KR102132492B1 - 가스공급 장치의 가스공급 시스템 - Google Patents

가스공급 장치의 가스공급 시스템 Download PDF

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Abstract

반응가스가 충진된 실린더(100, 200), 상기 실린더를 통해 배출되는 반응가스를 공정 챔버(A)로 공급하기 위한 가스공급라인(L1, L2), 상기 가스공급라인(L1, L2)에서 진공가스의 공급을 제어하는 진공 밸브(AV8), 진공을 발생시키는 진공 발생기, 상기 가스공급라인(L1, L2)에 설치되는 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV1B, AV11A, AV11B), 공정 밸브(AV2A, AV3A, AV12A, AV12B) 및 배기 밸브(AV5A)를 포함하는 가스공급 장치의 가스공급 시스템에 있어서, 상기 실린더(100, 200)는 반응가스를 각각 배출하는 제1실린더(100) 및 제2실린더(200)를 포함하며, 상기 가스공급라인(L1, L2)은 상기 제1실린더(100)를 통해 배출되는 반응가스를 공급하기 위한 제1가스공급라인(L1), 상기 제2실린더(200)를 통해 배출되는 반응가스를 공급하기 위한 제2가스공급라인(L2)을 포함하며, 상기 제2가스공급라인(L2)은 상기 제1가스공급라인(L1)의 일측으로부터 분기되어 설치된다.

Description

가스공급 장치의 가스공급 시스템 {Gas supply system of gas supply device}
본 발명은 가스공급 장치의 가스공급 시스템에 관한 것이다.
반도체 웨이퍼 생산 공정으로 주로 CVD(Chemical Vapor Deposition, 화학기상증착), 사진(photo), 식각(etching) 등의 공정이 있다. 이러한 공정을 수행하기 위해서는 공정 챔버 내에 Cl2 및 HCl 등의 부식성이 강한 액화성 반응가스가 투입되어야만 한다. 이 반응가스는 실린더라 불리는 용기 내에 충진된 상태로 보관되며, 밸브의 작동에 의해 충진된 반응가스가 항상 일정한 압력으로 공정 챔버 내에 공급되거나 차단된다.
실린더에 충진된 반응가스를 계속 사용함에 따라 실린더 내에 충진된 반응가스의 양이 일정량 이하로 되면, 반도체 웨이퍼 제조공정에서 요구하는 압력의 반응가스를 공급하지 못하게 되므로 새로운 실린더를 교체하여 충분한 압력의 반응가스를 공급해주어야 한다.
반응가스가 공급되는 가스공급 장치에는 통상 한 쌍의 실린더가 설치되며, 하나의 실린더에 충진된 가스가 소진되면(또는, 반응가스의 압력이 낮아지면) 나머지 하나의 실린더에 충진된 가스를 사용하도록 밸브의 개폐상태가 제어된 후, 반응가스가 소진된 실린더를 교체하게 된다.
실린더의 교체 작업에는 가스가 공급되는 라인에 잔류하는 반응가스가 인체나 환경에 치명적인 악영향을 미치고, 잔류하는 반응가스로 인해 실린더 교체작업 중에 폭발사고 등이 발생할 우려가 있으므로, 라인의 잔류가스를 외부로 배출하는 배출과정(purge)이 수행된다.
도 1을 참조하여 종래의 가스공급 장치에 대해 설명하면, 다음과 같다.
먼저, 한 쌍의 실린더(100, 200)로부터 연결되는 라인은 동일한 구성을 갖는다. 또한, 한 쌍의 실린더(100, 200)는 어느 하나의 실린더가 사용 중일 경우에는 다른 하나의 실린더는 사용되지 않는다. 따라서 이하의 설명에서는 편의상 하나의 실린더(예를 들면, 100)에 대하여 설명하기로 하며, 다른 하나의 실린더(200)도 하나의 실린더(100)와 동일하게 구성되고 동작됨을 미리 밝혀둔다.
반응가스(Cl2, HCl 등)가 충진된 실린더(100)가 설치되며, 실린더(100)의 하부에는 실린더(100)의 하중을 측정하기 위한 저울(미도시)이 설치된다. 실린더(100)는 밸브 셔터(미도시, valve shutter)에 의해 개폐상태가 제어된다.
한 쌍의 공정 밸브(AV2A, AV3A) 및 이 공정 밸브들(AV2A, AV3A) 사이에 설치된 압력 조정기(REG1A)는 실린더(100)에서 배출되는 반응가스를 공정에 필요한 소정의 압력으로 조정하여 공정 챔버(A)로 공급하도록 설치된다.
복수의 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV11A)는 실린더(100)를 교체하고자 하여 종래 가스공급라인(L)을 퍼지하는 경우에 퍼지가스(D, N2)가 공급되도록 퍼지가스(D) 공급라인에 설치되며, 각각의 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV11A) 사이에는 퍼지가스(D) 및 반응가스의 역류를 방지하는 역류방지 밸브(CV1, CV2A)가 설치된다.
공정 밸브(AV12A)와 교차 연동되는 배기 밸브(AV5A)가 반응가스 혹은 퍼지가스(D)를 배기하도록 설치되는데, 배기 밸브(AV5A)가 개방상태이면 공정 밸브(AV12A)는 폐쇄상태가 되고, 배기 밸브(AV5A)가 폐쇄상태이면 공정 밸브(AV12A)는 개방상태가 된다.
배기 밸브(AV5A)의 후단에는 종래 가스공급라인(L)을 진공시키는 진공 발생기(미도시)가 설치되는데, 진공 발생기는 진공가스(V, N2) 공급라인과 배기장치 사이에 설치된다. 또한, 진공가스(V) 공급라인과 진공 발생기 사이에는 진공 밸브(AV8)가 설치되어 종래 가스공급라인(L)의 진공여부를 제어한다.
종래 가스공급라인(L)에는 소정 개수의 압력 측정기(PT)가 적소에 설치되며, 압력 측정기(PT)는 종래 가스공급라인(L)의 압력을 측정하여 그 결과를 표시한다. 또한, 가스공급라인(L)에는 소정 개수의 라인 필터(LF1A, LF2)가 설치된다. 공정 밸브(AV3)와 공정 챔버(A) 사이에는 수동 밸브(MV3A)가 설치되어 반응가스가 공정 챔버(A)에 공급되는 것을 최종적으로 제어한다.
퍼지 밸브들(AV1A, AV7, AV9, AV11A) 중 어느 하나의 밸브(예를 들면, AV9)는 트리클 밸브(trickle valve)로 구성하여 실린더(100)의 교체작업에서 실린더(100)측 종래 가스공급라인(L)을 통해 공기가 유입되는 것을 방지한다.
진공가스(V) 공급라인과 진공 발생기 사이에 설치되는 밸브(AV8)는 브리드 밸브로 구성하여 배기 밸브(AV5A)로부터 배기되는 미량의 반응가스 혹은 퍼지가스(D)에 의해 진공 발생기가 부식되는 것을 방지한다.
종래의 가스공급 장치는 공정작업 중에는 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV11A)가 폐쇄된 상태를 유지하며, 진공 밸브(AV8)도 폐쇄된다. 또한, 배기 밸브(AV5A)는 폐쇄되고 공정 밸브(AV12A)가 개방된 상태를 유지하여 실린더(100)에서 공급되는 반응가스는 공정 밸브(AV2A)와 압력 조정기(REG1A)와, 공정 밸브(AV3A)와, 수동 밸브(MV3A)를 거쳐 공정 챔버(A)에 공급된다.
실린더(100)를 교체하기 위해 종래 가스공급라인(L)을 퍼지하는 경우에는 공정 밸브(A12A)는 폐쇄되고, 배기 밸브(AV5A)는 개방되며, 진공 밸브(AV8)가 개방된다.
진공 밸브(AV8)가 개방되면 진공가스(V)가 진공 밸브(AV8)를 통해 진공 발생기에 공급되고, 진공 발생기가 작동하면서 종래 가스공급라인(L)을 진공상태로 만들어 배기 밸브(AV5A)를 통해 잔류 반응가스를 배기장치로 배출시킨다.
잔류 반응가스가 배출되어 진공상태가 유지되면 퍼지 밸브들(AV1A, AV7, AV9, A11A)을 모두 개방시켜 퍼지가스(D)를 공급하고, 퍼지가스(D)가 종래 가스공급라인(L)에 채워지면서 잔류하는 반응가스(밸브 및 압력 조정기 등과 반응하면서 액상으로 된 반응가스)가 퍼지가스(D)의 압력에 의해 배기된다. 이와 같은 과정을 수회(예를 들면, 300회 이상) 반복함으로써 종래 가스공급라인(L)을 퍼지한다.
하지만, 종래의 가스공급 장치는 한 쌍의 실린더(100, 200)는 어느 하나의 실린더가 사용 중일 경우에는 다른 하나의 실린더는 사용하지 않는 것이 일반적이므로, 가스공급라인이 개별적인 두 개의 가스공급라인으로 이루어져 있기 때문에 하나의 가스공급라인을 사용할 때에, 다른 가스공급라인의 수동밸브를 작업자가 수동으로 조작하여 개폐시켜야 하는 번거롭고 불편한 문제점이 있었다.
또한, 종래의 가스공급 장치는 한 쌍의 실린더와 연결된 한 쌍의 가스공급라인이 각각 별도로 설치되어야 하기 때문에 가스공급라인의 설치 및 운영에 소요되는 비용과 퍼지 가스를 공급하기 위해 소요되는 비용 부담이 큰 문제점이 있었다.
등록특허공보 제10-0863941호(공고일자 2008.10.16.)
본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위해 창작된 것으로써, 본 발명의 목적은 한 쌍의 실린더에 충진된 반응가스를 하나의 가스공급라인에서 분기되는 두 개의 가스공급라인을 통해 공정 챔버에 공급함으로써 작업성을 높일 수 있으면서, 가스공급라인의 설치 및 운영 비용을 절감할 수 있는 가스공급 장치의 가스공급 시스템을 제공하는데 있다.
본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템은, 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템은, 반응가스가 충진된 실린더(100, 200), 상기 실린더를 통해 배출되는 반응가스를 공정 챔버(A)로 공급하기 위한 가스공급라인(L1, L2), 상기 가스공급라인(L1, L2)에서 진공가스의 공급을 제어하는 진공 밸브(AV8), 진공을 발생시키는 진공 발생기, 상기 가스공급라인(L1, L2)에 설치되는 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV1B, AV11A, AV11B), 공정 밸브(AV2A, AV3A, AV12A, AV12B) 및 배기 밸브(AV5A)를 포함하는 가스공급 장치의 가스공급 시스템에 있어서, 상기 실린더(100, 200)는 반응가스를 각각 배출하는 제1실린더(100) 및 제2실린더(200)를 포함하며, 상기 가스공급라인(L1, L2)은 상기 제1실린더(100)를 통해 배출되는 반응가스를 공급하기 위한 제1가스공급라인(L1), 상기 제2실린더(200)를 통해 배출되는 반응가스를 공급하기 위한 제2가스공급라인(L2)을 포함하며, 상기 제2가스공급라인(L2)은 상기 제1가스공급라인(L1)의 일측으로부터 분기되어 설치된다.
본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템에 있어서, 상기 제1가스공급라인(L1)에는 압력 조정기(REG1A)가 설치되며, 상기 제1가스공급라인(L1) 상에서 상기 압력 조정기(REG1A)의 전단에 상기 제2가스공급라인(L2)이 분기될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템에 있어서, 상기 제1가스공급라인(L1)과 제2가스공급라인(L2)의 분기점은 상기 제1가스공급라인(L1) 상에서 상기 압력 조정기(REG1A)의 전단에 위치한 한 쌍의 공정 밸브(AV2A, AV12A) 사이에 위치할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템에 있어서, 상기 제2가스공급라인(L2)에는 제2실린더(200)에서 배출되는 반응가스를 상기 제1가스공급라인(L1)에 설치된 공정 밸브(AV2A) 측으로 공급하기 위한 자동 밸브(AV13AB)가 설치될 수 있다.
본 발명은 한 쌍의 실린더(100, 200)에 충진된 반응가스를 공정 챔버로 공급할 때에, 하나의 가스공급라인에 다른 가스공급라인이 분기되어 설치됨으로써 작업성을 높일 수 있으면서, 가스공급라인의 설치 및 운영 비용을 절감할 수 있다.
본 발명은 제2가스공급라인(L2)에 자동 밸브(AV13AB)를 설치하여 제1가스공급라인(L1) 및 제2가스공급라인(L2)의 작동을 자동으로 제어함으로써 가스공급 장치의 가스 자동공급 시스템을 제공할 수 있게 된다.
도1은 종래의 가스공급 장치의 가스공급 시스템을 도시한 구성도이다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템의 전체적인 구성도이다.
도3은 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템에서 제1가스공급라인 및 제2가스공급라인을 표현하기 위한 것이다.
이하, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 본 명세서의 설명 과정에서 이용되는 숫자는 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구분하기 위한 식별기호에 불과하다.
또한, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어는 사전적인 의미로 한정 해석되어서는 아니되며, 발명자는 자신의 발명을 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절히 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여, 본 발명의 기술적 사상에 부합되는 의미와 개념으로 해석되어야 한다.
따라서, 본 명세서에 기재된 실시예 및 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 표현하는 것은 아니므로, 본 출원 시점에 있어 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 존재할 수 있음을 이해하여야 한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 더 구체적으로 설명하되, 이미 주지되어진 기술적 부분에 대해서는 설명의 간결함을 위해 생략하거나 압축하기로 한다.
본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템은, 반응가스가 충진된 실린더(100, 200), 상기 실린더를 통해 배출되는 반응가스를 공정 챔버(A)로 공급하기 위한 가스공급라인(L1, L2), 상기 가스공급라인(L1, L2)에서 진공가스의 공급을 제어하는 진공 밸브(AV8), 진공을 발생시키는 진공 발생기, 상기 가스공급라인(L1, L2)에 설치되는 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV1B, AV11A, AV11B), 공정 밸브(AV2A, AV3A, AV12A, AV12B) 및 배기 밸브(AV5A)를 포함하는 가스공급 장치의 가스공급 시스템에 있어서, 상기 실린더(100, 200)는 반응가스를 각각 배출하는 제1실린더(100) 및 제2실린더(200)를 포함하며, 상기 가스공급라인(L1, L2)은 상기 제1실린더(100)를 통해 배출되는 반응가스를 공급하기 위한 제1가스공급라인(L1), 상기 제2실린더(200)를 통해 배출되는 반응가스를 공급하기 위한 제2가스공급라인(L2)을 포함하며, 상기 제2가스공급라인(L2)은 상기 제1가스공급라인(L1)의 일측으로부터 분기되어 설치된다.
본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템에 있어서, 상기 제1가스공급라인(L1)에는 압력 조정기(REG1A)가 설치되며, 상기 제1가스공급라인(L1) 상에서 상기 압력 조정기(REG1A)의 전단에 상기 제2가스공급라인(L2)이 분기될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템에 있어서, 상기 제1가스공급라인(L1)과 제2가스공급라인(L2)의 분기점은 상기 제1가스공급라인(L1) 상에서 상기 압력 조정기(REG1A)의 전단에 위치한 한 쌍의 공정 밸브(AV2A, AV12A) 사이에 위치할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템에 있어서, 상기 제2가스공급라인(L2)에는 제2실린더(200)에서 배출되는 반응가스를 상기 제1가스공급라인(L1)에 설치된 공정 밸브(AV2A) 측으로 공급하기 위한 자동 밸브(AV13AB)가 설치될 수 있다.
도2는 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템의 전체적인 구성도이며, 도3은 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템에서 제1가스공급라인 및 제2가스공급라인을 표현하기 위한 것이다.
이하에서는, 도2 및 도3을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템에서 제1가스공급라인 및 제2가스공급라인에 대해 상세하게 설명하도록 한다.
먼저, 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템에서 제1가스공급라인(L1)에 대해 설명하도록 한다.
반응가스(Cl2, HCl 등)가 충진된 제1실린더(100)가 설치되며, 제1실린더(100)는 밸브 셔터(미도시, valve shutter)에 의해 개폐상태가 제어된다.
한 쌍의 공정 밸브(AV2A, AV3A) 및 이 공정 밸브들(AV2A, AV3A) 사이에 설치된 압력 조정기(REG1A)는 제1실린더(100)에서 배출되는 반응가스를 공정에 필요한 소정의 압력으로 조정하여 공정 챔버(A)로 공급하도록 설치된다.
복수의 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV11A)는 제1실린더(100)를 교체하고자 하여 제1가스공급라인(L1)을 퍼지하는 경우에 퍼지가스(D, N2)가 공급되도록 퍼지가스(D) 공급라인에 설치되며, 각각의 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV11A) 사이에는 퍼지가스(D) 및 반응가스의 역류를 방지하는 역류방지 밸브(CV1, CV2A)가 설치된다.
공정 밸브(AV12A)와 교차 연동되는 배기 밸브(AV5A)가 반응가스 혹은 퍼지가스(D)를 배기하도록 설치되는데, 배기 밸브(AV5A)가 개방상태이면 공정 밸브(AV12A)는 폐쇄상태가 되고, 배기 밸브(AV5A)가 폐쇄상태이면 공정 밸브(AV12A)는 개방상태가 된다.
배기 밸브(AV5A)의 후단에는 제1가스공급라인(L1)을 진공시키는 진공 발생기(미도시)가 설치되는데, 진공 발생기는 진공가스(V, N2) 공급라인과 배기장치 사이에 설치된다. 또한, 진공가스(V) 공급라인과 진공 발생기 사이에는 진공 밸브(AV8)가 설치되어 제1가스공급라인(L1)의 진공여부를 제어한다.
제1가스공급라인(L1)에는 소정 개수의 압력 측정기(PT)가 적소에 설치되며, 압력 측정기(PT)는 가스공급라인(L)의 압력을 측정하여 그 결과를 표시한다. 또한, 가스공급라인(L)에는 소정 개수의 라인 필터(LF1A, LF2)가 설치된다. 공정 밸브(AV3)와 공정 챔버(A) 사이에는 수동 밸브(MV3A)가 설치되어 반응가스가 공정 챔버(A)에 공급되는 것을 최종적으로 제어한다.
퍼지 밸브들(AV1A, AV7, AV9, AV11A) 중 어느 하나의 밸브(예를 들면, AV9)는 트리클 밸브(trickle valve)로 구성하여 제1실린더(100)의 교체작업에서 제1실린더(100)측 제1가스공급라인(L1)을 통해 공기가 유입되는 것을 방지한다.
진공가스(V) 공급라인과 진공 발생기 사이에 설치되는 밸브(AV8)는 브리드 밸브로 구성하여 배기 밸브(AV5A)로부터 배기되는 미량의 반응가스 혹은 퍼지가스(D)에 의해 진공 발생기가 부식되는 것을 방지한다.
종래의 가스공급 장치는 공정작업 중에는 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV11A)가 폐쇄된 상태를 유지하며, 진공 밸브(AV8)도 폐쇄된다. 또한, 배기 밸브(AV5A)는 폐쇄되고 공정 밸브(AV12A)가 개방된 상태를 유지하여 제1실린더(100)에서 공급되는 반응가스는 공정 밸브(AV2A)와 압력 조정기(REG1A)와, 공정 밸브(AV3A)와, 수동 밸브(MV3A)를 거쳐 공정 챔버(A)에 공급된다.
제1실린더(100)를 교체하기 위해 제1가스공급라인(L1)을 퍼지하는 경우에는 공정 밸브(A12A)는 폐쇄되고, 배기 밸브(AV5A)는 개방되며, 진공 밸브(AV8)가 개방된다.
진공 밸브(AV8)가 개방되면 진공가스(V)가 진공 밸브(AV8)를 통해 진공 발생기에 공급되고, 진공 발생기가 작동하면서 제1가스공급라인(L1)을 진공상태로 만들어 배기 밸브(AV5A)를 통해 잔류 반응가스를 배기장치로 배출시킨다.
잔류 반응가스가 배출되어 진공상태가 유지되면 퍼지 밸브들(AV1A, AV7, AV9, A11A)을 모두 개방시켜 퍼지가스(D)를 공급하고, 퍼지가스(D)가 제1가스공급라인(L1)에 채워지면서 잔류하는 반응가스(밸브 및 압력 조정기 등과 반응하면서 액상으로 된 반응가스)가 퍼지가스(D)의 압력에 의해 배기된다. 이와 같은 과정을 수회(예를 들면, 300회 이상) 반복함으로써 제1가스공급라인(L1)을 퍼지한다.
한편, 본 발명의 실시예에 따른 가스공급 장치의 가스공급 시스템에서 제2가스공급라인(L2)에 대해 설명하도록 한다.
반응가스가 충진된 제2실린더(200)가 설치되며, 제1실린더(100)는 밸브 셔터(미도시, valve shutter)에 의해 개폐상태가 제어된다.
도3을 참조하면, 제2실린더(200)를 통해 배출되는 반응가스는 공정 밸브(AV12B)를 거쳐 제1가스공급라인(L1)에 설치된 공정 밸브(AV2A) 측으로 공급될 수 있다. 이렇게 공급된 반응가스는 제1가스공급라인(L1)과 동일한 과정을 거쳐 공정 챔버(A)에 공급될 수 있다.
또한, 제1가스공급라인(L1)와 제2가스공급라인(L2)의 개별적인 가스공급이 이루어지도록 제2가스공급라인(L2)에는 상기 제1가스공급라인(L1)에 설치된 공정 밸브(AV2A) 측으로 공급하기 위한 자동 밸브(AV13AB)가 설치될 수 있다.
이에 따라, 본 발명은 제2실린더(200)를 통해 배출되는 가스를 공정 챔버(A)에 공급하기 위해 종래의 수동 밸브(MV3B)를 이용하여 수동으로 개폐작업을 해야하는 번거로운 불편한 문제점이 해결될 수 있어 작업성을 높일 수 있게 된다.
즉, 본 발명은 제2가스공급라인(L2)에 자동 밸브(AV13AB)를 설치하여 제1가스공급라인(L1) 및 제2가스공급라인(L2)의 작동을 자동으로 제어함으로써 가스공급 장치의 가스 자동공급 시스템을 제공할 수 있게 된다.
또한, 본 발명은 종래의 제2실린더(200)를 통해 배출되는 가스를 공정 챔버(A)에 공급하기 위해 사용되던 공정 밸브(AV2B, AV3B) 및 압력 조정기(REG1B)에 대한 사용이 필요 없게 되어 이 장비들을 운영하기 위한 비용을 절감할 수 있으므로, 작업성을 더욱 높일 수 있게 된다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 대한 구체적인 설명은 실시예에 의해서 이루어졌지만, 상술한 실시예는 본 발명의 바람직한 예를 들어 설명하였을 뿐이기 때문에, 본 발명이 상기의 실시예에만 국한되는 것으로 이해되어져서는 아니 되며, 본 발명의 권리범위는 후술하는 청구범위 및 그 등가개념으로 이해되어져야 할 것이다.
100, 200 : 실린더
AV8 : 진공 밸브
AV1A, AV7, AV9, AV1B, AV11A, AV11B : 퍼지 밸브
AV5A, AV5B, AV13AB, MV3A : 배기 밸브
CV1, CV2A, CV2B : 역류방지 밸브
AV2A, AV3A, AV12A, AV12B, AV2B, AV3B : 공정 밸브
AV5A, AV5B : 배기 밸브
MV3A, MV3B : 수동밸브
AV13AB : 자동밸브
L : 종래 가스공급라인
L1 : 제1가스공급라인
L2 : 제2가스공급라인
REG1A, REG1B : 압력 조정기
PT : 압력 측정기
LF1A, LF1B, LF2 : 필터

Claims (4)

  1. 반응가스가 충진된 실린더(100, 200), 상기 실린더를 통해 배출되는 반응가스를 공정 챔버(A)로 공급하기 위한 가스공급라인(L1, L2), 상기 가스공급라인(L1, L2)에서 진공가스의 공급을 제어하는 진공 밸브(AV8), 진공을 발생시키는 진공 발생기, 상기 가스공급라인(L1, L2)에 설치되는 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV1B, AV11A, AV11B), 공정 밸브(AV2A, AV3A, AV12A, AV12B) 및 배기 밸브(AV5A)를 포함하는 가스공급 장치의 가스공급 시스템에 있어서,
    상기 실린더(100, 200)는 반응가스를 각각 배출하는 제1실린더(100) 및 제2실린더(200)를 포함하며,
    상기 가스공급라인(L1, L2)은 상기 제1실린더(100)를 통해 배출되는 반응가스를 공급하기 위한 제1가스공급라인(L1), 상기 제2실린더(200)를 통해 배출되는 반응가스를 공급하기 위한 제2가스공급라인(L2)을 포함하며,
    상기 제2가스공급라인(L2)은 상기 제1가스공급라인(L1)의 일측으로부터 분기되어 설치되며,
    상기 제1가스공급라인(L1)에는 압력 조정기(REG1A)가 설치되며,
    상기 제1가스공급라인(L1) 상에서 상기 압력 조정기(REG1A)의 전단에 상기 제2가스공급라인(L2)이 분기되며, 상기 제1가스공급라인(L1)과 제2가스공급라인(L2)의 분기점은 상기 제1가스공급라인(L1) 상에서 상기 압력 조정기(REG1A)의 전단에 위치한 한 쌍의 공정 밸브(AV2A, AV12A) 사이에 위치하며,
    상기 제1실린더(100)의 교체가 필요할 경우, 제1가스공급라인(L1)을 퍼지하기 위해 상기 제1가스공급라인(L1) 상에서 상기 제1가스공급라인(L1)과 제2가스공급라인(L2)의 분기점 전단에 설치된 상기 공정 밸브(AV12A)를 폐쇄하고, 상기 진공 밸브(AV8)의 개방을 통해 상기 진공 발생기에 진공가스(V)를 공급하여 상기 진공 발생기를 작동시킴으로써 상기 제1가스공급라인(L1)을 진공상태로 만들고, 상기 배기 밸브(AV5A)를 개방하여 상기 제1가스공급라인(L1) 상의 잔류 반응가스를 배기장치로 배출시킨 뒤, 상기 제1가스공급라인(L1)에 설치된 퍼지 밸브(AV1A, AV7, AV9, AV11A) 모두를 개방시켜 상기 제1가스공급라인(L1)에 퍼지가스(D)를 공급하여 상기 제1가스공급라인(L1)에 채워지는 퍼지가스(D)에 의해서 액상의 잔류 반응가스가 배기되도록 하는 과정을 300회 이상 반복 진행하는 제1가스공급라인(L1)의 퍼지 과정을 수행하기 위해 상기 제1가스공급라인(L1) 상에 분기되어 상기 배기 밸브(AV5A)와 상기 진공 밸브(AV8)가 설치되는 라인의 분기점은 상기 제1가스공급라인(L1)과 제2가스공급라인(L2)의 분기점 전단에 설치된 상기 공정 밸브(AV12A)의 전단에 형성되며,
    상기 제2가스공급라인(L2)에는 제2실린더(200)에서 배출되는 반응가스를 상기 제1가스공급라인(L1)에 설치된 공정 밸브(AV2A) 측으로 공급하기 위한 자동 밸브(AV13AB)가 설치되는 것을 특징으로 하는
    가스공급 장치의 가스공급 시스템.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010028263A (ko) * 1999-09-20 2001-04-06 윤종용 케미컬 공급시스템
KR20010037602A (ko) * 1999-10-19 2001-05-15 윤종용 가스 공급시스템
KR20080021261A (ko) * 2006-09-01 2008-03-07 삼성전자주식회사 가스공급전환부를 갖는 반도체 제조설비용 가스공급시스템및 이를 사용한 가스공급전환방법
KR100863941B1 (ko) 2007-05-17 2008-10-16 주식회사 아토 가스공급 장치의 퍼지 시스템 및 방법
KR20180098464A (ko) * 2017-02-25 2018-09-04 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨 고압 고온 퍼지가 가능한 가스공급 장치의 퍼지 시스템

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010028263A (ko) * 1999-09-20 2001-04-06 윤종용 케미컬 공급시스템
KR20010037602A (ko) * 1999-10-19 2001-05-15 윤종용 가스 공급시스템
KR20080021261A (ko) * 2006-09-01 2008-03-07 삼성전자주식회사 가스공급전환부를 갖는 반도체 제조설비용 가스공급시스템및 이를 사용한 가스공급전환방법
KR100863941B1 (ko) 2007-05-17 2008-10-16 주식회사 아토 가스공급 장치의 퍼지 시스템 및 방법
KR20180098464A (ko) * 2017-02-25 2018-09-04 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨 고압 고온 퍼지가 가능한 가스공급 장치의 퍼지 시스템
KR101932055B1 (ko) * 2017-02-25 2018-12-26 버슘머트리얼즈 유에스, 엘엘씨 고압 고온 퍼지가 가능한 가스공급 장치의 퍼지 시스템

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