KR20180098464A - 고압 고온 퍼지가 가능한 가스공급 장치의 퍼지 시스템 - Google Patents
고압 고온 퍼지가 가능한 가스공급 장치의 퍼지 시스템 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명에 의해, 기존과 같이 저압의 퍼지 가스가 공급되는 라인에 더하여 고압의 퍼지 가스가 공급되는 라인을 추가하여 선택적으로 저압 가스를 이용한 퍼지 및 고압 가스를 이용한 퍼지가 가능하게 하여 고압의 가스를 통해 불순물을 용이하게 제거하고 부식이 덜 발생할 수 있고 퍼지라인의 후단에 퍼지가스를 가열하는 히터가 설치됨으로써 단순 고압 가스로의 퍼지만 가능한 게 아니라 고온의 퍼지 가스를 제공하여 가스배관이나 밸브에 달라붙은 불순물의 제거 및 배관 내 수분 제거가 용이해질 수 있게 되며, 부식성 가스와 수분의 반응을 억제하고, 더불어 퍼지라인의 후단에는 진공발생기가 설치됨으로써 선택적으로 상압 및 진공 퍼지가 가능하게 하여 퍼지 효과를 극대화시킬 수 있게 된다.
Description
도 2는 특허문헌 1의 퍼지 시스템을 나타낸 도면.
도 3 내지 8은 본 발명의 가스공급 장치의 퍼지 시스템의 실시예를 나타낸 도면.
300 : 저압퍼지라인
400 : 고압퍼지라인
410 : 가스 캐비넷
AV1A, AV1B, AV7, AV11A, AV11B, AV7, AV9, AV15, AV16 : 퍼지 밸브
AV4A, AV4B, AV5A, AV5B : 배기 밸브
CV1, CV6 : 역류방지 밸브
VG : 진공 발생기
VT : 진공펌프
Claims (6)
- 반응가스가 공급되는 가스공급 라인에서 진공가스의 공급을 제어하는 진공 밸브와, 상기 진공밸브와 배기구 사이에 설치되고, 상기 진공 밸브를 통해 공급되는 상기 진공가스에 의해 상기 가스공급라인을 진공상태로 만드는 진공 발생기(VG)와, 퍼지가스의 공급을 제어하는 복수의 퍼지 밸브와, 상기 반응가스가 충진되는 실린더와, 상기 실린더에 연결되고, 상기 복수의 퍼지 밸브에 연결되어 상기 반응가스 및 상기 퍼지가스를 배기하는 배기밸브와, 상기 배기 밸브와 상기 진공 발생기 사이에 설치되고, 상기 반응가스 및 상기 퍼지가스의 배기를 제어하는 배기제어 밸브를 포함한 가스공급 장치의 퍼지 시스템에 있어서,
상기 퍼지가스가 공급되는 퍼지라인은,
일측은 가스공급 라인과 연결되며, 타측은 저압의 퍼지가스가 공급되는 저압퍼지라인(300)으로 구성되어 있고,
상기 저압퍼지라인(300)에는 각각 역류방지밸브 및 퍼지밸브가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는,
가스공급 장치의 퍼지 시스템. - 반응가스가 공급되는 가스공급 라인에서 진공가스의 공급을 제어하는 진공 밸브와, 상기 진공밸브와 배기구 사이에 설치되고, 상기 진공 밸브를 통해 공급되는 상기 진공가스에 의해 상기 가스공급라인을 진공상태로 만드는 진공 발생기와, 퍼지가스의 공급을 제어하는 복수의 퍼지 밸브와, 상기 반응가스가 충진되는 실린더와, 상기 실린더에 연결되고, 상기 복수의 퍼지 밸브에 연결되어 상기 반응가스 및 상기 퍼지가스를 배기하는 배기밸브와, 상기 배기 밸브와 상기 진공 발생기 사이에 설치되고, 상기 반응가스 및 상기 퍼지가스의 배기를 제어하는 배기제어 밸브를 포함한 가스공급 장치의 퍼지 시스템에 있어서,
상기 퍼지가스가 공급되는 퍼지라인은,
일측은 가스공급 라인과 연결되며, 타측은 저압의 퍼지가스가 공급되는 저압퍼지라인(300)과;
일측은 가스공급 라인과 연결되며, 타측은 고압의 퍼지가스가 공급되는 고압퍼지라인(400);으로 구성되어 있고,
상기 저압퍼지라인(300)과 고압퍼지라인(400)에는 각각 역류방지밸브 및 퍼지밸브가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는,
가스공급 장치의 퍼지 시스템. - 제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 퍼지라인에는 공급되는 퍼지가스를 가열하는 히터(APU)가 설치되어 있는 것을 특징으로 하는,
가스공급 장치의 퍼지 시스템. - 제 3항에 있어서,
히터(APU)가 저압퍼지라인(300)과 고압퍼지라인(400)이 합쳐진 라인상에 설되어 있는 것을 특징으로 하는
가스공급 장치의 퍼지 시스템. - 제 3항에 있어서,
히터(APU)가 저압퍼지라인(300)에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는
가스공급 장치의 퍼지 시스템. - 제 1항 내지 제 2항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 퍼지라인의 후단부에는 진공발생기(VG) 또는 진공펌프(VT)가 설치되어 선택적으로 진공 또는 상압 상태로 고압 퍼지가스를 이용한 퍼지가 가능한 것을 특징으로 하는,
가스공급 장치의 퍼지 시스템.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR1020170025141A KR101932055B1 (ko) | 2017-02-25 | 2017-02-25 | 고압 고온 퍼지가 가능한 가스공급 장치의 퍼지 시스템 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| KR101932055B1 KR101932055B1 (ko) | 2018-12-26 |
Family
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Family Applications (1)
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| KR1020170025141A Active KR101932055B1 (ko) | 2017-02-25 | 2017-02-25 | 고압 고온 퍼지가 가능한 가스공급 장치의 퍼지 시스템 |
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| Country | Link |
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| KR (1) | KR101932055B1 (ko) |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| PA0109 | Patent application |
St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109 |
|
| PA0201 | Request for examination |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201 |
|
| D13-X000 | Search requested |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000 |
|
| D14-X000 | Search report completed |
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| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902 |
|
| T11-X000 | Administrative time limit extension requested |
St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| R15-X000 | Change to inventor requested |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R15-oth-X000 |
|
| R16-X000 | Change to inventor recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R16-oth-X000 |
|
| E13-X000 | Pre-grant limitation requested |
St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000 |
|
| P11-X000 | Amendment of application requested |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000 |
|
| P13-X000 | Application amended |
St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000 |
|
| N231 | Notification of change of applicant | ||
| PN2301 | Change of applicant |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R13-asn-PN2301 St.27 status event code: A-3-3-R10-R11-asn-PN2301 |
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| R18-X000 | Changes to party contact information recorded |
St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000 |
|
| PG1501 | Laying open of application |
St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501 |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
St.27 status event code: A-1-2-D10-D22-exm-PE0701 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
St.27 status event code: A-2-4-F10-F11-exm-PR0701 |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
St.27 status event code: A-2-2-U10-U11-oth-PR1002 Fee payment year number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration |
St.27 status event code: A-4-4-Q10-Q13-nap-PG1601 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 4 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 5 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 6 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
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|
| PR1001 | Payment of annual fee |
St.27 status event code: A-4-4-U10-U11-oth-PR1001 Fee payment year number: 8 |
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| U11 | Full renewal or maintenance fee paid |
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