KR20180063246A - 지문 인식 장치, 방법, 프로그램 및 기록매체 - Google Patents

지문 인식 장치, 방법, 프로그램 및 기록매체 Download PDF

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촨순 지
강 왕
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베이징 시아오미 모바일 소프트웨어 컴퍼니 리미티드
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Abstract

본 발명은 지문 인식 장치 및 방법에 관한 것으로, 정보 기술 분야에 속한다. 상기 지문 인식 장치는 지문 센서(101), 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102) 및 프로세싱 모듈(103)을 포함하고; 지문 센서(101)와 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102)은 모두 프로세싱 모듈(103)과 연결되며, 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102)은 상기 지문 센서에서 미리 설정한 범위 내에 위치하고; 사용자의 손가락이 지문 센서(101)와 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102)과 접촉 시, 지문 센서(101)는 프로세싱 모듈(103)로 지문 신호를 출력하는데 사용되며； 프로세싱 모듈(103)은 특징 값을 획득하는데 사용되고, 특징 값과 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102) 사이의 임피던스 값은 양의 상관 관계이며; 프로세싱 모듈(103)은 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하고, 확정한 지문 인식 파라미터와 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하는데 사용된다. 상기 지문 인식 장치에 따르면 적용된 지문 인식 파리미터와 사용자의 손가락의 습도의 매칭을 확보할 수 있어, 지문 인식의 성능을 향상시켰고, 지문 인식의 정확도를 향상시켰으며, 지문 이미지를 여러번 획득할 필요가 없기에, 시간을 단축시켰다.

Description

지문 인식 장치 및 방법
본 발명은 정보 기술 분야에 관한 것으로, 구체적으로 지문 인식 장치 및 방법에 관한 것이다.
본 출원은 출원번호가 201610511858.3이고, 출원일이 2016년 06월 30일자인 중국특허출원을 기초로 우선권을 주장하고, 해당 중국특허출원의 전체 내용은 본원 발명에 원용된다.
지문은 평생 변하지 않는 불변성과 유일성을 가지고 있으며, 사용자마다 지문이 서로 다르기 때문에, 정보 기술의 지속적인 발전에 따라, 지문 인식 기술이 널리 사용되고 있고, 통상적으로 신분 인증 등의 다양한 분야에 사용되고 있다.
일반적으로 지문 인식 장치는 지문 센서와 프로세싱 모듈을 포함하고, 사용자의 손가락이 해당 지문 센서와 접촉 시, 지문 센서는 손가락의 텍스처 특징에 따라 지문 신호를 획득하여 프로세싱 모듈로 송신한다. 프로세싱 모듈은 상기 지문 신호에 따라 지문 이미지를 생성하고, 상기 지문 이미지에 대하여 특징을 추출하며, 추출한 특징 정보를 미리 저장한 특징 정보와 비교하여 지문 인식을 실현한다.
관련 기술에 존재하는 문제를 해결하기 위해, 본 발명에서는 지문 인식 장치 및 방법을 제공한다.
상기 기술 방안은 다음과 같다.
본 발명의 제 1 양태에 따르면,
지문 센서, 적어도 두 개의 습도 검출 전극 및 프로세싱 모듈을 포함하고;
상기 지문 센서는 상기 프로세싱 모듈과 연결되고, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극은 상기 프로세싱 모듈과 연결되며, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극은 상기 지문 센서에서 미리 설정한 범위 내에 위치하고;
상기 지문 센서는 사용자의 손가락이 상기 지문 센서와 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극과 접촉 시, 상기 프로세싱 모듈에 지문 신호를 출력하는데 사용되고;
상기 프로세싱 모듈은 사용자의 손가락이 상기 지문 센서와 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극과 접촉 시, 특징 값을 획득하는데 사용되고, 상기 특징 값과 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극 사이의 임피던스 값은 양의 상관(positive correlation) 관계를 가지고；
상기 프로세싱 모듈은 또한 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하고, 확정한 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하는데 사용되는 지문 인식 장치를 제공한다.
또 다른 실시예에서 상기 지문 인식 장치는 임피던스 검출 회로를 포함하고, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극은 상기 임피던스 검출 회로의 적어도 두 개의 입력 포트와 연결되며;
상기 임피던스 검출 회로는 사용자의 손가락이 상기 지문 센서와 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극과 접촉 시, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극 사이의 임피던스 값에 따라 상기 특징 값을 출력한다.
또 다른 실시예에서 상기 지문 센서에는 금속 링이 설치되어 있고, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극은 상기 금속 링에 위치한다.
또 다른 실시예에서 상기 프로세싱 모듈은 미리 설정한 매칭관계에 따라 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는데 사용되고, 상기 미리 설정한 매칭 관계는 각 특징 값과 매칭되는 적어도 하나의 지문 인식 파라미터를 포함한다.
또 다른 실시예에서 상기 프로세싱 모듈은 또한 상기 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 이미지를 생성하고, 상기 지문 이미지에 대하여 특징을 추출하여 특징 정보를 획득하며, 상기 추출한 특징 정보를 미리 저장한 특징 정보와 비교하는데 사용된다.
또 다른 실시예에서 상기 지문 인식 파라미터는 아날로그-디지털 변환기ADC의 이득, 작동 범위 및 구동 전압 중의 적어도 하나를 포함한다.
또 다른 실시예에서 상기 지문 인식 파라미터는 스캔 주파수, 피크-신호(peak-signal) 조정 계수 및 골짜기-신호(trough-signal) 조정 계수 중의 적어도 하나를 포함하며，상기 피크-신호 조정 계수는 획득한 피크-신호를 조정 할 때 적용하는 계수를 가리키고, 상기 골짜기-신호 조정 계수는 획득한 골짜기-신호를 조정 할 때 적용하는 계수를 가리킨다.
본 발명에 따른 실시예의 제2양태에 따르면,
지문 센서, 적어도 두 개의 습도 검출 전극 및 프로세싱 모듈을 포함하는 지문 인식 장치에 적용되는 지문 인식 방법에 있어서,
사용자의 손가락이 상기 지문 센서와 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극과 접촉 시, 특징 값을 획득하고, 또한 지문 신호를 획득하며, 상기 특징 값과 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극 사이의 임피던스 값은 양의 상관관계인 단계;
상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는 단계;
확정한 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하는 단계;
를 포함하는 지문 인식 방법을 제공한다.
또 다른 실시예에서 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는 단계는 미리 설정한 매칭 관계에 따라 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는 단계를 포함하고, 상기 미리 설정한 매칭 관계는 각 특징 값과 매칭되는 적어도 하나의 지문 인식 파라미터를 포함한다.
또 다른 실시예에서 상기 확정한 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하는 단계는,
상기 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 이미지를 생성하는 단계;
상기 지문 이미지에 대하여 특징을 추출하여 특징 정보를 획득하는 단계;
상기 특징 정보를 미리 저장한 특징 정보와 비교하는 단계;
를 포함한다.
또 다른 실시예에서 상기 지문 인식 파라미터는 아날로그-디지털 변환기ADC의 이득, 작동 범위 및 구동 전압 중의 적어도 하나를 포함한다.
또 다른 실시예에서 상기 지문 인식 파라미터는 스캔 주파수, 피크-신호 조정 계수 및 골짜기-신호 조정 계수 중의 적어도 하나를 포함하고, 상기 피크-신호 조정 계수는 지문 인식을 진행 할 때, 피크-신호를 조정할 때에 적용하는 계수를 가리키고, 상기 골짜기-신호 조정 계수는 지문 인식을 진행 할 때, 골짜기-신호를 조정할 때에 적용하는 계수를 가리킨다.
본 발명이 제공한 기술 방안에 따르면 하기와 같은 기술 효과를 가져올 수 있다.
본 실시예에서 제공한 장치 및 방법은 사용자의 손가락의 습도가 지문 인식에 대한 영향을 고려하여 적어도 두 개의 습도 검출 전극 사이의 임피던스 값과 양의 상관 관계를 가지는 특징 값을 획득하는 것을 통하여, 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하고, 확정한 지문 인식 파라미터와 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하여 적용된 지문 인식 파리미터와 사용자의 손가락의 습도의 매칭을 보장할 수 있어, 지문 인식 성능을 높이고, 지문 인식의 정확도를 향상시켰다.
상기 일반적인 서술 및 하기 세부적인 서술은 단지 예시적인 설명이며, 본 발명을 한정하지는 않는 것으로 이해되어야 한다.
하기의 도면은 명세서에 병합되어 본 명세서의 일부를 구성하고 본 발명에 부합하는 실시예를 표시하며 명세서와 함께 본 발명의 원리를 해석한다.
도1은 일 실시예에 따른 지문 인식 장치를 나타내는 블록도이다.
도2는 일 실시예에 따른 지문 인식 장치를 나타내는 블록도이다.
도3은 일 실시예에 따른 임피던스 검출 회로의 구조를 나타내는 개략도이다.
도4는 일 실시예에 따른 습도 검출 전극을 나타내는 개략도이다.
도5는 일 실시예에 따른 핸드폰 버튼을 나타내는 개략도이다.
도6은 일 실시예에 따른 지문 인식 방법을 나타내는 흐름도이다.
도7은 일 실시예에 따른 지문 인식 장치를 나타내는 블록도이다.
본 발명의 목적, 기술방안 및 장점을 더 명백하게 하기 위해, 하기에서는 실시방식과 도면을 결합하여 본 발명에 대해 더 상세하게 설명한다. 여기서, 본 발명의 예시적인 실시방식 및 그 설명은 본 발명을 해석하기 위한 것일 뿐 본 발명을 한정하려는 것이 아니다.
본 발명에 따른 실시예에서는 지문 인식 장치 및 방법을 제공하며, 이하에서는 도면을 결합하여 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.
도1은 일 실시예에 따른 지문 인식 장치를 나타내는 블록도이다. 상기 지문 인식 장치는 지문 인식 기능을 실현 할 수 있는 장치이고，핸드폰, 태블릿PC 및 액세스 제어 기기 등 다양한 기기에 적용될 수 있으며, 본 실시예에서는 이에 대해 한정하지 않는다.
도1에서 도시된 바와 같이, 상기 장치는 지문 센서(101), 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102) 및 프로세싱 모듈(103)을 포함한다.
여기서 상기 지문 센서(101)는 상기 프로세싱 모듈(103)과 연결되고, 사용자의 손가락이 상기 지문 센서와 접촉 시, 상기 지문 센서(101)는 프로세싱 모듈(103)로 지문 신호를 출력 할 수 있고, 프로세싱 모듈(103)은 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행할 수 있다.
도2를 참조하면, 상기 프로세싱 모듈(103)은 지문 인식 칩과 프로세서를 포함할 수 있고, 상기 프로세서는 중앙 프로세서 또는 프로세싱 기능을 구비한 다른 장치일 수 있다. 상기 지문 인식 칩은 프로세서와 연결되고, 상기 지문 인식 칩은 상기 지문 센서를 제어하며, 상기 지문 센서를 통하여 사용자의 손가락을 스캔하여, 지문 신호를 획득한 후, 상기 지문 인식 칩은 지문 신호를 프로세서로 송신하여 프로세서를 통해 상기 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행한다.
상기 지문 센서(101)는 사용자의 손가락이 상기 지문 센서(101)와 접촉 할 수 있도록 지문 인식 장치의 케이스 표면에 배치된다. 그리고 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102)도 지문 인식 장치의 케이스 표면에 위치하며, 상기 지문 센서(101)에서 미리 설정한 범위 내에 위치한다. 즉 상기 지문 센서(101)의 주변에 위치한다. 사용자의 손가락이 상기 지문 센서(101)와 접촉 시, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102)과도 접촉 할 수 있다.
여기서, 상기 미리 설정한 범위는 상기 지문 센서(101)를 중심으로 하는 미리 설정한 거리 이내일 수 있고, 상기 미리 설정한 거리는 일반적인 사용자의 손가락의 크기에 따라 확정될 수 있다. 상기 미리 설정한 범위의 형상은 직사각형, 원형 등 다양한 형상일 수 있으며， 사용자의 손가락이 상기 지문 센서(101)와 접촉 시, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102)과 접촉 할 수 있는것만 확보하면 된다.
또한 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102)은 상기 프로세싱 모듈(103)과 연결되고, 사용자의 손가락의 습도를 검출하는데 사용된다. 사용자의 손가락이 적어도 두 개의 습도 검출 전극과 접촉 시, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극 사이에 임피던스가 발생되고, 임피던스 값은 사용자의 손가락의 습도에 따라 확정한다. 이때 상기 프로세싱 모듈(103)은 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102) 사이의 임피던스 값을 표시하는데 사용되는 특징 값을 획득 할 수 있고, 상기 특징 값은 상기 임피던스 값과 양의 상관 관계를 가진다. 따라서 상기 특징 값은 사용자의 손가락의 건습정도를 표시 할 수도 있고, 사용자의 손가락의 습도가 클수록 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102) 사이의 임피던스 값이 작고，상기 특징 값이 작으며，사용자의 손가락의 습도가 작을수록 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102) 사이의 임피던스 값이 크고, 상기 특징 값이 크다.
본 실시예에서 사용자의 손가락이 상기 지문 센서(101)와 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102)과 접촉 시, 상기 지문 센서(101)에서 프로세싱 모듈(103)로 지문 신호를 출력한다. 상기 프로세싱 모듈(103)은 상기 지문 센서(101)에서 출력한 지문 신호를 획득하고, 상기 특징 값을 획득하여 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하며, 확정한 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행한다.
상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는 것은 지문 인식을 진행하는 과정에서 하나 또는 복수의 지문 인식 파라미터를 적용해야 하고, 또한 각 지문 인식 파라미터는 조절 할 수 있기 때문이다. 사용자의 손가락의 습도가 주어진 상황에서 임의의 하나의 지문 인식 파라미터에 대하여, 지문 인식 파라미터의 값이 다를 때, 지문 인식 성능에 영향을 끼쳐 지문 인식의 정확도가 다를 수 있다. 본 실시예에서는 지문 인식 성능을 향상시키기 위해 각 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터, 즉, 부동한 사용자의 손가락의 습도의 조건에서 적용하게 되는 지문 인식 파라미터를 미리 확정하여, 특징 값을 획득 할 때, 상기 특징 값과 매칭되는 하나 또는 복수의 지문 인식 파라미터를 확정한다. 확정한 지문 인식 파라미터는 사용자의 손가락의 습도와 적응하는 지문 인식 파라미터로 볼 수 있고, 확정한 지문 인식 파라미터로 지문 인식을 진행 할 때, 지문 인식 성능의 최적화를 확보 할 수 있다.
통상적으로 관련 기술에서는 지문 인식 성능에 대한 사용자의 손가락의 습도의 영향을 고려하지 않고, 다만 지문 신호에 따라 지문 이미지를 획득하며, 지문 이미지가 지문 인식의 선명도의 요구를 만족하지 못하면 지문 인식 파라미터를 조정한 후, 다시 지문 이미지를 획득하고, 획득한 지문 이미지가 지문 인식의 선명도의 요구를 만족 할 수 있을 때 정지된다. 이러한 과정에서 여러번 반복적으로 지문 이미지를 획득하여야 하고, 지문 인식의 처리 시간이 길어지며, 또한 최종 획득한 지문 이미지는 지문 인식의 선명도만 만족 할 수 있어, 지문 인식의 실현을 확보 할 수는 있지만 지문 인식의 성능을 최적화시키지는 못한다.
본 실시예에서 제공한 장치는 지문 인식 성능에 대한 사용자의 손가락의 습도의 영향를 고려하여 적어도 두 개의 습도 검출 전극 사이의 임피던스 값과 양의 상관 관계가 있는 특징 값을 획득하는 것을 통하여 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하고, 확정한 지문 인식 파라미터와 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하기에 적용한 지문 인식 파라미터와 사용자의 손가락의 습도의 매칭을 확보 할 수 있어, 지문 인식의 성능을 향상시키고, 지문 인식의 정확도를 향상시켰다. 그리고 지문 이미지를 여러번 반복적으로 획득 할 필요가 없어, 지문 인식의 시간을 대폭 단축시켰고, 지문 인식의 효율을 향상시켰다.
지문 센서를 통해 사용자의 손가락의 건습정도를 검출하고 사용자의 손가락의 습도 데이터를 감시하고, 부동한 습도 데이터에 대하여 부동한 소프트웨어및 하드웨어 파라미터를 설정한다. 따라서 현재의 손가락에 대해 지문 인식을 진행 할 때, 매칭된 소프트웨어및 하드웨어 파라미터를 적용하여 최적의 인식 효과를 얻고 성능을 최적화시켰다.
다른 실시예에서는 임피던스 검출 회로를 통해 적어도 두 개의 전극 사이의 임피던스 값에 따라 특징 값을 획득 할 수 있다. 즉, 상기 지문 인식 장치는 임피던스 검출 회로를 포함하고, 상기 임피던스 검출 회로는 적어도 두 개의 입력 포트를 포함하며, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102)은 상기 임피던스 검출 회로의 적어도 두 개의 입력 포트와 연결된다. 상기 임피던스 검출 회로는 사용자의 손가락이 상기 지문 센서(101)와 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102)과 접촉 시, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102) 사이의 임피던스 값에 따라 특징 값을 출력하는데 사용된다.
여기서 상기 임피던스 검출 회로는 프로세싱 모듈(103)의 내부에 집적될 수 있고, 또는 프로세싱 모듈(103)의 외부에 위치할 수도 있다. 즉, 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102)은 임피던스 검출 회로의 적어도 두 개의 입력 포트와 연결되고, 임피던스 검출 회로의 출력 포트는 프로세싱 모듈(103)과 연결된다.
또한 상기 임피던스 검출 회로의 구체적인 양태은 다향한 양태을 포함할 수 있고, 본 실시예에서는 상기 임피던스 검출 회로를 한정하지 않으며, 출력한 특징 값과 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102) 사이의 양의 상관 관계만 확보하면 된다. 두 개의 습도 검출 전극(102)을 예로 하면, 도3에 도시된 바와 같이, 상기 임피던스 검출 회로는 두 개의 습도 검출 전극(102) 사이에서 증폭 귀환 회로를 형성할 수 있고, 두 개의 습도 검출 전극(102) 사이의 임피던스 값이 다를 때, 귀환된 이득 차는 ADC에서 출력되는 전압에 직접적으로 영향주게 된다. 따라서 출력된 전압 신호는 두 개의 습도 검출 전극(102) 사이의 임피던스 값을 나타낼 수 있다.
또 다른 실시예에서 상기 지문 센서(101)는 감응 영역(1011)과 금속 링(1012)을 포함할 수 있으며, 금속 링(1012)은 상기 감응 영역(1011)의 외측에 위치하고, 상기 감응 영역(1011)을 둘러싼다. 지문 인식을 진행하는 과정에서, 사용자의 손가락이 상기 감응 영역(1011)과 상기 금속 링(1012)과 접촉 시, 상기 금속 링(1012)은 신호를 발신하고, 발신한 신호는 사용자의 손가락을 거쳐 상기 감응 영역(1011)으로 전달되며, 상기 감응 영역(1011)은 리턴된 신호를 수신하고, 발신한 신호와 리턴된 신호 사이의 차이에 따라 지문 신호를 획득할 수 있다.
도4에서 빗금친 부분을 참조하면, 본 실시예에서 적어도 두 개의 습도 검출 전극(102)은 상기 금속 링(1012)에 위치할 수 있고, 즉, 일부 금속 링을 습도 검출 전극으로 하여, 프로세싱 모듈(103)과 연결한다. 기존의 금속 링을 다중화하여 습도를 검출하기에 별도의 전극을 추가할 필요가 없어 하드웨어의 비용을 절감시켰다.
상기 감응 영역(1011)과 상기 금속 링(1012)은 지문 인식 장치의 케이스 표면에 설치될 수 있다. 상기 지문 인식 장치를 핸드폰에 적용한 것을 예로 도5를 참조하면, 상기 핸드폰의 케이스에는 버튼을 설치할 수 있고, 상기 버튼의 상측 표면에는 감응 영역(1011)과 금속 링(1012)이 설치되어 있다. 일부 금속 링(1012)은 습도 검출 전극으로 사용할 수 있고, 사용자가 상기 버튼에 접촉 시, 감응 영역(1011)을 통하여 지문 신호를 획득할 수 있고, 금속 링의 습도 검출 전극을 통하여 특징 값을 획득하여 지문 신호와 특징 값에 따라 지문 인식을 진행한다.
또 다른 실시예에서 상기 프로세싱 모듈(103)은 미리 설정한 매칭 관계를 미리 확정할 수 있고, 상기 미리 설정한 매칭 관계는 각 특징 값과 매칭되는 적어도 하나의 지문 인식 파라미터를 포함하기에 각 특징 값에 대응하는 습도 조건하에서 지문 인식 성능을 최적화시킬 수 있는 지문 인식 파라미터를 확정할 수 있다. 프로세싱 모듈(103)이 상기 특징 값을 획득했을 경우, 상기 미리 설정한 매칭 관계에 따라 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정할 수 있다.
여기서 상기 미리 설정한 매칭 관계는, 현재의 습도 조건 하에서 각 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터가 지문 인식 성능의 최적화를 확보할 수 있도록 기술자들이 여러차례의 실험을 통하여 확정할 수 있다.
상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정한 후, 상기 프로세싱 모듈(103)은 상기 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 이미지를 생성하고, 상기 지문 이미지에 대하여 특징을 추출하여 특징 정보를 획득하며, 상기 추출한 특징 정보를 미리 저장한 특징 정보와 비교하여 지문 인식 결과를 획득한다.
또 다른 실시예에서 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터는 다양한 파라미터를 포함할 수 있고, 여기서 소프트웨어 파라미터와 하드웨어 파라미터 등과 같은 파라미터를 포함할 수 있다.
1. 지문 인식을 진행하는 과정에서 ADC(Analog to Digital Converter，아날로그-디지털 변환기)를 적용하여 지문 신호를 증폭시키고, 증폭 후의 지문 신호에 따라 인식 대기 지문 이미지를 생성하는 것을 고려하면, 이러한 과정에서 ADC의 관련 파라미터는 ADC의 성능에 영향을 끼칠 수 있기에, 지문 인식 성능에 영향을 끼친다. 따라서 지문 인식 성능을 향상시키기 위해, 상기 미리 설정한 매칭 관계는 각 특징 값과 매칭되는 ADC의 관련 파라미터를 포함할 수 있다.
예를 들어, 지문 인식 파라미터는 ADC의 이득과 작동 범위 중의 적어도 하나를 포함할 수 있고, 획득한 특징 값에 따라 매칭되는 지문 인식 파라미터를 선택하며, ADC가 확정한 지문 인식 파라미터에 따라 작동할 경우, 비교적 우수한 지문 신호를 획득할 수 있어 비교적 우수한 지문 인식 결과를 획득하여, 지문 인식 성능을 최적화시킨다. 예를 들어, 특징 값이 비교적 작고, 즉 사용자의 손가락 습도가 비교적 클 때, 비교적 큰 ADC의 이득을 적용하여 출력한 지문 신호의 선명도와 신호 대 잡음비를 높일 수 있고, 비교적 작은 ADC작동 범위를 적용하여 정확도를 향상시킬 수 있다. 그리고 특징 값이 비교적 작고, 즉 사용자의 손가락 습도가 비교적 작을 때, 비교적 작은 구동 전압과 비교적 큰 ADC작동 범위를 적용할 수 있다.
2. 지문 인식을 진행하는 과정에서 프로세싱 모듈(103)이 구동전압에 따라 지문 센서(101)를 제어하고, 구동 전압의 크기는 지문 센서(101)의 성능에 영향을 주어, 출력하는 지문 신호에 영향을 끼치는 것을 고려하면, 지문 인식 성능을 향상시키기 위해, 상기 미리 설정한 매칭 관계는 각 특징 값과 매칭되는 구동 전압을 포함할 수 있다. 특징 값이 비교적 작고, 즉 사용자의 손가락 습도가 비교적 클 때, 비교적 큰 구동 전압을 적용하여 출력한 지문 신호의 강도를 향상시킬 수 있다. 그리고 특징 값이 비교적 작고, 즉 사용자의 손가락 습도가 비교적 작을 때, 비교적 작은 구동 전압을 적용할 수 있다.
3. 지문 인식을 진행하는 과정에서 미리 설정한 알고리즘을 이용하여 지문 신호를 처리하여 지문 이미지를 생성하고, 미리 설정한 알고리즘을 이용하여 지문 이미지를 인식하여 지문 인식 결과를 획득한다. 또한 이러한 과정에서 다수의 파리미터를 적용하게 되고, 이러한 파라미터는 지문 인식 성능에 영향을 끼친다. 따라서 지문 인식 성능을 향상시키기 위해, 상기 미리 설정한 매칭 관계는 각 특징 값과 매칭하는 알고리즘에서 이용하게 되는 지문 인식 파리미터를 포함할 수 있다.
예를 들어, 지문 인식 파라미터는 스캔 주파수, 피크-신호 조정 계수와 골짜기-신호 조정 계수 중의 적어도 하나를 포함할 수 있다.
상기 스캔 주파수는 상기 지문 센서(101)가 사용자의 손가락을 스캔하여 발생된 지문 신호의 주파수를 가리키고, 상기 스캔 주파수가 높을수록 지문 인식의 정확도가 높다. 따라서 특징 값이 비교적 작고, 즉 사용자의 손가락 습도가 비교적 클 때, 비교적 큰 스캔 주파수를 적용하여 지문 인식의 정확도를 향상시킬 수 있다. 그리고 특징 값이 비교적 작고, 즉 사용자의 손가락 습도가 비교적 작을 때, 비교적 작은 스캔 주파수를 적용하면 된다
상기 피크-신호 조정 계수는 획득한 피크-신호를 조정할 때에 적용하는 계수를 가리키고, 상기 피크-신호 조정 계수는 획득한 골짜기-신호를 조정할 때에 적용하는 계수를 가리킨다. 프로세싱 모듈(103)은 지문 신호를 획득할 때, 지문 신호 중의 피크-신호와 골짜기-신호를 구분하고, 부동한 계수를 적용하여 피크-신호와 골짜기-신호를 각각 조정하여 피크-신호와 골짜기-신호 사이의 차이를 돌출시킨다. 여기서 특징 값이 비교적 작고, 즉 사용자의 손가락의 습도가 비교적 클 때, 비교적 큰 피크-신호 조정 계수와 비교적 작은 골짜기-신호 조정 계수를 적용하여 피크-신호와 골짜기-신호 사이의 차이를 돌출시킬 수 있다. 그리고 특징 값이 비교적 크고, 즉 사용자의 손가락의 습도가 비교적 작을 때, 차이가 크지 않은 피크-신호 조정 계수와 골짜기-신호 조정 계수를 적용할 수 있다.
상술한 모든 선택적인 기술방안은 임의의 결합을 통해 선택적으로 본 발명의 실시예를 구성할 수 있으며, 여기서 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도6은 일 실시예에 따른 지문 인식 방법을 나타내는 흐름도이다. 도6에서 도시된 바와 같이, 상기 지문 인식 방법은 지문 인식 장치에 사용되고, 상기 지문 인식 장치는 지문 센서, 적어도 두 개의 습도 검출 전극 및 프로세싱 모듈을 포함하며; 상기 방법은 하기와 같은 단계를 포함한다.
601단계에서 사용자의 손가락이 상기 지문 센서와 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극과 접촉 시, 특징 값을 획득하고, 또한 지문 신호를 획득하며，상기 특징 값과 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극 사이의 임피던스 값은 양의 상관 관계이다.
602단계에서 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정한다.
603단계에서 확정한 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행한다.
본 실시예에서 제공한 방법은 사용자의 손가락의 습도가 지문 인식 성능에 대한 영향을 고려하여, 적어도 두 개의 습도 검출 전극 사이의 임피던스 값과 양의 상관 관계가 있는 특징 값을 획득하는 것을 통하여, 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하고, 확정한 지문 인식 파라미터와 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하기에 사용한 지문 인식 파라미터와 사용자의 손가락의 습도 매칭을 확보할 수 있고, 지문 인식 성능을 향상시켰으며，지문 인식의 정확도를 향상시켰다. 그리고 여러번 반복적으로 지문 이미지를 획득할 필요가 없기에 지문 인식의 시간을 대폭 단축시켰고 지문 인식의 효율을 향상시켰다.
또 다른 실시예에서 상기 특정 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는 단계는,
미리 설정한 매칭 관계에 따라 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는 단계를 포함하고, 상기 미리 설정한 매칭 관계는 각 특징 값과 매칭되는 적어도 하나의 지문 인식 파라미터를 포함한다.
또 다른 실시예에서 상기 확정한 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하는 단계는,
상기 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 이미지를 생성하는 단계;
상기 지문 이미지에 대하여 특징을 추출하여 특징 정보를 획득하는 단계;
상기 추출한 특징 정보와 미리 저장한 특징 정보를 비교하는 단계;
를 포함한다.
또 다른 실시예에서 상기 지문 인식 파라미터는 아날로그-디지털 변환기ADC의 이득, 작동 범위 및 구동 전압 중의 적어도 하나를 포함한다.
또 다른 실시예에서 상기 지문 인식 파라미터는 스캔 주파수, 피크-신호 조정 계수와 골짜기-신호 조정 계수 중의 적어도 하나를 포함한다. 상기 피크-신호 조정 계수는 지문 인식을 진행할 때, 피크-신호를 조정할 때에 적용하는 계수를 가리키고, 상기 골짜기-신호 조정 계수는 지문 인식을 진행할 때, 골짜기-신호를 조정할 때에 적용하는 계수를 가리킨다.
상술한 모든 선택적인 기술방안은 임의의 결합을 통해 선택적으로 본 발명의 실시예를 구성할 수 있으며, 여기서 상세한 설명은 생략하기로 한다.
상술한 실시예에서 제공한 지문 인식 방법과 지문 인식 장치의 실시예는 동일한 구상에 속하는 것으로, 구체적인 구현과정은 상술한 장치의 실시예를 참조하며, 이에 대한 설명은 생략하기로 한다.
도7은 일 실시예에 따른 지문 인식 장치(700)를 나타내는 블록도이며, 예를 들어, 장치(700)는 휴대폰, 컴퓨터, 디지털 브로드캐스팅 단말기, 메시지 송수신 장치, 게임 콘솔, 태블릿 장치, 의료 설비, 헬스 기기, PDA 등일 수 있다.
도7을 참조하면, 장치(700)는 프로세싱 어셈블리(702), 메모리(704), 전원 어셈블리(706), 멀티미디어 어셈블리(708), 오디오 어셈블리(710), 입출력(I/O) 인터페이스(712), 센서 어셈블리(714), 및 통신 어셈블리(716) 중의 임의의 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다.
프로세싱 어셈블리(702)는 일반적으로 장치(700)의 전체 조작?예를 들어, 디스플레이?전화 호출?데이터 통신?카메라 조작 및 기록 조작에 관련된 조작을 제어할 수 있다. 프로세싱 어셈블리(702)는 임의의 적어도 하나 이상의 프로세서(720)를 포함하여 명령어를 실행함으로써 상기 방법의 전부 또는 일부 단계를 완성할 수 있다. 또한? 프로세싱 어셈블리(702)는 기타 어셈블리와의 인터랙션을 편리하게 하도록 임의의 적어도 하나 이상의 모듈을 포함할 수 있다. 예를 들어?프로세싱 어셈블리(702)는 멀티미디어 어셈블리(708)와의 인터랙션을 편리하게 할 수 있도록 멀티미디어 모듈을 포함할 수 있다.
메모리(704)는 장치(700)의 조작을 서포트 하기 위하여 각종 유형의 데이터를 저장하도록 설치된다. 이러한 데이터는 예를 들어 장치(700)에서 임의의 어플리케이션이나 방법을 조작하기 위한 명령어, 연락처 데이터, 전화 번호부 데이터, 메시지, 사진, 동영상 등을 포함할 수 있다. 메모리(704)는 임의의 유형의 휘발성 또는 비휘발성 메모리, 예를 들어 SRAM(Static Random Access Memory), EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory), EPROM(Erasable Programmable Read Only Memory), PROM(Programmable ROM) , ROM(Read Only Memory), 자기 메모리, 플래시 메모리, 자기 디스크 또는 콤팩트 디스크에 의해 또는 이들의 조합에 의해 실현될 수 있다.
전원 어셈블리(706)는 장치(700)의 각 어셈블리에 전력을 공급하기 위한 것이며, 전원 관리 시스템, 임의의 적어도 하나 이상의 전원 및 장치(700)를 위하여 전력을 생성, 관리 및 분배하는데 관련된 기타 어셈블리를 포함할 수 있다.
멀티미디어 어셈블리(708)는 장치(700)와 사용자 사이에 출력 인터페이스를 제공하는 스크린을 포함할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 스크린은 액정 디스플레이(LCD) 또는 터치 패널(TP)을 포함할 수 있다. 스크린이 터치 패널을 포함하는 경우, 사용자의 입력 신호를 수신하도록 터치 스크린으로 실현될 수 있다. 또한 터치 패널은 터치, 슬라이딩 및 터치 패널위에서의 제스처(gesture)를 감지하도록 임의의 적어도 하나 이상의 터치 센서를 포함할 수 있다. 상기 터치 센서는 터치 또는 슬라이딩 동작의 경계위치를 감지할 수 있을 뿐만 아니라, 터치 또는 슬라이딩 조작에 관련되는 지속시간 및 압력을 검출할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 멀티미디어 어셈블리(708)는 전면 카메라 및/또는 후면 카메라를 포함할 수 있다. 장치(700)가 예를 들어 촬영 모드 또는 동영상 모드 등 조작 모드 상태에 있을 때, 전면 카메라 및/또는 후면 카메라는 외부의 멀티미디어 데이터를 수신할 수 있다. 전면 카메라 및 후면 카메라 각각은 고정된 광학 렌즈 시스템 또는 가변 초점 거리 및 광학 줌 기능을 구비할 수 있다.
오디오 어셈블리(710)은 오디오 신호를 출력 및/또는 입력하도록 설치될 수 있다. 예를 들어, 오디오 어셈블리(710)은 마이크(MIC)를 포함할 수 있다. 장치(700)가 예를 들어 호출 모드, 기록 모드 또는 음성 인식 모드 등 조작 모드 상태에 있을 때, 마이크는 외부의 오디오 신호를 수신하도록 설치될 수 있다. 수신된 오디오 신호는 메모리(704)에 저장되거나 또는 통신 어셈블리(716)을 통해 송신될 수 있다. 일 실시예에 있어서, 오디오 어셈블리(710)은 오디오 신호를 출력하는 스피커를 더 포함할 수 있다.
I/O 인터페이스(712)는 프로세싱 어셈블리(702)과 주변 인터페이스 모듈 사이에 인터페이스를 제공하기 위한 것이다. 상기 주변 인터페이스 모듈은 키보드 C클릭 휠?버튼 등일 수 있다. 이러한 버튼은 홈 버튼, 볼륨 버튼, 작동 버튼 및 잠금 버튼 등을 포함하되 이에 한정되지 않는다.
센서 어셈블리(714)은 장치(700)를 위해 각 방면의 상태를 평가하는 임의의 적어도 하나 이상의 센서를 포함할 수 있다. 예를 들어, 센서 어셈블리(714)은 장치(700)의 온/오프 상태, 어셈블리의 상대적인 포지셔닝을 검출할 수 있다. 예를 들어, 상기 어셈블리은 장치(700)의 디스플레이 및 작은 키패드일 수 있다. 센서 어셈블리(714)은 장치(700) 또는 장치(700)의 어셈블리의 위치 변경, 사용자와 장치(700)사이의 접촉여부, 장치(700)의 방위 또는 가속/감속 및 장치(700)의 온도 변화를 검출할 수 있다. 센서 어셈블리(714)은 어떠한 물리적 접촉도 없는 상황에서 근처의 물체를 검출하도록 구성되는 근접 센서를 포함할 수 있다. 센서 어셈블리(714)은 이미지 형성 적용에 이용하기 위한 광 센서 예를 들어 CMOS 또는 CCD 이미지 센서를 포함할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 센서 어셈블리(714)은 가속도 센서, 자이로 스코프 센서, 자기 센서, 압력 센서 또는 온도 센서를 더 포함할 수 있다. 본 실시예에서는 지문 인식 기능을 실현하기 위해 센서 어셈블리(714)은 지문 센서를 포함한다.
통신 어셈블리(716)은 장치(700)와 기타 기기 사이의 무선 또는 유선 통신을 편리하게 진행하게 하도록 설치될 수 있다. 장치(700)는 통신 표준을 기반으로 하는 무선 네트워크 예를 들어 WiFi, 2G, 3G 또는 이들의 조합에 액세스할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 통신 어셈블리(716)은 브로드캐스팅 채널을 통해 외부의 브로드캐스팅 관리 시스템에서의 브로드캐스팅 신호 또는 브로드캐스팅 관련 정보를 수신할 수 있다. 일 실시예에 있어서, 상기 통신 어셈블리(716)은 근거리 통신을 촉진하기 위한 근거리 무선 통신(NFC) 모듈을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, NFC 모듈은 RFID기술, IrDA기술, UWB기술, 블루투스(BT) 기술 및 기타 기술에 의해 실현될 수 있다.
일 실시예에 있어서, 장치(700)는 상기 임의의 어느 한 실시예가 제공한 방법을 실행하기 위하여 임의의 적어도 하나 이상의 ASIC(Application Specific Integrated Circuit), DSP(Digital Signal Processor), DSPD(Digital Signal Processing Device), PLD(Programmable Logic Device), FPGA(Field-Programmable Gate Array), 컨트롤러, 마이크로 컨트롤러, 마이크로 프로세서, 또는 기타 전자 소자에 의해 실현될 수 있다.
일 실시예에서 명령어를 포함한 비일시적인 컴퓨터 판독 가능한 기록매체, 예를 들어 명령어를 포함한 메모리(704)를 더 제공한다. 상기 명령어는 장치(700)의 프로세서(720)에 의해 실행되어 상기 임의의 어느 한 실시예가 제공한 방법을 완성할 수 있다. 예를 들어, 상기 비일시적인 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체는, ROM, RAM, CD-ROM, 자기 테이프, 플로피디스크 및 광 데이터 메모리 등일 수 있다.
비일시적인 컴퓨터 판독 가능한 기록매체는, 상기 기록매체의 명령어가 단말기의 프로세서에 의해 실행되면, 상기 지문 인식 장치를 포함하는 단말기가 지문 인식 방법을 실행할수 있도록한다. 상기 방법은,
사용자의 손가락이 상기 지문 센서와 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극과 접촉 시, 특징 값을 획득하고, 또한 지문 신호를 획득하며, 상기 특징 값과 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극 사이의 임피던스 값은 양의 상관 관계인 단계；
상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는 단계;
확정한 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하는 단계;
를 포함한다.
다른 실시예에서 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는 단계는 미리 설정한 매칭 관계에 따라 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는 단계를 포함하고, 상기 미리 설정한 매칭 관계는 각 특징 값과 매칭되는 적어도 하나의 지문 인식 파라미터를 포함한다.
다른 실시예에서 상기 확정한 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하는 단계는,
상기 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 이미지를 생성하는 단계;
상기 지문 이미지에 대하여 특징을 추출하여 특징 정보를 획득하는 단계;
상기 추출한 특징 정보를 미리 저장한 특징 정보와 비교하는 단계;
를 포함한다.
다른 실시예에서 상기 지문 인식 파라미터는 아날로그-디지털 변환기ADC의 이득, 작동 범위 및 구동 전압 중의 적어도 하나를 포함한다.
다른 실시예에서 상기 지문 인식 파라미터는 스캔 주파수, 피크-신호 조정 계수 및 골짜기-신호 조정 계수 중의 적어도 하나를 포함한다. 상기 피크-신호 조정 계수는 지문 인식을 진행 할 때, 피크-신호를 조정 할 때에 적용하는 계수를 가리키고, 상기 골짜기-신호 조정 계수는 지문 인식을 진행할 때, 골짜기-신호를 조정 할 때에 적용하는 계수를 가리킨다.
본 분야의 통상의 지식을 가진 자는 명세서에 대한 이해 및 명세서에 기재된 발명에 대한 실시를 통해 본 발명의 다른 실시 방안을 용이하게 얻을 수 있다. 당해 출원의 취지는 본 발명에 대한 임의의 변형, 용도 또는 적응적인 변화를 포함하고, 이러한 변형, 용도 또는 적응적 변화는 본 발명의 일반적인 원리에 따르고, 당해 출원이 공개하지 않은 본 기술 분야의 공지기술 또는 통상의 기술수단을 포함한다. 명세서 및 실시예는 단지 예시적인 것으로서, 본 발명의 진정한 범위와 취지는 다음의 특허청구의 범위에 의해 결정된다.
본 발명은 상기에 서술되고 도면에 도시된 특정 구성에 한정되지 않고 그 범위를 이탈하지 않는 상황에서 다양한 수정 및 변경을 실시할 수 있음이 이해되어야 한다. 본 발명의 범위는 단지 첨부된 특허청구의 범위에 의해서만 한정된다.

Claims (12)

  1. 지문 센서, 적어도 두 개의 습도 검출 전극 및 프로세싱 모듈을 포함하는 지문 인식 장치에 있어서,
    상기 지문 센서는 상기 프로세싱 모듈과 연결되고, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극은 상기 프로세싱 모듈과 연결되며, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극은 상기 지문 센서에서 미리 설정한 범위 내에 위치하고;
    상기 지문 센서는 사용자의 손가락이 상기 지문 센서와 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극과 접촉 시, 상기 프로세싱 모듈에 지문 신호를 출력하는데 사용되고；
    상기 프로세싱 모듈은 사용자의 손가락이 상기 지문 센서와 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극과 접촉 시, 특징 값을 획득하는데 사용되고, 상기 특징 값과 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극 사이의 임피던스 값은 양의 상관 관계이고;
    상기 프로세싱 모듈은 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하고, 확정한 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    지문 인식 장치는 임피던스 검출 회로를 포함하고, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극은 상기 임피던스 검출 회로의 적어도 두 개의 입력 포트와 연결되며;
    상기 임피던스 검출 회로는 사용자의 손가락이 상기 지문 센서와 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극과 접촉 시, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극 사이의 임피던스 값에 따라 상기 특징 값을 출력하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 지문 센서에는 금속 링이 설치되어 있고, 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극은 상기 금속 링에 위치하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 프로세싱 모듈은 미리 설정한 매칭 관계에 따라 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는데 사용되고,
    상기 미리 설정한 매칭 관계는 각 특징 값과 매칭되는 적어도 하나의 지문 인식 파라미터를 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 프로세싱 모듈은 상기 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 이미지를 생성하고, 상기 지문 이미지에 대하여 특징을 추출하여 특징 정보를 획득하며, 상기 추출한 특징 정보를 미리 저장한 특징 정보와 비교하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 장치.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 지문 인식 파라미터는 아날로그-디지털 변환기ADC의 이득, 작동 범위 및 구동 전압 중의 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 지문 인식 파라미터는 스캔 주파수, 피크-신호(peak-signal) 조정 계수 및 골짜기-신호(trough-signal) 조정 계수 중의 적어도 하나를 포함하며,
    상기 피크-신호 조정 계수는 획득한 피크-신호를 조정할 때 적용하는 계수를 가리키고, 상기 골짜기-신호 조정 계수는 획득한 골짜기-신호를 조정할 때 적용하는 계수를 가리키는 것을 특징으로 하는 지문 인식 장치.
  8. 지문 센서, 적어도 두 개의 습도 검출 전극 및 프로세싱 모듈을 포함하는 지문 인식 장치에 적용되는 지문 인식 방법에 있어서,
    사용자의 손가락이 상기 지문 센서와 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극과 접촉 시, 특징 값을 획득하고, 지문 신호를 획득하며, 상기 특징 값과 상기 적어도 두 개의 습도 검출 전극 사이의 임피던스 값은 양의 상관 관계인 단계;
    상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는 단계; 및
    확정한 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는 단계는 미리 설정한 매칭 관계에 따라 상기 특징 값과 매칭되는 지문 인식 파라미터를 확정하는 단계를 포함하고,
    상기 미리 설정한 매칭 관계는 각 특징 값과 매칭되는 적어도 하나의 지문 인식 파라미터를 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 방법.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 확정한 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 인식을 진행하는 단계는,
    상기 지문 인식 파라미터와 상기 지문 신호에 따라 지문 이미지를 생성하는 단계;
    상기 지문 이미지에 대하여 특징을 추출하여 특징 정보를 획득하는 단계;
    상기 추출한 특징 정보를 미리 저장한 특징 정보와 비교하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 방법.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 지문 인식 파라미터는 아날로그-디지털 변환기ADC의 이득, 작동 범위 및 구동 전압 중의 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 지문 인식 방법.
  12. 제8항에 있어서,
    상기 지문 인식 파라미터는 스캔 주파수, 피크-신호(peak-signal) 조정 계수 및 골짜기-신호(trough-signal) 조정 계수 중의 적어도 하나를 포함하고,
    상기 피크-신호 조정 계수는 지문 인식을 진행할 때, 피크-신호를 조정할 때에 적용하는 계수를 가리키고, 상기 골짜기-신호 조정 계수는 지문 인식을 진행할 때, 골짜기-신호를 조정할 때에 적용하는 계수를 가리키는 것을 특징으로 하는 지문 인식 방법.
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