KR20180013867A - 얇은 유리에서 굽음을 감소하기 위한 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명이 해결하고자 하는 문제점은 바람직하게는 얇은 유리 스트립의 형태인 재료 스트립의 제조시 굽음 결함을 회피하는 것이다. 이러한 문제점은 종방향(7.a)으로 이동되는 재료 스트립(1)의 제조시 프로세스 에러를 검출하기 위한 검출 방법에 의해 해결되며, 상기 프로세스 에러는 상기 재료 스트립(1)의 결함, 특히 기하학적 결함을 발생시킨다: 상기 방법은 상기 재료 스트립(1)으로부터 생기는 특성 변수의 경과를 검출하는 단계 - 상기 경과는 종방향 좌표에 의존하고 상기 결함에 의해 영향을 받으며, 상기 경과는 종방향(7.a)에 대한 측방향(7.b)의 범위를 가짐 - ; 및 상기 특성 변수의 경과에 따라 상기 프로세스 에러를 결정하는 단계를 포함한다.

Description

얇은 유리에서 굽음을 감소하기 위한 방법 및 장치
본 발명은 일반적으로 얇은 유리 스트립의 제조 및 패킹에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 얇은 유리 스트립의 제조시 소위 굽음 에러를 검출하여 감소시킬 수 있는 방법 및 장치에 관한 것이다. 굽음 에러는 유리 스트립 에지가 휨을 갖도록 유리 스트립이 변형되는 것이다.
얇은 유리 스트립은 인발 공정 후에 종종 권취를 통해 패킹된다. 유리 스트립이 예를 들어 굽음 에러와 같은 변형을 갖게 되면, 개별 권취의 에지가 더 이상 정확히 나란히 있지 않게 된다. 이는 특히 유리 롤의 비스듬한 측벽을 유발할 수 있다. WO 2013/066672 A1호는 정전기로 대전된 필름을 권취하여, 이에 의해 유리 롤의 개개의 층들이 연속적으로 에지들이 정렬되어 효과적으로 접착되는 것을 제안한다.
유리 롤의 직선형 측벽을 갖는 유리 스트립을 권취할 수 있는 다른 해결책은 미국 특허 US 2012/0111054 A1호로부터 공지되어 있다. 여기에 제안된 방법은 유리 스트립을 휘게 하고 이러한 방식으로 길이 방향에 수직인 충분한 강성을 유리 스트립에 부여하고, 이러한 강성에 의해 유리 스트립 에지에 결합되는 롤러로 이 스트립을 안내할 수 있는 것에 기초한다.
그러나 굽음으로 인해 유리에 응력이 유도될 수 있다. 그러나 특히 바람직하지 못한 것은, 유리 스트립 에지에서 측방향으로 안내된 유리 스트립이 권취 해제 시에 에지의 휨으로 인해 측방향으로 연장되는 것이다. 이는 후속 처리 단계, 특히 높은 정밀도가 요구되는 처리 단계를 방해할 수 있다.
WO 2013/066672 A1호 및 US 2012/0111054 A1호에서 공지된 해결책은 개선된 기하학적 구조를 갖는 유리 롤을 제조하기에 적합하지만, 가능한 굽음 에러가 발생하여 유지되기 때문에, 상기 설명한 문제점은 해결되지 않는다.
DE 10220551 A1호는 이동하는 재료 웹의 속도를 검출하는 방법 및 장치를 제안한다. 여기서 열 마크가 재료 웹에 주기적으로 적용되고, 이러한 열 마크는 이동 방향으로 오프셋되어 배치된 온도 센서를 통해 검출된다. 그러나, 제시된 개념에 의해서는 굽음 에러의 검출이 가능하지 않다.
따라서, 본 발명의 목적은 재료 웹의 제조시 굽음 에러를 효과적으로 감소시킬 수 있도록 재료 웹, 특히 얇은 유리 스트립의 제조시 굽음 에러를 검출하는 개념을 제공하는 것이다.
이러한 목적은 본원의 청구범위의 독립항의 주제에 의해 달성된다. 본 발명의 유리한 실시예 및 개선예가 각각의 종속항에 제공된다.
본 발명의 일 양태는 종방향으로 이동되는 재료 스트립을 제조할 때 프로세스 에러를 검출 또는 인식하기 위한 검출 방법에 관한 것이다. 이러한 프로세스 에러는, 특히, 재료 스트립의 제조시에, 재료 스트립의 측방향으로 대향하는 에지 또는 가장자리에서, ⅰ) 상이한 강도의 인장력이 재료 스트립에 작용하거나, 또는 ⅱ) 상이한 온도가 발생하는 것이고, 이는 재료 스트립의 대향하는 에지의 상이한 속도 및 이에 따라 굽음 에러를 발생시킬 수 있다.
재료 스트립은 바람직하게는 얇은 유리 스트립으로, 또는 필요에 따라 플라스틱 또는 종이 웹으로, 또는 롤링된 스톡(rolling stock)으로 설계될 수 있다.
종방향은 재료 스트립의 이동 방향 또는 재료 스트립에 작용하는 인장력의 방향으로 배향될 수 있다. 종방향에 대한 측방향은 종방향에 대해 대략 수직일 수 있다. 종방향 좌표는 종방향에 대한 재료 스트립 상의 포인트의 위치를 나타내는 크기로 이해될 수 있다; 이에 상응하는 내용은 측방향 좌표에 대해서도 마찬가지이다.
프로세스 에러로 인해 재료 스트립의 결함, 특히 기하학적 결함이 발생할 수 있다. 결함은 ⅰ) 재료 스트립이 측방향으로 대향하는 에지에서 서로 다른 두께를 갖는 것, ⅱ) 측방향으로 대향하는 에지가 상이한 길이를 갖는 것, 또는 ⅲ) 재료 스트립이 휨 또는 워핑(warping)을 갖는 것일 수 있다.
상기 검출 방법은 종방향 좌표에 의존하고 결함에 의해 영향을 받고 재료 스트립에 부여되는 특성 변수 또는 식별자의 경과가 검출되는 단계를 포함할 수 있다. 상기 특성 변수는 예를 들어, ⅰ) 온도 분포, ⅱ) 고정 포인트까지의 거리, 또는 ⅲ) 재료 스트립의 표면의 반사율의 변화의 형태의 마킹일 수 있다. 특성 변수는 이러한 방식으로 재료 스트립을 통해 발생될 수 있고, 대응하는 센서에 의해 측정되거나 또는 검출될 수 있다. 특성 곡선의 경과는 재료 스트립에 대한 특성 변수의 2차원적(2D) 분포로 볼 수 있다; 특성 변수의 분포는 측방향으로 그리고 바람직하게는 수평 방향으로의 범위를 가질 수 있다.
상기 검출 방법은 프로세스 에러가 특성 변수의 경과에 따라 결정되는 추가의 단계를 포함할 수 있다. 따라서 예를 들어, 레이저에 의한, 종방향으로 주기성을 갖는 시그니처로 간주될 수 있는 측방향으로 연장되는 스트라이프형 온도 상승이 재료 스트립에 스탬핑될 수 있다; 프로세스 에러의 결과로서, 온도 스탬핑 또는 시그니처가 특히 재료 스트립의 측방향으로 대향하는 에지의 상이한 속도로 인해, 2D 경과를 변화시킬 수 있다. 특성 변수의 검출된 경과를 분석하면, 2D 스탬핑과 측정된 2D 경과 사이의 차이를 확인할 수 있으므로, 프로세스 에러 및 그 특성에 대한 정보, 특히 재료 스트립의 대향하는 에지의 속도 차이에 대한 정보를 제공할 수 있다.
본 발명의 다른 양태는 종방향으로 이동되는 바람직하게는 얇은 유리 스트립으로 형성된 재료 스트립의 제조시 프로세스 에러를 검출하기 위한 검출 장치에 관한 것으로서, 상기 프로세스 에러는 상기 재료 스트립의 기하학적 결함을 발생시킨다. 상기 장치는 상기 재료 스트립에 부여되고 상기 프로세스 에러에 의해 영향을 받는 특성 변수의 경과를 검출하기 위한 검출 수단 및 상기 특성 변수의 상기 경과에 따라 상기 프로세스 에러를 결정하기 위한 진단 수단을 포함할 수 있다.
유리하게는, 본 발명에 따른 검출 개념은 재료 스트립의 제조시 프로세스 에러의 존재의 표현을 제공하는 특히 굽음 에러와 같은 재료 스트립의 결함의 효과적인 검출을 가능하게 한다. 특히, 재료 스트립에 대한 2D 분포로서의 특성 변수의 경과의 검출은, 특성 변수가 한 번에 재료 스트립의 포인트 또는 영역에 관한 통합 정보를 제공하는 포인트 또는 통합 측정과 비교할 때 상당한 장점이 있다.
재료 스트립을 따른 포인트 또는 통합 측정은 최대한으로 해도 종방향 좌표를 따른 특성 변수의 1차원적 프로파일(1D 분포)을 제공할 수 있다. 반면에, 재료 스트립에 대한 특성 변수의 경과(2D 분포)는 재료 스트립의 품질 및 생산 공정의 평가와 관련하여 재료 스트립의 차별화된 분석을 가능하게 한다. 따라서, 예를 들어, 재료 스트립 상에 주기적인 시간 간격으로 스트라이프형 시그니처의 형태로 특성 변수를 적용한 후, 제조 공정의 추후 과정에서 인식 가능한 경향을 갖는 선형적인 경과의 형태로 발생하는 시그니처의 변화는 굽음에 대한 결론을 이끌어 낼 수 있다. 비선형적인 경과와 같은 시그니처의 추가적인 또는 다른 유형의 변형 또는 디포메이션의 발생은 재료 스트립의 불균일성 또는 재료 스트립의 불균일한 재료 흐름 및 휨 또는 워핑을 나타낼 수 있다.
상기 검출 방법 또는 상기 검출 장치에 의해 얻어지는 진단 데이터에 기초하여, 바람직하게는 이 진단 데이터가 입력되는, 생산 공정에 적합한 제어 수단에 의해, 생산 공정의 효과적인 보정이 가능하다; 유리하게는 이에 따라 최종 제품의 품질뿐만 아니라 제품 생산의 경제성도 개선되게 되는데, 왜냐하면 불량품이 거의 발생하지 않기 때문이다.
일 실시예에 따르면, 기하학적 결함은 상기 재료 스트립의 굽음 또는 상기 재료 스트립의 두께의 측방향으로의 웨지형 경과(횡단면 프로파일)와 관련될 수 있다. 굽음의 특징은 재료 스트립의 굽음 형태의 휨이며, 재료 스트립의 에지의 휨 벡터는 재료 스트립의 측면의 평면에 존재한다. 결함은 예를 들어 접선 방향을 따라 변하는 재료 스트립의 에지에 대한 불균등한 인장력 또는 재료 스트립에 대한 인장력으로 인해, 재료 스트립의 측방향으로 대향하는 에지의 속도 차이가 발생하는 프로세스 에러와 관련될 수 있다.
특성 변수의 경과의 검출은 ⅰ) 특성 변수에 의존하는 측정 변수의 생성, 및 ⅱ) 측정 변수 및/또는 측정 변수의 경과의 검출을 포함할 수 있다.
특성 변수는 바람직하게는 측방향에 대해 평행하게 배향되거나 또는 필요한 경우 경사질 수 있는 측방향 스트라이프 또는 마킹으로서, 초기 시그니처로 지칭되는 마킹 또는 시그니처의 형태로 재료 스트립에 적용될 수 있다. 상기 시그니처는 연속적인 경과를 가질 수 있거나 또는 개별적인 이산형 마킹으로 형성될 수도 있으며, 상기 마킹은 바람직하게는 적어도 하나의 개별 마킹을 포함한다.
특성 변수의 검출된 경과는 특히 재료 스트립의 기하학적 결함으로 인해, 초기 시그니처로부터 변형 또는 디포메이션을 통해 형성되는 변경된 시그니처를 특징으로 할 수 있다. 측정 변수의 경과를 검출하는 것은 변경된 시그니처의 측정 또는 검출로 간주될 수 있다.
재료 스트립의 측방향으로 대향하는 에지의 속도의 차이는 초기 시그니처에 대한 변경된 시그니처의 편차 또는 변형에 따라 결정될 수 있다. 따라서 예를 들어, 초기에 측방향으로 배향된 스트라이프의 경우, 측정된 스트라이프가 초기 스트라이프에 비해 종방향으로 경사지는 범위(Δs)가 결정될 수 있다; 시그니처의 적용과 측정 사이의 시간 차이(Δt)에서, 속도의 차이는 Δv = Δs / Δt 이다.
특성 변수는 프로세스 에러를 검출하기 위해 재료 스트립 상에 적용된 자체의 변수 또는 시그니처일 수 있다. 따라서, 특성 변수는 재료 스트립의 온도 분포의 형태의 시그니처, 특히 종방향 및/또는 측방향의 재료 스트립의 국부적인 온도 상승 또는 온도 프로파일일 수 있다. 이러한 경우, 초기 시그니처는 예를 들어 레이저에 의해 재료 스트립을 조사함으로써, 측방향 스트라이프형 온도 상승 형태로, 열적인 열 시그니처 또는 마킹으로서 재료 스트립에 적용될 수 있다.
특성 변수는 또한 재료 스트립의 반사도 또는 반사율, 특히 종방향 및/또는 측방향으로의 재료 스트립의 반사율 또는 반사 프로파일의 국부적인 변화일 수 있다. 이러한 경우, 초기 시그니처는 코팅 또는 마킹으로서, 예를 들어 컬러 마킹의 형태로, 특히 재료 웹의 길이 방향에 대한 측방향으로, 예를 들어 횡방향으로 연장되는 스트라이프의 형태로 재료 스트립에 적용될 수 있다.
인쇄에 의해 재료 스트립에 코팅을 도포함으로써
ⅰ) 반사 프로파일은 특히 재료 스트립의 반사율과 다른 반사율을 갖는 코팅에 의해 재료 스트립에 적용될 수 있고, 및/또는
ⅱ) 온도 프로파일은 특히 재료 스트립의 온도와 다른 온도를 갖는 코팅에 의해 재료 스트립에 적용될 수 있다.
바람직하게는, 코팅은 잉크젯 프린터 또는 잉크젯에 의해 필요에 따라 광학적으로 비-가시적인 잉크의 형태로 재료 스트립에 도포되어, 코팅에 의해 영향을 받는 후방 산란된 전자기 복사 또는 온도가 검출될 수 있다.
코팅은 도포 후에 가시적인 잔류물 없이, 예를 들어 증발 또는 레이저-조사에 의해, 제거되거나 또는 벗겨질 수 있다; 바람직하게는 코팅은, 적어도 특성 변수 또는 특성 변수에 의존하는 측정 변수, 특히 코팅에 의해 영향을 받는 후방 산란된 전자기 복사 또는 온도가 검출될 때까지, 재료 스트립 상에 잔류한다.
측정 변수를 검출하기 위해, 검출 수단은 다음의 구성 요소를 포함할 수 있다:
- 종방향으로, 즉 재료 스트립의 길이 방향으로 이격된 하나 또는 적어도 2개의 센서 - 센서는 각각 적어도 하나의 측방향 부분 영역에서 특성 변수를 검출하기에 적합한 검출 영역을 가짐 - 및/또는
- 특성 변수의 측방향 경과를 결정하기 위해 적어도 2개의 측방향으로 이격된 센서.
일 실시예에 따르면, 센서 또는 상기 센서의 각각은 재료 스트립에 의해 방사되거나 또는 반사되는 전자기 복사를 검출하도록 설계될 수 있다. 온도 복사를 검출하기 위해, 센서는 예를 들어 고온계 또는 서모카메라(thermo camera)로서 설계될 수도 있다.
측정 변수를 생성하기 위해, 광학적으로 가시적인, IR 또는 UV 영역을 포함하는 스펙트럼 영역으로 전자기 복사가 상기 재료 스트립에 지향될 수 있다. 이를 위해, 검출 장치는 재료 스트립에 전자기 복사를 조사하고 이에 따라 재료 스트립에 특성 변수를 부여하기 위해 레이저로 설계되는 복사 소스를 포함할 수 있다. 측정 변수는 ⅰ) 재료 스트립에 의해 반사된 복사의 형태로 또는 ⅱ) 재료 스트립 상에 열적인 열 시그니처를 적용하여 생성될 수 있다.
특성 변수는 또한, 바람직하게는 프로세스 에러를 검출하기 위해 재료 스트립에 특별히 적용되지 않고, 재료 스트립이 독자적으로 갖는 기술적인 변수일 수도 있다. 이러한 특성 변수는 재료 스트립에 대한 2개의, 바람직하게는 고정된, 측방향 및 종방향으로 오프셋되어 배치된 포인트의 수직 거리와 관련될 수 있다. 따라서, 측방향 및 종방향으로 오프셋되어 배치된 2개의 거리 센서에 의해, 수직 스트립 이동이 검출될 수 있고, 이는 예를 들어 재료 스트립의 절단과 같은 프로세스 조작과 결합된다.
거리 센서는 측정 변수에 의존하는 신호를 제공할 수 있으며, 재료 스트립의 포인트 사이의 속도 차이는 신호의 상호 상관을 수행하여 결정된다.
굽음 에러를 줄이기 위해, 측정 기술적으로 검출 가능한 제어 변수를 사용하여, 유리 스트립의 굽음 에러를 최소화하는 안정적인 제어 알고리즘을 구성할 수 있다. 여기서 출발점은 굽음 에러가 국부적으로 변하는 형상 변경 속도에 의해 야기된다는 것을 인식하는 것이다.
본 발명의 다른 양태는 유리 스트립 형성 장치에 의해 얇은 유리 스트립을 제조하는 방법에 관련된다. 상기 유리 스트립 형상 장치는 드로잉 장치를 포함한다. 상기 드로잉 장치에 의해 상기 얇은 유리 스트립은 유리 스트립 형성 장치로부터 인발되고, 본 발명에 따른 검출 방법에 의해, 상기 얇은 유리 스트립의 측방향으로 대향하는 에지의 속도의 차이가 검출되고, 상기 차이에 기초하여 제어 변수가 결정되고, 상기 제어 변수에 의해 상기 유리 스트립 형성 장치는, 상기 얇은 유리 스트립의 상기 2개의 대향하는 에지 사이의 상기 얇은 유리 스트립의 상기 속도의 차이가 상쇄되도록 제어된다.
얇은 또는 얇은 유리 스트립의 굽음 에러가 존재할 때, 폭 좌표에 따라 형상 변화 속도가 단조롭게 증가하거나 또는 감소한다. 2개의 이격된 위치에서의 진행 동안의 유리 스트립의 속도가 측정 시간 간격 내에 상이하면, 이에 의해 측정 시간 간격 동안 측정 장치를 지나 이동한 유리 스트립-섹션의 영역에서 유리 스트립의 에지의 길이가 상이하게 된다. 이와 같이 길이가 상이한 에지는 유리 스트립의 상응하는 굽음을 야기한다. 이러한 차이로부터 제어 신호가 형성될 수 있고, 상기 제어 신호는 상기 굽음을 보상하도록 얇은 유리의 생산 공정에 작용한다.
얇은 유리 스트립을 제조하기 위한 대응되는 본 발명에 따른 장치는 다음을 포함한다:
얇은 유리 스트립을 인발하기 위한 드로잉 장치를 포함하는 유리 스트립 형성 장치,
얇은 유리 스트립의 측방향으로 대향하는 에지의 속도의 차이를 검출하기 위한 본 발명에 따른 검출 장치, 및
상기 장치에 연결되고, 상기 차이에 기초하여 제어 변수를 결정하여, 상기 제어 변수에 의해 상기 얇은 유리 스트립의 측방향으로 대향하는 에지의 상기 속도의 차이가 상쇄되도록 상기 유리 스트립 형성 장치가 제어될 수 있도록 구성되는 제어 장치.
본 발명에 따라, 얇은 유리 스트립의 2개의 에지에서 드로잉 속도의 정밀하게 제어된 조정에 의해 처음부터 굽음 에러를 최소화하도록 구성될 수 있다.
본 발명과 관련하여, 얇은 유리 스트립은 특히 1 ㎜ 미만, 바람직하게는 0.5 ㎜ 미만의 두께를 갖는 유리 스트립으로 이해된다. 본 발명은 이러한 얇은 유리에 특히 적합한데, 왜냐하면 이러한 유리는 권취된 형태로 제공될 수 있고 이에 따라 매우 긴 에지 길이가 존재하는 제품이 얻어지기 때문이다. 일반적으로 추가로 안내되는 생산 공정에서 중간 생성물로 사용되는 이러한 제품에서는, 굽음 에러가 특히 관련이 있다. 특히 0.2 ㎜ 이하의 두께를 갖는 매우 얇은 유리도 본 발명에 적합하다. 이러한 유형의 유리는 가장 얇은 유리라고도 한다.
제어 신호로서, 가장 간단한 경우, 얇은 유리 스트립의 우측 및 좌측의 속도의 속도 차이, 또는 보다 일반적으로 2개의 이격된 측정 위치에서의 속도 차이가 선택될 수 있고, 이에 연속해서 또한 이로부터 형성되는, 유리 스트립의 브레이드 근처(= 전체 경계부) 또는 최종 경계부의 근처에서 측정 시간 간격 이내에 측정된 2개의 스트립 에지의 길이 차이도 존재한다. 길이 차이 측정의 장점은 개별 길이 요소의 통합에 의한 높은 감도이다.
이하에서는 본 발명을 보다 상세히 설명하며, 또한 첨부된 도면이 참조된다. 도면에서, 동일한 참조 부호는 동일하거나 또는 대응하는 요소를 나타낸다.
도 1은 굽음 에러를 갖는 얇은 유리 스트립의 섹션을 도시한다.
도 2는 본 발명에 따라 제조되지 않은 얇은 유리 스트립의 섹션에서 굽음 에러의 크기의 평가를 도시한다.
도 3은 얇은 유리 스트립의 제조를 위한 장치의 실시예의 개략도를 도시한다.
도 4, 도 5 및 도 6은 검출 장치의 실시예를 도시한다.
도 7은 수직 스트립 이동의 경우 재료 스트립에 대한 거리 곡선을 도시한다.
도 8은 얇은 유리 스트립의 위치를 결정하기 위한 거리 측정을 구비하는 검출 장치의 일 실시예를 도시한다.
도 9는 얇은 유리 스트립의 제조를 위한 장치의 다른 실시예의 개략적인 평면도를 도시한다.
도 10은 교대 방향의 굽음 에러를 갖는 얇은 유리 스트립의 섹션을 도시한다.
도 1에는 얇은 유리 스트립(1)의 섹션이 측면(12) 중 하나의 평면도로 도시되어 있다. 이상적인 경우에, 얇은 유리 스트립(1)은 직선으로 연장되므로, 스트립의 에지(10, 11)도 마찬가지로 직선이고 평행하다. 그러나, 얇은 유리 스트립(1)의 제조를 위한 고온 형성 공정에서 종방향에 대한 횡방향으로의 불균일성이 생기면, 예를 들어 얇은 유리 스트립(1)의 폭(B)에 걸쳐 인장력이 변하게 되면, 얇은 유리 스트립(1)은 굽음 에러 형태의 휨을 가질 수 있다. 이러한 휨의 경우에, 에지(10, 11)의 휨 벡터는 얇은 유리 스트립(1)의 평면에 있거나 또는 측면(12)의 표면에 평행하다.
이러한 휨으로 인해, 얇은 유리 스트립(1)의 에지(11) 및 에지(11)에 형성되는 접선(17)은 도 1에 도시된 바와 같이 서로 이격되어 진행된다. 따라서, 길이(L)에 따르면, 이상적인 직선 경로 또는 길이(L)의 경로의 시작부에 형성되는 접선(17)과 해당 에지(11)의 거리(s)가 형성된다. 따라서, 단위 길이(L) 당 굽음 에러(s)가 정해지고 정량화될 수 있다. 이는 또한, 2개의 대향하는 에지(10, 11)가 얇은 유리 스트립(1)의 길이 섹션 내에서 상이한 길이를 갖는다는 것을 의미한다.
도 2는 본 발명에 따라 제조되지 않은 얇은 유리 스트립의 굽음 에러의 크기를 도시한다. 얇은 유리 스트립에서 3.5 m 길이의 섹션이 측정되었다. 섹션은 일 단부에서 길이가 4 m인 금속룰(metal rule)에 적용되고 다른 단부에서는 금속룰에 대한 거리가 결정되었다. 이러한 경우 도 2에는 굽음 에러의 크기의 빈도가 막대 그래프로 도시되어 있다. 그래프에서 알 수 있는 바와 같이, 일반적으로 스트립의 굽음 에러의 크기는 3.5 m의 유리 스트립 길이당 최대 10 ㎜까지의 범위에 있다. 여기서 대부분의 굽음 에러는 3.5 m의 유리 스트립 길이당 2 내지 4 ㎜이다.
본 발명에 따르면, 이제 이러한 굽음 에러의 크기가 감소될 수 있다. 도 3에서 투시도로 개략적으로 도시된 본 발명에 따른 얇은 유리 스트립(1)의 제조를 위한 장치(2)는 얇은 유리 스트립(1)을 인발하기 위한 드로잉 장치(3)를 갖는 유리 스트립 형성 장치(4)를 포함한다. 검출 장치(7)에 연결된 제어 장치(6)는, 얇은 유리 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 속도의 차이에 기초하여 제어 변수를 결정하고, 이 제어 변수에 의해 유리 스트립 형성 장치(4)는 속도의 차이가 상쇄되는 방식으로 제어 장치(6)에 의해 제어 변수로 제어된다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 굽음 결함의 보상은 유리 스트립의 열 성형에 작용함으로써 직접 수행된다. 이러한 경우, 굽음 에러는 특히, 형성된 얇은 유리 스트립을 통해 고온 형성 영역에서 작용하는 드로잉 장치에 의해 가해지는 인장력이 얇은 유리 스트립의 폭을 따라 그리고 이에 따라 또한 상응하게 고온 형성 영역의 폭을 따라 조정되거나 또는 변화됨으로써, 보상될 수 있다.
이를 위해, 본 방법 또는 본 방법을 수행하기 위한 장치의 일 개선예는 얇은 유리 스트립이 드로잉 장치에 의해 고온 형성 영역으로부터 인발되고, 상기 드로잉 장치는 얇은 유리 스트립의 폭을 따라 이격된 적어도 2개의 위치에서 얇은 유리 스트립에 작용하도록 구성되는 것이 또한 제안된다. 드로잉 장치, 상이한 드로잉 작용에 의해 2개의 이격된 위치에서 얇은 유리 스트립의 2개의 대향하는 에지 사이의 얇은 유리 스트립의 속도의 차이가 상쇄되도록 제어 장치에 의해 제어된다.
도 3은 고온 형성에 작용함으로써 굽음 에러의 보상이 수행되는 얇은 유리 스트립(1)의 제조를 위한 본 발명에 따른 장치의 실시예를 개략적으로 도시한다. 이에 따르면, 여기서 유리 스트립 형성 장치(4)는 고온 형성 장치(50)를 포함한다. 도 1에 도시된 예에서, 얇은 유리 스트립(1)은 예비 성형체(100)로부터 고온 형성 장치에 의해 제조된다. 이를 위해, 예비 성형체(100)는 고온 형성 영역(5)에서 고온 형성 장치(50)에 의해 가열된다. 그 다음, 얇은 유리 스트립(1)은 드로잉 장치(3)에 의해 고온 형성 영역(5)으로부터 인발된다. 인발 공정을 통해 예비 성형체(100)의 기하학적 구조에 비해 두께의 감소가 발생한다. 특히, 인발 공정은 두께의 감소가 예비 성형체(100)의 폭의 감소에 대한 얇은 유리 스트립(1)의 폭의 감소보다 상당히 큰 방식으로 수행될 수 있다. 이는 도 1에 도시된 특정 실시예에 제한되지 않고, 고온 형성 영역(5)의 변형 영역의 길이를 짧게 유지함으로써 달성될 수 있다. 특히, 변형 영역, 즉 실질적으로 두께의 감소가 일어나는 프리폼의 영역을 조정하여, 그 길이가 프리폼의 두께의 최대 6배만큼 큰 것이 유리하다.
프리폼(100)으로부터 얇은 유리 스트립(1)을 인발하기 위한 가열 장치(50)는 저항 가열 요소, 버너 조립체, 복사 가열기, 적어도 하나의 레이저 또는 이러한 전술한 장치의 조합을 포함할 수 있다.
일반적으로, 프리폼(100)이 예열되면, 프리폼으로부터 얇은 유리 스트립(1)을 인발하는데 또한 유리하다. 이러한 방식으로, 인발에 적합한 유리 점도에 대한 신속한 가열이 달성될 수 있으며, 이는 고온 형성 영역(5)에서 짧은 변형 영역의 형성을 용이하게 한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 드로잉 장치(3)는 드로잉 롤러(31)를 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 도 1에 도시된 바와 같이, 얇은 유리 스트립(1)의 전체 폭에 걸쳐 연장되는 드로잉 롤러가 사용된다.
본 발명에 따르면, 얇은 유리 스트립(1)을 제조하기 위한 장치(2)는 검출 장치(7)에 연결된 제어 장치(6)를 더 포함한다. 검출 장치(7)는 얇은 유리 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 속도의 차이를 측정하도록 구성될 수 있다.
도 3에 도시된 예에 또한 도시된 본 발명의 일 실시예에 따르면, 검출 장치(7)는 드로잉 방향에 대해 횡방향으로 이격된 2개의 센서(73, 74)를 포함한다.
센서(73, 74)에 의해, 종방향 좌표에 의존하고 결함에 의해 영향을 받으며 재료 스트립(1)에 부여된 특성 변수의 경과가 검출되고, 상기 경과는 종방향에 대한 측방향(7.b)의 범위를 갖는다.
예를 들어, 특히 재료 스트립의 종방향으로 이격되어 센서(73, 74)에 의해 검출될 수 있는 스트라이프 형태의, 스탬핑된 시그니처과 같은 특성 변수로부터, 재료 스트립(1)의 국부적인 속도가, 각각의 센서(73, 74) 아래에서 이동하여 센서에 의해 검출되는 스트라이프형 표면 섹션을 따라 결정될 수 있다. 굽음 형태의 프로세스 에러가 2개의 스트라이프 사이의 약간의 속도 차이로 나타난다. 따라서, 프로세스 에러는 재료 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 속도 사이의 차이로 나타난다.
검출 장치(7)의 센서(73, 74)는 제어 장치(6)에 연결된다. 센서(73, 74)의 측정값은 제어 장치(6)에서 평가될 수 있다. 즉, 제어 장치(6)에 의해, 얇은 유리 스트립(1)의 속도에 상응하는 변수가 센서(73, 74)의 측정값으로부터 결정될 수 있다. 특히, 센서(73, 74)에 의해 측정된 변수의 차 또는 몫이 제어 장치(6)에 의해 결정된다. 제어 장치(6)는 측정된 변수의 차 또는 몫에 기초하여 제어 변수를 결정한다. 이러한 제어된 변수에 의해 드로잉 장치(3)가 제어되어, 얇은 유리 스트립(1)의 폭을 따라 이격되는 2개의 위치에서의 상이한 드로잉 작용에 의해, 얇은 유리 스트립(1)의 2개의 대향하는 에지(10, 11) 사이의 얇은 유리 스트립(1)의 속도의 차이가 상쇄된다. 이들 위치는 측정 위치와 동일할 필요는 없다.
이러한 상이한 드로잉 작용을 달성하기 위해, 2개의 에지(10, 11)에서의 얇은 유리 스트립(1)의 속도의 차이를 상쇄시키도록, 드로잉 롤러(31)의 접촉 압력은 제어 변수에 반응하여 변화될 수 있다. 특히, 드로잉 롤러(31)에서, 접촉 압력은 제어 장치(6)에 의해 그 양단부에서 조절되어 변화될 수 있다. 이를 위해, 도 3에 도시된 예에서, 제어 장치(6)에 연결된 2개의 장치(33, 34)가 접촉 압력을 조정하기 위해 제공되고, 이에 의해 드로잉 롤러(31)의 베어링에 대한 압력이 제어 장치(6)를 통해 제어되어 조정될 수 있다. 예를 들어 얇은 유리 스트립(1)의 에지(10, 11) 중 하나에서 접촉 압력이 증가되면, 유리 스트립과 드로잉 롤러(31) 사이의 양호한 접촉으로 인해 이 측면에서 유리 스트립 속도가 증가하게 되고, 이에 따라 이 에지에서 스트립이 연장되게 된다. 반대로 드로잉 롤러(31)의 표면이 연질인 경우, 접촉 압력이 증가될 때 롤러 재료의 증가된 압축이 발생할 수 있다. 따라서, 드로잉 롤러(31)의 유효 원주가 감소하여, 인발 속도가 감소한다. 후자의 실시예가 바람직하다.
따라서 도 1에 도시된 얇은 유리 스트립의 섹션에서, 굽음 에러가 검출되면, 도 1에 도시된 굽음 에러를 보상하기 위해, 드로잉 롤러(31)의 접촉 압력은 에지(10)에서 감소되고 및/또는 에지(11)에서 증가될 것이다. 도시된 휨으로 인해, 에지(11)는 에지(10)보다 다소 길다.
본 발명의 다른 특히 바람직한 실시예는 또한 얇은 유리 스트립의 고온 형성에 직접 작용하는 것에 기초한다. 굽음 에러를 보상하기 위한 작용은 또한 얇은 유리 스트립(1)의 드로잉 방향에 대해 횡방향으로의 점도 경과를 변화시킴으로써 수행될 수 있다. 점도의 변화는 적절한 장치를 사용하여 드로잉 방향에 대한 횡방향으로의 유리 스트립의 온도 프로파일을 조정 또는 설정함으로써 달성된다. 이를 위해, 일반적으로, 본 발명의 실시예에 따른 도 3의 예에 한정되지 않고, 얇은 유리 스트립(1)의 온도가 국부적으로 얇은 유리 스트립(1)의 드로잉 방향에 대한 횡방향으로 변화될 수 있게 하는 가열 또는 냉각 장치(55)가 제공된다. 이러한 가열 또는 냉각 장치(55)는 제어 변수로 제어되고, 이에 따라 드로잉 방향에 대한 횡방향으로의 유리 스트립의 온도 프로파일이 변화되어, 얇은 유리 스트립(1)의 2개의 대향하는 에지(10, 11) 사이의 얇은 유리 스트립(1)의 속도의 차이가 상쇄된다.
이를 위해, 이러한 실시예의 개선예에 따르면, 드로잉 방향에 대해 횡방향으로 이격된 적어도 2개의 가열 및/또는 냉각 요소(56, 57)가 가열 또는 냉각 장치(55)의 구성 요소로서 제공될 수 있다. 이들은 예를 들어 또한 용융물로부터 유리 스트립을 형성할 때 드로잉 노즐 또는 드로잉 노즐의 하류에 배치된 드로잉 샤프트 내에 또는 그 위에 배치될 수 있다.
도 3에 도시된 예에서, 가열 또는 냉각 장치(55)는 얇은 유리 스트립의 길이 방향에 대해 횡방향으로 이격되고 제어 변수에 의해 제어될 수 있고, 고온 형성 장치(50)에 병합되거나 또는 고온 형성 장치(50)의 구성 요소인 2개의 가열 또는 냉각 요소(56, 57)를 포함한다. 2개의 가열 또는 냉각 요소(56, 57)는 활성화를 위해 제어 장치(6)에 연결된다. 일반적으로, 예시된 실시예에 제한되지 않고, 2개의 가열 또는 냉각 요소(56, 57)는 제어 변수로 제어 장치(6)에 의해 제어되어, 가열 또는 냉각 요소(56, 57) 중 적어도 하나의 가열 또는 냉각 전력이 변화되므로, 유리의 온도 프로파일 및 이에 따라 점도 프로파일이 드로잉 방향에 대한 횡방향으로 조정된다.
또한, 가열 또는 냉각 요소(56, 57) 중 하나만이 제어되는 것이 고려될 수도 있다. 예를 들어, 가열 또는 냉각 요소(56, 57) 중 하나는 고정된 가열 또는 냉각 전력으로 작동될 수 있고, 이어서 다른 가열 또는 냉각 요소(56, 57)에서 가열 또는 냉각 전력은 결정된 굽음 에러의 방향에 따라 증가될 수 있거나 또는 감소될 수 있다.
가열 또는 냉각 장치(55)에 의한 전형적인 제어 메커니즘은 특히 다음과 같이 제공될 수 있다:
검출 장치(7)에 의해, 측정되거나 또는 측정으로부터 유도된 변수의 차 또는 몫에 기초하여 굽음이 검출되고 그 차 또는 몫에 기초하여 제어 변수가 결정되면, 얇은 유리 스트립(1)의 2개의 대향하는 에지(10, 11) 사이의 얇은 유리 스트립(1)의 속도의 차이가 상쇄되도록 유리 스트립 형성 장치(4)가 제어 변수에 의해 제어될 수 있다.
가열 또는 냉각 장치(55)가 제어 변수에 의해 제어되고 이에 따라 드로잉 방향에 대해 횡방향으로 얇은 유리 스트립(1)의 온도 프로파일이 변화되어, 얇은 유리 스트립(1)의 2개의 대향하는 에지(10, 11) 사이의 얇은 유리 스트립(1)의 속도의 차이가 상쇄됨으로써, 가열 또는 냉각 장치(55)에 의해 얇은 유리 스트립(1)의 드로잉 방향에 대해 횡방향으로 얇은 유리 스트립(1)의 온도가 국부적으로 변화되는 본 발명의 이와 같은 전술한 실시예는 또한 본 발명의 다른 실시예와 결합될 수도 있다.
도 4, 도 5, 도 6은 종방향(7.a)으로 이동되는 얇은 유리 스트립(1)의 제조시 프로세스 에러를 검출하는데 사용되는 검출 장치(7)의 3개의 실시예를 도시하고, 여기서 프로세스 에러는 얇은 유리 스트립(1)의 기하학적 결함을 발생시킨다.
장치(7)는 다음을 포함한다:
- 종방향 좌표에 의존하고 상기 결함에 의해 영향을 받으며 재료 스트립(1)에 의해 발생되는 특성 변수의 경과를 검출하기 위한 검출 수단(7.4) - 상기 경과는 종방향(7.a)에 대한 측방향(7.b)의 범위를 가짐 - ; 및
- 상기 특성 변수의 상기 경과에 따라 상기 프로세스 에러를 결정하기 위한 진단 수단(6).
기하학적 결함은 얇은 유리 스트립(1)의 굽음과 관련된다. 결함은 프로세스 에러와 관련되며, 프로세스 에러는 얇은 유리 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 속도의 차이의 형태로 발생한다. 프로세스 에러의 원인은 얇은 유리 스트립(1)의 에지에서 불균등한 인장력과 관련이 있다.
또한, 도 4 및 도 5는 종방향(7.a)으로 이동되는 얇은 유리 스트립(1)을 각각 도시한다. 특성 변수는 얇은 유리 스트립(1)에 초기 시그니처(7.1)의 형태로 적용되며, 이 초기 시그니처는 측방향(7.b)과 평행하게 배향된 측방향 스트라이프로서 형성된다. 초기 시그니처는 연속적인 경과를 갖는다.
도 4에 도시된 검출 장치(7)에서 특성 변수는 종방향(7.a) 및 측방향(7.b)에서의 얇은 유리 스트립(1)의 국부적인 온도 증가를 형성한다. 초기 시그니처(7.1)는 얇은 유리 스트립(1)의 조사에 의한 측방향의 스트라이프형 온도 상승의 형태로, 얇은 유리 스트립(1)에 열적인 열 시그니처로서 적용된다.
얇은 유리 스트립(1)의 조사를 위해, 종방향(7.a)으로 이동되는 얇은 유리 스트립(1)의 영역이 우선 레이저로서 설계된 2개의 IR 복사 소스(7.5)를 통과하여, 이 IR 복사 소스에 의해 상기 영역은 IR 복사(7.3)에 의해 조사된다. 상기 조사에 의해, 얇은 유리 스트립(1)의 측방향으로 연장되는 연속적이며 국부적인 온도 상승의 형태의 측방향 스트라이프형 열 시그니처가 생성된다. 얇은 유리 스트립(1)에 적용된 열 시그니처는 측정 변수를 형성한다.
얇은 유리 스트립(1)의 상기 설명된 영역에 이어서, 유사한 방식으로 측방향 스트라이프형 열 시그니처가 적용되는 종방향으로 주기적으로 반복되는 추가의 영역이 후속된다. 즉, 열 시그니처는 얇은 유리 스트립(1)에 주기적으로 반복되어 적용된다.
도 4는 4개의 연속적인 조사 사이클에 적용되는, 얇은 유리 스트립(1)에 스탬핑된 4개의 스트라이프형 열 시그니처를 도시한다. 최하위의 열 시그니처(아래에서부터 제1)는, 현재의 조사 사이클에서 적용되고 횡파와 유사한 얇은 유리 스트립(1)과 함께 종방향(7.a)으로 이동되는 초기 시그니처(7.1)를 나타낸다. 제2 열 시그니처는, 이전의 조사 사이클에서 적용되었고 얇은 유리 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 속도 차이로 인해 약간 기울어진 변경된 시그니처(7.2)를 나타낸다(프로세스 에러); 제3 및 제4 열 시그니처는 훨씬 더 이전의 조사 사이클에서 적용되었고 프로세스 에러로 인해 점점 더 기울어졌다.
마지막(최상위) 열 시그니처(7.2)는 프로세스 에러로 인해 가장 많이 변경되거나 또는 기울어진다. 이러한 열 시그니처의 복사는 2개의 IR 센서(7.4)를 포함하는 검출 수단에 의해 검출된다. 얇은 유리 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 속도의 차이는 제어 장치(6)로서 설계된 진단 수단에 의해, 초기 시그니처(7.1)에 대한 변경된 시그니처(7.2)의 편차에 따라 결정된다.
환언하면: IR 소스에 의해 유리 스트립에 열 시그니처가 스탬핑되고, 이는 유리 스트립의 국부적인 가열을 수행한다. IR 조사가 적용되는 지점의 후방에서 서모카메라 또는 고온계에 의해 유리 온도가 결정된다. 유리 스트립 속도는 시간에 따른 온도 경과 및 스탬핑된 시그니처의 인식으로부터 결정된다.
이러한 경우 어닐링 또는 할로겐 램프, 레이저 다이오드 또는 레이저가 IR 소스로서 사용될 수 있다. 스탬핑된 시그니처는 속도가 결정될 수 있도록 시간에 따른 변화를 나타내어야 한다.
고온계가 센서(7.4)로 사용된다. 이러한 경우 다음의 측정 정확도가 예상된다.
약 1 ㎟ 크기의 스폿이 주변 유리 온도보다 상당히 (약 10K) 가열된다고 가정하면, 스폿은 시간에 따른 열전도의 결과로서 팽창한다. 시그니처의 스탬핑과 측정 사이의 5초의 시간 동안 스폿이 10 ㎟로 확장되었다고 가정하면, 최대 온도에서 여전히 주변 유리에 대해 2K의 온도 상승이 발견된다. 이는 고온계로 검출될 수 있지만, 공간 해상도는 측정 스폿 크기에 의해 제한된다. 직경 1 ㎜의 작은 측정 스폿의 경우, 본 예에서 측정 에러는 약 1 ㎜/30 ㎝ = 0.3 %이다. 10 ms의 최소 통합 시간으로 인해 10 ms/5 s = 0.2%의 추가의 에러가 추가되어, 측정값의 약 0.5%의 총 에러가 나타난다.
대안적으로 서모카메라가 센서(7.4)로 사용될 수 있다. 이러한 경우 다음의 측정 정확도가 예상된다.
고온계와 관련하여 설명된 열전달은 서모카메라에도 적용된다. 유리 스트립에서 카메라까지의 거리에 따라 다른 공간 해상도가 발생한다. 유리 스트립에서 100 ㎜ 떨어진 거리에서 0.75 ㎜의 공간 해상도를 얻을 수 있다.
이러한 카메라가 제공할 수 있는 초당 40개의 이미지를 가정하면, 25 ms/5 s = 0.5%의 에러가 발생한다. 0.75 ㎜/30 ㎝ = 0.25%의 공간 에러 외에도, 측정값의 약 0.75%의 총 에러가 발생한다.
다음의 계산예는 도 4에 도시된 실시예에 관련하여, 굽음으로 인해 발생하는 속도의 차이의 크기를 도시한다.
CO2 레이저에 의해, 유리 스트립 상에, 드로잉 방향에 대해 횡방향으로의 라인이 가열된다.
3000 ㎜ 메인 경로에서 10 ㎜의 굽음의 경우, 600 ㎜의 스트립 폭에서 4 ㎜의 스트립의 내측 및 외측 에지 사이의 길이 차이가 발생된다. 이는 스탬핑된 열 시그니처가 이에 상응하여 기울어진다는 것을 의미한다.
스트립 속도가 6 m/min(=100 ㎜/s)일 때, 이는 스트립 외측 에지의 더 고온의 위치가 스트립 내측 에지의 더 고온의 위치보다 측정 장치를 따라 통과한다는 것을 의미한다. 시간 오프셋은 4 ㎜/(100 ㎜/s) = 40 ms에서 발생한다. 라인 속도가 분당 1 ㎑인 라인 카메라에 의해 그러한 시간 오프셋은 쉽게 측정될 수 있다.
도 5에 도시된 검출 장치(7)에서 특성 변수는 얇은 유리 스트립(1)의 측방향 스트라이프형 반사 프로파일 또는 반사 스트라이프의 형태의 얇은 유리 스트립(1)의 변화되는 반사율을 형성한다. 초기 시그니처(7.1)(제1 또는 최하위 스트라이프)는 잉크의 형태로 2개의 프린트 헤드(7.6)를 갖는 잉크젯 프린터 또는 잉크젯을 통해 얇은 유리 스트립(1)에 적용된다. 도포된 잉크는 얇은 유리 스트립(1)의 반사율과는 다른 반사율을 갖고 및/또는 얇은 유리 스트립(1)의 온도와 다른 온도를 갖는다.
잉크에 의해 영향을 받은 후방 산란된 전자기 복사 또는 온도는 검출 수단(7.4)에 의해 검출된다. 검출 수단(7.4)은 전자기 복사 검출기 및/또는 열 검출기, 바람직하게는 IR 센서 및/또는 광 센서 및/또는 고온계를 포함한다.
도포된 잉크는 얇은 유리 스트립(1) 상에 잔류물을 남기지 않고 지연되어 증발된다. 그러나, 잉크는 적어도, 특성 변수 또는 특성 변수에 의존하는 측정 변수, 특히 코팅 또는 잉크에 의해 영향을 받는 후방 산란된 전자기 복사 또는 온도가 검출될 때까지 얇은 유리 스트립(1) 상에 잔류한다.
반사 스트라이프는 얇은 유리 스트립(1) 상에 종방향으로 주기적으로 반복적으로 적용된다.
도 5는 얇은 유리 스트립(1) 상에 스탬핑된 복수의 반사 스트라이프를 도시한다. 최하위의 반사 스트라이프(아래에서 제1)는 얇은 유리 스트립(1)과 함께 종방향(7.a)으로 이동되는 초기 시그니처(7.1)를 나타낸다. 제2 반사 스트라이프는 얇은 유리 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 속도의 차이로 인해 약간 기울어진 변경된 시그니처(7.2)를 나타낸다(프로세스 에러); 제3 및 제4 반사 스트라이프는 프로세스 에러로 인해 점점 더 경사져있다.
마지막 (최상위) 반사 스트라이프(7.2)는 프로세스 에러로 인해 가장 많이 변경되거나 또는 경사진다. 이러한 반사 스트라이프(7.2)는, 반사 스트라이프(7.2)를 IR 복사선(7.3)으로 조사하는 레이저로서 설계된 2개의 IR 복사 소스(7.5)를 통과한다. 반사 스트라이프(7.2)에 충돌하는 복사(7.3)의 일부는 반사되어 복사 시그니처를 나타낸다; 복사 시그니처는 측정 변수를 형성한다.
복사 시그니처는 2개의 IR 센서를 포함하는 검출 수단(7.4)에 의해 검출된다. 얇은 유리 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 속도 사이의 차이는 제어 장치(6)로서 설계되는 진단 수단에 의해, 초기 시그니처(7.1)에 대한 변경된 시그니처(7.2)의 편차에 따라 결정된다.
도 6은 검출 장치(7)의 일 실시예를 도시하며, 특성 변수는 재료 스트립에 부여된 수직 운동이다. 측정 변수는 2개의 거리 센서(7.4)의 재료 스트립(1)에 대한 거리(d1.1, d1.2, d2.1, d2.2)이다. 측정 변수는 측정 변수에 의존하는 신호를 각각 제공하는 2개의 종방향으로 오프셋되어 배치된 거리 센서(7.4)에 의해 측정된다. 거리 센서(7.4)는 바람직하게는 얇은 유리 스트립(1)의 에지(10, 11) 근처에 각각 배치된다. 일반적으로, 도 6에 도시된 특정 예에 제한되지 않고, 따라서 재료 스트립에 부여된 특성 변수는 또한 수직 이동, 즉 재료 스트립의 측면에 수직한 방향으로의 이동일 수 있다.
수직 스트립 이동은 얇은 유리 스트립(1)의 절단과 같은 공정 개입에 의해 발생될 수 있다. 이로써, 수직으로 배향된 스트립 이동이 스트립(1)의 이송 이동에 부가된다. 이러한 수직 이동이 2개의 거리 센서에 의해 검출되면, 서로 위상 시프트된 또는 시간적으로 오프셋된 신호가 검출된다.
얇은 유리 스트립(1)의 스트립 속도는 거리 센서(7.4)의 신호의 자기 상관에 의해 결정되는 것이 바람직하다. 도 7은 각각의 거리 센서(7.4)에 의해 결정되는 거리의 경과(d1, d2)를 도시한다.
바람직하게는, 측정 곡선의 자기 상관에 의해, 시간 T는 유사하지만 시간적으로 오프셋된 2개의 경과 d1, d2 사이에서 결정될 수 있으며, 이에 따라 2개의 센서의 알려진 종방향 거리에서 스트립 속도가 발생된다. 재료 스트립(1)의 길이 방향에 대해 측방향 또는 횡방향인 2개의 이러한 측정 장치가 사용되면, 길이 방향에 대해 횡방향으로 이격된 측정 위치 사이의 스트립 속도의 차이가 다시 결정될 수 있다. 이러한 차이는 다시 예를 들어 도 3을 참조하여 기술된 바와 같이 굽음 에러를 보상하는데 사용될 수 있다. 도 3에 도시된 실시예에서 재료 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 속도의 차이를 검출하기 위해, 각각의 센서(73, 74)는 각각 재료 스트립(1)의 길이 방향을 따라 이격된 2개의 거리 센서(7.4)로 대체될 것이다.
도 8은 이러한 검출 장치(7)를 도시한다. 4개의 거리 센서(75, 76, 77, 78)가 제공된다. 2개의 거리 센서가 각각 재료 스트립(1)의 길이 방향으로 이격되어 배치된다. 두 쌍의 연속적으로 배치된 거리 센서[제1 쌍: 거리 센서(75, 76), 제2 쌍: 거리 센서(77, 78)]는 다시 재료 스트립(1)의 길이 방향에 대해 횡방향으로 이격되어 배치된다. 도 7에 예시로 도시된 바와 같이, 거리 신호의 경과의 시간 오프셋에 기초하여, 특히 자기 상관에 의해 스트립 속도는 길이 방향에 대해 횡방향으로 이격된 거리 센서들의 쌍들의 측정 위치들의 영역에서 결정될 수 있다. 속도 차이는 특히 재료 스트립의 굽음 에러를 유발하는 그러한 에러와 같은 프로세스 에러의 표현을 유발한다. 본 발명의 이러한 실시예는 2개의 거리 센서를 갖는 쌍으로 제한되지 않는다. 필요한 경우 3개 이상의 거리 센서를 연속적으로 배치하여, 측정 정확도를 더욱 높일 수도 있다.
따라서, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 도시된 실시예에 한정되지 않고, 검출 수단은 적어도 2개의 그룹의 거리 센서를 포함하고, 각각의 그룹은 복수의 (즉, 적어도 2개의) 거리 센서를 포함하고, 각 그룹의 거리 센서는 재료 웹(1)의 길이 방향으로 이격되어 배치되고, 거리 센서의 개별 그룹은 다시 재료 스트립(1)의 길이 방향에 대한 횡방향으로 또는 측방향으로 이격되어 배치되고, 프로세스 에러를 결정하기 위한 진단 수단(6)은, 그룹의 거리 센서의 거리 신호의 시간적 경과를 (바람직하게는 자기 상관에 의해) 비교하고, 상기 비교에 기초하여 거리 센서의 측정 위치에서의 재료 스트립의 속도를 결정하고, 그리고 거리 센서의 상이한 그룹의 측정 위치에서의 결정된 속도를 비교하고, 상이한 그룹의 측정 위치에서의 속도의 편차를 결정하도록 구성된다. 이러한 경우 이와 같은 결정된 편차로부터 다시 프로세스 에러가 결정될 수 있다.
이러한 센서의 공간 해상도(공초점 크로매틱 또는 간섭계)는 수 ㎛의 범위이다. 포지셔닝 정확도가 또한 고려되면, 약 50 ㎛ (50 ㎛/30 ㎝ = 0.017%)의 공간 에러가 발생한다. 2 ㎑의 측정 주파수에서 0.5 ms/5초 = 0.01%의 시간 에러가 발생한다. 따라서 0.03%의 총 에러가 발생한다.
본 발명의 이러한 실시예에 따른 측정 방법은 또한 재료 스트립으로부터 센서(75, 76, 77, 78)까지의 거리를 고려한 다른 측정 방법과 조합될 수도 있다. 측정 방법은 얇은 유리 스트립(1)의 휨 영역에서의 얇은 유리 스트립(1)의 에지(10, 11)의 상이한 길이는 재료 스트립의 다른 위치를 발생한다는 것에 기초한다.
도 8로부터 알 수 있는 바와 같이, 얇은 유리 스트립(1)은 롤러(35) 사이로 안내되어, 루프를 형성하고 아래쪽으로 휘어지면서 늘어진다.
굽음 에러 및 스트립의 상이한 에지 길이에 의해, 얇은 유리 스트립(1)의 길이 방향과 드로잉 방향 사이에 작은 각이 발생하게 된다. 각도 및 상이한 에지 길이는 이제 2개의 에지(10, 11)가 다르게 휘어지는 것을 유도한다.
얇은 유리 스트립(1)의 휨 영역 또는 루프의 영역에서, 이에 따라 스트립으로부터 기준 위치까지의 거리가 또한 변화한다. 도 8에 도시된 바와 같이, 이제 거리 센서(75, 76, 77)에 의해, 측정 위치에서 얇은 유리 스트립(1)의 위치는 거리 치수의 형태로 검출될 수 있다. 센서의 거리 측정값은 진단 수단(6)에 제공되어 평가된다. 도 8에 도시된 예에서, 에지(11)의 영역에서 거리 센서(77, 78)의 그룹에 대한 얇은 유리 스트립의 거리(d1', d2')는 에지(10)의 영역에서 거리 센서(75, 76)에 대한 거리(d1, d2)보다 더 작다. 얇은 유리 스트립(1)의 휨이 더 큰 경우, 에지 길이가 또한 더 크다. 도 8에 도시된 예에서, 이는 그에 상응하게 에지(11)의 경우가 바로 그 경우이다. 거리 센서(75, 76 및 77, 78)에 의해 검출되는 거리 차이를 발생시키는 굽음 에러는 따라서, 에지(11)가 에지(10)보다 더 긴 도 1에 도시된 변형에 대응된다. 이러한 위치 정보는 프로세스 에러를 검출하기 위해 상술한 속도 측정에 대한 보완으로서 사용될 수 있다.
예로서, 도 3에서와 유사하게 도 8의 굽음 에러를 정정하기 위해, 드로잉 롤러(31)의 접촉 압력을 조정하기 위한 장치(33, 34)가 제공된다. 장치(33, 34)는 제어 장치(6)에 의해 결정된 제어 변수에 따라 그에 상응하게 제어된다.
얇은 유리 스트립(1)의 상이한 휨의 효과는 특히, 스트립의 중심이 굽음 에러에 기인하여 장치(2) 또는 목표 위치에 대해 변위됨으로써 강화된다. 이러한 변위는 굽음 에러 및 길이 또는 속도 차이가 매우 작더라도, 휨 또는 편향 영역에서 유리 스트립의 명확하게 상이한 휨을 발생시킨다. 그 이유는 특히 굽음 에러가 작은 경우에도 얇은 유리 스트립(1)의 측면 오프셋이 더욱 증가하기 때문이다.
따라서, 에지(10, 11)의 길이 차이는 루프 깊이의 대응하는 차이와 상관될 수 있으므로, 이중 거리 측정(우측 및 좌측)의 원인이 될 수 있다.
거리 센서에 적합한 측정 방법은 초음파 거리 측정 또는 크로매틱 코딩된 거리 측정이다. 후자는 서브 마이크로미터 범위까지의 측정 정확도를 제공한다. 크로매틱 코딩된 거리 측정의 원리는 또한 WO 2008/009472 A1호에 공지되어 있다. 크로매틱 코딩된 거리 센서의 구성 및 기능과 관련하여, WO 2008/009472 A1호의 내용의 전체가 또한 본 출원의 주제로 참조된다. 크로매틱 코딩된 거리 측정을 위한 센서의 측정 원리는 이러한 검출 장치로 다양한 색이 서로 다른 깊이로 포커싱되고 표면에 의해 반사되거나 또는 산란된 광이 측정 헤드에 의해 집속되고 공간적으로 스펙트럼 분할되어 강도 스펙트럼이 검출된다는 것이다. 얇은 유리 스트립의 표면에서 증가된 반사 및 산란에 의해 야기되는 강도 스펙트럼의 최대 위치에 기초하여, 유리 표면과 센서의 거리가 결정될 수 있다.
용량성 거리 측정뿐만 아니라 삼각 측량에 의해서도 매우 정확한 거리 측정이 수행될 수 있다. 그러나 경사진 루프 또는 이로부터 형성되는 상이한 거리(d1, d2)는 일반적으로 보조 수단이 없어도 이미 인식될 수 있다. 따라서 정확한 거리 측정은 굽음 에러의 형상과 크기에 대한 매우 정확한 정보를 제공한다. 그에 상응하게 정확하게 에러가 정정될 수 있다.
도 8에 도시된 예에서, 얇은 유리 스트립(1)이 롤러(15)로 권취되게 하는 권취 장치(13)가 추가로 도시되어 있다. 얇은 유리 스트립을 롤러(15)로 롤링하는 것은 본 발명에 따른 바람직한 패킹(packing)인데, 왜냐하면 유리는 이러한 방식으로 간단하게 저장될 수 있으며, 이후의 처리 공정에서 롤러로부터 직접 권취 해제될 수 있기 때문이다. 절단 방향 또는 이에 따라 생산될 제품의 포맷은 추가 처리 공정 시에 결정되기만 하면 된다. 따라서, 이러한 권취 장치(13)는 본 명세서에 기술된 본 발명의 다른 모든 실시예에도 존재할 수 있다.
도 8의 실시예로부터 명백히 알 수 있는 것은, 작은 굽음 에러도 큰 영향을 미칠 수 있다는 것인데, 왜냐하면 단일의 굽음 에러 또는 에지 길이의 약간의 적은 섹션별 차이로 인해 유리 스트립의 중심 위치의 오프셋이 계속 더욱 증가하게 되기 때문이다. 도 8에 따른 장치에서, 명확하게 볼 수 있는 경사진 루프가 뒤따른다. 스트립이 권취되거나 또는 권취 해제되어 있는 경우에도 에러는 더 많이 축적된다. 예를 들어, 이러한 스트립이 후속 처리 공정에서 권취 해제되면, 이러한 굽음 에러에 의해 길이 방향에 대한 횡방향의 응력이 축적될 수 있으며, 이 응력은 덜컥거리는(jerky) 횡방향 운동으로 완화된다.
도 9에 도시된 장치(2)에서, 얇은 유리 스트립(1)의 폭에 걸쳐 연장되는 단일의 드로잉 롤러(31) 대신에, 드로잉 방향에 대한 횡방향으로 얇은 유리 스트립(1)의 상이한 영역에 작용하는 2개의 분리된 드로잉 롤러(31, 32)가 제공된다.
도 3에 따른 드로잉 장치(3)에서와 같이, 드로잉 롤러 중 하나 또는 2개의 드로잉 롤러(31, 32) 모두는 제어 변수에 따라 드로잉 롤러(31, 32)의 축방향을 따른 접촉 압력을 변화시키는 장치를 포함할 수 있다.
그러나, 2개의 별도의 드로잉 롤러(31, 32)의 경우에, 2개의 드로잉 롤러(31, 32) 사이의 접촉 압력 또는 인장력은 또한 변화되어, 굽음을 상쇄시키기 위해 제어 변수에 따라 롤러 중 하나가 다른 하나보다 더 강하게 인발할 수 있다. 물론, 이러한 드로잉 장치는 또한 얇은 유리 스트립(1)을 제조하기 위해 다르게 설계된 장치(2)에서도, 즉 예를 들어 도 3에 도시된 실시예에서도 사용될 수 있다. 즉, 본 발명의 일 개선예에 따르면, 도 9에 도시된 실시예에 제한되지 않고, 인발 방향에 대해 횡방향으로 이격된 2개의 드로잉 롤러(31, 32)를 포함하고, 상기 드로잉 롤러(31, 32) 중 적어도 하나는 상기 접촉 압력 또는 인장력의 가변을 위해 제어 변수에 따라 조정 가능한 장치를 포함하는 드로잉 장치(3)가 제공된다. 인장력은 예를 들어 제어 장치에 의해 결정된 제어 변수로서 토크를 조정함으로써 변화될 수 있다.
드로잉 롤러(31, 32)에 의해 스트립 속도에 대해 작용하는 것에 대안적으로 또는 추가적으로, 또한 가열 또는 냉각 장치(55)가 제공되어, 제어 장치(6)에 의해 결정되는 제어 변수에 반응하여 드로잉 방향에 대한 횡방향으로의 얇은 유리 스트립(1)의 점도의 경과가 조정된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 굽음 에러의 검출은 일반적으로 마킹이 초기 시그니처 또는 특성 변수로서 거리를 두고 재료 스트립(1)에 적용되는 것에 기초한다. 스트립 에지의 속도가 스트립의 굽음으로 인해 차이가 있는 경우, 이러한 차이는 센서를 사용하여 마킹의 거리를 기초로 하여 검출될 수 있다. 마킹이 예를 들어 미리 결정된 시간 간격으로 마킹 장치에 의해 적용되면, 스트립 에지의 상이한 속도는 마킹 사이의 상이한 로컬 간격 또는 거리를 발생시킨다. 적합한 센서를 사용하면 이러한 차이를 매우 정확하게 검출할 수 있다.
이를 위한 적절한 센서는 시각적으로 볼 수 있는 마킹의 경우 특히 카메라이다. 바람직하게는 라인 카메라가 사용된다. 도 5는 이에 대한 실시예를 도시한다. 따라서, 본 발명의 이러한 실시예는 마킹 장치(24)에 의해 얇은 유리 스트립(1)의 2개의 에지(10, 11)의 영역에서 얇은 유리 스트립(1)의 드로잉 방향을 따라 이격된 마킹(26)이 적용되고, 측정 장치(7)는 마킹(26)을 검출하기 위한 적어도 하나의 센서를 포함하는 것에 기초한다. 얇은 유리 스트립(1)의 에지(10, 11)의 상이한 길이에 의존하는 변수로서, 센서에 의해 검출된 마킹(26)의 시간적 또는 로컬 간격이 평가된다. 센서로서 도 5에 도시된 바와 같이, 라인 카메라(79)가 사용될 수 있다. 상이한 스트립 에지 길이 또는 이에 따라 관련되는 스트립 에지(10, 11)의 상이한 속도의 매우 정확한 결정은 카메라에 의해, 특히 대향하는 마킹에 의해 트리거된 신호들 사이의 위상 시프트에 의해서도 결정될 수 있다.
또한, 도 9에 도시된 예에서는, 브레이드(braid) 절단 장치(27)가 설치되어 있다. 이는 얇은 유리 스트립(1)의 가장자리에서 고온 형성 공정에 의해 발생된 두꺼운 브레이드(28)를 분리하여, 유리 스트립의 폭에 걸쳐 가능한 한 균일한 두께가 구현되도록 한다. 브레이드 절단을 위해 스코어링 휠 또는 레이저 빔에 의한 분리가 열적 레이저 빔 분리에 의해 수행될 수도 있다.
검출 장치(7)에 의해, 재료 스트립(1)의 2개의 에지, 바람직하게는 얇은 유리 스트립의 측정 위치에서 가능한 속도 차이 또는 길이 차이가 결정될 수 있고, 제어 장치(6)에 의해, 검출된 측정 변수를 기초로 하여 제어 변수가 결정될 수 있고, 이 제어 변수에 의해 얇은 유리 스트립(1)의 굽음을 상쇄시키도록 드로잉 장치(3)가 제어된다.
굽음 에러를 보상하기 위해, 하나 이상의 드로잉 롤러(31, 32)의 접촉 압력은 제어 장치(6)에 의해 결정된 제어 변수로 다시 조정될 수 있다. 또한, 대안적으로 또는 추가적으로, 예를 들어 드로잉 방향에 대해 횡방향으로 오프셋된 2개의 가열 또는 냉각 요소(56, 57)를 갖는 것으로 도시되는 가열 또는 냉각 장치(55)에 의해, 온도 및 그에 따른 점도 프로파일에 영향을 줌으로써 스트립 속도를 조정할 수 있다.
본 발명은 이제 굽음 에러뿐만 아니라 크기도 감소시킨다. 오히려 제조 공정에서의 상쇄에 의해 특히 굽음 에러의 파장 또는 주기가 또한 감소된다. 이러한 경우 주기는 주로 측정 변수에 의해 영향을 받는 유리 스트립 형성 장치(4)에 대한 검출 장치(7)의 거리에 의해 결정된다. 이러한 거리는 용이하게 20 m 미만, 바람직하게는 10 m 미만으로 유지될 수 있다. 굽음이 이제 상쇄되면, 이에 따라 굽음 에러의 방향도 바뀐다. 이는 에지 길이의 차이가 그 부호를 바꾸는 스트립의 섹션이 있다는 사실과 관련이 있다. 방향이 상이한 굽음 에러를 갖는 연속적인 섹션은 따라서 20 m 미만, 바람직하게는 10 m 미만의 상기 언급된 거리의 크기의 길이로 제한된다.
도 10은 명확화를 위해 본 발명에 따라 제조된 얇은 유리 스트립(1)의 종단면도를 도시한다. 얇은 유리 스트립(1)의 굽음은 크게 과장되게 도시되어 있다. 에지(10)에서, 에지의 목표 위치는 점선으로 도시된다. 굽음으로 인해, 에지의 위치는 이제 그 목표 위치로부터 벗어난다. 목표 위치에 대한 편차의 형태의 관련 굽음은 s1, s2, s3, s4로 표시되며, 화살표로 도시된다. 화살표의 방향은 각 경우에 에지(10)의 휨 벡터의 방향에 대응한다. 굽음 에러의 방향은 이제 연속적인 길이 방향 섹션(110, 111, 112, 113)에서 각각 반전된다. 보다 구체적으로, 길이 방향 섹션(110, 111, 112, 113)에서, 얇은 유리 스트립(1)의 길이 방향에 대한 횡방향으로의 굽음 에러의 성분은 부호를 변경시킨다. 전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 방법에 의해 이제, 굽음 에러 또는 그에 대응하여 또한 휨 벡터가 그의 부호를 변경시키지 않는 길이 방향 섹션의 길이가 제한된다.
따라서, 본 발명에 따르면, 길이 방향에 대해 횡방향으로의 휨을 포함하는 연속적인 길이 방향 섹션(110, 111, 112, 113)을 포함하는 얇은 유리 스트립(1)이 제공되고, 상기 얇은 유리 스트립(1)의 상기 휨의 성분은 연속적인 섹션의 횡방향으로 각각 그 부호를 변화시키고, 길이 방향 섹션(110, 111, 112, 113)의 길이는 최대 20 m, 바람직하게는 최대 10 m이다. 이와 같이 본 발명에 따른 제어에 의해 구현된 굽음의 주기의 단축에 의해, 이와 동시에 굽음의 진폭도 또한 특히 감소된다.
당업자는 본 발명이 도면에 도시된 실시예들에 한정되지 않고, 오히려 다양한 방식으로 변화될 수 있다는 것을 알 것이다. 특히, 실시예의 특징은 또한 서로 조합될 수 있다. 또한, 본 발명은 제어 장치(6)에 의한 드로잉 장치(3)의 제어와 관련하여 도면에서 설명되었다. 그러나, 예를 들어 고온 형성 장치(50)에 작용하는 것도 가능하다. 따라서, 굽음 에러는 또한 온도 프로파일을 고온 형성시 얇은 유리 스트립의 길이 방향에 대한 횡방향으로 변화시킴으로써 영향을 받을 수 있다. 이는, 예를 들어 2개 이상의 오프셋되거나 또는 나란히 배열된 가열 장치를 별도로 제어함으로써 가열 전력을 변화시킴으로써 간단한 방식으로 수행될 수 있다.
1 : 재료 스트립, 얇은 유리 스트립
2 : 얇은 유리 스트립의 제조를 위한 장치
3 : 드로잉 장치 4 : 유리 스트립 형성 장치
5 : 고온 형성 영역 6 : 제어 장치, 진단 수단
7 : 검출 장치 7.a : 종방향
7.b : 측방향
7.1 : 적용된 시그니처, 초기 시그니처
7.2 : 측정된 시그니처, 변경된 시그니처
7.3 : 전자기 복사 7.4 : 검출 수단, 센서
7.5 : 복사 소스, 레이저
7.6 : 잉크젯 프린터, 잉크젯, 프린트 헤드
10, 11 : 1의 에지 12 : 1의 측면
13 : 권취 장치 15 : 롤러
17 : 10, 11에서의 접선 19 : 유리 용융물을 위한 용기
20 : 슬롯 노즐 23 : 코팅 장치
24 : 마킹 장치 25 : 코팅
26 : 마킹 27 : 브레이드 절단 장치
29 : 브레이드 31, 32 : 드로잉 롤러
33, 34 : 접촉 압력의 조정을 위한 장치
35 : 롤러 50 : 고온 형성 장치
55 : 국부적인 가열 및/또는 냉각 장치
56, 57 : 가열 또는 냉각 요소 73, 74 : 센서
77, 78 : 거리 센서 79 : 라인 카메라
100 : 예비 성형체 101 : 용융물
110, 111 : 1의 길이 방향 섹션 112, 113 : 1의 길이 방향 섹션

Claims (13)

  1. 종방향(7.a)으로 이동되는 얇은 유리 스트립으로 형성된 재료 스트립(1)의 제조 시 프로세스 에러를 검출하기 위한 검출 방법으로서, 상기 프로세스 에러는 상기 재료 스트립(1)의 특히 기하학적 결함을 발생시키는 상기 검출 방법에 있어서,
    종방향 좌표에 의존하고 상기 결함에 의해 영향을 받으며 상기 재료 스트립(1)에 부여된 특성 변수의 경과를 검출하는 단계 - 상기 경과는 상기 종방향(7.a)에 대한 측방향(7.b)의 범위를 가짐 - ; 및
    상기 특성 변수의 상기 경과에 따라 상기 프로세스 에러를 결정하는 단계
    를 포함하고,
    상기 재료 스트립(1)의 상기 결함은 ⅰ) 측방향으로 대향하는 에지에서 상기 재료 스트립은 서로 상이한 두께를 갖거나, 또는 ⅱ) 상기 측방향으로 대향하는 에지는 다른 길이를 갖거나, 또는 ⅲ) 상기 재료 스트립은 휨 또는 워핑(warping)을 포함하는 것인 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    다음의 특징들:
    상기 특성 변수의 검출 단계는 상기 특성 변수에 의존하는 측정 변수를 생성하는 단계 및 상기 측정 변수를 검출하는 단계를 포함하고;
    상기 기하학적 결함은 상기 재료 스트립(1)의 굽음 또는 상기 재료 스트립(1)의 두께의 상기 측방향(7.b)으로의 웨지형 경과와 관련되고;
    상기 프로세스 에러는 상기 재료 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 속도의 차이와 관련되고;
    상기 특성 변수는 상기 재료 스트립(1)에, 초기 시그니처로 지칭되는 마킹 또는 시그니처(7.1)의 형태로, 바람직하게는 측방향 스트라이프로서 적용되고;
    상기 검출된 특성 변수의 경과는 특히 상기 재료 스트립(1)의 상기 기하학적 결함으로 인해, 상기 초기 시그니처로부터 변형 또는 디포메이션에 의해 형성되는 변경된 시그니처(7.2)를 특징으로 하고, 바람직하게는 상기 속도의 차이는 상기 초기 시그니처(7.1)에 대한 상기 변경된 시그니처(7.2)의 편차에 따라 결정되고;
    상기 측정 변수의 상기 경과의 검출은 상기 변경된 시그니처의 측정 또는 검출을 나타내는 것 중 적어도 하나를 특징으로 하는 검출 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    다음의 특징들:
    상기 특성 변수는 상기 재료 스트립(1)의 온도, 특히 국부적인 온도 상승 또는 상기 종방향(7.a) 및/또는 측방향(7.b)에서의 상기 재료 스트립(1)의 온도 프로파일을 포함하고, 바람직하게는 상기 초기 시그니처(7.1)는 예를 들어 레이저(7.5)에 의해 상기 재료 스트립(1)을 조사(irradiation)함으로써, 측방향 스트라이프형의 온도 상승의 형태로, 열적인 열 시그니처 또는 마킹으로서 상기 재료 스트립(1)에 적용되고;
    상기 특성 변수는 상기 재료 스트립(1)의 반사도 또는 반사율, 특히 상기 종방향(7.a) 및/또는 측방향(7.b)에서의 상기 재료 스트립(1)의 상기 반사율의 국부적인 변화 또는 반사 프로파일에 관련되고, 바람직하게는 상기 초기 시그니처(7.1)는 상기 재료 스트립(1)의 상기 반사율의 시그니처형 변화를 생성하기 위해, 특히 측방향 스트라이프의 형태로, 화학적 코팅 또는 마킹으로서 상기 재료 스트립(1)에 적용되고:
    ⅰ) 상기 재료 스트립(1)에 의해 반사되는 복사의 형태로 또는 ⅱ) 상기 재료 스트립(1)에 상기 열적인 열 시그니처를 적용함에 의해 상기 측정 변수를 생성하기 위해, 광학적으로 가시적인, IR 또는 UV 영역을 포함하는 스펙트럼 영역으로 전자기 복사(7.3)가 상기 재료 스트립(1)에 지향되고;
    상기 특성 변수는 적어도 2개의, 바람직하게는 고정된, 종방향으로 오프셋되어 배치된 측정 포인트로부터 상기 재료 스트립(1)까지의 수직 거리와 관련되고;
    상기 측정 변수의 검출은 2개의 종방향으로 그리고 측방향으로 오프셋되어 배치된 센서(7.4)에 의해 수행되고, 신호의 상호 상관을 수행함으로써 상기 측정 포인트 사이의 속도 차이가 결정되는 것 중 적어도 하나를 특징으로 하는 검출 방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 재료 스트립(1)의 상기 반사 프로파일 또는 온도 프로파일은 상기 재료 스트립(1)에 잉크를 인쇄하는 것에 의해 코팅을 도포함으로써 적용되고,
    바람직하게는 ⅰ) 상기 인쇄는 잉크젯 프린터 또는 잉크젯(7.6)에 의해 수행되고, 및/또는 ⅱ) 상기 도포된 코팅은 시간이 지연되고, 잔류물 없이, 증발되거나 또는 제거되는 것인 검출 방법.
  5. 드로잉 장치(3)를 포함하는 유리 스트립 형성 장치(4)에 의해 얇은 유리 스트립(1)을 제조하는 방법에 있어서,
    상기 드로잉 장치(3)에 의해 상기 얇은 유리 스트립(1)은 유리 스트립 형성 장치(4)로부터 인발되고,
    제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 따른 검출 방법에 의해, 상기 얇은 유리 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 속도의 차이가 검출되고,
    상기 차이에 기초하여 제어 변수가 결정되고, 상기 제어 변수에 의해 상기 유리 스트립 형성 장치(4)는, 상기 얇은 유리 스트립(1)의 상기 2개의 대향하는 에지(10, 11) 사이의 상기 얇은 유리 스트립(1)의 상기 속도의 차이가 상쇄되도록 제어되는 것인 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    다음의 특징들:
    가열 또는 냉각 장치(55)가 상기 제어 변수에 의해 제어되고 이에 따라, 상기 얇은 유리 스트립(1)의 상기 2개의 대향하는 에지(10, 11) 사이의 상기 얇은 유리 스트립(1)의 상기 속도의 차이가 상쇄되도록, 상기 드로잉 방향에 대한 횡방향의 상기 얇은 유리 스트립(1)의 온도 프로파일이 변화됨으로써, 상기 얇은 유리 스트립(1)의 온도는 국부적으로 상기 가열 또는 냉각 장치(55)에 의해 상기 얇은 유리 스트립(1)의 드로잉 방향에 대한 횡방향으로 변화되고;
    상기 가열 또는 냉각 장치(55)는 상기 드로잉 방향에 대해 횡방향으로 이격되는 적어도 2개의 가열 및/또는 냉각 요소(56, 57)를 포함하고, 상기 가열 및/또는 냉각 요소는 제어 장치(6)에 의해 상기 제어 변수에 의해 제어되어, 상기 드로잉 방향에 대해 횡방향으로의 상기 유리의 상기 온도 프로파일을 조정하도록 상기 가열 또는 냉각 요소(56, 57) 중 적어도 하나의 가열 또는 냉각 전력이 변화되고;
    상기 가열 또는 냉각 장치(55)는 복사 가열 요소(58) 및 복사 지향 장치(59)를 포함하고, 상기 복사 가열 요소(58)에 의해 방출된 복사는 상기 복사 지향 장치(59)에 의해 상기 얇은 유리 스트립(1)의 드로잉 방향에 대한 횡방향으로 그 위치가 상기 제어 변수에 의존하는 위치로 지향되고;
    상기 얇은 유리 스트립(1)은 상기 드로잉 장치(3)에 의해 고온 형성 영역(5)으로부터 인발되고, 상기 드로잉 장치(3)는 상기 얇은 유리 스트립(1)의 폭을 따라 이격된 적어도 2개의 위치에서 상기 얇은 유리 스트립(1)에 작용하도록 구성되고, 상기 드로잉 장치(3)는, 상이한 드로잉 작용에 의해 상기 2개의 이격된 위치에서 상기 얇은 유리 스트립(1)의 상기 2개의 대향하는 에지(10, 11) 사이의 상기 얇은 유리 스트립(1)의 상기 속도의 차이가 상쇄되도록 제어되고;
    상기 드로잉 장치(3)는 적어도 하나의 드로잉 롤러(31)를 포함하고, 상기 2개의 에지(10, 11)에서 상기 얇은 유리 스트립(1)의 상기 속도의 차이를 상쇄시키기 위해 상기 드로잉 롤러(31)의 접촉 압력이 변화되는 것 중 적어도 하나를 특징으로 하는 방법.
  7. 종방향(7.a)으로 이동되는 얇은 유리 스트립으로 형성된 재료 스트립(1)의 제조 시 프로세스 에러를 검출하기 위한 검출 장치(7)로서, 상기 프로세스 에러는 상기 재료 스트립(1)의 특히 기하학적 결함을 발생시키고, 상기 결함은 ⅰ) 측방향으로 대향하는 에지에서 상기 재료 스트립은 서로 상이한 두께를 갖거나, 또는 ⅱ) 상기 측방향으로 대향하는 에지는 다른 길이를 갖거나, 또는 ⅲ) 상기 재료 스트립은 휨 또는 워핑을 포함하는 상기 검출 장치(7)에 있어서,
    종방향 좌표에 의존하고 상기 결함에 의해 영향을 받으며 상기 재료 스트립(1)에 의해 발생되는 특성 변수의 경과를 검출하기 위한 검출 수단(7.4) - 상기 경과는 상기 종방향(7.a)에 대한 측방향(7.b)의 범위를 가짐 - ; 및
    상기 특성 변수의 상기 경과에 따라 상기 프로세스 에러를 결정하기 위한 진단 수단(6)
    을 포함하는 검출 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    다음의 특징들:
    상기 장치(7)는 ⅰ) 바람직하게는 상기 재료 스트립(1)에 열 시그니처(7.1)를 적용하기 위해 또는 ⅱ) 상기 재료 스트립(1)에 의해 반사되는 복사의 형태로, 특히 상기 재료 스트립(1)에 적용되는 마킹에 의존하는 측정된 시그니처(7.2)의 형태로 상기 특성 변수를 생성하기 위해 상기 재료 스트립(1)을 전자기 복사(7.3)로 조사하기 위한 바람직하게는 레이저로 형성되는 복사 소스(7.5)를 포함하고,
    상기 검출 수단은 ⅰ) 하나 또는 ⅱ) 적어도 2개의 종방향으로 이격된 센서(7.4)를 포함하고, 센서(7.4)는 각각 적어도 하나의 측방향 부분 영역에서 상기 특성 변수를 검출하기에 적합한 검출 영역을 갖고;
    상기 검출 수단은 상기 특성 변수의 상기 측방향 경과를 결정하기 위해, 적어도 2개의 측방향으로 이격된 센서(7.4)를 포함하고;
    센서(7.4)는 ⅰ) 상기 재료 스트립(1)으로부터 방사되거나 또는 반사되는 전자기 복사 또는 ⅱ) 바람직하게는 고정된 포인트 또는 상기 센서(7.4)에 대한 상기 재료 스트립(1)의 거리를 검출하도록 구성되고;
    상기 센서(7.4)의 검출 영역은 상기 재료 스트립(1)의 측방향 범위의 적어도 10% 또는 20%, 바람직하게는 적어도 40%, 60% 또는 80%, 특히 바람직하게는 대략 100%를 포함하는 상기 재료 스트립(1)의 부분 영역의 상기 특성 변수의 검출을 가능하게 하고;
    센서(7.4)는 고온계 또는 서모카메라로서, 또는 적절하다면 거리 센서로서 형성되고;
    상기 진단 수단은 제어 장치(6) 또는 연산 유닛으로 형성되는 것 중 적어도 하나를 특징으로 하는 검출 장치.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서,
    인쇄에 의해 상기 재료 스트립(1)에 잉크를 도포하기 위한 잉크젯 프린터 또는 잉크젯(7.6)을 특징으로 하는 검출 장치.
  10. 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 검출 수단은 적어도 2개의 그룹의 거리 센서(75, 76, 77, 78)를 포함하고,
    각각의 그룹은 복수의 거리 센서를 포함하고, 각 그룹의 상기 거리 센서(75, 76, 77, 78)는 재료 웹(1)의 길이 방향으로 이격되어 배치되고, 거리 센서의 개별 그룹은 상기 재료 스트립(1)의 길이 방향에 대한 횡방향으로 이격되어 배치되고,
    상기 프로세스 에러를 결정하기 위한 상기 진단 수단(6)은, 그룹의 상기 거리 센서(75, 76, 77, 78)의 거리 신호의 시간적 경과를 비교하고, 상기 비교에 기초하여 상기 거리 센서(75, 76, 77, 78)의 측정 위치에서의 상기 재료 스트립(1)의 속도를 결정하고, 그리고 상기 거리 센서(75, 76, 77, 78)의 상이한 그룹의 측정 위치에서의 상기 결정된 속도를 비교하고, 상기 상이한 그룹의 상기 측정 위치에서의 상기 속도의 편차를 결정하도록 구성되는 것인 검출 장치.
  11. 얇은 유리 스트립(1)을 제조하기 위한 장치(2)에 있어서,
    상기 얇은 유리 스트립(1)을 인발하기 위한 드로잉 장치(3)를 포함하는 유리 스트립 형성 장치(4),
    상기 얇은 유리 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 속도의 차이를 검출하기 위한 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 검출 장치(7), 및
    상기 장치(7)에 연결되고, 상기 차이에 기초하여 제어 변수를 결정하여, 상기 제어 변수에 의해 상기 얇은 유리 스트립(1)의 측방향으로 대향하는 에지(10, 11)의 상기 속도의 차이가 상쇄되도록 상기 유리 스트립 형성 장치(4)가 제어될 수 있도록 구성되는 제어 장치(6)
    를 포함하는 것인 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    다음의 특징들:
    상기 장치(2)는 가열 또는 냉각 장치(55)를 포함하고, 상기 가열 또는 냉각 장치에 의해 상기 얇은 유리 스트립(1)의 온도는 국부적으로 상기 얇은 유리 스트립(1)의 드로잉 방향에 대한 횡방향으로 변화될 수 있고, 상기 가열 또는 냉각 장치는 상기 제어 변수에 의해 제어되어 상기 얇은 유리 스트립의 상기 2개의 대향하는 에지(10, 11) 사이의 상기 얇은 유리 스트립(1)의 상기 속도의 차이가 상쇄되도록 상기 드로잉 방향에 대한 횡방향의 상기 얇은 유리 스트립(1)의 온도 프로파일이 변화될 수 있고;
    상기 가열 또는 냉각 장치(55)는 상기 드로잉 방향에 대해 횡방향으로 이격되는 적어도 2개의 가열 및/또는 냉각 요소(56, 57)를 포함하고;
    상기 가열 또는 냉각 장치(55)는 복사 가열 요소(58) 및 복사 지향 장치(59)를 포함하여, 상기 복사 가열 요소(58)에 의해 방출된 복사는 상기 복사 지향 장치(59)에 의해 상기 얇은 유리 스트립(1)의 드로잉 방향에 대한 횡방향으로 그 위치가 상기 제어 변수에 의존하는 위치로 지향되고;
    상기 드로잉 장치(3)는 상기 얇은 유리 스트립(1)의 폭을 따라 이격된 적어도 2개의 위치에서 상기 얇은 유리 스트립(1)에 작용하도록 구성되고, 상기 드로잉 장치(3)는, 상기 2개의 이격된 위치에서의 상이한 드로잉 작용에 의해 상기 얇은 유리 스트립(1)의 상기 2개의 대향하는 에지(10, 11) 사이의 상기 얇은 유리 스트립(1)의 상기 속도의 차이가 상쇄되도록 상기 제어 장치(6)에 의해 제어되고;
    상기 드로잉 장치(3)는 드로잉 롤러(31), 및 상기 제어 변수에 따라 축방향을 따른 상기 드로잉 롤러(31)의 접촉 압력을 변화시키기 위한 장치를 포함하고;
    상기 드로잉 장치(3)는 상기 인발 방향에 대해 횡방향으로 이격된 2개의 드로잉 롤러(31, 32)를 포함하고, 상기 드로잉 롤러(31, 32) 중 적어도 하나는 상기 접촉 압력 또는 인장력의 가변을 위해 상기 제어 변수에 따라 조정 가능한 장치를 포함하고;
    상기 장치(2)는 얇은 유리 스트립(1)을 롤러(15)로 권취하기 위한 권취 장치(13)를 포함하는 것 중 적어도 하나를 특징으로 하는 장치.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 장치 또는 방법에 의해 제조될 수 있는 얇은 유리 스트립(1)에 있어서,
    상기 얇은 유리 스트립(1)은 연속적인 길이 방향 섹션(110, 111, 112, 113)을 포함하고, 상기 연속적인 길이 방향 섹션은 상기 얇은 유리 스트립(1)의 길이 방향에 대한 횡방향의 휨을 포함하고, 상기 얇은 유리 스트립(1)의 상기 휨의 성분은 상기 연속적인 섹션의 횡방향으로 각각 그 부호를 변화시키고, 상기 길이 방향 섹션(110, 111, 112, 113)의 길이는 최대 20 m, 바람직하게는 최대 10 m인 것인, 얇은 유리 스트립.
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