TW201702849A - 用於電容式觸控面板之透明導電塗層 - Google Patents

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威廉 丹鮑爾
建剛 翁
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加爾汀工業公司
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Abstract

本發明係有關於一種透明導電塗層，其對可見光為實質透明的且設計成具有與底層基材之可見光反射率更緊密地匹配之可見光反射率。於某些實例具體例中，該透明導電多層塗層包括一種銀層，以及可以使用作為一種電容式觸控面板之電極，以便提供一種對可見光透明但是沒有多少可見度的電極，因為實質匹配的可見光反射設計。

Description

用於電容式觸控面板之透明導電塗層 發明領域
本發明之實例具體例係有關於一種透明導電塗層，其對可見光為實質透明的且設計成具有可見光反射率(玻璃側及/或薄膜側可見光反射率)與塗層不存在之區域內的底層基材之可見光反射率更緊密地匹配。於某些實例具體例中，該塗層包括一種銀層，以及可以使用作為一種電容式觸控面板之電極，以便提供一種對可見光透明但是沒有多少可見度的電極，由於基板上的塗層之可見光反射對塗層不存在之區域內的底層基材之可見光反射更緊密地匹配。與典型的ITO塗層相比，該塗層的導電性亦有改良(譬如，更小的薄片電阻Rs或是更小的發射率，提供相似的厚度及/或沉積成本)。該塗層亦可以使用作為視窗等等上的低發射率(低-E)塗層，用於反射紅外線(IR)輻射。
發明背景
一種電容式觸控面板通常包括一塗佈導電塗層的絕緣器，諸如玻璃。因為人體亦係一電導體，觸控面板的表面會造成面板的靜電場變形，而此可以電容改變來度 量。一種透明觸控面板可與顯示器諸如液晶顯示(LCD)面板組合以形成觸控螢幕。一種投射式電容式(PROCAP)觸控面板，其可選擇性地包括一種LCD或其他的顯示器，允許透過在該導電塗層前端中的保護層來感應手指或其它觸摸。該保護層增加耐久性，同時透過絕緣器來感應觸摸的能力允許使用者當戴著手套時操作該觸控面板。本發明之某些實例具體例係有關於PROCAP觸控面板。
圖1(a)至1(g)闡明一種相關技藝的投射式電容式觸控面板之實例，舉例而言，參見美國專利案號8,138,425，此揭示藉此併入本文以作為參考。參見U.S.2014/0145999，其於2014年五月29日公開，以及共同擁有本發明。
參照圖1(a)，提供基材11、列用的x軸導體12、絕緣器13、行用的y軸導體14，以及導電軌跡15。基材11可以為一種透明材料，諸如玻璃。x軸導體12及y軸導體14典型地可以為一種透明導體，氧化銦錫(ITO)。該絕緣器13可以為一種絕緣材料(例如，氮化矽)，其抑制在x軸導體12與y軸導體14間之導電性。軌跡15在複數個導體與一種信號處理器(無顯示)之間提供導電性。小型PROCAP觸控面板內之電極/軌跡所使用的ITO典型具有至少大約100歐姆/平方的薄片電阻Rs，其業已發現對於如此所討論的某些應用是太高的。
參照圖1(b)，x軸導體12(例如，ITO)係在基材11上形成。該ITO係以連續層塗佈在基材11上，然後接受第一光微影光刻製程以將該ITO圖案化成x軸導體12。圖1(c)闡 明圖1(b)的A-A'橫截面，其包括在基材11上形成的x軸導體12。參照圖1(d)，然後，在基材11上於x軸導體12的x軸通道上形成絕緣器13。圖1(e)闡明圖1(d)的B-B'橫截面，包括在基材11及x軸導體12上形成的絕緣器13。圖1(d)-(e)中顯示的絕緣島13係藉由下列方式形成：在基材11上，將一連續絕緣材料(例如，氮化矽)層沈積在導體12上，然後，讓該絕緣材料接受第二光微影光刻、蝕刻或是其他圖案化製程，俾以將該絕緣材料圖案化成島13。參照圖1(f)，繼而在基材上於絕緣島13及x軸導體12上形成y軸導體14。y軸導體14之ITO係塗佈在基材11上之12、13上，然後讓其接受第三光微影光刻或其它圖案化製程，俾以將ITO圖案化成y軸導體14。雖然大部分的y軸導體材料14係直接形成在基材11上，但是該y軸通道係在絕緣器13上形成，以抑制x軸導體12與y軸導體14間之導電性。圖1(g)闡明圖1(f)的C-C'橫截面，包括部分的ITO y軸導體14，其係在基材11上、於絕緣島13上及於實例ITO x軸導體12上形成。會瞭解到製造圖1(a)-(g)中顯示的結構之方法需要三個分離和不同的沈積步驟及三個光微影光刻型式製程，此使得該製造方法變得惱人、無效率以及昂貴。
圖1(h)闡明根據相關技藝的投射式電容式觸控面板之ITO x軸導體12與ITO y軸導體14交叉的另一個實例。參照圖1(h)，ITO層係在基材11上形成，然後，可以第一光微影光刻製程予以圖案化成x軸導體12及y軸導體14。然後，在基材上形成一絕緣層及以第二光微影光刻或蝕刻製程予 以圖案化成絕緣島13。然後，在基材11上於12-14上形成一導電層及以第三光微影光刻製程予以圖案化成導電橋16。橋16對在x軸導體12上之y軸導體14提供導電性。再一次，此製造方法需要三個沈積步驟及三個不同的光微影光刻製程。
在圖1(a)至1(h)中闡明的投射式電容式觸控面板可以為互電容式元件及自電容式元件。在互電容式元件中，x軸導體12與y軸導體14(或金屬橋16)之間的每個交叉處有一電容器。對x軸導體12施加電壓，同時測量y軸導體14的電壓(及/或反之亦然)。當使用者將手指或導電觸控筆接近該元件的表面時，在局部靜電場上的改變減低互電容。可以測量在該網柵上的每個各別點處之電容改變，以正確地決定觸摸的位置。在自電容式元件中，x軸導體12及y軸導體14基本上獨立地操作。在自電容式中，藉由電流計量器測量手指或其類似物在每個x軸導體12及y軸導體14上之電容負載。
如上所述，先前技藝的透明導體12及14典型係氧化銦錫(ITO)，其因為一些原因而是有問題的。首先，ITO很昂貴。其次，ITO之薄層亦具有高薄片電阻Rs(至少大約100歐姆/平方)；換言之ITO之導電性不是特別好且其之電阻率很高。為了讓ITO層具有之薄片電阻少於5歐姆/平方，該ITO層必需很厚(例如，大於400奈米)。然而，厚的ITO層既貴得嚇人又更不透明。因而，薄層ITO的高薄片電阻限制了其等在需要長窄軌跡佈局之觸控面板，重點在大型面板， 中的用途。於是，會瞭解到在本技藝中對於不會遭受厚度小的ITO之高成本及低導電性的缺點組合困擾，之觸控面板電極材料存在有需求。
認知到ITO作為一種觸控面板之電極材料的缺點，US 2014/0145999揭示使用一種銀基塗層來代替ITO。對於給定的厚度，銀基塗層比ITO更有導電性，以及可以以較低的成本、適合的方式沈積。然而，關於US 2014/0145999之塗層業已發現存在一問題。特別地，設若使用US2014/0145999之塗層作為一種觸控面板之電極，其等對於使用者為高度可見的，由於塗覆區之可見光反射率與非玻璃基材之可見光反射率之差異非常大的事實。換言之，(a)塗層不存在的區域內底層玻璃基材單獨，以及(b)玻璃基材上有塗層之塗層區域，之間可見光反射率之差異太高。因此，對於一種透明導電塗層，其既以合理的沉積成本為高度導電性且與US 2014/0145999之導電塗層相比，玻璃基材上的可見度又是降低的，存在有需求。
發明概要
本發明之實例具體例係有關於一種透明導電塗層，其既以合理的沉積成本為高度導電性且與US 2014/0145999之導電塗層相比，玻璃基材上的可見度又是降低的。該塗層可以使用作為電容式觸控面板，例如PROCAP觸控面板上的電極層及/或軌跡，及/或可以使用作為觸控面板外的應用，例如視窗上的低-E塗層。該塗層可 以具有一種含銀層，該含銀層可夾在至少第一介電層與第二介電層之間。該含銀層業已被設計，以便出人意外地導致其可見光反射率更緊密地匹配底層玻璃基材的可見光反射率，以至於該塗層(譬如，電極及軌跡)與US 2014/0145999之塗層相比之下，對於觸控面板等等之使用者為較不可見的。
在本發明的某些實例具體例中，提供一種電容式觸控面板，其包含：一基材；多層透明導電塗層，其由該基材支撐，其中該多層透明導電塗層包含座落於至少一第一介電層與一第二介電層之間的至少一含銀導電層，其中包含座落於至少該第一介電層與該第二介電層(dielectric)之間的至少該含銀導電層之該多層透明導電塗層，係予以圖案化成該觸控面板之複數個電極；一處理器，其測量該觸控面板上偵測觸摸位置的電極之間的電容，其中由該多層透明導電塗層形成的該等電極係實質形成於與該基材實質平行的共同平面(common plane)上，以及其中於可見光波長600nm(或是550-600nm之可見光譜範圍內)處，(a)於該塗層存在的區域內，該基材上該多層透明導電塗層之玻璃側及/或薄膜側可見光反射百分比，及(b)於該多層透明導電塗層不存在的至少一些區域內，該基材之可見光反射百分比，之間的差異不超過2.0(更佳為不超過1.5，且最佳為不超過1.0)。
於緊接前述段之電容式觸控面板中，該基材可以為一種玻璃基材或是一種用抗反射(AR)塗層予以塗覆之玻 璃製造的基材。
在前述二段之任一的電容式觸控面板中，該第一介電層可以包含氧化鈦，及/或該第二介電層可以包含氧化錫。
在前述三段之任一的電容式觸控面板中，該多層透明導電塗層可以具有少於或等於大約15歐姆/平方，更佳為少於或等於大約10歐姆/平方，以及最佳為少於或等於大約5歐姆/平方之薄片電阻。
前述四段之任一的電容式觸控面板可以與液晶(LC)面板偶合，該LC面板包括一對基材，而液晶層則提供於此之間，以及其中該多層透明導電塗層係提供於支撐該塗層的基材和該LC面板之間，以及其中該多層透明導電塗層係與該LC面板和該多層透明導電塗層之間提供的空氣間隙鄰接。
11‧‧‧基材
12‧‧‧x軸導體、導體、透明導體
13‧‧‧絕緣器、島、絕緣島
14‧‧‧y軸導體、y軸導體材料、透明導體
15‧‧‧導電軌跡、軌跡
16‧‧‧導電橋、橋、金屬橋
20‧‧‧觸控面板
21、21'‧‧‧互連區域
22‧‧‧導電軌跡、軌跡
25‧‧‧信號處理器
30‧‧‧觸控面板
31‧‧‧上節段
32‧‧‧下節段
40‧‧‧玻璃基材、基材、支撐基材、支撐玻璃基材、鈉鈣玻璃、觸控面板基材
41‧‧‧透明導電塗層、塗層、銀基塗層、多層導電透明塗層、透明導電塗層、多層含銀透明導電塗層(TCC)、塗層材料、含銀塗層、多層透明導電塗層、低薄片電阻塗層
41’、41”‧‧‧多層透明導電塗層
41’‧‧‧塗層
41”‧‧‧節段
43‧‧‧高介電指數層、介電層、層
44‧‧‧介電層、氧化鋅基層、層
45‧‧‧玻璃基材
46‧‧‧銀基導電層、銀層、層
47‧‧‧上接觸層、層
48‧‧‧高介電指數層
49、75‧‧‧介電層
50‧‧‧最外面保護介電層、觸控面板、介電層、層
52‧‧‧層疊材料、PVB
61‧‧‧基底介電層、、介電層、層
62‧‧‧低介電指數層
70‧‧‧抗反射(AR)節段、AR塗層
70-75‧‧‧AR節段
71-75‧‧‧AR層
71、73‧‧‧高介電指數層
72、74‧‧‧低介電指數層
85‧‧‧指數相配黏著層、空氣間隙
100‧‧‧第一基材
200‧‧‧第二基材
300‧‧‧液晶層
x‧‧‧導電電極、電極
y‧‧‧導電電極、電極
x0,0、x1,0、x2,0、xn,0、x0,1、x0,2、x0,3、x1,1、x1,2、x1,3、x2,1、x2,2、x2,3‧‧‧列電極
xn,m‧‧‧電極
y0、y1、y2、yn‧‧‧行電極
圖1(a)至1(h)闡明先前技藝的投射式電容式觸控面板之實例。
圖2(a)闡明根據一實例具體例之投射式電容式觸控面板的頂部或底部的計劃佈局，其可以包含圖4、6、7及/或8之塗層作為導電電極及/或導電軌跡。
圖2(b)闡明圖2(a)、3、9及/或10之用於投射式電容式觸控面板的電路系統之示意圖。
圖3闡明根據另一個實例具體例之投射式電容式觸控面板的頂部或底部的計劃佈局，其可以包含圖4、6、7 及/或8之塗層作為導電電極及/或導電軌跡。
圖4(a)-4(c)為根據實例具體例之圖2、3、8、9及/或10之用於觸控面板的各種含銀透明導電塗層之橫截面圖。
圖5為可見光透射/反射百分率vs.波長(nm)圖，其闡明玻璃基材上比較實施例(CE)塗層之可見光透射(TR)百分比及玻璃側可見光反射(BRA)百分比，與玻璃基材單獨的(玻璃-TR，玻璃-BRA)之該等數值相比。
圖6為可見光透射/反射百分率vs.波長(nm)圖，其闡明根據此發明的實例具體例之圖4(a)的玻璃基材上之實例塗層之可見光透射(TR)及玻璃側可見光反射(BRA)，展現出其對可見光為透射的，且與圖5的CE相比，具有與玻璃基材之可見光反射率更緊密地匹配的玻璃側可見光反射率。圖6，就像圖5，亦闡明其上沒有塗層的玻璃基材單獨之可見光透射(玻璃-TR)及可見光反射(玻璃-BRA)。
圖7為根據此發明的實例具體例之觸控面板總成的橫截面圖，其包括與一種液晶面板偶合之如圖2-4、6、8-10之任一者的觸控面板，供用於電子裝置，諸如可攜式電話、可攜式平板、電腦及/或等等。
圖8(a)為可見光透射/反射百分率vs.波長(nm)圖，其闡明根據此發明的另一個實例具體例之圖4(b)的實例塗層之可見光透射(CGN-TR或TR)及玻璃側可見光反射(CGN-BRA或BRA)，展現出其對可見光為透射的，且與CE相比，具有與玻璃基材單獨之反射率更緊密地匹配的玻璃 側可見光反射率。圖8(a)亦闡明只有玻璃基材沒有塗層之可見光透射(玻璃-TR)及可見光反射(玻璃-BRA)。
圖8(b)為可見光透射/反射百分率vs.波長(nm)圖，其闡明根據此發明的另一個實例具體例之圖4(c)的實例塗層之可見光透射(CGN-TR或TR)及玻璃側可見光反射(CGN-BRA或BRA)，展現出其對可見光為透射的，且與CE相比，具有與基材之反射率更緊密地匹配的玻璃側可見光反射率。
圖9闡明根據另一個實例具體例之低解析度電容式觸控面板的頂部或底部的計劃佈局，其可以包含圖4、6、7、8之塗層作為導電電極及/或導電軌跡。
圖10為根據另一個實例具體例之低解析度電容式觸控面板的橫截面圖，其中支撐圖9此發明的塗層之基材可以經由一種包含聚合物之中間層，例如PVB，而與另一基材(譬如，玻璃)層疊。
圖11係一種方法的流程圖，該方法係用於製造依據此發明的實例具體例之圖2、3、4、7、8、9或10之任一者的透明導電塗層圖案。
圖12係一種方法的流程圖，該方法係用於製造依據此發明的另一個實例具體例之圖2、3、4、7、8、9或10之任一者的透明導電塗層圖案。
圖13係一種方法的流程圖，該方法係用於製造依據此發明的另一個實例具體例之圖2、3、4、7、8、9或10之任一者的透明導電塗層圖案。
圖14係一種方法的流程圖，該方法係用於製造依據此發明的另一個實例具體例之圖2、3、4、7、8、9或10之任一者的透明導電塗層圖案。
較佳實施例之詳細說明
參照伴隨的圖示提供實例具體例之詳細說明。在整個圖示中，相同的參考號碼指示相同的部份。
本發明之實例具體例係有關於一種透明導電塗層41，其既以合理的沉積成本為高度導電性且與US 2014/0145999之導電塗層相比之下，玻璃基材40上的可見度又是降低的。該塗層41可以使用作為電容式觸控面板，例如PROCAP觸控面板上的電極層及/或軌跡，及/或可以使用作為觸控面板以外的應用，例如視窗上的低-E塗層，用於反射IR輻射。該塗層41可以具有一種含銀層，該含銀層可夾在至少第一介電層與第二介電層之間。該塗層41業已被設計，以便出人意外地導致可見光反射率(譬如，玻璃側可見光反射)更緊密地匹配底層玻璃基材、塗層不存在的區域之可見光反射率，以至於與US 2014/0145999之塗層相比之下，該塗層當於玻璃基材被圖案化之時(譬如，電極及軌跡)，對於觸控面板等等之使用者為較不可見的，此於例如觸控面板之應用方面為特別重要的，觸控面板之該塗層41被圖案化成一種底層基材(譬如，玻璃基材40)之僅僅某些區域。
圖2(a)闡明根據一實例具體例之一種投射式電 容式觸控面板的頂部或是底部的計劃佈局，其可以包含圖4、6、7及/或8之多層導電透明塗層41作為導電電極x、y及/或導電軌跡22。參照圖2(a)，提供一種觸控面板20。觸控面板20包括含有n行及m列的電極x、y之矩陣，其係提供在基材40上。該列/行電極x、y之矩陣典型係提供在該基材(例如，玻璃基材40)其與由使用該觸控面板的人士所觸摸側相反的側上，俾以防止銀基塗層41被人的手指觸摸而腐蝕。換句話說，當該觸控面板係由手指、觸控筆或其類似物觸碰時，該玻璃基材40典型係位於(a)手指與(b)該列/行電極x、y之矩陣以及導電軌跡22之間。在該矩陣中之毗連的列與行電極之間由於手指或其類似物接近而在電容上的變化係由電子電路系統感應，以及所連接的電路系統因而可偵測該面板何處被手指或其類似物觸摸。舉例而言，參照圖2(a)，第0列包括列電極x0,0、x1,0、x2,0等等至xn,0，以及第0行、第1行及第2行各別包括行電極y0、y1、y2等等至yn。選擇性地，在行方向上的x電極亦可以分組用於行感應。列及行電極的數目係由該觸控面板之尺寸及解析度決定。在此實施例中，右上列電極係xn,m。觸控面板20的每個列電極x0,0-xn,m係藉由一種導電軌跡22而電氣連接至互連區域21及相應的處理電路系統/軟體。每個行電極y0-yn，不論是直接或是藉由一種導電軌跡，亦電氣連接至互連區域21以及相應的處理電路系統/軟體。導電軌跡22較佳係由與列及行電極相同(例如，與至少列電極x0,0、x1,0、x2,0等等相同的材料)的透明導電材料(多層導電透明塗層41)形成。因此，在某些實例具體例中， 可在該基材(例如，玻璃基材)40上形成列及行電極x、y的矩陣與相應的軌跡22，其係藉由在該基材上形成該塗層41(例如，藉由濺射沉積該塗層41)，以及僅執行一個(或是最多二個)光微影光刻製程而形成，俾以使該塗層41圖案化成電極x、y及軌跡22。在某些實例具體例中，在玻璃基材40上濺射沈積該含銀塗層(例如，參見圖4的實施例塗層41)，然後接受光微影光刻及/或雷射圖案化以將該含銀塗層圖案化成軌跡22、列電極x0,0、x1,0、x2,0、x0,1、x0,2、x0,3等等至xn,m、以及行電極y0-yn。因為列電極x0,0-xn,m、行電極y0-yn及軌跡22當從上/下觀看時不重疊，列電極x0,0-xn,m、行電極y0-yn及軌跡22可以在形成電極及軌跡的玻璃基材40平行(或是實質上平行)之相同平面上形成。並且於某些實例具體例中，電極x和y之間必須沒有絕緣層。軌跡22的明顯部分亦可以在與基材40平行(或是實質上平行)的平面上與行電極平行(或是實質上平行)。於是，觸控面板20可以經由較少數目的光微影光刻或雷射圖案化步驟製得，當達成軌跡時，其達成足夠的透明度及導電度，藉此減低製造成本並且產生更有效率使用在顯示器總成或是其類似物中的觸控面板。
圖2(b)根據實例具體例，闡明圖2(a)中用於觸控面板20的電路系統之示意圖。在觸控面板20中，在每個列電極與毗連的行電極之間(舉例而言，在列電極x0,0與行電極y0之間)有一電容。此電容可藉由對行電極(舉例而言，行電極y0)施加電壓及測量毗連的列電極(舉例而言，列電極x0,0)之電壓來測量。當使用者將手指或是導電觸控筆接近觸控 面板20時，局部靜電場的改變會減低該互電容。在表面上的各別點處之電容改變可以藉由依次測量每對列電極及行電極來測量。在相同列中的每個列電極之軌跡22(例如，第0列的列電極x0,0、x1,0、x2,0等等至xn,0之軌跡22)可以電氣連接在一起(如顯示在圖2(b)中)。可在接附於該觸控面板的周圍處之可撓電路上的互連區域中，使得第一列區段彼此、第二列區段彼此等等互連，以便不需要在玻璃基材40上交叉。在此例子中，對行電極施加電壓及依次測量每列的電壓，然後對另一行重覆施加電壓的過程。任擇地，每個軌跡22可以連接至信號處理器25及可各別地測量每個軌跡22的電壓。相同電容可藉由對列電極施加電壓及測量毗連的行電極上之電壓來測量，而非對行電極施加電壓及測量毗連的列電極之電壓。可藉由信號處理器25進行信號處理(舉例而言，施加及測量電壓、測量毗連電極之間的電容、測量電容隨著時間的變化、因應使用者輸入而輸出訊號等等)。信號處理器25可以為一種或是多種硬體處理器，可以包括揮發性或非揮發性記憶體，以及可以包括用於執行信號處理之電腦可讀取指令。信號處理器25係經由軌跡22而電氣連接至行電極y0-yn並且電氣連接至列電極x0,0-xn,m。信號處理器25可以或可以不設置在與列電極x0,0-xn,m、行電極y0-yn及軌跡22相同的平面上(例如，在圖2(a)的互連區域21中)。
圖3闡明根據另一個實例具體例之投射式電容式觸控面板的頂部或底部的計劃佈局，其包括圖4、6、7及/或8之塗層41，予以圖案化以形成導電電極x、y及/或導電 軌跡22。參照圖3，觸控面板30係類似於圖2(a)的觸控面板20，除了觸控面板30係劃分成上節段31及下節段32之外，其之各者皆包括含有n行及m列的電極之矩陣。舉例而言，上節段31的第0列包括列電極x0,0、x1,0、x2,0等等至xn,0。上節段31亦包括行電極y0、y1、y2等等至yn。同樣地，下節段32將亦包括列電極及行電極y0-yn，其可與上節段31的行電極y0-yn電氣分開。因此，下節段32亦包括含有n行及m列的列電極，以及n行電極的矩陣。在不同的實例具體例中，下節段32可具有比上節段31多或少的列。觸控面板30的列及行電極的數目係由該觸控面板之尺寸及解析度決定。上節段31的每個行電極係藉由軌跡22而電氣連接至互連區域21，以及上節段31的每個列電極係藉由軌跡22而電氣連接至互連區域21。與圖2具體例一樣，可以或可以不使用軌跡來將上節段31的行電極連接至互連區域。下節段32的每個行電極係藉由軌跡22而電氣連接至互連區域21'，以及下節段32的每個列電極藉由軌跡22而電氣連接至互連區域21'。再次地，可以或可以不使用軌跡來將下節段32的行電極連接至互連區域21'。仍然參照圖3，觸控面板30係類似於觸控面板20，其中在每個列電極與毗連的行電極間有一電容，其可藉由對行電極施加電壓及測量毗連的列電極之電壓(或任擇地，藉由對列電極施加電壓及測量毗連的行電極之電壓)來測量。當使用者將手指或觸控筆接近觸控面板30時，局部靜電場的改變會減低該互電容。在表面上的各別點處之電容改變可藉由依次測量每對列電極及行電極的互電容來 測量。當使用者將手指或導電觸控筆接近觸控面板30時，局部靜電場的改變會減低該互電容。在表面上的各別點處之電容改變可藉由依次測量每對列電極及行電極來測量。因為在圖3中所闡明的列電極及行電極x、y不重疊，所以可以以上述針對圖2解釋的方式，藉由圖案化透明導電塗層41而在相同平面上形成列電極及行電極。於是，用於觸控面板30的電極結構x、y在本質上可以為薄的，以及可以以一個製程(例如，一個光微影光刻製程或一個雷射圖案化製程)予以圖案化，此減低該投射式電容式觸控面板的製造成本。
如一般技藝人士將了解，所描述的觸控面板20及30不限於上述及顯示在圖2-3中的定向。換句話說，術語「列」、「行」、「x軸」及「y軸」當使用在本申請案中時，不意欲暗示特定的方向。舉例而言，圖2(a)的觸控面板20可經修改或旋轉，以使得互連區域21係位於觸控面板20的任何部分中。
如在圖2(a)及3中闡明，狹窄的透明導電軌跡22經安排以將電極電氣連接至互連區域21(及互連區域21')。因為狹窄的ITO軌跡之大的電阻，狹窄的ITO軌跡僅可使用在小的觸控面板中，諸如用於智慧型手機。為了將圖2(a)及3中所闡明的佈局之一使用在較大的觸控面板(例如，對角測量多於10英吋)或在其他方面上，必需使用具有低薄片電阻的透明導電塗層41。在圖4中顯示使用來形成列/行電極x、y及軌跡22的含銀塗層41在此方面上係優良的，因為 它們具有比典型的習知ITO軌跡/電極低很多的薄片電阻(且因而更大的導電度)。
一種具有低薄片電阻、用於形成列電極、行電極及軌跡22之多層含銀透明導電塗層(TCC)41之實例，係闡釋於依據此發明的實例具體例之圖4(圖4(a)、4(b)及4(c))中。該TCC 41的低薄片電阻及高透明度允許該TCC形成長窄軌跡22以及列和行電極x、y。
參照圖4(a)，於一個實例具體例中，多層透明導電塗層41係直接或間接提供在基材40上。該基材40可以為例如玻璃。於以下討論的任擇具體例中，可以於基材40和塗層41之間提供一種抗反射(AR)塗層。塗層41可包括舉例而言，一種諸如氧化鈦或是氧化鈮的材料或包括其之高介電指數層43，其可包括氧化鈦(例如，TiO2或其它合適的化學計量)；氧化鋅或包括其之介電層44，選擇性地摻雜鋁，要接觸該銀基層；於氧化鋅基層44之上或直接接觸其之銀基導電層46；包括鎳及/或鉻的上接觸層47，其可經氧化及/或氮化，其係位於銀基導電層46之上且接觸該銀基導電層46；一種諸如氧化鈦或氧化鈮的材料或包括其之高介電指數層48，其可包括氧化鈦(例如，TiO2或其它合適的化學計量)；氧化錫(例如，SnO2)或包括其之介電層49；以及氮化矽及/或氮氧化矽或是包括其之最外面保護介電層50。塗層41內的各個層設計成對可見光為實質透明的(譬如，至少70%或至少80%透明的)。在不同的實例具體例中，該高介電指數層43可以經完全氧化或是次化學計量的。於某些實 例具體例中，銀層46可以或是可以不摻雜其它材料(諸如Pd)。
塗層41係設計成要達到良好的導電度而同時降低可見度，其係藉由可見光反射率(玻璃側及/或薄膜側可見光反射率)對支撐基材40之可見光反射率更緊密地匹配。注意到玻璃側可見光反射率係從與塗層相對之塗覆玻璃基材側來測量，而薄膜側可見光反射率係從具有塗層之塗覆玻璃基材側來測量。塗層41的可見光反射率與支撐玻璃基材40的可見光反射率之實質匹配，會降低塗層材料41所形成的電極及軌跡之可見度。令人驚異和意想不到地，業已發現到調整圖4(a)塗層之某些介電質厚度能驚人的改良(降低)塗層41的可見度，且因而使得使用者較看不見觸控面板之圖案化的電極及軌跡，且因此美學觀點上更令人愉悅的。本文之塗層41於玻璃基材上的可見度比舉例而言US 2014/0145999之該等顯著地少。
雖然此發明不同的具體例之層內可以使用各種厚度及材料，但是在圖4(a)具體例之玻璃基材40上的各別濺射沈積的塗層41之層範例厚度及材料係如下，從玻璃基材向外列出：
注意到以上的塗層41之材料為例示性的，是以可以使用其他的材料作為替代，且於某些實例具體例中可以省略某些層。要維持的關鍵特徵是要提供一種塗層，其既具有低薄片電阻，又具有經設計以降低支撐玻璃基材40上的塗層41之可見度的層。於某些實例具體例中，其上含塗層41的玻璃基材40可以舉例而言，於塗覆之後予以熱處理(例如，熱回火)，或是於塗覆之前予以化學強化。
含銀塗層41並不昂貴，具有低薄片電阻(較佳為少於15歐姆/平方，更佳為少於約10或5歐姆/平方，其範例係每平方大約4歐姆)，且維持高可見光透射率(較佳為至少60%，更佳為至少70%，更佳為至少80%，以及最佳為至少84%)。塗層41較佳具有不超過8歐姆/平方之薄片電阻(Rs)，更佳為不超過6歐姆/平方，以及最佳為不超過大約4歐姆/平方。塗層41較佳沈積在該玻璃基材40遠離使用者的實質整個主要表面上(然後予以圖案化以形成電極及軌跡)，以便減低大氣或是與手指或觸控筆接觸之腐蝕暴露。舉例而言，圖7中顯示的實例顯示器總成包括一種裝配在液晶顯示器 面板(100-300)上的觸控面板(20或30或50)。列電極、行電極及軌跡係由塗層41形成於該玻璃基材40與手指相對的表面上，以及觸控面板(20、30或50)可經由指數相配黏著層85而黏附至LCD面板。LCD面板包括第一及第二基材(例如，玻璃基材)100、200，而液晶層300則提供於此之間。為了形成觸控螢幕，觸控面板20、30可以選擇性地裝配在LCD面板上而具有小空氣間隙，或是以指數相配黏著劑85黏合至顯示器。因而，圖7中的參考號碼85代表顯示器和觸控面板之間的空氣間隙或是指數相配黏著劑。注意到關於圖5-6和8(a)-(b)進行的測量，假定一種空氣間隙85以便塗層41與空氣間隙85鄰接。於空氣間隙的具體例中，支撐塗層41之基材40的周邊可以經由黏著劑或任何其他適合類型的邊緣密封材料與液晶面板結合。
投射式電容式觸控面板的像素間距可以舉例而言，在大約6至7毫米的範圍內。觸摸的位置可由信號處理及內插法更正確地決定至舉例而言，大約1毫米。若軌跡22的線寬/間隔係大約10微米至20微米，可以計算出就約4歐姆/平方的TCC薄片電阻而言，至少20英吋(對角測量)的投射式電容觸控面板是可能的。該安排、信號處理及/或雜訊抑制的進一步最佳化允許製造甚至較大的觸控面板(例如，最高對角40或50英吋)。於某些實例具體例中亦可以應用到較小的觸控面板。
實施例1 vs. 比較實施例(CE)
令人驚異和意想不到地，業已發現到調整圖4(a) 塗層之某些介電質厚度能驚人地降低支撐基材40上的塗層41之可見度，且因而使得使用者較看不見觸控面板的電極及軌跡，且因此整個面板於美學觀點上更令人愉悅。此係通過舉例來說，以下本發明的比較實施例(CE)及實施例1之間的比較來證明，塗層從玻璃基材向外包括：
從以上的表2可見，依據此發明的實施例1及比較實施例(CE)之間僅有的差異為介電層43及50的厚度。令人驚異和意想不到地，業已發現到調整塗層之層43及50的厚度能驚人地降低支撐玻璃基材40上的塗層41區域之可見度，其係藉由使支撐玻璃基材上的塗層41之可見光反射率(譬如，玻璃側可見光反射率)對玻璃基材40單獨之可見光反射 更緊密地匹配，且因而使得使用者較看不見觸控面板的電極及軌跡，且因此美學觀點上更令人愉悅的。此係顯示於圖5-6以及還有以下的表中。
圖5為透射/反射百分率vs.波長(nm)圖，其闡明玻璃基材上比較實施例(CE)塗層之可見光透射(TR)百分比及玻璃側可見光反射(BRA)百分比，與玻璃基材單獨的(玻璃-TR，玻璃-BRA)之該等數值相比。注意到圖5包括可見光譜，以及一些可見光譜外的一些波長。圖5中有“x”的線圖為玻璃基材40上的CE塗層之玻璃側可見光反射(亦即，從圖7的手指側取得的反射)，以及圖5中有三角標記的線圖為玻璃基材40單獨、塗層41不存在的區域之可見光反射。此等二條線之間的差異是很重要的，因為其顯示出：(a)CE塗層不存在的玻璃基材40之區域(亦即，非電極及非軌跡區域)，以及(b)CE塗層存在的玻璃基材40之區域(亦即，電極及軌跡區域)，之間玻璃側可見光反射的差異。因而，此等二條線之間的差異越大(圖5曲線圖底部的二條線)，觀看者從圖7的手指側的角度越看得見電極及軌跡。從圖5可見，此等二條線之間、於可見光波長600nm(包括在其兩側)附近有顯著的差距(反射百分比之差異超過2.0)，意思是觸控面板上CE材料製造的電極及軌跡看得非常清楚，此會使觸控面板或類似物於美學觀點上不討人喜歡。
相對地，圖6為可見光透射/反射百分率vs.波長(nm)圖，其闡明根據此發明的實例具體例於玻璃基材上之圖4(a)的實施例1塗層之可見光透射(CGN-TR或TR)及玻璃 側可見光反射(CGN-BRA或BRA)，展現出其對可見光為透射的，且與圖5的CE相比，具有與玻璃基材之可見光反射率更緊密地匹配的玻璃側可見光反射率。圖6，就像圖5，亦闡明玻璃基材單獨、其上沒有塗層的區域之可見光透射(玻璃-TR)及可見光反射(玻璃-BRA)。圖6中有“x”的線圖為玻璃基材40上的實施例1塗層41之玻璃側可見光反射，以及圖6中有三角標記的線圖為玻璃基材40單獨、沒有塗層41於其上的可見光反射。此等二條線之間的差異是很重要的，因為其顯示出：(a)塗層41不存在的玻璃基材及觸控面板之區域(亦即，非電極及非軌跡區域)，以及(b)塗層41存在的玻璃基材及觸控面板之區域(亦即，電極及軌跡區域)，之間(從圖7的手指角度)可見光反射的差異。因而，此等二條線之間的差異越大(圖6曲線圖底部的二條線)，觀看者越看得見電極及軌跡。並且，此等二條線之間的差異越小(圖6曲線圖底部的二條線)，觀看者越看不見電極及軌跡。互相比較圖5及圖6，可以看見，與圖5之CE較大的差距相比，圖6從可見光波長大約550nm至大約650nm、於此等二條線之間的差距(如果有的話)小得多，意思是實施例1材料(圖6)製造的觸控面板之電極及軌跡(與圖5之CE材料相比)會更加地看不見，此會使觸控面板於美學觀點上更令人愉悅。換言之，與CE相比，實施例1使玻璃基材40上的塗層41之玻璃側可見光反射率更緊密地匹配玻璃基材40、塗層不存在的區域之可見光反射，且因而使得使用者較看不見觸控面板的電極及軌跡，且因此美學觀點上更令人愉悅的。
以下的表格顯示比較實施例(CE)及實施例1之間的光學差異，於550nm TR為可見光透射，RA為薄膜側可見光反射率，其係從塗層側觀看玻璃/塗層組合所測量，以及BRA為玻璃側可見光反射率，其係從玻璃側觀看玻璃/塗層組合所測量。如同熟悉此藝者會瞭解到，a*及b*為測量的色值，其等係相對於穿透色[a*(TR)及b*(TR)]，以及玻璃側反射色[a*(BRA及b*(BRA)]。
於此重要的是，實施例1之玻璃基材40上的塗層41之玻璃側可見光反射(BRA)更緊密地匹配玻璃基材40單獨之可見光反射(8.20% vs. 8.11%)，相較於CE(5.8% vs. 8.11%)。因此，與CE相比，實施例1之玻璃基材40上圖案化 的塗層41會更加地看不見。
在此發明的某些實例具體例中(譬如，圖2-7)，玻璃基材40上的塗層41(不同於CE)從550-600nm具有7-10%之薄膜側可見光反射率(RA)，更佳為7.5至8.5%之薄膜側可見光反射率(RA)。並且在此發明的某些實例具體例之中，玻璃基材40上的塗層41(不同於CE)從550-600nm之玻璃側可見光反射率(BRA)為7-13%，更佳為7-9%，以及還更佳為7.25至8.75%(如上面所看到的，CE之BRA僅僅為5.8%)。在此發明的某些實例具體例之中，不同於CE，於550nm及/或600nm處或是550-600nm之範圍內：(a)一種包括該塗層41於玻璃基材40上(於該塗層41存在的區域內)之經塗覆的物件，之薄膜側及/或玻璃側可見光反射百分比，及(b)玻璃基材單獨、塗層41不存在的區域內之可見光反射百分比，之間有不超過2.0的差異(更佳為不超過1.5或1.0之差異)。此情況舉例而言可以從圖6看見(亦可參見圖8(a)-(b))。相對地，舉例而言，就CE而言，從以上可以看見，(a)一種包括CE塗層於玻璃基材40上之經塗覆的物件，於該塗層41存在的區域內之玻璃側可見光反射百分比，及(b)玻璃基材單獨之可見光反射百分比，之間有2.31的差異(8.11%-5.8%=2.31)，此差異太大且使得觀看者從圖7所示的手指側觀看該裝置很容易看見電極及軌跡。本發明之實例具體例業已使此差異降低至不超過2.0，更佳為不超過1.5，且最佳為不超過1.0。
在某些實例具體例中，可以於圖4(a)-(c)之任一 者的玻璃基材40和塗層41之間提供一種抗反射(AR)塗層，以使塗層之可見光反射率(玻璃側及/或薄膜側)更加地緊密地匹配支撐基材(玻璃加上AR塗層)之可見光反射率。AR塗層可以塗覆橫跨該玻璃基材40的整個或實質整個主要表面上，以及與透明導電塗層41不同，在某些實例具體例中AR塗層不需要圖案化。作為另一選項，一種AR塗層實際上可以提供作為塗層41的底部部份，俾以對塗層41添加AR效果。
圖4(b)闡明根據另一個實例具體例之多層透明導電塗層41，其可以直接或間接提供在本文所討論的裝置或產品之任一者的基材40(譬如，參見圖2-3、7及9-14)上。基材40可以為舉例而言，玻璃或是用AR塗層塗覆的玻璃。圖4(b)具體例之塗層41可包括舉例而言，氮化矽(例如，Si3N4或其它合適的化學計量)或是包括其之基底介電層61，其可以或可以不摻雜A1及/或氧；氧化矽(例如，SiO2或其它合適的化學計量)或是包括其之低介電指數層62，其可以或可以不摻雜Al及/或氮；一種諸如氧化鈦或氧化鈮的材料或包括其之高介電指數層43，其可包括氧化鈦(例如，TiO2或其它合適的化學計量)；一種氧化鋅或包括其之介電層44，選擇性地摻雜鋁，要接觸該銀基層；一種於氧化鋅基層44之上或直接接觸其之銀基導電層46；一種包括鎳及/或鉻的上接觸層47，其可經氧化及/或氮化，其係位於銀基導電層46之上且接觸該銀基導電層46；一種諸如氧化鈦或氧化鈮的材料或包括其之高介電指數層48，其可包括氧化鈦(例如， TiO2或其它合適的化學計量)；一種氧化錫(例如，SnO2)或包括其之介電層49；以及一種氮化矽及/或氮氧化矽或是包括其之最外面保護介電層50。塗層41內的各個層係設計成對可見光為實質透明的(譬如，至少70%或至少80%透明的)。於某些實例具體例中，銀層46可以或可以不摻雜其它材料(諸如Pd)。
圖4(a)-4(c)之塗層41係設計成要達到良好的導電度而同時降低可見度，其係藉由可見光反射率(玻璃側及/或薄膜側可見光反射率)對支撐基材40之可見光反射率更緊密地匹配。塗層41的可見光反射率與支撐玻璃基材40的可見光反射率之實質匹配，會降低塗層材料41所形成的電極及軌跡之可見度。雖然此發明不同的具體例之層內可以使用各種厚度及材料，但是在圖4(b)具體例之玻璃基材40上的各別濺射沈積的塗層41之層範例厚度及材料係如下，從玻璃基材向外列出：
注意到以上圖4(b)的塗層41之材料為例示性的，是以可以使用其他的材料作為替代，且於某些實例具體例中可以省略某些層。要維持的關鍵特徵是要提供一種塗層，其既具有低薄片電阻，又具有經設計以降低支撐玻璃基材40上的塗層41之可見度的層。於某些實例具體例中，其上含塗層41的玻璃基材40可以舉例而言，於塗覆之後予以熱處理(例如，熱回火)，或是於塗覆之前予以化學強化。與圖4(a)具體例一樣，圖4(b)具體例之含銀塗層41並不昂貴，具有低薄片電阻(較佳為少於15歐姆/平方，更佳為少於約10或5歐姆/平方，其範例係每平方大約4歐姆)，且維持高可見光透射率(較佳為至少60%，更佳為至少70%，更佳為至少80%，以及最佳為至少84%)。塗層41較佳沈積在該玻璃基材40遠離使用者的實質整個主要表面上(然後予以圖案化以形成本文討論的電極及軌跡)，以便如以上所討論的，減低大氣或是與手指或觸控筆接觸之腐蝕暴露。
實施例2 vs. 比較實施例(CE)
實施例2使用如圖4(b)具體例之塗層。令人驚異和意想不到地，業已發現到相較於以上討論的CE，圖4(b)塗層能驚人地降低支撐基材40上的塗層41之可見度，且因而使得使用者較看不見觸控面板的電極及軌跡，且因此整個面板於美學觀點上更令人愉悅。此係通過舉例來說，以下本發明的比較實施例(CE)及實施例2之間的比較來證明， 塗層從玻璃基材向外包括：
圖5係討論如上，以及闡明CE的性質。
相對地，圖8(a)為可見光透射/反射百分率vs.波長(nm)圖，其闡明此發明的實施例2之可見光透射(CGN-TR或TR)及玻璃側可見光反射(CGN-BRA或BRA)，展現出其對可見光為透射的，且與圖5的CE相比之下，具有與玻璃基材單獨之反射率更緊密地匹配的玻璃側可見光反射率。圖8(a)亦闡明只有玻璃基材沒有塗層之可見光透射(玻璃-TR)以及可見光反射(玻璃-BRA)。圖8(a)中有“x”的線圖為玻璃基材40上的實施例2塗層41之玻璃側可見光反射，以及圖8(a)中有三角標記的線圖為玻璃基材40單獨、沒有塗層41於其上的可見光反射。此等二條線之間的差異是很重要的，因 為其顯示出：(a)塗層41不存在的玻璃基材及觸控面板之區域(亦即，非電極及非軌跡區域)，以及(b)塗層41存在的玻璃基材及觸控面板之區域(亦即，電極及軌跡區域)，之間(從圖7的手指角度)可見光反射的差異。因而，此等二條線之間的差異越大(圖8(a)曲線圖底部的二條線)，觀看者越看得見電極及軌跡。並且，此等二條線之間的差異越小(圖8(a)曲線圖底部的二條線)，觀看者越看不見電極及軌跡。互相比較圖5及圖8(a)，可以看見，與圖5之CE較大的差距相比，圖8(a)從可見光波長大約550nm至大約650nm、於此等二條線之間的差距(如果有的話)小得多，意思是實施例2材料製造的觸控面板之電極及軌跡(與圖5之CE材料相比)會更加地看不見，此會使觸控面板於美學觀點上更令人愉悅。換言之，與CE相比，實施例2使玻璃基材40上的塗層41之玻璃側可見光反射率更緊密地匹配玻璃基材40、塗層不存在的區域之可見光反射，且因而使得使用者較看不見觸控面板的電極及軌跡，且因此美學觀點上更令人愉悅。
以下的表格顯示比較實施例(CE)及實施例2之間的光學差異，於550nm TR為可見光透射，RA為薄膜側可見光反射率，其係從塗層側觀看玻璃/塗層組合所測量，以及BRA為玻璃側可見光反射率，其係從玻璃側觀看玻璃/塗層組合所測量。如同熟悉此藝者會瞭解到，a*及b*為測量的色值，其等係相對於穿透色[a*(TR)及b*(TR)]，以及玻璃側反射色[a*(BRA及b*(BRA)]。
於此重要的是，實施例2之玻璃基材40上的塗層41之玻璃側可見光反射(BRA)更緊密地匹配玻璃基材40單獨之可見光反射(7.86% vs. 8.11%)，相較於CE(5.8% vs. 8.11%)。因此，與CE相比，實施例2之玻璃基材40上圖案化的塗層41會更加地看不見。如以上所討論的，在此發明的某些實例具體例中(譬如，圖2-7)，玻璃基材40上的塗層41(不同於CE)從550-600nm具有7-10%之薄膜側可見光反射率(RA)，更佳為7.5至8.5%之薄膜側可見光反射率(RA)。並且在此發明的某些實例具體例中，玻璃基材40上的塗層41(不同於CE)從550-600nm之玻璃側可見光反射率(BRA)為7-13%，更佳為7-9%，以及還更佳為7.25至8.75%(如上面所看到的，CE之BRA僅僅為5.8%)。同樣如以上所提及的，在此發明的某些實例具體例(圖2-14)中，不同於CE，於550nm及/或600nm處或是於550-600nm之範圍內：(a)一種包括該塗層41於玻璃基材40上(於該塗層41存在的區域內)之經塗覆的物件，之薄膜側及/或玻璃側可見光反射百分比，及 (b)塗層41不存在的玻璃基材單獨之區域內之可見光反射百分比，之間有不超過2.0的差異(更佳為不超過1.5或1.0之差異)。此情況舉例而言可以於圖8(a)看見(亦可參見圖6及8(b))。相對地，舉例而言，就CE而言，從以上可以看見，(a)一種包括CE塗層於玻璃基材40上之經塗覆的物件，於該塗層41存在的區域內之玻璃側可見光反射百分比，及(b)玻璃基材單獨之可見光反射百分比，之間有2.31的差異(8.11%-5.8%=2.31)，此差異太大且使得觀看者從圖7所示的手指側觀看該裝置很容易看見電極及軌跡。本發明之實例具體例業已使此差異降低至不超過2.0，更佳為不超過1.5，且最佳為不超過1.0。
圖4(c)闡明根據另一個實例具體例之多層透明導電塗層(41’或41”)，其可以直接或間接提供在本文所討論的裝置或產品之任一者的基材40(譬如，參見圖2-3、7及9-14)上。基材40可以為舉例而言，玻璃。圖4(c)具體例之塗層41’可包括舉例而言，一種抗反射(AR)節段70，其含括一種諸如氧化鈦或氧化鈮的材料或包括其之高介電指數層71，其可包括氧化鈦(例如，TiO2或其它合適的化學計量)；氧化矽(例如，SiO2或其它合適的化學計量)或是包括其之低介電指數層72，其可以或可以不摻雜Al及/或氮；一種諸如氧化鈦或氧化鈮的材料或包括其之高介電指數層73；氧化矽(例如，SiO2或其它合適的化學計量)或是包括其之另一低介電指數層74，其可以或可以不摻雜Al及/或氮，以及一種氧化鋯(例如，ZrO2或其它合適的化學計量)或是包括其之介電層75。 圖4(c)具體例之“基材”可以認為是玻璃40加上塗層的AR節段70，因塗層41’的AR節段70連同塗層41’的其餘部分一起不需要圖案化，以及於此種情況下圖4(c)具體例之透明導電塗層可以認為是僅由層61、44、46、47及50構成。換言之，於圖4(c)具體例中，多層透明導電塗層可以認為是41”，其係由層61、44、46、47及50構成，以及“基材”可以認為是玻璃40與AR塗層70的組合。
圖4(c)具體例之塗層41可進一步包括如節段41”，氮化矽(例如，Si3N4或其它合適的化學計量)或是包括其之介電層61，其可以或可以不摻雜Al及/或氧；氧化鋅或包括其之介電層44，選擇性地摻雜鋁，要接觸該銀基層；於氧化鋅基層44之上或直接接觸其之銀基導電層46；包括鎳及/或鉻的上接觸層47，其可經氧化及/或氮化，其係位於銀基導電層46之上且接觸該銀基導電層46；選擇性地一種諸如氧化鈦或氧化鈮的材料或包括其之高介電指數層48，其可包括氧化鈦(例如，TiO2或其它合適的化學計量)；以及一種氮化矽及/或氮氧化矽或是包括其之最外面保護介電層50。圖4(a)-4(c)具體例之塗層41內的各個層係設計成對可見光為實質透明的(譬如，至少70%或至少80%透明的)。
圖4(c)之塗層41係設計成要達到良好的導電度而同時降低可見度，其係藉由可見光反射率(玻璃側及/或薄膜側可見光反射率)對支撐基材之可見光反射率更緊密地匹配。塗層41的可見光反射率與支撐基材的可見光反射率之實質匹配，會降低塗層材料41所形成的電極及軌跡之可 見度。雖然此發明不同的具體例之層內可以使用各種厚度及材料，但是在圖4(c)具體例之玻璃40上之各別濺射沈積的塗層41之層範例厚度及材料係如下，從玻璃向外列出：
注意到以上圖4(c)的塗層41之材料為例示性的，是以可以使用其他的材料作為替代，且於某些實例具體例中可以省略某些層。要維持的關鍵特徵是要提供一種塗層，其既具有低薄片電阻，又具有經設計以降低支撐玻璃基材上的塗層41之可見度的層。於某些實例具體例中，其上含塗層41的玻璃基材40可以舉例而言，於塗覆之後予以熱處理(例如，熱回火)，或是於塗覆之前予以化學強化。與圖4(a)-(b)具體例一樣，圖4(c)具體例之含銀塗層41並不昂貴，具有低薄片電阻(較佳為少於15歐姆/平方，更佳為少於約10 或5歐姆/平方，其範例係每平方大約4歐姆)，且維持高可見光透射率(較佳為至少60%，更佳為至少70%，更佳為至少80%，以及最佳為至少84%)。塗層41較佳沈積在該玻璃基材40遠離使用者的實質整個主要表面上(然後予以圖案化以形成本文討論的電極及軌跡)，以便如以上所討論的，減低大氣或是與手指或觸控筆接觸之腐蝕暴露。
實施例3 vs. 比較實施例(CE)
實施例3使用如圖4(c)具體例之塗層。令人驚異和意想不到地，業已發現到相較於以上討論的CE，圖4(c)塗層能驚人地降低支撐基材上的塗層41之可見度，且因而使得使用者較看不見觸控面板的電極及軌跡，且因此整個面板於美學觀點上更令人愉悅。此係通過舉例來說，以下本發明的比較實施例(CE)及實施例3之間的比較來證明，塗層從玻璃基材向外包括：
圖5係討論如上，以及闡明CE的性質。
相對地，圖8(b)為可見光透射/反射百分率vs.波長(nm)圖，其闡明根據此發明的另一個實例具體例之實施例3的可見光透射(CGN-TR或TR)及玻璃側可見光反射(CGN-BRA或BRA)，展現出其對可見光為透射的，且與CE相比，具有與基材之反射率更緊密地匹配的玻璃側可見光反射率。圖8(b)亦闡明只有玻璃基材及AR節段71-75、沒有其他塗層的層(61、44、46、47及50)，之可見光透射(玻璃-TR)及可見光反射(玻璃-BRA)。圖8(b)中有“x”的線圖為玻璃基材40上的實施例3塗層41之玻璃側可見光反射，以及圖8(b)中有三角標記的線圖為玻璃基材40、其上只有AR節段70-75的可見光反射率。此等二條線之間的差異是很重要的，因為其顯示出：(a)只有存在塗層之AR節段之玻璃基材及觸控面板的區域(亦即，非電極及非軌跡區域)，以及(b)存在整體塗層41的玻璃基材及觸控面板之區域(亦即，電極及軌跡區域)，之間(從圖7的手指角度)可見光反射的差異。因而，此等二條線之間的差異越大(圖8(b)曲線圖底部的二條線)，觀看者越看得見電極及軌跡。並且，此等二條線之間的差異越小(圖8(b)曲線圖底部的二條線)，觀看者越看不見電極及軌跡。互相比較圖5及圖8(b)，可以看見，與圖5之CE較大的差距相比，圖8(b)從可見光波長大約550nm至大約650nm、於此等二條線之間的差距(如果有的話)小得多，意思是實施例3材料製造的觸控面板之電極及軌跡(與圖5之CE材料相比)會更加地看不見，此會使觸控面板於美學觀點上 更令人愉悅。換言之，與CE相比，實施例3使玻璃基材40上的塗層41之玻璃側可見光反射率更緊密地匹配支撐基材(玻璃加上AR層)之可見光反射，且因而使得使用者較看不見觸控面板的電極及軌跡，且因此美學觀點上更令人愉悅的。
以下的表格顯示實施例3之光學特徵，於550nmTR為可見光透射，RA為薄膜側可見光反射率，其係從塗層側觀看玻璃/塗層組合所測量，以及BRA為玻璃側可見光反射率，其係從玻璃側觀看玻璃/塗層組合所測量。如同熟悉此藝者會瞭解到，a*及b*為測量的色值，其等係相對於穿透色[a*(TR)及b*(TR)]，以及玻璃側反射色[a*(BRA及b*(BRA)]。於以下的實施例3表格中，玻璃基材參數為關於橫跨整個基材40上只有AR層71-75的玻璃基材，以及實施例3參數為關於玻璃基材40上整個塗層41(亦即，AR層71-75可以提供實質橫跨整個基材，而層61、44、46、47及50可以予以圖案化以電極及軌跡)。
於此重要的是，實施例3之玻璃基材40上的整體塗層41之玻璃側可見光反射(BRA)緊密地匹配玻璃基材40、只有AR層71-75於其上之可見光反射(4.99% vs. 4.51%)。因此，與CE相比，實施例3之基材上圖案化的塗層部分(61、44、46、47及50)會更加地看不見。在此發明的某些實例具體例中，此具體例之玻璃基材40上的塗層41(不同於CE)從550-600nm之玻璃側可見光反射率(BRA)為4-13%，更佳為4.5-9%，以及還更佳為4.5至8.75%。同樣如以上所提及的，在此發明的某些實例具體例(圖2-14)中，不同於CE，於550nm及/或600nm處或是於550-600nm之範圍內：(a)一種包括該整個塗層41於玻璃基材40上(於該塗層41完全存在的區域內)之經塗覆的物件，之薄膜側及/或玻璃側可見光反射百分比，及(b)只有玻璃40及AR層71-75存在的玻璃基材區域之可見光反射百分比，之間有不超過2.0的差異(更佳為不超過1.5或1.0之差異)。此情況舉例而言可以於圖8(b)看見。相對地，舉例而言，就CE而言，從以上可以看見，(a)一種包括CE塗層於玻璃基材40上之經塗覆的物件，於該塗層41存在的區域內之玻璃側可見光反射百分比，及(b)玻璃基材單獨之可見光反射百分比，之間有2.31的差異(8.11%-5.8%=2.31)，此差異太大且使得觀看者從圖7所示的手指側觀看該裝置很容易看見電極及軌跡。本發明之實例具體例業已使此差異降低至不超過2.0，更佳為不超過1.5，且最佳為不超 過1.0。
於此圖案化的低薄片電阻塗層41(譬如，圖2-8具體例之任一者)亦可以使用於低解析度觸控面板應用(譬如，參見圖9)上。實例為互動店面，較佳為獨立式，但也可能組合以玻璃總成上的投影影像或是直接視野顯示器。玻璃上的低解析度觸控面板允許使用者選擇訊息或用其他方式與玻璃表面互動，而同時觀看玻璃後面是什麼。就獨立式構形而言，觸控面板可以從玻璃面板的兩側操作。低解析度電容式觸控面板可以為舉例而言，5 x 5觸摸按鈕的陣列，各者大約一平方英吋且相隔大約半英吋，如顯示在圖9中。觸控操作的原則可以為自電容，其能偵測到戴手套的手指以及裸露的手指。圖9中的互連撓性電路係連接至一種觸摸控制器，且因而各按鈕的功能可以於軟體或是韌體內重組態。較低解析度的觸控介面比高解析度LCD上的多點觸控面板更容易製造，因為透過雷射、光微影光刻或是其他的方法進行圖案化的塗層41之最小特徵尺寸可以大很多。舉例而言，軌跡之最小特徵尺寸可能為大約1mm，以致於大大地放寬玻璃與塗層上的小孔、刮痕及其他的缺損之要求條件。換言之，此允許使用標準的鈉鈣玻璃40以及水平架構的塗佈機製造的塗層41。就某些低解析度的觸控應用而言，不需要先進的無塵室設施，其典型用來生產電話、平板、膝上型電腦以及較大尺寸的多點觸控面板之高解析度多點觸控面板。更寬的軌跡(例如~1mm)亦會降低觸控電極的電阻及訊號延遲。
參照層疊的圖10具體例(圖10具體例可以使用圖2-8之任一塗層)，以進一步防護獨立應用之圖案化的銀基塗層41不被腐蝕，觸控面板基材40(在40和41之間有或沒有AR塗層於其上)係用PVB或其他包含聚合物之層疊材料52來層疊至另一種玻璃基材45。PVB 52會封裝圖案化的塗層41，以便進一步抑制腐蝕。
注意到此發明的各種具體例中，可以預想矩形的按鈕陣列之外的電極圖形，包括允許刷卡的圖形、撥號盤的圓形圖案及等等。潛在的應用包括店面、商用冰箱、器具、辦公室或其他環境中的玻璃牆、運輸、動態上釉、自動販賣機及等等，透通低解析度觸控面板作為使用者介面有益之處。一種含銀塗層41以大約4x更低的成本，而具有比ITO更低達10x的薄片電阻，以及因而更節省成本。
以上針對圖2-10討論的濺射沈積的塗層41可以以各種各樣的方式來形成及圖案化。舉例而言，濺射沈積的塗層41可以藉由噴墨印刷及剝離(參見圖11)、金屬陰影遮罩圖案化(參見圖12)、光微影光刻(參見圖13)，或是雷射圖案化(參見圖14)。
在本發明的某些實例具體例中，提供一種電容式觸控面板，其包含：一種基材(玻璃，或是玻璃與AR塗層的組合)；一種多層透明導電塗層，其由該基材支撐，其中該多層透明導電塗層包含座落於至少一第一介電層與一第二介電層之間的至少一含銀導電層，其中包含座落於至少該第一介電層與該第二介電層(dielectric)之間的至少該含銀 導電層之該多層透明導電塗層，係予以圖案化成該觸控面板之複數個電極；一種處理器，其測量該觸控面板上偵測觸摸位置的電極之間的電容，其中由該多層透明導電塗層形成的該等電極係實質形成於與該基材實質平行的共同平面上，以及其中於可見光波長600nm(或是550-600nm之可見光譜範圍內)處，(a)於該塗層存在的區域內，該基材上該多層透明導電塗層之玻璃側及/或薄膜側可見光反射百分比，及(b)於該多層透明導電塗層不存在的至少一些區域內，該基材之可見光反射百分比，之間的差異不超過2.0(更佳為不超過1.5，且最佳為不超過1.0)。
於緊接前述段之電容式觸控面板中，該基材可以為一種玻璃基材或是一種用抗反射(AR)塗層予以塗覆之玻璃製造的基材。
在前述二段之任一的電容式觸控面板中，該第一介電層可以包含氧化鈦，及/或該第二介電層可以包含氧化錫。
在前述三段之任一的電容式觸控面板中，該多層透明導電塗層可以包含，以離開該基材來表示：包含氧化鈦的第一介電層；包含氧化鋅的另一介電層；一種含銀導電層，其係直接接觸包含氧化鋅的該介電層；一種接觸層，其係在該含銀導電層之上且與其接觸；包含氧化鈦的另一介電層；包含氧化錫的另一介電層；以及包含氮化矽的另一介電層。選擇性地，該接觸層可包含Ni及/或Cr的氧化物。包含氧化鈦的該第一介電層可以具有大約130-185埃(更佳 為大約150-185埃)的厚度，及/或包含氮化矽的該介電層可以具有大約300-400埃(更佳為大約300-320埃)的厚度。
在前述四段之任一的電容式觸控面板中，該多層透明導電塗層可以包含，以離開該基材來表示：包含氮化矽的一介電層；包含氧化矽的一介電層；包含氧化鈦的一介電層；包含氧化鋅的另一介電層；一種含銀導電層，其係直接接觸包含氧化鋅的該介電層；一種接觸層，其係在該含銀導電層之上且與其接觸；包含氧化鈦的另一介電層；包含氧化錫的另一介電層；以及包含氮化矽的另一介電層。
在前述五段之任一的電容式觸控面板中，該多層透明導電塗層可以包含，以離開該基材來表示，包含氧化鋅的一介電層；一種含銀導電層，其係直接接觸包含氧化鋅的該介電層；一種接觸層，其係在該含銀導電層之上且與其接觸；包含氮化矽的一介電層。
在前述六段之任何的電容式觸控面板中，該多層透明導電塗層可以具有少於或等於大約15歐姆/平方，更佳為少於或等於大約10歐姆/平方，以及最佳為少於或等於大約5歐姆/平方之薄片電阻。
前述七段之任一的電容式觸控面板可以與一種液晶(LC)面板偶合，該液晶面板包括一對基材，而液晶層則提供於此之間，以及其中該多層透明導電塗層係提供於該基材和該液晶面板之間，以及其中該多層透明導電塗層係與該液晶面板和該多層透明導電塗層之間提供的空氣間 隙鄰接。
在本發明的某些實例具體例中，提供一種製造包含基材及信號處理器的觸控面板之方法，該方法包含：將一多層含銀透明導電塗層濺射沈積於該基材上，以及圖案化該含銀透明導電塗層以形成複數個導電電極及複數個導電軌跡，其中該複數個電極及該複數個軌跡係在與該基材實質上平行的平面上，其中該電極之各者係藉由該軌跡之至少一者與該信號處理器電氣連接，以及其中於550-600nm之可見光範圍內，(a)於該塗層存在的區域內，該基材上該多層透明導電塗層之玻璃側及/或薄膜側可見光反射百分比，及(b)於該多層透明導電塗層不存在的至少一些區域內，該基材之可見光反射百分比，之間的差異不超過2.0(更佳為1.5，且最佳為1.0)。
於緊接前述段之方法中，該基材可以為一種玻璃基材或是一種用抗反射(AR)塗層予以塗覆之玻璃製造的基材。
在前述二段之任一的方法中，該多層透明導電塗層可以包含，以離開該基材來表示：包含氧化鈦的第一介電層；包含氧化鋅的另一介電層；一種含銀導電層，其係直接接觸包含氧化鋅的該介電層；一種接觸層，其係在該含銀導電層之上且與其接觸；包含氧化鈦的另一介電層；包含氧化錫的另一介電層；以及包含氮化矽的另一介電層。選擇性地，該接觸層可包含Ni及/或Cr的氧化物。包含氧化鈦的該第一介電層可以具有130-185埃(更佳為大約150-185 埃)的厚度，及/或包含氮化矽的該介電層可以具有300-400埃(更佳為300-320埃)的厚度。
在前述三段之任一方法中，該多層透明導電塗層可以具有少於或等於大約15歐姆/平方，更佳為少於或等於大約10歐姆/平方，以及最佳為少於或等於大約5歐姆/平方之薄片電阻。
在前述四段之任一的方法中，該方法可以包括提供一顯示器面板，其係偶合至基材且於此之間有空氣間隙，其中該多層透明導電塗層係與該空氣間隙鄰接。
在本發明的實例具體例(譬如，參見圖4(c)之經塗覆的物件)中，提供一種經塗覆的物件，其包含一多層塗層於玻璃上，該多層塗層包含，以離開該基材來表示：(i)一種抗反射(AR)部份，其包含：一第一高折射指數介電層；一第一低折射指數介電層；一第二高折射指數介電層；一第二低折射指數介電層，其中該第二高折射指數層係座落於該第一與第二低折射指數介電層之間且接觸該第一與第二低折射指數介電層，以及該第一低折射指數介電層係座落於該第一與第二高折射指數層之間且接觸該第一與第二高折射指數層；該第一與第二高折射指數介電層於550nm處具有至少大約2.15的折射指數(n)；該第一與第二低折射指數介電層於550nm處具有不大於大約1.7的折射指數(n)；以及包含金屬氧化物的介電層；(ii)一部份，其包括一種含有下列的導電層：包含氮化矽的一介電層；包含氧化鋅的一介電層；一種含銀導電層，其係直接接觸包含氧化鋅的 該介電層；一種接觸層，其係在該含銀導電層之上且與其接觸；以及包含氮化矽的一介電層。
於緊接前述段之經塗覆的物件中，包含金屬氧化物的該介電層可以包含鋯氧化物或是實質由鋯氧化物組成。
在前述二段之任一的經塗覆的物件中，該第一與第二低折射指數介電層可以包含矽的氧化物。
在前述三段之任一的經塗覆的物件中，該第一與第二高折射指數介電層可以包含鈦的氧化物及/或鈮的氧化物。
在前述四段之任一的經塗覆的物件中，可能的情況是於550-600nm之範圍內，(a)該玻璃上有該塗層存在的區域內，該玻璃上該塗層之玻璃側可見光反射百分比，及(b)於該玻璃上只有該抗反射(AR)部份(i)但沒有該部份(ii)存在的區域內，該玻璃之玻璃側可見光反射百分比，之間的差異不超過2.0(更佳為不超過1.5，且最佳為不超過1.0)。
在前述五段之任一的經塗覆的物件可以與一顯示器面板偶合且其間有空氣間隙，其中該塗層可以與該空氣間隙鄰接，以便座落於該玻璃與該空氣間隙之間。
以上討論的及/或圖示中的各種具體例之任一者中，於此的導電塗層可以使用於各種電子裝置的導體及/或電極，包括但不限於下列的一者或多者：觸控面板；於瓷磚或門上的淋浴控制；升降機控制；如機場或車輛之標誌/地圖；位置測繪映射系統，例如跟踪感興趣的人；映像裝 置；升降機控制；感測器；提供博物館展品或學校個人互動(例如經由按鈕)；汽車控制，例如雨刷或氣候控制或音響控制；住宅或汽車應用之門禁設備，例如於觸摸式鍵盤或智慧型手機控制器、觸摸教學裝置方面；在自動販賣機選擇產品；汽車擋風玻璃碰撞偵測系統；互動店面；雨水/濕度感測器；其上有控制裝置的玻璃平板；爐灶控制；音樂鍵盤；遙控裝置；有透明投影幕的標誌/地圖；餐廳的菜單裝置；窗簾系統；微波控制；洗衣機/烘乾機控制，例如其表面之沖洗觸控面板控制；觸控PDLC/電子呈色裝置網格圖形；房間燈的開關替換；電子書寫板，及/或恆溫控制。
此等應用可以包括二元/位置性的觸摸感應功能性；可以提供水平、垂直，或是其他的方向；可以使用於消費者、工業、辦公室、用具、住宅、教育及/或其他的環境中；等等。
前述的實例具體例係打算要對一般技藝人士提供本揭示之理解。前述說明不打算要限制在本申請案中所描述的發明概念，其之範圍係在下列申請專利範圍中定義。
20‧‧‧觸控面板
21‧‧‧互連區域
22‧‧‧導電軌跡、軌跡
40‧‧‧玻璃基材、基材
41‧‧‧透明導電塗層、銀基塗層、多層導電透明塗層、塗層
x‧‧‧導電電極、電極
y‧‧‧導電電極、電極
x0,0、x1,0、x2,0、x0,1、x0,2‧‧‧列電極
y0、y1‧‧‧行電極

Claims (33)

  1. 一種電容式觸控面板，其包含：一基材；一多層透明導電塗層，其係由該基材支撐，其中該多層透明導電塗層包含座落於至少一第一介電層與一第二介電層之間的至少一含銀導電層，其中該多層透明導電塗層包含座落於至少該第一介電層與該第二介電層(dielectric)之間的至少該含銀導電層之該多層透明導電塗層，該多層透明導電塗層係予以圖案化成該觸控面板之複數個電極；一處理器，其測量該觸控面板上偵測觸摸位置的電極之間的電容，其中由該多層透明導電塗層形成的該等電極係實質形成於與該基材實質平行的共同平面(common plane)上，以及其中於600奈米(nm)處，(a)於該塗層存在的區域內，該基材上該多層透明導電塗層之玻璃側可見光反射百分比，及(b)於該多層透明導電塗層不存在的至少一些區域內，該基材之可見光反射百分比，兩者之間的差異不超過2.0。
  2. 如請求項1之電容式觸控面板，其中該基材為玻璃基材。
  3. 如請求項1之電容式觸控面板，其中該基材為用抗反射 (AR)塗層予以塗覆之玻璃基材所製造。
  4. 如請求項1至3中任一項之電容式觸控面板，其中於600nm處，(a)於該塗層存在的區域內，該基材上該多層透明導電塗層之玻璃側可見光反射百分比，及(b)於該多層透明導電塗層不存在的至少一些區域內，該基材之可見光反射百分比，兩者之間的差異不超過1.5。
  5. 如請求項1至4中任一項之電容式觸控面板，其中於600nm處，(a)於該塗層存在的區域內，該基材上該多層透明導電塗層之玻璃側可見光反射百分比，及(b)於該多層透明導電塗層不存在的至少一些區域內，該基材之可見光反射百分比，兩者之間的差異不超過1.0。
  6. 如請求項1至5中任一項之電容式觸控面板，其中該第一介電層包含氧化鈦。
  7. 如請求項1至6中任一項之電容式觸控面板，其中該第二介電層包含氧化錫。
  8. 如請求項1至7中任一項之電容式觸控面板，以自該基材離開表示，其中該多層透明導電塗層包含：包含氧化鈦的第一介電層；包含氧化鋅的另一介電層；一含銀導電層，其係直接接觸該包含氧化鋅的介電層；一接觸層，其係在該含銀導電層之上且與其接觸；包含氧化鈦的另一介電層；包含氧化錫的另一介電層；以及 包含氮化矽的另一介電層。
  9. 如請求項1至7中任一項之電容式觸控面板，以自該基材離開表示，其中該多層透明導電塗層包含：包含氮化矽的一介電層；包含氧化矽的一介電層；包含氧化鈦的一介電層；包含氧化鋅的另一介電層；一含銀導電層，其係直接接觸包含氧化鋅的該介電層；一接觸層，其係在該含銀導電層之上且與其接觸；包含氧化鈦的另一介電層；包含氧化錫的另一介電層；以及包含氮化矽的另一介電層。
  10. 如請求項1至7中任一項之電容式觸控面板，以自該基材離開表示，其中該多層透明導電塗層包含：包含氧化鋅的一介電層；一含銀導電層，其係直接接觸該包含氧化鋅的介電層；一接觸層，其係在該含銀導電層之上且與其接觸；包含氮化矽的一介電層。
  11. 如請求項10之電容式觸控面板，其中該接觸層包含Ni及/或Cr的氧化物。
  12. 如請求項8之電容式觸控面板，其中包含氧化鈦的該第一介電層具有大約130-185埃的厚度。
  13. 如請求項8之電容式觸控面板，其中包含氧化鈦的該第一介電層具有大約150-185埃的厚度。
  14. 如請求項8之電容式觸控面板，其中包含氮化矽的該介電層具有大約300-400埃的厚度。
  15. 如請求項8之電容式觸控面板，其中包含氮化矽的該介電層具有大約300-320埃的厚度。
  16. 如請求項1至15中任一項之電容式觸控面板，其中該多層透明導電塗層具有少於或等於大約15歐姆/平方之片電阻。
  17. 如請求項1至16中任一項之電容式觸控面板，其中該多層透明導電塗層具有少於或等於大約10歐姆/平方之片電阻。
  18. 如請求項1至17中任一項之電容式觸控面板，其中該多層透明導電塗層具有少於或等於大約5歐姆/平方之片電阻。
  19. 一種總成，其包含如請求項1至18中任一項之電容式觸控面板，該電容式觸控面板係與一液晶面板偶合，該液晶面板包括介於至少一對基材之間的液晶層，以及其中該多層透明導電塗層係提供介於支撐該多層透明導電塗層之該基材和該液晶面板之間，以及其中該多層透明導電塗層係與該液晶面板和該多層透明導電塗層之間提供的空氣間隙鄰接。
  20. 一種製造包含基材及信號處理器的觸控面板之方法，該方法包含： 將一多層含銀透明導電塗層濺射沈積於該基材上，以及圖案化該含銀透明導電塗層以形成複數個導電電極及複數個導電軌跡，其中該複數個電極及該複數個軌跡係在與該基材實質上平行的平面上，其中該電極之各者係藉由該軌跡之至少一者與該信號處理器電氣連接，以及其中於550-600nm之範圍內，(a)於該塗層存在的區域內，該基材上該多層透明導電塗層之玻璃側及/或薄膜側可見光反射百分比，及(b)於該多層透明導電塗層不存在的至少一些區域內，該基材之可見光反射百分比，兩者之間的差異不超過2.0。
  21. 如請求項20之方法，其中該基材為玻璃基材。
  22. 如請求項20之方法，其中該基材為用抗反射(AR)塗層予以塗覆之玻璃基材所製造。
  23. 如請求項20至22中任一項之方法，其中於550-600nm之範圍內，(a)於該塗層存在的區域內，該基材上該多層透明導電塗層之玻璃側及/或薄膜側可見光反射百分比，及(b)於該多層透明導電塗層不存在的至少一些區域內，該基材之可見光反射百分比，兩者之間的差異不超過1.0。
  24. 如請求項20至23中任一項之方法，提供一顯示器面板，其係偶合至該基材且於此之間有空氣間隙，以及其中該多層透明導電塗層係與該空氣間隙鄰接。
  25. 一種經塗覆的物件，其包含一多層塗層於玻璃基材上， 以自該基材離開表示，該多層塗層包含：包含氧化鈦的第一介電層，其具有150-185埃的厚度；包含氧化鋅的另一介電層；一含銀導電層，其係直接接觸包含氧化鋅的該介電層；一接觸層，其係在該含銀導電層之上且與其接觸；包含氧化鈦的另一介電層；包含氧化錫的另一介電層；以及包含氮化矽的另一介電層，其具有大約300-400埃的厚度；其中於550-600nm之範圍內，(a)於該玻璃基材上存在該塗層的區域內，該玻璃基材上該塗層之玻璃側及/或薄膜側可見光反射百分比，及(b)該玻璃基材自身缺少該塗層之可見光反射百分比，兩者之間的差異不超過2.0。
  26. 一種總成，其包含如請求項25之經塗覆的物件，該經塗覆的物件係與一顯示器面板偶合且其間有空氣間隙，其中該多層透明導電塗層係與該空氣間隙鄰接，以便座落於該基材與該空氣間隙之間。
  27. 一種經塗覆的物件，其包含一多層塗層於玻璃上，以自該基材離開表示，該多層塗層包含：(i)一抗反射(AR)部份，其包含：(a)一第一高折射指數介電層； (b)一第一低折射指數介電層；(c)一第二高折射指數介電層；(d)一第二低折射指數介電層，其中該第二高折射指數層係座落於且接觸該第一與第二低折射指數介電層之間，以及該第一低折射指數介電層係座落於且接觸該第一與第二高折射指數層之間；該第一與第二高折射指數介電層於550nm處具有至少大約2.15的折射指數(n)；該第一與第二低折射指數介電層於550nm處具有不大於大約1.7的折射指數(n)；以及(e)包含金屬氧化物的一介電層；(ii)一包括導電層的部份，其包含：(a)包含氮化矽的一介電層；(b)包含氧化鋅的一介電層；(c)一含銀導電層，其係直接接觸包含氧化鋅的該介電層；(d)一接觸層，其係在該含銀導電層之上且與其接觸；以及(e)包含氮化矽的一介電層。
  28. 如請求項27之經塗覆的物件，其中包含金屬氧化物的該介電層包含鋯的氧化物。
  29. 如請求項27之經塗覆的物件，其中該第一與第二低折射指數介電層包含矽的氧化物。
  30. 如請求項27之經塗覆的物件，其中該第一與第二高折射 指數介電層包含鈦及/或鈮的氧化物。
  31. 如請求項27之經塗覆的物件，其中於550-600nm之範圍內，(a)該玻璃上有該塗層存在的區域內，該玻璃上該塗層之玻璃側可見光反射百分比，及(b)於該玻璃上只有該抗反射(AR)部份(i)但沒有該部份(ii)存在的區域內，該玻璃之玻璃側可見光反射百分比，兩者之間的差異不超過2.0。
  32. 如請求項27之經塗覆的物件，其中於550-600nm之範圍內，(a)該玻璃上有該塗層存在的區域內，該玻璃上該塗層之玻璃側可見光反射百分比，及(b)於該玻璃上只有該抗反射(AR)部份(i)但沒有該部份(ii)存在的區域內，該玻璃之玻璃側可見光反射百分比，兩者之間的差異不超過1.0。
  33. 一種總成，其包含如請求項27之經塗覆的物件，該經塗覆的物件係與一顯示器面板偶合且其間有空氣間隙，其中該塗層係與該空氣間隙鄰接，以便座落於該玻璃與該空氣間隙之間。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI616792B (zh) * 2017-05-03 2018-03-01 友達光電股份有限公司 觸控顯示裝置的製造方法

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10248274B2 (en) 2012-11-27 2019-04-02 Guardian Glass, LLC Transparent conductive coating for capacitive touch panel and method of making same
US10222921B2 (en) 2012-11-27 2019-03-05 Guardian Glass, LLC Transparent conductive coating for capacitive touch panel with silver having increased resistivity
US10444926B2 (en) 2012-11-27 2019-10-15 Guardian Glass, LLC Transparent conductive coating for capacitive touch panel with additional functional film(s)
US10216347B2 (en) 2012-11-27 2019-02-26 Guardian Glass, LLC Transparent conductive coating for capacitive touch panel with silver having adjusted resistance
US9354755B2 (en) 2012-11-27 2016-05-31 Guardian Industries Corp. Projected capacitive touch panel with a silver-inclusive transparent conducting layer(s)
US9557871B2 (en) 2015-04-08 2017-01-31 Guardian Industries Corp. Transparent conductive coating for capacitive touch panel or the like
US9921703B2 (en) 2012-11-27 2018-03-20 Guardian Glass, LLC Transparent conductive coating for capacitive touch panel with additional functional film(s)
US10133108B2 (en) 2015-04-08 2018-11-20 Guardian Glass, LLC Vending machines with large area transparent touch electrode technology, and/or associated methods
CN106339116B (zh) * 2015-07-11 2023-07-14 宸新科技(厦门)有限公司 触控面板及其制作方法
JP6612075B2 (ja) * 2015-07-23 2019-11-27 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置、入力装置および表示装置の製造方法
CN105882603A (zh) * 2015-10-30 2016-08-24 乐卡汽车智能科技（北京）有限公司 信息处理方法及系统
NZ720939A (en) * 2016-03-02 2017-12-22 Resene Paints Ltd Touch sensitive control system for non-electronic display substrate surfaces
WO2018017629A1 (en) 2016-07-21 2018-01-25 Guardian Glass, LLC Vending machines with large area transparent touch electrode technology, and associated method of making
KR102663555B1 (ko) * 2016-10-07 2024-05-08 삼성디스플레이 주식회사 지문 인식 센서를 포함하는 표시 장치
CN106919284A (zh) * 2017-02-27 2017-07-04 京东方科技集团股份有限公司 触控基板及其制作方法、电子装置
DE102017108019A1 (de) 2017-03-08 2018-09-13 VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG Optisches Niedrigemission-Mehrschichtsystem
KR102361262B1 (ko) * 2017-05-30 2022-02-09 동우 화인켐 주식회사 Oled 일체형 터치 센서 및 이를 포함하는 oled 화상 표시 장치
CN109213347B (zh) * 2017-06-29 2021-08-13 南京瀚宇彩欣科技有限责任公司 可挠式面板以及可挠式面板的制造方法
WO2019035030A1 (en) 2017-08-16 2019-02-21 Guardian Glass, LLC TRANSPARENT CONDUCTOR COATING FOR CAPACITIVE TOUCH SCREEN WITH ADDITIONAL FUNCTIONAL FILM (S)
WO2019035031A1 (en) 2017-08-16 2019-02-21 Guardian Glass, LLC TRANSPARENT CONDUCTOR COATING FOR CAPACITIVE TOUCH PANEL
CN107424310A (zh) * 2017-08-28 2017-12-01 上海百控电子有限公司 独立模块化自动售货机
KR102452606B1 (ko) 2017-09-19 2022-10-07 삼성전자주식회사 모아레 시인 방지용 패턴 구조체 및 이를 이용한 디스플레이 장치
US10901543B1 (en) 2017-09-29 2021-01-26 Apple Inc. Touch screen with transparent electrode structure
WO2019126330A1 (en) 2017-12-21 2019-06-27 Guardian Glass, LLC Transparent conductive coating for capacitive touch panel with silver having increased resistivity
WO2019126338A1 (en) 2017-12-21 2019-06-27 Guardian Glass, LLC Transparent conductive coating for capacitive touch panel with silver having adjusted resistance
RU2020126578A (ru) 2018-01-11 2022-02-11 ГАРДИАН ГЛАСС, ЭлЭлСи Прозрачное проводящее покрытие для емкостной сенсорной панели и способ ее изготовления
US10539864B2 (en) 2018-02-08 2020-01-21 Guardian Glass, LLC Capacitive touch panel having diffuser and patterned electrode
CN108304100A (zh) * 2018-03-07 2018-07-20 业成科技（成都）有限公司 触控面板、应用其的触控显示装置及触控面板的制造方法
US10562812B2 (en) * 2018-06-12 2020-02-18 Guardian Glass, LLC Coated article having metamaterial-inclusive layer, coating having metamaterial-inclusive layer, and/or method of making the same
JP2022515608A (ja) 2018-12-31 2022-02-21 ガーディアン・グラス・エルエルシー 大面積透明タッチインターフェースにおける視差補正のためのシステム及び／又は方法
KR102225528B1 (ko) * 2019-01-22 2021-03-09 동우 화인켐 주식회사 터치 센서 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
WO2020153621A1 (ko) * 2019-01-22 2020-07-30 동우화인켐 주식회사 터치 센서 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
US10733928B1 (en) * 2019-02-14 2020-08-04 Schlage Lock Company Llc Electrochromic film colored filter enhancer for a user interface display
FR3110158B1 (fr) * 2020-05-12 2023-10-27 Saint Gobain Matériau bas émissif comprenant un revêtement intermédiaire comprenant deux couches comprenant du silicium différentes

Family Cites Families (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5254413A (en) 1991-01-31 1993-10-19 General Electric Company Method for repair and restoration of a ceramic thermal barrier-coated substrate by providing an intermetallic coating
US5688585A (en) * 1993-08-05 1997-11-18 Guardian Industries Corp. Matchable, heat treatable, durable, IR-reflecting sputter-coated glasses and method of making same
EP0871923A1 (en) * 1995-06-26 1998-10-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Transflective displays with reflective polarizing transflector
CN1400939A (zh) * 2000-02-11 2003-03-05 丹格乐斯技术有限公司 含有二氧化铈的抗反射防紫外线多层涂层
JP3255638B1 (ja) * 2000-06-07 2002-02-12 日本板硝子株式会社 反射型液晶表示素子用基板
US6576349B2 (en) 2000-07-10 2003-06-10 Guardian Industries Corp. Heat treatable low-E coated articles and methods of making same
US7267879B2 (en) 2001-02-28 2007-09-11 Guardian Industries Corp. Coated article with silicon oxynitride adjacent glass
EP1354225A2 (en) * 2001-01-25 2003-10-22 Jax Holdings, Inc. Multi-layer thin film optical filter arrangement
US20060204655A1 (en) * 2003-02-06 2006-09-14 Koji Takahashi Method for producing article having been subjected to low reflection treatment, solution for forming low reflection layer and article having been subjected to low reflection treatment
US7081302B2 (en) 2004-02-27 2006-07-25 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer
US7217460B2 (en) 2004-03-11 2007-05-15 Guardian Industries Corp. Coated article with low-E coating including tin oxide interlayer
RU2404485C9 (ru) * 2005-08-30 2011-03-20 Пилкингтон Груп Лимитед Стеклянный компонент солнечного элемента, имеющий оптимизирующее светопропускание покрытие, и способ его изготовления
US8264466B2 (en) * 2006-03-31 2012-09-11 3M Innovative Properties Company Touch screen having reduced visibility transparent conductor pattern
US8203073B2 (en) 2006-11-02 2012-06-19 Guardian Industries Corp. Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same
US8076571B2 (en) * 2006-11-02 2011-12-13 Guardian Industries Corp. Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same
US20090194157A1 (en) * 2008-02-01 2009-08-06 Guardian Industries Corp. Front electrode having etched surface for use in photovoltaic device and method of making same
US8576193B2 (en) 2008-04-25 2013-11-05 Apple Inc. Brick layout and stackup for a touch screen
US8263227B2 (en) 2008-06-25 2012-09-11 Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) Coated article with low-E coating including zirconium oxide and/or zirconium silicon oxynitride and methods of making same
JP4966924B2 (ja) 2008-07-16 2012-07-04 日東電工株式会社 透明導電性フィルム、透明導電性積層体及びタッチパネル、並びに透明導電性フィルムの製造方法
US8147975B2 (en) 2008-08-21 2012-04-03 Guardian Industries Corp. Plasma display panel including frameless EMI filter, and/or method of making the same
US8080141B2 (en) 2008-11-18 2011-12-20 Guardian Industries Corp. ITO-coated article and/or method of making the same via heat treating
TW201025108A (en) 2008-12-31 2010-07-01 Acrosense Technology Co Ltd Capacitive touch panel
DE102008063403A1 (de) 2008-12-31 2010-07-08 Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale SOI-Bauelement mit einem vergrabenen isolierenden Material mit erhöhter Ätzwiderstandsfähigkeit
US7947374B2 (en) 2009-02-19 2011-05-24 Guardian Industries Corp. Coated article with sputter-deposited transparent conductive coating capable of surviving harsh environments, and method of making the same
TWI529588B (zh) 2009-07-07 2016-04-11 華森電子科技股份有限公司 投射電容式觸控面板及其製造方法
KR101107173B1 (ko) 2010-02-11 2012-01-25 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
US8293344B2 (en) 2010-02-26 2012-10-23 Guardian Industries Corp. Articles including anticondensation coatings and/or methods of making the same
EP2402481A1 (en) 2010-06-29 2012-01-04 Applied Materials, Inc. Method and system for manufacturing a transparent body for use in a touch panel
US8354586B2 (en) * 2010-10-01 2013-01-15 Guardian Industries Corp. Transparent conductor film stack with cadmium stannate, corresponding photovoltaic device, and method of making same
JP5739742B2 (ja) 2010-11-04 2015-06-24 日東電工株式会社 透明導電性フィルムおよびタッチパネル
EP2469327A3 (en) 2010-12-22 2012-11-28 Chimei InnoLux Corporation Touch panel
CN103430134B (zh) 2011-01-19 2017-03-29 Lg伊诺特有限公司 触摸板及其制造方法
KR101829495B1 (ko) 2011-01-20 2018-02-14 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 터치 패널용 코팅 조성물, 코트막 및 터치 패널
US8557391B2 (en) 2011-02-24 2013-10-15 Guardian Industries Corp. Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same
US8679633B2 (en) * 2011-03-03 2014-03-25 Guardian Industries Corp. Barrier layers comprising NI-inclusive alloys and/or other metallic alloys, double barrier layers, coated articles including double barrier layers, and methods of making the same
US8747959B2 (en) 2011-06-30 2014-06-10 Guardian Industries Corp. Planar patterned transparent contact, devices with planar patterned transparent contacts, and/or methods of making the same
US8982100B2 (en) * 2011-08-31 2015-03-17 Smart Technologies Ulc Interactive input system and panel therefor
DE202011109312U1 (de) * 2011-12-15 2012-01-23 Southwall Technologies, Inc. Verbundglas für die Anwendung in Fahrzeugen oder derArchitektur
JP2013238709A (ja) 2012-05-15 2013-11-28 Sony Corp 光学積層体、光学素子および投射装置
US10067535B2 (en) 2012-09-28 2018-09-04 Apple Inc. Multiple-element light-bending structures for minimizing display borders
KR20140042318A (ko) 2012-09-28 2014-04-07 삼성코닝정밀소재 주식회사 투명 도전성 기재 및 이를 포함하는 터치 패널
US9354755B2 (en) * 2012-11-27 2016-05-31 Guardian Industries Corp. Projected capacitive touch panel with a silver-inclusive transparent conducting layer(s)
US9921704B2 (en) * 2012-11-27 2018-03-20 Guardian Glass, LLC Transparent conductive coating for capacitive touch panel
US9557871B2 (en) 2015-04-08 2017-01-31 Guardian Industries Corp. Transparent conductive coating for capacitive touch panel or the like
US9733779B2 (en) * 2012-11-27 2017-08-15 Guardian Industries Corp. Projected capacitive touch panel with silver-inclusive transparent conducting layer(s), and/or method of making the same
KR101768257B1 (ko) * 2013-09-02 2017-08-14 (주)엘지하우시스 저방사 코팅 및 이를 포함하는 창호용 건축 자재
US10101503B2 (en) * 2014-10-31 2018-10-16 Pilkington Group Limited Anti-reflective coated glass article

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI616792B (zh) * 2017-05-03 2018-03-01 友達光電股份有限公司 觸控顯示裝置的製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN107710026A (zh) 2018-02-16
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