KR20170129270A - 용량성 터치 패널 등을 위한 투명한 전도성 코팅 - Google Patents

용량성 터치 패널 등을 위한 투명한 전도성 코팅 Download PDF

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KR20170129270A
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윌렘 덴 버
지엔-강 웡
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가디언 인더스트리즈 코퍼레이션.
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Abstract

본 발명은 가시광에 대해 실질적으로 투명하고 하부 기판의 가시광 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는 가시광 반사율을 갖도록 설계되는 투명한 전도성 코팅에 관한 것이다. 특정한 예시의 실시형태에서, 투명한 전도성 다층 코팅은, 은층을 포함하고, 가시광에 대해 투명하지만, 실질적으로 일치하는 가시광 반사 설계로 인해 많이 보이지 않는 전극을 제공하고, 이는 용량성 터치 패널 내의 전극으로서 사용될 수 있다.

Description

용량성 터치 패널 등을 위한 투명한 전도성 코팅
본 발명의 예시의 실시형태는, 가시광에 대해 실질적으로 투명하고, 코팅이 존재하지 않은 영역에서의 하부 기판의 가시광 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는 가시광 반사율(유리측 및/또는 필름측 가시광 반사율)을 갖도록 설계되는 투명한 전도성 코팅에 관한 것이다. 특정한 예시의 실시형태에서, 투명한 전도성 코팅은, 은층을 포함하고, 기판 상의 코팅의 가시광 반사율이, 코팅이 존재하지 않는 영역에서 하부 기판의 가시광 반사율(%)과 엄밀하게 일치하기 때문에, 보이지 않고 가시광에 대해 투명한 전극을 제공하고, 이는 용량성 터치 패널에서 전극으로서 사용될 수 있다. 상기 코팅은 또한, 일반적인 ITO 코팅에 비해 개선된 전도성(예를 들면, 유사한 두께 및/또는 증착 비용이 제공되는 경우에 작은 시트 저항 Rs 또는 작은 방사율(emissivity))을 갖는다. 코팅은 또한 적외선(IR) 방사를 반사시키기 위해 창 등에서 저-방사율(저-E) 코팅으로서 사용될 수 있다.
용량성 터치 패널은 종종 전도성 코팅으로 코팅된 유리와 같은 절연체를 포함한다. 인체는 전기전도체이기 때문에, 패널의 표면에 접촉하면, 패널의 전기장이 변화되어 캐패시턴스의 변화를 측정할 수 있다. 투명한 터치 패널은 액정 디스플레이 (LCD) 패널과 같은 디스플레이와 결합해서 터치스크린을 제조할 수 있다. 투영식 용량성(PROCAP) 터치 패널은, 임의로 LCD 또는 그 외의 디스플레이를 포함할 수 있고, 손가락 또는 그 외의 터치에 의해 전도성 코팅 앞의 보호층을 통해 감지될 수 있다. 이러한 보호층은, 내구성을 증가시키며, 사용자는 장갑을 끼고 절연체를 통해 터치를 감지하는 능력에 의해 터치 패널을 작동시킬 수 있다. 본 발명의 특정한 예시의 실시형태는 PROCAP 터치 패널에 관련된다.
도 1a 내지 1g는 관련 기술 투영식 용량성 터치 패널의 일례이고, 예를 들면, 미국 특허 제8,138,425 호를 참조하고, 본원에 참조로 포함된다. 2014년 5월 29일에 공개된 미국 특허 제2014/0145999호를 참조하고, 본 발명과 공동 소유한다.
도 1a를 참조하면, 기판(11), 로우의 x축 전도체(12), 절연체(13), 컬럼의 y축 전도체(14), 및 전도성 배선(15)이 제공된다. 기판(11)은 유리와 같은 투명한 물질일 수 있다. x축 전도체(12) 및 y축 전도체(14)는 일반적으로 투명 전도체인 인듐 주석 산화물(ITO)이다. 절연체(13)는, x축 전도체(12)와 y축 전도체(14) 사이의 전도성을 억제하는, 임의의 절연체 물질(예를 들면, 실리콘 니트라이드)일 수 있다. 배선(15)은, 복수의 전도체와 시그널 프로세서(미도시) 사이에 전기전도성을 제공한다. 작은 PROCAP 터치 패널에서 전극/배선에 사용되는 ITO는 일반적으로 시트 저항이 약 100 옴/스퀘어 이상이고, 본원에 검토된 특정 용도에 대해 너무 높은 것을 알 수 있었다.
도 1b를 참조하면, x축 전도체(12)(예를 들면, ITO)는 기판(11) 상에 형성된다. ITO는 기판(11) 상에 연속층으로 코팅된 후, ITO를 x축 전도체(12)에 패턴화하기 위해 제1 포토리소그래피 공정을 수행한다. 도 1c는 기판(11) 상에 형성된 x축 전도체(12)를 포함하는, 도 1b의 A-A' 단면도이다. 도 1d을 참조하면, 절연체(13)는 기판(11) 상의 x축 전도체(12)의 x축 채널 위에 형성된다. 도 1e는 기판(11) 및 x축 전도체(12) 상에 형성된 절연체(13)을 포함하는, 도 1d의 B-B' 단면도이다. 도 1d-1e에 도시된 절연체 섬(13)은, 기판(11) 상의 전도체(12) 위에 절연 물질(예를 들면, 실리콘 니트라이드)의 연속층을 증착한 후, 섬(13) 내에 절연 물질을 패턴화하기 위해 절연 물질에 제2 포토리소그래피, 에칭 또는 그 외의 패턴화 공정을 수행해서 형성된다. 도 1f를 참조하면, y축 전도체(14)는 기판 상의 절연체 섬(13) 및 x축 전도체(12) 위에 형성된다. y축 전도체(14)용 ITO는, 기판(11) 상의 전도체(12) 및 절연체 섬(13) 위에 코팅된 후, ITO를 y축 전도체(14) 내에 패턴화하기 위해 제3 포토리소그래피 또는 그 외의 패턴화 공정을 수행한다. 대부분의 y축 전도체 물질(14)은 기판(11) 상에서 바로 형성되고, y축 채널은 x축 전도체(12)와 y축 전도체(14) 사이의 전도성을 억제하기 위해 절연체(13) 상에 형성된다. 도 1g는 기판(11) 상에서 예시의 x축 전도체(12)용 ITO 위의 절연체 섬(13) 위에 형성된 y축 전도체(14)용 ITO의 일부를 포함하는, 도 1f의 C-C' 단면도이다. 도 1a-1g에 도시된 구조체의 제조공정은 3개의 별도의 분리된 증착 단계 및 3개의 포토리소그래피 타입 공정이 필요하기 때문에, 제조공정이 복잡해지고, 비효율적이며 비싸진다.
도 1h는 관련 기술 투영식 용량성 터치 패널에 따른 x축 전도체(12)용 ITO 및 y축 전도체(14) 용 ITO의 교차점의 추가의 예이다. 도 1h를 참조하면, ITO 층은 기판(11) 상에 형성되고 제1 포토리소그래피 공정에서 x축 전도체(12) 및 y축 전도체(14) 내에 패턴화될 수 있다. 그 다음에, 절연층이 기판 상에 형성되고 제2포토리소그래피 또는 에칭 공정에서 절연체 섬(13) 내에 패턴화된다. 그 다음에, 전도체층이 기판(11) 상의 전도체(12), 절연체 섬(13), 및 y축 전도체(14) 위에 형성되고 제3포토리소그래피 공정에서 전도성 브리지(16) 내에 패턴화된다. 브리지(16)는 x축 전도체(12) 위의 y축 전도체(14)에 전기전도를 제공한다. 또한, 이 제조 공정은 3개의 증착 단계 및 3개의 상이한 포토리소그래피 공정이 필요하다.
도 1a 내지 1h에서 도시된 투영식 용량성 터치 패널은 상호 정전식 장치 및 자체 용량성 장치일 수 있다. 상호 용량성 장치 내에는, x축 전도체(12) 및 y축 전도체(14)(또는 금속 브리지(16)) 사이에 모든 교차점에 캐패시터가 존재한다. x축 전도체(12)에 전압이 인가되면서, y축 전도체(14)의 전압이 측정된다(및/또는 그 반대). 사용자가 손가락 또는 전도성 스틸러스를 장치의 표면 가까이에 가져가면, 국소 전기장이 변화되어 상호 캐패시턴스가 감소한다. 격자상 모든 개개의 점에서 캐패시터 변화는 정확하게 터치 위치를 결정하기 위해 측정될 수 있다. 자체 용량성 장치에서, x축 전도체(12) 및 y축 전도체(14)는 본질적으로 독립적으로 작동한다. 자체 캐패시턴스로, 손가락 등의 캐패시턴스 부하는 각 x축 전도체(12) 및 y 축 전도체(14) 상에 전류계로 측정된다.
상기 기재된 바와 같이, 종래 기술의 투명한 전도체(12 및 14)는 일반적으로 인듐 주석 옥사이드(ITO)이고, 이는 여러 가지 이유로 문제가 된다. 먼저 ITO은 비싸다. 둘째, ITO의 박막층은 높은 시트 저항 Rs (약 100 옴/스퀘어 이상)이고; 즉 ITO의 전도성은 특히 좋지 않고 비저항이 높다. ITO 층의 시트 저항을 5 옴/스퀘어 미만으로 하기 위해서는, ITO 층이 두꺼워 져야 한다(예를 들면, 400 nm 초과). 그러나, ITO 층이 두꺼워 지면, 비용이 증가하고 덜 투명하게 된다. 따라서, ITO 박막층의 높은 시트 저항은, 대면적 터치 패널에 중점을 두고 터치 패널 상에 길고 좁은 배선을 필요로 하는 레이아웃에서의 사용이 제한된다. 따라서, 해당 기술분야에서 얇은 두께에서 높은 비용 및 낮은 전도도와 같은 ITO 단점을 갖지 않는 물질인 터치 패널 전극이 필요하다는 것을 알 수 있다.
터치 패널에서 전극 물질로서 ITO의 결함을 인식하여, 미국 특허 공개 제2014/0145999호는 ITO 를 대체하기 위해 은계 코팅의 사용을 개시한다. 은계 코팅은 소정의 두께에 대해 ITO보다 더 전도성이 있고 낮은 비용에서 적합한 방식으로 증착될 수 있다. 그러나, 미국 특허공개 제2014/0145999호의 코팅에 대한 문제점이 발견되었다. 특히, 미국 특허 공개 제2014/0145999의 코팅이 터치 패널 상에서 전극으로서 사용되는 경우, 코팅 영역에서의 가시광 반사율은 비-코팅 영역에서의 유리기판의 가시광 반사율(%)과 많이 다르기 때문에 사용자에게 매우 잘 보일 수 있다. 즉, (a)코팅이 존재하지 않는 영역에서 하부 유리기판과, (b)유리기판 상에 코팅을 갖는 코팅 영역 사이의 가시광 반사율의 차이가 너무 크다. 따라서, 해당 기술분야에서 미국 특허 공개 제2014/0145999호의 전도성 코팅에 비해 시인성이 감소하고 합리적인 증착 비용으로 높은 전도성을 갖는 투명한 전도성 코팅이 요구된다.
본 발명의 예시의 실시형태는 미국 특허 공개 제2014/0145999호의 전도성 코팅에 비해 유리기판 상의 시인성이 감소하고 합리적인 증착 비용으로 높은 전도성을 갖는 투명한 전도성 코팅에 관한 것이다. 코팅은 PROCAP 터치 패널과 같은 용량성 터치 패널에서 전극층 및/또는 배선으로서 사용될 수 있고, 및/또는 창에서와 같은 터치 패널 이외의 용도에서 저-E 코팅으로서 사용될 수 있다. 코팅은 적어도 제1 유전층과 제2 유전층 사이에 개재될 수 있는 은-포함 층을 가질 수 있다. 코팅(예를 들면, 전극 및 배선)이, 미국특허 공개 제2014/0145999호의 코팅에 비해 터치 패널 등의 사용자에게 덜 보이도록, 코팅은 놀랍게도 하부 유리기판의 가시광 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는 가시광 반사율을 갖도록 설계되었다.
본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 기판, 상기 기판에 의해서 지지되는 다층 투명한 전도성 코팅; 및 상기 터치 패널 상에서 터치 위치를 검출할 때에 전극 사이의 캐패시턴스를 측정하는 프로세서를 포함하고, 상기 다층 투명한 전도성 코팅은 적어도 제1 유전층과 제2 유전층 사이에 위치한 은을 포함하는 하나 이상의 전도층을 포함하고, 적어도 제1 유전층과 제2 유전층 사이에 위치한 은을 포함하는 하나 이상의 전도층을 포함하는 다층 투명한 전도성 코팅은 복수의 터치 패널용 전극으로 패턴화되고, 상기 다층 투명한 전도성 코팅으로 형성된 전극은 기판에 실질적으로 평행한 공통 면에 실질적으로 형성되고, (a)코팅이 존재하는 영역에서 기판 상의 다층 투명한 전도성 코팅의 유리측 및/또는 필름측 가시광 반사율(%)과, (b)상기 다층 투명한 전도성 코팅이 존재하지 않는 적어도 일부 영역에서 상기 기판의 가시광 반사율(%) 사이에 600 nm 가시광 파장 (550-600 nm에서 가시광 스펙트럼 범위)에서 2.0 이하(더 바람직하게는 1.5 이하, 가장 바람직하게는 1.0 이하)의 차이가 있는, 용량성 터치 패널이 제공된다.
선행하는 단락의 용량성 터치 패널에서, 기판은 유리기판 또는 항반사(AR) 코팅으로 코팅된 유리로 구성되는 기판일 수 있다.
선행하는 2개의 단락 중 어느 하나의 용량성 터치 패널에서, 제1 유전층은 티타늄 옥사이드를 포함할 수 있고 및/또는 제2 유전층은 주석 옥사이드를 포함할 수 있다.
선행하는 3개의 단락 중 어느 하나의 용량성 터치 패널에서 다층 투명한 전도성 코팅의 시트 저항이 약 15 옴/스퀘어 이하, 더 바람직하게는 약 10 옴/스퀘어 이하, 가장 바람직하게는 약 5 옴/스퀘어 이하일 수 있다.
선행하는 4개의 단락 중 어느 하나의 용량성 터치 패널은 사이에 액정층이 제공된 한쌍의 기판을 포함하는 액정 패널에 커플링될 수 있고, 다층 투명한 전도성 코팅은 상기 다층 투명한 전도성 코팅을 지지하는 기판과 상기 액정 패널 사이에 제공되고, 상기 다층 투명한 전도성 코팅은 상기 액정 패널과 상기 다층 투명한 전도성 코팅 사이에 제공되는 에어 갭에 인접한다.
도 1a 내지 1h는 종래기술의 투영식 용랑성 터치 패널의 예를 도시한다.
도 2a는 전도성 전극 및/또는 전도성 배선으로서 도 4, 6, 7, 및/또는 8의 코팅을 포함할 수 있는 예시의 실시형태에 따른 투영식 용량성 터치 패널의 상면 또는 하면 레이아웃을 도시한다.
도 2b는 도 2a, 3, 9, 및/또는 10의 투영식 용량성 터치 패널의 회로의 개략 대표도이다.
도 3은 전도성 전극 및/또는 전도성 배선으로서 도 4, 6, 7, 및/또는 8 의 코팅을 함유할 수 있는, 또 다른 예시의 실시형태에 따른 투영식 용량성 터치 패널의 상면 또는 하면 레이아웃을 도시한다.
도 4a-4c는 예시의 실시형태에 따른 도 2, 3, 8, 9 및/또는 10의 터치 패널에서 사용하기 위한 다양한 은-포함 투명한 전도성 코팅의 단면도이다.
도 5는 유리기판만의 가시광 투과율 (TR)(%) 및 유리측 가시광 반사율 (BRA)(%)(Glass-TR, Glass-BRA)에 비해, 유리기판 상의 비교예(CE) 코팅의 가시광 투과율 (TR) % 및 유리측 가시광 반사율 (BRA)을 도시하는 가시광 투과율/반사율 대 파장 (nm) 그래프이다.
도 6은 유리기판 상에 본 발명의 예시의 실시형태에 따른 도 4a의 예시의 코팅의 가시광 투과율 (TR) 및 유리측 가시광 반사율 (BRA)을 도시하는 가시광 투과율/반사율 대 파장 (nm) 그래프로, 예시의 코팅이, 가시광에 대해 투명하고, 도 5의 CE에 비해, 유리기판 상의 가시광 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는 유리측 가시광 반사율을 갖는 것을 나타낸다. 도 6은 도 5와 마찬가지로 또한 유리기판 상에 코팅을 갖지 않은 유리기판만의 가시광 투과율 (Glass-TR) 및 가시광 반사율 (Glass-BRA)을 도시한다.
도 7은 휴대폰, 휴대용 패드, 컴퓨터 등과 같은 전자 장치에서 사용하기 위한, 액정 패널에 커플링된 도 2-4, 6, 8-10 중 어느 하나에 따른 터치 패널을 포함하는, 본 발명의 예시의 실시형태에 따른 터치 패널 어셈블리의 단면도이다.
도 8a는 본 발명의 또 다른 예시의 실시형태에 따른 도 4b의 예시의 코팅의 가시광 투과율(CGN-TR 또는 TR) 및 유리측 가시광 반사율 (CGN-BRA 또는 BRA) 을 도시하는 가시광 투과율/반사율 대 파장 (nm) 그래프로, 예시의 코팅이 가시광에 대해 투명하고, CE에 비해 유리기판의 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는 유리측 가시광 반사율을 갖는 것을 나타낸다. 도 8a는 또한 코팅을 갖지 않는 유리기판만의 가시광 투과율 (Glass-TR) 및 가시광 반사율(Glass-BRA)을 도시한다.
도 8b는 본 발명의 또 다른 예시의 실시형태에 따른 도 4c의 예시의 코팅의 가시광 투과율(CGN-TR 또는 TR) 및 유리측 가시광 반사율 (CGN-BRA 또는 BRA) 을 도시하는 가시광 투과율/반사율 대 파장 (nm)이고, 가시광에 대해 투명하고 CE에 비해 기판의 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는 유리측 가시광 반사율을 갖는 것을 나타낸다.
도 9는 전도성 전극 및/또는 전도성 배선으로서 도 4, 6, 7, 8의 코팅을 포함할 수 있는, 또 다른 예시의 실시형태에 따른 저해상도 용량성 터치 패널의 상부면 또는 하부면 레이아웃을 도시한다.
도 10은 도 9의 본 발명의 코팅을 지지하는 기판이 PVB와 같은 폴리머 포함 내층을 통해 또 다른 기판(예를 들면, 유리)에 접합될 수 있는 또 다른 예시의 실시형태에 따른 저해상도 용량성 터치 패널의 단면도이다.
도 11은 본 발명의 예시의 실시형태에 따른 도 2, 3, 4, 7, 8, 9, 또는 10 중 어느 하나에 따른 투명한 전도성 코팅 패턴을 제조하는 공정의 플로우차트이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 예시의 실시형태에 따른 도 2, 3, 4, 7, 8, 9, 또는 10 중 어느 하나에 따른 투명한 전도성 코팅 패턴을 제조하는 공정의 플로우차트이다.
도 13은 본 발명의 또 다른 예시의 실시형태에 따른 도 2, 3, 4, 7, 8, 9, 또는 10 중 어느 하나에 따른 투명한 전도성 코팅 패턴을 제조하는 공정의 플로우차트이다.
도 14는 본 발명의 또 다른 예시의 실시형태에 따른 도 2, 3, 4, 7, 8, 9, 또는 10 중 어느 하나에 따른 투명한 전도성 코팅 패턴을 제조하는 공정의 플로우차트이다.
예시의 실시형태의 상세한 설명은 수반하는 도면을 참조하여 제공된다. 동일한 참조 부호는 도면 내에서 동일한 부분을 나타낸다.
본 발명의 예시의 실시형태는 미국 특허 공개 제2014/0145999호의 전도성 코팅에 비해 유리기판(40) 상의 시인성이 감소하고 합리적인 증착 비용으로 높은 전도성을 갖는 투명한 전도성 코팅(41)에 관한 것이다. 코팅(41)은 PROCAP 터치 패널과 같은 용량성 터치 패널에서 전극층 및/또는 배선으로서 사용될 수 있고, 및/또는 IR 방사를 반사하기 위한 창에서와 같은 터치 패널 이외의 용도에서 저-E 코팅으로서 사용될 수 있다. 코팅(41)은 적어도 제1 유전층과 제2 유전층 사이에 개재될 수 있는 은-포함 층을 가질 수 있다. 유리기판(예를 들면, 전극 및 배선) 상에 패턴화되는 경우의 코팅이 미국특허 공개 제2014/0145999호의 코팅에 비해 터치 패널 등의 사용자에게 덜 보이도록, 코팅(41)은 놀랍게도 코팅이 존재하지 않는 영역에서 하부 유리기판의 가시광 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는 가시광 반사율(예를 들면, 유리측 가시광 반사율)을 갖도록 설계되었다. 이는 특히 코팅(41)이 하부 기판(예를 들면, 유리기판(40))의 특정 영역으로 패턴화되는 터치 패널과 같은 용도에서 중요하다.
도 2a는 전도성 전극(x,y) 및/또는 전도성 배선(22)으로서 도 4, 6, 7, 및/또는 8 의 다층 전도성 투명한 코팅(41)을 포함할 수 있는 예시의 실시형태에 따른 투영식 용량성 터치 패널의 상부면 또는 하부면 레이아웃을 도시한다. 도 2a를 참조하면, 터치 패널(20)이 제공된다. 터치 패널(20)은 n 컬럼 및 m 로우를 포함하는 전극(x,y)의 매트릭스를 포함하고, 이는 기판(40) 상에 제공된다. 컬럼/로우 전극(x,y)의 매트릭스는, 일반적으로 사람 손가락 터치에 의한 은계 코팅(41)의 부식을 방지하기 위해, 사람이 터치 패널을 사용해서 터치하는 측에 대면하는 기판측(예를 들면, 유리기판(40)) 상에 제공된다. 즉, 터치 패널에 손가락, 스틸러스, 등을 터치하는 경우, 유리기판(40)은 일반적으로 (a)손가락과 (b)로우/컬럼 전극(x,y)의 매트릭스 및 전도성 배선(22) 사이에 위치한다. 손가락 등에 접근에 의한, 매트릭스 내에 인접한 로우 전극과 컬럼 전극 사이의 캐패시턴스의 변화는 전자 회로에 의해 감지되고, 연결 회로는 손가락 등으로 패널에 터치한 위치를 검출할 수 있다. 예를 들면, 도 2a를 참조하면, 로우 0은 로우 전극 x0,0, x1,0, x2,0 등 내지 xn,0을 포함하고 컬럼 0, 1 및 2는 각각 컬럼 전극 y0, y1, y2 등 내지 yn을 포함한다. 선택적으로 컬럼 방향의 x 전극은, 컬럼 감지를 위해 그룹으로 형성될 수 있다. 로우 및 컬럼 전극의 수는 터치 패널의 크기 및 해상도에 의해 결정된다. 이 실시예에서, 상부 우측 로우 전극은 xn,m이다. 터치 패널(20)의 각각의 로우 전극 x0,0-xn,m 은, 전도성 배선(22)에 의해 상호 연결 영역(21) 및 상응하는 프로세싱 회로/소프트웨어에 전기적으로 연결된다. 각각의 컬럼 전극 y0-yn 은, 또한 직접 또는 전도성 배선에 의해 상호 연결 영역(21) 및 상응하는 프로세싱 회로/소프트웨어에 전기적으로 연결된다. 전도성 배선(22)은 로우 및 컬럼 전극과 동일한 투명 전도성 물질(예를 들면, 적어도 로우 전극 x0,0, x1,0, x2, 0와 동일한 물질)(다층 전도성 투명한 코팅(41))로 바람직하게 형성된다. 따라서, 특정한 예의 실시형태에서, 로우 및 컬럼 전극(x,y)의 매트릭스 및 상응하는 배선(22)은, 기판 상에 코팅(41)을 형성하여 (예를 들면, 코팅(41)을 스퍼터 증착하고, 코팅(41)을 전극(x,y) 및 배선(22)으로 패턴화하기 위해 하나 (또는 최대 둘)의 포토리소그래피 공정만 수행함으로서 기판(예를 들면, 유리기판)(40) 상에 형성될 수 있다. 특정한 예의 실시형태에서, 은-포함 코팅(예를 들면, 도 4의 예시의 코팅(41) 참조)은 유리기판(40) 상에 스퍼터 증착된 후, 포토리소그래피 및/또는 레이저 패턴화을 수행해서 은-포함 코팅을 배선(22), 로우 전극 x0,0, x1,0, x2,0, x0,1, x,0 , 2, x0, 3,등 내지 xn,m, 및 컬럼 전극 y0-yn로 패턴화한다. 로우 전극 x0,0-xn,m,, 컬럼 전극 y0-yn , 배선(22)은, 상부/하부에서 봤을 때 서로 중첩되지 않기 때문에, 로우 전극 x0,0-xn,m,, 컬럼 전극 y0-yn , 배선(22)이 유리기판(40)에 평행(또는 실질적으로 평행)한 동일 면 상에 형성되고, 그 상에 전극 및 배선이 형성될 수 있다. 특정한 예시의 실시형태에서 전극(x 및 y) 사이의 절연층이 요구되지 않는다. 배선(22)의 상당한 부분은 유리기판(40)에 평행(또는 실질적으로 평행)한 면 내에 컬럼 전극에 평행(또는 실질적으로 평행)할 수 있다. 따라서, 적은 수의 포토리소그래피 또는 레이저 패턴화 단계를 통해 충분한 투명성 및 전도성을 갖는 배선이 얻어지는 터치 패널(20)이 제조될 수 있기 때문에, 제조 비용이 감소하고 디스플레이 어셈블리 등에 사용하기 위한 터치 패널에 더 효과적이다.
도 2b는 예시의 실시형태에 따른 도 2a에 도시된 터치 패널(20)의 개략 회로도이다. 터치 패널(20) 내에서, 각각의 로우 전극 및 인접한 컬럼 전극 사이(예를 들면, 로우 전극 x0,0과 컬럼 전극 y0 사이)의 캐패시턴스가 존재한다. 이 캐패시턴스는, 컬럼 전극(예를 들면, 컬럼 전극 y0)에 전압을 인가하고, 인접한 로우 전극(예를 들면, 로우 전극 x0, 0)의 전압을 측정함으로써 측정될 수 있다. 사용자가 손가락 또는 전도성 스틸러스를 터치 패널(20)에 가까이 가져가면, 국소 전기장이 변화되어 상호 캐패시턴스가 감소한다. 표면 상의 개개 점에서 캐패시턴 변화는 로우 전극 및 컬럼 전극의 각각의 쌍을 순차적으로 측정함으로써 측정될 수 있다. 동일한 로우에서 각각의 로우 전극의 배선(22)(예를 들면, 로우 0에서 로우 전극 x0,0, x1,0, x2,0, 등 내지 xn,0의 배선(22)은 서로 전기적으로 연결될 수 있다(도 2b에 도시). 제1로우 세그먼트의 상호 연결, 제2로우 세그먼트의 상호 연결 등은, 상호 연결 영역 내의 터치 패널의 주위에서 부착된 유연한 회로 상에 제조될 수 있고, 유리기판(40)에 대한 크로스오버(crossover)가 필요하지 않다. 이러한 예에서, 컬럼 전극에 전압을 인가하고, 또 다른 컬럼 전극에 전압을 인가하는 공정을 반복하기 전에 각각의 로우의 전압을 순차적으로 측정한다. 또한, 각 배선(22)은 시그널 프로세서(25)에 연결되고 각각의 배선(22)의 전압은 개별적으로 측정될 수 있다. 동일한 캐패시턴스는, 로우 전극에 전압을 인가하고, 컬럼 전극에 전압을 인가하지 않고 인접한 컬럼 전극의 전압을 측정하고 인접한 로우 전극의 전압을 측정함으로써 측정될 수 있다. 시그널 프로세싱(예를 들면, 전압을 인가 및 측정, 인접한 전극 사이의 캐패시턴스 측정, 시간 경과에 따라 캐패시턴스 변화 측정, 사용자 입력에 대응하는 시그널 출력)은, 시그널 프로세서(25)에 의해 수행될 수 있다. 시그널 프로세서(25)는 하나 이상의 하드웨어 프로세서일 수 있고, 휘발성 또는 비휘발성 메모리를 포함할 수 있고, 시그널 프로세싱을 수행하기 위해 컴퓨터 판독 가능한 지침을 포함할 수 있다. 시그널 프로세서(25)는, 칼럼 전극 y0-yn 에 전기적으로 연결되고 배선(22)을 통해 로우 전극 x0,0-xn,m 에 전기적으로 연결된다. 시그널 프로세서(25)는 로우 전극 x0,0-xn,m, 컬럼 전극 y0-yn, 및 배선(22) (예를 들면, 도 2a의 상호 연결 영역(21) 내) 와 동일한 면 상에 위치하거나 위치하지 않을 수 있다.
도 3은 전도성 전극(x, y) 및/또는 전도성 배선(22)을 형성하기 위해 패턴화된 도 4, 6, 7, 및/또는 8 의 코팅(41)을 함유할 수 있는, 또 다른 예시의 실시형태에 따른 투영식 용량성 터치 패널의 상부면 또는 하부면 레이아웃을 도시한다. 도 3을 참조하면, 터치 패널(30)은, 상부 섹션(31) 및 하부 섹션(32)으로 나뉘고, 각각 n 칼럼 및 m 로우를 포함하는 전극(x,y)의 매트릭스를 포함하는 것을 제외하고, 도 2a의 터치 패널(20)과 유사하다. 예를 들면, 상부 섹션(31)의 로우 0은 로우 전극 x0,0, x1,0, x2,0, 등 내지 xn,0 을 포함한다. 상부 섹션(31)은 또한 컬럼 전극 y0, y1, y2, 등 내지 yn을 포함한다. 마찬가지로, 하부 섹션(32)은 로우 전극, 및 컬럼 전극 y0-yn 을 포함하고, 하부 섹션의 컬럼 전극 y0-yn 은 상부 섹션(31)의 컬럼 전극 y0-yn과 전기적으로 분리될 수 있다. 따라서, 하부 섹션(32)은 n 컬럼 및 m 로우를 포함하는 로우 전극 및 n 컬럼 전극의 매트릭스를 포함한다. 하부 섹션(32)은 상이한 예의 실시형태에서 상부 섹션(31)보다 적거나 많은 로우를 가질 수 있다. 터치 패널(30)의 로우 및 컬럼 전극의 수는 터치 패널의 크기 및 해상도에 의해 결정된다. 상부 섹션(31)의 각각 컬럼 전극은 상호 연결 영역(21)에 전기적으로 연결되고, 상부 섹션(31)의 각각의 로우 전극은 배선(22)에 의해 상호 연결 영역(21)에 전기적으로 연결된다. 도 2 실시형태에 대해, 배선은 상부 섹션(31)의 컬럼 전극을 상호 연결 영역에 연결하기 위해 사용되거나 사용되지 않을 수 있다. 하부 섹션(32)의 컬럼 전극은 상호 연결 영역(21')에 전기적으로 연결되고, 하부 섹션(32)의 각각의 로우 전극은 배선(22)에 의해 상호 연결 영역(21')에 전기적으로 연결된다. 또한, 배선은, 상호 연결 영역(21')에 하부 섹션(32)의 컬럼 전극을 연결하기 위해 사용되거나 사용되지 않을 수 있다. 도 3을 참조하면, 터치 패널(30)은, 컬럼 전극에 전압을 인가하고 인접한 로우 전극의 전압을 측정(또는 로우 전극에 전압을 인가하고 인접한 컬럼 전극의 전압을 측정)함으로써 측정할 수 있는, 각각의 로우 전극과 인접한 컬럼 전극 사이의 캐패시턴스가 존재하는 점에서 터치 패널(20)과 유사하다. 사용자가 손가락 또는 전도성 스틸러스를 터치 패널(30)에 가까이 가져가면, 국소 전기장이 변화되어 상호 캐패시턴스가 감소한다. 표면 개개의 점에서 캐패시턴스 변화는, 로우 전극 및 컬럼 전극의 각각의 쌍의 상호 캐패시턴스를 순차적으로 측정함으로써 측정될 수 있다. 도 3에 도시된, 로우 전극 및 컬럼 전극(x,y)은 서로 중첩되지 않기 때문에, 로우 전극 및 컬럼 전극은 도 2에 대해 상기 설명한 바와 같이 패턴화된 투명한 전도성 코팅(41)에 의해 동일면 상에서 형성될 수 있다. 따라서, 터치 패널(30)의 전극 구조(x,y)는 실제로 얇을 수 있고 하나의 공정(예를 들면, 하나의 포토리소그래피 공정 또는 하나의 레이저 패턴화 공정)으로 패턴화될 수 있고, 투영식 용량성 터치 패널의 제조 비용을 줄일 수 있다.
당업자가 인지한 바와 같이, 상기 기재된 터치 패널(20 및 30)은 도 2 내지 3에 도시되고 상기 기재된 방향으로 제한되지 않는다. 즉, 본 출원 명세서에서 사용되는 "로우", "컬럼", "x축" 및 "y축"은 특정한 방향을 함축하는 것으로 의미하지 않는다. 도 2a의 터치 패널(20)은, 예를 들면, 상호 연결 영역(21)이 터치 패널(20)의 임의의 부분에 위치하도록 수정하거나 회전될 수 있다.
도 2a 및 3에 도시된 바와 같이, 좁고 투명한 전도성 배선(22)은 상호 연결 영역(21)(및 상호 연결 영역(21'))에 전극을 전기적으로 연결하기 위해 라우팅된다. 좁은 ITO 배선은 저항이 크기 때문에, 단지 스마트폰과 같은 작은 터치 패널에만 사용될 수 있다. 도 2a 및 3에 도시된 레이아웃 중 하나를 큰 터치 패널(예를 들면, 대각선 측정 치수 10인치 초과) 에 사용하기 위해서는, 낮은 시트 저항을 갖는 투명 전도성 코팅(41)이 사용되어야 한다. 로우/컬럼 전극(x,y) 및 배선(22) 형성시 사용되는 도 4에 도시된 은-포함 코팅(41)은, 일반적인 종래의 ITO 배선/전극보다 훨씬 작은 시트 저항(따라서 높은 전도성)을 갖기 때문에 이러한 점에서 바람직하다.
로우 전극, 컬럼 전극 및 배선(22)을 형성하기 위해, 낮은 시트 저항을 갖는 다층 은-포함 투명 전도성 코팅(TCC)(41)의 예는, 본 발명의 예시의 실시형태에 따른 도 4(도 4a, 4b및 4c)에 도시된다. TCC(41)의 낮은 시트 저항 및 높은 투명성 때문에, 로우 및 컬럼 전극(x,y)뿐 아니라 길고 좁은 배선(22)을 형성할 수 있다.
도 4를 참조하면, 예시의 실시형태에서 다층 투명한 전도성 코팅(41)이 기판(40) 상에 직접 또는 간접적으로 제공된다. 기판(40)은, 예를 들면, 유리일 수 있다. 하기 기재된 또 다른 실형태에서, 항반사(AR) 코팅은 기판(40)과 코팅(41) 사이에 제공될 수 있다. 코팅(41)은, 예를 들면, 티타늄 옥사이드 또는 니오브 옥사이드와 같은 물질의 또는 이를 포함하는 유전 굴절률층(43)을 포함할 수 있고, 티타늄 옥사이드 (예를 들면, TiO2 또는 그 외의 적합한 화학양론); 은계 층과 접촉될, 임의로 알루미늄으로 도프된 아연 옥사이드(44)의 또는 이를 포함하는 유전층; 아연 옥사이드계 층(44) 상에 바로 접촉하는 은계 전도층(46); 은계 전도층(46) 상에 접촉하는 옥사이드된 및/또는 니트라이드될 수 있는 니켈 및/또는 크롬을 포함하는 상부 접촉층(47); 티타늄 옥사이드 (예를 들면, TiO2 또는 그 외의 적합한 화학양론)를 포함할 수 있는 티타늄 옥사이드 또는 니오브 옥사이드와 같은 물질의 또는 이를 포함하는 유전 고굴절률층(48); 주석 옥사이드 (예를 들면, SnO2)의 또는 이를 포함하는 유전층(49); 및 실리콘 니트라이드 및/또는 실리콘 옥시니트라이드의 또는 이를 포함하는 최외 보호 유전층(50)을 포함할 수 있다. 코팅(41) 중의 층의 각각은 가시광에 대해 실질적으로 투명한(예를 들면, 적어도 70% 또는 적어도 80% 투명함) 것이도록 설계된다. 유전 고굴절률층(43)은 상이한 예시의 실시형태에서 완전히 산화하거나 아화학양론(sub-stoichiometric)일 수 있다. 은층(46)은 특정한 예시의 실시형태에서 그 외의 물질(예를 들면, Pd)로 도프되거나 도프되지 않을 수 있다.
코팅(41)은, 우수한 전도성을 달성하면서, 가시광 반사율 (유리측 및/또는 필름측) 가시광 반사율이, 지지하는 기판(40)의 가시광 반사율과 엄밀하게 일치함으로써 시인성이 감소하도록 설계된다. 유리측 가시광 반사율은 코팅 반대의 코팅된 유리기판측으로부터 측정되는 반면, 필름측 가시광 반사율은 코팅을 갖는 코팅된 유리기판의 측으로부터 측정되는 것을 유의한다. 코팅(41)의 가시광 반사율 과 지지하는 유리기판(40)의 가시광 반사율이 실질적인 일치하는 것은, 코팅 물질(41)로 이루어진 전극 및 배선의 시인성을 감소시킨다. 놀랍고 예기치 못하게 도 4a의 코팅의 특정한 유전 두께를 조절하면, 코팅(41)의 시인성을 개선(감소)할 수 있기 때문에, 사용자에게 덜 보이고 미적으로 만족스러운 터치 패널의 패턴화된 전극 및 배선을 제조할 수 있다. 본원의 코팅(41)은 예를 들면, 미국 특허 공개 2014/0145999호의 시인성에 비해 유리기판 상의 시인성이 상당히 낮다.
다양한 두께 및 물질은 본 발명의 상이한 실시형태에서 사용될 수 있지만, 도 4a 실시형태에서 유리기판(40) 상의 코팅(41)의 각각의 스퍼터 증착된 층의 예시의 두께 및 물질은, 유리기판으로부터 외부로 다음과 같이 존재한다:
도 4a 투명한 전도성 코팅
레퍼런스 물질 바람직한 두께(Å) 더 바람직한 두께 (Å) 예시의 두께 (Å)
43 TiOx 130-185 150-185 177
44 ZnO 50-140 60-100 83
46 Ag 90-160 115-140 124
47 NiCrOx 15-50 15-30 20
48 TiOx 10-60 15-35 23
49 SnO2 80-220 110-150 130
50 SixNy 300-400 300-320 305
코팅(41)용 상기 물질은 예시적인 것이고, 특정한 예시의 실시형태에서 그 외의 물질이 대신 사용될 수 있고 특정한 층이 생략될 수 있다. 유지하기 위한 핵심 특성은 낮은 시트저항을 갖고 지지하는 유리기판(40) 상의 코팅(41)의 시인성을 감소하도록 설계된 층을 갖는 코팅을 제공하는 것이다. 특정한 예시의 실시형태에서, 그 위에 코팅(41)을 갖는 유리기판(40)은, 예를 들면, 코팅 후 열처리(예를 들면, 열적으로 강화)되거나, 코팅 전 화학적으로 강화될 수 있다.
은-포함 코팅(41)은 저렴하고, 낮은 시트 저항(바람직하게 15 옴/스퀘어 미만, 더 바람직하게 약 10 또는 5 옴/스퀘어 미만, 일례로 약 4옴/스퀘어)을 갖고, 높은 가시광 투과율(바람직하게, 60% 이상, 더 바람직하게는 70% 이상, 더 바람직하게 약 80% 이상, 가장 바람직하게 84% 이상)을 유지한다. 코팅(41)의 시트 저항(Rs) 은 바람직하게 8 옴/스퀘어 이하, 더 바람직하게는 6 옴/스퀘어 이하, 가장 바람직하게는 약 4 옴/스퀘어 이하일 수 있다. 코팅(41)은 바람직하게 손가락 또는 스타일러스와 접촉하거나 대기에 부식 노출을 줄이기 위해 실질적으로 사용자로부터 멀리 떨어진 유리기판(40)의 주요면의 전체 상에 증착된다(그 후 패턴화되어 전극 및 배선을 형성한다). 예를 들면, 도 7에 도시된 예시의 디스플레이 어셈블리는 액정 디스플레이 패널(100-300) 상에 장착된 터치 패널(20, 또는 30, 또는 50)을 포함한다. 로우 전극, 컬럼 전극, 및 배선은, 손가락에 대면하는 유리기판(40) 표면 상에 코팅(41 으로 형성되고, 터치 패널(20,30, 50)은 인덱스 매칭 접착층(85)를 통해 LCD 패널에 부착될 수 있다. LCD 패널은 제1 및 제2 기판(예를 들면, 유리기판)(100, 200)을 포함하고, 그 사이에 액정층(300)이 제공된다. 터치스크린을 형성하기 위해, 터치 패널(20,30)은 작은 에어 갭이 포함된 LCD 패널 상에 장착되거나 인덱스 매칭 접착층(85)으로 디스플레이에 접합될 수 있다. 따라서, 도 7의 참조 부호 85는 디스플레이와 터치 패널 사이의 인덱스 매칭 접착제 또는 에어 갭을 나타낸다. 도 5-6 및 8a-b에 대해 도시된 측정에 대해, 코팅(41)이 에어 갭(85)에 인접하도록 하는 에어 갭(85)을,가정했다. 에어 갭 실시형태에서, 코팅(41)을 지지하는 기판(40)의 주변은 접착제 또는 에지 실 물질의 그 외의 적합한 형태를 통해 액정 패널에 접합시킬 수 있다.
투영식 용량성 터치 패널에 대한 픽셀 피치는, 예를 들면, 약 6 또는 7 mm의 범위 내에 있을 수 있다. 터치 위치는 시그널 프로세싱 및 내삽에 의해 약 1 mm까지 정확하게 결정될 수 있다. 배선(22)에 대한 라인 폭/간격이 약 10 ㎛ 내지 20 ㎛이면, (대각선으로 측정)적어도 20 인치인 투영식 용량성 터치 패널의 TCC 시트 저항이 약 4옴/스퀘어일 수 있도록 산출될 수 있다. 또한, 라우팅의 최적화, 시그널 프로세싱 및/또는 노이즈 억제에 의해, 심지어 더 큰 터치 패널(예를 들면, 대각선 40 또는 50 인치 이하)의 생산이 가능하다. 또한 본 발명의 특정한 예시의 실시형태에서 작은 터치 패널에 적용 가능하다.
실시예 1 대 비교예 (CE)
놀랍고 예기치 못하게, 도 4a코팅의 특정한 유전 두께를 조절하는 것은 놀랍게도 지지하는 기판(40) 상의 코팅(41)의 시인성을 감소시킬 수 있고, 따라서 터치 패널의 전극 및 배선이 사용자에게 덜 보이고 미적 만족도가 증가하는 전체 패널을 제조할 수 있다. 이것은, 예를 들면, 본 발명의 비교예(CE)와 실시예 1 사이의 비교에 의해서 명확하게 되고, 코팅이 유리기판으로부터 외부로, 다음의 구성성분을 포함한다.
비교예 (CE) 대 실시예 1
레퍼런스 물질 비교예 (CE) 두께 (Å) 실시예 1 두께 (Å)
43 TiOx 194 177
44 ZnO 83 83
46 Ag 124 124
47 NiCrOx 20 20
48 TiOx 23 23
49 SnO2 30 130
50 SixNy 295 305
상기 표 2로부터, 본 발명에 따른 실시예 1과 비교예(CE)의 차이는 단지 유전층(43 및 50)의 두께인 것을 알 수 있다. 놀랍고 예기치 못하게 층(43 및 50)을 조절하면, 코팅은, 놀랍게도 유리기판 상의 코팅(41)의 가시광 반사율 (예를 들면, 유리측 가시광 반사율)을, 유리기판(40)만의 가시광 반사율과 엄밀하게 일치시킴으로써, 지지하는 유리기판(40) 상의 코팅(41) 영역의 시인성을 감소시킬 수 있고, 따라서, 사용자에게 덜 보이고 따라서 미적 만족도가 증가하는 터치 패널의 전극 및 배선을 제조할 수 있다. 이는 하기 표 및 도 5-6에서 도시된다.
도 5는 유리기판만의 가시광 투과율 (TR) % 및 유리측 가시광 반사율 (BRA)(Glass-TR, Glass-BRA)에 비해, 유리기판 상의 비교예(CE) 코팅의 가시광 투과율 (TR) % 및 유리측 가시광 반사율 (BRA)을 도시하는 가시광 투과율/반사율 대 파장 (nm) 그래프이다. 도 5는 가시광 스펙트럼 외측의 일부 파장뿐 아니라 가시광 스펙트럼을 도시하는 것을 유의한다. 도 5에서의 "x"를 지닌 라인 플롯은 유리기판(40) 상의 CE 코팅의 유리측 가시광 반사율(즉, 도 7의 손가락의 측으로부터 얻어진 반사율) 이고, 도 5에서 삼각형 표시가 있는 라인 플롯은 코팅(41)이 존재하지 않는 영역에서 유리기판(40)만의 가시광 반사율이다. 2개의 라인 사이의 차이는 중요한데, 이는, (a)CE 코팅이 존재하지 않는 유리기판(40)의 영역(즉, 비-전극과 비-배선 영역)과, CE 코팅이 존재하는 유리기판(40)의 영역(즉, 전극과 배선 영역) 사이의 유리측 가시광 반사율의 차이를 나타내기 때문이다. 따라서, 이들 2개의 라인(도 5 그래프에서 하부의 2개의 라인) 사이의 차이가 클수록, 도 7에서 손가락 측의 시점으로부터 보면 전극과 배선이 관찰자에게 더 많이 보일 수 있다. 도 5에서, 가시광 파장 600 nm 주위의 2개의 라인 사이에 상당한 갭이 있는데(반사율%의 차이가 2.0 초과), CE 물질로 구성된 터치 패널 상의 전극 및 배선이 매우 잘 보이고, 이는 터치 패널 등이 미적으로 만족스럽지 않을 수 있음을 의미한다.
반면, 도 6은, 유리기판 상에 본 발명의 예시의 실시형태에 따른 도 4a의 실시예 1의 코팅의 가시광 투과율 (CGN-TR 또는 TR) 및 유리측 가시광 반사율 (CGN-BRA 또는 BRA)을 도시하는 가시광 투과율/반사율 대 파장 (nm) 그래프로, 실시예 1의 코팅이, 가시광에 대해 투명하고, 도 5의 CE에 비해, 유리기판의 유리측 가시광 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는 유리측 가시광 반사율을 갖는다. 도 6은 도 5와 마찬가지로 또한 유리기판 상에 코팅을 갖지 않은 유리기판만의 가시광 투과율 (Glass-TR) 및 가시광 반사율 (Glass-BRA)을 도시한다. 도 6에서의 "x"를 지닌 라인 플롯은 유리기판(40) 상의 실시예 1 코팅(41)의 유리측 가시광 반사율이고, 도 6에서 삼각형 표시가 있는 라인 플롯은 코팅(41)이 존재하지 않는 영역에서 유리기판(40)만의 가시광 반사율이다. 2개의 라인 사이의 차이는 중요한데, 이는, (a)코팅(41)이 존재하지 않는 유리기판의 영역(즉, 비-전극과 비-배선 영역)과, 코팅(41)이 존재하는 유리기판의 영역(즉, 전극과 배선 영역) 사이의 가시광 반사율의 차이를 나타내기 때문이다. 따라서, 이들 2개의 라인(도 6 그래프에서 하부의 2개의 라인) 사이의 차이가 클수록, 전극과 배선이 관찰자에게 더 많이 보일 수 있다. 이들 2개의 라인(도 6 그래프에서 하부의 2개의 라인) 사이의 차이가 작을수록, 전극과 배선이 관찰자에게 덜 보일 수 있다. 도 5 와 도 6을 서로 비교하면, 도 6에서 가시광 파장 약 550 nm 내지 약 650 nm에서 이들 2개의 라인 사이의 갭이, 도 5에 도시된 CE의 큰 갭에 비해, (필요에 따라)훨씬 더 작고, 이는 실시예 1 물질로 구성된 터치 패널 상의 전극과 배선(도 6)이 (도 5의 CE 물질에 비해) 훨씬 덜 보일 수 있고, 이는 미적으로 더 만족스러운 터치 패널을 제공하는 것을 의미한다. 즉, CE에 비해, 실시예 1은 코팅이 존재하지 않는 영역에서 유리기판(40)의 가시광 반사율과, 유리기판(40) 상의 코팅(41)의 유리측 가시광 반사율을 엄밀하게 일치시키고, 따라서 사용자에게 덜 보이고 따라서 미적으로 더 만족스러운 터치 패널의 전극 및 배선을 제조한다.
다음의 표는 비교예 (CE)와 실시예 1 사이의 광학 차이를 나타내고, 이는 550 nm에서 TR이 가시광 투과율이고, RA가 코팅측으로부터 유리/코팅 조합을 보며 측정하는 필름측 가시광 반사율이며, BRA는 유리측으로부터 유리/코팅 조합을 보며 측정하는 유리측 가시광 반사율이다. 당업자에게 인식된 바와 같이, a* 및 b* 는 투과 색 [a*(TR) 및 b*(TR)] 및 유리측 반사 색[a*(BRA 및 b*(BRA)]에 대해 측정된 색값이다.
비교예 (CE) 대 실시예 1 (광학 파라미터) [Ill. C 2 deg.]
파라미터 유리기판 상의 비교예 (CE) 유리기판 상의 실시예 1
(도 4a 실시형태)		 유리기판만
TR(%) 88% 85.47% 91.7%
a* (TR) -1 -0.60 -0.35
b* (TR) 1.5 1.05 0.18
BRA(%) 5.8% 8.20% 8.11%
a* (BRA) -2.2 -2.37 -0.17
b* (BRA) -6 -6.43 -0.74
실시예 1의 유리기판(40) 상의 코팅(41)의 유리측 가시광 반사율 (BRA)은 CE에 비해(5.8% 대 8.11%) 유리기판(40)만의 가시광 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는(8.20% 대 8.11%) 것은 중요하다. 따라서, 유리기판(40) 상의 패턴화된 코팅(41)은 CE에 비해 실시예 1의 시인성을 감소시킬 수 있다. 본 발명의 특정한 예시의 실시형태에서(예를 들면, 도 2 내지 7)은 유리기판(40) 상의 코팅(41)은 550-600 nm 에서 필름측 가시광 반사율 (RA) 7-10%, 더 바람직하게는 7.5 내지 8.5%이다. 본 발명의 특정한 예시의 실시형태에서, 유리기판(40) 상의 코팅(41)(CE와 달리)은 550-600 nm에서 유리측 가시광 반사율 (BRA) 이 7-13%, 더 바람직하게는 7-9%, 및 더욱 더 바람직하게는 7.25 내지 8.75% (상기에서 알 수 있듯이 CE의 BRA는 단지 5.8% )이다. 본 발명의 특정한 예시의 실시형태에서, CE와 달리, (a)(코팅(41)이 존재하는 영역에서)유리기판(40) 상의 코팅(41)을 포함하는 코팅 제품의 필름측 및/또는 유리측 가시광 반사율(%)과, (b)코팅(41)이 존재하지 않는 영역에서 유리기판만의 가시광 반사율(%) 사이에 550 nm 및/또는 600 nm, 또는 550-600 nm 범위에서 2.0 이하의 차이(더 바람직하게는 1.5 이하 또는 1.0 이하 차이)가 있다. 이는, 예를 들면, 도 6에서 알 수 있다 (도 8a-8b 참조). 반면, 예를 들면, CE에 대해, 상기로부터 (a)코팅(41)이 존재하는 영역에서 유리기판(40) 상의 CE 코팅을 포함하는 코팅 제품의 유리측 가시광 반사율(%)과, (b)유리기판만의 가시광 반사율(%) 사이의 차이가 2.31 (8.11% - 5.8% = 2.31)인 것을 알 수 있고, 이는 상당한 차이로 도 7에 도시된 손가락의 측으로부터 장치를 보면 전극 및 배선이 관찰자에게 쉽게 보일 수 있다. 본 발명의 예시의 실시형태는 이 차이가 2.0 이하, 더 바람직하게는 1.5 이하, 가장 바람직하게는 1.0 이하이다.
특정한 예시의 실시형태에서, 항반사 (AR) 코팅은, 코팅의 가시광 반사율 (유리측 및/또는 필름측)을, 지지하는 기판(유리 및 AR 코팅)의 가시광 반사율과 엄밀하게 일치시키기 위해서, 도 4a-4c 중 어느 하나의 코팅(41)과 유리기판(40) 사이에 제공된다. AR 코팅은 유리기판(40)의 주요면의 전체 또는 실질적으로 전체에 적용될 수 있고, 투명한 전도성 코팅(41)과 달리 특정한 예시의 실시형태에서 AR 코팅이 패턴화될 필요가 없다. 또 다른 선택으로서, AR 코팅은 효과적으로 코팅(41)에 AR 효과를 추가하기 위해서 코팅(41)의 하부로서 제공될 수 있다.
도 4b는 본원에 검토된 장치 또는 제품의 어느 하나에서 직접적 또는 간접적으로 기판(40)에 제공될 수 있는 또 다른 실시형태에 따른 다층 투명한 전도성 코팅(41)을 도시한다(예를 들면, 도 2-3, 7 및 9-14 참조). 기판(40)은, 예를 들면, 유리 또는 AR 코팅으로 코팅된 유리일 수 있다. 도 4b 실시형태의 코팅(41)은, 예를 들면, Al 및/또는 산소로 도프되거나 도프되지 않을 수 있는 실리콘 니트라이드(예를 들면, Si3N4 또는 그 외의 적합한 화학양론)의 또는 이를 포함하는 베이스 유전층(61); Al 및/또는 질소로 도프되거나 도프되지 않을 수 있는 실리콘 옥사이드 (예를 들면, SiO2 또는 그 외의 적합한 화학양론)의 또는 이를 포함하는 저 굴절률 유전층(62); 티타늄 옥사이드 (예를 들면, TiO2 또는 그 외의 적합한 화학양론)를 포함할 수 있는 티타늄 옥사이드 또는 니오브 옥사이드와 같은 물질의 또는 이를 포함하는 유전 고 굴절률층(43); 은계 층과 접촉될 임의로 알루미늄으로 도프된 아연 옥사이드(44)의 또는 이를 포함하는 유전층; 아연 옥사이드계 층(44) 상에 직접 접촉하는 은계 전도층(46); 은계 전도층(46) 상부에 상기 전도층과 접촉하는 옥사이드된 및/또는 니트라이드될 수 있는 니켈 및/또는 크롬을 포함하는 상부 접촉층(47); 티타늄 옥사이드 (예를 들면, TiO2 또는 그 외의 적합한 화학양론)를 포함할 수 있는 티타늄 옥사이드 또는 니오브 옥사이드와 같은 물질의 또는 이를 포함하는 유전 고굴절률층(48); 주석 옥사이드 (예를 들면, SnO2)의 또는 이를 포함하는 유전층(49); 및 실리콘 니트라이드 및/또는 실리콘 옥시니트라이드의 또는 이를 포함하는 최외 보호 유전층(50)을 포함한다. 코팅(41) 중의 층의 각각은 가시광에 대해 실질적으로 투명한(예를 들면, 적어도 70% 또는 적어도 80% 투명함) 것이도록 설계된다. 은층(46)은 특정한 예시의 실시형태에서 그 외의 물질(예를 들면, Pd)로 도프되거나 도프되지 않을 수 있다.
도 4a-c의 코팅(41)은 가시광 반사율 (유리측 및/또는 필름측 가시광 반사율) 을, 지지하는 기판(40)의 가시광 반사율(%)과 엄밀하게 일치시킴으로써 시인성을 감소시키면서 우수한 전도성을 달성하도록 설계된다. 코팅(41)의 가시광 반사율을, 지지하는 유리기판의 가시광 반사율과 실질적으로 일치시키는 것은, 코팅 물질(41)로 구성되는 전극 및 배선의 시인성을 감소시킨다. 본 발명의 상이한 실시형태에서 다양한 두께 및 물질이 층에 사용될 수 있지만, 도 4b 실시형태에서 유리기판(40) 상의 코팅(41)의 각각의 스퍼터 증착된 층의 예시의 두께 및 물질은 유리기판으로부터 외부로 다음과 같다.
도 4b 투명한 전도성 코팅
레퍼런스 물질 바람직한 두께(Å) 더 바람직한 두께 (Å) 예시의 두께 (Å)
61 SixNy 200-500 250-400 318
62 SiOx 200-600 400-500 440
43 TiOx 130-185 150-185 354
44 ZnO 50-140 60-100 83
46 Ag 90-160 115-140 124
47 NiCrOx 15-50 15-30 20
48 TiOx 10-60 15-35 23
49 SnO2 80-220 110-150 130
50 SixNy 300-400 300-320 303
도 4b 코팅(41)의 상기 물질은 예시적인 것이고, 특정한 예시의 실시형태에서 그 외의 물질이 대신 사용될 수 있고 특정한 층이 생략될 수 있다. 유지하기 위한 핵심 특성은 낮은 시트저항을 갖고 지지하는 유리기판(40) 상의 코팅(41)의 시인성을 감소하도록 설계된 층을 갖는 코팅을 제공하는 것이다. 특정한 예시의 실시형태에서, 그 위에 코팅(41)을 갖는 유리기판(40)은, 예를 들면, 코팅 후 열처리(예를 들면, 열적으로 강화)되거나, 코팅 전 화학적으로 강화될 수 있다. 도 4a 실시형태에 대해, 도 4b 실시형태의 은계 코팅(41)은 저렴하고, 낮은 시트 저항(바람직하게 15 옴/스퀘어 미만, 더 바람직하게 약 10 또는 5 옴/스퀘어 미만, 일례로 약 4옴/스퀘어)을 갖고, 높은 가시광 투과율(바람직하게, 60% 이상, 더 바람직하게는 70% 이상, 더 바람직하게 약 80% 이상, 가장 바람직하게 84% 이상)을 유지한다. 코팅(41)은 바람직하게 상기 검토된 바와 같이 손가락 또는 스타일러스와 접촉하거나 대기에 부식 노출을 줄이기 위해 실질적으로 사용자로부터 멀리 떨어진 유리기판(40)의 주요면의 전체 상에 증착된다(그 후 본원에 검토된 바와 같이 패턴화되어 전극 및 배선을 형성한다) .
실시예 2 대 비교예 (CE)
실시예 2는 도 4b 실시형태에 따른 코팅을 이용한다. 놀랍고 예기치 못하게 도 4b 코팅은 놀랍게도 지지하는 기판(40) 상의 코팅(41)의 시인성을 감소시킬 수 있고, 터치 패널의 전극 및 배선이 사용자에게 덜 보이게 하므로, 상기 검토된 CE에 비해 미적으로 더 만족스러운 전체 패널을 제조할 수 있는 것을 알 수 있다. 본 발명의 실시예 2와 비교예(CE) 사이에 하기 비교에 의해서, 코팅은 유리기판으로부터 외부로 다음의 구성성분을 포함한다.
비교예 (CE) 대 실시예 2
레퍼런스 물질 실시예 2 두께 (Å)
61 Si3N4 318
62 SiO2 440
43 TiO2 354
44 ZnO 83
46 Ag 124
47 NiCrOx 20
48 TiO2 23
49 SnO2 130
50 Si3N4 303
도 5는 상기 검토되어 있고, CE의 특성을 설명한다.
반면, 도 8a는 본 발명의 실시예 2의 가시광 투과율(CGN-TR 또는 TR) 및 유리측 가시광 반사율 (CGN-BRA 또는 BRA) 을 도시하는 가시광 투과율/반사율 대 파장 (nm) 그래프로, 본 발명의 실시예 2가, 가시광에 대해 투명하고, 도 5의 CE에 비해 유리기판의 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는 유리측 가시광 반사율을 갖는 것을 나타낸다. 도 8a는 또한 코팅을 갖지 않는 유리기판만의 가시광 투과율 (Glass-TR) 및 가시광 반사율(Glass-BRA)을 도시한다. 도 8a에서의 "x"를 지닌 라인 플롯은 유리기판(40) 상의 실시예 2 코팅(41)의 유리측 가시광 반사율이고, 도 8a에서 삼각형 표시가 있는 라인 플롯은 코팅(41)이 존재하지 않는 영역에서 유리기판(40)만의 가시광 반사율이다. 2개의 라인 사이의 차이는 중요한데, 이는, (a)코팅(41)이 존재하지 않는 유리기판 및 터치 패널의 영역(즉, 비-전극과 비-배선 영역)과 코팅(41)이 존재하는 유리기판의 영역(즉, 전극과 배선 영역) 사이의 가시광 반사율(도 7에서 손가락의 관점으로부터 보면)의 차이를 나타내기 때문이다. 따라서, 이들 2개의 라인(도 8a 그래프에서 하부의 2개의 라인) 사이의 차이가 클수록, 전극과 배선이 관찰자에게 더 많이 보일 수 있다. 이들 2개의 라인(도 8a 그래프에서 하부의 2개의 라인) 사이의 차이가 작을수록, 전극과 배선이 관찰자에게 덜 보일 수 있다. 도 5 와 도 8a을 서로 비교하면, 도 8a에서 가시광 파장 약 550 nm 내지 약 650 nm에서 이들 2개의 라인 사이의 갭이, 도 5에 도시된 CE의 큰 갭에 비해, (필요에 따라)훨씬 더 작고, 이는 실시예 2 물질로 구성된 터치 패널 상의 전극과 배선이 (도 5의 CE 물질에 비해) 훨씬 덜 보일 수 있고, 이는 미적으로 더 만족스러운 터치 패널을 제공하는 것을 의미한다. 즉, CE에 비해, 실시예 2은 코팅이 존재하지 않는 영역에서 유리기판(40)의 가시광 반사율과, 유리기판(40) 상의 코팅(41)의 유리측 가시광 반사율을 엄밀하게 일치시키고, 따라서 사용자에게 덜 보이고 따라서 미적으로 더 만족스러운 터치 패널의 전극 및 배선을 제조한다.
다음의 표는 비교예 (CE)와 실시예 2 사이의 광학 차이를 나타내고, 이는 550 nm에서 TR이 가시광 투과율이고, RA가 코팅측으로부터 유리/코팅 조합을 보며 측정하는 필름측 가시광 반사율이며, BRA는 유리측으로부터 유리/코팅 조합을 보며 측정하는 유리측 가시광 반사율이다. 당업자에게 인식된 바와 같이, a* 및 b* 는 투과 색 [a*(TR) 및 b*(TR)] 및 유리측 반사 색[a*(BRA 및 b*(BRA)]에 대해 측정된 색값이다.
비교예 (CE) 대 실시예 2 (광학 파라미터) [Ill. C 2 deg.]
파라미터 유리기판 상의 비교예 (CE) 유리기판 상의 실시예 2 (도 4b 실시형태) 유리기판만
TR(%) 88% 85.75% 91.7%
a* (TR) -1 -1.05 -0.35
b* (TR) 1.5 -0.31 0.18
BRA(%) 5.8% 7.86% 8.11%
a* (BRA) -2.2 0.02 -0.17
b* (BRA) -6 -0.33 -0.74
실시예 2의 유리기판(40) 상의 코팅(41)의 유리측 가시광 반사율 (BRA)은 CE에 비해 유리기판(40)만의 가시광 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는(7.86% 대 8.11%) 것은 중요하다. 따라서, 유리기판(40) 상의 패턴화된 코팅(41)은 CE에 비해 실시예 2에서 시인성을 감소시킬 수 있다. 상기 검토된 바와 같이, 본 발명의 특정한 예시의 실시형태에서(예를 들면, 도 2 내지 7)은 유리기판(40) 상의 코팅(41)은 550-600 nm 에서 필름측 가시광 반사율 (RA) 7-10%, 더 바람직하게는 7.5 내지 8.5%이다. 본 발명의 특정한 예시의 실시형태에서, 유리기판(40) 상의 코팅(41)(CE와 달리)은 550-600 nm에서 유리측 가시광 반사율 (BRA) 이 7-13%, 더 바람직하게는 7-9%, 및 더욱 더 바람직하게는 7.25 내지 8.75% (상기에서 알 수 있듯이 CE의 BRA는 단지 5.8% )이다. 상기 기재된 바와 같이, 본 발명의 특정한 예시의 실시형태에서(도 2-14), CE와 달리, (a)(코팅(41)이 존재하는 영역에서)유리기판(40) 상의 코팅(41)을 포함하는 코팅 제품의 필름측 및/또는 유리측 가시광 반사율(%)과, (b)코팅(41)이 존재하지 않는 영역에서 유리기판만의 가시광 반사율(%) 사이에 550 nm 및/또는 600 nm, 또는 550-600 nm 범위에서 2.0 이하의 차이(더 바람직하게는 1.5 이하 또는 1.0 이하 차이)가 있다. 이는, 예를 들면, 도 8a에서 알 수 있다 (도 6 및 8b참조). 반면, 예를 들면, CE에 대해, 상기로부터 (a)코팅(41)이 존재하는 영역에서 유리기판(40) 상의 CE 코팅을 포함하는 코팅 제품의 유리측 가시광 반사율(%)과, (b)유리기판만의 가시광 반사율(%) 사이의 차이가 2.31 (8.11% - 5.8% = 2.31)인 것을 알 수 있고, 이는 상당한 차이로 도 7에 도시된 손가락의 측으로부터 장치를 보면 전극 및 배선이 관찰자에게 쉽게 보일 수 있다. 본 발명의 예시의 실시형태는 이 차이가 2.0 이하, 더 바람직하게는 1.5 이하, 가장 바람직하게는 1.0 이하이다.
도 4c는 본원에 검토된 장치 또는 제품의 어느 하나에서 직접적 또는 간접적으로 기판(40)에 제공될 수 있는 또 다른 실시형태에 따른 다층 투명한 전도성 코팅(41' 또는 41")을 도시한다(예를 들면, 도 2-3, 7 및 9-14 참조). 기판(40)은, 예를 들면, 유리일 수 있다. 도 4c 실시형태의 코팅(41')은, 예를 들면, 티타늄 옥사이드 (예를 들면, TiO2 또는 그 외의 적합한 화학양론)을 포함할 수 있는, 티타늄 옥사이드 또는 니오브 옥사이드와 같은 물질의 또는 이를 포함하는 유전 고 굴절률 층(71); Al 및/또는 질소로 도프되거나 도프되지 않을 수 있는 실리콘 옥사이드 (예를 들면, SiO2 또는 그 외의 적합한 화학양론)의 또는 이를 포함하는 저 굴절률 유전층(72); 티타늄 옥사이드 또는 니오브 옥사이드와 같은 물질의 또는 이를 포함하는 유전 고 굴절률층(73); Al 및/또는 질소로 도프되거나 도프되지 않을 수 있는 실리콘 옥사이드 (예를 들면, SiO2 또는 그 외의 적합한 화학양론)의 또는 이를 포함하는 또 다른 저 굴절률 유전층(74); 및 지르코늄 옥사이드(예를 들면, ZrO2 또는 그 외의 적합한 화학양론)의 또는 이를 포함하는 유전층(75)를 포함하는 항반사(AR) 섹션(70)을 포함할 수 있다. 코팅(41')의 AR 섹션(70)은 코팅(41')의 나머지에 따라 패턴화될 필요가 없기 때문에, 도 4c 실시형태에서 "기판"은 코팅의 AR 섹션(70) 및 유리(40)로 여겨질 수 있고, 이러한 경우 도 4c 실시형태의 투명한 전도성 코팅은 층(61, 44, 46, 47 및 50)으로 구성되는 것으로 여겨질 수 있다. 즉, 도 4c의 실시형태에서, 다층 투명한 전도성 코팅은 층(61, 44, 46, 47 및 50)으로 구성되는 층(41'')으로 여겨지고, "기판"은 유리(40)와 AR 코팅(70)의 조합인 것으로 여겨질 수 있다.
도 4c 실시형태의 코팅(41)은, 섹션(41'')으로서 Al 및/또는 산소로 도프되거나 도프되지 않을 수 있는 실리콘 니트라이드(예를 들면, Si3N4 또는 그 외의 적합한 화학양론)의 또는 이를 포함하는 베이스 유전층(61); 은계 층과 접촉하도록 임의로 알루미늄으로 도프된 아연 옥사이드(44)의 또는 이를 포함하는 유전층; 아연 옥사이드계 층(44) 상에 직접 접촉하는 은계 전도층(46); 은계 전도층(46) 상에 접촉하는 옥사이드된 및/또는 니트라이드될 수 있는 니켈 및/또는 크롬을 포함하는 상부 접촉층(47); 티타늄 옥사이드 (예를 들면, TiO2 또는 그 외의 적합한 화학양론)를 포함할 수 있는 티타늄 옥사이드 또는 니오브 옥사이드와 같은 물질의 또는 이를 포함하는 유전 고굴절률층(48); 및 실리콘 니트라이드 및/또는 실리콘 옥시니트라이드의 또는 이를 포함하는 최외 보호 유전층(50)을 더 포함할 수 있다. 도 4a-4c 실시형태의 코팅(41) 중의 층의 각각은 가시광에 대해 실질적으로 투명한(예를 들면, 적어도 70% 또는 적어도 80% 투명함) 것이도록 설계된다.
도 4c의 코팅(41)은 가시광 반사율 (유리측 및/또는 필름측 가시광 반사율) 을, 지지하는 기판의 가시광 반사율(%)과 엄밀하게 일치시킴으로써 시인성을 감소시키면서 우수한 전도성을 달성하도록 설계된다. 코팅(41)의 가시광 반사율을, 지지하는 유리기판(40)의 가시광 반사율과 실질적으로 일치시키는 것은, 코팅 물질(41)로 구성되는 전극 및 배선의 시인성을 감소시킨다. 본 발명의 상이한 실시형태에서 다양한 두께 및 물질이 층에 사용될 수 있지만, 도 4c실시형태에서 유리기판(40) 상의 코팅(41)의 각각의 스퍼터 증착된 층의 예시의 두께 및 물질은 유리기판으로부터 외부로 다음과 같다.
도 4c 코팅
레퍼런스 물질 바람직한 두께(Å) 더 바람직한 두께 (Å) 예시의 두께 (Å)
71 TiOx 40-350 50-250 100
72 SiOx 200-600 300-450 373
73 NbOx 200-2000 500-1500 1112
74 SiOx 200-1200 500-950 744
75 ZrOx 30-120 30-80 50
61 SixNy 150-500 200-400 271
44 ZnO 50-140 60-100 83
46 Ag 90-160 115-150 131
47 NiCrOx 15-50 15-30 20
50 SixNy 300-450 300-350 339
도 4c 코팅(41)의 상기 물질은 예시적인 것이고, 특정한 예시의 실시형태에서 그 외의 물질이 대신 사용될 수 있고 특정한 층이 생략될 수 있다. 유지하기 위한 핵심 특성은 낮은 시트저항을 갖고 지지하는 유리기판 상의 코팅(41)의 시인성을 감소하도록 설계된 층을 갖는 코팅을 제공하는 것이다. 특정한 예시의 실시형태에서, 그 위에 코팅(41)을 갖는 유리기판(40)은, 예를 들면, 코팅 후 열처리(예를 들면, 열적으로 강화)되거나, 코팅 전 화학적으로 강화될 수 있다. 도 4a-b실시형태에 대해, 도 4c실시형태의 은계 코팅(41)은 저렴하고, 낮은 시트 저항(바람직하게 15 옴/스퀘어 미만, 더 바람직하게 약 10 또는 5 옴/스퀘어 미만, 일례로 약 4옴/스퀘어)을 갖고, 높은 가시광 투과율(바람직하게, 60% 이상, 더 바람직하게는 70% 이상, 더 바람직하게 약 80% 이상, 가장 바람직하게 84% 이상)을 유지한다. 코팅(41)은 바람직하게 상기 검토된 바와 같이 손가락 또는 스타일러스와 접촉하거나 대기에 부식 노출을 줄이기 위해 실질적으로 사용자로부터 멀리 떨어진 유리기판(40)의 주요면의 전체 상에 증착된다(그 후 본원에 검토된 바와 같이 패턴화되어 전극 및 배선을 형성한다) .
실시예 3 대 비교예 (CE)
실시예 3은 도 4c 실시형태에 따른 코팅을 이용한다. 놀랍고 예기치 못하게 도 4c 코팅은 놀랍게도 지지하는 기판 상의 코팅(41)의 시인성을 감소시킬 수 있고, 터치 패널의 전극 및 배선이 사용자에게 덜 보이게 하므로, 상기 검토된 CE에 비해 미적으로 더 만족스러운 전체 패널을 제조할 수 있는 것을 알 수 있다. 본 발명의 실시예 3와 비교예(CE) 사이의 하기 비교에 의해서, 코팅은 유리기판으로부터 외부로 다음의 구성성분을 포함한다.
비교예 (CE) 대 실시예 3
레퍼런스 물질 실시예 3 두께 (Å)
71 TiO2 100
72 SiO2 373
73 NbOx 1112
74 SiO2 744
75 ZrO2 50
61 Si3N4 271
44 ZnO 83
46 Ag 131
47 NiCrOx 20
50 Si3N4 339
도 5는 상기 검토되어 있고, CE의 특성을 설명한다.
반면 도 8b는 본 발명의 또 다른 예시의 실시형태에 따른 실시예 3의 가시광 투과율(CGN-TR 또는 TR) 및 유리측 가시광 반사율 (CGN-BRA 또는 BRA) 을 도시하는 가시광 투과율/반사율 대 파장 (nm) 그래프로, 실시예 3은 가시광에 대해 투명하고 CE에 비해 기판의 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는 유리측 가시광 반사율을 갖는 것을 나타낸다. 도 8b는 또한 코팅의 그 외의 층(61, 44, 46, 47 및 50)을 갖지 않는 AR 섹션(71-75) 및 유리기판만의 가시광 투과율 (Glass-TR) 및 가시광 반사율(Glass-BRA)을 도시한다. 도 8b에서의 "x"를 지닌 라인 플롯은 유리기판(40) 상의 실시예 3 코팅(41)의 유리측 가시광 반사율이고, 도 8b에서 삼각형 표시가 있는 라인 플롯은 그 위에 AR 섹션(70-75)만을 갖는 유리기판(40)의 가시광 반사율이다. 2개의 라인 사이의 차이는 중요한데, 이는, (a)코팅의 AR 섹션만 존재하는 유리기판 및 터치 패널의 영역(즉, 비-전극과 비-배선 영역)과, (b)코팅(41) 전체가 존재하는 유리기판 및 터치 패널의 영역(즉, 전극과 배선 영역) 사이의 가시광 반사율의 차이를 나타내기 때문이다. 따라서, 이들 2개의 라인(도 8b그래프에서 하부의 2개의 라인) 사이의 차이가 클수록, 전극과 배선이 관찰자에게 더 많이 보일 수 있다. 이들 2개의 라인(도 8b그래프에서 하부의 2개의 라인) 사이의 차이가 작을수록, 전극과 배선이 관찰자에게 덜 보일 수 있다. 도 5와 도 8b을 서로 비교하면, 도 8b에서 가시광 파장 약 550 nm 내지 약 650 nm에서 이들 2개의 라인 사이의 갭이, 도 5에 도시된 CE의 큰 갭에 비해, (필요에 따라)훨씬 더 작고, 이는 실시예 3 물질로 구성된 터치 패널 상의 전극과 배선이 (도 5의 CE 물질에 비해) 덜 보일 수 있고, 이는 미적으로 더 만족스러운 터치 패널을 제공하는 것을 의미한다. 즉, CE에 비해, 실시예 3은 유리기판(40) 상의 코팅(41)의 유리측 가시광 반사율을, 지지하는 기판(유리 및 AR 층)의 가시광 반사율과 엄밀하게 일치시키고, 따라서 사용자에게 덜 보이고 따라서 미적으로 더 만족스러운 터치 패널의 전극 및 배선을 제조한다.
다음의 표는 실시예 3의 광학 특성을 나타내고, 이는 550 nm에서 TR이 가시광 투과율이고, RA가 코팅측으로부터 유리/코팅 조합을 보며 측정하는 필름측 가시광 반사율이며, BRA는 유리측으로부터 유리/코팅 조합을 보며 측정하는 유리측 가시광 반사율이다. 당업자에게 인식된 바와 같이, a* 및 b* 는 투과 색 [a*(TR) 및 b*(TR)] 및 유리측 반사 색[a*(BRA 및 b*(BRA)]에 대해 측정된 색값이다. 실시예 3에 대해 다음 표에서, 유리기판 파라미터는 전체 기판(40)에서 단지 AR 층(71-75)을 갖는 유리기판에 대한 것이고, 실시예 3 파라미터는 유리기판(40) 상의 전체 코팅(41)에 대한 것이고 (즉, AR 층(71-75)은 실질적으로 전체 기판에서 제공될 수 있는 반면, 층(61, 44, 46, 47 및 50)은 패턴화되어 전극 및 배선을 형성한다).
실시예 3 (광학 파라미터) [Ill. C 2 deg.]
파라미터 유리기판 상의 실시예 3
(도 4c 실시형태)		 그 위에 AR 층 71-75만 갖는 유리기판
TR(%) 85.61% 94.80%
a* (TR) -0.78 -0.30
b* (TR) -0.94 0.35
BRA(%) 4.99% 4.51%
a* (BRA) -0.15 -0.44
b* (BRA) -1.38 -2.34
실시예 3의 유리기판(40) 상의 코팅(41)의 유리측 가시광 반사율 (BRA)은 그 위에 AR 층(71-75)만 갖는 유리기판(40)의 가시광 반사율(%)과 엄밀하게 일치하는(4.99% 대 4.51%) 것은 중요하다. 따라서, 기판 상의 패턴화된 코팅 부분(61, 44, 46, 47 및 50)은 CE에 비해 실시예 3에서 시인성을 감소시킬 수 있다. 본 발명의 특정한 예시의 실시형태에서, (CE와 달리)유리기판(40) 상의 코팅(41)은 550-600 nm 에서 유리측 가시광 반사율 (BRA) 4-13%, 더 바람직하게는 4.5-9%, 및 더욱 더 바람직하게는 4.5 내지 8.75%이다. 상기 검토된 바와 같이, 본 발명의 특정한 예시의 실시형태에서(도 2 내지 14)은 CE와 달리 (a)(코팅(41)이 전체 존재하는 영역에서)유리기판(40) 상의 전체 코팅(41)을 포함하는 코팅 제품의 필름측 및/또는 유리측 가시광 반사율(%)과, (b)유리(40) 및 AR 층(71-75)만 존재하는 유리기판 영역의 가시광 반사율(%) 사이에 550 nm 및/또는 600 nm, 또는 550-600 nm 범위에서 2.0 이하의 차이(더 바람직하게는 1.5 이하 또는 1.0 이하 차이)가 있다. 이는, 예를 들면, 도 8b에서 알 수 있다. 반면, 예를 들면, CE에 대해, 상기로부터 (a)코팅(41)이 존재하는 영역에서 유리기판(40) 상의 CE 코팅을 포함하는 코팅 제품의 유리측 가시광 반사율(%)과, (b)유리기판만의 가시광 반사율(%) 사이의 차이가 2.31 (8.11% - 5.8% = 2.31)인 것을 알 수 있고, 이는 상당한 차이로 도 7에 도시된 손가락의 측으로부터 장치를 보면 전극 및 배선이 관찰자에게 쉽게 보일 수 있다. 본 발명의 예시의 실시형태는 이 차이가 2.0 이하, 더 바람직하게는 1.5 이하, 가장 바람직하게는 1.0 이하이다.
(예를 들면, 도 2-8 실시형태 중 어느 하나의) 본원의 패턴화된 저 시트 저항 코팅(41)은 저해상도 터치 패널 적용에 사용될 수 있다(예를 들면, 도 9 참조). 예를 들면, 상호작용 스토어프런트, 바람직하게 독립형이지만, 경우에 따라 유리 어셈블리 상의 투영식 이미지 또는 직시형 디스플레이와의 결합된다. 유리 상의 저해상도 터치 패널은 사용자가 정보를 선택하거나 달리 유리 표면과 상호 작용하도록 하면서 동시에 유리 뒤의 무엇이 있는지를 볼 수 있다. 독립형 구성에서, 터치 패널은 유리 패널의 양측으로부터 작동될 수 있다. 도 9에 도시된 바와 같이, 저해상도 용량성 터치 패널은 예를 들면, 5 × 5 터치 버튼의 배열일 수 있고, 각각 약 1 스퀘어 인치이고, 약 1/2 인치로 나눈다. 작동의 터치 원리는 베어 손가락뿐 아니라 장갑을 낀 손가락을 검출할 수 있는 자체-캐패시턴스일 수 있다. 도 9에서 상호 연결 플렉스 회로는 터치 조절기에 연결되고 각 버튼의 기능은 따라서 소프트웨어 또는 펌웨어로 재구성할 수 있다. 저해상도 터치 인터페이스는 고해상도 LCD의 상에 다기능 터치 패널보다 제조하기 용이한데, 레이저, 광리소그래피 또는 그 외의 방법에 의해 패턴화 코팅(41)에 대한 최소의 피처 크기가 훨씬 더 크게 될 수 있다. 예를 들면, 배선의 최소 피처 크기는 약 1 mm 일 수 있고, 유리 및 코팅에서의 핀홀, 스크래치 및 그 외의 결함의 요건이 크게 완화된다. 즉, 표준 소다임 유리(40) 및 수평 제조용 코터로 제조된 코팅(41)을 사용할 수 있다. 특정한 저해상도 터치 적용에 대해, 일반적으로 사용되어 휴대폰, 태블릿, 랩탑 및 대형 멀티 터치 패널의 고해상도 멀티-터치 패널을 제조하는 것을 용이하게 하는 고급 클린룸이 요구되지 않는다. 넓은 배선(예를 들면, ~1mm)은 또한 터치 전극으로부터 저항 및 시그널 지연을 감소시킨다.
접합된 도 10 실시형태 (도 2-8의 어느 하나의 코팅이 도 10 실시형태에서 사용될 수 있다)를 참조하면, 독립형 용도에서 부식으로부터 패턴화된 은계 코팅(41)을 보호하기 위해 ((40 및 41) 사이에 AR 코팅의 유무의)터치 패널 기판(40)은 PVB 또는 그 외의 폴리머 포함 접합 물질(52)을 갖는 또 다른 유리기판(45)에 접합된다. PVB(52)는 패턴화된 코팅(41)을 캡슐화하고, 부식이 억제된다.
본 발명의 다양한 실시형태에서, 버튼의 직사각형 어레이 이외의 전극 패턴은 스위핑(swiping) 가능한 패턴, 다이얼을 위한 원형 패턴 등을 포함하는 것으로 상정될 수 있는 것을 주목한다. 잠재적인 용도는 시스루 저해상도 터치 패널이 사용자 인터페이스로서 유리한 스토어프런트, 상업용 냉장고, 기기, 사무실 내의 유리벽 또는 그 외의 환경, 수송, 동적 글레이징, 자동판매기 등을 포함한다. 은계 코팅(41)은 약 4배 낮은 비용으로 ITO보다 최대 10배 낮은 시트 저항이고, 따라서 비용 효율적이다.
도 2-10과 관련해서 상기 검토된 스퍼터 증착된 코팅(41)이 다양한 방법 중 어느 하나로 형성되고 패턴화될 수 있다. 예를 들면, 스퍼터 증착된 코팅(41)은 잉크젯 프린팅 및 리프트 오프 (도 11 참조), 금속 쉐도우 마스크 패턴화(도 12 참조), 광리소그래프(도 13 참조), 또는 레이저 패턴화(도 14 참조)에 의해 형성될 수 있다.
본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 기판(유리, 또는 유리와 AR 코팅의 조합); 상기 기판에 의해서 지지되는 다층 투명한 전도성 코팅; 및 상기 터치 패널 상에서 터치 위치를 검출할 때에 전극 사이의 캐패시턴스를 측정하는 프로세서를 포함하고, 상기 다층 투명한 전도성 코팅은 적어도 제1 유전층과 제2 유전층 사이에 위치한 은을 포함하는 하나 이상의 전도층을 포함하고, 적어도 제1 유전층과 제2 유전층 사이에 위치한 은을 포함하는 하나 이상의 전도층을 포함하는 다층 투명한 전도성 코팅은 복수의 터치 패널용 전극으로 패턴화되고, 상기 다층 투명한 전도성 코팅으로 형성된 전극은 기판에 실질적으로 평행한 공통 면에 실질적으로 형성되고, (a)코팅이 존재하는 영역에서 기판 상의 다층 투명한 전도성 코팅의 유리측 및/또는 필름측 가시광 반사율(%)과, (b)상기 다층 투명한 전도성 코팅이 존재하지 않는 적어도 일부 영역에서 상기 기판의 가시광 반사율(%) 사이에 600 nm 가시광 파장 (또는 550-600 nm에서 가시광 스펙트럼 범위)에서 2.0 이하(바람직하게는 1.5 이하, 더 바람직하게는 1.0 이하)의 차이가 있는, 용량성 터치 패널이 제공된다.
선행하는 단락의 용량성 터치 패널에서, 기판은 유리기판 또는 항반사(AR) 코팅으로 코팅된 유리로 구성되는 기판일 수 있다.
선행하는 2개의 단락 중 어느 하나의 용량성 터치 패널에서, 제1 유전층은 티타늄 옥사이드를 포함할 수 있고 및/또는 제2 유전층은 주석 옥사이드를 포함할 수 있다.
선행하는 3개의 단락 중 어느 하나의 용량성 터치 패널에서, 다층 투명한 전도성 코팅은 상기 기판으로부터 멀어지는 순으로, 티타늄 옥사이드를 포함하는 제1 유전층; 아연 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층; 아연 옥사이드를 포함하는 유전층과 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층; 은을 포함하는 전도층 상부에 상기 전도층과 접촉하는 접촉층; 티타늄 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층; 주석 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층; 및 실리콘 니트라이드를 포함하는 또 다른 유전층을 포함할 수 있다. 임의로, 상기 접촉 층은 Ni 및/또는 Cr의 옥사이드를 포함할 수 있다. 티타늄 옥사이드를 포함하는 제1 유전층의 두께가 약 130-185 Å (더 바람직하게는 약 150-185 Å)일 수 있고, 및/또는 실리콘 니트라이드를 포함하는 유전층의 두께가 약 300-400 Å (더 바람직하게는 약 300-320 Å)일 수 있다.
선행하는 4개의 단락 중 어느 하나의 용량성 터치 패널에서, 다층 투명한 전도성 코팅은, 상기 기판으로부터 멀어지는 순으로, 실리콘 니트라이드를 포함하는 유전층; 실리콘 옥사이드를 포함하는 유전층; 티타늄 옥사이드를 포함하는 유전층; 아연 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층; 아연 옥사이드를 포함하는 유전층과 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층; 은을 포함하는 전도층 상부에 상기 전도층과 접촉하는 접촉층; 티타늄 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층; 주석 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층; 및 실리콘 니트라이드를 포함하는 또 다른 유전층을 포함할 수 있다.
선행하는 5개의 단락 중 어느 하나의 용량성 터치 패널에서, 다층 투명한 전도성 코팅은, 상기 기판으로부터 멀어지는 순으로, 아연 옥사이드를 포함하는 유전층; 아연 옥사이드를 포함하는 유전층과 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층; 은을 포함하는 전도층 상부에 상기 전도층과 접촉하는 접촉층; 및 실리콘 니트라이드를 포함하는 유전층을 포함할 수 있다.
선행하는 6개의 단락 중 어느 하나의 용량성 터치 패널에서, 다층 투명한 전도성 코팅의 시트 저항이 약 15 옴/스퀘어 이하, 더 바람직하게는 약 10 옴/스퀘어 이하, 가장 바람직하게는 약 5 옴/스퀘어 이하일 수 있다.
선행하는 7개의 단락 중 어느 하나의 용량성 터치 패널은 사이에 액정층이 제공된 한쌍의 기판을 포함하는 액정 패널에 커플링될 수 있고, 다층 투명한 전도성 코팅은 상기 기판과 상기 액정 패널 사이에 제공되고, 상기 다층 투명한 전도성 코팅은 상기 액정 패널과 상기 다층 투명한 전도성 코팅 사이에 제공되는 에어 갭에 인접한다.
본 발명의 특정한 예시의 실시형태에서, 기판 및 시그널 프로세서를 포함하는 터치 패널을 제조하는 방법으로서, 기판 상에 다층 은-포함 투명한 전도성 코팅을 스퍼터-증착하는 단계 및 복수의 전도성 전극 및 복수의 전도성 배선을 형성하기 위해 상기 은-포함 투명한 전도성 코팅을 패턴화 하는 단계를 포함하고, 복수의 전극 및 복수의 배선은 상기 기판과 실질적으로 평행한 면에 있고, 각각의 전극은 상기 배선 중 하나 이상에 의해서 상기 시그널 프로세서에 전기적으로 연결되고, (a)코팅이 존재하는 영역에서 기판 상의 다층 투명한 전도성 코팅의 유리측 및/또는 필름측 가시광 반사율(%)과, (b)상기 다층 투명한 전도성 코팅이 존재하지 않는 적어도 일부 영역에서 상기 기판의 가시광 반사율(%) 사이에 550-600 nm 가시광 범위에서 2.0 이하(더 바람직하게는 1.5, 및 가장 바람직하게는 1.0)의 차이가 있는, 방법이 제공된다.
선행하는 단락의 방법에서, 기판은 유리기판이거나 항반사(AR) 코팅으로 코팅된 유리로 구성된 기판일 수 있다.
선행하는 2개의 단락 중 어느 하나의 방법에서, 다층 투명한 전도성 코팅은, 기판으로부터 멀어지는 순으로, 티타늄 옥사이드를 포함하는 제1 유전층; 아연 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층; 아연 옥사이드를 포함하는 유전층과 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층 ; 은을 포함하는 전도층 상부에 상기 전도층과 접촉하는 접촉층; 티타늄 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층; 주석 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층; 및 실리콘 니트라이드를 포함하는 또 다른 유전층을 포함한다. 임의로, 접촉 층은 Ni 및/또는 Cr의 옥사이드를 포함할 수 있다. 티타늄 옥사이드를 포함하는 제1 유전층의 두께가 130-185 Å (더 바람직하게는 약 150-185 Å)일 수 있고, 및/또는 실리콘 니트라이드를 포함하는 유전층의 두께가 300-400 Å (더 바람직하게는 300-320 Å일 수 있다).
선행하는 3개의 단락 중 어느 하나의 방법에서, 다층 투명한 전도성 코팅의 시트 저항은 약 15 옴/스퀘어 이하, 더 바람직하게는 약 10 옴/스퀘어 이하, 및 가장 바람직하게는 약 5 옴/스퀘어 이하일 수 있다.
선행하는 4개의 단락 중 어느 하나의 방법에서, 상기 방법은 사이에 에어 갭이 있는, 상기 기판에 커플링된 디스플레이 패널을 제공하는 단계를 포함할 수 있고, 상기 다층 투명한 전도성 코팅은 상기 에어 갭에 인접한다.
본 발명의 예시의 실시형태(예를 들면, 도 4c의 코팅 제품 참조)에서, 유리 상의 다층 코팅을 포함하는 코팅 제품으로서, 상기 다층 코팅은, 유리로부터 멀어지는 순으로, (i) 항반사 (AR) 부로서, 제1 고 굴절률 유전층; 제1 저 굴절률 유전층; 제2 고 굴절률 유전층; 제2 저 굴절률 유전층(상기 제2 고 굴절률 층은 제1 및 제2 저 굴절률 유전층 사이에 접촉하도록 위치하고, 제1 저 굴절률 유전층은 제1 및 제2 고 굴절률 층 사이에 접촉하도록 위치하고; 상기 제1 및 제2 고 굴절률 유전층의 굴절률 (n)이 550 nm에서 약 2.15 이상이고; 제1 및 제2 저 굴절률 유전층의 굴절률 (n)이 550 nm에서 약 1.7 이하이다); 금속 옥사이드를 포함하는 유전층;을 포함하는 항반사부; 및 (ii) 전도층을 포함한 부분으로서, 실리콘 니트라이드를 포함하는 유전층; 아연 옥사이드를 포함하는 유전층; 아연 옥사이드를 포함하는 유전층과 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층; 은을 포함하는 전도층 상부에 상기 전도층과 접촉하는 접촉층; 및 실리콘 니트라이드를 포함하는 유전층을 포함하는 전도층을 포함한 부분을 포함하는 코팅 제품이 제공된다.
선행하는 단락의 코팅 제품에서, 금속 옥사이드를 포함하는 유전층은 지르코늄의 옥사이드를 포함하거나 필수적으로 이루어질 수 있다.
선행하는 2개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 제1 및 제2 저 굴절률 유전층은 실리콘의 옥사이드를 포함할 수 있다.
선행하는 3개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 제1 및 제2 고 굴절률 유전층은 티타늄의 옥사이드 및/또는 니오브의 옥사이드를 포함할 수 있다.
선행하는 4개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, (a)유리 상에 코팅이 존재하는 영역에서 유리 상의 코팅의 유리측 가시광 반사율(%)과, (b)상기 부분(ii)은 아닌 항반사(AR) 부분(i)이 유리측 상에 존재하는 영역에서 유리의 유리측 가시광 반사율(%) 사이에 550-600 nm 범위에서 2.0 이하(더 바람직하게는 1.5 이하, 가장 바람직하게는 1.0 이하)의 차이가 있을 수 있다.
선행하는 5개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품은, 사이에 에어 갭이 있는 디스플레이 패널에 커플링될 수 있고, 상기 코팅이 상기 유리와 에어 갭 사이에 위치하도록 에어 갭에 인접할 수 있다.
상기 기재되고 및/또는 도면에 도시된 다양한 실시형태 중 어느 하나에서 본원의 전도성 코팅은 다양한 전자 장치에서 전도체 및/또는 전극에 사용될 수 있고, 예를 들면, 터치 패널, 타일 또는 문 상의 샤워 조절기, 엘리베이터 조절기, 공항이나 차량에서와 같은 간판/지도, 관심있는 사람을 추적하기 위한 위치 매핑 시스템, 매핑 장치, 엘리베이터 조절기, 센서, 박물관 전시 또는 학교에 설치된 (예를 들면, 버튼을 통한)개인 상호작용; 와이퍼, 온도조절기, 음향 조절기와 같은 자동차 조절기; 터치 키패드 또는 스마트폰 조절기에서와 같은 주택 또는 자동차 용도의 문 입력 장치(door entry devices); 터치 티칭 장치(touch teaching devices); 자동판매기에서 선택한 제품, 자동차 차폐판의 충돌 검출 시스템, 상호작용 스토어프런트(interactive storefronts), 비/습도 센서, 조절기를 장착한 유리태블릿, 쿡탑 조절기(cooktop controls), 뮤직키보드, 리모컨 장치, 투명한 보호 스크린을 장착한 간판/지도, 레스토랑 메뉴 장치, 윈도우 블라인드 시스템, 마이크로웨이브 조절기; 표면의 플러시 터치 패널 조절기와 같은 세탁기/건조기 조절기, 터치 제어된 PDLC/전기변색 장치 격자 패턴, 실내 조명 스위치 교체, 전자 마커 보드 및/또는 자동온도 조절기를 포함하지만, 이들로 제한되지 않는다.
이러한 용도는 바이너리 및/또는 위치 터치 센서티브 기능을 포함할 수 있고; 수평, 수직 또는 그 외의 방향으로 제공될 수 있고; 소비자, 산업, 사무실, 기기, 주거, 교육 및/또는 그외의 환경 등에 사용될 수 있다.
상기 예시의 실시형태는 당업자에게 본 개시내용의 이해를 제공하기 위한 것이다. 상기 설명은 본 출원에 기재된 본 발명의 개념을 제한한 것은 아니며, 본 발명의 범위는 하기 청구범위로 한정된다.

Claims (33)

  1. 용량성 터치 패널로서,
    기판;
    상기 기판에 의해서 지지되는 다층 투명한 전도성 코팅; 및
    상기 터치 패널 상에서 터치 위치를 검출할 때에 전극 사이의 캐패시턴스를 측정하는 프로세서를 포함하고,
    상기 다층 투명한 전도성 코팅은 적어도 제1 유전층과 제2 유전층 사이에 위치한 은을 포함하는 하나 이상의 전도층을 포함하고,
    상기 적어도 제1 유전층과 제2 유전층 사이에 위치한 은을 포함하는 하나 이상의 전도층을 포함하는 다층 투명한 전도성 코팅은 복수의 터치 패널용 전극으로 패턴화되고,
    상기 다층 투명한 전도성 코팅으로 형성된 전극은 기판에 실질적으로 평행한 공통 면에 실질적으로 형성되고,
    (a)코팅이 존재하는 영역에서 기판 상의 다층 투명한 전도성 코팅의 유리측 가시광 반사율(%)과, (b)상기 다층 투명한 전도성 코팅이 존재하지 않는 적어도 일부 영역에서 상기 기판의 가시광 반사율(%) 사이에 600 nm 에서 2.0 이하의 차이가 있는, 용량성 터치 패널.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기판은 유리기판인, 용량성 터치 패널.
  3. 제1항에 있어서,
    항반사(AR) 코팅으로 코팅된 유리기판이 상기 기판을 구성하는, 용량성 터치 패널.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    (a)코팅이 존재하는 영역에서 기판 상의 다층 투명한 전도성 코팅의 유리측 가시광 반사율(%)과, (b)상기 다층 투명한 전도성 코팅이 존재하지 않는 적어도 일부 영역에서 상기 기판의 가시광 반사율(%) 사이에 600 nm 에서 1.5 이하의 차이가 있는, 용량성 터치 패널.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    (a)코팅이 존재하는 영역에서 기판 상의 다층 투명한 전도성 코팅의 유리측 가시광 반사율(%)과, (b)상기 다층 투명한 전도성 코팅이 존재하지 않는 적어도 일부 영역에서 상기 기판의 가시광 반사율(%) 사이에 600 nm 에서 1.0 이하의 차이가 있는, 용량성 터치 패널.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 유전층은 티타늄 옥사이드를 포함하는, 용량성 터치 패널.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 유전층은 주석 옥사이드를 포함하는, 용량성 터치 패널.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다층 투명한 전도성 코팅은, 상기 기판으로부터 멀어지는 순으로(moving away from the substrate),
    티타늄 옥사이드를 포함하는 제1 유전층;
    아연 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층;
    상기 아연 옥사이드를 포함하는 유전층과 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층;
    상기 은을 포함하는 전도층 상부에 상기 전도층과 접촉하는 접촉층;
    티타늄 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층;
    주석 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층; 및
    실리콘 니트라이드를 포함하는 또 다른 유전층을 포함하는, 용량성 터치 패널.
  9. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다층 투명한 전도성 코팅은, 상기 기판으로부터 멀어지는 순으로,
    실리콘 니트라이드를 포함하는 유전층;
    실리콘 옥사이드를 포함하는 유전층;
    티타늄 옥사이드를 포함하는 유전층;
    아연 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층;
    상기 아연 옥사이드를 포함하는 유전층과 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층;
    상기 은을 포함하는 전도층 상부에 상기 전도층과 접촉하는 접촉층;
    티타늄 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층;
    주석 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층; 및
    실리콘 니트라이드를 포함하는 또 다른 유전층을 포함하는, 용량성 터치 패널.
  10. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다층 투명한 전도성 코팅은, 상기 기판으로부터 멀어지는 순으로,
    아연 옥사이드를 포함하는 유전층;
    상기 아연 옥사이드를 포함하는 유전층과 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층;
    상기 은을 포함하는 전도층 상부에 상기 전도층과 접촉하는 접촉층; 및
    실리콘 니트라이드를 포함하는 유전층을 포함하는, 용량성 터치 패널.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 접촉층은 Ni 및/또는 Cr의 옥사이드를 포함하는, 용량성 터치 패널.
  12. 제8항에 있어서,
    상기 티타늄 옥사이드를 포함하는 제1 유전층의 두께가 약 130-185 Å인, 용량성 터치 패널.
  13. 제8항에 있어서,
    상기 티타늄 옥사이드를 포함하는 제1 유전층의 두께가 약 150-185 Å인, 용량성 터치 패널.
  14. 제8항에 있어서,
    상기 실리콘 니트라이드를 포함하는 유전층의 두께가 약 300-400 Å인, 용량성 터치 패널.
  15. 제8항에 있어서,
    상기 실리콘 니트라이드를 포함하는 유전층은 두께가 약 300-320 Å인, 용량성 터치 패널.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다층 투명한 전도성 코팅의 시트 저항이 약 15 옴/스퀘어 이하인, 용량성 터치 패널.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다층 투명한 전도성 코팅의 시트 저항이 약 10 옴/스퀘어 이하인, 용량성 터치 패널.
  18. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 다층 투명한 전도성 코팅의 시트 저항이 약 5 옴/스퀘어 이하인, 용량성 터치 패널.
  19. 액정 패널에 커플링된 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 기재된 용량성 터치 패널을 포함하는 어셈블리로서,
    상기 액정 패널은 적어도 한쌍의 기판 사이에 액정층을 포함하고,
    다층 투명한 전도성 코팅은 상기 다층 투명한 전도성 코팅을 지지하는 기판과 상기 액정 패널 사이에 제공되고, 상기 다층 투명한 전도성 코팅은 상기 액정 패널과 상기 다층 투명한 전도성 코팅 사이에 제공되는 에어 갭에 인접한, 어셈블리.
  20. 기판 및 시그널 프로세서를 포함하는 터치 패널을 제조하는 방법으로서, 기판 상에 다층 은-포함 투명한 전도성 코팅을 스퍼터-증착하는 단계 및 복수의 전도성 전극 및 복수의 전도성 배선을 형성하기 위해 상기 은-포함 투명한 전도성 코팅을 패턴화 하는 단계를 포함하고,
    복수의 전극 및 복수의 배선은 상기 기판과 실질적으로 평행한 면에 있고, 각각의 전극은 상기 배선 중 하나 이상에 의해서 상기 시그널 프로세서에 전기적으로 연결되고,
    (a)코팅이 존재하는 영역에서 기판 상의 다층 투명한 전도성 코팅의 유리측 및/또는 필름측 가시광 반사율(%)과, (b)상기 다층 투명한 전도성 코팅이 존재하지 않는 적어도 일부 영역에서 상기 기판의 가시광 반사율(%) 사이에 550-600 nm 범위에서 2.0 이하의 차이가 있는, 방법.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 기판은 유리기판인, 방법.
  22. 제20항에 있어서,
    항반사(AR) 코팅으로 코팅된 유리기판이 상기 기판을 구성하는, 방법.
  23. 제20항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
    (a)코팅이 존재하는 영역에서 기판 상의 다층 투명한 전도성 코팅의 유리측 및/또는 필름측 가시광 반사율(%)과, (b)상기 다층 투명한 전도성 코팅이 존재하지 않는 적어도 일부 영역에서 상기 기판의 가시광 반사율(%) 사이에 550-600 nm 범위에서 1.0 이하의 차이가 있는, 방법.
  24. 제20항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서,
    사이에 에어 갭이 있는, 상기 기판에 커플링된 디스플레이 패널을 제공하고, 상기 다층 투명한 전도성 코팅은 상기 에어 갭에 인접한 것인, 방법.
  25. 유리기판 상의 다층 코팅을 포함하는 코팅 제품으로서, 상기 다층 코팅은, 기판으로부터 멀어지는 순으로,
    두께가 150-185 Å인 티타늄 옥사이드를 포함하는 제1 유전층;
    아연 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층;
    아연 옥사이드를 포함하는 유전층과 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층;
    상기 은을 포함하는 전도층 상부에 상기 전도층과 접촉하는 접촉층;
    티타늄 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층;
    주석 옥사이드를 포함하는 또 다른 유전층; 및
    두께가 약 300-400 Å인 실리콘 니트라이드를 포함하는 또 다른 유전층;을 포함하고,
    (a)유리기판 상에 코팅이 존재하는 영역에서 유리기판 상의 코팅의 유리측 및/또는 필름측 가시광 반사율(%)과, (b)상기 코팅이 존재하지 않는 유리기판 자체의 가시광 반사율(%) 사이에 550-600 nm 범위에서 2.0 이하의 차이가 있는, 코팅 제품.
  26. 사이에 에어 갭이 있는, 디스플레이 패널에 커플링된 제25항에 기재된 코팅 제품을 포함하는 어셈블리로서, 다층 투명한 전도성 코팅이 상기 기판과 에어 갭 사이에 위치하도록 에어 갭에 인접한, 어셈블리.
  27. 유리 상의 다층 코팅을 포함하는 코팅 제품으로서, 상기 다층 코팅은, 유리로부터 멀어지는 순으로,
    (i) 항반사 (AR) 부로서,
    (a) 제1 고 굴절률 유전층;
    (b) 제1 저 굴절률 유전층;
    (c) 제2 고 굴절률 유전층;
    (d) 제2 저 굴절률 유전층 (이 때 상기 제2 고 굴절률 층은 제1 및 제2 저 굴절률 유전층 사이에 접촉하도록 위치하고, 제1 저 굴절률 유전층은 제1 및 제2 고 굴절률 층 사이에 접촉하도록 위치하고;
    상기 제1 및 제2 고 굴절률 유전층의 굴절률 (n)이 550 nm에서 약 2.15 이상이고; 제1 및 제2 저 굴절률 유전층의 굴절률 (n)이 550 nm에서 약 1.7이하이다); 및
    (e) 금속 옥사이드를 포함하는 유전층을 포함하는 항반사부; 및

    (ii) 전도층을 포함한 부분으로서,
    (a) 실리콘 니트라이드를 포함하는 유전층;
    (b) 아연 옥사이드를 포함하는 유전층;
    (c) 상기 아연 옥사이드를 포함하는 유전층과 직접 접촉하는 은을 포함하는 전도층;
    (d) 상기 은을 포함하는 전도층 상부에 상기 전도층과 접촉하는 접촉층; 및
    (e) 실리콘 니트라이드를 포함하는 유전층을 포함하는 전도층을 포함한 부분
    을 포함하는 코팅 제품.
  28. 제27항에 있어서,
    상기 금속 옥사이드를 포함하는 유전층은 지르코늄의 옥사이드를 포함하는, 코팅 제품.
  29. 제27항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 저 굴절률 유전층은 실리콘의 옥사이드를 포함하는, 코팅 제품.
  30. 제27항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 고 굴절률 유전층은 티타늄 및/또는 니오브의 옥사이드를 포함하는, 코팅 제품.
  31. 제27항에 있어서,
    (a)유리 상에 코팅이 존재하는 영역에서 유리 상의 코팅의 유리측 가시광 반사율(%)과, (b)상기 부분(ii)은 아닌 항반사(AR) 부분(i)만이 유리측 상에 존재하는 영역에서 유리의 유리측 가시광 반사율(%) 사이에 550-600 nm 범위에서 2.0 이하의 차이가 있는, 코팅 제품.
  32. 제27항에 있어서,
    (a)유리 상에 코팅이 존재하는 영역에서 유리 상의 코팅의 유리측 가시광 반사율(%)과, (b)상기 부분(ii)은 아닌 항반사(AR) 부분(i)만이 유리측 상에 존재하는 영역에서 유리의 유리측 가시광 반사율(%) 사이에 550-600 nm 범위에서 1.0 이하의 차이가 있는, 코팅 제품.
  33. 사이에 에어 갭이 있는 디스플레이 패널에 커플링된 제27항에 기재된 코팅 제품을 포함하는 어셈블리로서, 상기 코팅이 상기 유리와 에어 갭 사이에 위치하도록 에어 갭에 인접한, 어셈블리.

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