core substrate, a method of laminating on the circuit board under reduced pressure by a vacuum laminating method is suitably used. The laminating method may be a batch method or a continuous method using a roll. Further, the adhesive film and the circuit board may be heated (preheated) as necessary before lamination.

ラミネートの条件は、圧着温度(ラミネート温度)を好ましくは70〜140℃、圧着圧力を好ましくは1〜11kgf/cmとし、空気圧が20mmHg(26.7hPa)以下の減圧下でラミネートするのが好ましい。なお、真空ラミネートは市販の真空ラミネーターを使用して行うことができる。 The laminating conditions are preferably a pressure bonding temperature (lamination temperature) of preferably 70 to 140 ° C., a pressure bonding pressure of preferably 1 to 11 kgf / cm 2, and lamination under a reduced pressure of 20 mmHg (26.7 hPa) or less. . The vacuum lamination can be performed using a commercially available vacuum laminator.

本発明における回路基板とは、主として、ガラスエポキシ、金属基板、ポリエステル基板、ポリイミド基板、BTレジン基板、熱硬化型ポリフェニレンエーテル基板等の基板の片面または両面にパターン加工された導体層(回路)が形成されたものをいう。また導体層と絶縁層が交互に層形成され、片面または両面がパターン加工された導体層(回路)となっている多層プリント配線板も本発明にいう回路基板に含まれる。なお導体回路層表面は黒化処理等により予め粗化処理が施されていた方が絶縁層の回路基板への密着性の観点から好ましい。   The circuit board in the present invention mainly includes a conductor layer (circuit) patterned on one or both sides of a substrate such as a glass epoxy, metal substrate, polyester substrate, polyimide substrate, BT resin substrate, thermosetting polyphenylene ether substrate, or the like. The one formed. Also included in the circuit board of the present invention is a multilayer printed wiring board in which conductor layers and insulating layers are alternately formed and a conductor layer (circuit) is patterned on one or both sides. The surface of the conductor circuit layer is preferably roughened by blackening or the like in advance from the viewpoint of adhesion of the insulating layer to the circuit board.

このように接着フィルムを回路基板にラミネートした後、支持フィルムを剥離する場合は、剥離して熱硬化することにより回路基板に絶縁層を形成することができる。加熱硬化の条件は150℃〜220℃で20分〜180分の範囲で選択され、より好ましくは160℃〜200℃で30〜120分である。絶縁層を形成した後、硬化前に支持フィルムを剥離しなかった場合は、ここで剥離する。   In this way, when the support film is peeled after laminating the adhesive film on the circuit board, the insulating layer can be formed on the circuit board by peeling and thermosetting. The conditions of heat curing are selected in the range of 20 to 180 minutes at 150 to 220 ° C, more preferably 30 to 120 minutes at 160 to 200 ° C. If the support film is not peeled off after the insulating layer is formed, it is peeled off here.

次に回路基板上に形成された絶縁層に穴開けを行い、ビアホール、スルーホールを形成する。穴あけは例えば、ドリル、レーザー、プラズマ等の公知の方法により、また必要によりこれらの方法を組み合わせて行うことができるが、炭酸ガスレーザー、YAGレーザー等のレーザーによる穴あけがもっとも一般的な方法である。   Next, a hole is made in the insulating layer formed on the circuit board to form a via hole and a through hole. Drilling can be performed by a known method such as drilling, laser, or plasma, or a combination of these methods if necessary. However, drilling by a laser such as a carbon dioxide laser or YAG laser is the most common method. .

次に本発明におけるポリエステルフィルムの製造例について具体的に説明するが、以下の製造例に何ら限定されるものではない。   Next, although the manufacture example of the polyester film in this invention is demonstrated concretely, it is not limited to the following manufacture examples at all.

まず、先に述べたポリエステル原料を使用し、ダイから押し出された溶融シートを冷却ロールで冷却固化して未延伸シートを得る方法が好ましい。この場合、シートの平面性を向上させるためシートと回転冷却ドラムとの密着性を高める必要があり、静電印加密着法および/または液体塗布密着法が好ましく採用される。次に得られた未延伸シートは二軸方向に延伸される。その場合、まず、前記の未延伸シートを一方向にロールまたはテンター方式の延伸機により延伸する。延伸温度は、通常70〜120℃、好ましくは80〜110℃であり、延伸倍率は通常2.5〜7倍、好ましくは3.0〜6倍である。次いで、一段目の延伸方向と直交する延伸温度は通常70〜170℃であり、延伸倍率は通常3.0〜7倍、好ましくは3.5〜6倍である。そして、引き続き180〜270℃の温度で緊張下または30%以内の弛緩下で熱処理を行い、二軸配向フィルムを得る。上記の延伸においては、一方向の延伸を2段階以上で行う方法を採用することもできる。その場合、最終的に二方向の延伸倍率がそれぞれ上記範囲となるように行うのが好ましい。   First, the method of using the polyester raw material mentioned above and cooling and solidifying the molten sheet extruded from the die with a cooling roll is preferable. In this case, in order to improve the flatness of the sheet, it is necessary to improve the adhesion between the sheet and the rotary cooling drum, and an electrostatic application adhesion method and / or a liquid application adhesion method are preferably employed. Next, the obtained unstretched sheet is stretched in the biaxial direction. In that case, first, the unstretched sheet is stretched in one direction by a roll or a tenter type stretching machine. The stretching temperature is usually 70 to 120 ° C., preferably 80 to 110 ° C., and the stretching ratio is usually 2.5 to 7 times, preferably 3.0 to 6 times. Subsequently, the extending | stretching temperature orthogonal to the 1st step | paragraph extending | stretching direction is 70-170 degreeC normally, and a draw ratio is 3.0-7 times normally, Preferably it is 3.5-6 times. Subsequently, heat treatment is performed at a temperature of 180 to 270 ° C. under tension or under relaxation within 30% to obtain a biaxially oriented film. In the above-described stretching, a method in which stretching in one direction is performed in two or more stages can be employed. In that case, it is preferable to carry out so that the draw ratios in the two directions finally fall within the above ranges.

また、本発明におけるポリエステルフィルム製造に関しては同時二軸延伸法を採用することもできる。同時二軸延伸法は前記の未延伸シートを通常70〜120℃、好ましくは80〜110℃で温度コントロールされた状態で機械方向および幅方向に同時に延伸し配向させる方法で、延伸倍率としては、面積倍率で4〜50倍、好ましくは7〜35倍、さらに好ましくは10〜25倍である。そして、引き続き、170〜250℃の温度で緊張下または30%以内の弛緩下で熱処理を行い、延伸配向フィルムを得る。上述の延伸方式を採用する同時二軸延伸装置に関しては、スクリュー方式、パンタグラフ方式、リニアー駆動方式等、従来公知の延伸方式を採用することができる。   The simultaneous biaxial stretching method can also be adopted for the production of the polyester film in the present invention. The simultaneous biaxial stretching method is a method in which the unstretched sheet is usually stretched and oriented in the machine direction and the width direction at 70 to 120 ° C., preferably 80 to 110 ° C., and the stretching ratio is as follows: The area magnification is 4 to 50 times, preferably 7 to 35 times, and more preferably 10 to 25 times. Subsequently, heat treatment is performed at a temperature of 170 to 250 ° C. under tension or under relaxation within 30% to obtain a stretched oriented film. With respect to the simultaneous biaxial stretching apparatus that employs the above-described stretching method, a conventionally known stretching method such as a screw method, a pantograph method, or a linear driving method can be employed.

さらに上述のポリエステルフィルムの延伸工程中にフィルム表面を処理する、いわゆる塗布延伸法(インラインコーティング)を施すことができる。塗布延伸法によりポリエステルフィルム上に塗布層が設けられる場合には、延伸と同時に塗布が可能になると共に塗布層の厚みを延伸倍率に応じて薄くすることができ、ポリエステルフィルムとして好適なフィルムを製造できる。   Furthermore, a so-called coating stretching method (in-line coating) in which the film surface is treated during the above-described polyester film stretching step can be applied. When a coating layer is provided on a polyester film by a coating stretching method, coating can be performed simultaneously with stretching and the thickness of the coating layer can be reduced according to the stretching ratio, producing a film suitable as a polyester film. it can.

本発明において、塗布層を設ける方法はリバースグラビアコート、ダイレクトグラビアコート、ロールコート、ダイコート、バーコート、カーテンコート等、従来公知の塗工方式を用いることができる。塗工方式に関しては「コーティング方式」槇書店 原崎勇次著 1979年発行に記載例がある。   In the present invention, as a method for providing the coating layer, a conventionally known coating method such as reverse gravure coating, direct gravure coating, roll coating, die coating, bar coating, curtain coating or the like can be used. Regarding the coating method, there is a description example in “Coating method” published by Yasuharu Harasaki in 1979.

本発明において、ポリエステルフィルム上に塗布層を形成する際の硬化条件に関しては特に限定されるわけではなく、例えば、塗布延伸法(インラインコーティング)により塗布層を設ける場合、通常、170〜280℃で3〜40秒間、好ましくは200〜280℃で3〜40秒間を目安として熱処理を行うのが良い。   In this invention, it does not necessarily limit regarding the curing conditions at the time of forming a coating layer on a polyester film, For example, when providing a coating layer by the coating extending | stretching method (in-line coating), it is 170-280 degreeC normally. The heat treatment may be performed for 3 to 40 seconds, preferably 200 to 280 ° C. for 3 to 40 seconds.

また、塗布延伸法(インラインコーティング)あるいはオフラインコーティングにかかわらず、必要に応じて熱処理と紫外線照射等の活性エネルギー線照射とを併用してもよい。また、ポリエステルフィルムには予め、コロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を施してもよい。   Moreover, you may use together heat processing and active energy ray irradiation, such as ultraviolet irradiation, as needed irrespective of the coating extending | stretching method (in-line coating) or offline coating. The polyester film may be subjected to surface treatment such as corona treatment or plasma treatment in advance.

本発明によれば、配線の微細化および高密度化に対応するための、ビルドアップ法で製造する多層プリント配線板に用いられる、フィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体として好適なポリエステルフィルムを提供することができ、本発明の工業的価値は高い。   According to the present invention, it is suitable as a support for forming a film-like interlayer insulating material used for a multilayer printed wiring board manufactured by a build-up method in order to cope with miniaturization and high density of wiring. A polyester film can be provided, and the industrial value of the present invention is high.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。また、本発明で用いた測定法は次のとおりである。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded. The measuring method used in the present invention is as follows.

(1)ポリエステルの固有粘度の測定
ポリエステルに非相溶な他のポリマー成分および顔料を除去したポリエステル1gを精秤し、フェノール/テトラクロロエタン=50/50(重量比)の混合溶媒100mlを加えて溶解させ、30℃で測定した。
(1) Measurement of intrinsic viscosity of polyester 1 g of polyester from which other polymer components and pigments incompatible with polyester have been removed are precisely weighed, and 100 ml of a mixed solvent of phenol / tetrachloroethane = 50/50 (weight ratio) is added. It was dissolved and measured at 30 ° C.

(2)平均粒径(d50:μm)の測定
遠心沈降式粒度分布測定装置(株式会社島津製作所社製SA−CP3型)を使用して測定した等価球形分布における積算(重量基準)50%の値を平均粒径とした。
(2) Measurement of average particle diameter (d 50 : μm) Integration (weight basis) 50% in equivalent spherical distribution measured using centrifugal sedimentation type particle size distribution measuring device (SA-CP3 type manufactured by Shimadzu Corporation) Was the average particle size.

(3)表面粗さ(Ra)
中心線平均粗さRa(μm)をもって表面粗さとする。(株)小坂研究所社製表面粗さ測定機(SE−3F)を用いて次のようにして求めた。即ち、フィルム断面曲線からその中心線の方向に基準長さL(2.5mm)の部分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をx軸、縦倍率の方向をy軸として粗さ曲線 y=f(x)で表わしたとき、次の式で与えられた値を〔μm〕で表わす。中心線平均粗さは、試料フィルム表面から10本の断面曲線を求め、これらの断面曲線から求めた抜き取り部分の中心線平均粗さの平均値で表わした。なお、触針の先端半径は2μm、荷重は30mgとし、カットオフ値は0.08mmとした。
Ra=(1/L)∫ |f(x)|dx
(3) Surface roughness (Ra)
The center line average roughness Ra (μm) is defined as the surface roughness. It calculated | required as follows using the Kosaka Laboratory Co., Ltd. surface roughness measuring machine (SE-3F). That is, a portion having a reference length L (2.5 mm) is extracted from the film cross-sectional curve in the direction of the center line, the center line of the extracted portion is the x axis, and the direction of the vertical magnification is the y axis. When represented by (x), the value given by the following equation is represented by [μm]. The center line average roughness was represented by the average value of the center line average roughness of the extracted portion obtained from 10 cross section curves obtained from the sample film surface. The tip radius of the stylus was 2 μm, the load was 30 mg, and the cutoff value was 0.08 mm.
Ra = (1 / L) ∫ 1 L | f (x) | dx

(4)十点平均粗さ(Rz)
(株)小坂研究所製 表面粗さ測定機(SE−3F)によって得られた断面曲線から、基準長さ(2.5mm)だけ抜き取った部分の断面曲線における最高から5番目までの山頂の標高の平均値と、最深から5番目までの谷底の標高の平均値との差で表わした。十点平均粗さは、試料フィルム表面から10本の断面曲線を求め、これらの断面曲線から求めた抜き取り部分の十点平均粗さの平均値で表わした。なお、この時使用した触針の半径は2.0μm、荷重30mg、カットオフ値は0.08mmである。
(4) Ten-point average roughness (Rz)
Elevation of the peak from the highest to the fifth in the cross-section curve of the portion extracted by the reference length (2.5 mm) from the cross-section curve obtained by the surface roughness measuring machine (SE-3F) manufactured by Kosaka Laboratory Ltd. And the average value of the altitude of the bottom of the valley from the deepest to the fifth. The ten-point average roughness was represented by the average value of the ten-point average roughness of the extracted portion obtained from 10 cross-sectional curves obtained from the sample film surface. The radius of the stylus used at this time is 2.0 μm, the load is 30 mg, and the cutoff value is 0.08 mm.

実施例および比較例において使用したポリエステルは、以下のようにして準備したものである。
〈ポリエステルの製造〉
製造例1(ポリエチレンテレフタレートA) 希釈原料
ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール60部および酢酸マグネシウム・4水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から4時間を要して230℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート0.04部、三酸化アンチモン0.03部を添加した後、100分で温度を280℃、圧力を15mmHgに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に0.3mmHgとした。4時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度0.61のポリエチレンテレフタレートA1を得た。
The polyester used in the examples and comparative examples was prepared as follows.
<Manufacture of polyester>
Production Example 1 (Polyethylene terephthalate A) Diluent raw material 100 parts of dimethyl terephthalate, 60 parts of ethylene glycol and 0.09 part of magnesium acetate tetrahydrate are placed in a reactor, the temperature is raised by heating, methanol is distilled off, It took 4 hours from the start of the reaction, and the temperature was raised to 230 ° C. to substantially complete the transesterification reaction. Next, 0.04 part of ethylene glycol slurry ethyl acid phosphate and 0.03 part of antimony trioxide were added, and then the temperature was reached to 280 ° C. and the pressure to 15 mmHg in 100 minutes. It was 0.3 mmHg. After 4 hours, the system was returned to atmospheric pressure to obtain polyethylene terephthalate A1 having an intrinsic viscosity of 0.61.

製造例2(ポリエチレンテレフタレートB) シリカ粒子 3.4μm
ジメチルテレフタレート100部、エチレングリコール60部および酢酸マグネシウム・4水塩0.09部を反応器にとり、加熱昇温すると共にメタノールを留去し、エステル交換反応を行い、反応開始から4時間を要して230℃に昇温し、実質的にエステル交換反応を終了した。次いで、エチレングリコールスラリーエチルアシッドフォスフェート0.04部、三酸化アンチモン0.03部、平均粒径3.4μmのシリカ粒子を0.01部添加した後、100分で温度を280℃、圧力を15mmHgに達せしめ、以後も徐々に圧力を減じ、最終的に0.3mmHgとした。4時間後、系内を常圧に戻し、固有粘度0.61のポリエチレンテレフタレートBを得た。
Production Example 2 (Polyethylene terephthalate B) Silica particles 3.4 μm
100 parts of dimethyl terephthalate, 60 parts of ethylene glycol and 0.09 part of magnesium acetate tetrahydrate are placed in a reactor, the temperature is raised by heating, methanol is distilled off, transesterification is performed, and 4 hours are required from the start of the reaction. The temperature was raised to 230 ° C. to substantially complete the transesterification reaction. Next, 0.04 part of ethylene glycol slurry ethyl acid phosphate, 0.03 part of antimony trioxide and 0.01 part of silica particles having an average particle size of 3.4 μm were added, and then the temperature was 280 ° C. and the pressure was increased in 100 minutes. The pressure reached 15 mmHg, and the pressure was gradually reduced thereafter to finally reach 0.3 mmHg. After 4 hours, the system was returned to normal pressure to obtain polyethylene terephthalate B having an intrinsic viscosity of 0.61.

製造例3(ポリエチレンテレフタレートC) CaCO3 0.70μm
製造例1において平均粒径3.4μmのシリカ粒子を0.01部添加する代わりに平均粒径0.70μmの合成炭酸カルシウム粒子を0.1部添加する以外は製造例1と同様にしてポリエチレンテレフタレートCを得た。
Production Example 3 (Polyethylene terephthalate C) CaCO3 0.70 μm
In the same manner as in Production Example 1, except that 0.01 parts of silica particles having an average particle diameter of 3.4 μm are added in an amount of 0.01 parts, synthetic polyethylene carbonate particles having an average particle diameter of 0.70 μm are added. Terephthalate C was obtained.

製造例4(ポリエチレンテレフタレートD) CaCO3 0.27μm
製造例1において平均粒径3.4μmのシリカ粒子を0.01部添加する代わりに平均粒径0.27μmの合成炭酸カルシウム粒子を0.01部添加する以外は製造例1と同様にしてポリエチレンテレフタレートDを得た。
Production Example 4 (Polyethylene terephthalate D) CaCO3 0.27 μm
In the same manner as in Production Example 1, except that 0.01 parts of synthetic calcium carbonate particles having an average particle diameter of 0.27 μm are added instead of 0.01 parts of silica particles having an average particle diameter of 3.4 μm, polyethylene is added. Terephthalate D was obtained.

製造例5(ポリエチレンテレフタレートE) CaCO3 1.5μm
製造例1において平均粒径3.4μmのシリカ粒子を0.01部添加する代わりに平均粒径1.50μmの合成炭酸カルシウム粒子を0.01部添加する以外は製造例1と同様にしてポリエチレンテレフタレートEを得た。
Production Example 5 (polyethylene terephthalate E) CaCO3 1.5 μm
In the same manner as in Production Example 1, except that 0.01 parts of synthetic calcium carbonate particles having an average particle diameter of 1.50 μm are added in place of 0.01 parts of silica particles having an average particle diameter of 3.4 μm, polyethylene is added. Terephthalate E was obtained.

(ポリエステルフィルムの製造)
上記ポリエステルA〜Eを表1〜3に示す配合比でX層、Y層の混合原料とし、2台の二軸押出機に各々を供給し、各々285℃で溶融した後、全厚みに対して、X層/Y層=50%/50%の厚み比となるように、2種2層の構成で20℃に冷却したキャスティングドラム上に共押出し、冷却固化させて無配向シートを得た。次いで、100℃にて縦方向に2.8倍延伸した後、テンター内で予熱工程を経て120℃で4.6倍の横延伸を施した後、225℃で10秒間の熱処理を行い、その後180℃で幅方向に10%の弛緩を加え、下記表1および2に示す厚さのポリエステルフィルムを得た。
(Manufacture of polyester film)
The above polyesters A to E are mixed raw materials of the X layer and the Y layer at the compounding ratios shown in Tables 1 to 3, and each is supplied to two twin-screw extruders and melted at 285 ° C. Thus, a non-oriented sheet was obtained by co-extrusion on a casting drum cooled to 20 ° C. in a two-layer / two-layer configuration so that the thickness ratio of X layer / Y layer = 50% / 50%. . Next, the film was stretched 2.8 times in the longitudinal direction at 100 ° C., then subjected to a preheating step in the tenter and subjected to transverse stretching of 4.6 times at 120 ° C., followed by heat treatment at 225 ° C. for 10 seconds, 10% relaxation was applied in the width direction at 180 ° C. to obtain polyester films having thicknesses shown in Tables 1 and 2 below.

Figure 2010161091
Figure 2010161091

Figure 2010161091
Figure 2010161091

《エポキシ樹脂組成物》
液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製「エピコート828EL」)20部、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成(株)製YDB−500)20部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ当量215、軟化点78℃、大日本インキ化学(株)製エピクロンN−673)20部、末端エポキシ化ポリブタジエンゴム(ナガセ化成工業(株)製デナレックスR−45EPT)15部とをMEKに攪拌しながら加熱溶解させ、そこへ臭素化フェノキシ樹脂ワニス(不揮発分40重量%、臭素含有量25重量%、溶剤組成、キシレン:メトキシプロパノール:メチルエチルケトン=5:2:8、東都化成(株)製YPB−40−PXM40)50部、エポキシ硬化剤として2、4−ジアミノ−6−(2−メチル−1−イミダゾリエチル)−1、3、5−トリアジン・イソシアヌル酸付加物4部、さらに微粉砕シリカ2部、三酸化アンチモン4部、炭酸カルシウム5部を添加し樹脂組成ワニスを作製した。
<< Epoxy resin composition >>
20 parts of liquid bisphenol A type epoxy resin (“Epicoat 828EL” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.), 20 parts of brominated bisphenol A type epoxy resin (YDB-500 manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), cresol novolac type epoxy resin (epoxy) Equivalent 215, softening point 78 ° C., Dainippon Ink Chemical Co., Ltd. Epicron N-673) 20 parts, terminal epoxidized polybutadiene rubber (Nagase Kasei Kogyo Co., Ltd. Denarex R-45EPT) 15 parts are stirred into MEK. The solution was heated and dissolved, and brominated phenoxy resin varnish (non-volatile content 40% by weight, bromine content 25% by weight, solvent composition, xylene: methoxypropanol: methyl ethyl ketone = 5: 2: 8, YPB- manufactured by Toto Kasei Co., Ltd. 40-PXM40) 50 parts, 2,4-diamino as epoxy curing agent 6- (2-methyl-1-imidazoliethyl) -1,3,5-triazine / isocyanuric acid adduct 4 parts, 2 parts of finely pulverized silica, 4 parts of antimony trioxide and 5 parts of calcium carbonate A composition varnish was prepared.

《ポリエステルフィルムへの樹脂組成ワニス塗布:層間絶縁層の形成》
上記の方法で作製した樹脂組成ワニスを、実施例1〜8、比較例1〜4で得られたポリエステルフィルムのB層表面上に、乾燥後の樹脂厚さが70μmとなる用にダイコーターで塗布し、80〜120℃(平均100℃)で乾燥し、ポリエステルフィルムを支持体とした層間絶縁層を作製した。
<< Resin composition varnish application to polyester film: Formation of interlayer insulation layer >>
The resin composition varnish produced by the above method is applied to the surface of the B layer of the polyester film obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4 with a die coater so that the resin thickness after drying becomes 70 μm. It apply | coated and dried at 80-120 degreeC (average 100 degreeC), and the interlayer insulation layer which made the polyester film the support body was produced.

比較例4は、樹脂組成ワニスを塗布した後の乾燥時に、ポリエステルフィルムにシワが入り、製品を得られなかった。   In Comparative Example 4, the polyester film was wrinkled during drying after the resin composition varnish was applied, and a product was not obtained.

《ロール外観》
樹脂組成ワニスをポリエステルフィルム上に塗布し、層間絶縁層を有するフィルムの製造において、該フィルムの製品ロールの外観を目視観察し評価し、その結果を表4に示す。特に、ロール両端面のズレを観察した。
(ロール外観良好) ◎>○>△>× (ロール外観不良)
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
<Roll appearance>
The resin composition varnish was applied onto a polyester film, and in the production of a film having an interlayer insulating layer, the appearance of the product roll of the film was visually observed and evaluated. Table 4 shows the results. In particular, the deviation of both end faces of the roll was observed.
(Roll appearance is good) ◎>○>△> × (Roll appearance is bad)
Among the above criteria, those above Δ are levels that can be used without any problem in actual use.

《表面特性》
得られた層間絶縁層のポリエステルフィルムに相当する表面を観察し、電気特性に影響を与える突起の有無や、突起の均一性の表面特性を下記のとおり評価し、その結果を表4に示す。
◎:突起の均一性を有し、電気特性に悪影響を与える大きな突起は見られない
○:突起の均一性が僅かに劣り、大きな突起も若干見られる
△:実用上問題なく使用できるレベルの均一性と突起の大きさが見られる
×:突起の均一性に劣り、電気特性に悪影響を与える突起が見られる
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
<Surface characteristics>
The surface corresponding to the polyester film of the obtained interlayer insulating layer was observed, and the presence or absence of protrusions affecting the electric characteristics and the surface characteristics of the uniformity of the protrusions were evaluated as follows. The results are shown in Table 4.
◎: Projection uniformity, no large projections that adversely affect electrical characteristics are observed ○: Projection uniformity is slightly inferior, and some large projections are seen △: Uniformity at a level that can be used practically without problems X: Protrusions that are inferior in the uniformity of the protrusions and have an adverse effect on the electrical characteristics are observed. Among the above judgment criteria, those above Δ are levels that can be used without problems in actual use.

《コストの優位性》
得られる特性と、歩留まり等の製造に関わるコスト評価を下記のとおり評価し、その結果を下記表3に示す。
○:コスト的に優位性が見られる
△:コスト的に若干劣る
×:コスト的に劣る
上記判定基準中、△以上のものが実使用上問題なく使用できるレベルである。
《Cost advantage》
The obtained characteristics and the cost evaluation related to the production such as yield are evaluated as follows, and the results are shown in Table 3 below.
◯: Advantage in terms of cost Δ: Slightly inferior in cost ×: Inferior in cost Among the above criteria, those above Δ are at a level that can be used without problems in actual use.

Figure 2010161091
Figure 2010161091

比較例4は、樹脂組成ワニスを塗布した後の乾燥時に、ポリエステルフィルムにシワが入り、製品を得られなかった。   In Comparative Example 4, the polyester film was wrinkled during drying after the resin composition varnish was applied, and a product was not obtained.

本発明のポリエステルフィルムは、ビルドアップビルドアップ法で製造する多層プリント配線板に用いられる、フィルム状の層間絶縁材料を形成するための支持体として、好適に使用することができる。   The polyester film of the present invention can be suitably used as a support for forming a film-like interlayer insulating material used for a multilayer printed wiring board produced by a build-up build-up method.

Claims (1)

層間絶縁層を形成する熱硬化性樹脂を塗布するための支持体として使用されるポリエステルフィルムであって、当該ポリエステルフィルムの片面の中心線平均粗さ(Ra)が20〜60nmであり、厚さが20〜100μmであることを特徴とする層間絶縁材料形成用支持体。 A polyester film used as a support for applying a thermosetting resin for forming an interlayer insulating layer, the center line average roughness (Ra) on one side of the polyester film being 20 to 60 nm, and having a thickness Is a support for forming an interlayer insulating material, characterized by being 20 to 100 μm.
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