KR20180027481A - Antistatic surface-protective film and optical component attached with the same - Google Patents

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히로유키 고바야시
히로토 니이미
마코토 가스가
치에 스즈키
사토미 이가라시
에미코 기마타
마스시 하야시
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후지모리 고교 가부시키가이샤
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Abstract

The present invention provides an antistatic surface protective film in which a foreign substance (adhesive paste) originating from an adhesive is difficult to appear even at the time of cutting; has great affinity (wettability) to an optical film having irregularities on a surface which is an adherend; has low contaminating property and the low contaminating property to the adherend does not change even with lapse of time; and has excellent peeling antistatic performance without deterioration due to aging, and an optical component to which the antistatic surface protective film is attached. A polyurethane-based adhesive layer (2) not containing an antistatic agent, an antistatic agent layer (3), and a peeling film (4) processed to be peeled are laminated in order on one surface of a base film (1) made of a resin having transparency to form the antistatic surface protective film (10).

Description

대전 방지 표면 보호 필름 및 그것이 첩합된 광학 부품{ANTISTATIC SURFACE-PROTECTIVE FILM AND OPTICAL COMPONENT ATTACHED WITH THE SAME}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an antistatic surface protective film and an optical component having the antistatic surface protective film,

본 발명은 편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름 등의 광학 부품(이하, 광학용 필름으로 칭하는 경우도 있다)의 표면에 첩합되는 표면 보호 필름에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 단재시에도 점착제에서 기인하는 이물질(점착제 덩어리)이 발생하기 어렵고, 표면에 요철이 있는 광학용 필름에 대해서도 친화성(젖음성)이 양호하며, 또한, 피착체에 대한 오염이 적고, 시간이 경과해도 피착체에 대한 저오염성이 변하지 않는 표면 보호 필름으로서, 경시 열화되지 않고 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 대전 방지 표면 보호 필름 및 그것이 첩합된 광학 부품을 제공하는 것이다.The present invention relates to a surface protective film that is applied to the surface of an optical component such as a polarizing plate, a retarder, and a lens film for display (hereinafter, sometimes referred to as an optical film). More particularly, the present invention relates to a pressure-sensitive adhesive composition which is excellent in affinity (wettability) for an optical film having irregularities on the surface, and is free from contamination to an adherend An antistatic surface protective film which does not deteriorate over time and has excellent peeling electrification preventing performance, and an optical component to which the antistatic surface protective film is adhered.

편광판, 위상차판, 디스플레이용 렌즈 필름, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름 및 그것을 사용한 디스플레이 등의 광학 제품을 제조, 반송할 때는, 당해 광학용 필름의 표면에 표면 보호 필름을 첩합하여 후공정에 있어서의 표면의 오염이나 흠집을 방지하는 것이 이루어지고 있다. 제품인 광학용 필름의 외관 검사는 표면 보호 필름을 박리하였다가 다시 첩합하는 수고를 덜고 작업 효율을 높이기 위해, 표면 보호 필름을 광학용 필름에 첩합한 상태로 행하는 경우도 있다.When an optical product such as a polarizing plate, a retardation film, a lens film for display, an antireflection film, a hard coat film, a transparent conductive film for a touch panel, and a display using the optical film is manufactured and transported, To prevent contamination and scratches on the surface in a subsequent process. The appearance inspection of the optical film, which is a product, may be carried out in a state in which the surface protective film is stuck to the optical film in order to reduce the labor of peeling the surface protective film, and to improve the working efficiency.

종래부터, 기재 필름의 한쪽 면에 점착제층을 형성한 표면 보호 필름이 광학 제품의 제조 공정에 있어서, 흠집이나 오염의 부착을 방지하기 위해, 일반적으로 사용되고 있다. 표면 보호 필름은 미점착력의 점착제층을 개재하여 광학용 필름에 첩합된다. 점착제층을 미점착력으로 하는 것은 사용이 끝난 표면 보호 필름을 광학용 필름의 표면으로부터 박리하여 제거할 때, 용이하게 박리할 수 있고, 또한 점착제가 피착체인 제품의 광학용 필름에 부착되어 잔류하지 않도록(이른바, 점착제 잔여물의 발생을 방지) 하기 위함이다. Background Art [0002] Conventionally, a surface protective film having a pressure-sensitive adhesive layer formed on one surface of a base film is generally used to prevent scratches or contamination from adhering to the surface of a base film in the production process of optical products. The surface protective film is bonded to the optical film through a pressure-sensitive adhesive layer having no adhesive force. Adhesive strength of the pressure sensitive adhesive layer can be easily peeled off when the used surface protective film is peeled off from the surface of the optical film and the pressure sensitive adhesive is adhered to the optical film of the product to be adhered so as not to remain (To prevent the occurrence of so-called adhesive residue).

미점착력의 점착제로는, 아크릴계 점착제가 많이 사용되고 있지만, 광학용 필름을 디스플레이의 크기에 맞추어 소정의 사이즈로 단재할 때 점착제가 단재날에 의해 찢어져 작은 조각 형상의 이물질(점착제 덩어리라고도 한다)이 발생하기 쉽다는 문제가 있다. 이러한 이물질이 발생하면, 공정 오염이나 광학용 필름에 눌린 흔적이 발생하는 등 문제가 된다. 이 때문에, 표면 보호 필름이 첩합된 광학용 필름을 슬릿하거나 단재할 때에 이물질 발생이 적은 표면 보호 필름이 요구되고 있다. 또한, 프리즘 시트나 안티 글레어 처리한 편광판 등, 표면에 요철 형상을 갖는 광학용 필름에 대해서도 친화성(젖음성)이 양호하고, 표면 보호 필름을 광학용 필름에 첩합할 때에 기포가 들어가기 어려운 표면 보호 필름이 요구되고 있다.Although acrylic pressure-sensitive adhesives are widely used as the pressure-sensitive adhesive of the non-adhesive force, when the optical film is cut to a predetermined size in accordance with the size of the display, the pressure-sensitive adhesive is torn by the edge blades and foreign substances (also referred to as pressure- There is a problem that it is easy to do. If such foreign matter is generated, problems such as process contamination and traces of pressed on the optical film occur. For this reason, there is a demand for a surface protective film which is less likely to generate foreign matter when the optical film to which the surface protective film is adhered is slit or cut. In addition, it is also possible to use a surface protective film (e.g., a polarizing plate having a prism sheet or an anti-glare treatment) having good affinity (wettability) for an optical film having a concavo-convex shape on its surface, .

이와 같이, 슬릿이나 단재시에 점착제 덩어리가 발생하기 어렵고, 각종 광학용 필름에 대해 친화성이 양호한 표면 보호 필름의 요구에 대해서, 폴리우레탄계 점착제를 사용한 표면 보호 필름이 사용되고 있다.As described above, a surface protective film using a polyurethane-based pressure-sensitive adhesive is used for a demand for a surface protective film which is less liable to generate a sticky mass during slits or terminations and has good affinity for various optical films.

근래에는 액정 디스플레이 패널의 생산 공정에 있어서, 광학용 필름 위에 첩합된 표면 보호 필름을 박리하여 제거할 때 발생하는 박리 대전압에 의해, 액정 디스플레이 패널의 표시 화면을 제어하기 위한 드라이버 IC 등의 회로 부품이 파괴되는 현상이나, 액정 분자의 배향이 손상되는 현상이 발생 건수는 적으나 일어나고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, in a production process of a liquid crystal display panel, a circuit component such as a driver IC for controlling a display screen of a liquid crystal display panel by a peeling electrification voltage generated when a surface protective film adhered on an optical film is peeled and removed And the phenomenon that the orientation of the liquid crystal molecules is damaged is small.

또한, 액정 디스플레이 패널의 소비 전력을 저감시키기 위해 액정 재료의 구동 전압이 낮아지고 있고, 이에 수반하여 드라이버 IC의 파괴 전압도 낮아지고 있다. 최근에는 박리 대전압을 +0.7㎸∼-0.7㎸ 범위 내로 하는 것이 요구되고 있다.Further, in order to reduce the power consumption of the liquid crystal display panel, the driving voltage of the liquid crystal material is lowered, and accordingly the breakdown voltage of the driver IC is lowered. In recent years, it has been required to set the peeling electrification voltage within the range of +0.7 kV to -0.7 kV.

표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름으로부터 박리할 때 박리 대전압이 높은 것에 의한 문제를 방지하기 위해, 박리 대전압을 낮게 억제하기 위한 대전 방지제를 포함하는 점착제층을 사용한 표면 보호 필름이 제안되고 있다.A surface protective film using a pressure-sensitive adhesive layer containing an antistatic agent for suppressing the peeling electrification voltage has been proposed in order to prevent a problem caused by a high peeling electrification voltage when the surface protective film is peeled off from the optical film to be adhered .

예를 들면, 특허문헌 1에는 알킬렌옥사이드 사슬을 갖는 폴리우레탄, 이온성 화합물 및 3관능 이소시아네이트 화합물로 이루어지는 대전 방지 점착제가 개시되어 있다. 또한, 특허문헌 2에는 초강산 알칼리 금속염류, 알칼리토류 금속염류 중 적어도 1종의 염을 함유하는 것을 특징으로 하는 표면 보호 필름용 폴리우레탄 점착제 조성물이 개시되어 있다. 또한, 특허문헌 3에는 플루오로 유기 음이온을 함유하는 이온성 액체 및 수평균 분자량 5,000 이상의 폴리우레탄으로 이루어지는 점착제 조성물 및 당해 점착제 조성물을 사용한 표면 보호 필름이 개시되어 있다.For example, Patent Document 1 discloses an antistatic pressure-sensitive adhesive comprising a polyurethane having an alkylene oxide chain, an ionic compound and a trifunctional isocyanate compound. Patent Document 2 discloses a polyurethane pressure-sensitive adhesive composition for a surface protective film, which comprises at least one salt selected from the group consisting of alkali metal salts of super strong acid and alkaline earth metal salts. Patent Document 3 discloses a pressure-sensitive adhesive composition comprising an ionic liquid containing a fluoro organic anion and a polyurethane having a number average molecular weight of 5,000 or more, and a surface protective film using the pressure-sensitive adhesive composition.

일본 공개특허공보 2005-154491호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-154491 일본 공개특허공보 2006-182794호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2006-182794 일본 공개특허공보 2007-277484호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2007-277484

상기 특허문헌 1∼3에서는 점착제층의 내부에 대전 방지제가 첨가되어 있다. 그러나, 점착제층의 두께가 두꺼워짐에 따라, 또한, 피착체에 첩합시킨 후의 경과 시간이 지남에 따라, 표면 보호 필름이 첩합된 피착체에 대해서 점착제층으로부터 피착체에 이행되는 대전 방지제의 양이 많아질 염려가 있다. 피착체에 이행되는 대전 방지제의 양이 많아지면, 피착체인 광학용 필름의 외관 품위가 저하되거나, 표면 보호 필름의 점착 특성이 시간 경과에 따라 변화할 염려가 있다.In the above Patent Documents 1 to 3, an antistatic agent is added in the pressure-sensitive adhesive layer. However, as the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer becomes thicker, the amount of the antistatic agent transferred from the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend with respect to the adherend to which the surface protective film is adhered increases There is a lot of concern. If the amount of the antistatic agent transferred to the adherend increases, the appearance quality of the optical film as the adherend may decrease, or the adherence characteristics of the surface protective film may change over time.

이와 같이, 점착제층으로부터 피착체에 이행되는 대전 방지제의 경시 변화를 적게 하기 위해, 점착제의 두께를 얇게 하면 다른 문제가 생긴다. 예를 들면, 번쩍임 방지를 위해 안티 글레어 처리한 편광판 등, 표면에 요철이 있는 광학용 필름에 사용했을 경우에, 광학용 필름 표면의 요철에 점착제가 추종할 수 없어 기포가 혼입되거나, 광학용 필름과 점착제의 접착 면적이 감소됨으로써 점착력이 저하되어 사용 중에 표면 보호 필름이 뜨거나 박리된다는 문제가 있다.As described above, another problem arises when the thickness of the pressure-sensitive adhesive is reduced in order to reduce the change with time in the antistatic agent transferred from the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend. For example, when the optical film is used for an optical film having irregularities on the surface, such as a polarizing plate subjected to anti-glare treatment for preventing flashing, the pressure sensitive adhesive can not follow the unevenness of the surface of the optical film, And the adhesive area of the pressure-sensitive adhesive is reduced, so that the adhesive force is lowered, and the surface protective film is peeled off or peeled during use.

본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 단재시에도 점착제에서 기인하는 이물질(점착제 덩어리)이 발생하기 어렵고, 피착체인 표면에 요철이 있는 광학용 필름에 대해서도 친화성(젖음성)이 양호하며, 또한, 피착체에 대한 오염이 적고, 시간이 경과해도 피착체에 대한 저오염성이 변하지 않으며, 경시 열화되지 않고 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 표면 보호 필름 및 그것이 첩합된 광학 부품을 제공하는 것을 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a pressure-sensitive adhesive sheet which is excellent in affinity (wettability) for an optical film having unevenness on the surface thereof, It is an object of the present invention to provide a surface protective film having little stain on an adherend, a low staining property on an adherend even after a lapse of time, and an excellent peeling electrification preventing performance without deterioration over time, and an optical component to which the stain adhered .

본 발명자들은 이 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 행하였다.The present inventors have conducted extensive studies to solve this problem.

우선, 피착체에 대한 오염이 적고, 또한 대전 방지 성능의 경시 변화도 적게 하기 위해서는 피착체를 오염시키고 있는 원인으로 추측되는 대전 방지제의 첨가량을 감량시킬 필요가 있다. 그러나, 대전 방지제의 첨가량을 감량시켰을 경우에는 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의 박리 대전압이 높아진다. 여기서, 본 발명자들은 대전 방지제의 첨가량의 절대량을 증가시키지 않으며, 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리할 때의, 박리 대전압을 낮게 억제하는 방법에 대해 검토하였다. 그 결과, 점착제 조성물 내에 대전 방지제를 첨가하고 혼합하여 점착제층을 형성하는 것이 아니라, 점착제 조성물을 도공·건조시켜 점착제층을 적층한 후에 점착제층의 표면에 적당량의 대전 방지제 성분을 부여함으로써, 표면 보호 필름을 피착체인 광학용 필름에서 박리할 때의 박리 대전압을 낮게 억제할 수 있다는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.First, in order to reduce the contamination of the adherend and to reduce the change with time of the antistatic performance, it is necessary to reduce the amount of the antistatic agent added, which is presumed to be a cause of contaminating the adherend. However, when the addition amount of the antistatic agent is reduced, the peeling electrification voltage when peeling the surface protective film from the adherend becomes high. Here, the present inventors have studied a method of suppressing the peeling electrification voltage when the surface protective film is peeled off from the adherend without increasing the absolute amount of the antistatic agent added. As a result, it has been found that, instead of adding an antistatic agent into the pressure-sensitive adhesive composition and mixing them to form a pressure-sensitive adhesive layer, the pressure-sensitive adhesive composition is coated and dried to laminate the pressure- It is possible to suppress the peeling electrification voltage when the film is peeled off from the optically-usable film as the adherend, thereby completing the present invention.

즉, 상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에 대전 방지제를 함유하지 않는 폴리우레탄계 점착제층과, 대전 방지제층과, 박리 처리한 박리 필름이 이 순서로 적층되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름을 제공한다.That is, in order to solve the above-described problems, the present invention relates to a method for producing a releasing film, comprising the steps of: forming a base film made of a resin having transparency on one side thereof with a polyurethane pressure- And an antistatic surface protective film laminated on the surface of the antistatic film.

또한, 상기 대전 방지제층이 이온성 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the antistatic agent layer contains an ionic compound.

또한, 상기 대전 방지제층이 알칼리 금속을 양이온으로 하는 이온성 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.Further, it is preferable that the antistatic agent layer contains an ionic compound which makes the alkali metal a cation.

또한, 상기 대전 방지제층의 두께가 0.01∼0.3㎛인 것이 바람직하다.The thickness of the antistatic agent layer is preferably 0.01 to 0.3 mu m.

또한, 본 발명은 상기 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학 부품을 제공한다.The present invention also provides an optical component in which the antistatic surface protective film is bonded.

본 발명의 표면 보호 필름은 단재시에도 점착제에서 기인하는 이물질(점착제 덩어리)이 발생하기 어렵고, 피착체인 표면에 요철이 있는 광학용 필름에 대해서도 친화성(젖음성)이 양호하며, 또한, 피착체에 대한 오염이 적고, 시간이 경과해도 피착체에 대한 저오염성이 변하지 않으며, 경시 열화되지 않고 우수한 박리 대전 방지 성능을 갖는 표면 보호 필름 및 그것이 첩합된 광학 부품을 제공할 수 있다.The surface protective film of the present invention is excellent in affinity (wettability) with respect to optical films having irregularities on the surface of the surface of the surface of the adherend, It is possible to provide a surface protective film having excellent anti-peeling and antistatic properties without deterioration with time, and an optical component to which the surface protective film is adhered.

또한, 본 발명의 표면 보호 필름에 의하면, 광학용 필름의 표면을 확실히 보호할 수 있는 점에서, 광학 부품의 생산 공정에 있어서 불량품의 발생을 억제할 수 있어 생산성 향상과 수율 향상을 도모할 수 있다.Further, according to the surface protective film of the present invention, since it is possible to reliably protect the surface of the optical film, generation of defective products can be suppressed in the production process of the optical component, and productivity and yield can be improved .

도 1은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름의 개념을 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름에서 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름을 광학 부품에 첩합한 실시예의 하나를 나타낸 단면도이다.
1 is a cross-sectional view showing the concept of an antistatic surface protective film of the present invention.
2 is a cross-sectional view showing a state in which the release film is peeled off from the antistatic surface protective film of the present invention.
3 is a cross-sectional view showing one embodiment of the antistatic surface protective film of the present invention bonded to an optical component.

이하, 실시형태에 기초하여, 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.

도 1은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름의 개념을 나타낸 단면도이다. 이 대전 방지 표면 보호 필름(10)은 투명한 기재 필름(1)의 한쪽 면의 표면에, 대전 방지제를 함유하지 않는 점착제층(2)이 형성되어 있다. 이 점착제층(2)의 표면에는 대전 방지제 함유 재료가 존재하는 대전 방지제층(3)이 형성되어 있고, 또한, 대전 방지제층(3)의 표면에는 박리 처리한 박리 필름(4)이 첩합되어 있다.1 is a cross-sectional view showing the concept of an antistatic surface protective film of the present invention. In this antistatic surface protective film 10, a pressure-sensitive adhesive layer 2 not containing an antistatic agent is formed on the surface of one side of the transparent base film 1. An antistatic agent layer 3 in which an antistatic agent containing material is present is formed on the surface of the pressure sensitive adhesive layer 2 and a release film 4 having been subjected to a release treatment is bonded to the surface of the antistatic agent layer 3 .

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)으로는 투명성 및 가요성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름이 사용된다. 이로써, 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체인 광학 부품에 첩합한 상태로, 광학 부품의 외관 검사를 행할 수 있다. 기재 필름(1)으로서 사용하는 투명성을 갖는 수지 필름은 바람직하게는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌이소 프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름이 사용된다. 폴리에스테르 필름 외에, 필요한 강도를 갖고, 또한 광학 적성을 갖는 것이면, 다른 수지로 이루어지는 필름도 사용 가능하다. 기재 필름(1)은 무연신 필름이어도 되고, 1축 또는 2축 연신된 필름이어도 된다. 또한, 연신 필름의 연신 배율이나, 연신 필름의 결정화에 수반하여 형성되는 축방향의 배향 각도를 특정값으로 제어해도 된다.As the base film (1) used in the antistatic surface protective film (10) according to the present invention, a base film made of a resin having transparency and flexibility is used. Thus, the appearance of the optical component can be inspected with the antistatic surface protective film adhered to the optical component as the adherend. The transparent resin film used as the base film (1) is preferably a polyester film such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene isophthalate or polybutylene terephthalate. In addition to the polyester film, films made of other resins can be used as long as they have the necessary strength and optical suitability. The base film (1) may be a non-oriented film or a uniaxially or biaxially oriented film. The stretching magnification of the stretched film or the orientation angle in the axial direction formed by crystallization of the stretched film may be controlled to a specific value.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 기재 필름(1)의 두께는 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하다. 또한, 기재 필름(1)이 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉽고, 보다 바람직하다.The thickness of the base film (1) used in the antistatic surface protective film (10) according to the present invention is not particularly limited. For example, a thickness of about 12 to 100 m is preferable. Further, if the thickness of the base film 1 is about 20 to 50 mu m, it is easy to handle and more preferable.

또한, 필요에 따라, 기재 필름(1)의 점착제층(2)이 형성된 면의 반대측의 면에, 표면의 오염을 방지하는 방오층, 대전 방지층, 흠집 방지 하드 코트층 등을 형성할 수 있다. 또한, 기재 필름(1)의 표면에 코로나 방전에 의한 표면 개질, 앵커 코트제의 도포 등의 이(易)접착 처리를 실시해도 된다.If necessary, an antifouling layer, antistatic layer, anti-scratch hard coat layer, or the like for preventing surface contamination can be formed on the surface of the base film 1 opposite to the surface on which the pressure-sensitive adhesive layer 2 is formed. Further, the surface of the base film 1 may be subjected to easy adhesion treatment such as surface modification by corona discharge, application of an anchor coat, and the like.

또한, 본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)은 피착체의 표면에 접착하여 피착체를 보호한 후, 피착체에서 간단히 박리시킬 수 있고, 또한, 피착체를 오염시키기 어려운 점착제이면 된다. 또한, 단재시의 점착제 덩어리의 발생이 적은 점, 광학용 필름 등의 피착체에 대해 젖음성이 양호한 점에서, 폴리우레탄계 점착제 조성물을 사용하여 점착제층을 형성하는 것이 바람직하다.The pressure-sensitive adhesive layer (2) used in the antistatic surface protective film (10) according to the present invention can be easily peeled off from the adherend after the adherend is adhered to the surface of the adherend, It is difficult to contaminate the adhesive. In addition, it is preferable to form a pressure-sensitive adhesive layer using a polyurethane-based pressure-sensitive adhesive composition, since the occurrence of a mass of pressure-sensitive adhesive during the termination is small and the wettability to an adherend such as an optical film is good.

폴리우레탄계 점착제로는 폴리올 성분과 폴리이소시아네이트 성분으로 이루어지는 폴리우레탄계 수지로서, 점착성이나 젖음성, 피착체 오염성 등을 고려해 선택하면 되고, 폴리올 성분, 폴리이소시아네이트 성분은 특별히 제한되지 않는다. 폴리우레탄계 수지는 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.The polyurethane based pressure sensitive adhesive is a polyurethane resin composed of a polyol component and a polyisocyanate component and may be selected in consideration of adhesiveness, wettability, adherend staining property, etc., and the polyol component and the polyisocyanate component are not particularly limited. The polyurethane resin may be used singly or in combination of two or more kinds.

폴리올 성분으로는, 예를 들면, 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올, 폴리카프로락톤폴리올, 폴리카보네이트폴리올, 피마자유계 폴리올 등을 들 수 있다. 이들 폴리올 성분은 단독으로 사용해도 되고, 또한, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.Examples of the polyol component include a polyester polyol, a polyether polyol, a polycaprolactone polyol, a polycarbonate polyol, and a castor oil-based polyol. These polyol components may be used alone or in combination of two or more.

상기 폴리이소시아네이트 성분으로는, 지방족 폴리이소시아네이트, 지환족 폴리이소시아네이트, 방향족 폴리이소시아네이트, 디이소시아네이트의 다량체 등이사용된다. 이들 폴리이소시아네이트 성분은 단독으로 사용해도 되고, 또한, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.As the polyisocyanate component, an aliphatic polyisocyanate, an alicyclic polyisocyanate, an aromatic polyisocyanate, a multimer of a diisocyanate, and the like are used. These polyisocyanate components may be used alone or in combination of two or more.

폴리우레탄계 점착제의 시판품으로는, 사이아바인(등록상표) SH-101, SH-101M, SP-205, SP-220(도요켐(주) 제조), 아라코트(등록상표) FT100, FT200(아라카와 화학 공업(주) 제조), UN1175, UN1176(다이도 화성 공업(주) 제조) 등을 들 수 있다. 점착제층이 폴리우레탄계 점착제를 가교 또는 경화시켜 이루어지는 것이어도 된다.Examples of commercially available products of polyurethane-series pressure-sensitive adhesives include Saiabain (registered trademark) SH-101, SH-101M, SP-205, SP-220 (manufactured by Toyochem), ARAKOTE (registered trademark) FT100, FT200 Ltd.), UN1175 and UN1176 (manufactured by Daido Chemical Industry Co., Ltd.), and the like. The pressure-sensitive adhesive layer may be one obtained by crosslinking or curing the polyurethane pressure-sensitive adhesive.

본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 점착제층(2)의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 5∼40㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 10∼30㎛ 정도의 두께가 보다 바람직하다. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer (2) used in the antistatic surface protective film (10) according to the present invention is not particularly limited. For example, the thickness is preferably about 5 to 40 m, Is more preferable.

기재 필름(1)의 표면에 점착제층(2)을 형성하는 방법으로는 공지된 방법으로 행하면 된다. 구체적으로는, 리버스 코팅, 콤마 코팅, 그라비아 코팅, 슬롯 다이 코팅, 메이어 바 코팅, 에어 나이프 코팅 등의 공지된 도공 방법을 사용할 수 있다.The pressure-sensitive adhesive layer (2) may be formed on the surface of the base film (1) by a known method. Specifically, known coating methods such as reverse coating, comma coating, gravure coating, slot die coating, Meyer bar coating and air knife coating can be used.

또한, 본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 대전 방지제층(3)을 구성하기 위한 대전 방지제 함유 재료는 대전 방지제 단체나, 대전 방지제와 각종 수지의 혼합물 등을 들 수 있다. 대전 방지제로는, 이온성 화합물이 바람직하다. 또한, 대전 방지제와 각종 수지의 혼합물에 사용되는 수지로는, 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리올레핀 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 폴리비닐알코올 수지, 폴리초산비닐 수지, 셀룰로오스 수지, 실리콘 수지, 불소 수지 등을 들 수 있다.The antistatic agent-containing material for constituting the antistatic agent layer 3 used in the antistatic surface protective film 10 according to the present invention may be an antistatic agent alone or a mixture of an antistatic agent and various resins. As the antistatic agent, an ionic compound is preferable. Examples of the resin used for the mixture of the antistatic agent and various resins include a polyester resin, a polyamide resin, a polyurethane resin, a polyolefin resin, a polyvinyl butyral resin, a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl acetate resin, A resin, a silicone resin, and a fluororesin.

이온성 화합물로는, 양이온과 음이온을 갖는 이온성 화합물이다. 양이온으로는, 유기 양이온 또는 무기 양이온, 예를 들면, 알칼리 금속 카티온, 피리디늄 카티온, 이미다졸륨 카티온, 피리미디늄 카티온, 피라졸륨 카티온, 피롤리디늄 카티온, 암모늄 카티온 등의 함질소 오늄 카티온이나, 포스포늄 카티온, 술포늄 카티온 등을 들 수 있다. 함질소 오늄 카티온은 알킬기 등의 유기기나 치환기를 가져도 된다. 바람직하게는 4급 함질소 오늄 카티온이고, 1-알킬피리디늄(2∼6위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고, 무치환이어도 된다) 등의 4급 피리디늄 카티온이나, 1,3-디알킬이미다졸륨(2, 4, 5위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고, 무치환이어도 된다) 등의 4급 이미다졸륨 카티온, N-알킬피리미디늄(2위치 및 4∼6위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고, 무치환이어도 된다) 등의 4급 피리미디늄 카티온, 1,2-디알킬피라졸륨(3∼5위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고, 무치환이어도 된다) 등의 4급 피라졸륨 카티온, 1,1-디알킬피롤리디늄(2∼5위치의 탄소 원자는 치환기를 가져도 되고, 무치환이어도 된다) 등의 4급 피롤리디늄 카티온, 테트라알킬암모늄 등의 4급 암모늄 카티온 등을 들 수 있다. 포스포늄 카티온으로는, 테트라알킬포스포늄 등의, 유기기를 갖는 포스포늄 카티온을 들 수 있다. 술포늄 카티온으로는, 트리알킬술포늄 등의, 유기기를 갖는 술포늄 카티온을 들 수 있다.The ionic compound is an ionic compound having a cation and an anion. Examples of the cation include an organic cation or an inorganic cation such as alkali metal cation, pyridinium cation, imidazolium cation, pyrimidinium cation, pyrazolium cation, pyrrolidinium cation, ammonium cation Etc., phosphonium cation, sulfonium cation, and the like. The nitrogen atom onium cation may have an organic group such as an alkyl group or a substituent. Preferably a quaternary nitrogen atom onium cation, a quaternary pyridinium cation or a quaternary pyridinium cation such as 1-alkyl pyridinium (the carbon atom at the 2-6 position may have a substituent or may be unsubstituted) - dialkyl imidazolium (quaternary imidazolium cation, such as the carbon atoms at the 2, 4 and 5 positions may have a substituent or may be unsubstituted), N-alkylpyrimidinium (2-position and 4- Position carbon atom may have a substituent or may be unsubstituted), 1,2-dialkylpyrazolium (the carbon atom at the 3-5 position may have a substituent, Quaternary pyrrolidinium cation such as quaternary pyrazolium cation, such as 1,1-dialkylpyrrolidinium (the carbon atom at 2-5 position may have a substituent or may be unsubstituted) And quaternary ammonium cation such as quaternium, tetraalkylammonium and the like. Examples of the phosphonium cation include phosphonium cation that has an organic group such as tetraalkylphosphonium. Examples of the sulfonium cation include sulfonium cationes having an organic group such as trialkylsulfonium.

또한, 음이온으로는, 유기 음이온 또는 무기 음이온, 예를 들면, CnH2n+1COO-, CnF2n+1COO-, NO3 -, CnF2n+1SO3 -, (CnF2n+1SO2)2N-, (CnF2n+1SO2)3C-, RC6H4SO3 -, PO4 3-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, ClO4 -, BF4 -, PF6 -, AsF6 -, SbF6 -, SCN- 등을 들 수 있다. 이들 이온성 화합물은 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이온성 물질의 안정화를 위해, 폴리옥시알킬렌 구조를 함유하는 화합물을 첨가해도 된다. 이들 식 중, 첨자 n은 0 이상의 정수이다. n=0의 경우에는 HCOO-, (FSO2)2N- 등이 해당된다.Further, the anion is an organic anion or an inorganic anion, for example, C n H 2n + 1 COO -, C n F 2n + 1 COO -, NO 3 -, C n F 2n + 1 SO 3 -, (C n F 2n + 1 SO 2) 2 n -, (C n F 2n + 1 SO 2) 3 C -, RC 6 H 4 SO 3 -, PO 4 3-, AlCl 4 -, Al 2 Cl 7 -, ClO 4 -, BF 4 -, PF 6 - , AsF 6 - , SbF 6 - , SCN - and the like. These ionic compounds may be used alone or in combination of two or more. To stabilize the ionic material, a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added. In these formulas, subscript n is an integer of 0 or more. When n = 0, it corresponds to HCOO - , (FSO 2 ) 2 N - and so on.

그 중에서도, 양이온으로서 알칼리 금속 양이온을 갖는 이온성 화합물(알칼리 금속염)이 바람직하다. 알칼리 금속염으로는, 리튬, 나트륨, 칼륨으로 이루어지는 금속염을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면, Li, Na, K로 이루어지는 양이온과, Cl-, Br-, I-, BF4 -, PF6 -, SCN-, ClO4 -, CF3SO3 -, (FSO2)2N-, (CF3SO2)2N-, (C2F5SO2)2N-, (CF3SO2)3C-로 이루어지는 음이온으로 구성되는 금속염이 바람직하게 사용된다. 그 중에서도 특히, LiBr, LiI, LiBF4, LiPF6, LiSCN, LiClO4, LiCF3SO3, Li(FSO2)2N, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N, Li(CF3SO2)3C 등의 리튬염이 바람직하게 사용된다. 이들 알칼리 금속염은 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 이온성 물질의 안정화를 위해, 폴리옥시알킬렌 구조를 함유하는 화합물을 첨가해도 된다.Among them, an ionic compound (alkali metal salt) having an alkali metal cation as a cation is preferable. Examples of the alkali metal salts include metal salts of lithium, sodium and potassium. Specifically, for example, a cation selected from the group consisting of Li + , Na + , K + and a cation selected from Cl - , Br - , I - , BF 4 - , PF 6 - , SCN - , ClO 4 - , CF 3 SO 3 - , (FSO 2 ) 2 N - , (CF 3 SO 2 ) 2 N - , (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N - and (CF 3 SO 2 ) 3 C - Is used. Among others, LiBr, LiI, LiBF 4, LiPF 6, LiSCN, LiClO 4, LiCF 3 SO 3, Li (FSO 2) 2 N, Li (CF 3 SO 2) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, and Li (CF 3 SO 2 ) 3 C are preferably used. These alkali metal salts may be used alone or in combination of two or more. To stabilize the ionic material, a compound containing a polyoxyalkylene structure may be added.

대전 방지제층(3)의 건조 후의 도포막의 두께는 대전 방지제의 종류 및 그 대전 방지성, 피착체 오염성을 고려하여 결정하면 되지만, 0.3㎛ 이하인 것이 바람직하다. 대전 방지제층(3)의 두께가 0.3㎛를 초과하면 표면 보호 필름을 피착체에 첩합했을 때, 점착제 조성물의 성분이 대전 방지제층을 형성하고 있는 수지 사이로부터 표면 보호 필름과 피착체의 계면으로 표출되는 것이 곤란해져, 점착제층(2)의 점착력이 소정의 값에 이르지 않기 때문에 바람직하지 않다. 대전 방지제층(3)의 두께는 예를 들면, 0.01∼0.3㎛이다.The thickness of the coating film after drying of the antistatic agent layer 3 may be determined in consideration of the kind of the antistatic agent, its antistatic property and the stain on the adherend, but is preferably 0.3 탆 or less. When the thickness of the antistatic agent layer 3 exceeds 0.3 占 퐉, when the surface protective film is adhered to the adherend, the component of the pressure sensitive adhesive composition is exposed from the resin forming the antistatic agent layer to the interface between the surface protective film and the adherend And the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer 2 does not reach a predetermined value, which is not preferable. The thickness of the antistatic agent layer 3 is, for example, 0.01 to 0.3 mu m.

피착체로부터, 대전 방지 표면 보호 필름(10)(상세하게는, 도 2에 나타내는 박리 필름을 박리한 대전 방지 표면 보호 필름(11))을 박리할 때의 조작성이 우수한 점에서, 대전 방지 표면 보호 필름(10)을 피착체의 표면에서 박리할 때의 박리 강도(점착력)가 0.03∼0.3N/25㎜ 정도의 미점착력인 것이 바람직하다.In view of the excellent operability in peeling off the antistatic surface protective film 10 (more specifically, the antistatic surface protective film 11 obtained by peeling off the release film shown in Fig. 2) from the adherend, It is preferable that the peel strength (adhesive force) when the film 10 is peeled off from the surface of the adherend is an adhesive strength of about 0.03 to 0.3 N / 25 mm.

또한, 대전 방지 표면 보호 필름(10)에서 박리 필름(4)을 박리할 때의 조작성이 우수한 점에서, 박리 필름(4)을 대전 방지제층(3)에서 박리할 때의 박리력이 박리 속도 0.3m/min, 박리 각도 180°의 조건에서 측정했을 때 0.005∼0.3N/50㎜인 것이 바람직하다.In view of the excellent operability in peeling off the release film 4 from the antistatic surface protective film 10, the peeling force at the time of peeling off the release film 4 from the antistatic agent layer 3 is higher than the release rate 0.3 m / min and a peeling angle of 180 deg., it is preferable that the thickness is 0.005 to 0.3 N / 50 mm.

또한, 본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 있어서, 점착제층(2)의 표면에 대전 방지제층(3)을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, (1) 상기 대전 방지제 함유 재료를 박리 필름(4)의 박리제층에 함유시키고, 박리 필름(4)을 점착제층(2)에 첩착시켰을 때 점착제층(2)에 전사하는 방법, (2) 점착제층(2)의 표면에 상기 대전 방지제 함유 재료를 인쇄하는 방법, (3) 점착제층(2)의 표면에 상기 대전 방지제 함유 재료를 도포하는 방법 등을 들 수 있다. 상기 대전 방지제 함유 재료의 인쇄나 도포에 대해서는 균일하게 인쇄·도포해도 되고, 또는, 특정 패턴으로 인쇄·도포해도 된다. 대전 방지 표면 보호 필름의 피착체에 대한 점착제층의 점착력 등을 고려하여 결정하면 된다. 대전 방지제 함유 재료의 인쇄나 도포 방법에 대해서는 공지된 방법으로 행하면 된다.In the antistatic surface protective film 10 according to the present invention, the method for forming the antistatic agent layer 3 on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2 is not particularly limited. For example, a method of incorporating the antistatic agent-containing material into the release agent layer of the release film 4 and transferring the release agent to the pressure-sensitive adhesive layer 2 when the release film 4 is adhered to the pressure-sensitive adhesive layer 2, (2) a method of printing the antistatic agent-containing material on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2, (3) a method of applying the antistatic agent-containing material on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2, and the like. The antistatic agent-containing material may be printed or applied uniformly or may be printed or applied in a specific pattern. The adhesion of the pressure-sensitive adhesive layer to the adherend of the antistatic surface protective film, and the like. The printing or application method of the antistatic agent-containing material may be carried out by a known method.

도 1에 나타낸, 본 발명에 따른 대전 방지 표면 보호 필름(10)에 사용되는 박리 필름(4)에 사용하는 수지는 특별히 한정되지 않는다. 박리 필름(4)으로는, 예를 들면, 폴리에스테르 필름, 폴리아미드 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리이미드 필름 등의 수지 필름의 한쪽 면에 실리콘계 박리제, 장쇄 알킬기 함유 수지, 불소 수지 등의 박리제를 처리한 박리 필름이나, 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리메틸펜텐 수지, 불소 수지 등 이형성을 갖는 수지를 필름화한 박리 필름이 예시된다.The resin used for the release film 4 used in the antistatic surface protective film 10 shown in Fig. 1 is not particularly limited. As the release film 4, for example, a resin film such as a polyester film, a polyamide film, a polyethylene film, a polypropylene film and a polyimide film may be coated with a silicone release agent, a long chain alkyl group- A release film treated with a release agent, and a release film obtained by forming a resin having a releasing property such as polyethylene resin, polypropylene resin, polymethylpentene resin, and fluorine resin.

박리 필름의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 12∼100㎛ 정도의 두께가 바람직하고, 20∼50㎛ 정도의 두께이면 취급하기 쉽고, 보다 바람직하다.The thickness of the release film is not particularly limited. For example, the thickness of the release film is preferably about 12 to 100 mu m, and the thickness of about 20 to 50 mu m is easier to handle and more preferable.

도 2는 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름에서 박리 필름을 박리한 상태를 나타내는 단면도이다. 도 2에 나타내는 박리 필름을 박리한 대전 방지 표면 보호 필름(11)에서는 점착제층(2)의 표면에 대전 방지제층(3)이 형성되어 있다.2 is a cross-sectional view showing a state in which the release film is peeled off from the antistatic surface protective film of the present invention. In the antistatic surface protective film 11 from which the release film shown in Fig. 2 is peeled, the antistatic agent layer 3 is formed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 2. [

도 3은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름을 광학 부품에 첩합한 실시예를 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing an embodiment in which an antistatic surface protective film of the present invention is applied to an optical component.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름(10)은 박리 처리한 박리 필름(4)이 박리되어, 대전 방지제층(3)이 표출된 상태(도 2의 대전 방지 표면 보호 필름(11))로, 이 대전 방지제층(3)을 개재하여 피착체인 광학 부품(5)에 첩합된다.In the antistatic surface protective film 10 of the present invention, the peeling film 4 is peeled off and the antistatic agent layer 3 is exposed (the antistatic surface protective film 11 in Fig. 2) And is adhered to the optical component 5 as an adherend with the antistatic agent layer 3 interposed therebetween.

즉, 도 3은 본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름(10)에서 박리 필름(4)을 박리한 상태의 대전 방지 표면 보호 필름(11)이 첩합된 광학 부품(20)을 나타내고 있다. 광학 부품으로는, 편광판, 위상차판, 렌즈 필름, 위상차판 겸용 편광판, 렌즈 필름 겸용 편광판 등의 광학용 필름을 들 수 있다. 이러한 광학 부품은 액정 표시 패널 등의 액정 표시 장치, 각종 계기류의 광학계 장치 등의 구성 부재로서 사용된다. 또한, 광학 부품으로는, 반사 방지 필름, 하드 코트 필름, 터치 패널용 투명 도전성 필름 등의 광학용 필름도 들 수 있다. 특히, 표면이 실리콘 화합물이나 불소 화합물 등으로 방오 처리되어 있는 저반사 처리 편광판(LR 편광판)이나 안티 글레어 저반사 처리 편광판(AG-LR 편광판) 등의 광학용 필름의 방오 처리한 면에 첩합되는 대전 방지 표면 보호 필름으로서 바람직하게 사용할 수 있다.That is, FIG. 3 shows an optical component 20 to which an antistatic surface protective film 11 in a state of peeling the release film 4 from the antistatic surface protective film 10 of the present invention is bonded. Examples of the optical component include optical films such as a polarizing plate, a retardation plate, a lens film, a polarizing plate serving as a retardation plate, and a polarizing plate serving also as a lens film. Such an optical component is used as a constituent member of a liquid crystal display device such as a liquid crystal display panel and an optical system device of various instruments. Examples of the optical component include optical films such as an antireflection film, a hard coat film, and a transparent conductive film for a touch panel. Particularly, it is preferable to use an anti-fouling film which is adhered to an antifouling treated surface of an optical film such as a low reflection polarizing plate (LR polarizing plate) and an anti-glare low reflection polarizing plate (AG-LR polarizing plate) whose surface is treated with a silicone compound, It can be preferably used as an anti-surface protective film.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름(10)에서 박리 필름(4)을 박리한 상태의 대전 방지 표면 보호 필름(11)을 피착체인 광학 부품(광학용 필름)에서 박리 제거할 때, 박리 대전압을 충분히 낮게 억제할 수 있다. 이 때문에, 드라이버 IC, TFT 소자, 게이트선 구동 회로 등의 회로 부품을 파괴할 우려가 없고, 액정 표시 패널 등을 제조하는 공정에서의 생산 효율을 높여, 생산 공정의 신뢰성을 유지할 수 있다.When the antistatic surface protective film 11 in a state in which the release film 4 is peeled from the antistatic surface protective film 10 of the present invention is peeled off from the optical component (optical film) It can be suppressed sufficiently low. Therefore, there is no fear of destroying the circuit components such as the driver IC, the TFT element, and the gate line driving circuit, and the production efficiency in the process of manufacturing the liquid crystal display panel and the like can be increased, and the reliability of the production process can be maintained.

실시예Example

이어서, 실시예에 의해, 본 발명을 상세하게 설명한다.Next, the present invention will be described in detail by examples.

(실시예 1)(Example 1)

(대전 방지 표면 보호 필름의 제조) (Preparation of antistatic surface protective film)

두께 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에, 폴리우레탄계 점착제(아라카와 화학 공업(주) 제조, 품명: 아라코트(등록상표) FT200, 점착제 불휘발분의 함유율은 40중량%) 100중량부, 경화제(아라카와 화학 공업(주) 제조, 품명: 아라코트(등록상표) CL2503, 경화제 불휘발분의 함유율은 40중량%) 5.7중량부를 첨가, 혼합한 점착제 조성물의 도부액을 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록, 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 건조시켜 점착제층을 형성하였다. 그 후, 점착제층의 표면에 대전 방지제로서 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드의 초산에틸 용액을 건조 후의 대전 방지제층의 두께가 0.1㎛가 되도록 메이어 바 No.4를 사용하여 도포한 후, 100℃의 열풍 순환식 오븐에서 2분간 가열 건조시켜, 점착제층의 표면에 대전 방지제층을 형성한 샘플을 제작하였다. 이 샘플의 점착제층의 표면에 박리 필름(미츠비시 수지(주) 제조 다이아 호일 MRF38, 두께 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 표면에 실리콘 박리제를 처리한 것)을 첩합하여, 실시예 1의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.100 parts by weight of a polyurethane pressure-sensitive adhesive (Arakoto (registered trademark) FT200, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., content of non-volatile components of the pressure-sensitive adhesive of 40% by weight) And 5.7 parts by weight of a curing agent nonvolatile ingredient (trade name: Aracat (registered trademark) CL2503, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., content: 40% by weight) And then dried in a hot air circulating oven at 100 캜 for 2 minutes to form a pressure-sensitive adhesive layer. Thereafter, an ethyl acetate solution of lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide as an antistatic agent was applied to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer using Meyer Bar No. 4 so that the thickness of the antistatic agent layer after drying was 0.1 탆 Thereafter, it was heated and dried in a hot-air circulating oven at 100 ° C for 2 minutes to prepare a sample having an antistatic agent layer formed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer. A release film (DIAFOLY MRF38 manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc., a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 m treated with a silicone release agent) was applied to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of this sample to obtain an antistatic surface A protective film was obtained.

(실시예 2) (Example 2)

실시예 1의 대전 방지제를 리튬비스(플루오로술포닐)이미드로 하고, 건조 후의 대전 방지제층의 두께를 0.05㎛로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The antistatic surface protective film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the antistatic agent of Example 1 was lithium bis (fluorosulfonyl) imide and the antistatic agent layer after drying had a thickness of 0.05 占 퐉. ≪ / RTI >

(실시예 3)(Example 3)

실시예 1의 대전 방지제층의 건조 후의 두께를 0.3㎛로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.An antistatic surface protective film of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the antistatic agent layer of Example 1 after drying was 0.3 占 퐉.

실시예 1의 대전 방지제를 트리-n-부틸메틸암모늄 비스트리플루오로메탄술폰이미드(쓰리엠 재팬사 제조, 품번: FC-4400)로 바꾼 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 4의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.The procedure of Example 1 was repeated except that the antistatic agent of Example 1 was replaced with tri-n-butylmethylammonium bistrifluoromethanesulfonimide (manufactured by 3M Japan Co., Ltd., product number: FC-4400) An antistatic surface protective film was obtained.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

점착제층 위에 대전 방지제층을 적층하는 대신에, 실시예 1의 점착제 조성물 내에 실시예 1의 대전 방지제를 고형분 비율로 100:1.5가 되도록 혼합한, 대전 방지제를 혼합한 점착제 조성물을 건조 후의 점착제층의 두께가 20㎛가 되도록 도포한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 1의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.A pressure-sensitive adhesive composition prepared by mixing an antistatic agent mixed with an antistatic agent of Example 1 at a solid content ratio of 100: 1.5 in the pressure-sensitive adhesive composition of Example 1 instead of laminating the antistatic agent layer on the pressure- An antistatic surface protective film of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating was applied so as to have a thickness of 20 탆.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

대전 방지제층을 형성하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 2의 표면 보호 필름을 얻었다.A surface protective film of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that no antistatic agent layer was formed.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

대전 방지제층의 건조 후의 두께를 0.5㎛로 한 것 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 3의 대전 방지 표면 보호 필름을 얻었다.An antistatic surface protective film of Comparative Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the antistatic agent layer after drying was 0.5 탆.

이하, 평가 시험의 방법 및 결과에 대해 나타낸다.Hereinafter, the evaluation test method and results are shown.

〈박리 필름의 박리력의 측정 방법〉 ≪ Method of measuring peel strength of release film >

대전 방지 표면 보호 필름의 샘플을 폭 50㎜, 길이 150㎜로 재단한다. 23℃×50%RH의 시험 환경하에 인장 시험기를 이용하여 300㎜/분의 박리 속도로 180°의 방향으로 대전 방지제층에서 박리 필름을 박리했을 때의 강도를 측정하여, 이것을 박리 필름의 박리력(N/50㎜)으로 하였다.A sample of the antistatic surface protective film is cut to a width of 50 mm and a length of 150 mm. The strength of the peeled film peeled off from the antistatic agent layer in the direction of 180 ° at a peeling rate of 300 mm / min under a test environment of 23 ° C × 50% RH was measured using a tensile tester, and the peel strength (N / 50 mm).

(대전 방지제의 표면의 표면 저항률의 측정 방법)(Method for measuring the surface resistivity of the surface of the antistatic agent)

대전 방지 표면 보호 필름의 샘플에서 박리 필름을 박리한 후, 대전 방지제층의 표면의 표면 저항률을 고저항 저항률계(미츠비시 화학 애널리테크사 제조 하이레스터(등록상표)-UP)를 이용하여, 인가 전압 100V, 측정 시간 30초의 조건에서 측정한다.After the release film was peeled off from the sample of the antistatic surface protective film, the surface resistivity of the surface of the antistatic agent layer was measured by using a high resistance resistivity meter (Hirestr (registered trademark) -UP manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) Measurement is made under the condition of a voltage of 100 V and a measurement time of 30 seconds.

〈대전 방지 표면 보호 필름의 점착력의 측정 방법〉≪ Method of measuring adhesion of antistatic surface protective film >

유리판의 표면에 안티 글레어 저반사 처리 편광판(AG-LR 편광판)을 첩합기를 이용하여 첩합하였다. 그 후, 편광판의 표면에 폭 25㎜로 재단한 대전 방지 표면 보호 필름을 첩합한 후, 23℃×50%RH의 시험 환경하에 1일간 보관하였다. 그 후, 인장 시험기를 이용하여 300㎜/분의 박리 속도로 180°의 방향으로 대전 방지 표면 보호 필름을 박리했을 때의 강도를 측정하여, 이것을 점착력(N/25㎜)으로 하였다.An anti-glare low reflection polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate using a coater. Thereafter, an antistatic surface protective film cut to a width of 25 mm was applied to the surface of the polarizing plate, and then stored for 1 day under a test environment of 23 DEG C x 50% RH. Thereafter, the strength when the antistatic surface protective film was peeled off in the direction of 180 DEG at a peeling speed of 300 mm / min was measured using a tensile tester, and this was regarded as an adhesive force (N / 25 mm).

〈대전 방지 표면 보호 필름의 박리 대전압의 측정 방법〉≪ Method of measuring peeling electrification voltage of antistatic surface protective film >

유리판의 표면에 안티 글레어 저반사 처리 편광판(AG-LR 편광판)을 첩합기를 이용하여 첩합하였다. 그 후, 편광판의 표면에 폭 25㎜로 재단한 대전 방지 표면 보호 필름을 대전 방지제층을 개재하여 첩합한 후, 23℃×50%RH의 시험 환경하에 1일간 보관하였다. 그 후, 고속 박리 시험기(테스터 산업 제조)를 사용하여 매분 40m의 박리 속도로 대전 방지 표면 보호 필름을 박리하면서, 상기 편광판 표면의 표면 전위를 표면 전위계(키엔스(주) 제조)를 사용하여 10ms마다 측정했을 때의 표면 전위의 절대값의 최대값을 박리 대전압(㎸)으로 하였다.An anti-glare low reflection polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate using a coater. Thereafter, an antistatic surface protective film cut to a width of 25 mm was applied to the surface of the polarizing plate through an antistatic agent layer, and then stored for 1 day under a test environment of 23 占 폚 占 50% RH. Thereafter, while peeling off the antistatic surface protective film at a peeling rate of 40 m per minute using a high-speed peeling tester (manufactured by Tester Industries), the surface potential of the surface of the polarizing plate was measured every 10 ms using a surface electrometer The maximum value of the absolute value of the surface potential when measured was taken as the peeling electromotive force (kV).

〈대전 방지 표면 보호 필름의 표면 오염성의 확인 방법〉<Method of confirming surface staining property of antistatic surface protective film>

유리판의 표면에 안티 글레어 저반사 처리 편광판(AG-LR 편광판)을 첩합기를 이용하여 첩합하였다. 그 후, 편광판의 표면에 폭 25㎜로 재단한 대전 방지 표면 보호 필름을 대전 방지제층을 개재하여 첩합한 후, 23℃×50%RH의 시험 환경하에 3일 및 30일 보관하였다. 그 후, 대전 방지 표면 보호 필름을 박리하여, 편광판의 표면의 오염성을 육안으로 관찰하였다. 표면 오염성의 판정 기준으로서 편광판에 오염 이행이 없었던 경우를 (○)로 하고, 편광판에 오염 이행이 확인되었을 경우를 (×)로 하였다.An anti-glare low reflection polarizing plate (AG-LR polarizing plate) was bonded to the surface of the glass plate using a coater. Thereafter, an antistatic surface protective film cut to a width of 25 mm was applied to the surface of the polarizing plate through an antistatic agent layer, and then stored for 3 days and 30 days under a test environment of 23 占 폚 占 50% RH. Thereafter, the antistatic surface protective film was peeled off, and the staining property of the surface of the polarizing plate was visually observed. As a criterion of the surface staining property, the case where no staining was observed on the polarizing plate was evaluated as (o), and the case where the staining on the polarizing plate was confirmed as (x).

얻어진 실시예 1∼4 및 비교예 1∼3의 대전 방지 표면 보호 필름에 대해, 측정한 측정 결과를 표 1 및 표 2에 나타냈다. 「LiTFSI」는 리튬비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드를, 「LiFSI」는 리튬비스(플루오로술포닐)이미드를 「FC-4400」은 트리-n-부틸메틸암모늄 비스트리플루오로메탄술폰이미드를 각각 의미한다. 또한, 대전 방지제층의 표면의 표면 저항률란의 「5.9E9」은 5.9×109를 의미하고, 「오버 레인지」는 표면 저항률(Ω/□)이 측정 상한값(1.0×1013 이상)을 초과하여, 측정 불가능한 것을 의미한다.The obtained antistatic surface protective films of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 are shown in Table 1 and Table 2, respectively. "LiFSI" is lithium bis (fluorosulfonyl) imide, "FC-4400" is tri-n-butyl methyl ammonium bistrifluoro Methane sulfone imide, respectively. "5.9E9" of the surface resistivity of the surface of the antistatic agent layer means 5.9 × 10 9 and "overrange" means that the surface resistivity (Ω / □) exceeds the upper limit of measurement (1.0 × 10 13 or more) Means impossible to measure.

Figure pat00001
Figure pat00001

Figure pat00002
Figure pat00002

표 1 및 표 2에 나타낸 측정 결과로부터 이하를 확인할 수 있다.From the measurement results shown in Table 1 and Table 2, the following can be confirmed.

본 발명에 따른 실시예 1∼4의 대전 방지 표면 보호 필름은 대전 방지제층을 개재한 첩합에서도 적당한 점착력이 있고, 피착체의 표면에 대한 오염이 없으며, 또한 대전 방지 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리했을 때의 박리 대전압이 낮다.The antistatic surface protective film of Examples 1 to 4 according to the present invention had an appropriate adhesion even in the bonding via the antistatic agent layer and was free from contamination to the surface of the adherend and also the antistatic surface protective film was peeled from the adherend The peeling electrification voltage is low.

한편, 대전 방지제를 점착제층에 균일하게 혼합한, 비교예 1의 표면 보호 필름은 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리했을 때의 박리 대전압이 낮아 양호하지만, 30일 보관한 후의 경시에서의 피착체에 대한 오염성이 악화되었다. 또한, 점착제층의 표면에 대전 방지제층을 형성하지 않았던 비교예 2의 표면 보호 필름은 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리했을 때의 박리 대전압이 높아졌다. 또한, 대전 방지제층의 두께를 늘린 비교예 3은 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리했을 때의 박리 대전압은 낮아 양호하지만, 박리한 후의 피착체에 대한 오염이 많아졌다.On the other hand, the surface protective film of Comparative Example 1, in which the antistatic agent was uniformly mixed with the pressure-sensitive adhesive layer, was good because the peeling electrification voltage when the surface protective film was peeled off from the adherend was low. However, The fecal matter was worsened. Further, the surface protective film of Comparative Example 2 in which the antistatic agent layer was not formed on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer had a higher peeling electrification voltage when the surface protective film was peeled from the adherend. In Comparative Example 3 in which the thickness of the antistatic agent layer was increased, the peeling electrification voltage when the surface protective film was peeled off from the adherend was low because of the low degree of contamination to the adherend after peeling.

본 발명의 대전 방지 표면 보호 필름은 예를 들면, 편광판, 위상차판, 렌즈 필름 등의 광학용 필름, 그 외 각종 광학 부품 등의 생산 공정 등에 있어서, 당해 광학 부품 등에 첩합하여 표면을 보호하기 위해 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 표면 보호 필름은 피착체에서 박리할 때에 발생하는 정전기의 양을 낮출 수 있고, 또한, 박리 대전 방지 성능의 경시 변화 및 피착체에 대한 오염이 적고, 각종 광학 부품 등의 생산 공정의 수율을 향상시킬 수 있어 산업상 이용 가치가 크다.The antistatic surface protective film of the present invention can be used to protect the surface of an antireflection film or the like in a production process of an optical film such as a polarizing plate, a retardation film, and a lens film, . Further, the surface protective film of the present invention can reduce the amount of static electricity generated when peeling off from the adherend, and furthermore, the peeling electrification preventing performance is less changed with time, the adherend is less contaminated, Can be improved in the yield of industrial use.

1…기재 필름, 2…점착제층, 3…대전 방지제층, 4…박리 필름, 5…광학 부품, 10…대전 방지 표면 보호 필름, 11…박리 필름을 박리한 대전 방지 표면 보호 필름, 20…대전 방지 표면 보호 필름을 첩합한 광학 부품.One… Base film, 2 ... Adhesive layer, 3 ... Antistatic agent layer, 4 ... Peeling film, 5 ... Optical components, 10 ... Antistatic surface protection film, 11 ... Antistatic surface protection film with exfoliating film, 20 ... Antistatic surface protective film.

Claims (3)

투명성을 갖는 수지로 이루어지는 기재 필름의 한쪽 면에, 대전 방지제를 함유하지 않는 폴리우레탄계 점착제층과, 대전 방지제만으로 이루어지는 대전 방지제층이 이 순서로 적층되어 이루어지고,
상기 대전 방지제가 리튬염이며,
상기 대전 방지제층의 두께가 0.01∼0.3㎛이고,
상기 대전 방지제층이, 수지 필름의 한쪽 면에 박리제와 상기 대전 방지제를 함유하는 박리제층이 적층되어 이루어지는 박리 필름을, 상기 폴리우레탄계 점착제층에 첩합한 때에 상기 폴리우레탄계 점착제층에 전사함으로써 형성되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름.
A polyurethane pressure-sensitive adhesive layer not containing an antistatic agent and an antistatic agent layer composed only of an antistatic agent are stacked in this order on one surface of a base film made of a resin having transparency,
Wherein the antistatic agent is a lithium salt,
Wherein the antistatic agent layer has a thickness of 0.01 to 0.3 mu m,
Wherein the antistatic agent layer is formed by transferring a release film formed by laminating a release agent containing a release agent and an antistatic agent on one side of a resin film to the polyurethane pressure sensitive adhesive layer when the release film is applied to the polyurethane pressure sensitive adhesive layer Wherein the antistatic surface protective film is a film having antistatic properties.
제 1 항에 있어서,
상기 대전 방지제가 LiBr, LiI, LiBF4, LiPF6, LiSCN, LiClO4, LiCF3SO3, Li(FSO2)2N, Li(CF3SO2)2N, Li(C2F5SO2)2N 및 Li(CF3SO2)3C로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상의 리튬염인 것을 특징으로 하는 대전 방지 표면 보호 필름.
The method according to claim 1,
That the antistatic agent LiBr, LiI, LiBF 4, LiPF 6, LiSCN, LiClO 4, LiCF 3 SO 3, Li (FSO 2) 2 N, Li (CF 3 SO 2) 2 N, Li (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N, and Li (CF 3 SO 2 ) 3 C. The antistatic surface protective film according to claim 1,
제 1 항 또는 제 2 항의 대전 방지 표면 보호 필름이 첩합되어 이루어지는 광학 부품.An optical component in which the antistatic surface protective film of claim 1 or 2 is bonded.
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